CN100506439C - 一种制备纳米Cu的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种制备纳米Cu的方法,取吐温(Tween)系列、聚乙二醇(PEG)系列、Tween系列与十二烷基硫酸钠(SDS)的复配、PEG系列与SDS的复配、Tween系列与十二烷基苯磺酸钠(SDBS)的复配或PEG系列与SDBS的复配为修饰剂,在搅拌下溶于水中,加入还原剂Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系:配置硫酸铜溶液0.2-0.5mol/L。修饰剂与硫酸铜的摩尔比为1-2.5∶1,还原剂Vc与硫酸铜的摩尔比为3-5∶1。搅拌下80℃水浴中加热回流该预混溶液。再以20-50滴/min的速度滴入硫酸铜溶液。滴加完毕后,回流反应2-5h,得到褐红色沉淀,分离、洗涤,再分离,50℃真空干燥,得纳米铜。本发明具有环保、反应条件温和、易于控制、成本低、工艺流程简便等优点。
Description
技术领域
本发明涉及纳米材料制备技术领域,特指以硫酸铜为原料、维生素C(Vc)为还原剂,以吐温(Tween)系列、聚乙二醇(PEG)系列、Tween系列与十二烷基硫酸钠(SDS)的复配、PEG系列与SDS的复配、Tween系列与十二烷基苯磺酸钠(SDBS)的复配、PEG系列与SDBS的复配为修饰剂,液相化学还原法制备纳米铜的方法。
背景技术
纳米铜广泛应用于各种领域,例如在高效催化剂、导电浆料、高导电率、高比强度合金和固体润滑剂等方面。目前制备纳米铜的方法很多,例如气相蒸发法、等离子体法、γ-射线辐照一水热结晶联合法、机械化学法、超声波化学法、电子束照射法、光催化分解法、电解法、溶胶—凝胶法、反相微乳液法、微波辐照合成法、超临界萃取法、热分解法等。这些制备方法有些技术要求高、设备昂贵,有些工艺复杂、对环境污染较大,所制备的纳米铜颗粒粒径较大,粒径分布较宽。在制备纳米铜中,常用的修饰剂是聚电解质类物质,成本高,有一定毒性,对环境污染较大。林荣会等在化学学报的《化学还原法制备纳米铜》以及MYYen等在Langmuir的《Convergent Electron Beam Induced Growth of Copper Nanostructures:Evidence of the Importance of a Soft Template》的论文中都对此进行了报道。经检索,目前尚未有利用非离子表面活性剂Tween系列和PEG系列单独或与SDS、SDBS复配为修饰剂水热合成法制备小粒径纳米铜的方法。
发明内容
本发明提出了一种以硫酸铜为原料、Vc为还原剂、以吐温(Tween)系列、聚乙二醇(PEG)系列、Tween系列与十二烷基硫酸钠(SDS)的复配、PEG系列与SDS的复配、Tween系列与十二烷基苯磺酸钠(SDBS)的复配或PEG系列与SDBS的复配为修饰剂,液相化学还原法制备纳米铜的方法,以克服上述缺点。
其制备方法如下:
配制硫酸铜水溶液0.2~0.5mol/L,再以吐温(Tween)系列、聚乙二醇(PEG)系列、Tween系列与十二烷基硫酸钠(SDS)的复配、PEG系列与SDS的复配、Tween系列与十二烷基苯磺酸钠(SDBS)的复配或PEG系列与SDBS的复配为修饰剂,在搅拌下溶于水中,并加入还原剂Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混溶液;复配比例为1:1,修饰剂与硫酸铜的摩尔比为1~2.5:1,还原剂Vc与硫酸铜的摩尔比为3~5:1;边搅拌边在50℃~80℃的水浴中加热回流该预混溶液,再以20~50滴/min的速度滴入硫酸铜溶液;滴加完毕后,回流反应2—5h,得到褐红色沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,即得纳米铜。
上述制备方法,宜采用以下工艺参数或步骤为佳:
配制硫酸铜水溶液0.3mol/L,还原剂—修饰剂预混溶液中修饰剂与硫酸铜的摩尔比为2~2.5:1,还原剂Vc与硫酸铜的摩尔比为4~5:1;边搅拌边在80℃的水浴中加热回流该预混溶液,再以20~30滴/min的速度滴入硫酸铜溶液;滴加完毕后,回流反应2—3h。
使用的修饰剂为:Tween-20、Tween-40、Tween-80、PEG-600、PEG-2000、PEG-6000、Tween-20+SDS、Tween-20+SDBS、Tween-40+SDS、Tween-40+SDBS、Tween-80+SDS、Tween-80+SDBS、PEG-600+SDS、PEG-600+SDBS、PEG-2000+SDS、PEG-2000+SDBS、PEG-6000+SDS或PEG-6000+SDBS。
附图说明
图1:Tween-20为修饰剂的球形纳米铜产品的透射电镜图
图2:Tween-80为修饰剂的球形纳米铜产品的透射电镜图
图3:PEG-600为修饰剂的球形纳米铜产品的透射电镜图
图4:PEG-6000为修饰剂的球形纳米铜产品的透射电镜图
图5:SDS+Tween-40为修饰剂的球形纳米铜产品的透射电镜图
图6:SDBS+PEG-600为修饰剂的球形纳米铜产品的透射电镜图
图7:SDBS+PEG-2000为修饰剂的单晶二维纳米铜薄片产品的透射电镜图
图8:SDS+PEG-6000为修饰剂的球形纳米铜产品的透射电镜图
图9:SDS+Tween-40为修饰剂的球形纳米铜产品的局部选区电子衍射图
图10:SDBS+PEG-2000为修饰剂的单晶二维纳米铜薄片产品的局部选区电子衍射图
具体实施方式
下面结合具体实施实例对本发明做进一步说明。
配置硫酸铜水溶液0.2—0.5mol/L。分别取Tween系列和PEG系列或与SDS、SDBS复配为修饰剂,在搅拌下溶于水中,并加入还原剂Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系。修饰剂与硫酸铜的摩尔比为1—2.5:1,还原剂Vc与硫酸铜的摩尔比为3—5:1。搅拌下80℃水浴中加热回流该预混溶液。再以30—50滴/min的速度滴入硫酸铜水溶液。滴加完毕后,回流反应2.0—5.0h,得到褐红色的沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,即得纳米铜。
实施例1
如图1,取0.05mol的Tween-20,在搅拌下溶于50mL水中,并加入0.125mol的Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系。将该预混溶液放置在50℃的水浴中加热回流。以20滴/min的速度滴入浓度为0.5mol/L的硫酸铜水溶液50mL,滴加完毕后,回流反应5.0h,得到褐红色的沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,得到纳米铜。
实施例2
如图2,取0.025mol的Tween-80,在搅拌下溶于50mL水中,并加入0.075mol的Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系。将该预混溶液放置在60℃的水浴中加热回流。以50滴/min的速度滴入浓度为0.2mol/L的硫酸铜水溶液100mL,滴加完毕后,回流反应2.0h,得到褐红色的沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,得到纳米铜。
实施例3
如图3,取0.0625mol的PEG-600,在搅拌下溶于50mL水中,并加入0.1mol的Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系。将该预混溶液放置在70℃的水浴中加热回流。以30滴/min的速度滴入浓度为0.3mol/L的硫酸铜水溶液75mL,滴加完毕后,回流反应3.0h,得到褐红色的沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,得到纳米铜。
实施例4
如图4,取0.05mol的PEG-6000,在搅拌下溶于50mL水中,并加入0.1mol的Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系。将该预混溶液放置在80℃的水浴中加热回流。以30滴/min的速度滴入浓度为0.5mol/L的硫酸铜水溶液50mL,滴加完毕后,回流反应5.0h,得到褐红色的沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,得到纳米铜。
实施例5
如图5,取0.025mol的Tween-40,再取0.0125mol的SDS,在搅拌下溶于50mL水中,并加入0.125mol的Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系。将该预混溶液放置在80℃的水浴中加热回流。以30滴/min的速度滴入浓度为0.5mol/L的硫酸铜水溶液50mL,滴加完毕后,回流反应5.0h,得到褐红色的沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,得到纳米铜。
实施例6
如图6,取0.025mol的PEG-600,再取0.0125mol的SDBS,在搅拌下溶于50mL水中,并加入0.125mol的Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系。将该预混溶液放置在80℃的水浴中加热回流。以30滴/min的速度滴入浓度为0.5mol/L的硫酸铜水溶液50mL,滴加完毕后,回流反应5.0h,得到褐红色的沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,得到纳米铜。
实施例7
如图7,取0.025mol的PEG-2000,再取0.0125mol的SDBS,在搅拌下溶于50mL水中,并加入0.125mol的Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系。将该预混溶液放置在80℃的水浴中加热回流。以30滴/min的速度滴入浓度为0.5mol/L的硫酸铜水溶液50mL,滴加完毕后,回流反应5.0h,得到褐红色的沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,得到纳米铜。
实施例8
如图8,取0.025mol的PEG-6000,再取0.0125mol的SDS,在搅拌下溶于50mL水中,并加入0.125mol的Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混体系。将该预混溶液放置在80℃的水浴中加热回流。以30滴/min的速度滴入浓度为0.5mol/L的硫酸铜水溶液50mL,滴加完毕后,回流反应5.0h,得到褐红色的沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,在50℃下真空干燥,得到纳米铜。
表1为部分纳米铜的粒径、粒径分布。
表1 纳米铜的粒径、粒径分布
Claims (4)
1、一种制备纳米铜的方法,其特征在于:
配制硫酸铜水溶液0.2~0.5mol/L,以下列表面活性剂为修饰剂:Tween系列、PEG系列、Tween系列与SDS的复配、PEG系列与SDS的复配、Tween系列与SDBS的复配或PEG系列与SDBS的复配,将修饰剂溶于水中,并加入还原剂Vc,充分搅拌至完全溶解,制得还原剂—修饰剂预混溶液;修饰剂与硫酸铜的摩尔比为1~2.5:1,还原剂Vc与硫酸铜的摩尔比为3~5:1;边搅拌边在50℃~80℃的水浴中加热回流该预混溶液,再以20~50滴/min的速度滴入硫酸铜溶液;滴加完毕后,回流反应2—5h,得到褐红色沉淀,离心分离,水洗涤,再离心分离,50℃真空干燥,即得纳米铜。
2、根据权利要求1所述的一种制备纳米铜的方法,其特征在于:Tween系列与SDS的复配比例为1:1,PEG系列与SDS的复配比例为1:1,Tween系列与SDBS的复配比例为1:1,PEG系列与SDBS的复配比例为1:1。
3、根据权利要求1或权利要求2所述的一种制备纳米铜的方法,其特征在于:使用的修饰剂为:Tween-20、Tween-40、Tween-80、PEG-600、PEG-2000、PEG-6000、Tween-20+SDS、Tween-20+SDBS、Tween-40+SDS、Tween-40+SDBS、Tween-80+SDS、Tween-80+SDBS、PEG-600+SDS、PEG-600+SDBS、PEG-2000+SDS、PEG-2000+SDBS、PEG-6000+SDS或PEG-6000+SDBS。
4、根据权利要求1所述的一种制备纳米铜的方法,其特征在于:配制硫酸铜水溶液0.3mol/L,还原剂—修饰剂预混溶液中修饰剂与硫酸铜的摩尔比为2~2.5:1,还原剂Vc与硫酸铜的摩尔比为4~5:1;边搅拌边在80℃的水浴中加热回流该预混溶液,再以20~30滴/min的速度滴入硫酸铜溶液;滴加完毕后,回流反应2—3h,得到褐红色沉淀,离心分离,用水洗涤,在50℃下真空干燥,即得纳米铜。
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还原法制备纳米级铜粉. 肖寒,王瑞,余磊,邹贵田.贵州师范大学学报(自然科学版),第21卷第1期. 2003 |
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