CN101303504A - 柔性显示基板和柔性显示器件的制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种用于制造柔性电泳显示器件的方法,包括:提供具有第一厚度的金属母基板,其包括单元显示面板区域和邻近所述单元显示面板区域的非显示区域;在所述单元显示面板区域中形成显示元件;在所述母基板的所述非显示区域中形成凹槽;沿着所述凹槽切割所述母基板,以从所述母基板分离所述单元显示面板区域;削薄所分离的单元显示面板区域的所述基板;以及在所述单元显示面板区域上形成电泳墨水膜。
Description
本申请要求享有2007年5月09日递交的韩国专利申请No.2007-0044823的权益,在此引入其全部内容作为参考。
技术领域
本申请涉及一种制造柔性显示基板和柔性显示器件的方法。
背景技术
随着信息时代的发展,已经发展了各种平板显示器件。平板显示器件的实施例包括液晶显示(LCD)器件、等离子体显示面板(PDP)器件、电致发光显示器件(ELD)和真空荧光显示器件(VFD)。
目前的趋势为平板显示器件应用于可携带产品,例如,电子片(electronicsheet)、臂章、钱包(wallet)、笔记本等。为此,柔性显示器件处于进一步发展中。
安装在可携带产品例如电子片、臂章、钱夹、笔记本、电子小说等上的显示器件必须是柔性的以防止外力。因此,柔性基板用于这些显示器件中。
典型柔性基板的厚度为1mm或更低。由于该柔性基板为不可***的、重量轻且柔软,所以其可变形为各种形状。
因此,诸多研究正致力于将柔性基板应用到各种显示器件,例如,LCD器件、有机电致发光显示器件等。
图1是使出一种用于制造现有技术的柔性显示基板的方法的流程图,而图2A和图2B是通过图1的方法制造的现有技术柔性显示基板的透视图。
参照图2A,预备母基板100(S110)。至少一个单元显示面板(P)限定在该母基板100上。
参照图2B,显示元件110形成于单元显示面板区域中(S120)。
参照图2C和图2D,沿着单元显示面板区域周围的划线111切割母基板100(S130)。从而,该单元显示面板从母基板100分离。
然而,在使用冲床切割母基板100的工艺中,可能在单元显示面板P的边缘产生毛边,其退化了显示基板的质量。
另外,当母基板100较厚时,冲床的切割工具变得极易受磨损,并从而降低冲床的寿命。
再者,显示基板可能受到在使用冲床切割母基板100的工艺中所产生的颗粒的污染。
发明内容
因此,本发明涉及一种制造柔性显示基板的方法,其基本能避免由于现有技术的局限和缺点所产生的一个或多个问题。
本发明的优点为提高显示面板的可靠性并易于从母基板分离单元显示面板。
本发明的其他特点和优点将在以下的描述中陈述,并且部分从该说明书是显而易见或可从本发明的实施中了解。本发明的目的和其他优点将通过在书面说明书及其权利要求书以及附图中特别指出的结构实现并获得。
为了实现这些和其他优点并根据本发明的目的,如具体化及广泛描述的,一种用于制造柔性电泳显示器件的方法,包括:提供具有第一厚度的金属母基板,其包括单元显示面板区域和邻近所述单元显示面板区域的非显示区域;在所述单元显示面板区域中形成显示元件;在所述母基板的所述非显示区域中形成凹槽;沿着所述凹槽切割所述母基板,以从所述母基板分离所述单元显示面板区域;削薄所分离的单元显示面板区域的所述基板;以及在所述单元显示面板区域上形成电泳墨水膜。
在本发明的另一方案中,一种用于制造柔性电泳显示器件的方法,包括:提供具有使得所述母基板基本不弯曲的第一厚度的金属母基板,包括单元显示面板区域和邻近所述单元显示面板区域的非显示区域;在所述单元显示面板区域中形成显示元件;在所述母基板的所述非显示区域中形成凹槽;沿着所述凹槽切割所述母基板,以从所述母基板分离所述单元显示面板区域;削薄所分离的单元显示面板区域的所述基板,使得所变薄的基板具有柔性属性;以及在所述单元显示面板区域上形成电泳墨水膜。
在本发明的又一方案中,一种用于制造柔性电泳显示器件的方法,包括:提供具有第一厚度的金属母基板,包括单元显示面板区域和邻近所述单元显示面板区域的非显示区域;在所述单元显示面板区域中形成显示元件;构图所述母基板以在所述非显示区域中形成凹槽;沿着所述凹槽切割所述母基板,以从所述母基板分离所述单元显示面板区域;削薄所分离的单元显示面板区域的所述基板;以及在所述单元显示面板区域上形成电泳墨水膜。
在本发明的再一方案中,一种用于制造柔性显示器件的方法,包括:提供具有第一厚度的金属母基板,包括单元显示面板区域和邻近所述单元显示面板区域的非显示区域;在所述单元显示面板区域中形成显示元件;在所述母基板的非显示区域中形成凹槽;沿着所述凹槽切割所述母基板,以从所述母基板分离所述单元显示面板区域;削薄所分离的单元显示面板区域的所述基板。
应该理解前述的一般性描述和以下的详细描述都是示意性和解释性的,并意欲提供所要求保护的本发明的进一步解释。
附图说明
附图,其包括于说明书中用于提供本发明的进一步理解并构成该说明书的一部分,示出了本发明的实施方式并与说明书一起用于解释本发明的原理。
在附图中:
图1是示出一种用于制造现有技术柔性显示基板的方法的流程图;
图2A至图2D是通过图1的方法所制造的柔性显示基板的透视图;
图3是示出一种用于根据实施方式制造柔性显示基板的方法的流程图;
图4A是示出预备母基板的工艺的透视图;
图4B是示出预备在图4A中所示母基板的工艺的横截面视图;
图5A是显示元件形成处的母基板的透视图;
图5B是在图5A中所示的母基板的横截面视图;
图6A是示出形成划线的工艺的透视图;
图6B是示出形成在图6A中的划线的工艺的横截面视图;
图7A是示出形成凹槽的工艺的透视图;
图7B是示出形成在图7A中凹槽的工艺的横截面视图;
图8A是示出形成凹槽工艺的透视图;
图8B是示出形成图8A中的凹槽的工艺的横截面视图;
图9A是示出切割母基板的工艺的透视图;
图9B是示出切割图9A中的母基板的工艺的横截面视图;
图10是示出单元显示面板的削薄基板的工艺的横截面视图;
图11是图10中的单元显示面板的横截面视图;
图12是根据实施方式的柔性电泳显示器件的横截面视图。
具体实施方式
现在将参照本发明公开内容中的实施方式详细描述本发明,其中部分实施例中附图中示出。
图3是示出根据实施方式制造柔性显示基板的方法的流程图。
该方法包括预备母基板的工艺S210、形成显示元件的工艺S220、在非显示区域中形成凹槽的工艺S230、切割母基板的工艺S240和削薄单元显示面板的基板的工艺S250。
图4A是示出预备母基板的工艺的透视图,而图4B是示出预备图4A中示出的母基板的工艺的横截面视图。
参照图3、图4A和图4B,预备具有第一厚度的母基板200(S210)。母基板200可为金属基板。例如,金属基板可由不锈钢或铁(Fe)形成。可选地,母基板200可为塑料基板。
可稳定执行制造工艺,原因在于母基板200由于其第一厚度d1而基本不弯曲。母基板200的第一厚度d1可大于约0.3mm。第一厚度d1可防止母基板200弯曲。
母基板200具有单元显示面板(P)区域和邻近单元显示面板(P)区域的非显示区域。母基板200包括至少一个单元显示面板P。
图5A是显示元件210形成处的母基板的透视图,而图5B是在图5A中所示的母基板的横截面视图。
参照图3、图5A和图5B,显示元件210形成于母基板200的单元显示面板(P)区域中(S220)。在该工艺S220中,用于柔性显示基板的各种图案可形成于母基板200上。
例如,显示元件可为底阵列基板,其包括柔性显示基板用于电泳显示器件(EPD)处的薄膜晶体管。另外,显示元件可为包括电泳浮动颗粒的顶阵列基板。
另一方面,在柔性显示基板用于LCD器件的情形下,显示元件可为包括薄膜晶体管的阵列基板。另外,显示元件可为包括滤色片图案的阵列基板。将在以下简要描述形成包括薄膜晶体管的阵列基板的工艺。
栅线形成于基板上。栅线包括栅极。栅绝缘层形成于栅线形成处的基板上方。
栅绝缘层可由硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(SiOx)形成。半导体层可形成于栅极上方的栅绝缘层上。
半导体层包括第一半导体层和第二半导体层。第二半导体层可与第一半导体层彼此隔开并形成于第一半导体层一侧及另一侧之上。
第一半导体层可由非晶硅(a-Si),而第二半导体层可由重掺杂的n-型非晶硅形成(n+a-Si)。
与栅线交叉的数据线形成于基板上以限定显示区域。数据线包括形成于第二半导体层上的源极和漏极。
源极连接到第二半导体层其中一侧,而漏极连接到另一侧。数据线、源极和漏极由相同材料形成并通过一次性工艺同时形成。
源极和漏极彼此隔开预定距离,并从而第一半导体层在源极和漏极之间暴露,从而形成沟道。
栅极、栅绝缘层、半导体层、源极和漏极形成薄膜晶体管(TFT),并且至少一个或多个设置在像素区域中。
钝化层形成于TFT形成处的基板之上。钝化层包括暴露部分漏极的漏极接触孔。像素电极形成于钝化层上方的像素区域中。像素电极通过漏极接触孔连接到漏极。
像素电极由透明导电材料形成,例如,铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)等。
将在以下描述形成包括滤色片图案的阵列基板的工艺。
光阻挡层形成在对应于像素区域和TFT区域的周界的区域处。该光阻挡层的实施例可包括吸收或阻挡光的黑矩阵。
如果显示器件需要滤色片,则红、绿和蓝滤色片图案形成于与在光阻挡层形成处的基板上的像素区域对应的区域处。
这样,显示元件210形成于母基板200的单元显示面板(P)区域中。
在形成显示元件的工艺S220之后,在非显示区域中形成凹槽S230。在实施方式中,划线(S)形成于非显示区域中,并且凹槽形成于划线(S)中。可通过形成光刻胶图案形成划线S231。可通过蚀刻母基板形成该凹槽S232,并且去除该光刻胶图案S233。
形成划线可利用光刻工艺执行。
图6A是示出形成划线工艺的透视图,而图6B是示出形成图6A中的划线的工艺的横截面视图。
参照图3、图6A和图6B,光刻胶图案220形成于其中显示元件210形成处的母基板200之上。
保护层可形成于母基板200上的非显示区域中。
光刻胶图案220可形成于母基板200上或上方。光刻胶图案220可形成于母基板200上方的保护层上。
光刻胶图案220覆盖单元显示面板P。
光刻胶图案220暴露单元显示面板P周围的划线(S)。
图7A是示出在划线中形成凹槽的工艺的透视图,而图7B是示出形成图7A中凹槽的工艺的横截面视图。
参照图3、图7A和图7B,母基板200的暴露的划线(S)利用光刻胶图案220作为蚀刻掩模蚀刻,从而形成凹槽211(S232)。
暴露的划线(S)可通过湿刻工艺进行蚀刻。用于湿刻工艺中的蚀刻剂可包括卤素元素,诸如氯(Cl)、溴(Br)和碘(I)。蚀刻剂可包括铁氯化物。在暴露的母基板200上的保护层可进一步使用光刻胶图案220作为蚀刻掩模进行蚀刻。
凹槽211使其易于切割母基板200,以将单元显示面板P从母基板200分离。
凹槽211的深度“a”小于母基板200的第一厚度“d1”。
图8A是示出在划线中形成凹槽的工艺的透视图,而图8B是示出形成图8A中的凹槽的工艺的横截面视图。
参照图3、图8A和图8B,去除母基板200上的光刻胶图案220(S233)。
图9A是示出切割母基板的工艺的透视图,而图9B是示出切割图9A中的母基板的工艺的横截图视图。
参照图3、图9A和图9B,沿着非显示区域中的凹槽211切割母基板200(S240)。单元显示面板P与母基板200分离。
凹槽211具有较小的厚度“d1-a”,使得母基板200易于切割。
切割工艺可使用划线轮、冲床、等离子体、气体、激光和液压的其中之一进行。
更特别地,划线轮由强度高于母基板200的材料形成。例如,划线轮可包括金刚石。
冲床具有对应于划线的切割工具。母基板200可通过利用冲床的切割工艺冲压而进行切割。冲床的曲柄将旋转运动改变为垂直运动,使得母基板200被切割工具切割。
这样,显示单元面板P与母基板200分离。单元显示面板P包括在基板201的一个表面上的显示元件210。基板201具有第一厚度d1。
单元显示面板通过利用激光束切割母基板而与母基板分离。激光束可照射到不形成显示元件和凹槽处的母基板200的其他表面上,
母基板200可通过沿着凹槽211照射激光束而进行切割。当激光束照射到母基板200的另一表面上时,显示元件可能被激光束破坏。
激光束可照射到形成显示元件的母基板的一个表面上。在该情形下,激光束沿着凹槽211切割母基板200。同时,可进一步形成钝化膜以覆盖显示元件。
可提供多个激光头。激光头产生激光束到各个单元显示面板,从而改善显示器件的产量。
在切割母基板之后,可研磨分离的单元显示面板的基板的边缘。
图10是示出通过蚀刻削薄单元显示面板的基板的工艺的横截面视图,而图11是图10中的单元显示面板的横截面视图。
参照图3、图10和图11,基板201可通过蚀刻不形成显示元件210处的基板201的另一表面而变薄,以为单元显示面板P提供柔性属性(S250)。
变薄的基板201’具有小于第一厚度d1的第二厚度d2。第二厚度d2小于第一厚度d1的约70%。
通过蚀刻削薄基板201的工艺可通过将基板201的另一表面浸到包含于槽(tank)250中的蚀刻剂255中而执行。蚀刻剂255包含卤素元素,诸如氯(Cl)、溴(Br)和碘(I)。蚀刻剂包括铁氯化物。蚀刻基板201的另一表面,其包含蚀刻剂255,使得变薄的基板201’具有第二厚度d2。因此,变薄的基板201’具有柔性属性。
保护膜可进一步形成于单元显示面板P的显示元件210上,以防止显示元件被蚀刻剂破坏。在蚀刻之后去除保护膜。
然后,清洗单元显示面板P以去除残留的蚀刻剂255。
除了浸渍工艺,基板201可通过喷嘴旋涂蚀刻剂而进行蚀刻。削薄基板还可包括其他类型的蚀刻。除了蚀刻工艺,基板201可通过研磨而变薄。
图12是根据实施方式的柔性电泳显示器件的横截面视图。
参照图12,电泳显示器件可包括变薄的基板201’、显示元件210和电泳墨水膜300(诸如通过E-INK合成的E-INK膜)。电泳墨水膜300可包括为微囊层320、公共电极310和保护膜301。在一个实施方式中,电泳墨水膜可通过层压形成。
根据实施方式,可防止在较高工艺温度处基板的弯曲,原因在于显示元件形成于足够厚的母基板200上。因此,可确保制造柔性显示基板的工艺的稳定性并改善柔性显示器件的可靠性。
另外,在足够厚的母基板上形成显示元件之后,柔性基板可通过蚀刻不形成显示元件处的母基板的一个表面而支撑。因此,不必要发展分离的构件或设备,从而节省了发展费用并简化了制造工艺。
另外,凹槽可在单元显示面板周围形成并且沿着凹槽切割母基板。因此,单元显示面板易于从母基板分离。
在说明书中的任何引用“一个实施方式”、“实施方式”、“示例性实施方式”等意指与实施方式有关的所述特定的特征、结构或特点包括在本发明的至少一个实施方式中。在说明书中的不同位置出现的所述短语不必都参照同一实施方式。而且,当描述任意实施方式有关的特定特征、结构或特点时,一般认为实现其他实施方式有关的所述特征、结构或特点在本领域的技术人员的理解范围内。
显然本领域的普通技术人员可以在不脱离本发明的精神和范围下在本发明中进行各种变型和修改。因此,本发明意欲覆盖落入本发明附属权利要求及其等效物范围内的本发明的各种变型和修改。
Claims (14)
1.一种制造柔性电泳显示器件的方法,包括:
提供具有第一厚度的金属母基板,其包括单元显示面板区域和邻近所述单元显示面板区域的非显示区域;
在所述单元显示面板区域中形成显示元件;
在所述母基板的所述非显示区域中形成凹槽;
沿着所述凹槽切割所述母基板,以从所述母基板分离所述单元显示面板区域;
削薄所分离的单元显示面板区域的所述基板;以及
在所述单元显示面板区域上形成电泳墨水膜。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一厚度大于约0.3mm。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,削薄所述基板包括削薄至小于所述第一厚度的约70%。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,削薄所述基板包括蚀刻所述基板。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,蚀刻所述基板包括利用包括卤素元素的蚀刻剂进行湿蚀刻。
6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,蚀刻所述基板包括浸渍所述基板或旋涂所述基板。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,进一步包含研磨所分离的单元显示面板区域的基板边缘。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,形成所述电泳墨水膜包括:
形成公共电极;
形成微囊层;以及
形成保护层。
9.一种制造柔性电泳显示器件的方法,包括:
提供具有使得所述母基板基本不弯曲的第一厚度的金属母基板,包括单元显示面板区域和邻近所述单元显示面板区域的非显示区域;
在所述单元显示面板区域中形成显示元件;
在所述母基板的所述非显示区域中形成凹槽;
沿着所述凹槽切割所述母基板,以从所述母基板分离所述单元显示面板区域;
削薄所分离的单元显示面板区域的所述基板,使得所变薄的基板具有柔性属性;以及
在所述单元显示面板区域上形成电泳墨水膜。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,形成所述电泳墨水膜包括:
形成公共电极;
形成微囊层;以及
形成保护层。
11.一种制造柔性电泳显示器件的方法,包括:
提供具有第一厚度的金属母基板,其包括单元显示面板区域和邻近所述单元显示面板区域的非显示区域;
在所述单元显示面板区域中形成显示元件;
构图所述母基板以在所述非显示区域中形成凹槽;
沿着所述凹槽切割所述母基板,以从所述母基板分离所述单元显示面板区域;
削薄所分离的单元显示面板区域的所述基板;以及
在所述单元显示面板区域上形成电泳墨水膜。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,构图所述母基板包括:形成暴露部分所述非显示区域的光刻胶图案;以及根据所述非显示区域的暴露部分蚀刻所述母基板以形成凹槽。
13.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,形成所述电泳墨水膜包括:
形成公共电极;
形成微囊层;以及
形成保护层。
14.一种制造柔性显示器件的方法,包括:
提供具有第一厚度的金属母基板,包括单元显示面板区域和邻近所述单元显示面板区域的非显示区域;
在所述单元显示面板区域中形成显示元件;
在所述母基板的非显示区域中形成凹槽;
沿着所述凹槽切割所述母基板,以从所述母基板分离所述单元显示面板区域;
削薄所分离的单元显示面板区域的所述基板。
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102081485A (zh) * | 2009-11-27 | 2011-06-01 | 三星电机株式会社 | 显示阵列基底和制造显示基底的方法 |
CN103293742A (zh) * | 2013-05-22 | 2013-09-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板的切割方法及显示装置 |
CN104423082A (zh) * | 2013-08-29 | 2015-03-18 | 业鑫科技顾问股份有限公司 | 液晶面板及基板的制造方法 |
WO2015165256A1 (zh) * | 2014-04-29 | 2015-11-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 柔性显示面板切割方法及其控制装置以及柔性显示面板切割装置 |
CN106191767A (zh) * | 2014-10-31 | 2016-12-07 | 三星显示有限公司 | 沉积用掩模、沉积用掩模框架组件及其制造方法 |
CN107680497A (zh) * | 2017-11-03 | 2018-02-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板的制造方法、显示基板、显示面板和显示装置 |
CN107742476A (zh) * | 2017-11-15 | 2018-02-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性显示基板母板及其切割方法、柔性显示基板、显示装置 |
CN109343262A (zh) * | 2018-09-14 | 2019-02-15 | 信利半导体有限公司 | 改善柔性基板毛刺的方法 |
WO2019104630A1 (zh) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 显示屏保护结构、显示组件及切割方法、贴膜方法 |
CN110208978A (zh) * | 2019-07-04 | 2019-09-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板中间品的切割方法及显示面板 |
WO2023160243A1 (zh) * | 2022-02-25 | 2023-08-31 | 荣耀终端有限公司 | 阵列基板、显示装置以及电子设备 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI363891B (en) * | 2006-11-14 | 2012-05-11 | Lg Display Co Ltd | Manufacturing method of the flexible display device |
KR100972097B1 (ko) * | 2007-11-26 | 2010-07-22 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 전기영동을 이용한 디스플레이 장치용 다기능 광학 필름 |
KR101040789B1 (ko) * | 2009-01-16 | 2011-06-13 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 |
CN102131743A (zh) * | 2009-10-09 | 2011-07-20 | 株式会社微龙技术研究所 | 柔性玻璃基板的制造方法以及柔性玻璃基板 |
TWI476738B (zh) | 2010-09-07 | 2015-03-11 | Ind Tech Res Inst | 軟性顯示面板及其組裝方法 |
CN102446926B (zh) * | 2010-10-08 | 2014-09-03 | 财团法人工业技术研究院 | 软性显示面板及其组装方法 |
KR101230191B1 (ko) * | 2010-12-14 | 2013-02-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 |
JP5872182B2 (ja) * | 2011-04-05 | 2016-03-01 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置の製造方法 |
US20130082997A1 (en) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Apple Inc. | System and method for detection of dimensions of display panel or other patterned device |
KR101876540B1 (ko) | 2011-12-28 | 2018-07-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 가요성 표시 장치 및 가요성 표시 장치의 제조 방법 |
KR102026822B1 (ko) | 2012-07-23 | 2019-10-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 셀 절단 장치 및 표시 장치 제조 방법 |
JP2015069806A (ja) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 |
US9321677B2 (en) | 2014-01-29 | 2016-04-26 | Corning Incorporated | Bendable glass stack assemblies, articles and methods of making the same |
CN104103648B (zh) | 2014-07-24 | 2017-12-05 | 上海天马微电子有限公司 | 柔性显示设备、柔性显示母板及其制作方法 |
KR102307693B1 (ko) * | 2014-12-12 | 2021-10-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시패널 및 이의 제조방법 |
CN106935720B (zh) * | 2017-03-13 | 2019-06-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板、显示面板、显示设备和制造其的方法 |
KR102420525B1 (ko) * | 2018-01-10 | 2022-07-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디지타이저 어셈블리의 제조 방법, 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법 및 표시 장치 |
KR102633153B1 (ko) * | 2021-06-28 | 2024-02-06 | (주)세우인코퍼레이션 | 마스크 얼라인 스틱의 제조방법 |
DE102022000002A1 (de) | 2022-01-01 | 2023-07-06 | Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft | Verfahren zum Aufbringen einer Dekorfolie auf eine nicht-ebene Oberfläche |
DE102022000005A1 (de) | 2022-01-01 | 2023-07-06 | Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft | Dekorfolie und Fahrzeug mit einer Dekorfolie |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100873772B1 (ko) * | 2002-11-19 | 2008-12-15 | 도와 홀딩스 가부시끼가이샤 | 금속/세라믹 접합 제품 |
EP1604794A4 (en) * | 2002-11-22 | 2011-03-23 | Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd | CARRIER CUTTING SYSTEM, CARRIER MANUFACTURING DEVICE, CARRIAGE CARRIER PROCEDURE AND CARRIER CUTTING PROCESS |
JP4063082B2 (ja) | 2003-01-10 | 2008-03-19 | 日本電気株式会社 | フレキシブル電子デバイスとその製造方法 |
KR20050066395A (ko) * | 2003-12-26 | 2005-06-30 | 동우 화인켐 주식회사 | 인듐 산화막의 식각액 조성물 및 그를 이용한 식각 방법 |
KR100611655B1 (ko) * | 2004-06-29 | 2006-08-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전계 발광 표시 소자 및 그 제조방법 |
JP4230425B2 (ja) * | 2004-07-26 | 2009-02-25 | シャープ株式会社 | カラーフィルタ基板、および表示装置 |
KR100696762B1 (ko) * | 2005-04-26 | 2007-03-19 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 제조 방법 |
JP2006337819A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Canon Inc | 表示装置およびその駆動方法 |
JP2007059209A (ja) * | 2005-08-24 | 2007-03-08 | Toyota Industries Corp | エレクトロルミネッセンスパネル及びその製造方法 |
KR20070121403A (ko) * | 2006-06-22 | 2007-12-27 | 삼성전자주식회사 | 전기 영동 표시 장치 및 그 제조 방법 |
TWI363891B (en) * | 2006-11-14 | 2012-05-11 | Lg Display Co Ltd | Manufacturing method of the flexible display device |
-
2007
- 2007-05-09 KR KR1020070044823A patent/KR101362035B1/ko active IP Right Grant
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- 2007-12-29 CN CN2007101606911A patent/CN101303504B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102081485A (zh) * | 2009-11-27 | 2011-06-01 | 三星电机株式会社 | 显示阵列基底和制造显示基底的方法 |
CN103293742A (zh) * | 2013-05-22 | 2013-09-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板的切割方法及显示装置 |
CN104423082A (zh) * | 2013-08-29 | 2015-03-18 | 业鑫科技顾问股份有限公司 | 液晶面板及基板的制造方法 |
US9566667B2 (en) | 2014-04-29 | 2017-02-14 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Cutting method of flexible display panel, controlling device in the cutting method, and cutting apparatus of flexible display panel |
WO2015165256A1 (zh) * | 2014-04-29 | 2015-11-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 柔性显示面板切割方法及其控制装置以及柔性显示面板切割装置 |
CN106191767B (zh) * | 2014-10-31 | 2019-06-04 | 三星显示有限公司 | 沉积用掩模、沉积用掩模框架组件及其制造方法 |
CN106191767A (zh) * | 2014-10-31 | 2016-12-07 | 三星显示有限公司 | 沉积用掩模、沉积用掩模框架组件及其制造方法 |
CN107680497A (zh) * | 2017-11-03 | 2018-02-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板的制造方法、显示基板、显示面板和显示装置 |
CN107742476A (zh) * | 2017-11-15 | 2018-02-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性显示基板母板及其切割方法、柔性显示基板、显示装置 |
CN107742476B (zh) * | 2017-11-15 | 2024-03-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性显示基板母板及其切割方法、柔性显示基板、显示装置 |
WO2019104630A1 (zh) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | 深圳市柔宇科技有限公司 | 显示屏保护结构、显示组件及切割方法、贴膜方法 |
CN109343262A (zh) * | 2018-09-14 | 2019-02-15 | 信利半导体有限公司 | 改善柔性基板毛刺的方法 |
CN110208978A (zh) * | 2019-07-04 | 2019-09-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板中间品的切割方法及显示面板 |
WO2023160243A1 (zh) * | 2022-02-25 | 2023-08-31 | 荣耀终端有限公司 | 阵列基板、显示装置以及电子设备 |
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