CN102208520B - 一种led晶片正极焊垫及其制作工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明属于LED晶片焊垫技术领域,具体涉及一种LED晶片正极焊垫及其制作工艺,它包括四层镀层,从下往上依次为第一钛层、第二铝层、第三钛层、第四金层。本发明采用第一钛层、第二铝层、第三钛层和第四金层的组合取代原来的纯金LED晶片正极焊垫,在焊垫相同厚度的情况下可以节省一半以上的黄金,大大降低了成本。根据实验情况可以看到LED晶片正极焊垫结构的改变并没有造成LED晶片电性及外观等的改变,完全符合标准要求,可完全应用于生产中。
Description
技术领域
本发明属于LED晶片焊垫技术领域,具体涉及一种LED晶片正极焊垫及其制作工艺。
背景技术
近年来LED晶片行业的竞争日趋激烈,特别是2008年的经济危机以来,LED行业的竞争就尤为明显。2009年后半年市场逐步恢复活力,各个国家大力发展LED照明业,使得出现众多的LED晶片生产商,竞争更加激烈。为了增加竞争力,各公司在成本的控制上也是别出心裁,主要从LED晶片的结构上来降低成本。
LED晶片包括由砷(AS)、铝(AL)、镓(Ga)、铟(IN)、磷(P)、氮(N)锶(Si)这几种元素中组成的中间发光层、下层的衬底、最下层的晶片负极和最上层的晶片正极焊垫。
现有技术中,晶片正极焊垫是以纯金作为导体,金在导热导电性能上比较优越,但是金属于贵金属,使得LED晶片的成本明显增加,市场竞争力下降。
发明内容
本发明的目的是提供一种LED晶片正极焊垫及其制作工艺,该种LED晶片正极焊垫成本低、制作工艺简单。
本发明的目的之一是这样实现的:一种LED晶片正极焊垫,它包括四层镀层,从下往上依次为第一钛层、第二铝层、第三钛层、第四金层。
优选的,所述第一钛层、所述第二铝层、所述第三钛层、所述第四金层的厚度比为2-3:30-40:2-3:2-4。
较为优选的,所述第一钛层、所述第二铝层、所述第三钛层和所述第四金层的厚度比为2.25:35:2.25:3。
更为优选的,所述第一钛层的厚度为2.25 KÅ,所述第二铝层的厚度为35 KÅ,所述第三钛层的厚度为2.25 KÅ,所述第四金层的厚度为3 KÅ。
本发明的目的之二是这样实现的:一种LED晶片正极焊垫的制作工艺,它包括以下工艺步骤:
A、温度为35-40℃、真空度为3.5×10-6- 4.5×10-6Torr的条件下,在磊晶片上面以2.0-2.5 Å/S的速度蒸镀第一钛层,冷却;
B、温度为35-40℃、真空度为3.5×10-6- 4.5×10-6 Torr的条件下,在步骤A得到的第一钛层上面以12-17Å/S的速度蒸镀第二铝层,冷却;
C、温度为35-40℃、真空度为3.5×10-6- 4.5×10-6 Torr的条件下,在步骤B得到的第二铝层上面以2.0-2.5Å/S的速度蒸镀第三钛层,冷却;
D、温度为35-40℃、真空度为3.5×10-6- 4.5×10-6 Torr的条件下,在步骤C得到的第三钛层上面以5-7Å/S的速度蒸镀第四金层,冷却,完成LED晶片正极焊垫的制作。
优选的,一种LED晶片正极焊垫及其制作工艺,它包括以下工艺步骤:
A、温度为35-40℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在磊晶片上面以2.2Å/S的速度蒸镀第一钛层,冷却;
B、温度为35-40℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在步骤A得到的第一钛层上面以15Å/S的速度蒸镀第二铝层,冷却;
C、温度为35-40℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在步骤B得到的第二铝层上面以2.2Å/S的速度蒸镀第三钛层,冷却;
D、温度为35-40℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在步骤C得到的第三钛层上面以6Å/S的速度蒸镀第四金层,冷却,完成LED晶片正极焊垫的制作。
其中,所述步骤A、步骤B、步骤C和步骤D中冷却的时间为15-20min。
其中,所述步骤A、步骤B、步骤C和步骤D中采用电子枪蒸镀机进行蒸镀。
本发明的有益效果为:本发明采用第一钛层、第二铝层、第三钛层和第四金层的组合取代原来的纯金LED晶片正极焊垫,在焊垫相同厚度的情况下可以节省一半以上的黄金,大大降低了成本。根据实验情况可以看到LED晶片正极焊垫结构的改变并没有造成LED晶片电性及外观等的改变,完全符合标准要求,可完全应用于生产中。
具体实施方式
下面通过实施例对本发明作进一步说明,但本发明的实施范围并不限于此。
实施例1
一种LED晶片正极焊垫,它包括四层镀层,从下往上依次为第一钛层、第二铝层、第三钛层、第四金层,所述LED晶片正极焊垫的制作工艺,它包括以下工艺步骤:
A、温度为35℃、真空度为3.5×10-6Torr的条件下,在磊晶片上面以2.0Å/S的速度蒸镀第一钛层,使得第一钛层的厚度为2KÅ,冷却15min;
B、温度为35℃、真空度为3.5×10-6Torr的条件下,在步骤A得到的第一钛层上面以12Å/S的速度蒸镀第二铝层,使得第二铝层的厚度为37 KÅ,冷却15min;
C、温度为35℃、真空度为3.5×10-6Torr的条件下,在步骤B得到的第二铝层上面以2.0Å/S的速度蒸镀第三钛层,使得第三钛层的厚度为2 KÅ,冷却15min;
D、温度为35℃、真空度为3.5×10-6Torr的条件下,在步骤C得到的第三钛层上面以5Å/S的速度蒸镀第四金层,使得第四金层的厚度为2 KÅ,冷却15min,完成LED晶片正极焊垫的制作。
实施例2
一种LED晶片正极焊垫,它包括四层镀层,从下往上依次为第一钛层、第二铝层、第三钛层、第四金层,所述LED晶片正极焊垫及其制作工艺,它包括以下工艺步骤:
A、温度为35℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在磊晶片上面以2.2Å/S的速度蒸镀第一钛层,使得第一钛层的厚度为2.25 KÅ,冷却15min;
B、温度为35℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在步骤A得到的第一钛层上面以15Å/S的速度蒸镀第二铝层,使得第二铝层的厚度为35 KÅ,冷却15min;
C、温度为35℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在步骤B得到的第二铝层上面以2.2Å/S的速度蒸镀第三钛层,使得第三钛层的厚度为2.25 KÅ,冷却15min;
D、温度为35℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在步骤C得到的第三钛层上面以6Å/S的速度蒸镀第四金层,使得第四金层的厚度为3 KÅ,冷却15min,完成LED晶片正极焊垫的制作。
实施例3
一种LED晶片正极焊垫,它包括四层镀层,从下往上依次为第一钛层、第二铝层、第三钛层、第四金层,所述LED晶片正极焊垫的制作工艺,它包括以下工艺步骤:
A、温度为40℃、真空度为4.5×10-6Torr的条件下,在磊晶片上面以2.5 Å/S的速度蒸镀第一钛层,使得第一钛层的厚度为3 KÅ,冷却20min;
B、温度为40℃、真空度为4.5×10-6 Torr的条件下,在步骤A得到的第一钛层上面以17Å/S的速度蒸镀第二铝层,使得第二铝层的厚度为33 KÅ,冷却20min;
C、温度为40℃、真空度为4.5×10-6 Torr的条件下,在步骤B得到的第二铝层上面以2.5Å/S的速度蒸镀第三钛层,使得第三钛层的厚度为3 KÅ,冷却20min;
D、温度为40℃、真空度为4.5×10-6 Torr的条件下,在步骤C得到的第三钛层上面以7Å/S的速度蒸镀第四金层,使得第四金层的厚度为4 KÅ,冷却20min,完成LED晶片正极焊垫的制作。
外观与性能测试。
1、将实施例1-3完成的LED晶片正极焊垫制作的LED晶片和43KÅ纯金正极焊垫制作的LED晶片高温合金后进行外观比对,外观基本上没太大变化。
2、将实施例1-3完成的LED晶片正极焊垫制作的LED晶片和43KÅ纯金正极焊垫制作的LED晶片高温合金后进行相同条件的焊线测试,对比焊线拉力和推力,焊线使用直径为1mil正常金线,每片LED晶片各取20EA进行焊线测试,测试结果如下数据:
表1
表2
表3
表4
根据以上测试,可以看出表中数据都比较正常,没有出现较大差异。
3、将经过焊线测试实施例1-3完成的LED晶片正极焊垫制作的LED晶片和43KÅ纯金正极焊垫制作的LED晶片送入下一制程进行微切,并在微切后进行电性测试,对测试之电性数据进行比对,分别每半片各取10EA进行电性测试,测试数据如下:
表5
表6
表7
表8
可以看到,表中数据比较均匀,相差不大,表6、表7和表8与表5中的数据比较接近。
4、将实施例1-3完成的LED晶片正极焊垫制作的LED晶片已经测试过电性的微切晶片进行全切,并取切割时相接近位置处的晶粒若干,进行正常的高温老化测试,测试条件25℃168Hr,测试数据如下表:
表9
表10
表 11
老化的数据全结果部处于正常范围内,完全符合正常品质之要求。
以上所述仅是本发明的较佳实施方式,故凡依本发明专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本发明专利申请范围内。
Claims (6)
1.一种LED晶片正极焊垫,其特征在于:它包括四层镀层,从下往上依次为第一钛层、第二铝层、第三钛层、第四金层,所述第一钛层、所述第二铝层、所述第三钛层、所述第四金层的厚度比为2-3:30-40:2-3:2-4,
该种LED晶片正极焊垫的制作工艺,它包括以下工艺步骤:
A、温度为35-40℃、真空度为3.5×10-6- 4.5×10-6Torr的条件下,在磊晶片上面以2.0-2.5 Å/S的速度蒸镀第一钛层,冷却;
B、温度为35-40℃、真空度为3.5×10-6- 4.5×10-6 Torr的条件下,在步骤A得到的第一钛层上面以12-17Å/S的速度蒸镀第二铝层,冷却;
C、温度为35-40℃、真空度为3.5×10-6- 4.5×10-6 Torr的条件下,在步骤B得到的第二铝层上面以2.0-2.5Å/S的速度蒸镀第三钛层,冷却;
D、温度为35-40℃、真空度为3.5×10-6- 4.5×10-6 Torr的条件下,在步骤C得到的第三钛层上面以5-7Å/S的速度蒸镀第四金层,冷却,完成LED晶片正极焊垫的制作。
2.根据权利要求1所述的一种LED晶片正极焊垫,其特征在于:所述第一钛层、所述第二铝层、所述第三钛层和所述第四金层的厚度比为2.25:35:2.25:3。
3.根据权利要求2所述的一种LED晶片正极焊垫,其特征在于:所述第一钛层的厚度为2.25 KÅ,所述第二铝层的厚度为35 KÅ,所述第三钛层的厚度为2.25 KÅ,所述第四金层的厚度为3 KÅ。
4.根据权利要求1所述的一种LED晶片正极焊垫,其特征在于:它包括以下工艺步骤:
A、温度为35-40℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在磊晶片上面以2.2Å/S的速度蒸镀第一钛层,冷却;
B、温度为35-40℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在步骤A得到的第一钛层上面以15Å/S的速度蒸镀第二铝层,冷却;
C、温度为35-40℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在步骤B得到的第二铝层上面以2.2Å/S的速度蒸镀第三钛层,冷却;
D、温度为35-40℃、真空度为4.0×10-6 Torr的条件下,在步骤C得到的第三钛层上面以6Å/S的速度蒸镀第四金层,冷却,完成LED晶片正极焊垫的制作。
5.根据权利要求1所述的一种LED晶片正极焊垫,其特征在于:所述步骤A、步骤B、步骤C和步骤D中冷却的时间为15-20min。
6.根据权利要求1所述的一种LED晶片正极焊垫,其特征在于:所述步骤A、步骤B、步骤C和步骤D中采用电子枪蒸镀机进行蒸镀。
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