CN101097373B - 液晶显示器的母玻璃和使用母玻璃制造液晶显示器的方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及液晶显示器的母玻璃和使用母玻璃制造液晶显示器的方法。该母玻璃包括：在基板上的多个单元区，其中形成有多个薄膜；在所述基板上的空白区，其设置在所述多个单元区的外侧；以及钝化层。该钝化层包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分被涂敷在所述多个单元区的整个部分上，而所述第二部分在所述空白区中沿横向形成为直线形带，以将沿纵向相邻的单元区彼此隔离。

Description

液晶显示器的母玻璃和使用母玻璃制造液晶显示器的方法

技术领域

本发明的示例性实施例涉及用于液晶显示器的母玻璃和使用该母玻璃制造液晶显示器的方法。

背景技术

液晶显示器通常包括以大致恒定间隔组装的薄膜晶体管(TFT)阵列基板和滤色器基板，以及设置在这两块基板之间的液晶层。

通过诸如淀积工艺、光刻工艺以及蚀刻工艺的各种工艺来制造液晶显示器。

光刻工艺包括对光刻胶的涂敷工艺、曝光工艺、显影工艺以及蚀刻工艺。

当采用光刻工艺来制造TFT阵列基板和滤色器基板时，在该TFT阵列基板和滤色器基板中的每一个上淀积薄膜，并使用掩模对这两块基板执行数次光刻蚀刻工艺。因此，临界尺寸(CD)会因该光刻工艺而出现变化。由于该临界尺寸(CD)变化，在屏幕驱动过程中会频繁出现斑点，由此导致液晶显示器的亮度不均匀性。

发明内容

因此，本发明的示例性实施例旨在提供一种液晶显示器的母玻璃和使用该母玻璃制造液晶显示器的方法，其基本上消除了由于现有技术的局限和缺点所导致的一个或更多个问题。

本发明的示例性实施例的优点是提供了一种母玻璃和使用该母玻璃制造液晶显示器的方法，所述母玻璃用于通过改变钝化层的结构来防止在光刻工艺过程中由于临界尺寸(CD)变化所引起的屏幕斑点和亮度的不均匀性。

在下面的说明中将阐述本发明的其它特征和优点，其可部分地从说明中明了，或者可从本发明的实践中领会。本发明的目的和其它优点可通过在撰写的说明书及其权利要求以及附图中具体指出的结构而实现并获得。

为实现这些和其他优点并且根据本发明示例性实施例的目的，如所具体实现和广泛描述的那样，本发明提供了一种母玻璃，这种母玻璃包括：在基板上的多个单元区，其中形成有多个薄膜；在所述基板上的空白区，其设置在所述多个单元区的外侧；以及钝化层，该钝化层包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分被涂敷在所述多个单元区的整个部分上，而所述第二部分在所述空白区中沿横向形成为直线形带，以将沿纵向相邻的单元区彼此隔离。

所述钝化层可具有2.0到2.3μm的厚度。

所述用于液晶显示器的母玻璃还可包括栅栏(barrier)，该栅栏位于沿横向布置的所述多个单元区之间以在横向上将相邻单元区彼此隔离。

所述栅栏可由诸如光压克力(photoacryl)和苯并环丁烯(BCB)的有机材料和诸如氧化硅(SiOx)和氮化硅(SiNx)的无机材料中的一种来形成。

所述栅栏可由与所述钝化层相同的材料形成。

所述栅栏可具有与所述钝化层大致相同的厚度。

所述薄膜可以是薄膜晶体管阵列，该薄膜晶体管阵列包括：从选通线分出的栅极；位于所述栅极上的栅绝缘层；位于所述栅绝缘层的与所述栅极相对应的上部的半导体层；以及彼此相隔开的其间具有所述半导体层的源极和漏极。

另一方面，本发明提供了一种用于液晶显示器的母玻璃，该母玻璃包括：在基板上的多个单元区，其中形成有多个薄膜，每个单元区都包括由所述多个薄膜限定的有源区，和其中所述有源区的边缘处形成有多个电极焊盘的焊盘区；在所述基板上的空白区，其设置在所述多个单元区的外侧；以及钝化层，该钝化层被涂敷在包括所述多个单元区和所述空白区的所述基板的整个表面上，并包括位于所述焊盘区和与所述焊盘区相邻的所述空白区中的开口。

又一方面，本发明提供了一种制造液晶显示器的方法，该方法包括以下步骤：制备第一母玻璃，该第一母玻璃包括形成有多个薄膜晶体管阵列的多个单元区和设置在所述多个单元区的外侧的空白区；在所述第一母玻璃的整个表面上涂敷钝化层；以及对所述钝化层进行构图，以将所述钝化层涂敷在所述多个单元区的整个表面上，并在所述空白区中仅沿横向将所述钝化层形成为直线形带，以将沿纵向相邻的单元区彼此隔离。

再一方面，本发明提供了一种制造液晶显示器的方法，该方法包括以下步骤：制备第一母玻璃，该第一母玻璃包括多个单元区和设置在所述多个单元区的外侧的空白区，每个单元区都包括焊盘区和形成有薄膜晶体管阵列的有源区；在所述第一母玻璃的整个表面上涂敷钝化层；以及对所述焊盘区和与所述焊盘区相邻的所述空白区中的所述钝化层进行构图。

应当理解，以上一般性描述和以下详细描述都是示例性和说明性的，旨在提供权利要求所保护的本发明的进一步说明。

附图说明

包含在本文中以提供本发明的进一步理解，并且并入本发明的说明且构成本发明的说明的一部分的附图例示了本发明的实施例并且与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：

图1是普通液晶显示器的分解立体图；

图2例示了用于普通液晶显示器的母玻璃；

图3A是根据本发明第一示例性实施例的用于液晶显示器的母玻璃的平面图；

图3B是沿图3A的线3b-3b′截取的横截面图；

图3C是沿图3A的线3c-3c′截取的横截面图；

图4是图3C的区域VII中的像素的局部横截面图；

图5A是根据本发明第二示例性实施例的用于液晶显示器的母玻璃的平面图；

图5B是沿图5A的线5b-5b′截取的横截面图；

图5C是沿图5A的线5c-5c′截取的横截面图；

图6A是根据本发明第三示例性实施例的用于液晶显示器的母玻璃的平面图；

图6B是沿图6A的线6b-6b′截取的横截面图；以及

图7是对使用根据本发明第一、第二以及第三示例性实施例的母玻璃来制造液晶显示器的方法进行说明的流程图。

具体实施方式

下面将详细描述本发明的实施例，其示例在附图中示出。

图1是普通液晶显示器的分解立体图。图2例示了用于普通液晶显示器的母玻璃。

首先，参照图1，普通液晶显示器包括下基板10和上基板20以及下基板10与上基板20之间的液晶层。

下基板10被称为阵列基板，且包括多条选通线12和多条数据线13。该多条选通线12以大致恒定的间距被布置在一个方向上，该多条数据线13被布置在与选通线12大致垂直的方向上。所述多条选通线12和多条数据线13限定了多个像素区P。

在每个像素区P中都形成有像素电极14。在所述多条选通线12与多条数据线13的各交叉处都形成有执行开关功能的薄膜晶体管T。该薄膜晶体管T响应于施加给选通线12的控制信号而导通，随后由于该导通的薄膜晶体管T而将数据线13的数据信号施加到像素电极14。

上基板20被称为滤色器基板，且包括黑底21和红(R)、绿(G)以及蓝(B)滤色器层22。黑底21阻挡光透射到像素区P的外侧，红(R)、绿(G)以及蓝(B)滤色器层22表现出与各像素区P相对应的颜色。在滤色器层22上形成有公共电极23和上配向层(未示出)以显示图像。公共电极23可形成在下基板10上以在多个像素电极14之间形成平行电场。

通过对下基板10和上基板20中的每一个重复地执行诸如淀积工艺、光刻工艺以及蚀刻工艺的各种工艺来制造液晶显示器。

并非使用一块下基板10和一块上基板20来组装一块液晶板。如图2所例示，制备一对大尺寸母玻璃50和60以提高生产效率。在该母玻璃50和60上分别设计有多个液晶板区50a和60a，在这些液晶板区50a和60a中分别设置薄膜晶体管(TFT)阵列和滤色器阵列。

换言之，使用包括薄膜晶体管阵列的第一母玻璃50和包括滤色器阵列的第二母玻璃60来制造液晶显示器。

在使用母玻璃来制造液晶显示器时，通过涂敷在母玻璃上的钝化层的改进结构来防止在光刻工艺过程中产生光刻胶的CD变化，从而防止了CD变化所引起的斑点。

制造液晶显示器的方法包括阵列工艺、单元工艺以及模块工艺。通常在阵列工艺过程中形成钝化层。更具体来说，在对阵列基板与滤色器基板进行组装之前，在阵列基板和滤色器基板中的每一个的制造工艺过程中都形成钝化层。

具体地说，在阵列基板的阵列工艺中，可以在该基板上形成构成开关器件的多个电极，并且随后可在形成像素电极之前形成钝化层。

由于在密封胶形成区、划线或漏极与像素电极的连接区(接触孔)中钝化层是开口的，所以在后续的光刻工艺过程中，钝化层的开口区中光刻胶的流量会增大，由此斑点的出现会增加。

例如，如果使用旋涂方法涂敷光刻胶，则光刻胶会按径向方式在母玻璃上分散开。因此，在钝化层的开口区(即，密封胶形成区、划线或漏极与像素电极的连接区(接触孔))中光刻胶的流量会相对增大，使得光刻胶的流量会由于母玻璃的连续旋转而不再恒定。

因此，光刻胶会聚集在钝化层的开口区的内部，从而产生散布斑点。这会导致液晶显示器的亮度的不均匀性。

因此，以下将对液晶显示器的钝化层和母玻璃的结构的示例性实施例进行描述，该结构防止了散布斑点。

[第一示例性实施例]

图3A是根据本发明第一示例性实施例的用于液晶显示器的母玻璃100的平面图。图3B是沿图3A的线3b-3b′截取的横截面图，图3C是沿图3A的线3c-3c′截取的横截面图。图4是图3C的区域VII中的像素的局部横截面图。

首先，参照图3A，母玻璃100包括：在透明基板110上的多个单元区120，其中形成有多个薄膜；在透明基板110上的空白区130，其设置在所述多个单元区120的外侧；以及钝化层140。钝化层140覆盖了包括所述多个单元区120和空白区130的透明基板110的整个表面，并包括位于其预定部分上的开142。

在随后的切割工艺中沿图3A所示的划线SL切割母玻璃100，以形成各单元区120中的阵列基板或滤色器基板。

所述多个单元区120按其间大致恒定的间距来布置。根据是阵列基板还是滤色器基板，所述多个薄膜可以是TFT阵列或滤色器阵列。在所述多个单元区120之间设置具有预定宽度的空白区130。

各单元区120都被划分成：有源区122，其中显示图像；和焊盘区124，其中在有源区122的边缘处形成有用于从外部施加信号的多个电极焊盘。根据板型，不仅可以将焊盘区124设置在有源区122的边缘处，而且可以将其设置在有源区122的与有源区122的边缘相邻的上部或下部。

在各单元区120的整个部分上涂敷钝化层140。在空白区130中，沿横向将钝化层140形成为直线形带以在纵向上将所述多个单元区120彼此隔离。在空白区130中，钝化层140包括沿着各单元区120的边缘的开142。

此外，可以将钝化层140的开142形成在用于将漏极(未示出)连接到有源区122中的像素电极(未示出)的接触孔上。

可以使用单独的掩模通过光刻工艺形成钝化层140的开142。

在图3A中，为了便于理解，用阴影表示涂敷有钝化层140的区域，以将钝化层140与开142区分开。

钝化层140可以由诸如光压克力和苯并环丁烯(BCB)的有机材料和诸如氧化硅(SiOx)和氮化硅(SiNx)的无机材料中的一个来形成。钝化层140可以具有2.0到2.3μm的厚度。因此，钝化层140包括位于开口142中的2.0到2.3μm厚的切面。

如图3B和3C所例示，在沿横向布置的多个单元区120之间形成钝化层140的开口142，并在沿纵向布置的多个单元区120之间形成钝化层140以在纵向上将该多个单元区120彼此隔离。

图3B和3C仅仅在概念上例示了涂敷在多个单元区120上的钝化层140。实际上，涂敷在所述多个单元区120上的钝化层140的结构可以根据这些单元区120内部的薄膜的结构而变化。

例如，如图4所例示，当单元区120是TFT阵列时，单元区120包括薄膜晶体管、用于保护该薄膜晶体管的钝化层127以及位于该钝化层127上的有机绝缘层128和像素电极129。

薄膜晶体管包括栅极121、用于将栅极121绝缘的栅绝缘层122、位于栅绝缘层122的上表面上的有源层123、位于有源层123的上表面上的欧姆接触层124、源极125以及漏极126。栅极121与用于发送选通信号的选通线相连接，以接收该选通信号。源极125与漏极126在欧姆接触层124上按其间的预定间隔彼此分隔开。

由于单元区120的以上结构，钝化层127涂敷在包括薄膜晶体管的单元区120的整个表面上，并且用于将薄膜晶体管的漏极126连接到像素电极129的区域是开口的。

因此，由于包括钝化层140的空白区130在根据本发明第一示例性实施例的液晶显示器的母玻璃100中的面积缩减了，因此在随后的光刻工艺过程中涂敷光刻胶时抑制了光刻胶在包括钝化层140的空白区130中的流量的增大。因此，光刻胶被均匀地涂敷在单元区120的整个部分上，从而防止了屏幕斑点的出现。

[第二示例性实施例]

图5A是根据本发明第二示例性实施例的用于液晶显示器的母玻璃200的平面图，图5B是沿图5A的线5b-5b′截取的横截面图，图5C是沿图5A的线5c-5c′截取的横截面图。

参照图5A，母玻璃200包括：在透明基板210上的多个单元区120，其中形成有多个薄膜；在透明基板210上的空白区230，其设置在所述多个单元区220的外侧；以及钝化层240。钝化层240覆盖了包括所述多个单元区220和空白区230的透明基板210的整个表面，并包括位于其预定部分上的开口242。

在随后的切割工艺中沿划线(未示出)切割母玻璃200，以形成各单元区220中的阵列基板或滤色器基板。

所述多个单元区220按其间大致恒定的间距来布置。根据是阵列基板还是滤色器基板，所述多个薄膜可以是TFT阵列或滤色器阵列。在所述多个单元区220之间设置具有预定宽度的空白区230。

各单元区220都被划分成：有源区222，其中显示图像；和焊盘区224，其中在有源区222的边缘处形成有用于从外部施加信号的多个电极焊盘。根据板型，不仅可以将焊盘区224设置在有源区222的边缘处，而且可以将其设置在有源区222的与有源区222的边缘相邻的上部或下部。

在各单元区220的整个部分上涂敷钝化层240。在空白区230中，沿横向将钝化层240形成为直线形带以在纵向上将所述多个单元区220彼此隔离。

母玻璃200还包括栅栏244，栅栏244位于沿横向布置的多个单元区220之间以在横向上将相邻的单元区220彼此隔离。

如图5B和5C所例示，在沿横向布置的多个单元区220之间形成钝化层240的开口242，并在开口242中形成栅栏244，从而在横向上将该多个单元区220彼此隔离。此外，在沿纵向布置的多个单元区220之间形成钝化层240以在纵向上将该多个单元区220彼此隔离。

此外，在根据第二示例性实施例的母玻璃200中，钝化层240和栅栏244被形成为网格形，从而在横向和纵向上将相邻单元区220彼此隔离。

钝化层240和栅栏244可由诸如光压克力和苯并环丁烯(BCB)的有机材料和诸如氧化硅(SiOx)和氮化硅(SiNx)的无机材料中的一个来形成。

钝化层240和栅栏244可以由相同材料也可以由不同材料形成。当钝化层240和栅栏244由相同材料形成时，可以在钝化层240的形成工艺过程中形成栅栏244。因此，不必增加单独的工艺就可以形成栅栏244。

钝化层240可以具有2.0到2.3μm的厚度。因此，钝化层240的开口242包括2.0到2.3μm厚的切面242a。

栅栏244的厚度可以与钝化层240的厚度大致相等。然而，栅栏244的厚度并不限于此。

图5B和5C仅仅在概念上例示了涂敷在多个单元区220上的钝化层240。实际上，涂敷在所述多个单元区220上的钝化层240的结构可以根据这些单元区220内部的薄膜的结构而变化。

因此，由于由沿横向和纵向布置的多个单元区220形成的交叉区在根据本发明第二示例性实施例的用于液晶显示器的母玻璃200中的各单元区220中的面积缩减了，因此在随后的光刻工艺过程中涂敷光刻胶时抑制了光刻胶在这些交叉区中的流量的增大。因此，光刻胶被均匀地涂敷在单元区220的整个部分上，从而防止了屏幕斑点的出现。

[第三示例性实施例]

图6A是根据本发明第三示例性实施例的用于液晶显示器的母玻璃300的平面图，图6B是沿图6A的线6b-6b′截取的横截面图。

根据第三示例性实施例的母玻璃300与根据本发明第一和第二示例性实施例的母玻璃100和200的不同之处在于母玻璃300具有用于防止在单元区的焊盘区中出现斑点的结构。

如图6A例示，母玻璃300包括：在透明基板310上的多个单元区320，其中形成有多个薄膜；在透明基板310上的空白区330，其设置在所述多个单元区320的外侧；以及钝化层340。钝化层340覆盖了包括所述多个单元区320和空白区330的透明基板310的整个表面，并包括位于单元区320的焊盘区324中的开口342。

各单元区320都被划分成：有源区322，其中显示图像；和焊盘区324，其中在有源区322的边缘处形成有用于从外部施加信号的多个电极焊盘。根据板型，不仅可以将焊盘区324设置在有源区322的边缘处，而且可以将其设置在有源区322的与有源区322的边缘相邻的上部或下部。

如图6B所例示，钝化层340涂敷在单元区320和空白区330上。钝化层340的开口342形成在单元区320的焊盘区324和与该焊盘区324相邻的空白区330中。

开口342沿布置在同一条线(即，图6A中沿纵向的线)上的焊盘区324延伸，并形成为直线形状。换言之，开口342形成在沿纵向布置的焊盘区324的整个表面上。

钝化层340可由诸如光压克力和苯并环丁烯(BCB)的有机材料和诸如氧化硅(SiOx)和氮化硅(SiNx)的无机材料中的一个来形成。钝化层340可以具有2.0到2.3μm的厚度。

因此，由于在根据本发明第三示例性实施例的用于液晶显示器的母玻璃300中单元区320的焊盘区324具有开口结构，因此在随后的光刻工艺过程中涂敷光刻胶时抑制了光刻胶流量的增大。因此，光刻胶被均匀地涂敷在单元区320的整个部分上，从而防止了屏幕斑点的出现。

图7是对使用根据本发明第一、第二以及第三示例性实施例的母玻璃来制造液晶显示器的方法进行说明的流程图。

制造液晶显示器的方法包括阵列工艺S100、单元工艺S200以及模块工艺S300。

阵列工艺S100包括以下步骤：在第一基板上形成包括选通线、数据线、像素电极、薄膜晶体管等等的TFT阵列；和在第二基板上形成包括黑底层、滤色器层等等的滤色器阵列。

阵列工艺S100并不是用于在一块基板上形成一块液晶板的工艺，而是用于在大尺寸母玻璃上设计多个单元区以在各单元区上形成TFT阵列或滤色器阵列的工艺。

如图7所例示，根据第一到第三示例性实施例的阵列工艺S100包括步骤S101到S107。首先，在步骤S101中，制备包括滤色器阵列的第一母玻璃和第二母玻璃。

在步骤S102中，在第一母玻璃上限定出多个单元区，并将第一母玻璃上的该多个单元区的外侧的区域限定为空白区。

按其间大致恒定的间距在第一母玻璃上布置所述多个单元区。在各单元区内部形成包括选通线、数据线、像素电极、薄膜晶体管等等的TFT阵列。

在步骤S103中，在其上形成有TFT阵列的第一母玻璃上涂敷钝化层。

在步骤S104中，对钝化层进行构图，以便通过打开空白区中的钝化层的一部分来形成开口。此外，在用于将漏极连接到各单元区的有源区中的像素电极的接触孔中形成开口。

根据图3A所示的第一示例性实施例，在各单元区的整个表面上涂敷钝化层140。在空白区130中，在沿纵向布置的多个单元区120之间对钝化层140进行构图，以在纵向上将该多个单元区120彼此隔离。

根据图5A所示的第二示例性实施例，在各单元区220的整个部分上涂敷钝化层240。在空白区230中，对钝化层240进行构图，使其形成在沿纵向布置的多个单元区220之间。此外，在空白区230中沿横向布置的单元区220之间形成栅栏244，以在横向上将相邻单元区220彼此隔离。

根据图6A所示的第三示例性实施例，可以对钝化层340进行构图以使其形成在透明基板310的除单元区320的焊盘区324以外的整个表面上。

在步骤S105中，在构图出的钝化层的整个表面上淀积像素电极。

在淀积了像素电极之后，在步骤S106中采用旋涂方法涂敷光刻胶以对像素电极进行构图。

旋涂方法是在基板上涂敷光刻胶，然后使基板旋转以通过由基板的旋转而产生的离心力而使光刻胶从基板的中央向边缘分散开，直到获得预期厚度的薄膜。

在旋涂方法中，光刻胶聚集在钝化层上，具体地说，聚集在具有预定厚度的开口内部，然后沿该开口的表面流动。光刻胶散布在基板的整个表面上，从而达到预期厚度的薄膜。

在此情况下，由于由钝化层隔离了单元区，因此减小了由多个单元区形成的交叉区的开口的面积。因此，光刻胶的流量不会增大并且可被均匀地涂敷。

在步骤S107中，使用光刻胶作为掩模对像素电极执行曝光工艺和显影工艺以完成对第一母玻璃的阵列工艺。

将由此制造出的包括TFT阵列的第一母玻璃和包括滤色器阵列的第二母玻璃移动到随后的单元工艺线。

在单元工艺S200中，在第一母玻璃和第二母玻璃上涂敷液晶材料，然后对第一母玻璃和第二母玻璃执行摩擦工艺，使得液晶材料的分子具有均匀的取向。摩擦工艺在执行清洁处理之后，在顺次执行配向层涂敷处理、配向层印刷处理、配向层烧结处理以及配向层测试处理之前执行。

接着，对第一和第二母玻璃进行清洁处理，随后在第一和第二母玻璃中的一个上形成液晶以将第一母玻璃与第二母玻璃组装起来。

在模块工艺S300中，沿划线对组装后的第一和第二母玻璃进行切割，并对其进行处理以制造各单元区具有大致恒定的尺寸的液晶显示器。

根据本发明的示例性实施例，在用于制造液晶显示器的阵列基板和滤色器基板的阵列工艺中，通过改变钝化层的结构，可以在随后的光刻工艺过程中在钝化层上均匀地涂敷光刻胶，从而防止屏幕斑点的出现。

因此，通过解决电极之间的临界尺寸(CD)变化而改进了液晶显示器的亮度。此外，即使使用现有的旋涂设备也可以防止斑点的出现。由于不需要单独的设备，因此可以降低制造成本。

本领域的技术人员应该明了，可在不脱离本发明的精神或范围的情况下对本发明进行各种修改和变型。由此，本发明旨在覆盖本发明的这些修改和变型，只要它们落在所附权利要求及其等同物的范围内。

Claims (22)

1.一种用于液晶显示器的母玻璃，该母玻璃包括：

在基板上的多个单元区，其中形成有多个薄膜；

在所述基板上的空白区，其设置在所述多个单元区的外侧；以及

钝化层，该钝化层包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分被涂敷在所述多个单元区的整个部分上，而所述第二部分在所述空白区中沿横向形成为直线形带，以将沿纵向相邻的单元区彼此隔离。

2.根据权利要求1所述的用于液晶显示器的母玻璃，其中，所述钝化层具有2.0到2.3μm的厚度。

3.根据权利要求1所述的用于液晶显示器的母玻璃，该母玻璃还包括栅栏，该栅栏位于沿横向布置的所述多个单元区之间以在横向上将相邻单元区彼此隔离。

4.根据权利要求3所述的用于液晶显示器的母玻璃，其中，所述栅栏由有机材料和无机材料中的一种形成，其中所述有机材料为光压克力和苯并环丁烯中的一种，而所述无机材料为氧化硅和氮化硅中的一种。

5.根据权利要求4所述的用于液晶显示器的母玻璃，其中，所述栅栏由与所述钝化层相同的材料形成。

6.根据权利要求3所述的用于液晶显示器的母玻璃，其中，所述栅栏具有与所述钝化层相同的厚度。

7.根据权利要求1所述的用于液晶显示器的母玻璃，其中，所述薄膜是薄膜晶体管阵列，该薄膜晶体管阵列包括：从选通线分出的栅极；位于所述栅极上的栅绝缘层；位于所述栅绝缘层的与所述栅极相对应的上部的半导体层；以及其间以所述半导体层彼此分隔开的源极和漏极。

8.一种用于液晶显示器的母玻璃，该母玻璃包括：

在基板上的多个单元区，其中形成有多个薄膜，每个单元区都包括由所述多个薄膜限定的有源区，和其中在所述有源区的边缘处形成有多个电极焊盘的焊盘区；

在所述基板上的空白区，其设置在所述多个单元区的外侧；以及

钝化层，该钝化层被涂敷在包括所述多个单元区和所述空白区的所述基板的整个表面上，并包括位于所述焊盘区以及与所述焊盘区相邻的所述空白区中的开口。

9.根据权利要求8所述的用于液晶显示器的母玻璃，其中，所述开口沿排列在同一条线上的所述焊盘区延伸，并形成为直线形状。

10.根据权利要求8所述的用于液晶显示器的母玻璃，其中，所述钝化层由有机材料和无机材料中的一种形成，其中所述有机材料为光压克力和苯并环丁烯中的一种，而所述无机材料为氧化硅和氮化硅中的一种。

11.根据权利要求8所述的用于液晶显示器的母玻璃，其中，所述开口具有2.0到2.3μm厚的切面。

12.根据权利要求8所述的用于液晶显示器的母玻璃，其中，所述薄膜是薄膜晶体管阵列，该薄膜晶体管阵列包括：从选通线分出的栅极；位于所述栅极上的栅绝缘层；位于所述栅绝缘层的与所述栅极相对应的上部的半导体层；以及其间以所述半导体层彼此分隔开的源极和漏极。

13.一种制造液晶显示器的方法，该方法包括以下步骤：

制备第一母玻璃，该第一母玻璃包括形成有多个薄膜晶体管阵列的多个单元区和设置在所述多个单元区的外侧的空白区；

在所述第一母玻璃的整个表面上涂敷钝化层；以及

对所述钝化层进行构图，以将所述钝化层涂敷在所述多个单元区的整个表面上，并在所述空白区中仅沿横向将所述钝化层形成为直线形带，以将沿纵向相邻的单元区彼此隔离。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，在所述第一母玻璃的整个表面上将所述钝化层涂敷成具有2.0到2.3μm的厚度。

15.根据权利要求13所述的方法，其中，对所述钝化层进行构图的步骤包括在相邻单元区之间形成栅栏以将所述多个单元区彼此隔离的步骤。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，由有机材料和无机材料中的一种来形成所述栅栏，其中所述有机材料为光压克力和苯并环丁烯中的一种，而所述无机材料为氧化硅和氮化硅中的一种。

17.根据权利要求15所述的方法，其中，由与所述钝化层相同的材料来形成所述栅栏。

18.根据权利要求15所述的方法，其中，所述栅栏具有与所述钝化层相同的厚度。

19.根据权利要求13所述的方法，该方法还包括以下步骤：

在所述钝化层上淀积像素电极；

沿所述钝化层的开口在所述像素电极上涂敷光刻胶；

使用所述光刻胶作为掩模对所述像素电极进行构图；

在所述第一母玻璃和第二母玻璃中的其上形成有滤色器阵列的一块母玻璃上形成液晶层；

将所述第一母玻璃与所述第二母玻璃组装起来以形成多块液晶板；以及

对组装后的第一和第二母玻璃进行切割。

20.一种制造液晶显示器的方法，该方法包括以下步骤：

制备第一母玻璃，该第一母玻璃包括多个单元区和设置在所述多个单元区的外侧的空白区，每个单元区都包括焊盘区和形成有薄膜晶体管阵列的有源区；

在所述第一母玻璃的整个表面上涂敷钝化层；以及

对所述焊盘区和与所述焊盘区相邻的所述空白区中的所述钝化层进行构图。

21.根据权利要求20所述的方法，其中，在所述第一母玻璃的整个表面上将所述钝化层涂敷成具有2.0到2.3μm的厚度。

22.根据权利要求20所述的方法，该方法还包括以下步骤：

在所述钝化层上淀积像素电极；

沿所述钝化层的开口在所述像素电极上涂敷光刻胶；

使用所述光刻胶作为掩模对所述像素电极进行构图；

在所述第一母玻璃和第二母玻璃中的其上形成有滤色器阵列的一块母玻璃上形成液晶层；

将所述第一母玻璃与所述第二母玻璃组装起来以形成多块液晶板；以及

对组装后的第一和第二母玻璃进行切割。

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