CN102050509A - 使用卤素衍生物处理水池水的装置以及使用该装置的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种处理装置，该处理装置使用卤素衍生物处理水池水、特别是游泳池水，该处理装置包括生产设备(6)以及测量设备(3)，该生产设备(6)从含有卤素盐的水溶液中借助电解生产所述卤素衍生物，该测量设备(3)用于测量水池中卤素衍生物的浓度，该处理装置的特征在于，还包括：调整设备(7)，用于调整卤素衍生物的生产并且能变化卤素衍生物生产的速度和持续时间；处理器设备(8)，用于处理从测量设备获得的数据并且能使调整设备遵循调整配置文件，从而根据水池中所述卤素衍生物的浓度，调整卤素衍生物生产的速度和持续时间。

Description

使用卤素衍生物处理水池水的装置以及使用该装置的方法
技术领域
本发明涉及一种使用卤素衍生物处理水池水、特别是游泳池水的装置，并且也涉及一种相关的使用这种装置的方法。
本发明有利地适用于处理家用游泳池水的领域。然而，尽管现有应用特别的意指这种使用，但现有应用也适用于其他类型的水池，例如公共游泳池，或者确切地，更加通常地，适用于使用电解设备处理水的水池。
背景技术
为避免细菌的增殖，使用消毒剂处理游泳水，消毒剂通常是基于卤素衍生物，并且主要是基于氯的衍生物，例如次氯酸钠。
这种氯的衍生物能够在现场制成，并且，为此目的，已知的电解器或者“氯化器”，可从含有卤化盐、通常是氯化钠的水溶液中生产必需的消毒剂的量。
借助电解的处理方法是简单的。它包括在位于水池的水进入或再循环管道中的电解器的末端上施加相对高的电压，从而生产处理所需的大量消毒剂。
该处理方法是可靠的并且具有优势的，尤其是与在处理中借助氯片获得消毒剂的方法相比更是如此，这是因为该方法可减少运输、储存以及保存消毒剂的相关问题。
不幸的是，该方法存在缺点，其中之一是：以完全作用或者根本不作用的模式操作电解器会消耗大量的能量，并且考虑到它的停止-启动使用而具有短的寿命。
另外，水池中水的消毒剂，当被配置有一个或者多个电解器时，不是最优化的，这是因为水池中生产的消毒剂的量通常很高以避免消毒剂浓度降低到最小极限值以下的风险。
在那种类型的方法，无法进行精细的调整以适应事实上消毒剂的浓度能够随着许多不同参数而很快地变化，这是因为，在那种类型的方法中，电解器的操作不能适应于这种快速的变化。换句话说，在实际做法中，电解器被编程安装以生产持续时间的日常消毒剂的量，导致这种电解器在其所产生的游泳池水质量方面不完全令人满意，并且还具有高的维护和操作费用。
发明内容
本发明的目的就是提出对已有电解处理装置和方法的改进，从而可降低上述提及的缺点。
为此目的，本发明提供一种处理装置，该处理装置使用卤素衍生物处理水池水、特别是游泳池水，该处理装置包括生产设备以及测量设备，该生产设备从含有卤素盐的水溶液中借助电解生产所述卤素衍生物，该测量设备用于测量水池中卤素衍生物的浓度，该处理装置的特征在于，还包括：
·调整设备，用于调整卤素衍生物的生产并且能变化卤素衍生物生产的速度和持续时间；
·处理器设备，用于处理从测量设备获得的数据并且能使调整设备遵循调整配置文件，从而根据水池中所述卤素衍生物的浓度函数，调整卤素衍生物生产的速度和持续时间。
本发明也提供一种相关的方法，该方法包括：测量步骤，测量卤素衍生物浓度；处理步骤，能执行用于调整卤素衍生物生产的速度和持续时间的调整配置文件；以及生产步骤，根据被执行的配置文件以生产卤素衍生物。
附图说明
在参照借助非限制性实例给出的附图而阅读了以下对实施例的详细说明之后，能够更好的理解本发明。在附图中：
·图1是示出了本发明方法的各个步骤的执行流程图；以及
·图2是示出了本发明处理装置的实施例的模式图。
具体实施方式
主要参考图2，可看到处理装置1。在所示的实施例中，这种处理装置1是由两部分组成，即包括了用于测量水池4中氯浓度的测量设备3的第一部分2。
装置1还具有第二部分5，该第二部分5包括借助电解从水溶液生产所述卤素衍生物的生产设备6，以及用于调整卤素衍生物生产的调整设备7和数据处理设备8。
将生产设备6、调整设备7和处理器设备8结合在同一个外壳内是有利的，特别是衡量到制造费用时。然而，在其他实施例中，生产设备6可与调整设备7和处理器设备8分开。
作为示例，在水池的水处理需要多个电解器的情况下，装置1有利地在外壳包括调整设备7和处理器设备8，从而能够使电解器被集中地和远程地控制。
用于测量浓度的测量设备被选定为对氯浓度给予可靠的和自动的测量。为此目的，所示实施例的测量设备为比色分析的类型。这种类型的测量设备借助使待分析的水与试剂反应，并且借助使用光学分析器测量混合物的透光度，可获得准确的氯浓度测量。
根据本发明，调整设备7可变化卤素衍生物的生产速度和持续时间。为此目的，在一优选实施例中，调整设备7包括用于变化在电解器的电极上施加的电压的设备。
卤素衍生物的生产直接取决于在电解器的电极之间传输的电流，并且因此，电流的变化可使氯的生产速度变化。这些变化设备有利地实施成数字电位计。
根据电解器的特征，设置调整设备7以使电解器末端的电流可在0安培(A)到20A之间变化。电流的变化也可以有利地以步长为0.5A发生。调整设备7与装置1的电源11相连接。
根据本发明，处理器设备8可使调整设备7遵循调整配置文件，用于根据水池中卤素衍生物的浓度，调整卤素衍生物生产的速度和持续时间。
使用调整配置文件调整氯的生产是特别有利的，首先，在处理装置1中，通过遵循配置文件，电解器可在低速、中速和高速下连续操作，而不是像在现有技术中那样不变的基于完全作用或者根本不作用。
这种调制因此可减少装置的能量消耗，而且还可节约电解器本身和电解器的部件，从而使它们不太可能过早地耗尽。
此外，配置文件的使用使氯的衍生物更均匀地分散在水池中，从而避免氯含量的峰值，或者相反地避免氯含量过低或在氯的衍生物的量迅速减少时氯的生产缺乏的风险，例如，当水池中的温度迅速升高时，或当水池中的人的数量迅速增多时。
借助配置文件的调整，因此可精细地适应于所需的消毒剂量，并且因此还可减少消耗的氯化钠水溶液的量。
为了确定合适的配置文件，处理器设备8使用借助测量设备3传输的数据，并且将测量值与借助处理器10储存在存储器9中的调整配置文件作比较。
所述存储器9可储存用于卤素衍生物的各种不同浓度的至少一个调整配置文件，从而可选择适应于从测量设备3获得的数据的配置文件。
根据一有利特征，处理器设备8可在存储器9中分析和储存涉及水池水的至少一个附加参数。各种参数可被记录，例如，卤素衍生物的浓度变化和/或水池的温度和/或水池水体积，可构成广泛种类的调整配置文件并能合适地控制调整设备7。
例如，把水池的温度作为一个附加参数，并且在任何给定氯浓度的条件下，存储器9包含各种不同的与水池温度相对应的调整配置文件，可以最优化的速度和最优化的持续时间生产一定量的氯。为此目的，处理器设备8还与温度测量设备相连接。
如上所述，各种不同的附加参数可用于改善，随着时间的推移，水池中氯含量的处理的准确性。对于特定的参数，例如水池中水的量，则操作员可以借助与处理器设备8相连接或结合的键盘直接将数据输入到处理器设备8中。
有利的是，处理器设备8在存储器9中记录测得的数据，可构成新的调整配置文件。
各种配置文件可被考虑为主要取决于测得的氯浓度和水池中所需的氯浓度之间的差值。然而，优选的调整配置文件具有以下阶段：生产速度逐步增长，接着生产持续时间逐步增长。
本发明还涉及一种使用卤素衍生物并且使用上述提及的处理装置1处理水池中水的方法，特别是处理游泳池水的方法。
图1是示出了该方法中的各个步骤的流程图，该方法包括：测量卤素衍生物浓度的测量步骤；可执行用于卤素衍生物的生产速度和持续时间的调整配置文件的处理步骤；以及遵循被执行的配置文件以生产卤素衍生物的生产步骤。
有利的是，还包含至少一个附加的测量步骤和处理步骤。在这种方式下，装置1可适应于水池中的氯含量变化，可保持或者修改生产卤素衍生物的配置文件。附加的测量优选的是在最近一次向水池中注入氯之后等待一段时间进行，使得氯的浓度变得稳定。
该方法可能还包括初始化步骤和校准步骤，它们能够在工厂或者在现场进行。该处理方法可能还包括调整水池pH值的步骤。
可以不超出下面权利要求中限定的发明范围而设计出本发明的其他特征。
于是，借助示例，尽管上述描述的处理装置是以氯的衍生物来处理，本发明也运用其他类型的卤素衍生物，特别是溴的衍生物。相同的，盐的水溶液也不局限于氯化钠，而也可考虑其他的盐类，例如对于本领域技术人员公知的钙盐。
在本实施例中，浓度测量是通过比色分析测量设备获得的。然而，本申请不局限于这种类型的测量，并且浓度测量也可通过使用其它自动测量设备实现。

Claims (10)

1.一种处理装置，该处理装置使用卤素衍生物处理水池水、特别是游泳池水，该处理装置包括生产设备(6)以及测量设备(3)，该生产设备(6)从含有卤素盐的水溶液中借助电解生产所述卤素衍生物，该测量设备(3)用于测量水池中卤素衍生物的浓度，该处理装置的特征在于，还包括：
·调整设备(7)，用于调整卤素衍生物的生产并且能变化卤素衍生物生产的速度和持续时间；
·处理器设备(8)，用于处理从所述测量设备获得的数据并且能使所述调整设备遵循调整配置文件，从而根据水池中所述卤素衍生物的浓度，调整卤素衍生物生产的速度和持续时间。
2.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述调整设备(7)包括用于变化电压的设备，该电压施加在配置在所述生产设备(6)中的电解器的末端。
3.如权利要求2所述的处理装置，其特征在于，所述调整设备设置成使电解器末端的电流能在0A到20A之间变化。
4.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述处理器设备(8)具有存储器(9)，该存储器能储存用于卤素衍生物的各种不同浓度的至少一个调整配置文件，并且能选择适应于借助所述测量设备(3)获得的数据的配置文件。
5.如权利要求4所述的处理装置，其特征在于，所述处理器设备(8)能在所述存储器(9)中分析和储存涉及水池中水的至少一个附加参数。
6.如权利要求5所述的处理装置，其特征在于，所述至少一个附加参数是卤素衍生物的浓度变化和/或水池的温度和/或水池中水的体积和/或水池的pH值，能构成广泛种类的调整配置文件以保证适当地控制所述调整设备。
7.如权利要求4所述的处理装置，其特征在于，所述处理器设备(8)设置成在存储器(9)上记录测量到的数据，以能构成新的调整配置文件。
8.如权利要求4所述的处理装置，其特征在于，所述调整配置文件包括以下阶段：生产速度逐步增长，接着生产持续时间逐步增长。
9.一种使用卤素衍生物并且使用如前述任何一项权利要求所述的处理装置(1)处理水池水的方法，所述方法特别用于处理游泳池水，所述方法包括：
·测量步骤，测量卤素衍生物的浓度；
·处理步骤，能执行用于调整卤素衍生物生产的速度和持续时间的调整配置文件；以及
·生产步骤，遵循被执行的配置文件以生产卤素衍生物。
10.如前述权利要求所述的方法，其特征在于，还包括至少一个附加的测量步骤和处理步骤，从而能保持或者修改用于生产卤素衍生物的生产配置文件。
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