AT9068U1 - Abfluss mit einer sensorvorrichtung und verfahren zur spülung von abwässern - Google Patents

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AT9068U1 AT0017006U AT1702006U AT9068U1 AT 9068 U1 AT9068 U1 AT 9068U1 AT 0017006 U AT0017006 U AT 0017006U AT 1702006 U AT1702006 U AT 1702006U AT 9068 U1 AT9068 U1 AT 9068U1
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Abstract

Abfluss, vorzugsweise Urinalsifon, mit einer Sensorvorrichtung, einer daran angeschlossenen Schaltungseinheit (8), an die eine Auslösevorrichtung (11) angeschlossen ist, sowie mit einer Energieversorgung (10, 31) wird eine Sensorvorrichtung und ein Verfahren für die Spülung von Abwässern, bei dem diese Sensorvorrichtung zur Erfassung der Kapazität bzw. Kapazitätsänderung eines ersten Kondensators, gebildet aus einer ersten elektrisch leitenden Schicht (5), der Flüssigkeit im Sifon, dem Dielektrikum (14) zwischen Flüssigkeit und einem Objekt (15), wie beispielsweise einer Person, und einem Bezugspotenzial (9) vorgesehen ist, wobei eine Spülung nach Überschreiten oder Unterschreiten eines Grenzwertes ausgelöst wird.

Description

2 AT 009 068 U1
Die Erfindung betrifft einen Abfluss, vorzugsweise einen Urinalsifon, mit einer Sensorvorrichtung, einer daran angeschlossenen elektronischen Schaltungseinheit, an die eine Auslösevorrichtung angeschlossenen ist, sowie mit einer Energieversorgung. 5 Derartige Sensorvorrichtungen haben den Vorteil, dass aufgrund ihrer kompakten Ausführung eine einfache und platzsparende Montage des Abfluss oder des Sifons am Urinalbecken ermöglicht wird. Diese Sensorvorrichtung werden beispielsweise eingesetzt, um die durch Urin verdünnte Flüssigkeit im Geruchsverschluss des Sifons bei Benutzung oder den Urinstrahl zu erfassen, ein Schaltelement, wie ein Magnetventil, auszulösen und so einen Wasserfluss zur io Spülung und Reinigung des Urinalbeckens auszulösen.
Derartige Sensorvorrichtungen arbeiten auf Grundlage der Erfassung der Kapazität bzw. der Kapazitätsänderung eines Kondensators, der aus mindestens zwei elektrisch leitenden Schichten oder Elektroden gebildet wird, die außen am Abfluss oder dem Sifon angeordnet sind, und 15 den Füllstand der Flüssigkeit im Inneren erfassen.
Solche Sensorvorrichtungen werden beispielsweise in der W02004/013966A1 und in der US 6,452,514 B1 geoffenbart. 20 Nachteilig am Stand der Technik ist, dass bereits ein geringer Flüssigkeitsfilm an der Innenseite der Wand des Abflusses, der nach üblicher Benutzung weiterhin anhaftet, zwischen den mindestens zwei elektrisch leitenden Schichten oder Elektroden der zitierten Sensorvorrichtungen eine zuverlässige Messwerterfassung erschwert, insbesondere über das Ende der Benutzung. Im Laufe der Zeit bilden sich ferner Ablagerungen zwischen den leitenden Schichten bzw. Elekt-25 roden der Sensorvorrichtung, deren Ansprechempfindlichkeit und somit die Ansprechempfindlichkeit der Spülung sinkt. Dadurch werden die zuverlässige Funktion und die Reinigung des benutzten Urinalbeckens beeinträchtigt.
Die Aufgabe gegenständlicher Erfindung besteht also darin, die bekannten Nachteile zu ver-30 meiden und einen Abfluss gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 anzugeben, die keine Messwertbeeinflussung durch einen Flüssigkeitsfilm und Ablagerungen aufweist und auch nach langer Betriebsdauer einwandfrei und exakt funktionstauglich bleibt.
Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, dass die zumindest erste Sensorvorrichtung am 35 Abfluss angeordnet ist und die Kapazität oder Kapazitätsänderung eines Kondensators, gebildet aus einer ersten elektrisch leitenden Schicht und einem Objekt, dem Benutzer, sowie dem dazwischenliegenden Dielektrikum, beispielsweise dem Urinstrahl, gegenüber einem Referenzpotenzial gemessen wird. Ein besonderer Vorteil dieses Verfahrens ist die im Vergleich zum Stand der Technik besonders hohe Messwertänderung hervorgerufen durch die Änderung des 40 Dielektrikums, welches seinerseits durch den Benutzer und dessen Kopplung zum Bezugspotenzial verändert wird.
Gemäß einer besonderen Ausführungsform kann vorgesehen sein, dass der Abfluss als Sifon mit Geruchsverschluss ausgebildet ist. Mit dieser Anordnung kann die Geruchsbildung durch 45 Reste des Urins vorteilhaft reduziert werden.
In besonderer Ausgestaltung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass der Sifon mit wenigstens einer der elektrisch leitenden Schichten direkt verbunden ist, wobei die elektrisch leitende Schicht von der Flüssigkeit im Sifon gleichstrommäßig isoliert ist. Die Verwendung von mindes-50 tens einer ersten elektrisch leitenden Schicht erweist sich als besonders einfach zu realisierender Sensor, der bei einer Anordnung gemäß Anspruch 1 ein ausgeprägtes elektrisches Hauptfeld bildet, das sich über das Dielektrikum zum Benutzer und zu dem Referenzpotenzial einstellt. 55 In besonders vorteilhafter Anwendung wird die mindestens eine elektrisch leitende Schicht 3 AT 009 068 U1 zwischen Einlauf und Überlaufniveau des Sifons angeordnet. Alternativ dazu wird die elektrisch leitende Schicht jenseits des Überlaufniveaus des Sifons auf dessen Auslaufseite angebracht. In weitere Ausführung wird die elektrisch leitende Schicht am Sifon zwischen Einlaufseite und Auslaufseite angeordnet. Mit diesen Anordnungen der elektrisch leitenden Schicht am Sifon 5 kann die elektrisch leitende Schicht der Gestaltung des Sifons vorteilhaft angepasst werden, was eine besonders einfache Herstellung des Sifons ermöglicht.
In Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass einlaufseitig zumindest eine zweite Sensorvorrichtung vorgesehen ist, die in jenem Bereich des Sifons angeordnet ist, der im nor-io malen Betriebszustand permanent mit Flüssigkeit gefüllt ist. Eine solche zweite Sensorvorrichtung ist geeignet, ein Austrocknen des Sifons, z.B. nach längerer Nichtbenutzung, zu erfassen und gegebenenfalls ein Auffüllen des Geruchsverschlusses im Sifon durch Zufuhr von Spülwasser zu bewirken. 15 In besonderer Ausführung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die elektronische Schaltungseinheit mit mindestens zwei elektrisch leitenden Schichten wechselwirkt. Die Verwendung von nur einer elektronischen Schaltungseinheit mit mindestens zwei elektrisch leitenden Schichten erweist sich als ein besonders einfach zu realisierender Sensor. 20 In besonderer Ausgestaltung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass in der Nähe der ersten elektrisch leitenden Schicht eine von dieser durch ein Dielektrikum isolierte zusätzliche elektrisch leitende Schicht angebracht ist, die sich auf demselben elektrischen Potenzial befindet wie die erste elektrisch leitende Schicht. Die elektronische Schaltungseinheit steuert das elektrische Potenzial dieser zusätzlichen elektrisch leitenden Schicht dermaßen, dass zu jedem Zeitpunkt 25 das elektrische Potenzial in Betrag und Phasenwinkel mit dem der ersten elektrisch leitenden Schicht übereinstimmt. Dies ermöglicht eine besonders günstige Richtwirkung des elektrischen Hauptfeldes, da sich im Raum zwischen den beiden elektrisch leitenden Schichten praktisch kein elektrisches Feld mehr ausbilden kann. Damit ergibt sich eine sehr einfach zu realisierende Abschirmung z.B. gegenüber einer Wand, eines Vorwandgestelles oder gegenüber Fliesen. 30
In Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die elektronische Schaltungseinheit und die Energieversorgung in den Siphon integriert sind. Dies ermöglicht eine besonders rasche Montage des Siphons und erleichtert die Wartung der Schaltungseinheit. 35 Gemäß einer anderen Ausbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die elektronische Schaltungseinheit, die Auslösevorrichtung und/oder die Energieversorgung außerhalb des Siphons angeordnet sind. So kann der Siphon in besonders schlankem Design ausgeführt sein.
Weiters kann vorgesehen sein, dass die elektronische Schaltungseinheit als Schaltelement, 40 Schaltrelais oder Halbleiterschalter ausgebildet ist. So können in Abhängigkeit der gemessenen Kapazität bzw. Kapazitätsänderung Geräte oder Anlagen angesteuert werden.
Insbesondere kann vorgesehen sein, dass die Schaltungseinheit eine Steuereinheit zur Signalbewertung und zur Steuerung eines Programmablaufs umfasst. Damit kann die Sensorvorrich-45 tung bedarfsspezifisch für verschiedene Anwendungen angepasst werden. Dies ermöglicht auch eine zeitabhängige Hygienespülung des Urinalbeckens, die z.B. in einfachster Form einmal pro Tag erfolgen kann.
In besonderer Ausgestaltung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Auslösevorrichtung so als Magnetventil, Proportionalventil, Mischventil, Magnetheber oder Motorheber ausgebildet ist. Damit kann den unterschiedlichen Anforderungen der Steuerung eines Wasserflusses entsprochen werden.
In einer besonders vorteilhaften Ausführung ist die Energieversorgung als eine Batterie, ein 55 Akkumulator, eine Brennstoffzelle oder als ein Netzteil ausgebildet. Batterie, Akkumulator und 4 AT 009 068 U1
Brennstoffzelle ermöglichen die Montage und Nachrüstung auch an Orten, wo keine Netzspannung zur Verfügung steht. Ein Netzteil macht den Austausch einer Batterie, eines Akkumulators oder einer Brennstoffzelle unnötig und verringert so den Wartungsaufwand. 5 In Weiterbildung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die elektrische Verbindung zwischen Schaltungseinheit und mindestens einer der elektrisch leitenden Schichten als Steck-, Schraub- oder Klemmverbindung, z.B. einpolig ausgeführt ist. Dadurch wird die Montage- und Servicefreundlichkeit angehoben. io In besonderer Ausführung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass eine weitere elektrisch leitende Schicht in jenem Teil des Sifons angeordnet ist, der nicht permanent mit Flüssigkeit gefüllt ist. Damit kann z.B. in vorteilhafter weise durch den Benutzer eine Zusatzfunktion ausgelöst werden, wie z.B. die Einstellung der Zeitdauer für die Zufuhr von Spülwasser oder die Zeitdauer für einen Spülstopp, um Reinigungsmittel einwirken zu lassen ohne diese Auszuspülen. 15
In besonderer Ausgestaltung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass mindestens eine weitere elektrisch leitende Schicht an der Innenseite einer Sanitärkeramik, wie z.B. einem Urinalbecken im untern Bereich angebracht ist. Die elektrisch leitende Schicht dient zur Auslösung einer Zusatzfunktion, wie z.B. der Nachlaufzeit bei einer Spülung. 20
Weiters betrifft die Erfindung Urinalbecken, WC-Schalen, Abwaschbecken, Spucknäpfe oder dgl. Zur Entsorgung entsprechender Abwässer ist eine unzuverlässige Spülung mit einer Geruchsbelästigung verbunden. Daher ist eine Vorrichtung vorzusehen, die eine zuverlässige Spülung gewährleistet. 25
Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, dass ein Abfluss gemäß einem der Ansprüche 1 bis 14 vorgesehen ist.
Weiters betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Auslösung einer Spülung, insbesondere für ein 30 Urinalbecken, ein Abwaschbecken, einen Spucknapf oder dgl., gemäß Anspruch 15. Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, die Spülung von Abwässern auf möglichst einfache Art und Weise mittels eines Abfluss oder Sifons, vorzugsweise eines Urinalsifons, mit zumindest einer ersten Sensorvorrichtung, einer danach folgenden Schaltungseinheit und einer Auslösevorrichtung. 35
Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, dass mit der zumindest ersten Sensorvorrichtung des Abflusses bzw. Sifons die Kapazität oder Kapazitätsänderung eines Kondensators, gebildet aus mindestens einer elektrisch leitenden Schicht, der Flüssigkeit im Ablauf, insbesondere einem Sifon, dem Urinstrahl, einem Objekt, insbesondere einer Person, und einem Bezugspo-40 tenzial erfasst wird und die Auslösung der Spülung nach dem Unterschreiten oder Überschreiten eines Grenzwertes für die Kapazität oder Kapazitätsänderung erfolgt.
Die Erfindung wird unter Bezugnahme auf die beigeschlossenen Zeichnungen, in welchen Ausführungsformen dargestellt sind, näher beschrieben. Dabei zeigt: 45
Fig. 1 den Schnitt durch ein Urinal mit einem Abfluss,
Fig. 2 den Schnitt durch ein Urinal mit einem Sifon,
Fig- 3a-d jeweils den Schnitt A-A gemäß Fig. 2 durch einen Sifon mit zugeordneten Sensorvorrichtungen, so Fig. 4 den Schnitt A-A gemäß Fig. 2 durch einen Sifon, mit zugeordneten Sensorvorrichtungen, Schaltungseinheit und Energieversorgung,
Fig. 5 den Schnitt A-A gemäß Fig. 2 durch einen Sifon, mit zugeordneten Sensorvorrichtungen, Schaltungseinheit und Energieversorgung und Objekt,
Fig. 6 den Sifon in Seitenansicht, mit zugeordneter Sensorvorrichtung, Schaltungseinheit und 55 Energieversorgung, 5 AT 009 068 U1
Fig. 7 den Schnitt A-A gemäß Fig. 2 durch einen Sifon, mit zugeordneter Sensorvorrichtung, Schaltungseinheit und Energieversorgung,
Fig. 8 den Schnitt durch ein Urinal mit einem Sifon. 5 Fig. 1 zeigt ein Urinalbecken 3 mit einem rohrförmigen Abfluss 4 auf dem eine ringförmige elektrisch leitende Schicht 5 montiert ist. Die elektrisch leitende Schicht ist über ein Kabel 6 samt Stecker 7 mit der elektronischen Schaltungseinheit 8 verbunden. An die elektronische Schaltungseinheit 8 sind das Bezugspotenzial 9 sowie die Energieversorgung 10 angeschlossen. Der Abfluss umfasst eine Sensorvorrichtung zur Erfassung der Kapazität bzw. Kapazitäts-io änderung eines Kondensators, gebildet aus der elektrisch leitenden Schicht 5, der Flüssigkeit 13 im Abfluss, dem Dielektrikum 14, z.B. dem Urinstrahl, einem Objekt 15 samt dessen kapazitiver Kopplung 16 zum Bezugspotenzial 9. Die elektrischen Feldlinien 17 verdeutlichen das elektrische Hauptfeld im Dielektrikum 14, das in Form eines konzentrierten Schaltsymbols dargestellt ist, um die Wirkungsweise besser zu veranschaulichen. Die Auslösevorrichtung 11 15 ist beispielsweise ein Magnetventil, das die Wasserzufuhr 12 in das Urinalbecken nach Auslösung einer Spülung durch die elektronische Schaltungseinheit 8 bewerkstelligt. Eine Spülung erfolgt nach dem Unterschreiten oder Überschreiten eines Grenzwertes für die Kapazität oder Kapazitätsänderung. Auslösevorrichtung 11, Energieversorgung 10 und die elektronische Schaltungseinheit 8 samt Bezugspotenzial 9 sind hinter dem Urinalbecken in der Wand 18 20 montiert.
Als Auslösevorrichtung 11 kann beispielsweise ein Magnetventil, ein Proportionalventil, ein Mischventil, ein Magnetheber oder ein Motorheber vorgesehen sein. 25 Die Schaltungseinheit 8 kann als Schaltelement, Schaltrelais oder Halbleiterschalter ausgebildet sein.
Die Schaltungseinheit 8 kann eine Steuereinheit zur Signalbewertung und zur Steuerung eines Programmablaufs umfassen. Damit kann die Sensorvorrichtung bedarfsspezifisch für verschie-30 dene Anwendungen angepasst werden.
Die Energieversorgung 10 ist als Netzteil ausgebildet, wie Fig. 7 zeigt ist auch eine Batterie (31) im einfachsten Fall möglich. 35 Fig. 2 zeigt in Weiterführung zu Fig. 1 ein Urinalbecken mit einem Sifon 19, dessen Einlauf 1 und Auslauf 2. Der Sifon umfasst eine Sensorvorrichtung zur Erfassung der Kapazität bzw. Kapazitätsänderung eines Kondensators, gebildet aus der elektrisch leitenden Schicht 5, der Flüssigkeit 13 im Sifon, dem Dielektrikum 14, z.B. dem Urinstrahl, einem Objekt 15 samt dessen kapazitiver Kopplung 16 zum Bezugspotenzial 9. 40
Fig. 3a zeigt einen Sifon 19 mit Einlauf 1 und Auslauf 2 und dem Überlaufniveau 20. Die elektrisch leitende Schicht 5 ist im Bereich zwischen Einlauf 1 und dem Überlaufniveau 20 angebracht und mit dem Kabel 6 zum Anschluss an die elektronische Schaltungseinheit versehen. Der Sifon zeigt einen Betriebszustand des Sifons bei üblichem Geruchsverschluss, der aus der 45 Flüssigkeit 13 bis annähernd zum Überlaufniveau 20 gebildet ist.
Fig. 3b zeigt einen Sifon 19 mit Einlauf 1 und Auslauf 2 und dem Überlaufniveau 20. Die elektrisch leitende Schicht 5 ist im Bereich zwischen Einlauf 1 und dem Bereich des Auslaufs 2 angebracht und mit dem Kabel 6 zum Anschluss an die elektronische Schaltungseinheit verse-50 hen. Der Sifon zeigt einen Betriebszustand bei üblicher Benutzung, die Flüssigkeit 13 übersteigt das Überlaufniveau 20 und fließt über den Auslauf 2 ab.
Fig. 3c zeigt einen Sifon 19 mit Einlauf 1 und Auslauf 2 und dem Überlaufniveau 20. Die elektrisch leitende Schicht 5 ist im Bereich zwischen Überlaufniveau 20 und dem Bereich des Aus-55 laufs 2 angebracht und mit dem Kabel 6 zum Anschluss an die elektronische Schaltungseinheit g AT 009 068 U1 versehen. Der Sifon zeigt einen Betriebszustand bei üblicher Benutzung, die Flüssigkeit 13 übersteigt das Überlaufniveau 20 und fließt über den Auslauf 2 ab.
Fig. 3d zeigt einen Sifon 19 mit Einlauf 1 und Auslauf 2 und dem Überlaufniveau 20. Die elekt-5 risch leitende Schicht 5 ist im Bereich zwischen Überlaufniveau 20 und dem Bereich des Einlaufes 1 angebracht. Eine weitere elektrisch leitende Schicht 22 ist durch die Isolationsschicht 21 von der elektrisch leitenden Schicht 5 gleichstrommäßig getrennt an dieser angebracht. Die Kabel 6 und 23 sind an den elektrisch leitenden Schichten angebracht und zum Anschluss an die elektronische Schaltungseinheit vorgesehen. Der Sifon zeigt einen Betriebszustand wie io Fig. 3a.
Fig. 4 zeigt einen Sifon 19 mit Einlauf 1 und Auslauf 2 und dem Überlaufniveau 20. Die elektrisch leitende Schicht 5 ist im Bereich zwischen Einlauf 1 und dem Überlaufniveau 20 angebracht und mit dem Kabel 6 versehen zum Anschluss an die elektronische Schaltungseinheit 8, 15 an die die Energieversorgung 10 angeschlossen ist. Einlaufseitig ist eine zweite elektrisch leitende Schicht 25 in jenem Bereich des Sifons angebracht, der im normalen Betriebszustand permanent mit Flüssigkeit gefüllt ist, und mit einem Kabel 24 versehen zum Anschluss an die elektronische Schaltungseinheit. Die zweite elektrisch leitende Schicht 25 bildet mit der ersten elektrisch leitenden Schicht 5 einen Kondensator, dessen Dielektrikum durch die Flüssigkeit im 20 Bereich zwischen Einlauf 1 und Überlaufniveau 20 bestimmt ist. Die elektronische Schaltungseinheit 8 ermittelt die resultierende Kapazität bzw. Kapazitätsänderung dieses Kondensators und leitet je nach festgelegten Grenzwerten daraus eine Spülung durch die Auslösevorrichtung 11 ein. Die Sensorvorrichtung, gebildet durch die beiden elektrischen Schichten (5, 25) ist geeignet, ein Austrocknen des Sifons, z.B. nach längerer Nichtbenutzung, zu erfassen und ein 25 Auffüllen des Geruchsverschlusses im Sifon durch Zufuhr von Spülwasser zu bewirken.
Fig. 5 zeigt in Weiterführung zur Fig. 3a einen Sifon 19 mit einer zweiten elektrisch leitende Schicht 26 in jenem Bereich des Sifons, der im normalen Betriebszustand nicht permanent mit Flüssigkeit gefüllt ist, und die über das Kabel 28 samt Stecker 29 mit der elektronischen Schal-30 tungseinheit verbunden. Die zweite elektrisch leitende Schicht 26 bildet mit dem Objekt 15, z.B. der Hand, und dem Bezugspotenzial 9 einen Kondensator, dessen Kapazität bzw. Kapazitätsänderung von der elektronischen Schaltungseinheit erfasst wird und von deren Steuereinheit je nach Programmablauf eine Zusatzfunktion steuert, z.B. wird so die Dauer einer Spülung entsprechend den Bedingungen einer Sanitäranlage eingestellt. 35
Fig. 6 zeigt den Sifon 19 in Seitenansicht. Die elektrisch leitende Schicht 5 ist Bereich des Einlaufs 1 angebracht und mit dem Kabel 6 zum Anschluss an die elektronische Schaltungseinheit 8 versehen, an die die Energieversorgung 10 angeschlossen ist. Die elektrisch leitende Schicht 5 bildet mit der Flüssigkeit 13 als Dielektrikum und der Wand 18 einen Kondensator 32, 40 dessen Kapazität bzw. Kapazitätsänderung, hervorgerufen durch die Beschaffenheit der Flüssigkeit, von der elektronischen Schaltungseinheit erfasst wird und zur Auslösung einer Spülung bei Überschreiten oder Unterschreiten eines Grenzwertes führt.
Fig. 7 zeigt den Sifon 19 mit integrierter elektrisch leitender Schicht 5, elektronischer Schal-45 tungseinheit 8 und Energieversorgung 31, die als Batterie ausgeführt ist.
Fig. 8 zeigt in Weiterführung der Fig. 1 ein Urinalbecken 3 mit einer weiteren elektrisch leitenden Schicht 27, die im unteren Bereich des Beckens auf der Innenseite angebracht ist. Die elektrisch leitende Schicht 27 in Verbindung über das Kabel 30 mit der elektronischen Schal-50 tungseinheit 8 dient zur Auslösung einer Zusatzfunktion, wie z.B. der Nachlaufzeit bei einer Spülung, durch die Erfassung der Kapazität oder Kapazitätsänderung eines Kondensators gebildet aus der elektrisch leitenden Schicht 27, dem Objekt 15, z.B. einer Hand, in der Nähe der Keramik und einem Bezugspotenzial 9. 55 Die elektrisch leitenden Schichten 5, 22, 25, 26, 27 sind beispielsweise dünne Metallfolien aus

Claims (15)

  1. 7 AT 009 068 U1 Kupfer oder Aluminium. Die isolierende Schicht 21 kann aus Kunststoff sein, ebenso auch als Luftschicht oder Flüssigkeitsfilm ausgebildet sein. 5 Ansprüche: 1. Abfluss (4), insbesondere in Sanitärinstallationen, mit zumindest einer ersten Sensorvorrichtung, die mindestens eine erste elektrisch leitende Schicht (5) umfasst, einer daran angeschlossenen elektronischen Schaltungseinheit (8), an die eine Auslösevorrichtung (11) io angeschlossen ist, sowie mit einer Energieversorgung (10, 31), für die Spülung von Ab wässern, dadurch gekennzeichnet, dass die Sensorvorrichtung zur Erfassung der Kapazität bzw. Kapazitätsänderung einen Kondensator aus der elektrisch leitenden Schicht (5), der dielektrischen Verbindung (14), insbesondere einem Urinstrahl, einer Person (15) und einem Bezugspotenzial (9) bildet. 15
  2. 2. Abfluss nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass dieser als Sifon ausgebildet ist.
  3. 3. Sifon nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch leitende Schicht (5) direkt mit dem Sifon verbunden ist und diese gegenüber der im Sifon befindlichen Flüs- 20 sigkeit, insbesondere mit Urin vermengtem Wasser, elektrisch gleichstrommäßig isoliert ist.
  4. 4. Sifon nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch leitende Schicht (5) in dem bei betriebsmäßigem Gebrauch permanent mit Flüssigkeit gefülltem Bereich des Sifons, zwischen Einlauf (1) und Überlaufniveau (20) angeordnet ist. 25
  5. 5. Sifon nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch leitende Schicht (5) am Sifon in dem Bereich zwischen Einlauf (1) und Überlaufniveau (20) und in dem Bereich jenseits des Überlaufniveaus und dem Auslauf (2) angeordnet ist.
  6. 6. Sifon nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrisch leitende Schicht (5) in dem Bereich jenseits des Überlaufniveaus (20) und dem Auslauf (3) angeordnet ist.
  7. 7. Sifon nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine weitere elektrisch leitende Schicht (25,26) am Sifon angeordnet ist. 35
  8. 8. Sifon nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine weitere elektrisch leitende Schicht (27) an der Innenseite des Urinalbeckens platziert ist.
  9. 9. Sifon nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass an mindestens 40 einer ersten elektrisch leitenden Schicht (5, 22, 25, 26, 27) mindestens eine weitere elektrisch leitende Schicht (22) angebracht ist, die von der ersten elektrisch leitenden Schicht elektrisch isoliert ist und mit dem Potenzial der ersten elektrisch leitenden Schicht in Bezug auf Betrag und Phasenwinkel übereinstimmt.
  10. 10. Sifon nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Schaltungs einheit innerhalb des Sifons angeordnet ist.
  11. 11. Sifon nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Energieversorgung innerhalb des Sifons angeordnet ist. 50
  12. 12. Sifon nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Energieversorgung als Netzteil, Batterie, Akkumulator oder Brennstoffzelle ausgebildet ist.
  13. 13. Sifon nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrische 55 Verbindung zwischen elektronischer Steuereinheit und mindestens einer der elektrisch 3 AT 009 068 U1 leitenden Schichten als Steck-, Schraub- oder Klemmverbindung, vorzugsweise einpolig ausgeführt ist.
  14. 14. Sifon nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Schaltungs- 5 einheit als Schaltelement, Schaltrelais oder Halbleiterschalter ausgebildet ist.
  15. 15. Urinalbecken, WC-Schale, Abwaschbecken oder Spucknapf mit einem Abfluss gemäß einem der Ansprüche 1 bis 15. io 16. Verfahren zur Steuerung einer Spülung, insbesondere für ein Urinalbecken, eine WC-Schale, ein Abwaschbecken oder einen Spucknapf gemäß Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Kapazität oder Kapazitätsänderung eines Kondensators, gebildet aus mindestens einer elektrisch leitenden Schicht (5), der Flüssigkeit im Ablauf, insbesondere einem Sifon, dem Dielektrikum (14), vorzugsweise dem Urinstrahl, (einem Objekt (15), 15 insbesondere einer Person, und einem Bezugspotenzial (9) erfasst wird und die Auslösung der Spülung nach dem Unterschreiten oder Überschreiten eines Grenzwertes für die Kapazität oder Kapazitätsänderung erfolgt. 20 Hiezu 7 Blatt Zeichnungen 25 30 35 40 45 50 55
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109343123A (zh) * 2018-12-14 2019-02-15 北京瀚卫高新技术有限公司 一种水流检测装置
GB2582020A (en) * 2019-03-08 2020-09-09 Ideal Standard Int Nv Urinal sensor system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109343123A (zh) * 2018-12-14 2019-02-15 北京瀚卫高新技术有限公司 一种水流检测装置
GB2582020A (en) * 2019-03-08 2020-09-09 Ideal Standard Int Nv Urinal sensor system

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