CN101197136A - 用于控制盘驱动器中磁头运动的方法和装置 - Google Patents

Abstract

一种具有磁头运动控制***的盘驱动器。所述盘驱动器包括缺陷回避单元(5)。所述缺陷回避单元(5)包括缺陷接近确定单元(6)和回避轨道限定单元(7)。缺陷接近确定单元(6)基于缺陷位置信息限定磁头接近缺陷部分的位置。回避轨道限定单元(7)基于缺陷接近确定单元(6)确定的位置改变所述磁头的运动轨道，从而使得所述磁头回避所述缺陷部分。

Description

用于控制盘驱动器中磁头运动的方法和装置

技术领域

本发明涉及一种硬盘驱动器。更具体而言，本发明涉及一种控制磁头运动以使得不使用盘介质的缺陷部分的技术。

背景技术

大多数盘驱动器，其代表性实例为硬盘驱动器，包括磁头定位控制***(下文称作伺服***)，所述磁头定位控制***移动每个磁头到盘介质上的目标位置(也就是，目标磁道或目标柱面)，并且将所述磁头定位在所述目标位置。在所述目标位置上，磁头可以从盘介质读写数据。

所述伺服***根据盘介质上记录的伺服数据来控制磁头定位。所述伺服数据包含地址代码和伺服脉冲图形。所述地址代码表示盘介质上的磁道或柱面的地址。所述伺服脉冲图形用于检测每个磁道中的位置。通常，所述伺服***执行寻道操作和跟踪操作。寻道操作是将磁头移动到期望位置或者期望磁道。跟踪操作(磁道跟踪)是将磁头定位到期望磁道。

盘介质会具有缺陷，例如在制造盘驱动器期间或者在装载运送盘驱动器之后对盘介质冲击造成的凸起。盘驱动器的任何磁头都会接触到这种缺陷，这是因为当磁头在盘介质上方运动和浮动时，磁头距离盘介质的表面的间距非常短。如果磁头接触到缺陷，则在盘介质上会产生后期缺陷(postdefects)。根据后期缺陷的幅度，所述后期缺陷会放大或者导致磁头发生故障。

为了解决该问题，已经提出一种技术(例如，参见日本专利申请KOKAI公开No.2003-308667)。该技术是这样的：如果在延伸到期望位置的寻道轨迹(运动磁头的轨迹)存在任何凸起，根据所述磁头在寻道操作中是加速、恒速还是减速，来改变磁头运动的速度。

如果在盘介质上存在例如凸起的缺陷，则它们会导致产生后期缺陷。为了防止这类事件发生，已经提出一种改变操作速度的技术。然而，所述技术不能说是一种防止后期缺陷的有效方案。

发明内容

本发明的目的是提供一种盘驱动器，其中如果在盘介质上存在缺陷，控制每个磁头不在缺陷上方运动，从而防止后期缺陷的产生或扩大。

根据本发明的一个方面的盘驱动器包括：磁头移动机构，所述磁头移动机构将磁头移动到旋转盘介质上的期望位置；磁头运动控制单元，所述磁头运动控制单元在每个采样时间内限定从当前磁头位置至所述期望位置的磁头运动轨迹，从而控制所述磁头移动机构；存储单元，所述存储单元存储表示所述盘介质上存在的缺陷部分的位置的缺陷位置信息；确定单元，当所述磁头移动机构向所述期望位置移动所述磁头时，所述确定单元在每个采样时间中通过所述缺陷位置信息来确定接近所述缺陷部分的所述磁头的位置；以及回避单元，所述回避单元基于所述确定单元确定的位置改变所述磁头的运动轨迹，从而使得所述磁头回避所述缺陷部分。

附图说明

附图包含在本说明书中，并且构成本说明书的一部分。附图示出本发明的实施例，其结合上述总体描述和下面对实施例的具体描述一起说明本发明的原理。

图1是示出根据本发明的实施例的伺服***的主要部件的框图；

图2是示出根据实施例的盘驱动器的主要部件的框图；

图3是示出根据所述实施例的伺服***的基本结构的框图；

图4是示出根据所述实施例的伺服***如何控制寻道操作的框图；

图5是用于说明在所述实施例中如何防止发展缺陷的寻道轨道的曲线图；

图6是用于说明在所述实施例中避免缺陷的技术的原理的曲线图；

图7A和7B是用于说明在所述实施例中避免缺陷的技术的原理的其他曲线图；

图8是示出根据所述实施例的目标轨道限定单元的框图；

图9是示出根据本发明的另一个实施例的目标轨道限定单元的框图；以及

图10是示出根据另一个实施例的目标轨道限定单元的另一个框图。

具体实施方式

下面参照附图，说明本发明的实施例。

图1是示出根据本发明的实施例的伺服***的主要部件的框图。图2是根据所述实施例的盘驱动器的主要部件的框图。

(盘驱动器的结构)

如图2所示，根据所述实施例的盘驱动器10具有盘介质11、磁头12、以及主轴电动机(SPM)13。盘介质11是磁记录介质。主轴电动机13可以旋转盘介质11。伺服数据记录在盘介质11上。所述伺服数据在伺服***执行的磁头定位控制中使用，下面将进行说明。伺服数据包含地址代码和伺服脉冲数据图形。每个地址代码表示磁道或柱面的地址。每个伺服脉冲图形用于检测磁头在磁道中占据的位置。

磁头12安装在致动器14上，所述致动器可以由音圈电动机(VCM)15驱动。磁头12包括读取磁头12R和写入磁头12W。读取磁头12R可以从盘介质11读取数据。写入磁头12W可以将数据写入到盘介质11上。

VCM15被供应来自VCM驱动器21的驱动电流，并被驱动和控制。致动器14是磁头移动机构，它由微处理器(CPU)19驱动和控制，其中所述微处理器是伺服***的主要部件，下面将进行说明。当被伺服***控制时，致动器14将磁头12移动并定位到盘介质11上的期望位置(期望磁道或期望柱面)。

除了上述磁头-盘组件之外，盘驱动器10还具有预放大电路16、信号处理单元17、磁盘控制器(HDC)18、CPU19和存储器20。预放大电路16具有读取放大器和写入放大器。读取放大器放大从读取磁头12R输出的读取数据信号。写入放大器将写入数据信号供给到写入磁头12W。

信号处理单元17是处理读取/写入读取数据信号(包括对应于伺服数据的伺服信号)的单元。因此，它还被称为“读/写信道”。读取数据信号和写入数据信号不仅包含对应于用户数据的信号，还包含对应于伺服数据的伺服信号。信号处理单元17包括从伺服信号再现伺服数据的伺服解码器。

HDC18可以用作盘驱动器10和主机***22(例如，个人计算机或多种数字装置中的任意一种)之间的接口。HDC18在盘介质11和主机***22之间传输读取数据和写入数据。

CPU19是盘驱动器10中的主控制器以及根据本发明的伺服***的主要部件。CPU19执行磁头定位控制。除了闪速存储器(EEPROM，也就是非易失性存储器)之外，存储器20还包括RAM和ROM。它存储用于控制CPU19的多种数据项目和程序。

(伺服***)

所述伺服***由CPU19中提供的伺服解码器和信号处理单元17构成。所述伺服***执行寻道操作，以便将磁头12移动到期望位置，以及执行跟踪操作(磁道跟踪)，以便将磁头12定位到磁道中的期望位置。根据所述实施例的伺服***具有以下功能：移动磁头12、如果存在缺陷则使得磁头12不经过盘介质11上的缺陷上方。

现在参照图1、3和4来说明根据本实施例的伺服***的功能。

如图3所示，所述伺服***具有目标轨道限定单元(R)30、模型跟随控制单元(FB)31、低度RRO抑制补偿单元(FF)33以及磁头驱动***(P)34。所述伺服***是模型跟随***。它基本构造成执行寻道操作和跟踪操作，实现伺服控制，以使得磁头位置Pos和目标位置(模型位置)吻合。磁头应当移动到的模型位置对应于期望位置Pd。

所述模型跟随控制单元31具有反馈控制单元(C)32。所述单元31产生指示磁头驱动***34移动磁头12的命令，以使得磁头位置Pos跟随目标轨道限定单元(R)30限定的目标轨道。磁头驱动***34是具有VCM15的致动器14。从术语狭义上讲，所述***34是VCM15。

目标轨道限定单元30产生目标位置轨道Pr和模型输入值Um(模型驱动命令值)。表示轨道Pr和模型输入值Um的数据被输出到模型跟随控制单元31。在跟踪操作期间，目标轨道限定单元30将目标位置轨道Pr设定为固定值，以及将模型输入值Um设定为零。当磁头应当移动到的期望位置Pd变化从而将操作变化为寻道操作时，目标轨道限定单元30产生目标位置轨道Pr和模型输入值Um，从而实现稳定的过渡操作。模型输入值Um是驱动命令，如果不存在影响磁头驱动***34的扰动，则模型输入值Um使得磁头位置Pos位于目标位置轨道Pr中。

低度RRO抑制补偿单元33产生前馈量(补偿值FF)，以便补偿较大的可重复偏转(RRO)，所述较大的可重复偏转因和主轴电动机13的旋转同步的轨道偏离而产生。所述前馈量可以防止控制器32执行的定位的精度降低，以及还可以抑制影响磁头驱动***34的明显扰动。

图4是解释如何控制寻道操作以将磁头从当前位置Pos(等于模型位置Pr)移动到期望位置Pd的框图。

如图4所示，目标轨道限定单元30具有速度曲线生成单元2、速度控制单元3以及虚拟控制模式4。目标轨道限定单元30产生符合期望位置Pd的目标位置轨道(模型位置)Pr。速度曲线生成单元2构造成产生表示磁头驱动***34应当驱动磁头12的期望速度的数据。更具体的是，所述单元2通过表示当前值Pr(或当前位置Pos)的偏移的数据产生表示期望速度Vd的数据。速度曲线生成单元2执行例如限制的配比和微分(PD)的操作。

速度控制单元3从当前模型速度Vr(或从当前位置Pos推断的速度数据)产生模型输入值Um。所述速度控制单元3例如是用于稳定PD操作以及补偿PD操作的单元。

如同大多数情况一样，受控模型(也就是，虚拟模型)4 Pm4是磁头驱动***34的标称模型。所述模型输入值Um同时驱动虚拟模型4以及磁头驱动***34。所述虚拟模型(Pm)可以和磁头驱动***34完全相同，并且扰动可以相当小。然后，磁头位置Pos和模型位置Pr相同。然而，实际上，存在模型误差并且扰动不是相当小，并且位置误差从未是零。因此，反馈控制单元(C)32校正模型输入值Um从而补偿所述误差。因此，虚拟模型(Pm)4执行连续的稳定的过渡操作。这使得目标轨道限定单元30能够产生将磁头12引导到期望位置Pd的目标位置轨道Pr。

尤其是对长距离寻道操作应用上述寻道控制。然而，通过模型跟随控制***，也可以向短距离寻道操作施加寻道控制。然而，在短距离寻道操作期间，所述操作的速度曲线设定为陡坡多度曲线，它接近响应特征限度，并且提前在表格中关联模型输入值Um和目标位置轨道Pr。参照表格，从而缩短操作时间和改进响应特性。在长距离寻道控制期间，模型输入值Um是类似于在开关式控制(开/关控制)中采用的驱动命令，并且通过参照表格产生。然而，寻道模型可以认为是已经在这样产生数值Um之前计算出。

图1是示出表征本实施例的伺服***的主要部件的框图。根据本实施例的伺服***通过将缺陷回避单元5添加到目标轨道限定单元30而构造，如图3和4所示。因此，所述伺服***是模型跟随类型的寻道控制***，并且具有速度控制***1和受控模型4(也就是，虚拟模式Pm)。所述速度控制***1包括速度曲线生成单元2和速度控制单元3。

所述缺陷回避单元5具有缺陷接近确定单元6和回避轨道限定单元7。所述缺陷回避单元5参照地图信息(缺陷)，所述地图信息管理寄存在例如存储器20中表示严重缺陷单元(缺陷扇区)的位置的缺陷位置信息(缺陷信息)。通过参照所述地图信息，缺陷回避单元5产生使得虚拟模型位置Pr回避缺陷单元的校正量V2。校正量V2是应对期望寻道速度校正的从而实现缺陷回避的速度值。

目标轨道限定单元30应用校正量V2，校正由速度曲线生成单元(Pv)2产生的期望速度Vd。速度控制单元(Cv)3因此输出模型输入值(模型驱动命令值)Um。

地图信息(缺陷)包含表示例如缺陷角度的数据。该信息转换成存在缺陷的伺服扇区和磁道的地址。这些地址寄存为例如存储器20或者盘介质11中的表格信息。

缺陷接近确定单元6提取关于相对于寻道方向的接近或者最接近磁头12的当前位置的缺陷的缺陷位置信息。更具体而言，缺陷接近确定单元6提取根据模型的当前位置Pr和当前伺服扇区信息(扇区地址Sct)的缺陷位置信息。

通过这样提取的缺陷位置信息，缺陷接近确定单元6计算缺陷扇区间半径dR(磁道差)和缺陷扇区间相角θ(扇区差)。缺陷扇区间半径dR是到缺陷(缺陷扇区)所在磁道的距离。缺陷扇区间相角θ对应于到达缺陷扇区的周向距离。

不是紧接着在磁头12经过具有缺陷扇区的磁道上方之后，而是在磁头12经过可容许数量磁道之后，缺陷接近确定单元6提取下一个缺陷位置信息。缺陷扇区间相角θ是完全伺服扇区差，并且输出为关于+1/2伺服扇区和-1/2伺服扇区之间距离的整数值。从缺陷接近确定单元6输出的信息可以是导致对应于缺陷扇区和缺陷回避中没有包含的轨迹之间距离的值的任何信息。因此，所述信息不限于缺陷扇区间半径dR和缺陷扇区间相角θ，并且可以是能够确定校正速度的任何信息，下面将进行说明。

回避轨道限定单元7从缺陷接近确定单元6的输出也就是缺陷扇区间半径dR和缺陷扇区间相角θ产生速度校正值(校正命令值)V2。在目标轨道限定单元30中，速度控制单元(Cv)3接收根据速度校正值(校正命令值)V2校正的期望速度Vd，并且输出模型输入值(模型驱动命令值)Um。

(缺陷回避)

下面参照图5、图6和图7A、7B来说明在本实施例中执行的缺陷回避。首先，参照图6和图7A、7B来说明缺陷回避的原理。

在盘驱动器中，在寻道操作期间磁头12移动的轨迹(寻道轨迹)是盘介质11的表面上的螺旋轨迹，这是因为盘介质11以恒定速度旋转。如果简化，则所述轨道变成在矩形磁盘表面中倾斜延伸的轨迹，如图6所示。在图6中，应当回避的缺陷部分50位于中心位置。图6中的虚线表示磁头12移动的没有回避缺陷部分50的寻道轨迹。

可以设计出回避缺陷部分50的方法，其中，提前推断所述寻道轨道，并且如果磁头11很可能经过缺陷部分50上方则改变寻道开始时序。然而，难以立刻预测出寻道轨道，尤其是在长距离寻道操作中，更不用说短距离寻道操作了。不可避免的是，非常难以预测磁头12何时将经过缺陷部分50上方，以及难以正确改变寻道开始时序。

因此，有利的是，适当地增大或减小寻道速度，同时确定磁头12是否经过接近缺陷部分50的位置，从而回避缺陷部分50。在回避缺陷部分50的方法中，根据本发明，缺陷部分50认为是产生沿盘介质11的径向作用的外部力，并且所述寻道轨迹认为是已经由于所述外部力而改变。

盘介质的旋转方向几乎不能进行控制。因此，有利的是，假设反作用与从缺陷部分50开始的距离成反比，并且改变寻找这种虚拟反作用(也就是，和所述距离的平方成反比例的反作用)的目标轨道。缺陷部分50可能接近磁头12的轨道，因此会大大影响所述轨道。在这种情况下，这样设定的虚拟反作用会让所述轨道大大改变。如果缺陷部分50离磁头12的轨道相对较远，则所述轨道将校正以便实现几乎没有缺陷回避。

图6所示的实线51表示缺陷回避轨道。所述缺陷回避轨道已经通过如下步骤来限定：首先形成校正轨道模型，其中由弹簧和阻尼器连接的质点因从缺陷部分50施加的虚拟反作用而移动，然后将所述校正的轨道模型添加到目标轨道52。图7A是示出应用到缺陷回避轨道模型51的位置校正量的曲线图。图7B是示出应用到缺陷回避轨道模型51的速度校正量的曲线图。

下面将详细说明基于上述原理、根据本实施例的缺陷回避。根据本实施例的***具有回避轨道限定单元7。所述回避轨道限定单元7推断出缺陷扇区和没有校正的轨道(寻道轨道)之间的距离以回避推断的缺陷，以及通过推断出的距离的倒数产生速度校正量(速度校正值)V2。

回避轨道限定单元7利用下面的等式(1)计算出速度校正值V2。

V2＝G·{-2αθ·exp(-αθ²)}...(1)

在所述等式(1)中，

$G=\frac{\mathrm{\β}}{\mathrm{dR}-\mathrm{\θ}\·(1-z^{-1})\mathrm{dR}}$

其中α是对应于回避检测灵敏度范围的常数，以及β是确定预设回避量的增益常数。

等式(1)和用于发现已经结合缺陷回避的原理阐述的由弹簧、阻尼器模型和虚拟反作用限定的轨道校正量的等式不同。然而，采用所述微分等式是因为由图6的实线51表示的缺陷回避方式和高斯函数类似。也就是，等式(1)用作下面的等式(2)的变型。

y＝exp(-x²)， $\frac{\mathrm{dy}}{\mathrm{dx}}=-2x\·\exp \left({-x}^2\right)...\left(2\right)$

从等式(1)中可以看到，必须执行指数运算来计算速度校正值V2。因此，回避轨道限定单元7设计成参照根据缺陷扇区间相角θ的表格。缺陷扇区间相角θ没有整数值，因为严重缺陷扇区存在于伺服扇区之间。然而，由于缺陷扇区被管理为存在于最近伺服扇区位置，所以所述单元7需要参照所述表格。

获得确定校正量的增益G作为缺陷部分和从目标位置(虚拟模型位置)Pr推断出的轨道之间的距离的倒数。缺陷部分和这样推断出的轨道之间的距离应当实质上获得为两维信息。然而，所述距离可以认为是沿径向的一维量。这是因为所述磁道间距比单伺服磁道距离短数个数量级。沿径向测得的所述轨道和所述缺陷部分之间的距离L通过利用下面的等式(3)来给出。

L＝dR-Vr·Tc(3)

其中Tc是到达缺陷扇区的时间。

从等式(3)可以理解，距离L是缺陷部分和磁头相对于缺陷部分的最近位置之间的距离。当前模型速度Vr不是从缺陷接近确定单元6获得的信息，但是可以推断为与用于紧前一样本的缺陷扇区间半径dR的差。在等式(1)中，当前模型速度Vr是作为1/L的比例倍数的增益G。由于1/L四舍五入变成整数值，所以如果与磁头12的轨道之间的预测接近距离L等于或者大于特定值，则确定回避量的增益G将为零。在这种情况下，速度校正值V2将为零。

如上所述，速度校正值V2可以利用等式(1)来计算。速度控制单元(Cv)3接收速度校正值V2和通过速度曲线生成单元(Pv)2产生的期望速度Vd的和，然后输出模型输入值(模型驱动命令值)Um。因此，速度控制单元(Cv)3产生用于目标位置(虚拟模型位置)Pr的缺陷回避轨道。

图5是示出根据本实施例的模拟缺陷回避的曲线图。在所述附图中，虚线52表示当没有执行缺陷回避时观测到的寻道轨道。实线51表示当执行缺陷回避时观测到的寻道轨道。这些实线51表示在缺陷部分50附近延伸的11寻道图形。

从图5可以证实，在根据预测轨道中缺陷部分50所在的位置执行寻道控制期间，可以相互自动切换加速和减速，并且磁头12移动，从而可靠地回避缺陷部分50。从图5还可以证实，在相对远离于缺陷部分50的位置，在任何寻道操作中不执行缺陷回避。

然而，速度控制单元3应用模型输入值Um，从而防止驱动命令值饱和。速度曲线生成单元2根据目标位置(虚拟模型位置)Pr来改变期望位置Pd。这是结合缺陷回避的原理所述磁头12没有返回到初始轨道的原因。这意味着寻道时间的变化会增大。然而，在所述点上缺陷回避延迟或者提前寻道操作达仅仅数个样本。因此，所导致的磁盘驱动性能的降低相当小。

在根据本实施例的缺陷回避单元5中，缺陷接近确定单元6提取一个缺陷扇区，然后执行缺陷回避。替代地，如果条件已经设定为实现线性相加，则所述单元6可以构造成同时提取多个缺陷扇区，然后执行缺陷回避。

(在跟踪操作期间的缺陷回避)

下面将参照图8来说明在跟踪操作中如何执行缺陷回避。

在盘驱动器中，具有严重缺陷扇区的任何磁道寄存为缺陷磁道，并且接近这种磁道的磁道或扇区也寄存为缺陷磁道。因此采取措施来防止产生其他缺陷。

更具体而言，在接近具有严重缺陷扇区的磁道附近的任何扇区中不进行数据读写。然而，在某些情况下，对于在除缺陷磁道之外即除寄存为缺陷扇区的数据扇区之外的任何磁道中存在的数据扇区，可以进行读写命令。通常，支承磁头12的滑块比磁道间距要宽得多。盘介质11的缺陷部分因此如果不位于磁头12下面则位于所述滑块下面。

因此，不仅在寻道操作中而且在跟踪操作中回避缺陷部分是重要的。然而在跟踪操作期间的缺陷回避和在寻道操作期间的缺陷回避几乎完全相同。下面将说明不同于在寻道操作期间执行的缺陷回避的在跟踪操作期间执行的缺陷回避。

图8示出限定用于跟踪操作的目标轨道的目标轨道限定单元。为了限定用于跟踪操作的目标轨道，对于简单的回避图形搜索表格，并且获得和应用简单回避图形的比例倍数，从而校正移动磁头的位置。缺陷接近确定单元6以和寻道操作基本相同的方式工作，但是它不仅接收当前目标位置(模型位置)Pr，而且还接收当前期望的位置Pd。所述单元6提取表示最近缺陷的位置的缺陷位置信息。然后，所述单元6产生和输出缺陷扇区间相角θ和缺陷扇区间半径dR。

校正位置参照单元(Pr表格)71参照关联于多个伺服扇区差(也就是，缺陷扇区间相角θ)寄存的图形表格，然后输出缺陷回避图形。所输出的缺陷回避图形可以是如图7A所示的图形。校正位置幅度调节单元(Gp)72利用增益Gp放大缺陷回避图形，其中所述增益Gp和缺陷扇区间半径dR成反比例。所述单元72将缺陷回避图形添加到期望位置Pd，产生目标位置(模型位置)Pr。

上述过程改变每个伺服扇区的目标位置。利用常规伺服***，磁头12因此可以足够高精度地跟随所述目标位置。磁头的位置Pos和目标位置(模型位置)Pr几乎相同，并且可以实现缺陷回避。缺陷扇区间相角θ可以通过参照缺陷回避图形来获得。在这种情况下，所述磁头不移动到期望位置Pd。然后抑制数据读取和数据写入。数据读取和数据写入可以在已经参照缺陷回避图形之后执行。

在图8中，方块73和74不是绝对需要的。Gu是限定为dR的函数的增益，和增益Gp类似。

如上所述，控制磁头不在盘介质上的任何缺陷部分上方移动，或者回避这种缺陷部分。这防止不希望的事件例如后期缺陷。

(其他实施例)

图9和10是根据本发明的另一个实施例的目标轨道限定单元的框图，它设计成限定用于寻道操作的目标轨道。

图10是示出目标轨道限定单元的基本结构的框图，其中所述目标轨道限定单元限定的轨道中磁头移动以回避任何缺陷。在所述基本结构中，缺陷回避单元5具有缺陷接近确定单元6、回避力生成单元8以及校正轨道生成模型9。产生用于实现缺陷回避的校正值的两个虚拟模型***8和9设置在目标轨道限定单元30的外部。

用于限定磁头移动以回避任何缺陷的轨道的目标轨道限定单元产生两个输出。一个输出是Pr，它是目标轨道限定单元30的输出P1和虚拟模型***9的输出P2的和。另一个输出是Um，它是目标轨道限定单元30的输出U1和虚拟模型***8的输出U2的和。图9示出图10所示的基本结构的变型。

如上所述，磁头12可以在上述实施例中得以控制，以便在寻道操作和跟踪操作期间不在缺陷部分上方移动或者回避缺陷部分(如果在盘介质11上存在缺陷部分)地移动。这可以防止后期缺陷，例如任何缺陷部分的扩大以及对磁头12造成损坏。

本领域技术人员将容易理解出其他的优点和变型。因此，本发明在广义上讲不限于所示所述的具体细节和代表性实施例。因此，在不脱离所附权利要求及其等同物限定的总体发明构思的精神或范围下，可以进行多种变型。

Claims (11)

1.一种盘驱动器，其特征在于，包括：

磁头移动机构，其将磁头移动到旋转盘介质上的期望位置；

磁头运动控制单元，其在每个采样时间内限定从当前磁头位置延伸至所述期望位置的磁头运动轨迹，从而控制所述磁头移动机构；

存储单元，其存储表示所述盘介质上存在的缺陷部分的位置的缺陷位置信息；

确定单元，当所述磁头移动机构向所述期望位置移动所述磁头时，所述确定单元在每个采样时间中从所述缺陷位置信息确定接近所述缺陷部分的所述磁头的位置；以及

回避单元，所述回避单元基于所述确定单元确定的位置改变所述磁头的运动轨道，从而使得所述磁头回避所述缺陷部分。

2.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元由模型跟随控制***构成；以及所述回避单元被配置为使得虚拟模型位置回避所述缺陷部分。

3.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元被配置为通过模型跟随控制方法来执行寻道控制；所述确定单元基于所述虚拟模型位置、所述磁头当前所在的所述伺服扇区以及所述缺陷位置信息，计算沿径向从伺服扇区到缺陷扇区的距离以及、沿周向的作为缺陷扇区间相角的距离；以及，所述回避单元被配置为，基于由所述确定单元计算出的距离校正作为虚拟模型输入值的模型驱动命令值，从而使得所述虚拟模型位置回避所述缺陷部分。

4.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述回避单元被配置为，基于源自所述缺陷部分的虚拟反作用产生校正轨道生成模型，从而改变所述磁头的运动轨道。

5.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元被配置为，通过模型跟随控制方法来执行寻道控制；所述确定单元被配置为，计算到缺陷部分的距离，所述缺陷部分沿磁头移动以及进行寻道操作的方向邻近所述磁头当前所在的位置；以及，所述回避单元被配置为，基于通过所述确定单元计算的距离，产生缺陷回避速度，以及输出所述缺陷回避速度作为用于寻道操作的速度的速度校正值。

6.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元被配置为，通过模型跟随控制方法来执行寻道控制；所述确定单元被配置为，计算到缺陷部分的距离，所述缺陷部分沿磁头移动以及进行寻道操作的方向邻近所述磁头当前所在的位置；所述回避单元被配置为，基于通过所述确定单元计算出的距离，产生缺陷回避速度，以及输出所述缺陷回避速度作为用于寻道操作的速度的速度校正值；以及，所述磁头运动控制单元包括速度生成单元，所述速度生成单元将利用所述校正值校正的速度值转换成虚拟模型输入值，以及将所述虚拟模型输入值输出为虚拟模型命令。

7.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元被配置为，通过模型跟随控制方法来执行寻道控制；以及，所述回避单元被配置为，产生校正的位置信息，所述校正的位置信息使得虚拟模型位置回避所述缺陷部分。

8.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述确定单元从所述缺陷位置信息检测所述缺陷部分，并且确定所述磁头已经接近所述缺陷部分的位置；以及，所述回避单元被配置为，基于源自所述缺陷部分的虚拟反作用改变所述磁头的运动轨道，从而使得所述磁头回避所述缺陷部分。

9.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元由微处理器构成，所述微处理器被配置为，通过模型跟随控制方法来执行寻道控制。

10.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述确定单元和所述回避单元由微处理器构成。

11.一种控制磁头运动的方法，包括磁头移动机构和磁头运动控制单元，所述磁头移动机构将磁头移动到旋转盘介质上的期望位置，所述磁头运动控制单元限定磁头的从所述磁头当前所在的位置延伸到期望位置的运动轨道，从而控制所述磁头移动机构，所述方法的特征在于，包括：

从所述缺陷位置信息，确定所述磁头接近所述缺陷部分的位置，同时通过所述磁头移动机构将所述磁头向期望位置移动；以及

基于确定的位置执行改变所述磁头的运动轨道的缺陷回避过程，从而使得所述磁头回避所述缺陷部分。

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