CN101024892A - 电镀复合涂层 - Google Patents
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Abstract
使用包括要沉积的金属基体的金属阳离子和碳纳米管的电镀液在基底上沉积电镀复合涂层。复合涂层包括金属基体和布置在基体中以改善涂层机械和摩擦学性能的碳纳米管。
Description
技术领域
本发明涉及电镀涂层,更特别地,涉及在金属基体中包括碳纳米管的电镀复合涂层和制备它的电镀方法。
背景技术
镍复合电镀涂层正日益代替常用的铬电镀和其它电镀涂层。例如,其中陶瓷包括氮化硼颗粒和氧化铝颗粒的镍-陶瓷复合涂层已被用于代替镀铁用于汽车、船舶和割草机发动机的铝缸膛。这种电镀涂层的其它应用包括汽车、船舶、摩托车和割草机发动机的活塞裙、发动机缸膛、车体零件和工具。
制备碳纳米管的大批量合成方法的发现和发展激励了对碳纳米管在纳米尺度器件、储氢材料、能量储存和转换材料以及高性能复合材料中潜在应用的研究。例如,J.P.Tu等在“Tribological Properties ofCarbon Nanotube Reinforced Copper Composite”,Tribol.Lett.10,225-228页(2001)中以及A.K.Sharma等在“Carbon Nanotube CompositeSynthesized by Ion-Assisted Pulsed Laser Deposition”,Mater.Sci.Eng.B79,123-127页(2001)中报道了金属基复合材料。这种金属基复合材料包括金属基体如Fe、Al、Ni、Cu或它们的合金,并在其中具有碳纳米管作为基体中的增强成分。
发明内容
本发明提供在基底上电镀复合涂层的方法,以及复合涂层,其中复合涂层包括存在于金属基体中的碳纳米管。
本发明的示例性方法实施方案包括:提供包括要沉积的金属基体的金属阳离子和碳纳米管的电镀液,在电解槽的电镀液中布置基底作为阴极和阳极,并以在基底上电沉积包含碳纳米管的金属基体作为涂层的方式操作电解槽。电解液优选包括能有效在电解液中分散碳纳米管的分散剂以便碳纳米管分散在电镀复合涂层的金属基体中。优选选择电镀液中包含的碳纳米管的长度对直径比,以增强碳纳米管在溶液中的分散。在引入到电镀液之前,碳纳米管可被预处理,如通过球磨或超声处理,以为此提供所需的长度对直径比。
可实施本发明产生复合涂层,其中可控制金属基体中碳纳米管的量以提供所需的机械和/或摩擦学性能。
从下面的描述中将清楚本发明的其它优点和特征。
附图说明
图1为在12N、16N和20N三种不同负荷下磨损率对按照本发明示例性实施方案的复合涂层中碳纳米管(CNT)体积分数的图。
图2为在12N、16N和20N三种不同负荷下摩擦系数对按照本发明示例性实施方案的复合涂层中碳纳米管(CNT)体积分数的图。
图3为Al-Si合金基底上示例性复合涂层和Zn-Ni粘合层的横截面的显微照片。复合涂层包括分散在Ni-P基体中的碳纳米管,但由于它们的尺寸而在图3中不能看到碳纳米管。
具体实施方式
本发明涉及在基底上电镀复合涂层,其中复合涂层包括金属基体,金属基体具有布置在基体中的碳纳米管。可实施本发明在任何基底上电镀复合涂层,基底可为金属材料(金属或合金)或非金属材料如塑料、陶瓷、复合材料或其它材料。非金属材料在其上面可具有导电涂层,以使能在其上电镀复合涂层。不管使用金属基底还是非金属基底,基底都优选在电镀复合涂层前在其上具有金属粘合层,以便粘合层作为基底和复合涂层之间的金属夹层来提高复合涂层的粘着性。尽管下文描述了在其上具有Zn-Ni粘合层的铝合金基底上电镀复合涂层方面的一些本发明实施方案,但提供这些实施方案仅仅用于说明目的,而不限制本发明,因为本发明不限制于这些材料。
此外,本发明不限制于任何特定的金属基体。例如,金属基体可包括任何合适的捕获碳纳米管的金属或合金基体,并根据复合材料涂敷的基底的具体用途来选择。尽管下文描述了电镀具有Ni基基体如Ni-P合金基体的复合涂层方面的一些本发明实施方案,但提供这些实施方案仅仅用于说明目的,而不限制本发明,因为本发明不限制于任何特定的基体材料。
为了涂覆基底的特定用途,电镀复合涂层在金属基体中包含适当量的碳纳米管。为了说明而不是限制,碳纳米管的存在量为涂层的约5体积%-约16体积%。在电镀复合涂层中,碳纳米管被捕获在金属基体中,碳纳米管在基体中一般处于随机取向。
为了特定的用途,碳纳米管可具有任何合适的长度对外径比,但布置在金属基体中的碳纳米管优选具有在约5-约100范围内的长度对外径比,其用于说明而不是限制。大多数碳纳米管的外径为约20-约50纳米。由于它们的纳米直径的原因,金属基体中捕获的中空碳纳米管的内部一般不充满金属基体,但本发明预想到在一些情况下纳米管可充满金属基体。
可使用各种常规合成方法来制造碳纳米管。例如,可通过含碳气体的化学催化热解、电弧放电、激光烧蚀和基于模板的合成技术来制造用于金属基体的碳纳米管。或者,可从各种商业制造商如Carbolex,Inc.234 McCarty Court,Lexington,Kentucky,40508 USA购买合适的碳纳米管。尽管下文在制造碳纳米管的例子中描述了一些示例性的实施方案,但提供这些实施方案仅仅用于说明目的,而不是限制本发明,因为本发明不限制于任何特殊的制造碳纳米管的合成方法。
优选选择电镀液中包含的碳纳米管的长度对直径比以增强碳纳米管在溶液中的分散。为此,可合成碳纳米管具有合适的平均长度对直径比,以分散在电镀液和相应金属基体中,或对合成的碳纳米管进行合成后处理,以减小它们的长度,以便提供合适的平均长度对直径比。例如,可超声处理、球磨或以其它方式处理合成的碳纳米管以减小它们的合成长度,提供合适的长度对直径比,以分散在电镀液和相应金属基体中。尽管下文结合通过超声处理或球磨来处理的碳纳米管描述本发明的一些实施方案,但提供这些实施方案仅仅用于说明而不是限制本发明,因为本发明不限制于这种示例性实施方案。
通过制备其中溶解有要被沉积的金属基体的金属阳离子并包含要被包括在金属基体中的碳纳米管的电镀浴或电镀液来实施本发明。在下面描述的例子中,为了说明目的而不是限制,金属阳离子包括沉积Ni基体的Ni+2。如所述,碳纳米管可为合成态的,或合成后被处理来提供能增强它们在浴或溶液中分散性的合适长度对直径比。电镀浴或电镀液可为合适的水基或其它溶液,该溶液具有用于在基底上沉积复合涂层的合适成分、温度和pH。电镀液包括能有效在电镀液中分散碳纳米管的分散剂,如表面活性剂,从而碳纳米管将被分散在电镀复合涂层的金属基体中。依据所用的电镀浴或电镀液的性质以及要在基底上沉积的复合涂层的类型和厚度,根据经验选择用于操作基底作为阴极的电解槽的参数。为了说明而不是限制,根据本发明的复合涂层一般可具有小于约30微米的厚度。尽管下文结合特定的水基电镀浴组成、温度和pH以及特定的电解槽工作参数描述了本发明的一些实施方案,但提供这些实施方案仅仅用于说明而不是限制本发明,因为本发明不限制于这种示例性实施方案。
提供下面的例子进一步说明本发明的一些实施方案,但不限制本发明的范围。在这些实施方案中,使用Co-Mg复合氧化物作为催化剂,通过乙炔的化学催化热解合成碳纳米管,Co-Mg复合氧化物由Co(NO3)2和Mg(NO3)2通过溶胶-凝胶方法制备。例如,将乙炔-氮气混合物(C2H2∶N2=1∶5)在923K下以600ml/min的流速引入到石英管状室中30分钟,产生碳纳米管。通过浸在浓硝酸中48小时然后用去离子水洗涤来纯化制备的碳纳米管。然后处理纯化的碳纳米管来缩短它们的长度。例如,将碳纳米管悬浮在浓硫酸和硝酸(体积比为1∶3)的混合物中,然后在室温下超声处理48小时来缩短它们的长度,使得平均长度对直径比为约20∶1,这增强了或有利于它们分散在上述电镀液中。或者,可利用行星式球磨机在醚液体中使用钢球机械球磨纯化的碳纳米管8小时,转速为430转/分钟。钢球对纯化碳纳米管的重量比可为50∶1。
对板形式的铝合金基底(如A356、A380、A390或A319合金)或零件如铝活塞预处理,然后为其提供包括Zn-Ni合金(94-95wt%的Zn和5-6wt%的Ni)的金属粘合层以改善基底和电镀复合涂层之间的粘合性。例如,通过浸在0.1M NaOH水溶液中约30秒,在60℃下用去离子水冲洗,然后浸在浓硝酸和氢氟酸(体积比为2∶1)的混合物中1分钟,最后在去离子水中冲洗来预处理基底。
使用每升无电镀浴包括5-8g/L ZnO、10-15g/L NiCl2·6H2O、100-120g/L NaOH、5-10g/L KNaC4H4O8·4H2O和1-2g/LFeCl3·6H2O的水浴组合物通过无电镀将Zn-Ni粘合层施加到处理的基底上。浴在20-25℃的温度下。一般将基底浸在浴中约20秒,但也可使用10-40秒的浸没时间。Zn-Ni粘合层的厚度一般在约2.5-3微米的范围内。
在铝合金基底上沉积Zn-Ni粘合层后,在涂有粘合层的基底上电镀复合涂层。复合涂层包括Ni-P合金基体(10-13wt%的P和余量Ni)和布置在基体中的平均长度对直径比为20∶1的碳纳米管。在涂有粘合层的基底上电镀不同的复合涂层,以评价Ni-P基体中不同的碳纳米管量的影响。例如,制备在其中具有0、1.0、2.0、3.0、4.0、5.0和6.0g/L碳纳米管的各种电镀水溶液。
电镀水溶液包括200-250g/L NiSO4·7H2O、35-40g/LNiCl2·6H2O、40-50g/L H3PO4、4-8g/L H3PO3、0-6g/L如前面段落中指定的碳纳米管和100-200mg/L表面活性剂((溴化十六烷三甲基铵(CTAB))。浴温度为70-75℃。浴pH为2.5-3.0。将浴成分溶解在水中,使得NiSO4·7H2O和NiCl2·6H2O在溶液中提供Ni+2阳离子,用于在阴极(基底)处还原来沉积Ni基体。
将涂有粘合层的基底浸在各自的电镀浴中作为阴极和作为阳极的Ni板一起被连接到常规电压或电流源上,如稳定电压和电流源,以构成电解槽。在槽的阴极和阳极之间使电流通过。按经验确定阴极电流密度为3A/dm2,以产生相对光亮的涂层表面,但估计了1-6A/dm2的电流密度范围。利用具有1-6g/L碳纳米管的镀液得到约0.30-0.35微米/分钟的沉积速度。电镀复合涂层可具有约15-约20微米的厚度,这些厚度用于说明而不是限制,因为可为特定的用途提供任何合适的涂层厚度。
为了提高碳纳米管在电镀液中的分散性,首先将碳纳米管散布到少量溶液中并搅拌30分钟。然后,使搅拌溶液与剩余溶液混合。向电镀液中加入表面活性剂(CTAB)用于吸附到碳纳米管上提高它们的分散性。
电镀后,在真空中在673K下热处理电镀基底1小时以在基本为Ni的基体中形成硬化Ni3P相沉淀,增加基底硬度。在热处理前,涂层的晶体结构是无定形的。热处理后,涂层的晶体结构是晶态的。
测试具有经电镀且热处理的复合涂层的基底,以测定Ni-P基体中捕获的碳纳米管的含量和得到的显微硬度。用Vickers硬度压头在50g负荷下测量显微硬度。图3显示了本文测试的Al-Si合金基底样品上典型的复合涂层连同Zn-Ni粘合层的横截面显微照片,复合涂层和Zn-Ni粘合层一共具有约20微米的总涂层厚度。碳纳米管由于尺寸小而不能被看到。
当电镀液中不包括碳纳米管时,涂层包括不含碳纳米管的Ni基体层并具有603Hv的涂层显微硬度。但是,当电镀液包括1.0g/L碳纳米管时,复合涂层在Ni基体中包括5.6体积%的碳纳米管,显微硬度为661Hv。当电镀液包括2.0g/L碳纳米管时,复合涂层在Ni基体中包括8.9体积%的碳纳米管,显微硬度为705Hv。当电镀液包括3.0g/L碳纳米管时,复合涂层在Ni基体中包括10.8体积%的碳纳米管,显微硬度为745Hv。当电镀液包括4.0g/L碳纳米管时,复合涂层在Ni基体中包括14.2体积%的碳纳米管,显微硬度为780Hv。当电镀液包括5.0g/L碳纳米管时,复合涂层在Ni基体中包括14.7体积%的碳纳米管,显微硬度为807Hv。当电镀液包括6.0g/L碳纳米管时,复合涂层在Ni基体中包括15.3体积%的碳纳米管,显微硬度为893Hv。
这些结果说明,金属基体中碳纳米管的体积分数随电镀液中碳纳米管含量增加而增加。此外,当电镀液中的碳纳米管含量等于或超过4.0g/L时,涂层中碳纳米管的体积分数以较低的速度增加。重要的是,复合涂层的显微硬度随涂层中碳纳米管体积分数增加而增加。
在未润滑条件下,带复合涂层的基底用作圆盘,使用销对盘(pin-on-disk)磨损试验机研究上面例子中在复合涂层中具有测量的碳纳米管含量(即0,5.6,8.9,10.8,14.2,14.7和15.3体积%)的带复合涂层的基底的磨损和摩擦性能。销试样由GCr15钢制造,直径为5mm,硬度为HRC56。销试样的平均表面粗糙度为0.5微米。在空气中以0.0623m/s的滑动速度和在12N、16N以及20N的负荷下进行磨损试验。在整个试验中,用分析天平每隔15分钟测量带复合涂层的基底的质量损失。用测量的摩擦力除以法向力来计算摩擦系数,得到无单位的摩擦系数值。
图1和2显示了带复合涂层的基底在不同负荷下的磨损率和摩擦系数。带复合涂层的基底的磨损率和摩擦系数随涂层中碳纳米管(CNT)含量增加而降低。碳纳米管增强了复合涂层,并提高了耐磨性,还表现出导致观测到的涂层摩擦系数降低的自润滑性能。碳纳米管对复合涂层的摩擦学性能的有利影响在图1和2中是明显的。
应认识到,本发明不限制于上面所述的具体实施方案或构造,而是只要不脱离如附加权利要求中所阐述的本发明精神和范围,就可在其中进行各种变化。
Claims (21)
1.在基底上形成复合涂层的方法,包括:提供包括要沉积的金属基体的金属阳离子和碳纳米管的电镀液,在电解槽的电镀液中布置基底作为阴极,并以在基底上电沉积包括金属基体的涂层的方式操作电解槽,其中金属基体中布置有碳纳米管。
2.权利要求1的方法,其中在电镀液中提供能有效在电镀液中分散碳纳米管的分散剂,以便碳纳米管被分散在金属基体中。
3.权利要求1的方法,其中提供碳纳米管的长度对直径比以增强碳纳米管在溶液中的分散。
4.权利要求3的方法,其中在将碳纳米管引入到电镀液前预处理碳纳米管以提供所述的长度对直径比。
5.权利要求1的方法,包括在电沉积复合涂层前在基底上沉积金属粘合层的附加步骤,以便粘合层构成基底和复合涂层之间的夹层。
6.权利要求1的方法,其中电镀液包括量为1-6g/L溶液的碳纳米管。
7.权利要求1的方法,其中阴极电流密度在约1-约6A/dm2的范围。
8.权利要求1的方法,还包括热处理复合涂层以在基体中形成硬化沉淀物。
9.电镀复合涂层,包括金属基体和布置在基体中的碳纳米管。
10.权利要求9的涂层,其中碳纳米管的存在量为涂层的约5-约16体积%。
11.权利要求9的涂层,其中碳纳米管具有约20-约50纳米的外径。
12.权利要求9的涂层,具有小于约30微米的厚度。
13.权利要求9的涂层,其中碳纳米管具有约5-约100的长度对直径比。
14.权利要求9的涂层,其被热处理以在基体中提供硬化沉淀物。
15.一种带涂层的制品,包括基底和在基底上的电镀复合涂层,所述复合涂层包括金属基体和布置在基体中的碳纳米管。
16.权利要求15的制品,其中碳纳米管的存在量为涂层的约5-约16体积%。
17.权利要求15的制品,其中碳纳米管具有约20-50纳米的外径。
18.权利要求17的制品,其中涂层具有小于约30微米的厚度。
19.权利要求15的制品,其中碳纳米管具有约5-约100的长度对直径比。
20.权利要求15的制品,其中基体包括硬化沉淀物。
21.权利要求15的制品,在基底和复合涂层之间包括金属夹层。
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