CN102373416A - 壳体的制作方法及由该方法制得的壳体 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：提供透明的基体，对基体的表面进行遮蔽，使用钛靶，以氧气和氮气为反应气体，氧气流量为10～14sccm，氮气流量为115～125sccm，采用磁控溅射方法对基体进行磁控溅射，以在基体的另一表面形成钛氧氮膜层，在该钛氧氮膜层上以磁控溅射方法形成铬膜层，使该钛氧氮膜层呈现的色度区域于CIE LAB表色***的L^*坐标值介于40至55，a^*坐标值介于8至10，b^*坐标值介于-24至-16。本发明还提供一种上述方法制得的壳体，该壳体呈现出***的外观。

Description

壳体的制作方法及由该方法制得的壳体

技术领域

本发明涉及一种壳体的制作方法及由该方法制得的壳体。

背景技术

随着科技的不断进步，手机及计算机等各式电子装置也迅速发展，其功能亦愈来愈丰富。为了使电子装置的外壳具有更加丰富色彩，传统上可利用彩色塑料形成彩色塑料外壳，或藉由喷漆方式在电子装置的壳体表面形成色彩层。但是，使用塑料壳体不能呈现良好的金属质感。

磁控溅射技术因其环保、制备的薄膜耐磨性好、产品外观极具金属质感等特点，因此在装饰性镀膜领域应用越来越广。通过磁控溅射虽然可以在塑料壳体上获得较佳的金属质感的膜层，但是膜层的颜色却不如烤漆、阳极处理等成膜工艺的颜色丰富，严重限制了磁控溅射工艺在装饰镀膜领域的竞争力。

发明内容

鉴于此，有必要提供一种具有***金属质感壳体的制作方法。

另外，还有必要提供一种由上述方法所制得的壳体。

一种壳体的制备方法，包括如下步骤：提供透明的基体，对基体的表面进行遮蔽，使用钛靶，以氧气和氮气为反应气体，氧气流量为10～14sccm，氮气流量为115～125sccm，采用磁控溅射方法对基体进行磁控溅射，溅射时间为75～95分钟，以在基体的另一表面形成钛氧氮膜层；

在该钛氧氮膜层上以磁控溅射方法形成铬膜层，溅射时间为0.5小时，使该钛氧氮膜层一侧呈现的色度区域于CIE LAB表色***的L^*坐标值介于40至55，a^*坐标值介于8至10，b^*坐标值介于-24至-16。

一种由上述方法制得的壳体，包括透明的基体及形成于基体上的复合膜层，该复合膜层包括钛氧氮膜层及铬膜层，该钛氧氮膜层直接形成于基体的表面上，该铬膜层形成于该钛氧氮膜层上，该复合膜层于该钛氧氮膜层一侧呈现的色度区域于CIE LAB表色***的L^*坐标值介于40至55，a^*坐标值介于8至10，b^*坐标值介于-24至-16。

本发明壳体的制作方法通过于透明的基体的表面磁控溅射钛氧氮膜层和铬膜层的复合膜层，并通过控制溅射过程中反应气体的流量以使所述复合膜层形成特定的微观结构，而使所述壳体呈现出***并有金属质感的外观，丰富了磁控溅射层的颜色，提高了产品的外观竞争力。

附图说明

图1是本发明较佳实施例的壳体的剖视示意图。

主要元件符号说明

壳体              10

基体              11

内表面            112

外表面            114

复合膜层          13

钛氧氮膜层        131

铬膜层            133

具体实施方式

本发明一较佳实施方式的壳体10(如图1所示)的制作方法包括如下步骤：

提供透明的基体11，该基体11可以为透明玻璃或透明塑料。该基体11包括内表面112及外表面114。

对基体11进行表面清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。所述清洗包括将基体11放入盛装有乙醇及/或丙酮溶液的超声波清洗器中进行震动清洗。

对基体11的外表面114进行遮蔽，以防止于内表面112形成复合膜层13时对外表面114造成污染。在本优选实施例使用高温胶带对外表面114进行遮蔽。

将基体11固定于磁控溅射镀膜机(图未示)的转架上，抽真空该镀膜机的腔体至8×10^-3Pa，并使该腔体的温度保持在0℃左右，通入流量为400～450sccm(标准状态毫升/分钟)的高纯氩气(工作气体)，以氧气和氮气为反应气体，氧气流量为10～14sccm，氮气流量为115～125sccm；开启钛靶材的电源，设定功率为8～12kw，并设置转架的公转转速为3转每分钟(revolution per minute，rpm)，对基体11的内表面112进行磁控溅射，以在该内表面112上形成钛氧氮膜层131。溅射形成该钛氧氮膜层131的时间为75～95分钟。

溅射所述钛氧氮膜层131后，关闭钛靶，停止通入氮气及氧气，然后开启铬靶并调节铬靶功率为8～10kw，继续进行磁控溅射，以在该钛氧氮膜层131上形成铬膜层133。溅射形成该铬膜层133的时间为0.5小时。

所述铬膜层133形成后，即制得所述复合膜层13。

磁控溅射完成后，撕掉高温胶带。

根据上述步骤制作的复合膜层13透过基体11的外表面114呈***，并具有较佳的金属质感。所述的复合膜层13于钛氧氮膜层131一侧呈现的色度坐标(L^*，a^*，b^*)为(40～55，8～10，-24～-16)。

由于复合膜层13形成于基体11的内表面112，使用时，可将外表面114作为外观面，因而可以避免复合膜层13刮伤或脱落。

所述壳体10的制作方法通过于透明的基体11的内表面112磁控溅射钛氧氮膜层131与铬膜层133的复合膜层13，并通过控制溅射过程中反应气体的流量、溅射时间等，以使所述复合膜层13形成特定的微观结构，而使所述壳体10呈现出***并有金属质感的外观。

请再一次参阅图1，由上述方法所制得的壳体10包括透明的基体11及形成于基体11上的复合膜层13。

基体11可以为透明玻璃或塑料。基体11包括内表面112及与该内表面112相对的外表面114，该外表面114为该壳体的外观面，该复合膜层13形成于该内表面112上。

复合膜层13包括钛氧氮膜层131及铬膜层133。该钛氧氮膜层131直接形成于基体11的内表面112。铬膜层133形成于该钛氧氮膜层131上，所述铬膜层133的透光率较低，其可很好地阻止光线透过，给钛氧氮膜层131起到衬底的作用，使该复合膜层13在钛氧氮膜层131一侧所呈现的色度区域于CIE LAB表色***的L^*坐标值介于40至55，a^*坐标值介于8至10，b^*坐标值介于-24至-16，呈现为***。

应该指出，上述实施方式仅为本发明的较佳实施方式，本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化。这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (6)

1.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供透明的基体；

使用钛靶，以氧气和氮气为反应气体，氧气流量为10～14sccm，氮气流量为115～125sccm，采用磁控溅射方法对基体进行磁控溅射，溅射时间为75～95分钟，以在基体的表面形成钛氧氮膜层；

在该钛氧氮膜层上以磁控溅射方法形成铬膜层，溅射时间为0.5小时，使该钛氧氮膜层一侧呈现的色度区域于CIE LAB表色***的L^*坐标值介于40至55，a^*坐标值介于8至10，b^*坐标值介于-24至-16。

2.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成该钛氧氮膜层以氩气为工作气体，镀膜腔体的温度保持在0℃，钛靶的功率为8～12kw。

3.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：磁控溅射该铬膜层以铬靶为靶材，铬靶功率为8～10kw。

4.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述基体为透明玻璃或塑料。

5.如权利要求1所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述对基体的一表面遮蔽是采用高温胶带进行遮蔽。

6.一种由权利要求1-5中的任一项所述的方法制得的壳体。

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