CN102259127A - 型材弯曲机的后工作辊装置 - Google Patents

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邢伟荣
***
李建英
靳秀丽
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Abstract

本发明型材弯曲机的后工作辊装置,属于型材弯曲制造技术领域;提供一种型材弯曲机的后工作辊装置,两后辊中心距可以调节;采用的技术方案是:包括:后辊架体、后辊移动油缸、后辊传动装置、后辊、后辊移动架和导轨,两个结构相同的后辊移动架通过导轨布置在后辊架体的两侧,每个后辊移动架一侧均设置有后辊移动油缸,每个后辊移动架内部均设置有后辊,后辊的下方设置有后辊传动装置,所述的后辊传动装置包括:液压马达、齿轮、传动轴和轴承,液压马达设置在后辊移动架的底部,液压马达通过两个啮合齿轮与传动轴连接,传动轴一端设置有轴承,另一端与后辊移动架的上部连接,传动轴上安装有后辊;应用于型材弯曲机上。

Description

型材弯曲机的后工作辊装置
技术领域
本发明型材弯曲机的后工作辊装置,属于型材弯曲制造技术领域。
背景技术
目前,国内的型材弯曲机大多数采用弧线下调式三辊(或四辊)结构, 通过两个后辊移动油缸,后辊可绕中轴沿床身上的弧形槽作弧线升降运动。托辊安装在床身上并置于主辊两侧,它可作升降运动和水平移动,三根辊子全为主驱动辊,结构简单,成型效果准确,但由于该机型为整体结构,当型材规格较大时,机器的外形尺寸就很大,不利于安装与运输,此种结构型式只适用于中小规格的型材弯曲。
发明内容
为克服现有技术的不足,本发明提供一种型材弯曲机的后工作辊装置,两后辊中心距可以调节。
为解决上述技术问题, 本发明采用的技术方案是:型材弯曲机的后工作辊装置,包括:后辊架体、后辊移动油缸、后辊传动装置、后辊、后辊移动架和导轨,两个结构相同的后辊移动架通过导轨布置在后辊架体的两侧,每个后辊移动架一侧均设置有后辊移动油缸,每个后辊移动架内部均设置有后辊,后辊的下方设置有后辊传动装置。
所述的后辊传动装置包括:液压马达、齿轮、传动轴和轴承,液压马达设置在后辊移动架的底部,液压马达通过两个啮合齿轮与传动轴连接,传动轴一端设置有轴承,另一端与后辊移动架的上部连接,传动轴上安装有后辊。
本发明型材弯曲机的后工作辊装置具有以下有益效果。
1、两个后辊移动架通过导轨布置在后辊机架的两侧,每个后辊移动架一侧均设置有后辊移动油缸,在后辊移动油缸的驱动下, 后辊移动架及安装在其上的后辊通过导轨可以水平移动,调整两后辊的中心距形成对称或非对称结构,使得整机具有预弯功能。
2、每个后辊移动架内部均设置有后辊,后辊的下方设置有后辊传动装置;采用分辊驱动可以消除辊子之间的运动干涉现象以及由此产生的模具磨损问题,大大提高了传动效率。
附图说明
图1为本发明型材弯曲机的后工作辊装置的结构示意图。
图2为本发明中一个后工作辊的结构示意图。
图中:1为后辊架体、2为后辊移动油缸、3为后辊传动装置、4为后辊、5为后辊移动架、6为导轨、7为液压马达、8为齿轮、9为传动轴、10为轴承。
具体实施方式
如图1、图2所示,本发明型材弯曲机的后工作辊装置,包括:后辊架体1、后辊移动油缸2、后辊传动装置3、后辊4、后辊移动架5和导轨6,两个结构相同的后辊移动架5通过导轨6布置在后辊架体1的两侧,每个后辊移动架5一侧均设置有后辊移动油缸2,每个后辊移动架5内部均设置有后辊4,后辊4的下方设置有后辊传动装置3。
所述的后辊传动装置3包括:液压马达7、齿轮8、传动轴9和轴承10,液压马达7设置在后辊移动架5的底部,液压马达7通过两个啮合齿轮8与传动轴9连接,传动轴9一端设置有轴承10,另一端与后辊移动架5的上部连接,传动轴9上安装有后辊4。
在后辊移动油缸2的驱动下, 后辊移动架5及安装在其上的后辊4通过导轨6可以水平移动,调整两后辊4的中心距形成对称或非对称结构,使得整机具有预弯功能,在卷制大截面模量型材时,将两后辊4中心距调大,以减少卷制时的压力和扭矩,在卷制小截面模量型材时,将两后辊4中心距调小,以满足卷制小筒径的要求,增加了机器的适用范围。

Claims (2)

1.型材弯曲机的后工作辊装置,包括:后辊架体(1)、后辊移动油缸(2)、后辊传动装置(3)、后辊(4)、后辊移动架(5)和导轨(6),其特征在于:两个结构相同的后辊移动架(5)通过导轨(6)布置在后辊架体(1)的两侧,每个后辊移动架(5)一侧均设置有后辊移动油缸(2),每个后辊移动架(5)内部均设置有后辊(4),后辊(4)的下方设置有后辊传动装置(3)。
2.根据权利要求1所述的型材弯曲机的后工作辊装置,其特征在于:所述的后辊传动装置(3)包括:液压马达(7)、齿轮(8)、传动轴(9)和轴承(10),液压马达(7)设置在后辊移动架(5)的底部,液压马达(7)通过两个啮合齿轮(8)与传动轴(9)连接,传动轴(9)一端设置有轴承(10),另一端与后辊移动架(5)的上部连接,传动轴(9)上安装有后辊(4)。
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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