CN102023388A - 阵列光子筛匀光器及其制作方法 - Google Patents
阵列光子筛匀光器及其制作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102023388A CN102023388A CN2009100932927A CN200910093292A CN102023388A CN 102023388 A CN102023388 A CN 102023388A CN 2009100932927 A CN2009100932927 A CN 2009100932927A CN 200910093292 A CN200910093292 A CN 200910093292A CN 102023388 A CN102023388 A CN 102023388A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- array
- light
- photon screen
- uniforming device
- light uniforming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 15
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 claims description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 14
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 13
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 230000001795 light effect Effects 0.000 description 4
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 241000931526 Acer campestre Species 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 239000011796 hollow space material Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明公开了一种阵列光子筛匀光器,该阵列光子筛匀光器是一种在透明介质上,根据实际需要制造的光子筛的阵列,阵列的大小由实际需要给出。所谓光子筛是在菲涅尔波带环上制作大量分布的具有不同半径的透光微孔的衍射光学元件,是该种阵列型匀光器的基本单元。其余的部分不透光。所谓阵列就是重复这个光子筛的结构。本发明同时公开了一种制作阵列光子筛匀光器的方法。利用本发明,实现了对高斯光束和其它不均匀非平面波前光束的波前平顶化,实现光束的匀光,实现接***面的波前光束。这种光束在光路***中有着广泛的应用。
Description
技术领域
本发明涉及激光光束波面整形技术领域,特别是一种用于实现高斯波前和不规则波前激光束在远场衍射光场的波前平顶化,即实现接近于平面波前分布的光场的阵列光子筛匀光器及其制作方法。该种阵列光子筛匀光器可用于光束整形、微电子无掩模刻蚀和其它需要平面波前的各种光路中。
背景技术
通过各种途径对于高斯波前和不规则波前激光束进行匀光,使得光束变换成为接近于平面波前的光束是一个实用的课题,在各种光路中都有广泛的应用,比如在光束整形、微电子无掩模刻蚀和其它需要平面波前的各种仪器中。能够实现这种功能的光学器件统称为匀光器。
位相调制技术是通过改变衍射光线传播截面的位相分布从而实现预期衍射光强分布的技术。用于进行调制的方法有多种,有固定位相分布的位相板,也有用光电晶体制成的可由电压控制位相分布的调制片。因为衍射位相板光能的利用效率最高,所以最常用。
所谓匀光器,也称为匀束器,是一种改变入射光束波前以实现类似平面波前光束的光学器件。一般的匀光器包括:
棱镜法:工作原理为当一束光强分布近似高斯函数的准平行激光束,通过棱镜时,光束被四面棱镜分成四束光束,四束光束在X-Y面上叠加后,光束分布均匀性有较好改善。在X-Y面上的一点的(x,y),经过四面棱镜后,X-Y面上的光强变化百分比小于3%,激光传输率可达94%,用棱镜法可以获得输出光束很好的均匀效果和较高的激光传输率,但棱镜法的均匀效果仅在输入光束严格对称时才获得理想的效果,并且获得均匀光束截面的位置极严格的对应于光楔的角度。
反射镜法:工作原理为当一束光强分布近似高斯函数的准平行激光束经过透镜L1聚焦到反射镜M1上,经过一次反射后,其能量分布将按照图1-2所示发生光束方向的改变和能量叠加现象,同样经过透镜L2和反射镜M2后,光束将再一次叠加。这样经过多次的光束叠加后,其初始的高斯光束能量分布将被均匀化。用反射镜法也可以获得输出光束很好的均匀效果和较高的激光传输率,但反射镜法的装配和调试极为困难。
万花筒法:工作原理为当光强分布为近似高斯分布的入射光以最大入射角θmax进入光波导后,只有和透镜光轴平行的或和光轴成一较小夹角的光线不经过反射直接通过波导管,其余入射光的光线将在波导管内产生反射到达输出面的不同点上。万花筒法制作、装调简易,成本大大降低,能方便地改变输出光斑的大小,但此***的传输损耗较大。
柱面镜法:方法原理为由四片柱面镜围成一个中空的方形结构,每片柱面镜安装在一个精细调整架上,通过调节可以控制中空部分的尺寸和形状,激光照射在装置上,中空部分激光直接透过,照射在边缘柱面透镜上的光将补偿到中间光的弱光强部分,通过计算柱面镜的参数和适当调节调整旋钮,就能得到均光效果,这种方法的优点是光束透过率较高,均光效果较好,但设计人员要求较高,设计人员需要计算镜片参数及设计高精度的微调机构。
复眼透镜列阵法:原理为蝇眼透镜阵列聚光***光路,由m×m片焦距和尺寸相同的小透镜组成的方形透镜阵列L,透镜列阵L把入射的准直光束波面分割成m2束子光束,在靶面上形成的光强分布实际是球面聚光镜将各子光束会聚在其焦平面上的光强的积分。使用透镜阵列聚光***,即使在入射光束近场分布均匀性很差的情况下,仍然可以在焦平面上得到均匀的光照效果。
阵列匀光器,又称为阵列匀束器,是基于数学积分原理设计的,其可将光束分成无限多个细小的光束,每个细小的光束内部的能量分布是均匀的,将所有的小光束累计叠加,就得到了在某一位置能量均匀分布的光斑。[参见,Lin ying,Lawrence Geoge N,Buck Jesse.Charaterization of excimer lasers for application to lenslet arrayhomogenizer[J],Applied Optics,2001,49(12):1931-1941]。阵列匀光器的基本阵列单元可以是透镜,即上述的复眼透镜阵列法,也可以是菲涅尔波带片[参见刘勋,陈涛,左铁钏,应用于准分子激光波面整形的二元光学元件的设计研究,中国激光(专刊),2008年3月。]
所谓光子筛,是一种新型聚焦成像衍射光学器件,利用它可以对X光聚焦和成像,这是一般棱镜和玻璃材料的成像光学器件无法实现的。光子筛与传统的光学元件Fresnel波带片相比,具有高分辨率和抑制二级衍射主极大等优点,能提高成像的对比度。而且,作为新型衍射元件,它具有体积小、重量轻、易复制等优点。
光子筛可以应用于高分辨率显微镜、天文望远镜、下一代光刻,激光可控核聚变(ICF)研究等。
在2001年,Kipper et al.首次提出了一种新型的衍射光学器件:光子筛,用它来对软X射线和EUV辐射光源聚焦和成像[Kipp,L.,Skibowski,M.,Johnson,R.L.,Berndt,R.,Adelung,R.,Harm,S.,andSeemann,R.Sharper images by focusing soft X-ray with photonsieves.Nature[J],2001.414,184-188.]。
光子筛(Photon Sieve,PS)是在菲涅耳波带环上制作大量适当分布的具有不同半径的透光微孔的衍射光学元件(Diffraction OpticalElement,DOE)。
发明内容
(一)要解决的技术问题
有鉴于此,本发明的主要目的在于提供一种阵列光子筛匀光器及其制作方法,以实现将高斯光束和其他波前不均匀激光束变换为波前近似平面的衍射光束。
(二)技术方案
为达到上述目的,本发明提供了一种阵列光子筛匀光器,该阵列光子筛匀光器是一种在透明介质上制造的光子筛阵列,阵列的大小由实际需要给出,阵列的大小选择要能够使得入射的光束完全被阵列所容纳,光子筛是该种阵列型匀光器的基本单元。
上述方案中,该光子筛是在透明的基片上制造的基于在透明基片上制造的基于菲涅尔波带片的多个圆孔,圆孔的位置在菲涅尔波带片的圆环上,圆孔的大小是相应的菲涅尔波带片环宽的1.5倍,菲涅耳波带片的环数由实际需要给出。圆孔的部分透光,其余部分不透光。
上述方案中,所谓阵列就是重复这个光子筛的结构。
为达到上述目的,本发明还提供了一种制作阵列光子筛匀光器的方法,该方法利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术实现,包括以下步骤:
利用电子束直写法制作出母版;
通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上。
上述方案中,所述通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上的步骤中,所述接触曝光的复制误差小于0.5μm,所采用的光刻胶为Shipley s1818,厚度为1.8μm。
(三)有益效果
本发明提供的阵列光子筛匀光器,是基于数学积分原理设计的,其可将光束分成无限多个细小的光束,每个细小的光束内部的能量分布是均匀的,将所有的小光束累计叠加,就得到了在某一位置能量均匀分布的光斑。该种阵列匀光器的基本单元光子筛,是一个振幅型的衍射元件,它的单独功能是实现入射到其上的光束在远场的波前平顶化,而且入射光束入射到该基本单元后,实现了光束的再聚焦和远场的扩散,从而实现了阵列器件的匀光,将高斯光束和其他波前不均匀激光束变换为波前近似平面的衍射光束。
附图说明
图1是阵列光子筛匀光器的基本衍射单元,光子筛的示意图。图中黑色为不透光部分,白色透光的圆孔,该光子筛是基于10环菲涅尔波带片的光子筛。圆孔直径和相应菲涅尔波带片圆环宽之比为1.5。
图2是本发明阵列光子筛匀光器实施例之一的10×10阵列光子筛匀光器的示意图,衍射单元是图1;
图3一束高斯光束入射到阵列光子筛环匀光器的示意图。
图4是10×10阵列菲涅尔波带片匀光器的示意图。该种匀光器的基本衍射单元式菲涅尔波带片,该种匀光器已公开发表。本发明列出这种匀光器的目的是把本发明的阵列光子筛环匀光器和阵列菲涅耳波带片匀光器进行对比,从而证明本发明的匀光结果优于阵列菲尼尔波带片匀光器。
图5一束高斯光束入射到阵列菲涅尔波带片匀光器的示意图。
图6高斯光束不入射到任何匀光器,入射到阵列菲涅尔波带片匀光器,入射到阵列光子筛匀光器的衍射光束的强度对比图。从图中可以明显看出:不入射到任何匀光器,高斯光束的光强度分布是一条高斯曲线。两种匀光器都是实现了对高斯光束的匀光,但是本发明提供的阵列光子筛匀光器的匀光效果要比现有的阵列菲涅尔波带片匀光器的匀光效果要好。因为它实现了更接近于平面波前的衍射光束。
图7是阵列光子筛匀光器的实验检测装置。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。
阵列光子筛匀光器是一种新型的衍射光学位相元件,即位相板。该位相板放置于衍射极限透镜之前或之后,对激光束远场衍射光场进行修正,即匀光,实现比入射光束不规则波前(比如高斯光束)更接近于平面波前的衍射光束。本发明给出了阵列光子筛匀光器的设计结构,并进行了相关模拟实验。实验验证了采用阵列光子筛匀光器可以实现高斯光束波前的平顶化,即把高斯光束变换成为波前接近于平面波前的衍射光束。本发明技术可用于光束整形、微电子无掩模刻蚀和其它需要平面波前光束的各种光路中。
本发明提供的这种阵列光子筛匀光器,是一种在透明介质上根据实际需要制造的光子筛阵列,阵列的大小由实际需要给出。所谓光子筛是该种阵列型匀光器的基本单元。光子筛是在透明的基片上制造的基于菲涅尔波带片的多个圆孔,圆孔的位置在菲涅尔波带片的圆环上,圆孔的大小是相应的菲涅尔波带片环宽的1.5倍,菲涅耳波带片的环数由实际需要给出。所谓阵列就是重复这个光子筛的结构。
图2是本发明阵列光子筛匀光器实施例之一的10×10阵列光子筛匀光器的示意图,衍射单元是图1;图中黑色为不透光部分,白色透光的圆孔,该光子筛是基于10环菲涅尔波带片的光子筛。圆孔直径和相应菲涅尔波带片圆环宽之比为1.5。
由衍射光学角谱的结论可知:
设在z=0平面上引入一个无穷大的包含有匀光器结构的位相片,理想的高斯光束照在匀光器上。匀光器的透过率函数为S(x,y,z):高斯光束透过匀光器光强为E(x,y,0),经过二维空间离散傅里叶变换得到入射光在衍射屏上的角谱F0(fx,fy,0)。
在(3)中,fX fY必须满足条件 此式表明,传播一段距离的z的效应只是改变了各个角谱分量的相对相位。但是当 时,空间频率的频谱E.(fx,fy,z)为
E(fX,fY,z)=E(fX,fY,0)exp(-μz) (4)
在(4)中,
由于μ是一个正实数,这些波动分量因传播距离增大而迅速衰减。将(4)式做傅里叶逆变换,得到光波振幅E(x,y,z)
以上是普通角谱衍射理论,也是我们模拟匀光器沿着光路的理论基础。针对阵列光子筛匀光器,需要修改的就是每一个透过率函数。
本发明给出了阵列光子筛匀光器的设计参数。我们在图2中选择了10×10的阵列,该阵列的选择要满足一个原则:即入射光束的孔径必须小于阵列的幅度,从而能够使得入射光束能够完全照射到匀光器上。对于每一个光子筛基本衍射单元的设计参数如下:一般选取同参数阵列菲涅尔波带片匀光器的菲涅尔参数,然后在此基础上获得光子筛的参数,圆孔直径和相应的菲涅尔波带片环宽比为1.5。
本发明的阵列光子筛匀光器在实际的应用如7所示。1是准直激光器,2是聚焦透镜,3是本发明的阵列光子筛匀光器,4是CCD光电探测器。从准直激光1发出的光经过聚焦透镜2和阵列光子筛匀光器3,在聚焦透镜2的焦平面上产生衍射图。这样的衍射光束强度分布可以由放在聚焦透镜2的焦面上的CCD探测器4探测到并证实之。
实验证明加入所设计的阵列光子筛匀光器后,确实实现了把高斯光束变换成为接***面波前光束的出射光。这说明本发明可用于光束整形、微电子无掩模刻蚀和其它需要平面波前的各种光路中。
本发明提供的这种制作阵列光子筛匀光器的方法,利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术实现,具体包括以下步骤:
步骤1、利用电子束直写法制作出母版;
步骤2、通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上。
上述制造阵列光子筛匀光器,是利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术来实现的。首先,利用电子束直写法制作出母版,通过接触式光刻法,母版图案转移到了涂有光刻胶的光学玻璃上。所采用的光刻胶为Shipley s1818,厚度为1.8μm。接触曝光的复制误差小于0.5μm。光子筛各参数在前文中已给出。按照图7的光路示意图,布置好测量光路.激光器工作波长是632.8nm。然后扩束、准直。在实验中,是一个10×10阵列光子筛匀光器,然后在聚焦光斑处放置CCD探测器,由此可观测出衍射光斑的大小。实测数据证明了理论计算的正确性。
下面以一个10×10阵列光子筛匀光器为例,描述其制作方法:
1)、确定激光波长和光子筛的焦距和环数,这些参数有实际需要给出,原则是光子筛环数不能太小,否则影响聚焦,也不能太大,太大的衍射基元不利于最后的匀光;
2)、根据工作需要确定激光阔束以后的光束的半径,要制作的阵列必须大于这个半径。阵列的大小由光束的大小决定。
3)、按照本文所述的方法画出匀光器的版图。
4)、制作阵列光子筛匀光器。
假设激光波长是632.8纳米,光子筛的焦距是2000微米。括束以后高斯光束的半径是180微米,选择10×10的阵列,可以满足全部要求。光子筛所基于的菲涅尔波带片的环数为10环,根据以上参数可以设计出所需要的光子筛,作为衍射基元。不透光的部分全部镀上铬。
以上所述的具体实施实例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细的说明。所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施实例而已,并不用于限制本发明。凡在本发明的精神和原则之内所做的任何修改、等同替换或者改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种阵列光子筛匀光器,其特征在于,该阵列光子筛匀光器是一种在透明介质上制造的光子筛阵列,阵列的大小由实际需要给出,阵列的大小选择要能够使得入射的光束完全被阵列所容纳,光子筛是阵列的基本单元。
2.根据权利要求1所述的阵列光子筛匀光器,其特征在于,该光子筛是一个在透明基片上制造的基于菲涅尔波带片的多个圆孔,圆孔的位置在菲涅尔波带片的圆环上,圆孔的大小是相应的菲涅尔波带片环宽的1.5倍,菲涅耳波带片的环数由实际需要给出。
3.根据权利要求1所述的阵列光子筛匀光器,其特征在于,所述光子筛的圆孔部分透光,其余的部分不透光。
4.一种制作阵列光子筛匀光器的方法,其特征在于,该方法利用大规模集成电路工艺技术和平面光刻工艺技术实现,包括:
利用电子束直写法制作出母版;
通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上。
5.根据权利要求4所述的制作阵列光子筛匀光器的方法,其特征在于,所述通过接触式光刻法将母版图案转移到涂有光刻胶的光学玻璃上的步骤中,所述接触曝光的复制误差小于0.5μm,所采用的光刻胶为Shipley s1818,厚度为1.8μm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2009100932927A CN102023388A (zh) | 2009-09-16 | 2009-09-16 | 阵列光子筛匀光器及其制作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2009100932927A CN102023388A (zh) | 2009-09-16 | 2009-09-16 | 阵列光子筛匀光器及其制作方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102023388A true CN102023388A (zh) | 2011-04-20 |
Family
ID=43864888
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2009100932927A Pending CN102023388A (zh) | 2009-09-16 | 2009-09-16 | 阵列光子筛匀光器及其制作方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102023388A (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103487943A (zh) * | 2013-10-10 | 2014-01-01 | 中国科学院上海微***与信息技术研究所 | 一种激光点光源簇的产生装置 |
CN106271088A (zh) * | 2016-08-25 | 2017-01-04 | 南开大学 | 一种基于飞秒激光的菲涅尔波带片阵列制作方法及应用 |
CN111273441A (zh) * | 2020-02-25 | 2020-06-12 | 业成科技(成都)有限公司 | 光学模组及电子设备 |
CN111715997A (zh) * | 2019-03-21 | 2020-09-29 | 中国科学院微电子研究所 | 一种对高斯型激光进行匀束的***及方法 |
-
2009
- 2009-09-16 CN CN2009100932927A patent/CN102023388A/zh active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103487943A (zh) * | 2013-10-10 | 2014-01-01 | 中国科学院上海微***与信息技术研究所 | 一种激光点光源簇的产生装置 |
CN103487943B (zh) * | 2013-10-10 | 2016-04-13 | 中国科学院上海微***与信息技术研究所 | 一种激光点光源簇的产生装置 |
CN106271088A (zh) * | 2016-08-25 | 2017-01-04 | 南开大学 | 一种基于飞秒激光的菲涅尔波带片阵列制作方法及应用 |
CN111715997A (zh) * | 2019-03-21 | 2020-09-29 | 中国科学院微电子研究所 | 一种对高斯型激光进行匀束的***及方法 |
CN111273441A (zh) * | 2020-02-25 | 2020-06-12 | 业成科技(成都)有限公司 | 光学模组及电子设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7867692B2 (en) | Method for manufacturing a microstructure, exposure device, and electronic apparatus | |
CN102799079B (zh) | 用于微光刻投影曝光设备的照射*** | |
Zimmermann et al. | Microlens laser beam homogenizer: from theory to application | |
JP5068271B2 (ja) | マイクロリソグラフィ照明システム、及びこの種の照明システムを含む投影露光装置 | |
CN101430428B (zh) | 超分辨菲涅耳波带片 | |
US11099400B2 (en) | Beam propagation camera and method for light beam analysis | |
CN104220931B (zh) | 补偿微光刻投射曝光***的通道缺陷的设备及方法 | |
KR20020041413A (ko) | 광영상을 형성하는 방법, 이 방법에 사용하는 마스크, 이방법을 사용하는 소자를 제조하는 방법 및 이 방법을수행하는 장치 | |
KR101029926B1 (ko) | 중첩식 doe 호모지나이저 광학계 | |
CN102023386A (zh) | 阵列全环光子筛匀光器及其制作方法 | |
CN101614961B (zh) | 部分环带光子筛及其制作方法 | |
KR101714005B1 (ko) | 광학 소자 및 이를 포함하는 노광 장치 | |
US20110043917A1 (en) | Diffractive laser beam homogenizer including a photo-active material and method of fabricating the same | |
JP5585761B2 (ja) | マイクロリソグラフィのための光学要素及び照明光学系 | |
US20120206924A1 (en) | Laser light shaping optical system | |
CN101881844B (zh) | 环带光子筛 | |
KR20210142710A (ko) | 가변 듀티 사이클을 갖는 주기적 패턴을 인쇄하기 위한 방법 및 장치 | |
CN102023388A (zh) | 阵列光子筛匀光器及其制作方法 | |
CN102023387A (zh) | 阵列环带光子筛匀光器及其制作方法 | |
CN102023389B (zh) | 阵列部分环带光子筛匀光器 | |
CN102681170A (zh) | 一种制作阵列部分环带光子筛匀光器的方法 | |
CN101661225B (zh) | 位相型波带片光子筛 | |
CN101430427B (zh) | 超分辨光子筛的制造方法 | |
CN101470269A (zh) | 激光远距离传输中央光斑的超分辨压缩振幅光调制器 | |
Gao et al. | Research on high-quality projecting reduction lithography system based on digital mask technique |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110420 |