CN101321704A - 多腔低辐射涂层 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了多腔低辐射涂层。该涂层包括三个红外反射膜区域，这三个红外反射膜区域可以均包含银。

Description

多腔低辐射涂层
相关申请的交叉参考
本申请要求2006年2月23日提交的美国实用新型申请No.11/360,266(“’266申请”)、2006年4月5日提交的美国专利申请No.11/398,345及2005年10月11日提交的美国临时申请No.60/725,891的优先权，它们的全部内容并入本申请中作为参考。本申请是所述’266申请的部分继续申请。
技术领域
本发明涉及用于玻璃和其它基底的薄膜涂层。特别的，本发明涉及对红外辐射的反射特别强的低辐射涂层。还提供了沉积薄膜涂层的方法和设备。
背景技术
低辐射涂层在本领域中是公知的。通常，它们包括一层或两层红外反射膜和两层或更多层透明介电膜。一般为导电金属(如银、金或铜)的红外反射膜通过涂层减小了热传递。介电膜用于抗红外反射膜的反射，并用于控制涂层的其它性能和特性，例如颜色和耐久性。其中通常使用的介电材料包括锌、锡、铟、铋和钛的氧化物。
大多数可商购的低辐射涂层具有一个或两个银层，各银层夹在两个透明介电膜的涂层之间。在低辐射涂层中增加银膜的数量可以增大其红外反射。然而，这也会降低涂层的可见光透射，和/或负面地影响涂层的颜色，和/或降低涂层的耐久性。或许由于这些原因，具有三个银层的低辐射涂层过去没有占据较大市场。
提供包括三个可辐射涂层，并具有理想涂层性能和特性的低辐射涂层是理想的。
发明概述
在某些实施方案中，本发明提供了具有通常为相对的主表面的透明基底，在所述主表面中的所希望的一个(desired one of the major surfaces)上具有多腔低辐射涂层(multiple cavity low-emissivity coating)。从所述所希望的主表面向外，该涂层依次包含，第一透明介电膜区域、第一红外反射膜区域、第二透明介电膜区域、第二红外反射膜区域、第三透明介电膜区域、第三红外反射膜区域及第四透明介电膜区域。在本发明的实施方案中，该涂层的金属/介电质比至少为0.22。金属/介电质比定义为第一、第二和第三红外反射膜区域的组合厚度除以第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的组合厚度。
本发明的一些实施方案提供了具有通常为相对的主表面的透明基底，在所述主表面中的所希望的一个上具有多腔低辐射涂层。从所述所希望的主表面向外，该涂层依次包含，第一透明介电膜区域、第一红外反射膜区域、第二透明介电膜区域、第二红外反射膜区域、第三透明介电膜区域、第三红外反射膜区域及第四透明介电膜区域。在本发明的实施方案中，该涂层的金属/介电质比优选至少为0.25。金属/介电质比定义为第一、第二和第三红外反射膜区域的组合厚度除以第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的组合厚度。优选地，所述透明基底是包括其它玻璃的多板隔热玻璃单元(multiple-pane insulating glazing unit)的一部分，该单元具有至少一个玻璃间空间，并且所述所希望的主表面暴露于该单元的玻璃间空间。在本发明的实施方案中，隔热玻璃单元的外部反射颜色特征优选为ah颜色坐标在约+1.5至约-2之间，且bh颜色坐标在约0至约-3之间。
本发明的某些实施方案提供了具有通常为相对的主表面的透明基底，在所述主表面中的所希望的一个上具有多腔低辐射涂层。从所述所希望的主表面向外，该涂层依次包含，第一透明介电膜区域、第一红外反射膜区域、第二透明介电膜区域、第二红外反射膜区域、第三透明介电膜区域、第三红外反射膜区域及第四透明介电膜区域。在本发明的实施方案中，该涂层的金属/介电质比优选至少为0.25。金属/介电质比定义为第一、第二和第三红外反射膜区域的组合厚度除以第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的组合厚度。优选地，所述透明基底是包括其它玻璃的多板隔热玻璃单元的一部分，该单元具有至少一个玻璃间空间，并且所述所希望的主表面暴露于该单元的玻璃间空间。在本发明的实施方案中，隔热玻璃单元的可见光透射率为0.65或更大。
在某些实施方案中，本发明提供了具有通常为相对的主表面的玻璃板，在所述主表面中的所希望的一个上具有多腔低辐射涂层。从所述所希望的主表面向外，该涂层依次包含，第一透明介电膜区域、第一红外反射膜区域、第二透明介电膜区域、第二红外反射膜区域、第三透明介电膜区域、第三红外反射膜区域及第四透明介电膜区域。在本发明的实施方案中，该涂层的金属/介电质比至少为0.22。金属/介电质比定义为第一、第二和第三红外反射膜区域的组合厚度除以第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的组合厚度。优选地，所述玻璃板是包括其它玻璃板的多板隔热玻璃单元的一部分，该单元具有至少一个玻璃间空间，并且所述所希望的主表面暴露于该单元的玻璃间空间。在本发明的实施方案中，隔热玻璃单元的外部反射颜色特征优选为色度值(chroma magnitude number)小于约1.82。在一些本发明的实施方案中，金属/介电质比至少为0.25。任选地，包含银的第一、第二和第三层的厚度均在约75埃到约275埃之间。另外地或可选地，第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的各总物理厚度任选地在约100埃到800埃之间。在一些情况中，包含银的第一、第二和第三层的厚度均在约100埃到约250埃之间。另外地或可选地，第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的各总物理厚度任选地在约50埃到900埃之间。在本发明的一些实施方案中，该涂层仅有两个空腔，包括在包含银的第一和第二层之间的第一空腔和在包含银的第二和第三层之间的第二空腔，这两个空腔的每个任选地具有约300埃到约850埃的厚度，或者可能在约400埃到750埃之间。
附图说明
图1的曲线图显示了可商购的双层银低辐射涂层的光谱性能。
图2的曲线图显示了根据本发明的某些实施方案的高红外反射涂层的光谱性能。
图3的曲线图比较了根据本发明的某些实施方案的高红外反射涂层与可商购的双层银低辐射涂层的光谱性能。
图4为具有根据本发明的某些实施方案的高红外反射涂层的基底的截面侧视图的示意图。
图5为具有根据本发明的某些实施方案的高红外反射涂层的多板隔热玻璃单元的部分剖开截面侧视图的示意图。
图6为根据本发明的某些实施方案中使用的涂布机的截面侧视图的示意图。
具体实施方案
下面参考附图进行详细描述，其中，不同附图中的相同元件具有相同的标记数字。附图不需要标度，描述了选择的实施方案，并且不限制本发明的范围。本领域技术人员可以知道，给出的实例具有很多可用的替代方式，但都落入本发明的范围内。
单层和双层银的低辐射涂层在本领域中已已知多年。单层银低辐射涂层提供了有利的红外反射，通常大约为97％。双层银的低辐射涂层在高可见光透射和高红外反射方面提供了进一步的改进。然而，使用双层银的低辐射涂层所能得到的红外反射水平实际上有最高限度。例如，尽管增大双层银涂层中的银含量可以使红外反射增大到97％以上，但在要求其它性能(高可见光透射、良好的颜色、耐久性等)的良好平衡的双层银涂层中难以获得更高的红外反射，例如98.5％以上。
图1的曲线图显示了非常有利的商购双层银低辐射涂层的光谱性能。该曲线图显示了具有双层银低辐射涂层的玻璃板的透射(在可见光波长范围内向上凸的曲线)和玻璃侧反射(在可见光波长范围内向下凹的曲线)。尽管该特别的双层银涂层提供了优异的光谱性能，但据报道传统的双层银涂层在红外波长范围的透射在5-50％之间(美国专利No.6,262,830，第6栏，第43-51行)。
图2的曲线图显示了根据本发明某些实施方案的高红外反射涂层的光谱性能。这里，该曲线图也显示了具有高红外反射涂层的玻璃板的透射(在可见光波长范围内向上凸的曲线)和玻璃侧反射(在可见光波长范围内向下凹的曲线)。
本发明的涂层7的红外反射比双层银涂层的高得多。通过参考图3可以最好地理解这一点，图3的曲线图显示了高红外反射涂层7与双层银涂层的光谱性能。这里，可以对由这两种涂层获得的红外反射水平进行并行比较。可以看出，本发明的涂层7获得了比双层银涂层高得多的红外反射。还可以看出这两种涂层的可见光透射水平是相当的。另外，本发明的涂层7(用实线描绘的曲线)的可见光波长和红外波长间的截止(cutoff)比双层银涂层(用圆圈描绘的曲线)的陡得多。因此，一般认为与双层银低辐射涂层相比，高红外反射涂层7在能量效率方面提供了量子跃迁，与单层银低辐射涂层相比更是如此。
本发明的高红外反射涂层(或“多腔低辐射涂层”)7具有许多有益的性能。随后的讨论报道一些这些性质。在一些情况中，这里报道了在一个表面18上具有本发明的涂层7的单层(即整块)玻璃12的性能。在其它情况中，报道了在其#2表面18上具有本发明的涂层7的IG单元3的这些性能。在这些情况中，所报道的性能是对于IG单元的，其中，两个玻璃都是具有填充了90％氩气和10％空气的绝缘混合气的a1/2英寸玻璃间空间的2.2mm透明钠-钙浮法玻璃。当然，这些特性并不限制本发明。除非另有说明，本发明的论述报道是在标准ASHRAE条件下使用公知的WINDOW 5.2a计算机程序(例如，玻璃数据的计算中心)进行测定。
如上所述，高红外反射涂层7提供了极其优异的隔热性能。涂层7包含三个红外反射膜区域100、200和300。这些膜区域通常是银或另一种导电材料，并且它们在涂层中赋予了极其优异的低薄层电阻。例如，本发明涂层7的薄层电阻低于3.0Ω/□。优选地，该涂层7的薄层电阻低于2.5Ω/□(例如低于2.0Ω/□、低于1.75Ω/□、低于1.5Ω/□，或者甚至小于1.35Ω/□)。尽管可以选择并改变所需要的薄层电阻的水平以适应不同的应用，但很多优选的涂层实施方案(例如下面列表的示例膜层叠体)提供了低于1.4Ω/□(例如约1.25-1.3Ω/□)的薄层电阻。可以使用4点探针(4-point probe)以标准的方式来测量涂层的薄层电阻。也可以使用本领域已知的用于计算薄层电阻的其它方法。
涂层7还具有极其优异的低辐射。例如，涂层7的辐射率低于0.06。优选地，该涂层7的辐射率低于0.04(例如低于0.03，或者甚至低于0.025)。尽管可以选择并改变所需要的辐射率水平以适应不同的应用，但许多优选的涂层实施方案(例如下面列表的示例膜层叠体)提供了低于0.023、低于0.022、或者甚至低于0.022的辐射率。在一个实施方案中，辐射率约为0.020。相反，透明玻璃的未涂覆的玻璃通常具有约0.84的辐射率。
术语“辐射率”是本领域公知的。根据其公知含义本文使用的该术语表示在相同温度下由表面发出的辐射与由黑体发出的辐射的比例。辐射率是吸收和反射都有的特性。它通常由公式E＝1-反射率来表示。本发明的辐射率值可以由“Standard Test Method For Emittance of Specular Surfaces UsingSpectrometric Measurements″NFRC 301-93”中说明的来测定，其全部教导并入本申请中作为参考。可以通过将测量的薄层电阻乘以0.016866来计算辐射率。例如，使用该方法可以确定薄层电阻为约1.25的涂层7的辐射率约为0.021。
除了低薄层电阻和低辐射率以外，本发明的涂层7提供了极其优异的日照得热量性能。众所周知，窗户的日照得热量系数(SHGC)是入射太阳辐射通过窗户接收的百分比。在多种应用中，低日照得热量窗户具有独特的优点。例如，在温暖的气候下，具有低日照得热量的窗户特别理想。例如，对美国南部的建筑物的日照得热量系数一般推荐为约0.4及其以下。另外，暴露在大量不需要的日照下的窗户也得益于低日照得热量系数。例如，建筑物东侧或西侧的窗户在早上和下午往往得到大量的日照。对于这种应用，日照得热量系数对于保持建筑物内部舒适的环境来说起到关键作用。因此，提供这种具有低日照得热量系数的涂层(即低日照得热量涂层)非常有益。低日照得热量涂层对于很多窗户的应用是非常理想的。
有时在低日照得热量涂层中要作出权衡，选择实现低SHGC的膜具有将可见光透射率降低至低于理想水平和/或将可见光反射率增大至高于理想水平的作用。因而，具有这些涂层的窗户可能具有不能接受的低可见光透射和/或有些镜子似的外观。
本发明的涂层7提供了极其优异的低日照得热量系数。例如，本发明的IG单元3的日照得热量系数低于0.4。优选地，本发明的IG单元3的日照得热量系数低于0.35(例如低于0.33，或低于0.31)，低于0.29，或甚至低于0.28。尽管可以选择并改变需要的SHGC水平以适应不同的应用，但一些优选的实施方案(例如当涂层7为下面所列表的示例膜层叠体的一个)提供了日照得热量系数在0.25-0.29(例如在0.25-0.28之间，比如约0.27)的IG单元3。本发明的涂层7可以提供折射率在这些范围的一个或多个内的SHGC，同时提供优异的颜色(例如下属任何颜色范围)和/或可见光透射率(例如下属任何可见光透射率)。在一些情况中，涂层7提供了性能的平衡，同时具有出人意料地高的金属/介电质比，如下所述。
这里使用的术语“日照得热量系数”具有其公知的含义。参考NFRC200-93(1993)，其全部教导并入本申请中作为参考。可以使用公知的WINDOW 5.2a计算机程序中嵌入的方法来计算SHGC。
结合上面讨论的有益的隔热性能，本发明的涂层7具有极其优异的光学性能。如上所述，有时在低日照得热量涂层中作出权衡，选择以获得良好隔热性能的膜具有将可见光透射限制至低于理想水平的作用。
相反，本发明的涂层7提供了总可见光透射与隔热性能极其优异的组合。例如，本发明的IG单元3(和本发明的玻璃12，无论是整块或者作为IG单元3的一部分)具有大于0.45(即大于45％)的可见光透射率Tv。优选地，本发明的IG单元3(和本发明的玻璃12，无论是整块或者隔离的)具有大于0.55(例如大于0.6)、大于0.63、或者甚至大于0.64的可见光透射率Tv。尽管可以选择并改变需要的可见光透射率大小以适应不同的应用，但某些优选的实施方案(例如，其中涂层7为下面所列表的示例膜层叠体的一个)提供了可见光透射率大于0.65(例如约0.66)的IG单元3(或玻璃12，它可以是整块或者IG单元3的一部分)。
在一个具体的实施方案组中，选择膜区域的厚度和组成来获得大于0.7、大于0.71、或者甚至大于0.72的可见光透射率。在一些情况中，选择膜区域的厚度和组成来获得约0.73的可见光透射率。这里，可以将红外反射膜区域变薄来提供需要的透射率。另外地或可选地，涂层7可具有在它们的厚度上(而不具有最内层的金属部分)均为介电膜(如氧化物、氮化物、和/或氧氮化物膜)的隔离层。这里，涂层7理想地提供的可见光透射率在本段中(或者前段)提到的一个或者多个范围内，并且三个红外反射膜区域的最小组合厚度在下面所述的一个或多个范围内的，和/或金属/介电质为在下面提到的任何一个或多个最小值。
术语“可见光透射率”是本领域中公知的，并根据其公知的含义在本文中使用。可以根据NFRC 300，Standard Test Method for Determining theSolar and Infrared Optical Properties of Glazing Materials and FadingResistance of Systems(National Fenestration Rating Council Incorporated，2001年12月采用，2002年1月出版)来测定可见光透射率以及可见光反射率。可以使用公知的WINDOW 5.2a计算机程序计算这些以及其它报道的光学性能。
优选地，涂覆的基底(即本发明的玻璃)12具有峰值透射位于可见光波长范围内的光谱透射曲线。这在图2中是很明显的。在某些实施方案中，该光谱透射曲线的半峰宽小于360nm、小于320nm、小于310nm、小于305nm、小于300nm、小于290nm、小于280nm、小于275nm、小于265nm、或者甚至小于250nm。在这些实施方案中，涂层7提供了非常有利的窄透射曲线，该曲线理想地具有跨越可见光范围的高可见光透射率，并同时在高度透射的可见光波长与高度反射的红外波长间提供了极其优异的陡斜率。在某些实施方案中，涂层7另外地(即与具有上述的任何最大半峰宽一起)或可选地获得大于50nm、大于100nm、大于150nm、或者甚至大于175nm的半峰宽。这对于在可见光谱的大部分提供高水平的可见光透射率是理想的。
本发明的涂层7在低日照得热量系数方面提供了极其优异的效率，这是与高可见光透射率一起获得的。可见光透射率(作为整体的一部分)与SHGC的比例这里指本发明的IG单元3的可见光热效率比。该比例优选地大于2、大于2.2，或者甚至大于2.3。在一些优选的实施方案中，该比例大于2.33、大于2.34、大于2.37、大于2.4、大于2.42、或者甚至大于2.43。在一些实施方案中，该比例为约2.37。在其它实施方案中，该比例为约2.44。某些优选的实施方案(例如，其中涂层7为下面所列表的示例膜层叠体中的一个)提供了可见光热效率比大于2.0而小于2.5(例如约2.4-2.5，如约2.44)的IG单元3。
另一个要考虑的有用参数是T740，即在740nm处的透射率。本发明的涂层7可以提供特别低的T740，而同时提供高可见光透射率和优良的颜色性能。例如，本发明的玻璃12的T740优选低于0.30，或者甚至低于0.20。或许更优选地，本发明的玻璃12(当为整块，或者为隔热单元的一部分时)的T740低于0.15(例如低于0.1、低于0.07、低于0.06，或者甚至低于0.05)。尽管可以选择并改变在740nm处所需要的透射率水平以适应不同的应用，但某些优选的实施方案(例如，当涂层7为下面列表的示例膜层叠体中的一个时)提供了T740约为0.04的涂覆的玻璃12(可以为整块或IG单元3的一部分)。
本发明的涂层7可以获得优异的色彩性能，特别考虑到它所促进的高绝热水平。涂层7非常适合于与反射色彩有关的应用。使用公知的颜色坐标“a”和“b”来报告下面关于颜色的讨论。具体地，这里使用下标h(即，ah和bh)来表示这些颜色坐标以表示公知的Hunter Lab Color System(Huntermethods/units，ill.D65，10 degree observer)的常规使用。本发明的色彩性能可以按ASTM Method E 308所说明的来测定，其全部教导并入本申请中作为参考。
本发明的IG单元在反射中具有优异的中性(即无色)外观，任何可感知的色彩都具有令人愉快的色调。这里所报告的反射颜色是从本发明的IG单元(即，离开外侧玻璃的#1表面)外部来观察的。在一些实施方案中，本发明的IG单元显示的反射颜色特征为ah颜色坐标在约+1.5至约-2之间，且bh颜色坐标在约0至约-3之间。这些实施方案代表了较宽的实施方案组，其中(无论ah和bh是否在上面提到的范围内)本发明的IG单元具有特征为色度值(定义为[ah 2+bh 2]的平方根)小于约3.6的外部反射颜色。获得颜色中性的外观是一般确定的目标。然而，对于具有三个或更多个红外反射膜区域的涂层，这变得难以达到，并且随着总金属厚度的增大，该难题往往变得更难。此外，在这里公开的某些实施方案中使用的金属/介电质比的情况下，通过本发明的涂层获得的颜色性能特别出人意料。
优选地，ah和bh坐标中的至少一个的量值为负值(在一些实施方案中，都是负值)。在某些实施方案中，这些颜色坐标中至少一个(例如bh)显著离开(例如，在量值上至少0.25、至少0.3、或者至少0.5)色空间(即，离开“零”坐标)的纵轴和/或水平轴。当接近色空间的纵轴和/或水平轴时，ah或bh量值上的小变化可能意味着实际的外观上的显著变化，从而进入不太需要的黄色或红色区域。
本发明的涂层7可以获得实际外观上很优异的反射颜色。在某些优选的实施方案中(例如，涂层7为下面列表或详述的示例膜层叠体中的一个)，IG单元显示的反射颜色特征的为ah颜色坐标在约+1至约-1(例如约0至约-0.5之间)之间，且bh颜色坐标为约-0.5至约-2.5(例如约-1.5至约-1.75之间)之间。这些实施方案代表了较宽的实施方案组，其中(无论ah和bh是否在上面提到的范围内)本发明的IG单元的外部反射颜色特征为色度值小于约2.7，例如小于1.82。与具有可比的红外反射膜总量的其它涂层的IG单元相比，通过观察具有本发明的涂层7的IG单元，能够最好地理解这些颜色性能在定性水平上(在支持此涂层的窗子外观方面)上的理想性。
本发明的IG单元还显示了令人愉快的透射颜色。优选地，IG单元显示的透射颜色特征为ah颜色坐标在约-3.5至约-6之间，且bh颜色坐标在约+2.25至约+4.5之间。在某些优选的实施方案中(例如当涂层为下面列表或详述的优选的膜层叠体中的一个时)，IG单元显示的透射颜色特征为ah颜色坐标在约-4至约-5.5(例如，约-4.5至约-5之间)之间，且bh颜色坐标在约+2.5至约+4.25(例如约+3至约+3.5)之间。这些实施方案代表了较宽的实施方案组，其中，透射颜色的ah和bh中的至少一个的量值为负值。
图4示例了某些实施方案，这些实施方案中提供了具有主表面18的涂覆基底12，该主表面18具有多腔、低辐射涂层7。从主表面18向外，该涂层依次包括第一透明介电膜区域20、第一红外反射膜区域100、第二透明介电膜区域40、第二红外反射膜区域200、第三透明介电膜区域60、第三红外反射膜区域300和第四透明介电膜区域80。在图4中，显示了任选的隔离膜区域105、205、305，但这些并不是所有的实施方案都需要的。
因此，本发明的涂层包括至少两个空腔。对于本发明公开，术语“空腔”定义为表示两个相邻的红外反射膜区域之间的区域。在一些实施方案中，该涂层仅有两个空腔。在另外的实施方案中，该涂层具有三个或更多个空腔。在这两种类型的实施方案中，各空腔的厚度均在约300
Figure A20068004545300171
到约850
Figure A20068004545300172
之间，可能更优选在约400
Figure A20068004545300173
到约750
Figure A20068004545300174
之间。
本发明的一些实施方案提供的金属/介电质发现给出了优异的结果。这里，“金属/介电质比”为所有红外反射膜区域(在涉及银的实施方案中为总的银厚度)的总厚度除以透明介电膜区域(不计算任何可能存在的隔离层)的总厚度。在本发明的实施方案中，金属/介电质比优选至少0.2、至少0.22、至少0.25、至少0.26，或者甚至至少0.27。下面列表的是示例的实施方案，其中该比例为约0.27到约0.28之间。
各个红外反射膜区域1 00、200、300可以有利地包含银(任选地至少50原子百分比为银，有时主要由银组成)。此外，在一些实施方案中，红外反射膜区域100、200、300中至少一个的厚度大于150埃、大于175埃、或者甚至大于200埃。另外地或者可选地，第一、第二和第三红外反射膜区域的组合厚度可以任选地大于425
Figure A20068004545300181
、大于450
Figure A20068004545300182
、大于460
Figure A20068004545300183
、大于470
Figure A20068004545300184
大于475
Figure A20068004545300185
、或者甚至大于485
Figure A20068004545300186
。在一个实施方案中，组合厚度为约477
Figure A20068004545300187
例如，在一些情况中，第一、第二和第三红外反射膜区域100、200、300为厚度分别为122
Figure A20068004545300188
、149
Figure A20068004545300189
和206
Figure A200680045453001810
的银层。在另一个实施方案中，组合厚度为约492埃。例如，在一些情况中，第一、第二和第三红外反射膜区域100、200、300为厚度分别为128、157
Figure A200680045453001812
和207
Figure A200680045453001813
的银层。
某些实施方案提供了第二和第三红外反射膜区域(均可以任选地为层，例如不连续的银层)，组合厚度为至少325
Figure A200680045453001814
、至少335
Figure A200680045453001815
、至少340
Figure A200680045453001816
、至少350
Figure A200680045453001817
，或者甚至至少355
Figure A200680045453001818
。在一些实施方案中，该组合厚度为355-395
Figure A200680045453001819
。这里，相对较大量的反射膜(例如银)集中在涂层的外部，其目的是大幅降低辐射率，同时便于形成特别良好的颜色、可见光透射和可见光反射性能。另外地或者可选地，至少一个红外反射膜区域可以比至少一个其它红外反射膜区域厚至少50
Figure A200680045453001820
、至少75
Figure A200680045453001821
，或者至少80
Figure A200680045453001822
。在具有这种性质的一些优选实施方案中，第三红外反射膜区域比第一红外反射膜区域厚，相比厚的量为上述量中的一个或多个。
一些实施方案提供了第二红外反射膜区域比第一红外反射膜区域厚至少10
Figure A200680045453001823
、至少20、至少25
Figure A200680045453001825
，或者甚至至少30的设置。另外地或者可选地，第三红外反射膜区域可以比第二红外反射膜区域厚至少25
Figure A200680045453001827
、至少35
Figure A200680045453001828
、至少40
Figure A200680045453001829
，或者至少50
Figure A200680045453001830
一组实施方案提供了具有低辐射涂层7的涂覆的基底(例如涂覆的玻璃，如窗玻璃，任选地具有至少1米、或者至少1.2米的主要尺寸)，该低辐射涂层7包含组合厚度在420
Figure A200680045453001831
和575
Figure A200680045453001832
之间的三个红外反射膜区域100、200、300，任选地金属/介电质比在一个或多个上述范围内。
下面进一步详细描述红外反射膜区域100、200、300。简言之，一些优选实施方案以银层的形式提供了这些膜区域，各银层包含(或主要组成为)银，这三层任选地为涂层中仅有的银层。这三个含银层的厚度可以任选地均在约50
Figure A20068004545300191
到约300
Figure A20068004545300192
之间。但是，优选地，它们的厚度均在约100
Figure A20068004545300193
和约250
Figure A20068004545300194
之间。在一个这种具体的实施方案中，基底12为主要尺寸至少为1米(或者至少1.2米)的玻璃板，且该玻璃板为包括至少一个其它玻璃板的多板隔热玻璃单元的一部分，其中多板单元具有玻璃间空间1500，该空间可以任选地抽真空、填充空气、或填充空气和绝缘气体(例如氩气)。
对于四个透明介电膜区域20、40、60、80，在某些实施方案中，这些膜区域的总物理厚度均在约50-约900
Figure A20068004545300195
之间，也许更优选约100-约800之间。下面更详细地描述这些介电膜区域。
第一透明介电膜区域20施加在基底12的主表面18上(有时直接在其上)。该膜区域20可以具有包括至少一些(或者任选地主要组成为)透明介电膜的任何组分。在一些情况中，第一透明介电膜区域20是单层。在其它情况中，它包含多个层。如美国专利No.5,296,302(其中关于可用的介电材料的教导并入本申请中作为参考)所述，为此目的的可用的介电膜材料包括锌、锡、铟、铋、钛、铪、锆的氧化物以及它们的合金。也可以使用包含氮化硅和/或氧氮化硅的膜。膜区域20可以任选地包括一个或多个吸收介电质和/或金属膜，用来比如控制阴影、颜色或其它光学性能。
第一透明介电膜区域20可以是单一介电材料的单层。如果使用单层，通常优选此内部介电层由氧化锌和氧化锡(例如在下面的表1中，指“Zn+O”)的混合物形成。但是，应该理解，这种单层可以由两层或多层不同的介电材料代替。在某些实施方案中，第一透明介电膜区域20包含有坡度的膜厚度，膜的组成随着离基底12距离的增大而变化(例如，以渐进的方式)。
在一些具体的实施方案中，第一透明介电膜区域20包含折射率为1.7或更大的膜(任选地包含氧化锌，例如氧化锌锡)。例如，在第一红外反射膜区域100和基底12的表面18之间，可以有利地提供折射率为1.7或更大的理想总厚度的膜。在一些情况中，该理想总厚度小于195埃、小于190埃、小于1 75埃、小于165埃、小于145埃，或者甚至小于140埃。
再次参考图4，第一红外反射膜区域以标记数字100来标识。该膜区域100优选地与第一透明介电膜区域20的外面相连接，即直接物理接触。可以使用任何合适的红外反射材料。银、金和铜，以及它们的合金都是最常用的红外反射膜材料。优选地，红外反射膜主要由银组成，或者由银与不超过约5％的另一种金属组合组成，例如另一种金属选自金、铂和钯。但是，并不要求如此。
在施加随后的膜和/或任何热处理(例如回火)期间需要保护红外反射膜时，第一隔离膜区域105可以任选地设置在第一红外反射膜区域100之上并相连接。可以提供该隔离膜区域105来保护下面的红外反射膜区域100不受化学侵蚀。在这种情况中，可以使用任何材料，例如容易氧化的材料。在某些实施方案中，施加钛金属薄层，在一些情况中(例如其中氧化物膜反应地直接沉积在这种隔离膜区域上的情况)，在沉积上面的膜时至少最外层的钛金属转变为具有不同化学计量的氧化钛。在另一个实施方案中，隔离膜区域105以铌层沉积。包含铌的可用的隔离层在PCT国际公开No.WO97/48649中有详细讨论。该PCT公开中有关隔离层的教导并入本申请中作为参考。在其它实施方案中，隔离膜区域105可以包含选自镍、铬、锌、锡、铝、铟和锆的材料。
任选的隔离膜区域的示例厚度一般在3-35
Figure A20068004545300201
或3-25的范围内，例如3-18
Figure A20068004545300203
。但是，如果需要，任何隔离膜区域可以使用较大的厚度。
在一些实施方案中，高透射隔离层材料(例如介电材料)用于一层或多层(任选各层)隔离膜区域105、205、305。所使用的材料例如可以为氧化物、氮化物或者氧氮化物。该材料可以有利地在惰性气氛、氮化气氛或者在微氧化气氛中由陶瓷靶溅射。在一些实施方案中，使用不足化学计量的可溅射靶材。例如，靶材可以任选地包含不足化学计量的氧化钛TiOx，其中x小于2。可选地，可以使用ZnAlO靶。在其它的实施方案中，使用包含钛、硅和氧的陶瓷靶。如果需要，可以直接在红外反射膜上施加非常薄的金属膜(例如小于25
Figure A20068004545300204
、小于20
Figure A20068004545300205
、小于15
Figure A20068004545300206
、小于10
Figure A20068004545300207
、小于9
Figure A20068004545300208
，或者甚至小于8
Figure A20068004545300209
)，且可以直接在该薄金属膜上施加介电隔离膜区域(任选地具有小于50
Figure A200680045453002010
、小于40
Figure A200680045453002011
、小于30
Figure A200680045453002012
、小于25、小于20
Figure A200680045453002014
，或者甚至小于15
Figure A200680045453002015
的厚度)。例如，当提供非常薄的金属膜时，非常薄的金属膜可以以包含钛、铌、镍、铬、镍-铬、锌、锡、锌-锡、铝、铟、锆、或者组合包括至少一种这些材料与一种或多种其它金属材料的金属膜。在一些实施方案中，该薄金属膜理想地在惰性气氛中沉积，且介电隔离膜区域可以在惰性或反应性气氛中沉积。例如，当使用溅射时，可以在惰性或微反应性气氛中溅射陶瓷靶，或者可以在反应性气氛中溅射金属靶。
在一个具体实施方案组中，涂层7包含三个红外反射膜区域，在其中至少一个上面(并且任选在各隔离膜区域之上)直接提供隔离膜区域，该隔离膜区域以非金属形式沉积(例如选自氧化物、氮化物和氧氮化物，包括它们的不足化学计量形式的非金属材料)。在这组实施方案中，每个这种隔离膜区域的厚度可以在这里所述的任一个范围内，比如小于50
Figure A20068004545300211
。相关的方法实施方案包括在以废金属膜沉积一个或多个阻隔膜区域的方法中，沉积这里公开的任何涂层实施方案。
在某些实施方案中，第一隔离膜区域105具有特别小的厚度，例如小于25
Figure A20068004545300212
、小于20
Figure A20068004545300213
、小于15
Figure A20068004545300214
、小于10
Figure A20068004545300215
、小于7、小于6
Figure A20068004545300217
，或者甚至小于5
Figure A20068004545300218
。尽管图4中未显示出，但隔离膜区域也可以任选地设置在第一红外反射膜区域100的下面。
第二透明介电膜区域40位于第一红外反射膜区域100和第二红外反射膜区域200之间(这两个膜区域100、200之间的区域100、200这里称为“第一腔”)。因此，膜区域40也可以称作“间隔”膜区域，其位于第一腔中。该第一间隔膜区域40可以为单一透明介电材料的单层，或者可以为不同透明介电材料的多层。在一些情况中，第二透明介电膜区域40包含至少三个透明介电层。任选地，有至少五个、或者至少七个这种层。作为使用一个或多个不连续的层的替代方式，部分或全部第二透明介电膜区域40可以具有渐次变化的组成(任选地特征为，随着离基底的距离的增大，从一个透明介电材料逐渐转变至另一个透明介电材料)。膜区域40可以任选地包括一个或多个吸收介电质和或金属膜，比如用来控制阴影、颜色或其它光学性能。
下面说明的膜区域是第二红外反射膜区域200。该膜区域200优选地与第二透明介电膜区域40的外面相连接。可以使用任何合适的红外反射材料，例如银、金和铜，或者包括这些金属中的一种或多种的合金。在一些具体的实施方案中，红外反射膜主要由银组成，或由银与不超过约5％的另一种金属组合组成，例如另一种金属选自金、铂和钯。
当需要保护第二红外反射膜区域200时，第二隔离膜区域205可以任选地设置在第二红外反射膜区域200之上并相连接。该隔离膜区域205可以包含例如容易氧化的任何材料。在某些实施方案中，施加钛金属薄层，并且在一些情况中(例如其中氧化物膜反应地直接沉积在该隔离膜区域205上的情况)，在沉积上面的膜时至少最外层的钛金属转变为具有不同化学计量的氧化钛。在其它情况中，隔离膜区域205可以包含选自镍、铬、锌、锡、铝、铟和锆的材料。在另一个实施方案中，隔离膜区域205以铌，或上述非金属隔离膜材料的一种的层沉积。例如，隔离膜区域205可以任选地包含上述设置：非常薄的金属膜直接位于膜区域200上；介电膜直接位于该非常薄的金属膜上。可选地，介电膜可以直接沉积在膜区域200上。
任选的第二隔离膜区域205的合适厚度一般在3-35
Figure A20068004545300221
、3-25、或者3-18
Figure A20068004545300223
。如果需要，可以使用较大的厚度。在某些实施方案中，第二隔离膜区域205具有特别小的厚度，例如小于25
Figure A20068004545300224
、小于20、小于15
Figure A20068004545300226
、小于10
Figure A20068004545300227
小于7、小于6
Figure A20068004545300229
，或者甚至小于5
Figure A200680045453002210
。尽管图4中未显示出，但隔离膜区域也可以任选地设置在第二红外反射膜区域的下面。
第三透明介电膜区域60位于第二红外反射膜区域200和第三红外反射膜区域300之间。该透明介电膜区域60也是间隔膜区域(它位于“第二腔”内)，并可以称为第二间隔膜区域。第三透明介电膜区域60可以为单一透明介电材料的单层，或者可以为不同透明介电材料的多层。在一些情况中，第三透明介电膜区域60包含至少三个透明介电层。任选地，有至少五个、或者至少七个这种层。作为一个或多个不连续层的替代方式，部分或全部第三透明介电膜区域60可以具有渐次变化的组成。膜区域60可以任选地包括一个或多个吸收介电质和/或金属膜，比如用来控制阴影、颜色或其它光学性能。
下面说明的膜区域为第三红外反射膜区域300。该膜区域300优选与第三透明介电膜区域60的外面相连接。可以使用任何合适的红外反射材料(例如银、金、铜，或者包括这些金属中的一种或多种的合金)。在一些具体的实施方案中，第三红外反射膜区域300主要由银组成，或由银与不超过约5％的另一种金属的组合组成，例如另一种金属选自金、铂和钯。
当需要保护第三红外反射膜区域300时，第三隔离膜区域305可以任选地设置在第三红外反射膜区域300之上并相连接。该隔离膜区域305可以包含例如容易氧化的任何材料。在某些实施方案中，施加钛金属薄层，并且在有些情况中(例如其中氧化物膜反应地直接沉积在这种隔离膜区域305上的情况)，在沉积上面的膜时至少最外层的钛金属转变为具有不同化学计量的氧化钛。在其它情况中，隔离膜区域305可以包含选自镍、铬、锌、锡、铝、铟和锆的材料。在另一个实施方案中，隔离膜区域305以铌，或上述非金属隔离膜材料的一种的层沉积。例如，隔离膜区域305可以任选地包含上述设置：非常薄的金属膜直接位于膜区域300上；介电膜直接位于该非常薄的金属膜上。可选地，介电膜可以直接沉积在膜区域300上。
任选的第三隔离膜区域305的合适厚度一般为3-35
Figure A20068004545300231
、3-25、或者3-18
Figure A20068004545300233
。如果需要，可是使用较大的厚度。在某些实施方案中，第三隔离膜区域305具有特别小的厚度，例如小于25
Figure A20068004545300234
、小于20
Figure A20068004545300235
、小于15、小于10
Figure A20068004545300237
小于7
Figure A20068004545300238
、小于6
Figure A20068004545300239
，或者甚至小于5
Figure A200680045453002310
。尽管图4中未显示出，但隔离膜区域也可以任选地设置在第三红外反射膜区域300的下面。
在某些实施方案中提供大量隔离膜区域的情况下，可以有利地使用一个或多个厚度极小的隔离膜区域。因此，在一些实施方案中，直接在至少一个红外反射膜区域之上提供厚度小于20
Figure A200680045453002311
、小于15
Figure A200680045453002312
、小于7
Figure A200680045453002313
、小于6，或者甚至小于5
Figure A200680045453002315
的隔离膜区域。此外，在一些实施方案中，涂层7包括三个隔离膜区域105、205、305，并且所有这三层隔离膜区域的组合厚度小于60
Figure A200680045453002316
、小于45
Figure A200680045453002317
、小于30
Figure A200680045453002318
、小于25
Figure A200680045453002319
、小于20、小于18
Figure A200680045453002321
，或者甚至小于15
Figure A200680045453002322
此外，某些实施方案提供了三个红外反射膜区域的组合厚度高(例如这里提到的任何组合厚度范围)，并且具有上述介电质或薄金属/介电质型的一个或多个(例如三个)隔离膜区域105、205、305的涂层。这些实施方案提供了良好的热绝缘性能和高可见光透射的优异组合。
第四透明介电膜区域80(其可以为外涂层，但不是必要)比第三红外反射膜区域300距离基底12更远。在一些实施方案中，但不是全部，该膜区域80限定了涂层的最外面77(该面可以任选地暴露在外，即不被任何其它膜或基底覆盖)。第四透明介电膜区域80可以为单一透明介电材料的单层，或者可以为不同透明介电材料的多层。在一些情况中，第四透明介电膜区域80包含至少三个透明介电层。任选地，有至少五个、或者至少七个这种层。作为使用一个或多个不连续层的替代方式，部分或全部第四透明介电膜区域80可以具有渐次变化的组成。膜区域80可以任选地包括一个或多个吸收介电质和/或金属膜，比如用来控制阴影、颜色或其它光学性能。
因此，可以理解本发明的涂层7理想地包括至少四个透明介电膜区域20、40、60、80。在一些实施方案中，涂层7包含一个或多个、两个或更多，或者三个或更多氮化物或氧氮化物膜，例如至少一个、至少两个，或者甚至至少三个包含氮化硅和/或氧氮化硅的膜。在一些这种实施方案中，涂层7包括至少一个厚度小于150埃、小于140埃，或者甚至小于125埃(这种用法一般指大于0)的氮化物或氧氮化物膜(任选地包含氮化硅和/或氧氮化硅)，和至少一个厚度大于50埃、大于75埃、大于100埃、大于150埃、或者甚至大于175埃的其它氮化物或氧氮化物膜(任选地含有氮化硅和/或氧氮化硅)。在一些情况中，后面提到的膜位于第一红外反射膜区域100和第二红外反射膜区域200之间，或者位于第二红外反射膜区域200和第三红外反射膜区域300之间。即，它形成间隔膜区域中的一个，或者是间隔膜区域中的一个的一部分。理想地，涂层7的最外层膜包含氮化硅，如下面详细描述的示例方法所述。
可以改变本发明涂层7的总厚度以适合不同应用的要求。在某些优选的实施方案中，涂层7的总物理厚度大于1750埃、大于1800埃、大于1900埃、或者甚至大于2000埃。对于该申请书中公开的任何实施方案，涂层的总厚度可以任选地落入本段中说明的任何一个或多个范围内。
在一个具体的实施方案组中，第三红外反射膜区域300的厚度大于第二红外反射膜区域200的厚度，且第二红外反射膜区域200的厚度大于第一红外反射膜区域100的厚度。这组实施方案在提供优良的反射色彩性能方面是有利的。在这些实施方案的一个分组中，第一红外反射膜区域100、第二红外反射膜区域200和第三红外反射膜区域300各包含(或者主要组成为)银。任选地，涂层7的金属/介电质比在上述一个或多个范围内。
对于本申请文件，第一反射区域比例定义为第一红外反射膜区域100的厚度与第二红外反射膜区域200的厚度的比例，且第二反射区域比例定义为第二红外反射膜区域200的厚度与第三红外反射膜区域300的厚度的比例。在一些具体的实施方案中，第一和第二反射区域比例中的至少一个小于0.85、小于0.83、或者甚至小于0.80。任选地，第一和第二反射区域比例都小于0.83，例如分别为约0.819和0.723。
在该组的一些实施方案中，红外反射膜区域100、200、300中至少一个的厚度大于150
Figure A20068004545300251
、大于175
Figure A20068004545300252
、或者甚至大于200。另外地或者可选地，第一、第二和第三红外反射膜区域的组合厚度可以任选地大于425
Figure A20068004545300254
、大于450
Figure A20068004545300255
、大于460
Figure A20068004545300256
、大于475
Figure A20068004545300257
、或者甚至大于485
Figure A20068004545300258
。在某些实施方案中，盖组合厚度为约477
Figure A20068004545300259
。比如，在一些情况中，第一、第二和第三红外反射膜区域100、200、300为厚度分别为122、149
Figure A200680045453002511
和206
Figure A200680045453002512
的银层。在其它实施方案中，组合厚度为约499
Figure A200680045453002513
。比如，在一些情况中，第一、第二和第三红外反射膜区域100、200、300为厚度分别为128
Figure A200680045453002514
、157和207
Figure A200680045453002516
的银层。
在该组的一些实施方案中，第一介电膜区域20包含折射率为1.7或更大的膜(任选地包含氧化锌，例如氧化锌锡)。例如，在第一红外反射膜区域100和基底12的表面18之间，可以有利地提供折射率为1.7或更大的膜的理想的总厚度。在某些实施方案中，理想的总厚度小于195埃、小于190埃、小于175埃、小于165埃、小于145埃、或者甚至小于140埃。
对于本公开来说，主要介电区域比例(primary dielectric-region ratio)定义为第一透明介电膜区域20的厚度与第四透明介电膜区域80的厚度的比例。该比例可以有利地低于0.75、或者甚至低于0.6，而同时任选地大于0.34、大于0.35、大于0.37、或者甚至大于0.40。在一个示例的实施方案中，该比例为约0.47。可以任选地采用这些范围中任何一个或多个内的主要介电区域比例，用于该组的任何实施方案，或者本申请文件所公开的任何其它实施方案(例如，与所述金属/介电质比的任选范围组合)。
本发明的某些实施方案提供了第一透明介电膜区域20(它可以为基层涂层，即最靠近基底的介电膜区域)和第四透明介电膜区域80(它可以是外涂层)的组合厚度除以第二与第三透明介电膜区域40、60(可以分别是第一和第二间隔层)的组合厚度的特别的比。在这些实施方案中，该比例优选大于约0.43，大于约0.45，或者甚至大于约0.475。已经发现具有这种介电质厚度布置的涂层便于形成优异的性能，包括良好的色彩、高的可见光透射等，甚至当使用大量红外反射膜时也如此。
下面的表1显示了可有利地用作高红外反射涂层7的一个示例膜层叠体：
表1
Figure A20068004545300261
下面的表2显示了可有利地用作高红外反射涂层7的另外三个示例的膜层叠体：
表2
Figure A20068004545300262
下面的表3显示了可以使用的另一个示例的膜层叠体(也许作为可回火的涂层)作为本发明的涂层7。这里，涂层代表了一类实施方案，其中，直接在基底上提供了包含二氧化硅的膜的至少约50埃(例如约100
Figure A20068004545300263
)的三层银涂层。
表3
Figure A20068004545300271
下面的表4显示了可以使用的另一个示例的膜层叠体(也许作为可回火的涂层)作为本发明的涂层7：
表4
Figure A20068004545300272
表4代表了一类实施方案，该实施方案中，低辐射涂层包括组合厚度至少约525埃的三个红外反射膜。另外，在这种实施方案中最外的两层红外反射膜的组合厚度任选地至少为约385埃。
本发明包括制备涂覆的基底(例如涂覆的玻璃板)的方法。本发明提供的方法包括用任何一种或多种薄膜沉积技术，将这里公开的任何实施方案的层按顺序沉积。根据本发明的方法，提供了具有表面(例如，主表面)18的基底12。如果需要，该表面18可以通过适当的洗涤或化学制备来制成。本发明的涂层7沉积在基底12的表面18，例如作为一系列不连续的层、作为厚度有坡度的膜、或者作为包括至少一个不连续的层和至少一个厚度有坡度的膜的组合。可以使用任何合适的薄膜沉积技术来沉积涂层。一种优选的方法利用工业中常用的DC磁控溅射。参考Chapin′s的美国专利No.4,166,018，其教导并入本申请中作为参考。
简言之，磁控溅射包括将基底输送通过一系列低压区(或“室”或“隔间”)基底，其中，顺序地施加构成涂层的各个膜区域。通常在惰性气氛(如氩气)中从金属源或“靶”溅射金属膜。为了沉积透明介电膜，所述靶可由电介质本身(例如氧化锌或氧化钛)形成。更一般地，通过在反应性气氛中溅射金属靶来施加介电膜。例如，为了沉积氧化锌，可以在氧化气氛中溅射锌靶；通过在含有氮气的反应性气氛中溅射硅靶(其可以掺杂铝等以改善导电性)来沉积氮化硅。可以通过改变基底的速度和/或改变靶上的功率来控制沉积膜的厚度。
在基底上沉积薄膜的另一种方法包括等离子体化学汽相沉积。参考美国专利No.4,619,729(Johncock等)和美国专利No.4,737,379(Hudgens等)，这两个文献均并入本申请中作为参考。这种等离子体化学汽相沉积包括通过等离子体来分解气相源，接着在固体表面(例如玻璃基底)上形成膜。可以通过改变基底通过等离子体区时基底的速度，和/或改变功率和/或各区域内的气流速度来调整膜的厚度。
现在参考图6，该图中描述了根据本发明的某些实施方案沉积高红外反射涂层7的示例方法。图6中示意地显示的涂布机用于沉积涂层7，该涂层7从主表面18向外顺序包括：包含氧化锌锡的第一透明介电膜区域20、包含银的第一红外反射膜区域100、包含钛的第一隔离膜区域105、包含氧化锌锡的第二透明介电膜区域40、包含银的第二红外反射膜区域200、包含钛的第二隔离膜区域205、包含氧化锌锡的第三透明介电膜区域60、包含银的第三红外反射膜区域300、包含钛的第三隔离膜区域305和第四透明介电膜区域80，该膜区域80包括在包含氧化锌锡的层上包含氮化硅的最外层。
继续参考图6，将基底12置于涂布机的起始点，并传送至第一涂覆区CZ1(例如，沿着输送辊10来传送基底)。该涂覆区CZ1具有三个溅射室(或“隔间”)，C1至C3，它们共同用于沉积包含氧化锌锡的第一透明介电膜区域20。所有这三个隔间都具有包含锌和锡的混合物的溅射靶。图中所示每个隔间都有两个圆柱形溅射靶，但数量和类型(例如圆柱与平面)可以按需要来改变。这些前面的六个靶在氧化气氛中溅射，以沉积形式为包含锌和锡的氧化物膜的第一透明介电膜区域20。这里的氧化气氛可以主要由压力为约4×10-3mbar的氧(例如约100％的O2)组成。可选地，该气氛可以包含氩气和氧气。参考下面的表4，将约36.7kW的功率施加于前面的两个靶，将约34.6kW的功率施加于接着的两个靶，并将35.5kW的功率施加于最后的两个靶。基底12在这六个靶下面以约310英寸每分钟的速率传送，同时在所述的功率水平下溅射各靶，从而沉积形式为包含锌和锡的氧化物膜，且厚度为约159埃的第一透明介电膜区域20。
然后将基底12传送到第二涂覆区CZ2，其中，第一红外反射膜区域100直接施加在第一透明介电膜区域20之上。第二涂覆区CZ2具有惰性气氛(例如压力约为4×10-3mbar的氩气)。该涂覆区CZ2的活性溅射隔间C4和C5各具有平面靶，但靶的数量和类型可以改变。隔间C4中的靶是金属银靶，而隔间C5中的靶是金属钛靶。基底在银靶下面以约310英寸每分钟的速率传送，同时在约7.1kW的功率下溅射该靶，从而沉积形式为厚度约为122埃的银膜的第一红外反射膜区域20。然后将基底在隔间C5中的钛靶下面传送，同时在约7.8kW的功率下溅射该靶，从而沉积形式为包含钛的膜，并且厚度为约20埃的第一隔离膜区域105。
然后将基底12传送通过第三涂覆区CZ3、第四涂覆区CZ4和第五涂覆区CZ5，在这些区中，施加了形式为包含锌和锡的氧化物膜的第二透明介电膜区域40。第三涂覆区CZ3和第四涂覆区CZ4各具有三个活性溅射隔间。第五涂覆区CZ5具有两个活性溅射隔间(可以有不用的隔间和/或涂覆区)。在C6-C13的各隔间中，安装了各包含(即包括的可溅射的靶材包含)锌和锡的混合物的两个圆柱形靶。这些C6-C13的各隔间具有氧化气氛。例如，第三涂覆区CZ3、第四涂覆区CZ4和第五涂覆区CZ5中的氧化气氛可以各自主要由压力为约4×10-3mbar的氧气(例如约100％的O2)组成。可选地，这些气氛中的一种或多种可以包含氩气和氧气。
如下面的表4所示，将约50.2kW的功率施加于第三涂覆区CZ3中的前面的两个靶，将约45.1kW的功率施加于该涂覆区CZ3中的接着的两个靶，并将约49.5kW的功率施加于该区CZ3中的最后的两个靶。此处，将约53.1kW的功率施加于第四涂覆区CZ4中的前面的两个靶，将约47.7kW的功率施加于该涂覆区CZ4中的接着的两个靶，并将约44.8kW的功率施加于该区CZ4中的最后的两个靶。此外，将约49.0kW的功率施加于第五涂覆区CZ5中的前面的两个靶，并将约45.6kW的功率施加于该涂覆区CZ5中的接着的两个靶。基底12在涂覆区3-5(即由CZ3至CZ5)中所有所述的靶下面传送，同时以约310英寸每分钟的速率传送该基底并在所述的功率水平下溅射各靶，从而施加形式为包含锌和锡的氧化物膜，且厚度为约562埃的第二透明介电膜区域40。
然后将基底12传送到第六涂覆区CZ6，其中，第二红外反射膜区域200直接施加在第二透明介电膜区域40之上。第六涂覆区CZ6具有惰性气氛(例如压力为约4×10-3mbar的氩气)。该涂覆区CZ6中的溅射隔间C14和C15各具有平面靶。隔间C14中的靶是金属银靶，而隔间C15中的靶是金属钛靶。对银靶施加约8.9kW的功率，同时将基底在该靶下面以约310英寸每分钟的速率传送，以沉积厚度约149埃的金属银膜的第二红外反射膜区域200。然后将基底在隔间C15中的金属钛靶下面传送(以相同的速度)，对该靶施加约8.1kW的功率，以沉积包含钛并且厚度为约20埃的第二隔离膜区域205。
然后将基底12传送通过第七涂覆区CZ7、第八涂覆区CZ8和第九涂覆区CZ9，在其中一起施加了第三透明介电膜区域60。这些涂覆区各具有三个溅射隔间，并且各隔间具有两个圆柱形靶(隔间C16至隔间C18在CZ7中，隔间C19至C21在CZ8中，且隔间C22至C24在CZ9中)。这里的靶都包含可溅射材料，其为锌和锡的混合物。这些涂覆区中每一个都具有主要由氧气组成的氧化气氛(例如压力为约4×10-3mbar的约100％的O2)。可选地，该气氛可以包含氩气和氧气。
将约50.3kW的功率施加于第七涂覆区CZ7中的前面的两个靶，将约45.5kW的功率施加于该涂覆区CZ7中的接着的两个靶，并将约48.9kW的功率施加于该区CZ7中的最后的两个靶。将约52.5kW的功率施加于第八涂覆区CZ8中的前面的两个靶，同时将约48.2kW的功率施加于该涂覆区CZ8中的接着的两个靶，并将约44.7kW的功率施加于该区CZ8中的最后的两个靶。将约49.0kW的功率施加于第九涂覆区CZ9中的前面的两个靶，同时将约45.5kW的功率施加于该涂覆区CZ9中的接着的两个靶，并将约47.8kW的功率施加于该区CZ9中的最后的两个靶。基底12在所有这些靶下面(即，在CZ7至CZ9中的所有靶下面)以约310英寸每分钟的速率传送，同时在所述的功率水平下溅射各靶，从而施加形式为包含锌和锡的氧化物膜，且厚度为约655埃的第三透明介电膜区域60。
然后将基底12传送到施加第三红外反射膜区域300的第十涂覆区CZ10。该涂覆区CZ10含有惰性气氛(例如压力为约4×10-3mbar的氩气)。该涂覆区CZ10中的活性隔间C25和C26各具有平面靶。隔间C25中的靶是金属银靶，而隔间C26中的靶是金属钛靶。对银靶施加约12.6kW的功率，同时该基底在该靶下面以约310英寸每分钟的速率传送，从而沉积厚度约为206埃的银膜的第三红外反射膜区域300。然后将基底在室C26中的钛靶下面传送，同时在约8.1kW的功率水平下溅射该靶，从而沉积形式为包含钛的膜，并且厚度为约20埃的第三隔离膜区域305。
然后将基底12传送通过第十一涂覆区CZ11、第十二涂覆区CZ12和第十三涂覆区CZ13，在其中一起沉积了第四透明介电膜区域80的内部。第十一涂覆区CZ11具有各有两个圆柱形靶的三个溅射隔间(隔间C27至隔间C29在CZ11中)。第十二涂覆区CZ12仅有一个活性溅射隔间C30，并且该隔间C30具有两个圆柱形靶。第十三涂覆区CZ13具有三个溅射隔间，并且各隔间具有两个圆柱形靶(隔间C31至C33在CZ13中)。在涂覆区CZ11至CZ13中所述的各个靶包含可溅射的靶材，其为锌和锡的混合物。涂覆区CZ11至CZ13各具有主要由氧组成的氧化气氛(例如压力为约4×10-3mbar的约100％的O2)。可选地，这些气氛中的一种或多种可以包含氩气和氧气。
将约17.9kW的功率施加于第十一涂覆区CZ11中的前面的两个靶，将约21.1kW的功率施加于该涂覆区CZ11中的接着的两个靶，并将约19.6kW的功率施加于该区CZ11中的最后的两个靶。将约20.1kW的功率施加于第十二涂覆区CZ12中的两个靶。将约21.5kW的功率施加于第十三涂覆区CZ13中的前面的两个靶，将约19.4kW的功率施加于该第十三涂覆区CZ13中的接着的两个靶，并将约19.3kW的功率施加于该区CZ13中的最后的两个靶。基底12在CZ11至CZ13中所有所述的靶下面以约310英寸每分钟的速率传送，同时在所述的功率水平下溅射各靶，从而以包含锌和锡，且厚度为约236埃的氧化物膜来施加第四透明介电膜区域80的内部。
最后，基底12传送至第十四涂覆区CZ14，在其中施加了第四透明介电膜区域80的最外部。该涂覆区CZ14具有三个溅射隔间C34-C36，各含有氮气气氛，任选地具有一些氩气，压力为约4×10-3mbar。该涂覆区CZ14中的隔间C34至C36各具有两个圆柱形靶。这些靶各包含具有少量铝的硅的可溅射靶材。将约31.9kW的功率施加于第十四涂覆区CZ14中的前面的两个靶，将约34.0kW的功率施加于该区CZ14中的接着的两个靶，并将约37.4kW的功率施加于该区CZ14中的最后的两个靶。基底12在CZ14中的所有靶下面以约310英寸每分钟的速率传送，同时在所述的功率水平下溅射各靶，从而以包含硅和少量铝，且厚度为约101埃的氮化物膜来施加第四透明介电膜区域80的最外部。
表5
  隔间   功率(kW)   隔间   功率(kW)   隔间   功率(kW)   隔间   功率(kW)
  C1   36.7   C11   44.8   C21   44.7   C31   21.5
  C2   34.6   C12   49   C22   49   C32   19.4
  C3   35.5   C13   45.6   C23   45.5   C33   19.3
  C4   7.1   C14   8.9   C24   47.8   C34   31.9
  C5   7.8   C15   8.1   C25   12.6   C35   34
  C6   50.2   C16   50.3   C26   8.1   C36   37.4
  C7   45.1   C17   45.5   C27   17.9
  C8   49.5   C18   48.9   C28   21.1
  C9   53.1   C19   52.5   C29   19.6
  C10   47.7   C20   48.2   C30   20.1
图5示意地图示了具有根据本发明某些实施方案的多腔低辐射涂层的多板隔热玻璃单元。这里，多腔低辐射涂层7在IG单元3的#2表面上，且#1表面暴露到外部环境。这里的IG单元包括通过两层密封剂1700、1800的沉积粘在两层玻璃12、12′之间的间隔层130。间隔层可选地为窗框、框架等的组成部分。此外，可选地可以使用密封剂的单沉积(single deposit)。在这种实施方案中，IG单元优选设置在将IG单元保持在所示/所述的构造中的窗框和/或框架上。
尽管描述了本发明的一些优选的实施方案，但应该理解在不背离本发明的精神以及所附的权利要求书的范围的情况下可以在本发明中作出各种改变、适应和修改。

Claims (35)

1、具有两个通常为相对的主表面的透明基底，其中在所述主表面中所希望的一个上设置有多腔低辐射涂层，从所述所希望的主表面向外，该涂层依次包含：
a)第一透明介电膜区域；
b)第一红外反射膜区域；
c)第二透明介电膜区域；
d)第二红外反射膜区域；
e)第三透明介电膜区域；
f)第三红外反射膜区域；
g)第四透明介电膜区域；
其中，所述涂层的金属/介电质比至少为0.22，所述金属/介电质比定义为第一、第二和第三红外反射膜区域的组合厚度除以第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的组合厚度。
2、权利要求1的透明基底，其中所述金属/介电质比至少为0.25。
3、权利要求2的透明基底，其中所述金属/介电质比至少为0.27。
4、权利要求1的透明基底，其中所述三个红外反射膜区域的组合厚度大于470埃。
5、权利要求4的透明基底，其中所述透明基底为包括其它玻璃的多板隔热玻璃单元的一部分，其中所述隔热玻璃单元具有至少一个玻璃间空间，所述所希望的主表面暴露于隔热玻璃单元的玻璃间空间，所述隔热玻璃单元的可见光透射率为0.65或更大。
6、权利要求5的透明基底，其中所述可见光透射率为0.66或更大。
7、权利要求4的透明基底，其中所述透明基底为包括其它玻璃的多板隔热玻璃单元的一部分，其中所述隔热玻璃单元具有至少一个玻璃间空间，所述所希望的主表面暴露于该隔热玻璃单元的玻璃间空间，所述隔热玻璃单元的外部反射颜色的特征为ah颜色坐标在约+1.5至约-2之间，且bh颜色坐标在约0至约-3之间。
8、权利要求1的透明基底，其中所述透明基底为包括其它玻璃的多板隔热玻璃单元的一部分，其中所述隔热玻璃单元具有至少一个玻璃间空间，所述所希望的主表面暴露于所述隔热玻璃单元的玻璃间空间，所述隔热玻璃单元的日照得热量系数小于0.29。
9、权利要求8的透明基底，其中所述日照得热量系数小于0.28。
10、权利要求9的透明基底，其中所述日照得热量系数为0.27或更小。
11、权利要求8的透明基底，其中所述隔热玻璃单元的可见光透射率为0.65或更大。
12、权利要求11的透明基底，其中所述可见光透射率为0.66或更大。
13、权利要求8的透明基底，其中所述隔热玻璃单元的外部反射颜色的特征为ah颜色坐标在约+1.5至约-2之间，且bh颜色坐标在约0至约-3之间。
14、权利要求13的透明基底，其中所述日照得热量系数为0.27或更小。
15、具有两个通常为相对的主表面的透明基底，其中在主表面中所希望的一个上设置有多腔低辐射涂层，从所述所希望的主表面向外，该涂层依次包含：
a)第一透明介电膜区域；
b)第一红外反射膜区域；
c)第二透明介电膜区域；
d)第二红外反射膜区域；
e)第三透明介电膜区域；
f)第三红外反射膜区域；
g)第四透明介电膜区域；
其中所述涂层的金属/介电质比至少为0.25，所述金属/介电质比定义为第一、第二和第三红外反射膜区域的组合厚度除以第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的组合厚度，其中所述透明基底为包括其它玻璃的多板隔热玻璃单元的一部分，其中所述隔热玻璃单元具有至少一个玻璃间空间，所述所希望的主表面暴露于所述隔热玻璃单元的玻璃间空间，所述隔热玻璃单元的外部反射颜色的特征为ah颜色坐标在约+1.5至约-2之间，且bh颜色坐标在约0至约-3之间。
16、权利要求15的透明基底，其中所述三个红外反射膜区域的组合厚度大于470埃。
17、权利要求16的透明基底，其中所述隔热玻璃单元的可见光透射率为0.65或更大。
18、权利要求17的透明基底，其中所述可见光透射率为0.66或更大。
19、权利要求15的透明基底，其中所述隔热玻璃单元的外部反射颜色的特征为ah颜色坐标在约+1至约-1之间，且bh颜色坐标在约-0.5至约-2.5之间。
20、权利要求17的透明基底，其中所述三个红外反射膜区域的组合厚度大于485埃。
21、具有两个通常为相对的主表面的透明基底，其中在主表面中所希望的一个上设置有多腔低辐射涂层，从所述所希望的主表面向外，该涂层依次包含：
a)第一透明介电膜区域；
b)第一红外反射膜区域；
c)第二透明介电膜区域；
d)第二红外反射膜区域；
e)第三透明介电膜区域；
f)第三红外反射膜区域；
g)第四透明介电膜区域；
其中所述涂层的金属/介电质比至少为0.25，金属/介电质比定义为第一、第二和第三红外反射膜区域的组合厚度除以第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的组合厚度，其中所述透明基底为包括其它玻璃的多板隔热玻璃单元的一部分，其中所述隔热玻璃单元具有至少一个玻璃间空间，所述所希望的主表面暴露于所述隔热玻璃单元的玻璃间空间，所述隔热玻璃单元的可见光透射率为0.65或更大。
22、权利要求21的透明基底，其中所述三个红外反射膜区域的组合厚度大于470埃，第三红外反射膜区域的厚度大于第二红外反射膜区域的厚度，且第二红外反射膜区域的厚度大于第一红外反射膜区域的厚度。
23、权利要求22的透明基底，其中所述三个红外反射膜区域的组合厚度大于485埃。
24、权利要求23的透明基底，其中所述可见光透射率为0.66或更大。
25、权利要求23的透明基底，其中所述隔热玻璃单元的外部反射颜色的特征为ah颜色坐标在约+1.5至约-2之间，且bh颜色坐标在约0至约-3之间。
26、权利要求21的透明基底，其中所述涂层的基层/外层比大于约0.45，基层/外层比定义为第一和第四透明介电膜区域的组合厚度除以第二和第三透明介电膜区域的组合厚度。
27、权利要求26的透明基底，其中所述基层/外层比大于约0.475。
28、具有两个通常为相对的主表面的玻璃板，其中在主表面中所希望的一个上设置有多腔低辐射涂层，从所述所希望的主表面向外，该涂层依次包含：
a)第一透明介电膜区域；
b)包含银的第一层；
c)第二透明介电膜区域；
d)包含银的第二层；
e)第三透明介电膜区域；
f)包含银的第三层；
g)第四透明介电膜区域；
其中所述涂层的金属/介电质比至少为0.22，金属/介电质比定义为包含银的第一、第二和第三层的组合厚度除以第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的组合厚度，其中所述玻璃板为包括其它玻璃板的多板隔热玻璃单元的一部分，其中所述所希望的主表面暴露于所述隔热玻璃单元的玻璃间空间，所述隔热玻璃单元的外部反射颜色的特征为色度值小于约1.82。
29、权利要求28的玻璃板，其中所述金属/介电质比至少为0.25。
30、权利要求28的玻璃板，其中所述包含银的第一、第二和第三层的厚度均在约75埃到约275埃之间。
31、权利要求28的玻璃板，其中所述包含银的第一、第二和第三层的厚度均在约100埃到约250埃之间。
32、权利要求28的玻璃板，其中所述第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的总物理厚度均在约50埃到约900埃之间。
33、权利要求30的玻璃板，其中所述第一、第二、第三和第四透明介电膜区域的总物理厚度均在约100埃到约800埃之间。
34、权利要求28的玻璃板，其中所述涂层仅有两个空腔，包括在包含银的所述第一和第二层之间的第一空腔和在包含银的所述第二和第三层之间的第二空腔，其中所述两个空腔的厚度均在约300埃到约850埃之间。
35、权利要求28的玻璃板，其中所述涂层仅有两个空腔，包括在包含银的所述第一和第二层之间的第一空腔和在包含银的所述第二和第三层之间的第二空腔，其中所述两个空腔的厚度均在约400埃到约750埃之间。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103492337A (zh) * 2011-02-24 2014-01-01 葛迪恩实业公司 包括低辐射涂层的涂层制品、包括涂层制品的中空玻璃装置和/或其制备方法
CN105143135A (zh) * 2013-03-12 2015-12-09 Ppg工业俄亥俄公司 具有类似的光学特性的回火和非回火玻璃涂层
CN104619669B (zh) * 2013-04-30 2017-03-22 法国圣戈班玻璃厂 设有具备热性质的叠堆的基底
US10654748B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings providing increased absorption or tint
US10654747B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with subcritical copper
US10703673B2 (en) 2010-03-29 2020-07-07 Vitro Flat Glass Llc Solar control coating with discontinuous metal layer

Families Citing this family (78)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7342716B2 (en) 2005-10-11 2008-03-11 Cardinal Cg Company Multiple cavity low-emissivity coatings
US7339728B2 (en) * 2005-10-11 2008-03-04 Cardinal Cg Company Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient
US7572511B2 (en) * 2005-10-11 2009-08-11 Cardinal Cg Company High infrared reflection coatings
US20070231553A1 (en) * 2006-03-28 2007-10-04 Cardinal Cg Company Removable protective cover
US7754336B2 (en) * 2006-06-30 2010-07-13 Cardinal Cg Company Carbon nanotube glazing technology
US20080011599A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Brabender Dennis M Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control
US7655313B2 (en) * 2007-03-15 2010-02-02 Guardian Industries Corp. Low-E coated articles and methods of making same
US8025957B2 (en) 2007-05-09 2011-09-27 Ppg Industries Ohio, Inc. Vehicle transparency
US7807248B2 (en) 2007-08-14 2010-10-05 Cardinal Cg Company Solar control low-emissivity coatings
CN101808821B (zh) * 2007-08-24 2013-11-06 Ppg工业俄亥俄公司 交通工具透明体
US8658289B2 (en) * 2007-11-16 2014-02-25 Ppg Industries Ohio, Inc. Electromagnetic radiation shielding device
DE102008054882A1 (de) * 2008-01-08 2009-07-16 Carl Zeiss Smt Ag Reparaturverfahren für optische Elemente mit Beschichtung und entsprechende optische Elemente
US8222516B2 (en) * 2008-02-20 2012-07-17 Sunpower Corporation Front contact solar cell with formed emitter
US8207444B2 (en) 2008-07-01 2012-06-26 Sunpower Corporation Front contact solar cell with formed electrically conducting layers on the front side and backside
JP2010034343A (ja) * 2008-07-30 2010-02-12 Sumitomo Chemical Co Ltd 半導体装置の製造方法および半導体装置
US7773284B2 (en) * 2008-09-30 2010-08-10 Soladigm, Inc. Resonant cavity electrochromic device
NZ592506A (en) * 2008-11-04 2013-05-31 Apogee Entpr Inc Coated glass surfaces and method for coating a glass substrate
US8242354B2 (en) * 2008-12-04 2012-08-14 Sunpower Corporation Backside contact solar cell with formed polysilicon doped regions
JP5559483B2 (ja) * 2009-03-17 2014-07-23 株式会社ブリヂストン 熱線遮蔽ガラス、及びこれを用いた複層ガラス
IT1400374B1 (it) * 2009-05-15 2013-05-31 Seves Spa Procedimento per la realizzazione di un mattone in vetro e mattone ottenuto mediante detto procedimento
DE112010003037T8 (de) * 2009-07-23 2013-06-06 Lg Hausys, Ltd. Glas mit geringem Emissionsvermögen und Verfahren zur Herstellung desselben
FR2949226B1 (fr) * 2009-08-21 2011-09-09 Saint Gobain Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques, en particulier pour realiser un vitrage chauffant.
US20110048505A1 (en) * 2009-08-27 2011-03-03 Gabriela Bunea Module Level Solution to Solar Cell Polarization Using an Encapsulant with Opened UV Transmission Curve
US9862640B2 (en) 2010-01-16 2018-01-09 Cardinal Cg Company Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
US10000965B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductive coating technology
RU2558063C2 (ru) 2010-01-16 2015-07-27 КАРДИНАЛ СиДжи КОМПАНИ Высококачественные низкоэмиссионные покрытия, низкоэмиссионные стеклопакеты и способы их изготовления
US11155493B2 (en) 2010-01-16 2021-10-26 Cardinal Cg Company Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
US10060180B2 (en) 2010-01-16 2018-08-28 Cardinal Cg Company Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology
US10000411B2 (en) 2010-01-16 2018-06-19 Cardinal Cg Company Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology
BE1019345A3 (fr) * 2010-05-25 2012-06-05 Agc Glass Europe Vitrage de controle solaire a faible facteur solaire.
US8377738B2 (en) 2010-07-01 2013-02-19 Sunpower Corporation Fabrication of solar cells with counter doping prevention
CN102372447B (zh) * 2010-08-24 2014-05-07 中国南玻集团股份有限公司 含银低辐射玻璃及其制造方法
US8790783B2 (en) 2011-03-03 2014-07-29 Guardian Industries Corp. Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same
US8679633B2 (en) 2011-03-03 2014-03-25 Guardian Industries Corp. Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same
US8679634B2 (en) 2011-03-03 2014-03-25 Guardian Industries Corp. Functional layers comprising Ni-inclusive ternary alloys and methods of making the same
US8709604B2 (en) 2011-03-03 2014-04-29 Guardian Industries Corp. Barrier layers comprising Ni-inclusive ternary alloys, coated articles including barrier layers, and methods of making the same
BE1020331A4 (fr) * 2011-11-29 2013-08-06 Agc Glass Europe Vitrage de contrôle solaire.
US10040719B2 (en) * 2012-01-17 2018-08-07 Cardinal Cg Company Low solar transmittance coatings
US20140008660A1 (en) * 2012-03-14 2014-01-09 Lightwave Photonics, Inc. Materials, structures, and methods for optical and electrical iii-nitride semiconductor devices
US9812590B2 (en) 2012-10-25 2017-11-07 Sunpower Corporation Bifacial solar cell module with backside reflector
US9035172B2 (en) 2012-11-26 2015-05-19 Sunpower Corporation Crack resistant solar cell modules
US9312406B2 (en) 2012-12-19 2016-04-12 Sunpower Corporation Hybrid emitter all back contact solar cell
US8796061B2 (en) 2012-12-21 2014-08-05 Sunpower Corporation Module assembly for thin solar cells
US9279910B2 (en) * 2013-03-13 2016-03-08 Intermolecular, Inc. Color shift of high LSG low emissivity coating after heat treatment
US9685571B2 (en) 2013-08-14 2017-06-20 Sunpower Corporation Solar cell module with high electric susceptibility layer
CN104267499B (zh) 2014-10-14 2016-08-17 福耀玻璃工业集团股份有限公司 一种抬头显示***
US9745792B2 (en) 2015-03-20 2017-08-29 Cardinal Cg Company Nickel-aluminum blocker film multiple cavity controlled transmission coating
US9469566B2 (en) 2015-03-20 2016-10-18 Cardinal Cg Company Nickel-aluminum blocker film low-emissivity coatings
US9752377B2 (en) 2015-03-20 2017-09-05 Cardinal Cg Company Nickel-aluminum blocker film controlled transmission coating
US20160354995A1 (en) * 2015-06-03 2016-12-08 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Solar control film
FR3038597B1 (fr) * 2015-07-08 2021-12-10 Saint Gobain Materiau muni d'un empilement a proprietes thermiques
EP3325420B1 (en) 2015-07-23 2020-10-14 Cardinal CG Company Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
EP3356306B1 (en) 2015-09-28 2021-06-16 Tru Vue, Inc. Near infrared reflective coated articles
US10263144B2 (en) 2015-10-16 2019-04-16 Robbie J. Jorgenson System and method for light-emitting devices on lattice-matched metal substrates
EP3371123B1 (en) 2015-11-06 2021-12-08 Cardinal CG Company Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology
US10954160B2 (en) 2015-11-30 2021-03-23 Corning Incorporated Laser welding transparent glass panes using a low emissivity coating
US9810017B2 (en) 2015-12-15 2017-11-07 Cardinal Cg Company Glazing perimeter anticondensation coating technology
US9674895B1 (en) 2015-12-15 2017-06-06 Cardinal Cg Company Glazing perimeter anticondensation coating production technology
JP6703123B2 (ja) * 2016-02-05 2020-06-03 サン−ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション 低腐食性太陽光制御積層体
KR102396179B1 (ko) 2016-04-19 2022-05-09 어포지 엔터프라이지즈, 인크. 코팅된 유리 표면 및 유리 기판을 코팅하는 방법
CA3132525A1 (en) 2016-05-26 2017-11-30 Robbie Jorgenson Group iiia nitride growth method and system
WO2018093985A1 (en) 2016-11-17 2018-05-24 Cardinal Cg Company Static-dissipative coating technology
WO2018117801A1 (es) 2016-12-20 2018-06-28 Vidrio Plano De México, S.A. De C.V. Recubrimiento de baja emisividad para un sustrato de vidrio
WO2018165645A1 (en) 2017-03-10 2018-09-13 Guardian Glass, LLC Ig window unit having triple silver coating and dielectric coating on opposite sides of glass substrate
CA3058157A1 (en) 2017-05-04 2018-11-08 Apogee Enterprises, Inc. Low emissivity coatings, glass surfaces including the same, and methods for making the same
US11340479B2 (en) 2018-05-17 2022-05-24 Cardinal Cg Company Elastomeric optical device and related operation methods
US10775649B2 (en) 2018-05-17 2020-09-15 Cardinal Cg Company Elastomeric optical device and related methods
US11028012B2 (en) 2018-10-31 2021-06-08 Cardinal Cg Company Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same
GB201820002D0 (en) * 2018-12-07 2019-01-23 Pilkington Group Ltd Coated glass pane
JP2022529602A (ja) * 2019-04-12 2022-06-23 エージーシー グラス ユーロップ Ｖｉｇ組立体用の特殊被覆ガラス
EP4078251A1 (en) * 2019-12-16 2022-10-26 AGC Glass Europe Head up display system
EP4098632A1 (en) 2020-01-10 2022-12-07 Cardinal CG Company Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods
EP4143629A1 (en) 2020-05-01 2023-03-08 Cardinal CG Company Elastomeric optical device and related operation methods
WO2022031529A1 (en) 2020-08-07 2022-02-10 Cardinal Cg Company Double-pane insulating glazing units
US20220332633A1 (en) 2021-04-15 2022-10-20 Cardinal Cg Company Flexible aerogel, flexible glass technology
CN113354299B (zh) * 2021-07-15 2022-11-22 天津南玻节能玻璃有限公司 一种中性色高透侧面不变色的双银Low-E玻璃
WO2023173029A1 (en) 2022-03-09 2023-09-14 Cardinal Cg Company Silica wet gel and aerogel
WO2024086773A1 (en) 2022-10-21 2024-04-25 Cardinal Cg Company Aerogel glazing adhesion and ig unit technology

Family Cites Families (99)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE716153C (de) 1939-12-08 1942-01-14 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Interferenzlichtfilter
US3272986A (en) 1963-09-27 1966-09-13 Honeywell Inc Solar heat absorbers comprising alternate layers of metal and dielectric material
US3649359A (en) 1969-10-27 1972-03-14 Optical Coating Laboratory Inc Multilayer filter with metal dielectric period
US4166018A (en) 1974-01-31 1979-08-28 Airco, Inc. Sputtering process and apparatus
US4169655A (en) 1974-03-14 1979-10-02 Aga Aktiebolag Protective device for protection against radiation during welding
US3990784A (en) 1974-06-05 1976-11-09 Optical Coating Laboratory, Inc. Coated architectural glass system and method
FR2276601A1 (fr) 1974-06-27 1976-01-23 France Etat Filtres de bande et application a la fabrication de lunettes de protection
US3962488A (en) 1974-08-09 1976-06-08 Ppg Industries, Inc. Electrically conductive coating
US4017661A (en) 1974-08-09 1977-04-12 Ppg Industries, Inc. Electrically conductive transparent laminated window
US4337990A (en) 1974-08-16 1982-07-06 Massachusetts Institute Of Technology Transparent heat-mirror
CH595458A5 (zh) 1975-03-07 1978-02-15 Balzers Patent Beteilig Ag
US4098956A (en) 1976-08-11 1978-07-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior Spectrally selective solar absorbers
US4194022A (en) 1977-07-25 1980-03-18 Ppg Industries, Inc. Transparent, colorless, electrically conductive coating
US4204942A (en) 1978-10-11 1980-05-27 Heat Mirror Associates Apparatus for multilayer thin film deposition
DE3160998D1 (en) 1980-03-10 1983-11-03 Teijin Ltd Selectively light-transmitting laminated structure
US4379040A (en) 1981-01-29 1983-04-05 Ppg Industries, Inc. Method of and apparatus for control of reactive sputtering deposition
JPS58202408A (ja) 1982-05-20 1983-11-25 Nippon Soken Inc 熱線反射膜
NO157212C (no) 1982-09-21 1988-02-10 Pilkington Brothers Plc Fremgangsmaate for fremstilling av belegg med lav emisjonsevne.
US4737379A (en) 1982-09-24 1988-04-12 Energy Conversion Devices, Inc. Plasma deposited coatings, and low temperature plasma method of making same
DE3316548C2 (de) 1983-03-25 1985-01-17 Flachglas AG, 8510 Fürth Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates
US4622120A (en) 1984-01-31 1986-11-11 Ppg Industries, Inc. Sputtered indium oxide films
US4619729A (en) 1984-02-14 1986-10-28 Energy Conversion Devices, Inc. Microwave method of making semiconductor members
US4546050A (en) 1984-11-23 1985-10-08 Ford Motor Company Coated glass article as a new article of manufacture
DE3544840A1 (de) 1985-11-05 1987-05-07 Flachglas Ag Verfahren zum herstellen einer vorgespannten und/oder gebogenen glasscheibe mit reduzierter transmission
US5071206A (en) 1986-06-30 1991-12-10 Southwall Technologies Inc. Color-corrected heat-reflecting composite films and glazing products containing the same
US5332888A (en) 1986-08-20 1994-07-26 Libbey-Owens-Ford Co. Sputtered multi-layer color compatible solar control coating
ATE81820T1 (de) 1986-08-20 1992-11-15 Libbey Owens Ford Co Solarbauteil aus glas und verfahren zu seiner herstellung.
US4859532A (en) 1986-11-27 1989-08-22 Asahi Glass Company Ltd. Transparent laminated product
US5059295A (en) 1986-12-29 1991-10-22 Ppg Industries, Inc. Method of making low emissivity window
US4806220A (en) 1986-12-29 1989-02-21 Ppg Industries, Inc. Method of making low emissivity film for high temperature processing
US4898790A (en) 1986-12-29 1990-02-06 Ppg Industries, Inc. Low emissivity film for high temperature processing
US4902081A (en) 1987-05-22 1990-02-20 Viracon, Inc. Low emissivity, low shading coefficient low reflectance window
US4790922A (en) 1987-07-13 1988-12-13 Viracon, Inc. Temperable low emissivity and reflective windows
ATE73742T1 (de) 1987-08-08 1992-04-15 Leybold Ag Verfahren zum herstellen von scheiben mit hohem transmissionsverhalten im sichtbaren spektralbereich und mit hohem reflexionsverhalten fuer waermestrahlung sowie durch das verfahren hergestellte scheiben.
US5201926A (en) 1987-08-08 1993-04-13 Leybold Aktiengesellschaft Method for the production of coated glass with a high transmissivity in the visible spectral range and with a high reflectivity for thermal radiation
EP0486475B1 (en) 1988-03-03 1997-12-03 Asahi Glass Company Ltd. Amorphous oxide film and article having such film thereon
US4898789A (en) 1988-04-04 1990-02-06 Ppg Industries, Inc. Low emissivity film for automotive heat load reduction
US4965121A (en) 1988-09-01 1990-10-23 The Boc Group, Inc. Solar control layered coating for glass windows
GB8900166D0 (en) 1989-01-05 1989-03-01 Glaverbel Glass coating
US4960310A (en) 1989-08-04 1990-10-02 Optical Corporation Of America Broad band nonreflective neutral density filter
SG43266A1 (en) 1990-07-05 1997-10-17 Asahi Glass Co Ltd A low emissivity film
DE4135701C2 (de) 1991-10-30 1995-09-28 Leybold Ag Scheibe mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung
US5296302A (en) 1992-03-27 1994-03-22 Cardinal Ig Company Abrasion-resistant overcoat for coated substrates
US5302449A (en) 1992-03-27 1994-04-12 Cardinal Ig Company High transmittance, low emissivity coatings for substrates
DE4211363A1 (de) 1992-04-04 1993-10-07 Leybold Ag Verfahren zum Herstellen von Scheiben mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung sowie durch das Verfahren hergestellte Scheiben
US5344718A (en) 1992-04-30 1994-09-06 Guardian Industries Corp. High performance, durable, low-E glass
US5229881A (en) 1992-06-10 1993-07-20 Tempglass Eastern, Inc. Low transmission low emissivity glass window and method of manufacture
US5337191A (en) 1993-04-13 1994-08-09 Photran Corporation Broad band pass filter including metal layers and dielectric layers of alternating refractive index
FR2710333B1 (fr) 1993-09-23 1995-11-10 Saint Gobain Vitrage Int Substrat transparent muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire et/ou infra-rouge.
EP0657562B1 (en) 1993-11-12 2001-09-12 PPG Industries Ohio, Inc. Durable sputtered metal oxide coating
DE4407502A1 (de) 1994-03-07 1995-09-14 Leybold Ag Mehrlagige Beschichtung
US6673438B1 (en) 1994-05-03 2004-01-06 Cardinal Cg Company Transparent article having protective silicon nitride film
US20010044489A1 (en) 1994-05-25 2001-11-22 Gerd Hugo Coating substance with low emissivity in the heat radiation range
US5557462A (en) 1995-01-17 1996-09-17 Guardian Industries Corp. Dual silver layer Low-E glass coating system and insulating glass units made therefrom
FR2734811B1 (fr) 1995-06-01 1997-07-04 Saint Gobain Vitrage Substrats transparents revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire
US5770321A (en) 1995-11-02 1998-06-23 Guardian Industries Corp. Neutral, high visible, durable low-e glass coating system and insulating glass units made therefrom
MX9605168A (es) 1995-11-02 1997-08-30 Guardian Industries Sistema de recubrimiento con vidrio de baja emisividad, durable, de alto funcionamiento, neutro, unidades de vidrio aislante elaboradas a partir del mismo, y metodos para la fabricacion de los mismos.
GB9606281D0 (en) 1996-03-26 1996-05-29 Glaverbel Coated substrate for a transparent assembly with high selectivity
US5942090A (en) 1996-04-12 1999-08-24 Asahi Glass Company Ltd. Methods of producing a laminate
TW446637B (en) 1996-05-28 2001-07-21 Mitsui Chemicals Inc Transparent laminates and optical filters for displays using the same
FR2757151B1 (fr) 1996-12-12 1999-01-08 Saint Gobain Vitrage Vitrage comprenant un substrat muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique
FR2766174B1 (fr) 1997-07-21 1999-08-20 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent revetu d'au moins une couche mince
US6297907B1 (en) 1997-09-02 2001-10-02 California Institute Of Technology Devices based on surface plasmon interference filters
US6262830B1 (en) 1997-09-16 2001-07-17 Michael Scalora Transparent metallo-dielectric photonic band gap structure
US5907427A (en) 1997-10-24 1999-05-25 Time Domain Corporation Photonic band gap device and method using a periodicity defect region to increase photonic signal delay
DE19751711A1 (de) 1997-11-21 1999-05-27 Leybold Systems Gmbh Beschichtung
US6007901A (en) 1997-12-04 1999-12-28 Cpfilms, Inc. Heat reflecting fenestration products with color corrective and corrosion protective layers
JPH11307987A (ja) 1998-04-16 1999-11-05 Nippon Sheet Glass Co Ltd 電磁波フィルタ
JP3548434B2 (ja) 1998-09-14 2004-07-28 日本板硝子株式会社 ガラスパネル
DE19852358C1 (de) 1998-11-13 2000-05-25 Ver Glaswerke Gmbh Thermisch hoch belastbares Low-E-Schichtsystem
DE69920633T2 (de) 1998-12-11 2005-02-10 Nitto Denko Corp., Ibaraki Transparentes Laminat und damit ausgestatteter Filter für eine Plasmaanzeige
SK8352001A3 (en) 1998-12-18 2001-11-06 Glaverbel Glazing panel
WO2000040402A1 (fr) * 1998-12-28 2000-07-13 Asahi Glass Company, Limited Produit en couches
JP2000294980A (ja) 1999-04-06 2000-10-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透光性電磁波フィルタおよびその製造方法
FR2793889B1 (fr) 1999-05-20 2002-06-28 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent a revetement anti-reflets
US6650478B1 (en) 1999-08-20 2003-11-18 Cpfilms Inc. Optical filter for a window
FR2798738B1 (fr) 1999-09-16 2001-10-26 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent muni d'un empilement de couches reflechissant la chaleur
US6443167B1 (en) * 1999-10-05 2002-09-03 Texas Instruments Incorporated Gradient dragout system in a continuous plating line
US20020136905A1 (en) 1999-11-24 2002-09-26 Medwick Paul A. Low shading coefficient and low emissivity coatings and coated articles
JP3477148B2 (ja) 1999-12-02 2003-12-10 カーディナル・シージー・カンパニー 耐曇り性透明フィルム積層体
US6569516B1 (en) 1999-12-10 2003-05-27 Nitto Denko Corporation Transparent laminate and plasma display panel filter utilizing same
JP2001249221A (ja) 1999-12-27 2001-09-14 Nitto Denko Corp 透明積層体とその製造方法およびプラズマデイスプレイパネル用フイルタ
US20020031674A1 (en) 2000-03-06 2002-03-14 Laird Ronald E. Low-emissivity glass coatings having a layer of silicon oxynitride and methods of making same
US6576349B2 (en) 2000-07-10 2003-06-10 Guardian Industries Corp. Heat treatable low-E coated articles and methods of making same
US6445503B1 (en) 2000-07-10 2002-09-03 Guardian Industries Corp. High durable, low-E, heat treatable layer coating system
US6887575B2 (en) * 2001-10-17 2005-05-03 Guardian Industries Corp. Heat treatable coated article with zinc oxide inclusive contact layer(s)
EP1188551B1 (en) * 2000-09-14 2006-08-09 Asahi Glass Co., Ltd. Laminated glass
DE10105199C1 (de) 2001-02-06 2002-06-20 Saint Gobain Vorspannbares Low-E-Schichtsystem für Fensterscheiben sowie mit dem Low-E-Schichtsystem beschichtete transparente Scheibe
US20020118460A1 (en) 2001-02-26 2002-08-29 General Atomics One-way imaging optical window film
US7232615B2 (en) 2001-10-22 2007-06-19 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating stack comprising a layer of barrier coating
US6830817B2 (en) * 2001-12-21 2004-12-14 Guardian Industries Corp. Low-e coating with high visible transmission
AU2003210976A1 (en) 2002-02-11 2003-09-04 Ppg Industries Ohio, Inc. Solar control coating
US6919133B2 (en) 2002-03-01 2005-07-19 Cardinal Cg Company Thin film coating having transparent base layer
ES2627198T5 (es) * 2002-05-03 2020-08-21 Vitro Flat Glass Llc Sustrato que tiene revestimiento de gestión térmica para una unidad de vidrio aislante
US7588829B2 (en) * 2002-05-31 2009-09-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Article having an aesthetic coating
FR2859721B1 (fr) 2003-09-17 2006-08-25 Saint Gobain Substrat transparent muni d'un empilement de couches minces pour un blindage electromagnetique
US7339728B2 (en) 2005-10-11 2008-03-04 Cardinal Cg Company Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient
US7572511B2 (en) 2005-10-11 2009-08-11 Cardinal Cg Company High infrared reflection coatings
US7342716B2 (en) 2005-10-11 2008-03-11 Cardinal Cg Company Multiple cavity low-emissivity coatings

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11286200B2 (en) 2010-03-29 2022-03-29 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with subcritical copper
US10654748B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings providing increased absorption or tint
US11993536B2 (en) 2010-03-29 2024-05-28 Vitro Flat Glass Llc Solar control coating with discontinuous metal layer
US11891328B2 (en) 2010-03-29 2024-02-06 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings providing increased absorption or tint
US10654747B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with subcritical copper
US11401207B2 (en) 2010-03-29 2022-08-02 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings providing increased absorption or tint
US11267752B2 (en) 2010-03-29 2022-03-08 Vitro Flat Glass Llc Solar control coating with discontinuous metal layer
US10654749B2 (en) 2010-03-29 2020-05-19 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings providing increased absorption or tint
US10981826B2 (en) 2010-03-29 2021-04-20 Vitro Flat Glass Llc Solar control coatings with subcritical copper
US10703673B2 (en) 2010-03-29 2020-07-07 Vitro Flat Glass Llc Solar control coating with discontinuous metal layer
CN108455877A (zh) * 2011-02-24 2018-08-28 葛迪恩实业公司 包括低辐射涂层的涂层制品、包括涂层制品的中空玻璃装置和/或其制备方法
CN103492337A (zh) * 2011-02-24 2014-01-01 葛迪恩实业公司 包括低辐射涂层的涂层制品、包括涂层制品的中空玻璃装置和/或其制备方法
US10214447B2 (en) 2011-02-24 2019-02-26 Guardian Glass, LLC Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same
US9802860B2 (en) 2011-02-24 2017-10-31 Guardian Glass, LLC Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same
CN105143135A (zh) * 2013-03-12 2015-12-09 Ppg工业俄亥俄公司 具有类似的光学特性的回火和非回火玻璃涂层
CN104619669B (zh) * 2013-04-30 2017-03-22 法国圣戈班玻璃厂 设有具备热性质的叠堆的基底

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