WO2022107480A1 - 金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材 - Google Patents
金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材 Download PDFInfo
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- 238000005253 cladding Methods 0.000 title 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 58
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 58
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 152
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 152
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 150
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 abstract 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 221
- 238000000034 method Methods 0.000 description 45
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 38
- 238000013461 design Methods 0.000 description 30
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 18
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 11
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 6
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 2
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 235000021189 garnishes Nutrition 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000007666 vacuum forming Methods 0.000 description 2
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N (r)-(6-ethoxyquinolin-4-yl)-[(2s,4s,5r)-5-ethyl-1-azabicyclo[2.2.2]octan-2-yl]methanol;hydrochloride Chemical compound Cl.C([C@H]([C@H](C1)CC)C2)CN1[C@@H]2[C@H](O)C1=CC=NC2=CC=C(OCC)C=C21 QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005644 polyethylene terephthalate glycol copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Definitions
- the present invention relates to a metal-like decorative film, a metal-like molded body, and a metal-like vehicle interior / exterior member. More specifically, the present invention allows millimeter waves to be transmitted while being able to form various metallic patterns and covering a device such as a millimeter wave radar from the outside so that it is difficult to see or cannot be seen from the outside.
- the present invention relates to a metal-like decorative film, a metal-like molded body, and a metal-like vehicle interior / exterior member.
- Patent Document 1 discloses a method for producing a partially vapor-deposited foil used in a transfer decoration method on the surface of a molded product such as a housing of a home electric appliance or a communication device and a simultaneous molding decoration method.
- Patent Document 2 discloses a method for producing a film in which a metal-deposited layer is laminated and a metal-deposited film.
- a millimeter-wave radar may be installed on the front part of the automobile.
- equipment such as a millimeter-wave radar may be placed behind the grille, and the equipment is difficult to see from the outside. Further, since the millimeter wave can pass through the gap of the grill, the grill portion of the engine vehicle does not need to consider the transparency of the millimeter wave.
- a design without a grill is adopted in an electric vehicle, it is possible to transmit millimeter waves, and it is difficult to see or hide equipment such as millimeter wave radar from the outside, and further, it is possible to hide it so that it cannot be seen.
- the present invention has been made in view of such a conventional invention, and is capable of transmitting millimeter waves and making it difficult or invisible to see a device such as a radar from the outside. Further, it is an object of the present invention to provide a metal-like decorative film, a metal-like molded body, and a metal-like vehicle interior / exterior member capable of providing a metal-like design having excellent design.
- the present inventor can form various designs by providing a plurality of metal vapor deposition layers containing indium in a metallic decorative film, can transmit millimeter waves, and further, can be used for radar and the like. We have found that the device is difficult to see from the outside or can be covered so that it cannot be seen, and completed the present invention.
- the metallic decorative film of the present invention that solves the above problems has a base material, an anchor layer provided on the base material, and a metal vapor deposition layer provided on the anchor layer.
- the metal vapor deposition layer includes a first metal vapor deposition layer that forms a predetermined pattern on the anchor layer, a first portion that covers the first metal vapor deposition layer, and a second portion other than the first portion.
- the first metal vapor deposition layer has a second metal vapor deposition layer, the first metal vapor deposition layer contains indium, and the second metal vapor deposition layer is a metal-like decorative film containing indium.
- the metal-like molded body of the present invention is a metal-like molded body using the above-mentioned metal-like decorative film.
- the metal-like vehicle interior / exterior member of the present invention is a metal-like vehicle interior / exterior member using the above-mentioned metal-like molded body.
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 2 is an external photograph of a metallic molded product produced by using the metallic decorative film of the embodiment of the present invention.
- FIG. 3A is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 3B is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 3C is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 3A is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 3B is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 3C
- FIG. 3D is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 3E is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 3F is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a state in which a gravure coater is used in a patterning step when producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 5 is a schematic view illustrating a roll of a gravure coater used in a patterning step when producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
- the metallic decorative film (hereinafter, also referred to as a film) has a base material, an anchor layer provided on the base material, and a metal vapor deposition layer provided on the anchor layer.
- the metal vapor deposition layer is a second portion including a first metal vapor deposition layer forming a predetermined pattern on the anchor layer, a first portion covering the first metal vapor deposition layer, and a second portion other than the first portion. It has a metal vapor deposition layer.
- the first metal vapor deposition layer contains indium.
- the second metal vapor deposition layer contains indium. According to such a film, a predetermined pattern can be formed by the first metal vapor deposition layer.
- the film can give various designs to an object (for example, an exterior member of an automobile).
- the metal vapor deposition layer contains indium. Therefore, the metallic decorative film can transmit millimeter waves, and it is difficult to see the device such as a radar from the outside, or it can cover it so that it cannot be seen.
- various designs can be applied to an object (for example, an exterior member of an automobile).
- a design in addition to a design in which a device such as a radar is hidden so that it cannot be seen from the outside, a design in which the device such as a radar can be seen from the outside can be adopted. Each will be described below.
- the base material is not particularly limited.
- the substrate is a poly (meth) acrylic acid ester such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polyvinyl fluoride (PVF), polyvinylidene fluoride (polyfluoride).
- PVDF polytetrafluoroethylene
- PCTFE polychlorotrifluoroethylene
- ETFE ethylene-tetrafluoroethylene copolymer
- ECTFE ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer
- tetrafluoroethylene-per It is composed of a fluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP) and the like.
- the thickness of the base material is not particularly limited. As an example, the thickness of the base material is preferably 1.0 to 300 ⁇ m. When the thickness of the base material is within the above range, the film is excellent in scratch resistance and wear resistance.
- the base material may be one having a desired surface treatment.
- the surface treatment is not particularly limited.
- the surface processing includes matte processing, satin processing, embossing processing, hairline processing and the like.
- various coatings fluorine processing, hard coat processing, etc.
- surface treatment such as transfer may be applied to the surface of the base material (the surface opposite to the surface on which the anchor layer is formed).
- various designs and functionality can be imparted to the surface of the base material.
- the anchor layer is provided on the substrate.
- the anchor layer is provided to improve the adhesion between the base material and the metal vapor deposition layer.
- the anchor layer is not particularly limited.
- the anchor layer may be a raw material having good adhesion to the base material and good acceptance of indium contained in the metal vapor deposition layer, and may be an acrylic resin, a nitrocellulose resin, or a polyurethane resin. , Polyester-based resin, styrene-maleine-based acid resin, chlorinated PP-based resin, etc.
- the thickness of the anchor layer is not particularly limited. As an example, the thickness of the anchor layer is preferably 0.1 to 3 ⁇ m. When the thickness of the anchor layer is within the above range, the film has excellent adhesion between the base material and the metal vapor deposition layer.
- the anchor layer may be imparted with design by applying a colorant or a metal pigment. For example, by blending a yellow pigment as a colorant, the laminated film can express a golden appearance. The type and content of the colorant can be appropriately adjusted according to the desired metallic appearance. Further, the anchor layer may be provided with functionality such as an antistatic effect by blending an antistatic agent or the like.
- the method of forming the anchor layer is not particularly limited.
- a resin solution constituting the anchor layer appropriately dissolved in a solvent for example, methyl ethyl ketone, toluene, ethyl acetate, etc.
- a solvent for example, methyl ethyl ketone, toluene, ethyl acetate, etc.
- the resin solution of the anchor layer is applied to the substrate and then dried.
- the solvent of the resin solution is immersed in the surface of the base material, and the resin constituting the anchor layer and the base material are compatible with each other.
- the anchor layer and the base material can be firmly adhered to each other.
- the metal vapor deposition layer is provided on the anchor layer.
- the metal vapor deposition layer is a second metal vapor deposition layer composed of a first metal vapor deposition layer forming a predetermined pattern on the anchor layer, a first portion covering the first metal vapor deposition layer, and a second portion other than the first portion. Has a layer.
- the first metal vapor deposition layer is provided on the anchor layer.
- the first metal vapor deposition layer contains indium.
- Indium may be contained as an oxide or a nitride.
- the inclusion of indium in the first metal vapor deposition layer allows the resulting film to transmit millimeter waves from a millimeter wave radar.
- the first metal-deposited layer containing indium is less likely to cause poor appearance and has excellent molding processability. As a result, the film is easily processed into various three-dimensional shapes.
- the first metal vapor deposition layer may contain various non-metals, metals, metal oxides and metal nitrides in addition to indium.
- Non-metals, metals and the like are not particularly limited.
- non-metals are amorphous carbon (DLC) and its composites, and metals and the like are metals such as gold, silver, platinum, tin, chromium, silicon, titanium, zinc, aluminum and magnesium, and their oxidation. A thing, its nitride.
- the content of indium in the first metal vapor deposition layer is not particularly limited.
- the content of indium in the first metal vapor deposition layer is preferably 95% by mass or more, and more preferably 98% by mass or more.
- the content of indium may be 100% by mass.
- the thickness (average thickness) of the first metal vapor deposition layer is not particularly limited.
- the thickness of the first metal vapor deposition layer is preferably 9 nm or more.
- the thickness of the first metal vapor deposition layer is preferably 90 nm or less, more preferably 80 nm or less.
- the first metal vapor deposition layer has a difference in reflectance and color of reflected light between the first portion formed in combination with the second metal vapor deposition layer described later and the second portion described later. Easy to adjust. Therefore, the obtained film can realize various metallic patterns, and is more excellent in design and design.
- the first metal-deposited layer is likely to be provided so as to have a sea-island structure described later.
- the metal vapor deposition layer may have a sea-island structure.
- the thickness of the metal-deposited layer is the height when assuming a rectangle having the same width and the same area as the cross-sectional area (substantially fan-shaped cross-sectional area) of the metal-deposited layer having an island structure. be.
- the method for measuring the thickness of the first metal-deposited layer and the second metal-deposited layer is not particularly limited.
- the thickness can be measured by scanning electron microscope (SEM) observation, fluorescent X-ray analysis (XRF), ultraviolet-visible spectroscopy, and the like.
- SEM scanning electron microscope
- XRF fluorescent X-ray analysis
- UV-visible spectroscopy ultraviolet-visible spectroscopy
- the thickness of the metal vapor deposition layer is determined by observation with a scanning electron microscope (SEM), the cross section of the vapor deposition film containing indium is observed using a scanning electron microscope (SEM), and the metal layer containing indium at 5 to 10 places is observed. Measure the thickness of and calculate the average.
- the thickness of the metal vapor deposition layer is determined by fluorescent X-ray analysis (XRF)
- XRF fluorescent X-ray analysis
- the thickness of the vapor deposition film containing indium at 5 to 10 points is measured by quantitative analysis, and the average is calculated.
- the thickness of the metal vapor deposition layer is determined by ultraviolet-visible spectroscopy
- the reflectance of the vapor deposition film containing indium at 5 to 10 points is measured by an ultraviolet-visible spectrophotometer, and the metal vapor deposition layer is obtained from the obtained reflectance spectrum. Calculate the average thickness of.
- the thickness (nm) of the metal vapor deposition layer is calculated by the fluorescent X-ray analysis method (XRF).
- the first metal vapor deposition layer preferably has a sea-island structure (so-called discontinuous structure).
- the first metal vapor deposition layer containing indium can obtain an excellent metallic luster as compared with other general metal vapor deposition layers such as an aluminum vapor deposition layer.
- the obtained film is more likely to transmit millimeter waves.
- the method of providing the first metal vapor deposition layer so as to have a sea-island structure is not particularly limited.
- the first metal vapor deposition layer uses a vapor deposition source containing indium and has a sea-island structure by a physical vapor deposition (PVD) method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method. Can be formed.
- PVD physical vapor deposition
- the second metal-deposited layer is composed of a first portion that covers the first metal-deposited layer and a second portion other than the first portion.
- the second metal vapor deposition layer contains indium. Indium may be contained as an oxide or a nitride. The inclusion of indium in the second metal vapor deposition layer allows the resulting film to transmit millimeter waves from the millimeter wave radar. In addition, the second metal-deposited layer containing indium is less likely to cause poor appearance and has excellent molding processability. As a result, the film is easily processed into various three-dimensional shapes.
- the second metal vapor deposition layer may contain various non-metals, metals, metal oxides and metal nitrides in addition to indium.
- Non-metals, metals and the like are not particularly limited.
- non-metals include amorphous carbon (DLC) and its composites, and metals and the like include metals such as gold, silver, platinum, tin, chromium, silicon, titanium, zinc, aluminum and magnesium, and their oxides. It is the nitride.
- the content of indium in the second metal vapor deposition layer is not particularly limited.
- the content of indium in the second metal vapor deposition layer is preferably 95% by mass or more, and more preferably 98% by mass or more.
- the content of indium may be 100% by mass.
- the thickness (average thickness) of the second metal vapor deposition layer is not particularly limited.
- the thickness of the second metal vapor deposition layer is preferably 20 nm or more.
- the thickness of the second metal vapor deposition layer is preferably 90 nm or less, more preferably 80 nm or less.
- the thickness of the second metal vapor deposition layer is within the above range, millimeter waves are easily transmitted.
- the value of the total light reflectance is higher than the value of the total light transmittance, making it difficult to see the back of the film, and a device such as a radar is used. It becomes difficult to see from the outside.
- the second metal-deposited layer is likely to be provided so as to have a sea-island structure described later.
- the second metal vapor deposition layer preferably has a sea-island structure (so-called discontinuous structure).
- the second metal vapor deposition layer containing indium can obtain an excellent metallic luster as compared with other general metal vapor deposition layers such as an aluminum vapor deposition layer.
- the sea-island structure the obtained film is more likely to transmit millimeter waves.
- the method of providing the second metal vapor deposition layer so as to have a sea-island structure is not particularly limited.
- the second metal vapor deposition layer uses a vapor deposition source containing indium and has a sea-island structure by a physical vapor deposition (PVD) method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method. Can be formed.
- PVD physical vapor deposition
- the first portion of the second metal vapor deposition layer is a portion that covers the first metal vapor deposition layer.
- the second portion of the second metal vapor deposition layer is a portion other than the first portion. Therefore, the second portion is provided on the anchor layer.
- the film of the present embodiment can transmit millimeter waves in both the first part and the second part. That is, the radio wave attenuation rate at a frequency of 77 GHz in the first portion is preferably 1 dB or less, and more preferably 0.5 dB or less. Further, the radio wave attenuation rate at a frequency of 77 GHz in the second portion is preferably 1 dB or less, and more preferably 0.5 dB or less. Since the radio wave attenuation at the frequency of 77 GHz in the first part and the second part is within the above range, the film is more transparent to millimeter waves, which are preferably used in forward monitoring radars for detecting long distances, for example. It's easy to do.
- the radio wave attenuation rate and the radio wave transmittance can be calculated based on the following equations.
- Radio wave attenuation rate (dB) (Attenuation rate without metal-like decorative film)-(Attenuation rate when metal-like decorative film is installed)
- Radio wave transmittance (%) 10 a x 100
- the index a is "-((radio wave attenuation rate) / 20)".
- the radio wave attenuation rate is determined by using a "waveguide type transmission attenuation / shield effect measurement system Model No. SEM02" manufactured by Keycom Co., Ltd. and a vector network analyzer (ME7838A) manufactured by Anritsu Co., Ltd. Can be measured.
- the film of the present embodiment can transmit millimeter waves in both the first portion and the second portion. That is, the radio wave attenuation rate at a frequency of 24 GHz in the first portion is preferably 1 dB or less, and more preferably 0.5 dB or less. Further, the radio wave attenuation rate at a frequency of 24 GHz in the second portion is preferably 1 dB or less, and more preferably 0.5 dB or less. Since the radio wave attenuation rate at the frequency of 24 GHz in the first part and the second part is within the above range, the film more transmits millimeter waves (quasi-millimeter waves) preferably adopted in, for example, peripheral monitoring radar. It's easy to do.
- the total light reflectance at an incident angle of 5 ° at a wavelength of 550 nm in the second portion is preferably 35% or more, and more preferably 37% or more. Further, the total light reflectance at an incident angle of 5 ° at a wavelength of 550 nm in the second portion is preferably 75% or less, and more preferably 70% or less.
- the film can easily express a metallic appearance. Further, when the film is provided on the front portion of an automobile or the like equipped with a millimeter-wave radar, it is difficult to see the device such as the radar from the outside, or it is easy to cover up the film so that it cannot be seen.
- the total light reflectance was measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (UV-3600) manufactured by Shimadzu Corporation. Specifically, when the incident light is incident from a direction inclined by 5 ° from the film normal direction, the total light reflected light (mirror surface reflected light (normally reflected light)) when the aluminum mirror as the reference plate is installed. + The amount of diffused reflected light (excluding mirror-reflected light) is set to 100%, whereas the total light reflected light (mirror-reflected light (normally reflected light)) when the film of the present embodiment is installed is + diffused reflected light. The amount of (excluding mirror-reflected light)) was defined as the total light reflectance (%).
- UV-3600 ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer
- the method of forming the metal-deposited layer is not particularly limited.
- a conventionally known vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a physical vapor deposition method such as an ion plating method, a chemical vapor deposition method, or the like can be appropriately adopted.
- the vapor deposition conditions conventionally known conditions can be appropriately adopted based on the desired thickness of the metal vapor deposition layer.
- the metal material preferably has few impurities and a purity of 99% by weight or more, and more preferably 99.5% by weight or more. Further, the metal material is preferably processed into a granular shape, a rod shape, a tablet shape, a wire shape, or a crucible shape to be used.
- the heating method for evaporating the metal material is a method of putting the metal material in the crucible and performing resistance heating or high frequency heating, a method of performing electron beam heating, and putting the metal material in a ceramic board such as boron nitride directly. A well-known method such as a method of performing resistance heating can be used.
- the crucible used for vacuum deposition is preferably made of carbon, and may be made of alumina, magnesia, titania, or beryllia.
- the first metal vapor deposition layer is formed so as to have a predetermined pattern with respect to the anchor layer.
- a second metal vapor deposition layer is formed so as to cover the anchor layer and the first metal vapor deposition layer.
- the film of the present embodiment may be provided with other layers as appropriate.
- the film may be provided with an adhesive layer.
- the adhesive layer is provided to bond the film to the adherend.
- the adhesive layer is not particularly limited.
- the adhesive layer is composed of various adhesives, adhesives, pressure-sensitive adhesives (PSA: Pressure Sensitive Adhesive) and the like.
- PSA Pressure Sensitive Adhesive
- the adhesive is not particularly limited.
- the adhesives are acrylic resin-based, urethane resin-based, urethane-modified polyester resin-based, polyester resin-based, epoxy resin-based, ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA) -based, and vinyl resin-based (vinyl chloride, vinegar).
- Bi vinyl acetate-vinegar vinyl copolymer resin
- styrene-ethylene-butylene copolymer resin system polyvinyl alcohol resin system
- polyacrylamide resin system polyacrylamide resin system
- isobutylene rubber isoprene rubber
- natural rubber SBR, NBR
- resins may be appropriately dissolved in a solvent and used, or may be used without a solvent.
- the thickness of the adhesive layer is not particularly limited. As an example, the thickness of the adhesive layer is preferably 10 ⁇ m or more, and more preferably 15 ⁇ m or more. The thickness of the adhesive layer is preferably 60 ⁇ m or less, more preferably 55 ⁇ m or less. When the thickness of the adhesive layer is within the above range, the obtained film is further excellent in appearance and adhesiveness at the time of adhesion.
- the adhesive layer may be imparted with design by applying a metal pigment. Further, the adhesive layer may be imparted with functionality such as an antistatic effect by blending an antistatic agent or the like. Thereby, the adhesive layer can improve the bonding suitability.
- the method of forming the adhesive layer is not particularly limited.
- a resin solution constituting the adhesive layer appropriately dissolved in a solvent is applied to a separator described later using a roll coater or the like, and then the separator on which the adhesive layer is formed is metal-deposited. It may be bonded to the layer, or the above resin solution may be applied directly onto the metal vapor deposition layer to form an adhesive layer.
- an off-the-shelf product in which the adhesive layer is provided on the separator may be used as the adhesive layer.
- the method for forming the adhesive layer can be appropriately selected depending on the characteristics of the adhesive and the adhesive to be used.
- the OD (Optical Density) value of the film is preferably 1.5 or less, and more preferably 1.3 or less.
- the OD value is preferably 0.4 or more, and more preferably 0.5 or more.
- the OD value is a parameter indicating the transparency of light, and can be measured using, for example, a transmission densitometer (X-Rite 361T, manufactured by X-Rite). Since the OD value of the film of the present embodiment is within the above range, it is possible to make it difficult to see the back of the film and to make it difficult for a device such as a radar to be seen from the outside while maintaining millimeter wave transparency. Will be.
- the film of the present embodiment has a first metal vapor deposition layer containing indium and a second metal vapor deposition layer containing indium.
- the second metal vapor deposition layer includes a first portion that covers the first metal vapor deposition layer and a second portion other than the first portion.
- Both the first metal-deposited layer and the second metal-deposited layer have radio wave transmission and transmit millimeter waves. Therefore, for example, a predetermined pattern can be formed by the first metal vapor deposition layer, and a film having excellent design can be obtained. Further, since the metal vapor deposition layer has a metallic luster, the millimeter wave radar can be obscured so that it is difficult to see from the outside or cannot be seen from the outside.
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the film 1 of the present embodiment.
- the anchor layer is omitted.
- the first metal vapor deposition layer 3 is provided so as to form a predetermined pattern on the base material 2 provided with the anchor layer.
- the first metal vapor deposition layer 3 has a sea-island structure.
- the island part is the area where indium exists, and the sea part is the area where indium does not exist.
- the second metal vapor deposition layer 4 is provided so as to cover the base material 2 provided with the anchor layer and the first metal vapor deposition layer 3.
- the portion P1 is the first portion of the second metal vapor deposition layer 4 that covers the first metal vapor deposition layer 3.
- the portion P2 is a second portion other than the first portion.
- the second metal vapor deposition layer 4 is drawn in the shape of scattered islands. This is because the suitable second metal vapor deposition layer 4 has a sea-island structure.
- the obtained film may be provided with a separator.
- a separator provided with an adhesive layer in advance may be used, or an adhesive layer may be formed on the separator and the adhesive layer may be bonded so as to be in contact with the metal vapor deposition layer.
- the separator is not particularly limited.
- the separator is a plastic film or paper surface-coated with a release agent such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, polypropylene, a fluorine-based release agent, or a long-chain alkyl acrylate-based release agent.
- a release agent such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, polypropylene, a fluorine-based release agent, or a long-chain alkyl acrylate-based release agent.
- the adhesive layer is exposed.
- the exposed adhesive layer is attached to an adherend (described later) before molding.
- an adherend (backing sheet, backer) may be provided on the adhesive layer.
- the adherend is preferably provided when the film insert method is adopted when manufacturing the metallic molded body described later.
- the adherend is not particularly limited.
- the adherend may be a polymer sheet capable of thermoforming, and may be an ABS sheet, a polyvinyl acrylic sheet, a polypropylene sheet, a polyethylene sheet, a polycarbonate sheet, an A-PET sheet, or a PET-G sheet. , Vinyl chloride (PVC) -based sheet, polyamide-based sheet and the like are preferable.
- the thickness of the adherend is not particularly limited.
- the thickness of the adherend is preferably 0.05 to 5 mm, more preferably 0.3 to 3 mm from the viewpoint of formability in compression molding and the like.
- the adherend one having a desired surface treatment may be used.
- the surface treatment is not particularly limited.
- the surface processing includes matte processing, satin processing, embossing processing, hairline processing, various patterns and the like.
- an adherend provided with an adhesive layer in advance may be used, or an adhesive layer may be formed on the adherend and bonded so that the adhesive layer is in contact with the metal vapor deposition layer.
- the adherend to which the film of the present embodiment is attached is appropriately processed into a three-dimensional shape to produce a molded product (metal-like molded product).
- the molding method of the metallic molded body is not particularly limited.
- the molding method is formed by vacuum forming, TOM (Threee dimension Overlay Method) forming or the like.
- TOM molding the film is applied to a pre-prepared adherend and softened by heat to be integrally molded to follow the adherend.
- vacuum forming the film is heated and softened by a heater. Next, the heated film is pressed against a mold having a desired three-dimensional shape while being vacuum-sucked, and is deformed to follow the shape of the three-dimensional molded product.
- the metallic molded body is easy to be manufactured by molding.
- the above-mentioned film is used as the metal-like molded body that has been molded. Therefore, various designs can be given to the metallic molded body. Further, the metallic molded body can transmit millimeter waves.
- the metallic molded body is not particularly limited.
- the metal-like molded body is a metal-like vehicle interior / exterior member, a metal-like signboard, a metal-like home appliance, a metal-like amusement product, a metal-like building material, and the like.
- the metal-like molded body is preferably used as a metal-like vehicle interior / exterior member.
- the metal-like vehicle interior / exterior members are not particularly limited.
- metallic vehicle interior and exterior parts include instrument panel garnishes and ornaments, audio panels, auto air conditioner panels, steering ornaments, door trim ornaments, power window switch bezels, operation knobs, switches and caps or covers, and radiators.
- the metallic vehicle interior / exterior member of the present embodiment is preferably used for the front portion (grill portion in the engine vehicle) of the electric vehicle. That is, the electric vehicle does not require a grill at the front portion of the vehicle.
- ADAS advanced driver assistance system
- a millimeter-wave radar is provided on the front part of the automobile.
- the metallic molded body of the present embodiment can transmit millimeter waves, it is possible to cover up equipment such as a millimeter wave radar while transmitting millimeter waves.
- the metallic molded body can adopt various designs for the front part of the electric vehicle instead of the grill part without impairing the function of the millimeter wave radar.
- the embodiment of the present invention has been described above.
- the present invention is not particularly limited to the above embodiment.
- the above-described embodiment mainly describes an invention having the following configuration.
- the metal vapor deposition layer of the above is a metal-like decorative film containing indium, and the second metal vapor deposition layer contains indium.
- a predetermined pattern can be formed by the first metal vapor deposition layer.
- the metallic decorative film of the present invention can give various designs to an object (for example, an exterior member of an automobile).
- the metal vapor deposition layer contains indium. Therefore, the metallic decorative film can transmit millimeter waves, and it is difficult to see the device such as a radar from the outside, or it can cover it so that it cannot be seen.
- the metallic decorative film can have high millimeter wave transparency in both the first portion and the second portion.
- the metallic decorative film is easier to express a metallic appearance.
- the metallic decorative film is easy to cover up devices such as radar so that they cannot be seen from the outside.
- the metallic decorative film is more likely to transmit millimeter waves.
- the metallic decorative film is more likely to transmit millimeter waves, which are preferably used in a forward monitoring radar for detecting a long distance, for example.
- the radio wave attenuation rate at a frequency of 24 GHz in the first part is 1 dB or less
- the radio wave attenuation rate at a frequency of 24 GHz in the second part is 1 dB or less.
- the metallic decorative film is more likely to transmit millimeter waves (quasi-millimeter waves), which are suitably used in, for example, peripheral monitoring radars.
- the metallic molded body is easily manufactured by molding.
- the molded metal-like molded body the above-mentioned metal-like decorative film is used. Therefore, various designs can be given to the metallic molded body.
- the metal-like molded body can transmit millimeter waves and can cover a device such as a radar so that it cannot be visually recognized from the outside.
- the metal-like molded body is used as the metal-like vehicle interior / exterior member. Therefore, various designs can be applied to the metal-like vehicle interior / exterior members. Further, the metal-like vehicle interior / exterior member can transmit millimeter waves, and can make it difficult to see the device such as a radar from the outside, or can cover it so that it cannot be seen.
- Example 1 A substrate (thickness 75 ⁇ m) made of PMMA was prepared. Using a gravure coater, apply an anchor coating agent solution containing an acrylic polyol and an isocyanate-based coating material to the substrate so that the thickness becomes 1.3 ⁇ m after drying, and then dry it at 100 ° C. for 1 minute. And formed an anchor layer. Next, a metal vapor deposition layer (first metal vapor deposition layer) made of indium was formed on the anchor layer by a vacuum vapor deposition method so as to have a predetermined pattern and a thickness of 9 nm (patterning step, details of which will be described later). do.).
- a metal vapor deposition layer (second metal vapor deposition layer) having a thickness of 9 nm was formed so as to cover the anchor layer and the first metal vapor deposition layer by a vacuum vapor deposition method.
- a separator (PET film) with an adhesive layer (thickness 25 ⁇ m) made of an acrylic adhesive was prepared.
- the metal vapor deposition layer and the adhesive layer (adhesive layer) are bonded so as to be in contact with each other, the adhesive layer (adhesive layer) is transferred to the metal vapor deposition layer, and then the separator is peeled off to prepare the metal-like decorative film of Example 1. did.
- Examples 2 to 6> A metal-like decorative film was produced by the same method as in Example 1 except that the thickness, OD value, etc. of the metal-deposited layer were adjusted according to the formulations shown in Table 1.
- a substrate made of PET was prepared.
- a solution containing 5% cellulose acetate butyrate (CAB) was applied to the substrate by a gravure coating method at a coating rate of 0.06 g / m 2 ⁇ 0.01 g / m 2 , and the temperature was 110 ° C. or higher and 120. It was dried below ° C to form an anchor layer of 50 nm.
- a metal vapor deposition layer made of aluminum was formed on the anchor layer by a vacuum vapor deposition method so as to have a predetermined pattern and a thickness of 20 nm.
- a separator PET film with an adhesive layer (thickness 25 ⁇ m) made of an acrylic adhesive was prepared.
- the metal vapor deposition layer and the adhesive layer (adhesive layer) are bonded so as to be in contact with each other, the adhesive layer (adhesive layer) is transferred to the metal vapor deposition layer, and then the separator is peeled off to prepare the metal-like decorative film of Comparative Example 1. did.
- O.D. L. Is an abbreviation for Over Load, which means that the resistance value exceeds the range of the measuring instrument and cannot be measured (the same applies to Table 3).
- resistance value it is a value of 107 ⁇ / ⁇ or more. That is, although the films of Examples 1 to 6 are indium films which are metal films, they have high resistance, low conductivity, and indium has a sea-island structure. That is, it can be said that the indium film is a discontinuous film.
- the OD value, the thickness, the resistance value, the total light transmittance and the total light transmittance at a wavelength of 550 nm, the radio wave attenuation rate and the radio wave at a frequency of 77 GHz are according to the following methods.
- the transmittance, the radio wave attenuation rate and the radio wave transmission rate at a frequency of 24 GHz were evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
- OD value> The OD value was measured using a transmission densitometer (X-Rite361T, manufactured by X-Rite).
- the thickness was measured by X-ray fluorescence analysis (XRF). Specifically, the thickness is quantitatively analyzed using a fluorescent X-ray measuring device (ZSX Primus IV, Rigaku Denki Kogyo Co., Ltd.), and the thickness (nm) of the metal vapor deposition film at 5 to 10 points is measured and averaged. Was calculated.
- XRF X-ray fluorescence analysis
- the resistance value was measured using a surface resistance measuring device (Lorester GP MCP-T360, Dia Instruments).
- UV-3600 ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer
- the amount of (excluding mirror-reflected light)) was defined as the total light reflectance (%).
- the total light transmittance the amount of incident light in the state where the film is not installed (air; Air only) is set to 100%, and when the film of the present invention is installed, the diffusion component transmitted through the film is used.
- the amount of emitted light included was defined as the total light transmittance (%).
- Radio wave attenuation rate (dB) (Attenuation rate without metal-like decorative film)-(Attenuation rate when metal-like decorative film is installed)
- Radio wave transmittance (%) 10 a x 100
- the index a is "-((radio wave attenuation rate) / 20)”.
- the radio wave attenuation rate is determined by using a "waveguide type transmission attenuation / shield effect measurement system Model No. SEM02" manufactured by Keycom Co., Ltd. and a vector network analyzer (ME7838A) manufactured by Anritsu Co., Ltd. It was measured.
- the radio wave attenuation rate at frequencies 77 GHz and 24 GHz in the first portion and the second portion was almost unchanged, and the radio wave transmittance was high. Therefore, it was found that all of these films can transmit millimeter waves well.
- the value of the total light transmittance is higher than the value of the total light reflectance, and the back of the film is easily visible, so that a device such as a radar can be used. It is easy to see from the outside, and it is suitable for a skeleton-like design that makes it easy to see devices such as radar from the outside.
- the value of the total light reflectance is higher than the value of the total light transmittance, making it difficult to see the back of the film, such as a radar. It is suitable when a design that makes it difficult for the device to be visually recognized from the outside is required. Since the first portion is a portion where the indium layer is vapor-deposited twice, it is considered that the reflectance is higher than that of the second portion, which is the portion where the indium layer is vapor-deposited once. Therefore, if it is difficult to see the back of the film in the second part, it is considered that it is difficult to see the back of the film in the first part as well.
- the films of Examples 1 to 6 are the first metal vapor deposition layer. It was found that the pattern shape formed by the film is not easily restricted and the design is excellent.
- FIG. 2 is an external photograph of a molded product obtained by molding the metallic decorative film of Examples 1, 2 and 5.
- molded bodies molded bodies F1 to F3 obtained by molding the films of Examples 5, 2 and 1 are shown.
- the inside of the rhombus pattern is the first portion (the portion where the indium layer is vapor-deposited twice), and the outside of the rhombus pattern is the second portion (the portion where the indium layer is vapor-deposited once).
- the molded bodies F1 and F2 of Examples 5 and 2 have a metallic tone not only in the first portion but also in the second portion, making it difficult to visually recognize the back of the film.
- the back of the film is hard to be visually recognized in the first portion, but the back of the film is easily visible in the second portion, and the device such as a radar is easily visible from the outside. It is suitable when a skeleton-like design is required.
- the molded bodies F1 and F2 of Examples 5 and 2 not only the reflectance in the first portion in the rhombic pattern but also the color of the reflected light is changed by changing the thickness of the second metal vapor deposition layer. You can see that.
- the portion shown by the diamond shape indicates the first portion of the second metal vapor deposition layer, which is a portion covering the first metal vapor deposition layer (first portion P1a, P1b, P1c).
- the other portion indicates a second portion in which the anchor layer is provided with the second metal vapor deposition layer (second portion P2a, P2b, P2c).
- a predetermined design diamond pattern in FIG. 2 can be freely expressed, and its color can be adjusted.
- the metal-like decorative film of Comparative Example 1 in which the metal-deposited layer was formed using aluminum had low radio wave transmission. Therefore, it was found that the film of Comparative Example 1 could not transmit millimeter waves well. It is presumed that the film of Comparative Example 1 has an aluminum-deposited film that is close to a continuous film and cannot transmit millimeter waves satisfactorily.
- ⁇ Reference example 1> A substrate (thickness 75 ⁇ m) made of PMMA was prepared. Using a gravure coater, apply an anchor coating agent solution containing an acrylic polyol and an isocyanate-based coating material to the substrate so that the thickness becomes 1.3 ⁇ m after drying, and then dry it at 100 ° C. for 1 minute. And formed an anchor layer. Next, a solid film of the metal vapor deposition layer made of indium was formed on the anchor layer by a vacuum vapor deposition method so as to have a thickness of 9 nm. As a result, the metallic decorative film of Reference Example 1 was produced.
- Reference Examples 2 to 7 A metal-like decorative film was produced by the same method as in Reference Example 1 except that the thickness, OD value, etc. of the metal-deposited layer were adjusted according to the formulations shown in Table 3.
- the films of Reference Examples 1 to 7 correspond to the second portion (the portion where the indium layer is vapor-deposited once) in Examples 1 to 6.
- the films of Reference Examples 1 to 4 had a low radio wave attenuation rate at frequencies of 77 GHz and 24 GHz with almost no change, and a high radio wave transmittance. Therefore, it was found that all of these films can transmit millimeter waves well.
- the films of Reference Examples 5 to 7 had high radio wave attenuation at frequencies of 77 GHz and 24 GHz and low radio wave transmittance. Therefore, it was found that none of these films could transmit millimeter waves well.
- the indium-deposited film no longer exhibits a sea-island structure, and is a film close to a continuous film, and it is presumed that millimeter waves cannot be transmitted well. Therefore, it is considered that the upper limit of the thickness of the metal vapor-deposited film in the second portion, which enables the millimeter wave to be transmitted satisfactorily, is 90 nm. That is, if the thickness of the indium-deposited film is 90 nm or less, it is considered that millimeter waves can be satisfactorily transmitted. The same can be said for the first metal vapor deposition layer.
- a base material 2 (thickness 75 ⁇ m) made of PMMA was prepared.
- a gravure coater was used on the base material 2 to apply an anchor coating agent solution in which an acrylic polyol and an isocyanate-based coating material were mixed so as to be 1.3 ⁇ m after drying. Then, it was dried at 100 ° C. for 1 minute to form an anchor layer 2a.
- the intermediate film A having the anchor layer 2a formed on the base material 2 is oriented so that the anchor layer 2a side of the intermediate film A faces the roll R side, and the water-soluble primer layer Wp. was partially formed (see FIG. 3C).
- the water-soluble primer polyvinyl butyral resin was used, and the heat was dried at 100 ° C. for 1 minute to form a water-soluble primer layer Wp.
- the roll R is composed of a convex portion D protruding in a rhombus shape and a concave portion E other than that protruding.
- the concave portion E can be filled with the water-soluble primer layer Wp by rotating the roll R while immersing the roll R in the tray WB in which the water-soluble primer layer Wp is stored. At this time, the convex portion D is not filled with the water-soluble primer layer Wp. Then, as shown in FIG.
- the roll R is rotated by using the gravure coater GC, and the intermediate film A is brought into contact with the roll R and passed while being wound up on the anchor layer 2a.
- an intermediate film A'in which the water-soluble primer layer Wp was formed only outside the diamond-shaped portion could be obtained (see FIG. 3C).
- the first metal (indium) vapor deposition layer 3 was formed on the entire surface of the intermediate film A'.
- the first metal (indium) vapor-deposited layer 3 actually exhibits a sea-island structure as shown in FIG. 1 instead of a continuous film as shown in FIG. 3D.
- the entire film was immersed in a vat containing pure water to remove the first metal (indium) vapor-deposited layer 3 on the portion where the water-soluble primer layer Wp was present (water washing step) (see FIG. 3E). .. Then, the second metal (indium) vapor deposition layer 4 was vapor-deposited on the entire surface.
- the second metal (indium) vapor-deposited layer 4 actually exhibits a sea-island structure as shown in FIG. 1 instead of a continuous film as shown in FIG. 3F.
- the metallic decorative film 1 in which the first portion P1 and the second portion P2 are patterned can be produced (see FIG. 3F).
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Abstract
基材と、基材上に設けられたアンカー層と、アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有し、金属蒸着層は、アンカー層上に所定のパターンを形成する第1の金属蒸着層と、第1の金属蒸着層を覆う第1部分と、第1部分以外の第2部分とからなる第2の金属蒸着層とを有し、第1の金属蒸着層は、インジウムを含み、第2の金属蒸着層は、インジウムを含む、金属調加飾フィルム。
Description
本発明は、金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材に関する。より詳細には、本発明は、様々な金属調のパターン模様を形成でき、かつ、ミリ波レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないよう覆い隠しつつ、ミリ波を透過させることのできる金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材に関する。
従来、基材に対して金属蒸着層のパターンを形成する技術が開発されている。特許文献1には、家電製品、通信機器の筺体等となる成形品表面への転写加飾法や成形同時加飾法に用いられる部分蒸着箔の製造方法が開示されている。特許文献2には、金属蒸着層を積層したフィルムの製造方法および金属蒸着フィルムが開示されている。
ところで、電気自動車は、自動車フロント部分において、グリルが必要でない。そのため、自動車フロント部分をどのようなデザインとするかが種々検討されている。法令により、電気自動車のフロント部分(エンジン車でいうグリル部分)などの人が衝突する可能性のある部分は、柔らかく、可逆性のあるプラスチックが用いられる。そのため、ボンネット部分(金属)と同じ材質を、自動車フロント部分に使用することにより、統一感を出すことはできない。
また、最近の自動車では、ADAS(先進運転支援システム)や自動運転技術のため、自動車フロント部分にミリ波レーダーが設けられる場合がある。エンジン車の場合、グリル部分の奥にミリ波レーダー等の機器が配置されればよく、外部から機器は視認されにくい。また、グリルの隙間をミリ波が通過できるため、エンジン車のグリル部分は、ミリ波の透過性を考慮してなくてもよい。一方、電気自動車においてグリルのないデザインが採用される場合、ミリ波を透過でき、かつ、ミリ波レーダー等の機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように隠すことができ、さらに、デザイン性の優れた金属調意匠を設けることのできる技術が求められている。このような課題を解決する発明は、上記特許文献1~2には開示されていない。
本発明は、このような従来の発明に鑑みてなされたものであり、ミリ波を透過でき、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができ、さらに、デザイン性の優れた金属調意匠を設けることのできる金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材を提供することを目的とする。
本発明者は、鋭意検討した結果、金属調加飾フィルムにおいて、インジウムを含む複数の金属蒸着層を設けることにより、種々のデザインを形成でき、かつ、ミリ波を透過でき、さらに、レーダーなどの機器が外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができる点を見出し、本発明を完成させた。
すなわち、上記課題を解決する本発明の金属調加飾フィルムは、基材と、前記基材上に設けられたアンカー層と、前記アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有し、前記金属蒸着層は、前記アンカー層上に所定のパターンを形成する第1の金属蒸着層と、前記第1の金属蒸着層を覆う第1部分と、前記第1部分以外の第2部分とからなる第2の金属蒸着層とを有し、前記第1の金属蒸着層は、インジウムを含み、前記第2の金属蒸着層は、インジウムを含む、金属調加飾フィルムである。
本発明の金属調成形体は、上記金属調加飾フィルムを用いた、金属調成形体である。
本発明の金属調車両内外装部材は、上記金属調成形体を用いた、金属調車両内外装部材である。
<金属調加飾フィルム>
本発明の一実施形態に金属調加飾フィルム(以下、フィルムともいう)は、基材と、基材上に設けられたアンカー層と、アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有する。金属蒸着層は、アンカー層上に所定のパターンを形成する第1の金属蒸着層と、第1の金属蒸着層を覆う第1部分と、第1部分以外の第2部分とからなる第2の金属蒸着層とを有する。第1の金属蒸着層は、インジウムを含む。第2の金属蒸着層は、インジウムを含む。このようなフィルムによれば、第1の金属蒸着層によって、所定のパターンを形成することができる。これにより、たとえば、フィルムは、種々のデザインを、対象物(たとえば自動車の外装部材)に付与することができる。また、金属蒸着層は、インジウムを含む。そのため、金属調加飾フィルムは、ミリ波を透過することができ、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができる。すなわち、本実施形態のフィルムによれば、種々のデザインを、対象物(たとえば自動車の外装部材)に付与することができる。この際、デザインとしては、レーダーなどの機器を外部から視認できないよう覆い隠したデザインのほか、あえてレーダーなどの機器がいくらか外部から視認できるようなデザインなども採用することができる。以下、それぞれについて説明する。
本発明の一実施形態に金属調加飾フィルム(以下、フィルムともいう)は、基材と、基材上に設けられたアンカー層と、アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有する。金属蒸着層は、アンカー層上に所定のパターンを形成する第1の金属蒸着層と、第1の金属蒸着層を覆う第1部分と、第1部分以外の第2部分とからなる第2の金属蒸着層とを有する。第1の金属蒸着層は、インジウムを含む。第2の金属蒸着層は、インジウムを含む。このようなフィルムによれば、第1の金属蒸着層によって、所定のパターンを形成することができる。これにより、たとえば、フィルムは、種々のデザインを、対象物(たとえば自動車の外装部材)に付与することができる。また、金属蒸着層は、インジウムを含む。そのため、金属調加飾フィルムは、ミリ波を透過することができ、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができる。すなわち、本実施形態のフィルムによれば、種々のデザインを、対象物(たとえば自動車の外装部材)に付与することができる。この際、デザインとしては、レーダーなどの機器を外部から視認できないよう覆い隠したデザインのほか、あえてレーダーなどの機器がいくらか外部から視認できるようなデザインなども採用することができる。以下、それぞれについて説明する。
(基材)
基材は特に限定されない。一例を挙げると、基材は、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)等のポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレート、ポリフッ化ビニル(PVF)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、エチレン-テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、エチレン-クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)等からなる。
基材は特に限定されない。一例を挙げると、基材は、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)等のポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン-2,6-ナフタレート、ポリフッ化ビニル(PVF)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、エチレン-テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、エチレン-クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、テトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)等からなる。
基材の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、基材の厚みは、1.0~300μmであることが好ましい。基材の厚みが上記範囲内であることにより、フィルムは、耐擦傷性、耐摩耗性が優れる。
基材は、所望の表面加工が施されたものが使用されてもよい。表面加工は特に限定されない。一例を挙げると、表面加工は、マット加工、サテン加工、エンボス加工、ヘアライン加工等である。また、基材の表面(アンカー層が形成される面とは反対の面)に、各種コーティング(フッ素加工、ハードコート加工等)、転写等の表面加工が施されてもよい。これにより、基材の表面には、各種意匠性や機能性が付与され得る。
(アンカー層)
アンカー層は、基材上に設けられる。アンカー層は、基材と金属蒸着層との密着性を向上させるために設けられる。
アンカー層は、基材上に設けられる。アンカー層は、基材と金属蒸着層との密着性を向上させるために設けられる。
アンカー層は特に限定されない。一例を挙げると、アンカー層は、基材との密着性がよく、かつ、金属蒸着層に含まれるインジウムの受理性がよい原料であればよく、アクリル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、スチレン-マレイン系酸樹脂、塩素化PP系樹脂等である。
アンカー層の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、アンカー層の厚みは、0.1~3μmが好ましい。アンカー層の厚みが上記範囲内であることにより、フィルムは、基材と金属蒸着層との密着性が優れる。
アンカー層は、着色剤や金属顔料が付与されることにより、意匠性が付与されてもよい。たとえば、着色剤としてイエロー顔料が配合されることにより、積層フィルムは、金色の外観を表現し得る。着色剤の種類や含有量は、所望する金属調の外観に応じて適宜調整され得る。また、アンカー層は、帯電防止剤等が配合されることにより、帯電防止効果などの機能性が付与されてもよい。
アンカー層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、アンカー層は、ロールコーター等を用いて、適宜溶剤(たとえばメチルエチルケトン、トルエン、酢酸エチル等)に溶解したアンカー層を構成する樹脂溶液を、基材上に塗布し、次いで80~100℃程度で30秒から1分乾燥することにより形成し得る。
アンカー層の樹脂溶液は、基材に塗布され、次いで、乾燥される。これにより、基材の表面に樹脂溶液の溶媒が浸漬し、アンカー層を構成する樹脂と基材とが相溶する。その結果、アンカー層と基材とは、強固に密着し得る。
(金属蒸着層)
金属蒸着層は、アンカー層上に設けられる。金属蒸着層は、アンカー層上に所定のパターンを形成する第1の金属蒸着層と、第1の金属蒸着層を覆う第1部分および第1部分以外の第2部分からなる第2の金属蒸着層とを有する。
金属蒸着層は、アンカー層上に設けられる。金属蒸着層は、アンカー層上に所定のパターンを形成する第1の金属蒸着層と、第1の金属蒸着層を覆う第1部分および第1部分以外の第2部分からなる第2の金属蒸着層とを有する。
・第1の金属蒸着層
第1の金属蒸着層は、アンカー層上に設けられる。第1の金属蒸着層は、インジウムを含む。インジウムは、酸化物、窒化物として含まれてもよい。第1の金属蒸着層がインジウムを含むことにより、得られるフィルムは、ミリ波レーダーからのミリ波を透過させることができる。また、インジウムを含む第1の金属蒸着層は、外観不良を生じにくく、成形加工性が優れる。その結果、フィルムは、種々の三次元形状に加工されやすい。
第1の金属蒸着層は、アンカー層上に設けられる。第1の金属蒸着層は、インジウムを含む。インジウムは、酸化物、窒化物として含まれてもよい。第1の金属蒸着層がインジウムを含むことにより、得られるフィルムは、ミリ波レーダーからのミリ波を透過させることができる。また、インジウムを含む第1の金属蒸着層は、外観不良を生じにくく、成形加工性が優れる。その結果、フィルムは、種々の三次元形状に加工されやすい。
また、第1の金属蒸着層は、インジウムの他、各種非金属、金属、金属酸化物および金属窒化物を含んでもよい。非金属、金属等は特に限定されない。一例を挙げると、非金属は、アモルファスカーボン(DLC)およびその複合体であり、金属等は、金、銀、白金、スズ、クロム、ケイ素、チタン、亜鉛、アルミニウムおよびマグネシウム等の金属、その酸化物、その窒化物である。
第1の金属蒸着層におけるインジウムの含有量は特に限定されない。一例を挙げると、インジウムの含有量は、第1の金属蒸着層中、95質量%以上であることが好ましく、98質量%以上であることがより好ましい。インジウムの含有量は、100質量%であってもよい。
第1の金属蒸着層の厚み(平均厚み)は特に限定されない。一例を挙げると、第1の金属蒸着層の厚みは、9nm以上であることが好ましい。また、第1の金属蒸着層の厚みは、90nm以下であることが好ましく、80nm以下であることがより好ましい。第1の金属蒸着層の厚みが上記範囲内であることにより、ミリ波が透過しやすくなる。また、第1の金属蒸着層は、後述する第2の金属蒸着層と合わせて形成される第1の部分、および、後述する第2の部分における、反射率および反射光の色味の違いを調整しやすい。そのため、得られるフィルムは、様々な金属調パターンを実現可能となり、意匠性やデザイン性がより優れる。また、第1の金属蒸着層の厚みが上記範囲内であることにより、第1の金属蒸着層は、後述する海島構造を有するよう設けられやすい。なお、本実施形態において、金属蒸着層は、海島構造を採る場合がある。このような場合、金属蒸着層の厚みは、島構造である金属蒸着層の断面積(略扇形断面の面積)と、同横幅で、かつ、同面積となる長方形を想定した場合の高さである。
なお、本実施形態において、第1の金属蒸着層および後述する第2の金属蒸着層の厚みを測定する方法は特に限定されない。一例を挙げると、厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)観察、蛍光X線分析法(XRF)、紫外可視分光法等により測定し得る。走査型電子顕微鏡(SEM)観察により金属蒸着層の厚みを求める場合、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、インジウムを含む蒸着膜の断面観察を行い、5~10箇所のインジウムを含む金属層の厚みを測定し、平均を算出する。また、蛍光X線分析法(XRF)により金属蒸着層の厚みを求める場合、定量分析により、5~10箇所のインジウムを含む蒸着膜の厚みを測定し、平均を算出する。さらに、紫外可視分光法により金属蒸着層の厚みを求める場合、紫外可視分光光度計により5~10箇所のインジウムを含む蒸着膜の反射率を測定し、得られた反射率のスペクトルから金属蒸着層の厚みの平均を算出する。本実施形態では、蛍光X線分析法(XRF)により金属蒸着層の厚み(nm)を算出する。
第1の金属蒸着層は、海島構造(いわゆる不連続構造)を有することが好ましい。これにより、インジウムを含む第1の金属蒸着層は、たとえば、アルミニウム蒸着層等の他の一般的な金属蒸着層と比較して、優れた金属光沢を得ることができる。また、海島構造を有することにより、得られるフィルムは、ミリ波をより透過しやすい。
なお、海島構造を有するよう第1の金属蒸着層を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、第1の金属蒸着層は、インジウムを含む蒸着源を用い、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相蒸着(PVD)法によって、海島構造を有するよう形成され得る。
・第2の金属蒸着層
第2の金属蒸着層は、第1の金属蒸着層を覆う第1部分と、第1部分以外の第2部分とからなる。第2の金属蒸着層は、インジウムを含む。インジウムは、酸化物、窒化物として含まれてもよい。第2の金属蒸着層がインジウムを含むことにより、得られるフィルムは、ミリ波レーダーからのミリ波を透過させることができる。また、インジウムを含む第2の金属蒸着層は、外観不良を生じにくく、成形加工性が優れる。その結果、フィルムは、種々の三次元形状に加工されやすい。
第2の金属蒸着層は、第1の金属蒸着層を覆う第1部分と、第1部分以外の第2部分とからなる。第2の金属蒸着層は、インジウムを含む。インジウムは、酸化物、窒化物として含まれてもよい。第2の金属蒸着層がインジウムを含むことにより、得られるフィルムは、ミリ波レーダーからのミリ波を透過させることができる。また、インジウムを含む第2の金属蒸着層は、外観不良を生じにくく、成形加工性が優れる。その結果、フィルムは、種々の三次元形状に加工されやすい。
また、第2の金属蒸着層は、インジウムの他、各種非金属、金属、金属酸化物および金属窒化物を含んでもよい。非金属、金属等は特に限定されない。一例を挙げると、非金属は、アモルファスカーボン(DLC)およびその複合体、金属等は、金、銀、白金、スズ、クロム、ケイ素、チタン、亜鉛、アルミニウムおよびマグネシウム等の金属、その酸化物、その窒化物である。
第2の金属蒸着層におけるインジウムの含有量は特に限定されない。一例を挙げると、インジウムの含有量は、第2の金属蒸着層中、95質量%以上であることが好ましく、98質量%以上であることがより好ましい。インジウムの含有量は、100質量%であってもよい。
第2の金属蒸着層の厚み(平均厚み)は特に限定されない。一例を挙げると、第2の金属蒸着層の厚みは、20nm以上であることが好ましい。また、第2の金属蒸着層の厚みは、90nm以下であることが好ましく、80nm以下であることがより好ましい。第2の金属蒸着層の厚みが上記範囲内であることにより、ミリ波が透過しやすくなる。また、後述するように、第2の金属蒸着層において、全光線透過率の値よりも全光線反射率の値の方が高くなり、フィルムの奥を視認されにくくなって、レーダーなどの機器を外部から視認されにくくなる。また、第2の金属蒸着層の厚みが上記範囲内であることにより、第2の金属蒸着層は、後述する海島構造を有するよう設けられやすい。
第2の金属蒸着層は、海島構造(いわゆる不連続構造)を有することが好ましい。これにより、インジウムを含む第2の金属蒸着層は、たとえば、アルミニウム蒸着層等の他の一般的な金属蒸着層と比較して、優れた金属光沢を得ることができる。また、海島構造を有することにより、得られるフィルムは、ミリ波をより透過しやすい。
なお、海島構造を有するよう第2の金属蒸着層を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、第2の金属蒸着層は、インジウムを含む蒸着源を用い、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相蒸着(PVD)法によって、海島構造を有するよう形成され得る。
本実施形態において、第2の金属蒸着層における第1部分は、第1の金属蒸着層を覆う部分である。一方、第2の金属蒸着層における第2部分は、第1部分以外の部分である。そのため、第2部分は、アンカー層上に設けられる。
本実施形態のフィルムは、第1部分および第2部分の両方において、ミリ波を透過することができる。すなわち、第1部分における、周波数77GHzにおける電波減衰率は、1dB以下であることが好ましく、0.5dB以下であることがより好ましい。また、第2部分における、周波数77GHzにおける電波減衰率は、1dB以下であることが好ましく、0.5dB以下であることがより好ましい。第1部分および第2部分における、周波数77GHzにおける電波減衰率が上記範囲内であることにより、フィルムは、たとえば長距離を探知する前方監視用レーダーにおいて好適に採用されているミリ波を、より透過しやすい。
なお、本実施形態において、電波減衰率および電波透過率は、以下の式に基づいて算出し得る。
電波減衰率(dB)=(金属調加飾フィルムなしの減衰率)-(金属調加飾フィルムを設置した時の減衰率)
電波透過率(%)=10a×100
ここで、指数aは、「-((電波減衰率)/20)」である。
また、電波減衰率は、キーコム(株)製の「導波管タイプ 透過減衰量/シールド効果測定システム Model No.SEM02」を用いて、アンリツ(株)製のベクトルネットワークアナライザ(ME7838A)を用いて測定することができる。
電波減衰率(dB)=(金属調加飾フィルムなしの減衰率)-(金属調加飾フィルムを設置した時の減衰率)
電波透過率(%)=10a×100
ここで、指数aは、「-((電波減衰率)/20)」である。
また、電波減衰率は、キーコム(株)製の「導波管タイプ 透過減衰量/シールド効果測定システム Model No.SEM02」を用いて、アンリツ(株)製のベクトルネットワークアナライザ(ME7838A)を用いて測定することができる。
また、本実施形態のフィルムは、第1部分および第2部分の両方において、ミリ波を透過することができる。すなわち、第1部分における、周波数24GHzにおける電波減衰率は、1dB以下であることが好ましく、0.5dB以下であることがより好ましい。また、第2部分における、周波数24GHzにおける電波減衰率は、1dB以下であることが好ましく、0.5dB以下であることがより好ましい。第1部分および第2部分における、周波数24GHzにおける電波減衰率が上記範囲内であることにより、フィルムは、たとえば周辺監視用レーダーにおいて好適に採用されているミリ波(準ミリ波)を、より透過しやすい。
第2部分における、波長550nmにおける入射角5°の全光線反射率は、35%以上であることが好ましく、37%以上であることがより好ましい。また、第2部分における、波長550nmにおける入射角5°の全光線反射率は、75%以下であることが好ましく、70%以下であることがより好ましい。全光線反射率が上記範囲内であることにより、フィルムは、より金属調の外観を表現しやすい。また、フィルムは、ミリ波レーダーを備える自動車等のフロント部分に設けられる場合において、レーダー等の機器を、外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠しやすい。なお、本実施形態において、全光線反射率は、(株)島津製作所製の紫外可視近赤外分光光度計(UV-3600)を使用して測定した。具体的には、入射光をフィルム法線方向から5°傾斜した方向から入射させた場合において、基準板であるアルミニウムの鏡を設置した時の全光線反射光(鏡面反射光(正反射光)+拡散反射光(鏡面反射光を除く))の量を100%とし、それに対して、本実施形態のフィルムを設置した時の全光線反射光(鏡面反射光(正反射光)+拡散反射光(鏡面反射光を除く))の量を全光線反射率(%)とした。
金属蒸着層全体の説明に戻り、金属蒸着層の形成方法(蒸着方法)は、特に限定されない。一例を挙げると、蒸着方法は、従来公知の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法、または、化学蒸着法等を適宜採用し得る。これらの中でも、生産性が高いという理由により、真空蒸着法により金属蒸着層を設けることが好ましい。蒸着条件は、所望する金属蒸着層の厚みに基づいて、従来公知の条件が適宜採用され得る。なお、金属材料は、不純物が少なく、純度が99重量%以上であることが好ましく、99.5重量%以上であることがより好ましい。また、金属材料は、粒状、ロッド状、タブレット状、ワイヤー状あるいは使用するルツボ形状に加工したものであることが好ましい。金属材料を蒸発させるための加熱方法は、ルツボ中に金属材料を入れて抵抗加熱あるいは高周波加熱を行う方式や、電子ビーム加熱を行う方法、窒化硼素などのセラミック製のボードに金属材料を入れ直接抵抗加熱を行う方法など、周知の方法を用いることができる。真空蒸着に用いるルツボは、カーボン製であることが望ましく、アルミナやマグネシア、チタニア、ベリリア製のルツボであってもよい。
本実施形態では、アンカー層に対して、所定のパターンを有するように、第1の金属蒸着層が形成される。次いで、アンカー層および第1の金属蒸着層を覆うように、第2の金属蒸着層が形成される。
(その他の層)
本実施形態のフィルムは、上記した構成に加え、適宜その他の層が設けられてもよい。一例を挙げると、フィルムは、接着層が設けられてもよい。接着層は、被着体に、フィルムを貼り合わせるために設けられる。
本実施形態のフィルムは、上記した構成に加え、適宜その他の層が設けられてもよい。一例を挙げると、フィルムは、接着層が設けられてもよい。接着層は、被着体に、フィルムを貼り合わせるために設けられる。
接着層は特に限定されない。一例を挙げると、接着層は、各種接着剤、粘着剤、感圧粘着剤(PSA:Pressure Sensitive Adhesive)等からなる。接着剤は特に限定されない。一例を挙げると、接着剤は、アクリル樹脂系、ウレタン樹脂系、ウレタン変性ポリエステル樹脂系、ポリエステル樹脂系、エポキシ樹脂系、エチレン-酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)系、ビニル樹脂系(塩ビ、酢ビ、塩ビ-酢ビ共重合樹脂)、スチレン-エチレン-ブチレン共重合体樹脂系、ポリビニルアルコール樹脂系、ポリアクリルアミド樹脂系、ポリアクリルアミド樹脂系、イソブチレンゴム、イソプレンゴム、天然ゴム、SBR、NBR、シリコーンゴム等の樹脂からなる。これらの樹脂は、適宜、溶剤に溶解されて使用されてもよく、無溶剤で使用されてもよい。
接着層の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、接着層の厚みは、10μm以上であることが好ましく、15μm以上であることがより好ましい。また、接着層の厚みは、60μm以下であることが好ましく、55μm以下であることがより好ましい。接着層の厚みが上記範囲内であることにより、得られるフィルムは、接着時の外観および接着性がさらに優れる。
接着層は、金属顔料が付与されることにより、意匠性が付与されてもよい。また、接着層は、帯電防止剤等が配合されることにより、帯電防止効果などの機能性が付与されてもよい。これにより、接着層は、貼り合わせ適性が向上し得る。
接着層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、接着層は、ロールコーター等を用いて、適宜溶剤に溶解した接着層を構成する樹脂溶液を、後述するセパレータに塗布し、その後、接着層の形成されたセパレータを、金属蒸着層に貼り合わせてもよく、金属蒸着層上に直接、上記樹脂溶液を塗布して接着層を形成してもよい。また、接着層は、セパレータに接着層が設けられた既製品が使用されてもよい。接着層の形成方法は、使用する接着剤や粘着剤の特性に応じて適宜選択され得る。
フィルム全体の説明に戻り、フィルムのOD(Optical Density、光学濃度)値は、1.5以下であることが好ましく、1.3以下であることがより好ましい。また、OD値は、0.4以上であることが好ましく、0.5以上であることがより好ましい。OD値は、光の透過性を示すパラメータであり、たとえば、透過濃度計(X-Rite361T、X-Rite社製)を用いて測定し得る。本実施形態のフィルムは、OD値が上記範囲内であることにより、ミリ波透過性を維持しつつ、フィルムの奥を視認されにくくしてレーダーなどの機器を外部から視認されにくくすることが可能となる。
以上、本実施形態のフィルムは、インジウムを含む第1の金属蒸着層と、インジウムを含む第2の金属蒸着層とを有する。第2の金属蒸着層は、第1の金属蒸着層を覆う第1部分と、第1部分以外の第2部分とからなる。第1の金属蒸着層および第2の金属蒸着層は、いずれも電波透過性があり、ミリ波を透過する。そのため、たとえば、第1の金属蒸着層によって所定のパターンを形成することができ、デザイン性の優れたフィルムが得られる。また、金属蒸着層は、金属光沢を有しているため、外部から視認し難いか、または、視認できないようにミリ波レーダーを覆い隠すことができる。
図1は、本実施形態のフィルム1の模式的な断面図である。なお、図1では、アンカー層は省略されている。図1に示されるように、第1の金属蒸着層3は、アンカー層の設けられた基材2上に所定のパターンを形成するよう設けられている。第1の金属蒸着層3は、海島構造を有している。つまり、島の部分はインジウムが存在する領域であり、海の部分はインジウムが存在しない領域である。また、第2の金属蒸着層4は、アンカー層の設けられた基材2と第1の金属蒸着層3とを覆うように設けられている。図1において、部分P1は、第2の金属蒸着層4のうち、第1の金属蒸着層3を覆っている第1部分である。部分P2は、第1部分以外の第2部分である。なお、図1では、第2の金属蒸着層4は、点在する島状に描かれている。これは、好適な第2の金属蒸着層4が、海島構造を有しているためである。
また、得られたフィルムは、セパレータが設けられてもよい。フィルムは、あらかじめ接着層が設けられたセパレータが用いられてもよく、セパレータに接着層を形成し、その接着層が金属蒸着層と接するように貼り合わせられてもよい。
セパレータは特に限定されない。一例を挙げると、セパレータは、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレンや、フッ素系剥離剤、長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチックフィルムや紙等である。
セパレータが剥離されると、接着層が露出する。露出された接着層は、成形加工前の被着体(後述)に対して貼り付けられる。
(被着体)
本実施形態のフィルムは、接着層に、被着体(バッキングシート、バッカー)が設けられてもよい。被着体は、後述する金属調成形体を製造する際に、フィルムインサート工法が採用される場合に、好適に設けられる。被着体は特に限定されない。一例を挙げると、被着体は、熱成形が可能な重合体シートであればよく、ABSシート、ポリアクリル系シート、ポリプロピレンシート、ポリエチレンシート、ポリカーボネート系シート、A-PETシート、PET-Gシート、塩化ビニル(PVC)系シート、ポリアミド系シート等であることが好ましい。
本実施形態のフィルムは、接着層に、被着体(バッキングシート、バッカー)が設けられてもよい。被着体は、後述する金属調成形体を製造する際に、フィルムインサート工法が採用される場合に、好適に設けられる。被着体は特に限定されない。一例を挙げると、被着体は、熱成形が可能な重合体シートであればよく、ABSシート、ポリアクリル系シート、ポリプロピレンシート、ポリエチレンシート、ポリカーボネート系シート、A-PETシート、PET-Gシート、塩化ビニル(PVC)系シート、ポリアミド系シート等であることが好ましい。
被着体の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、被着体の厚みは、圧縮成形等における成形性の観点から0.05~5mmであることが好ましく、0.3~3mmであることがより好ましい。
被着体は、所望の表面加工が施されたものが使用されてもよい。表面加工は特に限定されない。一例を挙げると、表面加工は、マット加工、サテン加工、エンボス加工、ヘアライン加工、各種パターン柄等である。
被着体は、あらかじめ接着層が設けられた被着体が用いられてもよく、被着体に接着層を形成し、その接着層が金属蒸着層と接するように貼り合わせられてもよい。
その後、本実施形態のフィルムが貼り付けられた被着体は、適宜三次元形状に加工され、成形品(金属調成形体)が作製される。金属調成形体の成形方法は特に限定されない。一例を挙げると、成形方法は、真空成形、TOM(Three dimension Overlay Method)成形等によって成形される。TOM成形では、フィルムは、あらかじめ準備された被着体に付与され、熱により軟化されることにより、被着体に追随するよう一体成形される。一方、真空成形では、フィルムは、ヒーターによって加熱され、軟化される。次いで、加熱されたフィルムは、所望の3次元形状の金型に対して、真空吸引しながら押し付けられ、三次元成形品の形状に追随するよう変形される。
このように、金属調成形体は、成形加工によって製造されやすい。成形加工された金属調成形体は、上記フィルムが用いられている。そのため、金属調成形体は、種々のデザインが付与され得る。また、金属調成形体は、ミリ波を透過することができる。
金属調成形体は特に限定されない。一例を挙げると、金属調成形体は、金属調車両内外装部材、金属調看板、金属調家電、金属調アミューズメント用製品、金属調建材等である。これらの中でも、金属調成形体は、金属調車両内外装部材として好適に用いられる。金属調車両内外装部材は特に限定されない。一例を挙げると、金属調車両内外装部材は、インストルメントパネルガーニッシュおよびオーナメント、オーディオパネル、オートエアコンパネル、ステアリングオーナメント、ドアトリムオーナメント、パワーウィンドウスイッチベゼル、操作系ノブ、スイッチおよびキャップもしくはカバー各種、ラジエーターグリル、ピラーガーニッシュ、バックドアオーナメント、サイドミラーカバー、アウターパネル、リアスポイラー、インサイドもしくはアウトサイドドアハンドル、サイドバイザー、ホイールカバー、二輪自動車用カウリング等である。これらの中でも、本実施形態の金属調車両内外装部材は、電気自動車におけるフロント部分(エンジン車におけるグリル部分)により好適に用いられる。すなわち、電気自動車は、自動車フロント部分において、グリルが必要でない。また、ADAS(先進運転支援システム)や自動運転技術のため、自動車フロント部分には、ミリ波レーダーが設けられる。このような場合において、本実施形態の金属調成形体は、ミリ波を透過させることができるため、ミリ波を透過させつつ、ミリ波レーダーなどの機器類を覆い隠すことができる。これにより、金属調成形体は、ミリ波レーダーの機能を何ら損なうことも無く、グリル部分に変えて、電気自動車のフロント部分に種々のデザインを採用することができる。
以上、本発明の一実施形態について説明した。本発明は、上記実施形態に格別限定されない。なお、上記した実施形態は、以下の構成を有する発明を主に説明するものである。
(1)基材と、前記基材上に設けられたアンカー層と、前記アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有し、前記金属蒸着層は、前記アンカー層上に所定のパターンを形成する第1の金属蒸着層と、前記第1の金属蒸着層を覆う第1部分と、前記第1部分以外の第2部分とからなる第2の金属蒸着層とを有し、前記第1の金属蒸着層は、インジウムを含み、前記第2の金属蒸着層は、インジウムを含む、金属調加飾フィルム。
このような構成によれば、第1の金属蒸着層によって、所定のパターンを形成することができる。これにより、たとえば、本発明の金属調加飾フィルムは、種々のデザインを、対象物(たとえば自動車の外装部材)に付与することができる。また、金属蒸着層は、インジウムを含む。そのため、金属調加飾フィルムは、ミリ波を透過することができ、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができる。
(2)前記第1の金属蒸着層の平均厚みは、90nm以下であり、前記第2の金属蒸着層の平均厚みは、90nm以下である、(1)記載の金属調加飾フィルム。
このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、第1部分および第2部分ともにミリ波透過性を高くすることができる。
(3)前記第2部分における、波長550nmにおける入射角5°の全光線反射率は、35%以上である、(1)または(2)記載の金属調加飾フィルム。
このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、より金属調の外観を表現しやすい。また、金属調加飾フィルムは、レーダーなどの機器を外部から視認できないように覆い隠しやすい。
(4)前記第1の金属蒸着層は、海島構造を有し、前記第2の金属蒸着層は、海島構造を有する、(1)~(3)のいずれかに記載の金属調加飾フィルム。
このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、ミリ波をより透過しやすい。
(5)前記第1部分における、周波数77GHzにおける電波減衰率は、1dB以下であり、前記第2部分における、周波数77GHzにおける電波減衰率は、1dB以下である、(1)~(4)のいずれかに記載の金属調加飾フィルム。
このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、たとえば長距離を探知する前方監視用レーダーにおいて好適に採用されているミリ波を、より透過しやすい。
(6)前記第1部分における、周波数24GHzにおける電波減衰率は、1dB以下であり、前記第2部分における、周波数24GHzにおける電波減衰率は、1dB以下である、(1)~(5)のいずれかに記載の金属調加飾フィルム。
このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、たとえば周辺監視用レーダーにおいて好適に採用されているミリ波(準ミリ波)を、より透過しやすい。
(7)(1)~(6)のいずれかに記載の金属調加飾フィルムを用いた、金属調成形体。
このような構成によれば、金属調成形体は、成形加工によって製造されやすい。成形加工された金属調成形体は、上記金属調加飾フィルムが用いられている。そのため、金属調成形体は、種々のデザインが付与され得る。また、金属調成形体は、ミリ波を透過することができ、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認できないように覆い隠すことができる。
(8)(7)に記載の金属調成形体を用いた、金属調車両内外装部材。
このような構成によれば、金属調車両内外装部材は、上記金属調成形体が用いられている。そのため、金属調車両内外装部材は、種々のデザインが付与され得る。また、金属調車両内外装部材は、ミリ波を透過することができ、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができる。
以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。本発明は、これら実施例に何ら限定されない。なお、特に制限のない限り、「%」は「質量%」を意味し、「部」は「質量部」を意味する。
<実施例1>
PMMAからなる基材(厚み75μm)を準備した。基材に対して、グラビアコーターを用いて、乾燥後1.3μmとなるようにアクリルポリオールとイソシアネート系塗材とを混合したアンカーコート剤溶液を塗工し、ついでそれを100℃で1分間乾燥させ、アンカー層を形成した。次いで、アンカー層に対して、真空蒸着法により、所定のパターンとなるよう、厚みが9nmとなるようにインジウムによる金属蒸着層(第1の金属蒸着層)を形成した(パターニング工程。詳細は後述する。)。次いで、真空蒸着法により、アンカー層および第1の金属蒸着層を覆うように、厚み9nmの金属蒸着層(第2の金属蒸着層)を形成した。これとは別に、アクリル系粘着剤からなる粘着層(厚み25μm)付きセパレータ(PETフィルム)を準備した。金属蒸着層と粘着層(接着層)とが接するように貼り合わせ、粘着層(接着層)を金属蒸着層に転写させた後、セパレータを剥離し、実施例1の金属調加飾フィルムを作製した。
PMMAからなる基材(厚み75μm)を準備した。基材に対して、グラビアコーターを用いて、乾燥後1.3μmとなるようにアクリルポリオールとイソシアネート系塗材とを混合したアンカーコート剤溶液を塗工し、ついでそれを100℃で1分間乾燥させ、アンカー層を形成した。次いで、アンカー層に対して、真空蒸着法により、所定のパターンとなるよう、厚みが9nmとなるようにインジウムによる金属蒸着層(第1の金属蒸着層)を形成した(パターニング工程。詳細は後述する。)。次いで、真空蒸着法により、アンカー層および第1の金属蒸着層を覆うように、厚み9nmの金属蒸着層(第2の金属蒸着層)を形成した。これとは別に、アクリル系粘着剤からなる粘着層(厚み25μm)付きセパレータ(PETフィルム)を準備した。金属蒸着層と粘着層(接着層)とが接するように貼り合わせ、粘着層(接着層)を金属蒸着層に転写させた後、セパレータを剥離し、実施例1の金属調加飾フィルムを作製した。
<実施例2~6>
表1に示される処方にしたがって金属蒸着層の厚み、OD値等を調整した以外は、実施例1と同様の方法により、金属調加飾フィルムを作製した。
表1に示される処方にしたがって金属蒸着層の厚み、OD値等を調整した以外は、実施例1と同様の方法により、金属調加飾フィルムを作製した。
<比較例1>
PETからなる基材(厚み12μm)を準備した。基材に対して、5%のセルロースアセテートブチレート(CAB)を含む溶液をグラビアコート法により0.06g/m2±0.01g/m2の塗工量で塗工し、110℃以上120℃以下で乾燥させて、50nmのアンカー層を形成した。次いで、アンカー層に対して、真空蒸着法により、所定のパターンとなるよう、厚みが20nmとなるようにアルミニウムによる金属蒸着層を形成した。これとは別に、アクリル系粘着剤からなる粘着層(厚み25μm)付きセパレータ(PETフィルム)を準備した。金属蒸着層と粘着層(接着層)とが接するように貼り合わせ、粘着層(接着層)を金属蒸着層に転写させた後、セパレータを剥離し、比較例1の金属調加飾フィルムを作製した。
PETからなる基材(厚み12μm)を準備した。基材に対して、5%のセルロースアセテートブチレート(CAB)を含む溶液をグラビアコート法により0.06g/m2±0.01g/m2の塗工量で塗工し、110℃以上120℃以下で乾燥させて、50nmのアンカー層を形成した。次いで、アンカー層に対して、真空蒸着法により、所定のパターンとなるよう、厚みが20nmとなるようにアルミニウムによる金属蒸着層を形成した。これとは別に、アクリル系粘着剤からなる粘着層(厚み25μm)付きセパレータ(PETフィルム)を準備した。金属蒸着層と粘着層(接着層)とが接するように貼り合わせ、粘着層(接着層)を金属蒸着層に転写させた後、セパレータを剥離し、比較例1の金属調加飾フィルムを作製した。
なお、表1において、O.L.とは、Over Loadの略記であり、抵抗値が測定器のレンジをオーバーして、測定できなかったという意味である(表3も同様)。抵抗値でいうと、107Ω/□以上の値になる。つまり、実施例1~6のフィルムは、金属膜であるインジウム膜であるにも関わらず、高抵抗であり、導電性が低く、インジウムが海島構造を呈している。つまり、インジウム膜が不連続膜であることを示していると言うことができる。
実施例1~6、比較例1において得られたフィルムについて、以下の方法に従って、OD値、厚み、抵抗値、波長550nmにおける全光線反射率および全光線透過率、周波数77GHzにおける電波減衰率および電波透過率、周波数24GHzにおける電波減衰率および電波透過率を評価した。結果を表1および表2に示す。
<OD値>
OD値は、透過濃度計(X-Rite361T、X-Rite社製)を用いて測定した。
OD値は、透過濃度計(X-Rite361T、X-Rite社製)を用いて測定した。
<厚み>
厚みは、蛍光X線分析法(XRF)により測定した。具体的には、厚みは、蛍光X線測定装置(ZSX PrimusIV、理学電機工業(株))を用いて定量分析を行い、5~10箇所の金属蒸着膜の厚み(nm)を測定し、平均を算出した。
厚みは、蛍光X線分析法(XRF)により測定した。具体的には、厚みは、蛍光X線測定装置(ZSX PrimusIV、理学電機工業(株))を用いて定量分析を行い、5~10箇所の金属蒸着膜の厚み(nm)を測定し、平均を算出した。
<抵抗値>
抵抗値は、表面抵抗測定器(ロレスターGP MCP-T360、ダイヤインスツルメンツ)を用いて測定した。
抵抗値は、表面抵抗測定器(ロレスターGP MCP-T360、ダイヤインスツルメンツ)を用いて測定した。
<波長550nmにおける全光線反射率および全光線透過率>
全光線反射率および全光線透過率は、紫外可視近赤外分光光度計(UV-3600、(株)島津製作所)を用いて測定した。全光線反射率について、入射光をフィルム法線方向から5°傾斜した方向から入射させた場合において、基準板であるアルミニウムの鏡を設置した時の全光線反射光(鏡面反射光(正反射光)+拡散反射光(鏡面反射光を除く))の量を100%とし、それに対して、本発明のフィルムを設置した時の全光線反射光(鏡面反射光(正反射光)+拡散反射光(鏡面反射光を除く))の量を全光線反射率(%)とした。全光線透過率についてであるが、フィルムを設置していない状態(空気;Airのみ)の入射光の量を100%とし、本発明のフィルムを設置した時に、当該フィルムを透過した、拡散成分を含む出射光の量を全光線透過率(%)とした。
全光線反射率および全光線透過率は、紫外可視近赤外分光光度計(UV-3600、(株)島津製作所)を用いて測定した。全光線反射率について、入射光をフィルム法線方向から5°傾斜した方向から入射させた場合において、基準板であるアルミニウムの鏡を設置した時の全光線反射光(鏡面反射光(正反射光)+拡散反射光(鏡面反射光を除く))の量を100%とし、それに対して、本発明のフィルムを設置した時の全光線反射光(鏡面反射光(正反射光)+拡散反射光(鏡面反射光を除く))の量を全光線反射率(%)とした。全光線透過率についてであるが、フィルムを設置していない状態(空気;Airのみ)の入射光の量を100%とし、本発明のフィルムを設置した時に、当該フィルムを透過した、拡散成分を含む出射光の量を全光線透過率(%)とした。
<周波数77GHzおよび周波数24GHzにおける電波減衰率および電波透過率>
電波減衰率および電波透過率は、以下の式に基づいて算出した。
電波減衰率(dB)=(金属調加飾フィルムなしの減衰率)-(金属調加飾フィルムを設置した時の減衰率)
電波透過率(%)=10a×100
ここで、指数aは、「-((電波減衰率)/20)」である。
また、電波減衰率は、キーコム(株)製の「導波管タイプ 透過減衰量/シールド効果測定システム Model No.SEM02」を用いて、アンリツ(株)製のベクトルネットワークアナライザ(ME7838A)を用いて測定した。
電波減衰率および電波透過率は、以下の式に基づいて算出した。
電波減衰率(dB)=(金属調加飾フィルムなしの減衰率)-(金属調加飾フィルムを設置した時の減衰率)
電波透過率(%)=10a×100
ここで、指数aは、「-((電波減衰率)/20)」である。
また、電波減衰率は、キーコム(株)製の「導波管タイプ 透過減衰量/シールド効果測定システム Model No.SEM02」を用いて、アンリツ(株)製のベクトルネットワークアナライザ(ME7838A)を用いて測定した。
表1に示されるように、実施例1~6の金属調加飾フィルムは、第1部分および第2部分における周波数77GHzおよび24GHzにおける電波減衰率がほとんど変わりなく低く、電波透過率が高かった。そのため、これらのフィルムは、いずれもミリ波を良好に透過させることができることが分かった。ここで、実施例1のフィルムは、第2部分において、全光線反射率の値よりも全光線透過率の値の方が高く、フィルムの奥を視認されやすくなっており、レーダーなどの機器を外部から視認されやすくなっていて、外部からレーダーなどの機器を視認しやすいようなスケルトン的なデザインには適している。一方、実施例2~6のフィルムはいずれも、第2部分において、全光線透過率の値よりも全光線反射率の値の方が高く、フィルムの奥を視認されにくくなっており、レーダーなどの機器を外部から視認されにくいデザインが要求される場合に適している。なお、第1部分はインジウム層が2回蒸着された部分であるため、インジウム層が1回蒸着された部分である第2部分よりも反射率は高くなると考えられる。そのため、第2部分において、フィルムの奥を視認されにくくなっているのであれば、第1部分においても、フィルムの奥を視認されにくくなっていると考えられる。さらに、実施例1~6のフィルムはいずれも、第1部分と第2部分との間に電波減衰率の差がほとんどないことから、実施例1~6のフィルムは、第1の金属蒸着層によって形成されるパターン形状が制限されにくく、デザイン性が優れることがわかった。
図2は、実施例1、2、5の金属調加飾フィルムを成形した成形体の外観写真である。図2では、左より、実施例5、実施例2および実施例1のフィルムを成形した成形体(成形体F1~F3)が示されている。図2において、菱形パターン内が第1部分(インジウム層が2回蒸着された部分)であり、菱形パターン外が第2部分(インジウム層が1回蒸着された部分)である。図2に示されるように、実施例5、2の成形体F1、F2は、第1部分だけでなく、第2部分でも金属調を有しており、フィルムの奥を視認されにくくなっており、レーダーなどの機器を外部から視認されにくくなっていて好ましい。実施例1の成形体F3は、第1部分ではフィルムの奥を視認されにくくなっているが、第2部分ではフィルムの奥を視認されやすくなっており、レーダーなどの機器を外部から視認されやすくなっていて、スケルトン的なデザインが要求される場合に適している。実施例5、2の成形体F1、F2では、第2の金属蒸着層の厚みを変化させたことにより、菱形パターン内の第1部分における反射率だけでなく、反射光の色味も変化していることがわかる。このように、第1の金属蒸着層および第2の金属蒸着層の厚みを変えることで、金属調の様々な意匠性を有するデザインパターンを自在に実現することが可能となる。また、菱形形状で示した部位は、第2の金属蒸着層のうち、第1の金属蒸着層を覆う部分である第1部分を示している(第1部分P1a、P1b、P1c)。一方、その他の部分は、アンカー層に第2の金属蒸着層が設けられた第2部分を示している(第2部分P2a、P2b、P2c)。図2に示されるように、本発明によれば、所定のデザイン(図2では菱形模様)を自由に表現でき、かつ、その色味に関しても調整することができる。
一方、アルミニウムを用いて金属蒸着層を形成した比較例1の金属調加飾フィルムは、電波透過性が低かった。そのため、比較例1のフィルムは、ミリ波を良好に透過させることができないことが分かった。比較例1のフィルムは、アルミニウム蒸着膜が連続膜に近い膜になっており、ミリ波を良好に透過させることができないものと推察される。
<参考例1>
PMMAからなる基材(厚み75μm)を準備した。基材に対して、グラビアコーターを用いて、乾燥後1.3μmとなるようにアクリルポリオールとイソシアネート系塗材とを混合したアンカーコート剤溶液を塗工し、ついでそれを100℃で1分間乾燥させ、アンカー層を形成した。次いで、アンカー層に対して、真空蒸着法により、厚みが9nmとなるようにインジウムによる金属蒸着層のベタ膜を形成した。これにより、参考例1の金属調加飾フィルムを作製した。
PMMAからなる基材(厚み75μm)を準備した。基材に対して、グラビアコーターを用いて、乾燥後1.3μmとなるようにアクリルポリオールとイソシアネート系塗材とを混合したアンカーコート剤溶液を塗工し、ついでそれを100℃で1分間乾燥させ、アンカー層を形成した。次いで、アンカー層に対して、真空蒸着法により、厚みが9nmとなるようにインジウムによる金属蒸着層のベタ膜を形成した。これにより、参考例1の金属調加飾フィルムを作製した。
<参考例2~7>
表3に示される処方にしたがって金属蒸着層の厚み、OD値等を調整した以外は、参考例1と同様の方法により、金属調加飾フィルムを作製した。ここで、参考例1~7のフィルムは、実施例1~6における第2部分(インジウム層が1回蒸着された部分)に相当する。
表3に示される処方にしたがって金属蒸着層の厚み、OD値等を調整した以外は、参考例1と同様の方法により、金属調加飾フィルムを作製した。ここで、参考例1~7のフィルムは、実施例1~6における第2部分(インジウム層が1回蒸着された部分)に相当する。
表3から分かるように、参考例1~4のフィルムは、周波数77GHzおよび24GHzにおける電波減衰率がほとんど変わりなく低く、電波透過率が高かった。そのため、これらのフィルムは、いずれもミリ波を良好に透過させることができることが分かった。
一方、参考例5~7のフィルムは、周波数77GHzおよび24GHzにおける電波減衰率が高く、電波透過率が低かった。そのため、これらのフィルムは、いずれもミリ波を良好に透過させることができないことが分かった。参考例5~7のフィルムでは、インジウム蒸着膜がもはや海島構造を呈しておらず、連続膜に近い膜になっており、ミリ波を良好に透過させることができないものと推察される。従って、ミリ波を良好に透過させることが可能になる、第2部分における金属蒸着膜の厚みの上限値としては、90nmであると考えられる。つまり、インジウム蒸着膜の厚みが90nm以下であれば、ミリ波を良好に透過させることが可能になると考えられる。このことは、第1の金属蒸着層についても同じことが言えると考えられる。
<パターニング工程>
以下で図3~5を参照して、実施例1~6のパターニング工程について、詳細に説明する。
以下で図3~5を参照して、実施例1~6のパターニング工程について、詳細に説明する。
まず、図3Aに示すように、PMMAからなる基材2(厚み75μm)を準備した。次に、図3Bに示すように、基材2上にグラビアコーターを用いて、乾燥後1.3μmとなるようにアクリルポリオールとイソシアネート系塗材とを混合したアンカーコート剤溶液を塗工し、ついでそれを100℃で1分間乾燥させ、アンカー層2aを形成した。基材2上にアンカー層2aを形成した中間フィルムAを、図4に示すグラビアコーターGCを用いて、中間フィルムAのアンカー層2a側が、ロールR側を向くようにして、水溶性プライマー層Wpを部分的に形成した(図3C参照)。水溶性プライマーとしては、ポリビニルブチラール樹脂を用い、熱を100℃で1分間乾燥させ、水溶性プライマー層Wpを形成した。ロールRは、図5に示すように、菱形形状に突出している凸部Dと、それ以外の突出していない凹部Eとから構成されている。グラビアコーターGCにおいて、ロールRを水溶性プライマー層Wpが溜めてあるトレーWBに浸しつつ、ロールRを回転させることで、凹部Eに水溶性プライマー層Wpを充填させることができる。この際、凸部Dには水溶性プライマー層Wpが充填されない。そして、図4に示すように、グラビアコーターGCを用いて、ロールRを回転させて、中間フィルムAをロールRに接触させつつ、中間フィルムAを巻き取りながら通過させることで、アンカー層2a上に、菱形形状部分外でのみ水溶性プライマー層Wpが形成された中間フィルムA’を得ることができた(図3C参照)。その後、図3Dに示すように、中間フィルムA’の全面に第1の金属(インジウム)蒸着層3を形成した。第1の金属(インジウム)蒸着層3は、実際には、図3Dに示すように連続膜ではなく、図1に示すように海島構造を呈している。そして、純水を入れたバット内にフィルム全体を浸して、水溶性プライマー層Wpが存在する部分上にある第1の金属(インジウム)蒸着層3を除去した(水洗工程)(図3E参照)。その後、第2の金属(インジウム)蒸着層4を全面に蒸着した。第2の金属(インジウム)蒸着層4は、実際には、図3Fに示すように連続膜ではなく、図1に示すように海島構造を呈している。以上により、第1部分P1と第2部分P2とがパターニングされた金属調加飾フィルム1を作製することができた(図3F参照)。
1 金属調加飾フィルム
2 基材
2a アンカー層
3 第1の金属蒸着層
4 第2の金属蒸着層
A、A’ 中間フィルム
D 凸部
E 凹部
F1~F3 成形体
GC グラビアコーター
P1、P1a、P1b、P1c 第1部分
P2、P2a、P2b、P2c 第2部分
R ロール
WB トレー
Wp 水溶性プライマー層
2 基材
2a アンカー層
3 第1の金属蒸着層
4 第2の金属蒸着層
A、A’ 中間フィルム
D 凸部
E 凹部
F1~F3 成形体
GC グラビアコーター
P1、P1a、P1b、P1c 第1部分
P2、P2a、P2b、P2c 第2部分
R ロール
WB トレー
Wp 水溶性プライマー層
Claims (8)
- 基材と、前記基材上に設けられたアンカー層と、前記アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有し、
前記金属蒸着層は、
前記アンカー層上に所定のパターンを形成する第1の金属蒸着層と、
前記第1の金属蒸着層を覆う第1部分と、前記第1部分以外の第2部分とからなる第2の金属蒸着層とを有し、
前記第1の金属蒸着層は、インジウムを含み、
前記第2の金属蒸着層は、インジウムを含む、金属調加飾フィルム。 - 前記第1の金属蒸着層の平均厚みは、90nm以下であり、
前記第2の金属蒸着層の平均厚みは、90nm以下である、請求項1記載の金属調加飾フィルム。 - 前記第2部分における、波長550nmにおける入射角5°の全光線反射率は、35%以上である、請求項1または2記載の金属調加飾フィルム。
- 前記第1の金属蒸着層は、海島構造を有し、
前記第2の金属蒸着層は、海島構造を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載の金属調加飾フィルム。 - 前記第1部分における、周波数77GHzにおける電波減衰率は、1dB以下であり、
前記第2部分における、周波数77GHzにおける電波減衰率は、1dB以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の金属調加飾フィルム。 - 前記第1部分における、周波数24GHzにおける電波減衰率は、1dB以下であり、
前記第2部分における、周波数24GHzにおける電波減衰率は、1dB以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載の金属調加飾フィルム。 - 請求項1~6のいずれか1項に記載の金属調加飾フィルムを用いた、金属調成形体。
- 請求項7に記載の金属調成形体を用いた、金属調車両内外装部材。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020193383A JP7244103B2 (ja) | 2020-11-20 | 2020-11-20 | 金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材 |
JP2020-193383 | 2020-11-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2022107480A1 true WO2022107480A1 (ja) | 2022-05-27 |
Family
ID=81708784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2021/037170 WO2022107480A1 (ja) | 2020-11-20 | 2021-10-07 | 金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7244103B2 (ja) |
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-
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- 2020-11-20 JP JP2020193383A patent/JP7244103B2/ja active Active
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