WO2021230122A1 - マゼンタ色感光性樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 - Google Patents

マゼンタ色感光性樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 Download PDF

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裕樹 奈良
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    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures

Definitions

  • the present invention relates to a magenta photosensitive resin composition.
  • the present invention also relates to a film, a color filter, a solid-state image pickup device, and an image display device using a magenta color photosensitive resin composition.
  • CCD charge-coupled device
  • the colored pixels of each color of the color filter are manufactured by using a photosensitive resin composition containing a coloring material (Patent Document 1 and the like).
  • a magenta color pigment and a magenta color dye are used in combination as the coloring material.
  • the coloring material contains a magenta color pigment and a magenta color dye.
  • the content of the magenta color dye in the coloring material is 20% by mass or more, and the content is 20% by mass or more.
  • a magenta-colored photosensitive resin composition in which the total amount of the magenta-colored pigment and the magenta-colored dye in the total solid content of the magenta-colored photosensitive resin composition is 30% by mass or more.
  • the magenta color photosensitive resin composition has a maximum absorbance of 0.5 or less for light in the wavelength range of 400 to 450 nm and 600 to 700 nm when the absorbance for light having a wavelength of 540 nm is 1.
  • the magenta color photosensitive resin composition according to ⁇ 1>, wherein the maximum value of the absorbance with respect to light in the wavelength range of is 0.5 or less.
  • the magenta color photosensitive resin composition has a wavelength range of 450 to 520 nm and a wavelength range of 550 to 600 nm for light having an absorbance of 0.3 when the absorbance for light having a wavelength of 540 nm is 1.
  • ⁇ 4> When a film having a thickness of 0.6 ⁇ m is formed using the magenta color photosensitive resin composition, the maximum value of the light transmittance in the wavelength range of 400 to 500 nm in the thickness direction of the film is 70%.
  • the minimum value of the transmittance of light in the wavelength range of 450 to 600 nm is 30% or less
  • the maximum value of the transmittance of light in the wavelength range of 550 to 700 nm is 70% or more.
  • the magenta photosensitive resin composition according to the above.
  • the maximum value of light transmittance in the wavelength range of 400 to 500 nm in the thickness direction of the film is 80%.
  • the minimum value of the transmittance of light in the wavelength range of 450 to 600 nm is 10% or less
  • the maximum value of the transmittance of light in the wavelength range of 550 to 700 nm is 90% or more.
  • magenta photosensitive resin composition according to the above.
  • ⁇ 6> The magenta photosensitive resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, wherein the magenta dye is a compound having a polymerizable group.
  • ⁇ 7> The magenta photosensitive resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the magenta dye is a dye multimer.
  • ⁇ 8> The magenta color photosensitive resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the magenta color dye is at least one selected from a xanthene compound, a pyrromethene compound and a triarylmethane compound. ..
  • the magenta color pigment is at least one selected from Color Index Pigment Red 122, Color Index Pigment Red 202, Color Index Pigment Red 209, and Color Index Pigment Red 269, ⁇ 1> to ⁇ 8>.
  • ⁇ 12> The magenta color photosensitive resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>, which is used for a solid-state image sensor.
  • ⁇ 13> The magenta color photosensitive resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>, which is used for photolithography.
  • ⁇ 14> A film obtained by using the magenta photosensitive resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>.
  • ⁇ 15> A color filter having the film according to ⁇ 14>.
  • ⁇ 16> A magenta color pixel obtained by using the magenta color photosensitive resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>, a cyan color pixel including a color index pigment green 7, and a color index pigment.
  • a color filter having yellow pixels including yellow 150. ⁇ 17> It has a magenta color pixel, a cyan color pixel, and a yellow pixel obtained by using the magenta color photosensitive resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>.
  • the cyan pixel has a maximum transmittance of 90% or more for light in the wavelength range of 450 to 550 nm, a minimum value of 20% or less for the transmittance of light in the wavelength range of 615 to 645 nm, and a transmittance of 50.
  • the maximum value of the light transmittance in the wavelength range of 500 to 700 nm is 90% or more
  • the minimum value of the light transmittance in the wavelength range of 415 to 445 nm is 10% or less
  • the transmittance is 50%.
  • the wavelength indicating the above exists in the wavelength range of 470 to 490 nm.
  • Color filter. ⁇ 18> A solid-state image sensor having the film according to ⁇ 14>. ⁇ 19> An image display device having the film according to ⁇ 14>.
  • magenta photosensitive resin composition capable of forming magenta pixels having a small amount of development residue, excellent resolution, and a small surface roughness. Further, it is possible to provide a film, a color filter, a solid-state image pickup device, and an image display device using a magenta color photosensitive resin composition.
  • the contents of the present invention will be described in detail.
  • "to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as the lower limit value and the upper limit value.
  • the notation not describing substitution and non-substitution also includes a group having a substituent (atomic group) as well as a group having no substituent (atomic group).
  • the "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • the term "exposure” includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • Examples of the light used for exposure include the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays typified by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, active rays such as electron beams, or radiation.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth) acrylate” represents both acrylate and methacrylate, or either
  • “(meth) acrylic” represents both acrylic and methacrylic, or either.
  • Acryloyl represents both acryloyl and / or methacryloyl.
  • Me in the structural formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • the weight average molecular weight and the number average molecular weight are polystyrene-equivalent values measured by a GPC (gel permeation chromatography) method.
  • the total solid content means the total mass of all the components of the composition excluding the solvent.
  • the term "process" is included in this term not only as an independent process but also as long as the intended action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. ..
  • the magenta color photosensitive resin composition of the present invention is a magenta color photosensitive resin composition containing a coloring material, a resin, a polymerizable compound, and a solvent.
  • the coloring material contains magenta pigments and magenta dyes.
  • the content of the magenta color dye in the coloring material is 20% by mass or more, and the content is 20% by mass or more.
  • the total amount of the magenta pigment and the magenta dye in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is 30% by mass or more.
  • magenta photosensitive resin composition of the present invention it is possible to form magenta pixels having a small amount of development residue, excellent resolution, and a small surface roughness.
  • the magenta color photosensitive resin composition of the present invention has a maximum absorbance of 0.5 or less and 600 to 700 nm for light in the wavelength range of 400 to 450 nm, where 1 is the absorbance for light having a wavelength of 540 nm.
  • the maximum value of the absorbance for light in the wavelength range is preferably 0.5 or less.
  • the maximum value of the absorbance for light in the wavelength range of 400 to 450 nm is more preferably 0.3 or less, and further preferably 0.2 or less.
  • the maximum value of the absorbance for light in the wavelength range of 600 to 700 nm is more preferably 0.3 or less, and further preferably 0.2 or less.
  • the magenta color photosensitive resin composition of the present invention has a wavelength range of 450 to 520 nm and a wavelength range of 550 to 600 nm for which the absorbance is 0.3 when the absorbance for light having a wavelength of 540 nm is 1. It is preferable to be present in each. It is said that the wavelength on the short wavelength side (hereinafter, also referred to as ⁇ 1) having an absorbance of 0.3 can be sufficiently color-separated from colored pixels of other colors such as cyan and yellow, and the color reproducibility of the image sensor can be improved. For this reason, it is more preferably present in the wavelength range of 460 to 510 nm, and even more preferably in the wavelength range of 470 to 500 nm.
  • the wavelength on the long wavelength side (hereinafter, also referred to as ⁇ 2) having an absorbance of 0.3 is more preferably present in the wavelength range of 560 to 595 nm for the same reason as described above, and is in the wavelength range of 570 to 590 nm. It is more preferred to be present.
  • the difference between ⁇ 2 and ⁇ 1 ( ⁇ 2- ⁇ 1) is because the amount of light incident on the photodiode can be sufficiently secured while sufficiently ensuring the performance of color separation from the colored pixels of other colors. It is preferably 60 to 120 nm, more preferably 70 to 110 nm.
  • the absorbance A ⁇ at a certain wavelength ⁇ is defined by the following equation (Ab1).
  • a ⁇ -log (T ⁇ / 100) ...
  • a ⁇ is the absorbance at the wavelength ⁇ , and T ⁇ is the transmittance (%) at the wavelength ⁇ .
  • the absorbance value may be a value measured in a solution state, or may be a value of a film formed by using a magenta color photosensitive resin composition.
  • a magenta-color photosensitive resin composition is applied onto a glass substrate by a method such as spin coating, dried at 100 ° C. for 2 minutes using a hot plate or the like, and then the light illuminance is 20 mW.
  • I-line exposure under the conditions of / cm 2 and exposure amount 1 J / cm 2 then heating on a hot plate at 100 ° C. for 20 minutes and allowing to cool to room temperature is used for measurement. Is preferable.
  • Absorbance can be measured using a conventionally known spectrophotometer.
  • the maximum value of light transmission in the wavelength range of 400 to 500 nm in the thickness direction of the film is 70% or more.
  • the minimum value of light transmission in the wavelength range of 450 to 600 nm is 30% or less, and the maximum value of light transmission in the wavelength range of 550 to 700 nm is 70% or more, and light transmission in the thickness direction of the film. It is preferable that the wavelength showing a ratio of 50% exists in each of the wavelength range of 450 to 500 nm and the wavelength range of 550 to 600 nm.
  • the maximum value of the light transmittance in the wavelength range of 400 to 500 nm is more preferably 75% or more, further preferably 80% or more.
  • the minimum value of the transmittance of light in the wavelength range of 450 to 600 nm is more preferably 20% or less, further preferably 15% or less, and particularly preferably 10% or less.
  • the maximum value of the transmittance of light in the wavelength range of 550 to 700 nm is more preferably 80% or more, further preferably 90% or more.
  • the wavelength on the short wave side showing a light transmittance of 50% in the thickness direction of the film is more preferably present in the wavelength range of 460 to 495 nm, further preferably in the range of 470 to 495 nm, and 475 to 495 nm.
  • the wavelength on the long wave side showing a light transmittance of 50% in the thickness direction of the film is more preferably present in the wavelength range of 560 to 595 nm, and further preferably present in the range of 570 to 590 nm.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention can be preferably used for a solid-state image sensor. Further, the magenta color photosensitive resin composition of the present invention can be preferably used for a color filter. Specifically, it can be preferably used for forming magenta pixels of a color filter. Further, the magenta color photosensitive resin composition of the present invention can be preferably used for forming magenta color pixels of a color filter used in a solid-state image sensor. Further, the magenta color photosensitive resin composition of the present invention can also be used as a magenta color photosensitive resin composition for photolithography.
  • the magenta color photosensitive resin composition of the present invention contains a coloring material.
  • a magenta color pigment and a magenta color dye are used as the coloring material.
  • the magenta color is a complementary hue of green.
  • the complementary color is a combination of colors having a relationship of being located opposite to each other on the color wheel.
  • the magenta color pigment is a pigment exhibiting a magenta hue
  • the magenta color dye is a dye exhibiting a magenta hue.
  • the magenta color pigment refers to a magenta color pigment compound that is difficult to dissolve in a solvent.
  • the magenta color pigment preferably has a solubility of less than 1 g in 100 g of water at 23 ° C and 100 g of cyclohexanone at 23 ° C.
  • the magenta color dye refers to a magenta color dye compound dissolved in water or an organic solvent.
  • the magenta color dye preferably has a solubility of 1 g or more in 100 g of cyclohexanone at 23 ° C., and more preferably 5 g or more.
  • magenta color pigment examples include pigments having a high absorbance of light having a green wavelength and a low absorbance of light having a red and blue wavelength.
  • the maximum absorption wavelength of the magenta color pigment preferably exists in the wavelength range of 500 to 600 nm, more preferably in the wavelength range of 500 to 590 nm, further preferably in the range of 500 to 585 nm, and more preferably 500. It is particularly preferably present in the range of ⁇ 580 nm.
  • the wavelength having an absorbance of 0.5 exists at 450 nm or more on the shorter wavelength side than the maximum absorption wavelength. It is more preferable that it is present at 460 nm or more, and further preferably it is present at 470 nm or more. Further, in the magenta color pigment used in the present invention, when the absorbance of the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 500 to 600 nm is 1, the wavelength at which the absorbance is 0.5 is 650 nm on the longer wavelength side than the maximum absorption wavelength.
  • the magenta color pigment used in the present invention has a maximum absorption wavelength and a wavelength ⁇ 1 (a wavelength shorter than the maximum absorption wavelength at which the absorbance is 0.5 when the absorbance of the maximum absorption wavelength is 1).
  • the difference between the two is preferably 110 nm or less, more preferably 100 nm or less, and further preferably 90 nm or less.
  • the difference between the wavelength ⁇ 2 (the wavelength longer than the maximum absorption wavelength at which the absorbance is 0.5 when the absorbance of the maximum absorption wavelength is 1) and the maximum absorption wavelength is preferably 110 nm or less.
  • the difference ( ⁇ 2- ⁇ 1) between the wavelength ⁇ 2 and the wavelength ⁇ 1 is preferably 130 nm or less, more preferably 120 nm or less, and more preferably 115 nm or less. It is more preferably 110 nm or less, and particularly preferably 110 nm or less.
  • the magenta color pigment is preferably a compound having a pigment skeleton selected from a quinacridone skeleton, a dioxazine skeleton and a naphthol azo skeleton, and more preferably a compound having a pigment skeleton selected from the quinacridone skeleton and the dioxazine skeleton. It is more preferable that the compound has a quinacridone skeleton as the pigment skeleton for the reason of stability.
  • magenta color pigments include Color Index (CI) Pigment Red 122, C.I. I. Pigment Red 202, C.I. I. Pigment Red 209, C.I. I. Pigment Red 269, C.I. I. Pigment Violet 19, C.I. I. Pigment Violet 23, C.I. I. Pigment Red 122, C.I. I. Pigment Red 202, C.I. I. Pigment Red 209 and C.I. I. Pigment Red 269 is preferred, with C.I. I. Pigment Red 122 is more preferred.
  • CI Color Index
  • the average primary particle size of the magenta color pigment is preferably 50 nm or less, more preferably 47 nm or less, and further preferably 45 nm or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but is preferably 10 nm or more, and more preferably 20 nm or more.
  • the average primary particle size of the magenta color pigment is 50 nm or less, fine pixels (patterns) having excellent linearity can be formed.
  • the average primary particle size of the pigment is obtained by observing the pigment using a transmission electron microscope (for example, JEM-2100F type, a device equivalent to an electric field radiation transmission electron microscope manufactured by JEOL Ltd.). It refers to the number average particle size obtained from the photographs taken.
  • the projected area of the pigment is obtained by the above apparatus, and the equivalent circle diameter of each pigment is obtained from the projected area to calculate the average primary particle size. More specifically, after measuring the equivalent circle diameters of 100 pigments, the equivalent circle diameters of 80 pigments excluding the 10 maximum side and 10 minimum side are arithmetically averaged to average the pigments. Calculate the primary particle size.
  • magenta color dye examples include dyes having a high absorbance of light having a green wavelength and a low absorbance of light having a red and blue wavelength.
  • the magenta dye is preferably a dye having a high absorbance of light in the wavelength range of 500 to 550 nm, a low absorbance of light in the wavelength range of 400 to 480 nm, and a low absorbance of light in the wavelength range of 600 to 700 nm. ..
  • the magenta color dye preferably has ⁇ represented by the following formula (A1) of 150 nm or less, more preferably 100 nm or less, and further preferably 50 nm or less.
  • ⁇ 1 a wavelength on the shorter wavelength side than the maximum absorption wavelength at which the absorbance is 0.5 when the absorbance of the maximum absorption wavelength of the magenta color dye is 1
  • ⁇ 2 is the maximum absorption wavelength of the magenta color dye.
  • the absorbance of is 1, it is a wavelength on the longer wavelength side than the maximum absorption wavelength at which the absorbance is 0.5.
  • the maximum absorption wavelength of the magenta color dye is preferably in the wavelength range of 450 to 600 nm, more preferably in the wavelength range of 475 to 575 nm, and even more preferably in the wavelength range of 500 to 550 nm.
  • the magenta color dye has a ratio (A1 / A2) of 0.2 to 0.
  • the magenta color dye has a ratio (A3 / A2) of 0.3 or less between the maximum value A3 of the absorbance of light in the wavelength range of 600 to 700 nm and the minimum value A2 of the absorbance of light in the wavelength range of 500 to 550 nm.
  • magenta color dye has a ratio (A3 / A1) of 0.1 or less between the maximum value A3 of the absorbance of light in the wavelength range of 600 to 700 nm and the maximum value A1 of the absorbance of light in the wavelength range of 400 to 480 nm. It is preferably 0.03 or less, more preferably 0.02 or less, and even more preferably 0.02 or less.
  • Magenta dye, and absorbance A 440 of wavelength 440nm of light it is preferable that the ratio between the absorbance A 525 of wavelength 525nm of the light (A 440 / A 525) is 0.001 to 0.15 0.005 It is more preferably ⁇ 0.10, and even more preferably 0.01 to 0.05. Further, the magenta color dye, the absorbance A 650 of the light with a wavelength of 650 nm, it is preferable that the ratio between the absorbance A 525 of wavelength 525nm of the light (A 650 / A 525) of 0.2 or less, 0.1 or less Is more preferable, and 0.05 or less is further preferable.
  • magenta dye is preferably a ratio between the absorbance A 650 and wavelength 440nm absorbance A 440 of the light of the light with a wavelength of 650nm (A 650 / A 440) of 0.1 or less, 0.03 or less It is more preferably present, and further preferably 0.02 or less.
  • magenta color dye examples include xanthene compounds, pyrromethene compounds, triarylmethane compounds, quinacridone compounds, cyanine compounds, anthrapyridone compounds, anthraquinone compounds and the like, and xanthene compounds, pyrromethene compounds and tria from the viewpoint of spectroscopic as magenta color.
  • a reelmethane compound is preferable, and a xanthene compound is more preferable.
  • triarylmethane compound examples include compounds represented by the following formula (TP).
  • Rtp 1 to Rtp 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, respectively.
  • Rtp 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or NRtp 9 Rtp 10 (Rtp 9 and Rtp 10 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group).
  • Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 represent substituents.
  • a, b and c represent integers from 0 to 4. a, when b and c is 2 or more, Rtp 6 together, Rtp 7 together and Rtp 8 each other, may be coupled to each other to form a ring.
  • X represents an anion. In the absence of X, at least one of Rtp 1 to Rtp 8 contains anions.
  • Rtp 1 to Rtp 4 are preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a phenyl group.
  • Rtp 5 a hydrogen atom or NRtp 9 Rtp 10 is preferable, and NRtp 9 Rtp 10 is particularly preferable.
  • Rtp 9 and Rtp 10 are preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group.
  • Examples of the substituent represented by Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 include the group mentioned in the substituent T described later and the polymerizable group.
  • X represents a counter anion.
  • the counter anion is not particularly limited. It may be an organic anion or an inorganic anion.
  • the counter anion is preferably an organic anion.
  • the counter anion include a fluorine anion, a chlorine anion, a bromine anion, an iodine anion, a cyanide ion, a perchlorate anion, and a non-nucleophilic anion. From the viewpoint of heat resistance, it is preferably a non-nucleophilic anion.
  • Examples of counter anions include known non-nucleophilic anions described in paragraph No. 0075 of JP-A-2007-310315, the contents of which are incorporated herein.
  • the non-nucleophilic property means a property that the dye is not nucleophilically attacked by heating.
  • an imide anion for example, a bis (sulfonyl) imide anion), a tris (sulfonyl) methyl anion, and an anion having a boron atom are preferable, and a bis (sulfonyl) imide anion and a tris (sulfonyl) methyl anion are more preferable, and a bis (sulfonyl) methyl anion is preferable.
  • a sulfonyl) imide anion is more preferred.
  • anion having a boron atom examples include a tetrafluoroborate anion, a tetraphenylborate anion, and a tetraperfluorophenylborate anion.
  • the molecular weight of the counter anion is preferably 100 to 1000, more preferably 200 to 500.
  • a, b or c each independently represents an integer of 0 to 4.
  • a and c are preferably 0 or 1, respectively, and more preferably 0.
  • b is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 2.
  • formula (TP) if it contains at least one anion of Rtp 1 ⁇ Rtp 7, as the anion, -SO 3 -, -COO -, -PO 4 -, bis (sulfonyl) imide anion, tris (sulfonyl) methide anion And tetraarylborate anions are preferred, bis (sulfonyl) imide anions, tris (sulfonyl) methide anions and tetraarylborate anions are more preferred, and bis (sulfonyl) imide anions and tris (sulfonyl) methide anions are even more preferred.
  • a structure in which at least one of Rtp 1 to Rtp 7 is replaced by the formula (P) can be mentioned.
  • L represents a single bond or a divalent linking group
  • X 1 represents an anion.
  • L represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group it is preferable to represent -NR 10- , -O-, -SO 2- , an alkylene group containing a fluorine atom, an arylene group containing a fluorine atom, or a group consisting of a combination thereof.
  • a group consisting of a combination of -NR 10- and -SO 2 and an alkylene group containing a fluorine atom a group consisting of a combination of -O- and an arylene group containing a fluorine atom, or -NR 10- and -SO.
  • a group consisting of a combination of 2 and an alkylene group containing a fluorine atom is preferable.
  • R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a hydrogen atom is preferable.
  • the carbon number of the alkylene group containing a fluorine atom is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 3.
  • These alkylene groups are more preferably perfluoroalkylene groups.
  • Specific examples of the fluorine-substituted alkylene group include a difluoromethylene group, a tetrafluoroethylene group, and a hexafluoropropylene group.
  • the arylene group containing a fluorine atom preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, and even more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • Specific examples of the arylene group containing a fluorine atom include a tetrafluorophenylene group, a hexafluoro-1-naphthylene group, a hexafluoro-2-naphthylene group and the like.
  • X 1 represents an anion, -SO 3 -, -COO -, -PO 4 H -, 1 selected from bis (sulfonyl) imide anion, tris (sulfonyl) methide anion and tetraarylborate anion Species are preferred, one selected from bis (sulfonyl) imide anion, tris (sulfonyl) methide anion and tetraarylborate anion is more preferred, and bis (sulfonyl) imide anion or tris (sulfonyl) methide anion is even more preferred.
  • Rtp 1 to Rtp 8 contains an anion
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and is preferably a single bond.
  • the divalent linking group represented by L 1 include an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, —O—, —S—, or a group composed of a combination thereof.
  • L 2 represents -SO 2- or -CO-.
  • G represents a carbon atom or a nitrogen atom.
  • n1 represents 2 when G is a carbon atom and represents 1 when G is a nitrogen atom.
  • R 6 represents an alkyl group containing a fluorine atom or an aryl group containing a fluorine atom. If n1 is 2, the two R 6 may each be the same or different.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group containing a fluorine atom represented by R 6 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and even more preferably 1 to 3.
  • the number of carbon atoms of the aryl group containing a fluorine atom represented by R 6 is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.
  • substituent T examples include the following groups.
  • Halogen atoms eg, fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, iodine atoms
  • alkyl groups preferably alkyl groups with 1 to 30 carbon atoms
  • alkenyl groups preferably alkenyl groups with 2 to 30 carbon atoms
  • alkynyl groups Preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms), an amino group (preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 0 to 30 carbon atoms).
  • alkoxy groups 1 to 30 alkoxy groups
  • aryloxy groups preferably aryloxy groups having 6 to 30 carbon atoms
  • heteroaryloxy groups acyl groups (preferably acyl groups having 2 to 30 carbon atoms), alkoxycarbonyl groups (preferably 2 to 30 carbon atoms).
  • alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryloxycarbonyl group preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms
  • a heteroaryloxycarbonyl group an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 2 to 30 carbon atoms).
  • Arylamino group preferably acylamino group having 2 to 30 carbon atoms
  • alkoxycarbonylamino group preferably alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms
  • aryloxycarbonylamino group preferably 7 to 30 carbon atoms.
  • Aryloxycarbonylamino group preferably sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms
  • carbamoyl group preferably carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkylthio group preferably alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms
  • Arylthio groups preferably arylthio groups having 6 to 30 carbon atoms
  • heteroarylthio groups preferably 1 to 30 carbon atoms
  • alkylsulfonyl groups preferably 1 to 30 carbon atoms
  • arylsulfonyl groups preferably 1 to 30 carbon atoms
  • heteroarylsulfonyl groups preferably 1 to 30 carbon atoms
  • alkylsulfinyl groups preferably 1 to 30 carbon atoms
  • arylsulfinyl groups preferably 6 to 30 carbon atoms
  • heteroarylsulfinyl Group preferably 1 to 30 carbon atoms
  • aryled group preferably 1 to 30 carbon atoms
  • hydroxy group carboxyl group, carboxyl group salt, sulfo group, sulfo group salt, phosphoric acid group, phosphoric acid group.
  • Salts carboxylic acid amide groups, sulfonic acid amide groups, imide acid groups, mercapto groups, cyano groups, alkylsulfino groups, arylsulfino groups, hydradino groups, imino groups, heteroaryl groups (preferably 1 to 30 carbon atoms). ..
  • the carboxyl group salt, sulfo group salt, and phosphate group salt the atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K +, etc.) and alkaline earth metal ions (Alkaline earth metal ions).
  • triarylmethane compound examples include the compounds described in JP-A-2016-102191 and the compounds described in Examples described later.
  • Examples of the xanthene compound include a compound represented by the following formula (XT).
  • Rxt 1 , Rxt 2 , Rxt 3 and Rxt 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, Rxt 5 represents a substituent, and m represents an integer from 0 to 5.
  • X represents a counter anion. In the absence of X, at least one of Rxt 1 to Rxt 5 contains an anion.
  • Substituents that can be taken by Rxt 1 to Rxt 5 in the formula (XT) include the group mentioned in the above-mentioned substituent T, the polymerizable group, and the group represented by the following formula (xt-1). It is preferable that Rxt 1 and Rxt 3 are independently aryl groups or alkyl groups, respectively. Further, it is preferable that Rxt 2 and Rxt 4 are independently hydrogen atoms or alkyl groups, respectively. Further, the above-mentioned alkyl group and aryl group may further have a substituent. Further examples of the substituent include the group mentioned in the above-mentioned substituent T, the polymerizable group, and the group represented by the following formula (xt-1).
  • Rxt 100 represents an alkanediyl group having 1 to 10 carbon atoms
  • -CH 2 constituting the alkanediyl group - is, -O -, - CO -, - NRs 10 -, - OCO -, -COO-, -OCONH-, -CONH- or -NHCO- may be substituted
  • Rs 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
  • Rs 1 to Rs 3 independently represent a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
  • * Represents a bond with a nitrogen atom of the formula (XT).
  • Rxt 1 and Rxt 2 , Rxt 3 and Rxt 4 in equation (XT) , and Rxt 5 when m is 2 or more are independently coupled to each other and are 5-, 6-, or 7-membered saturated rings. , Or may form a 5-membered, 6-membered or 7-membered unsaturated ring.
  • Examples of the ring to be formed include a pyrrole ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a cyclopentene ring, a cyclohexene ring, a benzene ring and a pyridine ring.
  • Examples thereof include a pyrazine ring and a pyridazine ring, preferably a benzene ring and a pyridine ring.
  • the ring formed may further have the group mentioned in the above-mentioned substituent T, the polymerizable group, the group represented by the above-mentioned formula (xt-1), and the like.
  • X represents a counter anion.
  • the counter anion include the counter anion described by the above formula (TP).
  • at least one of Rxt 1 to Rxt 5 contains an anion.
  • the anion when at least one of Rxt 1 to Rxt 5 contains an anion, the anion includes the anion described in the above formula (TP).
  • the xanthene compound is also preferably a compound represented by the formula (XT1) or a compound represented by the formula (XT2).
  • Rxt 11 and Rxt 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • Rxt 21 to Rxt 24 each independently represent an alkyl group
  • Rxt 25 to Rxt 27 each independently represent a hydrogen atom.
  • Rxt 31 to Rxt 34 each independently represent an alkyl group
  • Rxt 35 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • the alkyl group represented by the formula (XT1) Rxt 11 , Rxt 12 , Rxt 21 , Rxt 22 , Rxt 23 and Rxt 24 preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • the above alkyl group may have a substituent.
  • Examples of the further substituent include the group mentioned in the above-mentioned substituent T, the polymerizable group, and the group represented by the above formula (xt-1), and a carboxyl group is preferable.
  • Examples of the substituent represented by Rxt 25 to Rxt 27 of the formula (XT1) include the group mentioned in the above-mentioned substituent T, the polymerizable group, and the group represented by the above formula (xt-1).
  • the alkyl group represented by the formula (XT2) Rxt 31 to Rxt 34 preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • the above alkyl group may have a substituent.
  • Examples of the further substituent include the group mentioned in the above-mentioned substituent T, the polymerizable group, and the group represented by the above formula (xt-1), and a carboxyl group is preferable.
  • Examples of the substituent represented by Rxt 35 of the formula (XT2) include the group mentioned by the above-mentioned substituent T, the polymerizable group, and the group represented by the above formula (xt-1).
  • xanthene compound examples include the compound described in JP-A-2016-027075, the compound described in JP-A-2016-102191, and paragraph Nos. 0091 to 0109 of International Publication No. 2020/195962. Examples thereof include the compounds described above and the compounds described in Examples described later.
  • Examples of the pyrromethene compound include a compound represented by the formula (PM), a metal complex compound formed from a compound represented by the formula (PM) and a metal or a metal compound, and the like.
  • Rpm 1 to Rpm 6 independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • Rpm 7 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
  • Alkyl groups, aryl groups and heterocyclic groups may have substituents.
  • Examples of the substituents represented by Rpm 1 to Rpm 6 and the substituents that the alkyl group, aryl group and heterocyclic group may have include the group mentioned in the above-mentioned substituent T and the polymerizable group. ..
  • the metal or the metal compound may be any metal atom or metal compound capable of forming a complex with the compound represented by the formula (PM), and is a divalent metal atom or a divalent metal oxide.
  • Examples include divalent metal hydroxides and divalent metal chlorides.
  • pyrromethene compound examples include the compounds described in JP-A-2014-132348 and the compounds described in Examples described later.
  • magenta color dye it is also preferable to use a compound having a polymerizable group.
  • the polymerizable group include an ethylenically unsaturated bond-containing group such as a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • the magenta color dye is a dye multimer.
  • a dye multimer is a compound having two or more dye structures in one molecule.
  • the dye multimer is preferably a compound having 3 or more dye structures.
  • the upper limit of the number of dye structures is not particularly limited, but may be 100 or less.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the dye multimer is preferably 2000 to 50,000.
  • the lower limit is more preferably 3000 or more, and even more preferably 6000 or more.
  • the upper limit is more preferably 30,000 or less, and even more preferably 20,000 or less.
  • the dye multimer includes a dye multimer having a repeating unit represented by the formula (A) (hereinafter, also referred to as a dye multimer (A)) and a dye multimer having a repeating unit represented by the formula (B) (hereinafter, also referred to as a dye multimer (A)).
  • a dye multimer also referred to as a dye multimer (B)
  • a dye multimer having a repeating unit represented by the formula (C) hereinafter, also referred to as a dye multimer (C)
  • D dye mass represented by the formula
  • Examples thereof include a body (hereinafter, also referred to as a dye multimer (D)), and a dye multimer (A) or a dye multimer (D) is preferable.
  • the dye multimer (A) contains a repeating unit represented by the formula (A).
  • the ratio of the repeating unit represented by the formula (A) is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more of all the repeating units constituting the dye multimer (A). 50% by mass or more is particularly preferable.
  • the upper limit may be 100% by mass or less, or 95% by mass or less.
  • X 1 represents the backbone of the repeating unit
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group
  • D 1 represents the dye structure.
  • X 1 represents the backbone of the repeating unit.
  • Examples of X 1 include a linking group formed by a polymerization reaction, and a main chain derived from a compound having a (meth) acryloyl group, a styrene group, a vinyl group and an ether group is preferable. Further, an embodiment in which the main chain has a cyclic alkylene group is also preferable.
  • X 1 is not particularly limited as long as it is a linking group formed from a known polymerizable monomer.
  • the linking groups represented by the following (XX-1) to (XX-25) are preferable, and (XX-1), (XX-2), (XX-10) to (XX-17), (XX-18). , (XX-19), (XX-24) and (XX-25), more preferably selected from (XX-1), (XX-2), (XX-10) to (XX-17). , (XX-24) and (XX-25) are more preferred.
  • * is a binding site with L 1 in the formula (A).
  • Me represents a methyl group.
  • R in (XX-18) and (XX-19) represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group.
  • L 1 represents a single bond or a divalent linking group.
  • -, - COO -, - NR -, - CONR -, - OCO -, - SO -, - SO 2 - is and linking group formed by linking two or more of these and the like.
  • R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms.
  • the upper limit is more preferably 25 or less, and even more preferably 20 or less.
  • the lower limit is more preferably 2 or more, and even more preferably 3 or more.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the alkylene group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the arylene group preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the arylene group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the heterocyclic linking group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hetero atom contained in the heterocyclic linking group is preferably an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms contained in the heterocyclic linking group is preferably 1 to 3.
  • the heterocyclic linking group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • D 1 represents the dye structure.
  • the pigment structure represented by D 1 include a xanthene pigment structure, a pyrromethene pigment structure, a triarylmethane pigment structure, a quinacridone pigment structure, a cyanine pigment structure, an anthraquinone pigment structure, and the like, and include a xanthene pigment structure, a pyrromethene pigment structure, and a triarylmethane. It is preferably a dye structure, and more preferably a xanthene dye structure.
  • the xanthene dye structure is preferably a residue obtained by removing one or more hydrogen atoms from the compound represented by the above formula (XT).
  • the pyrromethene dye structure is preferably a residue obtained by removing one or more hydrogen atoms from the compound represented by the above formula (PM).
  • the triarylmethane dye structure is preferably a residue obtained by removing one or more hydrogen atoms from the compound represented by the above formula (TP).
  • the dye multimer (A) may contain other repeating units in addition to the repeating unit represented by the formula (A).
  • the other repeating unit include a repeating unit having a polymerizable group, a repeating unit having an acid group, and the like.
  • the polymerizable group include an ethylenically unsaturated bond-containing group such as a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • the acid group include a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.
  • the ratio of the repeating unit having a polymerizable group is preferably 50% by mass or less of all the repeating units constituting the dye multimer (A).
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 35% by mass or less, more preferably 30% by mass or less.
  • the ratio of the repeating unit having an acid group is preferably 50% by mass or less of all the repeating units constituting the dye multimer (A).
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 35% by mass or less, more preferably 30% by mass or less.
  • the dye multimer (B) contains a repeating unit represented by the formula (B).
  • the ratio of the repeating unit represented by the formula (B) is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more of all the repeating units constituting the dye multimer (B). 50% by mass or more is particularly preferable.
  • the upper limit may be 100% by mass or less, or 95% by mass or less.
  • X 2 represents the main chain of the repeating unit
  • L 2 represents a single bond or a divalent linking group
  • D 2 represents a dye structure having an ionic bond or a coordinate bond with Y 2.
  • Y 2 represents a group that can be ionic or coordinated to D 2;
  • X 2 has the same meaning as X 1 of the formula (A), and the preferred range is also the same.
  • L 2 represents a single bond or a divalent linking group.
  • R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.
  • the details of the divalent linking group are the same as those of L 1 of the formula (A).
  • L 2 is preferably a single bond or a alkylene group, an arylene group, -NH-, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, and a divalent linking group in which two or more of these are combined.
  • Y 2 may be a group capable of ionic bond or coordinate bond with D 2.
  • anionic group, cationic group and the like can be mentioned.
  • examples of the anionic group -SO 3 -, -COO -, -PO 4 2-, -PO 4 H -, bis (sulfonyl) imide anion, and tris (sulfonyl) methide anion and tetraarylborate anions.
  • the cationic group include substituted or unsubstituted onium cations (for example, ammonium, pyridinium, imidazolium, phosphonium, etc.), and ammonium cations are particularly preferable.
  • the ammonium cation, -N (R) 3 + and the like Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, and at least one of R represents an alkyl group.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 5.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but a linear group is preferable.
  • D 2 represents a dye structure having a group capable of ionic bond or coordinate bond with Y 2.
  • the type of dye structures particularly limited include kinds of dyes structure described in no D 1.
  • Examples of the group of D 2 capable of ionic bond or coordinate bond with Y 2 include the anionic group and the cationic group described in Y 2. Also, if the balance of charge D 2 is biased to one of the cation and anion, the cation portion or the anion portion of the D 2, can also be combined with Y 2.
  • the dye multimer (B) may contain other repeating units described in the dye multimer (A) in addition to the repeating unit represented by the formula (B). Further, the repeating unit represented by the above-mentioned formula (A) and the repeating unit represented by the formula (C) described later may be further included.
  • the dye multimer (C) contains a repeating unit represented by the formula (C).
  • the ratio of the repeating unit represented by the formula (C) is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, still more preferably 30% by mass or more of all the repeating units constituting the dye multimer (C). 50% by mass or more is particularly preferable.
  • the upper limit may be 100% by mass or less, or 95% by mass or less.
  • L 3 represents a single bond or a divalent linking group
  • D 3 represents a dye structure
  • m represents 0 or 1.
  • L 3 represents a single bond or a divalent linking group.
  • -, - COO -, - NR -, - CONR -, - OCO -, - SO -, - SO 2 - is and linking group formed by linking two or more of these and the like.
  • R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group and the alkylene group is preferably 1 to 30.
  • the upper limit is more preferably 25 or less, and even more preferably 20 or less.
  • the lower limit is more preferably 2 or more, and even more preferably 3 or more.
  • the alkyl group and the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the aryl group and arylene group preferably have 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the heterocyclic linking group and the heterocyclic group are preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the heterocyclic linking group and the heteroatom contained in the heterocyclic group are preferably an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms contained in the heterocyclic linking group and the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the alkylene group, arylene group, heterocyclic linking group, alkyl group, aryl group, and heterocyclic group may be unsubstituted or have a substituent. Examples of the substituent include a polymerizable group and an acid group.
  • L 3 represents an alkylene group, an arylene group, -NH -, - CO -, - O -, - COO -, - OCO -, - S- and linking group combining two or more.
  • D 3 represents the dye structure.
  • the type of dye structures, particularly limited include kinds of dyes structure described in no D 1.
  • m represents 0 or 1, and 1 is preferable.
  • the dye multimer (C) may contain other repeating units described in the dye multimer (A) in addition to the repeating unit represented by the general formula (C).
  • the dye multimer (D) is a compound represented by the formula (D).
  • L 4 represents a (n + k) -valent linking group
  • L 41 and L 42 independently represent a single bond or a divalent linking group
  • D 4 represents a dye structure
  • P. 4 represents a substituent
  • n represents 2 to 15, k represents 0 to 13, and n + k represents 2 to 15.
  • n-number of D 4 may be different from each other, it may be identical.
  • k is 2 or more, a plurality of P 4 may be different from each other, it may be identical.
  • N is preferably 2 to 14, more preferably 2 to 8, particularly preferably 2 to 7, and even more preferably 2 to 6.
  • k is preferably 1 to 13, more preferably 1 to 10, still more preferably 1 to 8, particularly preferably 1 to 7, and even more preferably 1 to 6.
  • L 41 and L 42 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group includes 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and 0 atoms. It contains a group consisting of up to 20 sulfur atoms and may be unsubstituted or have a further substituent.
  • the divalent linking group may be a group composed of the following structural units or a combination of two or more of the following structural units. * In the following formula represents a bond.
  • the (n + k) valence linking group represented by L 4 includes 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, and 1 to 200 carbon atoms. It contains a group consisting of a hydrogen atom and 0 to 20 sulfur atoms.
  • Examples of the (n + k) -valent linking group include a group composed of the following structural units or a combination of two or more of the following structural units (which may form a ring structure). * In the following formula represents a bond.
  • (n + k) -valent linking group examples include the linking group described in paragraph numbers 0071 to 0072 of JP-A-2008-22950 and the linking group described in paragraph number 0176 of JP-A-2013-029760. Can be mentioned.
  • D 4 represents a dye structure.
  • the type of dye structures, particularly limited include kinds of dyes structure described in no D 1.
  • examples of the substituent represented by P 4 include an acid group and a polymerizable group. Further, the substituent represented by P 4 may be a monovalent polymer chain having a repeating unit.
  • the monovalent polymer chain having a repeating unit is preferably a monovalent polymer chain having a repeating unit derived from a vinyl compound. If k is 2 or more, k number of P 4 may be the same, may be different.
  • magenta dye examples include the compounds described in Examples described later; C. I. Acid Red 1,6,8,9,13,14,18,26,27,32,35,37,42,51,52,57,75,77,80,82,85,87,88,89, 92,94,97,106,111,114,115,117,118,119,129,130,131,133,134,138,143,145,154,155,158,168,180,183,184 186,194,198,209,211,215,219,249,252,254,262,265,274,282,289,303,317,320,321,322, C.I. I.
  • C. I. Food Red 7, 9, 14 and the like can be mentioned.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention may contain a coloring material having a hue other than the magenta color.
  • a coloring material having a hue other than magenta examples include a green color material, a red color material, a purple color material, a blue color material, an orange color material, and a black color material.
  • the color material having a hue other than magenta may be a pigment or a dye.
  • the content of the coloring material in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is 30% by mass or more, preferably 35% by mass or more, and more preferably 40% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less, from the viewpoint of suppressing development residue, resolution and surface roughness.
  • the total content of the magenta pigment and the magenta dye in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is 30% by mass or more, preferably 35% by mass or more, from the viewpoint of spectral characteristics. It is more preferably 40% by mass or more, and further preferably 45% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less, from the viewpoint of suppressing development residue, resolution and surface roughness.
  • the content of the magenta color dye in the coloring material contained in the magenta color photosensitive resin composition is 20% by mass or more.
  • the content of the magenta color dye in the coloring material is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and more preferably 45% by mass from the viewpoint of spectral characteristics, resolution and suppression of surface roughness.
  • the above is more preferable, 50% by mass or more is further preferable, and 55% by mass or more is particularly preferable.
  • the content of the magenta color dye in the coloring material is preferably 97% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, and further preferably 85% by mass or less from the viewpoint of suppressing the development residue. preferable.
  • the ratio of the magenta pigment to the magenta dye in the magenta photosensitive resin composition is magenta with respect to 100 parts by mass of the magenta dye from the viewpoints of spectral characteristics, suppression of development residue, resolution and suppression of surface roughness.
  • the color pigment is preferably 5 to 400 parts by mass.
  • the lower limit is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 15 parts by mass or more, further preferably 20 parts by mass or more, and more preferably 30 parts by mass or more from the viewpoint of suppressing the development residue. It is more preferably 50 parts by mass or more, and particularly preferably 50 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 300 parts by mass or less, more preferably 250 parts by mass or less, still more preferably 200 parts by mass or less, and 150 parts by mass, from the viewpoint of spectral characteristics, resolution and suppression of surface roughness. It is more preferably parts by mass or less, and particularly preferably 100 parts by mass or less.
  • the magenta color photosensitive resin composition does not substantially contain a pigment other than the magenta color pigment (a pigment having a hue other than the magenta color) from the viewpoint of spectral characteristics.
  • a pigment other than the magenta color pigment a pigment having a hue other than the magenta color
  • the content of the magenta color pigment in the pigment contained in the magenta color photosensitive resin composition is 99% by mass or more. That is, it is preferably 99.9% by mass or more, and it is more preferable that the pigment contained in the magenta color photosensitive resin composition is only the magenta color pigment.
  • the magenta color photosensitive resin composition does not substantially contain a dye other than the magenta color dye (a dye having a hue other than the magenta color) from the viewpoint of spectral characteristics.
  • a dye other than the magenta color dye a dye having a hue other than the magenta color
  • the content of the magenta color dye in the dye contained in the magenta color photosensitive resin composition is 99% by mass or more. This means that the content is preferably 99.9% by mass or more, and more preferably the magenta color dye is the only dye contained in the magenta color photosensitive resin composition.
  • the total content of the magenta color pigment and the magenta color dye in the coloring material contained in the magenta color photosensitive resin composition is preferably 40% by mass or more, preferably 50% by mass or more, from the viewpoint of spectral characteristics. It is more preferably 60% by mass or more, further preferably 70% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more. It is particularly preferable that the coloring material contained in the magenta photosensitive resin composition is substantially only a magenta pigment and a magenta dye.
  • the total content of the magenta color pigment and the magenta color dye in the color material is It means that it is 99% by mass or more, preferably 99.9% by mass or more, and more preferably that the coloring material contained in the magenta color photosensitive resin composition is only a magenta color pigment and a magenta color dye. ..
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention preferably contains a pigment derivative.
  • the pigment derivative include compounds having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to a pigment skeleton.
  • the pigment skeletons constituting the pigment derivatives include quinoline pigment skeleton, benzoimidazolone pigment skeleton, benzoisoindole pigment skeleton, benzothiazole pigment skeleton, iminium pigment skeleton, squarylium pigment skeleton, croconium pigment skeleton, oxonol pigment skeleton, and pyrolopyrrole pigment.
  • Examples of the acid group include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphoric acid group and salts thereof.
  • alkali metal ions Li + , Na + , K +, etc.
  • alkaline earth metal ions Ca 2+ , Mg 2+, etc.
  • ammonium ions imidazolium ions, pyridinium ions, etc.
  • Examples include phosphonium ion.
  • Examples of the basic group include an amino group, a pyridinyl group and a salt thereof, a salt of an ammonium group, and a phthalimidemethyl group.
  • Examples of the atom or atomic group constituting the salt include hydroxide ion, halogen ion, carboxylic acid ion, sulfonic acid ion, and phenoxide ion.
  • pigment derivative examples include the compounds described in Examples described later, JP-A-56-118462, JP-A-63-246674, JP-A-01-217077, and JP-A-03-009961.
  • Japanese Patent Laid-Open No. 03-026767 Japanese Patent Application Laid-Open No. 03-153780
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 03-045662 Japanese Patent Application Laid-Open No. 04-285669
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-145546 Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-212088, Kaihei 06-240158
  • Japanese Patent Laid-Open No. 10-030063 Japanese Patent Laid-Open No. 10-195326
  • Paragraph Nos Japanese Patent Laid-Open Nos.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 3 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the magenta color pigment.
  • the total content of the magenta color pigment and the pigment derivative is preferably 5.1 to 520 parts by mass, more preferably 20 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the magenta color dye. It is preferably 50 to 130 parts by mass, and more preferably 50 to 130 parts by mass.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention contains a resin.
  • the resin is blended, for example, for the purpose of dispersing a pigment or the like in a magenta-color photosensitive resin composition or for a binder.
  • a resin mainly used for dispersing a pigment or the like in a magenta photosensitive resin composition is also referred to as a dispersant.
  • such an application of the resin is an example, and the resin can be used for purposes other than such an application.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2000 to 2000000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 3000 or more, and more preferably 5000 or more.
  • the resin examples include (meth) acrylic resin, epoxy resin, en-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, and polyimide resin.
  • examples thereof include polyamide imide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, and styrene resin. One of these resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention preferably contains a resin having an acid group.
  • the acid group include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group. These acid groups may be only one kind or two or more kinds.
  • the resin having an acid group can also be used as a dispersant. Further, as the resin having an acid group, the alkali-soluble resin described in JP-A-2017-173787 can also be used.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 500 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH / g or more, and more preferably 70 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH / g or less, more preferably 200 mgKOH / g or less, further preferably 150 mgKOH / g or less, and most preferably 120 mgKOH / g or less.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention preferably contains a resin having a basic group.
  • the resin having a basic group is preferably a resin containing a repeating unit having a basic group in the side chain, and has both a repeating unit having a basic group in the side chain and a repeating unit not containing a basic group.
  • a polymer is more preferable, and a block copolymer having a repeating unit having a basic group in the side chain and a repeating unit not containing a basic group is further preferable.
  • a resin having a basic group can also be used as a dispersant.
  • the amine value of the resin having a basic group is preferably 5 to 300 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably 10 mgKOH / g or more, and more preferably 20 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 200 mgKOH / g or less, and more preferably 100 mgKOH / g or less.
  • Examples of the basic group contained in the resin having a basic group include a group represented by the following formula (a-1) and a group represented by the following formula (a-2).
  • Ra1 and Ra2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Ra1 and Ra2 may be bonded to each other to form a ring;
  • R a11 represents a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an acyl group or an oxy radical
  • R a12 ⁇ R a19 are each independently , Hydrogen atom, alkyl group or aryl group.
  • R a1, R a2, R a11 number of carbon atoms of the alkyl group represented by ⁇ R a19 is 1-30, more preferably 1-15, more preferably 1-8, particularly preferably 1-5.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent.
  • R a1, R a2, R a11 ⁇ number of carbon atoms of the aryl group R a19 represents is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • the aryl group may have a substituent.
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group R a11 represents 1 to 30, more preferably 1 to 15, more preferably 1-8, particularly preferably 1-5.
  • the alkoxy group may have a substituent.
  • the aryloxy group represented by R a11 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryloxy group may have a substituent.
  • the number of carbon atoms of the acyl group represented by R a11 is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, and even more preferably 2 to 12.
  • the acyl group may have a substituent.
  • the resin having a basic group is described in the block copolymers (B) described in paragraphs 0063 to 0112 of JP2014-219665A and paragraphs 0046 to 0076 of JP-A-2018-156021.
  • the block copolymer A1 which has been prepared can also be used, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention contains a resin having an acid group and a resin having a basic group, respectively. According to this aspect, the storage stability of the magenta photosensitive resin composition can be further improved.
  • the content of the resin having a basic group may be 20 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin having an acid group. It is preferably 30 to 300 parts by mass, more preferably 50 to 200 parts by mass.
  • the resin contains a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimer”). It is also preferable to contain a resin.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168539 can be referred to.
  • paragraph number 0317 of JP2013-209760A can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • the resin contains a resin containing a repeating unit having a polymerizable group.
  • the resin preferably contains a resin containing a repeating unit derived from the compound represented by the formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0 to 15.
  • the alkylene group represented by R 21 and R 22 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, further preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 2 or 3 carbon atoms.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, and even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by the formula (X) include ethylene oxide of paracumylphenol or propylene oxide-modified (meth) acrylate.
  • Examples of commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the resin contains a resin having an aromatic carboxyl group (hereinafter, also referred to as resin Ac).
  • the aromatic carboxyl group may be contained in the main chain of the repeating unit or may be contained in the side chain of the repeating unit.
  • the aromatic carboxyl group is preferably contained in the main chain of the repeating unit.
  • an aromatic carboxyl group is a group having a structure in which one or more carboxyl groups are bonded to an aromatic ring.
  • the number of carboxyl groups bonded to the aromatic ring is preferably 1 to 4, and more preferably 1 to 2.
  • the resin Ac is preferably a resin containing at least one repeating unit selected from the repeating unit represented by the formula (Ac-1) and the repeating unit represented by the formula (Ac-2).
  • Ar 1 represents a group containing an aromatic carboxyl group
  • L 1 represents -COO- or -CONH-
  • L 2 represents a divalent linking group
  • Ar 10 represents a group containing an aromatic carboxyl group
  • L 11 represents -COO- or -CONH-
  • L 12 represents a trivalent linking group
  • P 10 represents a polymer. Represents a chain.
  • Examples of the group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 1 in the formula (Ac-1) include a structure derived from an aromatic tricarboxylic acid anhydride, a structure derived from an aromatic tetracarboxylic acid anhydride, and the like.
  • Examples of the aromatic tricarboxylic acid anhydride and the aromatic tetracarboxylic acid anhydride include compounds having the following structures.
  • Q 1 is represented by a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2- , -C (CF 3 ) 2- , and the following formula (Q-1). Represents a group to be used or a group represented by the following formula (Q-2).
  • the group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 1 may have a polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group or a cyclic ether group, and more preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • Specific examples of the group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 1 include a group represented by the formula (Ar-11), a group represented by the formula (Ar-12), and a group represented by the formula (Ar-13). Examples include the base.
  • n1 represents an integer of 1 to 4, preferably 1 or 2, and more preferably 2.
  • n2 represents an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2, and even more preferably 2.
  • n3 and n4 each independently represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 1 or 2, and preferably 1. More preferred. However, at least one of n3 and n4 is an integer of 1 or more.
  • Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2- , -C (CF 3 ) 2- , the above formula (Q-). It represents a group represented by 1) or a group represented by the above formula (Q-2).
  • L 1 represents -COO- or -CONH-, and preferably -COO-.
  • the divalent linking group represented by L 2 in the formula (Ac-1) includes an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- and these.
  • a group that combines two or more of the above can be mentioned.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and even more preferably 1 to 15 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the arylene group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • the alkylene group and the arylene group may have a substituent.
  • the substituent include a hydroxy group and the like.
  • the divalent linking group L 2 represents is preferably a group represented by -L 2a -O-.
  • L 2a is an alkylene group; an arylene group; a group in which an alkylene group and an arylene group are combined; at least one selected from an alkylene group and an arylene group, and —O—, —CO—, —COO—, —OCO—, Examples thereof include a group in which at least one selected from —NH— and —S— is combined, and an alkylene group is preferable.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and even more preferably 1 to 15 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the alkylene group and the arylene group may have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxy group and the like.
  • the group containing the aromatic carboxyl group represented by Ar 10 in the formula (Ac-2) has the same meaning as Ar 1 in the formula (Ac-1), and the preferred range is also the same.
  • L 11 represents -COO- or -CONH-, and preferably -COO-.
  • the trivalent linking group represented by L 12 in the formula (Ac-2) includes a hydrocarbon group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- and two of these.
  • a group that combines species or more can be mentioned.
  • the hydrocarbon group include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and even more preferably 1 to 15.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic.
  • the number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 10.
  • the hydrocarbon group may have a substituent.
  • substituent include a hydroxy group and the like.
  • the trivalent linking group represented by L 12 is preferably a group represented by the formula (L12-1), and more preferably a group represented by the formula (L12-2).
  • L 12b represents a trivalent linking group
  • X 1 represents S
  • * 1 represents the bonding position with L 11 in the formula (Ac-2)
  • * 2 represents the bonding position with L 11 in the formula (Ac-2). It represents a bonding position to P 10 of the Ac-2).
  • the trivalent linking group represented by L 12b is a hydrocarbon group; a hydrocarbon group and at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- and -S-. Examples thereof include a group in which the above is combined with, and a hydrocarbon group or a group in which a hydrocarbon group and —O— are combined is preferable.
  • L 12c represents a trivalent linking group
  • X 1 represents S
  • * 1 represents the bonding position with L 11 of the formula (Ac-2)
  • * 2 represents the binding position of the formula (L12-2). It represents a bonding position to P 10 of the Ac-2).
  • the trivalent linking group represented by L 12c is a hydrocarbon group; a hydrocarbon group and at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- and -S-. Examples thereof include a group in which the above is combined, and a hydrocarbon group is preferable.
  • P 10 represents a polymer chain.
  • the polymer chain represented by P 10 preferably has at least one repeating unit selected from poly (meth) acrylic repeating units, polyether repeating units, polyester repeating units and polyol repeating units.
  • the weight average molecular weight of the polymer chain P 10 is preferably 500 to 20000.
  • the lower limit is preferably 1000 or more.
  • the upper limit is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and even more preferably 3000 or less.
  • the weight average molecular weight of P 10 is in the above range, the dispersibility of the pigment in the composition is good.
  • the resin having an aromatic carboxyl group is a resin having a repeating unit represented by the formula (Ac-2), this resin is preferably used as a dispersant.
  • the resin preferably contains a resin as a dispersant.
  • the dispersant include an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) a resin having an acid group content of 70 mol% or more is preferable when the total amount of the acid group and the basic group is 100 mol%.
  • the acid group of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 10 to 105 mgKOH / g.
  • the basic dispersant represents a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
  • a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% is preferable when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%.
  • the basic group contained in the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant is a graft resin.
  • the description in paragraphs 0025 to 0094 of JP2012-255128A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin having an aromatic carboxyl group (resin Ac).
  • resin Ac resin having an aromatic carboxyl group
  • examples of the resin having an aromatic carboxyl group include those described above.
  • the resin used as the dispersant is a polyimine-based dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the polyimine-based dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group of pKa14 or less, a side chain having 40 to 10,000 atoms, and a basic nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the resin to have is preferable.
  • the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP2012-255128A can be referred to, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • the resin used as the dispersant is a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core portion.
  • resins include dendrimers (including star-shaped polymers).
  • specific examples of the dendrimer include the polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP2013-043962.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain.
  • the content of the repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, and 20 to 70 in all the repeating units of the resin. It is more preferably mol%.
  • the resin described in JP-A-2018-087939 can also be used as the dispersant.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include DISPERBYK series manufactured by Big Chemie Japan, SOLSPERSE series manufactured by Japan Lubrizol, Efka series manufactured by BASF, and Ajinomoto Fine Techno (Ajinomoto Fine Techno). Examples include the Ajispar series manufactured by Co., Ltd. Further, the product described in paragraph number 0129 of JP2012-137564A and the product described in paragraph number 0235 of JP2017-194662 can also be used as a dispersant.
  • the dispersant includes block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraphs 0219 to 0221 of Japanese Patent No. 6432077, and resins described in JP-A-2018-087939.
  • Polymers, block polymers having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-066688, dispersants described in International Publication No. 2016/104803, and the like can also be used.
  • the content of the resin in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 1 to 60% by mass.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, further preferably 15% by mass or more, and particularly preferably 20% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less.
  • the magenta color photosensitive resin composition of the present invention may contain only one kind of resin, or may contain two or more kinds of resins. When two or more kinds of resins are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention contains a polymerizable compound.
  • a polymerizable compound a known compound that can be crosslinked by radicals, acids or heat can be used.
  • the polymerizable compound is preferably, for example, a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • the polymerizable compound used in the present invention is preferably a radically polymerizable compound.
  • the polymerizable compound may be in any chemical form such as a monomer, a prepolymer or an oligomer, but a monomer is preferable.
  • the molecular weight of the polymerizable compound is preferably 100 to 3000.
  • the upper limit is more preferably 2000 or less, and even more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is more preferably 150 or more, and even more preferably 250 or more.
  • the polymerizable compound is preferably a compound containing 3 or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, more preferably a compound containing 3 to 15 ethylenically unsaturated bond-containing groups, and more preferably an ethylenically unsaturated bond. It is more preferable that the compound contains 3 to 6 containing groups. Further, the polymerizable compound is preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 15 functionalities, and more preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 6 functionalities.
  • polymerizable compound examples include paragraph numbers 0995 to 0108 of JP2009-288705, paragraphs 0227 of JP2013-029760, paragraphs 0254 to 0257 of JP2008-292970, and JP-A.
  • the compounds described in paragraph numbers 0034 to 0038 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-253224, paragraph numbers 0477 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-208494, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-048637, Japanese Patent No. 6057891 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 6031807 are These contents are incorporated herein by reference.
  • dipentaerythritol tri (meth) acrylate commercially available KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol tetra (meth) acrylate commercially available KAYARAD D-320.
  • diglycerin EO ethylene oxide modified (meth) acrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., NK ester A
  • 1,6-hexanediol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA
  • RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Aronix TO-2349 manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.
  • NK Oligo UA-7200 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • DPHA-40H manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Examples of the polymerizable compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, and isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate.
  • Trifunctional (meth) acrylate compounds such as pentaerythritol tri (meth) acrylate can also be used.
  • Commercially available trifunctional (meth) acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, and M-305.
  • M-303, M-452, M-450 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a compound having an acid group can also be used as the polymerizable compound.
  • the polymerizable compound having an acid group By using a polymerizable compound having an acid group, the polymerizable compound in the unexposed portion can be easily removed during development, and the generation of development residue can be suppressed.
  • the acid group include a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group and the like, and a carboxyl group is preferable.
  • Examples of commercially available products of the polymerizable compound having an acid group include Aronix M-510, M-520, and Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the preferable acid value of the polymerizable compound having an acid group is 0.1 to 40 mgKOH / g, and more preferably 5 to 30 mgKOH / g.
  • the acid value of the polymerizable compound is 0.1 mgKOH / g or more, the solubility in a developing solution is good, and when the acid value is 40 mgKOH / g or less, it is advantageous in production and handling.
  • a compound having a caprolactone structure can also be used.
  • examples of commercially available products of the polymerizable compound having a caprolactone structure include KAYARAD DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like.
  • a polymerizable compound having an alkyleneoxy group can also be used.
  • a polymerizable compound having an ethyleneoxy group and / or a propyleneoxy group is preferable, a polymerizable compound having an ethyleneoxy group is more preferable, and 3 to 3 having 4 to 20 ethyleneoxy groups.
  • a hexafunctional (meth) acrylate compound is more preferred.
  • Examples of the polymerizable compound having an alkyleneoxy group include compounds having the following structures.
  • SR-494 which is a tetrafunctional (meth) acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartmer, and a trifunctional (meth) having three isobutyleneoxy groups.
  • KAYARAD TPA-330 which is an acrylate and the like can be mentioned.
  • a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used.
  • examples of commercially available products of the polymerizable compound having a fluorene skeleton include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., a (meth) acrylate monomer having a fluorene skeleton).
  • the polymerizable compound it is also preferable to use a compound that does not substantially contain an environmentally regulatory substance such as toluene.
  • an environmentally regulatory substance such as toluene.
  • commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT and KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • the content of the polymerizable compound in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 0.1 to 50% by mass.
  • the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, further preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 45% by mass or less, further preferably 40% by mass or less.
  • the polymerizable compound only one kind may be used, or two or more kinds may be used. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention contains a solvent.
  • the solvent include organic solvents.
  • the type of solvent is basically not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component and the coatability of the composition.
  • the organic solvent include ester-based solvents, ketone-based solvents, alcohol-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, hydrocarbon-based solvents and the like.
  • an ester solvent substituted with a cyclic alkyl group and a ketone solvent substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • the organic solvent include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -Heptanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethylcarbitol acetate, butylcarbi Tall acetate, propylene glycol
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents may need to be reduced for environmental reasons (for example, 50 parts by mass (parts) with respect to the total amount of organic solvent. Per millision) or less, 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • an organic solvent having a low metal content it is preferable to use an organic solvent having a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per parts) or less. If necessary, an organic solvent at the mass ppt (parts per tension) level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Synthetic Co., Ltd. (The Chemical Daily, November 13, 2015). ..
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the organic solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Further, only one kind of isomer may be contained, or a plurality of kinds may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol / L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the magenta photosensitive resin composition is preferably 10 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and further preferably 30 to 90% by mass.
  • the magenta color photosensitive resin composition of the present invention does not substantially contain an environmentally regulated substance from the viewpoint of environmental regulations.
  • substantially free of the environmentally regulated substance means that the content of the environmentally regulated substance in the magenta color photosensitive resin composition is 50 mass ppm or less, and is 30 mass ppm or less. It is preferably abundant, more preferably 10 mass ppm or less, and particularly preferably 1 mass ppm or less.
  • the environmentally regulated substance include benzene; alkylbenzenes such as toluene and xylene; and halogenated benzenes such as chlorobenzene.
  • REACH Registration Evolution Analysis and Restriction of Chemicals
  • PRTR Policy Release and Transfer Register
  • VOC Volatile and Transfer Registor
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • a method for reducing the environmentally regulated substance there is a method of heating or depressurizing the inside of the system to raise the boiling point of the environmentally regulated substance or higher and distilling off the environmentally regulated substance from the system to reduce the amount. Further, when distilling off a small amount of an environmentally regulated substance, it is also useful to azeotrope with a solvent having a boiling point equivalent to that of the corresponding solvent in order to improve efficiency.
  • a polymerization inhibitor or the like is added and the mixture is distilled off under reduced pressure in order to prevent the radical polymerization reaction from proceeding and cross-linking between molecules during distillation under reduced pressure. May be.
  • distillation methods are performed at the stage of the raw material, the stage of the product obtained by reacting the raw material (for example, a resin solution after polymerization or a polyfunctional monomer solution), or a magenta color photosensitive resin prepared by mixing these compounds. It can be done at any stage, such as at the composition stage.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and may be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, a compound having photosensitivity to light rays in the ultraviolet region to the visible region is preferable.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • photopolymerization initiator examples include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazoles, oxime compounds, organic peroxides, and thio compounds. , Ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • the photopolymerization initiator is a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethylketal compound, an ⁇ -hydroxyketone compound, an ⁇ -aminoketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, an oxime compound, or a triarylimidazole.
  • It is preferably a dimer, an onium compound, a benzothiazole compound, a benzophenone compound, an acetophenone compound, a cyclopentadiene-benzene-iron complex, a halomethyloxadiazole compound and a 3-aryl substituted coumarin compound, preferably an oxime compound and an ⁇ -hydroxyketone compound.
  • ⁇ -Aminoketone compound, and a compound selected from an acylphosphine compound are more preferable, and an oxime compound is further preferable.
  • the photopolymerization initiator the compound described in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 and JP-A-6301489, MATERIAL STAGE 37-60p, vol. 19, No. Peroxide-based photopolymerization initiator described in 3, 2019, photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/221177, photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/110179, JP-A-2019-043864.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (above, IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure27, Irgacure29. (Manufactured by the company) and the like.
  • Commercially available ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (above, IGM Resins BV), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369, Irger Made) and so on.
  • acylphosphine compounds examples include Omnirad 819, Omnirad TPO (above, manufactured by IGM Resins BV), Irgacure 819, and Irgacure TPO (above, manufactured by BASF).
  • Examples of the oxime compound include the compound described in JP-A-2001-233842, the compound described in JP-A-2000-080068, the compound described in JP-A-2006-342166, and J. Am. C. S. The compound according to Perkin II (1979, pp. 1653-1660), J. Mol. C. S. The compound described in Perkin II (1979, pp. 156-162), the compound described in Journal of Photopolisr Science and Technology (1995, pp. 202-232), the compound described in JP-A-2000-066385, the compound described in JP-A-2000-066385.
  • oxime compound examples include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminovtan-2-one, 3-propionyloxyiminobutane-2-one, 2-acetoxyimiminopentane-3-one, and the like.
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include the compound described in JP-A-2014-137466 and the oxime compound having a fluorene ring and a nitro group described in Japanese Patent No. 6636081.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such an oxime compound include the compounds described in International Publication No. 2013/083505.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom are described in the compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36-40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471.
  • Compound (C-3) and the like can be mentioned.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A and paragraphs 0008-0012 and 0070-0079 of JP-A-2014-137466. Examples thereof include the compound described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, ADEKA ARCULDS NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. 2015/036910.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxy group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high, more preferably 1000 to 300,000, still more preferably 2000 to 300,000, and more preferably 5000 to 200,000. It is particularly preferable to have.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure at a concentration of 0.01 g / L using an ethyl acetate solvent with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • Irgacure OXE01 manufactured by BASF
  • Irgacure OXE02 manufactured by BASF
  • Omnirad 2959 manufactured by IGM Resins BV
  • a bifunctional or trifunctional or higher photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • two or more radicals are generated from one molecule of the photoradical polymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered, the solubility in a solvent or the like is improved, the precipitation is less likely to occur with time, and the stability of the magenta photosensitive resin composition with time is improved.
  • Specific examples of the bifunctional or trifunctional or higher functional photo-radical polymerization initiators include Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No.
  • the photoinitiator described in paragraphs 0020 to 0033, the photopolymerization initiator (A) described in paragraphs 0017 to 0026 of JP-A-2017-151342, is described in Japanese Patent No. 6469669.
  • Examples include oxime ester photoinitiators.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less. Only one kind of photopolymerization initiator may be used, or two or more kinds may be used. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention can contain a compound having a cyclic ether group.
  • the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group (hereinafter, also referred to as an epoxy compound). Examples of the epoxy compound are described in paragraphs 0034 to 0036 of JP2013-011869, paragraph numbers 0147 to 0156 of JP2014-0435556, and paragraph numbers 0083 to 0092 of JP2014-089408. Compounds, compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used. These contents are incorporated herein.
  • the epoxy compound may be a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 2000, further, a molecular weight of less than 1000), or a polymer compound (for example, a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1000 or more). But it may be.
  • the weight average molecular weight of the epoxy compound is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and even more preferably 3000 or less.
  • an epoxy resin can be preferably used as the epoxy compound.
  • the epoxy resin include an epoxy resin which is a glycidyl etherified product of a phenol compound, an epoxy resin which is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, and a glycidyl ester.
  • Examples thereof include a copolymer with another polymerizable unsaturated compound.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 310 to 3300 g / eq, more preferably 310 to 1700 g / eq, and even more preferably 310 to 1000 g / eq.
  • EHPE3150 manufactured by Daicel Corporation
  • EPICLON N-695 manufactured by DIC Corporation
  • Marproof G-0150M G-0105SA, G-0130SP, G. -0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (all manufactured by NOF CORPORATION, epoxy group-containing polymer) and the like can be mentioned.
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the magenta color photosensitive resin composition is preferably 0.1 to 20% by mass.
  • the lower limit is, for example, preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is, for example, preferably 15% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
  • the compound having a cyclic ether group only one kind may be used, or two or more kinds may be used. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention may contain a curing accelerator.
  • the curing accelerator include thiol compounds, methylol compounds, amine compounds, phosphonium salt compounds, amidin salt compounds, amide compounds, base generators, isocyanate compounds, alkoxysilane compounds, onium salt compounds and the like.
  • Specific examples of the curing accelerator include the compound described in paragraph Nos. 0094 to 0097 of International Publication No. 2018/056189, the compound described in paragraph numbers 0246 to 0253 of JP-A-2015-034963, and JP-A-2013-041165. Compounds described in Japanese Patent Laid-Open No.
  • the curing accelerator when the curing accelerator is contained, the content of the curing accelerator in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 0.3 to 8.9% by mass, preferably 0.8 to 6.4% by mass. More preferred.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber a conjugated diene compound, an aminodiene compound, a salicylate compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, an acrylonitrile compound, a hydroxyphenyltriazine compound, an indole compound, a triazine compound and the like can be used. Examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP2009-217221A, paragraph numbers 0052 to 0072 of JP2012-208374A, and paragraph numbers 0317 to 0334 of JP2013-066814.
  • the compounds described in paragraphs 0061 to 0080 of JP 2016-162946 are mentioned, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • Specific examples of the ultraviolet absorber include compounds having the following structures. Examples of commercially available products of the ultraviolet absorber include UV-503 (manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.), Tinuvin series manufactured by BASF, and Uvinul series. Examples of the benzotriazole compound include the MYUA series made of Miyoshi Oil & Fat (The Chemical Daily, February 1, 2016). Further, the ultraviolet absorber is a compound described in paragraphs 0049 to 0059 of Japanese Patent No. 6268967, a compound described in paragraph numbers 0059 to 0076 of International Publication No. 2016/181987, and International Publication No. 2020/137819. The thioaryl group-substituted benzotriazole type ultraviolet absorber described in 1 can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass.
  • only one kind of ultraviolet absorber may be used, or two or more kinds may be used. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount is within the above range.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), and the like.
  • examples thereof include 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salt, first cerium salt, etc.). Of these, p-methoxyphenol is preferable.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 0.0001 to 5% by mass.
  • the polymerization inhibitor may be only one kind or two or more kinds. In the case of two or more types, it is preferable that the total amount is within the above range.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly linked to a silicon atom and can form a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group and the like, and an alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of the functional group other than the hydrolyzable group include a vinyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, a mercapto group, an epoxy group, an oxetanyl group, an amino group, a ureido group, a sulfide group and an isocyanate group.
  • a phenyl group and the like preferably an amino group, a (meth) acryloyl group and an epoxy group.
  • silane coupling agent examples include N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -aminopropylmethyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-602), N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -amino.
  • Propyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-603), N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBE-602), ⁇ -Aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-903), ⁇ -aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBE-903), 3-methacryloxy There are propylmethyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-502), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co
  • the silane coupling agent examples include the compounds described in paragraphs 0018 to 0036 of JP2009-288703 and the compounds described in paragraphs 0056 to 0066 of JP2009-242604A. , These contents are incorporated herein.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 0.01 to 15.0% by mass, preferably 0.05 to 10.0. % By mass is more preferred.
  • the silane coupling agent may be only one kind or two or more kinds. In the case of two or more types, it is preferable that the total amount is within the above range.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.
  • the surfactant is preferably a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant.
  • the surfactant include the surfactant described in paragraph Nos. 0238 to 0245 of International Publication No. 2015/16677, and the surfactant described in JP-A-2020-008634, the contents of which are described in the present specification. Incorporated into the book.
  • the liquid characteristics can be further improved, and the liquid saving property can be further improved. It is also possible to form a film having a small thickness unevenness.
  • the fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass. Fluorine-based surfactants having a fluorine content within this range are effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid saving, and have good solubility in magenta-color photosensitive resin compositions. be.
  • fluorine-based surfactant examples include the surfactants described in paragraphs 0060 to 0064 of Japanese Patent Laid-Open No. 2014-041318 (paragraphs 0060 to 0064 of the corresponding International Publication No. 2014/017669) and the like, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-.
  • the surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of the Publication No. 132503 are mentioned and their contents are incorporated herein by reference.
  • Commercially available products of fluorine-based surfactants include, for example, Megafuck F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143, F-144.
  • the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which a portion of the functional group containing a fluorine atom is cut off and the fluorine atom volatilizes when heat is applied.
  • a fluorine-based surfactant include the Megafuck DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), for example, Mega. Fuck DS-21 can be mentioned.
  • fluorine-based surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • a fluorine-based surfactant include the fluorine-based surfactants described in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated in the present specification.
  • the fluorine-based surfactant a block polymer can also be used.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraphs 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as the fluorine-based surfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compounds is preferably 3000 to 50,000, for example 14000.
  • % indicating the ratio of the repeating unit is mol%.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain can also be used. Specific examples thereof include the compounds described in paragraphs 0050 to 0090 and 0289 to 0295 of JP2010-164965, Megafuck RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation. RS-72-K and the like can be mentioned. Further, as the fluorine-based surfactant, the compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can also be used.
  • a fluorine-containing imide salt compound represented by the formula (fi-1) is also preferable to use as a surfactant.
  • m represents 1 or 2
  • n represents an integer of 1 to 4
  • a represents 1 or 2
  • X a + represents an a-valent metal ion, a primary ammonium ion, and a first.
  • secondary ammonium ion represents a tertiary ammonium ion, a quaternary ammonium ion or NH 4 +.
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ethers, polyoxyethylene stearyl ethers, etc.
  • silicone-based surfactant examples include Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torre Silicone SH28PA, Torre Silicone SH29PA, Torre Silicone SH30PA, Torre Silicone SH8400, and FZ-2122.
  • Dow Corning Co., Ltd. TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (all manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6001, KF- Examples include 6002 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.), BYK307, BYK323, BYK330 (above, manufactured by Big Chemie) and the like.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 0.001% by mass to 5.0% by mass, preferably 0.005 to 3.0. % By mass is more preferred.
  • the surfactant may be only one kind or two or more kinds. In the case of two or more types, it is preferable that the total amount is within the above range.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention can contain an antioxidant.
  • the antioxidant include a phenol compound, a phosphite ester compound, a thioether compound and the like.
  • the phenol compound any phenol compound known as a phenolic antioxidant can be used.
  • Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds.
  • a compound having a substituent at a site (ortho position) adjacent to the phenolic hydroxy group is preferable.
  • a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferable.
  • the antioxidant a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule is also preferable. Further, as the antioxidant, a phosphorus-based antioxidant can also be preferably used.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the magenta photosensitive resin composition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass. When containing an antioxidant, only one type of antioxidant may be used, or two or more types may be used. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount is within the above range.
  • the magenta color photosensitive resin composition of the present invention may be used as a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermosetting accelerator, a plasticizer and other auxiliary agents (for example, conductive particles, a filler, etc.), if necessary. It may contain an antifoaming agent, a flame retardant, a leveling agent, a peeling accelerator, a fragrance, a surface tension adjusting agent, a chain transfer agent, etc.). By appropriately containing these components, properties such as film physical characteristics can be adjusted. These components are described in, for example, paragraph No. 0183 or later of JP2012-003225A (paragraph number 0237 of the corresponding US Patent Application Publication No.
  • magenta photosensitive resin composition of the present invention may contain a latent antioxidant, if necessary.
  • the latent antioxidant is a compound in which the site that functions as an antioxidant is protected by a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C. or at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst. This includes compounds in which the protecting group is desorbed and functions as an antioxidant. Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • magenta photosensitive resin composition of the present invention may contain an aromatic group-containing phosphonium salt described in JP-A-2020-079833.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention may contain a metal oxide in order to adjust the refractive index of the obtained film.
  • the metal oxide include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , SiO 2 and the like.
  • the primary particle size of the metal oxide is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 70 nm, still more preferably 5 to 50 nm.
  • the metal oxide may have a core-shell structure. Further, in this case, the core portion may be hollow.
  • the magenta color photosensitive resin composition of the present invention may contain a light resistance improving agent.
  • the light resistance improving agent include the compounds described in paragraphs 0036 to 0037 of JP-A-2017-198787, the compounds described in paragraphs 0029 to 0034 of JP-A-2017-146350, and JP-A-2017-129774.
  • perfluoroalkyl sulfonic acid and its salt and perfluoroalkyl carboxylic acid and its salt may be restricted.
  • perfluoroalkyl sulfonic acid particularly, perfluoroalkyl sulfonic acid having 6 to 8 carbon atoms in the perfluoroalkyl group
  • perfluoroalkyl sulfonic acid thereof are used.
  • the content of the salt, the perfluoroalkylcarboxylic acid (particularly the perfluoroalkylcarboxylic acid having 6 to 8 perfluoroalkyl group carbon atoms) and the salt thereof is based on the total solid content of the magenta-color photosensitive resin composition. It is preferably in the range of 0.01 ppb to 1,000 ppb, more preferably in the range of 0.05 ppb to 500 ppb, and even more preferably in the range of 0.1 ppb to 300 ppb.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention may be substantially free of perfluoroalkylsulfonic acid and salts thereof, as well as perfluoroalkylcarboxylic acid and salts thereof.
  • the magenta photosensitive resin composition of the present invention may contain a perfluoroalkyl sulfonic acid and a salt thereof, and a perfluoroalkyl carboxylic acid and a salt thereof within the maximum allowable range.
  • the water content of the magenta photosensitive resin composition of the present invention is usually 3% by mass or less, preferably 0.01 to 1.5% by mass, and preferably in the range of 0.1 to 1.0% by mass. More preferred.
  • the water content can be measured by the Karl Fischer method.
  • the magenta color photosensitive resin composition of the present invention can be used by adjusting the viscosity for the purpose of adjusting the film surface (flatness, etc.), adjusting the film thickness, and the like.
  • the viscosity value can be appropriately selected as needed, but for example, at 25 ° C., 0.3 mPa ⁇ s to 50 mPa ⁇ s is preferable, and 0.5 mPa ⁇ s to 20 mPa ⁇ s is more preferable.
  • a method for measuring the viscosity for example, a cone plate type viscometer can be used, and the viscosity can be measured in a state where the temperature is adjusted to 25 ° C.
  • the storage container for the magenta photosensitive resin composition of the present invention is not particularly limited, and a known storage container can be used.
  • a storage container for the purpose of suppressing impurities from being mixed into raw materials and compositions, a multi-layer bottle in which the inner wall of the container is composed of 6 types and 6 layers of resin and a bottle in which 6 types of resin are composed of 7 layers are used. It is also preferable to use it. Examples of such a container include the container described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-123351.
  • magenta photosensitive resin composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned components.
  • all the components may be simultaneously dissolved and / or dispersed in a solvent to prepare a magenta-color photosensitive resin composition, or if necessary, each component may be appropriately 2
  • a magenta photosensitive resin composition may be prepared by preparing two or more solutions or dispersions and mixing them at the time of use (at the time of application).
  • the mechanical force used for dispersing the pigment includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion and the like.
  • the process and disperser for dispersing pigments are "Dispersion Technology Complete Works, Published by Information Organization Co., Ltd., July 15, 2005" and "Dispersion technology centered on suspension (solid / liquid dispersion system) and industrial”. Practical application The process and disperser described in Paragraph No.
  • JP-A-2015-157893 "Comprehensive Data Collection, Published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978" can be preferably used.
  • the particles may be miniaturized in the salt milling step.
  • the materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling step for example, the descriptions in JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-046629 can be referred to.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE) and polyvinylidene fluoride (PVDF)
  • polyamide resins such as nylon (eg, nylon-6, nylon-6,6)
  • polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP)
  • PP polypropylene
  • a filter using a material such as (including a high-density, ultra-high molecular weight polyolefin resin) can be mentioned.
  • polypropylene including high-density polypropylene
  • nylon are preferable.
  • the pore diameter of the filter is preferably 0.01 to 7.0 ⁇ m, more preferably 0.01 to 3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the nominal value of the filter manufacturer can be referred to.
  • various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.
  • Advantech Toyo Co., Ltd. Japan Entegris Co., Ltd. (formerly Nippon Microlith Co., Ltd.), KITZ Microfilter Co., Ltd., etc.
  • KITZ Microfilter Co., Ltd. etc.
  • a fiber-like filter medium As the filter.
  • the fiber-like filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber and the like.
  • examples of commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.) and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Roki Techno Co., Ltd.
  • filters different filters (eg, first filter and second filter, etc.) may be combined. At that time, the filtration with each filter may be performed only once or twice or more. Further, filters having different pore diameters may be combined within the above-mentioned range. Further, the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing the other components, the filtration may be performed with the second filter.
  • the film of the present invention is a film obtained from the magenta color photosensitive resin composition of the present invention described above.
  • the film of the present invention can be used as a color filter. More specifically, it can be used for magenta color pixels of a color filter.
  • the film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted depending on the intended purpose.
  • the film thickness is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, still more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the maximum value of the light transmittance in the wavelength range of 400 to 500 nm of the film of the present invention is preferably 70% or more, more preferably 75% or more, still more preferably 80% or more.
  • the minimum value of the light transmittance in the wavelength range of 450 to 600 nm of the film of the present invention is preferably 30% or less, more preferably 20% or less, still more preferably 15% or less. It is particularly preferably 10% or less.
  • the maximum value of the light transmittance in the wavelength range of 550 to 700 nm of the film of the present invention is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more. ..
  • the film of the present invention has a wavelength in which the light transmittance is 50% in the wavelength range of 450 to 500 nm and in the wavelength range of 550 to 600 nm.
  • the wavelength on the short wave side showing a light transmittance of 50% preferably exists in the wavelength range of 460 to 495 nm, more preferably exists in the wavelength range of 470 to 495 nm, and exists in the wavelength range of 475 to 495 nm. Is particularly preferred.
  • the wavelength on the long wave side where the light transmittance is 50% is preferably in the wavelength range of 560 to 595 nm, and more preferably in the wavelength range of 570 to 590 nm.
  • a film having such spectral characteristics is preferably used as a magenta color pixel.
  • the color filter of the present invention has the above-mentioned film of the present invention.
  • the color filter of the present invention preferably has the film of the present invention as magenta color pixels of the color filter. Further, it is also preferable that the color filter of the present invention has a magenta color pixel, a cyan color pixel, and a yellow pixel obtained by using the magenta color photosensitive resin composition of the present invention described above.
  • the cyan pixel preferably contains the color index pigment green 7.
  • the cyan pixel has a maximum transmittance of 90% or more for light in the wavelength range of 450 to 550 nm and a minimum value of 20% or less for the transmittance of light in the wavelength range of 615 to 645 nm. It is preferable that the wavelength showing 50% exists in each of the wavelength range of 395 to 415 nm and the wavelength range of 560 to 580 nm.
  • the yellow pixels preferably include the Color Index Pigment Yellow 150. Further, in the yellow pixel, the maximum value of the light transmittance in the wavelength range of 500 to 700 nm is 90% or more, and the minimum value of the light transmittance in the wavelength range of 415 to 445 nm is 10% or less, and the transmittance is 50.
  • the color filter of the present invention can be used for a solid-state image pickup device such as a CCD (charge-coupled device) or CMOS (complementary metal oxide semiconductor), an image display device, or the like.
  • a CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • the film thickness of the film can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the film thickness is preferably 5 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or less, and even more preferably 0.6 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, still more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the width of the pixels included in the color filter is preferably 0.2 to 10.0 ⁇ m.
  • the lower limit is preferably 0.4 ⁇ m or more, more preferably 0.5 ⁇ m or more, and further preferably 0.6 ⁇ m or more.
  • the upper limit is preferably 5.0 ⁇ m or less, more preferably 2.0 ⁇ m or less, further preferably 1.0 ⁇ m or less, and even more preferably 0.8 ⁇ m or less.
  • the Young's modulus of the pixel is preferably 0.5 to 20 GPa, more preferably 2.5 to 15 GPa.
  • each pixel included in the color filter has high flatness.
  • the surface roughness Ra of the pixel is preferably 100 nm or less, more preferably 40 nm or less, and further preferably 15 nm or less.
  • the lower limit is not specified, but it is preferably 0.1 nm or more, for example.
  • the surface roughness of the pixel can be measured using, for example, an AFM (atomic force microscope) Measurement 3100 manufactured by Veeco.
  • the contact angle of water on the pixel can be appropriately set to a preferable value, but is typically in the range of 50 to 110 °.
  • the contact angle can be measured using, for example, a contact angle meter CV-DT ⁇ A type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Further, it is preferable that the volume resistance value of the pixel is high. Specifically, it is preferred that the volume resistivity value of the pixel is 10 9 ⁇ ⁇ cm or more, and more preferably 10 11 ⁇ ⁇ cm or more. The upper limit is not specified, but it is preferably 10 14 ⁇ ⁇ cm or less, for example.
  • the volume resistance value of the pixel can be measured using, for example, an ultra-high resistance meter 5410 (manufactured by Advantest).
  • a protective layer may be provided on the surface of the film (pixel) of the present invention.
  • various functions such as oxygen blocking, low reflection, prohydrophobicization, and shielding of light of a specific wavelength (ultraviolet rays, near infrared rays, etc.) can be imparted.
  • the thickness of the protective layer is preferably 0.01 to 10 ⁇ m, more preferably 0.1 to 5 ⁇ m.
  • Examples of the method for forming the protective layer include a method of applying a resin composition dissolved in an organic solvent to form the protective layer, a chemical vapor deposition method, and a method of attaching a molded resin with an adhesive.
  • the components constituting the protective layer include (meth) acrylic resin, en-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, and polyimide.
  • Resin polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, polyol resin, polyvinylidene chloride resin, melamine resin, urethane resin, aramid resin, polyamide resin, alkyd resin, epoxy resin, modified silicone resin, fluorine Examples thereof include resins, polycarbonate resins, polyacrylonitrile resins, cellulose resins, Si, C, W, Al 2 O 3 , Mo, SiO 2 , Si 2 N 4, and the like, and two or more of these components may be contained.
  • the protective layer for the purpose of blocking oxygen, it is preferable that the protective layer contains a polyol resin, SiO 2 , and Si 2 N 4. Further, in the case of a protective layer for the purpose of reducing reflection, it is preferable that the protective layer contains a (meth) acrylic resin and a fluororesin.
  • the resin composition When the resin composition is applied to form the protective layer, known methods such as a spin coating method, a casting method, a screen printing method, and an inkjet method can be used as the application method of the resin composition.
  • a known organic solvent for example, propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate, cyclopentanone, ethyl lactate, etc.
  • the protective layer is formed by the chemical vapor deposition method, the known chemical vapor deposition method (thermochemical vapor deposition method, plasma chemical vapor deposition method, photochemical vapor deposition method) is used as the chemical vapor deposition method. Can be used.
  • the protective layer may be an additive such as organic / inorganic fine particles, an absorber for light of a specific wavelength (for example, ultraviolet rays, near infrared rays, etc.), a refractive index adjusting agent, an antioxidant, an adhesive, and a surfactant, if necessary. May be contained.
  • organic / inorganic fine particles include polymer fine particles (for example, silicone resin fine particles, polystyrene fine particles, melamine resin fine particles), titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium oxide, aluminum oxide, titanium nitride, and titanium oxynitride. , Magnesium fluoride, hollow silica, silica, calcium carbonate, barium sulfate and the like.
  • the absorber of light having a specific wavelength a known absorber can be used.
  • the content of these additives can be adjusted as appropriate, but is preferably 0.1 to 70% by mass, more preferably 1 to 60% by mass, based on the total mass of the protective layer.
  • the protective layer described in paragraphs 0073 to 0092 of JP-A-2017-151176 can also be used.
  • the color filter may have a structure in which each pixel is embedded in a space partitioned by a partition wall, for example, in a grid pattern.
  • the pixel forming method is a step of applying the magenta color photosensitive resin composition of the present invention described above on a support to form a photosensitive resin composition layer, and a photolithography method for the photosensitive resin composition layer. It can be manufactured through the process of forming a pattern.
  • the pattern formation by the photolithography method consists of a step of applying the magenta-color photosensitive resin composition of the present invention described above on a support to form a photosensitive resin composition layer and a pattern of the photosensitive resin composition layer. It is preferable to include a step of exposing and a step of developing and removing an unexposed portion of the photosensitive resin composition layer after exposure.
  • each step will be described.
  • the magenta-colored photosensitive resin composition layer is applied onto the support to form the photosensitive resin composition layer.
  • the support is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended use. Examples thereof include a glass substrate and a silicon substrate, and a silicon substrate is preferable. Further, a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the silicon substrate. Further, a black matrix that separates each pixel may be formed on the silicon substrate. Further, the silicon substrate may be provided with a base layer for improving the adhesion with the upper layer, preventing the diffusion of substances, or flattening the surface of the substrate.
  • the surface contact angle of the base layer is preferably 20 to 70 ° when measured with diiodomethane. Further, it is preferably 30 to 80 ° when measured with water. When the surface contact angle of the base layer is within the above range, the wettability of the magenta photosensitive resin composition layer is good.
  • the surface contact angle of the base layer can be adjusted by, for example, adding a surfactant.
  • a known method can be used as a method for applying the magenta color photosensitive resin composition.
  • a drop method drop cast
  • a slit coat method for example, a spray method; a roll coat method; a spin coat method; a cast coating method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP-A-2009-145395).
  • Method Various printing methods such as inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method; Transfer method using a mold or the like; nanoimprint method or the like can be mentioned.
  • the method of application in inkjet is not particularly limited, and is, for example, the method shown in "Expandable / usable inkjet-infinite possibilities seen in patents-, published in February 2005, Sumi Betechno Research" (especially from page 115). Page 133), JP-A-2003-262716, JP-A-2003-185831, JP-A-2003-261827, JP-A-2012-126830, JP-A-2006-169325, and the like. Can be mentioned. Further, regarding the method of applying the magenta color photosensitive resin composition, the description of International Publication No. 2017/030174 and International Publication No. 2017/018419 can be referred to, and these contents are incorporated in the present specification.
  • the photosensitive resin composition layer formed on the support may be dried (prebaked).
  • prebaking may not be performed.
  • the prebake temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, still more preferably 110 ° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50 ° C. or higher, or 80 ° C. or higher.
  • the prebake time is preferably 10 to 300 seconds, more preferably 40 to 250 seconds, still more preferably 80 to 220 seconds. Pre-baking can be performed on a hot plate, an oven, or the like.
  • the photosensitive resin composition layer is exposed in a pattern (exposure step).
  • the photosensitive resin composition layer can be exposed in a pattern by using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like to expose the photosensitive resin composition layer through a mask having a predetermined mask pattern. As a result, the exposed portion can be cured.
  • Examples of radiation (light) that can be used for exposure include g-line and i-line. Further, light having a wavelength of 300 nm or less (preferably light having a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used. Examples of the light having a wavelength of 300 nm or less include KrF line (wavelength 248 nm), ArF line (wavelength 193 nm) and the like, and KrF line (wavelength 248 nm) is preferable. Further, a long wave light source having a diameter of 300 nm or more can also be used.
  • pulse exposure is an exposure method of a method in which light irradiation and pause are repeated in a cycle of a short time (for example, a millisecond level or less).
  • Irradiation dose for example, preferably 0.03 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05 ⁇ 1.0J / cm 2.
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to the operation in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially). It may be exposed in an oxygen-free environment), or may be exposed in a high oxygen atmosphere (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume.
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W / m 2 to 100,000 W / m 2 (for example, 5000 W / m 2 , 15,000 W / m 2 , or 35,000 W / m 2). Can be done.
  • the oxygen concentration and the exposure illuminance may be appropriately combined with each other.
  • the oxygen concentration may be 10% by volume and the illuminance may be 10,000 W / m 2
  • the oxygen concentration may be 35% by volume and the illuminance may be 20000 W / m 2 .
  • the unexposed portion of the photosensitive resin composition layer after exposure is developed and removed (development step).
  • the unexposed portion of the photosensitive resin composition layer can be developed and removed using a developing solution.
  • the photosensitive resin composition layer in the unexposed portion is eluted in the developing solution, and only the photocured portion remains.
  • the temperature of the developer is preferably, for example, 20 to 30 ° C.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the steps of shaking off the developer every 60 seconds and supplying a new developer may be repeated several times.
  • Examples of the developing solution include organic solvents and alkaline developing solutions, and alkaline developing solutions are preferably used.
  • the alkaline developer an alkaline aqueous solution (alkaline developer) obtained by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • the alkaline agent include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • Ethyltrimethylammonium hydroxide Ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, etc.
  • examples thereof include organic alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • the alkaline agent a compound having a large molecular weight is preferable in terms of environment and safety.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant. From the viewpoint of convenience of transfer and storage, the developer may be once produced as a concentrated solution and diluted to a concentration required for use.
  • the dilution ratio is not particularly limited, but can be set in the range of, for example, 1.5 to 100 times. It is also preferable to wash (rinse) with pure water after development. Further, the rinsing is preferably performed by supplying the rinsing solution to the developed photosensitive resin composition layer while rotating the support on which the developed photosensitive resin composition layer is formed.
  • the nozzle for discharging the rinse liquid from the central portion of the support it is also preferable to move the nozzle for discharging the rinse liquid from the central portion of the support to the peripheral edge of the support.
  • the nozzle may be moved while gradually reducing the moving speed. By rinsing in this way, in-plane variation of the rinse can be suppressed. Further, the same effect can be obtained by gradually reducing the rotation speed of the support while moving the nozzle from the central portion of the support to the peripheral portion.
  • Additional exposure processing and post-baking are post-development curing treatments to complete the curing.
  • the heating temperature in the post-bake is, for example, preferably 100 to 240 ° C, more preferably 200 to 240 ° C.
  • Post-baking is performed by continuously or batch-type the developed film (pixels) using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation type dryer), or a high-frequency heater so as to meet the above conditions. be able to.
  • the additional exposure process is performed, the light used for the exposure is preferably light having a wavelength of 400 nm or less. Further, the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • the solid-state image sensor of the present invention has the above-mentioned film of the present invention.
  • the configuration of the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it includes the film of the present invention and functions as a solid-state image sensor, and examples thereof include the following configurations.
  • a solid-state image pickup device CCD (charge-coupled device) image sensor, CMOS (complementary metal oxide semiconductor) image sensor, etc.
  • a transfer electrode made of polysilicon or the like.
  • the color filter may have a structure in which each colored pixel is embedded in a space partitioned by a partition wall, for example, in a grid pattern.
  • the partition wall preferably has a low refractive index for each colored pixel. Examples of the image pickup apparatus having such a structure include the apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-227478, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-179757, and International Publication No. 2018/043654.
  • an ultraviolet absorbing layer may be provided in the structure of the solid-state image sensor to improve the light resistance.
  • the image pickup device provided with the solid-state image pickup device of the present invention can be used not only for digital cameras and electronic devices having an image pickup function (mobile phones and the like), but also for in-vehicle cameras and surveillance cameras.
  • the image display device of the present invention has the above-mentioned film of the present invention.
  • the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display device.
  • the liquid crystal display device is described in, for example, “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Chosakai Co., Ltd., published in 1994)”.
  • the liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the above-mentioned "next-generation liquid crystal display technology".
  • P-1 C.I. I. Pigment Red 122 (magenta color pigment)
  • P-2 C.I. I. Pigment Red 202 (magenta color pigment)
  • P-3 C.I. I. Pigment Red 209 (magenta color pigment)
  • P-4 C.I. I. Pigment Red 269 (magenta pigment)
  • the raw materials shown in the table below were mixed to produce the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 46 and Comparative Examples 1 and 2.
  • the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 46 are magenta-colored photosensitive resin compositions.
  • the total content of the magenta color pigment and the magenta color dye in the total solid content of the photosensitive resin composition is described. Further, in the column of the content of the magenta color dye, the content of the magenta color dye in the coloring material is described.
  • Dye-1 Xanthene dye having the following structure (magenta dye, weight average molecular weight 10000)
  • Dye-2 Dipyrromethene dye with the following structure (magenta dye, weight average molecular weight 7000)
  • Dye-3 Triarylmethane dye (magenta dye) with the following structure
  • Dye-4 Xanthene dye (magenta dye) with the following structure
  • Dye-5 Xanthene dye (magenta dye) with the following structure
  • Dye-6 Xanthene dye (magenta dye) with the following structure
  • Dye-7 Xanthene dye (magenta dye) with the following structure
  • Dye-8 Xanthene dye (magenta dye) with the following structure
  • Dye-9 Xanthene dye (magenta dye) with the following structure
  • A-1 Epoxy compound (EHPE3150, manufactured by Daicel Corporation, 1,2-epoxy-4- (2-oxylanyl) cyclohexane adduct of 2,2'-bis (hydroxymethyl) -1-butanol)
  • A-2 UV absorber (UV-503, manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.)
  • Su-1 A compound having the following structure (weight average molecular weight: 14000, the numerical value indicating the ratio of repeating units is mol%)
  • Su-2 KF-6001 (Silicone-based surfactant, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
  • a silicon wafer having a diameter of 8 inches (20.32 cm) was heat-treated in an oven at 200 ° C. for 30 minutes.
  • a resist solution for undercoating (CT-4000, manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) was applied onto this silicon wafer so that the dry film thickness was 0.1 ⁇ m, and further in an oven at 220 ° C. 1
  • the undercoat layer was formed by heating and drying for an hour to obtain a silicon wafer substrate with an undercoat layer.
  • the photosensitive resin composition was applied onto the undercoat layer of the silicon wafer substrate with the undercoat layer prepared above.
  • a heat treatment (pre-baking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 ° C. to form a coating film (photosensitive resin composition layer).
  • the coating film was irradiated with light having a wavelength of 365 nm using an i-line stepper exposure device FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) at an exposure amount of 500 mJ / cm 2 through a mask having a pattern. Exposed.
  • a mask having an island pattern of 1.4 ⁇ m ⁇ 1.4 ⁇ m was used.
  • the substrate on which the coated film after exposure was formed was placed on a horizontal rotary table of a spin shower developer (DW-30 type, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and an alkaline developer CD-2060 (Fuji) was placed.
  • a colored pattern (colored pixel) was formed by paddle developing at room temperature for 60 seconds using a film electronics materials company.
  • the substrate on which the colored pixels are formed is fixed on a horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and while the substrate is rotated at a rotation speed of 50 rpm by a rotating device, pure water is showered from above the center of rotation from the nozzle. It was supplied in a form and rinsed (23 seconds x 2 times). Then, spin-drying was performed, and then post-baking was performed on a hot plate at 200 ° C. for 300 seconds to obtain a substrate on which colored pixels were formed (hereinafter referred to as a colored pixel substrate).
  • the obtained colored pixel substrate was cut, and the cross section of the colored pixel was observed at a magnification of 20000 times using a scanning electron microscope (SEM), and evaluated according to the following criteria.
  • the photosensitive resin composition was applied onto the undercoat layer of the silicon wafer substrate with the undercoat layer prepared above. Then, a heat treatment (pre-baking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 ° C. to form a coating film. Then, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.), the entire surface of the coating film was exposed to light having a wavelength of 365 nm at an exposure amount of 500 mJ / cm 2.
  • the substrate on which the coated film after exposure was formed was placed on a horizontal rotary table of a spin shower developer (DW-30 type, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and an alkaline developer CD-2060 (Fuji) was placed. Paddle development was performed at room temperature for 60 seconds using Film Electronics Materials Co., Ltd.
  • the developed substrate is fixed on a horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and while the substrate is rotated at a rotation speed of 50 rpm by a rotating device, pure water is supplied from above the center of rotation in a shower shape from above the center of rotation. Rinse treatment (23 seconds x 2 times) was performed. It was then spin dried and then post-baked on a hot plate at 200 ° C.
  • the surface of the obtained film was observed with an atomic force microscope (AFM), and the surface roughness (Ra) of the film was calculated.
  • the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 46 had good evaluations of development residue, resolution and surface roughness.
  • the maximum value of the absorbance for light in the wavelength range of 400 to 450 nm is 0.5 or less and 600 when the absorbance for light having a wavelength of 540 nm is 1.
  • the maximum value of the absorbance for light in the wavelength range of about 700 nm was 0.5 or less.
  • the wavelength of light having an absorbance of 0.3 is in the wavelength range of 450 to 500 nm and 550 to 600 nm. It was present in each of the wavelength ranges.
  • the maximum value of the light transmittance in the wavelength range of 400 to 500 nm in the thickness direction of the film is 70. % Or more, the minimum value of the light transmittance in the wavelength range of 450 to 600 nm was 30% or less, and the maximum value of the light transmittance in the wavelength range of 550 to 700 nm was 70% or more. Further, the wavelengths showing 50% of the light transmittance in the thickness direction of the film existed in each of the wavelength range of 450 to 500 nm and the wavelength range of 550 to 600 nm.
  • a wavelength range of 400 to 500 nm in the thickness direction of the film was formed.
  • the maximum value of the light transmittance is 80% or more
  • the minimum value of the light transmittance in the wavelength range of 450 to 600 nm is 10% or less
  • the maximum value of the light transmittance in the wavelength range of 550 to 700 nm is 90. It was more than%.
  • wavelengths showing a light transmittance of 50% in the thickness direction of the film existed in each of the wavelength range of 475 to 495 nm and the wavelength range of 570 to 590 nm.
  • Example 1001 A silicon wafer having a diameter of 8 inches (20.32 cm) was heat-treated in an oven at 200 ° C. for 30 minutes. Next, a resist solution for undercoating (CT-4000, manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) was applied onto this silicon wafer so that the dry film thickness was 0.1 ⁇ m, and further in an oven at 220 ° C. 1 The undercoat layer was formed by heating and drying for an hour to obtain a silicon wafer substrate with an undercoat layer. The photosensitive resin compositions of Examples 1 to 21 were applied onto the undercoat layer of the silicon wafer substrate with the undercoat layer prepared above.
  • CT-4000 manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.
  • a heat treatment (pre-baking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 ° C. to form a coating film (photosensitive resin composition layer).
  • the coating film was irradiated with light having a wavelength of 365 nm using an i-line stepper exposure device FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) at an exposure amount of 500 mJ / cm 2 through a mask having a pattern. Exposed.
  • a mask having an island pattern of 1.4 ⁇ m ⁇ 1.4 ⁇ m was used.
  • the substrate on which the coated film after exposure was formed was placed on a horizontal rotary table of a spin shower developer (DW-30 type, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and an alkaline developer CD-2060 (Fuji) was placed.
  • a colored pattern (colored pixel) was formed by paddle developing at room temperature for 60 seconds using a film electronics materials company.
  • the substrate on which the colored pixels are formed is fixed on a horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and while the substrate is rotated at a rotation speed of 50 rpm by a rotating device, pure water is showered from above the center of rotation from the nozzle. It was supplied in a form and rinsed (23 seconds x 2 times).
  • the transparent pixel forming composition 1 or the transparent pixel forming composition 2 is used to form transparent pixels in the missing portion of the colored pixels according to the same method as described above. Manufactured a color filter.
  • the transparent pixel forming composition 1 and the transparent pixel forming composition 2 those produced by the methods shown below were used.
  • compositions 1 and 2 for Forming Transparent Pixels The raw materials shown in the table below were mixed to produce compositions 1 and 2 for forming transparent pixels.
  • the solvent S-1, the resin D-1, the additive A-2, the surfactant Su-1, and the polymerization inhibitor In-1 are the above-mentioned raw materials, respectively. Details of raw materials other than these are as follows.
  • A-3 Compound with the following structure
  • A-4 ADEKA PLURONIC TR-702 (manufactured by ADEKA Corporation)
  • Examples 2001-2009> Manufacturing of yellow photosensitive resin composition and cyan photosensitive resin composition-
  • the raw materials shown in the table below were mixed to produce yellow photosensitive resin compositions 1 to 3 and cyan photosensitive resin compositions 1 to 4, respectively.
  • the maximum value of the transmittance is 90% or more, the minimum value of the light transmittance in the wavelength range of 415 to 445 nm is 10% or less, and the wavelength showing the light transmittance of 50% in the thickness direction of the film is 470 to.
  • the wavelength range of 490 nm it was present in the wavelength range of 490 nm.
  • the wavelength range of 450 to 550 nm in the thickness direction of the film was formed.
  • the maximum value of light transmission is 90% or more, the minimum value of light transmission in the wavelength range of 615 to 645 nm is 20% or less, and the wavelength indicating that the light transmission in the thickness direction of the film is 50%. It was present in each of the wavelength range of 395 to 415 nm and the wavelength range of 560 to 580 nm.
  • polymerizable compounds M-1, M-2, resin D-1, photopolymerization initiators I-1, I-5, additives A-1, A-2, and surfactants are the above-mentioned raw materials, respectively.
  • the activator Su-2, the polymerization inhibitor In-1 and the solvent S-1 are the above-mentioned raw materials, respectively.
  • the dispersion liquids 9 to 15 the dispersion liquids produced as follows were used.
  • D-1 Dispersant D-1 described above
  • D-2 Dispersant D-2 described above
  • the cyan-colored photosensitive resin composition shown in the table below was applied to the surface of the glass substrate. Then, a heat treatment (pre-baking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 ° C. to form a coating film (photosensitive resin composition layer). Next, the coating film is irradiated with light having a wavelength of 365 nm using an i-line stepper exposure device FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) at an exposure amount of 500 mJ / cm 2 through a mask having a Bayer pattern. And exposed.
  • FPA-3000i5 + manufactured by Canon Inc.
  • the glass substrate on which the coated film after exposure was formed was placed on a horizontal rotary table of a spin shower developer (DW-30 type, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and an alkaline developer CD-2060 ( Paddle development was performed at room temperature for 60 seconds using Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.
  • the glass substrate is fixed on a horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and while the glass substrate is rotated at a rotation speed of 50 rpm by a rotating device, pure water is supplied from above the center of rotation in a shower shape from the ejection nozzle to rinse.
  • the treatment 23 seconds x 2 times) was performed. It was then spin dried and then post-baked on a hot plate at 200 ° C.
  • cyan pixels were formed in the openings of the cyan pixels on the glass substrate by the same procedure as above except that the photomask of the island pattern was used.
  • magenta photosensitive resin composition described in the table below, the magenta color was applied to the openings of the cyan and yellow pixels on the glass substrate in the same procedure as above except that the island pattern photomask was used. Pixels were formed. In this way, a color filter in which cyan pixels, yellow pixels and magenta pixels were formed was manufactured.
  • NTSC American National Television System Committee
  • NSPW300BS pseudo-white LED light source
  • Red defined by the three primary colors of the standard method, red (0.67, 0.33), green (0.21, 0.71), and blue (0.14, 0.08) to the area surrounded by blue).
  • the color reproducibility was evaluated by measuring the ratio of the area of the triangle to the area of the reference value, assuming that the area of the triangles of the three colors (R) green (G) and blue (B) was 100. The evaluation results are shown below.
  • A The ratio of the area of the triangle to the area of the standard value is 80% or more
  • B The ratio of the area of the triangle to the area of the standard value is 70% or more and less than 80%
  • C The area of the triangle to the area of the standard value The ratio is 60% or more and less than 70%
  • D The ratio of the area of the triangle to the area of the reference value is less than 60%.
  • the color filters of Examples 2001 to 2009 were excellent in color reproducibility.
  • Examples 3001 to 3009> A method similar to the method described in paragraph No. 0273 is used on the glass substrate on which the color filters of Examples 2001 to 2009 are formed, using the composition for forming red pixels, the composition for forming green pixels, and the composition for forming blue pixels.
  • a color filter was manufactured by forming red pixels, green pixels, and blue pixels in the missing portions of the colored pixels.
  • the composition for forming a red pixel, the composition for forming a green pixel, and the composition for forming a blue pixel those produced by the methods shown below were used.
  • dispersion liquid R-1, dispersion liquid G-1, and dispersion liquid B-1 The mixed solution containing the raw materials shown in the table below was mixed and dispersed for 3 hours using a bead mill (zirconia beads 0.1 mm diameter). Next, a dispersion treatment was performed using a high-pressure disperser NANO-3000-10 with a decompression mechanism (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.) under the conditions of a pressure of 2000 kg / cm 2 and a flow rate of 500 g / min. This dispersion treatment was repeated 10 times in total to obtain a dispersion liquid.
  • a high-pressure disperser NANO-3000-10 with a decompression mechanism manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.
  • composition for forming red pixels >> 67.14 parts by mass of dispersion R-1, 1.142 parts by mass of polymerizable compound M-4, 1.0119 parts by mass of resin D-6, and 0.603 parts of photopolymerization initiator I-1. Parts by mass, 0.0417 parts by mass of the surfactant Su-2, 0.0006 parts by mass of the polymerization inhibitor In-1, 27.736 parts by mass of the solvent S-1, and 2 of the solvent S-2.
  • a composition for forming a red pixel was produced by mixing with 3248 parts by mass.
  • composition for forming green pixels 64.93 parts by mass of dispersion G-1, 1.809 parts by mass of polymerizable compound M-2, 0.7364 parts by mass of resin D-1, and 0.8 parts by mass of photopolymerization initiator I-1. Parts by mass, 0.51 parts by mass of additive A-2, 0.0417 parts by mass of surfactant Su-2, 0.009 parts by mass of polymerization inhibitor In-1, and solvent S-1. 31.172 parts by mass was mixed to produce a composition for forming a green pixel.
  • composition for forming blue pixels >> 33.842 parts by mass of the dispersion B-1, 1.535 parts by mass of the dye Dye-1, 1.678 parts by mass of the polymerizable compound M-5, and 0.028 parts by mass of the resin D-1. , 0.112 parts by mass of resin D-3, 0.839 parts by mass of photopolymerization initiator I-6, 0.707 parts by mass of additive A-1, and 0. 0063 parts by mass, 0.0008 parts by mass of the polymerization inhibitor In-1, 0.922 parts by mass of the solvent S-1, and 60.33 parts by mass of the solvent S-2 are mixed for forming a blue pixel. The composition was produced.
  • composition for forming a red pixel The details of each material used for producing the composition for forming a red pixel, the composition for forming a green pixel, and the composition for forming a blue pixel are as follows.
  • Dispersion R-1, Dispersion G-1, Dispersion B-1 Dispersion R-1, Dispersion G-1, Dispersion B-1 described above -Dye Dye-1: The above-mentioned dye Dye-1 Polymerizable compound M-2: NK ester A-TMMT (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) -Polymerizable compound M-4: KAYARAD DPCA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) -Polymerizable compound M-5: Ethylene oxide modified product of trimethyl propanetriacrylate-Resin D-1: The same resin as the above-mentioned dispersant D-1-Resin D-3: The same resin as the above-mentioned resin D-3-Resin D-6: Resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio, and the numerical value added to the side chain is the number of repeating units.
  • Photopolymerization Initiator I-1 The above-mentioned photopolymerization initiator I-1 -Photopolymerization initiator I-6: A compound having the following structure -Additive A-1: Additive A-1 described above -Additive A-2: Additive A-2 described above -Surfactant Su-2: The above-mentioned surfactant Su-2 -Polymerization inhibitor In-1: p-methoxyphenol-Solvent S-1: Propylene glycol monomethyl ether acetate-Solvent S-2: Cyclohexanone

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Abstract

色材と、樹脂と、重合性化合物と、溶剤と、を含むマゼンタ色感光性樹脂組成物であって、色材は、マゼンタ色顔料と、マゼンタ色染料とを含み、色材中におけるマゼンタ色染料の含有量が２０質量％以上であり、マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中におけるマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料との合計量が３０質量％以上である、マゼンタ色感光性樹脂組成物。前述のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用いた膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置。

Description

マゼンタ色感光性樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
　本発明は、マゼンタ色感光性樹脂組成物に関する。また、本発明は、マゼンタ色感光性樹脂組成物を用いた膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置に関する。
　近年、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の普及から、電荷結合素子（ＣＣＤ）イメージセンサなどの固体撮像素子の需要が大きく伸びている。ディスプレイや光学素子のキーデバイスとしてカラーフィルタが使用されている。
　カラーフィルタの各色の着色画素は色材を含む感光性樹脂組成物を用いて製造されている（特許文献１など）。
特開２０１７－２０１００３号公報
　近年ではマゼンタ色の画素を有するカラーフィルタの開発が検討されている。
　本発明者の検討によれば、従来から知られているマゼンタ色感光性樹脂組成物では、現像残渣が生じやすかったり、画素の表面粗さが大きかったり、画素の解像性が不十分であり、これらの特性を高い水準で並立させることは困難であった。
　よって、本発明の目的は、現像残渣が少なく、解像性に優れ、表面粗さの小さいマゼンタ色の画素を形成できるマゼンタ色感光性樹脂組成物を提供することにある。また、本発明の目的は、マゼンタ色感光性樹脂組成物を用いた膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置を提供することにある。
　本発明者の検討によれば、色材と、樹脂と、重合性化合物と、溶剤と、を含むマゼンタ色感光性樹脂組成物において、色材としてマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料とを併用することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
　＜１＞　色材と、樹脂と、重合性化合物と、溶剤と、を含むマゼンタ色感光性樹脂組成物であって、
　上記色材は、マゼンタ色顔料と、マゼンタ色染料とを含み、
　上記色材中における上記マゼンタ色染料の含有量が２０質量％以上であり、
　上記マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における上記マゼンタ色顔料と上記マゼンタ色染料との合計量が３０質量％以上である、マゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜２＞　上記マゼンタ色感光性樹脂組成物は、波長５４０ｎｍの光に対する吸光度を１としたとき、４００～４５０ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値が０．５以下で、かつ、６００～７００ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値が０．５以下である、＜１＞に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜３＞　上記マゼンタ色感光性樹脂組成物は、波長５４０ｎｍの光に対する吸光度を１としたとき、吸光度が０．３となる光の波長が４５０～５２０ｎｍの波長範囲と、５５０～６００ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在する、＜１＞または＜２＞に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜４＞　上記マゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて厚さ０．６μｍの膜を形成した際に、上記膜の厚み方向における４００～５００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が７０％以上、４５０～６００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が３０％以下、および、５５０～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が７０％以上であり、
　上記膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す波長が４５０～５００ｎｍの波長範囲と、５５０～６００ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在する、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜５＞　上記マゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて厚さ０．６μｍの膜を形成した際に、上記膜の厚み方向における４００～５００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が８０％以上、４５０～６００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が１０％以下、および、５５０～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が９０％以上であり、
　上記膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す波長が４７５～４９５ｎｍの波長範囲と、５７０～５９０ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在する、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜６＞　上記マゼンタ色染料は、重合性基を有する化合物である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜７＞　上記マゼンタ色染料は、染料多量体である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜８＞　上記マゼンタ色染料は、キサンテン化合物、ピロメテン化合物およびトリアリールメタン化合物から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜９＞　上記マゼンタ色顔料は、カラーインデックスピグメントレッド１２２、カラーインデックスピグメントレッド２０２、カラーインデックスピグメントレッド２０９、および、カラーインデックスピグメントレッド２６９から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜１０＞　上記マゼンタ色顔料は、カラーインデックスピグメントレッド１２２を含む、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜１１＞　上記マゼンタ色染料の１００質量部に対して、上記マゼンタ色顔料を５～４００質量部含む、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜１２＞　固体撮像素子用である、＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜１３＞　フォトリソグラフィ用である、＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
　＜１４＞　＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて得られる膜。
　＜１５＞　＜１４＞に記載の膜を有するカラーフィルタ。
　＜１６＞　＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて得られるマゼンタ色画素と、カラーインデックスピグメントグリーン７を含むシアン色画素と、カラーインデックスピグメントイエロー１５０を含む黄色画素とを有するカラーフィルタ。
　＜１７＞　＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて得られるマゼンタ色画素と、シアン色画素と、黄色画素とを有し、
　上記シアン色画素は、４５０～５５０ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が９０％以上、６１５～６４５ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が２０％以下であり、透過率が５０％を示す波長が３９５～４１５ｎｍの波長範囲と、５６０～５８０ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在し、
　上記黄色画素は、５００～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が９０％以上、４１５～４４５ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が１０％以下であり、透過率が５０％を示す波長が４７０～４９０ｎｍの波長範囲に存在する、
　カラーフィルタ。
　＜１８＞　＜１４＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
　＜１９＞　＜１４＞に記載の膜を有する画像表示装置。
　本発明によれば、現像残渣が少なく、解像性に優れ、表面粗さの小さいマゼンタ色の画素を形成できるマゼンタ色感光性樹脂組成物を提供することができる。また、マゼンタ色感光性樹脂組成物を用いた膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置を提供することができる。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、構造式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）法により測定したポリスチレン換算値である。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜マゼンタ色感光性樹脂組成物＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、色材と、樹脂と、重合性化合物と、溶剤と、を含むマゼンタ色感光性樹脂組成物であって、
　色材は、マゼンタ色顔料と、マゼンタ色染料とを含み、
　色材中におけるマゼンタ色染料の含有量が２０質量％以上であり、
　マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中におけるマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料との合計量が３０質量％以上であることを特徴とする。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物によれば、現像残渣が少なく、解像性に優れ、表面粗さの小さいマゼンタ色の画素を形成できる。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、波長５４０ｎｍの光に対する吸光度を１としたとき、４００～４５０ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値が０．５以下で、かつ、６００～７００ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値が０．５以下であることが好ましい。４００～４５０ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値は０．３以下であることがより好ましく、０．２以下であることが更に好ましい。６００～７００ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値は０．３以下であることがより好ましく、０．２以下であることが更に好ましい。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、波長５４０ｎｍの光に対する吸光度を１としたとき、吸光度が０．３となる光の波長が４５０～５２０ｎｍの波長範囲と、５５０～６００ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在することが好ましい。吸光度が０．３となる短波長側の波長（以下、λ１ともいう）は、シアン、イエロー等の他色の着色画素と十分に色分離し、イメージセンサの色再現性を高めることができるという理由から４６０～５１０ｎｍの波長範囲に存在することがより好ましく、４７０～５００ｎｍの波長範囲に存在することが更に好ましい。また、吸光度が０．３となる長波長側の波長（以下、λ２ともいう）も、上記と同様の理由から５６０～５９５ｎｍの波長範囲に存在することがより好ましく、５７０～５９０ｎｍの波長範囲に存在することが更に好ましい。また、λ２とλ１との差（λ２－λ１）は、他色の着色画素との色分離の性能を十分に確保しつつ、フォトダイオードに入射する光量を十分に確保することができるという理由から６０～１２０ｎｍであることが好ましく、７０～１１０ｎｍであることがより好ましい。
　ある波長λにおける吸光度Ａλは、以下の式（Ａｂ１）により定義される。
　Ａλ＝－ｌｏｇ（Ｔλ／１００）　　　・・・（Ａｂ１）
　Ａλは、波長λにおける吸光度であり、Ｔλは、波長λにおける透過率（％）である。
　本発明において、吸光度の値は、溶液の状態で測定した値であってもよく、マゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて製膜した膜の値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法によってマゼンタ色感光性樹脂組成物を塗布し、ホットプレート等を用いて１００℃、２分間乾燥し、次いで、光照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量１Ｊ／ｃｍ２の条件でｉ線露光し、次いで、１００℃のホットプレート上で２０分間加熱し、常温まで放冷して得られた膜（膜）を用いて測定することが好ましい。吸光度は従来公知の分光光度計を用いて測定できる。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて厚さ０．６μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における４００～５００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が７０％以上、４５０～６００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が３０％以下、および、５５０～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が７０％以上であり、膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す波長が４５０～５００ｎｍの波長範囲と、５５０～６００ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在することが好ましい。この態様において、４００～５００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値は、７５％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。４５０～６００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値は、２０％以下であることがより好ましく、１５％以下であることが更に好ましく、１０％以下であることが特に好ましい。５５０～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値は、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す短波側の波長は、４６０～４９５ｎｍの波長範囲に存在することがより好ましく、４７０～４９５ｎｍの範囲に存在することが更に好ましく、４７５～４９５ｎｍの範囲に存在することが特に好ましい。膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す長波側の波長は、５６０～５９５ｎｍの波長範囲に存在することがより好ましく、５７０～５９０ｎｍの範囲に存在することが更に好ましい。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、固体撮像素子用として好ましく用いることができる。また、本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、カラーフィルタ用として好ましく用いることができる。具体的には、カラーフィルタのマゼンタ色の画素形成用として好ましく用いることができる。また、本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、固体撮像素子に用いられるカラーフィルタのマゼンタ色画素形成用として好ましく用いることができる。また、本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、フォトリソグラフィ用のマゼンタ色感光性樹脂組成物としても用いることができる。
　以下、本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜色材＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は色材を含有する。色材としては、マゼンタ色顔料とマゼンタ色染料とが用いられる。なお、本明細書において、マゼンタ色とは緑色の補色の色相のことである。また、補色とは、色相環（ｃｏｌｏｒ　ｃｉｒｃｌｅ）で正反対に位置する関係の色の組合せのことである。また、マゼンタ色顔料とはマゼンタ色の色相を呈する顔料のことであり、マゼンタ色染料とはマゼンタ色の色相を呈する染料のことである。また、本明細書において、マゼンタ色顔料とは、溶剤に対して溶解しにくいマゼンタ色の色素化合物を指す。マゼンタ色顔料は、２３℃の水１００ｇおよび２３℃のシクロヘキサノン１００ｇに対する溶解度がいずれも１ｇ未満であることが好ましい。また、本明細書において、マゼンタ色染料とは、水または有機溶剤に溶解するマゼンタ色の色素化合物を指す。マゼンタ色染料は、２３℃のシクロヘキサノン１００ｇに対する溶解度が１ｇ以上であることが好ましく、５ｇ以上であることがより好ましい。
（マゼンタ色顔料）
　本発明で用いられるマゼンタ色顔料としては、緑の波長の光の吸光度が高く、かつ、赤色および青色の波長の光の吸光度の低い顔料が挙げられる。
　マゼンタ色顔料の極大吸収波長は、５００～６００ｎｍの波長範囲に存在することが好ましく、５００～５９０ｎｍの波長範囲に存在することがより好ましく、５００～５８５ｎｍの範囲に存在することが更に好ましく、５００～５８０ｎｍの範囲に存在することが特に好ましい。
　また、マゼンタ色顔料は、波長５００～６００ｎｍの範囲における極大吸収波長の吸光度を１とした場合に、吸光度が０．５となる波長が極大吸収波長よりも短波長側では４５０ｎｍ以上に存在することが好ましく、４６０ｎｍ以上に存在することがより好ましく、４７０ｎｍ以上に存在することが更に好ましい。また、本発明で用いられるマゼンタ色顔料は、波長５００～６００ｎｍの範囲における極大吸収波長の吸光度を１とした場合に、吸光度が０．５となる波長が極大吸収波長よりも長波長側では６５０ｎｍ以下に存在することが好ましく、６４０ｎｍ以下に存在することがより好ましく、６３０ｎｍ以下に存在することが更に好ましく、６２０ｎｍ以下に存在することが特に更に好ましい。また、本発明で用いられるマゼンタ色顔料は、極大吸収波長と、波長λ１（極大吸収波長の吸光度を１とした場合に、吸光度が０．５となる極大吸収波長よりも短波長の波長）との差が、１１０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、９０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、波長λ２（極大吸収波長の吸光度を１とした場合に、吸光度が０．５となる極大吸収波長よりも長波長の波長）と極大吸収波長との差が、１１０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、９０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、本発明で用いられるマゼンタ色顔料は、波長λ２と波長λ１との差（λ２－λ１）が、１３０ｎｍ以下であることが好ましく、１２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１１５ｎｍ以下であることが更に好ましく、１１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
　マゼンタ色顔料は、キナクリドン骨格、ジオキサジン骨格およびナフトールアゾ骨格から選ばれる色素骨格を有する化合物であることが好ましく、キナクリドン骨格およびジオキサジン骨格から選ばれる色素骨格を有する化合物であることがより好ましく、分光性能と安定性という理由から色素骨格としてキナクリドン骨格を有する化合物であることが更に好ましい。
　マゼンタ色顔料の具体例としては、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３が挙げられ、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９およびＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６９が好ましく、分光波形の観点からＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２がより好ましい。
　マゼンタ色顔料の平均一次粒子径は、５０ｎｍ以下であることが好ましく、４７ｎｍ以下であることがより好ましく、４５ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限は特に限定はないが、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。マゼンタ色顔料の平均一次粒子径が５０ｎｍ以下であれば、直線性にすぐれた微細な画素（パターン）を形成することができる。なお、本明細書において、顔料の平均一次粒子径は、顔料を透過型電子顕微鏡（例えば、日本電子製、ＪＥＭ－２１００Ｆ型、電界放射型透過電子顕微鏡に準ずる装置）を用いて観察し、得られた写真から求めた数平均粒子径のことをいう。具体的には、上記装置により顔料の投影面積を求め、そこから各顔料の円相当径を求めて平均一次粒子径を算出する。より具体的には、１００個の顔料についての円相当径を測定した後、最大側１０個と最小側１０個とを除いた８０個の顔料についての円相当径を算術平均して顔料の平均一次粒子径を算出する。
（マゼンタ色染料）
　本発明で用いられるマゼンタ色染料としては、緑の波長の光の吸光度が高く、かつ、赤色および青色の波長の光の吸光度の低い染料が挙げられる。マゼンタ色染料は、波長５００～５５０ｎｍの範囲の光の吸光度が高く、かつ、波長４００～４８０ｎｍの範囲の光の吸光度と、波長６００～７００ｎｍの範囲の光の吸光度が低い染料であることが好ましい。
　マゼンタ色染料は、下記式（Ａ１）で表されるΔλが１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
　Δλ＝λ２－λ１　　　（Ａ１）
　式中、λ１はマゼンタ色染料の極大吸収波長の吸光度を１とした場合に、吸光度が０．５となる極大吸収波長よりも短波長側の波長であり、λ２はマゼンタ色染料の極大吸収波長の吸光度を１とした場合に、吸光度が０．５となる極大吸収波長よりも長波長側の波長である。
　マゼンタ色染料の極大吸収波長は、４５０～６００ｎｍの波長範囲に存在することが好ましく、４７５～５７５ｎｍの波長範囲に存在することがより好ましく、５００～５５０ｎｍの波長範囲に存在することが更に好ましい。
　マゼンタ色染料は、４００～４８０ｎｍの波長範囲の光の吸光度の最大値Ａ１と、５００～５５０ｎｍの波長範囲の光の吸光度の最小値Ａ２との比（Ａ１／Ａ２）が０．２～０．８であることが好ましく、０．３～０．７であることがより好ましく、０．４～０．６であることが更に好ましい。また、マゼンタ色染料は、６００～７００ｎｍの波長範囲の光の吸光度の最大値Ａ３と、５００～５５０ｎｍの波長範囲の光の吸光度の最小値Ａ２との比（Ａ３／Ａ２）が０．３以下であることが好ましく、０．２以下であることがより好ましく、０．１以下であることが更に好ましい。また、マゼンタ色染料は、６００～７００ｎｍの波長範囲の光の吸光度の最大値Ａ３と４００～４８０ｎｍの波長範囲の光の吸光度の最大値Ａ１との比（Ａ３／Ａ１）が０．１以下であることが好ましく、０．０３以下であることがより好ましく、０．０２以下であることが更に好ましい。
　マゼンタ色染料は、波長４４０ｎｍの光の吸光度Ａ４４０と、波長５２５ｎｍの光の吸光度Ａ５２５との比（Ａ４４０／Ａ５２５）が０．００１～０．１５であることが好ましく、０．００５～０．１０であることがより好ましく、０．０１～０．０５であることが更に好ましい。また、マゼンタ色染料は、波長６５０ｎｍの光の吸光度Ａ６５０と、波長５２５ｎｍの光の吸光度Ａ５２５との比（Ａ６５０／Ａ５２５）が０．２以下であることが好ましく、０．１以下であることがより好ましく、０．０５以下であることが更に好ましい。また、マゼンタ色染料は、波長６５０ｎｍの光の吸光度Ａ６５０と波長４４０ｎｍの光の吸光度Ａ４４０との比（Ａ６５０／Ａ４４０）が０．１以下であることが好ましく、０．０３以下であることがより好ましく、０．０２以下であることが更に好ましい。
　マゼンタ色染料としては、キサンテン化合物、ピロメテン化合物、トリアリールメタン化合物、キナクリドン化合物、シアニン化合物、アントラピリドン化合物、およびアントラキノン化合物などが挙げられ、マゼンタ色としての分光の観点からキサンテン化合物、ピロメテン化合物およびトリアリールメタン化合物が好ましく、キサンテン化合物がより好ましい。
　トリアリールメタン化合物としては、下記式（ＴＰ）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式（ＴＰ）中、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ４は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒｔｐ５は、水素原子、アルキル基、アリール基またはＮＲｔｐ９Ｒｔｐ１０（Ｒｔｐ９およびＲｔｐ１０は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す）を表す。Ｒｔｐ６、Ｒｔｐ７およびＲｔｐ８は、置換基を表す。ａ、ｂおよびｃは、０～４の整数を表す。ａ、ｂおよびｃが２以上の場合、Ｒｔｐ６同士、Ｒｔｐ７同士およびＲｔｐ８同士は、それぞれ連結して環を形成してもよい。Ｘはアニオンを表す。Ｘが存在しない場合は、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ８の少なくとも１つがアニオンを含む。
　Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ４は水素原子、炭素数１～５の直鎖または分岐のアルキル基およびフェニル基が好ましい。Ｒｔｐ５は、水素原子またはＮＲｔｐ９Ｒｔｐ１０が好ましく、ＮＲｔｐ９Ｒｔｐ１０が特に好ましい。Ｒｔｐ９およびＲｔｐ１０は、水素原子、炭素数１～５の直鎖若しくは分岐のアルキル基またはフェニル基が好ましい。Ｒｔｐ６、Ｒｔｐ７およびＲｔｐ８が表す置換基は、後述する置換基Ｔで挙げた基や重合性基が挙げられる。
　式（ＴＰ）において、Ｘは対アニオンを表す。Ｘが存在しない場合は、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ８の少なくとも１つがアニオンを含む。対アニオンとしては、特に制限は無い。有機アニオンであってもよく、無機アニオンであってもよい。対アニオンは有機アニオンが好ましい。対アニオンとしては、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、シアン化物イオン、過塩素酸アニオン、非求核性のアニオンなどが挙げられる。耐熱性の観点で非求核性のアニオンであることが好ましい。対アニオンの例として、特開２００７－３１０３１５号公報の段落番号００７５に記載の公知の非求核性アニオンが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ここで、非求核性とは、加熱により色素を求核攻撃しない性質を意味する。
　対アニオンは、イミドアニオン（例えばビス（スルホニル）イミドアニオン）、トリス（スルホニル）メチルアニオン、ホウ素原子を有するアニオンが好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオンおよびトリス（スルホニル）メチルアニオンがより好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオンがより好ましい。ホウ素原子を有するアニオンとしては、テトラフルオロボレートアニオン、テトラフェニルボレートアニオン、テトラパーフルオロフェニルボレートアニオンなどが挙げられる。対アニオンの分子量は、１００～１０００が好ましく、２００～５００がより好ましい。
　式（ＴＰ）において、ａ、ｂまたはｃは、それぞれ独立に０～４の整数を表す。特にａおよびｃは、それぞれ、０または１が好ましく、０がより好ましい。ｂは０～２の整数が好ましく、０または２がより好ましい。
　式（ＴＰ）において、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ７の少なくとも１つがアニオンを含む場合、アニオンとしては、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４ －、ビス（スルホニル）イミドアニオン、トリス（スルホニル）メチドアニオンおよびテトラアリールボレートアニオンが好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオン、トリス（スルホニル）メチドアニオンおよびテトラアリールボレートアニオンがより好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオンおよびトリス（スルホニル）メチドアニオンが更に好ましい。具体的には、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ７の少なくとも１つが、式（Ｐ）で置換された構造が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 　式（Ｐ）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｘ１は、アニオンを表す。
　式（Ｐ）中、Ｌは単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、－ＮＲ１０－、－Ｏ－、－ＳＯ２－、フッ素原子を含むアルキレン基、フッ素原子を含むアリーレン基またはこれらの組み合わせからなる基を表すことが好ましい。特に、－ＮＲ１０－と－ＳＯ２とフッ素原子を含むアルキレン基との組み合わせからなる基、－Ｏ－とフッ素原子を含むアリーレン基との組み合わせからなる基、または、－ＮＲ１０－と－ＳＯ２とフッ素原子を含むアルキレン基との組み合わせからなる基が好ましい。
　－ＮＲ１０－において、Ｒ１０は、水素原子または炭素数１～５のアルキル基を表し、水素原子が好ましい。
　フッ素原子を含むアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましい。これらのアルキレン基は、パーフルオロアルキレン基がより好ましい。フッ素置換アルキレン基の具体例としては、ジフルオロメチレン基、テトラフルオロエチレン基、ヘキサフルオロプロピレン基などが挙げられる。
　フッ素原子を含むアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。フッ素原子を含むアリーレン基の具体例としては、テトラフルオロフェニレン基、ヘキサフルオロ－１－ナフチレン基、ヘキサフルオロ－２－ナフチレン基などが挙げられる。
　式（Ｐ）中、Ｘ１は、アニオンを表し、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４Ｈ－、ビス（スルホニル）イミドアニオン、トリス（スルホニル）メチドアニオンおよびテトラアリールボレートアニオンから選ばれる１種が好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオン、トリス（スルホニル）メチドアニオンおよびテトラアリールボレートアニオンから選ばれる１種がより好ましく、ビス（スルホニル）イミドアニオンまたはトリス（スルホニル）メチドアニオンが更に好ましい。
　Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ８の少なくとも１つがアニオンを含む場合、Ｒｔｐ１～Ｒｔｐ８の少なくとも１つが、式（Ｐ－１）で置換された構造であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　式（Ｐ－１）中、Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表し、単結合であることが好ましい。Ｌ１が表す２価の連結基としては、炭素数１～６のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、またはこれらの組み合わせからなる基等が挙げられる。Ｌ２は、－ＳＯ２－または－ＣＯ－を表す。Ｇは、炭素原子または窒素原子を表す。ｎ１は、Ｇが炭素原子の場合２を表し、Ｇが窒素原子の場合１を表す。Ｒ６は、フッ素原子を含むアルキル基またはフッ素原子を含むアリール基を表す。ｎ１が２の場合、２つのＲ６はそれぞれ同一でも異なっていても良い。Ｒ６が表すフッ素原子を含むアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３がさらに好ましい。Ｒ６が表すフッ素原子を含むアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
　置換基Ｔとしては、次の基が挙げられる。ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０）、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシル基の塩、スルホ基、スルホ基の塩、リン酸基、リン酸基の塩、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基、メルカプト基、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０）。カルボキシル基の塩、スルホ基の塩、およびリン酸基の塩において、塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。これらの基は、さらに置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　トリアリールメタン化合物の具体例としては、特開２０１６－１０２１９１号公報に記載された化合物および後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。
　キサンテン化合物としては、下記式（ＸＴ）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式（ＸＴ）中、Ｒｘｔ１、Ｒｘｔ２、Ｒｘｔ３およびＲｘｔ４は、各々独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒｘｔ５は、置換基を表し、ｍは０～５の整数を表す。Ｘは対アニオンを表す。Ｘが存在しない場合は、Ｒｘｔ１～Ｒｘｔ５の少なくとも１つがアニオンを含む。
　式（ＸＴ）におけるＲｘｔ１～Ｒｘｔ５が取りうる置換基は、上述した置換基Ｔで挙げた基、重合性基および、下記式（ｘｔ－１）で表される基が挙げられる。Ｒｘｔ１およびＲｘｔ３は、各々独立に、アリール基またはアルキル基であることが好ましい。また、Ｒｘｔ２およびＲｘｔ４は、各々独立に、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。また、上記のアルキル基及びアリール基は更に置換基を有していてもよい。さらなる置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基、重合性基および、下記式（ｘｔ－１）で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式（ｘｔ－１）中、Ｒｘｔ１００は炭素数１～１０のアルカンジイル基を表し、アルカンジイル基を構成する－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＲｓ１０－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＮＨ－、－ＣＯＮＨ－または－ＮＨＣＯ－で置換されていてもよく、Ｒｓ１０は水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、
　Ｒｓ１～Ｒｓ３はそれぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１～４のアルキル基または炭素数１～４のアルコキシ基を表し、
　＊は式（ＸＴ）の窒素原子との結合手を表す。
　式（ｘｔ－１）で表される基の詳細については、特開２０１６－０２７０７５号公報の段落番号００１０～００６５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　式（ＸＴ）中のＲｘｔ１とＲｘｔ２、Ｒｘｔ３とＲｘｔ４、およびｍが２以上の場合のＲｘｔ５同士は、各々独立に、互いに結合して５員、６員若しくは７員の飽和環、または５員、６員若しくは７員の不飽和環を形成していてもよい。形成する環としては、例えば、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環が挙げられ、好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環が挙げられる。形成される環は、上述した置換基Ｔで挙げた基、重合性基、上述した式（ｘｔ－１）で表される基などを更に有していてもよい。
　式（ＸＴ）において、Ｘは、対アニオンを表す。対アニオンとしては、上述した式（ＴＰ）で説明した対アニオンが挙げられる。Ｘが存在しない場合は、Ｒｘｔ１～Ｒｘｔ５の少なくとも１つがアニオンを含む。また、式（ＸＴ）において、Ｒｘｔ１～Ｒｘｔ５の少なくとも１つがアニオンを含む場合、アニオンとしては、上述した式（ＴＰ）で説明したアニオンが挙げられる。
　キサンテン化合物は、式（ＸＴ１）で表される化合物または式（ＸＴ２）で表される化合物であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式（ＸＴ１）中、Ｒｘｔ１１およびＲｘｔ１２は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒｘｔ２１～Ｒｘｔ２４は各々独立にアルキル基を表し、Ｒｘｔ２５～Ｒｘｔ２７は各々独立に水素原子または置換基を表す。
　式（ＸＴ２）中、Ｒｘｔ３１～Ｒｘｔ３４は、各々独立に、アルキル基を表し、Ｒｘｔ３５は水素原子または置換基を表す。
　式（ＸＴ１）のＲｘｔ１１、Ｒｘｔ１２、Ｒｘｔ２１、Ｒｘｔ２２、Ｒｘｔ２３およびＲｘｔ２４が表すアルキル基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましい。上記のアルキル基は置換基を有していてもよい。更なる置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基、重合性基および、上記式（ｘｔ－１）で表される基が挙げられ、カルボキシル基であることが好ましい。式（ＸＴ１）のＲｘｔ２５～Ｒｘｔ２７が表す置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基、重合性基および、上記式（ｘｔ－１）で表される基が挙げられる。
　式（ＸＴ２）のＲｘｔ３１～Ｒｘｔ３４が表すアルキル基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましい。上記のアルキル基は置換基を有していてもよい。更なる置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基、重合性基および、上記式（ｘｔ－１）で表される基が挙げられ、カルボキシル基であることが好ましい。式（ＸＴ２）のＲｘｔ３５が表す置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基、重合性基および、上記式（ｘｔ－１）で表される基が挙げられる。
　キサンテン化合物の具体例としては、特開２０１６－０２７０７５号公報に記載された化合物、特開２０１６－１０２１９１号公報に記載された化合物、国際公開第２０２０／１９５９６２号の段落番号００９１～に０１０９に記載された化合物および後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。
　ピロメテン化合物としては、式（ＰＭ）で表される化合物、および、式（ＰＭ）で表される化合物と金属または金属化合物とから形成される金属錯体化合物などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 　式中、Ｒｐｍ１～Ｒｐｍ６は、各々独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｒｐｍ７は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。アルキル基、アリール基およびヘテロ環基は置換基を有していてもよい。Ｒｐｍ１～Ｒｐｍ６が表す置換基、ならびに、アルキル基、アリール基およびヘテロ環基が有していてもよい置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基や、重合性基が挙げられる。
　式（ＰＭ）で表される化合物と金属錯体化合物を形成する金属又は金属化合物について説明する。金属又は金属化合物としては、式（ＰＭ）で表される化合物と錯体を形成可能な金属原子又は金属化合物であればいずれであってもよく、２価の金属原子、２価の金属酸化物、２価の金属水酸化物、および２価の金属塩化物が挙げられる。例えば、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｂ、ＡｌＣｌ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＴｉＣｌ２、ＳｎＣｌ、ＳｉＣｌ２、ＧｅＣｌ２、ＴｉＯ、ＶＯ、Ｓｉ（ＯＨ）２等が挙げられる。これらの中でも、錯体の安定性、分光特性、耐熱、耐光性、及び製造適性等の観点から、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、ＴｉＯ、Ｂ、又はＶＯが好ましく、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｂ、又はＶＯが更に好ましく、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｂ、又はＶＯ（Ｖ＝Ｏ）がより一層好ましく、Ｚｎが特に好ましい。
　ピロメテン化合物の具体例としては、特開２０１４－１３２３４８号公報に記載された化合物、および後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。
　マゼンタ色染料としては、重合性基を有する化合物を用いることも好ましい。この態様によれば、膜を加熱した際における色移りなどを効果的に抑制できる。重合性基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などのエチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　マゼンタ色染料は、染料多量体であることも好ましい。この態様によれば、膜を加熱した際における色移りなどを効果的に抑制できる。染料多量体とは、一分子中に、色素構造を２以上有する化合物のことである。染料多量体は色素構造を３以上有する化合物であることが好ましい。色素構造の数の上限は、特に限定はないが、１００以下とすることもできる。染料多量体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～５００００が好ましい。下限は、３０００以上がより好ましく、６０００以上がさらに好ましい。上限は、３００００以下がより好ましく、２００００以下がさらに好ましい。
　染料多量体としては、式（Ａ）で表される繰り返し単位を有する染料多量体（以下、染料多量体（Ａ）ともいう）、式（Ｂ）で表される繰り返し単位を有する染料多量体（以下、染料多量体（Ｂ）ともいう）、式（Ｃ）で表される繰り返し単位を有する染料多量体（以下、染料多量体（Ｃ）ともいう）、式（Ｄ）で表される染料多量体（以下、染料多量体（Ｄ）ともいう）が挙げられ、染料多量体（Ａ）または染料多量体（Ｄ）であることが好ましい。
（染料多量体（Ａ））
　染料多量体（Ａ）は、式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む。式（Ａ）で表される繰り返し単位の割合は、染料多量体（Ａ）を構成する全繰り返し単位の１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が更に好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限は、１００質量％以下とすることもでき、９５質量％以下とすることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　式（Ａ）中、Ｘ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、Ｄ１は色素構造を表す。
　式（Ａ）中、Ｘ１は繰り返し単位の主鎖を表す。Ｘ１は、重合反応で形成される連結基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、ビニル基、エーテル基を有する化合物由来の主鎖が好ましい。また、主鎖が環状のアルキレン基を有する態様も好ましい。Ｘ１としては、公知の重合可能なモノマーから形成される連結基であれば特に制限ない。下記（ＸＸ－１）～（ＸＸ－２５）で表される連結基が好ましく、（ＸＸ－１）、（ＸＸ－２）、（ＸＸ－１０）～（ＸＸ－１７）、（ＸＸ－１８）、（ＸＸ－１９）、（ＸＸ－２４）および（ＸＸ－２５）から選択されることがより好ましく、（ＸＸ－１）、（ＸＸ－２）、（ＸＸ－１０）～（ＸＸ－１７）、（ＸＸ－２４）および（ＸＸ－２５）から選択されることがさらに好ましい。
　以下の式中、＊は、式（Ａ）のＬ１との結合部位である。Ｍｅはメチル基を表す。また、（ＸＸ－１８）および（ＸＸ－１９）中のＲは、水素原子、炭素数１～５のアルキル基またはフェニル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　Ｌ１は単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、炭素数１～３０のアルキレン基、炭素数６～３０のアリーレン基、ヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２個以上連結して形成される連結基が挙げられる。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表す。
　アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましい。上限は、２５以下がより好ましく、２０以下が更に好ましい。下限は、２以上がより好ましく、３以上が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキレン基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。
　アリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリーレン基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。
　ヘテロ環連結基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロ環連結基が有するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。ヘテロ環連結基が有するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。ヘテロ環連結基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。
　Ｄ１は、色素構造を表す。Ｄ１が表す色素構造としては、キサンテン色素構造、ピロメテン色素構造、トリアリールメタン色素構造、キナクリドン色素構造、シアニン色素構造およびアントラキノン色素構造などが挙げられ、キサンテン色素構造、ピロメテン色素構造およびトリアリールメタン色素構造であることが好ましく、キサンテン色素構造であることがより好ましい。キサンテン色素構造としては、上述した式（ＸＴ）で表される化合物から水素原子を１個以上取り除いた残基であることが好ましい。また、ピロメテン色素構造としては、上述した式（ＰＭ）で表される化合物から水素原子を１個以上取り除いた残基であることが好ましい。また、トリアリールメタン色素構造としては、上述した式（ＴＰ）で表される化合物から水素原子を１個以上取り除いた残基であることが好ましい。
　染料多量体（Ａ）は、式（Ａ）で表される繰り返し単位の他に、他の繰り返し単位を含んでいてもよい。他の繰り返し単位は、重合性基を有する繰り返し単位、酸基を有する繰り返し単位等が挙げられる。重合性基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などのエチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。酸基としては、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などが挙げられる。
　重合性基を有する繰り返し単位の割合は、染料多量体（Ａ）を構成する全繰り返し単位の５０質量％以下であることが好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、３５質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
　酸基を有する繰り返し単位の割合は、染料多量体（Ａ）を構成する全繰り返し単位の５０質量％以下であることが好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、３５質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
（染料多量体（Ｂ））
　染料多量体（Ｂ）は、式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含む。式（Ｂ）で表される繰り返し単位の割合は、染料多量体（Ｂ）を構成する全繰り返し単位の１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が更に好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限は、１００質量％以下とすることもでき、９５質量％以下とすることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 　式（Ｂ）中、Ｘ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、Ｄ２はＹ２とイオン結合もしくは配位結合可能な基を有する色素構造を表し、Ｙ２はＤ２とイオン結合または配位結合可能な基を表す；
　Ｘ２は、式（Ａ）のＸ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｌ２は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、炭素数１～３０のアルキレン基、炭素数６～３０のアリーレン基、ヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２個以上連結して形成される連結基が挙げられる。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表す。２価の連結基の詳細については、式（Ａ）のＬ１と同じである。Ｌ２は、単結合、または、アルキレン基、アリーレン基、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－およびこれらを２以上組み合わせた２価の連結基が好ましい。
　Ｙ２は、Ｄ２とイオン結合もしくは配位結合可能な基であればよい。たとえば、アニオン性基、カチオン性基などが挙げられる。アニオン性基としては、－ＳＯ３ －、－ＣＯＯ－、－ＰＯ４ ２－、－ＰＯ４Ｈ－、ビス（スルホニル）イミドアニオン、トリス（スルホニル）メチドアニオンおよびテトラアリールボレートアニオンなどが挙げられる。カチオン性基としては、置換又は無置換のオニウムカチオン（例えば、アンモニウム、ピリジニウム、イミダゾリウム及びホスホニウム等）が挙げられ、特にアンモニウムカチオンが好ましい。アンモニウムカチオンとしては、－Ｎ（Ｒ）３ ＋が挙げられる。Ｒは、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒの少なくとも１つは、アルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖が好ましい。
　Ｄ２は、Ｙ２とイオン結合もしくは配位結合可能な基を有する色素構造を表す。色素構造の種類としては、特に限定は無くＤ１で説明した種類の色素構造が挙げられる。Ｄ２が有するＹ２とイオン結合もしくは配位結合可能な基としては、Ｙ２で説明した、アニオン性基およびカチオン性基が挙げられる。また、Ｄ２の電荷のバランスがカチオンおよびアニオンのいずれかに偏っている場合は、Ｄ２のカチオン部またはアニオン部において、Ｙ２と結合することもできる。
　染料多量体（Ｂ）は、式（Ｂ）で表される繰り返し単位の他に、染料多量体（Ａ）で説明した他の繰り返し単位などを含んでいてもよい。また、上述した式（Ａ）で表される繰り返し単位、および、後述する式（Ｃ）で表される繰り返し単位を更に含んでいてもよい。
（染料多量体（Ｃ））
　染料多量体（Ｃ）は、式（Ｃ）で表される繰り返し単位を含む。式（Ｃ）で表される繰り返し単位の割合は、染料多量体（Ｃ）を構成する全繰り返し単位の１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が更に好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限は、１００質量％以下とすることもでき、９５質量％以下とすることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 　式（Ｃ）中、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、Ｄ３は色素構造を表し、ｍは０または１を表す。
　式（Ｃ）中、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、炭素数１～３０のアルキレン基、炭素数６～３０のアリーレン基、ヘテロ環連結基、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＣＯＯ－、－ＮＲ－、－ＣＯＮＲ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－およびこれらを２個以上連結して形成される連結基が挙げられる。ここで、Ｒは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
　アルキル基およびアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましい。上限は、２５以下がより好ましく、２０以下が更に好ましい。下限は、２以上がより好ましく、３以上が更に好ましい。アルキル基およびアルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　アリール基およびアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　ヘテロ環連結基およびヘテロ環基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロ環連結基およびヘテロ環基が有するヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が好ましい。ヘテロ環連結基およびヘテロ環基が有するヘテロ原子の数は、１～３個が好ましい。
　アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環連結基、アルキル基、アリール基、およびヘテロ環基は、無置換であってもよく、置換基を有してもよい。置換基としては、重合性基、酸基が挙げられる。また、２～２０個の無置換のアルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基、ラクトン、酸無水物、アミド、シアノ基等の現像促進基、長鎖および環状アルキル基、アラルキル基、アリール基、ポリアルキレンオキシド基、ヒドロキシ基、マレイミド基、アミノ基等の親疎水性調整基等を置換基として有してもよい。
　Ｌ３は、アルキレン基、アリーレン基、－ＮＨ－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらを２以上組み合わせた連結基が好ましい。
　Ｄ３は色素構造を表す。色素構造の種類としては、特に限定は無くＤ１で説明した種類の色素構造が挙げられる。
　ｍは０または１を表し、１が好ましい。
　染料多量体（Ｃ）は、一般式（Ｃ）で表される繰り返し単位の他に、染料多量体（Ａ）で説明した他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
（染料多量体（Ｄ））
　染料多量体（Ｄ）は、式（Ｄ）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 　式（Ｄ）中、Ｌ４は（ｎ＋ｋ）価の連結基を表し、Ｌ４１およびＬ４２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表し、Ｄ４は色素構造を表し、Ｐ４は置換基を表す；ｎは２～１５を表し、ｋは０～１３を表し、ｎ＋ｋは２～１５である。ｎ個のＤ４は互いに異なっていても良く、同一であってもよい。ｋが２以上の場合、複数のＰ４は互いに異なっていても良く、同一であってもよい。
　ｎは２～１４が好ましく、２～８がより好ましく、２～７が特に好ましく、２～６が一層好ましい。ｋは１～１３が好ましく、１～１０がより好ましく、１～８がさらにより好ましく、１～７が特に好ましく、１～６が一層好ましい。
　Ｌ４１、Ｌ４２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。２価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基を挙げることができる。以下の式中の＊は結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　Ｌ４が表す（ｎ＋ｋ）価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれる。（ｎ＋ｋ）価の連結基としては、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。以下の式中の＊は結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　（ｎ＋ｋ）価の連結基の具体例としては、特開２００８－２２２９５０号公報の段落番号００７１～００７２に記載された連結基、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０１７６に記載された連結基が挙げられる。
　一般式（Ｄ）中、Ｄ４は色素構造を表す。色素構造の種類としては、特に限定は無くＤ１で説明した種類の色素構造が挙げられる。
　式（Ｄ）中、Ｐ４が表す置換基としては、酸基、重合性基等が挙げられる。また、Ｐ４が表す置換基は、繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖であってもよい。繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖は、ビニル化合物由来の繰り返し単位を有する１価のポリマー鎖が好ましい。ｋが２以上の場合、ｋ個のＰ４は、同一であっても、異なっていてもよい。
　マゼンタ染料の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物；
　Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ　Ｒｅｄ　１，６，８，９，１３，１４，１８，２６，２７，３２，３５，３７，４２，５１，５２，５７，７５，７７，８０，８２，８５，８７，８８，８９，９２，９４，９７，１０６，１１１，１１４，１１５，１１７，１１８，１１９，１２９，１３０，１３１，１３３，１３４，１３８，１４３，１４５，１５４，１５５，１５８，１６８，１８０，１８３，１８４，１８６，１９４，１９８，２０９，２１１，２１５，２１９，２４９，２５２，２５４，２６２，２６５，２７４，２８２，２８９，３０３，３１７，３２０，３２１，３２２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ　Ｒｅｄ　１，２，４，９，１１，１３，１７，２０，２３，２４，２８，３１，３３，３７，３９，４４，４６，６２，６３，７５，７９，８０，８１，８３，８４，８９，９５，９９，１１３，１９７，２０１，２１８，２２０，２２４，２２５，２２６，２２７，２２８，２２９，２３０，２３１；
　Ｃ．　Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，８，１１，１２，１３，１５，１６，１７，１９，２０，２１，２２，２３，２４，２８，２９，３１，３２，３３，３４，３５，３６，３７，３８，３９，４０，４１，４２，４３，４５，４６，４９，５０，５８，５９，６３，６４；
　Ｃ．Ｉ．　Ｆｏｏｄ　Ｒｅｄ　７，９，１４等が挙げられる。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、マゼンタ色以外の色相の色材を含んでいてもよい。マゼンタ色以外の色相の色材としては、緑色色材、赤色色材、紫色色材、青色色材、オレンジ色色材、黒色色材ななどが挙げられる。マゼンタ色以外の色相の色材は顔料であってもよく、染料であってもよい。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における色材の含有量は、３０質量％以上であり、３５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましい。上限は、現像残渣抑制、解像性および表面荒れの抑制の観点から８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以下であることが更に好ましい。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中におけるマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料との合計の含有量は、分光特性の観点から３０質量％以上であり、３５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、４５質量％以上であることが更に好ましい。上限は、現像残渣抑制、解像性および表面荒れの抑制の観点から８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以下であることが更に好ましい。
　また、マゼンタ色感光性樹脂組成物に含まれる色材中におけるマゼンタ色染料の含有量は２０質量％以上である。色材中におけるマゼンタ色染料の含有量は、分光特性、解像性および表面荒れの抑制の観点から３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、４５質量％以上であることが更に好ましく、５０質量％以上であることがより一層好ましく、５５質量％以上であることが特に好ましい。また、色材中におけるマゼンタ色染料の含有量は、現像残渣抑制の観点から９７質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましく、８５質量％以下であることが更に好ましい。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物中におけるマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料との割合は、分光特性、現像残渣抑制、解像性および表面荒れの抑制の観点からマゼンタ色染料の１００質量部に対してマゼンタ色顔料が５～４００質量部であることが好ましい。下限は、現像残渣抑制の観点から１０質量部以上であることが好ましく、１５質量部以上であることがより好ましく、２０質量部以上であることが更に好ましく、３０質量部以上であることがより一層好ましく、５０質量部以上であることが特に好ましい。上限は、分光特性、解像性および表面荒れの抑制の観点から３００質量部以下であることが好ましく、２５０質量部以下であることがより好ましく、２００質量部以下であることが更に好ましく、１５０質量部以下であることがより一層好ましく、１００質量部以下であることが特に好ましい。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物は、分光特性の観点からマゼンタ色顔料以外の顔料（マゼンタ色以外の色相の顔料）を実質的に含まないことも好ましい。マゼンタ色感光性樹脂組成物がマゼンタ色顔料以外の顔料を実質的に含まない場合とは、マゼンタ色感光性樹脂組成物に含まれる顔料中におけるマゼンタ色顔料の含有量が９９質量％以上であることを意味し、９９．９質量％以上であることが好ましく、マゼンタ色感光性樹脂組成物に含まれる顔料がマゼンタ色顔料のみであることがより好ましい。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物は、分光特性の観点からマゼンタ色染料以外の染料（マゼンタ色以外の色相の染料）を実質的に含まないことも好ましい。マゼンタ色感光性樹脂組成物がマゼンタ色染料以外の染料を実質的に含まない場合とは、マゼンタ色感光性樹脂組成物に含まれる染料中におけるマゼンタ色染料の含有量が９９質量％以上であることを意味し、９９．９質量％以上であることが好ましく、マゼンタ色感光性樹脂組成物に含まれる染料がマゼンタ色染料のみであることがより好ましい。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物に含まれる色材中におけるマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料の合計の含有量は分光特性の観点から４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、６０質量％以上であることが更に好ましく、７０質量％以上であることがより一層好ましく、９０質量％以上であることが更に一層好ましい。マゼンタ色感光性樹脂組成物に含まれる色材は実質的にマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料のみであることが特に好ましい。なお、マゼンタ色感光性樹脂組成物に含まれる色材が実質的にマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料のみである場合とは、色材中におけるマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料との合計の含有量が９９質量％以上であることを意味し、９９．９質量％以上であることが好ましく、マゼンタ色感光性樹脂組成物に含まれる色材がマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料のみであることがより好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は顔料誘導体を含有することが好ましい。顔料誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体を構成する色素骨格としては、キノリン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、イミニウム色素骨格、スクアリリウム色素骨格、クロコニウム色素骨格、オキソノール色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、アゾ色素骨格、アゾメチン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、アントラキノン色素骨格、キナクリドン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリノン色素骨格、ペリレン色素骨格、チオインジゴ色素骨格、イソインドリン色素骨格、イソインドリノン色素骨格、キノフタロン色素骨格、イミニウム色素骨格、ジチオール色素骨格、トリアリールメタン色素骨格、ピロメテン色素骨格等が挙げられる。酸基としては、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基及びこれらの塩が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　顔料誘導体の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４、国際公開第２０１７／０３８２５２号の段落番号００８２、特開２０１５－１５１５３０号公報の段落番号０１７１、特開２０１１－２５２０６５号公報の段落番号０１６２～０１８３、特開２００３－０８１９７２号公報、特許第５２９９１５１号公報、特開２０１５－１７２７３２号公報、特開２０１４－１９９３０８号公報、特開２０１４－０８５５６２号公報、特開２０１４－０３５３５１号公報、特開２００８－０８１５６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／００２１０６号に記載のチオール連結基を有するジケトピロロピロール化合物が挙げられる。
　顔料誘導体の含有量は、マゼンタ色顔料の１００質量部に対して１～３０質量部であることが好ましく、３～２０質量部であることがより好ましい。また、マゼンタ色顔料と顔料誘導体との合計の含有量は、マゼンタ色染料の１００質量部に対して、５．１～５２０質量部であることが好ましく、２０～３００質量部であることがより好ましく、５０～１３０質量部であることが更に好ましい。
＜＜樹脂＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は樹脂を含有する。樹脂は、例えば、顔料等をマゼンタ色感光性樹脂組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料等をマゼンタ色感光性樹脂組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、３０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、酸基を有する樹脂を含むことも好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。また、酸基を有する樹脂としては、特開２０１７－１７３７８７号公報に記載されたアルカリ可溶性樹脂を用いることもできる。酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、塩基性基を有する樹脂を含むことも好ましい。塩基性基を有する樹脂は、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましく、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位と塩基性基を含まない繰り返し単位とを有する共重合体であることがより好ましく、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位と、塩基性基を含まない繰り返し単位とを有するブロック共重合体であることが更に好ましい。塩基性基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。塩基性基を有する樹脂のアミン価は、５～３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。塩基性基を有する樹脂に含まれる塩基性基としては、下記式（ａ－１）で表される基、下記式（ａ－２）で表される基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　式（ａ－１）中、Ｒａ１およびＲａ２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒａ１とＲａ２とは結合して環を形成していてもよい；
　式（ａ－２）中、Ｒａ１１は、水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基またはオキシラジカルを表し、Ｒａ１２～Ｒａ１９は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
　Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ１１～Ｒａ１９が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～５が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。
　Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ１１～Ｒａ１９が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。
　Ｒａ１１が表すアルコキシ基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～５が特に好ましい。アルコキシ基は置換基を有していてもよい。
　Ｒａ１１が表すアリールオキシ基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリールオキシ基は置換基を有していてもよい。
　Ｒａ１１が表すアシル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１２が更に好ましい。アシル基は置換基を有していてもよい。
　塩基性基を有する樹脂の市販品としては、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６１、１６２、１６３、１６４、１６６、１６７、１６８、１７４、１８２、１８３、１８４、１８５、２０００、２００１、２０５０、２１５０、２１６３、２１６４、ＢＹＫ－ＬＰＮ６９１９（以上、ビックケミー・ジャパン社製）、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ１１２００、１３２４０、１３６５０、１３９４０、２４０００、２６０００、２８０００、３２０００、３２５００、３２５５０、３２６００、３３０００、３４７５０、３５１００、３５２００、３７５００、３８５００、３９０００、５３０９５、５６０００、７１００（以上、日本ルーブリゾール社製）、Ｅｆｋａ　ＰＸ　４３００、４３３０、４０４６、４０６０、４０８０（以上、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。また、塩基性基を有する樹脂は、特開２０１４－２１９６６５号公報の段落番号００６３～０１１２に記載されたブロック共重合体（Ｂ）、特開２０１８－１５６０２１号公報の段落番号００４６～００７６に記載されたブロック共重合体Ａ１を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、酸基を有する樹脂と塩基性基を有する樹脂とをそれぞれ含むことも好ましい。この態様によれば、マゼンタ色感光性樹脂組成物の保存安定性をより向上できる。酸基を有する樹脂と塩基性基を有する樹脂とを併用する場合、塩基性基を有する樹脂の含有量は、酸基を有する樹脂の１００質量部に対して２０～５００質量部であることが好ましく、３０～３００質量部であることがより好ましく、５０～２００質量部であることが更に好ましい。
　樹脂としては、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、重合性基を有する繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
　樹脂としては、式（Ｘ）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 　式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは０～１５の整数を表す。Ｒ２１およびＲ２２が表すアルキレン基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましく、２または３であることが特に好ましい。ｎは０～１５の整数を表し、０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～３の整数であることが更に好ましい。
　式（Ｘ）で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスＭ－１１０（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　樹脂としては、芳香族カルボキシル基を有する樹脂（以下、樹脂Ａｃともいう）を含むことも好ましい。樹脂Ａｃにおいて、芳香族カルボキシル基は繰り返し単位の主鎖に含まれていてもよく、繰り返し単位の側鎖に含まれていてもよい。芳香族カルボキシル基は繰り返し単位の主鎖に含まれていることが好ましい。なお、本明細書において、芳香族カルボキシル基とは、芳香族環にカルボキシル基が１個以上結合した構造の基のことである。芳香族カルボキシル基において、芳香族環に結合したカルボキシル基の数は、１～４個であることが好ましく、１～２個であることがより好ましい。
　樹脂Ａｃは、式（Ａｃ－１）で表される繰り返し単位および式（Ａｃ－２）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　式（Ａｃ－１）中、Ａｒ１は芳香族カルボキシル基を含む基を表し、Ｌ１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、Ｌ２は、２価の連結基を表す。
　式（Ａｃ－２）中、Ａｒ１０は芳香族カルボキシル基を含む基を表し、Ｌ１１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、Ｌ１２は３価の連結基を表し、Ｐ１０はポリマー鎖を表す。
　式（Ａｃ－１）においてＡｒ１が表す芳香族カルボキシル基を含む基としては、芳香族トリカルボン酸無水物から由来する構造、芳香族テトラカルボン酸無水物から由来する構造などが挙げられる。芳香族トリカルボン酸無水物および芳香族テトラカルボン酸無水物としては、下記構造の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　上記式中、Ｑ１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、下記式（Ｑ－１）で表される基または下記式（Ｑ－２）で表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　Ａｒ１が表す芳香族カルボキシル基を含む基は、重合性基を有していてもよい。重合性基は、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基であることがより好ましい。Ａｒ１が表す芳香族カルボキシル基を含む基の具体例としては、式（Ａｒ－１１）で表される基、式（Ａｒ－１２）で表される基、式（Ａｒ－１３）で表される基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　式（Ａｒ－１１）中、ｎ１は１～４の整数を表し、１または２であることが好ましく、２であることがより好ましい。
　式（Ａｒ－１２）中、ｎ２は１～８の整数を表し、１～４の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、２であることが更に好ましい。
　式（Ａｒ－１３）中、ｎ３およびｎ４はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、０～２の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。ただし、ｎ３およびｎ４の少なくとも一方は１以上の整数である。
　式（Ａｒ－１３）中、Ｑ１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、上記式（Ｑ－１）で表される基または上記式（Ｑ－２）で表される基を表す。
　式（Ａｒ－１１）～（Ａｒ－１３）中、＊１はＬ１との結合位置を表す。
　式（Ａｃ－１）においてＬ１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、－ＣＯＯ－を表すことが好ましい。
　式（Ａｃ－１）においてＬ２が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｓ－およびこれらの２種以上を組み合わせた基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アリーレン基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。アルキレン基およびアリーレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。Ｌ２が表す２価の連結基は、－Ｌ２ａ－Ｏ－で表される基であることが好ましい。Ｌ２ａは、アルキレン基；アリーレン基；アルキレン基とアリーレン基とを組み合わせた基；アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる少なくとも１種と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－および－Ｓ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせた基などが挙げられ、アルキレン基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキレン基およびアリーレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。
　式（Ａｃ－２）においてＡｒ１０が表す芳香族カルボキシル基を含む基としては、式（Ａｃ－１）のＡｒ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（Ａｃ－２）においてＬ１１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、－ＣＯＯ－を表すことが好ましい。
　式（Ａｃ－２）においてＬ１２が表す３価の連結基としては、炭化水素基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｓ－およびこれらの２種以上を組み合わせた基が挙げられる。炭化水素基は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。Ｌ１２が表す３価の連結基は、式（Ｌ１２－１）で表される基であることが好ましく、式（Ｌ１２－２）で表される基であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　式（Ｌ１２－１）中、Ｌ１２ｂは３価の連結基を表し、Ｘ１はＳを表し、＊１は式（Ａｃ－２）のＬ１１との結合位置を表し、＊２は式（Ａｃ－２）のＰ１０との結合位置を表す。Ｌ１２ｂが表す３価の連結基としては、炭化水素基；炭化水素基と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－および－Ｓ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせた基などが挙げられ、炭化水素基または炭化水素基と－Ｏ－とを組み合わせた基であることが好ましい。
　式（Ｌ１２－２）中、Ｌ１２ｃは３価の連結基を表し、Ｘ１はＳを表し、＊１は式（Ａｃ－２）のＬ１１との結合位置を表し、＊２は式（Ａｃ－２）のＰ１０との結合位置を表す。Ｌ１２ｃが表す３価の連結基としては、炭化水素基；炭化水素基と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－および－Ｓ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせた基などが挙げられ、炭化水素基であることが好ましい。
　式（Ａｃ－２）においてＰ１０はポリマー鎖を表す。Ｐ１０が表すポリマー鎖は、ポリ（メタ）アクリル繰り返し単位、ポリエーテル繰り返し単位、ポリエステル繰り返し単位およびポリオール繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を有することが好ましい。ポリマー鎖Ｐ１０の重量平均分子量は５００～２００００が好ましい。下限は１０００以上が好ましい。上限は１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。Ｐ１０の重量平均分子量が上記範囲であれば組成物中における顔料の分散性が良好である。芳香族カルボキシル基を有する樹脂が式（Ａｃ－２）で表される繰り返し単位を有する樹脂である場合は、この樹脂は分散剤として好ましく用いられる。
　樹脂は、分散剤としての樹脂を含むことが好ましい。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細は、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、芳香族カルボキシル基を有する樹脂（樹脂Ａｃ）であることも好ましい。芳香族カルボキシル基を有する樹脂としては上述したものが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、デンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。また、分散剤は、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂を用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー・ジャパン社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥｆｋａシリーズ、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　また、分散剤には、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第２０１９／１２５９４０号に記載のブロック共重合体、特開２０２０－０６６６８７号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開２０２０－０６６６８８号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載の分散剤などを用いることもできる。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、１～６０質量％であることが好ましい。下限は５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上が更に好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。上限は５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、樹脂を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。樹脂を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合性化合物＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、重合性化合物を含有する。重合性化合物としては、ラジカル、酸または熱により架橋可能な公知の化合物を用いることができる。本発明において、重合性化合物は、例えば、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。本発明で用いられる重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
　重合性化合物としては、モノマー、プレポリマー、オリゴマーなどの化学的形態のいずれであってもよいが、モノマーが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００～３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。
　重合性化合物は、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上含む化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～１５個含む化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～６個含む化合物であることが更に好ましい。また、重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。重合性化合物の具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。また、重合性化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　また、重合性化合物には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることもできる。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　また、重合性化合物には、酸基を有する化合物を用いることもできる。酸基を有する重合性化合物を用いることで、現像時に未露光部の重合性化合物が除去されやすく、現像残渣の発生を抑制できる。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシル基が好ましい。酸基を有する重合性化合物の市販品としては、アロニックスＭ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。酸基を有する重合性化合物の好ましい酸価としては、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。重合性化合物の酸価が０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像液に対する溶解性が良好であり、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、製造や取扱い上、有利である。
　また、重合性化合物には、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０（以上、日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　また、重合性化合物には、アルキレンオキシ基を有する重合性化合物を用いることもできる。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物は、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基を有する重合性化合物が好ましく、エチレンオキシ基を有する重合性化合物がより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物がさらに好ましい。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物としては、下記構造の化合物などが挙げられる。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物の市販品としては、例えば、サートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
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　また、重合性化合物には、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。フルオレン骨格を有する重合性化合物の市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は０．１～５０質量％であることが好ましい。下限は、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、４５質量％以下がより好ましく、４０質量％以下が更に好ましい。重合性化合物は、１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、溶剤を含有する。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤の種類は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコール、２－メトキシプロピルアセテート、２－メトキシ－１－プロパノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば、１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は、例えば、東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物中における溶剤の含有量は、１０～９５質量％であることが好ましく、２０～９０質量％であることがより好ましく、３０～９０質量％であることが更に好ましい。
　また、本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、環境規制の観点から環境規制物質を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明において、環境規制物質を実質的に含有しないとは、マゼンタ色感光性樹脂組成物中における環境規制物質の含有量が５０質量ｐｐｍ以下であることを意味し、３０質量ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０質量ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、１質量ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。環境規制物質は、例えば、ベンゼン；トルエン、キシレン等のアルキルベンゼン類；クロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン類等が挙げられる。これらは、ＲＥＡＣＨ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ　Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ　Ａｕｔｈｏｒｉｚａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ　ｏｆ　ＣＨｅｍｉｃａｌｓ）規則、ＰＲＴＲ（Ｐｏｌｌｕｔａｎｔ　Ｒｅｌｅａｓｅ　ａｎｄ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｒｅｇｉｓｔｅｒ）法、ＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）規制等のもとに環境規制物質として登録されており、使用量や取り扱い方法が厳しく規制されている。これらの化合物は、マゼンタ色感光性樹脂組成物に用いられる各成分などを製造する際に溶媒として用いられることがあり、残留溶媒としてマゼンタ色感光性樹脂組成物中に混入することがある。人への安全性、環境への配慮の観点よりこれらの物質は可能な限り低減することが好ましい。環境規制物質を低減する方法としては、系中を加熱や減圧して環境規制物質の沸点以上にして系中から環境規制物質を留去して低減する方法が挙げられる。また、少量の環境規制物質を留去する場合においては、効率を上げる為に該当溶媒と同等の沸点を有する溶媒と共沸させることも有用である。また、ラジカル重合性を有する化合物を含有する場合、減圧留去中にラジカル重合反応が進行して分子間で架橋してしまうことを抑制するために重合禁止剤等を添加して減圧留去してもよい。これらの留去方法は、原料の段階、原料を反応させた生成物（例えば、重合した後の樹脂溶液や多官能モノマー溶液）の段階、またはこれらの化合物を混ぜて作製したマゼンタ色感光性樹脂組成物の段階などのいずれの段階でも可能である。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲ－ＰＢＧ－３０５７（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物、特許第６６３６０８１号公報に記載されたフルオレン環とニトロ基とを有するオキシム化合物などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）および／またはＩｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）と、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）とを組み合わせて用いることも好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、マゼンタ色感光性樹脂組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は０．１～３０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。光重合開始剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜環状エーテル基を有する化合物＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物はは、環状エーテル基を有する化合物を含有することができる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ化合物ともいう）であることが好ましい。エポキシ化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
　エポキシ化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）でもよい。エポキシ化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　エポキシ化合物としては、エポキシ樹脂を好ましく用いることができる。エポキシ樹脂としては、例えば、フェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、３１０～３３００ｇ／ｅｑであることが好ましく、３１０～１７００ｇ／ｅｑであることがより好ましく、３１０～１０００ｇ／ｅｑであることが更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物はの全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、０．１～２０質量％が好ましい。下限は、例えば、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、例えば、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。環状エーテル基を有する化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化促進剤＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤としては、チオール化合物、メチロール化合物、アミン化合物、ホスホニウム塩化合物、アミジン塩化合物、アミド化合物、塩基発生剤、イソシアネート化合物、アルコキシシラン化合物、オニウム塩化合物などが挙げられる。硬化促進剤の具体例としては、国際公開第２０１８／０５６１８９号の段落番号００９４～００９７に記載の化合物、特開２０１５－０３４９６３号公報の段落番号０２４６～０２５３に記載の化合物、特開２０１３－０４１１６５号公報の段落番号０１８６～０２５１に記載の化合物、特開２０１４－０５５１１４号公報に記載のイオン性化合物、特開２０１２－１５０１８０号公報の段落番号００７１～００８０に記載の化合物、特開２０１１－２５３０５４号公報に記載のエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物、特許第５７６５０５９号公報の段落番号００８５～００９２に記載の化合物、特開２０１７－０３６３７９号公報に記載のカルボキシル基含有エポキシ硬化剤などが挙げられる。硬化促進剤を含有する場合、マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における硬化促進剤の含有量は０．３～８．９質量％が好ましく、０．８～６．４質量％がより好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。このような化合物としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の具体例としては、下記構造の化合物などが挙げられる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９に記載された化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物、国際公開第２０２０／１３７８１９号に記載されたチオアリール基置換ベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　紫外線吸収剤を含有する場合、マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。本発明において、紫外線吸収剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤を含有する場合、マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．０００１～５質量％が好ましい。重合禁止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－６０２）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－６０３）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＥ－６０２）、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－９０３）、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＥ－９０３）、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－５０２）、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－５０３）等がある。また、シランカップリング剤の具体例については、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤を含有する場合、マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤はシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤、特開２０２０－００８６３４号公報に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性（特に、流動性）がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、マゼンタ色感光性樹脂組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、６１０ＦＭ、７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、７１０ＦＳ、ＦＴＸ－２１８、（以上、株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えば、メガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　また、国際公開第２０２０／０８４８５４号に記載の界面活性剤を、炭素数６以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。
　また、式（ｆｉ－１）で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 　式（ｆｉ－１）において、ｍは１または２を表し、ｎは１～４の整数を表し、ａは１または２を表し、Ｘａ＋はａ価の金属イオン、第１級アンモニウムイオン、第２級アンモニウムイオン、第３級アンモニウムイオン、第４級アンモニウムイオンまたはＮＨ４ ＋を表す。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００、ＦＺ－２１２２（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　界面活性剤を含有する場合、マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤を含有する場合、酸化防止剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。また、本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、特開２０２０－０７９８３３号公報に記載の芳香族基含有ホスホニウム塩を含んでいてもよい。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、得られる膜の屈折率を調整するために金属酸化物を含有させてもよい。金属酸化物としては、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等が挙げられる。金属酸化物の一次粒子径は１～１００ｎｍが好ましく、３～７０ｎｍがより好ましく、５～５０ｎｍが更に好ましい。金属酸化物はコア－シェル構造を有していてもよい。また、この場合、コア部は中空状であってもよい。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、耐光性改良剤を含んでもよい。耐光性改良剤としては、特開２０１７－１９８７８７号公報の段落番号００３６～００３７に記載の化合物、特開２０１７－１４６３５０号公報の段落番号００２９～００３４に記載の化合物、特開２０１７－１２９７７４号公報の段落番号００３６～００３７、００４９～００５２に記載の化合物、特開２０１７－１２９６７４号公報の段落番号００３１～００３４、００５８～００５９に記載の化合物、特開２０１７－１２２８０３号公報の段落番号００３６～００３７、００５１～００５４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３９に記載の化合物、特開２０１７－１８６５４６号公報の段落番号００３４～００４７に記載の化合物、特開２０１５－０２５１１６号公報の段落番号００１９～００４１に記載の化合物、特開２０１２－１４５６０４号公報の段落番号０１０１～０１２５に記載の化合物、特開２０１２－１０３４７５号公報の段落番号００１８～００２１に記載の化合物、特開２０１１－２５７５９１号公報の段落番号００１５～００１８に記載の化合物、特開２０１１－１９１４８３号公報の段落番号００１７～００２１に記載の化合物、特開２０１１－１４５６６８号公報の段落番号０１０８～０１１６に記載の化合物、特開２０１１－２５３１７４号公報の段落番号０１０３～０１５３に記載の化合物などが挙げられる。
　環境規制の観点から、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用が規制されることがある。本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物において、上記した化合物の含有率を小さくする場合、パーフルオロアルキルスルホン酸（特にパーフルオロアルキル基の炭素数が６～８のパーフルオロアルキルスルホン酸）及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸（特にパーフルオロアルキル基炭素数が６～８のパーフルオロアルキルカルボン酸）及びその塩の含有率は、マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分に対して、０．０１ｐｐｂ～１，０００ｐｐｂの範囲であることが好ましく、０．０５ｐｐｂ～５００ｐｐｂの範囲であることがより好ましく、０．１ｐｐｂ～３００ｐｐｂの範囲であることが更に好ましい。本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まなくてもよい。例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩の代替となりうる化合物、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の代替となりうる化合物を用いることで、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まない組成物を選択してもよい。規制化合物の代替となりうる化合物としては、例えば、パーフルオロアルキル基の炭素数の違いによって規制対象から除外された化合物が挙げられる。ただし、上記した内容は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用を妨げるものではない。本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、許容される最大の範囲内で、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を含んでもよい。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物の含水率は、通常３質量％以下であり、０．０１～１．５質量％が好ましく、０．１～１．０質量％の範囲であることがより好ましい。含水率は、カールフィッシャー法にて測定することができる。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、膜面状（平坦性など）の調整、膜厚の調整などを目的として粘度を調整して用いることができる。粘度の値は必要に応じて適宜選択することができるが、例えば、２５℃において０．３ｍＰａ・ｓ～５０ｍＰａ・ｓが好ましく、０．５ｍＰａ・ｓ～２０ｍＰａ・ｓがより好ましい。粘度の測定方法としては、例えば、コーンプレートタイプの粘度計を使用し、２５℃に温度調整を施した状態で測定することができる。
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば、特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
＜マゼンタ色感光性樹脂組成物の調製方法＞
　本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物は、前述の成分を混合して調製できる。マゼンタ色感光性樹脂組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解および／または分散してマゼンタ色感光性樹脂組成物を調製してもよいし、必要に応じて、各成分を適宜２つ以上の溶液または分散液としておいて、使用時（塗布時）にこれらを混合してマゼンタ色感光性樹脂組成物を調製してもよい。
　また、マゼンタ色感光性樹脂組成物の調製に際して、顔料を分散させるプロセスを含むことが好ましい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全集、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば、特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、マゼンタ色感光性樹脂組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹ、ＤＦＡ４２０１ＮＡＥＹ、ＤＦＡ４２０１Ｊ００６Ｐなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）及び株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えば、ポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
　本発明の膜は、上述した本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物から得られる膜である。本発明の膜は、カラーフィルタに用いることができる。より具体的にはカラーフィルタのマゼンタ色画素に用いることができる。本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。例えば、膜厚は、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。
　本発明の膜の４００～５００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値は７０％以上であることが好ましく、７５％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。また、本発明の膜の４５０～６００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値は３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、１５％以下であることが更に好ましく、１０％以下であることが特に好ましい。また、本発明の膜の５５０～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値は７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。また、本発明の膜について、光の透過率が５０％を示す波長が４５０～５００ｎｍの波長範囲と、５５０～６００ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在することが好ましい。光の透過率が５０％を示す短波側の波長は、波長４６０～４９５ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長４７０～４９５ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、４７５～４９５ｎｍの範囲に存在することが特に好ましい。光の透過率が５０％を示す長波側の波長は、波長５６０～５９５ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長５７０～５９０ｎｍの範囲に存在することがより好ましい。このような分光特性を有する膜は、マゼンタ色画素として好ましく用いられる。
＜カラーフィルタ＞
　次に、本発明のカラーフィルタについて説明する。本発明のカラーフィルタは、上述した本発明の膜を有する。具体的には、本発明のカラーフィルタは、カラーフィルタのマゼンタ色画素として、本発明の膜を有することが好ましい。
　また、本発明のカラーフィルタは、上述した本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて得られるマゼンタ色画素と、シアン色画素と、黄色画素とを有するものであることも好ましい。
　シアン色画素は、カラーインデックスピグメントグリーン７を含むものであることが好ましい。また、シアン色画素は、４５０～５５０ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が９０％以上、６１５～６４５ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が２０％以下であり、透過率が５０％を示す波長が３９５～４１５ｎｍの波長範囲と、５６０～５８０ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在するものであることが好ましい。
　黄色画素は、カラーインデックスピグメントイエロー１５０を含むものであることが好ましい。また、黄色画素は、５００～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が９０％以上、４１５～４４５ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が１０％以下であり、透過率が５０％を示す波長が４７０～４９０ｎｍの波長範囲に存在するものであることが好ましい。
　本発明のカラーフィルタは、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や画像表示装置などに用いることができる。
　本発明のカラーフィルタにおいて膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。膜厚は、５μｍ以下が好ましく、１μｍ以下がより好ましく、０．６μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。
　カラーフィルタに含まれる画素の幅は０．２～１０．０μｍであることが好ましい。下限は、０．４μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましく、０．６μｍ以上であることが更に好ましい。上限は、５．０μｍ以下であることが好ましく、２．０μｍ以下であることがより好ましく、１．０μｍ以下であることが更に好ましく、０．８μｍ以下であることがより一層好ましい。また、画素のヤング率は０．５～２０ＧＰａであることが好ましく、２．５～１５ＧＰａがより好ましい。
　カラーフィルタに含まれる各画素は高い平坦性を有することが好ましい。具体的には、画素の表面粗さＲａは、１００ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限は規定されないが、例えば０．１ｎｍ以上であることが好ましい。画素の表面粗さは、例えばＶｅｅｃｏ社製のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）　Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３１００を用いて測定することができる。また、画素上の水の接触角は適宜好ましい値に設定することができるが、典型的には、５０～１１０°の範囲である。接触角は、例えば接触角計ＣＶ－ＤＴ・Ａ型（協和界面科学（株）製）を用いて測定できる。また、画素の体積抵抗値は高いことが好ましい。具体的には、画素の体積抵抗値は１０９Ω・ｃｍ以上であることが好ましく、１０１１Ω・ｃｍ以上であることがより好ましい。上限は規定されないが、例えば１０１４Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。画素の体積抵抗値は、例えば超高抵抗計５４１０（アドバンテスト社製）を用いて測定することができる。
　カラーフィルタにおいては、本発明の膜（画素）の表面に保護層が設けられていてもよい。保護層を設けることで、酸素遮断化、低反射化、親疎水化、特定波長の光（紫外線、近赤外線等）の遮蔽等の種々の機能を付与することができる。保護層の厚さとしては、０．０１～１０μｍが好ましく、０．１～５μｍがより好ましい。保護層の形成方法としては、有機溶剤に溶解した樹脂組成物を塗布して形成する方法、化学気相蒸着法、成型した樹脂を接着材で貼りつける方法等が挙げられる。保護層を構成する成分としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、ポリオール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、セルロース樹脂、Ｓｉ、Ｃ、Ｗ、Ａｌ２Ｏ３、Ｍｏ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｎ４などが挙げられ、これらの成分を二種以上含有しても良い。例えば、酸素遮断化を目的とした保護層の場合、保護層はポリオール樹脂と、ＳｉＯ２と、Ｓｉ２Ｎ４を含むことが好ましい。また、低反射化を目的とした保護層の場合、保護層は（メタ）アクリル樹脂とフッ素樹脂を含むことが好ましい。
　樹脂組成物を塗布して保護層を形成する場合、樹脂組成物の塗布方法としては、スピンコート法、キャスト法、スクリーン印刷法、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。樹脂組成物に含まれる有機溶剤は、公知の有機溶剤（例えば、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート、シクロペンタノン、乳酸エチル等）を用いることが出来る。保護層を化学気相蒸着法にて形成する場合、化学気相蒸着法としては、公知の化学気相蒸着法（熱化学気相蒸着法、プラズマ化学気相蒸着法、光化学気相蒸着法）を用いることができる。
　保護層は、必要に応じて、有機・無機微粒子、特定波長の光（例えば、紫外線、近赤外線等）の吸収剤、屈折率調整剤、酸化防止剤、密着剤、界面活性剤等の添加剤を含有しても良い。有機・無機微粒子の例としては、例えば、高分子微粒子（例えば、シリコーン樹脂微粒子、ポリスチレン微粒子、メラミン樹脂微粒子）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アルミニウム、窒化チタン、酸窒化チタン、フッ化マグネシウム、中空シリカ、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。特定波長の光の吸収剤は公知の吸収剤を用いることができる。これらの添加剤の含有量は適宜調整できるが、保護層の全質量に対して０．１～７０質量％が好ましく、１～６０質量％がさらに好ましい。
　また、保護層としては、特開２０１７－１５１１７６号公報の段落番号００７３～００９２に記載の保護層を用いることもできる。
　カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。
＜画素の形成方法＞
　次に、画素の形成方法について説明する。画素の形成方法は、上述した本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物を支持体上に塗布して感光性樹脂組成物層を形成する工程と、フォトリソグラフィ法により感光性樹脂組成物層に対してパターンを形成する工程と、を経て製造できる。フォトリソグラフィ法によるパターン形成は、上述した本発明のマゼンタ色感光性樹脂組成物を支持体上に塗布して感光性樹脂組成物層を形成する工程と、感光性樹脂組成物層をパターン状に露光する工程と、露光後の感光性樹脂組成物層の未露光部を現像除去する工程と、を含むことが好ましい。以下、各工程について説明する。
　感光性樹脂組成物層を形成する工程では、マゼンタ色感光性樹脂組成物層を支持体上に塗布して感光性樹脂組成物層を形成する。支持体としては、特に限定は無く、用途に応じて適宜選択できる。例えば、ガラス基板、シリコン基板などが挙げられ、シリコン基板であることが好ましい。また、シリコン基板には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、シリコン基板には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、シリコン基板には、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下地層が設けられていてもよい。下地層の表面接触角は、ジヨードメタンで測定した際に２０～７０°であることが好ましい。また、水で測定した際に３０～８０°であることが好ましい。下地層の表面接触角が上記範囲であれば、マゼンタ色感光性樹脂組成物層の濡れ性が良好である。下地層の表面接触角の調整は、例えば、界面活性剤の添加などの方法で行うことができる。
　マゼンタ色感光性樹脂組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；スピンコート法；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（例えば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、マゼンタ色感光性樹脂組成物の塗布方法については、国際公開第２０１７／０３０１７４号、国際公開第２０１７／０１８４１９号の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　支持体上に形成した感光性樹脂組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスにより膜を製造する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０～３００秒が好ましく、４０～２５０秒がより好ましく、８０～２２０秒がさらに好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　次に、感光性樹脂組成物層をパターン状に露光する（露光工程）。例えば、感光性樹脂組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、露光後の感光性樹脂組成物層の未露光部を現像除去する（現像工程）。感光性樹脂組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、未露光部の感光性樹脂組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の感光性樹脂組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の感光性樹脂組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜（画素）を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を備え、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
　基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤ（電荷結合素子）イメージセンサ、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）イメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、カラーフィルタを有する構成である。更に、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（基板に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各着色画素に対して低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報、国際公開第２０１８／０４３６５４号に記載の装置が挙げられる。また、特開２０１９－２１１５５９号公報の中で示しているように固体撮像素子の構造内に紫外線吸収層を設けて耐光性を改良してもよい。本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、デジタルカメラや、撮像機能を有する電子機器（携帯電話等）の他、車載カメラや監視カメラ用としても用いることができる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、上述した本発明の膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
＜分散液の製造＞
　下記表に記載の原料を混合した混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．１ｍｍ径）を用いて３時間混合および分散した。次いで、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて圧力２０００ｋｇ／ｃｍ２および流量５００ｇ／ｍｉｎの条件の下、分散処理を行なった。この分散処理を全１０回繰り返して、分散液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
　上記表の略語で記載の原料は以下の通りである。
（顔料）
　Ｐ－１：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２（マゼンタ色顔料）
　Ｐ－２：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２（マゼンタ色顔料）
　Ｐ－３：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９（マゼンタ色顔料）
　Ｐ－４：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６９（マゼンタ色顔料）
（顔料誘導体）
　Ｓｙｎ－１：下記構造の化合物
　Ｓｙｎ－２：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
（分散剤）
　Ｄ－１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である。重量平均分子量＝１１０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 　Ｄ－２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量＝２４０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
　Ｓ－４：２－メトキシプロピルアセテート
＜感光性樹脂組成物の製造＞
　下記の表に記載の原料を混合して、実施例１～４６、比較例１～２の感光性樹脂組成物を製造した。実施例１～４６の感光性樹脂組成物は、マゼンタ色感光性樹脂組成物である。下記表のマゼンタ色色材の含有量の欄に、感光性樹脂組成物の全固形分中におけるマゼンタ色顔料とマゼンタ色染料との合計の含有量を記す。また、マゼンタ色染料の含有量の欄に、色材中におけるマゼンタ色染料の含有量を記す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
　上記表の略語で記載の原料は以下の通りである。
（顔料分散液）
　分散液１～８：上述した分散液１～８
（染料）
　Ｄｙｅ－１：下記構造のキサンテン染料（マゼンタ色染料、重量平均分子量１００００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 　Ｄｙｅ－２：下記構造のジピロメテン染料（マゼンタ色染料、重量平均分子量７０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 　Ｄｙｅ－３：下記構造のトリアリールメタン染料（マゼンタ色染料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 　Ｄｙｅ－４：下記構造のキサンテン染料（マゼンタ色染料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 　Ｄｙｅ－５：下記構造のキサンテン染料（マゼンタ色染料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 　Ｄｙｅ－６：下記構造のキサンテン染料（マゼンタ色染料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 　Ｄｙｅ－７：下記構造のキサンテン染料（マゼンタ色染料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 　Ｄｙｅ－８：下記構造のキサンテン染料（マゼンタ色染料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 　Ｄｙｅ－９：下記構造のキサンテン染料（マゼンタ色染料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
（重合性化合物）
　Ｍ－１：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
　Ｍ－２：ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ（新中村化学工業（株）製）
（樹脂）
　Ｄ－１：上述した分散剤Ｄ－１と同じ樹脂
　Ｄ－３：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である。重量平均分子量＝１１０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
（光重合開始剤）
　Ｉ－１～Ｉ－４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
（添加剤）
　Ａ－１：エポキシ化合物（ＥＨＰＥ３１５０、（株）ダイセル製、２，２’－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物）
　Ａ－２：紫外線吸収剤（ＵＶ－５０３、大東化学（株）製）
（界面活性剤）
　Ｓｕ－１：下記構造の化合物（重量平均分子量：１４０００、繰り返し単位の割合を示す数値はモル％である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 　Ｓｕ－２：ＫＦ－６００１（シリコーン系界面活性剤、信越化学工業（株）製）
（重合禁止剤）
　Ｉｎ－１：ｐ－メトキシフェノール
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－２：シクロヘキサノン
　Ｓ－３：プロピレングリコールモノメチルエーテル
＜現像残渣の評価、解像性の評価＞
　直径８インチ（２０．３２ｃｍ）のシリコンウエハをオーブン中で２００℃のもと３０分加熱処理した。次いで、このシリコンウエハ上に、下塗り用レジスト液（ＣＴ－４０００、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を乾燥膜厚が０．１μｍになるように塗布し、さらに２２０℃のオーブン中で１時間加熱乾燥させて下塗り層を形成し、下塗り層付シリコンウエハ基板を得た。
　感光性樹脂組成物を、上記で作製した下塗り層付シリコンウエハ基板の下塗り層上に塗布した。そして、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行ない塗布膜（感光性樹脂組成物層）を形成した。
　次いで、この塗布膜に対し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して３６５ｎｍの波長の光を、パターンを有するマスクを通して５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光した。マスクは１．４μｍ×１．４μｍのアイランドパターンを有するマスクを用いた。
　次いで、露光後の塗布膜が形成されている基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、アルカリ現像液ＣＤ－２０６０（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて室温で６０秒間パドル現像を行い着色パターン（着色画素）を形成した。
　次に、着色画素が形成された基板を、真空チャック方式で水平回転テーブル上に固定し、回転装置によって基板を回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理（２３秒×２回）を行った。次いで、スピン乾燥し、次いで、２００℃で３００秒間、ホットプレートでポストベークを行い、着色画素が形成された基板（以下、着色画素基板という）を得た。
（現像残渣の評価）
　得られた着色画素基板について、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、２００００倍に拡大して観察し、未露光部の現像残渣の有無を確認し、以下の基準で解像性の評価を行った。
　Ａ：未露光部に現像残渣がなかった。
　Ｂ：未露光部に現像残渣があった。
（解像性の評価）
　得られた着色画素基板を裁断し、着色画素の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、２００００倍に拡大して観察し、以下の基準で評価を行った。
　Ａ：着色画素の断面形状が矩形で、画素上面の平坦な領域の幅が１．２μｍ以上。
　Ｂ：着色画素の断面形状が矩形でなく、画素上面の平坦な領域の幅が１．２μｍ未満。
＜表面粗さの評価＞
　感光性樹脂組成物を、上記で作製した下塗り層付シリコンウエハ基板の下塗り層上に塗布した。そして、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行ない塗布膜を形成した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して３６５ｎｍの波長の光を５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で塗布膜の全面に照射して露光した。
　次いで、露光後の塗布膜が形成されている基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、アルカリ現像液ＣＤ－２０６０（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて室温で６０秒間パドル現像を行った。次いで、現像後の基板を、真空チャック方式で水平回転テーブル上に固定し、回転装置によって基板を回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理（２３秒×２回）を行った。次いで、スピン乾燥し、次いで、２００℃で３００秒間、ホットプレートでポストベークを行い、膜を形成した。
　得られた膜の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察し、膜の表面粗さ（Ｒａ）を算出した。
　Ａ：１０μｍ四方のスキャン範囲での膜の表面粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下である。
　Ｂ：１０μｍ四方のスキャン範囲での膜の表面粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍを超えて３０ｎｍ未満である。
　Ｃ：１０μｍ四方のスキャン範囲での膜の表面粗さ（Ｒａ）が３０ｎｍ以上である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000055
　上記表に示すように、実施例１～４６の感光性樹脂組成物は現像残渣、解像性および表面粗さの評価が良好であった。
　なお、実施例１～４６の感光性樹脂組成物は、波長５４０ｎｍの光に対する吸光度を１としたとき、４００～４５０ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値が０．５以下で、かつ、６００～７００ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値が０．５以下であった。
　また、実施例１～４６の感光性樹脂組成物は、波長５４０ｎｍの光に対する吸光度を１としたとき、吸光度が０．３となる光の波長が４５０～５００ｎｍの波長範囲と、５５０～６００ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在していた。
　また、実施例１～４６の感光性樹脂組成物を用いて厚さ０．６μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における４００～５００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が７０％以上、４５０～６００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が３０％以下、および、５５０～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が７０％以上であった。また、膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す波長が４５０～５００ｎｍの波長範囲と、５５０～６００ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在していた。
　また、実施例１の感光性樹脂組成物については、実施例１の感光性樹脂組成物を用いて厚さ０．６μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における４００～５００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が８０％以上、４５０～６００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が１０％以下、および、５５０～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が９０％以上であった。また、膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す波長が４７５～４９５ｎｍの波長範囲と、５７０～５９０ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在していた。
＜実施例１００１＞
　直径８インチ（２０．３２ｃｍ）のシリコンウエハをオーブン中で２００℃のもと３０分加熱処理した。次いで、このシリコンウエハ上に、下塗り用レジスト液（ＣＴ－４０００、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を乾燥膜厚が０．１μｍになるように塗布し、さらに２２０℃のオーブン中で１時間加熱乾燥させて下塗り層を形成し、下塗り層付シリコンウエハ基板を得た。
　実施例１～２１の感光性樹脂組成物を、上記で作製した下塗り層付シリコンウエハ基板の下塗り層上に塗布した。そして、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行ない塗布膜（感光性樹脂組成物層）を形成した。
　次いで、この塗布膜に対し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して３６５ｎｍの波長の光を、パターンを有するマスクを通して５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光した。マスクは１．４μｍ×１．４μｍのアイランドパターンを有するマスクを用いた。
　次いで、露光後の塗布膜が形成されている基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、アルカリ現像液ＣＤ－２０６０（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて室温で６０秒間パドル現像を行い着色パターン（着色画素）を形成した。
　次に、着色画素が形成された基板を、真空チャック方式で水平回転テーブル上に固定し、回転装置によって基板を回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理（２３秒×２回）を行った。次いで、スピン乾燥し、次いで、２００℃で３００秒間、ホットプレートでポストベークを行い、着色画素が形成された基板（以下、着色画素基板という）を得た。
　次に、この着色画素が形成された基板に、透明画素形成用組成物１または透明画素形成用組成物２を用いて上記と同様の方法に従い、着色画素の抜け部に透明画素を形成してカラーフィルタを製造した。透明画素形成用組成物１および透明画素形成用組成物２は、以下に示す方法で製造したものを用いた。
－透明画素形成用組成物１、２の製造－
　下記の表に記載の原料を混合して、透明画素形成用組成物１、２を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
　上記表の略語で記載の原料のうち、溶剤Ｓ－１、樹脂Ｄ－１、添加剤Ａ－２、界面活性剤Ｓｕ－１および重合禁止剤Ｉｎ－１はそれぞれ上述した原料である。これら以外の原料の詳細は以下の通りである。
（溶剤）
　Ｓ－７：３－メトキシブタノール
　Ｓ－８：プロピレングリコールジアセテート
（重合性化合物）
　Ｍ－３：アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製）
（光重合開始剤）
　Ｉ－５：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
（添加剤）
　Ａ－３：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 　Ａ－４：Ａｄｅｋａ　Ｐｌｕｒｏｎｉｃ　ＴＲ－７０２（ＡＤＥＫＡ（株）製）
＜実施例２００１～２００９＞
　－黄色感光性樹脂組成物およびシアン色感光性樹脂組成物の製造－
　下記の表に記載の原料を混合して、黄色感光性樹脂組成物１～３およびシアン色感光性樹脂組成物１～４をそれぞれ製造した。
　黄色感光性樹脂組成物１～３については、黄色感光性樹脂組成物１～３を用いて厚さ０．６μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における５００～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値は９０％以上、４１５～４４５ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値は１０％以下であり、膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す波長は４７０～４９０ｎｍの波長範囲に存在していた。
　シアン色感光性樹脂組成物１～４については、シアン色感光性樹脂組成物１～４を用いて厚さ０．６μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向における４５０～５５０ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値は９０％以上、６１５～６４５ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値は２０％以下であり、膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す波長が３９５～４１５ｎｍの波長範囲と、５６０～５８０ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在していた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000060
　上記表の略語で記載の原料のうち、重合性化合物Ｍ－１、Ｍ－２、樹脂Ｄ－１、光重合開始剤Ｉ－１、Ｉ－５、添加剤Ａ－１、Ａ－２、界面活性剤Ｓｕ－２、重合禁止剤Ｉｎ－１および溶剤Ｓ－１はそれぞれ上述した原料である。分散液９～１５は、以下のようにして製造した分散液を用いた。
－分散液９～１５の製造－
　下記表に記載の原料を混合した混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．１ｍｍ径）を用いて３時間混合および分散した。次いで、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて圧力２０００ｋｇ／ｃｍ２および流量５００ｇ／ｍｉｎの条件の下、分散処理を行なった。この分散処理を全１０回繰り返して、分散液９～１５を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
　上記表の略語で記載の原料は以下の通りである。
（顔料）
　Ｐ－５：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０
　Ｐ－６：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５
　Ｐ－７：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
　Ｐ－８：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７
　Ｐ－９：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４
　Ｐ－１０：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６２
　Ｐ－１１：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６３
（顔料誘導体）
　Ｓｙｎ－２：上述した顔料誘導体Ｓｙｎ－２
（分散剤）
　Ｄ－１：上述した分散剤Ｄ－１
　Ｄ－２：上述した分散剤Ｄ－２
　Ｄ－４：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量＝２１０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 　Ｄ－５：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量＝２００００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
　Ｓ－３：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
　Ｓ－４：２－メトキシプロピルアセテート
　Ｓ－５：２－メトキシ－１－プロパノール
　Ｓ－６：イソプロピルアルコール
－カラーフィルタの製造－
　ガラス基板の表面に、下記表に記載のシアン色感光性樹脂組成物を塗布した。そして、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行ない塗布膜（感光性樹脂組成物層）を形成した。
　次いで、この塗布膜に対し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して３６５ｎｍの波長の光を、ベイヤーパターンを有するマスクを通して５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光した。
　次いで、露光後の塗布膜が形成されているガラス基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、アルカリ現像液ＣＤ－２０６０（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて室温で６０秒間パドル現像を行った。次いで、ガラス基板を真空チャック方式で水平回転テーブル上に固定し、回転装置によってガラス基板を回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理（２３秒×２回）を行った。次いで、スピン乾燥し、次いで、２００℃で３００秒間、ホットプレートでポストベークを行い、シアン色画素を形成した。
　次いで、下記表に記載の黄色感光性樹脂組成物を用い、アイランドパターンのフォトマスクを用いた以外は上記と同様の手順でガラス基板上のシアン色画素の開口部に、黄色画素を形成した。
　次いで、下記表に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用い、アイランドパターンのフォトマスクを用いた以外は上記と同様の手順でガラス基板上のシアン色画素及び黄色画素の開口部に、マゼンタ色画素を形成した。
　このようにして、シアン色画素、黄色画素およびマゼンタ色画素が形成されたカラーフィルタを製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000064
　得られたカラーフィルタを用いて、擬似白色ＬＥＤ光源（日亜化学社製、ＮＳＰＷ３００ＢＳ）を用いて光を照射したときのカラーフィルタのＮＴＳＣ比（アメリカＮａｔｉｏｎａｌ　Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ　Ｓｙｓｔｅ　ｍ　Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ（ＮＴＳＣ）により定められた標準方式の３原色、赤（０．６７、０．３３）、緑（０．２１、０．７１）、青（０．１４、０．０８）により囲まれる面積に対する比率）で定められた赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）３色の三角形の面積を１００として、基準値の面積に対する三角形の面積の比率を測定して色再現性を評価した。評価結果を以下に示す。
　Ａ：基準値の面積に対する三角形の面積の比率が８０％以上である
　Ｂ：基準値の面積に対する三角形の面積の比率が７０％以上８０％未満である
　Ｃ：基準値の面積に対する三角形の面積の比率が６０％以上７０％未満である
　Ｄ：基準値の面積に対する三角形の面積の比率が６０％未満である
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000065
　実施例２００１～２００９のカラーフィルタは、色再現性に優れていた。
＜実施例３００１～３００９＞
　実施例２００１～２００９のカラーフィルタを形成したガラス基板に、赤色画素形成用組成物、緑色画素形成用組成物および青色画素形成用組成物を用いて、段落番号０２７３に記載の方法と同様の方法に従い、着色画素の抜け部に赤画素、緑色画素および青色画素をそれぞれ形成してカラーフィルタを製造した。赤色画素形成用組成物、緑色画素形成用組成物および青色画素形成用組成物は、以下に示す方法で製造したものを用いた。
＜＜分散液Ｒ－１、分散液Ｇ－１、分散液Ｂ－１の製造＞＞
　下記表に記載の原料を混合した混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．１ｍｍ径）を用いて３時間混合および分散した。次いで、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて圧力２０００ｋｇ／ｃｍ２および流量５００ｇ／ｍｉｎの条件の下、分散処理を行なった。この分散処理を全１０回繰り返して、分散液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000066
　上記表の略語で記載の原料は以下の通りである。
（顔料）
　Ｐ－５：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０
　Ｐ－７：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
　Ｐ－１２：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４
　Ｐ－１３：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６
　Ｐ－１４：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６
（分散剤）
　Ｄ－１：上述した分散剤Ｄ－１と同じ樹脂
　Ｄ－３：上述した樹脂Ｄ－３と同じ樹脂
　Ｄ－５：上述した分散剤Ｄ－５と同じ樹脂
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
　Ｓ－２：シクロヘキサノン
　Ｓ－３：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
　Ｓ－４：２－メトキシプロピルアセテート
＜＜赤色画素形成用組成物の製造＞＞
　分散液Ｒ－１の６７．１４質量部と、重合性化合物Ｍ－４の１．１４２質量部と、樹脂Ｄ－６の１．０１１９質量部と、光重合開始剤Ｉ－１の０．６０３質量部と、界面活性剤Ｓｕ－２の０．０４１７質量部と、重合禁止剤Ｉｎ－１の０．０００６質量部と、溶剤Ｓ－１の２７．７３６質量部と、溶剤Ｓ－２の２．３２４８質量部とを混合して赤色画素形成用組成物を製造した。
＜＜緑色画素形成用組成物の製造＞＞
　分散液Ｇ－１の６４．９３質量部と、重合性化合物Ｍ－２の１．８０９質量部と、樹脂Ｄ－１の０．７３６４質量部と、光重合開始剤Ｉ－１の０．８質量部と、添加剤Ａ－２の０．５１質量部と、界面活性剤Ｓｕ－２の０．０４１７質量部と、重合禁止剤Ｉｎ－１の０．０００９質量部と、溶剤Ｓ－１の３１．１７２質量部とを混合して緑色画素形成用組成物を製造した。
＜＜青色画素形成用組成物の製造＞＞
　分散液Ｂ－１の３３．８４２質量部と、染料Ｄｙｅ－１の１．５３５質量部と、重合性化合物Ｍ－５の１．６７８質量部と、樹脂Ｄ－１の０．０２８質量部と、樹脂Ｄ－３の０．１１２質量部と、光重合開始剤Ｉ－６の０．８３９質量部と、添加剤Ａ－１の０．７０７質量部と、界面活性剤Ｓｕ－２の０．００６３質量部と、重合禁止剤Ｉｎ－１の０．０００８質量部と、溶剤Ｓ－１の０．９２２質量部と、溶剤Ｓ－２の６０．３３質量部とを混合して青色画素形成用組成物を製造した。
　赤色画素形成用組成物、緑色画素形成用組成物および青色画素形成用組成物の製造に用いた各素材の詳細は以下の通りである。
　・分散液Ｒ－１、分散液Ｇ－１、分散液Ｂ－１：上述した分散液Ｒ－１、分散液Ｇ－１、分散液Ｂ－１
　・染料Ｄｙｅ－１：上述した染料Ｄｙｅ－１
　・重合性化合物Ｍ－２：ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ（新中村化学工業（株）製）
　・重合性化合物Ｍ－４：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡ（日本化薬（株）製）
　・重合性化合物Ｍ－５：トリメチロールプロパントリアクリレートのエチレンオキシド変性体
　・樹脂Ｄ－１：上述した分散剤Ｄ－１と同じ樹脂
　・樹脂Ｄ－３：上述した樹脂Ｄ－３と同じ樹脂
　・樹脂Ｄ－６：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Ｍｗ＝１２０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 　・光重合開始剤Ｉ－１：上述した光重合開始剤Ｉ－１
　・光重合開始剤Ｉ－６：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 　・添加剤Ａ－１：上述した添加剤Ａ－１
　・添加剤Ａ－２：上述した添加剤Ａ－２
　・界面活性剤Ｓｕ－２：上述した界面活性剤Ｓｕ－２
　・重合禁止剤Ｉｎ－１：ｐ－メトキシフェノール
　・溶剤Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　・溶剤Ｓ－２：シクロヘキサノン

Claims (19)

  1. 　色材と、樹脂と、重合性化合物と、溶剤と、を含むマゼンタ色感光性樹脂組成物であって、
    　前記色材は、マゼンタ色顔料と、マゼンタ色染料とを含み、
    　前記色材中における前記マゼンタ色染料の含有量が２０質量％以上であり、
    　前記マゼンタ色感光性樹脂組成物の全固形分中における前記マゼンタ色顔料と前記マゼンタ色染料との合計量が３０質量％以上である、マゼンタ色感光性樹脂組成物。
  2. 　前記マゼンタ色感光性樹脂組成物は、波長５４０ｎｍの光に対する吸光度を１としたとき、４００～４５０ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値が０．５以下で、かつ、６００～７００ｎｍの波長範囲の光に対する吸光度の最大値が０．５以下である、請求項１に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  3. 　前記マゼンタ色感光性樹脂組成物は、波長５４０ｎｍの光に対する吸光度を１としたとき、吸光度が０．３となる光の波長が４５０～５２０ｎｍの波長範囲と、５５０～６００ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在する、請求項１または２に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  4. 　前記マゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて厚さ０．６μｍの膜を形成した際に、前記膜の厚み方向における４００～５００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が７０％以上、４５０～６００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が３０％以下、および、５５０～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が７０％以上であり、
    　前記膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す波長が４５０～５００ｎｍの波長範囲と、５５０～６００ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  5. 　前記マゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて厚さ０．６μｍの膜を形成した際に、前記膜の厚み方向における４００～５００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が８０％以上、４５０～６００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が１０％以下、および、５５０～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が９０％以上であり、
    　前記膜の厚み方向における光の透過率が５０％を示す波長が４７５～４９５ｎｍの波長範囲と、５７０～５９０ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在する、請求項１～３のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  6. 　前記マゼンタ色染料は、重合性基を有する化合物である、請求項１～５のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  7. 　前記マゼンタ色染料は、染料多量体である、請求項１～６のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  8. 　前記マゼンタ色染料は、キサンテン化合物、ピロメテン化合物およびトリアリールメタン化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１～７のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  9. 　前記マゼンタ色顔料は、カラーインデックスピグメントレッド１２２、カラーインデックスピグメントレッド２０２、カラーインデックスピグメントレッド２０９、および、カラーインデックスピグメントレッド２６９から選ばれる少なくとも１種である、請求項１～８のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  10. 　前記マゼンタ色顔料は、カラーインデックスピグメントレッド１２２を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  11. 　前記マゼンタ色染料の１００質量部に対して、前記マゼンタ色顔料を５～４００質量部含む、請求項１～１０のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  12. 　固体撮像素子用である、請求項１～１１のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  13. 　フォトリソグラフィ用である、請求項１～１２のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物。
  14. 　請求項１～１３のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて得られる膜。
  15. 　請求項１４に記載の膜を有するカラーフィルタ。
  16. 　請求項１～１３のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて得られるマゼンタ色画素と、カラーインデックスピグメントグリーン７を含むシアン色画素と、カラーインデックスピグメントイエロー１５０を含む黄色画素とを有するカラーフィルタ。
  17. 　請求項１～１３のいずれか１項に記載のマゼンタ色感光性樹脂組成物を用いて得られるマゼンタ色画素と、シアン色画素と、黄色画素とを有し、
    　前記シアン色画素は、４５０～５５０ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が９０％以上、６１５～６４５ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が２０％以下であり、透過率が５０％を示す波長が３９５～４１５ｎｍの波長範囲と、５６０～５８０ｎｍの波長範囲のそれぞれに存在し、
    　前記黄色画素は、５００～７００ｎｍの波長範囲の光の透過率の最大値が９０％以上、４１５～４４５ｎｍの波長範囲の光の透過率の最小値が１０％以下であり、透過率が５０％を示す波長が４７０～４９０ｎｍの波長範囲に存在する、
    　カラーフィルタ。
  18. 　請求項１４に記載の膜を有する固体撮像素子。
  19. 　請求項１４に記載の膜を有する画像表示装置。
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