WO2023013711A1 - 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及びプリント配線板 - Google Patents

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WO2023013711A1
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尚義 金子
翔平 山口
克哉 富澤
博史 高橋
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三菱瓦斯化学株式会社
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    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement

Definitions

  • the present invention relates to thermosetting resin compositions, prepregs and printed wiring boards.
  • Patent Document 1 discloses a curable composition containing an alkenylphenol, an epoxy-modified silicone, and an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone, or a curable composition containing a polymer having these as structural units. is applied to prepregs, resin sheets, metal foil clad laminates and printed wiring boards.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and aims to provide a thermosetting resin composition, a prepreg, and a printed wiring board that are excellent in heat resistance and low thermal expansion.
  • the inventors have made extensive studies to solve the above problems. As a result, the present inventors have found that the above problems can be solved by using an alkenylphenol, an epoxy-modified silicone, and an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone in combination with an aromatic phosphorus compound, and have completed the present invention. .
  • thermosetting resin composition comprising an alkenylphenol A, an epoxy-modified silicone B, an epoxy compound C other than the epoxy-modified silicone B, and an aromatic phosphorus compound P.
  • a polymer D containing a structural unit derived from alkenylphenol A, a structural unit derived from epoxy-modified silicone B, and a structural unit derived from an epoxy compound C other than the epoxy-modified silicone B, and an aromatic phosphorus compound P
  • a thermosetting resin composition containing.
  • the thermosetting resin composition according to [2] further comprising at least one selected from the group consisting of alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B, and an epoxy compound C other than the epoxy-modified silicone B.
  • thermosetting resin composition according to [2] or [3], wherein the polymer D has a weight average molecular weight of 3.0 ⁇ 10 3 to 5.0 ⁇ 10 4 .
  • thermosetting resin composition according to .
  • the thermosetting resin composition according to [6], wherein the cyanate ester compound comprises a naphthol aralkyl-type cyanate ester compound and/or a novolak-type cyanate ester compound.
  • the maleimide compound is bis(4-maleimidophenyl)methane, 2,2-bis ⁇ 4-(4-maleimidophenoxy)-phenyl ⁇ propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl)methane,
  • a thermosetting resin composition is bis(4-maleimidophenyl)methane, 2,2-bis ⁇ 4-(4-maleimidophenoxy)-phenyl ⁇ propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl)methane.
  • each R 5 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more.
  • each R 13 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer of 1 or more and 10 or less.
  • thermosetting resin composition according to any one of [1] to [10], wherein the epoxy compound C contains a naphthalene cresol novolac type epoxy resin and/or a naphthylene ether type epoxy resin.
  • the epoxy compound C contains a biphenyl type epoxy resin represented by the following formula (b2).
  • each Ra independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom.
  • the epoxy-modified silicone B contains an epoxy-modified silicone represented by the following formula (1).
  • each R 1 independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group, and each R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group. and n is an integer from 0 to 100.
  • the alkenylphenol A contains diallyl bisphenol and/or dipropenyl bisphenol.
  • thermosetting resin composition Any one of [1] to [15], wherein the aromatic phosphorus compound P contains at least one selected from the group consisting of a cyclic phosphazene compound, a phosphate ester compound, a phosphite ester compound and a phosphaphenanthrene compound.
  • the thermosetting resin composition according to . [17] Any one of [1] to [16], wherein the aromatic phosphorus compound P includes an aromatic phosphorus compound P′ represented by the following formulas (P1), (P2), (P3) or (P4). thermosetting resin composition.
  • Ph1, Ph2 and Ph3 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and Ph1, Ph2 and Ph3 may be the same or different.
  • Ph1 and Ph2 represent a substituted or unsubstituted aryl group, the Ph1 and Ph2 may be the same or different, and R is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. or represents an aryl group having 6 to 30 carbon atoms.
  • A is each independently a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxyl group, a cyano group, an amino group, a carboxyl group, a glycidyloxy group, a parahydroxyphenyldimethyl group, a paraglycidyloxyphenyldimethyl group.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 2 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • thermosetting resin composition according to any one of [1] to [17], wherein the aromatic phosphorus compound P includes an aromatic phosphorus compound P'' represented by the following formula (P5).
  • the inorganic filler contains at least one selected from the group consisting of silicas, boehmite and alumina, and the content of the inorganic filler is 50 to 1000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content.
  • [22] [1] A cured product obtained by curing the thermosetting resin composition according to any one of [21].
  • a laminate comprising the prepreg and/or a cured product obtained by curing the prepreg according to [23]; a metal foil arranged on one side or both sides of the laminate;
  • a metal foil clad laminate comprising: [25] an insulating layer containing a cured product obtained by curing the prepreg according to [23]; a conductor layer formed on the surface of the insulating layer; printed wiring boards, including;
  • thermosetting resin composition a prepreg and a printed wiring board that are excellent in heat resistance and low thermal expansion.
  • this embodiment a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as “this embodiment") will be described in detail, but the present invention is not limited to this, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. It is possible.
  • the term "resin solid content” refers to the components excluding the solvent and filler in the thermosetting resin composition of the present embodiment, unless otherwise specified, and the resin solid content is 100 parts by mass. means that the total of the components excluding the solvent and filler in the thermosetting resin composition is 100 parts by mass. Moreover, 100 mass % of resin solid content means that the sum total of the component except a solvent and a filler in a thermosetting resin composition is 100 mass %.
  • thermosetting resin composition The thermosetting resin composition according to the first aspect of the present embodiment (hereinafter also referred to as “first composition”) comprises alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B, and epoxy-modified silicone B other than Epoxy compound C and aromatic phosphorus compound P are contained. Since the first composition is configured in this way, it is excellent in heat resistance and low thermal expansion.
  • a thermosetting resin composition according to a second aspect of the present embodiment (hereinafter also referred to as a “second composition”) comprises a structural unit derived from alkenylphenol A and a structural unit derived from epoxy-modified silicone B.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment includes both the “first composition” and the “second composition” unless otherwise specified.
  • Alkenylphenol A is not particularly limited as long as it is a compound having a structure in which one or more alkenyl groups are directly bonded to a phenolic aromatic ring. By containing alkenylphenol A, the thermosetting resin composition of the present embodiment has an improved balance between heat resistance and low thermal expansion.
  • the alkenyl group is not particularly limited, but examples thereof include alkenyl groups having 2 to 30 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group and hexenyl group. Among them, the alkenyl group is preferably an allyl group and/or a propenyl group, more preferably an allyl group, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment.
  • the number of alkenyl groups directly bonded to one phenolic aromatic ring is not particularly limited, and is, for example, 1-4.
  • the number of alkenyl groups directly bonded to one phenolic aromatic ring is preferably 1 to 2, more preferably 1, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment.
  • the bonding position of the alkenyl group to the phenolic aromatic ring is not particularly limited, but the ortho positions (2,6 positions) are preferable.
  • a phenolic aromatic ring is one in which one or more hydroxyl groups are directly bonded to an aromatic ring, and includes phenol rings and naphthol rings.
  • the number of hydroxyl groups directly bonded to one phenolic aromatic ring is not particularly limited, and is, for example, 1 to 2, preferably 1.
  • the phenolic aromatic ring may have substituents other than alkenyl groups.
  • substituents include linear alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, cyclic alkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, linear alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, A chain alkoxy group, a branched alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms, a cyclic alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms, and a halogen atom.
  • the number of such substituents directly bonded to one phenolic aromatic ring is not particularly limited, and is, for example, 1-2.
  • the bonding position of the substituent to the phenolic aromatic ring is not particularly limited.
  • Alkenylphenol A may have one or more structures in which one or more alkenyl groups are directly bonded to a phenolic aromatic ring. From the viewpoint of achieving the effects of the present embodiment more effectively and reliably, alkenylphenol A preferably has one or two structures in which one or more alkenyl groups are directly bonded to a phenolic aromatic ring. It is preferable to have
  • Alkenylphenol A may be, for example, a compound represented by the following formula (1A) or the following formula (1B).
  • Rxa each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms
  • Rxb each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom
  • Rxc is , each independently represents an aromatic ring having 4 to 12 carbon atoms
  • Rxc may form a fused structure with a benzene ring
  • Rxc may or may not be present
  • A represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkylene group having 7 to 16 carbon atoms, an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, a fluorenylidene group, a sulfonyl group, an oxygen atom, a sulfur atom or a direct bond (single bond).
  • Rxc does not exist, one benzene ring may have two or more Rxa and/or Rxb groups.
  • Rxd each independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms
  • Rxe each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom
  • Rxf is , represents an aromatic ring having 4 to 12 carbon atoms
  • Rxf may form a fused structure with a benzene ring
  • Rxf may or may not exist, and when Rxf does not exist , one benzene ring may have two or more Rxd and/or Rxe groups.
  • the alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms represented by Rxa and Rxd is not particularly limited, and examples thereof include vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group and hexenyl group. etc.
  • the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by Rxb and Rxe is not particularly limited, and examples thereof include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, and pentyl group. , straight-chain alkyl groups such as hexyl group, branched alkyl groups such as isopropyl group, isobutyl group and tert-butyl group.
  • the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms represented by A is not particularly limited, and examples thereof include methylene group, ethylene group, trimethylene group and propylene group.
  • the aralkylene group having 7 to 16 carbon atoms represented by A is not particularly limited, for example, the formulas: -CH 2 -Ar-CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 - , or a group represented by the formula: —CH 2 —Ar—CH 2 —CH 2 — (wherein Ar represents a phenylene group, a naphthylene group, or a biphenylene group).
  • the arylene group having 6 to 10 carbon atoms represented by A is not particularly limited, but includes, for example, a phenylene ring.
  • Rxf is preferably a benzene ring (compound containing a dihydroxynaphthalene skeleton) from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment.
  • alkenylphenol A is preferably an alkenylbisphenol in which one alkenyl group is bonded to each of two phenolic aromatic rings of a bisphenol.
  • alkenyl bisphenol is diallyl bisphenol in which two phenolic aromatic rings of bisphenols are respectively bonded to one allyl group, and/or bisphenols in which two phenolic aromatic rings are respectively bonded to one propenyl group. Dipropenyl bisphenol is preferred.
  • diallyl bisphenol examples include, but are not limited to, o, o'-diallyl bisphenol A ("DABPA", a product of Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.), o, o'-diallyl bisphenol F, and o, o'-diallyl bisphenol S. , o,o'-diallylbisphenol fluorene.
  • DABPA o, o'-diallyl bisphenol A
  • F a product of Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.
  • o, o'-diallyl bisphenol F examples include, but are not limited to, o, o'-diallyl bisphenol F, and o, o'-diallyl bisphenol S. , o,o'-diallylbisphenol fluorene.
  • dipropenyl bisphenol examples include, but are not limited to, o,o'-dipropenylbisphenol A ("PBA01" available from Gunei Chemical Industry Co., Ltd.), o,o'-dipropenylbisphenol F, o,o'- Dipropenyl bisphenol S, o,o'-dipropenyl bisphenol fluorene.
  • PBA01 available from Gunei Chemical Industry Co., Ltd.
  • o,o'-dipropenylbisphenol F o,o'- Dipropenyl bisphenol S
  • o,o'-dipropenyl bisphenol fluorene examples include, but are not limited to, o,o'-dipropenylbisphenol A ("PBA01" available from Gunei Chemical Industry Co., Ltd.), o,o'-dipropenylbisphenol F, o,o'- Dipropenyl bisphenol S, o,o'-dipropenyl bisphenol
  • the average number of phenol groups per molecule of alkenylphenol A is preferably 1 or more and less than 3, and 1.5 or more and 2.5 or less, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment. is more preferred.
  • the average number of phenol groups is calculated by the following formula.
  • A represents the number of phenol groups of alkenylphenol having i phenol groups in the molecule
  • Xi represents the ratio of alkenylphenol having i phenol groups in the molecule to the total alkenylphenol
  • X 1 +X 2 + . . . X n 1.
  • Epoxy-modified silicone B is not particularly limited as long as it is a silicone compound or resin modified with an epoxy group-containing group. By containing the epoxy-modified silicone B, the thermosetting resin composition of the present embodiment is excellent in low thermal expansion and chemical resistance.
  • the silicone compound or resin is not particularly limited as long as it is a compound having a polysiloxane skeleton in which siloxane bonds are repeatedly formed.
  • the polysiloxane skeleton may be a linear skeleton, a cyclic skeleton, or a network skeleton. Among these, a linear skeleton is preferred from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment.
  • Examples of the epoxy group-containing group include, but are not particularly limited to, groups represented by the following formula (a1).
  • R 0 represents an alkylene group (for example, a methylene group, an ethylene group, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms such as a propylene group)
  • X is represented by the following formula (a2). represents a monovalent group or a monovalent group represented by the following formula (a3).
  • Epoxy-modified silicone B preferably contains an epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 140 to 250 g/mol. Epoxy-modified silicone B tends to be able to further improve the balance between heat resistance and low thermal expansion by containing an epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent within the above range. From the same viewpoint, the epoxy equivalent is more preferably 145 to 245 g/mol, still more preferably 150 to 240 g/mol.
  • Epoxy-modified silicone B preferably contains two or more epoxy-modified silicones from the viewpoint of further improving the balance between heat resistance and low thermal expansion.
  • the two or more epoxy-modified silicones preferably have different epoxy equivalents, and an epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 50 to 350 g/mol (hereinafter also referred to as "low equivalent epoxy-modified silicone B1"). and an epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 400 to 4000 g/mol (hereinafter also referred to as "high equivalent epoxy-modified silicone B2”), and an epoxy having an epoxy equivalent of 140 to 250 g/mol. More preferably, it contains a modified silicone (low-equivalent epoxy-modified silicone B1′) and an epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 450 to 3000 g/mol (high-equivalent epoxy-modified silicone B2′).
  • the average epoxy equivalent of the epoxy-modified silicone B is preferably 140 to 3000 g/mol, more preferably 250 to 2000 g/mol. More preferably 300 to 1000 g/mol.
  • Epoxy-modified silicone B preferably contains an epoxy-modified silicone represented by the following formula (1) from the viewpoint of further improving the balance between heat resistance and low thermal expansion.
  • each R 1 independently represents a single bond, an alkylene group, an arylene group or an aralkylene group; each R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group; n represents an integer from 0 to 100;
  • the alkylene group represented by R 1 may be linear, branched or cyclic.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1-12, more preferably 1-4.
  • Alkylene groups include, for example, a methylene group, an ethylene group, or a propylene group. Among these, R 1 is preferably a propylene group.
  • the arylene group represented by R 1 may have a substituent.
  • the number of carbon atoms in the arylene group is preferably 6-40, more preferably 6-20.
  • the arylene group includes, for example, a phenylene group, a cyclohexylphenylene group, a hydroxyphenylene group, a cyanophenylene group, a nitrophenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, an anthrylene group, a pyrenylene group, a fluorenylene group and the like. These groups may contain an ether bond, a ketone bond or an ester bond.
  • the aralkylene group represented by R 1 preferably has 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 13 carbon atoms.
  • Examples of the aralkylene group include groups represented by the following formula (XI). (In formula (XI), * represents a bond.)
  • the group represented by R 1 may further have a substituent.
  • substituents include linear alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, branched alkyl groups, cyclic alkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, linear alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms, branched alkoxy groups having 3 to 10 carbon atoms and cyclic alkoxy groups having 3 to 10 carbon atoms. be done.
  • R 1 is particularly preferably a propylene group.
  • each R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group.
  • the above alkyl group and phenyl group may have a substituent.
  • the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched or cyclic.
  • Examples of alkyl groups include, but are not limited to, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, isopropyl, isobutyl and cyclohexyl groups.
  • R 2 is preferably a methyl group or a phenyl group.
  • n represents an integer of 0 or more, for example, 0 to 100. From the viewpoint of further improving the balance between heat resistance and low thermal expansion, n is preferably 50 or less, more preferably 30 or less, and even more preferably 20 or less.
  • epoxy-modified silicone B preferably contains two or more types of epoxy-modified silicone represented by formula (1).
  • two or more types of epoxy-modified silicones preferably have different values of n. It is more preferable to contain a certain epoxy-modified silicone.
  • the average number of epoxy groups per molecule of the epoxy-modified silicone B is preferably 1 or more and less than 3, and is 1.5 or more and 2.5 or less, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment. is more preferable.
  • the content of the epoxy-modified silicone B is 5 to 95% by mass with respect to the total 100% by mass of the epoxy-modified silicone B and the epoxy compound C, from the viewpoint of expressing even better low thermal expansion and chemical resistance. , more preferably 10 to 90% by mass, even more preferably 40 to 85% by mass, even more preferably 50 to 80% by mass.
  • epoxy-modified silicone B a commercially available product may be used, or a product manufactured by a known method may be used. Examples of commercially available products include “X-22-163" and “KF-105" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • Epoxy compound C is an epoxy compound other than epoxy-modified silicone B, more specifically, an epoxy compound that does not have a polysiloxane skeleton.
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment can exhibit heat resistance, chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability.
  • the epoxy compound C is not particularly limited as long as it is an epoxy compound other than the epoxy-modified silicone B.
  • the epoxy compound C in the thermosetting resin composition of the present embodiment is typically a bifunctional epoxy compound having two epoxy groups in one molecule or a polyfunctional epoxy compound having three or more epoxy groups in one molecule. Epoxy compounds can be used. Epoxy compound C preferably contains a bifunctional epoxy compound and/or a polyfunctional epoxy compound from the viewpoint of being able to exhibit even better heat resistance, chemical resistance, copper foil adhesion and insulation reliability.
  • the epoxy compound C in the thermosetting resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but a compound represented by the following formula (3a) can be used.
  • Ar 3 each independently represents a benzene ring or naphthalene ring
  • Ar 4 represents a benzene ring, naphthalene ring or biphenyl ring
  • R 3a each independently represents a hydrogen atom.
  • the benzene ring or naphthalene ring in Ar 3 may further have one or more substituents, and the substituent may be a glycidyloxy group (not shown), or other substituents such as It may be an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group, etc.
  • the benzene ring, naphthalene ring or biphenyl ring in Ar 4 may further have one or more substituents, which may be a glycidyloxy group, other substituents such as carbon number It may be an alkyl group of 1 to 5, a phenyl group, or the like.
  • examples of bifunctional epoxy compounds include compounds represented by the following formula (b1).
  • each Ar 3 independently represents a benzene ring or naphthalene ring
  • each Ar 4 represents a benzene ring, naphthalene ring or biphenyl ring
  • each R 3a independently represents a hydrogen atom or represents a methyl group
  • the benzene ring or naphthalene ring in Ar 3 may further have one or more substituents, and the substituents are, for example, a glycidyloxy group such as an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a phenyl group.
  • the benzene ring, naphthalene ring or biphenyl ring in Ar 4 may further have one or more substituents, and the substituents are, for example, a glycidyloxy group such as an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a phenyl group. It may be a substituent other than )
  • the compound represented by formula (3a) is preferably a phenolic novolac type epoxy resin in which Ar 4 in formula (3a) is at least substituted with a glycidyloxy group.
  • the phenolic novolak-type epoxy resin is not particularly limited. Epoxy resins may be mentioned.
  • each Ar 31 independently represents a benzene ring or a naphthalene ring
  • each Ar 41 independently represents a benzene ring, a naphthalene ring or a biphenyl ring
  • each R 31a independently represents represents represents a hydrogen atom or a methyl group
  • p represents 1
  • kz represents an integer of 1 to 50
  • each ring represents a substituent other than a glycidyloxy group (for example, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a 1 to 5 alkoxy groups or phenyl groups)
  • at least one of Ar 31 and Ar 41 represents a naphthalene ring.
  • Compounds having a structure represented by formula (3-1) include compounds having a structure represented by formula (3-2). (Wherein, R represents a methyl group, and kz is synonymous with kz in the above formula (3-1).)
  • the naphthalene cresol novolak type epoxy resin is not particularly limited, but for example, a cresol/naphthol novolak type epoxy resin represented by the following formula (NE) is preferable.
  • the compound represented by the following formula (NE) is a random copolymer of a cresol novolak epoxy structural unit and a naphthol novolak epoxy structural unit, and both cresol epoxy and naphthol epoxy can be terminals.
  • n and n in the formula (NE) each represent an integer of 1 or more.
  • naphthalene cresol novolac type epoxy resin a commercially available product or a product manufactured by a known method may be used.
  • commercially available products include "NC-7000", “NC-7300” and “NC-7300L” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and "HP-9540” and “HP-9500” manufactured by DIC Corporation. and "HP-9540" is particularly preferred.
  • the compound represented by formula (3a) may be a compound (hereinafter also referred to as "aralkyl epoxy resin") that does not correspond to the phenolic novolac epoxy resins described above.
  • Aralkyl-type epoxy resins include compounds in which Ar 3 is a naphthalene ring and Ar 4 is a benzene ring in the formula (3a) (also referred to as a "naphthol aralkyl- type epoxy resin”); It is preferably a compound in which it is a benzene ring and Ar 4 is a biphenyl ring (also referred to as a "biphenylaralkyl-type epoxy resin”), and more preferably a biphenylaralkyl-type epoxy resin.
  • naphthol aralkyl type epoxy resin a commercially available product or a product manufactured by a known method may be used.
  • Examples of commercially available products include “HP-5000” and “HP-9900” manufactured by DIC Corporation, and “ESN-375” and “ESN-475" manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd.
  • the biphenyl aralkyl type epoxy resin is preferably a compound represented by the following formula (3b). (Wherein, ka represents an integer of 1 or more, preferably 1 to 20, more preferably 1 to 6.)
  • bifunctional epoxy compounds include, for example, compounds in which ka is 1 in formula (3b).
  • biphenyl aralkyl type epoxy resin a commercially available product or a product manufactured by a known method may be used.
  • commercially available products include “NC-3000”, “NC-3000L”, and “NC-3000FH” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • the epoxy compound C in the thermosetting resin composition of the present embodiment it is preferable to use a naphthalene-type epoxy resin (excluding those corresponding to the compounds represented by formula (3a)).
  • the naphthalene-type epoxy resin is preferably a naphthylene ether-type epoxy resin from the viewpoint of further improving heat resistance, chemical resistance, copper foil adhesion, and insulation reliability.
  • the naphthylene ether type epoxy resin is a bifunctional epoxy compound represented by the following formula (3-3) or the following formula (3 -4) is preferably a polyfunctional epoxy compound or a mixture thereof.
  • each R 13 is independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (eg, methyl group or ethyl group), or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms (eg, vinyl group, allyl group or propenyl group).
  • each R 14 is independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (e.g., methyl group or ethyl group), or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms (e.g., vinyl group, allyl group or propenyl group).)
  • a commercially available product or a product manufactured by a known method may be used as the naphthylene ether type epoxy resin.
  • Commercially available naphthylene ether type epoxy resins include, for example, DIC Corporation products "HP-6000", “EXA-7300”, “EXA-7310", “EXA-7311”, “EXA-7311L”, “ EXA7311-G3", “EXA7311-G4", “EXA-7311G4S”, “EXA-7311G5", etc., and HP-6000 is particularly preferred.
  • each R 3b is independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (e.g., methyl group or ethyl group), an aralkyl group, a benzyl group, a naphthyl group, at least one glycidyl represents a naphthyl group containing an oxy group or a naphthylmethyl group containing at least one glycidyloxy group, and n represents an integer of 0 or more (eg, 0 to 2).)
  • each Ra independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom.
  • the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched or cyclic.
  • alkyl groups include, but are not limited to, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, isopropyl, isobutyl and cyclohexyl groups.
  • the biphenyl-type epoxy resin may be in the form of a mixture of compounds b2 having different numbers of Ra as alkyl groups. Specifically, it is preferably a mixture of biphenyl-type epoxy resins having different numbers of Ra as alkyl groups. It is more preferred to be a mixture of compounds b2 which are
  • a dicyclopentadiene type epoxy resin (excluding those corresponding to the epoxy compound C described above) can be used.
  • the dicyclopentadiene-type epoxy resin is not particularly limited, but includes, for example, compounds represented by the following formula (3-5). (In the formula, each R 3c independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and k2 represents an integer of 0 to 10.)
  • each R 3c independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (eg, methyl group or ethyl group).)
  • dicyclopentadiene type epoxy resin A commercially available product or a product manufactured by a known method may be used as the dicyclopentadiene type epoxy resin.
  • Commercial products of dicyclopentadiene type epoxy resin include "EPICRON HP-7200L”, “EPICRON HP-7200”, “EPICRON HP-7200H” and "EPICRON HP-7000HH” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals. mentioned.
  • the epoxy compound C is an epoxy compound represented by the formula (3a), a naphthalene-type epoxy resin and a biphenyl, from the viewpoint of being able to exhibit even better heat resistance, chemical resistance, copper foil adhesion and insulation reliability.
  • Epoxy compound C may contain other epoxy compounds that do not correspond to the epoxy compounds described above.
  • other epoxy compounds include, but are not limited to, bisphenol-type epoxy resins, trisphenolmethane-type epoxy resins, anthracene-type epoxy resins, glycidyl ester-type epoxy resins, polyol-type epoxy resins, isocyanurate ring-containing epoxy resins, and fluorene-type epoxy resins.
  • examples thereof include resins, epoxy resins composed of bisphenol A structural units and hydrocarbon structural units, and the like.
  • bisphenol-type epoxy resins can be included.
  • bisphenol-type epoxy resins examples include diallyl Bisphenol type epoxy resins (for example, diallyl bisphenol A type epoxy resin, diallyl bisphenol E type epoxy resin, diallyl bisphenol F type epoxy resin, diallyl bisphenol S type epoxy resin, etc.) and the like can be used.
  • epoxy compound C one of the above-described epoxy compounds and epoxy resins may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
  • the average number of epoxy groups per molecule of the epoxy compound C is preferably 1 or more and less than 3, and 1.5 or more and 2.5 or less, from the viewpoint of more effectively and reliably exhibiting the effects of the present embodiment. is more preferred.
  • the content of the epoxy compound C is, from the viewpoint of being able to exhibit even better heat resistance, chemical resistance, copper foil adhesion and insulation reliability, the total amount of the epoxy-modified silicone B and the epoxy compound C being 100% by mass, It is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 10 to 90% by mass, still more preferably 15 to 60% by mass, and particularly preferably 20 to 50% by mass.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment contains a maleimide compound, a cyanate ester compound, and a phenol other than the alkenylphenol A. It is preferable to further include at least one compound E selected from the group consisting of compound A' and alkenyl-substituted nadimide compounds.
  • compound E is not particularly limited, it is preferably bifunctional or higher, and may be trifunctional or higher polyfunctional.
  • the content of compound E in the thermosetting resin composition of the present embodiment is preferably 10 to 80% by mass, preferably 20 to 60% by mass, relative to 100% by mass of the resin solid content. is more preferred, and 30 to 50% by mass is even more preferred.
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment preferably contains a maleimide compound from the viewpoint of further improving heat resistance, low thermal expansion and chemical resistance.
  • the maleimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more maleimide groups in one molecule.
  • each R 5 independently represents a hydrogen atom or a
  • n 1 is 1 or more, preferably 1-100, more preferably 1-10.
  • the maleimide compound is preferably a compound having two or more maleimide groups in one molecule, and bis(4-maleimidophenyl)methane , 2,2-bis ⁇ 4-(4-maleimidophenoxy)-phenyl ⁇ propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl)methane, a maleimide compound represented by formula (3), and the following More preferably, it contains at least one selected from the group consisting of maleimide compounds represented by formula (3′).
  • each R 13 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, and n 4 represents an integer of 1 or more and 10 or less.
  • maleimide compound a commercially available product or a product manufactured by a known method may be used.
  • Commercially available maleimide compounds include "BMI-70", “BMI-80” and “BMI-1000P” manufactured by K.I. -4000", “BMI-5100", “BMI-7000”, “BMI-2300”, Nippon Kayaku Co., Ltd. product "MIR-3000-MT” (R 13 in formula (3') are all hydrogen atoms and n4 is a mixture of 1 to 10.) and the like.
  • the content of the maleimide compound is preferably 1 to 50 parts by mass, preferably 5 to 40 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the resin solid content. More preferably, 10 to 40 parts by mass is even more preferable.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment preferably contains a cyanate ester compound from the viewpoint of further improving heat resistance, low thermal expansion, copper foil adhesion and chemical resistance.
  • the cyanate ester compound is not particularly limited as long as it is a compound having two or more cyanate groups (cyanate ester groups) in one molecule.
  • cyanate ester compounds are used singly or in combination of two or more.
  • the cyanate ester compound is a naphthol aralkyl type cyanate ester compound and/or a novolac type cyanate ester compound. It preferably contains a functional cyanate ester compound.
  • each R 6 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 2 represents an integer of 1 or more.
  • each Rya independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms or a hydrogen atom
  • each Ryb independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom.
  • Ryc each independently represents an aromatic ring having 4 to 12 carbon atoms or a hydrogen atom, Ryc may form a condensed structure with a benzene ring, Ryc may be present or may be present
  • a 1a each independently represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an aralkylene group having 7 to 16 carbon atoms, an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, a fluorenylidene group, a sulfonyl group, and an oxygen atom.
  • one benzene ring may have two or more Rya and/or Ryb groups.n is 1 to represents an integer of 20.
  • the cyanate ester compound includes a compound represented by formula (4) and/or formula (5) from the viewpoint of further improving heat resistance, low thermal expansion, copper foil adhesion and chemical resistance. is preferred.
  • n2 represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1-20, more preferably an integer of 1-10.
  • the alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms represented by Rya is not particularly limited, and examples thereof include vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group, and hexenyl group.
  • the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by Ryb is not particularly limited. branched alkyl groups such as isopropyl group, isobutyl group and tert-butyl group;
  • the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms represented by A 1a is not particularly limited, but includes methylene group, ethylene group, trimethylene group and propylene group.
  • the aralkylene group having 7 to 16 carbon atoms represented by A 1a is not particularly limited, and examples thereof include formulas: —CH 2 —Ar—CH 2 — and —CH 2 —CH 2 . -Ar-CH 2 -CH 2 -, or a group represented by the formula: -CH 2 -Ar-CH 2 -CH 2 - (wherein Ar represents a phenylene group, a naphthylene group, or a biphenylene group) is mentioned.
  • the arylene group having 6 to 10 carbon atoms represented by A 1a is not particularly limited, but includes, for example, a phenylene ring.
  • n represents an integer of 1-20, preferably an integer of 1-15, more preferably an integer of 1-10.
  • the compound represented by Formula (5) is preferably a compound represented by Formula (c1) below.
  • each Rx independently represents a hydrogen atom or a methyl group
  • each R independently represents an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or hydrogen represents an atom
  • n represents an integer from 1 to 10.
  • cyanate ester compounds may be produced according to known methods. Specific production methods include, for example, the method described in JP-A-2017-195334 (particularly paragraphs 0052 to 0057).
  • the content of the cyanate ester compound is preferably 5 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content from the viewpoint of further improving heat resistance, low thermal expansion, copper foil adhesion and chemical resistance. It is preferably 10 to 60 parts by mass, even more preferably 10 to 40 parts by mass.
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment can contain a phenol compound A' other than alkenylphenol A from the viewpoint of exhibiting even better chemical resistance.
  • the phenolic compound A′ is not particularly limited, but may be a bisphenol-type phenol resin (eg, bisphenol A-type resin, bisphenol E-type resin, bisphenol F-type resin, bisphenol S-type resin, etc.), phenolic novolac resin (e.g., phenol novolac resins, naphthol novolak resins, cresol novolac resins, aminotriazine novolak resins described later, etc.), glycidyl ester type phenolic resins, naphthalene type phenolic resins, anthracene type phenolic resins, dicyclopentadiene type phenolic resins, biphenyl type phenolic resins, alicyclic Phenolic resins, polyol-type phenolic resins,
  • the phenolic compound A' preferably contains a bifunctional phenolic compound having two phenolic hydroxyl groups in one molecule or an aminotriazine novolac resin, from the viewpoint of being able to exhibit even better chemical resistance.
  • bifunctional phenol compound examples include, but are not limited to, bisphenol, biscresol, bisphenols having a fluorene skeleton (e.g., bisphenol having a fluorene skeleton, biscresol having a fluorene skeleton, etc.), biphenols (e.g., p, p'- biphenol, etc.), dihydroxydiphenyl ether (e.g., 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, etc.), dihydroxydiphenyl ketone (e.g., 4,4'-dihydroxydiphenyl ketone, etc.), dihydroxydiphenyl sulfide (e.g., 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide) etc.), and dihydroxyarene (eg, hydroquinone, etc.).
  • bisphenol biscresol
  • bisphenols having a fluorene skeleton e.g., bisphenol having a fluorene skeleton, biscre
  • bifunctional phenol compounds are used singly or in combination of two or more.
  • the bifunctional phenol compound preferably contains one or more selected from the group consisting of bisphenol, biscrresol, and bisphenols having a fluorene skeleton, from the viewpoint of being able to exhibit even better chemical resistance. It is more preferable to contain bisphenols having a fluorene skeleton. From the same viewpoint as above, bis-cresol fluorene is preferable as the bisphenols having a fluorene skeleton.
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment may contain an aminotriazine novolac resin as the phenol compound A'.
  • the aminotriazine novolak resin When the aminotriazine novolak resin is contained, the terminal hydroxyl group or epoxy group generated by the reaction of the alkenylphenol A, the epoxy-modified silicone B, and the epoxy compound C other than the epoxy-modified silicone B, and the aminotriazine novolac resin are further combined. It tends to react and increase terminal functional groups such as hydroxyl groups and amino groups. As a result, a large number of terminal functional groups having high reactivity with the thermosetting resin are present, so that the compatibility and crosslink density are improved, and the peel strength of the copper foil tends to be improved.
  • the aminotriazine novolak resin is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the copper foil peel strength, it is preferably a novolak resin having 2 to 20 phenolic hydroxyl groups per triazine skeleton in the molecule. More preferably, it is a novolac resin having 2 to 15 phenolic hydroxyl groups for one triazine skeleton in the molecule, and a novolac resin having 2 to 10 phenolic hydroxyl groups for one triazine skeleton in the molecule. is more preferred.
  • the content of alkenylphenol A in the thermosetting resin composition of the present embodiment is, from the viewpoint of further improving the balance between heat resistance and low thermal expansion, alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B, epoxy compound C and phenol compound. It is preferably 1 to 50 parts by mass, more preferably 3 to 30 parts by mass, and even more preferably 5 to 20 parts by mass, relative to 100 parts by mass of A'.
  • the content of the epoxy-modified silicone B in the thermosetting resin composition of the present embodiment is alkenylphenol A, the epoxy-modified silicone B, and the epoxy compound C, from the viewpoint of expressing even better low thermal expansion and chemical resistance in a well-balanced manner. It is preferably 5 to 70 parts by mass, more preferably 10 to 60 parts by mass, and even more preferably 20 to 55 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of phenol compound A'.
  • the content of the epoxy compound C in the thermosetting resin composition of the present embodiment is, from the viewpoint of expressing even better chemical resistance, copper foil adhesion and insulation reliability, alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B, epoxy It is preferably 5 to 50 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass, and even more preferably 15 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of compound C and phenol compound A'. .
  • the content of the phenolic compound A' in the thermosetting resin composition of the present embodiment is, from the viewpoint of being able to exhibit even better chemical resistance, the content of the alkenylphenol A, the epoxy-modified silicone B, the epoxy compound C and the phenolic compound A'. It is preferably 5 to 30 parts by mass, more preferably 10 to 25 parts by mass, even more preferably 15 to 20 parts by mass, based on the total amount of 100 parts by mass.
  • thermosetting resin composition does not contain the phenol compound A′
  • contents of the alkenylphenol A, the epoxy-modified silicone B, and the epoxy compound C are the same as those of the alkenylphenol A, the epoxy-modified silicone B, and the epoxy compound. It represents the content per 100 parts by mass of the total amount of C.
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment preferably contains an alkenyl-substituted nadimide compound from the viewpoint of further improving heat resistance.
  • the alkenyl-substituted nadimide compound is not particularly limited as long as it is a compound having one or more alkenyl-substituted nadimide groups in one molecule, and examples thereof include compounds represented by the following formula (2d).
  • each R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (e.g., a methyl group or an ethyl group); represents an alkylene group, a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, or a group represented by the following formula (6) or (7).
  • R3 represents a methylene group, an isopropylidene group, CO, O, S or SO2 .
  • each R 4 independently represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms or a cycloalkylene group having 5 to 8 carbon atoms.
  • alkenyl-substituted nadimide compound represented by formula (2d) a commercially available product or a product manufactured according to a known method may be used.
  • Commercially available products include “BANI-M” and “BANI-X” manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.
  • the content of the alkenyl-substituted nadimide compound is preferably 1 to 40 parts by mass, more preferably 5 to 35 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin solid content. , more preferably 10 to 30 parts by mass.
  • the second composition contains polymer D containing structural units derived from alkenylphenol A, structural units derived from epoxy-modified silicone B, and structural units derived from epoxy compound C. Moreover, the polymer D may further contain a structural unit derived from a phenol compound A' other than the alkenylphenol A.
  • structural units derived from alkenylphenol A "structural units derived from epoxy-modified silicone B,””structural units derived from epoxy compound C,” and "phenol compounds A other than alkenylphenol A
  • the description to the effect that it contains a 'structural unit derived from' is a structure in which each component of alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B, epoxy compound C and, if necessary, phenol compound A' is polymerized in polymer D. It includes the case of containing a unit and the case of containing a structural unit formed by a reaction or the like that can give a similar structural unit.
  • Alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B, epoxy compound C, and phenol compound A' are as described above.
  • a structural unit derived from alkenylphenol A a structural unit derived from epoxy-modified silicone B, a structural unit derived from epoxy compound C, and a structural unit derived from phenol compound A' other than alkenylphenol A, respectively. Also referred to as units A, B, C, and A'.
  • the second composition comprises, in addition to the polymer D and the aromatic phosphorus compound P, optionally the above-described maleimide compound, cyanate ester compound, phenol compound A' other than the alkenylphenol A, and an alkenyl-substituted nadimide compound. It may further contain at least one compound E selected from the group consisting of The compound E may be an unreacted component remaining after polymerization of the polymer D, or may be a component newly added to the synthesized polymer D.
  • the second composition contains at least one selected from the group consisting of the above-described alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B and epoxy compound C. good too.
  • the alkenylphenol A, the epoxy-modified silicone B, or the epoxy compound C contained in the second composition may be an unreacted component remaining after the polymerization of the polymer D, or Alternatively, it may be a component added anew.
  • the weight-average molecular weight of polymer D is preferably 3.0 ⁇ 10 3 to 5.0 ⁇ 10 4 , more preferably 3.0 ⁇ 10 3 to 2.0 ⁇ 10 in terms of polystyrene in gel permeation chromatography. 4 is more preferred.
  • a weight average molecular weight of 3.0 ⁇ 10 3 or more the second composition tends to exhibit even better copper foil adhesion and chemical resistance.
  • a weight average molecular weight of 5.0 ⁇ 10 4 or less tends to further improve the balance between heat resistance and low thermal expansion.
  • the content of the structural unit A in the polymer D is preferably 5-50% by mass with respect to the total mass of the polymer D.
  • the second composition tends to further improve the balance between heat resistance and low thermal expansion.
  • the content of structural unit A is more preferably 10 to 45% by mass, even more preferably 10 to 40% by mass.
  • the content of the structural unit B in the polymer D is preferably 20-60% by mass with respect to the total mass of the polymer D.
  • the content of the structural unit B is within the above range, the second composition tends to exhibit even better low thermal expansion and chemical resistance in a well-balanced manner.
  • the content of the structural unit B is more preferably 25 to 55% by mass, even more preferably 30 to 55% by mass.
  • Structural unit B is an epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 50 to 350 g/mol (low equivalent epoxy-modified silicone B1) and an epoxy-modified silicone having an epoxy equivalent of 400 to 4000 g/mol (high equivalent epoxy-modified silicone B2). It preferably contains a structural unit derived from. Low-equivalent epoxy-modified silicone B1 and high-equivalent epoxy-modified silicone B2 have an epoxy equivalent of 140-250 g/mol (low-equivalent epoxy-modified silicone B1′) and 450-3000 g/mol, respectively. Epoxy-modified silicone (high-equivalent epoxy-modified silicone B2') is more preferable.
  • the content of the structural unit B1 derived from the low-equivalent epoxy-modified silicone B1 in the polymer D is preferably 5 to 25% by mass, more preferably 7.5 to 20% by mass, relative to the total mass of the polymer D. is more preferable, and 10 to 17% by mass is even more preferable.
  • the content of the structural unit B2 derived from the high-equivalent epoxy-modified silicone B2 in the polymer D is preferably 15 to 55% by mass, more preferably 20 to 52.5% by mass, relative to the total mass of the polymer D. and more preferably 25 to 50% by mass.
  • the mass ratio of the content of the structural unit B2 to the content of the structural unit B1 is preferably 1.5 to 4, more preferably 1.5 to 3.5, and 1.5 to 3.3. is more preferable.
  • the contents of the structural unit B1 and the structural unit B2 have the above relationship, the copper foil adhesion and chemical resistance tend to be further improved.
  • the compound represented by the above formula (b1), the compound represented by the above formula (b2), the compound represented by the above formula (b3), and the above formula (b4) It is preferably a unit derived from at least one selected from the group consisting of the compounds represented.
  • the structural unit C in the polymer D is more preferably a unit derived from the compound represented by the above formula (b2).
  • the content of the structural unit C in the polymer D is preferably 5-40% by mass with respect to the total mass of the polymer D.
  • the content of the structural unit C is within the above range, the second composition tends to exhibit even better heat resistance, chemical resistance, copper foil adhesion and insulation reliability.
  • the content of structural unit C is preferably 10 to 30% by mass, more preferably 15 to 25% by mass.
  • the content of the structural unit C is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 10 to 90% by mass, relative to the total mass of the structural unit B and the structural unit C, and 15 to 60% by mass. % by mass is more preferred, and 20 to 50% by mass is particularly preferred.
  • the content of the structural unit A' in the polymer D is preferably 5-30% by mass with respect to the total mass of the polymer D.
  • the content of the structural unit A' is preferably 10 to 27.5% by mass, more preferably 10 to 25% by mass, relative to the total mass of the polymer D.
  • the alkenyl group equivalent weight of polymer D is preferably 300 to 1500 g/mol.
  • the alkenyl group equivalent is 300 g/mol or more, the cured product of the second composition tends to have a further decreased elastic modulus, and as a result, the thermal expansion coefficient of the substrate obtained using the cured product decreases. It tends to be even lower.
  • the alkenyl group equivalent is 1500 g/mol or less, the chemical resistance and insulation reliability of the second composition tend to be further improved.
  • the alkenyl group equivalent is preferably 350-1200 g/mol, more preferably 400-1000 g/mol.
  • the content of the polymer D in the second composition is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 45% by mass, relative to 100% by mass of the resin solid content, and 15 to 40% by mass. % by mass is more preferred.
  • the second composition tends to exhibit even better heat resistance, low thermal expansion, chemical resistance, copper foil adhesion and insulation reliability in a well-balanced manner.
  • the second composition may further contain compound E in addition to polymer D, if necessary.
  • the second composition tends to further improve heat resistance, low thermal expansion, chemical resistance and copper foil adhesion.
  • the content of the polymer D in the second composition is 5 to 60% by mass with respect to the total 100% by mass of the polymer D and the compound E. %, more preferably 10 to 55% by mass, even more preferably 20 to 50% by mass.
  • the second composition tends to exhibit even better heat resistance, low thermal expansion, chemical resistance, copper foil adhesion and insulation reliability in a well-balanced manner.
  • the content of the compound E in the second composition is preferably 20 to 80 with respect to the total 100% by mass of the polymer D and the compound E. % by mass is preferable, 35 to 75% by mass is more preferable, and 45 to 65% by mass is even more preferable.
  • Polymer D is obtained, for example, by a step of reacting alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B, epoxy compound C, and optionally phenol compound A' in the presence of polymerization catalyst G.
  • the reaction may be performed in the presence of an organic solvent. More specifically, in the above steps, the addition reaction between the epoxy group of the epoxy-modified silicone B and the epoxy compound C and the hydroxyl group of the alkenylphenol A, and the hydroxyl group of the resulting addition reaction product and the epoxy-modified silicone B and
  • the polymer D can be obtained by the progress of an addition reaction with the epoxy group of the epoxy compound C.
  • the polymerization catalyst G is not particularly limited, and includes, for example, imidazole catalysts and phosphorus-based catalysts. These catalysts are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among these, imidazole catalysts are preferred.
  • the imidazole catalyst is not particularly limited. -cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo[1, imidazoles such as 2-a]benzimidazole ("TBZ", a product of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) and 2,4,5-triphenylimidazole ("TPIZ”, a product of Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.);
  • TZ a product of Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.
  • TPIZ 2,4,5-triphenylimidazole
  • TPIZ a product of Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.
  • the amount of the polymerization catalyst G (preferably imidazole catalyst) used is not particularly limited, and for example, 0.1 part per 100 parts by mass of the total amount of alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B, epoxy compound C and phenol compound A'. From the viewpoint of increasing the weight average molecular weight of the polymer D, the amount of the polymerization catalyst G used is preferably 0.5 parts by mass or more, and 4.0 parts by mass or less. It is more preferable to have
  • the organic solvent is not particularly limited, and for example, a polar solvent or a non-polar solvent can be used.
  • Polar solvents include, but are not limited to, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; cellosolve solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate; ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, and acetic acid; Ester solvents such as butyl, isoamyl acetate, ethyl lactate, methyl methoxypropionate and methyl hydroxyisobutyrate; and amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide.
  • the nonpolar solvent is not particularly limited, but examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These solvents are used singly or in combination of two or more.
  • the amount of the organic solvent used is not particularly limited, and is, for example, 50 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of alkenylphenol A, epoxy-modified silicone B, epoxy compound C, and phenol compound A'.
  • the reaction temperature is not particularly limited, and may be, for example, 100-170°C.
  • the reaction time is also not particularly limited, and may be, for example, 3 to 8 hours.
  • polymer D may be separated and purified from the reaction mixture by a conventional method.
  • thermosetting resin composition of this embodiment may further contain other resins as long as the effects of this embodiment are not impaired.
  • Other resins include, for example, oxetane resins, benzoxazine compounds, compounds having polymerizable unsaturated groups, and the like. These resins are used singly or in combination of two or more.
  • oxetane resin examples include, but are not limited to, oxetane, 2-methyloxetane, 2,2-dimethyloxetane, 3-methyloxetane, alkyloxetane such as 3,3-dimethyloxetane, 3-methyl-3-methoxy Methyloxetane, 3,3'-di(trifluoromethyl)perfluoxetane, 2-chloromethyloxetane, 3,3-bis(chloromethyl)oxetane, biphenyl type oxetane, "OXT-101" manufactured by Toagosei Co., Ltd. , “OXT-121” and the like.
  • benzoxazine compound refers to a compound having two or more dihydrobenzoxazine rings in one molecule.
  • benzoxazine compound examples include, but are not limited to, "Bisphenol F-type benzoxazine BF-BXZ” and "Bisphenol S-type benzoxazine BS-BXZ” manufactured by Konishi Chemical Co., Ltd., and the like.
  • Examples of compounds having a polymerizable unsaturated group include, but are not limited to, vinyl compounds such as ethylene, propylene, styrene, divinylbenzene, and divinylbiphenyl; methyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate; , 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate ) monohydric or polyhydric alcohol (meth)acrylates such as acrylate; epoxy (meth)acrylates such as bisphenol A type epoxy (meth)acrylate and bisphenol F type epoxy (meth)acrylate; benzocyclobutene resin, etc. be done.
  • vinyl compounds such as ethylene,
  • thermosetting resin composition of the present embodiment further contains an aromatic phosphorus compound P from the viewpoint of further improving low thermal expansion properties.
  • the aromatic phosphorus compound P is not particularly limited as long as it contains a phosphorus atom in its molecule and exhibits aromaticity.
  • the aromatic phosphorus compound P is at least selected from the group consisting of cyclic phosphazene compounds, phosphate ester compounds, phosphite ester compounds and phosphaphenanthrene compounds. It is preferred that one species is included.
  • the aromatic phosphorus compound P more preferably contains at least one selected from the group consisting of a cyclic phosphazene compound, a phosphate ester compound, and a phosphite ester compound, from the viewpoint of further increasing copper foil adhesion. More preferably, it contains at least one selected from the group consisting of a cyclic phosphazene compound and a phosphate ester compound.
  • the aromatic phosphorus compound P is represented by the following formulas (P1) and (P2) , (P3) or (P4).
  • P1 and P2 represent a substituted or unsubstituted aryl group
  • Ph1, Ph2 and Ph3 may be the same or different.
  • P2 Ph1 and Ph2 represent a substituted or unsubstituted aryl group
  • the Ph1 and Ph2 may be the same or different
  • R is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. or represents an aryl group having 6 to 30 carbon atoms.
  • A is each independently a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxyl group, a cyano group, an amino group, a carboxyl group, a glycidyloxy group, a parahydroxyphenyldimethyl group, a paraglycidyloxyphenyldimethyl group.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 2 to 30 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group.
  • the aromatic phosphorus compound P is an aromatic phosphorus compound P′ represented by the following formula (P5). ' is preferably included.
  • the content of the aromatic phosphorus compound P in the thermosetting resin composition of the present embodiment is 3 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content, from the viewpoint of achieving both low thermal expansion and copper foil adhesion. parts, more preferably 3 to 12 parts by mass, even more preferably 4 to 10 parts by mass.
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment preferably further contains an inorganic filler from the viewpoint of further improving low thermal expansion properties.
  • the inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include silicas, silicon compounds (e.g., white carbon, etc.), metal oxides (e.g., alumina, titanium white, zinc oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, etc.), metal nitrides.
  • boron nitride aggregated boron nitride, silicon nitride, aluminum nitride, etc.
  • metal sulfates e.g., barium sulfate, etc.
  • metal hydroxides e.g., aluminum hydroxide, aluminum hydroxide heat-treated products (e.g., aluminum hydroxide heat-treated to reduce a portion of the water of crystallization), boehmite, magnesium hydroxide, etc.
  • molybdenum compounds e.g., molybdenum oxide, zinc molybdate, etc.
  • zinc compounds e.g., zinc borate, zinc stannate, etc.
  • the inorganic filler is preferably at least one selected from the group consisting of silicas, metal hydroxides and metal oxides, from the viewpoint of further improving low thermal expansion properties. Silicas, boehmite and alumina, and more preferably silicas.
  • silicas examples include natural silica, fused silica, synthetic silica, aerosil, and hollow silica. These silicas are used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among these, fused silica is preferable from the viewpoint of dispersibility, and two or more types of fused silica having different particle sizes are more preferable from the viewpoint of filling properties and fluidity.
  • the content of the inorganic filler is preferably 50 to 1000 parts by mass, more preferably 70 to 500 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin solid content, from the viewpoint of further improving the low thermal expansion property. , more preferably 100 to 300 parts by mass.
  • thermosetting resin composition of this embodiment may further contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent By containing a silane coupling agent, the thermosetting resin composition of the present embodiment further improves the dispersibility of the filler, the components of the thermosetting resin composition of the present embodiment, and the base described later. There is a tendency that the adhesive strength with the material can be further improved.
  • the silane coupling agent is not particularly limited, and includes silane coupling agents generally used for surface treatment of inorganic substances, aminosilane compounds (eg, ⁇ -aminopropyltriethoxysilane, N- ⁇ -(aminoethyl) - ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, etc.), epoxysilane compounds (eg, ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, etc.), acrylsilane compounds (eg, ⁇ -acryloxypropyltrimethoxysilane, etc.), cationic Examples include silane compounds (eg, N- ⁇ -(N-vinylbenzylaminoethyl)- ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride), styrylsilane compounds, phenylsilane compounds, and the like.
  • aminosilane compounds eg, ⁇ -aminopropyltriethoxysilane, N-
  • a silane coupling agent is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • the silane coupling agent is preferably an epoxysilane compound.
  • epoxysilane compounds include Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. products "KBM-403", “KBM-303", “KBM-402”, and "KBE-403".
  • the content of the silane coupling agent is not particularly limited, but may be 0.1 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content.
  • thermosetting resin composition of this embodiment may further contain a wetting and dispersing agent.
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment tends to further improve the dispersibility of the filler by containing the wetting and dispersing agent.
  • any known dispersing agent used to disperse the filler may be used. 161, BYK-W996, W9010, W903 and the like.
  • the content of the wetting and dispersing agent is not particularly limited, it is preferably 0.5 parts by mass or more and 5.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin solid content.
  • thermosetting resin composition of this embodiment may further contain a solvent.
  • a solvent By containing a solvent, the thermosetting resin composition of the present embodiment has a lower viscosity during preparation of the thermosetting resin composition, further improving handling properties (handling properties), and impregnating the substrate. tends to improve further.
  • the solvent is not particularly limited as long as it can dissolve some or all of the components in the thermosetting resin composition, but examples include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.), aromatic hydrocarbons (e.g., toluene, xylene, etc.), amides (eg, dimethylformaldehyde, etc.), propylene glycol monomethyl ether and its acetate, and the like. These solvents are used singly or in combination of two or more.
  • the method for producing the thermosetting resin composition of the present embodiment is not particularly limited, and includes, for example, a method of collectively or sequentially blending each component with a solvent and stirring the mixture. At this time, in order to uniformly dissolve or disperse each component, known treatments such as stirring, mixing, and kneading are used.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment can exhibit excellent heat resistance and low thermal expansion. Therefore, the thermosetting resin composition of the present embodiment is suitably used for metal foil-clad laminates and printed wiring boards.
  • the thermosetting resin composition of the present embodiment can be applied to the above-mentioned uses by curing. That is, the cured product of the present embodiment is obtained by curing the thermosetting resin composition of the present embodiment.
  • the second composition contains, in addition to the polymer D and the aromatic phosphorus compound P, at least an epoxy compound C (an epoxy compound C existing separately from the structural unit C in the polymer D). preferably included.
  • the polymer D preferably has units derived from the bifunctional epoxy compound described above as units derived from the epoxy compound C, and more preferably has units derived from the biphenyl type epoxy resin described above.
  • the epoxy compound C present separately from the structural unit C in the polymer D the above-mentioned naphthylene ether type epoxy resin (commercially available products, for example, "HP-6000” manufactured by DIC Corporation) and / Or naphthalene cresol novolak type epoxy resin (commercially available, for example, "HP-9540" manufactured by DIC Corporation) is preferably included.
  • the cyanate equivalent/epoxy equivalent value in the second composition is less than 0.8.
  • the cyanate equivalent/epoxy equivalent (functional group equivalent ratio) is the equivalent of the cyanate group in the cyanate ester compound that may be contained in the second composition, and the "polymer D It is the equivalent ratio of the epoxy group in the epoxy compound C that exists separately from the structural unit C in the inside, and is calculated by the following formula (1). In the present embodiment, it is possible to use two or more types of either the cyanate ester compound or the epoxy compound.
  • the number of functional groups (that is, the equivalent weight of cyanate groups and the equivalent weight of epoxy groups) is calculated, and these values are summed up to calculate the equivalent weight of all cyanate groups and the equivalent weight of all epoxy groups.
  • the functional group equivalent ratio is a value obtained by dividing the equivalent weight of all cyanate groups by the equivalent weight of all epoxy groups.
  • the number of functional groups is a value obtained by dividing the parts by mass of a component by the functional group equivalent of the component.
  • thermosetting resin composition of the present embodiment is suitably used for prepreg.
  • the prepreg of the present embodiment includes a substrate and the thermosetting resin composition of the present embodiment impregnated or applied to the substrate. Since the prepreg of the present embodiment is configured as described above, it is excellent in heat resistance and low thermal expansion when applied to metal foil-clad laminates and printed wiring boards.
  • the prepreg of this embodiment includes a base material and a thermosetting resin composition impregnated or applied to the base material.
  • the prepreg may be a prepreg obtained by a known method, and as a specific example, the thermosetting resin composition of the present embodiment is impregnated or applied to a substrate, and then subjected to conditions of 100 to 200 ° C. It is obtained by semi-curing (to B-stage) by drying with heat.
  • the prepreg of the present embodiment also includes the form of a cured product obtained by thermally curing a semi-cured prepreg under conditions of a heating temperature of 180 to 230° C. and a heating time of 60 to 180 minutes.
  • the content of the thermosetting resin composition in the prepreg is preferably 30 to 90% by volume, more preferably 35 to 85% by volume, more preferably 35 to 85% by volume, based on the total amount of the prepreg, in terms of the solid content of the prepreg. is 40 to 80% by volume.
  • the calculation of the content of the thermosetting resin composition herein includes the cured product of the thermosetting resin composition of the present embodiment.
  • the solid content of the prepreg as used herein refers to a component obtained by removing the solvent from the prepreg.
  • the filler is included in the solid content of the prepreg.
  • the substrate is not particularly limited, and examples thereof include known substrates used as materials for various printed wiring boards.
  • Specific examples of the substrate include glass substrates, inorganic substrates other than glass (for example, inorganic substrates composed of inorganic fibers other than glass such as quartz), organic substrates (for example, wholly aromatic polyamide, polyester , polyparaphenylenebenzoxazole, and organic base materials composed of organic fibers such as polyimide). These substrates are used singly or in combination of two or more.
  • a glass substrate is preferable from the viewpoint of being more excellent in dimensional stability under heating.
  • Fibers constituting the glass substrate include, for example, E glass, D glass, S glass, T glass, Q glass, L glass, NE glass, HME glass, and the like.
  • the fibers constituting the glass substrate are the group consisting of E glass, D glass, S glass, T glass, Q glass, L glass, NE glass and HME glass, from the viewpoint of being more excellent in strength and low water absorption.
  • One or more selected fibers are preferred.
  • the form of the substrate is not particularly limited, but examples thereof include forms such as woven fabric, nonwoven fabric, roving, chopped strand mat, and surfacing mat.
  • the weaving method of the woven fabric is not particularly limited, but for example, plain weave, Nanako weave, twill weave, etc. are known, and it is possible to appropriately select and use from these known ones depending on the intended use and performance. .
  • glass woven fabrics surface-treated with a silane coupling agent or the like are preferably used.
  • the thickness and mass of the base material are not particularly limited, but usually about 0.01 to 0.1 mm is suitably used.
  • the metal foil-clad laminate of the present embodiment includes a laminate containing the prepreg of the present embodiment and/or a cured product obtained by curing the prepreg, and a metal foil disposed on one or both sides of the laminate. .
  • the laminate may contain one prepreg and/or cured product, or may contain a plurality of prepregs and/or cured products.
  • the metal foil may be any metal foil that is used for various printed wiring board materials, and examples thereof include metal foils of copper, aluminum, and the like. Copper foil, such as foil, is mentioned.
  • the thickness of the conductor layer is, for example, 1 to 70 ⁇ m, preferably 1.5 to 35 ⁇ m.
  • the molding method and molding conditions for the metal foil-clad laminate are not particularly limited, and general techniques and conditions for printed wiring board laminates and multilayer boards can be applied.
  • a multistage press machine, a multistage vacuum press machine, a continuous molding machine, an autoclave molding machine, or the like can be used when molding a laminate or a metal foil-clad laminate.
  • the temperature is generally 100 to 300° C.
  • the pressure is 2 to 100 kgf/cm 2
  • the heating time is generally in the range of 0.05 to 5 hours.
  • post-curing can be performed at a temperature of 150-300°C.
  • the temperature is preferably 200° C. to 250° C.
  • the pressure is 10 to 40 kgf/cm 2
  • the heating time is 80 minutes to 130 minutes
  • the temperature is 215° C. to 215° C., from the viewpoint of sufficiently accelerating the curing of the prepreg.
  • the temperature is 235° C.
  • the pressure is 25 to 35 kgf/cm 2
  • the heating time is 90 to 120 minutes.
  • the printed wiring board of this embodiment has an insulating layer containing a cured product obtained by curing the prepreg of this embodiment, and a conductor layer formed on the surface of the insulating layer.
  • the printed wiring board of the present embodiment can be formed, for example, by etching the metal foil of the metal foil-clad laminate of the present embodiment into a predetermined wiring pattern to form a conductor layer.
  • the printed wiring board of the present embodiment can be manufactured, for example, by the following method.
  • An inner layer board having a conductor layer (inner layer circuit) is produced by etching the metal foil of the metal foil clad laminate into a predetermined wiring pattern.
  • a laminate is obtained.
  • the laminate molding method and molding conditions are the same as the laminate molding method and molding conditions for the laminate and the metal foil-clad laminate described above.
  • the laminate is perforated for through holes and via holes, and the wall surfaces of the holes thus formed are plated with a metal film for conducting the conductor layer (internal circuit) and the metal foil for the outer layer circuit.
  • the metal foil for the outer layer circuit is etched into a predetermined wiring pattern to form an outer layer substrate having a conductor layer (outer layer circuit). A printed wiring board is thus manufactured.
  • a printed wiring board may be produced by forming a conductor layer that becomes a circuit on the insulating layer. At this time, an electroless plating technique can be used to form the conductor layer.
  • the electrical conductivity of the wastewater after the fifth washing was 5 ⁇ S/cm, confirming that the ionic compounds that could be removed by washing with water were sufficiently removed.
  • the organic phase after washing with water is concentrated under reduced pressure and finally concentrated to dryness at 90° C. for 1 hour to obtain the desired 1-naphthol aralkyl cyanate ester compound (SN495V-CN, cyanate group equivalent: 261 g/eq. ) (orange viscous substance) 331 g were obtained.
  • the infrared absorption spectrum of the obtained SN495V-CN showed absorption at 2250 cm -1 (cyanate group) and no absorption of hydroxy group.
  • R 2a represents a hydrogen atom and m represents an integer of 1 to 10.
  • Example 1 In a three-necked flask equipped with a thermometer and a Dimroth, 5.0 parts by mass of diallyl bisphenol A (DABPA, Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.), 5.4 parts by mass of biscresol fluorene (BCF, Osaka Gas Chemical Co., Ltd.), epoxy Modified silicone b1 (X-22-163, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., functional group equivalent 200 g / mol) 3.7 parts, epoxy-modified silicone b2 (KF-105, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., functional group equivalent 490 g /mol) 11.0 parts by mass, biphenyl type epoxy resin c1 (YL-6121H, Mitsubishi Chemical Corporation) 4.9 parts by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate (DOWANOL PMA, Dow Chemical Japan Co., Ltd.) as a solvent 30 parts by mass was added, and the mixture was heated and stirred to 120° C.
  • diallyl bisphenol A corresponds to "alkenylphenol A”
  • epoxy-modified silicone b1 and epoxy-modified silicone b2 correspond to "epoxy-modified silicone B”
  • biphenyl type epoxy resin c1 corresponds to "epoxy compound C”.
  • the phenoxy polymer solution contained a polymer D containing a structural unit derived from alkenylphenol A, a structural unit derived from epoxy-modified silicone B, and a structural unit derived from epoxy compound C.
  • polymer D is also referred to as phenoxy polymer.
  • the content of structural unit B with respect to polymer D was 48.8% by mass.
  • the content of structural unit C with respect to the total amount of structural unit B and structural unit C was 25% by mass.
  • the weight average molecular weight Mw of the phenoxy polymer obtained as described above was measured as follows. 20 ⁇ L of a solution prepared by dissolving 0.5 g of the phenoxy polymer solution in 2 g of THF was injected into a high-performance liquid chromatography (manufactured by Shimadzu Corporation, pump: LC-20AD) for analysis. The columns were Shodex GPC KF-804 (length 30 cm x inner diameter 8 mm) manufactured by Showa Denko, Shodex GPC KF-803 (length 30 cm x inner diameter 8 mm), Shodex GPC KF-802 (length 30 cm x inner diameter 8 mm), Shodex GPC.
  • the weight average molecular weight Mw was obtained by GPC method using standard polystyrene as a standard substance.
  • the weight average molecular weight Mw of the phenoxy polymer measured as described above was 12,000.
  • naphthalene cresol novolak type epoxy resin HP-9540, DIC Corporation, functional group equivalent 244 g/mol
  • phenol novolak type cyanate ester compound PT-30, Lonza, functional group equivalent 127 g/mol) mol
  • phosphate ester compound PX-200, Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.
  • slurry silica as filler SC-2050MB, Admatechs Co., Ltd.
  • wet dispersion A varnish was obtained by mixing 1 part by mass of an agent (DISPERBYK-161, BYK-Chemie Japan Co., Ltd.) and 5 parts by mass of a silane coupling agent (KBM-403, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (varnish production step).
  • thermosetting resin composition solid content (including filler) is 58.2% by volume. of prepreg was obtained (prepreg manufacturing process).
  • Example 2 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 1, except for the following points. That is, 14 parts by mass of SN495V-CN was used instead of PT-30 in the varnish production step.
  • Example 3 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 1, except for the following points. That is, in the varnish production step, the amount of BMI-2300 used was changed to 16.5 parts by mass, the amount of BMI-80 used was changed to 5.5 parts by mass, and 15 parts of SN495V-CN was used instead of PT-30. The amount of HP-9540 was changed to 28 parts by mass, the amount of PX-200 was changed to 5 parts by mass, and the amount of SC-2050MB was changed to 200 parts by mass. Furthermore, in the prepreg manufacturing process, the heat drying conditions were changed to 155° C. for 5 minutes.
  • Example 4 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 2, except for the following points. That is, in the varnish production step, the amount of SC-2050MB used was changed to 200 parts by mass. Furthermore, in the prepreg manufacturing process, the heat drying conditions were changed to 155° C. for 5 minutes.
  • Example 5 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 4, except for the following points. That is, in the varnish production step, 30 parts by mass of a naphthylene ether type epoxy resin (HP-6000, DIC Corporation, functional group equivalent: 250 g/mol) is used instead of HP-9540, and the amount of SN495V-CN used is reduced to was changed to 15 parts by mass, and the amount of PX-200 used was changed to 5 parts by mass.
  • a naphthylene ether type epoxy resin HP-6000, DIC Corporation, functional group equivalent: 250 g/mol
  • Example 6 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 2, except for the following points. That is, in the varnish production step, the amount of BMI-2300 used was changed to 13 parts by mass, the amount of BMI-80 used was changed to 4 parts by mass, the amount of HP-9540 used was changed to 21 parts by mass, and SN495V The amount of -CN used was changed to 22 parts by mass. Furthermore, in the prepreg manufacturing process, the heat drying conditions were changed to 155° C. for 5 minutes.
  • Example 7 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 2, except for the following points. That is, in the varnish production step, instead of PX-200, a phosphorus compound (10-(2,5-dihydroxyphenyl)-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, HCA-HQ, 10 parts by mass of Sanko Co., Ltd. was used, and the amount of SC-2050MB used was changed to 200 parts by mass. Furthermore, in the prepreg manufacturing process, the heat drying conditions were changed to 155° C. for 3.5 minutes.
  • Example 8 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 1, except for the following points. That is, in the polymer production step, the amount of DABPA used was changed to 5.1 parts by mass, the amount of BCF used was changed to 5.6 parts by mass, and the amount of X-22-163 used was changed to 4.2 parts by mass. The amount of KF-105 used was changed to 8.5 parts by mass, and the amount of YL-6121H used was changed to 5.6 parts by mass to obtain a phenoxy polymer solution. After heating this phenoxy polymer solution to 100° C.
  • Example 9 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 8, except for the following points. That is, in the varnish production step, the amount of BMI-2300 used was changed to 7 parts by mass, the amount of BMI-80 used was changed to 7 parts by mass, the amount of HP-9540 used was changed to 24 parts by mass, and SN495V was changed to 22 parts by mass, and the amount of PX-200 was changed to 10 parts by mass.
  • Example 10 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 5, except for the following points. That is, in the varnish production step, 5 parts by mass of cyclic cyanophenoxyphosphazene (Rabitol FP-300, Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd.) was used in place of PX-200. Furthermore, in the prepreg manufacturing process, the heat drying conditions were changed to 165° C. for 5 minutes.
  • Example 11 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 10, except for the following points. That is, in the varnish production step, 5 parts by mass of a phosphoric acid ester compound (ADEKA STAB HP-10, ADEKA Corporation) was used in place of FP-300.
  • a phosphoric acid ester compound ADEKA STAB HP-10, ADEKA Corporation
  • Example 12 A prepreg having a thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 10, except for the following points. That is, in the varnish production step, 5 parts by mass of a phosphoric acid ester compound (ADEKA STAB 2112, ADEKA Corporation) was used in place of FP-300.
  • a phosphoric acid ester compound ADEKA STAB 2112, ADEKA Corporation
  • thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 1, except for the following points. That is, in the varnish production step, the amount of HP-9540 used was changed to 32 parts by mass, the amount of PT-30 used was changed to 18 parts by mass, and PX-200 was not used.
  • thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except for the following points. That is, in the varnish production step, the amount of BMI-2300 used was changed to 15 parts by mass, and the amount of SC-2050MB used was changed to 200 parts by mass. Furthermore, in the prepreg manufacturing process, the heat drying conditions were changed to 155° C. for 5 minutes.
  • thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 8, except for the following points. That is, in the varnish production step, the amount of BMI-2300 used was changed to 9 parts by mass, the amount of BMI-80 used was changed to 9 parts by mass, and 27 parts by mass of HP-6000 was used instead of HP-9540. , SN495V was changed to 25 parts by mass, and PX-200 was not used. Furthermore, in the prepreg manufacturing process, the heat drying conditions were changed to 140° C. for 3 minutes.
  • thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 3, except for the following points. That is, in the varnish production step, the amount of BMI-2300 used was changed to 16 parts by mass, the amount of BMI-80 used was changed to 5.5 parts by mass, and the amount of HP-9540 used was changed to 32.5 parts by mass. changed, the amount of SN495V-CN used was changed to 16 parts by mass, and PX-200 was not used.
  • thermosetting resin composition solid content (including filler) content of 58.2% by volume was obtained in the same manner as in Example 1, except for the following points. That is, in the varnish production step, the amount of BMI-2300 used was changed to 17 parts by mass, BMI-80 was not used, 27 parts by mass of HP-6000 was used in place of HP-9540, and PT-30 was replaced with SN495V-CN was used in an amount of 26 parts by mass, and PX-200 was not used.
  • Tg glass transition temperature
  • Examples 1-12 are superior to Comparative Examples 1-3 in heat resistance and low thermal expansion. Further, from Table 2 above, it can be seen that Examples 1 to 6 and 10 to 12 are superior to Comparative Examples 1 to 3 in copper foil adhesion.
  • a cyclic phosphazene compound or a phosphate ester compound was used as the aromatic phosphorus compound, whereas a phosphaphenanthrene compound was used as the aromatic phosphorus compound in Example 7. It is presumed that Examples 1 to 6 and 10 to 12 resulted in better adhesion to the copper foil because of the fact that they were used.
  • Examples 8 and 9 The copper foil adhesion of Examples 8 and 9 has not been measured, but since the oxazolidone structure formed by the reaction of the cyanate ester compound and the epoxy compound tends to have excellent metal adhesion, Examples 1 to 6 and 10 12 are presumed to be superior in copper foil adhesion to Examples 8 and 9 (however, the reason is not limited to this).
  • the present invention has industrial applicability as a thermosetting resin composition used as materials for prepregs, resin sheets, metal foil-clad laminates, printed wiring boards, and the like.

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Abstract

アルケニルフェノールAと、エポキシ変性シリコーンBと、該エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cと、芳香族リン化合物Pと、を含有する、熱硬化性樹脂組成物。

Description

熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及びプリント配線板
 本発明は、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及びプリント配線板に関する。
 近年、電子機器や通信機、パーソナルコンピューター等に広く用いられている半導体パッケージの高機能化、小型化が進むに伴い、半導体パッケージ用の各部品の高集積化や高密度実装化が近年益々加速している。これに伴い、半導体パッケージ用のプリント配線板に求められる諸特性はますます厳しいものとなっている。このようなプリント配線板に求められる特性としては、例えば、低熱膨張率、耐薬品性、ピール強度等が挙げられる。
 かかる背景の下、特許文献1においては、アルケニルフェノールと、エポキシ変性シリコーンと、エポキシ変性シリコーンを除くエポキシ化合物を含む硬化性組成物、又は、これらを構成単位として有する重合体を含む硬化性組成物をプリプレグ、レジンシート、金属箔張積層板及びプリント配線板に適用することが提案されている。
国際公開第2020/022084号
 特許文献1に記載の技術によれば、優れた相溶性、低熱膨張性及び耐薬品性を発現することができるとされている。一方、半導体パッケージ用積層板用途では、積層板の面方向の熱膨張率(以下、単に「熱膨張率」ともいう。)の低減に対する要求が高くなっている。以下、熱膨張率が低いことを、「低熱膨張性に優れる」ともいう。かかる低熱膨張性の観点から、特許文献1に記載の技術においても、依然として改善の余地がある。
 本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、耐熱性及び低熱膨張性に優れる、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及びプリント配線板を提供することを目的とする。
 本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、アルケニルフェノールと、エポキシ変性シリコーンと、エポキシ変性シリコーンを除くエポキシ化合物とを、芳香族リン化合物と併用することにより、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
 すなわち、本発明は次のとおりである。
〔1〕
 アルケニルフェノールAと、エポキシ変性シリコーンBと、該エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cと、芳香族リン化合物Pと、を含有する、熱硬化性樹脂組成物。
〔2〕
 アルケニルフェノールAに由来する構成単位と、エポキシ変性シリコーンBに由来する構成単位と、該エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cに由来する構成単位とを含有する重合体Dと、芳香族リン化合物Pと、を含有する、熱硬化性樹脂組成物。
〔3〕
 さらに、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB及び該エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cからなる群より選択される少なくとも1種を含む、〔2〕に記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔4〕
 前記重合体Dの重量平均分子量が、3.0×10~5.0×10である、〔2〕又は〔3〕に記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔5〕
 前記重合体D中の前記エポキシ変性シリコーンBに由来する構成単位の含有量が、前記重合体Dの総質量に対して、20~60質量%である、〔2〕~〔4〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔6〕
 マレイミド化合物、シアン酸エステル化合物、前記アルケニルフェノールA以外のフェノール化合物A’及びアルケニル置換ナジイミド化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物Eを更に含む、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔7〕
 前記シアン酸エステル化合物が、ナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物及び/又はノボラック型シアン酸エステル化合物を含む、〔6〕に記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔8〕
 前記フェノール化合物A’が、アミノトリアジンノボラック樹脂及び/又はフルオレン骨格を有するビスフェノール類を含む、〔6〕又は〔7〕に記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔9〕
 前記マレイミド化合物が、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、2,2-ビス{4-(4-マレイミドフェノキシ)-フェニル}プロパン、ビス(3-エチル-5-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン、下記式(3)で表されるマレイミド化合物、及び下記式(3’)で表されるマレイミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、〔6〕~〔8〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
(式(3)中、Rは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、nは1以上の整数を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
(式(3’)中、R13は各々独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、又はフェニル基を示し、nは1以上10以下の整数を示す。)
〔10〕
 前記重合体Dの含有量が、前記重合体D及び前記化合物Eの合計100質量%に対して、5~60質量%である、〔6〕~〔9〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔11〕
 前記エポキシ化合物Cが、ナフタレンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂及び/又はナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含む、〔1〕~〔10〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔12〕
 前記エポキシ化合物Cが、下記式(b2)で表されるビフェニル型エポキシ樹脂を含む、〔1〕~〔10〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(式(b2)中、Raは、各々独立して、炭素数1~10のアルキル基又は水素原子を表す。)
〔13〕
 前記エポキシ変性シリコーンBが、下記式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンを含む、〔1〕~〔12〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
(上記式(1)中、Rは、各々独立に、単結合、アルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を示し、Rは、各々独立に、炭素数1~10のアルキル基又はフェニル基を示し、nは、0~100の整数を示す。)
〔14〕
 前記エポキシ変性シリコーンBが、140~250g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーンを含有する、〔1〕~〔13〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔15〕
 前記アルケニルフェノールAが、ジアリルビスフェノール及び/又はジプロペニルビスフェノールを含有する、〔1〕~〔14〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔16〕
 前記芳香族リン化合物Pが、環状ホスファゼン化合物、リン酸エステル化合物、亜リン酸エステル化合物及びホスファフェナントレン化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含む、〔1〕~〔15〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔17〕
 前記芳香族リン化合物Pが、下記式(P1)、(P2)、(P3)又は(P4)で表される芳香族リン化合物P’を含む、〔1〕~〔16〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
(上記式(P1)中、Ph1、Ph2及びPh3は、置換又は非置換のアリール基を表し、当該Ph1、Ph2及びPh3は、同一であっても異なっていてもよい。
 上記式(P2)中、Ph1及びPh2は、置換又は非置換のアリール基を表し、当該Ph1及びPh2は、同一であっても異なっていてもよく、Rは、炭素数1~30のアルキル基又は炭素数6~30のアリール基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
(上記式(P3)中、Aは、各々独立して、水素原子、メチル基、ヒドロキシル基、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、グリシジルオキシ基、パラヒドロキシフェニルジメチル基、パラグリシジルオキシフェニルジメチル基、パラヒドロキシフェニルスルホン基、パラグリシジルオキシフェニルスルホン基、炭素数2~30のアルキル基、炭素数2~30のアルケニル基又は炭素数6~30のアリール基を表し、Rは、各々独立して、水素原子、メチル基又は炭素数2~30のアルキル基を表し、nは3~15の整数を表す。
 上記式(P4)中、Rは水素原子、炭素数2~30のアルキル基又は置換若しくは非置換のアリール基を表す。)
〔18〕
 前記芳香族リン化合物Pが、下記式(P5)で表される芳香族リン化合物P’’を含む、〔1〕~〔17〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
〔19〕
 前記芳香族リン化合物Pの含有量が、樹脂固形分100質量部に対して、3~15質量部である、〔1〕~〔18〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔20〕
 無機充填材を更に含有する、〔1〕~〔19〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔21〕
 前記無機充填材が、シリカ類、ベーマイト及びアルミナからなる群より選択される少なくとも1種を含み、前記無機充填材の含有量が、樹脂固形分100質量部に対して、50~1000質量部である、〔1〕~〔20〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。
〔22〕
 〔1〕~〔21〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。
〔23〕
 基材と、
 前記基材に含浸又は塗布された、〔1〕~〔21〕のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物と、
 を含む、プリプレグ。
〔24〕
 〔23〕に記載のプリプレグ及び/又はそれを硬化させてなる硬化物を含む積層体と、
 前記積層体の片面又は両面に配された金属箔と、
 を含む、金属箔張積層板。
〔25〕
 〔23〕に記載のプリプレグを硬化させてなる硬化物を含む絶縁層と、
 前記絶縁層の表面に形成された導体層と、
 を含む、プリント配線板。
 本発明によれば、耐熱性及び低熱膨張性に優れる、熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及びプリント配線板を提供することができる。
 以下、本発明を実施するための形態(以下「本実施形態」という。)について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
 本明細書にいう「樹脂固形分」とは、特段の記載がない限り、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物における、溶剤及び充填材を除いた成分をいい、樹脂固形分100質量部とは、熱硬化性樹脂組成物における溶剤及び充填材を除いた成分の合計が100質量部であることをいう。また、樹脂固形分100質量%とは、熱硬化性樹脂組成物における溶剤及び充填材を除いた成分の合計が100質量%であることをいう。
[熱硬化性樹脂組成物]
 本実施形態の第1の態様に係る熱硬化性樹脂組成物(以下、「第1の組成物」ともいう。)は、アルケニルフェノールAと、エポキシ変性シリコーンBと、該エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cと、芳香族リン化合物Pと、を含有する。第1の組成物は、このように構成されているため、耐熱性及び低熱膨張性に優れる。
 本実施形態の第2の態様に係る熱硬化性樹脂組成物(以下、「第2の組成物」ともいう。)は、アルケニルフェノールAに由来する構成単位と、エポキシ変性シリコーンBに由来する構成単位と、該エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cに由来する構成単位とを含有する重合体Dと、芳香族リン化合物Pと、を含有する。第2の組成物は、このように構成されているため、耐熱性及び低熱膨張性に優れる。第2の組成物は、当該組成物中において重合体Dの存在が特定される点において第1の組成物と区別される。
 以下、「本実施形態の熱硬化性樹脂組成物」と称するときは、特段の断りがない限り、「第1の組成物」及び「第2の組成物」の双方を包含するものとする。
[アルケニルフェノールA]
 アルケニルフェノールAは、1つ以上のアルケニル基がフェノール性芳香環に直接結合した構造を有する化合物であれば特に限定されない。アルケニルフェノールAを含有することにより、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、耐熱性及び低熱膨張性のバランスが向上する。
 アルケニル基としては、特に限定されないが、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等の炭素数2~30のアルケニル基が挙げられる。なかでも、本実施形態の作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、アルケニル基は、アリル基及び/又はプロペニル基であることが好ましく、アリル基であることが更に好ましい。1つのフェノール性芳香環に直接結合しているアルケニル基の数は、特に限定されず、例えば、1~4である。本実施形態の作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、1つのフェノール性芳香環に直接結合しているアルケニル基の数は、好ましくは1~2であり、更に好ましくは1である。また、アルケニル基のフェノール性芳香環への結合位置も特に限定されないが、オルト位(2,6位)であることが好ましい。
 フェノール性芳香環は、1つ以上の水酸基が芳香環に直接結合したものをいい、フェノール環やナフトール環が挙げられる。1つのフェノール性芳香環に直接結合している水酸基の数は、特に限定されず、例えば、1~2であり、好ましくは1である。
 フェノール性芳香環は、アルケニル基以外の置換基を有していてもよい。そのような置換基としては、例えば、炭素数1~10の直鎖状アルキル基、炭素数3~10の分岐状アルキル基、炭素数3~10の環状アルキル基、炭素数1~10の直鎖状アルコキシ基、炭素数3~10の分岐状アルコキシ基、炭素数3~10の環状アルコキシ基及びハロゲン原子が挙げられる。フェノール性芳香環がアルケニル基以外の置換基を有する場合、1つのフェノール性芳香環に直接結合している当該置換基の数は、特に限定されず、例えば、1~2である。また、当該置換基のフェノール性芳香環への結合位置も特に限定されない。
 アルケニルフェノールAは、1つ以上のアルケニル基がフェノール性芳香環に直接結合した構造を1つ又は複数有してもよい。本実施形態の作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、アルケニルフェノールAは、1つ以上のアルケニル基がフェノール性芳香環に直接結合した構造を1つ又は2つ有することが好ましく、2つ有することが好ましい。
 アルケニルフェノールAは、例えば、下記式(1A)又は下記式(1B)で表される化合物であってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
(式(1A)中、Rxaは、各々独立して、炭素数2~8のアルケニル基を表し、Rxbは、各々独立して、炭素数1~10のアルキル基又は水素原子を表し、Rxcは、各々独立して、炭素数4~12の芳香環を表し、Rxcは、ベンゼン環と縮合構造を形成してもよく、Rxcは、存在していてもよく、存在していなくてもよく、Aは、炭素数1~6のアルキレン基、炭素数7~16のアラルキレン基、炭素数6~10のアリーレン基、フルオレニリデン基、スルホニル基、酸素原子、硫黄原子又は直接結合(単結合)を表し、Rxcが存在しない場合は、1つのベンゼン環にRxa及び/又はRxbの基を2つ以上有してもよい。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
(式(1B)中、Rxdは、各々独立して、炭素数2~8のアルケニル基を表し、Rxeは、各々独立して、炭素数1~10のアルキル基又は水素原子を表し、Rxfは、炭素数4~12の芳香環を表し、Rxfは、ベンゼン環と縮合構造を形成してもよく、Rxfは、存在していても、存在していなくてもよく、Rxfが存在しない場合は、1つのベンゼン環にRxd及び/又はRxeの基を2つ以上有してもよい。)
 式(1A)及び式(1B)中、Rxa及びRxdとして表される炭素数2~8のアルケニル基としては、特に限定されないが、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。
 式(1A)及び式(1B)中、Rxc及びRxfで表される基がベンゼン環と縮合構造を形成している場合としては、例えば、フェノール性芳香環として、ナフトール環を含む化合物が挙げられる。また、式(1A)及び式(1B)中、Rxc及びRxfで表される基が存在しない場合としては、例えば、フェノール性芳香環として、フェノール環を含む化合物が挙げられる。
 式(1A)及び式(1B)中、Rxb及びRxeとして表される炭素数1~10のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基等の分岐状アルキル基が挙げられる。
 式(1A)中、Aとして表される炭素数1~6のアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基が挙げられる。Aとして表される炭素数7~16のアラルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、式:-CH-Ar-CH-、-CH-CH-Ar-CH-CH-、又は式:-CH-Ar-CH-CH-(式中、Arは、フェニレン基、ナフチレン基、又はビフェニレン基を表す。)で表される基が挙げられる。Aとして表される炭素数6~10のアリーレン基としては、特に限定されないが、例えば、フェニレン環が挙げられる。
 式(1B)で表される化合物は、本実施形態の作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、Rxfがベンゼン環であること(ジヒドロキシナフタレン骨格を含む化合物)が好ましい。
 アルケニルフェノールAは、耐熱性及び低熱膨張性のバランスをより一層向上させる観点から、ビスフェノール類の2つのフェノール性芳香環にそれぞれ1つのアルケニル基が結合したアルケニルビスフェノールであることが好ましい。同様の観点から、アルケニルビスフェノールは、ビスフェノール類の2つのフェノール性芳香環にそれぞれ1つのアリル基が結合したジアリルビスフェノール及び/又はビスフェノール類の2つのフェノール性芳香環にそれぞれ1つのプロペニル基が結合したジプロペニルビスフェノールであることが好ましい。
 ジアリルビスフェノールとしては、特に限定されないが、例えば、o,o’-ジアリルビスフェノールA(大和化成工業株式会社製品の「DABPA」)、o,o’-ジアリルビスフェノールF、o,o’-ジアリルビスフェノールS、o,o’-ジアリルビスフェノールフルオレンが挙げられる。ジプロペニルビスフェノールとしては、特に限定されないが、例えば、o,o’-ジプロペニルビスフェノールA(群栄化学工業株式会社の「PBA01」)、o,o’-ジプロペニルビスフェノールF、o,o’-ジプロペニルビスフェノールS、o,o’-ジプロペニルビスフェノールフルオレンが挙げられる。
 アルケニルフェノールAの1分子当たりの平均フェノール基数は、本実施形態の作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、1以上3未満であることが好ましく、1.5以上2.5以下であることがより好ましい。平均フェノール基数は、以下の式により算出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000017
 上記式中、Aiは、分子中にi個のフェノール基を有するアルケニルフェノールのフェノール基数を表し、Xiは、分子中にi個のフェノール基を有するアルケニルフェノールのアルケニルフェノール全体に占める割合を表し、X+X+…X=1である。
[エポキシ変性シリコーンB]
 エポキシ変性シリコーンBは、エポキシ基含有基により変性されたシリコーン化合物または樹脂であれば特に限定されない。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、エポキシ変性シリコーンBを含有することにより、低熱膨張性及び耐薬品性に優れる。
 シリコーン化合物または樹脂は、シロキサン結合が繰り返し形成されたポリシロキサン骨格を有する化合物であれば特に限定されない。ポリシロキサン骨格は、直鎖状の骨格であってもよく、環状の骨格であってもよく、網目状の骨格であってもよい。このなかでも、本実施形態の作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、直鎖状の骨格であることが好ましい。
 エポキシ基含有基としては、特に限定されないが、例えば、下記式(a1)で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
(式(a1)中、Rは、アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の炭素数1~5のアルキレン基)を表し、Xは、下記式(a2)で表される1価の基又は下記式(a3)で表される1価の基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 エポキシ変性シリコーンBは、140~250g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーンを含有することが好ましい。エポキシ変性シリコーンBは、上記範囲内にあるエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーンを含有することにより、耐熱性及び低熱膨張性のバランスを一層向上できる傾向にある。上記エポキシ当量は、同様の観点から、145~245g/molであることがより好ましく、150~240g/molであることが更に好ましい。
 エポキシ変性シリコーンBは、耐熱性及び低熱膨張性のバランスを一層向上できる観点から、2種以上のエポキシ変性シリコーンを含有することが好ましい。この場合、2種以上のエポキシ変性シリコーンは、それぞれ異なるエポキシ当量を有することが好ましく、50~350g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーン(以下、「低当量エポキシ変性シリコーンB1」ともいう。)と、400~4000g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーン(以下、「高当量エポキシ変性シリコーンB2」ともいう。)とを含有することがより好ましく、140~250g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーン(低当量エポキシ変性シリコーンB1’)と、450~3000g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーン(高当量エポキシ変性シリコーンB2’)とを含有することがさらに好ましい。
 エポキシ変性シリコーンBが2種以上のエポキシ変性シリコーンを含有する場合、エポキシ変性シリコーンBの平均エポキシ当量は、140~3000g/molであることが好ましく、250~2000g/molであることがより好ましく、300~1000g/molであることが更に好ましい。平均エポキシ当量は、以下の式により算出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000021
(上記式中、Eiは、2種以上のエポキシ変性シリコーンのうちの1種のエポキシ変性シリコーンのエポキシ当量を表し、Wiは、エポキシ変性シリコーンB中の上記エポキシ変性シリコーンの割合を表し、W+W+…W=1である。)
 エポキシ変性シリコーンBは、耐熱性及び低熱膨張性のバランスを一層向上できる観点から、下記式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンを含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 式(1)中、Rは、各々独立に、単結合、アルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を示し、Rは、各々独立に、炭素数1~10のアルキル基又はフェニル基を示し、nは、0~100の整数を示す。
 式(1)中、Rで表されるアルキレン基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよい。アルキレン基の炭素数は、好ましくは1~12であり、より好ましくは1~4である。アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基又はプロピレン基が挙げられる。これらの中でも、Rは、プロピレン基であることが好ましい。
 式(1)中、Rで表されるアリーレン基は、置換基を有していてもよい。アリーレン基の炭素数としては、好ましくは6~40であり、より好ましくは6~20である。アリーレン基としては、例えば、フェニレン基、シクロヘキシルフェニレン基、ヒドロキシフェニレン基、シアノフェニレン基、ニトロフェニレン基、ナフチリレン基、ビフェニレン基、アントリレン基、ピレニレン基、フルオレニレン基等が挙げられる。これらの基には、エーテル結合、ケトン結合あるいはエステル結合を含んでいてもよい。
 式(1)中、Rで表されるアラルキレン基の炭素数は、好ましくは7~30であり、より好ましくは7~13である。アラルキレン基としては、例えば、下記式(X-I)で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
(式(X-I)中、*は、結合手を表す。)
 式(1)中、Rで表される基は、更に置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、炭素数1~10の直鎖状アルキル基、炭素数3~10の分岐状アルキル基、炭素数3~10の環状アルキル基、炭素数1~10の直鎖状アルコキシ基、炭素数3~10の分岐状アルコキシ基及び炭素数3~10の環状アルコキシ基が挙げられる。これらの中でも、Rは、プロピレン基であることが特に好ましい。
 式(1)中、Rは、各々独立して、炭素数1~10のアルキル基又はフェニル基を表す。上記アルキル基及びフェニル基は、置換基を有してもよい。炭素数1~10のアルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよい。アルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。これらの中でも、Rは、メチル基又はフェニル基であることが好ましい。
 式(1)中、nは0以上の整数を表し、例えば、0~100である。耐熱性及び低熱膨張性のバランスを一層向上できる観点から、nは、好ましくは50以下であり、より好ましくは30以下であり、更に好ましくは20以下である。
 エポキシ変性シリコーンBは、耐熱性及び低熱膨張性のバランスを一層向上できる観点から、式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンを2種類以上含有することが好ましい。この場合、2種類以上含有するエポキシ変性シリコーンは、それぞれ異なるnを有することが好ましく、式(1)においてnが1~2であるエポキシ変性シリコーンと、式(1)においてnが5~20であるエポキシ変性シリコーンとを含有することがより好ましい。
 エポキシ変性シリコーンBの1分子当たりの平均エポキシ基数は、本実施形態の作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、1以上3未満であることが好ましく、1.5以上2.5以下であることがより好ましい。平均エポキシ基数は、以下の式により算出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000024
(上記式中、Biは、分子中にi個のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンのエポキシ基数を表し、Yiは、分子中にi個のエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンのエポキシ変性シリコーン全体に占める割合を表し、Y+Y+…Y=1である。)
 エポキシ変性シリコーンBの含有量は、一層優れた低熱膨張性及び耐薬品性を発現できる観点から、エポキシ変性シリコーンB及びエポキシ化合物Cの合計100質量%に対して、5~95質量%であることが好ましく、10~90質量%であることがより好ましく、40~85質量%であることが更に好ましく、50~80質量%であることが更により好ましい。
 エポキシ変性シリコーンBとしては、市販品を用いてもよく、公知の方法により製造された製品を用いてもよい。市販品としては、例えば、信越化学工業株式会社製品の「X-22-163」、「KF-105」が挙げられる。
[エポキシ化合物C]
 エポキシ化合物Cは、エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物であり、より具体的には、ポリシロキサン骨格を有しないエポキシ化合物である。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、エポキシ化合物Cを含有することにより、耐熱性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を発現できる。
 エポキシ化合物Cとしては、エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物であれば特に限定されない。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物におけるエポキシ化合物Cとしては、典型的には、1分子中にエポキシ基を2つ有する2官能エポキシ化合物や1分子中にエポキシ基を3つ以上有する多官能エポキシ化合物を使用することができる。エポキシ化合物Cは、一層優れた耐熱性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を発現できる観点から、2官能エポキシ化合物及び/又は多官能エポキシ化合物を含有することが好ましい。
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物におけるエポキシ化合物Cとしては、特に限定されないが、下記式(3a)で表される化合物を用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
(式(3a)中、Arは、各々独立して、ベンゼン環又はナフタレン環を表し、Arは、ベンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環を表し、R3aは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、kは1~50の整数を表し、
 ここで、Arにおけるベンゼン環又はナフタレン環は、さらに一又は複数の置換基を有してもよく、当該置換基は、図示しないグリシジルオキシ基であってもよく、その他の置換基、例えば、炭素数1~5のアルキル基、フェニル基等であってもよく、
 Arにおけるベンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環は、さらに一又は複数の置換基を有してもよく、当該置換基は、グリシジルオキシ基であってもよく、その他の置換基、例えば、炭素数1~5のアルキル基、フェニル基等であってもよい。)
 上記式(3a)で表される化合物中、2官能エポキシ化合物としては、例えば、下記式(b1)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
(式(b1)中、Arは、各々独立して、ベンゼン環又はナフタレン環を表し、Arは、ベンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環を表し、R3aは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、
 ここで、Arにおけるベンゼン環又はナフタレン環は、さらに一又は複数の置換基を有してもよく、当該置換基は、例えば、炭素数1~5のアルキル基やフェニル基等のグリシジルオキシ基以外の置換基であってもよく、
 Arにおけるベンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環は、さらに一又は複数の置換基を有してもよく、当該置換基は、例えば、炭素数1~5のアルキル基やフェニル基等のグリシジルオキシ基以外の置換基であってもよい。)
 式(3a)で表される化合物は、式(3a)においてArが少なくともグリシジルオキシ基で置換された、フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂であることが好ましい。フェノール類ノボラック型エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、下記式(3-1)で表される構造を有する化合物(ナフタレン骨格を有するナフタレン骨格含有多官能エポキシ樹脂)や、ナフタレンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
(式中、Ar31は、各々独立して、ベンゼン環又はナフタレン環を表し、Ar41は、各々独立して、ベンゼン環、ナフタレン環又はビフェニル環を表し、R31aは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、pは、1を表し、kzは1~50の整数を表し、各環は、グリシジルオキシ基以外の置換基(例えば、炭素数1~5のアルキル基、炭素数1~5のアルコキシ基又はフェニル基)を有してもよく、Ar31及びAr41の少なくとも一方はナフタレン環を表す。)
 式(3-1)で表される構造を有する化合物としては、式(3-2)で表される構造を有する化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
(式中、Rは、メチル基を表し、kzは、上記式(3-1)中のkzと同義である。)
 ナフタレンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、下記式(NE)で示されるクレゾール/ナフトールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。なお、下記式(NE)で示される化合物は、クレゾールノボラックエポキシの構成単位と、ナフトールノボラックエポキシの構成単位とのランダム共重合体であり、クレゾールエポキシ及びナフトールエポキシのいずれもが末端になりうる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 前記式(NE)におけるm及びnは、各々、1以上の整数を表す。m及びnの上限及びその比については特に限定されないが、低熱膨張性の観点から、m:n(ここで、m+n=100)として、30~50:70~50であることが好ましく、45~55:55~45がより好ましい。
 ナフタレンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、市販品を用いてもよく、公知の方法により製造された製品を用いてもよい。市販品としては、例えば、日本化薬株式会社製品の「NC-7000」、「NC-7300」、「NC-7300L」や、DIC株式会社製品の「HP-9540」、「HP-9500」等が挙げられ、「HP-9540」がとりわけ好ましい。
 式(3a)で表される化合物は、上述したフェノール類ノボラック型エポキシ樹脂に該当しない化合物(以下、「アラルキル型エポキシ樹脂」ともいう。)であってもよい。
 アラルキル型エポキシ樹脂としては、式(3a)においてArがナフタレン環であり、Arがベンゼン環である化合物(「ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂」ともいう。)、及び式(3a)においてArがベンゼン環であり、Arがビフェニル環である化合物(「ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂」ともいう。)であることが好ましく、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂であることがより好ましい。
 ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂としては、市販品を用いてもよく、公知の方法により製造された製品を用いてもよい。市販品としては、例えば、DIC株式会社製品の「HP-5000」、「HP-9900」、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製品の「ESN-375」、「ESN-475」等が挙げられる。
 ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂は、下記式(3b)で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
(式中、kaは、1以上の整数を表し、1~20が好ましく、1~6がより好ましい。)
 上記式(3b)で表される化合物中、2官能エポキシ化合物としては、例えば、式(3b)においてkaが1である化合物が挙げられる。
 ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂としては、市販品を用いてもよく、公知の方法により製造された製造品を用いてもよい。市販品としては、例えば、日本化薬株式会社製品の「NC-3000」、「NC-3000L」、「NC-3000FH」等が挙げられる。
 また、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物におけるエポキシ化合物Cとしては、ナフタレン型エポキシ樹脂(式(3a)で表される化合物に該当するものを除く。)を用いることが好ましい。ナフタレン型エポキシ樹脂としては、耐熱性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を一層向上させる観点から、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂であることが好ましい。
 ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂は、耐熱性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を一層向上させる観点から、下記式(3-3)で表される2官能エポキシ化合物又は下記式(3-4)で表される多官能エポキシ化合物、あるいは、それらの混合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
(式中、R13は、各々独立して、水素原子、炭素数1~3のアルキル基(例えば、メチル基又はエチル基)、又は炭素数2~3のアルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基又はプロペニル基)を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
(式中、R14は、各々独立して、水素原子、炭素数1~3のアルキル基(例えば、メチル基又はエチル基)、又は炭素数2~3のアルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基又はプロペニル基)を表す。)
 ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂は、市販品を用いてもよく、公知の方法により製造された製品を用いてもよい。ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、DIC株式会社製品の「HP-6000」、「EXA-7300」、「EXA-7310」、「EXA-7311」、「EXA-7311L」、「EXA7311-G3」、「EXA7311-G4」、「EXA-7311G4S」、「EXA-7311G5」等が挙げられ、とりわけHP-6000が好ましい。
 ナフタレン型エポキシ樹脂の上記したもの以外の例としては、以下に限定されないが、下記式(b3)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
(式(b3)中、R3bは、各々独立して、水素原子、炭素数1~5のアルキル基(例えば、メチル基又はエチル基)、アラルキル基、ベンジル基、ナフチル基、少なくとも1つのグリシジルオキシ基を含有するナフチル基又は少なくとも1つのグリシジルオキシ基を含有するナフチルメチル基を表し、nは、0以上の整数(例えば、0~2)を表す。)
 上記式(b3)で表される化合物の市販品としては、例えば、DIC株式会社製品の「HP-4032」(上記式(b3)においてn=0)、「HP-4710」(上記式(b3)において、n=0であり、R3bが少なくとも1つのグリシジルオキシ基を含有するナフチルメチル基)等が挙げられる。
 また、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物におけるエポキシ化合物Cとしては、ビフェニル型エポキシ樹脂(上述したエポキシ化合物Cに該当するものを除く。)を用いることが好ましい。
 ビフェニル型エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、下記式(b2)で表される化合物(化合物b2)が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
(式(b2)中、Raは、各々独立して、炭素数1~10のアルキル基又は水素原子を表す。)
 式(b2)中、炭素数1~10のアルキル基は、直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよい。アルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
 ビフェニル型エポキシ樹脂が、化合物b2である場合、ビフェニル型エポキシ樹脂は、アルキル基であるRaの数が異なる化合物b2の混合物の形態であってもよい。具体的には、アルキル基であるRaの数が異なるビフェニル型エポキシ樹脂の混合物であることが好ましく、アルキル基であるRaの数が0である化合物b2と、アルキル基であるRaの数が4である化合物b2の混合物であることがより好ましい。
 また、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物におけるエポキシ化合物Cとしては、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(上述したエポキシ化合物Cに該当するものを除く。)を用いることができる。
 ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、下記式(3-5)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
(式中、R3cは、各々独立し、水素原子又は炭素数1~5のアルキル基を表し、k2は、0~10の整数を表す。)
 上記式(3-5)で表される化合物は、特に限定されないが、例えば、下記式(b4)で表される化合物であってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
(式(b4)中、R3cは、各々独立し、水素原子又は炭素数1~5のアルキル基(例えば、メチル基又はエチル基)を表す。)
 ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂は、市販品を用いてもよく、公知の方法により製造された製品を用いてもよい。ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂の市販品としては、大日本インキ化学工業株式会社製品の「EPICRON HP-7200L」、「EPICRON HP-7200」、「EPICRON HP-7200H」、「EPICRON HP-7000HH」等が挙げられる。
 これらの中でも、エポキシ化合物Cは、一層優れた耐熱性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を発現できる観点から、式(3a)で表されるエポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ樹脂及びビフェニル型エポキシ樹脂からなる群より選択される1種以上であることが好ましく、この場合において、式(3a)で表されるエポキシ化合物はナフタレンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を含み、ナフタレン型エポキシ樹脂はナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含むことが好ましい。すなわち、エポキシ化合物Cは、ナフタレンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂及び/又はナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含むことが好ましい。
 エポキシ化合物Cとしては、前述したエポキシ化合物に該当しない、他のエポキシ化合物を含んでいてもよい。
 他のエポキシ化合物としては、特に限定されないが、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、ポリオール型エポキシ樹脂、イソシアヌレート環含有エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型構造単位と炭化水素系構造単位からなるエポキシ樹脂等が挙げられる。
 他のエポキシ化合物としては、上記した中でも、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を一層向上させる観点から、ビスフェノール型エポキシ樹脂を含むことができ、ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ジアリルビスフェノール型エポキシ樹脂(例えば、ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂、ジアリルビスフェノールE型エポキシ樹脂、ジアリルビスフェノールF型エポキシ樹脂、ジアリルビスフェノールS型エポキシ樹脂等)等を用いることができる。
 エポキシ化合物Cとしては、前述したエポキシ化合物及びエポキシ樹脂のうち、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
 エポキシ化合物Cの1分子当たりの平均エポキシ基数は、本実施形態の作用効果をより有効かつ確実に奏する観点から、1以上3未満であることが好ましく、1.5以上2.5以下であることがより好ましい。平均エポキシ基数は、以下の式により算出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000037
(上記式中、Ciは、分子中にi個のエポキシ基を有するエポキシ化合物のエポキシ基数を表し、Ziは、分子中にi個のエポキシ基を有するエポキシ化合物のエポキシ化合物全体に占める割合を表し、Z+Z+…Z=1である。)
 エポキシ化合物Cの含有量は、一層優れた耐熱性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を発現できる観点から、エポキシ変性シリコーンB及びエポキシ化合物Cの合計量100質量%に対して、5~95質量%であることが好ましく、10~90質量%であることがより好ましく、15~60質量%であることが更に好ましく、20~50質量%であることが特に好ましい。
[化合物E]
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、耐熱性、低熱膨張性、耐薬品性及び銅箔密着性をより一層向上させる観点から、マレイミド化合物、シアン酸エステル化合物、前記アルケニルフェノールA以外のフェノール化合物A’及びアルケニル置換ナジイミド化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物Eを更に含むことが好ましい。化合物Eとしては、特に限定されないが、2官能以上であることが好ましく、3官能以上の多官能であってもよい。
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物中の化合物Eの含有量は、樹脂固形分100質量%に対して、好ましくは10~80質量%であることが好ましく、20~60質量%であることがより好ましく、30~50質量%であることが更に好ましい。
(マレイミド化合物)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、耐熱性、低熱膨張性及び耐薬品性を一層向上させる観点から、マレイミド化合物を含有することが好ましい。マレイミド化合物としては、1分子中に1つ以上のマレイミド基を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、1分子中にマレイミド基を1つ有するモノマレイミド化合物(例えば、N-フェニルマレイミド、N-ヒドロキシフェニルマレイミド等)、1分子中にマレイミド基を2つ以上有するポリマレイミド化合物(例えば、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、2,2-ビス{4-(4-マレイミドフェノキシ)-フェニル}プロパン、ビス(3-エチル-5-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5-ジメチル-4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3,5-ジエチル-4-マレイミドフェニル)メタン)、m-フェニレンビスマレイミド、4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド、1,6’-ビスマレイミド-(2,2,4-トリメチル)ヘキサン、下記式(3)で表されるマレイミド化合物、下記式(3’)で表されるマレイミド化合物、これらのマレイミド化合物とアミン化合物とのプレポリマー等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
(式(3)中、Rは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、nは1以上の整数を表す。)
 nは、1以上であり、好ましくは1~100であり、より好ましくは1~10である。
 これらのマレイミド化合物は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中でも、低熱膨張性及び耐薬品性をより一層向上させる観点から、マレイミド化合物は、1分子中に2つ以上のマレイミド基を有する化合物であることが好ましく、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、2,2-ビス{4-(4-マレイミドフェノキシ)-フェニル}プロパン、ビス(3-エチル-5-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン、式(3)で表されるマレイミド化合物、及び下記式(3’)で表されるマレイミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
(式(3’)中、R13は各々独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、又はフェニル基を示し、nは1以上10以下の整数を示す。)
 マレイミド化合物は、市販品を用いてもよく、公知の方法により製造された製品を用いてもよい。マレイミド化合物の市販品としては、ケイ・アイ化成株式会社製品の、「BMI-70」、「BMI-80」、「BMI-1000P」、大和化成工業株式会社製品の「BMI-3000」、「BMI-4000」、「BMI-5100」、「BMI-7000」、「BMI-2300」、日本化薬株式会社製品の「MIR-3000-MT」(式(3’)中のR13が全て水素原子であり、nが1~10の混合物である。)等が挙げられる。
 マレイミド化合物の含有量は、低熱膨張性及び耐薬品性を一層向上させる観点から、樹脂固形分100質量部に対して、好ましくは1~50質量部であり、5~40質量部であることがより好ましく、10~40質量部であることが更に好ましい。
(シアン酸エステル化合物)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、耐熱性、低熱膨張性、銅箔密着性及び耐薬品性を一層向上させる観点から、シアン酸エステル化合物を含有することが好ましい。シアン酸エステル化合物としては、1分子中に2つ以上のシアネート基(シアン酸エステル基)を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、下記式(4)で表される化合物等のナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物、式(4)で表される化合物を除く下記式(5)で表される化合物等のノボラック型シアン酸エステル化合物、ビフェニルアラルキル型シアン酸エステル、ジアリルビスフェール型シアン酸エステル化合物、ビス(3,3-ジメチル-4-シアナトフェニル)メタン、ビス(4-シアナトフェニル)メタン、1,3-ジシアナトベンゼン、1,4-ジシアナトベンゼン、1,3,5-トリシアナトベンゼン、1,3-ジシアナトナフタレン、1,4-ジシアナトナフタレン、1,6-ジシアナトナフタレン、1,8-ジシアナトナフタレン、2,6-ジシアナトナフタレン、2、7-ジシアナトナフタレン、1,3,6-トリシアナトナフタレン、4、4’-ジシアナトビフェニル、ビス(4-シアナトフェニル)エーテル、ビス(4-シアナトフェニル)チオエーテル、ビス(4-シアナトフェニル)スルホン、2、2-ビス(4-シアナトフェニル)プロパンが挙げられる。これらのシアン酸エステル化合物は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。本実施形態においては、耐熱性,低熱膨張性、銅箔密着性及び耐薬品性の観点から、シアン酸エステル化合物が、ナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物及び/又はノボラック型シアン酸エステル化合物等の多官能シアン酸エステル化合物を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
(式(4)中、Rは、各々独立して、水素原子又はメチル基を示し、nは1以上の整数を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
(式(5)中、Ryaは、各々独立して、炭素数2~8のアルケニル基又は水素原子を表し、Rybは、各々独立して、炭素数1~10のアルキル基又は水素原子を表し、Rycは、各々独立して、炭素数4~12の芳香環又は水素原子を表し、Rycは、ベンゼン環と縮合構造を形成してもよく、Rycは、存在していてもよく、存在していなくてもよく、A1aは、各々独立して、炭素数1~6のアルキレン基、炭素数7~16のアラルキレン基、炭素数6~10のアリーレン基、フルオレニリデン基、スルホニル基、酸素原子、硫黄原子、又は直接結合(単結合)を表し、Rycが水素原子である場合は、1つのベンゼン環にRya及び/又はRybの基を2つ以上有してもよい。nは、1~20の整数を表す。)
 シアン酸エステル化合物は、これらの中でも、耐熱性、低熱膨張性、銅箔密着性及び耐薬品性を一層向上させる観点から、式(4)及び/又は式(5)で表される化合物を含むことが好ましい。
 式(4)中、nは、1以上の整数を表し、1~20の整数であることが好ましく、1~10の整数であることがより好ましい。
 式(5)中、Ryaとして表される炭素数2~8のアルケニル基としては、特に限定されないが、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。
 式(5)中、Rybとして表される炭素数1~10のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基等の分岐状アルキル基が挙げられる。
 式(5)中、A1aとして表される炭素数1~6のアルキレン基としては、特に限定されないが、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基が挙げられる。また、式(5)中、A1aとして表される炭素数7~16のアラルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、式:-CH-Ar-CH-、-CH-CH-Ar-CH-CH-、又は式:-CH-Ar-CH-CH-(式中、Arは、フェニレン基、ナフチレン基、又はビフェニレン基を表す。)で表される基が挙げられる。さらに、A1aとして表される炭素数6~10のアリーレン基としては、特に限定されないが、例えば、フェニレン環が挙げられる。
 式(5)中、nは、1~20の整数を表し、1~15の整数であることが好ましく、1~10の整数であることがより好ましい。
 式(5)で表される化合物は、下記式(c1)で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
(式(c1)中、Rxは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、Rは、各々独立して、炭素数2~8のアルケニル基、炭素数1~10のアルキル基又は水素原子を表し、nは、1~10の整数を表す。)
 これらのシアン酸エステル化合物は、公知の方法に準じて製造してもよい。具体的な製造方法としては、例えば、特開2017-195334号公報(特に段落0052~0057)等に記載の方法が挙げられる。
 シアン酸エステル化合物の含有量は、耐熱性、低熱膨張性、銅箔密着性及び耐薬品性を一層向上させる観点から、樹脂固形分100質量部に対して、好ましくは5~70質量部であることが好ましく、10~60質量部であることがより好ましく、10~40質量部であることが更に好ましい。
(アルケニルフェノールA以外のフェノール化合物A’)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、一層優れた耐薬品性を発現できる観点から、アルケニルフェノールA以外のフェノール化合物A’を含有することができる。フェノール化合物A’としては、特に限定されないが、ビスフェノール型フェノール樹脂(例えば、ビスフェノールA型樹脂、ビスフェノールE型樹脂、ビスフェノールF型樹脂、ビスフェノールS型樹脂等)、フェノール類ノボラック樹脂(例えば、フェノールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、後述するアミノトリアジンノボラック樹脂等)、グリシジルエステル型フェノール樹脂、ナフタレン型フェノール樹脂、アントラセン型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、ビフェニル型フェノール樹脂、脂環式フェノール樹脂、ポリオール型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂(例えば、ナフトールアラルキル型フェノール樹脂)、フェノール変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂、フルオレン型フェノール樹脂等が挙げられる。これらのフェノール化合物は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
 これらの中でも、フェノール化合物A’は、一層優れた耐薬品性を発現できる観点から、1分子中にフェノール性水酸基を2つ有する2官能フェノール化合物またはアミノトリアジンノボラック樹脂を含むことが好ましい。
 2官能フェノール化合物としては、特に限定されないが、ビスフェノール、ビスクレゾール、フルオレン骨格を有するビスフェノール類(例えば、フルオレン骨格を有するビスフェノール、フルオレン骨格を有するビスクレゾール等)、ビフェノール(例えば、p、p’-ビフェノール等)、ジヒドロキシジフェニルエーテル(例えば、4,4’-ジヒドロキシジフェニルエーテル等)、ジヒドロキシジフェニルケトン(例えば、4,4’-ジヒドロキシジフェニルケトン等)、ジヒドロキシジフェニルスルフィド(例えば、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフィド等)、ジヒドロキシアレーン(例えば、ハイドロキノン等)が挙げられる。これらの2官能フェノール化合物は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中でも、2官能フェノール化合物は、一層優れた耐薬品性を発現できる観点から、ビスフェノール、ビスクレゾール、及びフルオレン骨格を有するビスフェノール類からなる群より選択される1種以上を含むことが好ましく、フルオレン骨格を有するビスフェノール類を含むことがより好ましい。上記と同様の観点から、フルオレン骨格を有するビスフェノール類としては、ビスクレゾールフルオレンが好ましい。
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、前述のとおり、フェノール化合物A’としてアミノトリアジンノボラック樹脂を含んでもよい。アミノトリアジンノボラック樹脂を含む場合、アルケニルフェノールAと、エポキシ変性シリコーンBと、エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cとが反応することで生成した末端水酸基やエポキシ基と、アミノトリアジンノボラック樹脂とが更に反応し、水酸基やアミノ基などの末端官能基を増加させる傾向にある。これにより、熱硬化性樹脂との反応性の高い末端官能基が多数存在することになるため、相溶性および架橋密度が向上し、銅箔ピール強度を向上できる傾向にある。
 アミノトリアジンノボラック樹脂としては、特に限定されないが、銅箔ピール強度向上の観点から、分子内の一つのトリアジン骨格に対して2~20個のフェノール水酸基を有するノボラック樹脂であることが好ましく、分子内の一つのトリアジン骨格に対して2~15個のフェノール水酸基を有するノボラック樹脂であることがより好ましく、分子内の一つのトリアジン骨格に対して2~10個のフェノール水酸基を有するノボラック樹脂であることがさらに好ましい。
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物におけるアルケニルフェノールAの含有量は、耐熱性及び低熱膨張性のバランスをより一層向上させる観点から、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB、エポキシ化合物C及びフェノール化合物A’の総量100質量部に対して、1~50質量部であることが好ましく、3~30質量部であることがより好ましく、5~20質量部であることが更に好ましい。
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物におけるエポキシ変性シリコーンBの含有量は、一層優れた低熱膨張性及び耐薬品性をバランスよく発現できる観点から、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB、エポキシ化合物C及びフェノール化合物A’の総量100質量部に対して、5~70質量部であることが好ましく、10~60質量部であることがより好ましく、20~55質量部であることが更に好ましい。
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物におけるエポキシ化合物Cの含有量は、一層優れた耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を発現できる観点から、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB、エポキシ化合物C及びフェノール化合物A’の総量100質量部に対して、5~50質量部であることが好ましく、10~30質量部であることがより好ましく、15~25質量部であることが更に好ましい。
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物におけるフェノール化合物A’の含有量は、一層優れた耐薬品性を発現できる観点から、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB、エポキシ化合物C及びフェノール化合物A’の総量100質量部に対して、5~30質量部であることが好ましく、10~25質量部であることがより好ましく、15~20質量部であることが更に好ましい。
 なお、熱硬化性樹脂組成物が、フェノール化合物A’を含有しない場合、上述したアルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB及びエポキシ化合物Cの各含有量は、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB及びエポキシ化合物Cの総量100質量部に対する含有量を表す。
(アルケニル置換ナジイミド化合物)
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、耐熱性をより一層向上させる観点から、アルケニル置換ナジイミド化合物を含有することが好ましい。アルケニル置換ナジイミド化合物は、1分子中に1つ以上のアルケニル置換ナジイミド基を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、下記式(2d)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
(式(2d)中、Rは、各々独立して、水素原子、又は炭素数1~6のアルキル基(例えば、メチル基又はエチル基)を表し、Rは、炭素数1~6のアルキレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、又は下記式(6)若しくは下記式(7)で表される基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
(式(6)中、Rは、メチレン基、イソプロピリデン基、CO、O、S又はSOを表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
(式(7)中、Rは、各々独立して、炭素数1~4のアルキレン基、又は炭素数5~8のシクロアルキレン基を表す。)
 式(2d)で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物は、市販品を用いてもよく、公知の方法に準じて製造された製品を用いてもよい。市販品としては、丸善石油化学株式会社製品の「BANI-M」、及び「BANI-X」が挙げられる。
 アルケニル置換ナジイミド化合物の含有量は、耐熱性をより一層向上させる観点から、樹脂固形分100質量部に対して、好ましくは1~40質量部であり、5~35質量部であることがより好ましく、10~30質量部であることが更に好ましい。
[重合体D]
 第2の組成物は、アルケニルフェノールAに由来する構成単位と、エポキシ変性シリコーンBに由来する構成単位と、エポキシ化合物Cに由来する構成単位とを含有する重合体Dを含む。また、重合体Dは、前記アルケニルフェノールA以外のフェノール化合物A’に由来する構成単位を、更に含んでいてもよい。なお、本明細書において、「アルケニルフェノールAに由来する構成単位」、「エポキシ変性シリコーンBに由来する構成単位」「エポキシ化合物Cに由来する構成単位」及び「前記アルケニルフェノールA以外のフェノール化合物A’に由来する構成単位」を含有する旨の記載は、重合体D中に、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB、エポキシ化合物C及び必要に応じてフェノール化合物A’の各成分を重合させた構成単位を含有する場合と、同様の構成単位を与えうる反応等で形成した構成単位を含有する場合とを包含する。なお、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB、エポキシ化合物C、フェノール化合物A’については、それぞれ、上述した通りである。
 第2の組成物は、重合体Dを含むことにより、一層優れた耐熱性、低熱膨張性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を発現できる。
 以下、アルケニルフェノールAに由来する構成単位、エポキシ変性シリコーンBに由来する構成単位、エポキシ化合物Cに由来する構成単位、前記アルケニルフェノールA以外のフェノール化合物A’に由来する構成単位を、それぞれ、構成単位A、B、C、A’ともいう。
 第2の組成物は、重合体Dと芳香族リン化合物Pに加えて、必要に応じて、上述したマレイミド化合物、シアン酸エステル化合物、前記アルケニルフェノールA以外のフェノール化合物A’及びアルケニル置換ナジイミド化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物Eを更に含有してもよい。化合物Eは、重合体Dの重合後に残存した未反応成分であってもよいし、合成した重合体Dに対して、改めて添加した成分であってもよい。
 なお、第2の組成物は、重合体Dと芳香族リン化合物Pに加えて、上述したアルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB及びエポキシ化合物Cからなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい。この場合、第2の組成物に含まれるアルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB又はエポキシ化合物Cは、重合体Dの重合後に残存した未反応成分であってもよいし、合成した重合体Dに対して、改めて添加した成分であってもよい。
 重合体Dの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにおけるポリスチレン換算で、3.0×10~5.0×10であることが好ましく、3.0×10~2.0×10であることがより好ましい。重量平均分子量が3.0×10以上であることにより、第2の組成物は、一層優れた銅箔密着性及び耐薬品性を発現できる傾向にある。重量平均分子量が5.0×10以下であることにより、耐熱性及び低熱膨張性のバランスが一層向上する傾向にある。
 重合体D中の構成単位Aの含有量は、重合体Dの総質量に対して、5~50質量%であることが好ましい。構成単位Aの含有量が上記範囲内であることにより、第2の組成物は、耐熱性及び低熱膨張性のバランスが一層向上する傾向にある。同様の観点から、構成単位Aの含有量は、10~45質量%であることがより好ましく、10~40質量%であることが更に好ましい。
 重合体D中の構成単位Bの含有量は、重合体Dの総質量に対して、20~60質量%であることが好ましい。構成単位Bの含有量が上記範囲内であることにより、第2の組成物は、一層優れた低熱膨張性及び耐薬品性をバランスよく発現できる傾向にある。同様の観点から、構成単位Bの含有量は、25~55質量%であることがより好ましく、30~55質量%であることが更に好ましい。
 構成単位Bは、50~350g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーン(低当量エポキシ変性シリコーンB1)と、400~4000g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーン(高当量エポキシ変性シリコーンB2)に由来する構成単位とを含むことが好ましい。低当量エポキシ変性シリコーンB1、高当量エポキシ変性シリコーンB2は、それぞれ、140~250g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーン(低当量エポキシ変性シリコーンB1’)、450~3000g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーン(高当量エポキシ変性シリコーンB2’)であることが、より好ましい。
 重合体D中の低当量エポキシ変性シリコーンB1に由来する構成単位B1の含有量は、重合体Dの総質量に対して、5~25質量%であることが好ましく、7.5~20質量%であることがより好ましく、10~17質量%であることが更に好ましい。
 重合体D中の高当量エポキシ変性シリコーンB2に由来する構成単位B2の含有量は、重合体Dの総質量に対して、15~55質量%であることが好ましく、20~52.5質量%であることがより好ましく、25~50質量%であることが更に好ましい。
 構成単位B1の含有量に対する構成単位B2の含有量の質量比は、1.5~4であることが好ましく、1.5~3.5であることがより好ましく、1.5~3.3であることが更に好ましい。構成単位B1及び構成単位B2の含有量が上記関係を有することにより、銅箔密着性及び耐薬品性がより向上する傾向にある。
 重合体D中の構成単位Cとしては、上記式(b1)で表される化合物、上記式(b2)で表される化合物、上記式(b3)で表される化合物及び上記式(b4)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種に由来する単位であることが好ましい。これらの中でも、重合体D中の構成単位Cは、上記式(b2)で表される化合物に由来する単位であることがより好ましい。
 重合体D中の構成単位Cの含有量は、重合体Dの総質量に対して、5~40質量%であることが好ましい。構成単位Cの含有量が上記範囲内であると、第2の組成物は、一層優れた耐熱性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性を発現できる傾向にある。同様の観点から、構成単位Cの含有量は、10~30質量%であることが好ましく、15~25質量%であることが更に好ましい。
 また、構成単位Cの含有量は、構成単位B及び構成単位Cの総質量に対して、5~95質量%であることが好ましく、10~90質量%であることがより好ましく、15~60質量%であることが更に好ましく、20~50質量%であることが特に好ましい。構成単位B及び構成単位Cの含有量が上記関係を有することにより、一層優れた耐熱性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性がより向上する傾向にある。
 重合体D中の構成単位A’の含有量は、重合体Dの総質量に対して、5~30質量%であることが好ましい。構成単位A’の含有量が上記範囲内であることにより、第2の組成物は、一層優れた耐薬品性を発現できる傾向にある。同様の観点から、構成単位A’の含有量は、重合体Dの総質量に対して10~27.5質量%であることが好ましく、10~25質量%であることが更に好ましい。
 重合体Dにおけるアルケニル基当量は、300~1500g/molであることが好ましい。アルケニル基当量が300g/mol以上であることにより、第2の組成物の硬化物は、弾性率が一層低下する傾向にあり、その結果、硬化物を用いて得られる基板等の熱膨張率を一層低下できる傾向にある。アルケニル基当量が1500g/mol以下であることにより、第2の組成物の耐薬品性及び絶縁信頼性が一層向上する傾向にある。同様の観点から、アルケニル基当量は、350~1200g/molであることが好ましく、400~1000g/molであることが更に好ましい。
 第2の組成物における重合体Dの含有量は、樹脂固形分100質量%に対して、5~50質量%であることが好ましく、10~45質量%であることがより好ましく、15~40質量%であることが更に好ましい。含有量が上記範囲内であると、第2の組成物は、一層優れた耐熱性、低熱膨張性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性をバランスよく発現できる傾向にある。
 上述したように、第2の組成物は、重合体Dに加えて、必要に応じて、化合物Eを更に含有してもよい。重合体Dに加えて、化合物Eを更に含有することにより、第2の組成物は、耐熱性、低熱膨張性、耐薬品性及び銅箔密着性がより一層向上する傾向にある。
 第2の組成物が、重合体D及び化合物Eを含む場合、第2の組成物における重合体Dの含有量は、重合体D及び化合物Eの合計100質量%に対して、5~60質量%であることが好ましく、10~55質量%であることがより好ましく、20~50質量%であることが更に好ましい。含有量が上記範囲内であると、第2の組成物は、一層優れた耐熱性、低熱膨張性、耐薬品性、銅箔密着性及び絶縁信頼性をバランスよく発現できる傾向にある。
 第2の組成物が、重合体D及び化合物Eを含む場合、第2の組成物における化合物Eの含有量は、重合体D及び化合物Eの合計100質量%に対して、好ましくは20~80質量%であることが好ましく、35~75質量%であることがより好ましく、45~65質量%であることがさらに好ましい。
 重合体Dは、例えば、アルケニルフェノールAと、エポキシ変性シリコーンBと、エポキシ化合物Cと、必要に応じてフェノール化合物A’とを、重合触媒Gの存在下にて反応させる工程により得られる。当該反応は、有機溶媒の存在下で行ってもよい。より具体的には、上記工程において、エポキシ変性シリコーンB及びエポキシ化合物Cが有するエポキシ基とアルケニルフェノールAが有する水酸基との付加反応と、得られた付加反応物が有する水酸基とエポキシ変性シリコーンB及びエポキシ化合物Cが有するエポキシ基との付加反応などが進行することで、重合体Dを得ることができる。
 重合触媒Gとしては、特に限定されず、例えば、イミダゾール触媒及びリン系触媒が挙げられる。これらの触媒は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中でも、イミダゾール触媒が好ましい。
 イミダゾール触媒としては、特に限定されず、例えば、2-メチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3-ジヒドロ-1H-ピロロ[1,2-a]ベンゾイミダゾール(四国化成工業株式会社製品の「TBZ」)、2,4,5-トリフェニルイミダゾール(東京化成工業株式会社製品の「TPIZ」)等のイミダゾール類が挙げられる。このなかでも、エポキシ成分の単独重合を防ぐ観点から、2,3-ジヒドロ-1H-ピロロ[1,2-a]ベンゾイミダゾール(四国化成工業株式会社製品の「TBZ」)及び/又は2,4,5-トリフェニルイミダゾール(東京化成工業株式会社製品の「TPIZ」)が好ましい。
 重合触媒G(好ましくはイミダゾール触媒)の使用量は、特に限定されず、例えば、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB、エポキシ化合物C及びフェノール化合物A’の総量100質量部に対して、0.1~10質量部であることが好ましく、重合体Dの重量平均分子量を大きくする観点から、重合触媒Gの使用量は、0.5質量部以上であることが好ましく、4.0質量部以下であることがより好ましい。
 有機溶媒としては、特に限定されず、例えば、極性溶剤又は無極性溶剤を用いることができる。極性溶剤としては、特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセロソルブ系溶媒;乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、ヒドロキシイソ酪酸メチル等のエステル系溶媒;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のアミド類等が挙げられる。無極性溶剤としては、特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等が挙げられる。これらの溶媒は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
 有機溶媒の使用量は、特に限定されず、例えば、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB、エポキシ化合物C及びフェノール化合物A’の総量100質量部に対して、50~150質量部である。
 反応温度は、特に限定されず、例えば、100~170℃であってよい。反応時間もまた特に限定されず、例えば、3~8時間であってよい。
 本工程における反応終了後、慣用の方法にて反応混合物から重合体Dを分離精製してもよい。
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、本実施形態における効果を阻害しない限り、その他の樹脂をさらに含有してもよい。その他の樹脂としては、例えば、オキセタン樹脂、ベンゾオキサジン化合物及び重合可能な不飽和基を有する化合物等が挙げられる。これらの樹脂は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
 オキセタン樹脂としては、以下に限定されないが、例えば、オキセタン、2-メチルオキセタン、2,2-ジメチルオキセタン、3-メチルオキセタン、3,3-ジメチルオキセタン等のアルキルオキセタン、3-メチル-3-メトキシメチルオキセタン、3,3’-ジ(トリフルオロメチル)パーフルオキセタン、2-クロロメチルオキセタン、3,3-ビス(クロロメチル)オキセタン、ビフェニル型オキセタン、東亜合成株式会社製品の「OXT-101」、「OXT-121」等が挙げられる。
 本明細書にいう「ベンゾオキサジン化合物」とは、1分子中に2個以上のジヒドロベンゾオキサジン環を有する化合物をいう。ベンゾオキサジン化合物としては、以下に限定されないが、例えば、小西化学株式会社製品の「ビスフェノールF型ベンゾオキサジンBF-BXZ」「ビスフェノールS型ベンゾオキサジンBS-BXZ」等が挙げられる。
 重合可能な不飽和基を有する化合物としては、以下に限定されないが、例えば、エチレン、プロピレン、スチレン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル等のビニル化合物;メチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の1価又は多価アルコールの(メタ)アクリレート類;ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシ(メタ)アクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート類;ベンゾシクロブテン樹脂等が挙げられる。
[芳香族リン化合物P]
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、低熱膨張性を一層向上させる観点から、芳香族リン化合物Pを更に含む。芳香族リン化合物Pとしては、その分子中にリン原子を含み、かつ、芳香族性を示すものであれば特に限定されない。
 本実施形態において、難燃性、耐薬品性の観点から、芳香族リン化合物Pは、環状ホスファゼン化合物、リン酸エステル化合物、亜リン酸エステル化合物及びホスファフェナントレン化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。芳香族リン化合物Pは、上記した中でも、さらに銅箔密着性を高める観点から、環状ホスファゼン化合物、リン酸エステル化合物及び亜リン酸エステル化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含むことがより好ましく、環状ホスファゼン化合物及びリン酸エステル化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含むことがさらに好ましい。
 本実施形態において、熱硬化性樹脂組成物の熱硬化の際の不揮発性、化学的安定性(熱的安定性)の観点から、芳香族リン化合物Pは、下記式(P1)、(P2)、(P3)又は(P4)で表される芳香族リン化合物P’を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
(上記式(P1)中、Ph1、Ph2及びPh3は、置換又は非置換のアリール基を表し、当該Ph1、Ph2及びPh3は、同一であっても異なっていてもよい。
 上記式(P2)中、Ph1及びPh2は、置換又は非置換のアリール基を表し、当該Ph1及びPh2は、同一であっても異なっていてもよく、Rは、炭素数1~30のアルキル基又は炭素数6~30のアリール基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
(上記式(P3)中、Aは、各々独立して、水素原子、メチル基、ヒドロキシル基、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、グリシジルオキシ基、パラヒドロキシフェニルジメチル基、パラグリシジルオキシフェニルジメチル基、パラヒドロキシフェニルスルホン基、パラグリシジルオキシフェニルスルホン基、炭素数2~30のアルキル基、炭素数2~30のアルケニル基又は炭素数6~30のアリール基を表し、Rは、各々独立して、水素原子、メチル基又は炭素数2~30のアルキル基を表し、nは3~15の整数を表す。
 上記式(P4)中、Rは水素原子、炭素数2~30のアルキル基又は置換若しくは非置換のアリール基を表す。)
 本実施形態において、熱硬化性樹脂組成物の熱硬化の際の不揮発性、化学的安定性の観点から、芳香族リン化合物Pが、下記式(P5)で表される芳香族リン化合物P’’を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物中の芳香族リン化合物Pの含有量は、低熱膨張性と銅箔密着性の両立の観点から、樹脂固形分100質量部に対して、3~15質量部であることが好ましく、より好ましくは3~12質量部であり、さらに好ましくは4~10質量部である。
[無機充填材]
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、低熱膨張性を一層向上させる観点から、無機充填材を更に含有することが好ましい。無機充填材としては、特に限定されず、例えば、シリカ類、ケイ素化合物(例えば、ホワイトカーボン等)、金属酸化物(例えば、アルミナ、チタンホワイト、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等)、金属窒化物(例えば、窒化ホウ素、凝集窒化ホウ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム等)、金属硫酸化物(例えば、硫酸バリウム等)、金属水酸化物(例えば、水酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム加熱処理品(例えば、水酸化アルミニウムを加熱処理し、結晶水の一部を減じたもの)、ベーマイト、水酸化マグネシウム等)、モリブデン化合物(例えば、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛等)、亜鉛化合物(例えば、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛等)、クレー、カオリン、タルク、焼成クレー、焼成カオリン、焼成タルク、マイカ、E-ガラス、A-ガラス、NE-ガラス、C-ガラス、L-ガラス、D-ガラス、S-ガラス、M-ガラスG20、ガラス短繊維(Eガラス、Tガラス、Dガラス、Sガラス、Qガラス等のガラス微粉末類を含む。)、中空ガラス、球状ガラス等が挙げられる。これらの無機充填材は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中でも、無機充填材は、低熱膨張性を一層向上させる観点から、シリカ類、金属水酸化物及び金属酸化物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、シリカ類、ベーマイト及びアルミナからなる群より選択される少なくとも1種を含むことがより好ましく、シリカ類であることが更に好ましい。
 シリカ類としては、例えば、天然シリカ、溶融シリカ、合成シリカ、アエロジル、中空シリカ等が挙げられる。これらのシリカ類は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中でも、分散性の観点から、溶融シリカであることが好ましく、充填性及び流動性の観点から、異なる粒度を持つ2種類以上の溶融シリカであることがより好ましい。
 無機充填材の含有量は、低熱膨張性を一層向上させる観点から、樹脂固形分100質量部に対して、50~1000質量部であることが好ましく、70~500質量部であることがより好ましく、100~300質量部であることが更に好ましい。
[シランカップリング剤]
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、シランカップリング剤を更に含有してもよい。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、シランカップリング剤を含有することにより、充填材の分散性が一層向上したり、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物の成分と、後述する基材との接着強度が一層向上したりできる傾向にある。
 シランカップリング剤としては特に限定されず、一般に無機物の表面処理に使用されるシランカップリング剤が挙げられ、アミノシラン系化合物(例えば、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン等)、エポキシシラン系化合物(例えば、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等)、アクリルシラン系化合物(例えば、γ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等)、カチオニックシラン系化合物(例えば、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩等)、スチリルシラン系化合物、フェニルシラン系化合物等が挙げられる。シランカップリング剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中でも、シランカップリング剤は、エポキシシラン系化合物であることが好ましい。エポキシシラン系化合物としては、例えば、信越化学工業株式会社製品の「KBM-403」、「KBM-303」、「KBM-402」、「KBE-403」等が挙げられる。
 シランカップリング剤の含有量は、特に限定されないが、樹脂固形分100質量部に対して、0.1~5.0質量部であってよい。
[湿潤分散剤]
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、湿潤分散剤を更に含有してもよい。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、湿潤分散剤を含有することにより、充填材の分散性が一層向上する傾向にある。
 湿潤分散剤としては、充填材を分散させるために用いられる公知の分散剤(分散安定剤)であればよく、例えば、ビックケミー・ジャパン(株)製のDISPER BYK-110、111、118、180、161、BYK-W996、W9010、W903等が挙げられる。
 湿潤分散剤の含有量は、特に限定されないが、樹脂固形分100質量部に対して、0.5質量部以上5.0質量部以下であることが好ましい。
[溶剤]
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、溶剤を更に含有してもよい。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、溶剤を含むことにより、熱硬化性樹脂組成物の調製時における粘度が下がり、ハンドリング性(取り扱い性)が一層向上したり、基材への含浸性が一層向上したりする傾向にある。
 溶剤としては、熱硬化性樹脂組成物中の各成分の一部又は全部を溶解可能であれば、特に限定されないが、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、芳香族炭化水素類(例えば、トルエン、キシレン等)、アミド類(例えば、ジメチルホルムアルデヒド等)、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びそのアセテート等が挙げられる。これらの溶剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物の製造方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、各成分を一括的に又は逐次的に溶剤に配合し、撹拌する方法が挙げられる。この際、各成分を均一に溶解又は分散せるために、撹拌、混合、混練処理等の公知の処理が用いられる。
[用途]
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、上記のとおり、優れた耐熱性及び低熱膨張性を発現できる。このため、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、金属箔張積層板及びプリント配線板に好適に用いられる。本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、硬化させることで上述の用途に適用することができる。すなわち、本実施形態の硬化物は、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる。
 なお、とりわけ上記した用途において、第2の組成物は、重合体D及び芳香族リン化合物Pに加え、少なくともエポキシ化合物C(重合体D中の構成単位Cとは別に存在するエポキシ化合物C)を含むことが好ましい。
 この場合において、重合体Dは、エポキシ化合物Cに由来する単位として、前述した2官能エポキシ化合物に由来する単位を有することが好ましく、より好ましくは前述したビフェニル型エポキシ樹脂に由来する単位を有し、さらに好ましくは上記式(b2)で表される化合物(化合物b2)に由来する単位を有し、一層好ましくはRの数が0である化合物b2と、アルキル基であるRの数が4である化合物b2(市販品としては、例えば、三菱ケミカル(株)製の商品名「YL-6121H」等)に由来する単位を有する。
 また、重合体D中の構成単位Cとは別に存在するエポキシ化合物Cとしては、前述したナフチレンエーテル型エポキシ樹脂(市販品としては、例えば、DIC株式会社製品の「HP-6000」等)及び/又はナフタレンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(市販品としては、例えば、DIC株式会社製品の「HP-9540」等)を含むことが好ましい。
 さらに、第2の組成物中、シアネート当量/エポキシ当量の値は0.8未満であることが好ましい。なお、シアネート当量/エポキシ当量(官能基当量比)は、第2の組成物中に含まれ得るシアン酸エステル化合物におけるシアネート基の当量と、第2の組成物中に含まれ得る「重合体D中の構成単位Cとは別に存在するエポキシ化合物C」におけるエポキシ基の当量の比であり、下記計算式(1)により算出される。本実施形態では、シアン酸エステル化合物及びエポキシ化合物のいずれかを2種類以上用いることも可能であるが、その場合の官能基当量比の算出方法は、シアン酸エステル化合物及びエポキシ化合物のそれぞれにおいて、成分毎に、官能基数(すなわち、シアネート基の当量、及びエポキシ基の当量)を算出し、それらの値をそれぞれ合計することで、全シアネート基の当量、及び全エポキシ基の当量を算出する。そして、官能基当量比は、全シアネート基の当量を全エポキシ基の当量で除した値とする。なお、官能基数は、成分の質量部を、その成分の官能基当量で除した値である。
  計算式(1):官能基当量比=(熱硬化性樹脂組成物中におけるシアン酸エステル化合物の質量部/シアン酸エステル化合物の官能基当量)/(熱硬化性樹脂組成物中におけるエポキシ化合物の質量部/エポキシ化合物の官能基当量)
[プリプレグ]
 本実施形態の熱硬化性樹脂組成物は、プリプレグに好適に用いられる。本実施形態のプリプレグは、基材と、当該基材に含浸又は塗布された、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物と、を含む。本実施形態のプリプレグは、上記のように構成されているため、金属箔張積層板及びプリント配線板に適用した際に、耐熱性及び低熱膨張性に優れる。
 本実施形態のプリプレグは、基材と、基材に含浸又は塗布された熱硬化性樹脂組成物とを含む。プリプレグは、公知の方法によって得られるプリプレグであってもよく、その具体例としては、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物を基材に含浸又は塗布させた後、100~200℃の条件にて加熱乾燥させることにより半硬化(Bステージ化)させることにより得られる。
 本実施形態のプリプレグは、半硬化状態のプリプレグを180~230℃の加熱温度及び60~180分の加熱時間の条件で熱硬化させて得られる硬化物の形態も包含する。
 プリプレグにおける熱硬化性樹脂組成物の含有量は、プリプレグの総量に対して、プリプレグの固形分換算で、好ましくは30~90体積%であり、より好ましくは35~85体積%であり、更に好ましくは40~80体積%である。熱硬化性樹脂組成物の含有量が上記範囲内であることにより、成形性がより向上する傾向にある。なお、ここでいう熱硬化性樹脂組成物の含有量計算には、本実施形態の熱硬化性樹脂組成物の硬化物も含む。また、ここでいうプリプレグの固形分は、プリプレグ中から溶剤を取り除いた成分をいい、例えば、充填材は、プリプレグの固形分に含まれる。
[基材]
 基材としては、特に限定されず、例えば、各種プリント配線板の材料に用いられている公知の基材が挙げられる。基材の具体例としては、ガラス基材、ガラス以外の無機基材(例えば、クォーツ等のガラス以外の無機繊維で構成された無機基材)、有機基材(例えば、全芳香族ポリアミド、ポリエステル、ポリパラフェニレンベンズオキサゾール、ポリイミド等の有機繊維で構成された有機基材)等が挙げられる。これらの基材は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中でも、加熱寸法安定性に一層優れたりする観点から、ガラス基材が好ましい。
 ガラス基材を構成する繊維としては、例えば、Eガラス、Dガラス、Sガラス、Tガラス、Qガラス、Lガラス、NEガラス、HMEガラス等の繊維が挙げられる。これらの中でも、ガラス基材を構成する繊維は、強度と低吸水性に一層優れる観点から、Eガラス、Dガラス、Sガラス、Tガラス、Qガラス、Lガラス、NEガラス及びHMEガラスからなる群より選択される1種以上の繊維であることが好ましい。
 基材の形態としては、特に限定されないが、例えば、織布、不織布、ロービング、チョップドストランドマット、サーフェシングマット等の形態が挙げられる。織布の織り方としては、特に限定されないが、例えば、平織り、ななこ織り、綾織り等が知られており、これら公知のものから目的とする用途や性能により適宜選択して使用することができる。また、これらを開繊処理したものやシランカップリング剤等で表面処理したガラス織布が好適に使用される。基材の厚さや質量は、特に限定されないが、通常は0.01~0.1mm程度のものが好適に用いられる。
[金属箔張積層板]
 本実施形態の金属箔張積層板は、本実施形態のプリプレグ及び/又は当該プリプレグを硬化させてなる硬化物を含む積層体と、該積層体の片面又は両面に配置された金属箔とを含む。該積層体は1つのプリプレグ及び/又は硬化物を含むものであってもよく、複数のプリプレグ及び/又は硬化物を含むものであってもよい。
 金属箔(導体層)としては、各種プリント配線板材料に用いられる金属箔であればよく、例えば、銅、アルミニウム等の金属箔が挙げられ、銅の金属箔としては、圧延銅箔、電解銅箔等の銅箔が挙げられる。導体層の厚みは、例えば、1~70μmであり、好ましくは1.5~35μmである。
 金属箔張積層板の成形方法及びその成形条件は、特に限定されず、一般的なプリント配線板用積層板及び多層板の手法及び条件を適用することができる。例えば、積層板又は金属箔張積層板の成形時には多段プレス機、多段真空プレス機、連続成形機、オートクレーブ成形機等を用いることができる。また、積層板又は金属箔張積層板の成形(積層成形)において、温度は100~300℃、圧力は面圧2~100kgf/cm2、加熱時間は0.05~5時間の範囲が一般的である。さらに、必要に応じて、150~300℃の温度で後硬化を行うこともできる。特に多段プレス機を用いた場合は、プリプレグの硬化を十分に促進させる観点から、温度200℃~250℃、圧力10~40kgf/cm2、加熱時間80分~130分が好ましく、温度215℃~235℃、圧力25~35kgf/cm2、加熱時間90分~120分がより好ましい。また、上述のプリプレグと、別途作成した内層用の配線板とを組み合わせて積層成形することにより、多層板とすることも可能である。
[プリント配線板]
 本実施形態のプリント配線板は、本実施形態のプリプレグを硬化させてなる硬化物を含む絶縁層と、当該絶縁層の表面に形成された導体層と、を有する。本実施形態のプリント配線板は、例えば、本実施形態の金属箔張積層板の金属箔を所定の配線パターンにエッチングして導体層とすることにより形成できる。
 本実施形態のプリント配線板は、具体的には、例えば、以下の方法により製造することができる。まず、本実施形態の金属箔張積層板を用意する。金属箔張積層板の金属箔を所定の配線パターンにエッチングして導体層(内層回路)を有する内層基板を作成する。次に、内層基板の導体層(内装回路)表面に、所定数の絶縁層と、外層回路用の金属箔とをこの順序で積層し、加熱加圧して一体成形(積層成形)することにより、積層体を得る。尚、積層成形の方法及びその成形条件は、上記の積層板及び金属箔張積層板における積層成形の方法及びその成形条件と同様である。次に、積層体にスルーホール、バイアホール用の穴あけ加工を施し、これにより形成された穴の壁面に導体層(内装回路)と、外層回路用の金属箔とを導通させるためのめっき金属皮膜を形成する。次に、外層回路用の金属箔を所定の配線パターンにエッチングして導体層(外層回路)を有する外層基板を作成する。このようにしてプリント配線板が製造される。
 また、金属箔張積層板を用いない場合には、上記絶縁層に、回路となる導体層を形成しプリント配線板を作製してもよい。この際、導体層の形成に無電解めっきの手法を用いることもできる。
 以下、実施例によって本実施形態を更に詳細に説明するが、本実施形態はこれらの実施例に限定されるものではない。
(合成例1)1-ナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物(SN495V-CN)の合成
 下記式(2b)におけるR2aがすべて水素原子であるα-ナフトールアラルキル型フェノール樹脂(SN495V、ヒドロキシ基当量:236g/eq.、新日鐵化学(株)製)300g(ヒドロキシ基換算1.28mol)及びトリエチルアミン194.6g(1.92mol)(ヒドロキシ基1molに対して1.5mol)をジクロロメタン1800gに溶解させ、これを溶液1とした。塩化シアン125.9g(2.05mol)(ヒドロキシ基1molに対して1.6mol)、ジクロロメタン293.8g、36%塩酸194.5g(1.92mol)(ヒドロキシ基1molに対して1.5mol)、水1205.9gを、撹拌下、液温-2~-0.5℃に保ちながら、溶液1を30分かけて注下した。溶液1注下終了後、同温度にて30分撹拌した後、トリエチルアミン65g(0.64mol)(ヒドロキシ基1molに対して0.5mol)をジクロロメタン65gに溶解させた溶液(溶液2)を10分かけて注下した。溶液2注下終了後、同温度にて30分撹拌して反応を完結させた。その後、反応液を静置して有機相と水相を分離した。得られた有機相を水1300gで5回洗浄した。水洗5回目の廃水の電気伝導度は5μS/cmであり、水による洗浄により除けるイオン性化合物は十分に除かれたことを確認した。水洗後の有機相を減圧下で濃縮し、最終的に90℃で1時間濃縮乾固させて目的とする1-ナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物(SN495V-CN,シアネート基当量:261g/eq.)(橙色粘性物)331gを得た。得られたSN495V-CNの赤外吸収スペクトルは2250cm-1(シアネート基)の吸収を示し、且つ、ヒドロキシ基の吸収は示さなかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
(式中、R2aは、水素原子を表し、mは、1~10の整数を表す。)
(実施例1)
 温度計とジムロートを取り付けた三口フラスコに、ジアリルビスフェノールA(DABPA、大和化成工業(株))5.0質量部、ビスクレゾールフルオレン(BCF、大阪ガス化学(株))5.4質量部、エポキシ変性シリコーンb1(X-22-163、信越化学工業(株)、官能基当量200g/mol)3.7質量部、エポキシ変性シリコーンb2(KF-105、信越化学工業(株)、官能基当量490g/mol)11.0質量部、ビフェニル型エポキシ樹脂c1(YL-6121H、三菱ケミカル(株))4.9質量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(DOWANOL PMA、ダウ・ケミカル日本(株))30質量部を加え、オイルバスにて120℃まで加熱撹拌した。原料が溶媒に溶解したことを確認後、イミダゾール触媒g1(TBZ、四国化成工業(株))0.3質量部を加えて、140℃まで昇温したのち、5時間撹拌し、冷却後、フェノキシポリマー溶液(固形分50質量%)を得た(ポリマー生成工程)。
 なお、ジアリルビスフェノールAは、「アルケニルフェノールA」に相当し、エポキシ変性シリコーンb1及びエポキシ変性シリコーンb2は、「エポキシ変性シリコーンB」に相当し、ビフェニル型エポキシ樹脂c1は、「エポキシ化合物C」に相当する。また、フェノキシポリマー溶液には、アルケニルフェノールAに由来する構成単位と、エポキシ変性シリコーンBに由来する構成単位と、エポキシ化合物Cに由来する構成単位とを含有する重合体Dが含まれていた。以下、重合体Dをフェノキシポリマーともいう。
 重合体Dに対する構成単位Bの含有量は、48.8質量%であった。構成単位B及び構成単位Cの総量に対する構成単位Cの含有量は、25質量%であった。
〔重量平均分子量Mwの測定方法〕
 上記のようにして得られたフェノキシポリマーの重量平均分子量Mwを、以下のようにして測定した。フェノキシポリマー溶液0.5gを2gのTHFに溶解させた溶液20μLを高速液体クロマトグラフィー(島津製作所製、ポンプ:LC-20AD)に注入して分析した。カラムは、昭和電工製Shodex GPC KF-804(長さ30cm×内径8mm)、Shodex GPC KF-803(長さ30cm×内径8mm)、Shodex GPC KF-802(長さ30cm×内径8mm)、Shodex GPC KF-801(長さ30cm×内径8mm)、の計4本使用し、移動相としてTHF(溶媒)を用いて、流速を1mL/minとし、検出器はRID-10Aを用いた。重量平均分子量Mwは、GPC法により標準ポリスチレンを標準物質として求めた。上記のようにして測定されたフェノキシポリマーの重量平均分子量Mwは、12,000であった。
 このフェノキシポリマー溶液30質量部(固形分換算)に、ノボラック型マレイミド化合物(BMI-2300、大和化成工業(株))15質量部、ビスマレイミド化合物(BMI-80、大和化成工業(株))5質量部、ナフタレンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(HP-9540、DIC(株)、官能基当量244g/mol)26質量部、フェノールノボラック型シアン酸エステル化合物(PT-30、ロンザ社、官能基当量127g/mol)14質量部、リン酸エステル化合物(PX-200、大八化学工業(株))10質量部、充填材としてのスラリーシリカ(SC-2050MB、アドマテックス(株))140質量部、湿潤分散剤(DISPERBYK-161、ビックケミー・ジャパン(株))1質量部、シランカップリング剤(KBM-403、信越化学工業(株))5質量部を混合してワニスを得た(ワニス生成工程)。このワニスをSガラス織布(厚さ100μm)に含浸塗工し、165℃で5分間加熱乾燥して、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た(プリプレグ製造工程)。
(実施例2)
 次の点を除き、実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、PT-30に代えてSN495V-CNを14質量部使用した。
(実施例3)
 次の点を除き、実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、BMI-2300の使用量を16.5質量部に変更し、BMI-80の使用量を5.5質量部に変更し、PT-30に代えてSN495V-CNを15質量部使用し、HP-9540の使用量を28質量部に変更し、PX-200の使用量を5質量部に変更し、SC-2050MBの使用量を200質量部に変更した。さらに、プリプレグ製造工程において、加熱乾燥の条件を155℃で5分間に変更した。
(実施例4)
 次の点を除き、実施例2と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、SC-2050MBの使用量を200質量部に変更した。さらに、プリプレグ製造工程において、加熱乾燥の条件を155℃で5分間に変更した。
(実施例5)
 次の点を除き、実施例4と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、HP-9540に代えてナフチレンエーテル型エポキシ樹脂(HP-6000、DIC(株)、官能基当量250g/mol)を30質量部使用し、SN495V-CNの使用量を15質量部に変更し、PX-200の使用量を5質量部に変更した。
(実施例6)
 次の点を除き、実施例2と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、BMI-2300の使用量を13質量部に変更し、BMI-80の使用量を4質量部に変更し、HP-9540の使用量を21質量部に変更し、SN495V-CNの使用量を22質量部に変更した。さらに、プリプレグ製造工程において、加熱乾燥の条件を155℃で5分間に変更した。
(実施例7)
 次の点を除き、実施例2と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、PX-200に代えてリン化合物(10-(2,5-ジヒドロキシフェニル)-9,10-ジヒドロ9-オキサ-10-フォスファフェナントレン-10-オキサイド、HCA-HQ、三光(株))10質量部を使用し、SC-2050MBの使用量を200質量部に変更した。さらに、プリプレグ製造工程において、加熱乾燥の条件を155℃で3.5分間に変更した。
(実施例8)
 次の点を除き、実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ポリマー生成工程において、DABPAの使用量を5.1質量部に変更し、BCFの使用量を5.6質量部に変更し、X-22-163の使用量を4.2質量部に変更し、KF-105の使用量を8.5質量部に変更し、YL-6121Hの使用量を5.6質量部に変更し、フェノキシポリマー溶液を得た。このフェノキシポリマー溶液をオイルバスにて100℃まで加熱したのち、アミノトリアジンノボラック(LA-3018)1.0質量部を加え、2時間攪拌して、冷却後、変性フェノキシポリマー溶液(固形分50質量%)を得た(ポリマー変性工程)。また、ワニス生成工程において、BMI-2300の使用量を8質量部に変更し、BMI-80の使用量を8質量部に変更し、HP-9540の使用量を25質量部に変更し、PT-30を使用せず、フェノール化合物(SN495V、日鉄ケミカル&マテリアル(株)、官能基当量236g/mol)24質量部を使用し、PX-200の使用量を5質量部に変更し、SC-2050MBの使用量を200質量部に変更した。さらに、プリプレグ製造工程において、加熱乾燥の条件を150℃で3.5分間に変更した。
 前述の方法により測定される、実施例8におけるフェノキシポリマーの重量平均分子量Mwは、12,000であった。
(実施例9)
 次の点を除き、実施例8と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、BMI-2300の使用量を7質量部に変更し、BMI-80の使用量を7質量部に変更し、HP-9540の使用量を24質量部に変更し、SN495Vの使用量を22質量部に変更し、PX-200の使用量を10質量部に変更した。
(実施例10)
 次の点を除き、実施例5と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、PX-200に代えて環状シアノフェノキシホスファゼン(ラビトルFP?300、伏見製薬所(株))5質量部を使用した。さらに、プリプレグ製造工程において、加熱乾燥の条件を165℃で5分間に変更した。
(実施例11)
 次の点を除き、実施例10と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、FP-300に代えてリン酸エステル化合物(アデカスタブHP-10、ADEKA(株))5質量部を使用した。
(実施例12)
 次の点を除き、実施例10と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、FP-300に代えてリン酸エステル化合物(アデカスタブ2112、ADEKA(株))5質量部を使用した。
(比較例1)
 次の点を除き、実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、HP-9540の使用量を32質量部に変更し、PT-30の使用量を18質量部に変更し、PX-200を使用しなかった。
(比較例2)
 次の点を除き、比較例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、BMI-2300の使用量を15質量部に変更し、SC-2050MBの使用量を200質量部に変更した。さらに、プリプレグ製造工程において、加熱乾燥の条件を155℃で5分間に変更した。
(比較例3)
 次の点を除き、実施例8と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、BMI-2300の使用量を9質量部に変更し、BMI-80の使用量を9質量部に変更し、HP-9540に代えてHP-6000を27質量部使用し、SN495Vの使用量を25質量部に変更し、PX-200を使用しなかった。さらに、プリプレグ製造工程において、加熱乾燥の条件を140℃で3分間に変更した。
(比較例4)
 次の点を除き、実施例3と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、BMI-2300の使用量を16質量部に変更し、BMI-80の使用量を5.5質量部に変更し、HP-9540の使用量を32.5質量部に変更し、SN495V-CNの使用量を16質量部に変更し、PX-200を使用しなかった。
(比較例5)
 次の点を除き、実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物固形分(充填材を含む)の含有量58.2体積%のプリプレグを得た。すなわち、ワニス生成工程において、BMI-2300の使用量を17質量部に変更し、BMI-80を使用せず、HP-9540に代えてHP-6000を27質量部使用し、PT-30に代えてSN495V-CNを26質量部使用し、PX-200を使用しなかった。
[金属箔張積層板の作製]
 各実施例1~12及び比較例1~5にて得られたプリプレグを2枚重ね、さらに12μmの厚さを有する電解銅箔(3EC-M2S-VLP、三井金属鉱業(株)製)を上下に配置し、圧力30kgf/cm、温度230℃で100分間の積層成形を行い、金属箔張積層板として、0.22mmの厚さを有する絶縁層を含む銅箔張積層板を得た。得られた銅箔張積層板の特性を以下に示す方法にて評価した。評価結果を表1~2に示す。
[Tg(ガラス転移温度)]
 得られた銅箔張積層板をダイシングソーでサイズ5mm×10mm×0.22mmに切断後、表面の銅箔をエッチングにより除去し、測定用サンプルを得た。この測定用サンプルを用いて、JIS C6481に準拠して、動的粘弾性分析装置(TAインスツルメント製)を用いてDMA法により、損失弾性率E’’を測定し、E’’のピーク(極大点)の値をTg(単位:℃)とした。
[線熱膨張係数(CTE)]
 積層板の絶縁層についてガラスクロスの縦方向の線熱膨張係数を測定した。具体的には、上記で得られた銅箔張積層板(10mm×6mm×0.22mm)の両面の銅箔をエッチングにより除去した後に、220℃の恒温槽で2時間加熱して、成形による応力を除去した。その後、熱膨張測定装置(リンザイス社製水平ディラトメーター)を用いて40℃から320℃まで毎分10℃で昇温して、60℃から260℃における線熱膨張係数(CTE)(単位:ppm/℃)を測定した。
[銅箔ピール強度(銅箔密着性)]
 上記方法で得られた銅箔張積層板(10mm×150mm×0.22mm)を用い、JIS C6481に準じて、銅箔ピール強度(銅箔密着性)、(単位:kN/m)を測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
 上記表1より、実施例1~12は、比較例1~3よりも耐熱性及び低熱膨張性に優れることがわかる。また、上記表2より、実施例1~6,10~12は、比較例1~3よりも銅箔密着性に優れることがわかる。なお、実施例1~6,10~12では、芳香族リン化合物として環状ホスファゼン化合物又はリン酸エステル化合物が使用されているのに対して、実施例7では芳香族リン化合物としてホスファフェナントレン化合物が使用されていることから、実施例1~6,10~12の方が銅箔密着性に優れる結果となったものと推測される。実施例8~9の銅箔密着性は未測定であるが、シアン酸エステル化合物とエポキシ化合物の反応で形成するオキサゾリドン構造が金属密着性に優れる傾向にある点から、実施例1~6,10~12は、実施例8~9よりも銅箔密着性に優れるものと推測される(ただし、要因をこれに限定する趣旨ではない。)。
 本出願は、2021年8月5日出願の日本特許出願(特願2021-128775号)に基づくものであり、それらの内容はここに参照として取り込まれる。
 本発明は、プリプレグ、レジンシート、金属箔張積層板及びプリント配線板等の材料として用いる熱硬化性樹脂組成物として、産業上の利用可能性を有する。

Claims (25)

  1.  アルケニルフェノールAに由来する構成単位と、エポキシ変性シリコーンBに由来する構成単位と、該エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cに由来する構成単位とを含有する重合体Dと、芳香族リン化合物Pと、を含有する、熱硬化性樹脂組成物。
  2.  前記芳香族リン化合物Pが、環状ホスファゼン化合物、リン酸エステル化合物、亜リン酸エステル化合物及びホスファフェナントレン化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含む、請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  3.  前記芳香族リン化合物Pが、下記式(P1)、(P2)、(P3)又は(P4)で表される芳香族リン化合物P’を含む、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (上記式(P1)中、Ph1、Ph2及びPh3は、置換又は非置換のアリール基を表し、当該Ph1、Ph2及びPh3は、同一であっても異なっていてもよい。
     上記式(P2)中、Ph1及びPh2は、置換又は非置換のアリール基を表し、当該Ph1及びPh2は、同一であっても異なっていてもよく、Rは、炭素数1~30のアルキル基又は炭素数6~30のアリール基を表す。)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    (上記式(P3)中、Aは、各々独立して、水素原子、メチル基、ヒドロキシル基、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、グリシジルオキシ基、パラヒドロキシフェニルジメチル基、パラグリシジルオキシフェニルジメチル基、パラヒドロキシフェニルスルホン基、パラグリシジルオキシフェニルスルホン基、炭素数2~30のアルキル基、炭素数2~30のアルケニル基又は炭素数6~30のアリール基を表し、Rは、各々独立して、水素原子、メチル基又は炭素数2~30のアルキル基を表し、nは3~15の整数を表す。
     上記式(P4)中、Rは水素原子、炭素数2~30のアルキル基又は置換若しくは非置換のアリール基を表す。)
  4.  前記芳香族リン化合物Pが、下記式(P5)で表される芳香族リン化合物P’’を含む、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
  5.  前記芳香族リン化合物Pの含有量が、樹脂固形分100質量部に対して、3~15質量部である、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  6.  マレイミド化合物、シアン酸エステル化合物、前記アルケニルフェノールA以外のフェノール化合物A’及びアルケニル置換ナジイミド化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物Eを更に含む、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  7.  前記シアン酸エステル化合物が、ナフトールアラルキル型シアン酸エステル化合物及び/又はノボラック型シアン酸エステル化合物を含む、請求項6に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  8.  前記フェノール化合物A’が、アミノトリアジンノボラック樹脂及び/又はフルオレン骨格を有するビスフェノール類を含む、請求項6に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  9.  前記マレイミド化合物が、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、2,2-ビス{4-(4-マレイミドフェノキシ)-フェニル}プロパン、ビス(3-エチル-5-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン、下記式(3)で表されるマレイミド化合物、及び下記式(3’)で表されるマレイミド化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、請求項6に記載の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    (式(3)中、Rは、各々独立して、水素原子又はメチル基を表し、nは1以上の整数を表す。)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    (式(3’)中、R13は各々独立に、水素原子、炭素数1~5のアルキル基、又はフェニル基を示し、nは1以上10以下の整数を示す。)
  10.  前記重合体Dの含有量が、前記重合体D及び前記化合物Eの合計100質量%に対して、5~60質量%である、請求項6に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  11.  前記重合体Dの重量平均分子量が、3.0×10~5.0×10である、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  12.  前記重合体D中の前記エポキシ変性シリコーンBに由来する構成単位の含有量が、前記重合体Dの総質量に対して、20~60質量%である、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  13.  前記エポキシ変性シリコーンBが、下記式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンを含む、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    (上記式(1)中、Rは、各々独立に、単結合、アルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を示し、Rは、各々独立に、炭素数1~10のアルキル基又はフェニル基を示し、nは、0~100の整数を示す。)
  14.  前記エポキシ変性シリコーンBが、140~250g/molのエポキシ当量を有するエポキシ変性シリコーンを含有する、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  15.  前記アルケニルフェノールAが、ジアリルビスフェノール及び/又はジプロペニルビスフェノールを含有する、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  16.  前記エポキシ化合物Cが、下記式(b2)で表されるビフェニル型エポキシ樹脂を含む、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
    (式(b2)中、Raは、各々独立して、炭素数1~10のアルキル基又は水素原子を表す。)
  17.  さらに、アルケニルフェノールA、エポキシ変性シリコーンB及び該エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cからなる群より選択される少なくとも1種を含む、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  18.  前記エポキシ化合物Cが、ナフタレンクレゾールノボラック型エポキシ樹脂及び/又はナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含む、請求項17に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  19.  無機充填材を更に含有する、請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  20.  前記無機充填材が、シリカ類、ベーマイト及びアルミナからなる群より選択される少なくとも1種を含み、前記無機充填材の含有量が、樹脂固形分100質量部に対して、50~1000質量部である、請求項19に記載の熱硬化性樹脂組成物。
  21.  アルケニルフェノールAと、エポキシ変性シリコーンBと、該エポキシ変性シリコーンB以外のエポキシ化合物Cと、芳香族リン化合物Pと、を含有する、熱硬化性樹脂組成物。
  22.  請求項1又は21に記載の熱硬化性樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。
  23.  基材と、
     前記基材に含浸又は塗布された、請求項1又は21に記載の熱硬化性樹脂組成物と、
     を含む、プリプレグ。
  24.  請求項23に記載のプリプレグ及び/又はそれを硬化させてなる硬化物を含む積層体と、
     前記積層体の片面又は両面に配された金属箔と、
     を含む、金属箔張積層板。
  25.  請求項23に記載のプリプレグを硬化させてなる硬化物を含む絶縁層と、
     前記絶縁層の表面に形成された導体層と、
     を含む、プリント配線板。
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