WO2020246435A1 - プラズマ照射装置及び先端デバイス - Google Patents
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Definitions
- the discharge electrode since the discharge electrode whose potential fluctuates greatly is arranged facing the flow path, there is a possibility that the discharge electrode may have an electrical adverse effect on the plasma irradiation target through the space of the flow path.
- the region of the discharge electrode is deviated from the opening region of the discharge port. That is, the discharge electrode is hidden when the inside of the flow path is viewed from the discharge port. Therefore, it is possible to suppress the electrical adverse effect of the discharge electrode on the plasma irradiation target through the space of the flow path.
- the surgical device 1 shown in FIG. 1 is configured as a treatment device capable of incising, peeling or stopping bleeding from a living tissue to be treated.
- the surgical device 1 is mainly provided in the tip device 3, the control device 5 which is a device for controlling the ultrasonic vibration unit 12 (drive unit), and the gas guide path 30 (see FIG. 6 and the like) in the tip device 3.
- a gas supply device 7 for supplying gas to the plasma irradiation device 20 and a power supply device 9 capable of applying a voltage to the plasma irradiation device 20 are provided.
- the grip portion 60 is a portion gripped by a user who uses the tip device 3, and is configured as a movable member displacement mechanism that employs a known movable mechanism.
- the grip portion 60 includes a fixed grip portion 62 fixed to the base portion 14A of the case body 14 and integrated with the case body 14, and a shaft-shaped movable member 64 attached so as to be relatively movable with respect to the fixed grip portion 62.
- a movable blade 64A is formed near one end of the movable member 64
- a movable grip portion 64B is formed near the other end of the movable member 64.
- the shaft-shaped movable member 64 is rotatable about the rotation shaft Z near the tip end portion of the extension portion 14B.
- the inert gas is supplied so that the inert gas flows through the space in the flow path 36.
- an AC voltage having a predetermined frequency is applied between the discharge electrode 42 and the ground electrode 44 by the power supply device 9.
- the power supply device 9 keeps the ground electrode 44 at the ground potential, and sets the potential of the discharge electrode 42 to a potential that is a certain degree lower than + A (V), which is a potential that is a certain degree higher than this potential, centered on the potential of the ground electrode 44.
- An AC voltage is applied so as to vibrate in the range up to -A (V).
- "A" is a positive value.
- the first unfired conductor layer forming step is performed.
- a tungsten paste 161 containing tungsten as a main component is applied (printed) on one surface of the first ceramic green sheet 151 by using a paste printing apparatus.
- the tungsten paste 161 corresponds to an example of the first unfired conductor layer, and is a portion that finally becomes the ground electrode 44.
- the control device 205 is configured as a high-frequency current supply unit that supplies a high-frequency current, and corresponds to an example of a drive unit.
- the working member 216 is formed in a shaft shape by, for example, a metal material, and functions as an electrode portion through which a high frequency current supplied from the control device 205 (high frequency current supply unit) flows.
- the working member 216 can function as a known electric knife, and can cause an incision action, a peeling action, or a thermal coagulation hemostatic action on a living tissue by a high frequency current flowing through the working member 216 (electrode portion).
- the conductive portion 544C functions as a conductive portion that electrically connects the ground electrode layer 544A and the ground electrode layer 544B.
- the ground electrode layer 544B is provided on the discharge port 34 side of the discharge electrode 42 in the first direction, and is a flow path of the ground electrode layer 544A (ground electrode layer arranged at a position overlapping the discharge electrode 42) in the second direction. It is arranged at a position close to 36. By doing so, the ground electrode layer 544B can be brought closer to the position away from the discharge electrode 42. Further, it may be as shown in FIG.
- the plasma irradiation device 620 shown in FIG. 14 differs from the configuration of FIG. 13 only in the configuration of the creepage discharge portion 640, and specifically, the configuration of FIG.
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Abstract
プラズマ照射装置(20,320,420,520,620,720,820)は、ガス誘導路(30)と沿面放電部(40,340,440,540,640,740,840)とを備える。沿面放電部(40,340,440,540,640,740,840)は、放電電極又は接地電極の一方が直接又は他部材を介して流路(36)に面しつつ、周期的に変化する電圧が放電電極に印加されることに応じて流路(36)内で沿面放電を発生させる。そして、接地電極の少なくとも一部が放電電極よりも放出口(34)側に配置される。
Description
本発明は、プラズマ照射装置及び先端デバイスに関するものである。
特許文献1には、沿面放電型のプラズマ放電を行うプラズマ表面処理装置が開示されている。この装置は、反応部構成体にプラズマ生成用ガスの流路が設けられており、この流路の壁面に沿面放電用電極が配置される。沿面放電用電極は、プラズマ生成用ガスの進行方向の側面に配置される放電電極と誘電体と介して放電電極と対向する誘導電極とによって構成される。
ところで、沿面放電用電極付近にプラズマが発生しやすいことが知られており、沿面放電用電極を流路の吹き出し口側により近づけることで、吹き出し口からプラズマが照射されるプラズマ照射対象に向かってプラズマをより多く照射することができる。別観点から言うと、沿面放電用電極を流路の吹き出し口側により近づけることで、プラズマ照射対象に向かってプラズマを効率的に照射することができ、沿面放電用電極に印加する印加電圧を低減することができる。しかしながら、特許文献1で開示される装置は、プラズマ生成用ガスの進行方向(流路の方向)において放電電極の先端と誘導電極の先端とが略同位置とされている。このような構成であるため、上記効果を得るために沿面放電電極を流路の吹き出し口側により近づけると、電位が大きく変動する放電電極とプラズマ照射対象との距離が短くなり、プラズマ照射対象が電気的な悪影響を受けてしまう虞がある。
一方、プラズマ照射対象の電気的な悪影響を受けないように、沿面放電用電極を流路の吹き出し口側からより離すと、吹き出し口からプラズマを十分にプラズマ照射対象に照射することができない、または沿面放電用電極に印加する印加電圧を低減することができない虞がある。
本発明は、上述した課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、沿面放電型のプラズマ照射装置において、プラズマ照射対象により多くのプラズマを照射できる、もしくはプラズマを効率良く照射させて電極への印加電圧を低減することができるとともに、電位が大きく変動する放電電極によりプラズマ照射対象が電気的な悪影響を受けないようにすることができる技術を実現することを目的とするものである。
本発明の一つであるプラズマ照射装置は、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備えるプラズマ照射装置であって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置される。
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備えるプラズマ照射装置であって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置される。
上記のプラズマ照射装置は、接地電極の少なくとも一部が放電電極よりも放出口側に配置される。これにより、接地電極を放出口により近づけることができるとともに、放電電極を放出口からより離すことができる。このため、放出口に近づけた接地電極付近でプラズマを発生させることができ、放出口に近い領域でプラズマがより発生しやすくなる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、プラズマ照射対象により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的にプラズマを照射することが可能となる。しかも、放電電極が放出口から離れているので、プラズマ照射対象に対する電気的な悪影響を抑制することができる。
上記のプラズマ照射装置において、ガス誘導路は、第1方向の一方側に放出口が設けられ、第1方向の他方側に導入口が設けられていてもよい。そして、流路は、第1方向に沿って延びる第1流路と、第1流路の下流側に設けられるとともに第1方向において第1流路よりも放出口側に配置され、第1流路よりも狭い幅で構成された第2流路と、を具備してもよい。
このプラズマ照射装置は、第1方向に沿うように放出口に向かって効率的にガスを流すことができ、しかも、第1流路の下流側に相対的に狭い幅で構成された第2流路が設けられているため、放出口付近でのガスの流速が高められる。よって、放出口が照射対象に向けられたときにプラズマが照射対象に効率的に照射されやすくなる。
上記のいずれかの構成をなすプラズマ照射装置において、接地電極の少なくとも一部が、第1方向における第2流路の配置領域に位置してもよい。
このプラズマ照射装置は、相対的に幅が狭く構成された第2流路の配置領域に位置するように接地電極が配置されるため、ガスの流速が高められる第2流路内でもプラズマが発生しやすくなる。よって、流路内で発生したプラズマがより一層効率的に放出されやすくなる。
上記のいずれかの構成をなすプラズマ照射装置において、放電電極が、第1方向における第1流路の配置領域にのみ位置してもよい。
このプラズマ照射装置は、放電電極が第1方向において放出口から相対的に遠い領域(第1流路の配置領域)のみに配置されるため、放出口がプラズマ照射対象に向けられたときにプラズマ照射対象に対する電気的な悪影響を確実に抑えることができる。
上記のいずれかの構成をなすプラズマ照射装置において、放電電極は、直接または他部材を介して流路に面してなり、第1方向と直交する平面方向において、放電電極の領域が放出口の開口領域からずれていてもよい。
このプラズマ照射装置は、電位が大きく変動する放電電極が流路に面して配置されているため、流路の空間を通じて放電電極によるプラズマ照射対象への電気的な悪影響が出るおそれがある。これに対し、平面方向において、放電電極の領域が放出口の開口領域からずれている。つまり、放出口から流路内を見たときに放電電極が隠れて配置されている。このため、流路の空間を通じて放電電極によるプラズマ照射対象への電気的な悪影響を抑制することができる。
上記のいずれかの構成をなすプラズマ照射装置において、放電電極の幅が接地電極の幅よりも小さくてもよい。
沿面放電型のプラズマ照射装置は、周期的に変化する電圧を放電電極に印加する場合に印加電圧の絶対値を抑えやすいという利点があるが、印加電圧の絶対値を抑えすぎるとプラズマが良好に発生しなくなる懸念がある。これに対し、上記のように放電電極の幅を接地電極の幅よりも小さくして放電電極を相対的に細く構成すれば、放電電極と接地電極との間でプラズマが生じやすくなるため、印加電圧の抑制と良好なプラズマ発生を両立しやすくなる。
生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、上記のいずれかの構成をなすプラズマ照射装置と、を備えるように先端デバイスを構成してもよい。そして、この先端デバイスにおいて、ガス誘導路は、放出口から作用部側に向かってガスを放出するように配置されていてもよい。
上記の先端デバイスは、作用部が作用する生体組織により近い位置でプラズマが発生しやすくなる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、作用部が作用する生体組織により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的に、生体組織にプラズマを照射することが可能となる。しかも、作用部を生体組織に作用させる際に生体組織に対する電気的な悪影響を抑制することができる。
生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、作用部材を駆動させる駆動部と、上記のいずれかの構成をなすプラズマ照射装置と、を備えるように先端デバイスを構成してもよい。この先端デバイスにおいて、ガス誘導路は、放出口から作用部側に向かってガスを放出するように配置されていてもよく、駆動部は、超音波振動を発生させる超音波振動部であってもよい。そして、作用部材は、超音波振動部で発生する超音波振動が伝達されることにより、作用部が振動して生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせるように動作する構成であってもよい。
上記の先端デバイスは、作用部を生体組織に作用させて切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせることができ、しかも、その生体組織により近い位置でプラズマを発生させることができる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、作用部が作用する生体組織により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的に、生体組織にプラズマを照射することが可能となる。しかも、作用部を生体組織に作用させる際に生体組織に対する電気的な悪影響を抑制することができる。
生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、作用部材を駆動させる駆動部と、上記のいずれかの構成をなすプラズマ照射装置と、を備えるように先端デバイスを構成してもよい。この先端デバイスにおいて、ガス誘導路は、放出口から作用部側に向かってガスを放出するように配置されていてもよく、駆動部は、高周波電流を供給する高周波電流供給部であってもよい。そして、作用部材は、高周波電流供給部から供給される高周波電流が流れることにより、作用部が生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせるように動作する構成であってもよい。
上記の先端デバイスは、作用部を生体組織に作用させて切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせることができ、しかも、その生体組織により近い位置でプラズマを発生させることができる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、作用部が作用する生体組織により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的に、生体組織にプラズマを照射することが可能となる。しかも、作用部を生体組織に作用させる際に生体組織に対する電気的な悪影響を抑制することができる。
上記の先端デバイスは、作用部材又は作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が接地電極を兼ねてもよい。
このようにすれば、作用部材又は組付部材とは異なる部位に配置する接地電極を削減又は省略することができるため、先端デバイスにおいて作用部材又は組付部材とは異なる部位の構成を簡素化することができる。
本発明の一つである先端デバイスは、
生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備え、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置される先端デバイスであって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置され、
前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる。
生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備え、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置される先端デバイスであって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置され、
前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる。
上記の先端デバイスは、作用部が作用する生体組織により近い位置でプラズマが発生しやすくなる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、作用部が作用する生体組織により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的に、生体組織にプラズマを照射することが可能となる。しかも、作用部を生体組織に作用させる際に生体組織に対する電気的な悪影響を抑制することができる。更に、作用部材又は組付部材とは異なる部位に配置する接地電極を削減又は省略することができるため、先端デバイスにおいて作用部材又は組付部材とは異なる部位の構成を簡素化することができる。
本発明の一つである先端デバイスは、
生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
前記作用部材を駆動させる駆動部と、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備え、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置されてなり、
前記駆動部は、超音波振動を発生させる超音波振動部であり、
前記作用部材は、前記超音波振動部で発生する超音波振動が伝達されることにより、前記作用部が振動して前記生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせる先端デバイスであって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置され、
前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる。
生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
前記作用部材を駆動させる駆動部と、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備え、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置されてなり、
前記駆動部は、超音波振動を発生させる超音波振動部であり、
前記作用部材は、前記超音波振動部で発生する超音波振動が伝達されることにより、前記作用部が振動して前記生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせる先端デバイスであって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置され、
前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる。
上記の先端デバイスは、作用部を生体組織に作用させて切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせることができ、しかも、その生体組織により近い位置でプラズマを発生させることができる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、作用部が作用する生体組織により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的に、生体組織にプラズマを照射することが可能となる。しかも、作用部を生体組織に作用させる際に生体組織に対する電気的な悪影響を抑制することができる。更に、作用部材又は組付部材とは異なる部位に配置する接地電極を削減又は省略することができるため、先端デバイスにおいて作用部材又は組付部材とは異なる部位の構成を簡素化することができる。
本発明の一つである先端デバイスは、
生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
前記作用部材を駆動させる駆動部と、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備え、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置されてなり、
前記駆動部は、高周波電流を供給する高周波電流供給部であり、
前記作用部材は、前記高周波電流供給部から供給される高周波電流が流れることにより、前記作用部が前記生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせる先端デバイスであって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置され、
前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる。
生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
前記作用部材を駆動させる駆動部と、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備え、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置されてなり、
前記駆動部は、高周波電流を供給する高周波電流供給部であり、
前記作用部材は、前記高周波電流供給部から供給される高周波電流が流れることにより、前記作用部が前記生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせる先端デバイスであって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置され、
前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる。
上記の先端デバイスは、作用部を生体組織に作用させて切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせることができ、しかも、その生体組織により近い位置でプラズマを発生させることができる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、作用部が作用する生体組織により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的に、生体組織にプラズマを照射することが可能となる。しかも、作用部を生体組織に作用させる際に生体組織に対する電気的な悪影響を抑制することができる。更に、作用部材又は組付部材とは異なる部位に配置する接地電極を削減又は省略することができるため、先端デバイスにおいて作用部材又は組付部材とは異なる部位の構成を簡素化することができる。
本発明によれば、プラズマ照射対象により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的にプラズマを照射できるとともに、プラズマ照射対象に対する電気的な悪影響を抑制することができる。
<第1実施形態>
1.手術用装置の全体構成
図1で示される手術用装置1は、施術対象の生体組織に対して切開、剥離又は止血を行い得る処置装置として構成されている。手術用装置1は、主に、先端デバイス3と、超音波振動部12(駆動部)を制御する装置である制御装置5と、先端デバイス3内のガス誘導路30(図6等参照)に対してガスを供給するガス供給装置7と、プラズマ照射装置20に対して電圧を印加し得る電源装置9とを備える。
1.手術用装置の全体構成
図1で示される手術用装置1は、施術対象の生体組織に対して切開、剥離又は止血を行い得る処置装置として構成されている。手術用装置1は、主に、先端デバイス3と、超音波振動部12(駆動部)を制御する装置である制御装置5と、先端デバイス3内のガス誘導路30(図6等参照)に対してガスを供給するガス供給装置7と、プラズマ照射装置20に対して電圧を印加し得る電源装置9とを備える。
制御装置5は、超音波振動部12に対して超音波振動を発生させるための電気信号を与える装置である。制御装置5は、先端デバイス3と制御装置5との間に介在する図示しない可撓性の信号ケーブルを介して超音波振動部12に電気信号を与え得る構成となっている。
ガス供給装置7は、ヘリウムガスやアルゴンガスなどの不活性ガス(以下、単にガスともいう)を供給する装置であり、例えば、先端デバイス3とガス供給装置7との間に介在する可撓性の管路(図1では図示を省略)を介して後述するガス誘導路30に不活性ガスを供給する。ガス供給装置7は、例えばボンベ等から供給される高圧ガスを減圧するレギュレータと、流量制御を行う制御部とを含む。
電源装置9は、後述するプラズマ照射装置20の放電電極42と接地電極44との間に所望の電圧を印加するための装置であり、接地電極44をグラウンド電位に保ちながら、放電電極42と接地電極44との間に所定周波数の交流電圧を印加する。電源装置9は、高周波数(例えば、20kHz~300kHz程度)の高電圧(例えば、振幅が0.5kV~10kVの高電圧)を生成し得る回路であれば、公知の様々な回路を採用し得る。なお、電源装置9が発生させる高電圧の周波数は、一定値に固定された周波数であってもよく、変動してもよい。また、電源装置9が接地電極44と放電電極42との間に印加する電圧は、周期的に変化する電圧であればよく、正弦波の交流電圧であってもよく、非正弦波(例えば、矩形波、三角波など)の交流電圧であってもよい。
図1の例では、交流電圧を生成する電源装置9を先端デバイス3の外部に設けてなる手術用装置を例示しているが、交流回路を生成する電源回路を先端デバイス3の内部(例えば、後述するケース体14の内部やプラズマ照射装置20の内部)に設けてもよい。
先端デバイス3は、手術を行う術者によって把持されて使用される装置であり、主に、ケース体14、作用部材16、プラズマ照射装置20、超音波振動部12、などを備える。ケース体14、作用部材16、プラズマ照射装置20、及び超音波振動部12は、使用者に把持される把持ユニット(手持ち部)として一体的に構成されており、可撓性を有する部材を介して不活性ガスや電力が供給されるようになっている。
ケース体14は、円筒状に構成され所定方向に延びており、主として、基部14Aと、基部14Aと一体的に構成されるとともに所定方向に延びる円筒状の延出部14Bとを備える。基部14Aの内部には、超音波振動部12などが収容され、延出部14Bにはプラズマ照射装置20が固定又は一体化されている。
超音波振動部12は、公知の超音波振動子として構成され、上述した制御装置5によって所定の電気信号が与えられたときに駆動して超音波振動を発生させ、軸状に構成された作用部材16に対して超音波振動を伝達するように動作する。超音波振動部12は、駆動部の一例に相当し、作用部16A付近において生体組織を切開、剥離又は熱凝固止血する作用が生じるように作用部材16を駆動する。
作用部材16は、自身の先端部付近が固定刃として生体組織に作用する部材である。作用部材16は、超音波振動部12で発生した超音波振動が伝達される振動部材の一例に相当する。作用部材16は、先端部付近に形成された作用部16Aと、超音波振動部12から与えられた振動を作用部16Aに伝達する軸部16Bとを有する。作用部材16は、超音波振動部12で発生する超音波振動が軸部16Bを介して作用部16Aに伝達されることにより作用部16Aが振動する構成をなす。この作用部材16は、作用部16Aが生体組織に接近又は接触している状態で作用部16Aが振動することにより生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせるように動作する。
把持部60は、先端デバイス3を使用する使用者によって把持される部分であり、公知の可動機構を採用した可動部材変位機構として構成されている。把持部60は、ケース体14の基部14Aに固定されてケース体14と一体化された固定把持部62と、固定把持部62に対して相対移動可能に取り付けられる軸状の可動部材64とを有する。可動部材64の一端部付近には可動刃64Aが形成され、可動部材64の他端部付近には可動把持部64Bが形成されている。把持部60では、軸状の可動部材64が延出部14Bの先端部付近の回動軸Zを中心として回動可能とされている。把持部60は、可動把持部64Bを固定把持部62側に近接させる操作がなされることに応じて可動刃64Aが作用部材16の作用部16A(固定刃)に近づくように可動部材64が回動する。逆に、可動把持部64Bを固定把持部62から離間させる操作がなされることに応じて可動刃64Aが作用部16A(固定刃)から離れるように可動部材64が回動する。
このように構成された先端デバイス3では、超音波振動を用いた生体組織の切開処置、剥離処置、止血処置を行いうる。例えば、作用部16A(固定刃)と可動刃64Aとによって生体組織が挟み込まれたときに作用部16Aに超音波振動が伝達されることにより生体組織を切除することができる。また、超音波振動が伝達される作用部16Aを生体組織に接触させて摩擦熱を生じさせ、止血を行うこともできる。作用部材16に対して超音波振動を与えながら、又は与えずに、作用部16Aと可動刃64Aとによって生体組織を挟持し、剥離処置を行うこともできる。このように、先端デバイス3では、超音波振動による切開、剥離又は熱凝固止血が可能となっており、更に、後述するプラズマ照射装置20からの低温プラズマの照射によって低侵襲な止血を併用することもできる。
2.プラズマ照射装置の構成
次に、プラズマ照射装置20の構成を詳述する。
図1に示されるように、プラズマ照射装置20は先端デバイス3の一部として組み込まれ、先端デバイス3の内部で誘電体バリア放電を生じさせる装置として構成されている。なお、図1の例では、プラズマ照射装置20は、保持部18によって保持された構成でケース体14に固定されている。プラズマ照射装置20を収容する保持部18は、例えば金属製のケース本体に樹脂材料によってコーティングを施したケース体として構成してもよく、樹脂材料からなるケース本体に金属メッキを施したケース体として構成してもよい。このようにすれば、プラズマ照射装置20からの意図しない放電や漏電を抑制することができる。図2に示されるように、プラズマ照射装置20の内部で発生した低温プラズマは、作用部材16の先端部に設けられた作用部16A付近に照射される。
次に、プラズマ照射装置20の構成を詳述する。
図1に示されるように、プラズマ照射装置20は先端デバイス3の一部として組み込まれ、先端デバイス3の内部で誘電体バリア放電を生じさせる装置として構成されている。なお、図1の例では、プラズマ照射装置20は、保持部18によって保持された構成でケース体14に固定されている。プラズマ照射装置20を収容する保持部18は、例えば金属製のケース本体に樹脂材料によってコーティングを施したケース体として構成してもよく、樹脂材料からなるケース本体に金属メッキを施したケース体として構成してもよい。このようにすれば、プラズマ照射装置20からの意図しない放電や漏電を抑制することができる。図2に示されるように、プラズマ照射装置20の内部で発生した低温プラズマは、作用部材16の先端部に設けられた作用部16A付近に照射される。
図3で示されるように、プラズマ照射装置20は、所定の立体形状(例えば、板状且つ直方体状)として構成された構造体20Aを有し、構造体20Aの長手方向の端部に形成された放出口34から低温プラズマPを照射するように構成されている。
図4にて概念的に示されるように、構造体20Aは、厚さ方向中央部に第3誘電体層53が設けられ、第3誘電体層53よりも厚さ方向一方側に第4誘電体層54が設けられている。更に、構造体20Aは、第3誘電体層53よりも厚さ方向他方側に第1誘電体層51及び第2誘電体層52が設けられている。第1誘電体層51及び第2誘電体層52によって構成された誘電体領域の内部には、放電電極42及び接地電極44が埋め込まれている。図4では、構造体20Aが3分割された構成が分解斜視図として概念的に示されているが、実際の構成は、第1誘電体層51、第2誘電体層52、第3誘電体層53、及び第4誘電体層54の各々が、一体的な誘電体部50(図5)の一部として構成されている。
図5に示されるように、プラズマ照射装置20は、主に、ガス誘導路30と、沿面放電部40とを備える。
ガス誘導路30は、ガスを導入する導入口32と、ガスを放出する放出口34と、導入口32と放出口34との間に設けられる流路36と、を有する。ガス誘導路30は、先端デバイス3の外部に設けられたガス供給装置7から供給される不活性ガスを導入口32から導入し、導入口32側から導入されたガスを流路36内の空間を通して放出口34に誘導する誘導路となっている。なお、図5では、ガス供給装置7から供給される不活性ガスを導入口32に導くための管路7Aが二点鎖線によって概念的に示されている。図2で示されるように、ガス誘導路30は、放出口34が作用部16Aに近接した位置で作用部16A側に向いており、流路36の空間の延長上に作用部16Aが位置する関係となっている。ガス誘導路30は、放出口34から作用部16A側にガスを放出する流路構成となっており、ガスと共に低温プラズマPを放出口34から作用部16A側に放出するように機能する。
図5で示されるように、本明細書では、プラズマ照射装置20においてガス誘導路30が延びる方向が第1方向であり、第1方向と直交する方向のうち誘電体部50の厚さ方向が第2方向であり、第1方向及び第2方向と直交する方向が第3方向(図6参照)である。図5の構成では、誘電体部50と放電電極42と接地電極44とが一体的に設けられた構造体20Aの長手方向が第1方向である。そして、構造体20Aを第1方向と直交する平面方向に切断した切断面での構造体20Aの短手方向が第2方向であり、この切断面の長手方向が第3方向である。第2方向は構造体20Aの幅方向であり、第3方向は構造体20Aの高さ方向又は厚さ方向である。なお、以下の説明では、第1方向において放出口34側が構造体20Aの先端側とされ、第1方向において導入口32側が構造体20Aの後端側とされる。
沿面放電部40は、第1誘電体層51と、第1誘電体層51を介在させて互いに対向して配置される放電電極42及び接地電極44と、を有する。沿面放電部40は、放電電極42と接地電極44との電位差に基づく電界をガス誘導路30内で発生させて沿面放電による低温プラズマ放電を発生させるように機能する。
沿面放電部40は、放電電極42又は接地電極44の一方が直接又は他部材を介して流路36に面しつつ、周期的に変化する電圧が放電電極42に印加されることに応じて流路36内で沿面放電を発生させるものである。なお、「放電電極42又は接地電極44の一方が直接流路36に面する構成」とは、放電電極42又は接地電極44の一方が流路36内の空間に露出し当該一方が流路の内壁の一部をなすような構成が該当する。また、「放電電極42又は接地電極44の一方が他部材を介して流路36に面する構成」とは、放電電極42又は接地電極44のうちの一方が流路36に近い位置に配置されるとともに当該一方の一部又は全部が他部材によって覆われる構成が該当する。このように他部材を介する構成では、当該他部材が流路の内壁の一部をなし、上記の「一方」の主面が流路36に向いて配置される。なお、図5、図6で示される構成は、放電電極42が上記の「一方」に該当し、「放電電極42が他部材を介して流路36に面する構成」であるが、図5では、他部材の一例に相当する第2誘電体層52を省略して示している。
図6で示されるように、沿面放電部40は、放電電極42が誘電体部50の一部(第2誘電体層52)を介して流路36に面している。接地電極44は、放電電極42に対して流路36とは反対側に設けられ、放電電極42よりも流路36から離れている。沿面放電部40は、接地電極44の電位を一定の基準電位(例えば、0Vのグラウンド電位)に保ちつつ、周期的に変化する電圧が放電電極42に印加されることに応じて流路36内で沿面放電を発生させ、低温プラズマを生じさせる。
図6で示されるように、誘電体部50は、第1誘電体層51、第2誘電体層52、第3誘電体層53、第4誘電体層54を備え、全体として中空状に構成されている。第1誘電体層51は、流路36の空間よりも第2方向(厚さ方向)一方側に配置されるとともに接地電極44が埋め込まれるように構成される。つまり、第1誘電体層51を介して放電電極42及び接地電極44が対向している。第2誘電体層52は、セラミック材料によって放電電極42を覆うように構成されたセラミック保護層であり、第1誘電体層51よりも流路空間側において放電電極42を覆うように配置される。第1誘電体層51及び第2誘電体層52は、流路36における第2方向一方側の内壁部を構成する。第4誘電体層54は、流路36の空間よりも第2方向(厚さ方向)他方側に配置され、流路36における第2方向他方側の内壁部を構成する。第3誘電体層53は、第2方向において第1誘電体層51と第4誘電体層54との間に配置され、流路36における第3方向一方側の側壁部及び第3方向他方側の側壁部を構成する。つまり、流路36は、第1誘電体層51、第2誘電体層52、第3誘電体層53、第4誘電体層54により画成されている。第1誘電体層51、第2誘電体層52、第3誘電体層53、及び第4誘電体層54の材料は、例えばアルミナなどのセラミック、ガラス材料や樹脂材料を好適に用いることができる。なお、機械的強度が高いアルミナを誘電体として用いることで、沿面放電部40の小型化を図りやすくなる。
図7で示されるように、流路36は、第2方向両側及び第3方向両側が囲まれた空間が第1方向に続くように構成され、第1方向に沿って延びる第1流路36Aと、第1流路36Aの下流側に設けられる第2流路36Bとを備える。第1流路36Aは、構造体20Aにおいて第1方向の第1領域AR1に設けられている。第2流路36Bは、構造体20Aにおける第1方向の第2領域AR2に設けられている。図7では、第1方向において第1流路36Aが設けられる範囲が第1領域AR1として表され、第1方向において第2流路36Bが設けられる範囲が第2領域AR2として表されている。
第1流路36Aは、第1方向と直交する方向に切断した切断面での内壁部の形状が長方形状に構成された流路である(図6参照)。図7で示されるように、第1流路36Aは、第1方向の第1領域AR1にわたって内壁面の幅が一定の幅となっており且つ第1方向の第1領域AR1にわたって内壁面の高さが一定の高さとなっている。
図7で示されるように、第2流路36Bは,第1方向において第1流路36Aよりも放出口34側(下流側)に配置され、第1流路36Aよりも狭い幅で構成されている。第2流路36Bは、縮幅流路36Cと一定流路36Dとを備える。縮幅流路36Cは、第1方向において第2領域AR2の一部領域AR21にわたって設けられ、放出口34側に近づくにつれて内壁面の幅が次第に狭くなっている。縮幅流路36Cの高さは、領域AR21の全範囲にわたって一定である。一定流路36Dは、第1方向において第2領域AR2の一部領域AR22にわたって設けられ、領域AR22の全範囲にわたって内壁面の幅及び高さが一定となっている。
接地電極44は、流路36に沿うように第1方向に直線状に延びており、例えば、一定の幅且つ一定の厚さで第1方向の所定領域に配置されている。接地電極44は、自身の先端側の一部が放電電極42よりも放出口34側に配置されている。接地電極44の一部は、第1方向において第2流路36Bの配置領域AR2に位置しており、図7の例では、接地電極44の先端が縮幅流路36Cの先端(一定流路36Dの後端)よりも先端側に位置している。つまり、接地電極44の一部は、第1方向において一定流路36Dの配置領域AR22に位置している。接地電極44の後端は、第1流路36Aの先端よりも後端側に位置し、放電電極42の先端よりも後端側且つ放電電極42の後端よりも先端側に位置している。接地電極44は、第3方向において第1流路36Aの配置領域AR3内に自身の少なくとも一部(図7では自身の全部)が位置する。具体的には、接地電極44は、第3方向において一定流路36Dの配置領域AR4内に自身の少なくとも一部(図7では自身の一部)が位置し、第3方向において放出口34の形成領域内に自身の少なくとも一部(図7では自身の一部)が位置する。
放電電極42は、流路36に沿うように第1方向に直線状に延びており、例えば、一定の幅且つ一定の厚さで第1方向の所定領域に配置されている。具体的には、放電電極42は、第1方向において第1流路36Aの配置領域にのみ位置する。つまり、放電電極42は、第1領域AR1及び第2領域AR2のうちの第1領域AR1にのみ位置する。放電電極42の先端は、第1流路36Aの先端よりも後端側に位置し、放電電極42の後端は第1流路36Aの後端よりも先端側に位置する。更に、放電電極42の幅(第3方向の長さ)は、接地電極44の幅(第3方向の長さ)よりも小さくなっている。図7の例では、放電電極42は、第3方向において第1流路36Aの配置領域AR3内に収まっている。具体的には、放電電極42は、第3方向において一定流路36Dの配置領域AR4内に収まっており、第3方向において放出口34の形成領域内に収まっている。より具体的には、放電電極42は、第3方向において接地電極44の配置領域AR5内に収まっている。放電電極42の第3方向一方側の端は、接地電極44の第3方向一方側の端よりも第3方向他方側に位置し、放電電極42の第3方向他方側の端は、接地電極44の第3方向他方側の端よりも第3方向一方側に位置する。
このように構成されたプラズマ照射装置20は、流路36内の空間を不活性ガスが流れるように不活性ガスが供給される。そして、放電電極42と接地電極44との間には、電源装置9によって所定周波数の交流電圧が印加される。電源装置9は、例えば接地電極44をグラウンド電位に保ち、放電電極42の電位を、接地電極44の電位を中心として、この電位よりも一定程度高い電位である+A(V)から一定程度低い電位である-A(V)までの範囲で振動させるように交流電圧を加える。なお、「A」は、正の値である。このように交流電圧が印加されると、誘電体部50によるバリアが構成された形で、電極間で電界の変化が生じ、ガス誘導路30内の空間で誘電体バリア放電(具体的には沿面放電)が生じる。ガス誘導路30では放出口34に向けて不活性ガスが流れるようになっており、沿面放電によって生じた低温プラズマは放出口34から作用部16Aに向けて放出される。このような構成であるため、術者が先端デバイス3の作用部16A付近を出血箇所に向けるように操作し、プラズマ照射装置20を動作させれば、低温プラズマを出血箇所に照射することができ、血液の凝固作用を生じさせて止血処置を行うことができる。
3.プラズマ照射装置の製造方法
次に、プラズマ照射装置20の製造方法について説明する。
プラズマ照射装置20を製造する場合、まず、図8(A)のように、第1セラミックグリーンシート形成工程及びビアホール形成工程を行う。
次に、プラズマ照射装置20の製造方法について説明する。
プラズマ照射装置20を製造する場合、まず、図8(A)のように、第1セラミックグリーンシート形成工程及びビアホール形成工程を行う。
まず先に、第1セラミックグリーンシート形成工程を行う。第1セラミックグリーンシート形成工程では、アルミナ粉末を主成分とするセラミック材料を用いて、所定厚さのセラミックグリーンシートを形成する。セラミックグリーンシートの形成方法としては、テープ成形や押出成形などの公知の方法を用いることができる。更に、所定厚さのセラミックグリーンシートを形成した後、レーザ加工、パンチング加工、ドリル加工等の公知の加工方法を用い、外形加工を行うとともに、ビアホール用の貫通孔を形成する。ビアホール用の貫通孔を形成した後には、公知のペースト印刷装置(図示略)を用いて貫通孔に導電性ペースト(例えばタングステンペースト)を充填し、ビアホールの導体となる未焼成のビアホール導体部を形成する。図8(A)では、外形加工及びビアホール導体部の形成が行われた後の第1セラミックグリーンシート151を例示しており、未焼成のビアホール導体部については省略して示している。
図8(B)で示されるように、第1セラミックグリーンシート形成工程の後には、第1未焼成導体層形成工程を行う。第1未焼成導体層形成工程では、ペースト印刷装置を用いて、第1セラミックグリーンシート151の一方面上に、タングステンを主成分とするタングステンペースト161を塗布(印刷)する。タングステンペースト161は、第1未焼成導体層の一例に相当し、最終的に接地電極44となる部分である。
図8(C)で示されるように、第1未焼成導体層形成工程の後には、第2セラミックグリーンシート形成工程を行う。第2セラミックグリーンシート形成工程では、アルミナ粉末を主成分とするセラミック材料を用いて、所定厚さのセラミックグリーンシートを形成する。そして、このセラミックグリーンシートに対して第1セラミックグリーンシート151と同様の外形加工を行った後、外形加工後に得られた形状調整後の第2セラミックグリーンシート152を第1未焼成導体層形成工程で得られた積層体(図8(B))上に載置し、圧着する。
図8(D)で示されるように、第2セラミックグリーンシート形成工程の後には、第2未焼成導体層形成工程を行う。第2未焼成導体層形成工程ではペースト印刷装置を用い、第2セラミックグリーンシート形成工程で形成された第2セラミックグリーンシート152(図8(C))の一方面上に、タングステンを主成分とするタングステンペースト162を塗布(印刷)する。
図9(A)で示されるように、第2未焼成導体層形成工程の後には、セラミック保護層形成工程を行う。セラミック保護層形成工程では、ペースト印刷装置を用い、第2未焼成導体層形成工程で得られた積層体(図8(D))の一方面上に、タングステンペースト162を覆う形でアルミナペースト153を塗布(印刷)する。
図9(B)で示されるように、第3未焼成導体層形成工程の後には、第3セラミックグリーンシート形成工程を行う。第3セラミックグリーンシート形成工程では、アルミナ粉末を主成分とするセラミック材料を用いて、所定厚さのセラミックグリーンシートを形成する。そして、このセラミックグリーンシートに対して第1セラミックグリーンシート151と同様の外形加工を行うとともに所望のガス誘導路形状となるように内側を加工する。そして、このような加工を経て得られた第3セラミックグリーンシート154を、第2未焼成導体層形成工程で得られた積層体(図9(A))上に載置し、圧着する。
図9(C)で示されるように、第3セラミックグリーンシート形成工程の後には、第4セラミックグリーンシート形成工程を行う。第4セラミックグリーンシート形成工程では、アルミナ粉末を主成分とするセラミック材料を用いて、所定厚さのセラミックグリーンシートを形成し、このセラミックグリーンシートに対して第1セラミックグリーンシート151と同様の外形加工を行う。そして、このような加工を経て得られた第4セラミックグリーンシート155を、第3セラミックグリーンシート形成工程で得られた積層体(図9(B))上に載置し、圧着する。
第4セラミックグリーンシート形成工程の後には、公知の手法に従って乾燥工程や脱脂工程などを行う。その後、セラミック積層体(セラミックグリーンシート及び未焼成電極)をアルミナ及びタングステンが焼結し得る所定の温度(例えば、1400℃~1600℃程度)に加熱する焼成工程を行う。この焼成工程の結果、図9(D)のように、セラミックグリーンシートのアルミナ、タングステンペーストのタングステン、アルミナペーストのアルミナが焼結し、誘電体部50内に放電電極42及び接地電極44が埋設してなる構造体20A(板状体)が構成される。そして、このように構成された構造体20Aに対し、表面電極部を覆うようにメッキ部(例えば、Niメッキ部)を形成する。以上のような製造方法によって構造体20Aが平面積層構造によって構成されており、このような方法によれば、沿面放電部40の量産バラツキを抑えつつ、安定形状にて安価に製造することができる。
次に、本構成の効果を例示する。
上述したプラズマ照射装置20は、接地電極44の少なくとも一部が放電電極42よりも放出口34側に配置される。これにより、接地電極44を放出口34により近づけることができるとともに、放電電極42を放出口34から離すことができる。このため、放出口34に近づけた接地電極44付近でプラズマを発生させることができ、放出口34に近い領域でプラズマがより発生しやすくなる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、プラズマ照射対象(生体組織)により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的にプラズマを照射することが可能となる。
上述したプラズマ照射装置20は、接地電極44の少なくとも一部が放電電極42よりも放出口34側に配置される。これにより、接地電極44を放出口34により近づけることができるとともに、放電電極42を放出口34から離すことができる。このため、放出口34に近づけた接地電極44付近でプラズマを発生させることができ、放出口34に近い領域でプラズマがより発生しやすくなる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、プラズマ照射対象(生体組織)により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的にプラズマを照射することが可能となる。
しかも、放電電極42が放出口34から離れているので、プラズマ照射対象(生体組織)に対する電気的な悪影響を抑制することができる。例えば、放出口34に近づけた電極(接地電極44)が0V付近のグラウンド電位で維持されるため、この電極からプラズマ照射対象に対して放電がなされるような事態を防ぐことができる。例えば、プラズマ照射対象(生体組織)が放出口34付近に配置された場合でも、放電電極42とプラズマ照射対象(生体組織)との間で強いプラズマが発生することを抑制することができ、低侵襲性を確保しつつ小型化を図りやすくなる。
プラズマ照射装置20において、流路36は、第1方向に沿って延びる第1流路36Aと、第1流路36Aの下流側に設けられるとともに第1方向において第1流路36Aよりも放出口34側に配置され、第1流路36Aよりも狭い幅で構成された第2流路36Bと、を具備する。このプラズマ照射装置20は、第1方向に沿うように放出口34に向かって効率的にガスを流すことができる。しかも、第1流路36Aの下流側に相対的に狭い幅で構成された第2流路36Bが設けられているため、放出口34付近でのガスの流速が高められる。よって、放出口34が照射対象に向けられたときにプラズマが照射対象に効率的に照射されやすくなる。例えば、放出口34からプラズマが届く長さをより長くすることができるとともに、放電に必要なガス量を抑えやすくなる。
プラズマ照射装置20では、接地電極44の少なくとも一部が、第1方向における第2流路36Bの配置領域AR2に位置する。このプラズマ照射装置20は、相対的に幅が狭く構成された第2流路36Bの配置領域AR2に位置するように接地電極44が配置されるため、ガスの流速が高められる第2流路36B内でもプラズマが発生しやすくなる。よって、流路36内で発生したプラズマがより一層効率的に放出されやすくなる。
また、放電電極42は、第1方向における第1流路36Aの配置領域AR1にのみ位置する。このように、放電電極42が第1方向において放出口34から相対的に遠い領域(第1流路36Aの配置領域AR1)のみに配置されるため、放出口34がプラズマ照射対象(生体組織)に向けられたときにプラズマ照射対象に対する電気的な悪影響を確実に抑えることができる。
ところで、沿面放電型プラズマ照射装置は、周期的に変化する電圧を放電電極42に印加する場合に印加電圧の絶対値を抑えやすいという利点があるが、印加電圧の絶対値を抑えすぎるとプラズマが良好に発生しなくなる懸念がある。これに対し、プラズマ照射装置20は、放電電極42の幅を接地電極44の幅よりも小さくし、放電電極42を相対的に細く構成しているため、放電電極42と接地電極44との間でプラズマが生じやすくなる。よって、印加電圧の抑制と良好なプラズマ発生を両立しやすくなる。
また、先端デバイス3は、超音波振動が伝達される作用部16Aを生体組織に作用させることによる切開、剥離又は熱凝固止血と、低温プラズマの照射による低侵襲な止血とを、共通の先端デバイスで行うことができる。これにより、低温プラズマの照射による低侵襲な止血を行いながら、生体組織の切開凝固(即ち、切開しながらの止血)を行うことができる。しかも、その生体組織により近い位置でプラズマを発生させることができる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、作用部16Aが作用する生体組織により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的に、生体組織にプラズマを照射することが可能となる。しかも、作用部16Aを生体組織に作用させる際に生体組織に対する電気的な悪影響を抑制することができる。
<第2実施形態>
次に、第2実施形態について説明する。
図10は、第2実施形態の先端デバイス203を備える手術用装置201を例示している。なお、以下の説明では、第2実施形態の先端デバイス203を備える手術用装置201において第1実施形態の先端デバイス3を備える手術用装置1(図1)と同様の構成をなす部分については、手術用装置1(図1)の該当部分と同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。例えば、手術用装置201及び先端デバイス203においてプラズマ照射装置20は、第1実施形態の先端デバイス3に設けられたプラズマ照射装置20と同一の構成をなし、同一の機能を有する。また、ガス供給装置7及び電源装置9は、手術用装置1(図1)に用いられるものと同一の構成をなす。
次に、第2実施形態について説明する。
図10は、第2実施形態の先端デバイス203を備える手術用装置201を例示している。なお、以下の説明では、第2実施形態の先端デバイス203を備える手術用装置201において第1実施形態の先端デバイス3を備える手術用装置1(図1)と同様の構成をなす部分については、手術用装置1(図1)の該当部分と同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。例えば、手術用装置201及び先端デバイス203においてプラズマ照射装置20は、第1実施形態の先端デバイス3に設けられたプラズマ照射装置20と同一の構成をなし、同一の機能を有する。また、ガス供給装置7及び電源装置9は、手術用装置1(図1)に用いられるものと同一の構成をなす。
図10で示されるように、先端デバイス203は、生体組織に作用する作用部を有する作用部材216と、作用部材216を駆動させる制御装置205(駆動部)と、プラズマ照射装置20と、を備える。この先端デバイス203でも、プラズマ照射装置20は、先端デバイス203の一部として組み込まれており、保持部18に保持された構成でケース体214に固定されている。そして、ガス誘導路30は、放出口34から作用部216A側にガスを放出する構成をなす。ケース体214、作用部材216、及びプラズマ照射装置20は、使用者に把持される把持ユニットとして一体的に構成されており、可撓性を有する部材を介して不活性ガスや電力が供給されるようになっている。
制御装置205は、高周波電流を供給する高周波電流供給部として構成されており、駆動部の一例に相当する。作用部材216は、例えば金属材料などによって軸状に構成されており、制御装置205(高周波電流供給部)から供給される高周波電流が流れる電極部として機能する。作用部材216は、公知の電気メスとして機能させることができ、作用部材216(電極部)を介して流れる高周波電流により生体組織に対して切開作用、剥離作用又は熱凝固止血作用を生じさせ得る。なお、図10では、制御装置205(駆動部)がケース体214の外側に設けられた構成を概念的に示しているが、制御装置205は、ケース体214の内部又は外部においてケース体214と一体的に設けられていてもよい。つまり、制御装置205は、プラズマ照射装置20とは別体として設けられていてもよく、プラズマ照射装置20と一体的に設けられていてもよい。
先端デバイス203では、作用部材216を介して流れる高周波電流による生体組織の切開、剥離又は熱凝固止血と、プラズマ照射装置20からの低温プラズマの照射による低侵襲な止血とを共通の先端デバイス203によって行いうる。
以上のような第2実施形態の構成でも、第1実施形態と同様の効果を奏することができる。
更に、上述した先端デバイス203は、作用部216Aを生体組織に作用させて切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせることができ、しかも、その生体組織により近い位置でプラズマを発生させることができる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、作用部16Aが作用する生体組織により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的に、生体組織にプラズマを照射することが可能となる。しかも、作用部216Aを生体組織に作用させる際に生体組織に対する電気的な悪影響を抑制することができる。
更に、上述した先端デバイス203は、作用部216Aを生体組織に作用させて切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせることができ、しかも、その生体組織により近い位置でプラズマを発生させることができる。特に、沿面放電方式のものにおいてこのような作用が生じれば、作用部16Aが作用する生体組織により多くのプラズマを照射できる、もしくはより低い印加電圧で、より効率的に、生体組織にプラズマを照射することが可能となる。しかも、作用部216Aを生体組織に作用させる際に生体組織に対する電気的な悪影響を抑制することができる。
<第3実施形態>
次に、第3実施形態について説明する。
図11は、第3実施形態のプラズマ照射装置320を例示している。
図11のプラズマ照射装置320において、第1実施形態のプラズマ照射装置20(図7等)と同様の構成をなす部分については、第1実施形態のプラズマ照射装置20の該当部分と同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図11のプラズマ照射装置320は、沿面放電部340の構成が図7等で示すプラズマ照射装置20と異なる。具体的には、放電電極342の第3方向(幅方向)の位置が放電電極42の第3方向の位置と異なる点が図7等で示すプラズマ照射装置20と比較したときの相違点であり、その他の点は、図7等で示すプラズマ照射装置20と同様である。なお、放電電極342の第2方向(高さ方向)の位置は、放電電極42(図6等)と同様であり、放電電極342の第1方向の位置も、放電電極42(図5等)と同様である。また、図6等で示す第2誘電体層52と同様の誘電体層が放電電極342を覆っており、放電電極342はこの誘電体層を介して流路36に面している。
次に、第3実施形態について説明する。
図11は、第3実施形態のプラズマ照射装置320を例示している。
図11のプラズマ照射装置320において、第1実施形態のプラズマ照射装置20(図7等)と同様の構成をなす部分については、第1実施形態のプラズマ照射装置20の該当部分と同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。図11のプラズマ照射装置320は、沿面放電部340の構成が図7等で示すプラズマ照射装置20と異なる。具体的には、放電電極342の第3方向(幅方向)の位置が放電電極42の第3方向の位置と異なる点が図7等で示すプラズマ照射装置20と比較したときの相違点であり、その他の点は、図7等で示すプラズマ照射装置20と同様である。なお、放電電極342の第2方向(高さ方向)の位置は、放電電極42(図6等)と同様であり、放電電極342の第1方向の位置も、放電電極42(図5等)と同様である。また、図6等で示す第2誘電体層52と同様の誘電体層が放電電極342を覆っており、放電電極342はこの誘電体層を介して流路36に面している。
図11で示されるように、放電電極342は、流路36に沿うように第1方向に直線状に延びており、例えば、一定の幅且つ一定の厚さで第1方向の所定領域に配置され、第1方向において第1流路36Aの配置領域AR1にのみ位置する。放電電極342の先端は、第1流路36Aの先端よりも後端側に位置し、放電電極342の後端は第1流路36Aの後端よりも先端側に位置する。更に、放電電極342の幅(第3方向の長さ)は、接地電極44の幅(第3方向の長さ)よりも小さくなっている。放電電極342は、第3方向において第1流路36Aの配置領域AR3内に収まっている。但し、第1方向と直交する平面方向において、放電電極342の領域が放出口34の開口領域からずれている。具体的には、放電電極342は、第3方向において放出口34の形成領域AR4(一定流路36Dの配置領域)から外れている。なお、放電電極342の第3方向一方側の端は、接地電極44の第3方向一方側の端よりも第3方向他方側に位置し、放電電極342の第3方向他方側の端は、接地電極44の第3方向他方側の端より第3方向一方側に位置する。
このように構成されたプラズマ照射装置320も第1実施形態と同様の効果を奏する。更に、プラズマ照射装置320は、放電電極342の領域が放出口34の開口領域からずれている(つまり、放出口34から流路36を見たときに放電電極342が隠れて配置されている)ため、流路36の空間を通じて放電電極342によるプラズマ照射対象への電気的な悪影響を抑制することができる。例えば、照射対象が放出口34付近に配置された場合でも、放電電極342によるプラズマ照射対象への電気的な悪影響を確実に抑制することができ、低侵襲性を確保しつつ小型化を図りやすくなる。
<他の実施形態>
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態の各態様に限定されるものではなく、例えば、矛盾しない範囲で、複数の実施形態の特徴を組み合わせることが可能である。また、次のような例も本発明の技術的範囲に含まれる。
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態の各態様に限定されるものではなく、例えば、矛盾しない範囲で、複数の実施形態の特徴を組み合わせることが可能である。また、次のような例も本発明の技術的範囲に含まれる。
第3実施形態のプラズマ照射装置320(図11)に代えて図12のようなプラズマ照射装置420としてもよい。図12のプラズマ照射装置420は、沿面放電部340に代えて沿面放電部440を設けた点が第3実施形態のプラズマ照射装置320(図11)とは異なり、具体的には、放電電極342に代えて放電電極442A,442Bを設けた点、及び接地電極44に代えて接地電極444を設けた点のみがプラズマ照射装置320(図11)とは異なる。このプラズマ照射装置420は、放電電極342(図11)と同様の構成をなす放電電極442Aに加え、放電電極442Bが設けられている。つまり、複数本の放電電極442A,442Bを有しており、第1方向と直交する平面方向において、放電電極442A,442Bのいずれの領域も放出口34の開口領域からずれている。
更に、接地電極444は、第1方向における第1領域AR1(第1流路36Aが設けられた領域)において大幅部444Aが設けられている。大幅部444Aは、第1方向において第1領域AR1と一部領域AR21とに跨っており、第1方向所定範囲にわたって第3方向の幅が一定とされている。大幅部444Aの第3方向の幅は、放出口34の第3方向の幅よりも大きく且つ一定流路36Dの第3方向の幅よりも大きい。また、大幅部444Aにおいて第3方向一方側の端は、放出口34における第3方向一方側の端よりも第3方向一方側に配置される。また、大幅部444Aにおいて第3方向他方側の端は、放出口34における第3方向他方側の端よりも第3方向他方側に配置される。一方で、接地電極444は、第1方向の一部領域AR22(一定流路36Dが設けられた領域)において小幅部444Bが設けられている。小幅部444Bの第3方向の幅は、大幅部444Aの第3方向の幅よりも小さく、一定流路36Dの第3方向の幅と同程度且つ放出口34の第3方向の幅と同程度となっている。接地電極444は、大幅部444Aと小幅部444Bとの間に縮幅部444Cが設けられている。縮幅部444Cは、第3方向の幅が放出口34に向かって次第に小さくなるように構成された部分であり、第1方向において一部領域AR21の一部のみに設けられている。
更に、接地電極444は、第1方向における第1領域AR1(第1流路36Aが設けられた領域)において大幅部444Aが設けられている。大幅部444Aは、第1方向において第1領域AR1と一部領域AR21とに跨っており、第1方向所定範囲にわたって第3方向の幅が一定とされている。大幅部444Aの第3方向の幅は、放出口34の第3方向の幅よりも大きく且つ一定流路36Dの第3方向の幅よりも大きい。また、大幅部444Aにおいて第3方向一方側の端は、放出口34における第3方向一方側の端よりも第3方向一方側に配置される。また、大幅部444Aにおいて第3方向他方側の端は、放出口34における第3方向他方側の端よりも第3方向他方側に配置される。一方で、接地電極444は、第1方向の一部領域AR22(一定流路36Dが設けられた領域)において小幅部444Bが設けられている。小幅部444Bの第3方向の幅は、大幅部444Aの第3方向の幅よりも小さく、一定流路36Dの第3方向の幅と同程度且つ放出口34の第3方向の幅と同程度となっている。接地電極444は、大幅部444Aと小幅部444Bとの間に縮幅部444Cが設けられている。縮幅部444Cは、第3方向の幅が放出口34に向かって次第に小さくなるように構成された部分であり、第1方向において一部領域AR21の一部のみに設けられている。
第1実施形態のプラズマ照射装置20(図5)に代えて図13のようなプラズマ照射装置520としてもよい。図13のプラズマ照射装置520の沿面放電部540は、接地電極44に代えて接地電極544を設けた点のみが第1実施形態のプラズマ照射装置20(図5)の沿面放電部40とは異なる。図13で示されるプラズマ照射装置520の接地電極544は、接地電極44と同様の構成をなす接地電極層544Aに加えて、更に接地電極層544Bと導電部544Cとが設けられている。導電部544Cは、接地電極層544Aと接地電極層544Bとを電気的に接続する導電部として機能する。接地電極層544Bは、第1方向において放電電極42よりも放出口34側に設けられ、第2方向において接地電極層544A(放電電極42に重なる位置に配置される接地電極層)よりも流路36に近い位置に配置されている。このようにすることで、放電電極42から外れた位置において接地電極層544Bをより近づけることができる。また、図14のようにしてもよい。図14で示すプラズマ照射装置620は、沿面放電部640の構成のみが図13の構成と異なり、具体的には、接地電極層544Bを接地電極部644Bに変更した点のみが図13の構成と異なる。プラズマ照射装置620の接地電極644において接地電極部644Bは、流路36を囲むように環状に配置された電極層となっている。なお、接地電極層644Aは図13の接地電極層544Aと同様であり、導電部644Cは図13の導電部544Cと同様である。
第1実施形態の先端デバイス3(図1)又は第2実施形態の先端デバイス203(図10)若しくは上述したその他の先端デバイスにおいて、プラズマ照射装置20に代えて図15のようなプラズマ照射装置720を設けてもよい。なお、図15の構成は、沿面放電部40に代えて沿面放電部740を設けた点が図5等で示すプラズマ照射装置20とは異なる。プラズマ照射装置720は、接地電極44(図5)に代えて接地電極744を有する。接地電極744は、接地電極44と同様の構成をなす接地電極層744Aに加え、接地電極部744Dと、接地電極部744Dに電気的に接続される接地電極層744Bと、接地電極層744Aと接地電極層744Bとを電気的に接続する導電部744Cとを有する。接地電極部744D、接地電極層744A,744B、導電部744Cはいずれもグラウンド電位に保たれる部位である。接地電極部744Dは、上述したいずれかの先端デバイスの作用部材であってもよく、上述したいずれかの先端デバイスの作用部材に組み付けられる組付部材(例えばケース体)であってもよい。図15の例では、接地電極部744D(作用部材又は作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材)が接地電極の一部を兼ねており、高周波電圧が印加されるときにグラウンド電位に保たれる部位となっている。図15の構成では、接地電極部744Dの一部が放電電極42よりも放出口34側に配置されており、より具体的には、第1方向において放出口34よりも先端側まで接地電極部744Dが延びている。この構成によれば、接地電極に関する配線の簡略化を図りやすくなる。
第1実施形態の先端デバイス3(図1)又は第2実施形態の先端デバイス203(図10)若しくは上述したその他の先端デバイスにおいて、プラズマ照射装置20に代えて図16のようなプラズマ照射装置820を設けてもよい。なお、図16の構成は、沿面放電部40に代えて沿面放電部840を設けた点が図5等で示すプラズマ照射装置20とは異なる。具体的には、図16の構成は、接地電極44(図5)を省略し、接地電極844を設けた点のみが図5等で示すプラズマ照射装置20とは異なり、それ以外の構成は図5等で示すプラズマ照射装置20と同一である。
図16において、接地電極844は、上述したいずれかの先端デバイスの作用部材であってもよく、上述したいずれかの先端デバイスの作用部材に組み付けられる組付部材(例えばケース体)であってもよい。図16の例では、接地電極844が「作用部材又は作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材」と接地電極とを兼ねており、高周波電圧が印加されるときにグラウンド電位に保たれる部位となっている。図16の構成では、接地電極844の一部が放電電極42よりも放出口34側に配置されており、より具体的には、第1方向において放出口34よりも先端側まで接地電極844が延びている。
このようにすれば、作用部材又は組付部材とは異なる部位に配置する接地電極を削減又は省略することができるため、先端デバイスにおいて作用部材又は組付部材とは異なる部位の構成を簡素化することができる。また、接地電極に関する配線の簡略化を図りやすくなる。
図16において、接地電極844は、上述したいずれかの先端デバイスの作用部材であってもよく、上述したいずれかの先端デバイスの作用部材に組み付けられる組付部材(例えばケース体)であってもよい。図16の例では、接地電極844が「作用部材又は作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材」と接地電極とを兼ねており、高周波電圧が印加されるときにグラウンド電位に保たれる部位となっている。図16の構成では、接地電極844の一部が放電電極42よりも放出口34側に配置されており、より具体的には、第1方向において放出口34よりも先端側まで接地電極844が延びている。
このようにすれば、作用部材又は組付部材とは異なる部位に配置する接地電極を削減又は省略することができるため、先端デバイスにおいて作用部材又は組付部材とは異なる部位の構成を簡素化することができる。また、接地電極に関する配線の簡略化を図りやすくなる。
上述した実施形態では、接地電極の一部が第1方向における第2流路の配置領域に位置していたが、接地電極の全部が第1方向における第2流路の配置領域に位置していてもよい。
第1実施形態では超音波メスとして機能する先端デバイスにプラズマ照射装置が組み込まれた構成を例示したが、電気的な機能を有さない既知の手術用器具(例えば、メス、鉗子等)に対して上述したいずれかの構成のプラズマ照射装置が組み込まれる形態で先端デバイスが構成されていてもよい。
上述した説明において、一部の実施形態では、駆動部が先端デバイスの一部を構成するケース体(作用部材が組み込まれるケース体)の内部に配置される例を示したが、駆動部がケース体の外部に配置されていてもよい。このように駆動部がケース体の外部に配置される場合でも、駆動部は先端デバイスの一部とみなすことができる。
上述した実施形態では、プラズマ照射装置が先端デバイスの一部として組み込まれた構成を例示したが、プラズマ照射装置は先端デバイスの一部として組み込まれていなくてもよい。つまり、プラズマ照射装置を単体として用いてもよい。この場合、図1で示す構成から一部を省略し、図17で示すように、プラズマ照射装置20と制御装置5とガス供給装置7と電源装置9とを備えた構成でプラズマ照射システム901を構築してもよい。このプラズマ照射システム901は、手術用のシステムとして用いてもよく、手術以外の用途で用いてもよい。図17の例では、ケース体914の内部に第1実施形態と同様のプラズマ照射装置20が組み込まれた構成で先端デバイス903が構成されており、ケース体914とプラズマ照射装置20とが一体化した把持ユニット(手持ち部)が構成されている。この場合、制御装置5には、超音波振動部12の制御に代えて他の制御を行う機能をもたせればよい。この構成でも、ガス供給装置7とプラズマ照射装置20との間には可撓性を有する管路を設ければよい。また、電源装置9は、ケース体914の内部に設けられていてもよく、ケース体914の外部に設けられていてもよい。
特許請求の範囲、及び明細書において、「生体組織に作用する」とは、作用部材が生体組織に影響を及ぼし、切開と剥離と止血との少なくとも1つを為すことを意味する。上述した実施形態で例示された作用部材はあくまで一例であり、作用部材が生体組織に影響を及ぼし、切開、剥離、止血の少なくとも1つを行い得るようになっていれば、上述した実施形態以外の様々な構成を採用することができる。
1,201…手術用装置
3,203,903…先端デバイス
12…超音波振動部(駆動部)
16,216…作用部材
16A,216A…作用部
20,320,420,520,620,720,820…プラズマ照射装置
30…ガス誘導路
32…導入口
34…放出口
36…流路
36A…第1流路
36B…第2流路
40,340,440,540,640,740,840…沿面放電部
42,342,442A,442B…放電電極
44,444,544,644,744,844…接地電極
51…第1誘電体層(誘電体層)
205…制御装置(駆動部)
3,203,903…先端デバイス
12…超音波振動部(駆動部)
16,216…作用部材
16A,216A…作用部
20,320,420,520,620,720,820…プラズマ照射装置
30…ガス誘導路
32…導入口
34…放出口
36…流路
36A…第1流路
36B…第2流路
40,340,440,540,640,740,840…沿面放電部
42,342,442A,442B…放電電極
44,444,544,644,744,844…接地電極
51…第1誘電体層(誘電体層)
205…制御装置(駆動部)
Claims (13)
- ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備えるプラズマ照射装置であって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置される
プラズマ照射装置。 - 前記ガス誘導路は、第1方向の一方側に前記放出口が設けられ、前記第1方向の他方側に前記導入口が設けられ、
前記流路は、
前記第1方向に沿って延びる第1流路と、
前記第1流路の下流側に設けられるとともに前記第1方向において前記第1流路よりも前記放出口側に配置され、前記第1流路よりも狭い幅で構成された第2流路と、
を具備する
請求項1に記載のプラズマ照射装置。 - 前記接地電極の少なくとも一部が、前記第1方向における前記第2流路の配置領域に位置する
請求項2に記載のプラズマ照射装置。 - 前記放電電極が、前記第1方向における前記第1流路の配置領域にのみ位置する
請求項3に記載のプラズマ照射装置。 - 前記放電電極は、直接又は他部材を介して前記流路に面してなり、
前記第1方向と直交する平面方向において、前記放電電極の領域が前記放出口の開口領域からずれている
請求項2から請求項4のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置。 - 前記放電電極の幅が前記接地電極の幅よりも小さい
請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置。 - 生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置と、
を有し、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置されてなる
先端デバイス。 - 生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
前記作用部材を駆動させる駆動部と、
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置と、
を有し、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置されてなり、
前記駆動部は、超音波振動を発生させる超音波振動部であり、
前記作用部材は、前記超音波振動部で発生する超音波振動が伝達されることにより、前記作用部が振動して前記生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせる
先端デバイス。 - 生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
前記作用部材を駆動させる駆動部と、
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置と、
を有し、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置されてなり、
前記駆動部は、高周波電流を供給する高周波電流供給部であり、
前記作用部材は、前記高周波電流供給部から供給される高周波電流が流れることにより、前記作用部が前記生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせる
先端デバイス。 - 前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる
請求項7から請求項9のいずれか一項に記載の先端デバイス。 - 生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備え、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置された先端デバイスであって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置され、
前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる
先端デバイス。 - 生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
前記作用部材を駆動させる駆動部と、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備え、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置されてなり、
前記駆動部は、超音波振動を発生させる超音波振動部であり、
前記作用部材は、前記超音波振動部で発生する超音波振動が伝達されることにより、前記作用部が振動して前記生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせる先端デバイスであって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置され、
前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる
先端デバイス。 - 生体組織に作用する作用部を有する作用部材と、
前記作用部材を駆動させる駆動部と、
ガスを導入する導入口と、ガスを放出する放出口と、前記導入口と前記放出口との間に設けられる流路と、を有し、前記導入口側から導入されたガスを前記流路内の空間を通して前記放出口に流すガス誘導路と、
誘電体層と、前記誘電体層を介在させて互いに対向して配置される放電電極及び接地電極と、を有し、前記放電電極又は前記接地電極の一方が直接又は他部材を介して前記流路に面しつつ、周期的に変化する電圧が前記放電電極に印加されることに応じて前記流路内で沿面放電を発生させる沿面放電部と、
を備え、
前記ガス誘導路は、前記放出口から前記作用部側に向かってガスを放出するように配置されてなり、
前記駆動部は、高周波電流を供給する高周波電流供給部であり、
前記作用部材は、前記高周波電流供給部から供給される高周波電流が流れることにより、前記作用部が前記生体組織に対して切開作用、剥離作用又は止血作用を生じさせる先端デバイスであって、
前記接地電極の少なくとも一部が前記放電電極よりも前記放出口側に配置され、
前記作用部材又は前記作用部材に対して一体的に組み付けられる組付部材が前記接地電極を兼ねる
先端デバイス。
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