CN102095622A - 一种快速检测取向硅钢晶粒取向的方法 - Google Patents
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Abstract
一种快速检测取向硅钢晶粒取向的方法,属于取向电工钢检测技术领域。步骤为:将高温退火后的取向硅钢样品用不同颗粒度的水磨砂纸进行打磨,标准是没有粗大的划痕,然后将样品在硝酸酒精中侵蚀,快速用纯净水冲洗,并用脱脂棉擦干,然后用吹风机吹干。用扫描仪扫描得到样品组织图,并用铅笔将样品编号,将样品放入扫描电镜中,用EBSD的Flamenco软件打散点快速测定各个晶粒的取向,最后用HKL Channel5的Project manager data软件处理得出各个晶粒取向、与理想高斯的取向差以及各个晶粒的极图。优点在于,操作简便,实验效率高,节约成本。
Description
技术领域
本发明属于取向电工钢检测技术领域,特别是提供了一种快速检测取向硅钢晶粒取向的方法。检测未完全长大的小晶粒的取向和偏离理想高斯取向差,是一种较低成本、高效率检测取向硅钢二次再结晶样品晶粒取向和取向差的实验方法,通过检测大量的晶粒的取向和取向差,研究硅钢织构和磁性能的关系,以制定合理工艺,改善抑制剂,消除小晶粒,提高产品的磁性能。
背景技术
取向硅钢利用二次再结晶来发展强的{110}<100>Goss织构,从而获得沿轧向的优良磁性能。取向硅钢的生产过程中,晶粒尺寸和织构等因素均对成品磁性能有重要影响,需要加以研究分析从而有效控制磁性能。EBSD的晶体取向显微成像技术使显微组织、微区成分与结晶学数据分析相联系,可以对取向硅钢的晶界特征、微区取向、位向差、显微织构等进行定量、半定量研究,因此EBSD技术成为取向硅钢研究的重要手段。
此外,能够获取晶体材料微区内结构取向的典型技术还有浸蚀法、劳厄法、透射电镜(TEM)下的选区电子衍射(SAD)技术等,和其他技术相比EBSD分析技术,操作比较简便,分析效率高,测定绝对取向比较准确,并且比其他技术成本低。
但是对于发生了高温退火后的样品而言(尤其是晶粒比较大的样品),按取向硅钢的传统EBSD做法比较复杂,需要依次经过机械磨光、抛光和30~60s的电解抛光(8~10%的高氯酸酒精溶液,电解电压控制在30~40V,电流为0.6~1A),最后还要在用3~4%的硝酸酒精轻微腐蚀。由于步骤复杂,一方面样品的成功率受到限制,另一方面由于需要电解抛光,制取的样品的尺寸受到了限制(一般为12×10mm的,样品太大,表面质量差,导致菊池线不好,标定率低,影响了成像的效果),并且EBSD实验费用高,目前一般为300~500元每小时,上述原因导致制样效率比较低,成本较高。而取向硅钢二次再结晶的晶粒尺寸较大,若做大量的实验数据,需要制取的试样要很多,这样就增多了成本,浪费了大量的时间。为了充分发挥EBSD取向分析的优势,本发明对取向硅钢晶粒取向分析的方法进行了改变。
发明内容
本发明目的在于提供一种快速检测取向硅钢晶粒取向的方法。检测未完全长大的小晶粒的取向和偏离理想高斯取向差,是一种较低成本、高效率检测取向硅钢二次再结晶样品晶粒取向和取向差的实验方法,通过检测大量的晶粒的取向和取向差,研究硅钢织构和磁性能的关系,以制定合理工艺,改善抑制剂,消除小晶粒,提高产品的磁性能。实现了更简单地检测晶粒取向,有利于节省实验时间,降低成本。
本发明的样品为经过高温退火的低温板坯加热生产的普通取向硅钢,将样品经过磨光后,侵蚀到肉眼能看到长大的晶粒。
本发明用EBSD设备对各个晶粒依次进行散点分析,将所得数据在特定的EBSD数据处理软件上处理,得出各个晶粒的取向、与理想高斯织构的取向差以及极图。
本发明所述普通取向电工钢板的成分为:C:0.04-0.06wt%,Si:2.5-6.5wt%,Mn:0.01-0.2wt%,Al:0.001-0.04wt%,N:0.005-0.015wt%,S≤0.04wt%,余量为铁和不可避免的杂质。检测的操作步骤如下:
(1)使用砂纸对70mm×10mm的高温退火试样进行打磨;
(2)将样品在2%-10%体积分数的硝酸酒精中侵蚀,侵蚀时间为3-8分钟,侵蚀到出现明显的晶粒;
(3)将样品用纯净水清洗干净,用脱脂棉擦干,用吹风机吹干,保证表面的干净;
(4)将样品放入电镜室,用EBSD的Flamenco软件打散点;
(5)使用软件处理得出晶粒取向、与理想高斯的取向差以及各个晶粒的极图。
打磨所用的砂纸分别为240#、400#、600#、800#、1000#、1200#、1500#.、2000#的水磨砂纸,标准为没有明显的划痕。
使用纯净水冲洗的步骤要求快速,并用脱脂棉擦干,而后吹干。
在放入电镜室前,需要使用铅笔对样品编号进行标号。
所述使用处理晶粒取向的软件为HKL Channel5的Project manager data软件。
本发明的优点在:操作简单,实验效率高,节省成本。
附图说明
图1是用扫描仪拍下的高温退火板的宏观组织,图中将各个晶粒做了标记,R代表轧向。
图2代表图1中已编号晶粒样品的极图,代表以点形式表示的取向,分为{200}、{111}和{110}极图。
图3代表图1中已编号晶粒样品的极图,代表以等高线形式表示的取向。
具体实施方式
将高温退火后的样品切成长条,切成70mm×10mm的长条,将样品在240#、400#、600#、800#、1000#、1200#、1500#和2000#砂纸打磨,标准是没有粗大的划痕,然后将样品在2%-10%体积分数的硝酸酒精中侵蚀,侵蚀到出现明显的晶粒,时间约为3-8分钟,快速用纯净水冲洗,并用脱脂棉擦干,然后用吹风机吹干。用扫描仪扫描得到样品组织图,并用铅笔将样品编号,将组织图打印出来,也做相应的标记(见图1),目的是保证后面的散点分析的准确性。将标记好的1-2个70×10mm的样品放在EBSD样品台上,用EBSD的Flamenco软件打散点快速测定各个晶粒的取向。然后用HKLChannel5的Project manager data软件处理得出各个晶粒取向、与理想高斯的取向差,表1为处理的图1的各个晶粒的取向和偏离高斯取向的取向差的结果(按与Goss的取向差由小到大的顺序排列),最后将各个晶粒的取向合并到三个极图中,如图2和3所示。
表1样品单个晶粒取向及与理想Goss的取向差
Claims (4)
1.一种快速检测取向硅钢晶粒取向的方法,其特征在于,操作步骤如下:
(1)使用砂纸对70mm×10mm的高温退火试样进行打磨;
(2)将样品在2%-10%体积分数的硝酸酒精中侵蚀,侵蚀时间为3-8分钟,侵蚀到出现明显的晶粒,
(3)将样品用纯净水清洗干净,用脱脂棉擦干,用吹风机吹干,保证表面的干净;
(4)将样品放入电镜室,用EBSD的Flamenco软件打散点;
(5)使用软件处理得出晶粒取向、与理想高斯的取向差以及各个晶粒的极图。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,打磨所用的砂纸分别为240#、400#、600#、800#、1000#、1200#、1500#、2000#的水磨砂纸,标准为没有明显的划痕。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在放入电镜室前,需要使用铅笔对样品编号进行标号。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述使用处理晶粒取向的软件为HKL Channel5的Project manager data软件。
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