CN100579671C - 除尘装置及除尘方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种除尘装置及除尘方法，依据本发明所提供的除尘装置包含：用于支持作业物的支座；可以靠近/远离所述支座的支架移送部；结合于所述支架移送部的除尘支架，该除尘支架上形成喷射工作流体的喷嘴和在所述支架移送部靠近所述支座的状态下引导由所述喷嘴供应的工作流体的流向的流体引导部。由此，使用相对少的工作流体提高除尘效率。

Description

除尘装置及除尘方法
技术领域
本发明涉及一种除尘装置及除尘方法，尤其涉及可以使用相对少的工作流体提高除尘效率的除尘装置及除尘方法。
背景技术
在制造半导体或液晶显示(LCD)面板的工艺中，由于灰尘等杂质直接影响产品的质量，因此需要严格处理这种杂质。通常，除尘装置在这种制造工艺中用于清除灰尘、微细玻璃块等杂质。除尘装置利用各种工作流体清洗、喷射或吸附杂质。
作为这种除尘装置的一例，存在安装在液晶电视(LCD TV)等的LCD面板的图像检测装置中，以用于在进行电路板印刷状态、贴装零部件的安装状态、回流焊接情况等的检查工作之前清除贴附在LCD面板表面的尘埃的装置。
日本公开专利公报“第2001-5398号(2001.01.12)”公开了这种LCD面板的灰尘清除装置。现有技术所提供的除尘装置包含：贴附于设在LCD面板上部的空气喷射器喷嘴上而喷射高压空气的空气导管，以用于清除贴附在LCD面板上的灰尘；移送部，以用于沿着LCD面板移送空气导管；灰尘吸附体，以用于吸附从LCD面板清除的灰尘。根据这种结构可以有效清除LCD面板上的灰尘。
但是，现有技术由于高压空气在LCD面板表面上的流动不均匀而使高压空气流动速度发生差异，从而不能有效清除均匀分布在整个LCD面板表面上的灰尘。并且，为了使高压空气分散进行除尘，需要使用较多的高压空气。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可以较有效地进行除尘的除尘装置及除尘方法。
为了实现上述目的依据本发明所提供的除尘装置包含：用于支持作业物的支座；可以靠近/远离所述支座的支架移送部；结合于所述支架移送部的除尘支架，该除尘支架上形成喷射工作流体的喷嘴和在所述支架移送部靠近所述支座的状态下引导由所述喷嘴供应的工作流体的流向的流体引导部。
在此，最好还包含结合于所述除尘支架的密封部件，以用于通过接触所述作业物的边沿部分可以使所述作业物与所述除尘支架之间的部分空间处于密封状态。
并且，所述流体引导部最好在所述除尘支架的板面凹陷而形成。
并且，所述喷嘴最好与排出工作流体的区域相对而设置，并贯穿所述除尘支架而形成为至少一个。
并且，所述密封部件的材质最好包含硅。
并且，所述工作流体最好包含离子化的高压空气。
并且，最好还包含引导所排出的工作流体而收集杂质的集尘部。
另外，本发明所提供的清除作业物表面灰尘的除尘方法包含步骤：由支座支持所述作业物；形成支架移送部，使其可以靠近/远离所述支座；将除尘支架结合到所述支架移送部，该除尘支架设有喷射工作流体的喷嘴和在所述支架移送部靠近所述支座的状态下引导由所述喷嘴供应的工作流体的流向的流体引导部。
在此，最好还包含将密封部件结合到所述除尘支架的步骤，该密封部件通过接触所述作业物的边沿部分而可以使所述作业物与所述除尘支架之间的部分空间处于密封状态。
并且，最好还包含相对于排出工作流体的区域贯穿所述除尘支架而形成至少一个所述喷嘴的步骤。
并且，还包含在工作流体被排出的区域设置集尘部的步骤，该集尘部通过引导所排出的工作流体而收集杂质。
附图说明
图1为依据本发明所提供的除尘装置的大致的布置图；
图2为除尘装置的分解示意图；
图3a至图3c为表示作业物的移送过程及除尘装置操作过程的正面图；
图4a及图4b为除尘支架部分的放大剖面图；
图5为除尘方法的流程图。
具体实施方式
以下，参照附图详细说明本发明的优选实施例所提供的在液晶电视(LCDTV)的LCD面板的图像检测装置(未图示)中清除LCD面板灰尘的除尘装置10。本发明并非只适用于LCD面板，还可以适用于MP3播放器、掌上电脑(PDA)等各种信息处理装置以及投影机的电路用基片或面板上。
图像检测装置如图1所示，利用光学显微镜等观察仪器进行对LCD面板的电路板印刷状态、贴装零部件的安装状态、回流焊接情况的检测等的观察。图像检测装置包含：供应作为检测对象的LCD面板等作业物11的供应单元5；用于排出作业物11的排出单元7；在供应单元5及排出单元7之间将作业物11移送并装载到作为检测位置的支座13上的移送臂1；用于驱动移送臂1的臂驱动部3；用于清除贴附在作业物11表面上的灰尘的除尘装置10。图像检测装置也可以针对由形成为一体的传送装置所移送的作业物11依次进行各种检测。
本发明所提供的除尘装置10如图1至图3c所示，具有用于支持作业物11的支座13和可以接近/远离支座13的支架移送部20。除尘装置10包含除尘支架30，该除尘支架30包括：结合在支架移送部20上而喷射工作流体的喷嘴31；在支架移送部20靠近支座13的状态下引导由喷嘴31供应的工作流体的流向的流体引导部32。除尘装置10还包含结合于除尘支架30上的密封部件40，该密封部件40通过接触作业物11的边沿部分可以使作业物11与除尘支架之间的部分空间处于密封状态。除尘装置10还包含设置在工作流体排出区域的集尘部50，以用于引导所排出的工作流体而收集杂质。
作业物11由支座13支持，如图1所示。在作业物11的表面上贴装各种零部件或者形成电路等。但是，这种作业物11还可能是形成电路等之前的原材料状态的LCD面板等。
支座13设置在底部，以用于支持作业物11。支座13还可能包含传送单元。
支架移送部20如图1及图2所示，具有可以使其接近/远离支座13的驱动部(未图示)。支架移送部20具有通过滑动进行升降的直线导轨等公知的移送单元(未图示)。支架移送部20的一侧结合于臂驱动部3，另一侧结合于除尘支架30。
除尘支架30如图2所示，包含结合于支架移送部20而用于喷射工作流体的喷嘴31、从板面凹陷而形成并在支架移送部20靠近支座13的状态下引导由喷嘴31供应的工作流体的流向的流体引导部32。
喷嘴31在除尘支架30上与排出工作流体的区域相对而设置为至少一个，并将工作流体喷射到流体引导部32。喷嘴31根据作业物11的大小等设置其大小及数量，以使工作流体在作业物11的整体表面上保持一定的流量。喷嘴31的布置位置如下所述，例如当流体引导部32对应于四角形的作业物11而形成为“
Figure C20061015981900071
”字型时，喷嘴31布置在对应于排出工作流体的开放区域的位置。
流体引导部32从板面凹陷而形成，以用于在支架移送部20靠近支座13的状态下引导由喷嘴31供应的工作流体的流向，如图2及图4a所示。即，流体引导部32对应于四角形作业物11的形状，使板面的边缘部分呈“
Figure C20061015981900072
”字型，并使“
Figure C20061015981900073
”字型内部的板面凹陷。流体引导部32与作业物11表面之间形成气密的空间，以使工作流体在作业物11表面上按一定速度流动。因此，作业物11表面在流体引导部32根据又快又均匀的工作流体的速度，使压力相对减小而可以轻易地清除贴附在表面上的杂质。并且，作业物11表面与除尘支架30之间维持气密状态，从而提高用于除尘的工作流体的效率而可以减少所需的工作流体量。
供应管33从附图中没有示出的存储部或者压缩机等供应源向喷嘴31供应工作流体。
为了清除贴附在作业物11表面上的杂质，以预定压力供应工作流体(未图示)。而且工作流体最好包含离子化的高压空气，以防止贴附在作业物11表面上的微尘或玻璃块等杂质之间产生静电。工作流体可以根据需要而包含高压水等。据此，由工作流体可以容易地从作业物11表面清除杂质。
密封部件40结合于除尘支架30，并与作业物11的边沿部分接触而对作业物11与除尘支架30之间的部分空间进行密封，如图2及图4a、4b所示。为了防止密封部件40与作业物11表面接触时因加压引起的损伤，密封部件40包含具有延展性的可进行压缩的硅等材质，并形成为具有预定厚度的板状。密封部件40如图4b所示，对应于四角形的作业物11而形成为“
Figure C20061015981900074
”字型，并与作业物11接触在三个方向上保持气密状态，而在一个方向处于开放状态。
因此，作业物11表面的灰尘在由流体引导部32与密封部件40形成的预定空间中由喷射的工作流体进行清除。在这种过程中由于所喷射的工作流体不会从侧面排出，因此可以在整个作业物11上使工作流体保持一定流速，如图4b所示。因此，在作业物11的表面，与工作流体在作业物上流动的过程中工作流体不能保持气密状态的情况相比压力下降幅度相对较大。因此，可以容易地克服贴附在作业物11表面上的杂质的贴附力，从而可以提高除尘效率。并且，由于能维持作业物11表面与除尘支架30之间的气密状态，因此还可以减少除尘用工作流体的量。
集尘部50如图4a所示，被设置在排出工作流体的区域，以用于引导排出的工作流体而收集杂质。由此，通过处理所清除的杂质而预先防止所清除的杂质的再污染问题。
根据如上所述的结构，下面参照图3a至3c及图5说明依据本发明所提供的作业物移送过程及除尘装置10的除尘过程。
首先，参照图3a至3c说明作业物的移送过程，如图3a所示，移送臂1通过真空压力等抓持由供应单元5支持的作业物11，并由臂驱动部3移送到支座13。被移送到支座13的作业物11如图3b所示，通过移送臂1卸载到支座13上。然后，控制除尘装置10靠近支座13上的作业物11，如图3c所示。
下面参照图5说明除尘过程。
在支持作业物的步骤S110中将作业物11放置在支座13上而加以支持。
在形成支架移送部的步骤S120中将支架移送部20结合到臂驱动部3上，以通过附图中没有示出的驱动部使支架移送部20可以接近/远离支座13。
在结合除尘支架的步骤S130中，除尘支架30具有从板面凹陷而形成并在支架移送部20靠近支座13的状态下引导由喷嘴31供应的工作流体的流向的流体引导部32。结合除尘支架的步骤S130包含：在除尘支架30上相对于排出工作流体的区域贯穿而形成至少一个喷嘴31的喷嘴形成步骤(S131)；将密封部件40结合到除尘支架30，通过使密封部件40接触作业物11边沿而使作业物11与除尘支架30之间的部分空间保持密封状态(S133)的结合密封部件的步骤。由此，喷射工作流体时，可以通过均匀并快速的流动速度对作业物11的整个表面降低压力，从而提高整体的除尘效率。
在除尘支架的接近步骤S140中运行支架移送部20，通过移送除尘支架30使结合于除尘支架30下部的密封部件40接触作业物11的边沿。此时，支架移送部20移送除尘支架30，使密封部件40加压作业物11，从而可以进一步保持气密性。
在引导工作流体的步骤S150中，由喷嘴31向流体引导部32喷射离子化的高压空气等，流体引导部32引导工作流体使其均匀分布在作业物11的表面。因此，工作流体保持均匀并快速的流动速度，使所降低的压力克服作业物11表面和杂质的贴附力，从而可以清除杂质。
在收集杂质的步骤S160中，在排出工作流体的区域设置集尘部50，以收集从作业物11清除的杂质。
在除尘支架的远离步骤S170中，当作业物11表面的杂质被清除时，支架移送部20使除尘支架30远离作业物11。
然后，作业物11由图像检测装置进行预定的检测工作，完成检测工作之后通过移送臂1被排到排出单元7。除尘装置将反复进行上述过程。如上所述的各过程可以通过附图中没有示出的控制部进行控制。
因此，依据本发明利用少量的工作流体并使工作流体在作业物表面均匀并快速地流动，从而提高清除杂质的效率。因此，工作流体的需求量少、除尘时间短，随之可以减少费用。并且，使检测作业物的过程及产品可以维持灰尘较少的状态，从而可以减少产品的不合格率而提高生产效率。
综上所述，依据本发明提供利用相对少的工作流体提高除尘效率的除尘装置及除尘方法。

Claims (10)

1、一种除尘装置，其特征在于包含：
用于支持作业物的支座；
可以靠近/远离所述支座的支架移送部；
结合于所述支架移送部的除尘支架，该除尘支架上形成喷射工作流体的喷嘴和在所述支架移送部靠近所述支座的状态下引导由所述喷嘴供应的工作流体的流向的流体引导部，
所述流体引导部对应于四角形作业物的形状，使板面的边缘部分呈“
Figure C2006101598190002C1
”字型，并使“
Figure C2006101598190002C2
”字型内部的板面凹陷。
2、根据权利要求1所述的除尘装置，其特征在于还包含结合于所述除尘支架的密封部件，以用于通过接触所述作业物的边沿部分使所述作业物与所述除尘支架之间的部分空间处于密封状态。
3、根据权利要求2所述的除尘装置，其特征在于所述喷嘴与排出工作流体的区域相对而设置，并贯穿所述除尘支架而形成为至少一个。
4、根据权利要求2所述的除尘装置，其特征在于所述密封部件的材质包含硅。
5、根据权利要求1所述的除尘装置，其特征在于所述工作流体包含离子化的高压空气。
6、根据权利要求1至5中的任意一项所述的除尘装置，其特征在于还包含引导所排出的工作流体而收集杂质的集尘部。
7、一种清除作业物表面灰尘的除尘方法，其特征在于包含步骤：
由支座支持所述作业物；
形成支架移送部，使其可以靠近/远离所述支座；
将除尘支架结合到所述支架移送部，该除尘支架设有喷射工作流体的喷嘴和在所述支架移送部靠近所述支座的状态下引导由所述喷嘴供应的工作流体的流向的流体引导部，
所述流体引导部对应于四角形作业物的形状，使板面的边缘部分呈“
Figure C2006101598190002C3
”，字型，并使“
Figure C2006101598190002C4
”字型内部的板面凹陷。
8、根据权利要求7所述的除尘方法，其特征在于还包含将密封部件结合到所述除尘支架的步骤，该密封部件通过接触所述作业物的边沿部分而使所述作业物与所述除尘支架之间的部分空间处于密封状态。
9、根据权利要求8所述的除尘方法，其特征在于还包含相对于排出工作流体的区域贯穿所述除尘支架形成至少一个所述喷嘴的步骤。
10、根据权利要求7至9中的任意一项所述的除尘方法，其特征在于还包含在工作流体被排出的区域设置集尘部的步骤，该集尘部通过引导所排出的工作流体而收集杂质。
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