WO2022224728A1 - 抗ウイルス性微細構造を備える物品、抗ウイルス性微細構造の転写方法及びウイルス不活化方法 - Google Patents
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- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
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Definitions
- the present invention relates to an article with an antiviral microstructure, a method for transferring an antiviral microstructure, and a method for inactivating viruses.
- Viral infectious diseases such as the coronavirus that causes the novel coronavirus disease (COVID-19), and infectious diseases caused by influenza virus, norovirus, rotavirus, etc., have become a serious social problem.
- Patent Document 1 describes an interior building material having a surface with a bactericidal action, which includes a metal substrate and a porous anodized layer formed on the metal substrate.
- the surface of the porous anodized layer having a bactericidal action includes a plurality of recesses having a two-dimensional size of more than 100 nm and less than 500 nm when viewed from the normal direction of the surface, and between the adjacent recesses A protrusion is formed, and the protrusion has a ridgeline formed by the intersection of side surfaces of a plurality of adjacent recesses.
- the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an article having an antiviral microstructure capable of inactivating viruses and a method for transferring the antiviral microstructure. . Another object of the present invention is to provide a virus inactivation method capable of inactivating viruses based on the shape of the microstructure.
- the antiviral microstructures are provided with an article to be processed, and antiviral microstructures formed on the article.
- the structure is formed by randomly arranging fine protrusions having a needle-like or cone-like shape with a sharpened tip and a diameter decreasing from the root to the tip, and the average diameter of the fine protrusions is 10 nm to 400 nm, an average height of 30 nm to 1000 nm, and an average pitch of 10 nm to 500 nm.
- the virus is preferably an enveloped virus.
- the enveloped virus is preferably a coronavirus or an influenza virus.
- the antiviral fine structure is made of a hydrophilic resin.
- the article is preferably at least one selected from the group including face shields, mouth shields, sanitary masks, partitions, smartphones, tablet terminals, touch panels, window glass, building materials, and spectacle lenses.
- a transfer mold preparing step of preparing a transfer mold having a glassy carbon layer on its surface a step of preparing an object to be processed;
- the photocurable resin or thermosetting resin is applied between the surface of the object to be processed, the photocurable resin or the thermosetting resin is irradiated with light or heat is applied to the photocurable resin or the thermosetting resin.
- a step of curing a thermosetting resin and a step of peeling the transfer mold from the surface fine structure formed of the cured photocurable resin are performed, and the glassy carbon layer has an average diameter of 10 nm to 400 nm.
- the virus inactivation method of the present invention the virus inactivation method on a surface on which an antiviral microstructure is formed, wherein the antiviral microstructure has a diameter that decreases from the root to the tip. and fine protrusions having a needle-like or cone-like shape with sharpened tips are randomly arranged, and the fine protrusions have an average diameter of 10 nm to 400 nm and an average height (H ) is between 30 nm and 1000 nm, and the average pitch is between 10 nm and 500 nm.
- viruses can be inactivated based on the shape of the microstructure.
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an article comprising antiviral microstructures according to one embodiment of the present invention
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a transfer mold having a glassy carbon layer on its surface, which is used in the method for transferring an antiviral microstructure according to one embodiment of the present invention.
- FIG. 1 is a flow diagram illustrating a method of transferring antiviral microstructures according to one embodiment of the present invention
- FIG. 4 is an electron micrograph showing a fine structure transferred using the transfer mold of Example 1.
- FIG. 4 is an electron micrograph showing a fine structure transferred using the transfer mold of Comparative Example 1.
- FIG. 4 is an electron micrograph showing a cross section of a fine structure transferred using the transfer mold of Example 1.
- FIG. 4 is an electron micrograph showing a cross section of a fine structure transferred using the transfer mold of Comparative Example 1.
- FIG. It is the result of an antiviral performance test against influenza virus. It is the result of an antiviral performance test against
- an article 1 having an antiviral microstructure of this embodiment includes an article 1 that is a workpiece and an antiviral microstructure M formed on the article 1.
- the antiviral fine structure M is formed by randomly arranging needle-like or cone-like fine projections with sharpened tips and tapered diameters from the root to the tip.
- the object to be processed 2 on which the antiviral microstructure M is to be formed is an object to be imparted with antiviral properties, and is particularly limited. is not.
- the object to be processed 2 to be processed include protective equipment for preventing droplets such as face shields, mouth shields, sanitary masks, partitions (partition plates) for blocking contact with people, smartphones, tablet terminals, Liquid crystal displays, organic EL displays, various computers, televisions, various display devices such as plasma display panels, their touch panels and displays, building materials such as window glass, walls, and door knobs in buildings such as houses, public facilities, and medical facilities (especially walls of washrooms, bathrooms, toilets, etc.), window glass of vehicles such as automobiles, trains, and aircraft, mirrors, inner walls, anti-reflection sheets (anti-reflection films), anti-fouling sheets (anti-fouling films), anti-fog sheets (anti-fogging cloudy film), spectacle lenses made of transparent plastics, sunglasses lenses and the like, but are not limited to these articles.
- protective equipment for preventing droplets such as face shields, mouth shields, sanitary masks, partitions (partition plates) for blocking contact with people, smartphones, tablet terminals,
- the workpiece 2 has a surface 2a, but the shape of the surface 2a is not limited to a flat surface (flat plate shape), but may be a curved shape such as a curved surface (for example, a roll shape) or a combination of a flat surface and a curved surface. It may also be a complicated shape (irregular shape) or the inner surface of the hollow member. Since the method for forming an antiviral microstructure according to the present embodiment does not require a high-temperature process, it can be suitably applied to the object to be processed 2 containing a heat-sensitive substance (material) such as resin. It is possible.
- a heat-sensitive substance material
- the resin contained in the object to be treated may be either a thermoplastic resin or a thermosetting resin, such as polyethylene (high density, medium density or low density), polypropylene (isotactic type or syndiotactic type), Polyolefins such as polybutene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene-propylene-butene copolymer, cyclic polyolefin, modified polyolefin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyamide, Polyimide, polyamideimide, polycarbonate, poly-(4-methylpentene-1), ionomer, acrylic resin, polymethyl methacrylate, polybutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate-butyl (meth) acrylate copolymer, methyl (Meth)acrylate-styrene copolymer, acrylic
- Glass contained in the object to be treated includes, for example, silicate glass (quartz glass), alkali silicate glass, soda lime glass, potash lime glass, lead (alkali) glass, barium glass, borosilicate glass, and the like.
- metals contained in the object to be treated include gold, chromium, silver, copper, platinum, indium, palladium, iron, titanium, nickel, manganese, zinc, tin, tungsten, tantalum, and aluminum.
- stainless steel such as SUS316L, which is an alloy of the above metals, shape memory alloy such as Ti-Ni alloy or Cu-Al-Mn alloy, Cu-Zn alloy, Ni-Al alloy, titanium alloy, tantalum alloy, platinum alloy
- an alloy such as a tungsten alloy can also be used.
- the alloy is obtained by adding one or more kinds of metallic elements or non-metallic elements to the metallic element.
- alloys include eutectic alloys in which the component elements form separate crystals, solid solutions in which the component elements are completely dissolved, and components in which the component elements form intermetallic compounds or compounds of metals and non-metals. However, it is not necessarily limited to this.
- Ceramics contained in the object to be treated include, for example, oxides (e.g., aluminum oxide, zinc oxide, titanium oxide, silicon oxide, zirconia, barium titanate), nitrides (e.g., silicon nitride, boron nitride), carbides ( Examples include silicon carbide), oxynitrides, and the like. A mixture of these can also be used.
- oxides e.g., aluminum oxide, zinc oxide, titanium oxide, silicon oxide, zirconia, barium titanate
- nitrides e.g., silicon nitride, boron nitride
- carbides examples include silicon carbide), oxynitrides, and the like. A mixture of these can also be used.
- metal oxides contained in the object to be treated include oxides containing aluminum, copper, gold, silver, platinum, indium, palladium, iron, nickel, titanium, chromium, manganese, zinc, tin, tungsten, etc. as metals. materials, indium tin oxide (ITO), aluminum oxide ( Al2O3 ) , titanium oxide ( TiO2 ), silicon oxide ( SiO2 ), tin oxide (SnO2, SnO), iron oxide ( Fe2O3 , Fe 3 O 4 ), and composite oxides having perovskite, spinel, and ilmenite structures, but are not necessarily limited to these.
- Metal nitrides contained in the object to be treated include titanium nitride (TiN), zirconium nitride (ZrN), vanadium nitride (VN), niobium nitride (NbN), tantalum nitride (TaN), chromium nitride (CrN, Cr 2 N ), hafnium nitride (HfN), and the like, but are not necessarily limited to these.
- the antiviral microstructure M is a microstructure laminated on the surface 2a of the object 2 to be processed.
- the antiviral microstructure M is formed by the transfer method (FIG. 3) of the antiviral microstructure M according to the present embodiment using a transfer mold T (FIG. 2) having a glassy carbon layer on the surface, which will be described later. be.
- the antiviral microstructure M is composed of a cured photocurable resin or thermosetting resin, and is a fine protrusion having a shape that decreases in diameter from its root to its tip, more specifically, its root Fine protrusions having a needle-like or cone-like shape with sharpened tips are arranged randomly.
- the fine protrusions constituting the antiviral fine structure M have an average diameter (D) of 10 nm to 400 nm, preferably 30 nm to 300 nm, particularly preferably 50 nm to 150 nm, and an average height (H) of , 30 nm to 1000 nm, preferably 50 nm to 700 nm, particularly preferably 100 nm to 500 nm, and an average pitch (P) of 10 nm to 500 nm, preferably 30 nm to 400 nm, particularly preferably 50 nm to 300 nm.
- D average diameter
- H average height
- P average pitch
- the tip average diameter (diameter at 10% of the height of the protrusion from the tip of the protrusion) is 10 to 60 nm, preferably 15 to 55 nm, particularly preferably 20 to 50 nm.
- ⁇ nm to ⁇ nm mean ⁇ nm or more and ⁇ nm or less.
- the arithmetic mean height (Sa) of the surface of the antiviral microstructure M is 20 nm or more and 100 nm or less, preferably 25 nm or more and 80 nm or less, and particularly preferably 30 nm or more and 70 nm or less.
- the arithmetic mean height (Sa) is a three-dimensional roughness parameter (three-dimensional height direction parameter) obtained by extending the arithmetic mean roughness (Ra), which is a two-dimensional roughness parameter, to three dimensions.
- the arithmetic average height (Sa) represents the average of the absolute values of the height differences of each point in the measurement target area.
- the maximum height (Sz) of the surface of the antiviral microstructure M is 200 nm or more and 700 nm or less, preferably 250 nm or more and 600 nm or less, and particularly preferably 300 nm or more and 500 nm or less.
- the maximum height (Sz) is a three-dimensional parameter obtained by expanding the two-dimensional roughness parameter Rz.
- the maximum height (Sz) is the distance from the highest point to the lowest point on the surface in the measurement target area (in other words, the sum of the maximum surface peak height Sp and the maximum valley depth Sv). .
- the thickness of the antiviral microstructure M may be appropriately selected according to the shape and application of the object 2 to be treated, and is preferably several nm or more and several ⁇ m or less, more preferably several nm or more and 30 ⁇ m or less. , more preferably several nm or more and 10 ⁇ m or less, still more preferably 10 nm or more and 5.0 ⁇ m or less, and still more preferably 10 nm or more and 1.0 ⁇ m or less. If the thickness of the antiviral fine structure M is too thin, it is not preferable from the viewpoint of durability. On the other hand, if the antiviral microstructure M is too thick, depending on the application of the object 2 to be treated, it may not be preferable from the viewpoint of reduced transmittance, reduced flexibility, weight reduction, and cost.
- the article 1 having the antiviral microstructure M has improved surface hydrophilicity when the antiviral microstructure M is laminated using a hydrophilic photocurable resin or thermosetting resin, and the surface is less likely to come into contact with water.
- the angle is 10° or less, preferably 8° or less, more preferably 5° or less. Since the water contact angle on the surface of the antiviral microstructure M is within the above range, it has high wettability with water, and adhered dirt and foreign matter can be easily removed by washing with water. It is possible to prevent fogging due to adhesion.
- the article 1 having the antiviral microstructure M has improved water repellency on the surface when the antiviral microstructure M is laminated using a water-repellent photocurable resin or thermosetting resin.
- the angle is 120° or more, preferably 130° or more, more preferably 140° or more. Since the water contact angle on the surface of the antiviral microstructure M is within the above range, it has high water repellency, and adhered dirt and foreign matter can be easily removed by washing with water. It is possible to prevent fogging due to adhesion.
- the article 1 provided with the antiviral microstructures M exhibits antiviral properties by laminating the antiviral microstructures M described above. Specifically, by making the pitch of the antiviral fine structure M narrow and sharp at the tip, the envelope of the envelope-type virus is destroyed, thereby exhibiting antiviral properties.
- the conventional moth-eye structure which was transferred with a porous alumina plate, had a large microstructure size, a wide pitch, and a thick tip, so it did not exhibit an antiviral effect.
- the antiviral microstructure M of the present embodiment has a sharp tip, and by narrowing the pitch, it is possible to destroy the virus envelope and inactivate the virus.
- viruses to be inactivated are not particularly limited.
- viruses that can be inactivated include various viruses, regardless of the type of genome or the presence or absence of an envelope, but include airborne and droplet-infected coronaviruses, influenza viruses, noroviruses, and rotaviruses. It is preferable to be targeted. In particular, it is preferable to target coronaviruses or influenza viruses that are enveloped viruses.
- coronaviruses examples include the SARS virus, which is the causative agent of severe acute respiratory syndrome (SARS) in 2003, and the MERS virus, which is the causative agent of Middle East respiratory syndrome (MERS). , 2019 novel coronavirus (2019-nCoV, SARS-CoV-2), which is a coronavirus belonging to the SARS-related coronavirus (SARSr-CoV) that causes the new coronavirus infection (COVID-19), etc. However, it is not particularly limited.
- influenza viruses examples include human influenza viruses, avian influenza viruses, and swine influenza viruses, but are not particularly limited.
- Viruses can take time to develop vaccines and medicines because new viruses emerge and mutant viruses emerge due to mutation. can be inactivated regardless of the type or mutation.
- the substrate 10 is made of resin, rubber, glass, metal, alloy, ceramics (metal oxide, metal nitride, metal oxynitride), silicon wafer (Si wafer), compound semiconductor used for compound semiconductor substrate, power device It contains one or more substances selected from the group including solar cell materials such as silicon carbide (SiC) and silicon used for the substrate.
- a flexible material such as rubber
- the transfer mold T can be applied to curved or irregularly shaped articles (objects to be treated). , the transfer mold T can be brought into close contact with the shape of the article.
- Underlayer 20 contains one or more substances selected from the group including metals, alloys, ceramics (metal oxides, metal nitrides, metal oxynitrides), and silicon (Si).
- the film thickness of the underlying layer 20 is preferably 10 nm or more and 500 nm or less.
- a material containing a resin plastic or film
- Cr, Ti, Ta2O5, a combination thereof, or the like it is preferable to use Cr, Ti, Ta2O5, a combination thereof, or the like as the base layer 20.
- FIG By adding the base layer to the surface of the base material 10 , the adhesiveness of the glassy carbon layer 30 is improved, and film cracking in the glassy carbon layer 30 can be suppressed.
- the glassy carbon layer 30 is a layer containing glassy carbon formed on the underlying layer 20 .
- the film thickness of the glassy carbon layer 30 is preferably 300 nm or more and 5 ⁇ m or less.
- glassy carbon is also called glassy carbon or amorphous carbon, and is black in appearance, glassy and amorphous carbon, and has a homogeneous and dense structure.
- Glassy carbon has the same properties as other carbon materials, such as electrical conductivity, chemical stability, heat resistance, and high purity. In addition, glassy carbon has an excellent feature that the material surface does not powder and fall off.
- glassy carbon The general characteristics of glassy carbon are that it is lightweight with a density of 1.45 to 1.60 g/cm 3 , has a high bending strength of 50 to 200 MPa, and is resistant to acids such as sulfuric acid and hydrochloric acid and has corrosion resistance. .
- the specific electrical resistance is 4 to 20 m ⁇ cm, which is slightly higher than that of graphite, but the gas permeability is as low as 10 ⁇ 9 to 10 ⁇ 12 cm 2 /s.
- the glassy carbon layer 30 has an inverted microstructure RM on its surface 30a.
- the inverted microstructure RM refers to the structure of the surface of the transcription type T capable of forming the antiviral microstructure M.
- the reversed microstructure RM in the transfer mold T according to this embodiment is formed by randomly arranging conical holes.
- the glassy carbon microstructure constituting the inverted microstructure RM has an average diameter (D) of 10 nm to 400 nm, preferably 30 nm to 300 nm, particularly preferably 50 nm to 150 nm, and an average height of height (H) is 30 nm to 1000 nm, preferably 50 nm to 700 nm, particularly preferably 100 nm to 500 nm, and an average pitch (P) is 10 nm to 500 nm, preferably 30 nm to 400 nm, particularly preferably 50 nm to It is in the range of 300 nm.
- the arithmetic mean height (Sa) of the surface 30a of the glassy carbon layer 30 in the transfer mold T according to this embodiment is 50 nm or more and 500 nm or less.
- the maximum height (Sz) of the surface 30a of the glassy carbon layer 30 is 200 nm or more and 700 nm or less.
- the shape of the transfer mold T includes one or more shapes selected from the group including roll shape, flat plate shape, and irregular shape.
- the antiviral fine structure M can be transferred to the surface of the object to be treated using the transfer mold T having the glassy carbon layer on the surface.
- the method for transferring an antiviral microstructure of the present embodiment comprises a step of preparing a transfer mold T having a glassy carbon layer 30 on its surface (step S11), and preparing the object 2 to be processed.
- step S12 in a state in which a photocurable resin or a thermosetting resin is applied between the transfer mold T and the surface 2a of the workpiece 2, the photocurable resin is irradiated with light or the heat is applied.
- a step of curing the photo-curing resin by applying heat to the curing resin step S13
- a step of peeling the transfer mold T from the fine surface structure formed of the cured photo-curing resin or thermosetting resin are performed.
- the antiviral fine structure M can be transferred to the surface 2a of the object 2 to be processed in steps S11 to S14 described above. Specifically, it is possible to transfer the antiviral microstructure M formed of a cured photocurable resin or thermosetting resin to the surface 2a of the object 2 to be processed. Each step will be described in detail below.
- the inverted microstructure RM is formed by randomly arranging conical holes.
- the glassy carbon microstructure constituting the inverted microstructure RM has an average diameter (D) of 10 nm to 400 nm, preferably 30 nm to 300 nm, particularly preferably 50 nm to 150 nm, and an average height of height (H) is 30 nm to 1000 nm, preferably 50 nm to 700 nm, particularly preferably 100 nm to 500 nm, and an average pitch (P) is 10 nm to 500 nm, preferably 30 nm to 400 nm, particularly preferably 500 nm to It is in the range of 300 nm.
- D average diameter
- H average height of height
- P is 10 nm to 500 nm, preferably 30 nm to 400 nm, particularly preferably 500 nm to It is in the range of 300 nm.
- Step S12 the object to be processed 2 to be processed is prepared.
- the surface 2a of the object to be treated 2 may be subjected to pretreatment such as cleaning or electrification to improve the film-forming property (laminating property) of the photocurable resin.
- Step S13 the photo-curing resin or the thermo-curing resin is applied with light between the transfer mold T and the surface 100a of the workpiece 2. or by applying heat to the thermosetting resin to cure the photocurable resin.
- the inverted fine structure RM which is the surface structure of the transfer mold T
- the inverted fine structure RM is covered by rotating the roll-shaped transfer mold T around its axis. It can be continuously transferred to the object 2 to be processed.
- a roll-shaped film is used as the workpiece, it is possible to adopt a roll-to-roll system.
- the flexible transfer mold T is photo-cured in a state of being in close contact with the object 2 to be processed by combining pressure reduction and pressurization. By irradiating the resin with light, the photocurable resin can be cured. By using the transfer mold T having flexibility, it is possible to transfer the antiviral fine structure even to the object 2 having an irregular shape.
- the photocurable resin is not particularly limited as long as it can be cured with light such as ultraviolet rays, and acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, etc. can be used.
- Step S14 the transfer mold is removed from the fine surface structure formed of the cured photo-curing resin or thermosetting resin.
- the virus inactivation method of the present embodiment is a virus inactivation method on a surface on which an antiviral microstructure M is formed, wherein the antiviral microstructure M extends from the root to the tip.
- Fine protrusions having a needle-like or cone-like shape with a reduced diameter and a sharpened tip are randomly arranged, and the fine protrusions have an average diameter of 10 nm to 400 nm and an average height.
- H is 30 nm to 1000 nm
- the average pitch is in the range of 10 nm to 500 nm.
- an article provided with an antiviral microstructure, a method for transferring an antiviral microstructure, and a virus inactivation method according to the present invention have been mainly described.
- the above embodiment is merely an example for facilitating understanding of the present invention, and does not limit the present invention.
- the present invention can be modified and improved without departing from its spirit, and the present invention includes equivalents thereof.
- antiviral fine structure-equipped article the antiviral fine structure transfer method, and the virus inactivation method of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.
- Example 1 Transfer mold with glassy carbon layer
- an inverted microstructure has an average diameter (D) of 60-280 nm, an average height (H) of 100-150 nm, and an average pitch (P) of of 70 to 300 nm was used.
- the transfer mold of Example 1 can be prepared by the method described in JP-A-2020-76996.
- Comparative Example 1 Anodized porous alumina transfer type
- Comparative Example 1 Anodized porous alumina transfer type
- ⁇ Test 1 Transfer of fine structure> Using the transfer molds according to Example 1 and Comparative Example 1, fine structures were transferred.
- the transfer molds according to Example 1 and Comparative Example 1 were subjected to release treatment by applying a fluorine-based release agent (manufactured by Daikin Industries, Ltd., product name: UD-509).
- a triacetylcellulose film (TAC film) was used as an object to be treated.
- a UV curable resin (acrylic resin, manufactured by Origin Electric Co., Ltd., product name: UV Coat TP) is applied to the surface of each transfer mold, the TAC film to be treated is adhered, and UV light (a metal halide lamp light source) is applied. , a wavelength of 200 nm to 450 nm, an intensity of 600 mJ, and an irradiation time of 40 seconds) for curing. Then, a TAC film having a surface fine structure was obtained by peeling the transfer mold from the surface fine structure formed of the cured photocurable resin.
- UV light a metal halide lamp light source
- ⁇ Test 2 Evaluation of microstructure> The microstructures of Example 1 and Comparative Example 1 transferred in Test 1 were evaluated. Specifically, the surface state of the transferred microstructure was observed, the surface roughness was measured, and the contact angle was evaluated.
- the fine structure transferred using the transfer mold of Example 1 had a needle-like or cone-like shape with a diameter decreasing from the base to the tip and a sharpened tip.
- the fine projections having the surface were randomly arranged and formed.
- the fine protrusions had an average diameter of 100 nm or less, an average tip diameter of 25 nm or less, an average height (H) of 150 nm, and an average pitch of 100 nm.
- the tip average diameter is the diameter at a position 10% of the height of the protrusion from the tip of the protrusion.
- the arithmetic mean height (Sa) of the surface of the transfer mold of Example 1 (that is, the surface of the glassy carbon layer) is in the range of 50 nm or more and 70 nm or less, and the maximum height (Sz) is in the range of 400 nm or more and 500 nm or less.
- the arithmetic mean height (Sa) of the surface of the transfer mold of Comparative Example 1 (that is, the surface of the anodized porous alumina) is in the range of 80 nm or more and 100 nm or less, and the maximum height (Sz) is in the range of 500 nm or more and 600 nm or less. was inside.
- the arithmetic mean height (Sa) of the fine structure transferred using the transfer mold of Example 1 was in the range of 50 nm or more and 500 nm or less, and the maximum height (Sz) was in the range of 200 nm or more and 700 nm or less.
- the arithmetic mean height (Sa) of the fine structure transferred using the transfer mold of Comparative Example 1 was in the range of 50 nm or more and 500 nm or less, and the maximum height (Sz) was in the range of 200 nm or more and 700 nm or less. .
- the contact angle on the surface of the transferred fine structure was measured at 25° C. using a contact angle meter (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., model number CA-X).
- the contact angle on the surface of the microstructure transferred using the transfer mold of Example 1 was 12°
- the contact angle on the surface of the microstructure transferred using the transfer mold of Comparative Example 1 was 25°. .
- ⁇ Test 3 Antiviral performance test> Microstructures transcribed using the transcription mold of Example 1 were tested for antiviral performance. The test was performed by a method according to the SIAA certification test (ISO21702:2019).
- Virus A Influenza A virus (H3N2, A/Hong Kong/8/68), size 80-120 nm
- Host cell MDCK cell (canine kidney-derived cell line)
- Reaction conditions 25°C, 2 hours, 6 hours
- Washing solution SCDLP medium
- Infectivity titer measurement method Plaque method
- Virus B Feline calicivirus F-9
- Host cell CRFK cell (cat kidney-derived cell)
- Reaction conditions 25°C, 2, 6 hours
- Washing solution SCDLP medium
- Infectivity titer measurement method Plaque method
- Test operation a) A sample piece (5 ⁇ 5 cm) was attached to the bottom of a petri dish. b) 400 ⁇ L of the virus solution was inoculated onto the sample piece and covered with a PET film (4 ⁇ 4 cm). Specifically, a 4 ⁇ 4 cm circle was drawn on the sample surface with a water-repellent pen, 400 ⁇ L of virus solution diluted with water was inoculated inside, and a cover film was placed on the circle. c) Allowed to stand at 25°C for 24 hours. d) 10 mL of washing solution was added and the virus was washed out by pipetting. e) The virus infectivity titer in the washout was measured by the plaque method.
- FIGS. 8 and 9 The results are shown in FIGS. 8 and 9.
- FIG. 8 As shown in FIG. 8, no influenza virus was detected in the fine structure transcribed using the transcription mold of Example 1 after standing for 6 hours.
- the virus infectivity titer of the hydrophilic resin sample used as a blank was also lowered. Since the negative control (PET film) did not significantly decrease the virus infectivity, it is considered that the hydrophilic resin itself contains a virus-inactivating component. Since the sample of Example 1 had higher virus inactivation performance than the blank, it was shown that the fine structure has an antiviral effect against influenza virus.
- the virus inactivation performance is higher than that of the blank. It has been shown to work.
- the antiviral microstructure of this embodiment exhibits a virus inactivating effect, that is, antiviral properties, even for viruses with a size of about 100 nm and small viruses with a size of about 30 nm.
- the antiviral microstructure of this embodiment has a sharp tip, and it was suggested that narrowing the pitch destroys the virus envelope and inactivates the virus.
- the novel coronavirus SARS-CoV-2
- COVID-19 novel coronavirus infectious disease
- Viral microstructure can inactivate.
- Article with antiviral microstructure 2 Object to be processed (article) 2a surface M antiviral microstructure T transfer mold 10 substrate 10a substrate surface 20 underlayer 30 glassy carbon layer 30a surface of glassy carbon layer RM inverted microstructure
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Abstract
ウイルスを不活化可能な抗ウイルス性微細構造を備える物品を提供する。 被加工物である物品2と、物品2の上に形成された抗ウイルス性微細構造Mと、を備え、抗ウイルス性微細構造が、根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されており、微細な突起の平均直径が、10nm~400nmであり、平均高さが、30nm~1000nmであり、平均ピッチが、10nm~500nmの範囲内であることを特徴とする抗ウイルス性微細構造を備える物品1。
Description
本発明は、抗ウイルス性微細構造を備える物品、抗ウイルス性微細構造の転写方法及びウイルス不活化方法に関する。
ウイルス感染症、例えば、新型コロナウイルス感染症(COVID-19)の原因となるコロナウイルスや、インフルエンザウイルス、ノロウイルス、ロタウイルス等による感染症は深刻な社会問題となっている。
特許文献1には、金属基材と、金属基材上に形成されたポーラス陽極酸化層とを備える殺菌作用を備えた表面を有するインテリア建材が記載されている。殺菌作用を備えるポーラス陽極酸化層の表面は、表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさが100nm超500nm未満である複数の凹部を含み、隣接する前記複数の凹部の間に形成された突起部を有し、突起部は、隣接する複数の凹部の側面が交わることにより形成された稜線を有している。
陽極酸化ポーラスアルミナ転写型を利用したモスアイ構造の殺菌性については、多数の報告があるものの、抗ウイルス性に関しては殆ど言及されていなかった。生物である病原性大腸菌などの菌とは異なり、ウイルスは不活性化しにくいことが知られている。抗菌作用を有する表面構造として、病原菌とウイルスを不活化できるとする公知技術であっても、実際に抗ウイルス作用を示すとは限らなかった。従来のモスアイ構造は、ポーラスアルミナ版で転写されて製作された形状であり、ピッチが広く先端が太かったため、抗ウイルス作用を発揮するものではなかった。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、ウイルスを不活化可能な抗ウイルス性微細構造を備える物品及び抗ウイルス性微細構造の転写方法を提供することにある。また、本発明の別の目的は、微細構造の形状に基づいてウイルスを不活化することが可能なウイルス不活化方法を提供することにある。
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、陽極酸化ポーラスアルミナを利用したモスアイ構造よりもピッチが狭く先端がより鋭利な形状の微細構造が、抗ウイルス作用を発揮することを見出した。
前記課題は、本発明の抗ウイルス性微細構造を備える物品によれば、被加工物である物品と、該物品の上に形成された抗ウイルス性微細構造と、を備え、前記抗ウイルス性微細構造が、根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されており、前記微細な突起の平均直径が、10nm~400nmであり、平均高さが、30nm~1000nmであり、平均ピッチが、10nm~500nmの範囲内であること、により解決される。
このとき、前記ウイルスが、エンベロープを有するウイルスであると好適である。
このとき、前記エンベロープを有するウイルスが、コロナウイルス又はインフルエンザウイルスであると好適である。
このとき、前記抗ウイルス性微細構造が、親水性の樹脂で形成されていると好適である。
このとき、前記物品が、フェイスシールド、マウスシールド、衛生マスク、パーティション、スマートフォン、タブレット端末、タッチパネル、窓ガラス、建材、メガネレンズを含む群から選択される少なくとも一以上であると好適である。
このとき、前記ウイルスが、エンベロープを有するウイルスであると好適である。
このとき、前記エンベロープを有するウイルスが、コロナウイルス又はインフルエンザウイルスであると好適である。
このとき、前記抗ウイルス性微細構造が、親水性の樹脂で形成されていると好適である。
このとき、前記物品が、フェイスシールド、マウスシールド、衛生マスク、パーティション、スマートフォン、タブレット端末、タッチパネル、窓ガラス、建材、メガネレンズを含む群から選択される少なくとも一以上であると好適である。
前記課題は、本発明の抗ウイルス性微細構造の転写方法によれば、表面にグラッシーカーボン層を備える転写型を用意する転写型用意工程と、被処理物を用意する工程と、前記転写型と前記被処理物の表面との間に光硬化樹脂又は熱硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射するか又は前記熱硬化樹脂に熱を加えることによって前記光硬化樹脂又は前記熱硬化樹脂を硬化させる工程と、前記硬化させられた光硬化樹脂で形成された表面微細構造から前記転写型を剥離する工程と、を行い、前記グラッシーカーボン層は、平均直径が10nm~400nmであり、平均高さが30nm~1000nmであり、平均ピッチが10nm~500nmの範囲内である反転された微細構造を表面に有しており、前記硬化させられた光硬化樹脂又は熱硬化樹脂で形成された表面微細構造が抗ウイルス性であること、により解決される。
前記課題は、本発明のウイルス不活化方法によれば、抗ウイルス性微細構造が形成された表面におけるウイルス不活化方法であって、前記抗ウイルス性微細構造が、根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されており、前記微細な突起の平均直径が、10nm~400nmであり、平均高さ(H)が、30nm~1000nmであり、平均ピッチが、10nm~500nmの範囲内であること、により解決される。
本発明の抗ウイルス性微細構造を備える物品及び抗ウイルス性微細構造の転写方法によれば、ウイルスを不活化し、衛生的で安全な環境を生み出すことが可能となる。また、本発明のウイルス不活化方法によれば、微細構造の形状に基づいてウイルスを不活化することが可能となる。
以下、本発明の一実施形態(以下、本実施形態という)に係る抗ウイルス性微細構造を備える物品、抗ウイルス性微細構造の転写方法及びウイルス不活化方法について図1乃至図9を参照して説明する。
<抗ウイルス性微細構造を備える物品>
本実施形態の抗ウイルス性微細構造を備える物品1は、図1に示すように、被加工物である物品1と、該物品1の上に形成された抗ウイルス性微細構造Mと、を備え、該抗ウイルス性微細構造Mが、その根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されている。
本実施形態の抗ウイルス性微細構造を備える物品1は、図1に示すように、被加工物である物品1と、該物品1の上に形成された抗ウイルス性微細構造Mと、を備え、該抗ウイルス性微細構造Mが、その根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されている。
(被処理物2)
本実施形態の抗ウイルス性微細構造Mの転写方法において、抗ウイルス性微細構造Mを形成する対象となる被処理物2は、抗ウイルス性を付与する対象の物品であり、特に限定されるものではない。
本実施形態の抗ウイルス性微細構造Mの転写方法において、抗ウイルス性微細構造Mを形成する対象となる被処理物2は、抗ウイルス性を付与する対象の物品であり、特に限定されるものではない。
処理対象となる被処理物2の具体的な例としては、フェイスシールド、マウスシールド、衛生マスクなど飛沫防止用防護具、人との接触を遮るためのパーティション(仕切り板)、スマートフォン、タブレット端末、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、各種コンピュータ、テレビ、プラズマディスプレイパネル等の各種表示機器やそのタッチパネルやディスプレイ、住宅や公共施設、医療施設などの建築物における窓ガラスや壁、ドアノブなどの建材(特に、洗面所、浴室、トイレ等の壁)、自動車、電車、航空機等の乗物の窓ガラス、ミラー、内壁、反射防止シート(反射防止フィルム)、防汚シート(防汚フィルム)、防曇シート(防曇フィルム)、透明プラスチック類からなるメガネレンズ、サングラスレンズなどのレンズなどが挙げられるが、これらの物品に限定されるものではない。
被処理物2は、表面2aを有するが、その表面2aの形状は、平面(平板状)に限定されるものではなく、曲面など湾曲した形状(例えば、ロール状)や平面や曲面が組み合わされた複雑な形状(異形形状)、中空部材の内部表面であってもよい。本実施形態の抗ウイルス性微細構造の形成方法では、高温で処理を行うプロセスが不要であるため、樹脂など熱に弱い物質(材料)を含有する被処理物2にも好適に適用することが可能である。
被処理物に含まれる樹脂としては、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂のいずれでもよく、例えば、ポリエチレン(高密度、中密度又は低密度)、ポリプロピレン(アイソタクチック型又はシンジオタクチック型)、ポリブテン、エチレン-プレピレン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン-プロピレン-ブテン共重合体等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ-(4-メチルペンテン-1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート-ブチル(メタ)アクリレート共重合体、メチル(メタ)アクリレート-スチレン共重合体、アクリル-スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン-スチレン共重合体、エチレン-ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプチレンテレフタレート(PBT)、エチレン-テレフタレート-イソフタレート共重合体、ポリエチレンナフタレート、ポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン、ナイロン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース系樹脂等、又はこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの1種又は2種以上を組み合わせた(例えば2層以上の積層体としたもの)であってもよい。
被処理物に含まれるガラスとしては、例えば、ケイ酸ガラス(石英ガラス)、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリ石灰ガラス、鉛(アルカリ)ガラス、バリウムガラス、ホウケイ酸ガラス等が挙げられる。
被処理物に含まれる金属としては、例えば、金、クロム、銀、銅、白金、インジウム、パラジウム、鉄、チタン、ニッケル、マンガン、亜鉛、錫、タングステン、タンタル、アルミニウム等が挙げられる。また、上記金属の合金である、SUS316L等のステンレス鋼、Ti-Ni合金若しくはCu-Al-Mn合金等の形状記憶合金、Cu-Zn合金、Ni-Al合金、チタン合金、タンタル合金、プラチナ合金又はタングステン合金等の合金を用いることもできる。なお、合金とは、前記金属元素に1種以上の金属元素または非金属元素を加えたものである。合金の組織には、成分元素が別個の結晶となる共晶合金、成分元素が完全に溶け合っている固溶体、成分元素が金属間化合物または金属と非金属との化合物を形成しているものなどがあるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
被処理物に含まれるセラミックとしては、例えば、酸化物(例えば、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ケイ素、ジルコニア、チタン酸バリウム)、窒化物(例えば、窒化ケイ素、窒化ホウ素)、炭化物(例えば、炭化ケイ素)、酸窒化物等が挙げられる。また、これらの混合物を用いることもできる。
被処理物に含まれる金属酸化物としては、例えば、アルミニウム、銅、金、銀、白金、インジウム、パラジウム、鉄、ニッケル、チタン、クロム、マンガン、亜鉛、錫、タングステンなどを金属として含有する酸化物、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化アルミニウム(Al2O3)、酸化チタン(TiO2)、酸化ケイ素(SiO2)、酸化スズ(SnO2、SnO)、酸化鉄(Fe2O3、Fe3O4)や、ペロブスカイト構造、スピネル構造、イルメナイト構造を有する複合酸化物などがあるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
被処理物に含まれる金属窒化物としては、窒化チタン(TiN)、窒化ジルコニウム(ZrN)、窒化バナジウム(VN)、窒化ニオブ(NbN)、窒化タンタル(TaN)、窒化クロム(CrN、Cr2N)、窒化ハフニウム(HfN)などがあるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
(抗ウイルス性微細構造M)
抗ウイルス性微細構造Mは、被処理物2の表面2aの上に積層された微細構造である。抗ウイルス性微細構造Mは、後述する表面にグラッシーカーボン層を備える転写型T(図2)を利用して、本実施形態に係る抗ウイルス性微細構造Mの転写方法(図3)によって形成される。
抗ウイルス性微細構造Mは、被処理物2の表面2aの上に積層された微細構造である。抗ウイルス性微細構造Mは、後述する表面にグラッシーカーボン層を備える転写型T(図2)を利用して、本実施形態に係る抗ウイルス性微細構造Mの転写方法(図3)によって形成される。
抗ウイルス性微細構造Mは、硬化させられた光硬化樹脂硬化又は熱硬化樹脂によって構成されており、その根元から先端に向けて縮径した形状を有する微細な突起、より詳細には、その根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されている。
抗ウイルス性微細構造Mを構成する微細な突起は、平均直径(D)が、10nm~400nm、好ましくは30nm~300nm、特に好ましくは50nm~150nmの範囲内であり、平均高さ(H)が、30nm~1000nm、好ましくは50nm~700nm、特に好ましくは100nm~500nmの範囲内であり、平均ピッチ(P)が、10nm~500nm、好ましくは30nm~400nm、特に好ましくは50nm~300nmの範囲内であり、先端平均直径(突起の先端から突起の高さの10%の位置における直径)が10~60nm、好ましくは15~55nm、特に好ましくは20~50nmである。なお、本願明細書において、○nm~△nmは、○nm以上△nm以下を意味する。
抗ウイルス性微細構造Mの表面の算術平均高さ(Sa)は、20nm以上100nm以下、好ましくは、25nm以上80nm以下、特に好ましくは、30nm以上70nm以下である。算術平均高さ(Sa)は、2次元の粗さパラメータである算術平均粗さ(Ra)を3次元に拡張したものであり、3次元粗さパラメータ(3次元高さ方向パラメータ)である。算術平均高さ(Sa)は、測定対象領域において、各点の高さの差の絶対値の平均を表す。
抗ウイルス性微細構造Mの表面の最大高さ(Sz)は、200nm以上700nm以下、好ましくは、250nm以上600nm以下、特に好ましくは、300nm以上500nm以下である。最大高さ(Sz)は、2次元の粗さパラメータであるRzを3次元に拡張したパラメータである。最大高さ(Sz)は、測定対象領域において、表面の最も高い点から最も低い点までの距離(換言すると、表面の山高さSpの最大値と谷深さSvの最大値の和)を表す。
抗ウイルス性微細構造Mの厚さは、被処理物2の形状や用途などに応じて、適宜選択すればよく、数nm以上数μm以下とすることが好ましく、より好ましくは数nm以上30μm以下、より好ましくは数nm以上10μm以下、更に好ましくは10nm以上5.0μm以下、更に好ましくは10nm以上1.0μm以下であるとよい。抗ウイルス性微細構造Mの厚さが薄くなりすぎると、耐久性の観点から好ましくない。一方、抗ウイルス性微細構造Mが厚すぎると、被処理物2の用途によっては、透過率の低下、柔軟性の低下、軽量化、コスト面などの観点から好ましくないことがある。
抗ウイルス性微細構造Mを備える物品1は、親水性の光硬化樹脂又は熱硬化樹脂を用いて抗ウイルス性微細構造Mを積層する場合、表面の親水性が向上しており、表面の水接触角が10°以下であり、好ましくは8°以下、より好ましくは5°以下である。抗ウイルス性微細構造Mの表面の水接触角が上記の範囲であるため、水に対して高い濡れ性を有し、付着した汚れや異物を水洗によって容易に除去することができ、また、水滴付着による曇りを防ぐことが可能である。
抗ウイルス性微細構造Mを備える物品1は、撥水性の光硬化樹脂又は熱硬化樹脂を用いて抗ウイルス性微細構造Mを積層する場合、表面の撥水性が向上しており、表面の水接触角が120°以上であり、好ましくは130°以上、より好ましくは140°以上である。抗ウイルス性微細構造Mの表面の水接触角が上記の範囲であるため、水に対して高い撥水性を有し、付着した汚れや異物を水洗によって容易に除去することができ、また、水滴付着による曇りを防ぐことが可能である。
抗ウイルス性微細構造Mを備える物品1は、上記の抗ウイルス性微細構造Mを積層したことにより、抗ウイルス性を発揮する。具体的には、抗ウイルス性微細構造Mのピッチが狭く先端を鋭利な構造にすることで、エンペロープ型ウイルスのエンペロープを破壊することで抗ウイルス性を発揮する。
ポーラスアルミナ版で転写されて製作された従来のモスアイ構造は、微細構造自体のサイズが大きく、ピッチが広く、先端が太かったため、抗ウイルス作用を発揮するものではなかった。これに対して、本実施形態の抗ウイルス性微細構造Mは、先端が鋭利な形状であり、ピッチを狭くすることでウイルスのエンペロープを破壊し、ウイルスを不活性化させることが可能となっている。
本実施形態に係る抗ウイルス性微細構造を備える物品、抗ウイルス性微細構造の転写方法及びウイルス不活化方法において、不活性化の対象となるウイルスは、特に限定されるものではない。不活性化の対象となるウイルスとしては、ゲノムの種類や、エンベロープの有無等によらず、様々なウイルスを例示されるが、空気感染、飛沫感染するコロナウイルスやインフルエンザウイルス、ノロウイルスやロタウイルスを対象とすることが好適である。特に、エンベロープを有するウイルスであるコロナウイルス又はインフルエンザウイルスを対象とすることが好適である。
コロナウイルスの例としては、2003年に流行した重症急性呼吸器症候群(SARS:Severe acute respiratory syndrome)の病原体であるSARSウイルス、中東呼吸器症候群(MERS:Middle East respiratory syndrome)の病原体であるMERSウイルス、新型コロナウイルス感染症(COVID-19)の原因となるSARS関連コロナウイルス(SARSr-CoV)に属するコロナウイルスである2019新型コロナウイルス(2019-nCoV,SARS-CoV-2)等が例示されるが、特に限定されるものではない。
インフルエンザウイルスの例としては、ヒトインフルエンザウイルス、鳥インフルエンザウイルス、豚インフルエンザウイルス等が例示されるが、特に限定されるものではない。
ウイルスは、新型ウイルスの出現や、突然変異によって変異型ウイルスが出現するため、ワクチンや医薬品の開発に時間がかかることがあるが、微細構造によってウイルスのエンペロープを破壊する場合、エンペロープ型ウイルスであれば、その種類や変異によらず、不活性化をすることが可能である。
<転写型T>
本実施形態に係る抗ウイルス性微細構造Mの転写方法で用いられる表面にグラッシーカーボン層30を備える転写型Tは、図2に示すように、基材10と、該基材10の上に形成された下地層20と、該下地層20の上に形成されたグラッシーカーボン層30と、を備え、該グラッシーカーボン層30は、反転された微細構造RMを表面30aに有している。
本実施形態に係る抗ウイルス性微細構造Mの転写方法で用いられる表面にグラッシーカーボン層30を備える転写型Tは、図2に示すように、基材10と、該基材10の上に形成された下地層20と、該下地層20の上に形成されたグラッシーカーボン層30と、を備え、該グラッシーカーボン層30は、反転された微細構造RMを表面30aに有している。
(基材10)
基材10は、樹脂、ゴム、ガラス、金属、合金、セラミクス(金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物)、シリコンウエハ(Siウエハ)、化合物半導体基板に用いられる化合物半導体、パワーデバイス用基板に用いられる炭化ケイ素(SiC)、シリコンなどの太陽電池材料を含む群より選択される一種以上の物質を含有する。基材10として、ゴムなど柔軟性を有するものを採用した場合、転写型Tを用いて抗ウイルス性微細構造Mを転写する際に、湾曲形状や異形の物品(被処理物)に対しても、物品の形状に沿って転写型Tを密着させることができるため好適である。
基材10は、樹脂、ゴム、ガラス、金属、合金、セラミクス(金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物)、シリコンウエハ(Siウエハ)、化合物半導体基板に用いられる化合物半導体、パワーデバイス用基板に用いられる炭化ケイ素(SiC)、シリコンなどの太陽電池材料を含む群より選択される一種以上の物質を含有する。基材10として、ゴムなど柔軟性を有するものを採用した場合、転写型Tを用いて抗ウイルス性微細構造Mを転写する際に、湾曲形状や異形の物品(被処理物)に対しても、物品の形状に沿って転写型Tを密着させることができるため好適である。
(下地層20)
下地層20は、金属、合金、セラミクス(金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物)、ケイ素(Si)を含む群より選択される一種以上の物質を含有する。
下地層20の膜厚は、10nm以上500nm以下であることが好ましい。
基材10として樹脂(プラスチックやフィルム)を含む材料を採用した場合、下地層20として、Cr、Ti、Ta2O5及びこれらの組み合わせ等を用いることが好ましい。
下地層を基材10の表面に付加することで、グラッシーカーボン層30の密着性が向上するとともに、グラッシーカーボン層30における膜クラックの発生も抑制することが可能となる。
下地層20は、金属、合金、セラミクス(金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物)、ケイ素(Si)を含む群より選択される一種以上の物質を含有する。
下地層20の膜厚は、10nm以上500nm以下であることが好ましい。
基材10として樹脂(プラスチックやフィルム)を含む材料を採用した場合、下地層20として、Cr、Ti、Ta2O5及びこれらの組み合わせ等を用いることが好ましい。
下地層を基材10の表面に付加することで、グラッシーカーボン層30の密着性が向上するとともに、グラッシーカーボン層30における膜クラックの発生も抑制することが可能となる。
(グラッシーカーボン層30)
グラッシーカーボン層30は、下地層20の上に形成されたグラッシーカーボンを含む層である。グラッシーカーボン層30の膜厚は、300nm以上5μm以下であることが好ましい。ここで、グラッシーカーボン(Glassy carbon)とは、ガラス状炭素やアモルファス状炭素とも呼ばれ、外観が黒色、かつ、ガラス状で非晶質の炭素であり、均質かつ緻密な構造を有する。グラッシーカーボンは、他の炭素材料と同様の特徴である導電性能、化学的安定性、耐熱性、高純度等の性能に加え、材料表面が粉化し脱落することがないという優れた特徴を有する。グラッシーカーボンの一般的な特性としては、密度が1.45~1.60g/cm3と軽量であり、曲げ強度が50~200MPaと高強度であり、硫酸や塩酸などの酸に強く耐食性がある。導電性は比電気抵抗が4~20mΩcmであり黒鉛と比べるとやや高い値を示すが、ガス透過性が10-9~10-12cm2/sと非常に小さいなどの特徴がある。
グラッシーカーボン層30は、下地層20の上に形成されたグラッシーカーボンを含む層である。グラッシーカーボン層30の膜厚は、300nm以上5μm以下であることが好ましい。ここで、グラッシーカーボン(Glassy carbon)とは、ガラス状炭素やアモルファス状炭素とも呼ばれ、外観が黒色、かつ、ガラス状で非晶質の炭素であり、均質かつ緻密な構造を有する。グラッシーカーボンは、他の炭素材料と同様の特徴である導電性能、化学的安定性、耐熱性、高純度等の性能に加え、材料表面が粉化し脱落することがないという優れた特徴を有する。グラッシーカーボンの一般的な特性としては、密度が1.45~1.60g/cm3と軽量であり、曲げ強度が50~200MPaと高強度であり、硫酸や塩酸などの酸に強く耐食性がある。導電性は比電気抵抗が4~20mΩcmであり黒鉛と比べるとやや高い値を示すが、ガス透過性が10-9~10-12cm2/sと非常に小さいなどの特徴がある。
グラッシーカーボン層30は、その表面30aに反転された微細構造RMを有している。ここで、反転された微細構造RMとは、抗ウイルス性微細構造Mを形成することができる転写型Tの表面の構造をいう。
本実施形態に係る転写型Tにおける、反転された微細構造RMは、ランダムに円錐状の穴が配列して形成されている。このとき、反転された微細構造RMを構成するグラッシーカーボンの微細構造は、平均直径(D)が、10nm~400nm、好ましくは30nm~300nm、特に好ましくは50nm~150nmの範囲内であり、平均高さ(H)が、30nm~1000nm、好ましくは50nm~700nm、特に好ましくは100nm~500nmの範囲内であり、平均ピッチ(P)が、10nm~500nm、好ましくは30nm~400nm、特に好ましくは50nm~300nmの範囲内である。
本実施形態に係る転写型Tにおける、グラッシーカーボン層30の表面30aの算術平均高さ(Sa)は、50nm以上500nm以下である。
本実施形態に係る転写型Tにおける、グラッシーカーボン層30の表面30aの最大高さ(Sz)は、200nm以上700nm以下である。
転写型Tの形状は、ロール状、平板状、異形形状を含む群より選択される一種以上の形状を含む。
<抗ウイルス性微細構造の転写方法>
上記の表面にグラッシーカーボン層を備える転写型Tを利用して、図3に示すように、被処理物の表面に抗ウイルス性微細構造Mを転写することができる。
上記の表面にグラッシーカーボン層を備える転写型Tを利用して、図3に示すように、被処理物の表面に抗ウイルス性微細構造Mを転写することができる。
具体的には、本実施形態の抗ウイルス性微細構造の転写方法は、表面にグラッシーカーボン層30を備える転写型Tを用意する転写型用意工程(ステップS11)と、被処理物2を用意する工程(ステップS12)と、前記転写型Tと前記被処理物2の表面2aとの間に光硬化樹脂又は熱硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射するか又は前記熱硬化樹脂に熱を加えることによって前記光硬化樹脂を硬化させる工程(ステップS13)と、前記硬化させられた光硬化樹脂又は熱硬化樹脂で形成された表面微細構造から前記転写型Tを剥離する工程(ステップS14)と、を行う。
以上のステップS11~S14で、被処理物2の表面2aに抗ウイルス性微細構造Mを転写することができる。具体的には、被処理物2の表面2aに硬化させられた光硬化樹脂又は熱硬化樹脂で形成された抗ウイルス性微細構造Mを転写することができる。以下、各ステップについて、詳細に説明をする。
(転写型用意工程)
転写型用意工程(ステップS11)では、図2に示す表面にグラッシーカーボン層を備える転写型T、具体的には、基材10と、該基材10の上に形成された下地層20と、該下地層20の上に形成されたグラッシーカーボン層30と、を備え、該グラッシーカーボン層30は、反転された微細構造RMを表面30aに有する転写型Tを用意する。ここで、反転された微細構造RMは、ランダムに円錐状の穴が配列して形成されている。このとき、反転された微細構造RMを構成するグラッシーカーボンの微細構造は、平均直径(D)が、10nm~400nm、好ましくは30nm~300nm、特に好ましくは50nm~150nmの範囲内であり、平均高さ(H)が、30nm~1000nm、好ましくは50nm~700nm、特に好ましくは100nm~500nmの範囲内であり、平均ピッチ(P)が、10nm~500nm、好ましくは30nm~400nm、特に好ましくは500nm~300nmの範囲内である。
転写型用意工程(ステップS11)では、図2に示す表面にグラッシーカーボン層を備える転写型T、具体的には、基材10と、該基材10の上に形成された下地層20と、該下地層20の上に形成されたグラッシーカーボン層30と、を備え、該グラッシーカーボン層30は、反転された微細構造RMを表面30aに有する転写型Tを用意する。ここで、反転された微細構造RMは、ランダムに円錐状の穴が配列して形成されている。このとき、反転された微細構造RMを構成するグラッシーカーボンの微細構造は、平均直径(D)が、10nm~400nm、好ましくは30nm~300nm、特に好ましくは50nm~150nmの範囲内であり、平均高さ(H)が、30nm~1000nm、好ましくは50nm~700nm、特に好ましくは100nm~500nmの範囲内であり、平均ピッチ(P)が、10nm~500nm、好ましくは30nm~400nm、特に好ましくは500nm~300nmの範囲内である。
(被処理物を用意する工程)
被処理物を用意する工程(ステップS12)では、処理の対象となる被処理物2を用意する。このとき、事前に、被処理物2の表面2aを洗浄したり、帯電処理をしたりするなど、光硬化樹脂の成膜性(積層性)を向上させるような前処理を行ってもよい。
被処理物を用意する工程(ステップS12)では、処理の対象となる被処理物2を用意する。このとき、事前に、被処理物2の表面2aを洗浄したり、帯電処理をしたりするなど、光硬化樹脂の成膜性(積層性)を向上させるような前処理を行ってもよい。
(光硬化樹脂を硬化させる工程)
光硬化樹脂を硬化させる工程(ステップS13)では、転写型Tと被処理物2の表面100aとの間に光硬化樹脂又は熱硬化樹脂を付与した状態で、光硬化樹脂又は熱硬化樹脂に光を照射するか又は熱硬化樹脂に熱を加えることによって光硬化樹脂を硬化させる。
光硬化樹脂を硬化させる工程(ステップS13)では、転写型Tと被処理物2の表面100aとの間に光硬化樹脂又は熱硬化樹脂を付与した状態で、光硬化樹脂又は熱硬化樹脂に光を照射するか又は熱硬化樹脂に熱を加えることによって光硬化樹脂を硬化させる。
このとき、転写型Tの形状がロール状である場合、ロール状の転写型T型を、その軸を中心に回転させることによって、転写型Tの表面構造である反転された微細構造RMを被処理物2に連続的に転写できる。被加工物として、ロール状のフィルムを用いる場合には、ロール・ツー・ロール方式を採用することが可能となる。
また、転写型Tの基材10として、柔軟性を有する材料を採用した場合、減圧・加圧を組み合わせることで柔軟な転写型Tを、被処理物2に対して密着させた状態で光硬化樹脂に光を照射することで、光硬化樹脂を硬化させることが可能となる。柔軟性を有する転写型Tを用いることで、異形の被処理物2に対しても抗ウイルス性微細構造を転写することが可能となる。
光硬化樹脂としては、紫外線などの光で硬化可能なものであれば、特に限定されず、アクリル系樹脂や、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂等を用いることが可能である。
(転写型を剥離する工程)
転写型を剥離する工程(ステップS14)では、硬化させられた光硬化樹脂又は熱硬化樹脂で形成された表面微細構造から転写型を剥離する。
転写型を剥離する工程(ステップS14)では、硬化させられた光硬化樹脂又は熱硬化樹脂で形成された表面微細構造から転写型を剥離する。
<ウイルス不活化方法>
上記の抗ウイルス性微細構造Mを利用して、ウイルスを不活化することができる。具体的には、本実施形態のウイルス不活化方法は、抗ウイルス性微細構造Mが形成された表面におけるウイルス不活化方法であって、前記抗ウイルス性微細構造Mが、根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されており、前記微細な突起の平均直径が、10nm~400nmであり、平均高さ(H)が、30nm~1000nmであり、平均ピッチが、10nm~500nmの範囲内であることを特徴とする。
上記の抗ウイルス性微細構造Mを利用して、ウイルスを不活化することができる。具体的には、本実施形態のウイルス不活化方法は、抗ウイルス性微細構造Mが形成された表面におけるウイルス不活化方法であって、前記抗ウイルス性微細構造Mが、根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されており、前記微細な突起の平均直径が、10nm~400nmであり、平均高さ(H)が、30nm~1000nmであり、平均ピッチが、10nm~500nmの範囲内であることを特徴とする。
本実施形態では、主として本発明に係る抗ウイルス性微細構造を備える物品、抗ウイルス性微細構造の転写方法及びウイルス不活化方法について説明した。ただし、上記の実施形態は、本発明の理解を容易にするための一例に過ぎず、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれることは勿論である。
以下、本発明の抗ウイルス性微細構造を備える物品、抗ウイルス性微細構造の転写方法及びウイルス不活化方法の具体的実施例について説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。
<使用した転写版>
(実施例1:グラッシーカーボン層を備える転写型)
実施例1のグラッシーカーボン層を備える転写型として、その表面に、反転された微細構造が、平均直径(D)が60~280nm、平均高さ(H)が100~150nm、平均ピッチ(P)が70~300nmであるものを用いた。実施例1の転写型は、特開2020-76996号公報に記載の方法によって作成することが可能である。
(実施例1:グラッシーカーボン層を備える転写型)
実施例1のグラッシーカーボン層を備える転写型として、その表面に、反転された微細構造が、平均直径(D)が60~280nm、平均高さ(H)が100~150nm、平均ピッチ(P)が70~300nmであるものを用いた。実施例1の転写型は、特開2020-76996号公報に記載の方法によって作成することが可能である。
(比較例1:陽極酸化ポーラスアルミナ転写型)
比較例1の陽極酸化ポーラスアルミナ転写型として、特許第5615971号公報に記載の方法によって作成したものを用いた。
比較例1の陽極酸化ポーラスアルミナ転写型として、特許第5615971号公報に記載の方法によって作成したものを用いた。
なお、実施例1及び比較例1に係る転写版についての上記のパラメータは、表面の状態を電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM、(株)日立ハイテクノロジーズ製、S-4300)を用いて観察して求めた値である。
<試験1:微細構造の転写>
実施例1及び比較例1に係る転写型を用いて、微細構造の転写を行った。実施例1及び比較例1に係る転写型に、フッ素系離型剤(ダイキン工業社製、製品名:UD-509)を塗布して離型処理を行った。被処理物として、トリアセチルセルロース(Triacetylcellulose)フィルム(TACフィルム)を用いた。
実施例1及び比較例1に係る転写型を用いて、微細構造の転写を行った。実施例1及び比較例1に係る転写型に、フッ素系離型剤(ダイキン工業社製、製品名:UD-509)を塗布して離型処理を行った。被処理物として、トリアセチルセルロース(Triacetylcellulose)フィルム(TACフィルム)を用いた。
次に、紫外線硬化樹脂(アクリル系樹脂、オリジン電気社製、製品名:UVコート TP)を各転写型の表面に塗布し、被処理物であるTACフィルムを密着させ、紫外光(メタルハライドランプ光源、波長200nm~450nm、強度600mJ、照射時間40秒)を照射して硬化処理を行った。そして、硬化させられた光硬化樹脂で形成された表面微細構造から転写型を剥離することで、表面微細構造を備えるTACフィルムを得た。
<試験2:微細構造の評価>
試験1において転写された実施例1及び比較例1に係る微細構造の評価を行った。具体的には、転写された微細構造について、表面状態の観察、表面粗さの測定、接触角の評価を行った。
試験1において転写された実施例1及び比較例1に係る微細構造の評価を行った。具体的には、転写された微細構造について、表面状態の観察、表面粗さの測定、接触角の評価を行った。
(1.表面状態の観察)
転写された微細構造の表面の状態を電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM、(株)日立ハイテクノロジーズ製、S-4300)を用いて観察した結果を図4乃至図7に示す。図4は、実施例1の転写型を用いて転写された微細構造を示す電子顕微鏡写真であり、図5は、比較例1の転写型を用いて転写された微細構造を示す電子顕微鏡写真である。図6は、実施例1の転写型を用いて転写された微細構造の断面を示す電子顕微鏡写真であり、図7比較例1の転写型を用いて転写された微細構造の断面を示す電子顕微鏡写真である。
転写された微細構造の表面の状態を電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM、(株)日立ハイテクノロジーズ製、S-4300)を用いて観察した結果を図4乃至図7に示す。図4は、実施例1の転写型を用いて転写された微細構造を示す電子顕微鏡写真であり、図5は、比較例1の転写型を用いて転写された微細構造を示す電子顕微鏡写真である。図6は、実施例1の転写型を用いて転写された微細構造の断面を示す電子顕微鏡写真であり、図7比較例1の転写型を用いて転写された微細構造の断面を示す電子顕微鏡写真である。
図4及び図6に示すように、実施例1の転写型を用いて転写された微細構造は、その根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されていた。微細な突起は、平均直径が、100nm以下であり更に先端平均直径が、25nm以下、平均高さ(H)が、150nmであり、平均ピッチが、100nmであった。ここで、先端平均直径とは、突起の先端から突起の高さの10%の位置における直径である。
(2.表面粗さの測定)
実施例1及び比較例1の転写型及びこれらの転写型を用いて転写された微細構造の表面粗さについて評価を行った。具体的には、原子間力顕微鏡(AFM、Innova(Bruker AXS K.K.製))を用いて、各試料の表面の算術平均高さ(Sa)及び最大高さ(Sz)を測定した。
実施例1及び比較例1の転写型及びこれらの転写型を用いて転写された微細構造の表面粗さについて評価を行った。具体的には、原子間力顕微鏡(AFM、Innova(Bruker AXS K.K.製))を用いて、各試料の表面の算術平均高さ(Sa)及び最大高さ(Sz)を測定した。
実施例1の転写型の表面(つまり、グラッシーカーボン層の表面)の算術平均高さ(Sa)は、50nm以上70nm以下の範囲にあり、最大高さ(Sz)は400nm以上500nm以下の範囲内にあった。
比較例1の転写型の表面(つまり、陽極酸化ポーラスアルミナの表面)の算術平均高さ(Sa)は、80nm以上100nm以下の範囲にあり、最大高さ(Sz)は500nm以上600nm以下の範囲内にあった。
比較例1の転写型の表面(つまり、陽極酸化ポーラスアルミナの表面)の算術平均高さ(Sa)は、80nm以上100nm以下の範囲にあり、最大高さ(Sz)は500nm以上600nm以下の範囲内にあった。
実施例1の転写型を用いて転写された微細構造の算術平均高さ(Sa)は、50nm以上500nm以下の範囲にあり、最大高さ(Sz)は200nm以上700nm以下の範囲内にあった。
比較例1の転写型を用いて転写された微細構造の算術平均高さ(Sa)は、50nm以上500nm以下の範囲にあり、最大高さ(Sz)は200nm以上700nm以下の範囲内にあった。
比較例1の転写型を用いて転写された微細構造の算術平均高さ(Sa)は、50nm以上500nm以下の範囲にあり、最大高さ(Sz)は200nm以上700nm以下の範囲内にあった。
(3.接触角測定)
転写された微細構造の表面における接触角の測定は、接触角計(協和界面科学社製、型番CA-X)を用いて25℃の条件で測定した。
実施例1の転写型を用いて転写された微細構造の表面における接触角は12°であり、比較例1の転写型を用いて転写された微細構造の表面における接触角は25°であった。
転写された微細構造の表面における接触角の測定は、接触角計(協和界面科学社製、型番CA-X)を用いて25℃の条件で測定した。
実施例1の転写型を用いて転写された微細構造の表面における接触角は12°であり、比較例1の転写型を用いて転写された微細構造の表面における接触角は25°であった。
<試験3:抗ウイルス性能試験>
実施例1の転写型を用いて転写された微細構造の抗ウイルス性能について試験を行った。試験は、SIAA認証試験(ISO21702:2019)に準じた方法で行った。
実施例1の転写型を用いて転写された微細構造の抗ウイルス性能について試験を行った。試験は、SIAA認証試験(ISO21702:2019)に準じた方法で行った。
(試験概要)
・ウイルスA:A型インフルエンザウイルス(H3N2、A/Hong Kong/8/68)、サイズは80~120nm
・宿主細胞:MDCK細胞(イヌ腎臓由来細胞株)
・反応条件:25℃、2時間,6時間
・洗い出し液:SCDLP培地
・感染価測定法:プラーク法
・ウイルスA:A型インフルエンザウイルス(H3N2、A/Hong Kong/8/68)、サイズは80~120nm
・宿主細胞:MDCK細胞(イヌ腎臓由来細胞株)
・反応条件:25℃、2時間,6時間
・洗い出し液:SCDLP培地
・感染価測定法:プラーク法
・ウイルスB:ネコカリシウイルス(Feline calicivirus F-9)
・宿主細胞:CRFK細胞(ネコ腎臓由来細胞)
・反応条件:25℃、2,6時間
・洗い出し液:SCDLP培地
・感染価測定法:プラーク法
・宿主細胞:CRFK細胞(ネコ腎臓由来細胞)
・反応条件:25℃、2,6時間
・洗い出し液:SCDLP培地
・感染価測定法:プラーク法
(試験操作)
a)サンプル片(5×5cm)をシャーレ底面に貼り付けた。
b)ウイルス液400μLをサンプル片上に接種し、PETフィルム(4×4cm)を被せた。具体的には、試料表面に撥水性ペンで4×4cmの囲みを描き、内側に水で希釈したウイルス液400μLを接種し、カバーフィルムを被せた。
c)25℃下で24時間静置した。
d)洗い出し液10mLを添加し、ピペッティングにてウイルスを洗い出した。
e)洗い出し液中のウイルス感染価をプラーク法にて測定した。
a)サンプル片(5×5cm)をシャーレ底面に貼り付けた。
b)ウイルス液400μLをサンプル片上に接種し、PETフィルム(4×4cm)を被せた。具体的には、試料表面に撥水性ペンで4×4cmの囲みを描き、内側に水で希釈したウイルス液400μLを接種し、カバーフィルムを被せた。
c)25℃下で24時間静置した。
d)洗い出し液10mLを添加し、ピペッティングにてウイルスを洗い出した。
e)洗い出し液中のウイルス感染価をプラーク法にて測定した。
(試験結果)
結果を図8及び図9に示す。図8に示すように、実施例1の転写型を用いて転写された微細構造では、6時間静置後にはインフルエンザウイルスは検出されなかった。なお、ブランクとして用いた親水性樹脂サンプルのウイルス感染価も低下していた。ネガティブコントロール(PETフィルム)ではウイルス感染価の大きな低下がないことから、親水性樹脂自体にウイルスを不活性化させる成分を含むと考えられる。実施例1の試料がブランクよりもウイルス不活化性能が高いことから、微細構造にインフルエンザウイルスに対する抗ウイルス作用があることが示された。
結果を図8及び図9に示す。図8に示すように、実施例1の転写型を用いて転写された微細構造では、6時間静置後にはインフルエンザウイルスは検出されなかった。なお、ブランクとして用いた親水性樹脂サンプルのウイルス感染価も低下していた。ネガティブコントロール(PETフィルム)ではウイルス感染価の大きな低下がないことから、親水性樹脂自体にウイルスを不活性化させる成分を含むと考えられる。実施例1の試料がブランクよりもウイルス不活化性能が高いことから、微細構造にインフルエンザウイルスに対する抗ウイルス作用があることが示された。
図9に示すように、実施例1の転写型を用いて転写された微細構造では、ブランクよりもウイルス不活化性能が高いことから、微細構造にノロウイルスの代替ウイルスであるネコカリシウイルスに対する抗ウイルス作用があることが示された。
以上の結果から、本実施形態の抗ウイルス性微細構造は、約100nmのウイルスや、約30nmという小型のウイルスに対しても、ウイルス不活化作用、つまり、抗ウイルス性を示すことがわかった。
本実施形態の抗ウイルス性微細構造は、先端が鋭利な形状であり、ピッチを狭くすることでウイルスのエンペロープを破壊し、ウイルスを不活性化させることが示唆された。また、新型コロナウイルス感染症(COVID-19)の原因となる新型コロナウイルス(SARS-CoV-2)は、約100nmとインフルエンザウイルスと同等のサイズのエンベロープを有するウイルスであり、本実施形態の抗ウイルス性微細構造で不活化できる。
1 抗ウイルス性微細構造を備える物品
2 被処理物(物品)
2a 表面
M 抗ウイルス性微細構造
T 転写型
10 基材
10a 基材表面
20 下地層
30 グラッシーカーボン層
30a グラッシーカーボン層の表面
RM 反転された微細構造
2 被処理物(物品)
2a 表面
M 抗ウイルス性微細構造
T 転写型
10 基材
10a 基材表面
20 下地層
30 グラッシーカーボン層
30a グラッシーカーボン層の表面
RM 反転された微細構造
Claims (7)
- 被加工物である物品と、
該物品の上に形成された抗ウイルス性微細構造と、を備え、
前記抗ウイルス性微細構造が、根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されており、
前記微細な突起の平均直径が、10nm~400nmであり、平均高さが、30nm~1000nmであり、平均ピッチが、10nm~500nmの範囲内であることを特徴とする抗ウイルス性微細構造を備える物品。 - 前記ウイルスが、エンベロープを有するウイルスであることを特徴とする請求項1に記載の抗ウイルス性微細構造を備える物品。
- 前記エンベロープを有するウイルスが、コロナウイルス又はインフルエンザウイルスであることを特徴とする請求項2に記載の抗ウイルス性微細構造を備える物品。
- 前記抗ウイルス性微細構造が、親水性の樹脂で形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の抗ウイルス性微細構造を備える物品。
- 前記物品が、フェイスシールド、マウスシールド、衛生マスク、パーティション、スマートフォン、タブレット端末、タッチパネル、窓ガラス、建材、メガネレンズを含む群から選択される少なくとも一以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の抗ウイルス性微細構造を備える物品。
- 表面にグラッシーカーボン層を備える転写型を用意する転写型用意工程と、
被処理物を用意する工程と、
前記転写型と前記被処理物の表面との間に光硬化樹脂又は熱硬化樹脂を付与した状態で、前記光硬化樹脂に光を照射するか又は前記熱硬化樹脂に熱を加えることによって前記光硬化樹脂又は前記熱硬化樹脂を硬化させる工程と、
前記硬化させられた光硬化樹又は熱硬化樹脂脂で形成された表面微細構造から前記転写型を剥離する工程と、を行い、
前記グラッシーカーボン層は、平均直径が10nm~400nmであり、平均高さが30nm~1000nmであり、平均ピッチが10nm~500nmの範囲内である反転された微細構造を表面に有しており、
前記硬化させられた光硬化樹脂又は熱硬化樹脂で形成された表面微細構造が抗ウイルス性であることを特徴とする抗ウイルス性微細構造の転写方法。 - 抗ウイルス性微細構造が形成された表面におけるウイルス不活化方法であって、
前記抗ウイルス性微細構造が、根元から先端に向けて縮径し、先端が先鋭化した針状又は錐状の形状を有する微細な突起がランダムに配列して形成されており、
前記微細な突起の平均直径が、10nm~400nmであり、平均高さ(H)が、30nm~1000nmであり、平均ピッチが、10nm~500nmの範囲内であることを特徴とするウイルス不活化方法。
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TW (1) | TW202241692A (ja) |
WO (1) | WO2022224728A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023038023A1 (ja) * | 2021-09-07 | 2023-03-16 | ジオマテック株式会社 | 抗ウイルス性微細構造を備える物品、抗ウイルス性微細構造の転写方法及びウイルス不活化方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016093939A (ja) * | 2014-11-13 | 2016-05-26 | 大日本印刷株式会社 | 抗菌性物品 |
JP2016104545A (ja) * | 2014-12-01 | 2016-06-09 | 大日本印刷株式会社 | 抗菌性物品 |
JP2019214182A (ja) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | 学校法人東京理科大学 | モスアイ転写型、モスアイ転写型の製造方法及びモスアイ構造の転写方法 |
JP2020076996A (ja) * | 2018-11-06 | 2020-05-21 | 学校法人東京理科大学 | モスアイ転写型及びモスアイ転写型の製造方法 |
-
2022
- 2022-03-28 WO PCT/JP2022/015186 patent/WO2022224728A1/ja active Application Filing
- 2022-04-19 TW TW111114818A patent/TW202241692A/zh unknown
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