CA2221014C - Composes polymeres polyioniques, leur procede de preparation et leur utilisation comme photoamorceurs - Google Patents

Composes polymeres polyioniques, leur procede de preparation et leur utilisation comme photoamorceurs Download PDF

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Abstract

Composé ionique polymère ou oligomère constitué par une partie polycationique (A+)p comprenant plusieurs unités ionium et un nombre d'anions X- suffisant pour assurer la neutralité électrique du composé, caractérisé en ce que: - les unités onium sont choisies dans le groupe constitué par les biaryliodonium, les arylsulfonium, les arylacylsulfonium, les diazonium, les cations organométalliques comprenant un métal de transition complexé par au moins un cycle insaturé comprenant de 4 à 12 atomes de carbone; - X- est un anion imidure [R F SO2NSO2R'F]- ou un anion méthylure [R F SO2C(Q)SO2R'F]- dans lesquels : 1) Q représente : - H-, Cl-, F-, Br- ou CN- ; - un radical alkyle ayant de 1 à 30 atomes de carbone ; - un radical aryle ou alkylaryle ou arylalkyle ayant de 6 à 30 atomes de carbone ; - un groupe R"F ou un groupe R"F SO2 ; 2) R F et R'F, ainsi que R"F le cas échéant lorsque X- est un anion méthylure, sont choisis indépendamment l'un de l'autre dans le groupe constitué par le fluor, les groupements perhaloalkyles ayant de 1 à 30 atomes de carbone, les groupements (perhaloalkyl)alkyloxy, les groupements cycloaliphatiques perhalogénés ayant de 3 à 30 atomes de carbone contenant éventuellement des hétéroatomes choisis parmi O et N, et/ou portant éventuellement au moins un chaînon perhaloalkyle, les groupeinents aryles perhalogénés ayant de 6 à 30 atomes de carbone ; ou bien 3) R F et R'F forment ensemble un radical divalent formant un cycle respectivement avec le groupe -SO2-N-SO2- ou avec le groupe - SO2-C(Q)-SO2-, ou bien, lorsque X- est un anion méthylure, R"F forme avec l'un des radicaux R F ou R'F un radical divalent formant un cycle respectivement avec le groupe -SO2-C-SO2- ou avec le groupe -SO2-C-, ledit radical divalent étant choisi parmi les radicaux alkylènes perfluorés ayant de 2 à 12 atomes de carbone, le troisième radical présent le cas échéant étant choisi parmi les radicaux monovalents cités ci-dessus en 2), 4) p représente le nombre d'unités onium. Les monomères et polymères sont utiles comme photoamorceurs pour la polymérisation ou la réticulation de monomères par voie cationique, ou pour la modification de polymères, notamment lorsqu'ils sont utilisés comme photorésists.

Description

COMPOSÉS POLYMERES POLYIONIQUES, LEUR PROCÉDÉ DE
PRÉPARATION ET LEUR UTILISATION COMME
PHOTOAMORCEURS
La présente invention concerne des composés polyioniques, leur procédé de préparation et leur utilisation comme photoamorceurs pour la polymérisation ou la réticulation par voie cationique de monomères et de prépolymères, ou pour la modification des paramètres de solubilité de certa.ins polymères qui peuvent être utilisés comme photorésists.
Une polymérisation mettant en jeu un mécanisme de type ca-tionique présente de nombreux avantages. En particulier, elle est rapide, inême à basse température, le taux d'utilisation du monomère est élevé et la sensibilité aux contaminants atmosphériques, notamment l'oxygène, est fanble par comparaison aux polymérisations radicalaires ou anioniques.
Les monomères, les prépolymères et les polymères contenant des fonctions époxydes cycloaliphatiques et les éthers vinyliques sont utilisés de plus en plus notamment dans l'industrie des peintures, des vernis, des encres, des colles et des supports anti-adhésifs. De plus, les éthers vinyliques apparaissent d'une manière générale dénués de toxicité, contrair. ement aux acrylates ou aux méthacrylates. Les monomères et les prépolymères du type époxydes ou du type éther vinylique peuvent être polymérisés selon différentes méthodes, la polymérisation cationique étant particulièrement intéressante.
Les catalyseurs de polymérisation cationique sont d'une manière générale des acides au sens de Br,ensted HX (donneurs de protons), ou des acides au sens de Lewis (accepteurs de doublets électroniques), ces derniers fonctionnant en présence d'un co-catalyseur source de protons.
Il est nécessaire que ces acides soient suffisamment forts pour assurer la stabilité de l'espèce cationique portée soit par le monomère, soit par la chaîne macromoléculaire en croissance, ce qui signifie que l'anion correspondant X- doit posséder le pouvoir nucléophile le plus faible possible. Les acides de Bronsted les plus utilisés comme catalyseurs de polymérisation cationique sont CF3SO3H, HC1O4, 1-IBF4, HPF6, HAsF6 et HSbF6. Ces acides se classent comme suit, en ce qui concerne les vitesses d'amorçage, de propagation ainsi que l'obtention des masses moléculaires les plus élevées :
CF3SO3H < HC1O4 ~e HBF4 < HPF6 ,t~ HAsF6 -- HSbF6.
2 Plus récemment, on a également utilisé des composés à caractère acide tels que le bis(perfluoroalkylsulfonyl)imide (US-A-4,031,036, Koshar, et al) ou le bis(perfluoroalkylsulfonyl)méthane (US-A-
3,632,843, Allen et al.).
Il est connu que la préparation in-situ de catalyseurs de polymérisation présente de nombreux avantages. La production in situ de l'acide capable de catalyser la réticulation d'un monomère permet en effet de mettre en forme un monomère ou un prépolymère fluide (matériau thermoplastique ou solution) et de lui donner ses propriétés défmitives par exemple par simple action d'un rayonnement. Cette technique est très utilisée pour les encres, les peintures, les fillns adhésifs et les films anti-adhésifs. Il faut noter en outre que la préparation de l'acide in situ à partir d'un sel permet dans de nombreux cas d'éviter le stockage et la manipulation de composés acides plus corrosifs que les sels correspondants.
Les catalyseurs peuvent être préparés in situ par action de chaleur. Par exemple, des sels d'ammonium ou de métal de bis(perfluoroalkylsulfonyl)imide (US-A-4,031,036, Koshar, et al.) ou des sels d'ammonium ou d'amine de bis(perfluoroalkylsulfonyl)méthane (US-A=-3,632,843, Allen et al) ont été utilisés pour obtenir in-situ, par chauffage, le bis(perfluoroalkylsulfonyl)imide ou le bis(perfluoroalkyl-sulfonyl)méthane correspondant, agissant ensuite comme catalyseur. Ces catalyseurs, dits "latents", ne présentent cependant qu'un intérêt limité
du fait de la nécessité d'un chauffage prolongé à température élevée pour obtenir la libération de l'acide, cette libération étant en outre progressive, et non pas intégrale à l'initiation. Il en résulte d'une part une faible vitesse de réaction, et d'autre part des polymères de qualité médiocre en ce qui concerne la masse moléculaire, la polydispersité et la coloration.
Les catalyseurs acides peuvent également être préparés in situ par action d'un rayonnement actinique (tel que les photons dont la longueur d'onde correspond au rayonnement ultraviolet, visible, y et X), ou d'un rayonnement 0 (faisceau d'électrons) sur un sel approprié. Un tel sel, qui présente une labilité chimique sous l'action d'un rayonnement actinique ou d'un rayonnement 5 amenant la libération de l'acide correspondant ayant une forte activité catalytique, est un photoamorceur. Les avantages d'un tel procédé sont multiples : la libération du catalyseur par irradiation est rapide et pratiquement totale, ce qui entraîne une initiation simultanée de la croissance des chaînes, et donc un répartition des masses plus homogène avec une moindre polydispersité, et de meilleures propriétés mécaniques. La polymérisation peut être effectuée à une température relativement basse, ce qui évite une décomposition ou une coloration des matériaux obtenus, ainsi que la formation de bulles lorsqu'Lm solvant est utilisé ou lorsque le mélange réactionnel contient un additif volatil que l'on souhaite conserver dans le matériau fmal et qui joue le rôle de plastifiant.
On connaît la capacité de différents sels (hexafluoroantimonates, hexafluoroarséniates, hexafluoroplatinates et tétrafluoroborates) d'aryld.nazonium, d'aryliodonium, d'arylsulfonium, d'arylacylsulfonium ou d'arèneferrocénium à former, sous l'action de radiations actiniques, des acides (respectivement HSbF6, HAsF6, HPF6, HBF4) utilisables comme catalyseurs de polymérisation cationique. Néanmoins, tous ces sels présentent une toxicité non négligeable, associée principalement à
l'élément central de la partie anionique, Sb, As, P et B ainsi qu'aux ions fluor pouvant être libérés au cours de la réaction de photolyse ou lors du traitement ultérieur du polymère (fusion, extrusion. ..). Pour fixer un ordre de grandeur, l%exafluoroantimonate de diphényliodonium possède un LD50 de 40 mg/kg (mesuré selon le test n 10929 TAR) et entre dans la catégorie des produits classifiés "hautement toxiques".
D'autres sels contenant des cations de la même nature, mais des anions moins toxiques ont alors été proposés. Ainsi, US-A-5,554,664 décrit des sels dont l'anion est choisi parmi les tris(alkylsulfonyl)-méthylures, les tris(arylsulfonyl)-méthylures, les bis(alkylsulfonyl)-imidures et les bis(arylsulfonyl)imidures dans lesquels le groupe alkyle ou le groupe aryle est perfluoré ou fortement fluoré, et dont le cation est un iodonium, un sulfonium ou un organométallique. Ces composés peuvent être utilisës notamment comme initiateurs de polymérisation après activation in situ. Lorsque ces sels sont utilisés comme photoamorceurs de polymérisation, ils laissent, après leur décomposition initiée par le rayonnement actinique, des fragments qui peuvent diffuser à la surface du matériau et en modifier les propriétés chimiques, l'adhésion ou l'apparence d'une manière notable. Dans les cas des sels de sulfonium, ces résidus contiennent des thiols et des thioéthers dont
4 l'odeur repoussante est perceptible à des taux extrêmement faibles, ce qui limite l'utilisation de ces sels à des applications particulières. Ces composés sont des plus corrosifs vis à vis des métaux comme le cuivre ou divers composants de la microélectronique. Ainsi Kukzynski (USA
5,550,171) considère que la diffusion des résidus catalytiques est la cause principale de défaillance des disques de stockage informatique.
Des polymères photosensibles constitués par l'association d'un polycation polydiazonium et d'un polyanion polysulfonate sont décrits dans US-A-5,527,655. De tels polymères sont utilisés pour augmenter l'efficacité de réticulation. La solubilité de ces complexes n'est obtenue qu'avec des teneurs en diazonium nettement inférieures à 10% en poids en uniquement en présence d'un sel d'ammonium quaternaire agissant pour diminuer les interactions électrostatiques. US-A-5,534,623 décrit une composition à base de polydiazonium associé à des contre-ions du type Pr6 et destiné à la préparation de photorésists. Ces anions sont néanmoins toxiques et non compatibles avec la microélectronique car contenant un élement susceptible de contaminer le silicium (B, P, As ou Sb).
11 est également connu d'utiliser des acides générés à l'aide d'un rayonnement actinique pour dégrader les résines contenues dans un film constituant un photorésist. Cette technique est particulièrement efficace pour les photorésists à amplification chimique, dans lesquels de très fai-bles quantités de protons catalysent la décomposition de groupements tels que des esters contenant un groupement dérivé d'un alcool tertiaire (tel que par exemple un groupement tertiobutyle), faisant partie d'une chaîne macromoléculaire. Elle permet ainsi de modifier les paramètres de solubilité de la résine exposée à un rayonnement actinique et d'effectuer des opérations de masquage et de gravure sélectives telles qu'utilisées en microélectronique.
Lorsqu'une composition de photorésists ou une composition de résine d'amplification chimique utilisée en microlithographie contient un photoamorceur, on considère que la diffusion des espèces ioniques de l'initiateur ou de l'acide formé détermine la limite de résolution spaciale, qui est de plusieurs dizaines de microns avec les initiateurs non polymères. Or il est demandé actuellement des résolutions inférieures à

1 micron pour l'industrie électronique des microprocesseurs et des mémoires.
Les inventeurs ont maintenant trouvé de nouveaux composés ioniques qui permettent d'obtenir sous l'action d'un rayonnement 5 actinique ou d'un rayonnement (3, des acides qui se révèlent bons catalyseurs de polymérisation cationique ou de modification de polymères. Ces matériaux, contrairement à ce qui est attendu du compoi-tement inhérent aux polyélectrolytes, c'est à dire une solubilité
limitée à des solvants de très forte polarité, sont solubles ou dispersables dans les solvants organiques habituels ou les monomères destinés a être polymérisés ou leurs mélanges.
La présente invention a ainsi pour objet une nouvelle famille de composés, un procédé pour leur préparation, ainsi que leur utilisation comme photoamorceurs pour la polymérisation ou la réticulation de monomères par voie cationique, ou pour la modification de polymères, notamment lorsqu'ils sont utilisés comme photorésists.
Un composé de la présente invention est un composé ionique oligomère ou polymère constitué par une partie polycationique (A+)p comprenant plusieurs unités ionium et par un nombre d'anions X7 suffisant pour assurer la neutralité électrique du composé, et il est caractérisé en ce que :
- les unités onium sont choisies dans le groupe constitué par les biaryliodoniurn, les arylsulfonium, les arylacylsulfonium, les diazonium, les cations organométalliques comprenant un métal de transition complexé par au moins un cycle insaturé comprenant de 4 à 12 atomes de carbone ;
- X- est un anion imidure [RFSO2NSO2R'FJ- ou un anion méthylure [RFSO2C(Q)SO2R'F]- dans lesquels 1) Q représente :
- H-, Cl-, F-, Br- ou CN- ;
- un radical alkyle ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
- un radical aryle ou alflcylaryle ou arylalkyle ayant de 6 à 30 atomes de carbone ;
- un groupe R"F ou un groupe R"FSO2 ;
2) RF et R'F, ainsi que R"F le cas échéant lorsque X- est un anion méthylure, sont choisis indépendamment l'un de l'autre dans le groupe 5'sr':,FE'~ câi ôii2'1014 ~19997-10 0.3~ Ii. l~r
6 constitué par le fluor, les groupements perhaloalkyles ayant de 1 à 30 atomes de carbone, les groupements (perhaloalkyl)alkyloxy, les groupements cycloaliphatiques perhalogénés ayant de 3 à 30 atonies de carbone contenant éventuellement des hétéroatomes choisis pai-mi O et N, et/ou portant éventuellement au moins un chainon perhaloalkyle, les groupentents aryles perhalogénés ayant de 6 à 30 atomes de carbone ; ou bien 3) RF et R'F formezit ensemble un radical divalent formant un cycle respectiveinent avec le groupe -S02,N-S02- ou avec le groupe -S02-C(Q)-S02-, ou bien, lorsque X- est un anion méthylure, R"F fonne avec l'un des radicaux RF ou R'F un radical divalent formant un cycle respectivement avec le groupe -S02-C-S02- ou avec le groupe -S02-C-, ledit radical divalent étant choisi parm.i les radicaux alkylènes perfluorés ayant de 2 à 12 atomes de carbone, le troisième radical présent le cas échéant étant choisi parmi les radicaux monovalents cités ci-dessus en 2) -3 4) p représente le nombre d'unités oniurn, et par conséquent le noinbre d'anions X- associés.
Comme exemples particulièrement intéressants d'anions X, on peut citer les anions sulfonirnidures [RFSO2NS02R'F]- dans lesquels RF et R'F sont choisis indépendamment l'un de l'autre dans le groupe constittAé par les gr-oupements perfluoroalkyles ayant de 1 à 10 atomes de carbone (de préférence CF3-, C2F5-, C4F9-, C6F13-, C8F17- et ClOF21), et ceux dans lesquels RF et R'F forment ensemble un radical per.fluoroalkylène linéaire divalent ayant de 1 à 8 atomes de carbone.
On peut également citer les anions sulfonylméthylures [RFSO2C(Q)SO2R'F]- dans lesquels Q est choisi dans le groupe coztstitué par les groupements alkyles, aryles, alkylaiyles ou azylalkyles ayant au plus 30 atomes de carbone, les groupements perfluoroalkylsulfonyles ayant de 1 à 8 atomes de carbone (de préférence CF3SO2-, C2F5S02-, C4F9S02-, C6F13S02- et CSF17SO2-) et les radicaux perfluoroalkyles ayant de 1 à 12 atomes de carbone (de préférence CF3--, C2F5-, C4F9-, C6F13-, CgF17- et C1pFZ1-), et RF et R'F sont choisis indépendaminent l'un de l'autre dans le groupe constitué par les groupements alkyles ayant de 1 à 10 atomes de carbone (de préférence par CF3-, C2F5-, C4F9-, C6F13-, C8F17- et
7 C10F21-), ou RF et R'F forment ensemble un radical perfluoroalkylène linéaire divalent ayant de 1 à 8 atomes de carbone.
Les anions [RFSO2NSO2R'F] et [RFSO2C(SO2R"F)SO2R'F]
dans lesquels RF, R'F, et R"F représentent chacun un groupement perfluoroalkyle ayant de 1 à 10 atomes de carbone, de préférence de 1 à
6 atomes de carbone, sont particulièrement avantageux ainsi que les composés [RFCH2-O-S02)2N]- et [(RF)2CH-O-S02)2N]-.
lUne famille particulière de composés selon l'invention comprend les sels de polyiodonium qui répondent à l'une des formules suivantes (I),(II), (III) ou (IV) :

Pr-X- + L X' +
I

R2n R1n Rin R2n (I) X- + L

R 1 n R2n p (II) Z~L

L' R1n R1n I + X- X-R2n p (ffi) R2n p (~) dans laquelle :
8 al) Rin représente de 1 à 4, de préférence 1 à 2 groupements identiques ou différents liés à l'un quelconque des atomes de carbone libres du groupe aryle, R2n représente de 1 à 4, de préférence de 1 à 2 groupements identiques ou différents liés à
l'un quelconque des atomes de carbone libres du groupe aryle, les groupements Rln et R2n étant choisis indépendamment les uns des autres parmi :
- les radicaux alkyles ou arylalkyles linéaires ou ramifiés ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
== les radicaux alkényles ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
- les radicaux aryles ou alkylaryles ayant de 6 à 30 atomes de carbone, incluant ceux qui ont des noyaux condensés ;
- les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de carbone et choisis dans le groupe constitué par les oxaalkyles, les azaalkyles, les thiaalkyles, les phosphaalkyles, les oxaalkylènes, les azaalkylènes, les thiaalkylènes, les phosphaalkylènes, - les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de carbone et incluant un groupement sulfoxyde, un groupement sulfone, un groupement oxyde de phosphine, un groupement phosphonate, tous ces radicaux étant obtenus par addition d'oxygène sur les atomes de soufre ou de phosphore ;
- les radicaux hétérocycliques aromatiques ou alicycliques comprenant au moins un hétéroatome choisi dans le groupe constitué par O, N, S et P;
- -NO, -CN, -OH, -Cl, -Br, -I, -F ;
ou bien deux substituants choisis parmi les Rln et les R2n forment ensemble un radical divalent qui forme un cycle avec le groupement qui les porte, ledit radical divalent étant choisi dans le groupe constitué par les radicaux alkylènes linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, par les biradicaux benzo portant éventuellement au moins un substituant choisi de préférence dans le groupe constitué par les radicaux alkyles, oxaalkyles ou alcényles ayant de 1 à 10 atomes de carbone, par les groupements oxaalkylènes répondant à la formule -R'-(OCH2CH2)q7O-R'- ou -R'-[OCH(CH3)CH2]q-O-R'- dans lesquels R' est un radical alkylène linéaire ayant de 0 à 18 atomes de carbone et 1 :gq<-22 ;
9 a2) L' représente un radical divalent choisi dans le groupe constitué par les radicaux alkylènes linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, par les groupements phénylènes substitués ou non, par les groupements oxaalkylènes répondant à la formule -R'-(OCH2CH2)q-O-R'- ou -R'-[OCH(CH3)CH2]q-O-R'- dans lesquels R' est un radical alkylène linéaire ayant de 0 à 18 atomes de carbone et 1sq:522, par -0-, -S-, >C=O, par les groupements siloxanes -R'-O-[Si(R)20]r-R'- ou -O-[Si(R)20]r- 1:5rs40 dans lesquels R' a la signification donnée ci-dessus et R est choisi dans le groupe constitué par les radicaux alkyles linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, le 2-éthylhexyle, le phényle, (de préférence R = CH3 ou phényle) ou par une liaison directe entre deux atomes de carbone de deux groupes aryles non condensés ;
a3) L représente un radical divalent choisi dans le groupe défini au point a2) ci-dessus pour L' ; ou bien L représente un segment constitué par au moins une unité monomère non ionique ou possédant un groupement ionique non sensible à l'action d'un rayonnement actinique (L représentant dans ce cas l'espacement moyen entre les groupements ioniques actifs) ;
a4) p représente le nombre d'unités récurrentes, 2<_p51000 a5) Z représente -CH, -CR, -N, -SiR, -SiRO3, -R étant choisi parmi les radicaux alkyles linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, le 2-éthylhexyle et le phényle ;
a6) X est tel que défini précédemment.
Parmi les composés du type polyiodonium, on préfère tout particulièrement ceux dans lesquels les substituants R1n et R2n sont choisis indépendamment les uns des autres dans le groupe constitué par les radicaux alkyles linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, le 2-éthylhexyle, le phényle, les oxaalkyles répondant à la forlnule R-(OCH2CH2)y- ou R-[OCH(CH3)CH2]y- dans lesquels R est un radical alkyle linéaire ayant de 1 à 18 atomes de carbone et 1<_y. g22.
Lorsque le composé polyiodonium de l'invention répond à l'une des formules (1) ou (II), il se présente sous la forme d'un dimère ou d'un polymère comprenant les groupements ioniques iodonium dans la chaîne du polymère.
Lorsque le composé polyiodonium répond à l'une des formules (III) ou (IV), il se présente sous la forme d'un polymère dans lequel les groupements ioniques iodonium sont portés par des substituants pendants.
Une autre famille particulière de composés selon l'invention comprend les sels de polysulfonium qui répondent à l'une des formules 5 (V), (VI), (VII), (VIII) ou (IX) suivantes :

R3\ + X- L X- +/R3 R1n R1n R
3\ + X- L X- +/ 4 S ~L -
10 R 1 n R 1 n p (Vjj) , L
L' '0+
S X-R/ S\ R
1n p Rs R4 p (VI) (VUI) RS
R3 R4 p (D) dans laquelle :
bl) R1n représente de 1 à 4, de préférence 1 à 2 groupements identiques ou différents liés à l'un quelconque des atomes de 1i carbone libres du groupe aryle, les substituants Rln et les substituants R3 et R.4 étant choisis indépenda,timent les uns des autres parmi:
- les radicaux allryles ou a-rylalkyles linéaires ou ramif"iës ayant de 1 à 30 atomes de carbone;
- les radicalLx alkënyles ayant de 1 à 30 atomes de carbone;
- les radicaux acyles ou alkylaryles ayant de 6 â 30 atomes de carbone, incluant ceux qui ont des noyaux condensés;
-, les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de carbone et choisis dans le groupe constitué par les oxaalkyies, les azaalécyles, les thiaatkyles, les phosphaalkyles, les oxaalkyl.ènes, les azaalkylènes, les tâi.aallcylènes,les phosphaallcylèn.es, - les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de caxbone et incluant un groupement sulfoxyde, un groupement sulfone, un groupement oxyde de phosphine, un groupemen.t phos phonate, tous ces radicaux étant obtenus par addition d'oxygène sur les atomes de soufre ou de phosphore;
- les radicaux hétérocycliques aromatiques ou ali.cycliques comprerxant au moins un hëtéroa=tome choisi dans le groupe constitué par 0, N, S et P;
- NO, -CN, -QH, -Cl, -Br, -1, -F;
ou bien les substituants R3 et R4 portés par un mém.e atome de soufre d'une part, et/ou deux substituants choisis parmi les Rln d'autre part forment ensemble un radical divalent qui forme un cycle avec le groupement qui les porte, ledit radical divalent étaat choisi daus le groupe constitué par les radicaux aïlsylènes linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, par les biradicaux benzo porkant éventuellem.ent au moins un substituant chôisi de préférence dans le groupe constïtuë par les radicaux alkyles, oxaalkyles ou alcényles ayant de 1 à 10 atomes de carbone, par les groupements oxaalkylènes répondant à la formule M R'-(OCH2CH2)q-0-R'- ou -R'-[OC1-I(CH3)CH2]q-0-R'-- dans lesquels R est un radîcal alkylène linèaire ayant de Cl à 18 atomes de carbone et 1 ~2. ?
b2) L' a la signification donnée au paragraphe a2) ci-dessus;
b3) L a la signification donnée au paragaphe a3) ci-dessus);
b4) p représente le nombre d'unités récurrentes, 2ep251000;

b5) Z a la signification donnée au paragraphe a5) ci-dessus;
b6) X est tel que défini précédemment.
On préfère tout particulièrement les composés polysulfonium dans lesquels les substituants Rln, R3 et R4 sont choisis dans le groupe constittiié par les radicaux alkyles linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, le 2-éthylhexyle, le phényle, les oxaalkyles répondant à la formule R-(OCH2CH2)y- ou R-[OCH(CH3)CH2]y- dans lesquels R est un radical alkyle linéaire ayant de 1 à 18 atomes de carbone et lsys22.
Lorsqu'un composé polysulfonium de l'invention correspondant à la formule (V) est un dimère. Un composé polysulfonium répondant à l'une des formules (VII) ou (VIII) se présente sous la forme d'un polymère portant des groupements ioniques dans la chaîne principale.
lLorsqu'un composé polysulfonium répond à l'une des formules (VI) ou. (1X), il se présente sous la forme d'un polymère sur lesquels les groupements ioniques sont portés par des groupements latéraux.
Une autre famille particulière de composés selon l'invention comprend les sels de polyacylsulfonium qui répondent à l'une des formules suivantes (X), (XI), (XII), (XIII) ou (XIV) :

RI~ + X' L X' R5 ~S- CH2 ICH2 R6 r 0 R6 R1n R1n (X) R/Rs qCH 2 S~

R1n R1n p (XII) ~--~L
f X-+
r 2 C=0 1 C=0 + X-R5 p(XI) R1 n p (XII
) C=0 I
/ \

6 p (XIV) dans laquelle cl) Rin a la signification donnée ci-dessus au paragraphe bi), et les substituants R5 et R6 ont la même signification que les substituants R3 et R4 définis ci-dessus au paragraphe bl) ;
c2) L' a la signification donnée au paragraphe a2) ci-dessus;
c3) L a la signification donnée au paragraphe a3) ci-dessus;
c4) Z a la signification donnée au paragraphe a5) ci-dessus;
c5) p représente le nombre d'unités récurrentes, 2<_ps1000;
c6) X est tel que défini précédemment.
Parmi les composés polyacylsulfonium, on préfère tout particulièrement ceux dans lesquels les substituants Rln, R5 et R6 sont choisis dans le groupe constitué par les radicaux alkyles linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, le 2-éthylhexyle, le phényle, les oxaalkyles répondant à la formule R-(OCH2CH2)y- ou R[OCH(CH3)CH2]y- dans lesquels R est un radical alkyle linéaire ayant de 1 à 18 atomes de carbone et 1sys22.
Une quatrième famille de composés selon l'i.nvention comprend les sels de polydiazonium répondant à la formule (XV) Z~L
r N p (XV) dans laquelle dl) L a la signification donnée au paragraphe a3) ci-dessus ;
d2) L' a la signification donnée au paragraphe a2) c-dessus ;
d2) p représente le nombre d'unités récurrentes, 2sp<_ 1000 d3) X représente un anion tel que défini ci-dessus.
Une cinquième famille de composés selon l'invention comprend les polyonium organométalliques répondant à l'une des formules suivantes:

M..
R1n Rin (XVI) R1n L p ~ R1n p Rln P (~~TIIn ~
R1n L pffl) dans lesquelles el) Rln a la signification donnée au paragraphe al) ci-dessus et le substituant R7 est choisi parmi :
5 - les radicaux alkyles ou arylalkyles linéaires ou ramifiés ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
- les radicaux alkényles ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
- les radicaux aryles ou alkylaryles ayant de 6 à 30 atomes de carbone, incluant ceux qui ont des noyaux condensés ;
10 - les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de carbone et choisis dans le groupe constitué par les oxaalkyles, les azaalkyles, les thiaalkyles, les phosphaalkyles, les oxaalkylènes, les azaalkylènes, les thiaalkylènes, les phosphaalkylènes, - les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de carbone et incluant 15 un groupement sulfoxyde, un groupement sulfone, un groupement oxyde de phosphine, un groupement phosphonate, tous ces radicaux étant obtenus par addition d'oxygène sur les atomes de soufre ou de phosphore ;
- les radicaux hétérocycliques aromatiques ou alicycliques comprenant au moins un hétéroatome choisi dans le groupe constitué par O, N, S et P;
- -NO, -CN, -OH, -Cl, -Br, -I, -F ;
e2) L' a la signification donnée au paragraphe a2) ci-dessus ;
e3) L a la signification donnée au paragraphe a3) ci-dessus ;
e4) p représente le nombre d'unités récurrentes, 25ps1000 ;
e5) Z à la signification donnée au paragraphe a5) ci-dessus;
e6) X étant un anion tel que défini ci-dessus ;
e7) M représente un métal de transition choisi dans le groupe des élements de transition des colonnes 3 à 12 (lignes 3 à
6) de la classification périodique.

Comme exemples de composés dans lesquels la partie cationique est un polycation organométallique, on peut citer les polymères contenant les unités ferrocénium, (en particulier ceux qui incorporent l'unité vinylferrocène, les unités polyalkylbenzène-fer-cycloentadiène), les polymères qui incorporent des unités nickelocénium, et les polymères qui incorporent des unités tricarbonyl manganèsecyclopentadiène.

Les composés (A+X)p de la présente invention sont en général insolubles dans l'eau. Ils peuvent dont être préparés par un procédé consistant à effectuer une métathèse dans l'eau ou un mélange eau/alcool léger (méthanol, éthanol, propanol) entre composé (A+XI )P qui est un sel soluble du polycation (A+)P dans lequel l'anion X1- a un caractère hydrophile, et un composé soluble dans l'eau de l'anion X-ayant cation fortement hydrophile ou une méthathèse dans l'eau ou dans un mélange eau/alcool léger entre un sel (A+X1)p du polycation (A+)p et un composé A1+X-solubles dans le milieu réactionnel, l'anion X1 ayant un caractère hydrophile, et le cation Al+ étant choisi parmi les métaux alcalins et les métaux alcalino-terreaux.

Les sels solubles (A+XI)P du polycation (A+)p sont choisis de préférence parmi les sels dans lesquels l'anion Xl- est choisi parmi un hydroxyde, un chlorure, un bromure, un hydrogénosulfate, un dihydrogénophosphate ou un méthylsulfonate.
Ces anions étant fortement solvatés par l'eau ou les alcools légers, ils favorisent la solubilité.

Les composés solubles dans l'eau ou les mélanges eau/alcools de l'anion X-sont choisis de préférence parmi les perhaloalkylsulfonimides et les perhaloalkylsulfonylméthanes, les perhaloalkylsulfonimidures et les perhaloalkylsulfonylméthylures de lithium, de sodium, de potassium, d'animonium, de calcium ou de magésium. Le choix du cation dépend bien entendu de la facilité
d'obtention et du minimum d'hydrophilie requise pour entraîner la solubilité.

Lorsque le composé polyionique (A+X )p de l'invention est préparé à partir d'un sel (A+XI)p dans lequel Xl est un chlorure, un bromure, un alkylsulfonate, un alkyloxysulfonate ou un arylsulfonate, dont les sels de Na ou de K sont insolubles - 16a-dans les solvant usuels, il est avantageux de conduire la réaction en présence d'un sel de Na ou K de l'anions X. La solubilité de ces sels dans les solvants même de moyenne polarité étant appréciable, les sels insolubles tel que NaCI, KBr précipitent alors que le composé polyionique de l'invention reste en solution. Comme solvants, on peut citer l'acétone, le méthyléthylcétone, l'acétonitrile, le THF, les esters tels que les formiates ou l'acétate de méthyle ou d'éthyle.
Il faut noter que tout autre procédé d'échange ionique peut être mis en oeuvre, par exemple un procédé utilisant une résine échangeuse d'ions, ou un procédé de précipitation sélective.
De manière surprenante, il est apparu que les composés polyioniques de l'invention sont solubles dans la plupart des solvants organiques usuels, contrairement à des composés polyioniques de l'art antérieur tels que les poly-styrène-iodoniumn les poly thiaphénylsulfonium malgré une densité de charge élevée. Ces derniers ne sont solubles que dans l'eau et les solvants très polaires tels que la diméthylformamide (DMF) ou le carbonate de propylène suivant le type de contre ion. Or l'eau est incompatible, avec les réactions de polymérisation cationique et n'est pas un solvant de la plupart des monomères. Les solvants tels la DMF ou le carbonate de propylène sont très diff-iciles à éliminer du fait de leur température d'ébullition élevée et ils peuvent ultérieurement contaminer les matières en contact avec les produits de la polymérisationlréticulation (industrie alimentaire, sérigraphies). Les polycations de l'invention ont dès lors pu être utilisés comme photoamorceurs pour des réactions de polymérisation cationique.
Par rapport aux composés monomères ioniques, ils présentent un avantage certain : lorsqu'ils sont utilisés comme photoamorceurs, ils se décomposent sous l'action du rayonnement actinique sans laisser de résidus suceptibles de migrer dans la phase polymérique obtenue.
La présente invention a par conséquent pour objet l'utilisation des composés polyioniques (A+X-)p de l'invention comme photoamorceurs sources d'acides de Br,ensted catalyseurs de polymérisation ou de réticulation de monomères ou de prépolymères capables de réagir par voie cationique, ou catalyseurs pour la modification des paramètres de solubilité de polymères. Le procédé de polymérisation ou de réticulation de monomères ou de prépolymères capables de réagir par voie cationique est caractérisé en ce que l'on utilise un composé de l'invention comme photoamorceur source d'acide catalysant la réaction de polymérisation.
Lorsque le composé polyionique de l'invention est destiné à être utilisé comme photoamorceur pour la polymérisation de monomères ou de prépolymères polymérisant par voie cationique, le choix des groupements Ri à Rs est effectué parmi les radicaux ci-dessus pour augmenter la solubilité dudit composé dans les solvants de mise en oeuvre des monomères ou des prépolymères et en fonction des propriétés souhaitées pour le polymère final. Par exemple, le choix de radicaux alkyles non substitués donne une solubilité dans les milieux peu polaires. Le choix de radicaux comprenant un groupe oxa ou une sulfone donnera une solubilité dans les milieux polaires. Les radicaux incluant; un groupement sulfoxyde, un groupement sulfone, un groupement oxyde de phosphine, un groupement phosphonate obtenu par addition d'oxygène sur les atomes de soufre ou de phosphore peuvent conférer au polymère obtenu des propriétés améliorées en ce qui concerne l'adhésion, la brillance, la résistance à l'oxydation ou aux W.
Les monomères et les prépolymères qui peuvent être polymérisés ou réticulés à l'aide des photoamorceurs polyioniques de la présente invention sont ceux qui peuvent subir une polymérisation cationique.
Parmi les monomères qui peuvent être polymérisés ou réticulés à
l'aide d'un composé polyionique de l'invention utilisé comme photoamorceur, on peut citer les monomères qui comportent une fonction éther cyclique, une fonction thioéther cyclique ou une fonction amine cyclique les composés vi.nyliques, (plus particulièrement les éthers vinyliques), les oxazolines, les lactones et les lactames.
Parmi les monomères du type éther ou thioéther cyclique, on peut citer l'oxyde d'éthylène, l'oxyde de propylène, l'oxétane, 1'épichlorhydri.ne, le tétrahydrofurane, l'oxyde de styrène, l'oxyde de cyclohexène, l'oxyde de vinylcyclohexène, le glycidol, l'oxyde de butylène, l'oxyde d'octylène, les éthers et les esters de glycidyle (par exemple le méthacrylate ou l'acrylate de glycidyle, le phényl glycidyl éther, le diglycidyléther de bisphénol A ou ses dérivés fluorés), les acétals cycliques ayant de 4 à 15 atomes de carbone (par exemple le dioxolane, le 1,3-dioxane, le 1,3-dioxépane).
Parmi les composés vinyliques, les éthers vinyliques constituent une famille très importante de monomères sensibles en polymérisation cationique. A titre d'exemple, on peut citer l'éthyl vinyl éther, le propyl vinyl éther, l'isobutyl vinyl éther, l'octadécyl vinyl éther, l'éthylèneglycol monovinyl éther, le diéthylèneglycol divinyl éther, le butanediol monovinyl éther, le butanediol divinyl éther, lli.exanediol divinyl éther, l'éthylèneglycol butyl vinyl éther, le triéthylèneglycol méthyl vinyl éther, le cyclohexanediméthano monovinyl éther, le cyclohexanediméthanol divinyl éther, le 2-éthylhexyl vinyl éther, le poly-THF-divinyl éther ayant une masse comprise entre 150 et 5000, le diéthylèneglycol monovinyl éther, le triméthylolpropane trivinyl éther, l'aminopropyl vinyl éther, le 2-diéthylaminoéthyl vinyl éther.
On peut également citer les éthers méthyl-vinyliques qui contiennent un ou plusieurs groupements CH3CH=CH-O- et qui sont avantageusement obtenus par isomérisation des éthers allyliques correspondants en présence d'un catalyseur tel que (F3P)2RuCl2.
Comme autres composés vinyliques qui peuvent être soumis à
une poINfflérisation cationique en présence d'un composé polyionique de l'invention utilisé en tant que photoamorceur, on peut citer à titre d'exemple les 1,1-dialkyléthylènes (par exemple l'isobutène), les monomères aromatiques vinyliques (par exemple le styrène, les a-alkylstyrène, notamment l'a-méthylstyrène, le 4-vinylanisole, l'acénaphtène), les composés N-vinyliques (par exemple la N-vinylpyrrolidone, le N-vinyl formamide ou les N-vinyl sulfonamides).
Parmi les prépolymères, on peut citer les composés dans lesquels des groupements époxy sont portés par une chaîne aliphatique, une chaîne aromatique, ou une chaîne hétérocyclique, par exemple les éthers glycidiques du bisphénol A éthoxylés par 3 à 15 unités d'oxyde d'éthylène ou de propylène, les siloxanes possédant des groupements latéraux du type époxycyclohexène-éthyle obtenus par hydrosilylation des copolymères de di alkyl, d'alkylaryle ou de diaryl siloxane avec le méthyl hydrogénosiloxane en présence d'oxyde de vinylcyclohexène, ou d'éthers insaturés difonctionnels possédant une extrémité vinyléther et une extrémité méthylvinyléther (propényl), les produits de condensation du type sol-gel obtenus à partir du triéthoxy ou du triméthoxy silapropylcyclohexène oxyde, les uréthanes incorporant les produits de réaction du butanediol monovinyléther et d'un alcool de fonctionnalité
supérieure ou égale à 2 sur un di ou un tri isocyanate aliphatique ou aromatique.
Le procédé de polymérisation selon l'invention consiste à
mélanger au moins un monomère ou prépolymère capable de polymériser par voie cationique et au moins un composé polyionique (A+X-)p de l'invention, et à soumettre le mélange obtenu à un rayonne-ment actinique ou un rayonnement P. De préférence, le mélange rëactionnel est soumis au rayonnement après avoir été mis sous forme 5 d'une couche mince ayant une épaisseur inférieure à 5 mm, de préférence sous forme d'un film mince ayant une épaisseur inférieure ou égale à 500 m. La durée de la réaction dépend de l'épaisseur de l'échantillon et de la puissance de la source à la longueur d'onde 1 active.
Elle est définie par la vitesse de défilement devant la source, qui est 10 comprise entre 300 m/min et 1 cm/min. Des couches de matériau fmal ayant une épaisseur supérieure à 5 mm peuvent être obtenues en répétant plusieurs fois l'opération consistant à épandre une couche et à la traiter par le rayonnement.
Généralement, la quantité de photoamorceur polyionique 15 (A+X-)p utilisé est comprise entre 0,01 et 15 % en poids par rapport au poids de monomère ou de prépolymère, de préférence entre 0,1 et 5 %
en poids.
Un composé polyionique (A+X-)p de la présente invention peut être utilisé comme photoamorceur en l'absence de solvant, notamment 20 lorsque l'on souhaite polymériser des monomères liquides dans lesquels le sel est soluble ou aisément dispersable. Cette forme d'utilisation est particulièrement intéressante, car elle permet de supprimer les problèmes liés aux solvants (toxicité, inflammabilité).
Un composé polyionique (A+X-)p de la présente invention peut également être utilisé en tant que photoamorceur sous forme d'une solution homogène dans un solvant inerte vis-à-vis de la polymérisation, prête à l'emploi et aisément dispersable, en particulier dans le cas où le milieu à polymériser ou à réticuler présente une viscosité élevée.
Comme exemple de solvant inerte, on peut citer les solvants volatils, tels que l'acétone, la méthyl-éthyl cétone et l'acétonitrile. Ces solvants serviront simplement à diluer les produits à polymériser ou à
réticuler (pour les rendre moins visqueux, surtout lorsqu'il s'agit d'un prépolymère). Ils seront éliminés après la polymérisation ou la réticulation par séchage. On peut également citer les solvants non volatils. Un solvant non volatil sert de la même manière qu'un solvant volatil, à diluer les produits que l'on veut polymériser ou réticuler, et à

dissoudre le composé polyionique) (_A-'-Y)r, de l'inventon. utilisé coznme photoarnorceur, mais en outre il restera dans le matériau formé et il agira ainsi comme plastifiant. A titre d'exem.ple, on peut citer le carbonate de propylène, la g-butyrolactone, les éther-esters des mono-, di-, tri- éthylëne ou propylène glycols, les éther-alcools des mozio-, di-, tri- éthyléne ou propyléne glycols, les plastifiants tels que les esters de l'acide phtalique ou de l'acide citrique.
Dans un autre mode de mise en oeuvre de l'invention, on utilise comme solvant ou diluant un composé réactif vis-à-vis de la polymérisation, qui est un composé de faible masse moléculaire et de faible viscosité qui vajouer à la f.ois le rôle de mQnomère polymérisable et le rôle de solvant ou de diluant pour des monoinères plus visqueux oati des pr~.~polymères utilisés oonjointement. Après la réaction, ces monomères ayant servi de solvant font partie du réseâu macromoléculaire finalement obtcnu, leur intégration étant plus grainde lorsqu'il s'agit de mon.omères bi-fonctionnels. Le matériau obtenu après irradiation ne contient plus de produits ayant un faible poids moléculaire et une tension de vapeur appréciable, ou susceptibles de contaniiner les objets avec lesqüels le polym-Ltire est en contact. A titre d'exemple, un sotvant réactif peut être choisi parmi les mono et di éthers vinyliques des mono-, di-, trz-, tétra- éthylène et propylène glycols, la W-méthylpyrolidone, la N-vynylpirolidone, le trivinylétlier triméthylolpropane, le divinyléther du diméthanol-cyclohexwae, le 2-prapénylëtlyer du carbonate de propylène commercialisé par exemple sous la dénomination PEPC par la société l,Sl', New Jersey, Etats-TJnis.
Pour irradier le mélange réactionuel, le rayonnement peut être choisi pamni le rayonnement ultraviolet, le rayonnement visible, les rayons X, les rayons -y et le rayonnement 13_ Lorsque l'on utilise la lruniére ultraviolette conune ra.yonnement actinique, il peti.t étre avantageux d'ajouter aux photoamorceurs de l'invention des pbotosensibilisateurs destinés à permettre une photolyse efficace avec les longueurs d'ondes moins énergétiques que celles correspondant au maxirntun d'absorption du photoamorceur, telles que celles émises par les dispositifs industriels, ~~
;::-300 nm potzr les lampes à vapeur de niercure cn particulier). De tels additifs sont connus, et à
titre d'exemples non limitatifs, on peut citer l'anthracCne, le diphényl-9,10-anthracèue, le pérylène, la phénothiazine, le tétracène, la xantlione, la thioxanthone, ,::.w..._,....__ _-.

l'acétophénone, la benzophénone, les 1,3,5-triaryl-2-pyrazolines et leurs dérivés, en particulier les dérivés de substitution sur les noyaux aromatiques par des radicaux alkyles, oxa- ou aza-alkyles permettant entre autre de changer la longueur d'onde d'absorption. L'isopropyl-thioxantone est un exemple de photosensibilisateur préféré lorsque l'on utilise un composé polyiodonium Ap+pX- selon l'invention comme photoamorceur.
Parmi les différents types de rayonnement mentionnés, le rayonnement ultraviolet est particulière préféré. D'une part, il est plus commode d'emploi que les autres rayonnements mentionnés. D'autre part, les photoamorceurs sont en général directement sensibles aux rayons UV et les photosensibilisateurs sont d'autant plus efficaces que la différence d'énergie (SX) est plus faible.
Les composés polyioniques (A+X-)p de l'invention peuvent aussi être mis en oeuvre en association avec des amorceurs de type radicalaire générés thermiquement ou par action d'une radiation actinique. Il est ainsi possible de polymériser ou de réticuler des mélanges de monomères ou de prépolymères contenant des fonctions dont les modes de polymérisation sont différents, par exemple des monomères ou des prépolymères polymérisant par voie radicalaire et des monomères ou des prépolymères polymérisant par voie cationique. Cette possibilité est particulièrement avantageuse pour créer des réseaux interpénétrés ayant des propriétés physiques différentes de celles qui seraient obtenues par simple mélange des polymères issus des monomères correspondants. Les éthers vinyliques ne sont pas ou sont peu actifs par amorçage radicalaire. Il est donc possible, dans un mélange réactionnel çontenant un photoamorceur selon l'invention, un amorceur radicalaire, au monns un monomère du type éther vinylique et au moins un monomère comprenant des doubles liaisons non activées telles que celles des groupes allyliques, d'effectuer une polymérisation séparée de chaque type de monomère. Il est par contre connu que les monomères déficients en électrons, tels que les esters ou les amides de l'acide fumarique, de l'acide maléique, de l'acide acrylique ou méthacrylique, de 1'acide itaconique, de l'acrylonitrile, du méthacrylonitrile, la maléimide et ses dérivés, forment en présence d'éthers vinyliques riches en électrons, des complexes de transfert de charge donnant des polymères alternés 1:1 par amorçage radicalaire. Un excès initial de monomères vinyliques par rapport à cette stoechiométrie permet de préserver des fonctions polymérisables par initiation cationique pure. Le déclenchement de l'activité d'un mélange d'amorceur radicalaire et d'amorceur cationique selon l'invention peut être fait simultanément pour les deux réactifs dans le cas par exemple d'insolation par un rayonnement actinique d'une longueur d'onde pour laquelle les photoamorceurs de l'invention et les amorceurs radicalaires choisis sont actifs, par exemple à X = 250 nm. A titre d'exemple, on peut citer comme amorceurs les produits commerciaux suivants : Irgacure 184 , Irgacure 651 , Irgacure 261 Quantacure DMB , Quantacure ITX .
Ll peut aussi être avantageux d'utiliser les deux modes de polymérisation d'une manière séquentielle, pour former dans un premier temps des prépolymères dont la mise en forme est aisée et dont le durcissement, l'adhésion, la solubilité ainsi que le degré de réticulation peuvent être modifiés par le déclenchement de l'activité de l'amorceur cationique. Par exemple, un mélange d'un amorceur radicalaire thermodlissociable et d'un photoamorceur cationique selon l'invention permet de réaliser des polymérisations ou des réticulations séquentielles, d'abord sous l'action de la chaleur, puis sous l'action d'un rayonnement actinique. D'une manière similaire, si l'on choisit un amorceur radicalaire et un photoamorceur cationique selon l'invention, le premier étant photosensible à des longueurs d'ondes plus longues que celle déclenchant le photoamorceur selon l'invention, on obtient une réticula-tion en deux étapes contrôlables. Des amorceurs radicalaires peuvent être par exemple Irgacure 651 permettant d'amorcer des polymérisations radicalaires à des longueurs d'onde de 365 nm.
L'invention a également pour objet l'utilisation des composés polyiomïques (AX)p de l'invention pour les réactions d'amplification chimique de photorésists pour la microlithographie. Lors d'une telle utilisation, un film d'un matériau comprenant un polymère et un composé polyionique (A+X-)p de l'invention est soumis à une irradiation. L'irradiation provoque la formation de l'acide HX, qui catalyse la décomposition ou la transformation du polymère. Après décomposition ou transformation du polymère sur les parties du film qui ont été irradiées, les monomères formés ou le polymère transformé sont éliminés et il reste Laze image des parties non exposées. Pour cette application particulière, il est avantageux d'utiliser des conaposés polymères comprenant des unités vinyles portant un substituant ionique. Parmi ces composés, on peut citer les sels de polyiodonium répondant à la fon-,nale (III), les sels de polysulfoniuni Zépondant à la formule (VI), les polyacylsulfoniuaa-1 répondant à la foni7t.tle (M), les polydiazonium répondant â la fornzute (XV), les sels de complexes organométalliques répondant à la formule (XVIII). Ces coniposvs pernzettent d'obtenir après photolyse.
des produits qui ne sont pas volatils, et donc pas odorants lorsqu'il s'agit de sulfures.
Parmi les composés de l'invention, on préfére tout particulièrement les polysulfonium qui sont particulièrement efficaces comme photoamorceur, les phénacylsulfonium et les polymères et copolyrnères de vinyl ferrocénium qui peuvent être obtenus facilement. Parmi les polyméres qui peuvent ainsi êtze n-jodifiés en présence d'un composé de l'invention, on peat citer notamment les polymères contenant des motifs ester ou des motifs aryléther d'alcool tertiaire, par exemple les poly(phtalaldéhydes), les polyno.éres de bisphénol A et d'un diacide, le polytertiobutoxycarbonyl oxystyrène, le polytertiobutoxy-ce méthyl styrène, le polyditertiobutylfumarate-co-allyltriméthylsilane, les polyacrylates d'un alcool tertiaire, en particulier le polyacrylate de tertiobatyle et le polyitaconates de tertiobutyle. D'autres polymères sont décrits dans S.V. Czivello et a1, Chemistry of Materials 8, 376-381, (1996).
Les composés polyioniques (A+X)p de la présente invention, clui présentent une grande stabilité thermique, offrent de noanbreux avantages par rapport aux sels connus de l'art antérieur. Ils ont des vitesses d'amorçage et de propagation comparables ou supérieures à celles obtenues à l'aide des anions de coordination de type PF6-, AsF6- et si.u-tout SbF$-. Les sels M+K dans lesquels M est un métal alcalin et X un anion identique à l'anion d'un composé de la présente inventiori sont connus pour être facilement solvatés dans * les polyméres, dont i.ls augmentent peu la température de transition vitreuse. En outre, le coefflcient de diffusion de l'anion ~C
est supérieur à celui des aiaions hexafluorométallates ou des anions tétrafAuoroborates ou des anions phénylborates. Ces propriétés sont cxpliquées par la déiocalnsation dc la charge négative et la flexibilité de l'anion autour des liaisons SNS ou scs.
Un autre avantage intéressant des composés polyioniques (A+X-)p de l'invention est l'absence d'éléments toxiques tels que P, As 5 ou Sb, ces éléments étant par ailleurs considérés comme des agents contaminants dans les procédés de la micro-électronique.
Il faut en outre mentionner la possibilité de moduler les paramètres de solubilité et les températures de fusion des sels de l'invention par le choix des groupements RF, R'F ainsi que Q tels que 10 définis ci-dessus, adaptés à la polarité du milieu d'utilisation pour les réactions de polymérisation, de réticulation ou d'amplification chimique.
La très faible tension superficielle caractéristique des groupements perfluorés confère aux composés polyioniques (A+X-)p de l'invention des propriétés tensioactives utiles pour le mélange et le dispersion 15 homogène de pigments et charges dans les mélanges polymérisables.
La présente invention est décrite ci-après plus en détail, par les exemples suivants qui sont donnés à titre d'illustration, l'invention n'étant toutefois pas limitée à ces exemples.

20 Exemple 1 Préparation d'un sel de poly(iodonium) : les noyaux aromatiques d'un échantillon de polystyrène (1VMw 6000) sont transformés en groupement iodophényle par iodation du polystyrène, oxydation en iodosoacétate par le mélange acide acétique, anhydride acétique et peroxyde d'hydrogène 25 selon la méthode de Yamada et al. (Die Makromolecular Chemie, (1972), 152, 153-162). 10 g du composé ainsi préparé sont mis en suspension dans un mélange de 30 mL d'acide méthanesulfonique et 5 mL de butoxybenzène maintenu à 0 C pendant 4 heures. Le produit de réaction est versé dans 400 mL d'un mélange 2:1 v/v éther : isopropanol et le précipité est séparé par filtration, lavé par du THF et séché. 8 g du méthanesulfonate de polyiodonium ainsi obtenu sont mis en suspension dans 50 ml d'eau et on ajoute 10 g de sel de lithium du bis(nonafluoro-butanesulfonyl)imidure de lithium en solution dans 25 mL d'eau. Le mélange est agité pendant 1 heure et séparé par filtration. Le rendement de l'échange ionique (métathèse) est quantitatif pour l'obtention de bis(nonafluorobutanesulfonyl)imidure) de poly(vinylphényl-(4-butoxy-phényl)-4-iodonium. La structure du olymère est :

cI-1 I+ (C4FgSfflO2C4F9) CH-P
Exemple 2 Préparation d'un sel de poly(sulfonium) à partir d'un sel de polyiodonium : 3 g du composé polyionique de l'exemple 1 sont mélangés avec 5 mL de 4-butylphénylthioéther et 500 mg de benzoate de cuivre finement dispersés et chauffés à 130 pendant trois heures en phase fondue. Après réaction, le mélange est dissous dans 30 mL
d'acétone et précipité dans 100 mL d'éther. Le procédé de purification est répété trois fois, puis dans le système acétone (solvant) / eau (précipitant). On obtient le sel de polysulfonium :

+ Ç4F9SC1NSDP4F9~
O O

p Les paramètres de solubilité des deux polymères exemple 1 et 2 sont résumés dans le tableau suivant :
solvant Acétone C2H4C12 MEK DVE-3 PC
exemple 1 soluble s s s> 5 % s exemple 2 S+ soluble s s s> 5 % s s = soluble > 20% w/w DVE3 = triethylène glycol divinyl éther MEK = méthyléthylcétone PC = propylène carbonate Le caractère exceptionnel de solubilité de polyélectrolytes possédant une densité de charge élevée est ainsi mis en évidence.

Exemple 3 Un polymère similaire à celui de l'exemple 1 mais avec un groupement méthoxy au lieu de butoxy peut être obtenu en suivant le mode opératoire de Crivello & Lee, (US. 4,780,511) par action du poly(4-iodostryrène) (23 g) sur l'anisole (10,8 g) en présence d'acide peracétique (45,6 g) et d'acide toluènesulfonique (19,05 g) dans le dichlorométhane (40 mL). 25 g du polymère obtenu sont dispersés dans un mélange 1:1 d'éthanol et d'acétone auquel est ajouté 15 g de sel de sodium de la bis(trifuorométhanesulfonyl)imide). La solution visqueuse est centrifugée pour éliminer le toluènesulfonate de sodium puis précipitée par l'eau sous forme d'une poudre jaune soluble dans les solvants usuels.
Exemple 4 Le phénoxyéthylvinyléther est préparé par action du chloroéthylvinyléther sur le phénate de sodium suivi d'un polymérisation dans dichlorométhane initiée par TiCl4 à-10 C. Par réaction de 8,2 g du polymère sur 9,8 g de phényliodosotoluène sulfonate dans 40 mL d'un mélange équivolumique d'acide acétique et de dichlorométhane on obtient un polyiodonium. Le polyiodonium est précipité par l'éther. La réaction d'échange ionique est conduite similairement à celle de l'exemple 3 entre 12 g de polymère et 7 g de sel de sodium de la bis-(trifuorométhanesulfonyl)imide. Après précipitation et lavage à l'eau, on obtient une masse collante utilisée en solution à 50% dans méthyléthylcétone.

Exemple 5 Un oligomère contenant des groupements iodonium est préparé selon la méthode décrite dans J. Polym. Sci., Polym. Lett. (1976), 14, 65 sous forme de bromure. 4 g de cet oligomère sont mis en solution dans 50 mL

d'eau et on ajoute 5 g de tris(trifluorométhanesulfonyl)méthylure de sodium dissous dans 25 mL d'eau. Le précipité est séparé par filtration.
Ce matériau est soluble dans les solvant polaires usuels comme l'acétone ou des monomères comme le (4-propènyloxymethylène)-1,3dioxolane-2one (PEPC from In.ternational Specialty Products, Wayne, NJ, USA).
Le poly iodonium associé à l'ion bromure ne possède qu'une solubilité
négligeable dans les solvants les plus polaires connus, (DMSO, DMF, HMPA).

Exemple 6 Les propriétés de solubilité conférée à des polyélectrolytes associés aux anions selon la description de l'invention sont illustrées plus avant par la comparaison des propriétés d'un poly(iodonium) préparé selon Crivello & Lam (J. Polym. Sci.; Polymer Chemistry, (1979), 17, 3845-3858) par trans-addition du chlorure de (4,4'-N-maleimido)diphényliodonium avec le 1,10-decanethiol dans le m-crésol en présence d'une base tertiaire. Par métathèse en présence des différent sels, les polyiodonium suivants ont été testés pour leur solubilité :
anion solvant Acétone C2H4CI2 MEK NMP PEPC
CF S02 N= soluble s S s (CF3SO2N~ (SO?C4F s s s s s 9' CF SOZ C= s s s s s ol er-PF6 insoluble i i 1 1 Exemple 7 Un polythioéther est préparé par réaction de 15 g dimercaptohéxane avec 18,67 g de 1,2 bis(2-chloroéthoxy)éthane dans 200 mL de N-méthylpyrolidone à 150 C en présence de 10g de carbonate de potassium. Le polymère est précipité dans l'eau et purifié par plusieurs opérations de dissolution (CH2Cl2) / précipitation (diéthyléther) et séparation par centrifugation dans un récipient unique. Le polymère se présente sous la forme d'une masse collante. Dans un ballon tricol équipé d'un réfrigérant, d'une agitation mécanique et d'une entrée de gaz neutre (Ar), 7 g du polymère sont dissous dans 120 mL de dichlorométhane (CH2C12) et on ajoute goutte à goutte 4,8 g de 2-bromoacétophénone. Le mélange est chauffé au reflux 40 C. Un précipité apparaît rapidement. La réaction est poursuivie 12 heures après l'apparition du précipité. Le bromure de polyphénacylsulfonium est séparé par filtration et lavé avec du dichlorométhane et de l'éther. 5 g du poly(sel) sont dissous dans 60 mL d'eau, la solution est filtrée et sous agitation sont ajoutés 3 g de sel de lithium de bis(trifluoro-méthanesulfonyl)imide (Li[CF3SO2]2N) dans 25 mL d'eau ; un précipité
se forme immédiatement et l'agitation est poursuivie pendant lh. Le polymère est séparé par filtration et séché (rendement quantitatif). Par comparaison, la même préparation est effectuée et la précipitation est effectuée en présence de 2,2 g d'hexafluorophosphate de sodium. Les propriétés de solubilité sont résumées à titre indicatif dans le tableau suivant:

solvant Acétone C2H4C12 MEK DVE-3 E / DVE3 polymer-imide soluble s s ls>3% is>3%
c = compatible (absence de micro-séparation de phase visible optiquement) DVE3 = triethylène glycol divinyl éther E = Epoxyde (bisphénol A diglycidyléther).
Exemple 8 Un polythioéther similaire à celui de l'exemple précédent est préparé par réaction de 8 g de 2-mercaptoéthyléther avec15,3 g de a,a-dibromo-m-xylène dans 100 mL de diméthylformamide à 80 C en présence de 4 g de carbonate de potassium. Le polymère est précipité dans l'eau et purifié comme précédemment. Dans un ballon tricol équipé d'un réfrigérant, d'une agitation mécanique et d'une entrée de gaz neutre (Ar), 10 g du polymère sont dissous dans 120 mL d'héxane et on ajoute goutte à goutte 11,5 g de bromoacétyl-4-octyloxybenzène). Le mélange est chauffé au reflux à 60 C. Un précipité apparaît rapidement. La réaction est poursuivie 12 heures après l'apparition du précipité. Le bromure de polyphénacylsulfonium est séparé par filtration et lavé avec de l'hexane et de l'éther. 7 g du poly(sel) sont mis en suspension dans 60 mL
d'acétone et sous agitation sont ajoutés 5,15 g de sel de potassium du tris(trifluorméthanesulfonyl)méthane (K[CF3SO2]3C). Le mélange réactionnel est maintenu sous agitation pendant 1 heure à température ambiante, puis la solution est filtrée pour éliminer le bromure de potassium formé; l'acétone est évaporée pour laisser une masse très visqueuse du composé polyionique.

solvant Acétone C2Hq.C12 MEK DVE-3 é o / VGE
sel oc lo = = = s> 10 % s> 10 %
solvant toluène B VE- Il photo- PDMS 10 PDMS 500 I sel oc lo s s c> 1% s> 2% s> 1%

E = bisphénol A diglycidyléther.
DVE3 = triethylène glycol divinyl éther BVE-1 = butanediolmonovinyléther photo-1 = résine pour résist à amplification chimique : poly(t-10 butoxycarboxystyrène-co-cyanoéthylacrylate) 1:1 PDMS 10 = a,co-trimethylsiloxy-polydiméthylsiloxane;
viscosité 10 cSt, MW 1250 PDMS 500 = dito ; viscosité 500 cSt, Mw 17250 E / VG]E = 50 v/v bisphénol A diglycidyléther, triethylène 15 glycol divinyl éther.

Exemple 9 6,5 g de trifluorométhanesulfonamide CF3SO2NH2 et 10,8 mL de pyridine dans 60 mL de dichlorométhane sont refroidis à-15 C et on 20 ajoute goutte à goutte 3,6 mL de chlorure de sulfuryle dans lOmL de dichlorométhane puis 4,6 mL de 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol. Le mélange est agité pendant 1 heure à-15 C, puis 4 heures à température ambiante (25 C). Le mélange réactionnel est filtré et le solvant est éliminé à l'aide d'un évaporateur rotatif; le résidu solide obtenu est 25 dissous dans 50 mL d'eau contenant 5g d'acétate de sodium et 18,45 g de bis(hexafluorophosphate de bis[4-(diphénylsulfonio)phényl]thioéther) préparé selon la méthode d'Akhtar et al. (Chem. Mat. (1990), 2, 732 et K.T. Chang, US 4,197,174) finement pulvérisé sont ajoutés et le mélange est agité à température de la pièce pendant 3 h dans un broyeur 30 à rouleaux dans un flacon de polyéthylène rigide avec des boulets d'oxyde de zirconium. La suspension obtenue est filtrée et le solide obtenu est séché. On obtient ainsi 28 g(78%) du composé de structure suivante cr%3 ICH- O-SOZNSfDiC
QLcF3 2 O

+ O g--( ( ) ~ +
Exemple 10 A 4 g de dimère cyclopentadiènyl-fer-dicarbonyle (Aldrich, Milwaukee, USA) dissous dans 20 mL d'acëtonitrile et maintenu à 0 C, on ajoute - en maintenant une forte agitation - 0,58 mL de brome dilué dans 5 mL
d'acétonitrile; la réaction de formation du sel CpFe(CO)2Br est immédiate et quantitative. 20 g de 2-isopropènyl-4-cumène (p-isopropyl-styrène) sont polymérisés dans 200 mL de dichlorométhane à-10 C par amorçage cationique initié par 150 mL de SnC14. Le polymère est précipit:é dans l'éther et purifié par plusieurs opérations de dissolution (CH2CI2) / précipitation (diéthyléther). Le rendement en polymère est 63% sous forme d'un solide blanc. Dans un ballon tricol équipé d'un réfrigérant; d'une agitation mécanique et d'une entrée de gaz neutre (Ar), 8,2 g du polymère sont dissous dans 120 ml de dichloroéthane (C2H4C12) et on ajoute la solution de CpFe(CO)2Br dans l'acétonitrile préparée précédemment. Le mélange est chauffé au reflux. Un précipité
apparaît avec dégagement concomitant de monoxyde de carbone. La -réaction est poursuivie 2 heures après l'apparition du précipité. Le bromure de poly(arèneferrocènium) est séparé par filtration et lavé avec du dichlorométhane et de l'acétonitrile. 3 g du composé polyionique sont dissous dans 50 mL d'eau auxquels sont ajoutés 3,8 g de sel de lithium de (nonafluorobutanesulfonyl)-(trifluorométhylsulfonyl)-imide '(Li[C4F9SO2NSO2CF3]) dans 25 mL d'eau ; un précipité se forme immédiatement et l'agitation est poursuivie pendant lh. Le polymère est séparé par filtration et séché (rendement quantitatif). Par comparaison, la même préparation est effectuée et la précipitation est effectuée en présence de 1,5 g d'hexafluorophosphate de sodium. La comparaison de propriétés est résumée dans le tableau suivant:

solvant Acétone C2H4C12 MEK DVE-3 PC
ol er-imide soluble s s s> 3% s polymer-PF6 insoluble i i i s DVE3 = triethylène glycol divinyl éther PC = propylène carbonate Exemple 11 A 5 g de 1,2-diferrocenyléthane (Aldrich C , Miwaukee, USA) en solution dans 50 mL de toluène sont ajoutés 3,4 g de [bis(trifluoroacétoxy)iodo]benzène ; un précipité bleu se forme immédiatement et est séparé, lavé à l'éther et séché. 5 g de ce solide 624.14724 sont mis en solution dans 25 mL d'eau et y sont ajoutés 4,9 g de bis(trifluorométhanesulfonyl)imidure de sodium; Le précipité du dimère du férrocène sous forme de sel de l'anion imidure est obtenu avec un rendement quantitatif sous forme d'une poudre cristalline bleue.

Exemple 12 A 6 g d'un copolymère de vinylférrocène (Aldrich C , Miwaukee, USA) et de méthacrylate de butyle contenant 42% de motifs organométalliques obtenu par polymérisation radicalaire induite par l'azobis(butyronitrile) en solution dans le toluène sont ajoutés 3,3 g de [bis(trifluoroacétoxy)-iodo]benzène (Aldrich) Un précipité bleu se forme immédiatement et est séparé, lavé à l'éther pour éliminer l'excès d'oxydant séché. 5 g de ce poly(sel) de ferricinium associé à l'anion trifluoroacétate) sont mis en suspension dans 25 mL d'eau à laquelle sont ajoutés 3 g de bis(trifluorométhanesulfonyl)imidure de sodium; le précipité du polysel de l'anion imidu.re du polyférricinium est obtenu avec un rendement quantitatif sous forme d'une poudre amorphe bleue soluble dans la plupart des solvants usuels.

Exemple 13 Dans un ballon tricol équipé d'un réfrigérant, d'une agitation mécanique et d'une entrée de gaz neutre (Ar). 9,5 g d'un copolymère de .diméthylsiloxane et d'(hydrogéno)(méthyl)-siloxane (HMS 301 25%
,,SiH, Mw 1900 Gelest Inc., Tullytown, PA, USA) sont mis en solution ---dans le THF ; on ajoute 7,9 g d'allylferrocène et 70 mg d'acide chloroplatinique H2PtC16. Le mélange est chauffé au reflux pendant 4 heures. Un prélèvement permet de confirmer la disparition complète de bandes IR de la liaison SiH. Le polymère est précipité dans le méthanol et purifié par trois opérations de dissolution (THF) / précipitation (méthanol). A 5,4 g de ce polymère en solution dans le dichlorométhane sont ajoutés 2,4 g de [bis(trifluoroacétoxy)iodo]benzène. Le produit de réaction est versé dans 100 mL d'éther et le précipité est séparé par centrifugation. La métathèse permettant de remplacer l'anion trifluoroacétate par l'anion tris(trifluorométhanesulfonyl)méthylure se fait dans l'eau (100 mL) entre 4,2 g du poly(cation) et 3,1 g du sel de sodium tris(trifluorométhanesulfonyl)méthylure de sodium dissous dans 25 mL d'eau. Le polymère est séparé par centrifugation et de présente sous le forme d'une masse gommeuse bleue soluble dans la plupart de solvant, y compris à des teneurs > 3% dans les huiles siliconées. La structure du polymère est la suivante :

CF3SOi)3C-FeF
.25 Exemple 14 20 Un oligomère de diazonium est préparé selon la méthode connue et explicitée dans U.S. 2,714,066 par condensation du chlorozincate de 4-diazodiphénylamine. 25 g de ce poly(sel) sont dissous dans 500 mL
d'eau maintenue à 0 C et contenant 50 g d'acétate de sodium et 28 g de di-sel de sodium de l'acide éthylène diamine tétraacétique (EDTA). On 25 ajoute alors 24 g de sel de sodium de la bis(trifluorométhane-sulfonyl)imide en solution dans 50 mL d'eau. Le poly(sel) est séparé par filtration et séché (rendement quantitatif) et conservé à 0 C à l'abri de la lumière. Ce composés est très soluble dans les solvants organiques usuels moyennement polaire tels que la MEK et soluble dans les 30 monomères de type DVE-3 ou PEPC, les éther glycidiques.

Exemple 15 Photorésist négatif : à 2 g de poly(4-hydroxystyrène)-co-styrène (8:2) (Shinetsu, Japon) en solution dans 20 mL diméthylformamide sont ajoutés 9,7 mL une solution 1M d'hydroxyde de potassium dans le méthanol et 1,3 g de chloroéthylvinyléther. La solution est chauffée à
80 C pendant 1 heure et le mélange réactionnel est versé dans 100 mL
d'eau où le poly(4-vinyloxyéthyl)-styrène formé précipite. Le polymère est purifié par plusieurs opérations de dissolution précipitation dans l'acétone (solvant) / eau (précipitant) et acétone (solvant) / éther (précipitant). 1 g de poly(4-vinyloxyéthyl)-styrène-co-styréne et 20 mg du polymère de l'exemple 1 dans 10 mL de MEK sont déposés à la tournette (spin-coated) sur un substrat de silicium de manière à former un film de .5 mm d'épaisseur. (par exposition de 1MJ/cm2 obtenue par un laser KrF à travers un masque interférentiel). Le développement est effectué par le THF. La résolution obtenue, observée par microscope électronique (SEM) est de l'ordre de l'épaisseur du film, soit 0.5 mm. Ce photorésist ne contient aucun élément métallique susceptible de contaminer le silicium.

Exemple 16 Photorésist positif : lg de poly(4-t-butoxycarboxystyrène)-dans le dichloroéthane et 60 mg du polymère de l'exemple 8 sont déposés à la tournetl:e (spin-coated) sur un substrat de silicium de manière à former un film de .5 mm d'épaisseur à la suite d'une exposition de 1MJ/cm2 obtenue par un laser KrF à travers un masque interférentiel. Le développement est effectué par une solution à 4% d'hydroxyde de tétraméthyl ammonium dans l'eau. La résolution obtenue, observée par microscope électronique (SEM) est de l'ordre de l'épaisseur du film, soit 0.5 mm. Ce photorésist ne contient aucun élément métallique susceptible de contaminer le silicium.

Exemple 17 Les propriétés de photo-amorçage des produits de l'invention sont illustrés sur le tableau suivant. Les composés polyioniques des exemples précédents sont utilisés à 1% en poids dans différent monomères et irradiés par un rayonnement U.V. à 254 nm avec une puissance de 1900 mW/cm2 durant 5 secondes suivis d'une période de 10 minutes permettant la propagation des espèces générées dans le milieu (postcure).
monomère DVE3 Epoxy + CHDM cyclohèxene- a-méthyl-DVE3 + 10% époxyde styrène PEPC polysiloxane *
photoamorceur Ex.1 +E- -t-I- +
Ex.2 ++ ++ + + +
Ex.3 ++ ++ +
Ex.4 +-t- ++ + +
Ex.5 ++ ++ +
Ex.6 ++ ++ +
Ex.7 ++ ++ + + +
Ex.8 ---+ ++ + + +
Ex.9 ++ ++ + + +
Ex.10 ++ ++ + + +
Ex.ll -+-+ ++ + + +
Ex.12 ++ ++ + +
Ex.13 ++ ++ + + +
Ex.14 ++ ++ + +
réticulation ++ polymérisation très exothermique donnant un polymère coloré.
5 + polymérisation donnant une résine non collante.

Claims (23)

1. Composé ionique polymère ou oligomère constitué par une partie polycationique (A+)p comprenant plusieurs unités ionium et un nombre d'anions X- suffisant pour assurer la neutralité électrique du composé, caractérisé en ce que :
- les unités onium sont choisies dans le groupe constitué par les biaryliodonium, les arylsulfonium, les arylacylsulfonium, les diazonium, et les cations organo-métalliques comprenant un métal de transition complexé par au moins un cycle insaturé comprenant de 4 à 12 atomes de carbone ;
- X est un anion imidure [R F SO2NSOZR' F] ou un anion méthylure [R F SO2C (Q) SO2R' F] - dans lesquels 1) Q représente :
- H-, Cl-, F-, Br- ou CN- ;
- un radical alkyle ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
- un radical aryle ou alkylaryle ou arylalkyle ayant de 6 à 30 atomes de carbone ;
- un groupe R" F ou un groupe R" F SO2 ;
2) R F et R' F, ainsi que R"F le cas échéant lorsque X est un anion méthylure, sont choisis indépendamment l'un de l'autre dans le groupe constitué par le fluor, les grou-pements perhaloalkyles ayant de 1 à 30 atomes de carbone, les groupements (perhaloalkyl)alkyloxy, les groupements cycloaliphatiques perhalogénés ayant de 3 à
30 atomes de carbone contenant éventuellement des hétéroatomes choisis parmi O et N, et/ou portant éventuellement au moins un chaînon perhaloalkyle, et les groupements aryles perhalogénés ayant de 6 à 30 atomes de carbone ; ou bien
3) R F et R' F forment ensemble un radical divalent formant un cycle respectivement avec le groupe -S02-N-SO2- ou avec le groupe -S02-C(Q)-SO2-, ou bien, lorsque X- est un anion méthylure, R" F forme avec l'un des radicaux R F ou R' F un radical divalent formant un cycle respectivement avec le groupe -S02-C-SO2- ou avec le groupe -S02-C-, ledit radical divalent étant choisi parmi les radicaux alkylènes perfluorés ayant de 2 à 12 atomes de carbone, le troisième radical présent le cas échéant étant choisi parmi les radicaux monovalents cités ci-dessus en 2) ;
4) p représente le nombre d'unités onium, 2<=p<=1000.

2. Polymère ionique selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'anion est un sulfonimidure [R F SO2NS02R' F] - ou un sulfonylméthylure [R F SO2C (Q) SO2R' F] -dans lesquels :
- Q est choisi dans le groupe constitué par les groupements alkyles, aryles, alkylaryles ou arylalkyles ayant au plus 30 atomes de carbone, les groupements perfluoroalkylsulfonyles ayant de 1 à 8 atomes de carbone et les radicaux perfluoroalkyles ayant de 1 à 12 atomes de carbone ;
- R F et R' F sont choisis indépendamment l'un de l'autre dans le groupe constitué par les groupements perfluoroalkyles ayant de 1 à 10 atomes de carbone, ou bien ;
- R F et R' F forment ensemble un radical perfluoroalkylène linéaire divalent ayant de 2 à 8 atomes de carbone.

3. Polymère ionique selon la revendication 1, cons-titué par un sel de polyiodonium répondant à l'une des for-mules (I) à (IV) suivantes, ou par un sel de polysulfonium répondant à l'une des formules (V) à (IX) suivantes, ou par un sel de polyacylsulfonium répondant à l'une des formules (X) à (XIV) suivantes, ou par un sel de polydiazonium répondant à la formule (XV) suivante, ou par un sel de polyonium organométallique, répondant à l'une des formules (XVI) à (XX) suivantes dans lesquelles al) Rln représente de 1 à 4 groupements identiques ou différents liés à l'un quelconque des atomes de carbone libres du groupe aryle, R2n représente de 1 à 4 groupements identiques ou différents liés à l'un quelconque des atomes de carbone libres du groupe aryle, les groupements Rln et R2n ainsi que les groupements R3 à
R7 sont choisis indépendamment les uns des autres parmi :
- les radicaux alkyles ou arylalkyles linéaires ou ramifiés ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
- les radicaux alkényles ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
- les radicaux aryles ou alkylaryles ayant de 6 à 30 atomes de carbone, incluant ceux qui ont des noyaux condensés ;
- les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de carbone et choisis dans le groupe constitué par les oxaalkyles, les azaalkyles, les thiaalkyles, les phosphaalkyles, les oxaalkylènes, les azaalkylènes, les thiaalkylènes, et les phosphaalkylènes, - les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de carbone et incluant un groupement sulfoxyde, un groupement sulfone, un groupement oxyde de phosphine, ou un groupement phosphonate, tous ces radicaux étant obtenus par addition d'oxygène sur les atomes de soufre ou de phosphore ;
- les radicaux hétérocycliques aromatiques ou alicycli-ques comprenant au moins un hétéroatome choisi dans le groupe constitué par 0, N, S et P
- -NO, -CN, -OH, -Cl, -Br, -I, -F ;
ou bien deux substituants choisis parmi les R1,, et les R2n et/ou les substituants R3 et R4 ou les substituants R5 et R6 forment ensemble un radical divalent qui forme un cycle avec le groupement qui les porte, ledit radical divalent étant choisi dans le groupe constitué par les radicaux alkylènes linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, par les biradicaux benzo portant éventuellement au moins un substituant choisi dans le groupe constitué par les radicaux alkyles, oxaalkyles ou alcényles ayant de 1 à
atomes de carbone, et par les groupements oxaalkylènes répondant à la formule -R'-(OCH2CH2)q -O-R'- ou -R'-[OCH(CH3)CH2] q -O-R'- dans lesquels R' est un radical alky-lène linéaire ayant de 0 à 18 atomes de carbone et 1<=q<=22 ;
a2) L' représente un radical divalent choisi. dans le groupe constitué par les radicaux alkylènes linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, par les groupements phénylènes substitués ou non, par les groupements oxaalkylènes répon-dant à la formule -R' -( OCH2CH2 ) q -O-R' - ou -R' -[OCH(CH3)CH2] q-O-R'- dans lesquels R' est un radical alkylène linéaire ayant de 0 à 18 atomes de carbone et 1<=q<=22, par --0-, -S-, >C=O, par les groupements siloxanes -R'-O-[Si(R)2O] r -R'- ou -0- [Si(R) 2O] r- 1<=r<=40 dans lesquels R' a la signification donnée ci-dessus et R est choisi dans le groupe constitué
par les radicaux alkyles linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, le 2-éthylhexyle, le phényle, et une liaison directe entre deux atomes de carbone de deux groupes aryles non condensés ;
a3) L représente un radical divalent choisi dans le groupe défini au point a2) ci-dessus pour L' ; ou bien L
représente un segment constitué par au moins une unité
monomère ne portant pas de groupement ionique ou possédant un groupement ionique non sensible à l'action d'un rayonnement actinique (L représentant dans ce cas l'espacement moyen entre les groupements ioniques actifs) ;
a4) p représente le nombre d'unités récurrentes, 2<=p<=1000 a5) Z représente CH, CR, N, SiR, SiR03, R étant choisi parmi les radicaux alkyles linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, le 2-éthylhexyle et le phényle ;
a6) M représente un métal de transition choisi dans le groupe des éléments de transition des colonnes 3 à 12 (lignes 4 à 6) de la classification périodique.

4. Polymère ionique selon la revendication 3, caractérisé en ce que R est CH3 ou phényle.
5. Procédé de préparation d'un polymère ionique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il consiste à effectuer une métathèse dans l'eau ou dans un mélange eau/alcool léger entre un sel (A+X1-)p du polycation (A+)p et un composé A1+X- solubles dans le milieu réactionnel, l'anion X1 ayant un caractère hydrophile, et le cation Al+
étant choisi parmi les métaux alcalins et les métaux alcalino-terreux.
6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que l'anion X1- est un hydroxyde, un chlorure, un bromure, un hydrogénosulfate, un dihydrogénophosphate ou un méthylsulfonate.
7. Procédé de polymérisation ou de réticulation de monomères ou de prépolymères capables de réagir par voie cationique, caractérisé en ce que qu'il consiste à mélanger un photoamorceur source d'acide catalysant la réaction, avec le(s) monomère(s) ou le(s) prépolymère(s), et à
soumettre le mélange obtenu à un rayonnement actinique ou un rayonnement .beta., ledit photoamorceur étant un composé
selon la revendication 1.
8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que les monomères sont choisis dans le groupe constitué
par les composés qui comportent une fonction éther cyclique, une fonction thioéther cyclique ou une fonction amine cyclique, les composés vinyliques, les éthers vinyliques, les oxazolines, les lactones et les lactames.
9. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que le prépolymère est choisi dans le groupe constitué
par les composés dans lesquels des groupements époxy sont portés par une chaîne aliphatique, une chaîne aromatique, ou une chaîne hétérocyclique.
10. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que le mélange réactionnel est soumis au rayonnement après avoir été mis sous forme d'une couche mince.
11. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que la quantité de photoamorceur utilisé est comprise entre 0,01 et 15 % en poids par rapport au poids de monomère ou de prépolymère.
12. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que le photoamorceur est utilisé sous forme d'une solution dans un solvant inerte vis à vis de la réaction de polymérisation.
13. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que le solvant inerte est choisi dans le groupe constitué par l'acétone, la méthyl-éthyl cétone, l'acétonitrile, le carbonate de propylène, la .gamma.-butyrolactone, les éther-esters des mono-, tri-éthylène ou propylène glycols, les éther-alcools des mono-, di-, tri- éthylène ou propylène glycols, et les esters de l'acide phtalique ou de l'acide citrique.
14. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que la réaction est effectuée en présence d'un solvant ou d'un diluant constitué par un composé réactif vis à vis de la polymérisation, ledit composé réactif étant un monomère polymérisable jouant le rôle de solvant ou de diluant pour des monomères plus visqueux ou des prépolymères.
15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que le composé réactif est choisi dans le groupe constitué par les mono et di éthers vinyliques des mono-, di-, tri-, tétra- éthylène ou propylène glycols, le trivinyl éther triméthylolpropane et le divinyléther du diméthanol-cyclohexane, la N-vinylpyrolidone, et le 2-propényléther du carbonate de propylène.
16. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que l'on ajoute un photosensibilisateur au milieu réactionnel, lorsque le rayonnement est un rayonnement actinique.
17. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce que le photosensibilisateur est choisi dans le groupe constitué par l'anthracène, le diphényl-9,10-anthracène, le pérylène, la phénothiazine, le tétracène, la xanthone, la thioxanthone, l'isopropylthioxantone, l'acétophénone, la benzophénone, et les 1,3,5-triaryl-2-pyrazolines et leurs dérivés de substitution sur les noyaux aromatiques par des radicaux alkyles, oxa- ou aza-alkyles.
18. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que le mélange réactionnel contient en outre au moins un monomère ou prépolymère capable de polymériser par voie radicalaire et un composé capable de libérer un amorceur de polymérisation radicalaire sous l'effet du rayonnement actinique ou du rayonnement ou sous l'action de la chaleur.
19. Procédé de modification des propriétés de solubilité d'un polymère possédant des groupements sensibles aux acides, caractérisé en ce qu'il consiste à
soumettre ledit polymère à un rayonnement actinique ou un rayonnement .beta., en présence d'un composé selon la revendication 1.
20. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que le polymère contient des motifs ester ou des motifs aryléther d'alcool tertiaire.
21. Procédé selon la revendication 20, caractérisé en ce que le polymère est choisi dans le groupe constitué par les polyacrylates de tertiobutyle, les polyitaconates de tertiobutyle, le poly(tertiobutoxycarbonyloxystyrène), et le poly(tertio-butoxy-alpha méthyl styrène).
22. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce qu'il est mis en oeuvre pour l'amplification chimique de photorésists.
23. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce qu'il est mis en oeuvre à l'aide d'un composé répondant à
l'une des formules (III), (VI), (XI), (XV) ou (XVIII) suivantes:

dans lesquelles al) Rln représente de 1 à 4 groupements identiques ou différents liés à l'un quelconque des atomes de carbone libres du groupe aryle, R2n représente de 1 à 4 groupements identiques ou différents liés à l'un quelconque des atomes de carbone libres du groupe aryle, les groupements Rln et R2n ainsi que les groupements R3 à
R7 sont choisis indépendamment les uns des autres parmi :
- les radicaux alkyles ou arylalkyles linéaires ou ramifiés ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
- les radicaux alkényles ayant de 1 à 30 atomes de carbone ;
- les radicaux aryles ou alkylaryles ayant de 6 à 30 atomes de carbone, incluant ceux qui ont des noyaux condensés ;

- les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de carbone et choisis dans le groupe constitué par les oxaalkyles, les azaalkyles, les thiaalkyles, les phosphaalkyles, les oxaalkylènes, les azaalkylènes, les thiaalkylènes, et les phosphaalkylènes, - les radicaux ayant de 1 à 30 atomes de carbone et incluant un groupement sulfoxyde, un groupement sulfone, un groupement oxyde de phosphine, ou un groupement phosphonate, tous ces radicaux étant obtenus par addition d'oxygène sur les atomes de soufre ou de phosphore ;
- les radicaux hétérocycliques aromatiques ou alicycli-ques comprenant au moins un hétéroatome choisi dans le groupe constitué par O, N, S et P
- -NO, -CN, -OH, -Cl, -Br, -I, -F ;
ou bien deux substituants choisis parmi les R1n et les R2n et/ou les substituants R3 et R4 ou les substituants R5 et R6 forment ensemble un radical divalent qui forme un cycle avec le groupement qui les porte, ledit radical divalent étant choisi dans le groupe constitué par les radicaux alkylènes linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, par les biradicaux benzo portant éventuellement au moins un substituant choisi dans le groupe constitué par les radicaux alkyles, oxaalkyles ou alcényles ayant de 1 à
atomes de carbone, et par les groupements oxaalkylènes répondant à la formule -R' -(OCH2CH2) q-O-R' - ou -R' -[OCH(CH3)CH2]q-O-R'- dans lesquels R' est un radical alky-lène linéaire ayant de 0 à 18 atomes de carbone et 1<=q<=22 ;
a2) L' représente un radical divalent choisi dans le groupe constitué par les radicaux alkylènes linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, par les groupements phénylènes substitués ou non, par les groupements oxaalkylènes répon-dant à la formule -R' -( OCH2CH2 ) q-O-R' - ou -R' -[ OCH(CH3)CH2]q-O-R'- dans lesquels R' est un radical alkylène linéaire ayant de 0 à 18 atomes de carbone et 1<=q<=22, par -O-, -S-, >C=O, par les groupements siloxanes -R'-O-[Si(R)20]r-R'- ou -O-[Si(R)2O]r- 1<=r<=40 dans lesquels R' a la signification donnée ci-dessus et R est choisi dans le groupe constitué

par les radicaux alkyles linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, le 2-éthylhexyle, le phényle, et une liaison directe entre deux atomes de carbone de deux groupes aryles non condensés ;
a3) L représente un radical divalent choisi dans le groupe défini au point a2) ci-dessus pour L' ; ou bien L
représente un segment constitué par au moins une unité
monomère ne portant pas de groupement ionique ou possédant un groupement ionique non sensible à l'action d'un rayonnement actinique (L représentant dans ce cas l'espacement moyen entre les groupements ioniques actifs) ;
a4) p représente le nombre d'unités récurrentes, 2<=p<=1000 a5) Z représente CH, CR, N, SiR, SiR03, -R étant choisi parmi les radicaux alkyles linéaires ayant de 1 à 18 atomes de carbone, le 2-éthylhexyle et le phényle;

a6) M représente un métal de transition choisi dans le groupe des éléments de transition des colonnes 3 à 12 (lignes 4 à 6) de la classification périodique;
a7) X est un anion imidure [R F SO2NSO2R' F] - ou un anion méthylure [R F SO2C (Q) SO2R' F] - dans lesquels 1) Q représente :
- H-, Cl-, F-, Br- ou CN-- - un radical alkyle ayant de 1 à 30 atomes de carbone;
- un radical aryle ou alkylaryle ou arylalkyle ayant de 6 à 30 atomes de carbone ;
- un groupe R" F ou un groupe R" F SO2 ;
2) R F et R' F, ainsi que R" F le cas échéant lorsque X- est un anion méthylure, sont choisis indépendamment l'un de l'autre dans le groupe constitué par le fluor, Les grou-pements perhaloalkyles ayant de 1 à 30 atomes de carbone, les groupements (perhaloalkyl)alkyloxy, les groupements cycloaliphatiques perhalogénés ayant de 3 à
30 atomes de carbone contenant éventuellement des hétéroatomes choisis parmi O et N, et/ou portant éventuellement au moins un chaînon perhaloalkyle, et les groupements aryles perhalogénés ayant de 6 à 30 atomes de carbone ; ou bien 3) RF et R'F forment ensemble un radical divalent formant un cycle respectivement avec le groupe -SO2-N-SO2-ou avec le groupe -SO2-C(Q)-SO2-, ou bien, lorsque X- est un anion méthylure, R"F forme avec l'un des radicaux RF ou R'F
un radical divalent formant un cycle respectivement avec le groupe -SO2-C-SO2- ou avec le groupe -SO2-C-, ledit radical divalent étant choisi parmi les radicaux alkylènes per-fluorés ayant de 2 à 12 atomes de carbone, le troisième radical présent le cas échéant étant choisi parmi les radicaux monovalents cités ci-dessus en 2).
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