CN101153975A - 液晶显示面板及此液晶显示面板的制造方法 - Google Patents

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CN101153975A
CN101153975A CNA2006101317315A CN200610131731A CN101153975A CN 101153975 A CN101153975 A CN 101153975A CN A2006101317315 A CNA2006101317315 A CN A2006101317315A CN 200610131731 A CN200610131731 A CN 200610131731A CN 101153975 A CN101153975 A CN 101153975A
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China
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何璨佑
陈丁振
江欣峻
李美儒
吴邦豪
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TTLA
Industrial Technology Research Institute ITRI
Chunghwa Picture Tubes Ltd
Chi Mei Optoelectronics Corp
Hannstar Display Corp
AU Optronics Corp
Quanta Display Inc
TPO Displays Corp
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TTLA
Industrial Technology Research Institute ITRI
Toppoly Optoelectronics Corp
Chunghwa Picture Tubes Ltd
Chi Mei Optoelectronics Corp
Hannstar Display Corp
AU Optronics Corp
Quanta Display Inc
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Abstract

本发明提出了一液晶显示面板及此液晶显示面板的制造方法。此方法首先提供第一基板以及第二基板,接着于第一与第二基板至少其中之一的表面上形成液晶单体层。之后进行处理步骤,以使液晶单体层进行聚合反应而形成液晶聚合物层。接着,将第一与第二基板组合在一起,并于第一与第二基板之间填入液晶层。本发明的方法可以使得液晶显示面板具有较强的锚定能,以及减少表面滑动和减低V-T曲线偏移等现象,其有助于改善液晶显示器的光电特性与显示品质,如减少残影现象等。

Description

液晶显示面板及此液晶显示面板的制造方法
技术领域
本发明是有关于一种显示面板及此显示面板的制造方法,且特别是有关于一种液晶显示面板及此液晶显示面板的制造方法,其可以改善液晶显示面板(liquid crystal display panel)中的配向表面的锚定能(anchoring energy)不足的问题,以及改善表面滑动(surface gliding)和V-T(voltage-Transmittance)曲线偏移的表现,其有助于改善液晶显示器的光电特性,如减少残影(imagingsticking)现象等。
背景技术
随着电脑性能的大幅进步以及网际网路、多媒体技术的高度发展,视频或影像装置的体积日渐趋于轻薄。在显示器的发展上,随着光电技术与半导体制造技术的进步,具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的液晶显示器已逐渐成为市场的主流。
液晶显示器包括了背光模组以及液晶显示面板,而传统液晶显示面板是由两基板以及填于两基板之间的液晶层所构成。一般而言,在液晶显示面板的制造过程中,都会在两基板上形成配向膜,以使液晶分子具有特定的排列。已知形成配向膜的方法是先涂布配向材料之后,再对配向材料进行配向工艺。而配向工艺可以分成接触式配向工艺以及非接触式配向工艺。虽然非接触式配向工艺可解决接触式磨擦配向产生的静电问题及粒子(particle)污染等问题,但是其往往会发生配向表面的锚定能不足的问题。而如果配向表面的锚定能不足,则将往往导致液晶显示面板的显示品质不佳。
发明内容
本发明的目的是提供一液晶显示面板及此液晶显示面板的制造方法,以使液晶显示面板具有优选的锚定能,以及改善表面滑动(surface gliding)和V-T(voltage-Transmittance)曲线偏移的表现,其有助于改善液晶显示器的光电特性,如减少残影(imaging sticking)现象等。
本发明提出了一液晶显示面板,其包括第一基板以及第二基板;至少一液晶聚合物层,位于第一与第二基板至少其中之一的表面上;以及液晶层,位于第一与第二基板之间。
在本发明一实施例中,第一与第二基板的表面为导电层或是绝缘层。
在本发明一实施例中,第一基板是有源器件阵列基板或是无源矩阵基板,第二基板是彩色滤光基板或是对向电极基板。
在本发明一实施例中,液晶显示面板还包括至少一配向层,配置于第一基板表面与该液晶聚合物层之间以及第二基板表面与液晶聚合物层之间至少其中之一处。
在本发明一实施例中,配向层的材料包括聚乙烯醇(poly vinyl alcohol)、聚酰亚胺(polyimide)、聚酰胺酸(polyamic acid)、偶氮苯(Azo-benzene)、聚乙烯桂皮酯(poly vinyl cinnamate)、具有香豆素官能基(Coumarin group)的化合物,具有查尔酮官能基(Chalcone groups)的化合物或是聚酰胺酸(polyamicacid)。
在本发明一实施例中,配向层的材料包括类钻石碳(diamond-likecarbon)、氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiNx)。
本发明提出一液晶显示的制造方法,此方法首先提供第一基板以及第二基板,接着,在第一与第二基板至少其中之一的表面上形成液晶单体层。之后,进行处理步骤,以使液晶单体层进行聚合反应而形成液晶聚合物层。接着,再将第一与第二基板组合在一起,并于第一与第二基板之间填入液晶层。
在本发明一实施例中,第一与第二基板的表面为导电层或是绝缘层。
在本发明一实施例中,处理步骤包括照光步骤或是加热步骤。
在本发明一实施例中,第一基板是有源器件阵列基板或是无源矩阵基板,第二基板是彩色滤光基板或是对向电极基板。
在本发明一实施例中,第一与第二基板至少其中之一的表面上形成液晶单体层之前,还包括先对第一与第二基板至少其中之一的表面进行配向工艺。
在本发明一实施例中,配向工艺包括粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺。
在本发明一实施例中,配向工艺为多域配向工艺。
在本发明一实施例中,多域配向工艺可以由粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺至少择一搭配进行。
在本发明一实施例中,在形成液晶单体层之前,还包括先在第一与第二基板至少其中之一的表面上形成一配向层。
在本发明一实施例中,配向层的材料包括聚乙烯醇(poly vinyl alcohol)、聚酰亚胺(polyimide)、聚酰胺酸(polyamic acid)、偶氮苯(Azo-benzene)、聚乙烯桂皮酯(poly vinyl cinnamate)、具有香豆素官能基(Coumarin group)的化合物,具有查尔酮官能基(Chalcone groups)的化合物或是聚酰胺酸。
在本发明一实施例中,配向层的材料包括类钻石碳(diamond-likecarbon)、氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiNx)。
在本发明一实施例中,先在第一与第二基板至少其中之一的表面上形成配向层之后,还包括对配向层进行一配向工艺。配向工艺包括粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺。
在本发明一实施例中,配向工艺为多域配向工艺。
在本发明一实施例中,多域配向工艺可以由粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺至少择一搭配进行。
本发明藉由液晶聚合物层可以提升液晶显示面板的锚定能。另外,本发明亦可以在已配向处理的膜层上形成液晶聚合物层以作为配向辅助层,其可以提升液晶分子的配向特性,以大幅改善配向后锚定能不足的问题。因此本发明的方法可以降低表面滑动和降低V-T曲线偏移的现象,进而增加液晶显示面板的显示品质,以降低残影等问题。
为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。
附图说明
图1A至图1E是依照本发明第一实施例的液晶显示面板的制造流程剖面示意图。
图2A至图2E是依照本发明第二实施例的液晶显示面板的制造流程剖面示意图。
图3的图片显示出第一基板与第二基板表面在未加液晶聚合物层时,经加热及加电压老化后,IPS电极区会发现严重的表面滑动现象。
图4的图片显示出第一基板与第二基板表面在加入液晶聚合物层之后,经加热及加电压老化后,IPS电极区无发现表面滑动现象。
图5的图表显示出当未在第一基板和第二基板表面上无形成液晶聚合物层时,其V-T曲线偏移非常严重。
图6的图表显示出当分别在第一基板和第二基板表面上形成液晶聚合物层,只有极小的V-T曲线偏移。
【主要元件符号说明】
100、200:基板               102、202:膜层
104、204、122、222:配向工艺 106、206:液晶单体层
108、208:处理步骤           106a、206a:液晶聚合物层
150:液晶层                  120、220:配向材料层
具体实施方式
第一实施例
图1A至图1E是依照本发明第一实施例的液晶显示面板的制造流程剖面示意图。请参照图1A,首先提供第一基板101以及第二基板201,第一基板101例如是有源器件阵列基板或是无源矩阵基板,而第二基板201例如是彩色滤光基板或是对向电极基板。更详细的说明是,第一基板101是由基板100以及形成在基板100上的膜层102所构成,第二基板20l是由基板200以及形成在基板200上的膜层202所构成。基板100、200可以是玻璃基板、硅基板、可挠式塑胶基板或是已知任何可以应用于制作显示面板的基板。倘若本发明的显示面板是无源显示面板,则膜层102以及膜层202例如分别为电极层。倘若本发明的显示面板是有源显示面板,则膜层102例如是有源器件阵列层(active device array layer),而膜层202例如是公共电极层(commonelectrode layer)。上述的电极层的材料例如是有机导电材料,其例如是聚(3,4-乙烯二羟基噻吩)(poly(3,4-ethylene dioxythiophene),PEDOT等,或是无机导电材料,其例如是铟锡氧化物或铟锌氧化物等。依照本发明的其他实施例,膜层102以及膜层202除了可以是如上述的导电层(电极层或是有源器件阵列层)之外,膜层102以及膜层202的表层还可以是绝缘层,其例如是在电极层或是有源器件阵列层上再覆盖一层绝缘层,此绝缘层可以是保护层(passivation layer)、覆盖层(overcoat layer)或平坦层(planarization layer)。上述的绝缘层的材料例如是有机绝缘材料,其例如是有机树脂或彩色滤光层,或是无机绝缘材料,其例如是氧化硅或氮化硅。
接着,请参照图1B,分别对第一基板101以及第二基板201的表面进行配向工艺104、204。此配向工艺104、204例如是粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺。在一实施例中,上述的粒子束配向工艺例如是离子束配向工艺、电子束配向工艺、等离子体配向工艺或是斜向蒸镀配向工艺。也就是,利用离子束、电子束、等离子体或是斜向蒸镀对第一基板101以及第二基板201的表面进行非接触式的配向。另外,接触式配向工艺例如是滚轮摩擦(rubbing)配向工艺、纳米刻印工艺(nano imprinting)或是原子力显微探针接触(atomic force microscopy probe contact)配向工艺。再者,光反应配向工艺例如是光致聚合(photo-polymerization)配向工艺、光致断键(photo-decomposition)配向工艺或是光致异构化(photo-isomerization)配向工艺。上述的光反应配向工艺也是一种非接触式的配向方法,其是利用照光使得第一基板101以及第二基板201的表面产生聚合反应、断键反应或是异构化反应,异构化反应指的是由反式(trans)结构转变成顺式(cis)结构或是由顺式(cis)结构转变成反式(trans)结构。
在另一实施例中,上述的配向工艺104、204可以是多域配向工艺,也就是至少在第一基板101以及第二基板201的表面进行多区域的配向工艺。如此可以使得第一基板101以及第二基板201的表面的不同区域具有不同的配向方向。而且,此多域配向工艺还可以使用粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺至少择一搭配使用,以达到多域配向的目的。
之后,请参见图1C,分别在已配向的第一基板101以及第二基板201的表面上形成液晶单体层106、206。在第一基板101以及第二基板201的表面上形成液晶单体层106、206的方法例如是旋转涂布法(spin coating)、狭缝模具式涂布法(slot die coating)、网板印刷法、蒸镀法、凸板印刷法、喷墨印刷法或是任意一种可涂布的方法。另外,液晶单体层106、206可以是水平式(homogeneous type)液晶单体、垂直式(homeotropic type)液晶单体或是水平与垂直混合型式的单体。也可以是多层式的液晶单体,如水平式液晶单体、垂直式液晶单体或是水平与垂直混合型式的单体至少择一,以形成多层式的液晶单体。在一实施例中,水平式液晶单体例如是化学式(1)所示的化合物,其可参考US 6,597,422。
化学式(1)
Figure A20061013173100081
之后,对图1C的液晶单体层106、206进行处理步骤108、208,以使液晶单体层106、206进行聚合反应,而形成液晶聚合物层106a、206a,如图1D所示。在一优选实施例中,上述的处理步骤108、208例如是照光步骤或是加热步骤。接着,请参见图1E,将第一基板101以及第二基板201组合在一起,并于第一基板101以及第二基板201之间填入液晶层150。
在本实施例中,除了对第一基板101以及第二基板201的表面进行配向处理之外,更在已配向的第一基板101以及第二基板201的表面上形成液晶聚合物层106a、206a,此液晶聚合物层106a、206a可以作为配向辅助层,以改善传统使用非接触式配向工艺时,其锚定能不足的问题,进而改善液晶显示面板的显示品质。
在上述的实施例中,是于两基板上皆进行配向工艺,且于两基板上都形成液晶聚合层为例已说明的,但是本发明不限于必须于两基板上都进行配向工艺以及形成液晶聚合物层,本发明亦可以仅在其中一基板上进行配向工艺以及形成液晶聚合物层。
此外,本发明亦可以直接在第一基板101以及第二基板201的表面上形成液晶聚合层而不需另外作配向工艺,也就是在图1A的步骤之后,省略了图1B的步骤,而直接进行图1C所示的涂布液晶单体层106、206的步骤;以及进行处理步骤108、208,以形成如图1D所示的液晶聚合物层106a、206a。由于一般垂直配向型(vertical alignment)液晶显示面板并不一定需要进行配向处理,因此本发明利用液晶聚合物层以改善液晶显示面板的显示品质的方法亦可以应用于不需要配向处理的垂直配向型液晶显示面板中。
本发明的方法亦可以应用于现有需使用配向材料的液晶显示面板中,如详细说明如第二实施例。
第二实施例
图2A至图2E是依照本发明第二实施例的液晶显示面板的制造流程剖面示意图。请参照图2A,首先提供第一基板101以及第二基板201。第一、第二基板101、201的组成与材料如第一实施例所述,在此不再赘述。之后,在第一基板101以及第二基板201表面上分别形成第一配向材料层120以及第二配向材料层220。第一与第二配向材料层120、220可以是有机配向材料或是无机配向材料。在一实施例中,有机配向材料包括聚乙烯醇(poly vinylalcohol)、聚酰亚胺(polyimide)、聚酰胺酸(polyamic acid)、偶氮苯(Azo-benzene)、聚乙烯桂皮酯(poly vinyl cinnamate)、具有香豆素官能基(Coumarin group)的化合物,具有查尔酮官能基(Chalcone group)的化合物或是其他已知的有机配向材料。在另一实施例中,无机配向材料包括类钻石碳(diamond-like carbon)、氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或是其他已知的无机配向材料。
接着,请参见图2B,分别对第一与第二配向材料层120、220进行配向工艺122、222。在一实施例中,配向工艺122、222例如是粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺。在一实施例中,上述的粒子束配向工艺例如是离子束配向工艺、电子束配向工艺、等离子体配向工艺或是斜向蒸镀配向工艺。另外,接触式配向工艺例如是滚轮摩擦配向工艺、纳米刻印工艺或是原子力显微探针接触配向工艺。再者,光反应配向工艺例如是光致聚合配向工艺、光致断键配向工艺或是光致异构化配向工艺。同样地,上述的配向工艺122、222亦可以是如先前所述的多域配向工艺。
接着,请参见图2C,在已配向的第一与第二配向材料层120、220上形成液晶单体层106、206。液晶单体层106、206的材料与第一实施例相同或相似。接着,对图2C的液晶单体层106、206进行处理步骤108、208,以使液晶单体层106、206进行聚合反应,而形成液晶聚合物层106a、206a,如图2D所示。在一优选实施例中,上述的处理步骤108、208可以是照光步骤或是加热步骤。接着,请参见图2E,将第一与第二基板101、201组合在一起,并于第一与第二基板101、201之间填入液晶层150。
在本实施例中,除了利用配向工艺对第一与第二配向材料进行配向处理之外,更在已配向的第一与第二配向材料层上形成液晶聚合物层106a、206a,此液晶聚合物层106a、206a可以作为配向辅助层,以改善传统利用非接触式配向工艺时,其锚定能不足的问题,进而改善液晶显示面板的显示品质。
另外,在上述的实施例中,是于两基板上的配向材料层的表面皆进行配向工艺,且于两基板上都形成液晶聚合物层为例以说明的,但是本发明不限于必须于两基板上都进行配向工艺以及形成液晶聚合物层,本发明亦可以仅在其中一基板上进行配向工艺以及形成液晶聚合物层。
在上述的实施例中,是于两基板上形成配向材料层并且对配向材料层进行配向工艺以说明的,但是本发明亦可以直接在配向材料层上形成液晶聚合物层而不需进行配向工艺。也就是在图2A的步骤之后,省略了图2B的步骤,而直接进行图2C所示的涂布液晶单体层106、206的步骤;以及进行处理步骤108、208,以形成如图2D所示的液晶聚合物层106a、206a。由于一般垂直配向型(vertical alignment)液晶显示面板并不一定需要进行配向处理,因此本发明利用液晶聚合物层以改善液晶显示面板的显示品质的方法亦可以应用于不需要配向处理的垂直配向型液晶显示面板中。
以下举数个示例,以说明本发明采用液晶聚合物层以作为配向辅助层,确实可以改善液晶显示面板的显示品质,但这些示例并非用以限定本发明。请参见表1,在表1中,配向材料RD-100为ELSICON公司所生产;配向材料PIA-5310-06C为CHISSO公司所生产;配向材料SE-7492和RN-1349为NISSAN公司所生产。另外,示例1-5为液晶显示面板中有形成液晶聚合物层以作为配向辅助层,而比较例1-5为未使用液晶聚合物层以作为配向辅助层。表面滑动(surface gliding)测试“OK”表示其配向表面具有一定强度的锚定能,而表面滑动测试“X”表示其配向表面的锚定能不足。其测试方法及原理可参考由T.Suzuki等人在IDW2005所发表的论文(LCT3-3)。另外,V-T曲线偏移测试“OK”表示该液晶显示面板具有稳定的光电特性,而V-T曲线偏移测试“X”表示该液晶显示面板的光电特性较差。
表1
  配向材料   配向工艺   液晶聚合物层  表面滑动测试(surface gliding)  V-T曲线偏移测试
 示例1   RD-100   照光   有  OK  OK
 比较例1   RD-100   照光   无  X  X
 示例2   RN-1349   照光   有  OK  OK
 比较例2   RN-1349   照光   无  X  X
 示例3   RD-100   离子束   有  OK  OK
 比较例3   RD-100   离子束   无  X  X
 示例4   PIA-5310-06C   离子束   有  OK  OK
 比较例4   PIA-5310-06C   离子束   无  X  X
 示例5   SE-7492   滚轮摩擦   有  OK  OK
 比较例5   SE-7492   滚轮摩擦   无  OK  OK
在以下表2中另外列出一示例以及一比较例,以说明本发明采用液晶聚合物层以作为配向辅助层,确实可以改善液晶显示面板中的锚定能,但这些示例并非用以限定本发明。由表2可知,示例1因使用了液晶聚合物层作为配向辅助层,其锚定能确实明显比比较例1来得高。
表2
  配向材料   配向工艺   液晶聚合物层   锚定能(J/m2)
 示例1   RD-100   照光   有   9.17E-05
 比较例1   RD-100   照光   无   1.37E-05
以下更例举出第一基板与第二基板表面在未加液晶聚合物层时,经加热以及加电压老化后的表面滑动现象(如图3中左上方所示),以及在第一基板与第二基板表面已加入液晶聚合物层之后再经加热和加电压老化后的表面滑动现象(如图4左上方所示)。在图3中,可发现有严重的表面滑动现象,而在图4中,并无表面滑动现象产生。
另外,在此更例举出当未在第一基板和第二基板表面上形成液晶聚合物层时,其V-T曲线偏移的情形(如图5所示),以及当分别在第一基板和第二基板表面上形成液晶聚合物层,其V-T曲线偏移的情形(如图6所示)。在图5中,可看见V-T曲线偏移非常严重,而在图6中,V-T曲线偏移的情形非常轻微。
综上所述,本发明具有下列优点:
1.本发明在液晶显示面板中形成液晶聚合物层,可以提升液晶显示面板的锚定能,以及改善表面滑动和V-T曲线偏移的表现,其有助于改善液晶显示器的光电特性,如减少残影现象等。
2.在本发明的一实施例中,在进行配向工艺之后,更于已配向的基板表面形成液晶聚合物层以作为配向辅助层。即使先前的配向工艺是采用非接触式配向工艺,但由于此液晶聚合物层的配向辅助作用,因此可以大幅改善配向的锚定能,进而提升液晶显示面板的显示品质。
3.本发明亦可以应用于现有已有使用配向材料的液晶显示面板中,也就是在对配向材料进行配向工艺之后,再于已配向的配向材料上形成液晶聚合物层以作为配向辅助层。由于此液晶聚合物层的配向辅助作用,因此可以大幅改善传统使用非接触式配向工艺时所存在的配向的锚定能不足的问题。
虽然本发明已以优选实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明,任何本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作些许的更动与润饰,因此本发明的保护范围当视权利要求所界定者为准。

Claims (21)

1.一种液晶显示面板,包括:
第一基板以及第二基板;
至少一液晶聚合物层,位于该第一与第二基板至少其中之一的表面上;
液晶层,位于该第一与第二基板之间。
2.如权利要求1的液晶显示面板,其中该第一与第二基板的表面为导电层或是绝缘层。
3.如权利要求1的液晶显示面板,其中该第一基板是有源器件阵列基板或是无源矩阵基板,该第二基板是彩色滤光基板或是对向电极基板。
4.如权利要求1的液晶显示面板,还包括至少一配向层,配置于该第一基板表面与该液晶聚合物层之间以及该第二基板表面与该液晶聚合物层之间至少其中之一处。
5.如权利要求4的液晶显示面板,其中该配向层的材料包括聚乙烯醇、聚酰亚胺、聚酰胺酸、偶氮苯、聚乙烯桂皮酯、具有香豆素官能基的化合物,具有查尔酮官能基的化合物或是聚酰胺酸。
6.如权利要求4的液晶显示面板,其中该配向层的材料包括类钻石碳、氧化硅或氮化硅。
7.一种液晶显示面板的制造方法,包括:
提供第一基板以及第二基板;
在该第一与第二基板至少其中之一的表面上形成液晶单体层;
进行处理步骤,以使该液晶单体层进行聚合反应而形成液晶聚合物层;以及
将该第一与第二基板组合在一起,并于该第一与第二基板之间填入液晶层。
8.如权利要求7的液晶显示面板的制造方法,其中该第一与第二基板的表面为导电层或是绝缘层。
9.如权利要求7的液晶显示面板的制造方法,其中该处理步骤包括照光步骤或是加热步骤。
10.如权利要求7的液晶显示面板的制造方法,其中该第一基板是有源器件阵列基板或是无源矩阵基板,该第二基板是彩色滤光基板或是对向电极基板。
11.如权利要求7的液晶显示面板的制造方法,其中在该第一与第二基板至少其中之一的表面上形成该液晶单体层之前,还包括先对该第一与第二基板至少其中之一的表面进行配向工艺。
12.如权利要求11的液晶显示面板的制造方法,其中该配向工艺包括粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺。
13.如权利要求11的液晶显示面板的制造方法,其中该配向工艺为多域配向工艺。
14.如权利要求13的液晶显示面板的制造方法,其中该多域配向工艺可以由粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺至少择一搭配进行。
15.如权利要求7的液晶显示面板的制造方法,其中在形成该液晶单体层之前,还包括先在该第一与第二基板至少其中之一的表面上形成配向层。
16.如权利要求15的液晶显示面板的制造方法,其中该配向层的材料包括聚乙烯醇、聚酰亚胺、聚酰胺酸、偶氮苯、聚乙烯桂皮酯、具有香豆素官能基的化合物,具有查尔酮官能基的化合物或是聚酰胺酸。
17.如权利要求15的液晶显示面板的制造方法,其中该配向层的材料包括类钻石碳、氧化硅或氮化硅。
18.如权利要求15的液晶显示面板的制造方法,其中先在该第一与第二基板至少其中之一的表面上形成该配向层之后,还包括对该配向层进行配向工艺。
19.如权利要求18的液晶显示面板的制造方法,其中该配向工艺包括粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺。
20.如权利要求18的液晶显示面板的制造方法,其中该配向工艺为多域配向工艺。
21.如权利要求20的液晶显示面板的制造方法,其中该多域配向工艺可以由粒子束配向工艺、光反应配向工艺或是接触式配向工艺至少择一搭配进行。
CNA2006101317315A 2006-09-29 2006-09-29 液晶显示面板及此液晶显示面板的制造方法 Pending CN101153975A (zh)

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