CH713052A1

CH713052A1 - Verfahren zur Bemusterung einer Glasoberfläche.

Info

Publication number: CH713052A1
Application number: CH01387/16A
Authority: CH
Inventors: Andreas Weidmann Markus
Original assignee: Andreas Weidmann Markus; Markus Bloch; Martin Gruber Gschwind
Priority date: 2016-10-17
Filing date: 2016-10-17
Publication date: 2018-04-30
Also published as: EP3525986A1; WO2018073207A1

Abstract

Verfahren zur Bemusterung einer Glasoberfläche durch Strahlen der Glasoberfläche mit mittels in einer Strahlanlage zum Strahlen befindlichen Siebeeinheit auf eine einstellbare einheitliche Korngrösse gesiebten Strahlguts und Einfärben der gestrahlten Oberfläche durch Auffüllen von Vertiefungen in der gestrahlten Glasoberfläche mit transluziden und reflektierenden Pigmenten zur Reduktion der Transmissionsverluste des Lichtes.

Description

Beschreibung [0001] Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bemusterung einer Glasoberfläche durch Strahlen und Einfärben der gestrahlten Glasoberfläche.

Stand der Technik [0002] Aus dem Stand der Technik ist kein Verfahren zur Herstellung einer transluziden und zugleich für den Beobachter trüb erscheinenden Oberfläche bekannt. Bekannt sind gewöhnliche Strahlverfahren für vielfältige Anwendungen und Einsatzzwecke. Beim Strahlen wird im allgemeinen Strahlgut mit unterschiedlichsten Korndurchmessern verwendet. Beim Strahlen ergibt sich also der Effekt, dass besonders grosse Körner einen grossen Bearbeitungsabtrag erzielen, und mittlere und kleinere Körner über die Oberfläche des Strahlguts streuen und für einen Streuabtrag sorgen.

[0003] Weiter sind Verfahren für eine Trübung einer Glasoberfläche (Milchglas) durch Aufrauen bekannt. Hierbei wird eine Oberfläche eines Glases entweder durch Säureerhitzung oder durch Sandstrahlen aufgebaut. Dabei entsteht eine aufgeraute Oberfläche durch welche Lichtstrahlen nicht mehr ungehindert durch das Glas hindurchdringen, sodass für einen Betrachter sich eine Trübung ergibt.

Aufgabe der Erfindung [0004] Aufgabe der Erfindung ist es, die genannten Nachteile aus dem Stand der Technik zu überwinden und es ist ein Ziel des erfindungsgemässen Verfahrens, eine Bemusterung einer Glasoberfläche mittels Strahlen hochreproduzierbar und kostengünstig mit einfachen und umweltschonenden Verfahrensschritten zur Verfügung zu stellen.

Lösung der Aufgabe [0005] Zur Lösung der Aufgabe führt ein Verfahren mit den erfindungsgemässen Verfahrensschritte gemäss Anspruch 1, sowie der zugehörigen abhängigen Ansprüche.

[0006] Ein Verfahren mit erfindungsgemässen Verfahrensschritten zur Bemusterung einer Glasoberfläche umfasst je nach Bemusterungsanforderung ein unterschiedlich durchgeführtes Strahlen mit Strahlgut und gewünschtenfalls mit anschliessendem Einfärben.

[0007] Im Falle einer einfachen Bemusterungsstrukturierung der Glasoberfläche wird mindestens eine definierte Korngrösse mit einer einheitlichen Verteilung der Korngrösse des Strahlguts benötigt. Das Strahlgut wird mittels Siebung mit unterschiedlich feinen Sieben vorbereitet, um die definierte Korngrösse zu gewährleisten.

[0008] Zur Bemusterung einer Glasoberfläche kommt idealerweise selektives Strahlen zum Einsatz. Die Korngrösse und ein in Abhängigkeit der Korngrösse gewählter und/oder auch variabler Abstand sowie ein gewählter und/oder variabler Strahldruck bilden Verfahrensparameter, mit welchen bei der Bemusterung der Glasoberfläche eine Beeinflussung des Erscheinungsbilds der Oberfläche, eine Höhe des Anteils des einfallenden Lichtes, eine Lichttransmission und/oder eine Lichtreflexion bestimmt wird.

[0009] Hierbei kommt es beim Strahlen zu nur partiell und nicht ganzflächig auf der Oberfläche verteilten Einschlägen, Oberflächenausbrüchen und Vertiefungen. Es bleiben im Mikrobereich unbehandelte/unversehrte Oberflächenstellen. Diese Oberflächenstellen lassen sich über entsprechende Strahlgutrezepturen reproduzierbar fertigen, wobei die Aussiebung des Strahlgutes und der Toleranzbereich einer einheitlichen Korngrösse wesentliche Verfahrensparameter sind, welche eine bessere Lichtdurchlässigkeit bei nahezu gleicher optische Wirkung gewährleisten.

[0010] In der Regel erweist sich ein Korn mit einheitlicher Grösse als besonders geeignet, weil damit Einschläge, Oberflächenausbrüche und Vertiefungen, auf dem zu strahlenden Glas reproduzierbar hergestellt werden können.

[0011] In Experimenten hat es sich gezeigt, dass je kleiner die Siebungstoleranz ist, desto homogener wird der Bearbeitungseffekt auf der gestrahlten Oberfläche sichtbar. Beispielsweise zeigt eine Strahlung mit einem Korn von 120 pm Grösse eine Oberfläche mit homogen verteilten Oberflächenausbrüchen als auch unbearbeiteten Oberflächenstellen auf. Diese unbearbeiteten Oberflächenstellen können einen Durchmesser von wenigen Mikrometern bis zu einigen hundert Mikrometern betragen.

[0012] Ferner ermöglichen diese unbearbeiteten Oberflächenstellen einen direkten Lichteinfall, wie es bei ungestrahlten Glasoberflächen ganzflächig der Fall wäre. Nur die selektiv gestrahlten Oberflächenstellen stellen eine aufgeraute Oberfläche dar, durch welche Lichtstrahlen nicht mehr ungehindert durch das Glas hindurch dringen können, sodass sich für einen Betrachter wie zuvor bereits beschrieben, ein visueller Trübungseffekt ergibt.

[0013] Die einheitliche Korngrösse umfasst daher Körner einer Grösse von 50 pm bis zu 1000 pm mit einer Korngrössenabweichung von höchstens 20%, vorzugsweise 10% von der einstellbaren einheitlichen Korngrösse zum Erzeugen von Vertiefungen in der Glasoberfläche, um bei einer konstant gehaltenen Lichtdurchlässigkeit eine grössere Lichtstreuung an der gestrahlten Glasoberfläche zu erzielen.

[0014] im Falle einer detailgetreuen Musterstrukturierung der Glasoberfläche wird das Strahlgut zunächst mittels einer Siebeeinheit auf eine einstellbare einheitliche Korngrösse vorbereitet und dann durch ein zuvor auf die zu bemusternde

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Glasoberfläche vorangestelltes und/oder aufgebrachtes, Gewebe und/oder Gespinst aus Fäden mit einer Fadendicke, wobei die Fäden einen Fadenrasterabstand zueinander haben, gestrahlt. Die Fadendicke und der Fadenrasterabstand (Sieböffnung} definieren dabei einen Bereich der Oberfläche, welcher nach dem Strahlen als unversehrte Oberflächenstellen gelten und bilden folglich die Bereiche mit einer unveränderten Lichtdurchlässigkeit. Damit ist es im Sinne der Erfindung möglich, gestrahlte Oberflächen zu erhalten, welche zwei gegensätzlich visuell-optische Effekte miteinander verbinden, nämlich eine mittels Strahlen mattierte Oberfläche mit einer zugleich hohen Lichtdurchlässigkeit.

[0015] Im Sinne der Erfindung bewirkt das Gewebe und/oder Gespinst allein durch die Rasterung auf der Glasoberfläche die unveränderte Lichtdurchlässigkeit. Weist das Gewebe und/oder Gespinst zusätzlich photolithographisch vorstrukturierte Bereich auf und dient als eine mit einer Musterung versehenen Schablone, dessen Fadendicke und Fadenrasterabstand zudem eine Konturschärfenübertragung der Musterung der Schablone weitere Bemusterungsfreiheitsgrade erlaubt, sind beliebige Gestaltungen möglich. Eine derartig aufgebaute Schablone wird im Sinne der Erfindung auch als eine Gewebeschablone bezeichnet.

[0016] Die einheitliche Korngrösse umfasst auch bei diesem erfindungsgemässen Verfahrensschritt Körner einer Grösse von 50 pm bis zu 1000 pm mit einer Korngrössenabweichung von höchstens 20%, vorzugsweise 10% von der einstellbaren einheitlichen Korngrösse zum Erzeugen von Vertiefungen in der Glasoberfläche, wobei die Körner zusätzliche noch auf Fadendicke und Fadenrasterabstand des als Schablone dienenden Gewebes und/oder Gespinsts abgestimmt werden, sodass sich weitere Bemusterungsfreiheitsgrade ergeben.

[0017] Bei diesen Verfahrensschritten kann das Strahlverfahren als ein kontaktfreies Verfahren erfolgen, welches keine Vorbehandlung des gestrahlten Objektes, beziehungsweise Vorarbeiten am Strahlgut oder dem zu strahlenden Objekt erfordern.

[0018] In Experimenten haben sich dabei die Korngrösse des Strahlguts, die Verfahrgeschwindigkeit und die Oszillationen der Strahldüse beim Strahlen, der Düsendurchmesser und die Düsenlänge, welche die Austrittsgeschwindigkeit des Strahlguts bestimmt, der Abstand zwischen der Strahldüse und dem zu strahlenden Material, der Arbeitsdruck beim Strahlen sowie die Vorschubgeschwindigkeit, als wesentliche Verfahrensparameter ergeben. Diese Verfahrensparameter bestimmen das Verhältnis der Musterauflösung, der Überdeckung und Streuung der Einschläge des Strahlguts auf der Glasoberfläche zueinander.

[0019] Anschliessend kann das Einfärben der nun gestrahlten Glasoberfläche als ein weiterer Verfahrensschritt des erfindungsgemässen Verfahrens durchgeführt werden. Beim Einfärben der je nach Anwendungsbedarf zuvor selektiv und/oder gerastert gestrahlten Glasoberfläche, werden die in die Glasoberfläche gestrahlten Oberflächenausbrüche und Vertiefungen mit einer Farbe mit transluziden und reflektierenden Farbpigmenten gefüllt. Dazu wird die Farbe zunächst mit einem Lösungsmittel als Verdünner und einem Härter in Lösung gebracht. Anschliessend wird die gestrahlte Glasoberfläche mit einem Verzögerer benetzt und die Lösung der Farbpigmente auf die gestrahlte Glasoberfläche aufgetragen. Der Verzögerer bewirkt insbesondere in Vertiefungen der gestrahlten Oberfläche eine verzögerte Verdunstung des Lösungsmittels der Lösung und dient zur Steigerung der Haftvermittlung.

[0020] Das Lösungsmittel und der Härter werden dabei je nach Art, Beschaffenheit und Material der Farbpimente entsprechend ausgewählt und eingesetzt.

[0021] Als Verdünner kann man z.B. ein Gemisch aus 50-100% 2-Ethoxy-1-methylethylacetat, 10-25% leichte aromatische Lösungsmittelnaphtha (Erdöl), sowie 2,5-10% Glykolsäure-n-butylester verwenden.

[0022] Als Härter kann man z.B. ein Gemisch aus 50-100% Hexamethylen-1,6-diisocyanat-homopolymer, 10-25% n-Butylacetat, sowie < 1% Hexamethylen-1,6-diisocyanat verwenden.

[0023] Als Verzögerer kann man ein Gemisch aus 50-100% Glykolsäure-n-butylester, 10-25% 2-Ethoxy-1-methylethylacetat, sowie 2,5-10% leichte aromatische Lösungsmittelnaphtha (Erdöl) sowie vorzugsweise 1-2% eines Härters, wie z.B. der oben erwähnte Härter, verwenden.

[0024] Die Farbe kann nebst Farbpigmenten, 10-25%2-Ethoxy-1-methylethylacetat, 5-10% Bariumsulfat 2,1-2,5% gamma-Butyrolacton, 1-2,5% Xylol, < 1% leichte aromatische Lösungsmittelnaphtha (Erdöl), sowie < 1% 1-Dodecyl-2-pyrrolidon enthalten.

[0025] Farbe mit transluziden und reflektierenden Farbpigmenten haben den Vorteil, dass zum einen die Transmissionsverluste des Lichtes reduziert werden können, da Lichtstrahlen nach wie vor durch die selektiv und/oder gerastert gestrahlten Glasoberfläche strahlen und es insbesondere im Inneren des Glases zu Mehrfachreflexionen aufgrund der eingesetzten reflektierenden Farbpigmente kommt.

[0026] Im Sinne der Erfindung ist es folglich möglich, gestrahlte Oberflächen mit einer in einem beliebigen Farbton eingefärbten Oberfläche zu erhalten, welche zwei gegensätzlich visuell-optische Effekte miteinander verbinden, nämlich eine mittels Strahlen mattierte Oberfläche mit zugleich einer Einfärbung in einem beliebigen Farbton und einer hohen Lichtdurchlässigkeit.

[0027] In Experimenten hat es sich dabei als besonders geeignet erwiesen wenn, transluzide Spezialfarben mit speziell reflektierenden Farbpigmenten verwendet werden. Mit derartigen Spezialfarben bearbeitete Glasoberflächen haben daher den Effekt, dass an den unbearbeiteten Stellen Licht einfällt und innerhalb der Glasscheibe interne Reflexion von dem

CH 713 052 A1 einfallenden Licht durch diese speziell reflektierenden Farbpigmente verursacht wird. Ferner ermöglicht die Strahlung an diesen Stellen eine feinstrukturierte Oberflächenrauheit, sodass dort Farbpigmente bestmöglich haften.

[0028] Ferner hat dieser Verfahrensschritt den Vorteil, dass der energetische Wirkungsgrad von Fotovoltaikelementen und/oder Solarthermieelementen durch bemusterte Glasfläche, eine weder durch die Strahlung eingetrübte Glasoberfläche aufweist noch gegebenenfalls durch die zusätzliche Einfärbung der Lichttransmissionsgrad dieser Glasoberfläche weiter reduziert oder beeinträchtigt wird. Eine durch Trübung zunächst entstandene Wirkungsgradeinbusse wird durch den beschriebenen Mehrfachreflexionseffekt aufgrund der reflektierenden Farbpigmente wieder nahezu vollständig kompensiert. Verfahrensschritte des erfindungsgemässen Verfahrens eignen sich somit hervorragend für die Fertigung bemusterter Glasflächen von Fotovoltaikelementen.

[0029] Ferner eignen sich Verfahrensschritten des erfindungsgemässen Verfahrens auch hervorragend für die Fertigung bemusterter Glasflächen von Solarthermieelementen.

[0030] Im Übrigen eignet sich das Verfahren nicht nur für eine Bemusterung von Flachglas, sondern es ist auch eine Bemusterung von Hohlglas oder anderweitig geformten oder gegossenen Glas möglich.

[0031] Auch ist die Bemusterung von Glas, welches mit einer Spiegelschicht veredelt ist, möglich.

[0032] Ebenso eignet sich das Verfahren nicht nur für die Bemusterung von Glas, sondern es kann auch ein anderes Material, nämlich Holz oder Kunststoff oder Metall oder Leder mit dem erfindungsgemässen Verfahren bearbeitet werden.

Figurenbeschreibung [0033] Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten des erfindungsgemässen Verfahrens ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung sowie anhand der Figuren. Die Erfindung ist allerdings nicht auf die anhand der Figuren erläuterten Verfahrensschritte beschränkt; diese zeigen in

Fig. 1

Fig. 2

Fig. 3

Fig. 4

Fig. 5 Fig. 6 Fig. 7 Fig. 8

Fig. 9 bis 12

Fig. 13

Fig. 14 bis 19

Fig. 20 und 21 Fig. 22 bis 27

Fig. 28 Fig. 29

Fig. 30 eine Querschnittsansicht eines strahlbearbeiteten Materialstücks mit selektiver offener Strahlung im Sinne der Erfindung;

eine Querschnittsansicht eines Strahlbearbeitungsschritts einer bisher verwendeten Strahlung mit handelsüblichen Mischkorn;

eine Querschnittsansicht eines selektiven Strahlbearbeitungsschritts mit definierter einheitlicher Korngrösse im Sinne der Erfindung;

eine Querschnittsansicht eines gerasterten Strahlbearbeitungsschritts durch ein Gewebe oder Gespinst im Sinne der Erfindung;

ein Muster einer selektiv gestrahlten und eingefärbten Glasscheibe;

ein weiteres Muster einer gestrahlten und eingefärbten Glasscheibe;

ein weiteres Muster einer gestalteten, gestrahlten Glasscheibe;

ein weiteres Muster eines mit einem kontaktfrei vorgespannten Sieb gestrahlten und eingefärbten Fotovoltaikmoduls, Beispiele verschiedener freier Gestaltungsmöglichkeiten;

eine Abbildung eines Musters, welches sich mit dem erfindungsgemässen Verfahren nicht fertigen lässt;

jeweils ein weiteres Muster einer mit einem vorgespannten Sieb bestrahlten Glasscheibe, gestaltet und teilweise eingefärbt;

jeweils ein Ausschnitt aus einer Siebschablone;

jeweils ein Ausschnitt aus einer mit einem vorgespannten Sieb bestrahlten Glasscheibe, in unterschiedlichen Distanzen vom Sieb zum Materialstück; jeweils ein Ausschnitt des Gewebes oder Gespinst;

eine Querschnittsansicht eines strahlbearbeiteten und eingefärbten Materialstücks 1 mit einfallendem Licht und der Wirkung der Lichtstreuung;

eine Querschnittsansicht eines strahlbearbeiteten Materialstücks 1 mit reflektierenden Farben eingefärbter Glasoberfläche und der Wirkung der Lichtstreuung;

CH 713 052 A1 [0034] Fig. 1 zeigt eine Querschnittsansicht eines strahlbearbeiteten Materialstücks 1 mit zahlreichen Ausbrüchen 2 und unbestrahlten Oberflächenstellen 3.

[0035] Fig. 2 zeigt eine Querschnittsansicht eines herkömmlichen Strahlbearbeitungsschritts bei einem Materialstück 1 mit flächendeckenden Ausbrüchen 2. Das handelsübliche Strahlgut, bestehend aus einer Vielzahl von Körnern 4 verschiedenster Grössen, wird aus einer nicht abgebildeten Strahldüse 7 mit einem einstellbaren Strahldruck in einem Strahlwinkel a zur Oberflächenebene des zu bearbeitenden Materialstücks 1 gestrahlt. Dabei entsteht eine mit Einschlägen 2 vollständig überzogene Oberfläche.

[0036] Fig. 3 zeigt eine Querschnittsansicht eines Strahlbearbeitungsschritts bei einem Materialstück 1 mit zahlreichen Ausbrüchen 2 und unbestrahlten Oberflächenstellen 3. Das Strahlgut, bestehend aus einer Vielzahl von Körnern 4 mit einheitlicher Grössen, wird aus einer nicht abgebildeten Strahldüse 7 mit einem einstellbaren Strahldruck in einem nicht abgebildeten Strahlwinkel a zur Oberflächenebene des zu bearbeitenden Materialstücks 1 gestrahlt. Dabei entstehen partiell angeordnete Einschläge 2, welche sich über die Oberfläche derart verteilen, dass zwischen den Einschlägen 2 auch unbearbeitete Stellen 3 des Materialstücks 1 verbleiben.

[0037] Fig. 4 zeigt eine Querschnittsansicht eines Strahlbearbeitungsschritts bei einem Materialstück 1, vor welchem kontaktfrei ein Gewebe und/oder ein Gespinst 4 mit Fäden 6 als eine Gewebeschablone für eine Feinmusterprojektion und je nach Bemusterung in dieser konkreten Ausführung auch photolithographisch strukturierte Polymerschicht 8 zur Projektion eines Flächenmusters auf das Materialstück 1 kontaktfrei angebracht ist. Das Strahlgut, bestehend aus einer Vielzahl von Körnern 4, wird aus einer Strahldüse 7 mit einem einstellbaren Strahldruck in einem nicht abgebildeten Strahlwinkel a zur Oberflächenebene des zu bearbeitenden Materialstücks 1 gestrahlt.

[0038] In den folgenden Fig. 5 bis 28 sind Bearbeitungsproben von Materialstücken 1 oder Ausschnitte der Gewebe und/oder der Gespinste dargestellt.

[0039] Fig. 5 zeigt ein Muster einer gestrahlten und eingefärbten Glasscheibe 1.

[0040] Fig. 7 zeigt ein Muster einer gestrahlten und eingefärbten Glasscheibe 1.

[0041] Fig. 6 und 8 zeigen jeweils ein weiteres Muster einer eingefärbten und gestrahlten Glasscheibe 1 aus Fig. 7.

[0042] Fig. 9 bis 11 zeigen jeweils ein weiteres Muster einer mit einem kontaktfrei vorgespannten Sieb vollflächig gestrahlten Glasscheibe 1. Dabei kam ein Sieb 1 mit einer Anzahl von 24 Fäden 6 und einer Polymerschicht 8, in welche ein Muster aus Ahornblättern photolithographisch eingearbeitet wurde zum Einsatz. Die Blätter wurden durch das Sieb mit einem 120 pm Korn mit einem Abstand von 2 mm Entfernung zum Glas gestrahlt. Anschliessend wurde die Bemusterung eingefärbt. Dasselbe Sieb wurde umgedreht und nochmals drüber appliziert mit einem 220 pm Korn bestrahlt, sodass nur ein Teil der Farbe weg gestrahlt wurde. Auf die Weise lassen sich zwei optische Farbeffekte erzielen. Anschliessend wurde die Oberfläche mit einem Versiegelungsmittel versiegelt um die Oberfläche vor Verschmutzungen zu schützen und die Oberfläche auch abwaschbar zu machen.

[0043] Fig. 12 zeigt ein Muster, welches ähnlich zu dem Muster der Fig. 9 bis 11 hergestellt wurde, wobei ein Korn 4 mit einer gröberen Korngrösse für ein vollflächiges Strahlen verwendet wurde und erst nach dem Einfärben der ganzen Glasfläche durch ein erneutes Strahlen mittels einem Korn 4 mit einer feineren Korngrösse die Mustergebung erfolgte. [0044] Fig. 13 zeigt ein Muster, welches sich nicht mit dem erfindungsgemässen Verfahren fertigen lässt.

[0045] Fig. 14 bis 19, 22 bis 28 zeigen jeweils ein weiteres Muster einer mit einem vorgespannten Sieb bestrahlten Glasscheibe 1, wobei das Sieb 4 in direktem Kontakt mit der Glasscheibe 1 steht. Das Sieb 4 weist dabei nicht nur Fäden 6 auf, sondern auch polymerbeschichtete Stellen 8, sodass zugleich eine fein- als auch flächige Musterprojektion von dem Sieb 4 auf die Glasscheibe 1 möglich ist.

[0046] Fig. 20 und 21 zeigt eine Gewebeschablone aus einer Vielzahl an Fäden 6 mit einer Polymerschicht 8 als eine photolithographische Applikation.

[0047] Fig. 29 zeigt eine Querschnittsansicht eines strahlbearbeiteten Materialstücks 1 mit zahlreichen Ausbrüchen 2.und unbestrahlten Oberflächenstellen 3. Auf die Glasoberfläche des Materialstücks 1 fallen einfallende Lichtstrahlen EL und werden gemäss dem Snelliusschen Brechungsgesetz in reflektierte Lichtstrahlen RL gebrochen und/oder reflektiert.

[0048] Fig. 29 zeigt eine Querschnittsansicht eines strahlbearbeiteten Materialstücks 1 mit zahlreichen Ausbrüchen 2 und unbestrahlten Oberflächenstellen 3. Die Ausbrüche 2 sind mit reflektierenden Farbpigmenten 9 beschichtet. Auf die Glasoberfläche des Materialstücks 1 fallen einfallende Lichtstrahlen EL und werden gemäss dem Snelliusschen Brechungsgesetz in reflektierte Lichtstrahlen RL gebrochen und/oder reflektiert. Die ins Innere des Materialstücks 1 eingetretenen reflektierten Lichtstrahlen RL werden aufgrund der Farbpigmente 9 weiter im Inneren gemäss dem Snelliusschen Brechungsgesetz reflektiert und/oder gebrochen.

Bezugszeichenliste [0049]

Materialstück

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2	Ausbruch
3	Unbearbeitete Stelle
4	Korn
5	Sieb
6	Faden
7	Strahldüse
8	Polymerschicht
9	Farbpigmente
EL	Einfallender Lichtstrahl
RL	Reflektierter Lichtstrahl
a	Strahlwinkel
S	Strahlrichtung

Claims

Patentansprüche

1. Verfahren zur Bemusterung einer Glasoberfläche folgende Verfahrensschritte umfassend:

- Strahlen der Glasoberfläche mit mittels in einer Strahlanlage zum Strahlen befindlichen Siebeeinheit auf eine einstellbare einheitliche Korngrösse gesiebten Strahlguts zum Erzeugen von Vertiefungen in der Glasoberfläche, wobei die einheitliche Korngrösse Körner einer Grösse von 50 pm bis zu 1000 pm mit einer Korngrössenabweichung von höchstens 20%, vorzugsweise 10% von der einstellbaren einheitlichen Korngrösse umfasst, um bei einer konstant gehaltenen Lichtdurchlässigkeit eine grössere Lichtstreuung an der gestrahlten Glasoberfläche, im Falle einer einfachen Bemusterungsstrukturierung der Glasoberfläche, zu erzielen; und/oder

- Strahlen der Glasoberfläche mit mittels in einer Strahlanlage zum Strahlen befindlichen Siebeeinheit auf eine einstellbare einheitliche Korngrösse gesiebten Strahlguts zum Erzeugen von Vertiefungen in der Glasoberfläche, wobei die einheitliche Korngrösse Körner einer Grösse von 50 pm bis zu 1000 pm mit einer Korngrössenabweichung von höchstens 20%, vorzugsweise 10% von der einstellbaren einheitlichen Korngrösse umfasst, durch ein zuvor auf die zu bemusternde Glasoberfläche vorangestelltes und/oder aufgebrachtes als eine mit einer Musterung versehenen Schablone dienendes Gewebe und/oder Gespinst.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Schablone photolithographisch vorstrukturierte Bereiche aufweist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Strahlverfahren ein kontaktfreies Verfahren ist, welches keine Vorbehandlung des gestrahlten Objektes, bzw. Vorarbeiten am Objekt erfordert.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei selektiv ungestrahlte Stellen eine bessere Lichtdurchlässigkeit bei konstant gehaltener Lichttransmission aufweisen als gestrahlte Stellen und sich für einen Betrachter ein Effekt der visuellen Trübung ergibt.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Glas Flachglas, Hohlglas oder anderweitig geformtes oder gegossenes Glas ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Glas mit einer Spiegelschicht veredelt ist.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass an die Stelle von Glas ein anderes Material, nämlich Holz oder Kunststoff oder Metall oder Leder tritt.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Glasoberfläche durch Auffüllen der Vertiefungen mit transluziden und reflektierenden Pigmenten (zur Reduktion der Transmissionsverluste des Lichtes) eingefärbt wird.
9. Bemusterte Glasfläche eines Fotovoltaikelements, welches mit einem Verfahren gemäss einer der Ansprüche 1 bis 6 und gegebenenfalls 8 gefertigt wurde.
10. Bemusterte Glasfläche eines Solarthermieelements, welches mit einem Verfahren gemäss einer der Ansprüche 1 bis 6 gegebenenfalls 8 gefertigt wurde.

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