CN101124133A - 用于调整距离的非接触支撑平台 - Google Patents

用于调整距离的非接触支撑平台 Download PDF

Info

Publication number
CN101124133A
CN101124133A CNA2005800113367A CN200580011336A CN101124133A CN 101124133 A CN101124133 A CN 101124133A CN A2005800113367 A CNA2005800113367 A CN A2005800113367A CN 200580011336 A CN200580011336 A CN 200580011336A CN 101124133 A CN101124133 A CN 101124133A
Authority
CN
China
Prior art keywords
platform
equipment
pressure
district
fluid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2005800113367A
Other languages
English (en)
Inventor
宇弗·雅索
阿里·哈尼克
希勒·莱克曼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
COREFLOW SCIENT SOLUTIONS Ltd
Original Assignee
COREFLOW SCIENT SOLUTIONS Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by COREFLOW SCIENT SOLUTIONS Ltd filed Critical COREFLOW SCIENT SOLUTIONS Ltd
Publication of CN101124133A publication Critical patent/CN101124133A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25H—WORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
    • B25H1/00—Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby
    • B25H1/02—Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby of table type
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/063—Transporting devices for sheet glass
    • B65G49/064—Transporting devices for sheet glass in a horizontal position
    • B65G49/065—Transporting devices for sheet glass in a horizontal position supported partially or completely on fluid cushions, e.g. a gas cushion
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/27—Work carriers
    • B24B37/30—Work carriers for single side lapping of plane surfaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25H—WORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
    • B25H1/00—Work benches; Portable stands or supports for positioning portable tools or work to be operated on thereby
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
    • B25H—WORKSHOP EQUIPMENT, e.g. FOR MARKING-OUT WORK; STORAGE MEANS FOR WORKSHOPS
    • B25H3/00—Storage means or arrangements for workshops facilitating access to, or handling of, work tools or instruments
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
    • F16C29/02—Sliding-contact bearings
    • F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67784—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00—Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/02—Controlled or contamination-free environments or clean space conditions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00—Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/04—Arrangements of vacuum systems or suction cups
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G2249/00—Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
    • B65G2249/04—Arrangements of vacuum systems or suction cups
    • B65G2249/045—Details of suction cups suction cups

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
  • Invalid Beds And Related Equipment (AREA)
  • Vibration Prevention Devices (AREA)

Abstract

一种非接触地将静态或运动的基本平坦物体支撑在流体垫上的设备，物体漂浮在流体垫间隙上，该设备用于整体或局部调整该间隙，该设备包括：用于非接触地支撑物体的第一平台，该平台具有基本平坦的作用面，作用面上包含一个或多个区，每个区包含至少多个压力出口之一，该压力出口通过压力限流器连接至基本单元所在的该区的高压歧管，高压歧管通过主供应管道连接至加压流体供给装置，且至少多个流体***通道之一连接至基本单元所在的具有主***管路的该区的低压歧管；其中，限流器表现为流体复位弹簧的作用；且，其中至少一个压力控制阀放入至少一个区的至少两主管道之一，用于控制该区的至少两个歧管之一内的压力水平。

Description

用于调整距离的非接触支撑平台
技术领域
本发明涉及局部和整体距离调整的方法和***，以及涉及非接触支撑平台。
背景技术
在已有的***中，例如作为基板，如半导体(SC)薄晶片(700微米或更低)，的光学检查工艺的一部分，或者作为半导体光刻工艺的一部分，所述晶片被附在称为“卡盘”的支撑平台，用以完成此工艺，这需要垂直移动卡盘，例如相对于光学设备(或者垂直移动光学设备)，从而局部调整晶片的面向表面相对光学设备的距离。这些***利用机电和/或压电调整机构，以提供较高精度的聚焦，例如，可达很少纳米。这些***也可利用被称为“步进”机构，以提供物体和静止光学设备的相对平面(XY)运动。在很多情况下，步进机构所要求的该平面运动(扫描或点对点运动)可以在三维上很精确，例如，精确至10和更少纳米。当前***采用直线运动，(例如，支撑直线运动的矩形平板显示器的精确平台，该平板显示器的面积可达6m2)，物体旋转运动和/或平面(XY)运动，以提供物体面向的表面和光学设备之间的横向相对运动.因此，必须结合横向移动物体，动态调整光学设备下的焦距，至少局部调整.
因此，对焦装置的反应时间和/或横向运动机构的反应时间将关系到这些***的生产能力。
当晶片通过真空或静电机构由卡盘夹紧时，如果亚微粒子，比如大于或等于0.5微米，被捕获入晶片和卡盘之间，可能产生此外的故障。粒子可导致晶片面向的表面局部变形，这将导致检查或光刻工艺的致命失效。该粒子可产生局部性质(小突起)的不平行度，从而对焦机构不能补偿该局部晶片的变形。
此外，基板(如硅晶片)和卡盘之间的接触可能导致损坏，例如导致晶片背面污染和/或静电损害(ESD)，或者机械损害。
发明内容
根据本发明的一些优选实施例，提供用于非物理接触地将静态或运动的基本平坦物体支撑在流体垫上的设备，物体漂浮在流体垫间隙上，该设备包括：
用于非接触地支撑物体的第一平台，该平台具有基本平坦的作用面，作用面上包含一个或多个区，每个区包含至少多个压力出口之一，该压力出口通过压力限流器连接至基本单元所在的该区的高压歧管，高压歧管通过主供应管道连接至加压流体供给装置，且至少多个流体***通道之一连接至基本单元所在的具有主***管路的该区的低压歧管；
其中，限流器表现为流体复位弹簧的作用；
且，其中至少一个压力控制阀放入至少一个区的至少两主管道之一，用于控制该区的至少两个歧管之一内的压力水平。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述至少一个压力控制阀放入至少一个区的高压歧管和加压流体供给装置之间的主供给管路，用于控制高压歧管内的压力水平。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述至少一个压力控制阀放入主***管路，用于在低压歧管控制至少一个区的压力水平。
此外，根据本发明的一些优选实施例，在主供给管路中放入一个压力控制阀，在主***管路中放入第二个压力控制阀，用于至少一个区的不同间隙控制。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述间隙的范围是100～500微米。
此外，根据本发明的一些优选实施例，采用所述至少一个压力控制阀增加或减少所述间隙至50～250微米之间。
此外，根据本发明的一些优选实施例，每个区的低压歧管通过主***管路连接至负压蓄压器，从而压力出口和流体***通道维持被支撑物体和平台作用面之间的真空预载流体垫。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述间隙的范围是10～100微米。
此外，根据本发明的一些实施例，采用所述至少一个压力控制阀来增加或减少所述间隙至5～50微米之间。
此外，根据本发明的一些实施例，所述至少一个或多个区只包含一个区，用于整体间隙调整。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该压力限流器包括自适应分段口(SASO)限流器。
此外，根据本发明的一些优选实施例，在所述至少多个流体***通道之一和低压歧管之间放入限流器。
此外，根据本发明的一些优选实施例，真空限流器包括自适应分段口(SASO)限流器。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述作用面是圆形的。
此外，根据本发明的一些优选实施例，这些区为环形，并安排成一个环及同中心的形式。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述作用面是矩形的。
此外，根据本发明的一些优选实施例，这些区基本为矩形，并安排成基本平行。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该设备还设置有至少一个邻近的非接触支撑平台，其作用面基本与该设备的所述作用面同一平面。
此外，根据本发明的一些优选实施例，这些区被中间惰性区分开。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该中间惰性区的表面低于作用区的表面。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该设备还设置有用于移动物体、平台或者两者的运动机构。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该运动机构包括用于旋转物体或平台的旋转机构。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该运动机构包括用于直线移动物体或平台的直线运动机构。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该运动机构包括用于平面移动物体或平台的平面运动机构。
此外，根据本发明的一些优选实施例，控制单元控制运动机构。
此外，根据本发明的一些优选实施例，作用面包括一个或多个工作开口。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该设备还设置有至少一个辅助装置。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述至少一个辅助装置选自辅助设备组：着陆机构，限制器，***，夹具，浮动夹具。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述至少一个辅助装置设置有弯曲部分。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述至少一个辅助装置由流体垫支撑。
此外，根据本发明的一些优选实施例，至少设置有一个活塞，用于改变至少一个区的至少一个歧管的体积。
此外，根据本发明的一些优选实施例，控制单元控制所述至少一个活塞。
此外，根据本发明的一些优选实施例，流体垫的流体是空气，从而提供气垫支撑。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该设备还包括由平台产生的流体垫支撑的中间板，同时中间板接触地支撑物体。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该设备还设置有周缘的软绝缘元件，用于绝缘和隔离中间板和平台的作用面之间的流体垫。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该设备还包括由平台产生的流体垫支撑的中间板，同时中间板非接触地支撑物体。
此外，根据本发明的一些优选实施例，设置有用于整体或局部调整所述间隙的控制单元，其通过控制所述一个或多个区的至少一个压力控制阀。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该设备还设置有至少一个与所述控制单元连接的传感器。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述至少一个传感器选自组：接近传感器，位置传感器，距离传感器，压力传感器，厚度传感器。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该流体垫间隙通过(a)面对平台作用面的薄且基本平坦的物体表面与(b)平台作用面间的距离而整体或局部调整。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该流体垫间隙通过(a)由平台支撑的薄且基本平坦的物体顶面与(b)平台之上的工具或虚拟参考点而整体或局部调整。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该设备还设置有相对的第二平台，该相对的第二平台包括具有至少多个基本单元之一的基本平坦的作用面，每个基本单元具有通过压力限流器与高压歧管连接的至少多个压力出口之一，该高压歧管通过主供给管路连接至加压流体供给装置，至少多个流体***通道之一连接至与主***管路连接的低压歧管，其中该相对的平台的作用面基本与第一平台一样，并与第一平台基本平行，且关于第一平台镜像对称，从而产生物体的双面支撑。
此外，根据本发明的一些实施例，相对的第二平台的作用面被分成各个独立控制的区。
此外，根据本发明的一些实施例，至少该两个相对的平台之一的至少一个区的低压歧管通过所述至少一个区的主***管路连接至负压蓄压器，以产生真空预载流体垫。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该两个相对的平台的距离由物体预期的公称厚度和两流体垫的两间隙预先确定。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该双面结构中，第一平台的压力水平和负压力不同于相对的第二平台的压力水平和负压力水平。
此外，根据本发明的一些优选实施例，各个面向的区同时受控制，以实现不同间隙控制。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述面向的区是同样的。
此外，根据本发明的一些优选实施例，至少各平台之一包括至少一个工作开口，用于允许进入或观察所述物体。
此外，根据本发明的一些实施例，平台的作用面面向基本平坦表面，并漂浮在该表面上，同时漂浮间隙由至少一个压力控制阀局部或者整体调整，从而控制距离和平行度。
此外，根据本发明的一些优选实施例，通过运动机构平台可以横向穿越平坦表面，和支撑物体。
此外，根据本发明的一些优选实施例，平台适用于支撑加工工具，用于局部或者整体调整该工具相对预定参照的距离。
此外，根据本发明的一些优选实施例，平台适用于支撑航空力学对焦的光学装置。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该设备还设置有刚性漂浮的相对薄而宽的处理元件，用于支撑或移动物体，该元件可由旨在产生组合有效硬度的航空力学的硬流体垫支撑。
此外，根据本发明的一些优选实施例，提供一种整体或局部调整漂浮间隙或基本平坦物体的平面度的方法，该方法包括：
提供用于非接触支撑物体的第一平台，该平台具有基本平坦的由一个或多个区组成的作用面，每个区包括至少多个基本单元之一，每个基本单元具有通过压力限流器与基本单元所在的该区的高压歧管连接的多个压力出口之一，该高压歧管通过主供给管路连接至加压流体供给装置，而至少多个流体***管道之一连接至基本单元所在的该带有主***管路的区的低压歧管；其中流体限流器表现为流体复位弹簧的作用；且其中至少一个压力控制阀放入至少一个区的两主管道之一，用于控制该区的至少两歧管之一的压力水平；
维持流体垫；
将物体放置在流体垫上；和
由至少一个压力控制阀，通过区控制，整体或局部调整物体的漂浮间隙或平面度。
此外，根据本发明的一些实施例，该方法用于调整物体面向的面与参考元件的距离。
此外，根据本发明的一些实施例，该方法用于将物体表面相对光学装置对焦。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该方法用于将光学装置对焦于物体表面。
此外，根据本发明的一些有些优选实施例，该方法用于调整物体表面相对参考平面的平行度。
此外，根据根发明的一些优选实施例，该方法用于调整物体表面的平行度，且力作用在物体上。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该方法还包括接收用于闭或开控制环的反馈信息。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该方法用于整体或局部自动对焦。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该方法用于处理物体表面的弯曲。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该方法用于处理物体表面的弯曲，力作用在物体上。
此外，根据本发明的一些优选实施例，处理弯曲是为了整个物体的受力均匀。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该方法用于预先校准平台的作用面。
此外，根据本发明的一些优选实施例，该方法还包括设置相对的第二平台，该相对的第二平台包括基本平坦的作用面，该作用面具有通过压力限流器连接至高压歧管的至少多个压力出口之一，该高压歧管通过主供给管路连接至加压流体供给装置，至少多个流体***管道之一通过低压歧管连接至主***管路，其中相对的平台的作用面与第一平台基本相同，安装成基本平行，并关于第一平台镜像对称，从而形成物体的双面支撑。
此外，根据本发明的一些优选实施例，所述物体被静止地支撑。
此外，根据本发明的一些优选实施例，加工工具和物体之间施加控制的相对扫描运动。
此外，根据本发明的一些优选实施例，加工工具和物体之间施加控制的点对点的相对运动。
此外，根据本发明的一些优选实施例，除流体垫间隙调整的特征之外，该设备可以辅助加工工序。
此外，根据本发明的一些优选实施例，除流体垫间隙调整的特征之外，该设备可以执行加工工序。
附图说明
在说明书的结尾部分显著地指出和清楚地主张了本发明的主题。然而结合附图与下面的详细描述，本发明的机构和操作方法、以及目的、特征和优点，将得到清楚的理解：
图1是基于非接触支撑平台的设备的截面示意图，其中该设备具有用于整体调整流体间隙的航空力学机构；
图2a-2c是图1设备的非接触支撑平台的几个作用面的示意图；
图3基于非接触支撑平台的设备的截面示意图，其中平台作用面被分割成两个或者更多的单独可控制区，其中给设备具有用于整体或局部调整流体垫间隙的航空力学机构。
图4a-4f是图3设备的支撑平台的作用面的示意图，其中显示了几个区的布置。
图5-7是联合非接触支撑平台的***设备示意图；
图8a-c是联合非接触支撑平台的几个旋转机构示意图；
图9a-b是带有联合非接触支撑平台的平面运动机构的几个设备的示意图；
图10a-b是带有联合非接触支撑平台的平面运动机构的一个设备的示意图；
图11a-11b是设置有用于局部或整体调整流体垫间隙的航空力学机构的各种宽幅非接触平台的示意图；
图12a-12b是联合柔性介质的非接触平台的示意图；
图13a-b是带有用于支撑物体的中间板的非接触支撑平台的示意图；
图14a-b是支撑物体的双面非接触支撑平台的示意图；
图15是支撑光学装置的非接触支撑平台的示意图。
为了视图的简洁和清楚，图中的元件没有必要按照比例绘制。例如，一些元件的尺寸可以相对其他零件放大。另外，在适当的地方，同一个标号可表示相同或类似的元件。
具体实施方式
在下面的详细描述中，为了清楚地解释本发明，将给出很多的细节。然而，本发明领域的技术人员可以知道，没有这些细节，本发明也可以实施。另外，为了不混淆本发明，没有详细描述公知方法，工艺，元件和电路。
为了简洁明了，术语“调整”表示调整物体的面向表面与参***或虚拟参照之间的距离。本发明的术语“对焦”与“调整”类似，它在光学***中经常用到。该方向是垂直方向，即基本垂直物体面向的表面。本发明的术语“放置”意味着在与垂直方向基本垂直的平面内横向移动物体。
为了简洁明了，在很多例子中术语“基板”将作为面向装置的物体，并处于由航空力学机构(AM)调整的距离。为了简洁明了，术语“航空力学机构(AM)”也为“流体力学机构”，尽管很多情况下采用气体，例如空气，在一些其他情况液体也可根据本发明的本质而考虑。为了广义的目的，本发明将采用术语“流体垫”。尽管如此，在很多情况下，流体将采用空气，因而“流体垫”在很多情况下意味着“空气垫”。“AM机构”或“AM调整机构”的表达表示通过局部或整体控制供给非接触平台或每个区的压力来调整流体垫间隙，这将在以下描述。
以下详细描述中，术语“自动对焦”涉及到利用开或闭环控制，动态垂直调整物体面向的表面或点至距光学装置的所需距离。
本发明的实施例提供一种用于通过AM机构局部或整体调整的设备和方法，其用于调整物体面向表面和参考装置之间距离、物体面向表面关于参考平面的平行度、以及物体平面度或曲率或作用在物体面向表面的力，同时物体可以是静止或是运动的，并由流体垫基本非接触地支撑，或者由中间板或非接触平台本身接触支撑。
根据本发明的一些示范性实施例，物体可以是较薄和/或较圆物体，例如圆形硅晶片，或宽幅矩形平板显示器玻璃。
根据本发明的一些示范性实施例，AM机构的调整通过局部或整体控制物体和支撑物体的非接触支撑平台之间的流体垫实现。
参见图1，为根据本发明的示范性实施例，具有用于支撑物体110的非接触平台102的设备100的截面示意图。设备100具有航空力学(AM)机构，用于整体控制流体垫108的间隙ε，该流体垫108由面向物体110的平台102的作用面140产生。该物体可以是硅晶片。
根据本发明的示范性实施例，设备100包括产生流体垫108支撑物体110的非接触平台102。这种非接触支撑平台在国际专利申请PCT/IL02/01045中揭露，该申请名称为“HIGH-PERFORMANCE NON-CONTACT SUPPORT PLATFORMS”，公告日2003年7月24日，公告号WO030/60961(参考文献1)，在此作为参考。
本发明的设备、***和/或方法的实施方式采用参考文献1揭露的非接触支撑平台。本发明的设备、***和/或方法的其他实施方式可采用任何其他合适的非接触支撑平台或元件。
根据本发明的示范性实施例，平台102可包括如参考文献1所描述的真空预载(PV型)非接触支撑平台。支撑平台102的作用面140包括至少多个基本单元之一，每个基本单元具有一个或多个压力出口114和一个或多个流体***通道106。每个压力出口114通过相应的压力限流器112连接至高压歧管150。高压歧管150通过主供给管路170连接至高压蓄压器116，高压蓄压器可以是泵或任何其他合适的设备，提供在所需质量流量上所需的压力值。根据一些示范性实施例，过滤器138，例如亚微米级过滤器，用于过虑进入的流体，该过滤器可被放入蓄压器116和歧管150之间。在平台102的作用面140上具有进口115的每个流体***通道106，与低压歧管152连接。低压歧管152通过主***管路171连接至低压源118，例如，采用图中所示的适合于提供所需真空度的真空泵或真空源。
压力出口114和进口115可提供压力引入力维持在物体110面向表面148和表面140之间的间隙ε内的支撑流体垫108。压力限流器112表现为流体复位弹簧的作用。例如，限流器112可以是自适应分段口(SASO)喷嘴，例如国际申请PCT/IL00/00500，申请日2000年8月20日，名称“APPARATUS FOR INDUCING FORCES BY FLUID INJECTION”，公开日2001年3月22日，公开号WO 01/19572(参考文献2)中所描述，在此作为参考。
如文献1中所述，非接触真空预载型平台102通过平台102的作用面140的出口114和进口115产生夹紧PV流体垫108，其中物体110被平衡地支撑在间隙ε上。出口114可提供作用在表面148向上的力，而***进口115可提供作用在表面148上向下的力。
根据本发明的一些实施例，一个或多个真空管道106可包括限流器，例如与文献2所描述的限流器类似，它的特征在于与限流器112相比有较低的航空力学阻抗。采用***通道的限流器，以及限流器112，在作用面140没有完全被物体110覆盖的情况下是很重要的，因为通过限流器的质量流受限制。
如参考文献1所描述，PV型流体垫向上的压力可随间隙的微小减少而明显增加，结果迫使间隙的反向增加，从而可保持平衡公称间隙。反之，PV型体垫的压力可随间隙的微小增加而明显增加，结果迫使间隙的反向减小，从而可保持平衡公称间隙。这些相反力导致稳定的平衡性，因此间隙ε可以精确的维持。另外，PV型夹紧平台可实施为“颠倒”或垂直安装，例如，如参考文献1所述，用于颠倒或垂直非接触支撑物体。
设备100包括至少一个压力控制装置。设备100可包括放入主供给管路170的压力控制阀124(CV1)，用于调整高压歧管151的压力水平。设备100可选择性包括或增加，放入主***管路171的压力控制阀(CV2)，用于调整低压歧管152的压力水平。本领域技术人员应知道，***100可增加或选择性包括本领域所知的任何其他合适的压力和/或真空控制装置。
根据本发明的一些示范性实施例，流体垫的间隙ε在范围5μm至100μm或更高。高压歧管的压力水平可在10mbar至500mbar之间，而在低压歧管的低压(负压)水平可在5mbar至300mbar之间。然而，根据本发明的其他实施例，任何其他可行的压力水平都可以采用。
根据本发明的一些示范性实施例，高压歧管150的压力水平可以通过控制阀124增加或降低，而低压歧管152的低压水平不控制。从而，流体垫间隙ε随着高压歧管150的压力水平的增加而增加，随着高压歧管150的压力水平的降低而降低。做为选择，低压歧管152的压力水平可以通过控制阀120而增加或降低，而高压歧管150的压力水平不控制。从而当低压歧管152的压力水平增加时流体垫间隙ε增加，高压歧管150的压力水平降低时流体垫间隙ε减少。在两种情况下，阀120和124的压力变化可在少于1mbar至预先确定的运作压力的几十倍。从而，流体垫间隙ε可以在十几纳米至几十纳米之间变化。在这些情况下，AM调整机构的灵敏度可以是高压歧管150或低压歧管152的压力水平每变化1mbar将调节十几纳米。
根据本发明的一些示范性实施例，高压歧管150和低压歧管152的压力水平可以是增强型，用于很灵敏地调整流体垫间隙ε。例如，根据预先确定的表，通过增加高压歧管150的压力水平，同时降低低压歧管152压力水平，而产生很灵敏的用于调整流体垫间隙ε的AM机构。作为选择，根据另一个预先确定的表，通过降低高压歧管150的压力水平，同时增加低压歧管152的压力水平，而产生很灵敏的用于调整流体垫间隙ε的AM机构。这种同时调整此后将称为“差动调节模式”，它提供间隙ε调整的高灵敏度(高压歧管150和低压歧管152的压力每改变1mbar调整几纳米)。
根据本发明的一些示范性实施例，设备100可包括与高压歧管150连接的活塞160，和/或活塞162连接至低压歧管152。活塞160和/或活塞162为可控制，例如由控制单元134控制，以提供高压歧管150和低压歧管152内压力水平的暂时微调和/或快速反应。
根据本发明的实施例，设备100的控制单元134可控制压力控制阀120和124与活塞160和162，以调整流体垫间隙ε。从而，通过控制流体垫间隙ε，设备100可用于整体控制物体110的面向表面144与参***132之间的垂直距离δ，从而相对具有透镜146的光学装置132，实现表面144至少一部分的对焦，如图1所示。本领域技术人员应知道，距离δ的增加或减少范围对应与如前面所述的改变间隙ε的范围。关于高压歧管150和低压歧管152压力水平变化的距离δ的灵敏调整，也对应于前面所述的改变间隙ε的灵敏度。
根据本发明的一些示范性实施例，设备100的控制单元134可利用用于控制距离δ的开环控制，从而建立开环AM调整机构，例如联合光学装置的开环自动对焦机构。控制单元134可设置有间隙ε与高压歧管150和152相应的压力值间的预先确定的相关性，例如，以基于校正数据的查询表(LUT)的形式。控制单元134可控制至少阀120或124之一，以及活塞160和162之一。
本领域技术人员应知道，调整相对参考装置132的距离δ的相对较短的反应时间，和所需精度，可以通过采用上述开环AM调整机构实现。另外，需要强调的是，当真空预载型非接触平台102夹紧的物体110重量低时，反应时间将很短，因为只需移动物体110的质量。
单元134也可以采用初步测量的数据，例如相应晶片110整体非平面度和/或晶片110厚度或平台102的面向表面140。
根据本发明的其他示范性实施例，控制单元134可采用闭环控制，用于控制距离δ，如下所述，从而建立闭环AM调整机构，例如联合光学装置的闭环自动对焦机构。
根据本发明的一些示范性实施例，当采用闭环控制时，控制单元134可设置有一组不同的传感器，用于接收设备100的控制单元134的反馈数据。不破坏一般性，当采用闭环控制的AM机构时，设备100可采用下面的传感器，用于控制加工和接收反馈信号：
本领域公知的接近传感器136，用于感应间隙ε
本领域公知的距离传感器130，用于传感距离δ
压力传感器用于测量高压歧管150和低压歧管152的压力水平
用于接收阀120和124定位情况的数据的传感器
用于接收活塞160和162的定位情况的数据的传感器
测量物体110厚度的传感器(图未示)
传感器130和/或传感器136均可包括任何合适的光学或其他非接触距离传感装置，例如本领域公知的光电传感装置或电容性传感装置。
根据本发明的一些示范性实施例，单元134可采用任何适当的运算法则，以处理所需的数据。例如，该运算法则可处理在前操作的预处理数据。增加或作为选择，该运算法则可处理预备数据，例如，相应于支撑平台的非平面度和/或相应物体100的非平面度和厚度。
根据本发明的一些示范性实施例，物体110可相对于设备132横向放置，例如，通过横向移动晶片110、平台102和/或装置132。当物体100相对装置132横向运动静止时，相对于装置132调整物体110的至少一个部分，可以通过如上所述控制距离δ来实现。
根据本发明的另外示范性实施例，设备100的所需调整精度可达到微米或者甚至十几微米数量。在该情况中，可以将主***管路171的出口直接引入环境压力。在该情况下，平台102的作用面140产生如参考文献1所述的PA型流体垫。因此，平台102将是基本无接触地支撑物体110的PA型非接触支撑平台。PA型平台的典型流体垫间隙ε是100～500微米。
必须区别的是，当支撑的物体重量低，例如硅晶片或平板显示器玻璃的典型厚度为0.7mm，大约0.2g/cm2，非接触支撑物体的PV型平台的稳定性特点在于很高的跨越(例如提供很稳定的非接触支撑，PA型平台在稳定性和精度方面有很大下降，如前所述)。然而，当PV型平台支撑物体很重时，物体本身重量预载流体垫，从而精度和稳定性明显提高。因此，当支撑重物、精度不能少于几微米时，建议采用PA型平台，用于通过AM机构调整距离。另外，当物体不平坦时，建议采用PV型平台，因为PV型平台具有平整非平坦表面的能力，例如基板如薄晶片或宽幅薄平板显示器玻璃，因为PA型平台不能平整这样的薄基板。
根据本发明的实施例，平台102可包括任何合适的预设定平台结构，例如如下所述。
参见图2a和2b，其中示意性表示了平台结构200和平台结构210的表面140的顶视图。
根据本发明的一个示范性实施例，平台200可包括圆形作用面202。
根据另一各示范性实施例，圆形结构210可包括环形作用面212。区212的面积足够大，以整体支撑物体110。结构210也可包括惰性区214，其低于或者与区212同一水平面。区214可包括一个或多个***孔216，用于***堆积在区214上的流体，以降低任何区212上的流体垫产生的压力。表面214可增设如下所述的着陆机构，通过组合一些孔216和该机构来实现。
本领域技术人员应知道，根据本发明的其他实施例，任何合适的平台结构都可以为平台102采用。如图2c所示的矩形平台包含在本发明的范围之内。根据本发明的示范性实施例，矩形平台220包括矩形作用面222。
参见图3，它是根据本发明另一示范性实施例的设备300的截面示意图。设备300可包括适用于通过流体垫308非接触支撑物体310的非接触支撑平台302。根据本发明的示范性实施例，平台302可包括PV型非接触支撑平台，例如参考文献1所描述的维持PV型流体垫的AM结构。
根据本发明的一些实施例，设备300的平台302的作用面340可被分割成两个或多个区，例如区380、381和382。在很多细节上，设备300类似于图1所示的设备100，但是由于作用面340被分割成两个或多个区，可以有新的选择，即通过利用AM机构，选择控制一个或多个区，提供流体垫间隙ε的局部调整。此外，通过将作用面340分割成几个区，不仅可以通过AM机构调整相对参考装置332的距离，也可以使物体表面344整体或局部平行于装置332的参考平面。此外，可以调整物体310的表面344相对于虚拟平面的平面度，同时可调整作用在表面344上的力。该设备也可以通过AM机构局部复杂处理物体310，如下举例：
处理表面344的弯曲
处理作用在表面344上的力
当力作用在表面344上时，处理作用力，使表面344的受力均匀
根据本发明的一些示范性实施例，至少一个区是同时或独立地由AM机构控制，用于局部或整体调整平台320顶表面340的区与物体310表面348相应的区之间的流体垫间隙ε，如下描述。类似于平台102(图1)，平台302的作用面340的区380、381和382中的每个区，可以包括多个基本单元之一，每个基本单元可包括通过各自的限流喷嘴连接至每个区的高压歧管351、355和361的一个或多个压力出口。类似于设备100(图1)，每个区的高压歧管通过单独的主供给管路连接至压力源318，每个区的低压歧管通过单独的主***管路连接至低压源，如真空源316。
根据本发明的一些示范性实施例，为了通过AM机构局部控制流体垫间隙ε，一个或多个压力控制阀383，386，388，可放入每个区单独的主供给管路，用于控制每个区的高压歧管的压力水平，和/或一个或多个压力阀384，385，387可放入每个区单独的主***管路，用于控制每个区的高压歧管压力水平。如前所述，当采用灵敏差动调整模式时，通过在每个区同时控制压力水平，流体垫间隙ε可由AM机构局部调整。
根据本发明的一些示范性实施例，有几种可选的布置也可应用于设备300，该设备与设备300所描述的可选布置类似。为了简洁，一些修改将被简化：
在部分区没有被覆盖的情况下，至少在一部分区，可以选择增加限流器至***通道。
可以选择，至少一部分区的主***管道的出口引入环境压力条件，从而至少部分区将产生PA型流体垫，从而在某些情况下，剩余的区将产生PV型流体垫。
可以选择在设备300的至少部分歧管增加活塞。
根据本发明的示范性实施例，***300也可包括控制单元334，用于通过在每个区的主管路放入压力控制阀，控制每个区的每个歧管的压力水平。
根据本发明的实施例，设备300可用于通过AM机构局部或整体调整流体垫间隙ε。
根据本发明的实施例，设备300可用于通过AM机构整体或局部调整流体垫间隙ε，从而整体或局部调整被支撑物体的面向表面的一部分与参***之间的距离δ。此外，通过局部或整体调整流体垫间隙ε，被支撑物体的面向表面的一部分与参考面间的平行度，可以通过AM机构整体或局部调整。
根据本发明的一些示范性实施例，控制单元334可采用开环控制或闭环控制，用于相对于参考装置自动调整距离δ。控制单元334可控制设备300的每个区的压力水平，并具有与设备100的控制单元134相类似反馈传感器。控制单元334控制提供给装置300的横向运动机构和任何***设备。
根据本发明的一些示范性实施例，控制单元334可采用开环控制或闭环控制，用于相对参考光学装置自动调整距离δ。
根据本发明的一些示范性实施例，平台302的每个区的歧管供给压力水平可以根据所需空间和/或时间安排控制。例如，时间独立调整局部或整体的，例如平面度和/或平行度和/或垂直距离的修正，或者用于其他预处理水准测量，或用于任何预处理校准。在物体静止或是相对参考装置横向运动的情况下，该供给平台302每个区的歧管的压力水平可以临时控制，时间独立调整，例如用于局部或整体调整流体垫间隙ε。
根据本发明的实施例，平台302可包括任何合适的预设定区结构，该结构包括一个或多个所需形状和尺寸的区，例如如下所述。
参见图4a-4f，图中示意性表示了根据本发明示范性实施例，对应区结构400，410，420，430，440和450的表面340的顶视图。
根据本发明的示范性实施例，区结构400(图4a)可包括外部区402和内部区404。该结构有利于平整弯曲的物体，这可通过与区402的压力相比增加区404的压力，从而由于流体垫的非接触支撑，物体310(例如圆形晶片)的顶面的平面度可增加。
本据本发明的另一个示范性实施例，结构410(图4b)可包括第一区412和伸长的第二区414，用于在作用面340上维持支撑物体310的流体垫。结构410可采用与沿槽415作径向扫描运动的光学装置332联合。
根据本发明的又一示范性实施例，结构420(图4c)可包括多个环形区，如区422，424，426和428，每个区可局部调整作用面340的相应环形部分的间隙。
根据本发明的另一个实施例，结构430(图4d)可包括多个放射状区，如区431，432，433，434，435，436，437和438，每个区可局部调整作用面340相应放射区的流体垫间隙ε。一个或多个反射状区可被分割成一个或多个子区，例如为了允许流体垫间隙ε的径向和环形调整。例如区431可分成子区439a和439b。
根据本发明的另一个示范性实施例，结构440(图4e)可包括类似于结构210(图2a)的结构，例如包括惰性区214和/或一个或多个***孔216。结构440可包括多个放射状周边区，如区442，443，444，445，446，447，448和449。例如，采用一个或多个区441，442，443，444，445，446，447和448用于相对于参考面(包括虚拟参考面)的平行度调整。
根据本发明的另一个示范性实施例，结构450(图4f)可包括多个单独区，每个区对应表面340的预设定部分。一个或多个区可以维持位于表面340的一个或多个相应部分之上的单独流体垫。这些区可包括任何所需的尺寸和/或形状，例如矩形区456，圆形区452，458和459，或者任何其他多边形区，如六边形区454。各单独区之间的中间区域可低于或与作用面340平齐。
必须强调，通过AM机构实施单独控制每个区，除了能调整基板顶面上局部点至光学装置的距离之外，同时可以控制相对于光学装置的参考平面局部倾斜或平行。
必须强调，通过使非接触平台具有多个基本单元(参见参考文献1)，建立一个局部性的非常均匀支撑流体垫，没有整体影响，因为质量流量基本在各个基本单元中平衡(例如具有局部平衡特性的平台)。因此，可提供很精确和稳定的非接触支撑特性，例如支撑具有可大于2×2米的宽幅平板显示器薄玻璃。
根据本发明的一些示范性实施例，设备结构100(图1)，或结构300(图3)可包括用于在装载(“着陆”)和卸载期间，支撑物体的“着陆机构”。参见图5，图中为着陆机构500示意图。着陆机构500可与非接触支撑平台502联合，例如如上结合图1或图3所作的描述。机构500可包括，例如三个或更多***具有突出件508的着陆销504。着陆销504可沿圆形物体506如晶片的圆周设置。在着陆之后，物体通过平台502产生的流体垫支撑。当物体506由流体垫支撑，元件508可缩进，例如平台502顶面以下1mm。
作为选择或者增加，着陆机构500可包括一个或多个底部着陆销520。销520位于物体之下，以在装载/卸载期间支撑物体的背面512。至少部分销520包括本领域公知的夹紧物体506的真空垫(图未示)。在该情况下，装载期间可保持物体横向位置。
必须强调，在装载和卸载期间，平台502的歧管内压力水平可改变，为了(a)当平台产生PV型流体垫时，通过明显降低平台502***歧管的压力水平松开AM夹紧，(b)通过明显降低平台502***歧管的压力水平和/或通过增加平台502供给歧管的压力水平，举起物体。
根据本发明一些示范性实施例，另一种装载和卸载替代操作，可通过利用非接触运输平台邻接平台502，其中物体由那平台非接触地(见图11)传递至平台502。
根据本发明的实施例，非接触设备，例如设备结构100(图1)或结构300(图3)可采用合适的卡紧装置，该卡紧装置允许物体垂直运动，例如沿基本垂直于该设备非接触平台的作用面的方向，当防止物体横向运动，例如沿基本平行于作用面的平面，从而防止与局部或整体调整流体垫间隙的AM机构的实际干涉。
参见图6a，该图为根据本发明的一个示范性实施例，边缘夹紧设备结构600的概念上的顶视示意图。设备结构600可包括三个沿物体603圆周分布的矫正装置602，其中物体603比如晶片由非接触支撑平台支撑，参照如图1或图3所述。装置602能使物体关于平台604中心对准，并能基本防止我体603相对平台604中心横向运动，例如在平台604横向运动(直线，平面或圆周)期间，其中产生横向加速度。
装置602可适用于使物体垂直运动，例如当AM机构调节流体垫间隙的运作期间，相对于非接触平台施加垂直作用力，没有施加明显垂直作用力的时候。
装置602包括连接至弯曲部分622的水平定位机构620，例如推动器，弯曲部分622通过轴承626与惰轮624连接，从而相对于平台604调整物体603在所需水平中心，并基本防止被横向加速的物体603相对于平台604横向运动。轴承626可使惰轮624相对物体603边缘转动，而弯曲部分622允许惰轮624的垂直运动，在通过AM机构调整流体垫间隙期间没有产生明显的垂直作用力。设备602也可包括能防止弯曲部分622垂直向下运动超过预定垂直距离的限位器628。因此，设备602可允许我体603相对平台604转动和/或垂直运动，且防止物体603相对平台604横向运动。
参见图7a，该图为根据本发明的示范性实施例，另一个概念上的背面夹紧设备结构700顶部示意图。设备结构700可包括一个或多个位于预定位置的夹紧装置702，且位于非接触支撑平台704支撑的物体703下面，参见图1和图3的描述。装置702可以基本防止物体703相对被水平加速的平台704作横向运动，并允许物体703的垂直运动，而在AM机构调整流体垫间隙期间不产生明显垂直作用力。
参见图7b和7c，分别表示了装置702的顶视图和侧视图。可将装置702***线性轴承装置726，该线性轴承装置726可安装在平台704内。轴承726可包含线性轴承，例如适用于允许设备702垂直运动，而在垂直于平台704的作用面712的方向上不产生显著的垂直作用力，且适用于防止物体703相对平台704作横向运动。装置702可夹紧物体703，例如通过管道724使装置702的孔721真空。设备702也可包括一个或多个支撑销722，以基本防止因为真空力，物体703夹紧区的局部下沉。也可以在平台704和设备702之间设置锁止机构(图中未示)。该锁紧机构基于现有的机械或航空力学锁止机构。
根据一些示范性实施例，轴承726可以是具有横向刚性的空气轴承装置，用来防止物体703相对于平台704横向运动。
根据一些示范性实施例，着陆机构728可采用与装置702联合。机构728可包括由两垂直限位器731和732限制的活塞730。机构728位于装置702下，从而活塞730可由气动阀733和734启动，以垂直移动装置702至所需的垂直位置，例如装载期间或卸载前的“上面”位置和着陆后的“下面”位置。也可采用减震器(图未示)来顺畅垂直运动。
根据一些示范性实施例，着陆机构728可采用与装置702联合，其中着陆之后，活塞730的顶面可不接触装置702，例如随着活塞730向下移动，形成间隙750。因此，由于物体703被真空夹紧，装置702由物体703悬浮。因此优选尽量小化装置702的重量。
参见图7d和7e，根据本发明的一些示范性实施例，图中示意性表示了设备结构740概念上的背部夹紧的侧视图。设备结构740可包括能夹紧物体703比如晶片的一部分的夹紧元件742。例如，元件742可利用真空夹紧物体703，该真空经真空管道744提供。元件742可被依附在弯曲部分746的第一端747。图7e示意性表示了平台704的顶视图，该平台包括三个夹紧元件740，依附在平台704的不同位置和/或方向上。例如，弯曲部分746相对物体703的周界取向为放射状或者无关系。弯曲部分746可位于平台704下面或旁边。该安排允许物体703沿基本垂直于非接触平台704作用面的方向垂直运动，同时防止物体703在基本平行于作用面的表面横向运动，以防止与AM机构局部或整体调整流体垫间隙的实际干涉。
根据本发明的实施例，上述的非接触设备可包含任何适当的旋转或横向运动机构，用于参照光学装置定位物体，例如作为由光学装置对物体表面的扫描工序的一部分。可以采用夹紧元件、着陆机构和对焦机构。可以采用扫描运动，例如通过转动平台或横向移动平台。
参见图8a，该图是根据本发明的示范性实施例的非接触旋转平台设备结构800的示意图。设备结构800包括固定基座802，例如本领域公知的花岗岩台，和非接触平台804，例如图1或图3所描述的，用于非接触支撑物体806如晶片。利用本领域公知的任何支撑机构，平台804可被支撑在基座802表面上，例如平台由空气轴承或轴承或流体支撑平台支撑，如参考文献所述。物体806由依附在平台804上的夹紧机构808横向夹紧。设备结构800也可包括能相对基座802转动平台804的旋转机构，平台非接触地支撑着物体806。例如，设备结构800可包括驱动轮810和两个或多个与基座802连接并与平台周界接触的惰轮812。利用电机，平台804可被驱动轮810转动。根据一些实施例，至少两个轮812和810可相对于平台802被横向转动(典型地，几毫米的运动)，目的在于将物体806调整在相对平台802的所需位置，例如相对平台802“居中”物体806。轮810也可相对平台802调整物体806在所需的角位置，用于寻找晶片上的槽口(本领域公知的“对准器”)。
参见图8b，该图是根据本发明另一个示范性实施例的非接触旋转设备结构820的示意图。设备结构820在很多细节上与设备结构800类似。它具有基座821和与基座821稳固连接的非接触支撑平台822。该物体826由元件823和824横向保持，类似于设备结构820。本质上，物体826可由与物体826接触的驱动轮824转动，其中物体826由静止平台822非接触地支撑(在设备机构800中，物体和平台都转动)。
参见图8c，该图是根据本发明另一个示范性实施例的非接触旋转设备结构850的示意图。设备结构850可包括电机852，该电机852能通过轴858转动支撑物体856的非接触平台854。平台由基座853支撑，细节类似于设备结构800。
然而，根据本发明的另一个示范性实施例，设备结构850采用AM机构调整有另一种选择；基座853本身即为非接触支撑平台，它支撑平台854在流体垫间隙，该间隙可由AM机构调整。在该情况下，平台854可接触支撑物体856，并与物体854一起旋转(在设备结构800中，物体和平台均旋转，但AM机构的调整是作用在平台804作用面和物体806面向的背面之间的流体垫间隙)
参见图8d，该图是根据本发明的另一个示范性实施例的旋转设备结构860的总图和截面图。设备结构860可包括***夹紧环862，能通过利用边缘夹紧元件864夹紧物体868比如晶片，例如，物体868可通过前面所述的柔性边缘夹紧元件夹紧，并防止物体868相对环862的横向运动。环862和物体868可由非接触式平台866非接触支撑，且被驱动轮865转动。因此，夹紧环862必须是平坦并具有较宽面向下的表面，以建立有效的高性能支撑流体垫。可增加两个或多个类似图8a所述惰性轮(图未示)。
参见图9a，该图为根据本发明的示范性实施例的横向定位装置结构900。设备结构900可包括具有平坦表面的支撑基座908，例如本领域公知的花岗岩台，和移动的非接触平台904，平台904与箭头910象征性指示的可控制平面(XY)运动***连接。平台904接触支撑物体902，例如通过利用夹紧元件906，或作为选择通过施加真空夹持力。两主管路912(主供给和***管路，见图1)连接至平台904，用于产生气垫。设备结构900也可包括一个或多个控制通道914，用于控制夹子906的夹紧。平台904具有向下作用表面，因此流体垫是产生于平台904的作用面和支撑基座908的平面之间。必须强调，在这种情况下，流体垫间隙由作用在平台904下的流体垫的AM机构控制。平台904可横向固定或者通过利用运动***910，平行于表面908横向运动。
参见图9b，该图是根据本发明的示范性实施例的横向定位设备结构950的示意图。设备结构950包括用于夹紧物体954比如晶片的***夹紧环958，如图8d所描述。采用控制通道964控制夹紧环958。设备结构950也包括非接触支撑平台950，例如图1或图3所述。两个或多个主管路962(主供给和***管路)连接至平台964，以在平台964顶面上产生流体垫。平台956能够同时非接触支撑夹紧环958和由夹紧环985夹紧的物体954。设备结构950也可包括运动***960，例如类似于图9a所描述的运动***，能移动环985，例如使之在平台956表面上作平面运动。
虽然上述本发明的一些实施例涉及到的物体为圆形，本领域技术人员应知道，根据本发明实施例的设备和/或方法可类似地实施为适用具有其他任何形状的物体，例如矩形，或其他任何尺寸。例如，光刻工艺的半导体掩膜或者在进行比如检查、光刻或其他任何加工工序期间，用于支撑平板显示器(FPD)的宽幅AM平台。
参见图10a，该图是根据本发明的另一个示范性实施例的横向(XY)定位设备结构1000的示意图。设备结构1000可包括第一“X线性”运动***1028和第二“Y线性”运动***1018。运动***1018驱动架1010沿Y滑块1002和1012运动，运动***1028驱动中心架1020沿X滑块1022移动，X滑块1022两侧由架1010支撑。运动***1018和1028一起形成设备结构1000的“XY运动***”。中心架1020包括滑块1022，滑块1022具有可控制的可夹紧矩形物体1030的夹紧元件1024，例如矩形物体可以是半导体光刻工艺的掩膜。物体1030由平台1040非接触支撑。平台1040可局部或整体调整流体垫间隙。物体1030由平台1040非接触支撑的同时，由运动***1018和1028横向移动。也可选择平台1040至少部分支撑X滑块1022的重量，为此X滑块1022向下表面必须平坦和足够宽，以产生X滑块1022下的精确和稳定的支撑流体垫。必须强调，当利用具有很大航空力学硬度的流体垫(见参考文献1)比如夹紧真空预载流体垫，X滑块1022的全部功能性硬度将是X滑块1022的机械硬度和支撑或夹紧X滑块1022的流体垫所提供的额外硬度的结合。
参见图10b，该图是平台1040的作用面的顶视图，平台1040可包括孔1042，例如用于提供掩膜1030的背面照明。该结构允许对掩膜1030背面的任何所需的额外工艺。平台1040可包括中心区1044，例如用于提供利用AM机构的局部流体垫间隙调整。作为选择，整体流体垫间隙调整可以通过控制平台1040的整个作用面。在这些情况下，中心区可作为“固定处理区”，例如半导体检查***的固定光学装置下的检查区，其中通过设备结构1000的XY运动***可以精确地将物体上的任何点(例如几纳米内)定位在区1044的中心。
不破还一般性，上述发明的一些实施例涉及通常的宽物体，例如具有大典型尺寸的矩形平板显示器面板，例如1.8米×2.3米的第7代平板显示器，或者2.3米×2.6米的第8代平板显示器。
参见图11a-11d，这些图是根据本发明示范性实施例的四个设备结构1101，1102，1103和1104的示意图，这些设备结构可用于定位较大的基板，例如平板显示器面板。本领域技术人员应知道，图11a-11d不限制应用在平板显示器，可以用于本发明其他实施例的任何其他宽幅基板，例如印制电路板(PCB)或者硬介质板例如印刷板，在多数情况下，流体垫是空气垫。
参见图11a，根据本发明的示范性实施例，设备结构1101可包括宽幅非接触支撑平台1112，用于支撑大尺寸薄面板1110例如平板显示器。很多情况下，平台1112的作用面不要求精度，只要求安全的非接触支撑(意味着保证非接触)，因而PA型流体垫(见参考文献1)可用于不精确的区域。然而，至少一个区，例如平台1112的伸长状中心区1114，包括很精确和稳定区，其中如上所述(见参考文献1)，PV型流体垫实施为“伸长状处理区”(类似于结合图10b所作的描述)。在很多情况下，可在区1114上面设置处理工具，优选设置在区1114的中心线。设备结构1101可包括运输面板1110的线性驱动***1122。夹紧元件1126，1128(机械或真空钳子)可用于在边缘夹紧面板1110(例如后缘和前缘)，其通过平台1112上的一个或多个槽连接至驱动***1122，然而，通过夹住面板1110的一边，面板1110可被沿平台1112传送。面板1110可被沿箭头1120所示方向向前和/或向后精确运送(例如几微米)。因此，面板1110顶面上的每个点均可定位在伸长状处理区(区1114)的中心线。必须强调，关于设备结构1101(也关于设备结构1102-1104)，AM机构的流体垫间隙调整作用在中心区1114上。间隙调整可适用于(a)预先校准(b)执行工序中。
参见图11b。根据本发明的示范性实施例，设备结构1102可包括非接触支撑平台1132，其很多细节类似于上述的平台1112，可非接触支撑面板1130。至少一个精确区1124(意味着在一些情况下，设置多个精确区以降低平台的全部痕迹)，例如设置平台1132的中心伸长状处理区，其中采用PV型流体垫。设备结构1102可包括驱动***1144，用于运送面板1130。面板1130可被向前和/或向后运送在平行于X轴，箭头1140所示的方向上。***1144也可包括至少一个侧边钳子1142，用于夹紧面板1130的至少一条侧边。
根据本发明的示范性实施例，区的作用面1134可沿着Y轴被分成几个平行的区1136，为了使流体垫间隙调整能够通过AM机构，相对于处理工具的参考直线进行局部调整。此外，如果每个区1136进一步相对于X轴分成两个子区，例如区1143的中心线前面和后面，AM机构对流体垫间隙的局部调整可用于提高平行度，例如面板1130面向区相对于处理工具的参考平面的平行度。
参见图11c。根据本发明的另一个示范性实施例，设备结构1103可包括能支撑面板1150的非接触支撑平台1152，其设置有如上所述的中心区1154。设备结构1103可包括驱动***1164，用于向前和/或向后运送面板1150，如箭头1160所示。侧边钳子可包括至少一个机械夹紧元件1168，用于夹紧面板1150的边缘(也可采用真空夹紧元件)。元件1168可部分嵌入槽1153，从而元件1168的运动被限制在槽1153内。钳子1166可相对宽，例如相对PV型支撑表面1152a基本单元的尺寸，用于产生有效的流体垫支撑。钳子1166可为柔性结构，其机械硬度比PV型流体垫的航空力学硬度小。夹子1166可通过连接器1165连接至架1162，架1162沿着X轴，即沿滑块1164被直线驱动***驱动。为了Y轴的预校准或记录，平台1152可设置有向参照销推动面板1150的侧边的一个或多个精确推动矫正元件1158，或者在相对的边利用附加侧边元件(这些相对的元件在图中均未表示)。推动矫正元件1158可设计成只有有限测力作用在面板1150上，例如通过弹簧或弯曲部分。设备结构1103的目的也在于允许流体垫调整。详细参见图11a和图11b的相关描述。
参见图11d。根据本发明的另一个示范性实施例，设备结构1104可包括可支撑面板1170的非接触支撑平台1172，其设置有如上述的精确中心区1174。面板1170由驱动面板的浮动前缘钳子1186夹紧，沿X方向向前和/或向后运动，如箭头1180所示。相对于PV型支撑表面1152a的基本单元，钳子1186是宽幅钳子，当它由区1174至少部分支撑时，以产生有效的流体垫支撑。因此，钳子1186为通常柔韧(意味着相对薄)和低重量结构，其中当它由区1174至少部分支撑时，它的功能(有效)硬度明显与区1174的PV型流体垫的航空力学硬度有关。浮动前缘钳子1186由移动在滑块1184上的架1182，沿X方向驱动。作为选择，线性运动机构作用在平台1172的底部，其中浮动夹具1186通过槽1190连接至线性运动***1196的底部。设备结构1104的目的也在于允许流体垫的间隙调整。详细可参见图11a和图11b的描述。
图12a根据本发明的示范性实施例，展示了设备1200，用于提供滚轮与滚动应用物之间的AM距离调整，滚动应用物比如平板显示器[本领域公知的有机发光二极管显示器(0LED)]的柔性介质、纸或者纸板、塑料介质和材料或任何其他基本平坦及柔韧物体(用柔性介质1202表示)，其中工序执行在物体的面向表面，并且为了建立良好工艺性能，需要整体或局部精确控制或预先校准。这样的设备结构有利于执行加工或修理工艺设备以及检查和测试***。设备结构1200具有非接触PV型或PA型平台1201，用于夹紧或支撑柔性介质1202。介质和具有至少一个区的平台1201可被设置在任意角度α，其中α可以是相对于水平面0-180度(例如包括倒置情况)。相对的处理工具，例如光学装置1202，定位在基本垂直于介质1202。柔性介质1202从进给滚筒被传动到收集滚筒(图中未示)，其中介质的传送可以由与介质背面接触的旋转导向柱体1220改变方向。在多数情况下，该介质保持在进给和收集滚轮之间的拉紧(用T表示)状态(优选关于时间，均匀和稳定)。设备结构1200的平台1201的用于整体或局部调整介质面向表面1022和装置1210之间的距离。
由于介质1202的拉紧将影响导向柱体1220，可以选择一体化非接触圆柱导向盘1230，如图12b所示。该导向盘事实上结合了给接触平台(PA或PV型-见参考文献1)。该非接触圆柱导向盘1230为静止，并且不影响介质拉紧。
然而，必须强调，(相对于一般物体，而不只是柔性介质)，在一些情况下，非接触平台1201(能局部或整体调整流体垫间隙或距离或相对参照物或虚拟参照的平行度)具有工作孔(图未示)，用于执行与平台相对的介质表面的处理。此外，处理工具或者辅助工具(例如照明，清洁，加热或光学检查***)可作用在面向平台的表面。此外，当非接触导向柱体或者任何其他非接触支撑和非接触平台均被采用，可以执行物体背面或前面的处理，其中前面朝向平台1201(前面是微电子元件所在的一边，因此不允许***任何接触。另外，在一些情况下，平台1201本身能执行处理工序，同时平台和物体之间的间隙可局部或整体调整，这是很重要的。这些情况如：加热，冷却，干燥，清洁或一般流体处理，包括使用化学物质。
图13a为根据本发明的示范性实施例的用于提供相对于参照物(比如光学设备1330)的局部或整体AM距离和/或平行度调整，或控制介质本身的局部或整体平面度。设备1300包括非接触支撑平台1320，其中加压流体通过平台1320的至少一个区的至少一个管道1231被供给进平台1320，且流体从平台1320的至少一个区的至少一个管道1232***出，从而平台1320产生PA型非接触支撑流体垫。一个管道(或者多个)1232连接至真空源，从而平台1320产生PV型非接触夹紧流体垫。管道的数量与平台1320的区的数量相关联。至少一个压力阀(图未示)被放入至少一个管道1231或1232。平台1320支撑中间板1310，以接触夹持或支撑物体1301。可以通过静电吸盘保持或者如图13a所示利用真空夹持力，其中管道1311与真空源连接。显然，当中间板夹持物体1301时，整体机械硬度或两个被连接元件(板1310和物体1301)的硬度明显增加。特别是，在物体1301很薄的情况下(例如50微米的硅晶片)，这是很重要的。必须强调，虽然图13a例举了参照物1330，但是在很多其他工作模式下，这样的参照将只是虚拟参照物。这些模式包括处理物体的平面度，以产生所需的物体1301面向表面的曲率或者增加物体1301面向表面的平面度，或者控制各作用力，或作用在物体上的作用力的均匀性。
图13b举例了根据本发明另一个示范性实施例的设备结构1350，该结构类似于设备结构1300，但是中间板1350本身是可以非接触(间隙为ε2)支撑或夹紧物体1351的非接触平台，中间板1350由非接触平台1370支撑，其间隙ε1由AM机构局部或整体控制。加压流体通过管道1361提供，以产生PA型流体垫，从而非接触支撑物体1351。当将***管1362连接至负压源，产生非接触夹紧物体1351的PV型流体垫。另外，通过控制压力，也可以将非接触支撑改变为接触支撑(例如将加压气源转换为真空抽气机)
图14a举例了根据本发明另一个示范性实施例的双面设备结构1400，其中第一非接触平台1410对着的第二反向非接触平台1420。平台1410和1420基本相互平行，镜像对称。在多数情况下，这些平台是一样的，并具有相向的类似区。静止或运动的物体1430两边被非接触支撑，距离平台1410的流体垫间隙ε1，距离平台1420的流体垫间隙ε2。因此，两个反向平台的安装距离将由物体1430的公称厚度和ε1+ε2决定。在一些情况下，为了离开平台的支配，增加额外的分离间隙，例如只有上面平台1420通过PV型流体垫夹紧物体，因此关于AM调整机构，它处于支配，而它下面的第二平台1410用于装载/卸载和用于安全的原因。可在平台1420开设开口例如1421(或者在两个平台上)，从而可以进入或观察物体1430的面向表面，如图14a所示(光学装置1440扫描物体1430的顶面)。在一些情况下，设置在航空力学方面不起作用的处理区1411，为了防止作用在物体上的局部弯曲力。
图14b举例了双面非接触设备结构1450，类似于图14a所示的结构1400。另外，平台1410和/或1420可包括加热器1412和1422。图14b也举例了在设备结构1450的出口区域1480，定位加工工具(比如光学装置1440)的可能性。
必须强调，在一些情况下，这些平台在一些方式上不类似。例如(不损害一般性)，
其中一个平台可以大于第二平台。
至少两个平台之一能产生PA型流体垫(如果是两个平台一起，便形成PP型双面设备结构)。
至少两个平台之一能产生PV型流体垫(如果是两个平台一起，便形成PV-PV型双面设备结构)。
一个或两个平台具有被分成多个区的作用面，或者只有一个被分成多个区，或者两个平台都没有区。
在一些情况下，平台1420和1410的各个区不一样。
在一些情况下，同一个作用面的至少一个区将相对于作用在其他区设置不同类型的流体垫。
在一些情况下，只有两个平台之一的至少一个区由AM机构控制，在另外一些情况下，两个平台的至少一个区由AM机构控制。
在一些情况下，ε1和ε2将由AM机构整体或局部控制，而在另外一些情况下ε1或ε2将由AM机构整体或局部控制。
在一些情况下，供给到每个平台的区的压力水平(包括负压水平)将不同于供给到第二平台的压力水平。
在一些情况下，在操作程序中，压力水平将被改变，用以在两个平台间切换支配地位。
图15举例了根据本发明的另一些示范性实施例的设备1500，用于允许利用AM机构的光学对焦。固定器1501，最好重量轻的，保持光学装置1502。固定器具有基本薄而平坦的朝下表面，且由具有坚硬和稳定支撑的非接触平台1503的朝上作用面产生的PV型流体垫支撑。平台1503具有开口，可以观察物体1510的顶面。平台1503的作用面被分成几个区，例如图4e，用以允许光学装置1502到物体1510顶面的点的距离对焦，以及局部或整体调整光学装置1502的参考平面与物体顶面之间的平行度。通常，不只是可以采用光学装置，任何其他有用的装置都可以，且在一些情况下，元件1502可以是作用面朝下的平台，元件1503将是刚性和稳定地支撑具有平坦向上表面的元件。
必须强调，根据本发明的所有设备和设备结构，本发明的所有设备和设备结构的主要功能在于提供物体的可控制非接触支撑。也必须强调，术语“控制”意味着利用AM机构调整流体垫间隙。也必须强调，AM机构(AM表示航空力学或流体力学)代表在支撑物体的非接触平台的至少一个区的至少一个或多个歧管的压力水平调整。
必须强调，根据本发明的实施例，关于本发明的设备具有非接触平台，在多数情况下设计成用于管理***。具有可被分成几个单独控制区的作用面的平台，目的在于为了一下相关的目的，允许流体垫间隙整体和/或局部调整(例如流体垫间隙调整选项)：
调整物体顶面或底面(例如面向作用面的)至距支撑平台的作用面所需距离(例如流体垫间隙)。
调整物体顶面或区，到距离位于平台上的加工工具(例如光学装置)的参考点或线的所需距离。
相对于依附在支撑平台的完全平坦的参考平面，调整物体顶面或底面的平面度。
调整物体顶面与平台上的处理工具的基本平坦参考平面平行(例如清洁头或涂布机或横向运动光学装置)。
调整物体顶面，使其平行于平台上的加工工具的平坦参考平面。
同时用于(d)和(e)。
必须强调，根据本发明的实施例，本发明的设备可具有附加的目的(例如除了流体垫间隙调整之外)。不损害一般性，一些附加目的可辅助加工。例如：
根据本发明的设备可通过增加加热或冷却元件辅助加工。
根据本发明的设备可通过增加照明辅助加工。
根据本发明的设备可通过增加传感器来控制加工。
根据本发明的设备可通过增加照明来辅助加工。
不损害一般性，一些附加目的甚至可以是加工工具的主要目的。例如：
本发明的设备可执行热处理。
本发明的设备可执行湿清洁或干清洁处理(其中使用化学物质)，以及干燥物体。
必须强调，根据本发明的一些实施例，在很多情况下流体垫将是气垫。虽然本发明一些实施例采用空气作为流体，本领域技术人员应知道任何其他合适的气体，例如可以采用氮气或氦气或氩气，以及液体例如本领域公知的去离子水甚至化学药品。
必须强调，根据本发明一些实施例，物体和平台作用面之间的流体垫可通过AM机构动态隔离，例如为了处理过程中，非接触隔离物体(例如晶片)的环境与流体垫环境。这可以通过在平台边缘采用真空抽气来实现。
必须强调，根据本发明的一些实施例，在液体环境处理时，非接触支撑平台可采用液体例如去离子水，以提供液体垫支撑物体，例如当物体进入液体时，对其进行处理。
根据本发明的一些实施例，设备可用作(a)工作在大气压下(b)工作在明显高于大气压下(c)真空状态下例如10毫巴或高一些(绝对压强)的真空水平下，的工艺设备一部分。
本领域技术人员应该知道，通过AM机构的流体垫间隙局部或者整体调整，可以没有任何控制***，例如人工***预校准或偶然***预校准。然而，在多数下，控制单元用来允许流体垫的局部或整体自动控制，以及控制移动物体的运动***或与加工有关的控制目的。不损害一般性，自动控制处理的一些情况：
很精确的自动控制(例如对于特殊工艺要求)，当物体静止或精确控制地横向运动下由非接触平台支撑，利用AM机构整体或局部调整流体垫间隙、物体的区或物体表面相对于参考工具的距离和/或平行度，例如建立检查***或光刻***的AM自动对焦***。
自动精确控制(例如对于特殊工艺要求)，当物体静止或精确控制地横向运动下由非接触平台支撑，利用AM机构整体或局部调整流体垫间隙、物体的区或物体表面的平面度或到平台作用面的距离，例如利用非接触平台的间隙控制用以提供均匀加热。
本领域技术人员应知道，根据本发明的利用AM机构的流体垫间隙局部或整体调整，目的在于在以下各方面提供高性能：
高精确和灵敏流体垫间隙控制，用于调整距离。
高精确和灵敏流体垫间隙控制，用于调整物体表面的平面度或平行度。
改良动态性能，明显提高时间效应，因为只有物体的重量，且优选采用轻处理元件。
很高的精确定位(例如物体的横向定位)。
为了不损害一般性，本领域人员应知道，本发明的非接触支撑平台的应用，目的在于处理任何相关物体。然而，本发明的很多设备用于非接触支撑或夹紧薄而宽以及平坦物体，例如半导体晶片或者平板显示器基板，以及一定程度上柔软的物体。
本领域的技术人员应知道，非接触支撑平台的使用将防止接触支撑时可能产生的损坏，例如防止任何机械损坏，比如擦伤或任何滑动相关的损伤，以及明显降低背面粒子污染物和静电相关的损害。
虽然本发明的上述实施例涉及检查或光刻工艺，例如主要是光学方面的工艺，本领域人员应该知道本发明的设备可以用于其他工艺，例如半导体或平板显示器如涂覆工艺，热处理工艺或任何其他与半导体或平板显示器行业不相关的工艺。然而，本发明的设备可用于其他工艺例如印刷机械，用于精确支撑光学装置或精确处理任何金属的或非金属的材料，这些不包括在半导体和平板显示器的范围。

Claims (72)

1.非物理接触地将静态或运动的基本平坦物体支撑在流体垫上的设备，物体漂浮在流体垫间隙上，该设备用于整体或局部调整该间隙，该设备包括：用于非接触地支撑物体的第一平台，该平台具有基本平坦的作用面，作用面上包含一个或多个区，每个区包含至少多个压力出口之一，该压力出口通过压力限流器连接至基本单元所在的该区的高压歧管，高压歧管通过主供应管道连接至加压流体供给装置，且至少多个流体***通道之一连接至基本单元所在的具有主***管路的该区的低压歧管；其中，限流器表现为流体复位弹簧的作用；且，其中至少一个压力控制阀放入至少一个区的至少两主管道之一，用于控制该区的至少两个歧管之一内的压力水平。
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述至少一个压力控制阀放入至少一个区的高压歧管和加压流体供给装置之间的主供给管路，用于控制高压歧管内的压力水平。
3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述至少一个压力控制阀放入主***管路，用于在低压歧管控制至少一个区的压力水平。
4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：在主供给管路中放入一个压力控制阀，在主***管路中放入第二个压力控制阀，用于至少一个区的不同间隙控制。
5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：此外，根据本发明的一些优选实施例，所述间隙的范围是100～500微米。
6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于：采用所述至少一个压力控制阀增加或减少所述间隙至50～250微米之间。
7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：每个区的低压歧管通过主***管路连接至负压蓄压器，从而压力出口和流体***通道维持被支撑物体和平台作用面之间的真空预载流体垫。
8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于：所述间隙的范围是10～100微米。
9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于：采用所述至少一个压力控制阀来增加或减少所述间隙至5～50微米之间。
10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述至少一个或多个区只包含一个区，用于整体间隙调整。
11.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述压力限流器包括自适应分段口(SASO)限流器。
12.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：在所述至少多个流体***通道之一和低压歧管之间放入限流器。
13.根据权利要求12所述的设备，其特征在于：真空限流器包括自适应分段口(SASO)限流器。
14.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述作用面是圆形的。
15.根据权利要求14所述的设备，其特征在于：所述区为环形，并安排成一个环及同中心的形式。
16.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述作用面是矩形的。
17.根据权利要求16所述的设备，其特征在于：该区基本为矩形，并安排成基本平行。
18.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述设备还设置有至少一个邻近的非接触支撑平台，其作用面基本与该设备的所述作用面同一平面。
19.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述区被中间惰性区分开。
20.根据权利要求19所述的设备，其特征在于：所述中间惰性区的表面低于作用区的表面。
21.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述设备还设置有用于移动物体、平台或者两者的运动机构。
22.根据权利要求21所述的设备，其特征在于：所述运动机构包括用于旋转物体或平台的旋转机构。
23.根据权利要求21所述的设备，其特征在于：所述运动机构包括用于直线移动物体或平台的直线运动机构。
24.根据权利要求21所述的设备，其特征在于：所述运动机构包括用于平面移动物体或平台的平面运动机构。
25.根据权利要求21所述的设备，其特征在于：控制单元控制运动机构。
26.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述作用面包括一个或多个工作开口。
27.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述设备还设置有至少一个辅助装置。
28.根据权利要求27所述的设备，其特征在于：所述至少一个辅助装置选自辅助设备组：着陆机构，限制器，***，夹具，浮动夹具。
29.根据权利要求27所述的设备，其特征在于：所述至少一个辅助装置设置有弯曲部分。
30.根据权利要求27所述的设备，其特征在于：所述至少一个辅助装置由流体垫支撑。
31.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：至少设置有一个活塞，用于改变至少一个区的至少一个歧管的体积。
32.根据权利要求31所述的设备，其特征在于：控制单元控制所述至少一个活塞。
33.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述流体垫的流体是空气，从而提供气垫支撑。
34.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述设备还包括由平台产生的流体垫支撑的中间板，同时中间板接触地支撑物体。
35.根据权利要求34所述的设备，其特征在于：所述设备还设置有周缘的软绝缘元件，用于绝缘和隔离中间板和平台的作用面之间的流体垫。
36.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述设备还包括由平台产生的流体垫支撑的中间板，同时中间板非接触地支撑物体。
37.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：设置有用于整体或局部调整所述间隙的控制单元，其通过控制所述一个或多个区的至少一个压力控制阀。
38.根据权利要求37所述的设备，其特征在于：所述设备还设置有至少一个与所述控制单元连接的传感器。
39.根据权利要求38所述的设备，其特征在于：，所述至少一个传感器选自组：接近传感器，位置传感器，距离传感器，压力传感器，厚度传感器。
40.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述流体垫间隙通过(a)面对平台作用面的薄且基本平坦的物体表面与(b)平台作用面间的距离而整体或局部调整。
41.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述流体垫间隙通过(a)由平台支撑的薄且基本平坦的物体顶面与(b)平台之上的工具或虚拟参考点而整体或局部调整。
42.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述设备还设置有相对的第二平台，该相对的第二平台包括具有至少多个基本单元之一的基本平坦的作用面，每个基本单元具有通过压力限流器与高压歧管连接的至少多个压力出口之一，该高压歧管通过主供给管路连接至加压流体供给装置，至少多个流体***通道之一连接至与主***管路连接的低压歧管，其中该相对的平台的作用面基本与第一平台一样，并与第一平台基本平行，且关于第一平台镜像对称，从而产生物体的双面支撑。
43.根据权利要求42所述的设备，其特征在于：所述相对的第二平台的作用面被分成各个独立控制的区。
44.根据权利要求43所述的设备，其特征在于：至少该两个相对的平台之一的至少一个区的低压歧管通过所述至少一个区的主***管路连接至负压蓄压器，以产生真空预载流体垫。
45.根据权利要求42所述的设备，其特征在于：所述两个相对的平台的距离由物体预期的公称厚度和两流体垫的两间隙预先确定。
46.根据权利要求42所述的设备，其特征在于：所述双面结构中，第一平台的压力水平和负压力不同于相对的第二平台的压力水平和负压力水平。
47.根据权利要求42所述的设备，其特征在于：各个面向的区同时受控制，以实现不同的间隙控制。
48.根据权利要求47所述的设备，其特征在于：所述面向的区是同样的。
49.根据权利要求42所述的设备，其特征在于：至少各平台之一包括至少一个工作开口，用于进入或观察所述物体。
50.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述平台的作用面面向基本平坦表面，并漂浮在该表面上，同时漂浮间隙由至少一个压力控制阀局部或者整体调整，从而控制距离和平行度。
51.根据权利要求50所述的设备，其特征在于：采用运动机构平台可以横向穿越平坦表面，和支撑物体。
52.，根据权利要求50所述的设备，其特征在于：所述平台适用于支撑加工工具，用于局部或者整体调整该工具相对预定参照物的距离。
53.根据权利要求50所述的设备，其特征在于：所述平台适用于支撑航空力学对焦的光学装置。
54.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述设备还设置有刚性漂浮的相对薄而宽的处理元件，用于支撑或移动物体，该元件可由旨在产生组合有效硬度的航空力学的硬流体垫支撑。
55.一种整体或局部调整漂浮间隙或基本平坦物体的平面度的方法，该方法包括：提供用于非接触支撑物体的第一平台，该平台具有基本平坦的由一个或多个区组成的作用面，每个区包括至少多个基本单元之一，每个基本单元具有通过压力限流器与基本单元所在的该区的高压歧管连接的多个压力出口之一，该高压歧管通过主供给管路连接至加压流体供给装置，而至少多个流体***管道之一连接至基本单元所在的该带有主***管路的区的低压歧管；其中流体限流器表现为流体复位弹簧的作用；且其中至少一个压力控制阀放入至少一个区的两主管道之一，用于控制该区的至少两歧管之一的压力水平；维持流体垫；将物体放置在流体垫上；和由至少一个压力控制阀，通过区控制，整体或局部调整物体的漂浮间隙或平面度。
56.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法用于调整物体面向的面与参考元件的距离。
57.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法用于将物体表面相对光学装置对焦。
58.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法用于将光学装置对焦于物体表面。
59.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法用于调整物体表面相对参考平面的平行度。
60.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法用于调整物体表面的平行度，且力作用在物体上。
61.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法还包括接收用于闭或开控制环的反馈信息。
62.根据权利要求61所述的方法，其特征在于：所述方法用于整体或局部自动对焦。
63.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法用于处理物体表面的弯曲。
64.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法用于处理物体表面的弯曲，力作用在物体上。
65.根据权利要求64所述的方法，其特征在于：处理所述弯曲是为了整个物体的受力均匀。
66.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法用于预先校准平台的作用面。
67.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述方法还包括设置相对的第二平台，该相对的第二平台包括基本平坦的作用面，该作用面具有通过压力限流器连接至高压歧管的至少多个压力出口之一，该高压歧管通过主供给管路连接至加压流体供给装置，至少多个流体***管道之一通过低压歧管连接至主***管路，其中相对的平台的作用面与第一平台基本相同，安装成基本平行，并关于第一平台镜像对称，从而形成物体的双面支撑。
68.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述物体被静止地支撑。
69.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述物体和加工工具之间施加被控制的相对扫描运动。
70.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：所述物体和加工工具之间施加被控制的点对点的相对运动。
71.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：除流体垫间隙调整的特征之外，所述设备可以辅助加工工序。
72.根据权利要求55所述的方法，其特征在于：除流体垫间隙调整的特征之外，该设备可以执行加工工序。
CNA2005800113367A 2004-04-14 2005-04-13 用于调整距离的非接触支撑平台 Pending CN101124133A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US56190404P 2004-04-14 2004-04-14
US60/561,904 2004-04-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101124133A true CN101124133A (zh) 2008-02-13

Family

ID=35150398

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2005800113367A Pending CN101124133A (zh) 2004-04-14 2005-04-13 用于调整距离的非接触支撑平台

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7604439B2 (zh)
EP (1) EP1776300A4 (zh)
JP (1) JP4767251B2 (zh)
KR (1) KR101195628B1 (zh)
CN (1) CN101124133A (zh)
WO (1) WO2005099350A2 (zh)

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102483580A (zh) * 2009-08-20 2012-05-30 株式会社尼康 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
CN102483579A (zh) * 2009-08-20 2012-05-30 株式会社尼康 物体移动装置、物体处理装置、曝光装置、物体检查装置及元件制造方法
CN102736429A (zh) * 2011-04-07 2012-10-17 上海微电子装备有限公司 硅片温度稳定装置
CN102754199A (zh) * 2009-12-15 2012-10-24 速力斯公司 用于薄晶片处理的可移动真空载具
CN103097959A (zh) * 2010-09-13 2013-05-08 株式会社尼康 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN103515270A (zh) * 2013-09-29 2014-01-15 中国电子科技集团公司第四十五研究所 一种湿法处理设备中真空吸盘防堵塞***
CN103659757A (zh) * 2013-11-07 2014-03-26 北京卫星环境工程研究所 应用于航天器精确定位总装的气垫***
CN104362116A (zh) * 2014-11-04 2015-02-18 合肥京东方光电科技有限公司 一种气悬浮式下部电极及干法刻蚀装置
CN104649015A (zh) * 2013-11-20 2015-05-27 东丽工程株式会社 基板浮起装置
CN104842328A (zh) * 2015-04-29 2015-08-19 苏州锟恩电子科技有限公司 一种电路板用高效定位工作台
CN105712089A (zh) * 2016-04-21 2016-06-29 江苏科技大学 一种无接触输运与定位平台装置及控制方法
CN105742220A (zh) * 2016-04-21 2016-07-06 钟伟 一种无接触输运与定位平台装置及控制方法
CN105752686A (zh) * 2012-04-03 2016-07-13 株式会社尼康 基板处理装置
CN105921894A (zh) * 2016-05-17 2016-09-07 京东方科技集团股份有限公司 载台和切割方法
CN106144594A (zh) * 2015-05-11 2016-11-23 盟立自动化股份有限公司 用来运送平板构件的输送载具
CN106185325A (zh) * 2016-08-25 2016-12-07 芜湖东旭光电科技有限公司 一种气浮装置、气浮控制方法及玻璃基板传送装置
CN106463444A (zh) * 2013-12-23 2017-02-22 科磊股份有限公司 用于非接触晶片夹持的***和方法
CN106457304A (zh) * 2014-06-17 2017-02-22 科迪华公司 打印***组件和方法
TWI584122B (zh) * 2015-11-17 2017-05-21 群聯電子股份有限公司 緩衝記憶體管理方法、記憶體控制電路單元及記憶體儲存裝置
CN107086275A (zh) * 2017-05-12 2017-08-22 京东方科技集团股份有限公司 基板对盒装置及对盒方法
CN107117462A (zh) * 2016-02-25 2017-09-01 罗伯特·博世有限公司 确定至少一个悬浮的输送体相对于悬浮供送单元的位置和/或取向的装置和方法
CN108861590A (zh) * 2018-08-17 2018-11-23 通彩智能科技集团有限公司 一种非接触式气浮平台
CN109333469A (zh) * 2018-12-06 2019-02-15 深圳义信成科技有限公司 一种智能化音控式精密位移台
CN109416513A (zh) * 2016-07-01 2019-03-01 Asml荷兰有限公司 工作台***、光刻设备、用于定位的方法以及器件制造方法
CN109461691A (zh) * 2017-09-06 2019-03-12 富士迈半导体精密工业（上海）有限公司 晶圆支撑装置
CN110788740A (zh) * 2018-08-02 2020-02-14 株式会社荏原制作所 用于保持基板的顶环以及基板处理装置
CN111217149A (zh) * 2018-11-23 2020-06-02 合肥欣奕华智能机器有限公司 一种基板校准装置、基板校准方法及基板搬运装置
CN111390465A (zh) * 2020-01-20 2020-07-10 武汉高芯科技有限公司 一种用于倒装焊的液压装置
CN111556848A (zh) * 2017-11-08 2020-08-18 科福罗有限公司 分层非接触支撑平台
CN111699143A (zh) * 2017-11-30 2020-09-22 中国建材国际工程集团有限公司 确定密闭腔室中衬底位置的方法和执行该方法的装置
TWI712555B (zh) * 2015-03-12 2020-12-11 美商克萊譚克公司 用於夾持翹曲晶圓之裝置及方法
CN112830256A (zh) * 2020-12-31 2021-05-25 合肥工业大学 薄板气浮支承***弹性稳压装置
CN113286755A (zh) * 2018-12-27 2021-08-20 科福罗有限公司 用于非接触式支撑平台的端口布置
WO2022056742A1 (en) * 2020-09-16 2022-03-24 Abb Schweiz Ag Gripper and method of operating the same
CN116705681A (zh) * 2022-10-09 2023-09-05 深圳市宇泰科技有限公司 一种芯片导正结构

Families Citing this family (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8128753B2 (en) 2004-11-19 2012-03-06 Massachusetts Institute Of Technology Method and apparatus for depositing LED organic film
US8986780B2 (en) 2004-11-19 2015-03-24 Massachusetts Institute Of Technology Method and apparatus for depositing LED organic film
JP4413789B2 (ja) * 2005-01-24 2010-02-10 東京エレクトロン株式会社 ステージ装置および塗布処理装置
JP4664117B2 (ja) * 2005-03-03 2011-04-06 住友重機械工業株式会社 搬送物浮上ユニット、搬送物浮上装置、及びステージ装置
KR101234475B1 (ko) * 2005-06-20 2013-02-18 엘지디스플레이 주식회사 비접촉 반송 장치에서의 지지플랫폼
JP4553376B2 (ja) * 2005-07-19 2010-09-29 東京エレクトロン株式会社 浮上式基板搬送処理装置及び浮上式基板搬送処理方法
JP4884871B2 (ja) * 2006-07-27 2012-02-29 東京エレクトロン株式会社 塗布方法及び塗布装置
KR100862912B1 (ko) * 2006-08-08 2008-10-13 무진전자 주식회사 기판 처리 장치
US8057601B2 (en) * 2007-05-09 2011-11-15 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for supporting, positioning and rotating a substrate in a processing chamber
US8556389B2 (en) 2011-02-04 2013-10-15 Kateeva, Inc. Low-profile MEMS thermal printhead die having backside electrical connections
JP5135432B2 (ja) * 2007-06-14 2013-02-06 マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー 薄膜積層の方法および装置
WO2009113066A2 (en) * 2008-03-11 2009-09-17 Coreflow Ltd. Method and system for locally controlling support of a flat object
JP5029486B2 (ja) * 2008-05-13 2012-09-19 東京エレクトロン株式会社 塗布装置、塗布方法及び記憶媒体
JP5012651B2 (ja) 2008-05-14 2012-08-29 東京エレクトロン株式会社 塗布装置、塗布方法、塗布、現像装置及び記憶媒体
US8899171B2 (en) 2008-06-13 2014-12-02 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system
US12018857B2 (en) 2008-06-13 2024-06-25 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system
US9048344B2 (en) 2008-06-13 2015-06-02 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system
US9604245B2 (en) 2008-06-13 2017-03-28 Kateeva, Inc. Gas enclosure systems and methods utilizing an auxiliary enclosure
US11975546B2 (en) 2008-06-13 2024-05-07 Kateeva, Inc. Gas enclosure assembly and system
US10434804B2 (en) 2008-06-13 2019-10-08 Kateeva, Inc. Low particle gas enclosure systems and methods
US8383202B2 (en) 2008-06-13 2013-02-26 Kateeva, Inc. Method and apparatus for load-locked printing
US20100188457A1 (en) * 2009-01-05 2010-07-29 Madigan Connor F Method and apparatus for controlling the temperature of an electrically-heated discharge nozzle
JP2010191056A (ja) * 2009-02-17 2010-09-02 Fuji Xerox Co Ltd 画像形成装置
EP2425470A2 (en) 2009-05-01 2012-03-07 Kateeva, Inc. Method and apparatus for organic vapor printing
US20110042874A1 (en) * 2009-08-20 2011-02-24 Nikon Corporation Object processing apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
WO2012119034A2 (en) * 2011-03-02 2012-09-07 Game Changers, Llc Method and apparatus for a dynamic air cushion transport system
KR101179736B1 (ko) 2010-06-24 2012-09-04 주식회사 나래나노텍 개선된 부상 스테이지 및 이를 구비한 기판 부상 유닛 및 코팅 장치
US20120064460A1 (en) * 2010-09-07 2012-03-15 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
US8598538B2 (en) * 2010-09-07 2013-12-03 Nikon Corporation Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
DE102010047048B4 (de) 2010-09-30 2018-03-01 Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover Fluidostatische Positionierachse
JP2012076877A (ja) * 2010-10-01 2012-04-19 Nitto Denko Corp ワーク搬送方法およびワーク搬送装置
CN103229325B (zh) 2011-04-08 2018-02-16 卡帝瓦公司 用于利用面式滚筒印制的方法和设备
US20120309115A1 (en) * 2011-06-02 2012-12-06 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for supporting and controlling a substrate
CN106113943B (zh) 2011-08-09 2018-03-30 科迪华公司 面向下的打印设备和方法
US9120344B2 (en) 2011-08-09 2015-09-01 Kateeva, Inc. Apparatus and method for control of print gap
US8800707B1 (en) * 2011-08-23 2014-08-12 The Boeing Company Modular system and methods for moving large heavy objects
US9136155B2 (en) * 2011-11-17 2015-09-15 Lam Research Ag Method and device for processing wafer shaped articles
CN103187541B (zh) * 2011-12-28 2017-05-17 上海大学 Oled器件封装夹持装置
JP5998086B2 (ja) * 2012-04-03 2016-09-28 オイレス工業株式会社 浮上用エアプレート
US9090095B2 (en) 2012-06-04 2015-07-28 Micronic Mydata AB Optical writer for flexible foils
JP6134191B2 (ja) 2013-04-07 2017-05-24 村川 惠美 回転型セミバッチａｌｄ装置
US9010925B2 (en) * 2013-07-15 2015-04-21 Xerox Corporation Air film support device for an inkjet printer
JP6226419B2 (ja) * 2013-08-22 2017-11-08 オイレス工業株式会社 浮上搬送装置
DE102013220252A1 (de) * 2013-10-08 2015-04-09 Rudolph Technologies Germany Gmbh Halte- und Drehvorrichtung für flache Objekte
EP3787016B1 (en) 2013-12-26 2023-09-20 Kateeva, Inc. Apparatus and techniques for thermal treatment of electronic devices
KR102022816B1 (ko) 2014-01-21 2019-11-04 카티바, 인크. 전자 장치 인캡슐레이션을 위한 기기 및 기술
US9343678B2 (en) * 2014-01-21 2016-05-17 Kateeva, Inc. Apparatus and techniques for electronic device encapsulation
WO2015168036A1 (en) 2014-04-30 2015-11-05 Kateeva, Inc. Gas cushion apparatus and techniques for substrate coating
TWI546464B (zh) 2014-05-27 2016-08-21 財團法人金屬工業研究發展中心 多孔質氣靜壓軸承之製作方法
US11220737B2 (en) * 2014-06-25 2022-01-11 Universal Display Corporation Systems and methods of modulating flow during vapor jet deposition of organic materials
US11267012B2 (en) 2014-06-25 2022-03-08 Universal Display Corporation Spatial control of vapor condensation using convection
EP2960059B1 (en) 2014-06-25 2018-10-24 Universal Display Corporation Systems and methods of modulating flow during vapor jet deposition of organic materials
JP5799181B1 (ja) * 2015-01-07 2015-10-21 住友化学株式会社 有機電子素子の製造方法
JP6018659B2 (ja) * 2015-02-27 2016-11-02 株式会社日本製鋼所 雰囲気形成装置および浮上搬送方法
US9553010B2 (en) * 2015-06-25 2017-01-24 Coreflow Ltd. Wafer gripper with non-contact support platform
US10566534B2 (en) 2015-10-12 2020-02-18 Universal Display Corporation Apparatus and method to deliver organic material via organic vapor-jet printing (OVJP)
CN105565018A (zh) * 2016-01-11 2016-05-11 京东方科技集团股份有限公司 薄膜供给装置及其控制方法
US10807811B2 (en) * 2016-03-07 2020-10-20 Purple Innovation, Llc Mattress toppers, air tables for making mattress toppers, and related methods
WO2017221229A1 (en) * 2016-06-21 2017-12-28 Core Flow Ltd. Noncontact support platform with edge lifting
US9961782B2 (en) 2016-07-08 2018-05-01 Kateeva, Inc. Transport path correction techniques and related systems, methods and devices
CN108249159B (zh) 2016-12-28 2020-02-14 芝浦机械电子株式会社 浮起搬运装置以及基板处理装置
JP2018108892A (ja) * 2016-12-28 2018-07-12 芝浦メカトロニクス株式会社 浮上搬送装置および基板処理装置
US9889995B1 (en) * 2017-03-15 2018-02-13 Core Flow Ltd. Noncontact support platform with blockage detection
WO2018224218A1 (en) 2017-06-06 2018-12-13 Asml Netherlands B.V. Method of unloading an object from a support table
JP6622254B2 (ja) * 2017-06-21 2019-12-18 芝浦メカトロニクス株式会社 貼合装置および貼合処理方法
US20190259648A1 (en) * 2018-02-20 2019-08-22 Applied Materials, Inc. Patterned vacuum chuck for double-sided processing
EP3759463A4 (en) * 2018-02-27 2021-11-24 Georgia Tech Research Corporation SYSTEMS, DEVICES AND METHODS PROVIDING HYDRODYNAMIC BARRIERS
CN108381313B (zh) * 2018-04-09 2023-08-18 奥士康科技股份有限公司 一种用于pcb板加工的基板内层前处理装置
JP2021526314A (ja) * 2018-06-10 2021-09-30 コア フロー リミテッド 非接触支持プラットフォーム
CN108996242B (zh) * 2018-08-17 2021-04-09 通彩智能科技集团有限公司 一种非接触式的气浮爪装置
FR3092435B1 (fr) * 2019-02-04 2021-02-12 Aloxtec Four d’oxydation latérale de VCSEL avec correction de la courbure d’arc du substrat
GB2581378A (en) * 2019-02-15 2020-08-19 Hanbury Robert Laser cutting sheet/material support system
US20220120559A1 (en) * 2019-12-26 2022-04-21 Nanjing LiAn Semiconductor Limited Measuring apparatus and method of wafer geometry
EP3918421B1 (en) * 2019-12-26 2024-05-15 Nanjing ZongAn Semiconductor Equipment Ltd Tool architecture for wafer geometry measurement in semiconductor industry
JP7437187B2 (ja) * 2020-02-26 2024-02-22 Ｊｓｗアクティナシステム株式会社 浮上搬送装置、及びレーザ処理装置
US11187526B2 (en) * 2020-02-26 2021-11-30 Core Flow Ltd. System and method of measuring warpage of a workpiece on a noncontact support platform
US20230163018A1 (en) * 2020-05-25 2023-05-25 Hitachi High-Tech Corporation Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus
CN111633583B (zh) * 2020-05-25 2021-09-07 嘉兴跃华节能科技有限公司 一种玻璃加工用的快速装夹定位装置及方法
US20220281696A1 (en) * 2021-03-05 2022-09-08 Corning Incorporated Substrate transporting apparatus
US11781593B2 (en) * 2021-08-24 2023-10-10 New Way Machine Components, Inc. Electrostatic dissipative externally pressurized porous bearings
WO2024008359A1 (en) * 2022-07-07 2024-01-11 Asml Netherlands B.V. Substrate holding system and lithographic apparatus
CN115783320B (zh) 2023-02-06 2023-05-02 湖南揽月机电科技有限公司 三轴气浮台的试验平台限位保护装置及其工作方法

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2938590A (en) * 1957-12-09 1960-05-31 Henry W Barnett Conveying device
US3253665A (en) * 1961-01-06 1966-05-31 Gen Motors Corp Fluid actuated workpiece positioning device
US3209623A (en) * 1962-10-15 1965-10-05 Schardt Rudolf Pneumatic positioning table
NL137693C (zh) * 1964-03-25
GB1137555A (en) * 1965-10-22 1968-12-27 Pilkington Brothers Ltd Improvements in or relating to the transporting of sheet materials
GB1161596A (en) * 1965-10-22 1969-08-13 Pilkington Brothers Ltd Improvements in or relating to Methods of and Apparatus for Conveying Glass Sheets
CH461364A (fr) 1966-04-14 1968-08-15 Spencer Melksham Ltd Soupape pour transporteur à flottage pneumatique
US3455670A (en) * 1966-05-09 1969-07-15 Permaglass Heat exchange apparatus for treating glass
US3455671A (en) * 1966-05-09 1969-07-15 Permaglass Gas support bed apparatus for treating glass
US3455669A (en) * 1966-05-09 1969-07-15 Permaglass Apparatus for heat treating glass on a fluid support
US3628673A (en) * 1969-07-02 1971-12-21 Charles L Lynn Jr Cargo-handling system
US3827364A (en) * 1972-10-25 1974-08-06 Rohr Industries Inc Adhesion air bearing feedback control apparatus and method
US4015880A (en) * 1975-05-21 1977-04-05 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Multiple level fluid bearing track assembly
US4014576A (en) * 1975-06-19 1977-03-29 International Business Machines Corporation Article carrier
US4326831A (en) * 1976-05-10 1982-04-27 Bergman Raymond A Apparatus for transferring a workpiece in an air float system
US4298307A (en) * 1976-05-10 1981-11-03 Bergman Raymond A Air float power rotation system
US4354796A (en) * 1976-05-10 1982-10-19 Bergman Raymond A Air float power translation system
US4081201A (en) * 1976-12-27 1978-03-28 International Business Machines Corporation Wafer air film transportation system
US4165132A (en) * 1977-02-28 1979-08-21 International Business Machines Corporation Pneumatic control of the motion of objects suspended on an air film
US4275983A (en) * 1978-07-17 1981-06-30 Bergman Raymond A Air float fixture clamping system
JPS57121524A (en) * 1981-01-16 1982-07-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Float-system transport apparatus
US4444541A (en) * 1981-12-18 1984-04-24 Bergman Raymond A Air float power translation and rotation system
US4874273A (en) * 1987-03-16 1989-10-17 Hitachi, Ltd. Apparatus for holding and/or conveying articles by fluid
DE3936846C1 (zh) * 1989-11-06 1991-04-18 Hilmar 5653 Leichlingen De Vits
US5209387A (en) * 1990-09-20 1993-05-11 Eastman Kodak Company Gas film conveyor for elongated strips of web material
US5443452A (en) 1992-07-02 1995-08-22 Applied Medical Resources Seal assembly for access device
US5634636A (en) * 1996-01-11 1997-06-03 Xerox Corporation Flexible object handling system using feedback controlled air jets
DE19607397A1 (de) * 1996-02-28 1997-09-04 Heidelberger Druckmasch Ag Vorrichtung und Verfahren zur Führung von bogenförmigem Material in einer Druckmaschine, insbesondere in einer Bogenrotations-Offsetdruckmaschine
US5803979A (en) * 1996-07-15 1998-09-08 Hine Design Inc. Transport apparatus for semiconductor wafers
JPH10107105A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 圧力安定化装置及びこの装置を備えた基板の電気特性測定装置
IL131591A (en) 1999-08-25 2008-03-20 Yuval Yassour Adaptive vacuum grip system
IL131589A (en) * 1999-08-25 2007-05-15 Yuval Yassour Device for creating forces by injecting liquid
JP4081221B2 (ja) * 2000-06-02 2008-04-23 カヤバ工業株式会社 液圧パワーパッケージ
DE10045479A1 (de) * 2000-09-14 2002-04-04 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zum kontaktlosen Lagern und Transportieren von Flachglas
US6781684B1 (en) * 2000-11-07 2004-08-24 Donald L. Ekhoff Workpiece levitation using alternating positive and negative pressure flows
US6676365B2 (en) * 2001-03-16 2004-01-13 Toda Kogyo Corporation Air track conveyor system for disk production
TWI222423B (en) * 2001-12-27 2004-10-21 Orbotech Ltd System and methods for conveying and transporting levitated articles
JP4197129B2 (ja) * 2003-03-19 2008-12-17 シャープ株式会社 ワーク搬送装置
US6969224B2 (en) * 2003-12-01 2005-11-29 Smc Kabushiki Kaisha Workpiece levitating device
DE102004014779A1 (de) * 2004-03-26 2005-10-13 Grenzebach Maschinenbau Gmbh Berührungsfreier Plattenförderer, insbesondere für Glasplatten
AT501192B1 (de) * 2004-12-23 2007-04-15 Lisec Peter Vorrichtung zum transportieren und stützen tafelförmiger gegenstände, insbesondere glastafeln

Cited By (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102483580B (zh) * 2009-08-20 2015-04-01 株式会社尼康 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
CN102483579A (zh) * 2009-08-20 2012-05-30 株式会社尼康 物体移动装置、物体处理装置、曝光装置、物体检查装置及元件制造方法
CN102483580A (zh) * 2009-08-20 2012-05-30 株式会社尼康 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
CN105388710A (zh) * 2009-08-20 2016-03-09 株式会社尼康 物体移动装置、物体处理装置、曝光装置、物体检查装置及元件制造方法
CN102483579B (zh) * 2009-08-20 2015-10-14 株式会社尼康 物体移动装置、物体处理装置、曝光装置、物体检查装置及元件制造方法
CN102754199A (zh) * 2009-12-15 2012-10-24 速力斯公司 用于薄晶片处理的可移动真空载具
CN107450280A (zh) * 2010-09-13 2017-12-08 株式会社尼康 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN107315321B (zh) * 2010-09-13 2019-03-22 株式会社尼康 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN107450280B (zh) * 2010-09-13 2019-05-31 株式会社尼康 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN103097959B (zh) * 2010-09-13 2017-08-11 株式会社尼康 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN109557771A (zh) * 2010-09-13 2019-04-02 株式会社尼康 移动体装置、曝光装置、曝光方法、元件制造方法、平板显示器的制造方法及物体交换方法
CN107315321A (zh) * 2010-09-13 2017-11-03 株式会社尼康 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN103097959A (zh) * 2010-09-13 2013-05-08 株式会社尼康 移动体装置、曝光装置、元件制造方法、平板显示器的制造方法、及物体交换方法
CN102736429A (zh) * 2011-04-07 2012-10-17 上海微电子装备有限公司 硅片温度稳定装置
CN105752686A (zh) * 2012-04-03 2016-07-13 株式会社尼康 基板处理装置
CN103515270A (zh) * 2013-09-29 2014-01-15 中国电子科技集团公司第四十五研究所 一种湿法处理设备中真空吸盘防堵塞***
CN103659757A (zh) * 2013-11-07 2014-03-26 北京卫星环境工程研究所 应用于航天器精确定位总装的气垫***
CN104649015A (zh) * 2013-11-20 2015-05-27 东丽工程株式会社 基板浮起装置
CN104649015B (zh) * 2013-11-20 2018-12-11 东丽工程株式会社 基板浮起装置
TWI631995B (zh) * 2013-11-20 2018-08-11 Toray Engineering Co., Ltd. Substrate suspension device
CN106463444B (zh) * 2013-12-23 2018-06-29 科磊股份有限公司 用于非接触晶片夹持的***和方法
CN106463444A (zh) * 2013-12-23 2017-02-22 科磊股份有限公司 用于非接触晶片夹持的***和方法
CN113043752A (zh) * 2014-06-17 2021-06-29 科迪华公司 打印***组件和方法
CN106457304A (zh) * 2014-06-17 2017-02-22 科迪华公司 打印***组件和方法
US10875329B2 (en) 2014-06-17 2020-12-29 Kateeva, Inc. Printing system assemblies and methods
US11626311B2 (en) 2014-06-17 2023-04-11 Kateeva, Inc. Printing system assemblies and methods
CN104362116B (zh) * 2014-11-04 2017-06-27 合肥京东方光电科技有限公司 一种气悬浮式下部电极及干法刻蚀装置
CN104362116A (zh) * 2014-11-04 2015-02-18 合肥京东方光电科技有限公司 一种气悬浮式下部电极及干法刻蚀装置
TWI712555B (zh) * 2015-03-12 2020-12-11 美商克萊譚克公司 用於夾持翹曲晶圓之裝置及方法
CN104842328A (zh) * 2015-04-29 2015-08-19 苏州锟恩电子科技有限公司 一种电路板用高效定位工作台
CN106144594A (zh) * 2015-05-11 2016-11-23 盟立自动化股份有限公司 用来运送平板构件的输送载具
CN106144594B (zh) * 2015-05-11 2018-12-04 盟立自动化股份有限公司 用来运送平板构件的输送载具
TWI584122B (zh) * 2015-11-17 2017-05-21 群聯電子股份有限公司 緩衝記憶體管理方法、記憶體控制電路單元及記憶體儲存裝置
CN107117462A (zh) * 2016-02-25 2017-09-01 罗伯特·博世有限公司 确定至少一个悬浮的输送体相对于悬浮供送单元的位置和/或取向的装置和方法
CN105712089A (zh) * 2016-04-21 2016-06-29 江苏科技大学 一种无接触输运与定位平台装置及控制方法
CN105742220A (zh) * 2016-04-21 2016-07-06 钟伟 一种无接触输运与定位平台装置及控制方法
CN105742220B (zh) * 2016-04-21 2018-10-26 钟伟 一种无接触输运与定位平台装置及控制方法
CN105921894A (zh) * 2016-05-17 2016-09-07 京东方科技集团股份有限公司 载台和切割方法
CN109416513A (zh) * 2016-07-01 2019-03-01 Asml荷兰有限公司 工作台***、光刻设备、用于定位的方法以及器件制造方法
CN106185325A (zh) * 2016-08-25 2016-12-07 芜湖东旭光电科技有限公司 一种气浮装置、气浮控制方法及玻璃基板传送装置
CN107086275A (zh) * 2017-05-12 2017-08-22 京东方科技集团股份有限公司 基板对盒装置及对盒方法
CN109461691A (zh) * 2017-09-06 2019-03-12 富士迈半导体精密工业（上海）有限公司 晶圆支撑装置
CN111556848A (zh) * 2017-11-08 2020-08-18 科福罗有限公司 分层非接触支撑平台
CN111699143A (zh) * 2017-11-30 2020-09-22 中国建材国际工程集团有限公司 确定密闭腔室中衬底位置的方法和执行该方法的装置
CN110788740A (zh) * 2018-08-02 2020-02-14 株式会社荏原制作所 用于保持基板的顶环以及基板处理装置
CN110788740B (zh) * 2018-08-02 2022-12-13 株式会社荏原制作所 用于保持基板的顶环以及基板处理装置
TWI830756B (zh) * 2018-08-02 2024-02-01 日商荏原製作所股份有限公司 用以保持基板的頂環及基板處理裝置
CN108861590A (zh) * 2018-08-17 2018-11-23 通彩智能科技集团有限公司 一种非接触式气浮平台
CN111217149A (zh) * 2018-11-23 2020-06-02 合肥欣奕华智能机器有限公司 一种基板校准装置、基板校准方法及基板搬运装置
CN109333469A (zh) * 2018-12-06 2019-02-15 深圳义信成科技有限公司 一种智能化音控式精密位移台
CN113286755A (zh) * 2018-12-27 2021-08-20 科福罗有限公司 用于非接触式支撑平台的端口布置
CN111390465A (zh) * 2020-01-20 2020-07-10 武汉高芯科技有限公司 一种用于倒装焊的液压装置
CN111390465B (zh) * 2020-01-20 2022-03-22 武汉高芯科技有限公司 一种用于倒装焊的液压装置
WO2022056742A1 (en) * 2020-09-16 2022-03-24 Abb Schweiz Ag Gripper and method of operating the same
CN112830256A (zh) * 2020-12-31 2021-05-25 合肥工业大学 薄板气浮支承***弹性稳压装置
CN116705681A (zh) * 2022-10-09 2023-09-05 深圳市宇泰科技有限公司 一种芯片导正结构
CN116705681B (zh) * 2022-10-09 2024-06-14 深圳市宇泰科技有限公司 一种芯片导正结构

Also Published As

Publication number Publication date
US7604439B2 (en) 2009-10-20
EP1776300A2 (en) 2007-04-25
WO2005099350A3 (en) 2007-05-18
EP1776300A4 (en) 2011-05-11
JP4767251B2 (ja) 2011-09-07
KR20060133080A (ko) 2006-12-22
WO2005099350A2 (en) 2005-10-27
JP2007533153A (ja) 2007-11-15
KR101195628B1 (ko) 2012-10-30
US20070195653A1 (en) 2007-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101124133A (zh) 用于调整距离的非接触支撑平台
EP1461826B1 (en) Non-contact air cuhion support platform
JP4723201B2 (ja) 処理中の大型平板柔軟媒体の搬送と拘束のための高精度気体軸受軸方向分割ステージ
US6781684B1 (en) Workpiece levitation using alternating positive and negative pressure flows
JP5056339B2 (ja) 基板搬送装置用基板把持機構
JP5579452B2 (ja) チャックを使用する基板処理方法および基板処理装置
JP5610330B2 (ja) コンベアの搬送性能を強化するシステム
US7543867B2 (en) Vacuum gripping system for positioning large thin substrates on a support table
JP4418428B2 (ja) 基板浮上装置
US20070175499A1 (en) Method for cleaning surfaces using parallel flow
US20090273878A1 (en) Gas bearing electrostatic chuck
JPH023219A (ja) 粒子ビームリソグラフィ系においてワークと真空シール装置との間の固定されたギャップをプリセレクトし、かつ保持するための装置および粒子ビームリソグラフィ系においてワーク表面を配向する方法
US11975422B2 (en) Minimal contact gripping of thin optical devices
TWI389240B (zh) The support of the workpiece
JP2005240121A (ja) 真空蒸着用アライメント装置
KR102346975B1 (ko) 박형의 디스플레이 패널 이송 및 코팅 장치
JP5176631B2 (ja) 基板搬送装置及び基板検査装置
JP2010034382A (ja) 基板搬送装置および基板撮像装置
KR20050084761A (ko) 고성능 비접촉식 지지 플랫폼
JP5987528B2 (ja) 浮上装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Open date: 20080213