CN101740445A - 晶片输送机台 - Google Patents

Abstract

本发明有关于一种晶片输送机台，其主要包括有一第一输送单元、一第二输送单元、一漂浮式输送单元及至少一引导单元，其中漂浮式输送单元设置在第一输送单元及第二输送单元之间，并用以将晶片由第一输送单元传送至第二输送单元，引导单元设置在漂浮式输送单元的侧边，并用以对漂浮式输送单元上的晶片进行导正，使得通过漂浮式输送单元的晶片被引导至第二输送单元的固定或邻近区域，此设置在第二输送单元上的检测单元将可以对晶片的相似区域进行量测。

Description

晶片输送机台

技术领域

本发明有关于一种晶片输送机台，主要用以将晶片输送至第二输送单元上的固定或邻近区域。

背景技术

在晶片的制作或检测的过程中经常要对晶片进行输送，然而晶片的结构往往较为轻、薄且脆，因此若晶片在输送的过程中发生碰撞，便容易导致晶片本身的结构造成损伤，例如出现破损、缺角或是肉眼无法辨识的裂痕，并导致晶片良率的下降。

请参阅图1，为惯用的晶片输送机台的俯视图。如图所示，晶片输送机台10，包括有一第一输送带11及一第二输送带13，且第一输送带11与第二输送带13相邻，以此可将第一输送带11上的晶片12传送至第二输送带13。第一输送带11的宽度W1大于第二输送带13的宽度W2，且在第二输送带13上设置有一检测单元15，此将可以检测单元15对第二输送带13所输送的晶片12进行量测。

在进行晶片12的输送过程中，操作者往往会将晶片12放置在第一输送带11的中心位置或固定区域，当晶片12由第一输送带11传送至第二输送带13后，也有可能同样落在第二输送带13的中心位置或固定区域。以此检测单元15将可重复对各个晶片12的相近位置进行检测，而有利于提高量测的准确度。

然而第一输送带11及第二输送带13皆是以机械方式进行驱动，因此在运转的同时往往会产生震动，并导致晶片12位置发生变化，而无法如预期的使得晶片12维持在第一输送带11及第二输送带13的中心位置或固定区域，并造成检测单元15无法重复对各个晶片12的相近位置进行的检测。

发明内容

本发明的主要目的，在于提供一种晶片输送机台，其主要在漂浮式输送单元上进行晶片位置的导正，由于漂浮式输送单元与晶片之间几乎不存在有摩擦力，因此可有效减小晶片在导正过程中所承受的碰撞力道，并有利于维持晶片结构的完整性。

本发明的次要目的，在于提供一种晶片输送机台，主要在漂浮式输送单元的侧边设置有引导单元，通过引导单元的设置可将晶片引导至第二输送单元上的固定或邻近区域，并可以检测单元对各个晶片的相近位置进行检测，而有利于提高晶片量测时的准确性。

本发明的又一目的，在于提供一种晶片输送机台，其中晶片与漂浮式输送单元之间几乎不存在摩擦力，因可以减小晶片与引导单元之间的撞击力，此将可有效延长引导单元的使用寿命。

本发明的又一目的，在于提供一种晶片输送机台，其中晶片的宽度与漂浮式输送单元的输出端的宽度相近，当晶片通过漂浮式输送单元后，引导单元将会对晶片的位置进行导正。

本发明的又一目的，在于提供一种晶片输送机台，其中第一输送单元的宽度与漂浮式输送单元的输入端的宽度相近，并有利于将晶片由第一输送单元传送至漂浮式输送单元。

本发明的又一目的，在于提供一种晶片输送机台，其中漂浮式输送单元的输出端的宽度与第二输送单元的宽度相近，使得晶片在通过漂浮式输送单元后会落在第二输送单元上的固定或邻近区域。

为达上述目的，本发明提供一种晶片输送机台，包括有：一第一输送单元；一第二输送单元；一漂浮式输送单元，设置在第一输送单元及第二输送单元之间，并用以将一晶片由第一输送单元运送至第二输送单元；及至少一引导单元，设置在漂浮式输送单元的侧边。

附图说明

图1：为惯用晶片输送机台的俯视图。

图2：为本发明晶片输送机台一实施例的立体示意图。

图2A：为本发明晶片输送机台一实施例的部分构造的截面示意图。

图2B：为本发明晶片输送机台一实施例的侧面示意图。

图2C：为本发明晶片输送机台一实施例的俯视图。

图3A至图3D：分别为本发明晶片输送机台的输送流程图。

附图标记说明

10  晶片输送机台    11  第一输送带

12  晶片            13  第二输送带

15  检测单元

20  晶片输送机台    21  第一输送单元

22  晶片            23  第二输送单元

24  气膜            25  输送单元

251 平板            253 穿孔

255 气室            257 供气单元

261 输入端          263 输出端

27  引导单元        270 侧壁

28  固定架          29  检测单元

具体实施方式

请参阅图2，为本发明晶片输送机台一实施例的立体示意图。如图所示，晶片输送机台20包括有一第一输送单元21、一第二输送单元23及一漂浮式输送单元25，其中该漂浮式输送单元25设置在第一输送单元21及第二输送单元23之间，用以由第一输送单元21接收晶片22，并将接收的晶片22传送至第二输送单元23。

漂浮式输送单元25可用以进行晶片22的输送，且晶片22在通过漂浮式输送单元25时并不会与漂浮式输送单元25的表面接触，换句话说晶片22是浮在漂浮式输送单元25的表面。在本发明一实施例中，漂浮式输送单元25可一气浮式输送单元，包括有一平板251、一气室255及一供气单元257，且气室255设置在平板251下方并与供气单元257相连接，其中平板251上设置有多个穿孔253，以此供气单元257可将所产生的气体输送至气室255，并由平板251上的穿孔253喷出，使得晶片22浮在平板251上，并在平板251与晶片22之间存在有一气膜24，如图2A所示。当然其他实施例中漂浮式输送单元25也可为一震动式输送单元，同样可使得晶片22漂浮在漂浮式输送单元25上。

晶片输送机台20的第一输送单元21的宽度W1大于第二输送单元23的宽度W2，为了顺利将晶片22从第一输送单元21经由漂浮式输送单元25导入第二输送单元23，可进一步在漂浮式输送单元25的侧边设置有至少一引导单元27。在本发明一实施例中引导单元27的数量可为两个，分别设置在漂浮式输送单元25的两侧，并在漂浮式输送单元25上形成一输入端261及一输出端263，其中输入端261的宽度W3大于输出端263的宽度W4，且漂浮式输送单元25或两个引导单元27之间的宽度由输入端261逐渐往输出端263缩减，以此可将进入漂浮式输送单元25的晶片22的位置进行导正。

漂浮式输送单元25的输入端261可与第一输送单元21相连接，并使得第一输送单元21上的晶片22由输入端261进入漂浮式输送单元25。此外为了提高使用时的便利性，输入端261的宽度W3也可与第一输送单元21的宽度W1相近，而有利于将第一输送单元21上的晶片22传送至漂浮式输送单元25。

又，漂浮式输送单元25的输出端263与第二输送单元23相连接，并使得漂浮式输送单元25上的晶片22由输出端263传送至第二输送单元23。当然，也可使得输出端263的宽度W4与第二输送单元23的宽度W2相近，而晶片22的宽度W也与W4及W2相近，以此将可以对晶片22的位置进行导正。

在本发明一较佳实施例中第一输送单元21的设置高度可略高于第二输送单元23，且漂浮式输送单元25以倾斜的方式设置，例如使得漂浮式输送单元25的输入端261略高于输出端263，通过重力的作用将可使得晶片22由输入端261往输出端263移动，如图2B所示。

在本发明中主要是通过引导单元27及漂浮式输送单元25对晶片22的位置及路径进行引导，以此第一输送单元21上的晶片22将会被引导至第二输送单元23，且通过漂浮式输送单元25及引导单元27的晶片22皆会落在第二输送单元23上的固定或邻近区域。

在本发明一实施例中，第二输送单元23上也可设置有一检测单元29，由上述引导单元27的设置，检测单元29将可以对各个晶片22的相同或相近位置进行检测，而有利于提高检测的准确性。例如可透过一固定架28进行检测单元29及第二输送单元23的连接，并将检测单元29设置在第二输送单元23的上方，以此将可以检测单元29对第二输送单元23所传输的晶片22进行量测。

在以引导单元27引导晶片22的过程中，晶片22势必会与引导单元27发生碰撞。由于晶片22本身相当薄且脆，因此在晶片22与引导单元27发生碰撞的过程中，很容易会造成晶片22本身结构的毁损，例如晶片22可为一太阳能硅晶片，太阳能硅晶片一般为四边形的构造，当太阳能硅晶片与引导单元27发生碰撞时容易有缺角的情形发生，并造成晶片22良率下降。此外，在经过一段时间的使用后，引导单元27也会因为晶片22多次的撞击而有磨损的情形，并导致引导单元27的使用寿命遭到限制。

在本发明中是以漂浮式输送单元25将晶片22由第一输送单元21传送至第二输送单元23，并将引导单元27设置在漂浮式输送单元25的侧边。由于晶片22与漂浮式输送单元25的平板251之间存在有一气膜24，如图2A所示，换句话说，晶片22并不会直接与平板251接触，使得漂浮式输送单元25与晶片22之间几乎不存在有摩擦力。因此在晶片22碰撞引导单元27并改变行进方向的过程中，晶片22与引导单元27之间的撞击力将会减低，以此将可有效避免晶片22的结构因撞击而发生损坏的机率，同时也有利于延长引导单元27的使用寿命。例如晶片22与漂浮式输送单元25之间几乎不存在摩擦力，只需要对晶片22施加一较小的外力便可改变晶片22的行进方向，以此将可减小晶片22与引导单元27在碰撞时所承受的外力。

为了增加说明的便利性，本发明主要以两个引导单元27为实施例，然而在应用时引导单元27的数量也可为一个，并将引导单元27设置在漂浮式输送单元25的一侧边，而漂浮式输送单元25的另一侧边则可设有一侧壁270，以此同样可以将第一输送单元21上的晶片22传送至第二输送单元23的固定或邻近区域，如图2C所示。

请参阅图3A至图3D，分别为本发明晶片输送机台的输送流程图。如图所示，晶片输送机台20主要包括有一第一输送单元21、一第二输送单元23及一漂浮式输送单元25，并在漂浮式输送单元25的侧边设置有至少一引导单元27。

在进行晶片22的输送时，可将晶片22导入或放置在第一输送单元21上，并以第一输送单元21将晶片22传送至漂浮式输送单元25，如图3A所示。由于第一输送单元21的宽度W1与漂浮式输送单元25的输入端261的宽度W3相近，例如W1可小于或等于W3，使得晶片22可顺利由第一输送单元21进入漂浮式输送单元25。

一般来说晶片22在第一输送单元21上的位置并不固定，有可能偏左边或偏右边，因此当晶片22传送至漂浮式输送单元25时将会碰撞引导单元27，此外晶片22由第一输送单元21传送至漂浮式输送单元25时，会因为惯性的作用而往第二输送单元23的方向移动，以此可使得晶片22引导至第二输送单元23的方向。在本发明一较佳实施例中，漂浮式输送单元25可以倾斜的方式设置，例如漂浮式输送单元25的输入端261高于输出端263，并可以重力将漂浮式输送单元25上的晶片22送往第二输送单元23。

当晶片22碰撞到引导单元27时将会被引导单元27反弹，再加上惯性或重力的作用使得晶片22往斜前方移动。例如以晶片22前进的方向为前方，当晶片22的位置偏左时将会碰撞到左侧的引导单元27，如图3B所示，而后晶片22会被左侧的引导单元27反弹并往右侧的引导单元27移动，当晶片22碰撞到右侧的引导单元27后将会再次被反弹，如图3C所示。

在实际应用时晶片22在进入漂浮式输送单元25后，有可能如上述先碰撞到左侧的引导单元27，但也可能先碰到右侧的引导单元27。此外每个晶片22碰撞到引导单元27的次数也不固定，有可能直接穿过漂浮式输送单元25，也可能多次碰撞两侧的引导单元27。由于晶片22是漂浮在漂浮式输送单元25上，因此两者之间几乎不会有摩擦力的存在，并可减低晶片22与引导单元27之间碰撞的力道，而有利于延长引导单元27的使用寿命及避免晶片22的结构发生损坏。

不论晶片22碰撞到引导单元27的次数为多少次，引导单元27皆可以对晶片22的位置进行导正。两个引导单元27之间的距离是以逐渐缩小的方式设置，例如漂浮式输送单元25的输入端261的宽度W3大于输出端263的宽度W4，且两个引导单元27之间的间距由W3逐渐缩小为W4，以此将可以达到引导晶片22的目的。

又，漂浮式输送单元25的输出端263的宽度W4与第二输送单元23的宽度W2相近，例如W4可小于或等于W2，以此可将漂浮式输送单元25上的晶片22传送至第二输送单元23，如图3D所示。由于输出端263的宽度W4与第二输送单元23的宽度W2相近，因此晶片22由漂浮式输送单元25传送至第二输送单元23上时，晶片22将或落在第二输送单元23上的固定或邻近区域。例如第二输送单元23上可设置有检测单元29，此检测单元29将可以对各个晶片22的相同或相近位置进行检测，以提高检测时的准确性。

以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用来限定本发明实施的范围，即凡依本发明申请专利范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括在本发明的申请专利范围内。

Claims (12)

1.一种晶片输送机台，包括有：

一第一输送单元；

一第二输送单元；

一漂浮式输送单元，设置在该第一输送单元及该第二输送单元之间，并用以将一晶片由该第一输送单元运送至该第二输送单元；及

至少一引导单元，设置在该漂浮式输送单元的侧边。

2.根据权利要求1所述的晶片输送机台，包括有至少一检测单元设置在该第二输送单元。

3.根据权利要求1所述的晶片输送机台，其中该漂浮式输送单元为一气浮式输送单元或一震动式输送单元。

4.根据权利要求1所述的晶片输送机台，其中该引导单元的数量为两个，并分别设置在该漂浮式输送单元的两侧。

5.根据权利要求1所述的晶片输送机台，其中该第一输送单元的宽度大于该第二输送单元的宽度。

6.根据权利要求1所述的晶片输送机台，其中该晶片为太阳能硅晶片。

7.根据权利要求1所述的晶片输送机台，其中该漂浮式输送单元包括有一输入端及一输出端，且该输入端连接该第一输送单元，而该输出端则连接该第二输送单元。

8.根据权利要求7所述的晶片输送机台，其中该漂浮式输送单元的输入端的高度大于该输出端的高度，且该第一输送单元的高度略高于该第二输送单元的高度。

9.根据权利要求7所述的晶片输送机台，其中该输入端的宽度大于该输出端的宽度。

10.根据权利要求7所述的晶片输送机台，其中该漂浮式输送单元的宽度由该输入端逐渐往输出端缩减，该输入端的宽度与该第一输送单元的宽度相近，该输出端的宽度则与该第二输送单元的宽度相近，且该输出端的宽度与该晶片的宽度相近。

11.根据权利要求1所述的晶片输送机台，其中该漂浮式输送单元包括有一平板、一气室及一供气单元，并在该平板上设置有多个穿孔，且该气室设置在该平板下方并连接该供气单元。

12.根据权利要求1所述的晶片输送机台，其中该引导单元的数量为一个，并设置在该漂浮式输送单元的一侧边，而该漂浮式输送单元的另一侧边则设置有一侧壁。

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