CN101590474A - 清洗***上的喷射装置 - Google Patents

清洗***上的喷射装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101590474A
CN101590474A CNA2008100383889A CN200810038388A CN101590474A CN 101590474 A CN101590474 A CN 101590474A CN A2008100383889 A CNA2008100383889 A CN A2008100383889A CN 200810038388 A CN200810038388 A CN 200810038388A CN 101590474 A CN101590474 A CN 101590474A
Authority
CN
China
Prior art keywords
playpipe
injection apparatus
liquid line
purging system
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2008100383889A
Other languages
English (en)
Inventor
陈肖科
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
Original Assignee
Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp filed Critical Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
Priority to CNA2008100383889A priority Critical patent/CN101590474A/zh
Publication of CN101590474A publication Critical patent/CN101590474A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

本发明公开了一种清洗***上的喷射装置。该喷射装置包括第一喷射管和第二喷射管，所述第一、第二喷射管上分别设有数个喷嘴，以分别在晶圆的正面和背面喷射清洗液；所述喷射装置还包括第三喷射管，所述第三喷射管设有对晶圆边缘喷射清洗液的喷嘴。与现有技术相比，本发明所述的喷射装置不仅设置了喷洒晶圆正面和背面的喷射管，还设置了喷洒晶圆边缘的喷射管，有效地清除了晶圆边缘的残留杂质，减少了在后续制程中出现薄膜脱落的现象。

Description

清洗***上的喷射装置
技术领域
本发明涉及半导体领域的化学机械研磨(CMP)后的清洗制程，具体地说，涉及一种用于CMP后晶圆清洗***上的喷射装置。
背景技术
晶圆经过CMP制程后需要进行清洗才能进入下一制程。晶圆的清洗制程是在CMP机台的清洗***上进行的。清洗***包括清洗槽以及安装于清洗槽内两个滚筒毛刷和喷射装置。现有技术中的喷射装置包括位于两个滚筒毛刷上方的两个喷射管，用于向晶圆正面和背面喷洒清洗液。图1和图2分别为现有喷射装置1的俯视示意图和剖视示意图。该喷射装置1包括喷射管13、14分别位于晶圆100的两侧。液体管11、12分别为喷射管13、14提供清洗液。喷射管13、14上分别设有三个喷嘴130、140，以在晶圆1的正面和背面喷洒清洗液。清洗时，滚筒毛刷配合着喷洒的清洗液清洗晶圆的正面和背面。
喷射装置1虽然可以向晶圆的正面和背面喷射清洗液，但是无法有效地喷洒到晶圆的边缘，滚筒毛刷也不容易清洗到晶圆的边缘。这样，在后续的淀积薄膜的制程中，由于晶圆的边缘存在残留杂质，导致淀积在晶圆边缘的薄膜容易脱落，部分落到晶圆中心部分的器件上，最终影响其电学性能，降低了晶圆的良率。
发明内容
有鉴于此，本发明解决的技术问题在于提供一种清洗***上的喷射装置，其可有效提高清洗晶圆的洁净程度。
为解决上述技术问题，本发明提供了一种新的清洗***上的喷射装置。该喷射装置包括第一喷射管和第二喷射管，所述第一、第二喷射管上分别设有数个喷嘴，以分别在晶圆的正面和背面喷射清洗液；所述喷射装置还包括第三喷射管，所述第三喷射管设有对晶圆边缘喷射清洗液的喷嘴。
进一步地，第三喷射管上喷嘴的开口方向与第一喷射管和第二喷射管上喷嘴的开口方向垂直。
进一步地，所述喷射装置包括分别对所述第一喷射管、第二喷射管和第三喷射管提供清洗液的第一液体管、第二液体管和第三液体管；其中第三液体管连接至第二液体管上；或者第三液体管是单独的输送管道，这样第三液体管输送的清洗液是可以与晶圆表面残留物发生化学反应的化学液，第一液体管、第二液体管输送的清洗液是去离子水。
进一步地，所述第三喷射管设有控制清洗液流量的调节阀。
与现有技术相比，本发明所述的喷射装置不仅设置了喷洒晶圆正面和背面的喷射管，还设置了喷洒晶圆边缘的喷射管，有效地清除了晶圆边缘的残留杂质，减少了在后续制程中出现薄膜脱落的现象。
附图说明
图1为现有喷射装置的俯视示意图。
图2为图1沿A-A方向的剖视示意图。
图3为本发明第一实施例描述的喷射装置的俯视示意图。
图4为图3沿B-B方向的剖视示意图。
图5为本发明第二实施例描述的喷射装置的俯视示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明提供的清洗***上的喷射装置的较佳实施例作详细描述，以期进一步理解发明的技术方案、目的以及有益效果等。
请参阅图3并结合图4，第一实施例的喷射装置2包括位于晶圆100上方两侧的第一喷射管23和第二喷射管24。第一、第二喷射管23、24上分别设有均匀间隔设置的三个喷嘴230、240，用于对晶圆100的正面和背面喷洒清洗液。喷射装置2通过第一液体管21和第二液体管22分别为第一喷射管23和第二喷射管24提供清洗液，所述清洗液可以是去离子水，也可以是与晶圆表面的残留杂质反应的化学液。
所述喷射装置2还设有向晶圆100边缘喷洒清洗液的第三喷射管26，其通过第三液体管25使用第二液体管22中的清洗液。所述第三喷射管26与第三液体管25连接的一端安装有流量调节阀262来控制清洗液的流量，以避免流量过大，影响第二喷射管24对晶圆背面的喷洒效果。所述流量调节阀262可以通过一个空气阀来实现。第三喷射管26的另一端通过接头261安装有一个喷嘴，其为一个氟素树脂(PFA)管260。所述PFA管260的开口方向与上述喷嘴230、240的开口方向垂直。PFA管260向晶圆100正面的边缘部分喷洒清洗液，通过清洗液的冲洗和晶圆100的本身的旋转将晶圆100边缘的残留杂质去除。需要指出的是，本发明提到的晶圆边缘是指晶圆的最大直径的边至喷嘴230、240所喷洒到的最外侧的边之间的环形区域。
图5为本发明第二实施例喷射装置3的俯视示意图。该喷射装置3与喷射装置2基本相同，不同的是，第三液体管35是单独的输送管道，不与第二液体管32连接。采用喷射装置3可以实现使用不同的清洗液清洗。也就是说，第一液体管31和第二液体管32可以输送去离子水，而第三液体管输送化学液，这样第三喷射管36喷洒的化学液与晶圆边缘的残留杂质发生反应，反应后的溶液通过晶圆100的旋转甩出，从而将晶圆100边缘(尤其是晶圆100正面的边缘)清洗干净，相较直接用去离子水冲洗，进一步提高晶圆的洁净程度。
从图3和图5可知，本发明提供的实施例中描述的第三喷洒管是对准晶圆正面边缘的，可以理解的是，本发明还可以再设置一个喷洒管是对准晶圆背面边缘的，或者将喷洒管的喷嘴加大，使其不仅可以喷洒到晶圆正面边缘，也可以喷洒到晶圆背面边缘，也属于本发明的内容。
相较现有技术，本发明通过增加一个喷射管对晶圆的边缘进行清洗，提高了晶圆的洁净程度，有效地避免了因杂质残留导致后续制程中薄膜脱落的现象。
上述描述仅是对本发明几种较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，例如，两种实施例中的第三喷射管和PFA管还可以采用可随意调整角度软管实现，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (10)

1.一种清洗***上的喷射装置，所述喷射装置包括第一喷射管和第二喷射管，所述第一、第二喷射管上分别设有数个喷嘴，以分别在晶圆的正面和背面喷射清洗液，其特征在于，所述喷射装置还包括第三喷射管，所述第三喷射管设有对晶圆边缘喷射清洗液的喷嘴。
2.如权利要求1所述的清洗***上的喷射装置，其特征在于，第三喷射管上喷嘴的开口方向与第一喷射管和第二喷射管上喷嘴的开口方向垂直。
3.如权利要求1所述的清洗***上的喷射装置，其特征在于，所述喷射装置包括分别对所述第一喷射管、第二喷射管和第三喷射管提供清洗液的第一液体管、第二液体管和第三液体管；其中第三液体管连接至第二液体管上。
4.如权利要求1所述的清洗***上的喷射装置，其特征在于，所述喷射装置包括分别对所述第一喷射管、第二喷射管和第三喷射管提供清洗液的第一液体管、第二液体管和第三液体管；其中第三液体管输送的清洗液是可以与晶圆表面残留物发生化学反应的化学液，第一液体管、第二液体管输送的清洗液是去离子水。
5.如权利要求3或者4所述的清洗***上的喷射装置，其特征在于，所述第三喷射管设有控制清洗液流量的调节阀。
6.如权利要求5所述的清洗***上的喷射装置，其特征在于，所述调节阀是空气阀。
7.如权利要求1所述的清洗***上的喷射装置，其特征在于，所述第三喷射管由可调节喷嘴角度的软管制成。
8.如权利要求1所述的清洗***上的喷射装置，其特征在于，第一喷射管和第二喷射管上分别设有三个喷嘴，第三喷射管上设有一个喷嘴。
9.如权利要求1所述的清洗***上的喷射装置，其特征在于，所述第三喷射管的喷嘴开口对准晶圆的正面边缘。
10.如权利要求1所述的清洗***上的喷射装置，其特征在于，所述第三喷射管的喷嘴采用的是氟素树脂管。
CNA2008100383889A 2008-05-30 2008-05-30 清洗***上的喷射装置 Pending CN101590474A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA2008100383889A CN101590474A (zh) 2008-05-30 2008-05-30 清洗***上的喷射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNA2008100383889A CN101590474A (zh) 2008-05-30 2008-05-30 清洗***上的喷射装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101590474A true CN101590474A (zh) 2009-12-02

Family

ID=41405468

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2008100383889A Pending CN101590474A (zh) 2008-05-30 2008-05-30 清洗***上的喷射装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101590474A (zh)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102129959A (zh) * 2011-01-05 2011-07-20 清华大学 晶圆清洗装置及利用该晶圆清洗装置清洗晶圆的方法
CN103915314A (zh) * 2012-12-31 2014-07-09 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶圆边缘清洗方法
CN104190665A (zh) * 2014-08-11 2014-12-10 厦门润晶光电有限公司 一种中大尺寸蓝宝石晶圆图案化制程黄光涂布前清洗装置及方法
CN104338706A (zh) * 2013-08-02 2015-02-11 盛美半导体设备（上海）有限公司 清洗装置
CN105470177A (zh) * 2016-01-05 2016-04-06 天津华海清科机电科技有限公司 晶圆清洗干燥装置
CN107993919A (zh) * 2017-11-21 2018-05-04 长江存储科技有限责任公司 用于晶圆清洗的化学液喷淋管及清洗装置
CN109211723A (zh) * 2017-07-08 2019-01-15 北京工标传感技术有限公司 一种直插式音叉密度计
CN110327121A (zh) * 2019-08-14 2019-10-15 苏州肯美特设备集成有限公司 一种手术器械自动清洁设备
CN110444466A (zh) * 2018-05-06 2019-11-12 长鑫存储技术有限公司 光刻胶涂布工艺中的晶圆清洗方法及装置
CN111389772A (zh) * 2020-03-24 2020-07-10 长江存储科技有限责任公司 清洗装置及清洗方法
CN114101156A (zh) * 2020-08-25 2022-03-01 中国科学院微电子研究所 一种晶圆叉清洗方法及装置
CN114425742A (zh) * 2021-12-29 2022-05-03 华海清科股份有限公司 一种分布式清洗装置

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102129959A (zh) * 2011-01-05 2011-07-20 清华大学 晶圆清洗装置及利用该晶圆清洗装置清洗晶圆的方法
CN103915314B (zh) * 2012-12-31 2016-12-28 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶圆边缘清洗方法
CN103915314A (zh) * 2012-12-31 2014-07-09 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶圆边缘清洗方法
CN104338706A (zh) * 2013-08-02 2015-02-11 盛美半导体设备（上海）有限公司 清洗装置
CN104190665B (zh) * 2014-08-11 2017-02-15 厦门润晶光电集团有限公司 一种中大尺寸蓝宝石晶圆图案化制程黄光涂布前清洗装置及方法
CN104190665A (zh) * 2014-08-11 2014-12-10 厦门润晶光电有限公司 一种中大尺寸蓝宝石晶圆图案化制程黄光涂布前清洗装置及方法
CN105470177A (zh) * 2016-01-05 2016-04-06 天津华海清科机电科技有限公司 晶圆清洗干燥装置
CN105470177B (zh) * 2016-01-05 2018-09-07 清华大学 晶圆清洗干燥装置
CN109211723A (zh) * 2017-07-08 2019-01-15 北京工标传感技术有限公司 一种直插式音叉密度计
CN107993919A (zh) * 2017-11-21 2018-05-04 长江存储科技有限责任公司 用于晶圆清洗的化学液喷淋管及清洗装置
CN110444466A (zh) * 2018-05-06 2019-11-12 长鑫存储技术有限公司 光刻胶涂布工艺中的晶圆清洗方法及装置
CN110327121A (zh) * 2019-08-14 2019-10-15 苏州肯美特设备集成有限公司 一种手术器械自动清洁设备
CN111389772A (zh) * 2020-03-24 2020-07-10 长江存储科技有限责任公司 清洗装置及清洗方法
CN114101156A (zh) * 2020-08-25 2022-03-01 中国科学院微电子研究所 一种晶圆叉清洗方法及装置
CN114425742A (zh) * 2021-12-29 2022-05-03 华海清科股份有限公司 一种分布式清洗装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101590474A (zh) 清洗***上的喷射装置
CN102196758B (zh) 使用臭氧水的洗碗机
CN202174489U (zh) 晶圆清洗装置以及化学机械研磨设备
CN104362118A (zh) 一种液刀清洗装置
CN208815145U (zh) 一种电泳涂装工艺中的喷淋装置
CN108212921A (zh) 清洗装置
CN104607423A (zh) 一种铜导线油污去除装置
EP2185053B1 (en) A dishwasher
CN202343527U (zh) Tft玻璃基板喷淋清洗装置
CN201017856Y (zh) 喷射装置
CN109772794B (zh) 基板清洗机
CN206009314U (zh) 具备多工位冲刷清洗功能的清洗设备
CN112024500B (zh) 清洗装置
KR100940405B1 (ko) 포토레지스트 노즐팁 세정장치
CN105903583A (zh) 压力罐表面清洁专用高压喷头
CN204167277U (zh) 一种液刀清洗装置
CN113116267A (zh) 喷水装置及洗碗机
CN216026907U (zh) 流动式碗体清洗装置
CN205128555U (zh) 一种玻璃清洗装置
CN205872008U (zh) 一种汽车清洗器
CN217369435U (zh) 清洗机构及玻璃清洗机
CN110464278B (zh) 喷头、喷洗装置和洗碗机
CN210819145U (zh) 研磨液输送臂及晶圆处理设备
CN219273927U (zh) 一种内窥镜清洗装置
CN105598108A (zh) 制冰机水盒蒸发器清洗装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20091202