CN101622371B - 涂覆基材的方法，用于实施所述方法的设备和用于这样的设备的金属供应装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及通过真空蒸发可以升华的金属或金属合金层来涂覆行进的基材的至少一个表面的方法，其中相对基材的表面提供金属或金属合金，该金属或金属合金的形式为彼此接触的至少两个坯锭，在涂覆过程期间，将朝向基材表面的坯锭的表面与该基材保持平行且与之保持恒定距离；本发明还涉及用于实施所述方法的涂覆设备和用于这样的设备的供应装置(1)。
Description
技术领域
本发明涉及用于涂覆行进的基材的方法，更特别是用具有基于金属元素例如镁(但决不局限于此)的层来涂覆钢带材。
背景技术
已知用于在行进的基材上进行沉积的各种方法，所述行进的基材例如钢带材、由金属层构成的金属涂层，或者不同金属或金属合金的若干连续层。在这些方法中，可以提及热浸镀锌和电沉积，或甚至各种真空沉积(磁控溅射、焦耳(Joule)蒸发、电子轰击和SIP(自引发等离子体))方法。
真空沉积法具有如下优势：环境友好和能够沉积几乎所有已知元素以及合金。当需要金属层连续沉积于行进的基材上时，出现了如何用待沉积的金属供给沉积腔室的问题。
已知第一种类型的涂覆设备，其中在传送(例如通过泵送或者通过气压计原理)到沉积区前，通过在炉子中熔化来将待沉积的金属保持为液体形式。然而，这种类型的设备不适于沉积升华的金属元素，即直接从固相变为气相的那些金属元素。
已知第二种类型的涂覆设备，其中待沉积的金属是以规则方式引入其中的固体形式例如线材形式，或者是置于惰性石墨坩锅中的细粒形式。这些设备能够沉积升华的金属元素，但沉积过程是不稳定的，导致涂层的厚度随时间过程而不均匀，并且在加热功率方面受限，阻碍了足够高沉积速率的实现。
发明内容
因此，本发明的目的是通过如下方式来弥补现有技术方法的缺点：提供用可升华金属或金属合金对行进的基材进行涂覆的方法，该方法允许以高沉积速率进行随时间稳定的操作。
为此目的，本发明的第一方面是通过真空蒸发用可升华金属或金属合金层来涂覆行进的基材的至少一侧的涂覆方法，其中布置所述金属或金属合金以便面向基材的所述侧，所述金属或金属合金的形式为彼此接触的至少两个坯锭(lingot)，在涂覆期间，面向基材所述侧的所述坯锭表面保持与基材平行且与之保持恒定距离。
根据本发明的方法还可以单独或组合包括多种特征：
-可以同时(连续或顺序地)移动可升华金属或金属合金的坯锭，以便使其面向基材的表面保持与基材平行且与基材保持恒定距离；
-可以通过平移来同时移动可升华金属或金属合金的坯锭，与面向基材的表面相对的坯锭表面与倾斜面接触；
-可以通过如下方式同时移动坯锭：在与基材行进的平面平行的平面内且在与基材行进的方向垂直的方向上进行平移，与面向基材的表面相对的坯锭表面同倾斜面接触；
-可以通过如下方式同时移动坯锭：在与基材行进的平面平行的平面内且在与基材行进的方向平行的方向上进行平移，与面向基材的表面相对的坯锭表面与倾斜面接触；
-基材可以竖向行进，坯锭彼此堆叠；
-可以通过真空蒸发在基材的两侧上涂覆可升华金属或金属合金层，布置金属或金属合金以便面向基材的每一侧，所述金属或金属合金的形式为彼此接触的至少两个坯锭，在涂覆期间，使面向基材每一侧的坯锭表面保持与基材侧面平行且与之保持恒定距离；
-用于基材每一侧的金属或金属合金可以相同或不同；
-真空蒸发方法可以是通过等离子体增强蒸发例如通过SIP(自引发等离子体)蒸发进行的沉积方法；
-金属或金属合金可以选自锌、镁、铬、锰和硅或它们的合金，且优选镁或其合金；
-可以在反应性气氛中通过真空蒸发进行沉积；及
-行进的基材可以是钢带材(任选地已预先涂覆)，且优选已预先用锌或锌合金涂覆的钢带材，且在该钢带材上沉积镁或镁合金层。
本发明的第二方面是使用可升华金属或金属合金层在基材S的至少一侧上对其进行连续涂覆的涂覆设备，该涂覆设备包含真空腔室，该真空腔室含有：
-真空蒸发涂覆器；
-用于使所述基材S行进通过涂覆器的装置；及
-用于向涂覆器供给金属或金属合金的供料器1、11、21，所述金属或金属合金的形式为坯锭L1、...、Ln、L’1、...、L’n，并且包含用于使所述坯锭L1、...、Ln、L’1、...、L’n保持彼此接触且用于使坯锭L1、...、Ln、L’1、...、L’n的面向基材S的待涂覆侧的表面与基材S平行且与之保持恒定距离的装置。
根据本发明的设备还可以单独或组合地包含以下实施方案：
-供料器1、11、21可包含用于顺序地或连续地同时移动坯锭L1、...、Ln、L’1、...、L’n的装置，以便使所述坯锭的面向基材S的表面保持与基材S平行且与之保持恒定距离；
-供料器11可包含至少一个倾斜面2、2’，坯锭L1、...、Ln、L’1、...、L’n通过它们的与面向基材S的一侧相对的侧面同该至少一个倾斜面2、2’接触，用于移动坯锭L1、...、Ln、L’1、...、L’n的装置能够通过如下方式使所述坯锭移动：在与基材S行进的平面平行的平面内且在与基材S行进的方向垂直的方向上进行平移，并且在坯锭L1、...、Ln、L’1、...、L’n的移动方向上，倾斜面2、2’的倾斜度增加；
-用于移动坯锭L1、...、Ln、L’1、...、L’n的装置可由至少一个活塞3、3’构成，该至少一个活塞3、3’作用在与倾斜面2、2’的第一端接触的第一坯锭L1、L’1上，且相对于基材S横向延伸，在所述倾斜面2、2’上，第一坯锭L1、L’1依次作用于其前面的坯锭L2、...、Ln、L’2、...、L’n上直至所述倾斜面2、2’的第二端；
-该设备可以具有第一倾斜面2和第二倾斜面2’，该第一倾斜面2提供有坯锭L1、...、Ln和第一活塞3，该第一活塞3作用在与第一倾斜面2的第一端接触的第一坯锭L1上，且第二倾斜面2’提供有坯锭L’1、...、L’n和第二活塞3’，该第二活塞3’作用在与第二倾斜面3’的第一端接触的第一坯锭L’1上，所述活塞3、3’能够以相同方向或相反方向产生作用；
-该设备可包含两个罐体4，用于通过重力回收用废坯锭U，所述罐***于每一倾斜面2、2’第二端的下方；
-供料器11、21可具有至少一个倾斜面12、22，所述坯锭L1、...、Ln通过它们的与面向所述基材S的一侧相对的侧面同该至少一个倾斜面12、22接触，用于移动坯锭的装置能够通过如下方式使坯锭移动：在与基材S行进的平面平行的平面内且在与基材S行进的方向平行的方向上进行平移，并且在所述坯锭L1、....、Ln移动方向上，倾斜面12、22的倾斜度增加；
-用于移动坯锭L1、....、Ln的装置可由至少一个活塞13、23构成，该至少一个活塞13、23作用在与所述倾斜面12、22的第一端接触的第一坯锭L1上，且相对于基材S纵向延伸，在倾斜面12、22上，第一坯锭L1依次作用于其前面的坯锭L2、....、Ln上直至该倾斜面12、22的第二端；
-该设备可包含罐体，用于通过重力回收用废坯锭，所述罐***于倾斜面12、22的第二端的下方；
-基材S可以竖向行进，供料器21包含至少一个竖向板24，坯锭L1、...、Ln堆叠在该板上，所述板与至少一个竖向活塞23接触；
-该设备可包含面向基材S的每一侧的供料器1、11、21，每个供料器1、11、21能够包含相同或不同的金属或金属合金，且真空蒸发器面向基材S的每一侧，它们全部位于同一真空腔室内；
-该设备可包括用于将反应性气氛引入真空腔室的装置；
-真空蒸发器可以是等离子增强的蒸发沉积装置，例如用于通过自引发等离子体(SIP)蒸发进行沉积的装置；及
-金属或金属合金的坯锭L1、...、Ln、L’1、...、L’n可以选自锌、镁、铬、锰、硅及其合金。
本发明的第三方面是向上述真空涂覆设备供给金属或金属合金的供料器1、11、21。
附图说明
通过阅读以下描述(仅以实施例的方式给出)且参考附图，本发明的其它特征和优点将变得明了，在附图中：
-图1：现有技术方法使用的金属坯锭的截面图；
-图2：本发明设备的第一实施方案的立体图；
-图3：本发明设备的第二实施方案的立体图；
-图4：本发明设备的第三实施方案的立体图。
具体实施方式
在本发明的背景中，术语“蒸发方法”理解为意指通过在低于大气压的压力下进行蒸发的任何沉积方法。优选地，将通过SIP(自引发等离子体)方法进行蒸发，其中真空蒸发与磁控溅射相结合。
该方法的特点在于，在用于产生自由基和/或离子的气体中，在基材和含有待沉积材料的坩锅之间产生等离子体。在通常操作条件下，这些离子将被加速到有待沉积于基材上的材料的表面上并拉出表面原子，然后这些原子沉积在基材上。同时，在等离子体中产生的离子的轰击将待沉积的材料加热，使蒸发过程加入磁控溅射。读者可特别参考专利EP 780 486以获得关于实施该方法的更多细节。
待涂覆的基材移动经过真空腔室，该真空腔室面向含有待沉积材料的坩锅。相对于基材对该坩锅施加负偏压，而基材优选接地。位于坩锅后面的磁体阵列约束其中产生的等离子体。为了使待涂覆的基材相对于坩锅很精确地定位，通常使该基材位于支撑辊上，该支撑辊可相对于其轴旋转。然而，当处理刚性板形式例如厚金属板或玻璃板的基材时，这种辊是不必要的。
因此，根据本发明的方法涉及在行进的基材上沉积金属或金属合金层。
更特别但不仅仅地，将该方法适用于处理钢带材，优选涂覆有锌或锌合金的带材。术语“锌合金”理解为意指包含至少50％锌的任何复合物，且能够含有例如铝、铁、硅等。
可以通过任何已知镀锌方法获得该现有技术涂层，例如热浸镀锌、电沉积和通过真空蒸发进行的沉积。然而，优选真空沉积方法。
在本发明的背景中，沉积的涂层是金属涂层，该金属涂层基于在通过真空蒸发而进行沉积期间可以升华的元素。特别地，这涵盖了例如锌、镁、铬、锰和硅的元素。特别优选的是，在预涂覆有锌的带材上沉积镁，然后可以通过任何合适措施进行扩散处理，以便最后获得在耐腐蚀性方面具有高性能的Zn-Mg涂层。
本发明人首先在静态块体镁坯锭上进行了蒸发试验，该镁坯锭面向行进通过SIP真空沉积设备的钢带材。
在一定操作时间之后，发现沉积的涂层不具有均匀厚度且沉积速率相对低。因此必须中断沉积，使得能够观察坯锭的状态，在图1中再现了其图像。
可见，坯锭的耗损是很不规则的，且特别地其加重与高磁场区一致。不希望受限于某一特定理论，本发明人认为沉积方法的不稳定性直接归因于坯锭的不规则耗损。
为使该方法稳定，本发明人因此将块体坯锭分成至少两个坯锭且将这些坯锭的顶侧与待涂覆的基材保持平行且与之保持恒定距离，连续或顺序地补偿因蒸发引起的耗损。
为此目的，开发了使用SIP方法的本发明的第一涂覆设备，这在图2中部分再现，在该图中可以看到供料器1。
将供料器置于待涂覆的基材(未示出)下方，其在用于约束磁场的磁体A***的上方水平行进，所述磁***于水箱中。将对电极(未示出)置于供料器1下方，且通过对电极/磁体组装件和钢带材之间的放电产生等离子体。为了使该***更易于理解，借助于回路T显示了优先侵蚀区域，其代表了磁场强烈的区域。
供料器1包含第一倾斜面2，其倾斜度从左到右增加。该倾斜面可以由任何合适的材料制成，只要其在操作期间不易于被溅射，这将污染获得的涂层。该第一倾斜面2可以例如由钨制成。
将一系列n个坯锭L1-Ln置于该倾斜面2上，这些坯锭彼此接触且其高度从左至右降低。调节倾斜面2的倾斜度，以便补偿坯锭L1-Ln的耗损，使得坯锭L1-Ln的顶侧保持相互平行且平行于在设备1上方行进的待涂覆的基材，垂直于倾斜面2。因此在磁体和坯锭顶侧之间保持了恒定的距离，并在坯锭的顶侧和待涂覆的基材侧面之间也保持恒定的距离。其原因在于，为了获得尽可能最均匀的等离子体，电极(这里由位于一边的坯锭和位于另一边的基材构成)之间的距离保持尽可能恒定是重要的。磁控管的磁体和坯锭的顶侧之间的距离保持恒定也是同样重要的。如果因坯锭的消耗而使这些条件未满足，则在其顶侧的任一点，等离子体将会局部增强或减弱，在该等离子体中产生不稳定，从而在蒸发中产生不稳定。
因而，倾斜面2的使用使其能够在蒸发区的每一点获得很稳定的等离子体。
将两个侧向钨引导物6提供在坯锭L1-Ln任一侧，其将这些坯锭L1-Ln保持合适取向。
活塞3位于第一坯锭L1左边，该活塞3作用于该第一坯锭L1上以便使其以平移方式向右移动，同时仍被倾斜面2和侧向引导物6所引导。坯锭L1的移动使位于倾斜面2上的所有坯锭以级联方式移位直到末端坯锭Ln在重力下跌落到用于收集用废坯锭的回收罐体4中，所述用废坯锭可被熔化或再利用。
当活塞3的末端移动到达倾斜面2的第一端时，其随后在相反方向驱动。其次，作用于支撑板(该支撑板支撑着一组p个新坯锭R1-Rp)上的竖向活塞5向上驱动，以便提供与倾斜面2的第一端平齐的新坯锭。然后将活塞3与坯锭R1的侧部接触，在与倾斜面2接触的情况下将其压靠于第一坯锭L1。
因而可见，可以用坯锭对供料器进行连续供给而不中断该过程，并保持使用的坯锭表面平直且平行于待涂覆的基材，这归因于倾斜面2以及通过活塞3施加的规则移动。
为了覆盖强磁场区T的主要部分且因此优化沉积速率，将各方面均与供料器1相同的第二供料器1’置于面向区域T的第二部分。这里，活塞3’使第二系列n个坯锭L’1-L’n从右向左移动，倾斜面2’处于与倾斜面2相反的方向，但很可能为区域T的每一半提供在所有方面均相同的两个供料器。
可见，在该实施方案中，能够通过根据区域T的宽度确定坯锭宽度来优化坯锭尺寸。
第二实施方案，如图3所示，显示了供料器11以与第一实施方案相似的方式包含：支撑着一系列n个坯锭L1-Ln的倾斜面12，其在水平面(未示出)内相对于行进的基材横向延伸。供料器11的环境与图2情形中所述的相同。
通过活塞13的作用移动坯锭L1，其在倾斜面12内推动坯锭L1-Ln直到它们在重力下跌落到回收罐体(未示出)中，该回收罐***于倾斜面12的第二端的下方。
通过由两个活塞15移动的板14用坯锭再次填充该***，该板支撑着一堆p个坯锭R1-Rp，且以与对应于图2的装置相同的方式进行操作。将两个侧向钨引导物16提供在坯锭L1-Ln的两侧上，所述引导物使这些坯锭L1-Ln保持适当排列。
还可见，根据本发明的设备的该实施方案允许方便的调节以适合于不同宽度的待涂覆基材，因为所需要的是调节坯锭的宽度和部件16的间距，以便获得精确具有进行中的涂覆所需要的宽度的供料器。
第三实施方案，如图4所述，显示了供料器21以与第一实施方案相似的方式包含：支撑着一系列n个坯锭L1-Ln的两个倾斜面22，其相对于在竖向面内行进的基材S横向延伸。这些倾斜面22还具有侧向颊板，其确保坯锭的恰当排列。
通过两个竖向活塞23在竖向板24上的作用移动坯锭L1，由此沿倾斜面22推动坯锭L1-Ln。
当顶部坯锭Ln超出倾斜面22的末端时，水平活塞25在侧向驱动该坯锭的侧面，因而可以从旁边将其去除。
该实施方案允许以竖向方位容易地涂覆基材。该方位还能够通过将根据本发明的供料器置于基材的每一侧来很容易地施加双侧涂覆，同时仍位于同一减压腔室中。
试验
使用根据第一实施方案的设置和SIP蒸发设备进行试验。使用厚度为4cm且宽度为10cm的纯锌坯锭或纯镁坯锭以涂覆厚度为50-200cm不等的钢带材。使每一钢带材在支撑辊上以100m/min行进。坯锭蒸发速率也会改变。
坯锭顶侧和待涂覆的钢带材之间的距离保持为5cm，且在带材行进的方向，将对应于沉积区的腔室开口设置为40cm。在进行的所有试验中，确定为获得约1.5μm厚的涂层所必需的坯锭行进速度。
在以下三个表格中给出了结果：
这些表格显示出，坯锭行进速率基本上取决于待涂覆的带材宽度且取决于涂覆材料的蒸发速率。
使用根据第二和第三实施方案的设置获得了相似的结果。
更一般地，发现1-15cm/min的坯锭行进速率允许实现所需涂层厚度目标。如果需要获得更大涂层厚度，则所需要的是使基材穿过一系列涂覆器。因而，为了在上述表格所示的蒸发条件下获得约7.5μm厚的锌，将需要五个涂覆器。
不管采用何种实施方案，本发明还具有不需要使用石墨坩锅的优点，因此使得能够在反应性气氛中发生沉积。这使得特别能够以高沉积速率沉积例如金属的氧化物、氮化物、硫化物和氟化物。
在本发明的几个优选实施方案的描述中可见，可特别在基材水平或竖向行进时进行涂覆。不言而喻，还可以按介于水平和竖向之间的任何基材方位进行涂覆。
Claims (27)
1.涂覆方法，用于通过真空蒸发可升华金属或金属合金层来涂覆行进的基材的至少一侧，其中布置所述金属或金属合金以便面向基材的所述侧，所述金属或金属合金的形式为彼此接触的至少两个坯锭，在涂覆期间，面向基材所述侧的所述坯锭的表面保持与基材平行且与基材保持恒定距离；
其中连续地或顺序地，同时移动可升华金属或金属合金的所述坯锭，以便使面向基材的坯锭表面保持与基材平行且与基材保持恒定距离；并且
其中通过平移来同时移动可升华金属或金属合金的所述坯锭，与面向基材的表面相对的坯锭表面同倾斜面接触。
2.根据权利要求1的涂覆方法，其中通过如下方式来同时移动所述坯锭：在与基材行进的平面平行的平面内且在与基材行进的方向垂直的方向上进行平移，与面向基材的表面相对的坯锭表面同所述倾斜面接触。
3.根据权利要求1的涂覆方法，其中通过如下方式来同时移动所述坯锭：在与基材行进的平面平行的平面内且在与基材行进的方向平行的方向上进行平移，与面向基材的表面相对的坯锭表面同所述倾斜面接触。
4.根据权利要求1的涂覆方法，其中所述基材竖向行进，所述坯锭彼此堆叠。
5.根据权利要求1的涂覆方法，其中通过真空蒸发在所述基材的两侧上涂覆可升华金属或金属合金层，布置所述金属或金属合金以便面向基材的每一侧，所述金属或金属合金的形式为彼此接触的至少两个坯锭，在涂覆期间，使面向基材每一侧的所述坯锭的表面保持与基材所述侧平行并且与之保持恒定距离。
6.根据权利要求5的涂覆方法，其中用于基材每一侧的所述金属或金属合金相同。
7.根据权利要求5的涂覆方法，其中用于基材每一侧的所述金属或金属合金不同。
8.根据权利要求1的涂覆方法，其中真空蒸发方法是通过等离子体增强蒸发进行的沉积方法。
9.根据权利要求1-4中任一项的涂覆方法，其中所述金属或金属合金选自锌、镁、铬、锰、硅及其合金。
10.根据权利要求9的方法，其中所述金属或金属合金是镁或其合金。
11.根据权利要求1的方法，其中可以在反应性气氛中通过真空蒸发进行沉积。
12.根据权利要求1的方法，其中行进的基材是钢带材，任选地已预先涂覆。
13.根据权利要求12的方法，其中行进的基材是已预先用锌或锌合金涂覆的钢带材，且在该钢带材上沉积镁或镁合金层。
14.涂覆设备，用于利用可升华金属或金属合金层在基材(S)的至少一侧上对其进行连续涂覆，该涂覆设备包含真空腔室，该真空腔室含有：
-真空蒸发涂覆器；
-用于使所述基材(S)行进通过涂覆器的装置；及
-用于向涂覆器供给金属或金属合金的供料器(1、11、21)，所述金属或金属合金为坯锭(L1、...、Ln、L’1、...、L’n)的形式，并且包含用于使所述坯锭(L1、...、Ln、L’1、...、L’n)保持彼此接触且用于使所述坯锭(L1、...、Ln、L’1、...、L’n)的面向基材(S)的待涂覆侧的表面保持与所述基材(S)平行且与之保持恒定距离的装置；并且
其中所述供料器(1、11、21)包含用于顺序地或连续地同时移动所述坯锭(L1、...、Ln、L’1、...、L’n)的装置，以便使所述坯锭的面向基材(S)的表面保持与所述基材(S)平行且与之保持恒定距离；且所述供料器包含至少一个倾斜面，所述坯锭通过它们的与面向所述基材的一侧相对的侧面同所述至少一个倾斜面接触。
15.根据权利要求14的设备，其中所述供料器(11)包含至少一个倾斜面(2、2’)，所述坯锭(L1、...、Ln、L’1、...、L’n)通过它们的与面向所述基材(S)的一侧相对的侧面同所述至少一个倾斜面(2、2’)接触，用于移动所述坯锭(L1、...、Ln、L’1、...、L’n)的所述装置通过如下方式使所述坯锭移动：在与基材(S)行进的平面平行的平面内且在与基材(S)行进的方向垂直的方向上进行平移，并且在所述坯锭(L1、...、Ln、L’1、...、L’n)的移动方向上，所述倾斜面(2、2’)的倾斜度增加。
16.根据权利要求15的设备，其中用于移动坯锭(L1、...、Ln、L’1、...、L’n)的所述装置由至少一个活塞(3，3’)构成，该至少一个活塞(3，3’)作用在与所述倾斜面(2、2’)的第一端接触的第一坯锭(L1、L’1)上，且相对于基材(S)在横向延伸，在所述倾斜面(2、2’)上，所述第一坯锭(L1、L’1)依次作用于其前面的坯锭(L2、...、Ln、L’2、...、L’n)上，直至该倾斜面(2、2’)的第二端。
17.根据权利要求16的设备，该设备具有第一倾斜面(2)和第二倾斜面(2’)，该第一倾斜面(2)提供有坯锭(L1、...、Ln)和第一活塞(3)，该第一活塞(3)作用在与所述第一倾斜面(2)的第一端接触的第一坯锭(L1)上，且第二倾斜面(2’)提供有坯锭(L’1、...、L’n)和第二活塞(3’)，该第二活塞(3’)作用在与所述第二倾斜面(3’)的第一端接触的第一坯锭(L’1)上，所述活塞(3、3’)能够以相同方向或相反方向产生作用。
18.根据权利要求17的设备，该设备包含用于通过重力回收用废坯锭(U)两个罐体(4)，所述罐***于所述倾斜面(2、2’)的每个第二端的下方。
19.根据权利要求14的设备，其中所述供料器(11、21)具有至少一个倾斜面(12、22)，所述坯锭(L1、....、Ln)通过它们的与面向所述基材(S)的一侧相对的侧面同所述至少一个倾斜面(12、22)接触，用于移动坯锭的所述装置通过如下方式使坯锭移动：在与基材(S)行进的平面平行的平面内并且在与基材(S)行进的方向平行的方向上进行平移，在所述坯锭(L1、....、Ln)行进的移动方向上，所述倾斜面(12、22)的倾斜度增加。
20.根据权利要求19的设备，其中用于移动坯锭(L1、....、Ln)的所述装置由至少一个活塞(13、23)构成，该至少一个活塞(13、23)作用在与所述倾斜面(12、22)的第一端接触的第一坯锭(L1)上，且相对于基材(S)在纵向延伸，在所述倾斜面(12、22)上，所述第一坯锭(L1)依次作用于其前面的坯锭(L2、....、Ln)上直至所述倾斜面(12、22)的第二端。
21.根据权利要求20设备，该设备包含用于通过重力回收用废坯锭的罐体，所述罐***于倾斜面(12、22)的所述第二端的下方。
22.根据权利要求19-21中任一项的设备，其中基材(S)竖向行进，所述供料器(21)包含至少一个竖向板(24)，所述坯锭(L1、....、Ln)堆叠于该至少一个竖向板(24)上，所述板与至少一个竖向活塞(23)接触。
23.根据权利要求14的设备，该设备包含面向所述基材(S)每一侧的供料器(1、11、21)，每个供料器(1、11、21)能够包含相同或不同的金属或金属合金，且真空蒸发器面向所述基材(S)的每一侧，它们全部位于同一真空腔室内。
24.根据权利要求14的设备，该设备包含用于将反应性气氛引入所述真空腔室的装置。
25.根据权利要求14的设备，其中所述真空蒸发器是等离子增强蒸发沉积装置。
26.根据权利要求14-21中任一项的设备，其中金属或金属合金的所述坯锭(L1、....、Ln、L’1、...、L’n)选自锌、镁、铬、锰和硅或它们的合金。
27.用于向真空涂覆设备供给金属或金属合金的供料器(1、11、21)，该供料器如权利要求14-26中任一项所定义。
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