CN101398562B - 彩膜基板及其制造方法 - Google Patents
彩膜基板及其制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101398562B CN101398562B CN2007101753107A CN200710175310A CN101398562B CN 101398562 B CN101398562 B CN 101398562B CN 2007101753107 A CN2007101753107 A CN 2007101753107A CN 200710175310 A CN200710175310 A CN 200710175310A CN 101398562 B CN101398562 B CN 101398562B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cylindrical spacer
- glass substrate
- membrane substrates
- color membrane
- described cylindrical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 103
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 32
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 32
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 75
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 51
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012822 chemical development Methods 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000003116 impacting effect Effects 0.000 description 2
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical class OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000012858 resilient material Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本发明涉及一种彩膜基板及其制造方法。彩膜基板包括玻璃基板和依次设置在玻璃基板上的柱状隔垫物、黑矩阵和像素树脂。彩膜基板的制造方法包括：首先在玻璃基板上形成柱状隔垫物，其次在形成了柱状隔垫物的玻璃基板上形成黑矩阵，然后在形成了柱状隔垫物和黑矩阵的玻璃基板上形成像素树脂。本发明通过将柱状隔垫物形成在玻璃基板上，有效地增大了柱状隔垫物的长度和弹性力，从而增大盒厚的稳定性，保证了液晶显示器的品质。
Description
技术领域
本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器面板的彩膜基板及其制造方法，尤其是一种固定有柱状隔垫物的彩膜基板及其制造方法。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(TFT LCD)是目前平面显示器的主流，其具有功耗低、制造成本相对较低和无辐射的特点，其原理是利用液晶分子的介电各向异性与导电各向异性，在外加电场时使液晶分子的排列状态转换，造成液晶薄膜产生各种光电效应。
TFT LCD面板由彩膜基板和阵列基板对盒而成，两者间以隔垫物隔离出液晶注入的间隙，且在两片基板间的周围部分利用框胶以完成液晶的封装。彩膜基板和阵列基板之间的间距为盒厚(cell gap)，必须维持在指定值，目前通常在彩膜基板的端部制作柱状隔垫物(PS)来维持盒厚。
如图1a所示，为现有技术彩膜基板侧面剖面图，包括玻璃基板101和依次设置其上的黑矩阵102、像素树脂103和公共电极104，柱状隔垫物105设置在公共电极104上。
如图1b所示，为现有技术彩膜基板上像素单元侧面剖面图，102是黑矩阵，R、G、B是相邻的像素，104是形成于彩膜基板上的公共电极。
现有技术彩膜基板的制作过程是：首先在玻璃基板101上形成黑矩阵102，然后在玻璃基板101和黑矩阵102上形成像素树脂103，接着在该黑矩阵102和像素树脂103上形成公共电极104，最后在公共电极104上形成柱状隔物垫105。
由于柱状隔垫物105位于彩膜基板的最端部，其高度被狭小的盒厚限 制，即使使用弹性材料制作柱状隔垫物(PS)，也达不到足够的弹性回复力，在这种结构下，如果外界压力超出柱状隔垫物本身特定的弹性形变范围，就会产生无法回复的形变，从而导致盒厚变化，对显示效果造成不良影响，进而影响液晶面板的品质；同时由于柱状隔垫物位于彩膜基板最端部，稳定性能差，当受到水平力冲击时，柱状隔垫物会偏离原来位置，造成漏光。
发明内容
本发明的目的是提供一种彩膜基板及其制造方法，用以解决现有技术柱状隔垫物形变引起的盒厚变化及位置偏移引起的漏光问题，实现增大柱状隔垫物长度，进而增大其弹性及其稳定性，避免或减轻盒厚变形及漏光现象。
本发明第一方面通过一些实施例提供了如下的技术方案：
一种彩膜基板，包括：
玻璃基板；
柱状隔垫物，一端固定在所述玻璃基板上，另一端悬空；
黑矩阵，形成在所述玻璃基板上，紧密包裹所述柱状隔垫物的根部并露出所述柱状隔垫物悬空的另一端；
像素树脂，形成在所述玻璃基板上并露出所述柱状隔垫物悬空的另一端，所述像素树脂紧密包裹所述柱状隔垫物。
本发明第二方面通过一些实施例提供了如下的技术方案：
一种彩膜基板的制造方法，包括：
步骤1：在玻璃基板上形成数个柱状隔垫物，所述柱状隔垫物的一端与所述玻璃基板连接，另一端悬空；
步骤2：在完成步骤1的玻璃基板上形成黑矩阵，使黑矩阵紧密包裹所述柱状隔垫物的根部并露出所述柱状隔垫物悬空的另一端；
步骤3：在完成步骤2的玻璃基板上形成红色像素树脂层、绿色像素树脂层和蓝色像素树脂层并露出所述柱状隔垫物悬空的另一端，所述像素树脂层紧密包裹所述柱状隔垫物。
本发明第一方面和第二方面通过一些实施例，使柱状隔垫物固定在彩膜基板的玻璃基板上，有效地增大了柱状隔垫物的长度，进而增大了其有效弹性力，因此增大了盒厚的稳定性，并且由于柱状隔垫物与彩膜基板相交的一端处于黑矩阵、像素树脂的包裹中，增大了柱状隔垫物的稳定性，避免漏光问题，最终保证了液晶显示器面板的品质。
下面结合附图和具体实施例进一步说明本发明的技术方案。
附图说明
图1a为现有技术彩膜基板侧面剖面图；
图1b为现有技术彩膜基板上像素单元侧面剖面图；
图2为本发明彩膜基板的剖面图；
图3为本发明彩膜基板与阵列基板对盒后一实施例的剖面图；
图4为图3中阵列基板的俯视图；
图5为本发明彩膜基板与阵列基板对盒后另一实施例的剖面图；
图6为图5中阵列基板的俯视图；
图7为本发明彩膜基板制造方法的流程图。
具体实施方式
如图2所示，为本发明彩膜基板的剖面图，该彩膜基板包括玻璃基板101、柱状隔垫物105、黑矩阵102和像素树脂103柱状隔垫物105的一端固定在玻璃基板101上，另一端悬空；黑矩阵102形成在玻璃基板101上，位于柱状隔垫物105的周围，使黑矩阵102紧密包裹柱状隔垫物105的根部，露出柱状隔垫物105悬空的另一端；像素树脂103形成在玻璃基板101和黑矩阵102上，像素树脂103覆盖住整个玻璃基板101，露出柱状隔垫物105悬空的另一端。本实施例中，还可以包括公共电极104，公共电极104形成在像素树脂103上，露出柱状隔垫物105悬空的一端。实际使用中，如边缘 场开关模式液晶显示器的公共电极形成在阵列基板上，相应地，彩膜基板上则没有公共电极。
本实施例通过将柱状隔垫物直接设置在玻璃基板上，加长了柱状隔垫物的有效长度，增大了柱状隔垫物的有效弹性力，稳定了盒厚，并且柱状隔垫物与彩膜基板连接的一端在黑矩阵、像素树脂的包裹中，增大了柱状隔垫物的稳定性，避免漏光现象。
如图3所示，为本发明彩膜基板与阵列基板对盒后一实施例的剖面图，该实施例中，阵列基板包括：依次设置的玻璃基板201、栅极扫描线203、栅极绝缘层207、非晶硅层208、掺杂的绝缘层209、设置在209上两侧的源极210和漏极211、设置在210、211上的钝化层212，像素电极205通过钝化层的过孔213与薄膜晶体管(TFT)的漏极211连接；彩膜基板包括：依次设置的玻璃基板101、柱状隔垫物105、黑矩阵102、像素树脂103、公共电极104；填充在彩膜基板和阵列基板之间的液晶3；彩膜基板和阵列基板之间的间距，即盒厚4；本实施例中，柱状隔垫物位于TFT的顶端。
如图4所示，为图3中阵列基板的俯视图，该阵列基板包括玻璃基板201、数据扫描线202、栅极扫描线203，相邻的栅极扫描线和数据扫描线定义了一个像素区域，每个像素区域包括一个开关器件TFT204、像素电极205，206是位于薄膜晶体管204上的对盒后柱状隔垫物105在TFT基板上的相应位置。
本实施例中，柱状隔垫物固定于彩膜基板的玻璃基板上，阵列基板和本发明彩膜基板结构对盒后，可以稳定盒厚，保证柱状隔垫物稳定性，保证液晶显示器面板的品质。
如图5所示，为本发明彩膜基板与阵列基板对盒后另一实施例的剖面图，与图3不同的是，柱状隔垫物从TFT顶部移至阵列基板的栅极扫描线203上。
如图6所示，为图5中阵列基板的俯视图，可以看出，彩膜基板和阵列 基板对盒后，柱状隔垫物105在阵列基板上的相应位置206在栅极扫描线上。
本实施例中，柱状隔垫物与阵列基板的接触点从最高的TFT器件，移到较低并且平整的删极扫描线上，在受到外力挤压时不会再出现从高到低的位置移动，除了进一步增大柱状隔垫物长度，增大其弹性，进一步稳定盒厚外，还可以避免面板受到挤压或冲击时，隔垫物自动向TFT较低位置移动引起的漏光问题，本实施例可以更好的增大柱状隔垫物的弹性力和稳定性，进而保证盒厚的稳定，保证液晶显示器的品质。
从图3、5中可以看出，柱状隔垫物纵侧面是梯形，其与玻璃基板相交的第一端、与阵列基板相交的第二端可以是圆形、四边形或者多边形，这样可以使柱状隔垫物与四周的边界有最大面积的接触，维持其稳定性。
如图7所示，为本发明彩膜基板制造方法的流程图，包括如下步骤：
步骤1：通过光刻工艺和化学腐蚀工艺，在玻璃基板上沉积一层柱状隔垫物，柱状隔垫物的上表面为圆形，直径在10um至20um，柱状隔垫物的高度在5um至10um；
步骤2：在完成步骤1的彩膜基板上使用化学汽相沉积方法沉积铬或氧化铬成分的黑矩阵层，或者用涂敷分散法涂敷树脂成分黑矩阵层。在玻璃基板上，柱状隔垫物周围，制备一层厚度在1um至5um的黑矩阵层。用掩模版通过曝光工艺和化学刻蚀工艺(铬或氧化铬成分)或者化学显影(树脂成分)，在玻璃基板的一定区域上形成黑矩阵；
步骤3：在完成步骤2的彩膜基板上继续形成红色像素树脂层。利用涂敷分散法在彩膜基板上涂敷1um到5um的红色像素树脂层。像素树脂层材料通常是丙稀酸类感光性树脂或其他羧酸型色素颜料树脂。然后通过曝光工艺和化学显影工艺，在玻璃基板的一定区域上形成红色像素；
采用和制备红色像素类似的方法，在玻璃基板的一定区域上形成绿色像素和蓝色像素；
步骤4：在完成步骤3的基板上沉积公共电极层，形成公共电极；此公 共电极为透明电极。常用的透明电极为ITO(氧化铟锡)或者IZO(氧化铟锌)，厚度在1000埃至5000埃之间。
上述方案中，黑矩阵102，像素树脂103，公共电极104紧密包裹在柱状隔垫物105周围，连贯的、有选择性的形成，并且黑矩阵102、像素树脂103、公共电极104的总厚度小于柱状隔垫物105的长度，柱状隔垫物105一端固定在彩膜基板的玻璃基板上，另一端悬空，其长度要满足彩膜基板的阵列基板对盒后，柱状隔垫物可以到达阵列基板的顶端(图3所示)或者阵列基板的栅极扫描线上(图5所示)。
另外，实际使用中，如边缘场开关模式液晶显示器的公共电极形成在阵列基板上，相应地，彩膜基板上则没有形成公共电极。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (10)
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
玻璃基板；
柱状隔垫物，一端固定在所述玻璃基板上，另一端悬空；
黑矩阵，形成在所述玻璃基板上，紧密包裹所述柱状隔垫物的根部并露出所述柱状隔垫物悬空的另一端；
像素树脂，形成在所述玻璃基板上并露出所述柱状隔垫物悬空的另一端，所述像素树脂紧密包裹所述柱状隔垫物。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于：所述柱状隔垫物纵截面为梯形。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于：所述柱状隔垫物的横截面为圆形或多边形。
4.根据权利要求1、2或3所述的彩膜基板，其特征在于：当所述柱状隔垫物的横截面为圆形时，所述柱状隔垫物的横截面直径为10um～20um。
5.根据权利要求1、2或3所述的彩膜基板，其特征在于：所述柱状隔垫物的高度为5um～10um。
6.一种彩膜基板制造方法，其特征在于，包括：
步骤1：在玻璃基板上形成数个柱状隔垫物，所述柱状隔垫物的一端与所述玻璃基板连接，另一端悬空；
步骤2：在完成步骤1的玻璃基板上形成黑矩阵，使黑矩阵紧密包裹所述柱状隔垫物的根部并露出所述柱状隔垫物悬空的另一端；
步骤3：在完成步骤2的玻璃基板上形成红色像素树脂层、绿色像素树脂层和蓝色像素树脂层并露出所述柱状隔垫物悬空的另一端，所述像素树脂层紧密包裹所述柱状隔垫物。
7.根据权利要求6所述的彩膜基板制造方法，其特征在于：所述步骤1中，所述柱状隔垫物与所述玻璃基板相交的横截面的直径为10um～20um。
8.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述步骤1中，所述柱状隔垫物的高度为5um～10um。
9.根据权利要求6、7或8所述的彩膜基板制造方法，其特征在于：所述步骤2中，所述黑矩阵厚度为1um～5um。
10.根据权利要求6、7或8所述的彩膜基板制造方法，其特征在于：所述步骤3中，所述红色像素树脂层、绿色像素树脂层、蓝色像素树脂层的厚度为1um～5um。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2007101753107A CN101398562B (zh) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 彩膜基板及其制造方法 |
| US12/126,354 US7643112B2 (en) | 2007-09-28 | 2008-05-23 | Color filter substrate and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2007101753107A CN101398562B (zh) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 彩膜基板及其制造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101398562A CN101398562A (zh) | 2009-04-01 |
| CN101398562B true CN101398562B (zh) | 2011-02-16 |
Family
ID=40507834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2007101753107A Active CN101398562B (zh) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 彩膜基板及其制造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7643112B2 (zh) |
| CN (1) | CN101398562B (zh) |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101762922B (zh) | 2008-12-24 | 2012-05-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 触摸式电子纸及其制造方法 |
| KR101325916B1 (ko) * | 2010-07-21 | 2013-11-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
| CN102566145B (zh) * | 2010-12-07 | 2015-05-20 | 北京京东方光电科技有限公司 | 液晶面板及液晶面板、阵列基板和彩膜基板的制造方法 |
| CN102681241A (zh) * | 2011-05-26 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板、液晶显示装置及其制造方法 |
| CN102707353B (zh) * | 2011-08-04 | 2014-05-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩色滤光片及其制造方法 |
| US9470941B2 (en) | 2011-08-19 | 2016-10-18 | Apple Inc. | In-cell or on-cell touch sensor with color filter on array |
| CN102360143A (zh) * | 2011-10-24 | 2012-02-22 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 液晶显示装置 |
| JP5915188B2 (ja) * | 2012-01-10 | 2016-05-11 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタ |
| WO2014015629A1 (zh) * | 2012-07-26 | 2014-01-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板和显示装置 |
| CN102809849B (zh) * | 2012-08-07 | 2015-08-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶显示装置、彩膜基板及其制造方法 |
| CN102819057B (zh) * | 2012-08-24 | 2014-09-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示装置、彩色滤光片及其制作方法 |
| CN103091897B (zh) * | 2013-02-01 | 2015-08-12 | 信利半导体有限公司 | 一种液晶显示装置 |
| CN103413782B (zh) * | 2013-07-23 | 2015-08-26 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种阵列基板及其制作方法和显示面板 |
| CN103744222A (zh) * | 2013-12-11 | 2014-04-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩色滤光片、制作方法及显示装置 |
| CN103744240A (zh) * | 2013-12-27 | 2014-04-23 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板及用该阵列基板的液晶显示面板 |
| CN104317111A (zh) * | 2014-10-14 | 2015-01-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶显示面板 |
| CN106226960A (zh) * | 2016-09-28 | 2016-12-14 | 南京华东电子信息科技股份有限公司 | 一种彩膜基板及其制造方法和显示装置 |
| KR102677475B1 (ko) * | 2016-11-09 | 2024-06-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디스플레이 장치 |
| CN106773369B (zh) * | 2016-12-26 | 2019-12-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 彩膜基板及液晶显示面板 |
| CN106647052A (zh) * | 2017-02-28 | 2017-05-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及制备方法和显示面板 |
| CN107065318B (zh) * | 2017-05-24 | 2020-11-27 | 上海中航光电子有限公司 | 一种液晶显示面板和显示装置 |
| CN107741674A (zh) * | 2017-10-31 | 2018-02-27 | 武汉华星光电技术有限公司 | 液晶面板及其制作方法、液晶显示装置 |
| JP2019101382A (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-24 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| CN110673385B (zh) * | 2019-10-15 | 2021-08-03 | Tcl华星光电技术有限公司 | 彩膜基板及显示面板 |
| CN111176007A (zh) * | 2020-01-10 | 2020-05-19 | 南京中电熊猫平板显示科技有限公司 | 一种显示面板及其制作方法 |
| CN114967212B (zh) * | 2022-05-24 | 2024-03-19 | 苏州华星光电技术有限公司 | 彩膜基板及液晶显示面板 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI313773B (en) | 2005-04-22 | 2009-08-21 | Au Optronics Corp | Display panel and color filter therein |
| CN100432770C (zh) * | 2006-11-29 | 2008-11-12 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种液晶显示器装置 |
-
2007
- 2007-09-28 CN CN2007101753107A patent/CN101398562B/zh active Active
-
2008
- 2008-05-23 US US12/126,354 patent/US7643112B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7643112B2 (en) | 2010-01-05 |
| US20090086134A1 (en) | 2009-04-02 |
| CN101398562A (zh) | 2009-04-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101398562B (zh) | 彩膜基板及其制造方法 | |
| CN102116960B (zh) | 彩膜基板及其制造方法 | |
| US9329421B2 (en) | Display substrate, method of manufacturing the same and method of manufacturing display panel | |
| US9052550B2 (en) | Thin film transistor liquid crystal display | |
| TWI307440B (zh) | ||
| CN101546076B (zh) | Tft-lcd阵列基板和彩膜基板及其制造方法 | |
| CN101676776B (zh) | 面板及面板的制造方法 | |
| US20090115947A1 (en) | Liquid crystal display panel and manufacturing method of opposite substrate thereof | |
| CN101840100A (zh) | 液晶显示装置及其彩膜基板的制造方法 | |
| CN102707504A (zh) | 液晶面板及其制备方法、显示装置 | |
| CN102466936B (zh) | 阵列基板、液晶显示器及阵列基板的制造方法 | |
| US8089603B2 (en) | Fabrication method of liquid crystal display panel | |
| CN101251689B (zh) | 液晶显示面板及包含其的装置 | |
| CN1982989B (zh) | 液晶显示器及其制作方法 | |
| US7884915B2 (en) | Method of manufacturing liquid crystal display device | |
| CN103235444A (zh) | 一种显示装置、彩膜基板及其制作方法 | |
| CN112666742A (zh) | 液晶显示面板及显示装置 | |
| CN112213888A (zh) | 液晶显示面板及其制备方法 | |
| KR101205767B1 (ko) | 액상의 유기 반도체물질을 이용한 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법 | |
| JP3987522B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| CN101807587B (zh) | Tft-lcd阵列基板及其制造方法和液晶显示器 | |
| CN203133454U (zh) | 阵列基板及显示装置 | |
| US20050151917A1 (en) | Display device and fabrication method thereof | |
| CN100405198C (zh) | 液晶显示面板 | |
| JP2007140203A (ja) | 液晶表示装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY Effective date: 20141208 Owner name: JINGDONGFANG SCIENCE AND TECHNOLOGY GROUP CO., LTD Free format text: FORMER OWNER: BEIJING BOE PHOTOELECTRICITY SCIENCE + TECHNOLOGY CO., LTD. Effective date: 20141208 |
|
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 100176 DAXING, BEIJING TO: 100015 CHAOYANG, BEIJING |
|
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20141208 Address after: 100015 Jiuxianqiao Road, Beijing, No. 10, No. Patentee after: BOE Technology Group Co., Ltd. Patentee after: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd. Address before: 100176 Beijing economic and Technological Development Zone, West Central Road, No. 8 Patentee before: Beijing BOE Photoelectricity Science & Technology Co., Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20201201 Address after: 215200 No. 1700, Wujiang economic and Technological Development Zone, Suzhou, Jiangsu, Zhongshan North Road Patentee after: Gaochuang (Suzhou) Electronics Co.,Ltd. Patentee after: BOE TECHNOLOGY GROUP Co.,Ltd. Address before: 100015 Jiuxianqiao Road, Beijing, No. 10, No. Patentee before: BOE TECHNOLOGY GROUP Co.,Ltd. Patentee before: BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY Co.,Ltd. |