WO2022102470A1 - 複層構造体及びその製造方法 - Google Patents

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resin layer
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peripheral portion
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啓介 佐藤
毅 村重
淳一 稲垣
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日東電工株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a multi-layer structure and a method for manufacturing the same.
  • a multi-layer structure in which two or more layers are laminated is known.
  • One example is a multi-layer structure in which a silver reflective layer is laminated on a thin glass layer (glass film).
  • the thickness of this multi-layer structure is, for example, in the range of 1.0 to 200 ⁇ m.
  • This multi-layer structure is obtained, for example, from a glass roll formed by a downdraw method.
  • the thin glass layer as described above is very brittle, cracks are likely to occur and the handleability is poor. Therefore, for example, a resin layer is attached to one side of the glass layer to reinforce it and improve the handleability.
  • a multi-layer structure has been proposed.
  • the present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a multi-layer structure in which cracks are less likely to occur in the glass layer.
  • the multi-layer structure has a resin layer and a glass layer laminated on the resin layer via an adhesive layer, and the thickness of the glass layer is 10 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less, and the resin layer is formed.
  • the outer peripheral portion of the above has a thickness of 5 ⁇ m or more.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating the multilayer structure according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a bottom view illustrating the multilayer structure according to the first embodiment, and is a view of the multilayer structure viewed from the lower surface side of the resin layer.
  • the multilayer structure 1 has a resin layer 10, an adhesive layer 20, and a glass layer 30.
  • the resin layer 10 has an upper surface 10a, a lower surface 10b, and a side surface 10c.
  • the glass layer 30 has an upper surface 30a, a lower surface 30b, and a side surface 30c.
  • the glass layer 30 is laminated on the upper surface 10a of the resin layer 10 via the adhesive layer 20. That is, the adhesive layer 20 adheres the upper surface 10a of the resin layer 10 and the lower surface 30b of the glass layer 30.
  • Planar shape of the multi-layer structure 1 (The shape of the upper surface 30a of the glass layer 30 when viewed from the normal direction is, for example, a rectangular shape. However, the plan shape of the multi-layer structure 1 is not limited to this. , Circular shape, elliptical shape, composite of these, and other appropriate shapes. Since the multi-layer structure 1 has flexibility, it can be easily attached to a curved surface.
  • the planar shape of the multi-layer structure 1 is rectangular.
  • the planar shape of the resin layer 10 is rectangular, and the planar shape of the glass layer 30 is also rectangular.
  • the cross-sectional shape of the glass layer 30 is rectangular.
  • the resin layer 10 has an outer peripheral portion 101, an inner portion 102, and an inclined portion 103.
  • the outer peripheral portion 101 is a portion facing the outer edge of the resin layer 10, and the width of the outer peripheral portion 101 is, for example, about 20 ⁇ m to 150 ⁇ m.
  • the outer peripheral portion 101 has a thickness of 5 ⁇ m or more. By setting the thickness of the outer peripheral portion 101 to 5 ⁇ m or more, it is possible to prevent the influence of heat generated by the laser beam on the glass layer 30 when the resin layer 10 is processed by irradiating the resin layer 10 with the laser beam. As a result, it is possible to prevent the glass layer 30 from being cracked when the glass layer 30 is cut by the laser beam. Further, the thickness of the outer peripheral portion 101 is preferably 105 ⁇ m or less. As a result, the splitting property of the resin layer 10 and the glass layer 30 by the laser is improved. The manufacturing process of the multi-layer structure 1 will be described later.
  • the inner portion 102 is provided on the center side of the resin layer 10 from the outer peripheral portion 101.
  • the inner portion 102 has the same thickness as the outer peripheral portion 101, or is thicker than the outer peripheral portion 101.
  • the total thickness of the resin layer 10 is substantially constant at 5 ⁇ m or more.
  • the resin layer 10 When the inner portion 102 is thicker than the outer peripheral portion 101, the resin layer 10 has an inclined portion 103 between the inner portion 102 and the outer peripheral portion 101 whose thickness gradually increases from the outer peripheral portion 101 toward the inner peripheral portion 102. May be good.
  • the side surface of the inclined portion 103 is an inclined surface having an angle formed by the lower surface 10b of the resin layer 10 larger than 90 degrees.
  • the inclined portion 103 and the outer peripheral portion 101 are provided in an annular shape around, for example, the inner portion 102.
  • the inclined portion 103 may be formed on only one side of the resin layer 10 or the inclined portion 103 may be formed on two or three sides of the resin layer 10 in the bottom view. In some cases. Further, although the thickness of the outer peripheral portion 101 is 5 ⁇ m or more, it does not have to be a constant thickness. For example, in the bottom view, the thickness of the outer peripheral portion 101 may be 5 ⁇ m in the portion facing one side of the resin layer 10, and the outer peripheral portion 101 may be thicker than 5 ⁇ m in the portion facing the other three sides. Alternatively, in the bottom view, the thickness of the outer peripheral portion 101 is 5 ⁇ m in the portion facing the two or three sides of the resin layer 10, and the outer peripheral portion 101 is thicker than 5 ⁇ m in the portion facing the other two or one side. good.
  • FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of the vicinity of the outer peripheral portion of the multi-layer structure according to the first embodiment.
  • the end portion of the outer peripheral portion 101 projects horizontally from the side surface 30c of the glass layer 30.
  • the amount P1 of the end portion of the outer peripheral portion 101 protruding from the side surface 30c of the glass layer 30 is preferably larger than 0 ⁇ m and 10 ⁇ m or less.
  • the protrusion amount P1 may be 0 ⁇ m. That is, in a plan view, the outer edge of the outer peripheral portion 101 and the outer edge of the glass layer 30 may coincide with each other.
  • the resin layer 10 is a layer that serves as a base material for laminating the glass layer 30 and the like, and has flexibility.
  • the resin layer 10 is composed of one layer or a plurality of layers.
  • the resin layer 10 is composed of a plurality of layers, it is preferable to interpose and laminate an adhesive layer having an adhesive function.
  • the total thickness of the resin layer 10 may be 20 ⁇ m or more and 1000 ⁇ m or less, preferably 25 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less, and more preferably 50 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less.
  • the thickness of the resin layer 10 can be, for example, in the range of 30 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • polyester resins such as polyethylene terephthalate resin and polyethylene naphthalate resin
  • cycloolefin resins such as norbornene resin
  • polyether sulfone resins polycarbonate resins
  • acrylic resins acrylic resins.
  • Polyolefin-based resin polyimide-based resin, polyamide-based resin, polyimideamide-based resin, polyarylate-based resin, polysulfone-based resin, polyetherimide-based resin, cellulose-based resin, urethane-based resin and the like.
  • the adhesive layer 20 any suitable adhesive is used.
  • the thickness of the adhesive layer 20 is, for example, 0.5 ⁇ m or more and 25 ⁇ m or less.
  • the adhesive layer 20 includes, for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, an ultraviolet-curable acrylic adhesive, an ultraviolet-curable epoxy-based adhesive, a heat-curable epoxy-based adhesive, and heat-curing.
  • sexual melamine-based adhesives, thermosetting phenol-based adhesives, ethylene vinyl acetate (EVA) interlayer films, polyvinyl butyral (PVB) interlayer films and the like can be used.
  • the adhesive means a layer that has adhesiveness at room temperature and adheres to an adherend with a light pressure. Therefore, even when the adherend attached to the adhesive is peeled off, the adhesive retains a practical adhesive force.
  • the adhesive refers to a layer that can bind substances by interposing between the substances. Therefore, when the adherend attached to the adhesive is peeled off, the adhesive does not have a practical adhesive force.
  • the glass layer 30 is not particularly limited, and an appropriate glass layer 30 can be adopted depending on the intended purpose.
  • the glass layer 30 includes, for example, soda-lime glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, quartz glass and the like.
  • non-alkali glass and low-alkali glass can be mentioned.
  • the content of the alkali metal component (for example, Na 2 O, K 2 O, Li 2 O) of the glass is preferably 15% by weight or less, and more preferably 10% by weight or less.
  • the thickness of the glass layer 30 is preferably 10 ⁇ m or more in consideration of the surface hardness, airtightness, and corrosion resistance of the glass. Further, since it is desirable that the glass layer 30 has flexibility like a film, the thickness of the glass layer 30 is preferably 300 ⁇ m or less. The thickness of the glass layer 30 is more preferably 30 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, and particularly preferably 50 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
  • the light transmittance of the glass layer 30 at a wavelength of 550 nm is preferably 85% or more.
  • the refractive index of the glass layer 30 at a wavelength of 550 nm is preferably 1.4 to 1.65.
  • the density of the glass layer 30 is preferably 2.3 g / cm 3 to 3.0 g / cm 3 , and more preferably 2.3 g / cm 3 to 2.7 g / cm 3 .
  • the molding method of the glass layer 30 is not particularly limited, and an appropriate one can be adopted according to the purpose.
  • the glass layer 30 is a mixture containing a main raw material such as silica and alumina, a defoaming agent such as sardine and antimony oxide, and a reducing agent such as carbon at a temperature of about 1400 ° C to 1600 ° C. It can be produced by melting, forming into a thin plate, and then cooling.
  • Examples of the method for forming the glass layer 30 include a slot down draw method, a fusion method, and a float method.
  • the glass layer formed into a plate shape by these methods may be chemically polished with a solvent such as hydrofluoric acid, if necessary, in order to make the glass thin and to improve the smoothness.
  • a functional layer such as an antifouling layer, an antireflection layer, a conductive layer, a reflective layer, and a decorative layer may be provided on the surface of the glass layer 30.
  • FIGS. 4 to 9 are diagrams illustrating the manufacturing process of the multi-layer structure according to the first embodiment.
  • the manufacturing process of the multi-layer structure will be described with particular focus on the cutting process using a laser.
  • a sheet-shaped multi-layer structure 1S in which a resin layer 10 and a glass layer 30 are laminated via an adhesive layer 20 is prepared.
  • the thickness of the glass layer 30 is 10 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less.
  • the thickness of the resin layer 10 is 5 ⁇ m or more.
  • the multi-layer structure 1S is obtained by laminating a resin layer 10 and a glass layer 30 formed in a predetermined shape by press working or the like via an adhesive layer 20.
  • the resin layer 10 and the glass layer 30 may be continuously laminated via the adhesive layer 20 by a roll-to-roll process, and then individualized into arbitrary sizes by press working or the like. Further, the already completed multi-layer structure 1S may be procured.
  • a plurality of product areas A that become the multi-layer structure 1 by being delimited are defined.
  • the product areas A are arranged vertically and horizontally at predetermined intervals, but the present invention is not limited to this.
  • the product area A may be arranged one-dimensionally.
  • 4 is a plan view
  • FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view showing the vicinity of one product area A.
  • each product region A of the multilayer structure 1S is irradiated with the laser beam L1 from the lower surface 10b side of the resin layer 10.
  • the outer peripheral portion of each product region A shown in FIG. 4 is sequentially irradiated with the laser beam L1 in a grid pattern.
  • the laser beam L1 is set to, for example, irradiation conditions that do not penetrate the resin layer 10.
  • grooves 10x having a substantially trapezoidal cross-sectional shape are formed in the resin layer 10 in a grid pattern on the outer peripheral portion of each product region A shown in FIG.
  • the width of the widest portion of the groove 10x (the width on the lower surface 10b side of the resin layer 10) is, for example, about 40 ⁇ m to 300 ⁇ m.
  • the residual resin layer 105 is formed in a grid pattern on the outer peripheral portion of each product region A shown in FIG.
  • the irradiation conditions of the laser beam L1 are adjusted so that the thickness T1 of the residual resin layer 105 is 5 ⁇ m or more.
  • a carbon dioxide laser can be used for irradiating the laser beam L1.
  • a femtosecond laser may be used to irradiate the laser beam L1, but if color loss of the resin layer 10 due to the influence of heat becomes a problem, a carbon dioxide gas laser that does not easily cause color loss of the resin layer 10 is used. It is preferable to do so.
  • the steps shown in FIGS. 6 and 7 may be carried out as necessary. That is, if the thickness of the resin layer 10 is 105 ⁇ m or less, the splitting property is good. Therefore, even if the groove 10x is not provided, the glass layer 30 and the resin layer 10 are subjected to the laser beam L2 in the steps shown in FIGS. 8 and 9. Can be disconnected.
  • the thickness of the resin layer 10 is larger than 105 ⁇ m, it is preferable to form the groove 10x so that the thickness T1 of the residual resin layer 105 is 5 ⁇ m or more. As a result, in the steps shown in FIGS. 8 and 9, the partitionability of the resin layer 10 by the laser beam L2 becomes good.
  • each product region A of the multilayer structure 1S is irradiated with the laser beam L2 from the upper surface 30a side of the glass layer 30.
  • the outer peripheral portion of each product region A shown in FIG. 4 is irradiated with the laser beam L2 in dots at predetermined intervals along the grid.
  • the laser beam L2 is irradiated until the glass layer 30 and the residual resin layer 105 are cut and each product region A is fragmented.
  • a femtosecond laser or a carbon dioxide laser can be used for irradiating the laser beam L2.
  • the portion where the residual resin layer 105 is cut is the outer peripheral portion 101 shown in FIG. 1 and the like.
  • the diameter of one dot is about 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m, and the distance between adjacent dots is about 0 ⁇ m to 2 ⁇ m. That is, adjacent dots may overlap and the intervals may not be separated.
  • the diameter and spacing of the dots are 10 times or more that when a femtosecond laser is used. Considering the processability of the glass layer 30, it is preferable to use a femtosecond laser in this step.
  • the end portion of the outer peripheral portion 101 expands due to the heat generated by the irradiation of the laser beam L2. However, it may protrude in the horizontal direction from the side surface 30c of the glass layer 30.
  • the amount of protrusion of the end portion of the outer peripheral portion 101 from the side surface 30c of the glass layer 30 is about 3 ⁇ m or more and less than 5 ⁇ m.
  • the amount of protrusion of the end portion of the outer peripheral portion 101 from the side surface 30c of the glass layer 30 is larger than 0 ⁇ m and about 10 ⁇ m or less.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating the manufacturing process of the multi-layer structure according to the comparative example. As shown in FIG. 10, when irradiating the resin layer 10 with the laser beam L1 from the lower surface 10b side of the resin layer 10, it is assumed that the irradiation conditions are set so as to penetrate the resin layer 10 without providing the residual resin layer.
  • a molten layer 35 having a predetermined thickness is formed in the thickness direction of the glass layer 30 from the lower surface 30b exposed in the through hole 10y of the glass layer 30.
  • a molten layer 35 having a substantially semicircular cross-sectional shape is formed in a grid pattern on the outer peripheral portion of each product region A shown in FIG.
  • the molten layer 35 is a layer formed by heat damage caused by irradiation of laser light from the resin layer 10 side, and residual stress is generated. Therefore, when the thick portion of the molten layer 35 is cut, cracks are likely to occur in the cut portion.
  • the thickness of the residual resin layer 105 is set so that the molten layer 35 is not formed. If the thickness of the residual resin layer 105 is 5 ⁇ m or more, the molten layer 35 is not formed.
  • the outer peripheral portion 101 of the resin layer 10 has a thickness of 5 ⁇ m or more. Since the outer peripheral portion 101 is formed by being cut by a laser beam, the thickness of the outer peripheral portion 101 is set to 5 ⁇ m or more so that the heat generated by the laser beam when the resin layer 10 is processed by irradiating the laser beam. It is possible to prevent the influence from reaching the glass layer 30. As a result, it is possible to prevent the glass layer 30 from being cracked when the glass layer 30 is cut by the laser beam.
  • processing marks remain on the processed side surface (cut surface) of the glass layer 30.
  • the machined marks are linear grooves whose longitudinal direction is the laser irradiation direction.
  • the pitch of the adjacent grooves varies depending on the conditions, but is about 1 ⁇ m.
  • the cross section in the lateral direction of the groove is approximately semicircular, and the height of the processing mark (depth of the groove) is about 0.1 ⁇ m on average.
  • Modification 1 of the first embodiment shows an example of a multi-layer structure in which the resin layer is composed of a plurality of layers.
  • the description of the same component as that of the above-described embodiment may be omitted.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating the multilayer structure according to the first modification of the first embodiment.
  • the multi-layer structure 1A differs from the multi-layer structure 1 (see FIG. 1 and the like) in that the resin layer 10 is composed of a plurality of layers.
  • the resin layer 10 has an outer peripheral portion 101, an inner portion 102, and an inclined portion 103, as in the first embodiment.
  • the outer peripheral portion 101 of the resin layer 10 has a thickness of 5 ⁇ m or more.
  • the outer peripheral portion 101, the inner portion 102, and the inclined portion 103 are composed of one or more layers, and may be composed of two or more layers.
  • the outer peripheral portion 101 is composed of two layers, but may be composed of one layer or three or more layers.
  • the resin layer 10 includes a polarizing plate 12, an adhesive layer 18, and a release film 19 in this order from the adhesive layer 20 side.
  • the resin layer 10 may further include another layer.
  • the resin layer 10 can be provided with a retardation layer between the polarizing plate 12 and the pressure-sensitive adhesive layer 18, but the resin layer 10 is not limited thereto.
  • the elastic modulus of the resin layer 10 is preferably 0.1 GPa to 8.0 GPa, more preferably 0.2 GPa to 7.0 GPa, and further preferably 0.3 GPa to 5.0 GPa.
  • the elastic modulus can be measured under the following conditions using an autograph.
  • the polarizing plate 12 is arranged on the adhesive layer 20 side.
  • the polarizing plate 12 has a polarizing element 121, a first protective film 122, and a second protective film 123.
  • the first protective film 122 is arranged on the adhesive layer 20 side of the polarizing element 121
  • the second protective film 123 is arranged on the adhesive layer 18 side of the polarizing element 121.
  • the release film 19 is arranged on the opposite side of the second protective film 123 from the polarizing element 121 via the pressure-sensitive adhesive layer 18.
  • the thickness of the polarizing plate 12 is preferably 5 ⁇ m to 300 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 250 ⁇ m, still more preferably 25 ⁇ m to 200 ⁇ m, and particularly preferably 25 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the elastic modulus of the polarizing plate 12 is preferably 1 GPa or more, more preferably 1 GPa to 10 GPa, further preferably 2 GPa to 7 GPa, and particularly preferably 2 GPa to 5 GPa. Within such a range, a multi-layer structure 1A having excellent puncture resistance can be obtained.
  • the shape of the polarizing plate 12 is not particularly limited, and an appropriate shape can be adopted depending on the purpose. As an example, a square shape having a long side and a short side can be mentioned.
  • the polarizing plate 12 has a rectangular shape, it is preferable that the absorption axis direction of the polarizing element 121 included in the polarizing plate 12 and the long side or the short side of the polarizing plate 12 are substantially parallel.
  • substantially parallel is a concept including not only the case where it is strictly parallel but also the case where the angle formed by both lines is ⁇ 10 ° (preferably ⁇ 5 °).
  • the thickness of the splitter 121 is not particularly limited, and an appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose.
  • the thickness of the stator 121 is typically about 1 ⁇ m to 80 ⁇ m.
  • a thin polarizing element may be used as the polarizing element 121.
  • the thickness of the polarizing element 121 is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 15 ⁇ m or less, still more preferably 10 ⁇ m or less, and particularly preferably 10 ⁇ m or less. It is 6 ⁇ m or less.
  • the splitter 121 preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm.
  • the simple substance transmittance of the extruder is preferably 40.0% or more, more preferably 41.0% or more, still more preferably 42.0% or more, and particularly preferably 43.0% or more.
  • the degree of polarization of the polarizing element 121 is preferably 99.8% or more, more preferably 99.9% or more, and further preferably 99.95% or more.
  • the polarizing element 121 is preferably an iodine-based polarizing element. More specifically, the stator can be composed of a polyvinyl alcohol-based resin (hereinafter referred to as "PVA-based resin") film containing iodine.
  • PVA-based resin polyvinyl alcohol-based resin
  • the PVA-based resin that forms the PVA-based resin film is not particularly limited, and an appropriate resin can be used depending on the intended purpose. Examples thereof include polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymers.
  • Polyvinyl alcohol is obtained by saponifying polyvinyl acetate.
  • the ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained by saponifying the ethylene-vinyl acetate copolymer.
  • the saponification degree of the PVA-based resin is usually 85 mol% to 100 mol%, preferably 95.0 mol% to 99.95 mol%, and more preferably 99.0 mol% to 99.93 mol%. Is.
  • the degree of saponification is determined according to JIS K 6726-1994. By using a PVA-based resin having such a saponification degree, a polarizing element having excellent durability can be obtained. If the degree of saponification is too high, gelation may occur.
  • the average degree of polymerization of the PVA-based resin is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.
  • the average degree of polymerization of the PVA-based resin is, for example, 1000 to 10000, preferably 1200 to 5000, and more preferably 1500 to 4500.
  • the average degree of polymerization is determined according to JIS K 6726-1994.
  • Examples of the method for producing the polarizing element 121 include a method (I) of stretching and dyeing a single PVA-based resin film, and a method of stretching and dyeing a laminate (i) having a resin base material and a polyvinyl alcohol-based resin layer (i). II) and the like. Since the method (I) is a well-known and customary method in the art, detailed description thereof will be omitted.
  • a laminate (i) having a resin base material and a polyvinyl alcohol-based resin layer formed on one side of the resin base material is stretched and dyed, and polarized onto the resin base material.
  • the laminate (i) can be formed by applying and drying a coating liquid containing a polyvinyl alcohol-based resin on a resin base material. Further, the laminate (i) may be formed by transferring a polyvinyl alcohol-based resin layer onto a resin substrate. Details of the above-mentioned production method (II) are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580, and this publication can be incorporated as a reference in the present specification.
  • the first protective film 122 and the second protective film 123 are not particularly limited, and appropriate resin films can be adopted depending on the intended purpose.
  • the material for forming the first protective film 122 and the second protective film 123 include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), cellulose resins such as triacetyl cellulose (TAC), and cycloolefin resins such as norbornene resins. Examples thereof include olefin resins such as resins, polyethylene and polypropylene, and (meth) acrylic resins. Among these, polyethylene terephthalate (PET) is preferable.
  • the "(meth) acrylic resin” refers to an acrylic resin and / or a methacrylic resin.
  • the (meth) acrylic resin for example, a (meth) acrylic resin having a glutarimide structure is used.
  • examples of the (meth) acrylic resin having a glutarimide structure include JP-A-2006-309033, JP-A-2006-317560, JP-A-2006-328329, and JP-A. 2006-328334, 2006-337491, 2006-337492, 2006-337493, 2006-337569, 2007-009182, 2009- It is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 161744 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-284840. These statements may be incorporated herein by reference.
  • the first protective film 122, the second protective film 123, and the polarizing element 121 can be laminated via any suitable adhesive layer.
  • the resin base material used for producing the polarizing element 121 is peeled off before or after laminating the first protective film 122 and the second protective film 123 and the polarizing element 121.
  • the thickness of the first protective film 122 and the second protective film 123 is preferably 4 ⁇ m to 250 ⁇ m, more preferably 5 ⁇ m to 150 ⁇ m, further preferably 10 ⁇ m to 100 ⁇ m, and particularly preferably 10 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the elastic modulus of the first protective film 122 and the second protective film 123 is 1 GPa or more, preferably 1 GPa to 10 GPa, more preferably 1.8 GPa to 7 GPa, and further preferably 2 GPa to 5 GPa. Within such a range, a multi-layer structure 1A having excellent puncture resistance can be obtained.
  • the pressure-sensitive adhesive layer 18 can be formed from any suitable pressure-sensitive adhesive.
  • a pressure-sensitive adhesive using a polymer such as an acrylic polymer, a silicone-based polymer, a polyester, a polyurethane, a polyamide, a polyether, a fluorine-based polymer, or a rubber-based polymer as a base polymer is used.
  • an acrylic pressure-sensitive adhesive is used. This is because the acrylic pressure-sensitive adhesive is excellent in optical transparency, exhibits appropriate wettability, cohesiveness, and adhesiveness, and can be excellent in weather resistance, heat resistance, and the like.
  • an acrylic pressure-sensitive adhesive made of an acrylic polymer having 4 to 12 carbon atoms is preferable.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 18 is preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m, more preferably 3 ⁇ m to 80 ⁇ m, and further preferably 3 ⁇ m to 50 ⁇ m. Within such a range, when the multilayer structure 1A is attached to an optical element such as a liquid crystal cell to produce an optical laminate, the optical laminate having excellent flexibility and puncture resistance can be obtained. can get.
  • the release film 19 can be formed of, for example, a resin such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE), or polypropylene (PP).
  • the thickness of the release film 19 is preferably 5 ⁇ m to 125 ⁇ m, more preferably 20 ⁇ m to 75 ⁇ m, and further preferably 30 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the release film 19 is peeled off at the interface with the pressure-sensitive adhesive layer 18 before the multilayer structure 1A is attached to an optical element such as a liquid crystal cell.
  • the resin layer 10 may be composed of one layer or may be composed of a plurality of layers.
  • the thickness of the outer peripheral portion 101 by setting the thickness of the outer peripheral portion 101 to 5 ⁇ m or more, it is possible to prevent the influence of heat generated by the laser beam on the glass layer 30 when the resin layer 10 is processed by irradiating the resin layer 10 with the laser beam. ..
  • the glass layer 30 from being cracked when the glass layer 30 is cut by the laser beam.
  • the cutting method by the laser is the same as that of the first embodiment.
  • a multi-layer structure having a different layer structure is produced, and the laser type, laser output conditions, and the thickness of the residual resin layer are changed to change the amount of protrusion of the glass layer or the resin layer and the glass layer.
  • the presence or absence of cracks in the glass layer and the possibility of splitting the glass layer and the resin layer were examined.
  • fsIR indicates a femtosecond laser
  • CO 2 indicates a carbon dioxide gas laser.
  • the outer peripheral portion and the inner portion may have the same thickness. That is, the resin layer and the residual resin layer may have the same thickness.
  • Example 1 a multi-layer structure having the structure shown in FIG. 1 was produced by the manufacturing process shown in FIGS. 4, 5, 8 and 9.
  • non-alkali glass was used as the material of the glass layer, and the thickness was about 50 ⁇ m.
  • An ultraviolet curable epoxy adhesive was used as the material of the adhesive layer, and the thickness was about 1.5 ⁇ m.
  • a polyethylene terephthalate resin was used as the material of the resin layer, and the thickness was about 105 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer is 105 ⁇ m, which is the same as that of the resin layer.
  • Example 2 a multi-layer structure having the structure shown in FIG. 1 was produced by the manufacturing process shown in FIGS. 4, 5, 8 and 9.
  • non-alkali glass was used as the material of the glass layer, and the thickness was about 100 ⁇ m.
  • An ultraviolet curable epoxy adhesive was used as the material of the adhesive layer, and the thickness was about 1.5 ⁇ m.
  • Acrylic resin was used as the material of the resin layer, and the thickness was about 40 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer is 40 ⁇ m, which is the same as that of the resin layer.
  • Comparative Example 1 a multi-layer structure having the structure shown in FIG. 1 was produced by the manufacturing process shown in FIGS. 4, 5, 8 and 9.
  • non-alkali glass was used as the material of the glass layer, and the thickness was about 100 ⁇ m.
  • An ultraviolet curable epoxy adhesive was used as the material of the adhesive layer, and the thickness was about 1.5 ⁇ m.
  • Acrylic resin was used as the material of the resin layer, and the thickness was about 188 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer is 188 ⁇ m, which is the same as that of the resin layer.
  • Example 3 a multi-layer structure having the structure shown in FIG. 1 was produced in the manufacturing process shown in FIGS. 4 to 9.
  • non-alkali glass was used as the material of the glass layer, and the thickness was about 100 ⁇ m.
  • An ultraviolet curable epoxy adhesive was used as the material of the adhesive layer, and the thickness was about 1.5 ⁇ m.
  • Acrylic resin was used as the material of the resin layer, and the thickness was about 188 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer was 20 ⁇ m.
  • Example 4 a multi-layer structure having the structure shown in FIG. 11 was produced in the manufacturing process shown in FIGS. 4 to 9.
  • non-alkali glass was used as the material of the glass layer, and the thickness was about 100 ⁇ m.
  • An ultraviolet curable epoxy adhesive was used as the material of the adhesive layer, and the thickness was about 1.5 ⁇ m.
  • Acrylic resin was used as the material of the first protective film, and the thickness was about 40 ⁇ m.
  • a polyvinyl alcohol-based resin containing iodine was used as the material of the stator, and the thickness was about 5 ⁇ m.
  • Acrylic resin was used as the material of the second protective film, and the thickness was about 40 ⁇ m.
  • An acrylic polymer was used as the material of the pressure-sensitive adhesive layer, and the thickness was about 40 ⁇ m.
  • Polyethylene terephthalate (PET) was used as the material of the release film, and the thickness was about 38 ⁇ m.
  • the total thickness of the resin layer was about 160 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer was 40 ⁇ m.
  • Example 5 a multi-layer structure having the structure shown in FIG. 11 was produced in the manufacturing process shown in FIGS. 4 to 9.
  • non-alkali glass was used as the material of the glass layer, and the thickness was about 100 ⁇ m.
  • An ultraviolet curable epoxy adhesive was used as the material of the adhesive layer, and the thickness was about 1.5 ⁇ m.
  • the layer structure of the resin layer was the same as that of Example 4, and the total thickness of the resin layer was about 160 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer was 5 ⁇ m.
  • Example 6 a multi-layer structure having the structure shown in FIG. 11 was produced in the manufacturing process shown in FIGS. 4 to 9.
  • non-alkali glass was used as the material of the glass layer, and the thickness was about 100 ⁇ m.
  • An ultraviolet curable epoxy adhesive was used as the material of the adhesive layer, and the thickness was about 1.5 ⁇ m.
  • the layer structure of the resin layer was the same as that of Example 4, and the total thickness of the resin layer was about 160 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer was 60 ⁇ m.
  • Comparative Example 2 a multi-layer structure having the structure shown in FIG. 11 was produced in the manufacturing process shown in FIGS. 4 to 9.
  • non-alkali glass was used as the material of the glass layer, and the thickness was about 100 ⁇ m.
  • An ultraviolet curable epoxy adhesive was used as the material of the adhesive layer, and the thickness was about 1.5 ⁇ m.
  • the layer structure of the resin layer was the same as that of Example 4, and the total thickness of the resin layer was about 160 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer was set to 0 ⁇ m.
  • Example 7 a multi-layer structure having the structure shown in FIG. 11 was produced in the manufacturing process shown in FIGS. 4 to 9.
  • non-alkali glass was used as the material of the glass layer, and the thickness was about 100 ⁇ m.
  • An ultraviolet curable epoxy adhesive was used as the material of the adhesive layer, and the thickness was about 1.5 ⁇ m.
  • the layer structure of the resin layer was the same as that of Example 4, and the total thickness of the resin layer was about 160 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer was 5 ⁇ m.
  • the thickness of the residual resin layer 5 ⁇ m or more regardless of whether the laser that cuts the glass layer is fsIR or CO 2 . It can be said that there is. Further, when good breakability is also required, it can be said that the thickness of the residual resin layer is preferably 105 ⁇ m or less.
  • the breakability of the glass layer and the resin layer is good regardless of whether the laser for cutting the glass layer is fsIR or CO 2 . Moreover, it can be said that the glass layer does not crack.

Landscapes

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Abstract

本複層構造体は、樹脂層と、前記樹脂層上に接着剤層を介して積層されたガラス層と、を有し、前記ガラス層の厚みは、１０μｍ以上３００μｍ以下であり、前記樹脂層の外周部は、厚みが５μｍ以上である。

Description

複層構造体及びその製造方法
　本発明は、複層構造体及びその製造方法に関する。
　２以上の層を積層させた複層構造体が知られている。一例として、板厚の薄いガラス層（ガラスフィルム）上に銀反射層を積層させた複層構造体が挙げられる。この複層構造体の厚みは、例えば、１．０～２００μｍの範囲内である。この複層構造体は、例えば、ダウンドロー法によって成形されたガラスロールより得られる。
特開２０１３－２３１７４４号公報
　上記のような板厚の薄いガラス層は非常に脆いため、クラックが生じやすく、またハンドリング性に劣るため、例えば、ガラス層の片側に樹脂層を貼り付けて補強し、ハンドリング性を向上させた複層構造体が提案されている。
　しかしながら、樹脂層上に薄いガラス層を積層した複層構造体において、ガラス層にクラックが生じやすいという課題は十分に解決されていない。
　本発明は、上記の点に鑑みてなされたもので、ガラス層にクラックが生じにくい複層構造体を提供することを目的とする。
　本複層構造体は、樹脂層と、前記樹脂層上に接着剤層を介して積層されたガラス層と、を有し、前記ガラス層の厚みは、１０μｍ以上３００μｍ以下であり、前記樹脂層の外周部は、厚みが５μｍ以上である。
　開示の技術によれば、ガラス層にクラックが生じにくい複層構造体を提供できる。
第１実施形態に係る複層構造体を例示する断面図である。 第１実施形態に係る複層構造体を例示する底面図である。 第１実施形態に係る複層構造体の外周部付近の部分拡大断面図である。 第１実施形態に係る複層構造体の製造工程を例示する図（その１）である。 第１実施形態に係る複層構造体の製造工程を例示する図（その２）である。 第１実施形態に係る複層構造体の製造工程を例示する図（その３）である。 第１実施形態に係る複層構造体の製造工程を例示する図（その４）である。 第１実施形態に係る複層構造体の製造工程を例示する図（その５）である。 第１実施形態に係る複層構造体の製造工程を例示する図（その６）である。 比較例に係る複層構造体の製造工程を例示する図である。 第１実施形態の変形例１に係る複層構造体を例示する断面図である。 実施例及び比較例について説明する図である。
　以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
　〈第１実施形態〉
　［複層構造体］
　図１は、第１実施形態に係る複層構造体を例示する断面図である。図２は、第１実施形態に係る複層構造体を例示する底面図であり、複層構造体を樹脂層の下面側から視た図である。
　図１及び図２に示すように、複層構造体１は、樹脂層１０と、接着剤層２０と、ガラス層３０とを有している。樹脂層１０は、上面１０ａと、下面１０ｂと、側面１０ｃとを有している。ガラス層３０は、上面３０ａと、下面３０ｂと、側面３０ｃとを有している。複層構造体１において、ガラス層３０は、樹脂層１０の上面１０ａに接着剤層２０を介して積層されている。すなわち、接着剤層２０は、樹脂層１０の上面１０ａとガラス層３０の下面３０ｂとを接着している。
　複層構造体１の平面形状（ガラス層３０の上面３０ａの法線方向から視た形状は、例えば、矩形状である。しかし、これには限定されず、複層構造体１の平面形状は、円形状、楕円形状、これらの複合、その他の適宜な形状とすることが可能である。複層構造体１は、可撓性を有するため、曲面にも容易に貼り付けることができる。
　本実施形態では、一例として、複層構造体１の平面形状を矩形状とする。具体的には、本実施形態では、一例として、樹脂層１０の平面形状は矩形状であり、ガラス層３０の平面形状も矩形状である。ガラス層３０の断面形状は矩形状である。
　樹脂層１０は、外周部１０１と、内側部１０２と、傾斜部１０３とを有している。外周部１０１は、樹脂層１０の外縁に面する部分であり、外周部１０１の幅は、例えば、２０μｍ～１５０μｍ程度である。外周部１０１は、厚みが５μｍ以上である。外周部１０１の厚みを５μｍ以上とすることで、レーザ光を照射して樹脂層１０を加工する際に、レーザ光により生じる熱の影響がガラス層３０に及ぶことを防止できる。その結果、ガラス層３０をレーザ光で切断する際に、ガラス層３０にクラックが生じることを抑制できる。また、外周部１０１の厚みは、１０５μｍ以下であることが好ましい。これにより、樹脂層１０及びガラス層３０のレーザによる分断性が向上する。複層構造体１の製造工程については後述する。
　内側部１０２は、外周部１０１より樹脂層１０の中心側に設けられている。内側部１０２は、外周部１０１と同じ厚みか、又は外周部１０１より厚い肉厚部である。外周部１０１と内側部１０２とが同じ厚みの場合には、樹脂層１０の全体の厚みが５μｍ以上でほぼ一定となる。
　樹脂層１０は、内側部１０２が外周部１０１より厚い場合、内側部１０２と外周部１０１との間に、外周部１０１から内側部１０２に向かうにしたがって厚みが漸増する傾斜部１０３を有してもよい。傾斜部１０３の側面は、樹脂層１０の下面１０ｂとのなす角度が９０度より大きくなる傾斜面である。樹脂層１０のガラス層３０とは反対側（下面１０ｂ側）から視て、傾斜部１０３及び外周部１０１は、例えば、内側部１０２の周囲に環状に設けられている。
　ただし、複層構造体１の作製方法によっては、底面視において、樹脂層１０の一辺のみにおいて傾斜部１０３が形成されたり、樹脂層１０の二辺又は三辺において傾斜部１０３が形成されたりする場合がある。また、外周部１０１の厚みは５μｍ以上であるが、一定厚みである必要はない。例えば、底面視において、樹脂層１０の一辺に面する部分では外周部１０１の厚みが５μｍで、他の三辺に面する部分では外周部１０１が５μｍより厚くなってもよい。あるいは、底面視において、樹脂層１０の二辺又は三辺に面する部分では外周部１０１の厚みが５μｍで、他の二辺又は一辺に面する部分では外周部１０１が５μｍより厚くなってもよい。
　図３は、第１実施形態に係る複層構造体の外周部付近の部分拡大断面図である。図３に示すように、複層構造体１では、外周部１０１の端部が、ガラス層３０の側面３０ｃから水平方向に突出している。外周部１０１の端部の、ガラス層３０の側面３０ｃからの突出量Ｐ１は、０μｍより大きく１０μｍ以下であることが好ましい。突出量Ｐ１を１０μｍ以下とすることで、製品としての寸法精度を維持できると共に、外観上の問題も生じない。ただし、突出量Ｐ１は、０μｍであってもかまわない。つまり、平面視において、外周部１０１の外縁とガラス層３０の外縁とが一致してもよい。
　ここで、複層構造体１の各部の材料等について説明する。
　［樹脂層、残樹脂層］
　樹脂層１０は、ガラス層３０等を積層する基材となる層であり、可撓性を有する。樹脂層１０は、１つの層又は複数の層から構成されている。樹脂層１０が複数の層からなる場合には、接着機能を有する密着層を介在させ積層させることが好ましい。樹脂層１０の総厚みは、可撓性の観点から２０μｍ以上１０００μｍ以下であればよく、好ましくは２５μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以上２００μｍ以下の範囲である。樹脂層１０が１層から構成される場合には、樹脂層１０の厚みは、例えば、３０μｍ以上５０μｍ以下の範囲とすることができる。
　樹脂層１０の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂やポリエチレンナフタレート系樹脂等のポリエステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミドアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂等が挙げられる。
　［接着剤層］
　接着剤層２０としては、任意の適切な接着剤が用いられる。接着剤層２０の厚みは、例えば、０．５μｍ以上２５μｍ以下である。接着剤層２０としては、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、紫外線硬化性アクリル系接着剤、紫外線硬化性エポキシ系接着剤、熱硬化性エポキシ系接着剤、熱硬化性メラミン系接着剤、熱硬化性フェノール系接着剤、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）中間膜、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）中間膜等が利用できる。
　なお、本明細書において、粘着剤とは、常温で接着性を有し、軽い圧力で被着体に接着する層をいう。従って、粘着剤に貼着した被着体を剥離した場合にも、粘着剤は実用的な粘着力を保持する。一方、接着剤とは、物質の間に介在することによって物質を結合できる層をいう。従って、接着剤に貼着した被着体を剥離した場合には、接着剤は実用的な接着力を有さない。
　［ガラス層］
　ガラス層３０は、特に限定はなく、目的に応じて適切なものを採用できる。ガラス層３０は、組成による分類によれば、例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウ酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラス等が挙げられる。又、アルカリ成分による分類によれば、無アルカリガラス、低アルカリガラスが挙げられる。上記ガラスのアルカリ金属成分（例えば、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏ）の含有量は、好ましくは１５重量％以下であり、更に好ましくは１０重量％以下である。
　ガラス層３０の厚みは、ガラスの持つ表面硬度や気密性や耐腐食性を考慮すると、１０μｍ以上が好ましい。又、ガラス層３０はフィルムのような可撓性を有することが望ましいため、ガラス層３０の厚みは３００μｍ以下が好ましい。ガラス層３０の厚みは、更に好ましくは３０μｍ以上２００μｍ以下、特に好ましくは５０μｍ以上１００μｍ以下である。
　ガラス層３０の波長５５０ｎｍにおける光透過率は、好ましくは８５％以上である。ガラス層３０の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、好ましくは１．４～１．６５である。ガラス層３０の密度は、好ましくは２．３ｇ／ｃｍ３～３．０ｇ／ｃｍ３であり、更に好ましくは２．３ｇ／ｃｍ３～２．７ｇ／ｃｍ３である。
　ガラス層３０の成形方法は、特に限定はなく、目的に応じて適切なものを採用できる。代表的には、ガラス層３０は、シリカやアルミナ等の主原料と、芒硝や酸化アンチモン等の消泡剤と、カーボン等の還元剤とを含む混合物を、１４００℃～１６００℃程度の温度で溶融し、薄板状に成形した後、冷却して作製できる。ガラス層３０の成形方法としては、例えば、スロットダウンドロー法、フュージョン法、フロート法等が挙げられる。これらの方法によって板状に成形されたガラス層は、薄板化したり、平滑性を高めたりするために、必要に応じて、フッ酸等の溶剤により化学的に研磨されてもよい。
　なお、ガラス層３０の表面に、防汚層、反射防止層、導電層、反射層、加飾層等の機能層を設けてもよい。
　［複層構造体の製造方法］
　図４～図９は、第１実施形態に係る複層構造体の製造工程を例示する図である。図４～図９を参照しながら、複層構造体の製造工程について、特にレーザを使用した切断工程を中心に説明する。まず、図４及び図５に示すように、樹脂層１０とガラス層３０とを接着剤層２０を介して積層させたシート状の複層構造体１Ｓを準備する。複層構造体１Ｓにおいて、ガラス層３０の厚みは１０μｍ以上３００μｍ以下である。また、樹脂層１０の厚みは、５μｍ以上である。
　複層構造体１Ｓは、プレス加工等により所定の形状に形成した樹脂層１０とガラス層３０とを接着剤層２０を介して積層させることで得られる。或いは、樹脂層１０とガラス層３０とを接着剤層２０を介してロールトゥロールプロセスを利用して連続的に積層後、プレス加工等により、任意のサイズに個片化してもよい。また、すでに完成された複層構造体１Ｓを調達してもよい。
　複層構造体１Ｓには、個片化することで複層構造体１となる複数の製品領域Ａが画定されている。図４の例では、製品領域Ａは所定間隔で縦横に配置されているが、これには限定されない。例えば、製品領域Ａは、１次元に配置されてもよい。なお、図４は平面図であり、図５は１つの製品領域Ａの近傍を図示した部分拡大断面図である。
　次に、図６に示すように、複層構造体１Ｓの各々の製品領域Ａの外周部に、樹脂層１０の下面１０ｂ側からレーザ光Ｌ１を照射する。例えば、図４に示す各々の製品領域Ａの外周部に順次格子状にレーザ光Ｌ１を照射する。図７に示すように、レーザ光Ｌ１は、例えば、樹脂層１０を貫通しない照射条件に設定する。
　レーザ光Ｌ１の照射により、樹脂層１０には、例えば、断面形状が略台形状の溝１０ｘが、図４に示す各々の製品領域Ａの外周部に格子状に形成される。溝１０ｘの最も広い部分の幅（樹脂層１０の下面１０ｂ側の幅）は、例えば、４０μｍ～３００μｍ程度となる。また、溝１０ｘの底面側（ガラス層３０側）に、残樹脂層１０５が図４に示す各々の製品領域Ａの外周部に格子状に形成される。残樹脂層１０５の厚みＴ１が５μｍ以上となるように、レーザ光Ｌ１の照射条件を調整する。
　レーザ光Ｌ１の照射には、例えば、炭酸ガスレーザを使用できる。なお、レーザ光Ｌ１の照射にフェムト秒レーザを使用してもよいが、熱の影響による樹脂層１０の色抜けが問題になる場合には、樹脂層１０の色抜けが生じにくい炭酸ガスレーザを使用することが好ましい。
　なお、図６及び図７に示す工程は、必要に応じて実施すればよい。すなわち、樹脂層１０の厚みが１０５μｍ以下であれば分断性が良好であるため、溝１０ｘを設けなくても、図８及び図９に示す工程で、レーザ光Ｌ２でガラス層３０及び樹脂層１０を切断可能である。樹脂層１０の厚みが１０５μｍより大きい場合は、残樹脂層１０５の厚みＴ１が５μｍ以上となるように溝１０ｘを形成することが好ましい。これにより、図８及び図９に示す工程で、レーザ光Ｌ２による樹脂層１０の分断性が良好となる。
　次に、図８に示すように、複層構造体１Ｓの各々の製品領域Ａの外周部に、ガラス層３０の上面３０ａ側からレーザ光Ｌ２を照射する。例えば、図４に示す各々の製品領域Ａの外周部に格子に沿って所定間隔でドット状にレーザ光Ｌ２を照射する。図９に示すように、レーザ光Ｌ２は、ガラス層３０及び残樹脂層１０５が切断され、各々の製品領域Ａが個片化されるまで照射する。レーザ光Ｌ２を照射してガラス層３０及び残樹脂層１０５を切断することで、図４に示す各々の製品領域Ａが個片化され、複数の複層構造体１が作製される。レーザ光Ｌ２の照射には、フェムト秒レーザや炭酸ガスレーザを使用することができる。なお、残樹脂層１０５を切断した部分が図１等に示す外周部１０１となる。
　フェムト秒レーザを使用した場合、１つのドットの直径は０．５μｍ～２μｍ程度となり、隣接するドットの間隔は０μｍ～２μｍ程度となる。つまり、隣接するドットが重なり間隔が空かない場合がある。炭酸ガスレーザを使用した場合は、ドットの直径や間隔は、フェムト秒レーザを使用した場合の１０倍以上となる。ガラス層３０の加工性を考慮すると、この工程ではフェムト秒レーザを使用することが好ましい。
　図９に示すように、レーザ光Ｌ２を照射して残樹脂層１０５を切断して外周部１０１を形成する際に、レーザ光Ｌ２の照射に起因した発熱により、外周部１０１の端部が膨張し、ガラス層３０の側面３０ｃから水平方向に突出する場合がある。フェムト秒レーザを使用した場合、外周部１０１の端部の、ガラス層３０の側面３０ｃからの突出量は、３μｍ以上５μｍ未満程度となる。炭酸ガスレーザを使用した場合には、外周部１０１の端部の、ガラス層３０の側面３０ｃからの突出量は、０μｍより大きく１０μｍ以下程度となる。
　図１０は、比較例に係る複層構造体の製造工程を例示する図である。図１０に示すように、樹脂層１０に樹脂層１０の下面１０ｂ側からレーザ光Ｌ１を照射する際に、残樹脂層を設けずに、樹脂層１０を貫通する照射条件に設定したとする。
　この場合、ガラス層３０の下面３０ｂ側は、レーザ光Ｌ１の照射により生じた熱の影響を受ける。そのため、ガラス層３０の貫通孔１０ｙ内に露出する下面３０ｂからガラス層３０の厚み方向に、所定厚みの溶融層３５が形成される。例えば、ガラス層３０の下面３０ｂ側に、断面形状が略半円状の溶融層３５が、図４に示す各々の製品領域Ａの外周部に格子状に形成される。
　溶融層３５は、樹脂層１０側からのレーザ光の照射による熱ダメージにより形成される層であり、残留応力が生じている。そのため、溶融層３５の厚い部分を切断すると、切断した部分にクラックが生じやすい。
　これに対して、本実施形態のように、残樹脂層１０５を設ける場合は、ガラス層３０の下面３０ｂ側は、レーザ光Ｌ１の照射により生じた熱の影響を受けにくくなる。そのため、ガラス層３０の下面３０ｂには溶融層３５は形成されない。言い換えれば、溶融層３５が形成されない程度に、残樹脂層１０５の厚みを設定する。残樹脂層１０５の厚みが５μｍ以上であれば、溶融層３５は形成されない。
　このように、本実施形態では、樹脂層１０の外周部１０１は、厚みが５μｍ以上である。外周部１０１は、レーザ光により切断されて形成されるので、外周部１０１の厚みを５μｍ以上とすることで、レーザ光を照射して樹脂層１０を加工する際に、レーザ光により生じる熱の影響がガラス層３０に及ぶことを防止できる。その結果、ガラス層３０をレーザ光で切断する際に、ガラス層３０にクラックが生じることを抑制できる。
　なお、フェムト秒レーザを使用してガラス層３０を加工すると、ガラス層３０の加工側面（切断面）に加工痕が残る。加工痕は、レーザ照射方向を長手方向とする線状の溝となる。隣接する溝のピッチは条件により変動するが、おおよそ１μｍ程度となる。また、溝の短手方向の断面は、おおよそ半円状となり、加工痕の高さ（溝の深さ）は、平均で０．１μｍ程度となる。
　〈第１実施形態の変形例１〉
　第１実施形態の変形例１では、樹脂層が複数の層から構成されている複層構造体の例を示す。なお、第１実施形態の変形例１において、既に説明した実施形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
　図１１は、第１実施形態の変形例１に係る複層構造体を例示する断面図である。図１１に示すように、複層構造体１Ａは、樹脂層１０が複数の層から構成されている点が複層構造体１（図１等参照）と相違する。
　樹脂層１０は、第１実施形態と同様に、外周部１０１と、内側部１０２と、傾斜部１０３とを有している。樹脂層１０の外周部１０１は、厚みが５μｍ以上である。外周部１０１、内側部１０２、及び傾斜部１０３は、１層以上から構成されており、２層以上から構成されてもよい。例えば、図１１では、外周部１０１は、２層で構成されているが、１層で構成されてもよいし、３層以上で構成されてもよい。
　樹脂層１０は、接着剤層２０側から、偏光板１２と、粘着剤層１８と、離形フィルム１９とを、この順に備える。但し、樹脂層１０は、更に他の層を備えてもよい。例えば、樹脂層１０は、偏光板１２と粘着剤層１８との間に位相差層を備えることができるが、これには限定されない。
　樹脂層１０の弾性率は、好ましくは０．１ＧＰａ～８．０ＧＰａであり、より好ましくは０．２ＧＰａ～７．０ＧＰａであり、更に好ましくは０．３ＧＰａ～５．０ＧＰａである。本明細書において、弾性率は、オートグラフを用いて、下記の条件にて測定できる。
　［弾性率測定方法］
　測定温度：２３℃
　サンプルサイズ：幅２ｃｍ、長さ１５ｃｍ
　チャック間距離：１０ｃｍ
　引張速度：１０ｍｍ／ｍｉｎ。
　偏光板１２は、接着剤層２０側に配置される。偏光板１２は、偏光子１２１、第１保護フィルム１２２、及び第２保護フィルム１２３を有する。第１保護フィルム１２２は、偏光子１２１の接着剤層２０側に配置され、第２保護フィルム１２３は、偏光子１２１の粘着剤層１８側に配置される。
　離形フィルム１９は、粘着剤層１８を介して、第２保護フィルム１２３の偏光子１２１とは反対側に配置される。
　以下、樹脂層１０の各構成要素について、更に詳しく説明する。
　［偏光板］
　偏光板１２の厚みは、好ましくは５μｍ～３００μｍであり、より好ましくは１０μｍ～２５０μｍであり、更に好ましくは２５μｍ～２００μｍであり、特に好ましくは２５μｍ～１００μｍである。
　偏光板１２の弾性率は、好ましくは１ＧＰａ以上であり、より好ましくは１ＧＰａ～１０ＧＰａであり、更に好ましくは２ＧＰａ～７ＧＰａであり、特に好ましくは２ＧＰａ～５ＧＰａである。このような範囲であれば、耐突刺性に優れる複層構造体１Ａが得られる。
　偏光板１２の形状は、特に限定はなく、目的に応じて適切な形状を採用できるが、一例として、長辺と短辺とを有する方形形状が挙げられる。偏光板１２が方形形状である場合、偏光板１２が有する偏光子１２１の吸収軸方向と、偏光板１２の長辺又は短辺とは、略平行であることが好ましい。なお、本明細書において、「略平行」とは、厳密に平行である場合のみならず、両線のなす角が±１０°（好ましくは±５°）である場合も含む概念である。
　［偏光子］
　偏光子１２１の厚みは、特に限定はなく、目的に応じて適切な厚みを採用できる。偏光子１２１の厚みは、代表的には、１μｍ～８０μｍ程度である。偏光子１２１として薄型の偏光子を用いてもよく、この場合、偏光子１２１の厚みは、好ましくは２０μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以下であり、更に好ましくは１０μｍ以下であり、特に好ましくは６μｍ以下である。
　偏光子１２１は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの何れかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは４０．０％以上、より好ましくは４１．０％以上、更に好ましくは４２．０％以上、特に好ましくは４３．０％以上である。偏光子１２１の偏光度は、好ましくは９９．８％以上であり、より好ましくは９９．９％以上であり、更に好ましくは９９．９５％以上である。
　偏光子１２１は、好ましくは、ヨウ素系偏光子である。より詳細には、上記偏光子は、ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂（以下、「ＰＶＡ系樹脂」と称する）フィルムから構成できる。
　ＰＶＡ系樹脂フィルムを形成するＰＶＡ系樹脂としては、特に限定はなく、目的に応じて適切な樹脂を採用できるが、例えば、ポリビニルアルコール、エチレン－ビニルアルコール共重合体が挙げられる。
　ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン－ビニルアルコール共重合体は、エチレン－酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、通常８５モル％～１００モル％であり、好ましくは９５．０モル％～９９．９５モル％であり、更に好ましくは９９．０モル％～９９．９３モル％である。ケン化度は、ＪＩＳ　Ｋ　６７２６－１９９４に準じて求められる。このようなケン化度のＰＶＡ系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光子が得られる。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。
　ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、特に限定はなく、目的に応じて適切に選択できる。ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、例えば、１０００～１００００であり、好ましくは１２００～５０００であり、更に好ましくは１５００～４５００である。なお、平均重合度は、ＪＩＳ　Ｋ　６７２６－１９９４に準じて求められる。
　偏光子１２１の製造方法としては、例えば、ＰＶＡ系樹脂フィルム単体を延伸、染色する方法（Ｉ）、樹脂基材とポリビニルアルコール系樹脂層とを有する積層体（ｉ）を延伸、染色する方法（ＩＩ）等が挙げられる。方法（Ｉ）は、当業界で周知慣用の方法であるため、詳細な説明は省略する。
　方法（ＩＩ）は、好ましくは、樹脂基材と該樹脂基材の片側に形成されたポリビニルアルコール系樹脂層とを有する積層体（ｉ）を延伸、染色して、該樹脂基材上に偏光子を作製する工程を含む。積層体（ｉ）は、樹脂基材上にポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を塗布・乾燥して形成され得る。又、積層体（ｉ）は、ポリビニルアルコール系樹脂層を樹脂基材上に転写して形成されてもよい。上記製造方法（ＩＩ）の詳細は、例えば、特開２０１２－７３５８０号公報に記載されており、この公報は、本明細書に参考として援用できる。
　［第１及び第２保護フィルム］
　第１保護フィルム１２２及び第２保護フィルム１２３としては、特に限定はなく、目的に応じて適切な樹脂フィルムを採用できる。第１保護フィルム１２２及び第２保護フィルム１２３の形成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）である。なお、「（メタ）アクリル系樹脂」とは、アクリル系樹脂及び／又はメタクリル系樹脂をいう。
　（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が用いられる。グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂（以下、グルタルイミド樹脂とも称する）は、例えば、特開２００６－３０９０３３号公報、特開２００６－３１７５６０号公報、特開２００６－３２８３２９号公報、特開２００６－３２８３３４号公報、特開２００６－３３７４９１号公報、特開２００６－３３７４９２号公報、特開２００６－３３７４９３号公報、特開２００６－３３７５６９号公報、特開２００７－００９１８２号公報、特開２００９－１６１７４４号公報、特開２０１０－２８４８４０号公報に記載されている。これらの記載は、本明細書に参考として援用できる。
　第１保護フィルム１２２及び第２保護フィルム１２３と偏光子１２１とは、任意の適切な接着剤層を介して積層できる。偏光子１２１の作製時に用いた樹脂基材は、第１保護フィルム１２２及び第２保護フィルム１２３と偏光子１２１とを積層する前、或いは積層した後に剥離される。
　第１保護フィルム１２２及び第２保護フィルム１２３の厚みは、好ましくは４μｍ～２５０μｍであり、より好ましくは５μｍ～１５０μｍであり、更に好ましくは１０μｍ～１００μｍであり、特に好ましくは１０μｍ～５０μｍである。
　第１保護フィルム１２２及び第２保護フィルム１２３の弾性率は、１ＧＰａ以上であり、好ましくは１ＧＰａ～１０ＧＰａであり、より好ましくは１．８ＧＰａ～７ＧＰａであり、更に好ましくは２ＧＰａ～５ＧＰａである。このような範囲であれば、耐突刺性に優れる複層構造体１Ａが得られる。
　［粘着剤層］
　粘着剤層１８は、任意の適切な粘着剤から形成できる。粘着剤としては、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系等のポリマーをベースポリマーとする粘着剤が用いられる。好ましくは、アクリル系粘着剤が用いられる。アクリル系粘着剤は、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れ得るからである。特に、炭素数が４～１２のアクリル系ポリマーよりなるアクリル系粘着剤が好ましい。
　粘着剤層１８の厚みは、好ましくは１μｍ～１００μｍであり、より好ましくは３μｍ～８０μｍであり、更に好ましくは３μｍ～５０μｍである。このような範囲であれば、複層構造体１Ａを液晶セル等の光学素子に貼り付けて光学積層体を作製したときに、可撓性に優れ、かつ、耐突刺性に優れる光学積層体が得られる。
　［離形フィルム］
　離形フィルム１９は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等の樹脂により形成できる。離形フィルム１９の厚みは、好ましくは５μｍ～１２５μｍであり、より好ましくは２０μｍ～７５μｍであり、更に好ましくは３０μｍ～５０μｍである。離形フィルム１９は、複層構造体１Ａが液晶セル等の光学素子に貼り付けられる前に、粘着剤層１８との界面で剥離される。
　このように、複層構造体において、樹脂層１０は、１つの層から構成されてもよく、複数の層から構成されてもよい。いずれの場合も、外周部１０１の厚みを５μｍ以上とすることで、レーザ光を照射して樹脂層１０を加工する際に、レーザ光により生じる熱の影響がガラス層３０に及ぶことを防止できる。その結果、ガラス層３０をレーザ光で切断する際に、ガラス層３０にクラックが生じることを抑制できる。樹脂層１０が複数の層から構成されている場合も、レーザによる切断方法は第１実施形態と同様である。
　以下の実施例及び比較例では、層構成を変えた複層構造体を作製し、レーザ種類、レーザ出力条件、及び残樹脂層の厚みを変えて、ガラス層又は樹脂層の突出量、ガラス層のクラックの有無、及びガラス層及び樹脂層の分断性の可否について検討した。詳細な条件や検討結果は、図１２に示した通りである。図１２において、ｆｓＩＲはフェムト秒レーザを、ＣＯ２は炭酸ガスレーザを示している。なお、樹脂層において、外周部と内側部が同じ厚みの場合もある。つまり、樹脂層と残樹脂層とが同じ厚みの場合もある。
　［実施例１］
　実施例１では、図１に示す構造の複層構造体を図４、５、８、及び９に示す製造工程で作製した。実施例１で作製した複層構造体において、ガラス層の材料には無アルカリガラスを使用し、厚みは約５０μｍとした。接着剤層の材料には紫外線硬化性エポキシ系接着剤を使用し、厚みは約１．５μｍとした。樹脂層の材料にはポリエチレンテレフタレート系樹脂を使用し、厚みは約１０５μｍとした。残樹脂層の厚みは、樹脂層と同じ１０５μｍである。
　［実施例２］
　実施例２では、図１に示す構造の複層構造体を図４、５、８、及び９に示す製造工程で作製した。実施例２で作製した複層構造体において、ガラス層の材料には無アルカリガラスを使用し、厚みは約１００μｍとした。接着剤層の材料には紫外線硬化性エポキシ系接着剤を使用し、厚みは約１．５μｍとした。樹脂層の材料にはアクリル系樹脂を使用し、厚みは約４０μｍとした。残樹脂層の厚みは、樹脂層と同じ４０μｍである。
　［比較例１］
　比較例１では、図１に示す構造の複層構造体を図４、５、８、及び９に示す製造工程で作製した。比較例１で作製した複層構造体において、ガラス層の材料には無アルカリガラスを使用し、厚みは約１００μｍとした。接着剤層の材料には紫外線硬化性エポキシ系接着剤を使用し、厚みは約１．５μｍとした。樹脂層の材料にはアクリル系樹脂を使用し、厚みは約１８８μｍとした。残樹脂層の厚みは、樹脂層と同じ１８８μｍである。
　［実施例３］
　実施例３では、図１に示す構造の複層構造体を図４～図９に示す製造工程で作製した。実施例３で作製した複層構造体において、ガラス層の材料には無アルカリガラスを使用し、厚みは約１００μｍとした。接着剤層の材料には紫外線硬化性エポキシ系接着剤を使用し、厚みは約１．５μｍとした。樹脂層の材料にはアクリル系樹脂を使用し、厚みは約１８８μｍとした。残樹脂層の厚みは、２０μｍとした。
　［実施例４］
　実施例４では、図１１に示す構造の複層構造体を図４～図９に示す製造工程で作製した。実施例４で作製した複層構造体において、ガラス層の材料には無アルカリガラスを使用し、厚みは約１００μｍとした。接着剤層の材料には紫外線硬化性エポキシ系接着剤を使用し、厚みは約１．５μｍとした。第１保護フィルムの材料にはアクリル系樹脂を使用し、厚みは約４０μｍとした。偏光子の材料にはヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂を使用し、厚みは約５μｍとした。第２保護フィルムの材料にはアクリル系樹脂を使用し、厚みは約４０μｍとした。粘着剤層の材料にはアクリル系ポリマーを使用し、厚みは約４０μｍとした。離形フィルムの材料にはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を使用し、厚みは約３８μｍとした。樹脂層の総厚みは約１６０μｍとした。残樹脂層の厚みは、４０μｍとした。
　［実施例５］
　実施例５では、図１１に示す構造の複層構造体を図４～図９に示す製造工程で作製した。実施例５で作製した複層構造体において、ガラス層の材料には無アルカリガラスを使用し、厚みは約１００μｍとした。接着剤層の材料には紫外線硬化性エポキシ系接着剤を使用し、厚みは約１．５μｍとした。樹脂層の層構成は実施例４と同じであり、樹脂層の総厚みは約１６０μｍとした。残樹脂層の厚みは、５μｍとした。
　［実施例６］
　実施例６では、図１１に示す構造の複層構造体を図４～図９に示す製造工程で作製した。実施例６で作製した複層構造体において、ガラス層の材料には無アルカリガラスを使用し、厚みは約１００μｍとした。接着剤層の材料には紫外線硬化性エポキシ系接着剤を使用し、厚みは約１．５μｍとした。樹脂層の層構成は実施例４と同じであり、樹脂層の総厚みは約１６０μｍとした。残樹脂層の厚みは、６０μｍとした。
　［比較例２］
　比較例２では、図１１に示す構造の複層構造体を図４～図９に示す製造工程で作製した。比較例２で作製した複層構造体において、ガラス層の材料には無アルカリガラスを使用し、厚みは約１００μｍとした。接着剤層の材料には紫外線硬化性エポキシ系接着剤を使用し、厚みは約１．５μｍとした。樹脂層の層構成は実施例４と同じであり、樹脂層の総厚みは約１６０μｍとした。残樹脂層の厚みは、０μｍとした。
　［実施例７］
　実施例７では、図１１に示す構造の複層構造体を図４～図９に示す製造工程で作製した。実施例７で作製した複層構造体において、ガラス層の材料には無アルカリガラスを使用し、厚みは約１００μｍとした。接着剤層の材料には紫外線硬化性エポキシ系接着剤を使用し、厚みは約１．５μｍとした。樹脂層の層構成は実施例４と同じであり、樹脂層の総厚みは約１６０μｍとした。残樹脂層の厚みは、５μｍとした。
　［結果の検討］
　図１２の実施例１、実施例２、及び比較例１より、残樹脂層の厚みが１８８μｍでは分断性が悪いが、１０５μｍ以下であれば分断性は良好である。また、実施例３～７の結果においても、この点は示されている。
　一方、比較例２より、残樹脂層の厚みが０μｍの場合には、分断性は良好であるが、ガラス層にクラックが入る。これは、図１０を参照して説明したように、溶融層が形成されたためと考えられる。また、実施例５及び７より、残樹脂層の厚みが５μｍであれば、ガラス層を切断するレーザがｆｓＩＲであるかＣＯ２であるかによらず、ガラス層にクラックが入らない。
　以上より、ガラス層３０にクラックが入ることを防止するためには、ガラス層を切断するレーザがｆｓＩＲであるかＣＯ２であるかによらず、残樹脂層の厚みを５μｍ以上とする必要があるといえる。さらに、良好な分断性も求める場合には、残樹脂層の厚みを１０５μｍ以下とすることが好ましいといえる。
　つまり、残樹脂層の厚みを５μｍ以上１０５μｍ以下とした場合には、ガラス層を切断するレーザがｆｓＩＲであるかＣＯ２であるかによらず、ガラス層及び樹脂層の分断性が良好であり、かつガラス層にクラックが入らないといえる。
　また、実施例５及び７より、樹脂層がガラス層の側面から突出しても、突出量が１０μｍ以下であれば、ガラス層へのクラックの発生や分断性の悪化に影響がないといえる。
　以上、好ましい実施形態等について詳説したが、上述した実施形態等に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施形態等に種々の変形及び置換を加えることができる。
　本国際出願は２０２０年１１月１３日に出願した日本国特許出願２０２０－１８９２４５号に基づく優先権を主張するものであり、日本国特許出願２０２０－１８９２４５号の全内容を本国際出願に援用する。
１、１Ａ、１Ｓ　複層構造体
１０　樹脂層
１０ａ、３０ａ　上面
１０ｂ、３０ｂ　下面
１０ｃ、３０ｃ　側面
１０ｘ　溝
１２　偏光板
１８　粘着剤層
１９　離形フィルム
２０　接着剤層
３０　ガラス層
１０１　外周部
１０２　内側部
１０３　傾斜部
１０５　残樹脂層
１２１　偏光子
１２２　第１保護フィルム
１２３　第２保護フィルム

Claims (12)

  1. 　樹脂層と、
    　前記樹脂層上に接着剤層を介して積層されたガラス層と、を有し、
    　前記ガラス層の厚みは、１０μｍ以上３００μｍ以下であり、
    　前記樹脂層の外周部は、厚みが５μｍ以上である、複層構造体。
  2. 　前記外周部の端部は、前記ガラス層の側面から突出しており、
    　前記外周部の端部の、前記ガラス層の側面からの突出量は、０μｍより大きく１０μｍ以下である、請求項１に記載の複層構造体。
  3. 　前記樹脂層は、前記外周部より内側に、前記外周部より厚い肉厚部を有する、請求項１又は２に記載の複層構造体。
  4. 　前記樹脂層は、前記肉厚部と前記外周部との間に、前記外周部から前記肉厚部に向かうにしたがって厚みが漸増する傾斜部を有する、請求項３に記載の複層構造体。
  5. 　前記樹脂層の前記ガラス層とは反対側から視て、前記傾斜部及び前記外周部は、前記肉厚部の周囲に環状に設けられている、請求項４に記載の複層構造体。
  6. 　前記樹脂層は、複数の層から構成されている、請求項１乃至５の何れか一項に記載の複層構造体。
  7. 　前記複数の層は、偏光子を有する偏光板を含む、請求項６に記載の複層構造体。
  8. 　樹脂層と、前記樹脂層上に接着剤層を介して積層されたガラス層と、を有し、複数の製品領域が画定された第１複層構造体を準備する工程と、
    　前記第１複層構造体の各々の前記製品領域の外周部に、前記ガラス層側からレーザ光を照射して前記ガラス層及び前記樹脂層を切断し、各々の前記製品領域を個片化して複数の複層構造体を作製する工程と、を有し、
    　前記ガラス層の厚みは、１０μｍ以上３００μｍ以下であり、
    　前記樹脂層の厚みは、５μｍ以上である、複層構造体の製造方法。
  9. 　前記第１複層構造体を準備する工程と、前記複数の複層構造体を作製する工程と、の間に、
    　前記第１複層構造体の各々の前記製品領域の外周部に、前記樹脂層側からレーザ光を照射し、前記樹脂層に、底面側に残樹脂層を備えた溝を形成する工程を有し、
    　前記複数の複層構造体を作製する工程では、前記第１複層構造体の各々の前記製品領域の外周部に、前記ガラス層側からレーザ光を照射して前記ガラス層及び前記残樹脂層を切断し、各々の前記製品領域を個片化して複数の複層構造体を作製する、請求項８に記載の複層構造体の製造方法。
  10. 　前記溝を形成する工程では、炭酸ガスレーザを使用する、請求項９に記載の複層構造体の製造方法。
  11. 　前記複数の複層構造体を作製する工程では、フェムト秒レーザを使用する、請求項８乃至１０の何れか一項に記載の複層構造体の製造方法。
  12. 　前記複数の複層構造体を作製する工程では、前記樹脂層の外周部が前記ガラス層の側面から突出し、
    　前記外周部の、前記ガラス層の側面からの突出量は、０μｍより大きく１０μｍ以下である、請求項８乃至１１の何れか一項に記載の複層構造体の製造方法。
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Citations (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006309033A (ja) 2005-04-28 2006-11-09 Kaneka Corp 光学用フィルムの製造方法
JP2006317560A (ja) 2005-05-10 2006-11-24 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムならびにそれを用いた偏光板
JP2006328329A (ja) 2005-05-30 2006-12-07 Kaneka Corp 表面保護フィルム用基材、および表面保護フィルム
JP2006328334A (ja) 2005-04-28 2006-12-07 Kaneka Corp 樹脂組成物、またはこれを使用した光学用フィルム、偏光子保護フィルム
JP2006337493A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムおよびその製造方法、ならびにそれを用いた偏光板
JP2006337491A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムならびにそれを用いた偏光板
JP2006337569A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムならびにそれを用いた偏光板、液晶表示装置
JP2006337492A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムならびにそれを用いた偏光板
JP2007009182A (ja) 2005-05-11 2007-01-18 Kaneka Corp 樹脂組成物、成形体、フィルムとその製造方法
JP2009161744A (ja) 2007-12-11 2009-07-23 Kaneka Corp 熱可塑性樹脂組成物、光学用フィルムおよび偏光子保護フィルム
JP2009242185A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd レーザ切断方法および被切断物
JP2010284840A (ja) 2009-06-10 2010-12-24 Kaneka Corp コーティング層が付与されたフィルム、偏光子保護フィルム、及び、それを用いてなる偏光板
WO2011048978A1 (ja) * 2009-10-20 2011-04-28 旭硝子株式会社 ガラス積層体、支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネル、表示装置、およびこれらの製造方法
WO2011090004A1 (ja) * 2010-01-25 2011-07-28 旭硝子株式会社 積層体の製造方法および積層体
JP2012073580A (ja) 2010-09-03 2012-04-12 Nitto Denko Corp 薄型偏光膜の製造方法
WO2012157610A1 (ja) * 2011-05-13 2012-11-22 日本電気硝子株式会社 積層体、積層体の切断方法および積層体の加工方法、並びに、脆性板状物の切断装置および切断方法
JP2012254626A (ja) * 2011-05-13 2012-12-27 Nippon Electric Glass Co Ltd 積層体
JP2013231744A (ja) 2010-08-20 2013-11-14 Konica Minolta Advanced Layers Inc フィルムミラーと、その製造方法、それを用いた太陽光反射用ミラー
WO2014030521A1 (ja) * 2012-08-21 2014-02-27 旭硝子株式会社 複合シートの切断方法、ガラスシートの切断方法、複合シートの切断片
JP2016210023A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 日本電気硝子株式会社 可撓性積層体の製造方法
WO2018066508A1 (ja) * 2016-10-05 2018-04-12 日本電気硝子株式会社 ガラス樹脂積層体の製造方法及びガラス樹脂積層体
JP2019055534A (ja) * 2017-09-21 2019-04-11 日東電工株式会社 薄ガラス積層体
WO2020153178A1 (ja) * 2019-01-23 2020-07-30 日東電工株式会社 薄ガラス樹脂積層体片の製造方法
JP2020189245A (ja) 2016-06-20 2020-11-26 ファミリーイナダ株式会社 マッサージユニット及びこのマッサージユニットを有するマッサージ機

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19851353C1 (de) * 1998-11-06 1999-10-07 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zum Schneiden eines Laminats aus einem sprödbrüchigen Werkstoff und einem Kunststoff
JP2014159352A (ja) * 2013-02-20 2014-09-04 Nitto Denko Corp 可撓性フィルムの製造方法
US10442719B2 (en) * 2013-12-17 2019-10-15 Corning Incorporated Edge chamfering methods

Patent Citations (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006309033A (ja) 2005-04-28 2006-11-09 Kaneka Corp 光学用フィルムの製造方法
JP2006328334A (ja) 2005-04-28 2006-12-07 Kaneka Corp 樹脂組成物、またはこれを使用した光学用フィルム、偏光子保護フィルム
JP2006317560A (ja) 2005-05-10 2006-11-24 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムならびにそれを用いた偏光板
JP2007009182A (ja) 2005-05-11 2007-01-18 Kaneka Corp 樹脂組成物、成形体、フィルムとその製造方法
JP2006328329A (ja) 2005-05-30 2006-12-07 Kaneka Corp 表面保護フィルム用基材、および表面保護フィルム
JP2006337493A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムおよびその製造方法、ならびにそれを用いた偏光板
JP2006337491A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムならびにそれを用いた偏光板
JP2006337569A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムならびにそれを用いた偏光板、液晶表示装置
JP2006337492A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Kaneka Corp 偏光子保護フィルムならびにそれを用いた偏光板
JP2009161744A (ja) 2007-12-11 2009-07-23 Kaneka Corp 熱可塑性樹脂組成物、光学用フィルムおよび偏光子保護フィルム
JP2009242185A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd レーザ切断方法および被切断物
JP2010284840A (ja) 2009-06-10 2010-12-24 Kaneka Corp コーティング層が付与されたフィルム、偏光子保護フィルム、及び、それを用いてなる偏光板
WO2011048978A1 (ja) * 2009-10-20 2011-04-28 旭硝子株式会社 ガラス積層体、支持体付き表示装置用パネル、表示装置用パネル、表示装置、およびこれらの製造方法
WO2011090004A1 (ja) * 2010-01-25 2011-07-28 旭硝子株式会社 積層体の製造方法および積層体
JP2013231744A (ja) 2010-08-20 2013-11-14 Konica Minolta Advanced Layers Inc フィルムミラーと、その製造方法、それを用いた太陽光反射用ミラー
JP2012073580A (ja) 2010-09-03 2012-04-12 Nitto Denko Corp 薄型偏光膜の製造方法
WO2012157610A1 (ja) * 2011-05-13 2012-11-22 日本電気硝子株式会社 積層体、積層体の切断方法および積層体の加工方法、並びに、脆性板状物の切断装置および切断方法
JP2012254626A (ja) * 2011-05-13 2012-12-27 Nippon Electric Glass Co Ltd 積層体
WO2014030521A1 (ja) * 2012-08-21 2014-02-27 旭硝子株式会社 複合シートの切断方法、ガラスシートの切断方法、複合シートの切断片
JP2016210023A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 日本電気硝子株式会社 可撓性積層体の製造方法
JP2020189245A (ja) 2016-06-20 2020-11-26 ファミリーイナダ株式会社 マッサージユニット及びこのマッサージユニットを有するマッサージ機
WO2018066508A1 (ja) * 2016-10-05 2018-04-12 日本電気硝子株式会社 ガラス樹脂積層体の製造方法及びガラス樹脂積層体
JP2019055534A (ja) * 2017-09-21 2019-04-11 日東電工株式会社 薄ガラス積層体
WO2020153178A1 (ja) * 2019-01-23 2020-07-30 日東電工株式会社 薄ガラス樹脂積層体片の製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
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