CN101543889A - 自动恒温金属浇注模具 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种自动恒温金属浇注模具，特殊之处在于耐高温金属模1的不同位置设有封闭的腔，封闭腔内装有一定量的所需的低熔点金属2，而且还在低熔点金属的内部安装有网状的疏导管3，并用气体或液体作为介质；此模具的特点，由于低熔点金属所组成的冷却***能迅速吸收热能，并能保持模具在恒温状态，则避免了在浇注过程中金属模具的温度在及短时间内剧烈升高，确保金属模具本身不会与高温金属构件4的液体相互烧结，而无法脱模；也避免金属模具1由于温差产生剧烈变形，使模具报废了延长了模具的寿命，降低成本。

Description

自动恒温金属浇注模具
技术领域
本发明涉及一种自动恒温金属浇注模具。
背景技术
中国专利91103717.9公开了一种金属模具的浇铸方法和保护金属模具样板的措施；其主要特点在于通过用流体或水冷却***安装在金属模样板的型体中，利用流体或水将温度带走的方式实现降温而保护金属模具样板的。
发明内容
本发明的目的是提供一种自动恒温金属浇注模具。
本发明的技术方案在于耐高温金属模的不同位置设有封闭的腔，封闭腔内装有一定量的所需的低熔点金属，而且还在低熔点金属的内部安装有网状的疏导管，并用气体或液体作为介质。在浇注入高温金属铁、钢或其它高温合金熔液时，低熔点金属将传过来的热能迅速吸收，而吸来的部分热能再由安装在低熔点金属内部的网状疏导管中的气体或液体输送出模具体内，从而使低熔点金属具有保持恒定温度的特性，即也使金属模能保持恒温状态；从而实现了对一些铸造温度要求严格的特殊构件的铸造。
由于低熔点金属所组成的冷却***能迅速吸收热能，并能保持模具在恒温状态，则避免了在浇注过程中金属模具的温度在及短时间内剧烈升高，从而确保了金属模具本身不会与高温金属构件的液体相互烧结，而无法脱模；也避免金属模具由于温差产生剧烈变形，使模具报废了，从而延长了模具的寿命，降低了成本。
图1是本发明浇注模具结构剖视图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明。
参照图1所示，本发明的技术方案在于耐高温金属模1的不同位置设有封闭的腔，封闭腔内装有一定量的所需的低熔点金属2，而且还在低熔点金属的内部安装有网状的疏导管3，并用气体或液体作为介质。在浇注入高温金属铁、钢或其它高温合金熔液时，低熔点金属2将传过来的热能迅速吸收，而吸来的部分热能再由安装在低熔点金属2内部的网状疏导管3中的气体或液体输送出模具1体内，从而使低熔点金属2具有保持恒定温度的特性，即也使金属模能保持恒温状态；从而实现了对一些铸造温度要求严格的特殊构件的铸造。
由于低熔点金属所组成的冷却***能迅速吸收热能，并能保持模具在恒温状态，则避免了在浇注过程中金属模具的温度在及短时间内剧烈升高，从而确保了金属模具本身不会与高温金属构件4的液体相互烧结，而无法脱模；也避免金属模具1由于温差产生剧烈变形，使模具报废了，从而延长了模具的寿命，降低了成本。

Claims (4)

1、一种自动恒温金属浇注模具，其特征之处在于耐高温金属模1的不同位置设有封闭的腔，封闭腔内装有一定量的所需的低熔点金属2，而且还在低熔点金属的内部安装有网状的疏导管3，并用气体或液体作为介质。
2、根据权利要求1所述低熔点金属2、网状的疏导管3和介质，其特征之处在于在浇注入高温金属熔液时，低熔点金属2将传过来的热能迅速吸收，而吸收的部分热能再由安装在低熔点金属2内部的网状疏导管3中的气体或液体输送出模具1体内，使低熔点金属2具有保持恒定温度的特性，也使金属模能保持恒温状态。
3、根据权利要求2所述金属模能保持恒温状态，其特征之处在于实现了对一些铸造温度要求严格的特殊构件的铸造。
4、根据权利要求2所述金属模能保持恒温状态，其特征之处在于避免了在浇注过程中金属模具的温度在及短时间内剧烈升高，确保金属模具本身不会与高温金属构件4的液体相互烧结，而无法脱模；也避免金属模具1由于温差产生剧烈变形，使模具报废延长了模具的寿命，降低成本。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105728701A (zh) * 2016-05-13 2016-07-06 广西宜州申亚锰业有限责任公司 一种水冷恒温金属合金浇注模具
CN105750499A (zh) * 2016-04-21 2016-07-13 清华大学 一种利用随形冷铁及强制对流对熔模铸件局部冷却的方法

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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
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