Verfahren zur Herstellung dünner Oxydschichten Dünne Oxydschichten werden in der Tecknik in grossem Umfang als Schutzschichten und als Schich ten für optische Zwecke verwendet.
Als Schutzschichten dienen sie dazu, empfindli che Oberflächen von Körpern, z. B. von Präzisions teilen der Feinwerktechnik, von Linsen, Oberflächen spiegeln und dergleichen gegen Korrosion und me chanische Beschädigung zu schützen. In der opti schen Industrie werden Oxydschichten darüberhinaus als hoch- und niederbrechende Schichten für re flexionsvermindernde Beläge, weiters für Interferenz filter, Strahlenteiler, Wärmefilter, Kaltlichtspiegel, Beläge für Brillengläser und dergleichen gebraucht.
Die mechanischen und optischen Eigenschaften sol cher Oxydschiehten hängen nicht nur von der Art des aufgebrachten Oxydes sondern in sehr starkem Masse auch von der Art des Aufbringverfahrens ab.
Bekannt ist die Herstellung von Oxydschichten durch direktes Aufdampfen oxydischer Ausgangs substanzen im Vakuum und Kondensation der Dämpfe auf den zu belegenden Unterlagen. Dieses Verfahren hat für viele optische Zwecke den Nach teil, dass die meisten Oxyde bei Verdampfen und Kondensation im Vakuum absorbierende Schichten ergeben, auch dann, wenn als Ausgangssubstanzen an sich absorptionsfreie Oxyde verwendet werden.
Vermutlich ist dies darauf zurückzuführen, dass das Vakuum auf die meisten Oxyde bei hoher Tempera tur reduzierend wirkt und dass - dies ist eine durchschnittlich gültige Regel - die nicht abgesät- tigten Oxyde meist optische Absorption aufweisen. Davon gibt es nur einige wenige Ausnahmen<B>:</B> Z. B. lassen sich Nioboxyd und Ceroxyd im Vakuum ver dampfen, wobei man absorptionsfreie Schichten er hält.
Um diese Schwierigkeiten der Herstellung absorp tionsfreier Oxydschichten zu umgehen, sind weitere Verfahren entwickelt worden. Es ist bekannt, absorp tionsfreie Metalloxydschichten durch Aufdampfen absorbierender Schichten und anschliessende Oxyda tion derselben oder durch Kathodenzerstäubung der betreffenden Metalle in Sauerstoff herzustellen (vgl. hiezu auch die Arbeit von K. Hammer, Steigerung der Glasreflexion durch Metalloxydschichten in Optik 3, Heft 5/6, 1948, Seite 495).
Ein- weiteres bekanntes Verfahren ist das Auf dampfen der Ausgangssubstanzen in oxydierender Atmosphäre.
Für die fabrikationsmässige Herstellung dünner Oxydschichten haben die bekannten Verfahren den Nachteil, dass sie zeitraubend sind, so dass Viel schichtsysteme z. B. Interferenz-Wärmefilter und Kaltlichtspiegel (die oft aus 20 bis 30 Einzelschich ten bestehen) in der Herstellung ziemlich kostspielig werden.
Im Falle der bekannten Oxydation absorbieren der Schichten müssen nämlich die Einzelschichten gesondert (oder bestenfalls nur ganz wenige Einzel schichten gemeinsam) oxydiert werden, weil der Sauerstoff durch dickere Schichtpakete nicht genü gend hindurchdiffundiert. Auch bei dünneren Schichtpaketen geht die Oxydation nur sehr träge vor sich. Bei der nachträglichen Oxydation ändern die Schichten ausserdem ihre Dicke. Die Einhaltung genauer Schiehtdickenbeziehungen, die für Interfe- renzsysteme unerlässlich ist, wird dadurch sehr er schwert.
Ein weiterer Nachteil dieses bekannten Verfahrens liegt darin, dass man viele Körper, auf welche die dünnen Schichten aufgebracht werden sol len, z. B. verkittete Linsensysteme, nicht auf die für die Oxydation erforderlichen hohen Temperaturen erhitzen darf.
Das andere bekannte Verfahren, die Kathoden zerstäubung in Sauerstoff, ist schon an sich sehr zeit- raubend und führe ebenso zu einer oft unzulässigen Erwärmung der zu belegenden Unterlagen. Auch weisen die durch Kathodenzerstäubung hergestellten Schichten häufig stärkeres Streulicht als die im Auf dampfverfahren hergestellten Schichten aus densel ben Schichtmaterialien auf und sind aus diesem Grunde nicht überall einsetzbar.
Nach den besten bisher zur Verfügung stehen den Verfahren wurden z. B. für die Herstellung eines aus 25 Einzelschichten aus abwechselnd hoch- und niederbrechenden Schichten aus Si02 und Ti02 aufgebauten Kaltlichtspiegels, wie er z. B. für Kino projektoren gebraucht wird, etwa 6 bis 8. Stunden im Vakuum-Aufdampfverfahren benötigt, wenn die Schichten hart und haftfest und hinreichend absorp tionsfrei sein sollten.
Vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfah ren zur Herstellung dünner Oxydschichten für opti sche Zwecke durch Aufdampfen von Mischungen oxydischer und/oder oxydierbarer Substanzen im Va kuum auf Unterlagen, welches die genannten Schwie rigkeiten überwindet und welches dadurch gekenn zeichnet ist, dass zur Erzielung von im sichtbaren Wellenlängengebiet praktisch absorptionsfreien.
Schich ten Mischungen eines oder mehrerer Elemente aus der Gruppe der Seltenen Erden und/oder einer oder mehrerer Verbindungen der genannten Elemente einerseits mit anderen oxydischen und/oder oxydier- baren anorganischen Substanzen andererseits aus der Dampfphase auf den Unterlagen niedergeschlagen werden. Im Rahmen dieser Beschreibung soll der Begriff Seltene Erden auch die Elemente Yttrium, Lanthan und Cer umfassen<B>;</B> er wird im Nachfolgen den stets in diesem Sinne gebraucht.
Nach diesem Verfahren ist es möglich, harte und haftfeste Oxyd schichten mit der den verwendeten Schichtsubstan zen zukommenden geringstmöglichen Absorption in sehr viel kürzerer Zeit als nach den bekannten Ver fahren herzustellen; weil bei erfindungsgemässem Vorgehen entweder überhaupt keine eigene Nachoxy dation in der oxydierenden Atmosphäre erforderlich ist oder aber, wenn eine solche nötig ist, diese sich (im Gegensatz zu den bekannten Schichttemperungs- verfahren) innert einer kurzen Zeitspanne (oft augen blicklich) vollzieht. Das Aufdampfen kann mit relativ grosser Aufdampfgeschwindigkeit durchgeführt wer den.
Das erfindungsgemässe Verfahren gibt jetzt die Möglichkeit, nicht nur einige wenige Oxyde, die bis her eine Ausnahme von der allgemeinen Regel bilde ten, wie z. B. reines Ceroxyd, absorptionsarm oder absorptionsfrei aufzudampfen, sondern auch andere bekannte Oxyde, deren Aufdampfung im Vakuum ohne Reduktion an sich nicht möglich ist, für den selben Zweck zu benützen.
Nach weiteren Vorschlägen der Erfindung wird das Mischungsverhältnis zwischen den Ausgangssub stanzen und den beigemischten Elementen bzw. Ver bindungen aus der Gruppe der Seltenen Erden so gewählt, dass mindestens 5 % und höchstens 50 % aller in der Mischung frei oder gebunden enthaltenen Metallatome solche aus der Gruppe der Seltenen Erden sind. Die Beimischung von Cer und/oder Ver bindungen von Cer bzw. Praseodym und/oder dessen Verbindungen hat sich als besonders wirksam erwie sen.
Die nach dem erfindungsgemässen Verfahren her gestellten Schichten enthalten vermutlich nicht nur die in den Ausgangsmaterialien enthaltenen Elemente wie Titan, Silizium und dergleichen, sondern auch die beigemischten Elemente oder Verbindungen aus der Gruppe der Seltenen Erden, die aber selbst im Sichtbaren keine störende Absorption aufweisen.
Die Wirkung der Erfindung ist jedoch nicht so zu verstehen, dass, weil ein absorptionsfrei aufdampf- bares Oxyd, z. B. Ceroxyd, der Ausgangssubstanz beigemischt ist, nun eben die Gesamtabsorption ge rade entsprechend der Verdünnung durch die beige mischte absorptionsfreie Komponente geringer ist.
Vielmehr führt die Beimischung dazu, dass auch die an sich bisher nicht ohne störende Absorption auf dampfbaren Komponenten der Ausgangssubstanz ein Kondensat von wesentlich geringerer Absorption als bisher bekannt ergeben, d. h., es wird anscheinend deren Reduktion vermieden oder während des Auf- dampfens häufig eine Oxydation erzielt, bzw. die Oxydationsgeschwindigkeit wesentlich beschleunigt.
Die Erfindung wird nachstehend an Beispielen erläutert. Es werden im sichtbaren Spektralbereich praktisch völlig absorptionsfreie harte und haftfeste Schichten hohen Brechungsindex auf Glasunterlagen erhalten, indem ein Gemisch bestehend aus einem Oxyd des Titans z. B. TiO und einem Oxyd des Cers, z. B. Ce0@. oder Ce20" im molekularen Verhält nis von 1 : 1 bis 8 : 1 im Vakuum (10-5 Torr) ver dampft und auf den Unterlagen niedergeschlagen wird.
Dieses Gemisch verdampft im Wolframtiegel bei Temperaturen von etwa 1700-21000 C ohne Schwierigkeiten. Überraschend ist, dass im Sichtba ren absorptionsfreie (also nach herrschender Ansicht maximal mit Sauerstoff angesättigte) Oxydschichten erhalten werden, während das gleiche Oxyd des Ti tans in Abwesenheit des Cers oder der oben erwähn ten Elemente bzw. deren Verbindungen unter sonst gleichen Aufdampfbedingungen absorbierende Schich ten ergibt.
Eine solche Absorption im Sichtbaren ergab sich bisher sogar auch dann, wenn die Ausgangssubstanz aus reinem TiO2 bestand. Die Wirkung des zugesetz ten Cers ist möglicherweise dadurch zu erklären, dass es die Bildung von TiO2 fördert, wobei ein eventuel ler Bedarf an Sauerstoff durch Desorption (insbeson dere durch den an der Rezipientenwand stets adsor- bierten Wasserdampf) gedeckt wird.
Das erfindungs- gemässe Verfahren liefert gleichermassen bei der Verdampfung von TiOz, TiO und (mit einer kurzen Nachoxydation) sogar von metallischem Titan ab sorptionsfreie Schichten gleich ob Cer bzw. die an deren erwähnten Elemente in metallischer Form oder in Form von Verbindungen der Ausgangssub stanz zugemischt werden. Weitere Ausführungsbeispiele, für welche das er- findungsgemässe Verfahren empfohlen wird, sind in nachstehender Tabelle zusammengefasst.
Die ange gebenen Zahlenwerte stellen Richtlinien dar ; der Fachmann kann leicht entscheiden, von welchen die ser Werte er in Anpassung an etwaige besondere Verhältnisse abweichen kann. Variabel ist, wie der Fachmann weiss, z. B. die Verdampfungstemperatur je nach der erwünschten Verdampfungsgeschwindig- keit, wobei dieses letztere wiederum unter anderem vom gewünschten Brechungsindex der Schicht ab hängt. Schnelles Aufdampfen ergibt regelmässig hö her brechende Schichten als langsames Aufdampfen.
Variabel ist selbstverständlich auch die Verdamp- fungszeit und zwar nicht nur mit Rücksicht auf die einzuhaltende Verdampfungsgeschwindigkeit, son dern natürlich auch in bezug auf die zu erzielende Schichtdicke. Variabel ist ferner der Gasdruck im Rezipienten. Der Fachmann weiss, dass er den Teil druck jener Gase, die keine oxydierende Wirkung ausüben, möglichst gering halten muss. Er variiert daher mit Hilfe geeigneter Dosiereinrichtung nur den Teildruck jener Gase (O@, H20), welche diese Oxy dation bewirken können.
Variabel sind schliesslich insbesondere auch die Mischungsverhältnisse, weil es keine scharfen Grenzen der Mischungsverhältnisse gibt, bei denen die nach der Erfindung beabsichtigte Wirkung plötzlich einsetzen würde. Vielmehr gibt es von den Schichten, die aus den Ausgangssubstanzen allein ohne Beimischung von Elementen oder Ver bindungen aus der Gruppe der Seltenen Erden ge wonnen werden, bis zu Schichten, bei denen die bei gemischte Komponente weitaus überwiegt, also prak tisch Schichten aus den Oxyden der verwendeten Seltenen Erden gewonnen werden, alle Übergänge.
Entsprechend verändern sich auch die Eigenschaften der erhaltenen Schichten wobei aber, wie schon er wähnt, die grundlegende Erkenntnis der Erfindung besteht, dass die optische Absorption der aus der Verdampfung und Kondensation der angegebenen Gemische erhaltenen Schichten wesentlich geringer ist als allein aus den Mischungsverhältnissen zu er warten wäre.
Das kommt dadurch zum Ausdruck, dass eine Beimischung von mehr als 5 Molprozent in vielen der angeführten Beispielsfälle praktisch völlig absorptionsfreie Schichten ergibt, während bei einer blossen Verdünnung der aus den Ausgangssubstanzen allein erhältlichen Schichten mit einem absorptions freien Oxyd der Seltenen Erden bei einer Verdün- nung von 50 % immer noch die Hälfte der ursprüng- lichen Absorption,
die gewöhnlich in der Grössen- ordnung einiger Prozente bis zu 30<B>0/0</B> des einfallen den Lichtes bei Ä/4 Schichten beträgt, übrig bleiben würde.
Es scheint die Regel zu gelten, dass das erfin- dungsgemässe Verfahren besonders für die Herstel lung von Schichten solcher Oxyde geeignet ist, deren Bildungswärme (bezogen pro Sauerstoffatom im Molekül) kleiner als die Bildungswärme von Ceroxyd (CeO.,) ist. In der folgenden Tabelle sind angeführt Unter a) : Unter den Ziffern 1-8 Elemente bzw.
Verbindungen aus der Gruppe der Seltenen Erden, die den Ausgangssubstanzen beigemischt werden kön nen. Häufig ist es bequem, nicht reine Elemente oder Verbindungen aus der besagten Gruppe für die Bei mischung zu den Ausgangssubstanzen zu verwenden, weil diese schwer erhältlich sind. Vielmehr können ohne weiteres die handelsüblichen Seltenen-Erden- Mischungen (einschliesslich der Yttererden) verwen det werden, deren übliche prozentuelle Zusammen setzung in der Tabelle angegeben ist.
Diese unter a) angegebenen Gehalte beziehen sich auf die reine Komponente der Mischung und sind nicht mit den Molprozentangaben über den Zusatz der Seltenen Erden zu den Ausgangssubstanzen zu verwechseln.
Die Tabelle gibt weiter unter b) Beispiele an und zwar in Zeile 1 : geeignete Ausgangssubstanzen ; in Zeile 2: Handelsübliche Seltene-Erden-Gemi- sehe, welche für die Beimischung in Frage kommen, bzw. erprobt sind, wo bei die Angabe 1-8 bedeutet, dass jede der Stoffmischungen, die im Abschnitt a) angegeben sind, genommen werden kann ; in Zeile 3 : Brauchbare Verdampfungstemperaturen für die genannten Stoffe ; in Zeile 4 : Geeignete Materialien für die Verdamp- fungsschiffchen, wobei in den Spalten 1 und 2 noch zu unterscheiden ist, ob als Ausgangssubstanzen gemäss Zeile 1 Oxyde oder Metalle genommen werden.
Der Fachmann weiss auch, dass man che der genannten Substanzen ebenso gut wie durch thermische Verdampfung durch das dem Vakuumverdampfungs- verfahren bezüglich vieler Anwendun gen äquivalente Kathodenzerstäubungs- verfahren in Dampfform übergeführt und anschliessend auf den Unterlagen kondensiert werden können.
Unter c) der Tabelle sind drei verschiedene Va rianten (a, ss, y) der Aufdampfung bei der Herstel lung von Schichten nach der Erfindung angegeben. Es bestätigt sich hiebei die an sich bekannte Erfahrung, dass Aufdampfen etwa bei Raumtemperatur des Trä gers und üblichem Vakuum (Variante ss) durch Auf dampfen in höherem Vakuum aber bei erhöhter Tem peratur der Unterlage (Variante a) ersetzt werden kann ; desgleichen erfordert eine kürzere Aufdampf- zeit (Variante y) eine Nachbehandlung bei etwas er höhter Temperatur.
Abschnitt d) der nachstehenden Tabelle führt schliesslich Beispiele für eine abgeänderte Durchfüh rung des Verfahrens an, gemäss welchem die Bei mischung der Elemente oder Verbindungen der Sel tenen Erden zu den Ausgangssubstanzen nicht in ein und demselben Verdampfungstiegel erfolgt, sondern dadurch, dass die Ausgangssubstanzen und die bei zumischenden Elemente oder Verbindungen aus der Gruppe der Seltenen Erden gleichzeitig aus getrenn ten Verdampfungstiegeln verdampft und auf den Kondensationsflächen niedergeschlagen werden.
Angeführt sind in Abschnitt d) Metalle, die als Ausgangssubstanzen geeignet sind, und die Tempera turen, bei denen sie getrennt aus Kohleschiffchen verdampft werden können; weiter sind angegeben für die Verdampfung aus Molybdänschiffchen geeig nete Metalle und Verbindungen.
<I>(Siehe Tabelle nächste Seite)</I> Zur Durchführung des erfindungsgemässen Ver fahrens kann eine Einrichtung gemäss Fig. 1 beilie gender Zeichnung dienen. 1 bedeutet den Rezipien ten, welcher über eine Leitung 2 mit Ventil 3 mittels einer Vakuumpumpe auf einen Druck von etwa 10- mm Hg oder besser evakuiert werden kann. 4 bedeutet den Verdampfungstiegel (oft auch Ver- dampfungsschiffchen genannt), in welchem das zu verdampfende Material geschmolzen wird.
Dieser Tiegel besteht aus einem der in der Tabelle für das Verdampfungssehiffchen angegebenen Stoffe. 5 ist die Haltevorrichtung für den Tiegel, 6 die Haltevorrich tung für die zu bedampfende Glasplatte oder Linse 7. 8 und 9 sind die Stromzuführungen für die elektrische Heizwicklung 10, die den Tiegel 4 umgibt. 11 und 12 stellt die vakuumdichten elektrischen Stromdurch führungen dar.
Die gesamte Anordnung ist auf einer Grundplatte 13 aufgebaut. Die vakuumdichte Abdichtung zwi schen der Glocke des Rezipienten und der Grund platte erfolgt durch die Dichtung 14.
Für manche Ausführungsbeispiele ist der Einlass von Sauerstoff oder Wasserdampf oder von atmo sphärischer Luft in den Rezipienten erforderlich. Die sem Zweck dient die Gaszuleitung 15, die mittels eines Ventiles 16 abgesperrt werden kann.
Für die Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens nach Abschnitt d) der Tabelle sind zwei getrennte Tiegel in der Aufdampfanlage erforderlich. Der zweite Tiegel kann in gleicher Weise wie der Tiegel 4 im Rezipienten angeordnet und mit eigenen Stromzuführungen versehen werden.
Nachfolgend wird die Ausführung des Verfahrens nach Abschnitt d) der Tabelle an einem speziellen Beispiel erläutert In der vorbeschriebenen Vakuumaufdampfanlage wird aus einem ersten Schiffchen aus Kohlenstoff Thorium bei einer Temperatur von ca. 21000 ver dampft und die entstehenden Dämpfe auf der Linse 7 niedergeschlagen. (Da der Tiegel aus Kohlenstoff besteht, kann er durch direkten Stromdurchgang er hitzt werden, ohne Verwendung einer ihn umgeben den Heizwicklung). Gleichzeitig wird aus einem zweiten Tiegel, der in demselben Rezipienten ange ordnet ist und der aus Wolfram besteht, ein Element oder eine Verbindung aus der Gruppe der Seltenen Erden, z.
B. das unter a) 1 der Tabelle genannte Cer-Mischmetall zur Verdampfung gebracht, dessen Dämpfe sich gleichzeitig mit den Thoriumdämpfen auf der Linse niederschlagen. Es entsteht so eine Mischschicht, die jedoch unter dem Einfluss der Elemente aus der Gruppe der Seltenen Erden bei An wesenheit von oxydierenden Gasen sofort in eine völlig absorptionsfreie Oxydschicht übergeht, die zum Teil aus Thoriumoxyd, zum Teil aus den Oxyden der verwendeten Seltenen Erden besteht. Das oxydie rende Gas, z. B.
Wasserdampf, wird über Leitung 15 mittels des Ventiles 16 eingelassen, bis zu einem Druck im Rezipienten von ungefähr 2 -10-4 mm Hg. Die Menge der Materialien in den beiden Aufdampf- schiffchen wird so bemessen, dass der Anteil der Dämpfe aus den Verbindungen der Seltenen Erden im Dampfraum 5 bis 50 Molprozente beträgt.
Es ist noch nicht geklärt, worauf die Wirkung des erfindungsgemässen Verfahrens genau beruht, ob möglicherweise auf einem katalytischen Effekt des rein oder in Form einer Verbindung zugemischten Metalls aus der Gruppe der Seltenen Erden oder etwa auf der Bildung besonderer Verbindungen oder Zwischenprodukte im Verdampfungsmaterial bzw. in der entstehenden Schicht.
Für die technische An wendung ist aber die Erkenntnis von Bedeutung, dass sich nach diesem Verfahren die für die Aufdamp- fung an sich bekannter Oxydschichten erforderlichen Zeiten wesentlich abkürzen lassen, wenn es darauf ankommt, Oxydschichten geringer Absorption zu er zielen.
Es hat sich oft als praktisch erwiesen, die zu verdampfenden Gemische in einem vorgängigen Schmelzverfahren herzustellen, indem ein Gemisch, z. B. aus Ti, TiO;,, und Ceroxyd (oder Cer selbst), im Vakuum geschmolzen und das erstarrte Produkt zer kleinert wird und als Ausgangsstoff für die spätere Aufdampfung dünner Schichten dient. In manchen Fällen hat es sich jedoch als praktisch erwiesen, die zu verdampfenden Gemische in einem vorgängigen Sublimationsverfahren herzustellen, z.
B. wird ein Gemisch von Si- und Ce02-Pulver im Vakuum subli miert, das Sublimationsprodukt zerkleinert und als Ausgangsstoff für die Aufdampfung dünner Schichten verwendet. Zur Durchführung dieses Verfahrens wird darauf aufmerksam gemacht, dass manche der durch Sublimation erhaltenen Produkte stark pyrophor sind und zur Selbstentzündung neigen und daher mit Vor sicht und vorzugsweise nur in kleinen Mengen ge handhabt werden müssen.
Zum Beispiel wurde dies bei einer Mischung von SiO und Ceroxyd beobach tet, die zur Herstellung von absorptionsfreien Sili- ciumoxydschichten diente (SiO allein gibt bei Schichtdicken, wie sie für Interferenzsysteme ge braucht werden, stark absorbierende Schichten).
Gelegentlich ist es vorteilhaft, das Aufdampfen der Gemische unter gleichzeitiger Erwärmung der Unterlage durchzuführen. An sich ist das Aufdamp fen von dünnen Schichten unter gleichzeitiger Erwär mung der Unterlagen schon bekannt.
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<tb> ^ Bei der Durchführung des Verfahrens findet, wie erwähnt, oft eine Oxydation des Kondensates statt, wobei der benötigte Sauerstoff auch in einer auf üb liches Aufdampfvakuum (10-4 Torr oder besser) evakuierten Aufdampfanlage häufig in der Restgas atmosphäre in hinreichender Menge zur Verfügung steht. Wahrscheinlich stammt der benötigte Sauer stoff, wie bereits erwähnt, aus dem von den Wänden der Aufdampfanlage desorbierten Wasserdampf.
Eine künstliche Anreicherung der Restgasatmo- sphäre mit Sauerstoff ist, wie sich gezeigt hat, oft zweckmässig, wobei aber das Vakuum und Auf dampfgeschwindigkeit höher gehalten werden können als bei den bekannten Verfahren dieser Art und trotzdem harte und haftfeste Schichten geringstmögli- cher Absorption ohne weiteres erzielt werden.
In einigen Fällen findet die völlige Oxydation der Schichten erst nach dem Aufdampfen auf dem Träger statt, sobald ein oxydierendes Gasgemisch (Luft) in die Aufdampfanlage eingelassen wird. Diese nachträgliche Oxydation - nachträgliche Oxydation von Schichten ist als solche bekannt - vollzieht sich, wenn bei der Aufbringung der Schichten entspre chend dem Verfahren der Erfindung vorgegangen wurde, mit sehr grosser Geschwindigkeit, so dass z.
B. eine nach dem Aufdampfen undurchsichtige und metallisch glänzende Schicht im Augenblick des Flutens der Anlage mit atmosphärischer Luft und eventuell unter der zusätzlichen Wirkung einer mäs- sigen Temperaturerhöhung durch die vorangegangene Aufdampfung augenblicklich sich in eine völlig durchsichtige, absorptionsfreie Oxydschicht verwan delt.
Auch Schichtsubstanzen, die sonst nur durch Anwendung hoher Temperaturen und langer Tem- perzeiten durchoxydiert werden können, oxydieren leicht und schnell, wenn ein Element der Seltenen Erden oder deren Verbindungen den Verdampfungs- materialien beigemischt wird.