WO2020217886A1 - 反射フィルム、液晶表示装置および反射フィルムの製造方法 - Google Patents

反射フィルム、液晶表示装置および反射フィルムの製造方法 Download PDF

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vapor deposition
top coat
metal vapor
coat layer
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敏之 保住
那由太 嶋田
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尾池工業株式会社
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    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors

Definitions

  • the present invention relates to a reflective film, a liquid crystal display device, and a method for manufacturing the reflective film. More specifically, the present invention is less likely to cause appearance defects such as thermal wrinkles and streaks, has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer, and is peeled off when an impact is applied in a process such as chip cutting.
  • the present invention relates to a reflective film, a liquid crystal display device, and a method for manufacturing a reflective film, which are less likely to cause defects and exhibit excellent durability.
  • Patent Document 1 discloses a laminated film in which a melamine resin is blended as a resin constituting the undercoat layer and the topcoat layer to prevent adhesion between the metal vapor deposition layer and the topcoat layer and corrosion of the metal vapor deposition layer. Has been done.
  • the laminated film described in Patent Document 1 has room for improvement in the adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer.
  • conventional laminated films reflective sheets, reflective films
  • the present invention has been made in view of such a conventional invention, is less likely to cause appearance defects such as thermal wrinkles and streaks, and has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer, for example, chip cutting and the like. It is an object of the present invention to provide a reflective film, a liquid crystal display device, and a method for producing a reflective film, which are less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in the process and exhibit excellent durability.
  • the present inventors have made the metal vapor deposition layer contain silver or a silver alloy containing silver as a main component, and the top coat layer contains a sulfur compound, and then the sulfur compound in the top coat layer.
  • the concentration of elemental sulfur in the metal vapor deposition layer is higher on the metal vapor deposition layer side than on the side opposite to the metal vapor deposition layer in the thickness direction of the top coat layer, silver or a silver alloy and a sulfur compound in the metal vapor deposition layer can be formed. Reacted with each other, and found that the metal vapor deposition layer and the topcoat layer could be firmly adhered to each other, thereby completing the present invention.
  • the reflective film of one aspect of the present invention that solves the above problems includes a base material, an undercoat layer provided on the base material, a metal vapor deposition layer provided on the undercoat layer, and the metal vapor deposition layer. It has a topcoat layer provided above, the metal vapor deposition layer contains silver or a silver alloy containing silver as a main component, the topcoat layer contains a sulfur compound, and the sulfur in the topcoat layer.
  • the sulfur element concentration of the compound is a reflective film in which the metal vapor deposition layer side is higher than the metal vapor deposition layer side in the thickness direction of the top coat layer.
  • the liquid crystal display device of one aspect of the present invention that solves the above-mentioned problems is a liquid crystal display device including a light source, a light guide plate, the above-mentioned reflective film, and a liquid crystal panel.
  • the method for producing a reflective film includes an undercoat layer forming step of providing an undercoat layer on a substrate and a vapor deposition of providing a metal vapor deposition layer on the undercoat layer.
  • the steps a top coat layer forming step of applying a resin solution of a resin composition for a top coat layer on the metal vapor deposition layer to provide a top coat layer, and a low temperature drying step of drying at 80 to 150 ° C. It has a resin film layer forming step of providing a resin film layer to which an adhesive is applied on the top coat layer, and the metal vapor deposition layer contains silver or a silver alloy containing silver as a main component, and is used for the top coat layer.
  • the resin composition contains a sulfur compound, and in the top coat layer forming step, the resin solution of the resin composition for the top coat layer is applied to the metal vapor deposition layer to obtain the sulfur compound in the resin solution.
  • the sulfur element concentration of the sulfur compound in the top coat layer is on the metal vapor deposition layer side in the thickness direction of the top coat layer.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining the configuration of the reflective film according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a graph showing the measurement results of the sulfur element concentration by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of the reflective film of the specific example (Example 6) of the embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is an enlarged view of the graph shown in FIG.
  • FIG. 4 is a graph showing the measurement results of the sulfur element concentration by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of the reflective film of the specific example (Example 3) of the embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is an enlarged view of the graph shown in FIG. FIG.
  • FIG. 6 is a graph showing the measurement results of the sulfur element concentration by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of the reflective film of the specific example (Example 4) of the embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is an enlarged view of the graph shown in FIG.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining a liquid crystal display device including the reflective film according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining the configuration of the reflective film 1 according to the embodiment of the present invention.
  • the reflective film 1 of the present embodiment is provided on the base material 2, the undercoat layer 3 provided on the base material 2, the metal vapor deposition layer 4 provided on the undercoat layer 3, and the metal vapor deposition layer 4. It has the obtained top coat layer 5.
  • the metal vapor deposition layer 4 contains silver or a silver alloy containing silver as a main component.
  • the top coat layer 5 contains a sulfur compound. The sulfur element concentration of the sulfur compound in the topcoat layer 5 is higher on the metal vapor deposition layer 4 side than on the side opposite to the metal vapor deposition layer 4 in the thickness direction of the topcoat layer 5.
  • Such a reflective film 1 has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer 4 and the top coat layer 5. Therefore, the reflective film 1 is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits excellent durability. Further, the reflective film 1 may have a low temperature of, for example, about 80 to 150 ° C. required for drying. Therefore, the reflective film 1 is less likely to cause appearance defects such as thermal wrinkles and streaks during manufacturing. Each configuration will be described below.
  • Base material 2 As the base material 2, a resin film widely used in the reflective film 1 of the liquid crystal display device can be used.
  • the base material 2 is a polyethylene terephthalate (PET) film, an olefin-based film, a polycarbonate (PC) film, a polyether sulfone (PES) film, or the like.
  • the base material 2 may be a transparent film or a white film such as a white PET (foamed PET) film.
  • the thickness of the base material 2 is not particularly limited. As an example, the thickness of the base material 2 is preferably 20 ⁇ m or more. The thickness of the base material 2 is preferably 400 ⁇ m or less. When the thickness of the base material 2 is within the above range, the obtained reflective film 1 can exhibit appropriate rigidity and strength.
  • the undercoat layer 3 is provided on the base material 2 and is provided for firmly adhering the metal vapor deposition layer 4 to the base material 2. Further, the undercoat layer 3 is provided to protect the metal vapor deposition layer 4 containing silver or an alloy containing silver from corrosion due to moisture, oxygen, or the like.
  • the raw material of the undercoat layer 3 is not particularly limited.
  • the undercoat layer 3 is an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a siloxane resin, a melamine resin, an epoxy resin, or the like.
  • the undercoat layer 3 preferably contains a melamine resin, and more preferably contains a melamine resin and a polyester resin. Since the melamine resin is contained, the reflective film 1 is less likely to corrode the metal vapor deposition layer 4 containing silver or a silver alloy containing silver as a main component, and tends to exhibit excellent corrosion resistance.
  • the content of the melamine resin contained in the undercoat layer 3 is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, based on the resin solid content. Further, the melamine resin may be 100% by mass in the resin solid content. When the content of the melamine resin is within the above range, the reflective film 1 is less likely to corrode the metal vapor deposition layer 4 containing silver or a silver alloy containing silver as a main component, and tends to exhibit excellent corrosion resistance.
  • the thickness of the undercoat layer 3 is not particularly limited. As an example, the thickness of the undercoat layer 3 is preferably 10 nm or more, and more preferably 50 nm or more. The thickness of the undercoat layer 3 is preferably 1000 nm or less, and more preferably 500 nm or less. When the thickness of the undercoat layer 3 is within the above range, the undercoat layer 3 can easily firmly adhere the metal vapor deposition layer 4 to the base material 2. Further, the undercoat layer 3 can easily protect the metal vapor deposition layer 4 containing silver or an alloy containing silver from corrosion due to moisture, oxygen, or the like.
  • the method of providing the undercoat layer 3 on the base material 2 is not particularly limited.
  • the undercoat layer 3 may employ a so-called wet coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, or a die coating method.
  • Metal vapor deposition layer 4 The metal vapor deposition layer 4 is provided on the undercoat layer 3.
  • the metal vapor deposition layer 4 of the present embodiment contains silver or a silver alloy containing silver as a main component.
  • Other metals that make up the silver alloy are not particularly limited.
  • other metals are copper, bismuth, gold, platinum, zinc, tin, titanium, nickel, magnesium, lead, and the like.
  • the ratio of other metals contained in the silver alloy is preferably 0.1 (unit: atomic%) or more, and preferably 10 (unit: atomic%) or less.
  • the thickness of the metal vapor deposition layer 4 is not particularly limited. As an example, the thickness of the metal vapor deposition layer 4 is preferably 60 nm or more, and more preferably 80 nm or more. The thickness of the metal vapor deposition layer 4 is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less. When the thickness of the metal vapor deposition layer 4 is within the above range, the obtained reflective film 1 is produced at an appropriate cost and exhibits an appropriate reflectance.
  • the method of laminating the metal vapor deposition layer 4 is not particularly limited.
  • the metal vapor deposition layer 4 can be provided on the undercoat layer 3 by a so-called dry coating method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method.
  • the top coat layer 5 is provided to protect the metal vapor deposition layer 4 and to prevent silver (including silver alloy) contained in the metal vapor deposition layer 4 from corroding.
  • the top coat layer 5 contains a sulfur compound.
  • the top coat layer 5 may be provided with a plurality of layers.
  • the raw material of the top coat layer 5 may contain a sulfur compound, and other raw materials are not particularly limited.
  • the top coat layer 5 is an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a siloxane resin, a melamine resin, an epoxy resin, or the like, in addition to the sulfur compound.
  • the top coat layer 5 preferably contains a melamine resin, and more preferably contains a melamine resin and an acrylic resin. Since the melamine resin is contained, the reflective film 1 is less likely to corrode the metal vapor deposition layer 4 containing silver or a silver alloy containing silver as a main component, and tends to exhibit excellent corrosion resistance.
  • the content of the melamine resin contained in the top coat layer 5 is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more in the resin solid content. Further, the melamine resin may be 100% by mass in the resin solid content. When the content of the melamine resin is within the above range, the reflective film 1 is less likely to corrode the metal vapor deposition layer 4 containing silver or a silver alloy containing silver as a main component, and tends to exhibit excellent corrosion resistance.
  • the sulfur compound is not particularly limited.
  • the sulfur compounds include mercaptopropionic acid derivative sulfur compounds such as pentaerythritol tetraxthiopropionate (PETP), thioglycolic acid derivative sulfur compounds such as pentaerythritol tetraxthioglycolate (PETG), and thiol compounds.
  • PETP pentaerythritol tetraxthiopropionate
  • PETG pentaerythritol tetraxthioglycolate
  • thiol compounds such as silane coupling agent or the like.
  • a silane coupling agent or the like. Sulfur compounds may be used in combination.
  • the content of the sulfur compound is not particularly limited.
  • the content of the sulfur compound is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more, based on the resin solid content constituting the topcoat layer 5.
  • the content of the sulfur compound is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the resin solid content constituting the topcoat layer 5.
  • the reflective film 1 can be produced at an appropriate cost, and the adhesion between the metal vapor deposition layer 4 and the topcoat layer 5 is excellent. Therefore, the obtained reflective film 1 is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits more excellent durability.
  • the thickness of the top coat layer 5 is not particularly limited. As an example, the thickness of the top coat layer 5 is preferably 20 nm or more, and more preferably 50 nm or more. The thickness of the top coat layer 5 is preferably 5000 nm or less, more preferably 2000 nm or less. When the thickness of the top coat layer 5 is within the above range, the obtained reflective film 1 exhibits appropriate rigidity and is not easily bent. Further, the top coat layer 5 can easily protect the metal vapor deposition layer 4 containing silver or an alloy containing silver from corrosion due to moisture, oxygen, or the like.
  • the method of providing the top coat layer 5 on the metal vapor deposition layer 4 is not particularly limited.
  • a resin solution of the above-mentioned sulfur compound and a resin composition for the top coat layer 5 containing an appropriate resin is prepared, and the resin solution is subjected to a gravure coating method, a reverse coating method, or a die coating.
  • a method of applying to the metal vapor deposition layer 4 by a so-called wet coating method such as a method can be adopted.
  • the top coat layer 5 is formed on the metal vapor deposition layer 4 by the wet coating method.
  • the sulfur element concentration of the sulfur compound in the top coat layer 5 is higher on the metal vapor deposition layer 4 side than on the side opposite to the metal vapor deposition layer 4 in the thickness direction of the top coat layer 5. This is because the sulfur compound contained in the top coat layer 5 reacts with the silver contained in the metal vapor deposition layer 4 or the silver alloy containing silver as a main component to bond firmly, so that the adhesive surface with the metal vapor deposition layer 4 is bonded. This is because many sulfur compounds are unevenly distributed in the vicinity.
  • reference numeral 51 indicates a region containing a large amount of sulfur compound.
  • FIG. 2 shows a sulfur element obtained by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of a reflective film of a specific example of the present embodiment (Example 6, which will be described later, containing 1.0% by mass of a thiol-based silane coupling agent as a sulfur compound). It is a graph which shows the measurement result of the concentration.
  • FIG. 3 is an enlarged view of the graph shown in FIG.
  • FIG. 4 shows X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of a reflective film of a specific example of the present embodiment (Example 3, which will be described later, which contains 5.0% by mass of pentaerythritol tetraxthiopropionate (PETP) as a sulfur compound).
  • PETP pentaerythritol tetraxthiopropionate
  • FIG. 5 is an enlarged view of the graph shown in FIG.
  • FIG. 6 shows X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of a reflective film of a specific example of the present embodiment (Example 4, described later, containing 10.0% by mass of pentaerythritol tetraxthiopropionate (PETP) as a sulfur compound). It is a graph which shows the measurement result of the sulfur element concentration by).
  • FIG. 7 is an enlarged view of the graph shown in FIG.
  • the reflective film of the present embodiment has a top coat in the thickness direction of the top coat layer from the side opposite to the metal vapor deposition layer of the top coat layer toward the metal vapor deposition layer side by XPS.
  • the maximum concentration peak of the sulfur element concentration is shown on the metal vapor deposition layer side in the thickness direction of the top coat layer.
  • the depth showing this maximum concentration peak is the depth at which the carbon element concentration starts to decrease from 100 atomic% and the silver element concentration starts to increase from 0 atomic% (depth about 20 nm). ), And the maximum concentration peak is 1.0 atomic%. As shown in FIG.
  • the depth showing the maximum concentration peak is the depth at which the carbon element concentration starts to decrease from 100 atomic% and the silver element concentration starts to increase from 0 atomic% (depth about 25 nm).
  • the maximum concentration peak is 3.0 atomic%.
  • the depth showing the maximum concentration peak is the depth at which the carbon element concentration starts to decrease from 100 atomic% and the silver element concentration starts to increase from 0 atomic% (depth about 35 nm).
  • the maximum concentration peak at that time is 5.0 atomic%. That is, since the sulfur compound contained in the top coat layer has a peak of sulfur element concentration in the vicinity of the adhesion surface with the metal vapor deposition layer, the sulfur compound has a high concentration in the vicinity of the adhesion surface with the metal vapor deposition layer.
  • the reflective film in which the sulfur compound and the silver or the alloy containing silver as a main component are strongly bonded has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer. Therefore, the reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits more excellent durability.
  • the XPS measurement conditions are not particularly limited.
  • XPS measurement uses a multifunctional scanning X-ray photoelectron spectroscopy analyzer (model number: PHI5000 VersaProbe2, ULVAC-PHI), and the sample surface is sputter-etched for 30 seconds with the attached Ar ion gun (2 kV). Then, photoelectrons of C1s (carbon), S2p (nitrogen), and Ag3d (silver) are detected by irradiation with AlK ⁇ rays, and the ratios of three types of elements are calculated. The detection time of C1s (carbon), S2p (nitrogen), and Ag3d (silver) can be measured under the condition of about 60 seconds each.
  • the maximum concentration peak of the sulfur element concentration of the sulfur compound in the top coat layer measured by XPS is preferably 0.5 atomic% or more, and more preferably 1.0 atomic% or more.
  • the maximum concentration peak is preferably 30.0 atomic% or less, and more preferably 10.0 atomic% or less.
  • the reflective film has better adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer. Therefore, the reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits more excellent durability.
  • the resin film layer 7 is provided on the top coat layer 5 via the adhesive layer 6.
  • the raw material constituting the adhesive layer 6 is not particularly limited.
  • the raw material of the adhesive layer 6 is a liquid-curable adhesive, a two-component solvent-type adhesive, a one-component solvent-free adhesive, or the like.
  • a polyether / polyurethane adhesive or the like can be used as the / polyurethane adhesive and the one-component solvent-free adhesive (moisture-curable type).
  • the resin film layer 7 is not particularly limited.
  • the resin film layer 7 is a polyethylene terephthalate (PET) film, an olefin film, a polycarbonate (PC) film, a polyether sulfone (PES) film, or the like.
  • the base material 2 is preferably a white film such as a white PET (foamed PET) film in order to impart excellent reflectivity.
  • the resin film layer 7 may be a metal-deposited resin film (for example, Al-deposited PET).
  • the thickness of the resin film layer 7 is not particularly limited. As an example, the thickness of the resin film layer 7 is preferably 20 ⁇ m or more. The thickness of the resin film layer 7 is preferably 400 ⁇ m or less. When the thickness of the resin film layer 7 is within the above range, the obtained reflective film 1 can exhibit appropriate rigidity and strength.
  • the thickness of the adhesive layer 6 provided on the resin film layer 7 is not particularly limited. As an example, the thickness of the adhesive layer 6 is preferably 3 ⁇ m or more. The thickness of the adhesive layer 6 is preferably 10 ⁇ m or less. When the thickness of the adhesive layer 6 is within the above range, the resin film layer 7 of the obtained reflective film 1 can be firmly adhered to the top coat layer 5.
  • the method of providing the adhesive layer 6 on the resin film is not particularly limited.
  • the adhesive layer 6 can be provided on the resin film by a reverse coater, a gravure coater (direct, reverse or offset), a bar reverse coater, a roll coater, a die coater, a bar coater, a rod coater or the like.
  • the resin film layer 7 provided with the adhesive layer 6 is laminated on the top coat layer 5, and is pressure-bonded under a predetermined temperature condition (for example, 40 ° C. for 3 days) to obtain a top coat layer via the adhesive layer 6. 5 is glued on top.
  • the obtained reflective film 1 can be provided with various functions such as excellent weather resistance and abrasion resistance. Further, such a reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits more excellent durability.
  • the reflective film 1 of the present embodiment silver or a silver alloy containing silver as a main component contained in the metal vapor deposition layer 4 reacts with the sulfur compound contained in the top coat layer 5 to firmly adhere to each other. .. As a result, the reflective film 1 has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer 4 and the top coat layer 5. Therefore, the reflective film 1 is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits excellent durability.
  • a liquid crystal display device includes a light source, a light guide plate, a reflective film 1 described in detail in the above embodiment, and a liquid crystal panel.
  • the reflective film 1 used in the liquid crystal display device has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer 4 and the top coat layer 5. Therefore, the reflective film 1 is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits excellent durability. Therefore, the liquid crystal display device can maintain qualities such as high brightness and high durability for a long period of time. Each will be described below.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining a liquid crystal display device 8 including the reflective film 1 according to the embodiment of the present invention.
  • the liquid crystal display device 8 includes a backlight unit and a liquid crystal panel 9.
  • the backlight unit includes a reflective film 1, a light guide plate 10, a light source 11 arranged on an end surface of the light guide plate 10, and a diffusion prism 12.
  • the liquid crystal display device 8 may appropriately include members that can be provided by a known liquid crystal display device, such as a polarizing plate and a diffusion sheet (not shown).
  • the light guide plate 10 is not particularly limited.
  • the light guide plate 10 has a light guide plate 10 having a lens pattern formed on the back side and a prism shape on the back side or the viewing side so that light from the lateral direction can be deflected in the thickness direction.
  • the formed light guide plate 10 can be used.
  • the diffusion prism 12 is not particularly limited.
  • the diffusion prism 12 may be a member capable of diffusing the light deflected by the light guide plate 10 toward the liquid crystal panel 9. Further, the diffusion prism 12 may be omitted as appropriate when the light guide plate 10 sufficiently diffuses the light toward the liquid crystal panel 9.
  • the drive display mode of the liquid crystal panel 9 is not particularly limited.
  • the drive display mode is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), imprint switching (IPS), optical compensate bend cell (OCB), etc. It may be in various modes.
  • the liquid crystal display device 8 of the present embodiment includes the above-mentioned reflective film 1 as a backlight unit.
  • the reflective film 1 has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer 4 and the top coat layer 5. Therefore, the reflective film 1 is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits excellent durability. Therefore, the liquid crystal display device 8 can maintain qualities such as high brightness and high durability for a long period of time.
  • the method for producing a reflective film according to an embodiment of the present invention includes an undercoat layer forming step of providing an undercoat layer on a base material, a vapor deposition step of providing a metal vapor deposition layer on the undercoat layer, and a metal vapor deposition layer.
  • the metal vapor deposition layer contains silver or a silver alloy containing silver as a main component.
  • the resin composition for the top coat layer contains a sulfur compound.
  • a resin solution of the resin composition for the top coat layer is applied to the metal vapor deposition layer to form a sulfur compound in the resin solution and silver or a silver alloy containing silver as a main component in the metal vapor deposition layer.
  • each step will be described. In the following description, the above description in the embodiment of the reflective film will be omitted as appropriate.
  • the undercoat layer forming step is a step of providing an undercoat layer on the base material.
  • the method of providing the undercoat layer on the base material is not particularly limited.
  • the undercoat layer may employ a so-called wet coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, or a die coating method.
  • the thin-film deposition step is a step of providing a metal vapor deposition layer on the undercoat layer.
  • the method of laminating the metal vapor deposition layer is not particularly limited.
  • the metal vapor deposition layer can be provided on the undercoat layer by a so-called dry coating method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method.
  • the top coat layer forming step is a step of providing a top coat layer on the metal vapor deposition layer.
  • the method of providing the top coat layer on the metal vapor deposition layer is not particularly limited.
  • a resin solution of the above-mentioned sulfur compound and a resin composition for the top coat layer containing an appropriate resin is prepared, and the resin solution is subjected to a gravure coating method, a reverse coating method, a die coating method, or the like.
  • a method of applying to a metal vapor deposition layer by the so-called wet coating method of the above can be adopted.
  • a top coat layer is formed on the metal vapor deposition layer by the wet coating method.
  • the sulfur compound in the resin solution reacts with silver in the metal vapor deposition layer or a silver alloy containing silver as a main component.
  • the sulfur compounds are unevenly distributed so that the sulfur element concentration of the sulfur compound in the top coat layer is higher on the metal vapor deposition layer side than on the side opposite to the metal vapor deposition layer in the thickness direction of the top coat layer. ..
  • the uneven distribution of sulfur compounds in the topcoat layer can be confirmed by measuring the sulfur element concentration by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). That is, as described above in relation to the embodiment of the reflective film, the reflective film produced by the method for producing the reflective film of the present embodiment is moved from the side opposite to the metal vapor deposition layer of the top coat layer to the metal vapor deposition layer side by XPS.
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • the sulfur compound contained in the top coat layer has a peak of sulfur element concentration in the vicinity of the adhesive surface with the metal vapor deposition layer, the sulfur compound has a high concentration in the vicinity of the adhesive surface with the metal vapor deposition layer. It can be seen that they are unevenly distributed.
  • the reflective film in which the sulfur compound and the silver or the alloy containing silver as a main component are firmly bonded has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer. Therefore, the reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits more excellent durability.
  • the low temperature drying step is a step of drying at 80 to 150 ° C.
  • the resin solution of the top coat layer is dried, and the metal vapor deposition layer and the top coat layer are adhered to each other.
  • the sulfur compound in the resin solution for forming the top coat layer reacts with silver in the metal vapor deposition layer or a silver alloy containing silver as a main component, and is firmly bonded.
  • the drying conditions in the low-temperature drying step may be temperature conditions (80 to 150 ° C., preferably 100 to 130 ° C.) that can dry the resin solution of the top coat layer. Even under such mild drying conditions, the metal vapor deposition layer and the topcoat layer can be firmly adhered to each other.
  • the resin film layer forming step is a step of providing a resin film layer to which an adhesive is applied on the top coat layer.
  • the method of providing the adhesive layer on the resin film is not particularly limited.
  • the adhesive layer can be provided on the resin film by a reverse coater, a gravure coater (direct, reverse or offset), a bar reverse coater, a roll coater, a die coater, a bar coater, a rod coater or the like.
  • the resin film layer provided with the adhesive layer is laminated on the top coat layer, and by pressure bonding, it is adhered to the top coat layer via the adhesive layer.
  • the reflective film of this embodiment can be produced by a roll-to-roll method. Even when the reflective film is produced by such a roll-to-roll method, the reflective film does not have to be harsh in drying conditions, so that appearance defects such as heat wrinkles and streaks are unlikely to occur in the low temperature drying step. Therefore, the method for producing the reflective film of the present embodiment is excellent in production efficiency.
  • the obtained long reflective film is die-cut (chip cut) according to the desired size and shape. Since the reflective film of the present embodiment has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer, it is peeled off at the die-cut end even when a strong impact is applied in a process such as chip cutting. Is unlikely to occur. As a result, the reflective film is less likely to cause poor appearance and exhibits excellent durability.
  • the embodiment of the present invention has been described above.
  • the present invention is not particularly limited to the above embodiments.
  • the above-described embodiment mainly describes an invention having the following configuration.
  • the metal vapor deposition layer contains silver or a silver alloy containing silver as a main component
  • the top coat layer contains a sulfur compound
  • the sulfur element concentration of the sulfur compound in the top coat layer is that of the top coat layer.
  • the reflective film has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer. Therefore, the reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits excellent durability. Further, the reflective film may have a low temperature of, for example, about 80 to 150 ° C. required for drying. Therefore, the reflective film is less likely to cause appearance defects such as thermal wrinkles and streaks during manufacturing.
  • the sulfur compound is subjected to the top of the top coat layer in the thickness direction of the top coat layer from the side opposite to the metal vapor deposition layer of the top coat layer toward the metal vapor deposition layer side by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • the reflective film has better adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer. Therefore, the reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits more excellent durability.
  • the reflective film has better adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer. Therefore, the reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits more excellent durability.
  • the reflective film is less likely to corrode the metal vapor deposition layer containing silver or a silver alloy containing silver as a main component, and tends to exhibit excellent corrosion resistance.
  • the reflective film is less likely to corrode the metal vapor deposition layer containing silver or a silver alloy containing silver as a main component, and tends to exhibit excellent corrosion resistance.
  • the reflective film has better adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer. Therefore, the reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits more excellent durability.
  • the reflective film can be imparted with various functions such as excellent weather resistance and abrasion resistance. Further, such a reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits more excellent durability.
  • a liquid crystal display device including a light source, a light guide plate, a reflective film according to any one of (1) to (7), and a liquid crystal panel.
  • the reflective film used in the liquid crystal display device has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer. Therefore, the reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits excellent durability. Therefore, the liquid crystal display device can maintain qualities such as high brightness and high durability for a long period of time.
  • the metal vapor deposition layer includes a film layer forming step, the metal vapor deposition layer contains silver or a silver alloy containing silver as a main component, the resin composition for the top coat layer contains a sulfur compound, and the top coat layer forming step
  • the sulfur compound in the resin solution and the silver or silver-based silver alloy in the metal vapor deposition layer are the main components.
  • the sulfur element concentration of the sulfur compound in the top coat layer is higher on the metal vapor deposition layer side than on the opposite side to the metal vapor deposition layer in the thickness direction of the top coat layer.
  • a method for producing a reflective film which is a step of unevenly distributing compounds.
  • the obtained reflective film has excellent adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer. Therefore, the reflective film is less likely to cause defects such as peeling when an impact is applied in a process such as chip cutting, and exhibits excellent durability. Further, the reflective film may have a low temperature of, for example, about 80 to 150 ° C. required for drying. Therefore, the reflective film is less likely to cause appearance defects such as thermal wrinkles and streaks during manufacturing.
  • Example 1 A polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 25 ⁇ m) is used as a base material, and a polyester resin solution (including polyester resin (detailed polyester polyol): 70%), isocyanate: 20%, and melamine resin: 10% is contained on the base material.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a polyester resin solution including polyester resin (detailed polyester polyol): 70%
  • isocyanate 20%
  • melamine resin 10% is contained on the base material.
  • This uncured resin layer was cured at 100 ° C. for 1 minute to form an undercoat layer having a thickness of 100 nm (undercoat layer forming step).
  • Silver was vacuum-deposited on the undercoat layer using a resistance heating type vapor deposition machine to form an Ag film (metal vapor deposition layer) having a thickness of 100 nm (metal vapor deposition layer forming step).
  • Acrylic resin solution (including acrylic resin (detailed acrylic polyol): 69%, isocyanate: 20%, melamine resin: 10%, PETP: 1%) is coated on the metal vapor deposition layer with a bar coater. , A top coat layer having a thickness of 1.5 ⁇ m was formed (top coat layer forming step). Then, it was dried at 130 ° C. for 1 minute (low temperature drying step) to prepare a reflective film.
  • Examples 2 to 5 A reflective film was prepared by the same method as in Example 1 except that the raw materials and conditions shown in Table 1 were changed. At that time, while maintaining the same ratio of the acrylic resin and the isocyanate as in Example 1, the blending amounts thereof were reduced and the PETP concentration was adjusted so as to be shown in Table 1. The concentration of the melamine resin was fixed at 10%.
  • Example 6 to 13 A reflective film was prepared by the same method as in Example 1 except that the raw materials and conditions shown in Table 1 were changed.
  • a thiol-based silane coupling agent was used as the sulfur compound.
  • the concentration of the thiol-based silane coupling agent was adjusted so as to be shown in Table 1 while maintaining the same ratio of the acrylic resin and the isocyanate as in Example 1.
  • the concentration of the melamine resin was fixed at 10%.
  • Example 1 A reflective film was prepared by the same method as in Example 1 except that the raw materials and conditions shown in Table 1 were changed. At that time, the acrylic resin was 70%, the isocyanate was 20%, the melamine resin was 10%, and no sulfur compound was used.
  • a reflective film immediately after preparation, a reflective film after holding at a temperature of 90 ° C. for 500 hours (after a heat resistance test), and a reflective film after holding at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 95% for 500 hours (after a moisture resistance test) are separately adhered.
  • a resin film layer (PET, details: Toyo Boseki Cosmo Shine A4300) to which an agent (polyester polyol + isocyanate) is applied is prepared, and a resin film layer having a thickness of 50 ⁇ m is formed on the top coat layer via an adhesive (thickness 5 ⁇ m). And dried (condition 100 ° C. x 1 minute, 40 ° C.
  • the reflective films of Examples 1 to 13 of the present invention had excellent adhesion between the metal vapor deposition layer and the top coat layer, and were difficult to peel off.
  • the reflective film of Comparative Example 1 containing no sulfur compound did not show any difference from the reflective film of the present invention in the grid peeling test, but in the more severe test, the peeling test after dry lamination, It peeled off easily.

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Abstract

基材と、アンダーコート層と、金属蒸着層と、トップコート層とを有し、金属蒸着層は、銀または銀を主成分とする銀合金を含み、トップコート層は、硫黄化合物を含み、トップコート層における硫黄化合物の硫黄元素濃度は、トップコート層の厚み方向において、金属蒸着層側の方が、金属蒸着層と反対側よりも高い、反射フィルム。

Description

反射フィルム、液晶表示装置および反射フィルムの製造方法
　本発明は、反射フィルム、液晶表示装置および反射フィルムの製造方法に関する。より詳細には、本発明は、熱ジワやスジなどの外観不良を生じにくく、金属蒸着層とトップコート層との密着性が優れ、たとえばチップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、優れた耐久性を示す反射フィルム、液晶表示装置および反射フィルムの製造方法に関する。
　従来、液晶表示装置のバックライト等として反射フィルムが採用されている。反射フィルムは、高い輝度や耐久性を付与するために、金属蒸着層とトップコート層との高い密着性が求められている。特許文献１には、アンダーコート層およびトップコート層を構成する樹脂としてメラミン樹脂を配合することにより、金属蒸着層とトップコート層と密着性や、金属蒸着層の腐食を防止する積層フィルムが開示されている。
特開２００９－２８６１００号公報
　しかしながら、特許文献１に記載の積層フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性に関して改善の余地があった。特に、従来の積層フィルム（反射シート、反射フィルム）は、チップカット等の後工程において加えられる衝撃により、金属蒸着層とトップコート層とが剥離したり、接着剤を硬化するために高温乾燥を行った場合や、ロール・ツー・ロールで反射フィルムを製造した場合に、熱ジワやスジなどの外観不良を生じるおそれがあった。
　本発明は、このような従来の発明に鑑みてなされたものであり、熱ジワやスジなどの外観不良を生じにくく、金属蒸着層とトップコート層との密着性が優れ、たとえばチップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、優れた耐久性を示す反射フィルム、液晶表示装置および反射フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
　本発明者らは、鋭意検討した結果、金属蒸着層に銀または銀を主成分とする銀合金を含ませ、かつ、トップコート層に硫黄化合物を含ませたうえで、トップコート層における硫黄化合物の硫黄元素濃度を、トップコート層の厚み方向において、金属蒸着層側の方が、金属蒸着層と反対側よりも高くなるよう構成することにより、金属蒸着層における銀または銀合金と硫黄化合物とが反応し、これにより金属蒸着層とトップコート層とを強固に密着させ得ることを見出し、本発明を完成させた。
　上記課題を解決する本発明の一態様の反射フィルムは、基材と、前記基材上に設けられたアンダーコート層と、前記アンダーコート層上に設けられた金属蒸着層と、前記金属蒸着層上に設けられたトップコート層とを有し、前記金属蒸着層は、銀または銀を主成分とする銀合金を含み、前記トップコート層は、硫黄化合物を含み、前記トップコート層における前記硫黄化合物の硫黄元素濃度は、前記トップコート層の厚み方向において、前記金属蒸着層側の方が、前記金属蒸着層と反対側よりも高い、反射フィルムである。
　また、上記課題を解決する本発明の一態様の液晶表示装置は、光源と、導光板と、上記反射フィルムと、液晶パネルとを備える、液晶表示装置である。
　さらに、上記課題を解決する本発明の一態様の反射フィルムの製造方法は、基材上に、アンダーコート層を設けるアンダーコート層形成工程と、前記アンダーコート層上に、金属蒸着層を設ける蒸着工程と、前記金属蒸着層上に、トップコート層用樹脂組成物の樹脂溶液を塗布してトップコート層を設けるトップコート層形成工程と、８０～１５０℃にて乾燥する低温乾燥工程と、前記トップコート層上に、接着剤を付与した樹脂フィルム層を設ける樹脂フィルム層形成工程とを有し、前記金属蒸着層は、銀または銀を主成分とする銀合金を含み、前記トップコート層用樹脂組成物は、硫黄化合物を含み、前記トップコート層形成工程は、前記トップコート層用樹脂組成物の樹脂溶液を前記金属蒸着層に塗布することにより、前記樹脂溶液中の前記硫黄化合物と、前記金属蒸着層中の前記銀または銀を主成分とする銀合金とを反応させ、前記トップコート層における前記硫黄化合物の硫黄元素濃度が、前記トップコート層の厚み方向において、前記金属蒸着層側の方が、前記金属蒸着層と反対側よりも高くなるよう硫黄化合物を偏在させる工程である、反射フィルムの製造方法である。
図１は、本発明の一実施形態の反射フィルムの構成を説明するための模式的な断面図である。 図２は、本発明の一実施形態の具体例（実施例６）の反射フィルムの、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）による硫黄元素濃度の測定結果を示すグラフである。 図３は、図２に示されるグラフの拡大図である。 図４は、本発明の一実施形態の具体例（実施例３）の反射フィルムの、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）による硫黄元素濃度の測定結果を示すグラフである。 図５は、図４に示されるグラフの拡大図である。 図６は、本発明の一実施形態の具体例（実施例４）の反射フィルムの、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）による硫黄元素濃度の測定結果を示すグラフである。 図７は、図６に示されるグラフの拡大図である。 図８は、本発明の一実施形態の反射フィルムを備える液晶表示装置を説明するための模式的な断面図である。
＜反射フィルム＞
　図１は、本発明の一実施形態の反射フィルム１の構成を説明するための模式的な断面図である。本実施形態の反射フィルム１は、基材２と、基材２上に設けられたアンダーコート層３と、アンダーコート層３上に設けられた金属蒸着層４と、金属蒸着層４上に設けられたトップコート層５とを有する。金属蒸着層４は、銀または銀を主成分とする銀合金を含む。トップコート層５は、硫黄化合物を含む。トップコート層５における硫黄化合物の硫黄元素濃度は、トップコート層５の厚み方向において、金属蒸着層４側の方が、金属蒸着層４と反対側よりも高い。このような反射フィルム１は、金属蒸着層４とトップコート層５との密着性が優れる。そのため、反射フィルム１は、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、優れた耐久性を示す。また、反射フィルム１は、乾燥に必要な温度がたとえば８０～１５０℃程度の低温であってもよい。そのため、反射フィルム１は、製造時に熱ジワやスジなどの外観不良を生じにくい。以下、それぞれの構成について説明する。
（基材２）
　基材２は、液晶表示装置の反射フィルム１において汎用されている樹脂フィルムが使用され得る。一例を挙げると、基材２は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）フィルム等である。基材２は、透明フィルムであってもよく、白色ＰＥＴ（発泡ＰＥＴ）フィルム等の白色フィルムであってもよい。
　基材２の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、基材２の厚みは、２０μｍ以上であることが好ましい。また、基材２の厚みは、４００μｍ以下であることが好ましい。基材２の厚みが上記範囲内であることにより、得られる反射フィルム１は、適度な剛性や強度を示し得る。
（アンダーコート層３）
　アンダーコート層３は、基材２上に設けられ、金属蒸着層４を基材２に強固に接着するために設けられる。また、アンダーコート層３は、銀または銀を含む合金を含む金属蒸着層４を、水分や酸素等による腐食から保護するために設けられる。
　アンダーコート層３の原料は特に限定されない。一例を挙げると、アンダーコート層３は、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、シロキサン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等である。これらの中でも、アンダーコート層３は、メラミン樹脂を含むことが好ましく、メラミン樹脂とポリエステル樹脂とを含むことがより好ましい。メラミン樹脂が含まれることにより、反射フィルム１は、銀または銀を主成分とする銀合金を含む金属蒸着層４が腐食されにくく、優れた防食性を示しやすい。
　アンダーコート層３に含まれるメラミン樹脂の含有量は、樹脂固形分中、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましい。また、メラミン樹脂は、樹脂固形分中１００質量％であってもよい。メラミン樹脂の含有量が上記範囲内であることにより、反射フィルム１は、銀または銀を主成分とする銀合金を含む金属蒸着層４が腐食されにくく、優れた防食性を示しやすい。
　アンダーコート層３の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、アンダーコート層３の厚みは、１０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、アンダーコート層３の厚みは、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以下であることがより好ましい。アンダーコート層３の厚みが上記範囲内であることにより、アンダーコート層３は、金属蒸着層４を基材２に強固に接着しやすい。また、アンダーコート層３は、銀または銀を含む合金を含む金属蒸着層４を、水分や酸素等による腐食から保護しやすい。
　基材２にアンダーコート層３を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、アンダーコート層３は、グラビアコーティング法、リバースコーティング法、ダイコーティング法等のいわゆるウェットコーティング法が採用され得る。
（金属蒸着層４）
　金属蒸着層４は、アンダーコート層３上に設けられる。本実施形態の金属蒸着層４は、銀または銀を主成分とする銀合金を含む。
　銀合金を構成する他の金属は特に限定されない。一例を挙げると、他の金属は、銅、ビスマス、金、白金、亜鉛、スズ、チタン、ニッケル、マグネシウム、鉛、等である。銀合金に含まれる他の金属の割合は、０．１（単位：原子％）以上であることが好ましく、１０（単位：原子％）以下であることが好ましい。
　金属蒸着層４の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、金属蒸着層４の厚みは、６０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、金属蒸着層４の厚みは、２００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。金属蒸着層４の厚みが上記範囲内であることにより、得られる反射フィルム１は、適切なコストで作製され、かつ、適度な反射率を示す。
　金属蒸着層４の積層方法は特に限定されない。一例を挙げると、金属蒸着層４は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のいわゆるドライコーティング法により、アンダーコート層３上に設けられ得る。
（トップコート層５）
　トップコート層５は、金属蒸着層４を保護したり、金属蒸着層４に含まれる銀（銀合金を含む）を防食するために設けられる。トップコート層５は、硫黄化合物を含む。トップコート層５は、複数層が設けられてもよい。
　トップコート層５の原料は、硫黄化合物を含んでいればよく、他の原料は特に限定されない。一例を挙げると、トップコート層５は、硫黄化合物のほか、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、シロキサン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等である。これらの中でも、トップコート層５は、メラミン樹脂を含むことが好ましく、メラミン樹脂とアクリル樹脂とを含むことがより好ましい。メラミン樹脂が含まれることにより、反射フィルム１は、銀または銀を主成分とする銀合金を含む金属蒸着層４が腐食されにくく、優れた防食性を示しやすい。
　トップコート層５に含まれるメラミン樹脂の含有量は、樹脂固形分中、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましい。また、メラミン樹脂は、樹脂固形分中１００質量％であってもよい。メラミン樹脂の含有量が上記範囲内であることにより、反射フィルム１は、銀または銀を主成分とする銀合金を含む金属蒸着層４が腐食されにくく、優れた防食性を示しやすい。
　硫黄化合物は特に限定されない。一例を挙げると、硫黄化合物は、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート（ＰＥＴＰ）等のメルカプトプロピオン酸誘導体系硫黄化合物、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート（ＰＥＴＧ）等のチオグリコール酸誘導体系硫黄化合物、チオール系シランカップリング剤等である。硫黄化合物は、併用されてもよい。
　硫黄化合物の含有量は、特に限定されない。一例を挙げると、硫黄化合物の含有量は、トップコート層５を構成する樹脂固形分中、０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましい。また、硫黄化合物の含有量は、トップコート層５を構成する樹脂固形分中、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましい。硫黄化合物の含有量が上記範囲内であることにより、反射フィルム１は、適切なコストで作製でき、かつ、金属蒸着層４とトップコート層５との密着性が優れる。そのため、得られる反射フィルム１は、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、より優れた耐久性を示す。
　トップコート層５の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、トップコート層５の厚みは、２０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、トップコート層５の厚みは、５０００ｎｍ以下であることが好ましく、２０００ｎｍ以下であることがより好ましい。トップコート層５の厚みが上記範囲内であることにより、得られる反射フィルム１は、適度な剛性を示し、たわみにくい。また、トップコート層５は、銀または銀を含む合金を含む金属蒸着層４を、水分や酸素等による腐食から保護しやすい。
　金属蒸着層４にトップコート層５を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、トップコート層５は、上記した硫黄化合物や、適宜の樹脂を含むトップコート層５用樹脂組成物の樹脂溶液を調製し、樹脂溶液をグラビアコーティング法、リバースコーティング法、ダイコーティング法等のいわゆるウェットコーティング法により金属蒸着層４に塗布する方法が採用され得る。
　本実施形態の反射フィルム１は、ウェットコーティング法によって、金属蒸着層４上にトップコート層５が形成される。得られる反射フィルム１は、トップコート層５における硫黄化合物の硫黄元素濃度が、トップコート層５の厚み方向において、金属蒸着層４側の方が、金属蒸着層４と反対側よりも高くなる。これは、トップコート層５に含まれる硫黄化合物が、金属蒸着層４に含まれる銀または銀を主成分とする銀合金と反応して強固に結合するため、金属蒸着層４との接着面の近傍に硫黄化合物が多く偏在するためである。図１において、参照符号５１は、硫黄化合物が多く含まれる領域を示している。
　図２は、本実施形態の具体例（後述する実施例６、硫黄化合物としてチオール系シランカップリング剤を１．０質量％含む）の反射フィルムの、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）による硫黄元素濃度の測定結果を示すグラフである。図３は、図２に示されるグラフの拡大図である。図４は、本実施形態の具体例（後述する実施例３、硫黄化合物としてペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート（ＰＥＴＰ）を５．０質量％含む）の反射フィルムの、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）による硫黄元素濃度の測定結果を示すグラフである。図５は、図４に示されるグラフの拡大図である。図６は、本実施形態の具体例（後述する実施例４、硫黄化合物としてペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート（ＰＥＴＰ）を１０．０質量％含む）の反射フィルムの、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）による硫黄元素濃度の測定結果を示すグラフである。図７は、図６に示されるグラフの拡大図である。
　図２～図７に示されるように、本実施形態の反射フィルムは、ＸＰＳによりトップコート層の金属蒸着層と反対側から金属蒸着層側に向けて、トップコート層の厚み方向における、トップコート層の硫黄元素濃度を測定する場合において、トップコート層の厚み方向における金属蒸着層側に、硫黄元素濃度の最大濃度ピークを示す。図２に示されるように、この最大濃度ピークを示す深さは、炭素元素濃度が１００原子％から減少し始め、かつ、銀元素濃度が０原子％から上昇し始める深さ（深さ約２０ｎｍ）であり、最大濃度ピークは１．０原子％である。図４に示されるように、最大濃度ピークを示す深さは、炭素元素濃度が１００原子％から減少し始め、かつ、銀元素濃度が０原子％から上昇し始める深さ（深さ約２５ｎｍ）であり、最大濃度ピークは３．０原子％である。図６に示されるように、最大濃度ピークを示す深さは、炭素元素濃度が１００原子％から減少し始め、かつ、銀元素濃度が０原子％から上昇し始める深さ（深さ約３５ｎｍ）であり、その際の最大濃度ピークは５．０原子％である。すなわち、トップコート層に含まれる硫黄化合物は、金属蒸着層との接着面の近傍において硫黄元素濃度のピークを有していることから、金属蒸着層との接着面の近傍において高濃度となるよう偏在していることが判る。このように、硫黄化合物と銀または銀を主成分とする合金とが強固に結合した反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性が優れる。そのため、反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、より優れた耐久性を示す。
　ＸＰＳの測定条件は特に限定されない。一例を挙げると、ＸＰＳの測定は、多機能走査型Ｘ線光電子分光分析装置（型番：ＰＨＩ５０００　ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅ２、アルバック・ファイ）を使用し、付属のＡｒイオン銃（２ｋＶ）でサンプル表面を３０秒スパッタエッチングし、ＡｌＫα線の照射によってＣ１ｓ（炭素）、Ｓ２ｐ（窒素）、Ａｇ３ｄ（銀）の光電子を検出し、３種類の元素比率を算出する。Ｃ１ｓ（炭素）、Ｓ２ｐ（窒素）、Ａｇ３ｄ（銀）の検出時間はそれぞれ約６０秒という条件により測定することができる。
　ＸＰＳにより測定されるトップコート層における硫黄化合物の硫黄元素濃度の最大濃度ピークは、０．５原子％以上であることが好ましく、１．０原子％以上であることがより好ましい。また、最大濃度ピークは、３０．０原子％以下であることが好ましく、１０．０原子％以下であることがより好ましい。最大濃度ピークが上記範囲内であることにより、反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性がより優れる。そのため、反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、より優れた耐久性を示す。
　得られた反射フィルム１は、トップコート層５上に、接着層６を介して樹脂フィルム層７が設けられることが好ましい。
　接着層６を構成する原料は特に限定されない。一例を挙げると、接着層６の原料は、液硬化型接着剤、二液溶剤型接着剤、一液無溶剤型接着剤等である。二液硬化型接着剤としてはアクリル系接着剤、二液溶剤型接着剤としては、ポリエステル系接着剤、芳香族ポリエステル系接着剤、脂肪族ポリエステル系接着剤、ポリエステル／ポリウレタン系接着剤、ポリエーテル／ポリウレタン系接着剤、一液無溶剤型接着剤（湿気硬化型タイプ）としてはポリエーテル／ポリウレタン系接着剤等が使用され得る。
　樹脂フィルム層７は特に限定されない。一例を挙げると、樹脂フィルム層７は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）フィルム等である。基材２は、優れた反射性を付与するために、白色ＰＥＴ（発泡ＰＥＴ）フィルム等の白色フィルムであることが好ましい。また、樹脂フィルム層７は、金属蒸着された樹脂フィルム（たとえばＡｌ蒸着ＰＥＴ）であってもよい。
　樹脂フィルム層７の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、樹脂フィルム層７の厚みは、２０μｍ以上であることが好ましい。また、樹脂フィルム層７の厚みは、４００μｍ以下であることが好ましい。樹脂フィルム層７の厚みが上記範囲内であることにより、得られる反射フィルム１は、適度な剛性や強度を示し得る。
　樹脂フィルム層７上に設けられる接着層６の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、接着層６の厚みは、３μｍ以上であることが好ましい。また、接着層６の厚みは、１０μｍ以下であることが好ましい。接着層６の厚みが上記範囲内であることにより、得られる反射フィルム１は、樹脂フィルム層７がトップコート層５に強固に接着され得る。
　樹脂フィルム上に接着層６を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、接着層６は、リバースコーター、グラビアコーター（ダイレクト、リバースやオフセット）、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーター等により樹脂フィルム上に設けることができる。
　接着層６の設けられた樹脂フィルム層７は、トップコート層５上に積層され、所定の温度条件（たとえば４０℃３日間）の下、圧着することにより、接着層６を介してトップコート層５上に接着される。得られる反射フィルム１は、優れた耐候性や耐擦性等の種々の機能が付与され得る。また、このような反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、より優れた耐久性を示す。
　以上、本実施形態の反射フィルム１は、金属蒸着層４に含まれる銀または銀を主成分とする銀合金と、トップコート層５に含まれる硫黄化合物とが反応して強固に接着している。その結果、反射フィルム１は、これら金属蒸着層４とトップコート層５との密着性が優れる。そのため、反射フィルム１は、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、優れた耐久性を示す。
＜液晶表示装置＞
　本発明の一実施形態の液晶表示装置は、光源と、導光板と、上記実施形態において詳述した反射フィルム１と、液晶パネルとを備える。液晶表示装置に使用されている反射フィルム１は、上記のとおり、金属蒸着層４とトップコート層５との密着性が優れる。そのため、反射フィルム１は、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、優れた耐久性を示す。そのため、液晶表示装置は、長期にわたり、高輝度、高耐久性等の品質を保持し得る。以下、それぞれについて説明する。
　図８は、本発明の一実施形態の反射フィルム１を備える液晶表示装置８を説明するための模式的な断面図である。液晶表示装置８は、バックライトユニットと、液晶パネル９とを含む。バックライトユニットは、反射フィルム１と、導光板１０と、導光板１０の端面に配置された光源１１と、拡散プリズム１２とを含む。液晶表示装置８は、図示しない偏光板、拡散シート等の、公知の液晶表示装置が具備し得る部材を適宜具備していてもよい。
（光源１１）
　光源１１は特に限定されない。一例を挙げると、光源１１は、白色光源が好ましい。本実施形態において、白色光は、可視光領域（波長３８０～７８０ｎｍ）の各波長成分を均一に含む光だけでなく、これら波長成分を均一には含んでいないが肉眼で白色に見える光も含む。すなわち、白色光は、基準色である赤色光、緑色光、青色光等、特定の波長帯域の光を含むものであればよい。光源１１は、白色ＬＥＤ（Ｗ－ＬＥＤ）であることが好ましい。
（導光板１０）
　導光板１０は特に限定されない。一例を挙げると、導光板１０は、横方向からの光を厚さ方向に偏向可能となるよう、背面側にレンズパターンが形成された導光板１０や、背面側または視認側にプリズム形状等が形成された導光板１０が用いられ得る。
（拡散プリズム１２）
　拡散プリズム１２は特に限定されない。一例を挙げると、拡散プリズム１２は、導光板１０によって偏向された光を液晶パネル９側に拡散させ得る部材であればよい。また、拡散プリズム１２は、上記導光板１０によって充分に液晶パネル９側への光が拡散される場合には、適宜、省略されてもよい。
（液晶パネル９）
　液晶パネル９の駆動表示モードは特に限定されない。一例を挙げると、駆動表示モードは、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードであってもよい。
　本実施形態の液晶表示装置８は、バックライトユニットとして上記した反射フィルム１を含む。反射フィルム１は、上記のとおり、金属蒸着層４とトップコート層５との密着性が優れる。そのため、反射フィルム１は、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、優れた耐久性を示す。そのため、液晶表示装置８は、長期にわたり、高輝度、高耐久性等の品質を保持し得る。
＜反射フィルムの製造方法＞
　本発明の一実施形態の反射フィルムの製造方法は、基材上に、アンダーコート層を設けるアンダーコート層形成工程と、アンダーコート層上に、金属蒸着層を設ける蒸着工程と、金属蒸着層上に、トップコート層用樹脂組成物の樹脂溶液を塗布してトップコート層を設けるトップコート層形成工程と、８０～１５０℃にて乾燥する低温乾燥工程と、トップコート層上に、接着剤を付与した樹脂フィルム層を設ける樹脂フィルム層形成工程とを有する。金属蒸着層は、銀または銀を主成分とする銀合金を含む。トップコート層用樹脂組成物は、硫黄化合物を含む。トップコート層形成工程は、トップコート層用樹脂組成物の樹脂溶液を金属蒸着層に塗布することにより、樹脂溶液中の硫黄化合物と、金属蒸着層中の銀または銀を主成分とする銀合金とを反応させ、トップコート層における硫黄化合物の硫黄元素濃度が、トップコート層の厚み方向において、金属蒸着層側の方が、金属蒸着層と反対側よりも高くなるよう硫黄化合物を偏在させる工程である。以下、それぞれの工程について説明する。なお、以下の説明において、反射フィルムの実施形態において上記したものは、適宜説明が省略される。
（アンダーコート層形成工程）
　アンダーコート層形成工程は、基材上に、アンダーコート層を設ける工程である。
　基材にアンダーコート層を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、アンダーコート層は、グラビアコーティング法、リバースコーティング法、ダイコーティング法等のいわゆるウェットコーティング法が採用され得る。
（蒸着工程）
　蒸着工程は、アンダーコート層上に、金属蒸着層を設ける工程である。金属蒸着層の積層方法は特に限定されない。一例を挙げると、金属蒸着層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のいわゆるドライコーティング法により、アンダーコート層上に設けられ得る。
（トップコート層形成工程）
　トップコート層形成工程は、金属蒸着層上にトップコート層を設ける工程である。金属蒸着層にトップコート層を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、トップコート層は、上記した硫黄化合物や、適宜の樹脂を含むトップコート層用樹脂組成物の樹脂溶液を調製し、樹脂溶液をグラビアコーティング法、リバースコーティング法、ダイコーティング法等のいわゆるウェットコーティング法により金属蒸着層に塗布する方法が採用され得る。
　本実施形態の反射フィルムの製造法によれば、ウェットコーティング法によって、金属蒸着層上にトップコート層が形成される。この際、樹脂溶液中の硫黄化合物と、金属蒸着層中の銀または銀を主成分とする銀合金とが反応する。これにより、トップコート層における硫黄化合物の硫黄元素濃度が、トップコート層の厚み方向において、金属蒸着層側の方が、金属蒸着層と反対側よりも高くなるよう硫黄化合物が偏在することとなる。
　トップコート層において硫黄化合物が偏在していることは、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって硫黄元素濃度を測定することにより確認し得る。すなわち、反射フィルムの実施形態に関連して上記したとおり、本実施形態の反射フィルムの製造方法によって製造される反射フィルムは、ＸＰＳによりトップコート層の金属蒸着層と反対側から金属蒸着層側に向けて、トップコート層の厚み方向における、トップコート層の硫黄元素濃度を測定する場合において、トップコート層の厚み方向における金属蒸着層側に、硫黄元素濃度の最大濃度ピークを示す。このように、トップコート層に含まれる硫黄化合物は、金属蒸着層との接着面の近傍において硫黄元素濃度のピークを有していることから、金属蒸着層との接着面の近傍において高濃度となるよう偏在していることが判る。これにより、硫黄化合物と銀または銀を主成分とする合金とが強固に結合した反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性が優れる。そのため、反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、より優れた耐久性を示す。
（低温乾燥工程）
　低温乾燥工程は、８０～１５０℃にて乾燥する工程である。低温乾燥工程によれば、トップコート層の樹脂溶液が乾燥され、金属蒸着層とトップコート層とが接着される。本実施形態の反射フィルムの製造方法は、トップコート層を形成するための樹脂溶液中の硫黄化合物と、金属蒸着層中の銀または銀を主成分とする銀合金とが反応し、強固に結合している。そのため、低温乾燥工程における乾燥条件は、トップコート層の樹脂溶液を乾燥させ得る温度条件（８０～１５０℃、好ましくは１００～１３０℃）でよい。このような緩やかな乾燥条件であっても、金属蒸着層とトップコート層とを強固に密着させることができる。
（樹脂フィルム層形成工程）
　樹脂フィルム層形成工程は、トップコート層上に、接着剤を付与した樹脂フィルム層を設ける工程である。樹脂フィルム上に接着層を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、接着層は、リバースコーター、グラビアコーター（ダイレクト、リバースやオフセット）、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーター等により樹脂フィルム上に設けることができる。
　接着層の設けられた樹脂フィルム層は、トップコート層上に積層され、圧着することにより、接着層を介してトップコート層上に接着される。
　本実施形態の反射フィルムは、ロール・ツー・ロール方式で作製され得る。このようなロール・ツー・ロール方式で作製される場合であっても、反射フィルムは、乾燥条件が過酷でなくてもよいため、低温乾燥工程において熱ジワやスジ等の外観不良を生じにくい。したがって、本実施形態の反射フィルムの製造方法は、製造効率が優れる。
　また、得られた長尺の反射フィルムは、所望される大きさや形状に合わせて型抜き（チップカット）される。本実施形態の反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性が優れているため、チップカット等の工程で強い衝撃が加えられる場合であっても、型抜きされた端部で剥離が生じにくい。その結果、反射フィルムは、外観不良を生じにくく、優れた耐久性を示す。
　以上、本発明の一実施形態について説明した。本発明は、上記実施形態に格別限定されない。なお、上記した実施形態は、以下の構成を有する発明を主に説明するものである。
　（１）基材と、前記基材上に設けられたアンダーコート層と、前記アンダーコート層上に設けられた金属蒸着層と、前記金属蒸着層上に設けられたトップコート層とを有し、前記金属蒸着層は、銀または銀を主成分とする銀合金を含み、前記トップコート層は、硫黄化合物を含み、前記トップコート層における前記硫黄化合物の硫黄元素濃度は、前記トップコート層の厚み方向において、前記金属蒸着層側の方が、前記金属蒸着層と反対側よりも高い、反射フィルム。
　このような構成によれば、反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性が優れる。そのため、反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、優れた耐久性を示す。また、反射フィルムは、乾燥に必要な温度がたとえば８０～１５０℃程度の低温であってもよい。そのため、反射フィルムは、製造時に熱ジワやスジなどの外観不良を生じにくい。
　（２）前記硫黄化合物は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により前記トップコート層の前記金属蒸着層と反対側から前記金属蒸着層側に向けて、前記トップコート層の厚み方向における、前記トップコート層の硫黄元素濃度を測定する場合において、前記トップコート層の厚み方向における前記金属蒸着層側に、前記硫黄元素濃度の最大濃度ピークを示すよう、前記トップコート層に含まれる、（１）記載の反射フィルム。
　このような構成によれば、反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性がより優れる。そのため、反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、より優れた耐久性を示す。
　（３）前記硫黄元素濃度の最大濃度ピークは、０．５～３０．０原子％である、（２）記載の反射フィルム。
　このような構成によれば、反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性がより優れる。そのため、反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、より優れた耐久性を示す。
　（４）前記アンダーコート層は、メラミン樹脂を含む、（１）～（３）のいずれかに記載の反射フィルム。
　このような構成によれば、反射フィルムは、銀または銀を主成分とする銀合金を含む金属蒸着層が腐食されにくく、優れた防食性を示しやすい。
　（５）前記トップコート層は、メラミン樹脂を含む、（１）～（４）のいずれかに記載の反射フィルム。
　このような構成によれば、反射フィルムは、銀または銀を主成分とする銀合金を含む金属蒸着層が腐食されにくく、優れた防食性を示しやすい。
　（６）前記硫黄化合物の含有量は、前記トップコート中、樹脂固形分換算で、０．５～２０質量％である、（１）～（５）のいずれかに記載の反射フィルム。
　このような構成によれば、反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性がより優れる。そのため、反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、より優れた耐久性を示す。
　（７）前記トップコート層上に、接着層を介して樹脂フィルム層が設けられる、（１）～（６）のいずれかに記載の反射フィルム。
　このような構成によれば、反射フィルムは、優れた耐候性や耐擦性等の種々の機能が付与され得る。また、このような反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、より優れた耐久性を示す。
　（８）光源と、導光板と、（１）～（７）のいずれかに記載の反射フィルムと、液晶パネルとを備える、液晶表示装置。
　このような構成によれば、液晶表示装置に使用されている反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性が優れる。そのため、反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、優れた耐久性を示す。そのため、液晶表示装置は、長期にわたり、高輝度、高耐久性等の品質を保持し得る。
　（９）基材上に、アンダーコート層を設けるアンダーコート層形成工程と、前記アンダーコート層上に、金属蒸着層を設ける蒸着工程と、前記金属蒸着層上に、トップコート層用樹脂組成物の樹脂溶液を塗布してトップコート層を設けるトップコート層形成工程と、８０～１５０℃にて乾燥する低温乾燥工程と、前記トップコート層上に、接着剤を付与した樹脂フィルム層を設ける樹脂フィルム層形成工程とを有し、前記金属蒸着層は、銀または銀を主成分とする銀合金を含み、前記トップコート層用樹脂組成物は、硫黄化合物を含み、前記トップコート層形成工程は、前記トップコート層用樹脂組成物の樹脂溶液を前記金属蒸着層に塗布することにより、前記樹脂溶液中の前記硫黄化合物と、前記金属蒸着層中の前記銀または銀を主成分とする銀合金とを反応させ、前記トップコート層における前記硫黄化合物の硫黄元素濃度が、前記トップコート層の厚み方向において、前記金属蒸着層側の方が、前記金属蒸着層と反対側よりも高くなるよう硫黄化合物を偏在させる工程である、反射フィルムの製造方法。
　このような構成によれば、得られる反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性が優れる。そのため、反射フィルムは、たとえば、チップカット等の工程において衝撃が加えられる場合に剥離等の不良を生じにくく、優れた耐久性を示す。また、反射フィルムは、乾燥に必要な温度がたとえば８０～１５０℃程度の低温であってもよい。そのため、反射フィルムは、製造時に熱ジワやスジなどの外観不良を生じにくい。
　以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。本発明は、これら実施例に何ら限定されない。なお、特に制限のない限り、「％」は「質量％」を意味する。
（実施例１）
　ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み：２５μｍ）を基材とし、基材上に、ポリエステル樹脂溶液（ポリエステル樹脂（詳細ポリエステルポリオール）：７０％）、イソシアネート：２０％、メラミン樹脂：１０％を含む）をバーコーターにて塗工した。この未硬化樹脂層を１００℃、１分にて硬化させ、厚み１００ｎｍのアンダーコート層を形成した（アンダーコート層形成工程）。アンダーコート層上に、抵抗加熱式蒸着機を用い、銀の真空蒸着を行い、厚み１００ｎｍのＡｇ膜（金属蒸着層）を形成した（金属蒸着層形成工程）。金属蒸着層上に、アクリル系樹脂溶液（アクリル系樹脂（詳細アクリルポリオール）：６９％、イソシアネート：２０％、メラミン樹脂：１０％、ＰＥＴＰ：１％を含む）を、バーコーターにて塗工し、厚み１．５μｍのトップコート層を形成した（トップコート層形成工程）。次いで、１３０℃１分間で乾燥し（低温乾燥工程）、反射フィルムを作製した。
（実施例２～５）
　表１に記載の原料および条件に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射フィルムを作製した。その際、アクリル系樹脂とイソシアネートの比率を実施例１と同じに保ったまま、これらの配合量を下げ、ＰＥＴＰの濃度が表１になるように調整した。メラミン樹脂の濃度は１０％に固定した。
（実施例６～１３）
　表１に記載の原料および条件に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射フィルムを作製した。なお、硫黄化合物はチオール系シランカップリング剤を使用した。その際、アクリル系樹脂とイソシアネートの比率を実施例１と同じに保ったまま、チオール系シランカップリング剤の濃度が表１になるように調整した。メラミン樹脂の濃度は１０％に固定した。
　（比較例１）
　表１に記載の原料および条件に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、反射フィルムを作製した。その際、アクリル系樹脂を７０％、イソシアネートを２０％、メラミン樹脂を１０％とし、硫黄化合物は使用しなかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　得られた反射フィルムの碁盤目剥離試験、初期密着性、耐熱性試験後密着性、耐湿熱試験後密着性を、以下の評価方法により評価した。結果を表１に示す。
＜碁盤目剥離試験＞
　１ｍｍ幅で１００のマス目を作り（１０×１０）、市販のセロハンテープを１００のマス目に貼着した後、これを引き剥がすことによって引き剥がされないマス目の数を調べた。
＜密着性＞
　調製直後の反射フィルム、温度９０℃で５００時間保持した後（耐熱試験後）の反射フィルム、温度６０℃湿度９５％で５００時間保持した後（耐湿熱試験後）の反射フィルムについて、別途、接着剤（ポリエステルポリオール＋イソシアネート）を付与した樹脂フィルム層（ＰＥＴ、詳細：東洋紡コスモシャインＡ４３００）を準備し、トップコート層上に接着剤（厚み５μｍ）を介して、厚み５０μｍの樹脂フィルム層を形成し、乾燥させた（条件１００℃×１分後、４０℃×７２時間エージング）（樹脂フィルム層形成工程）。その後、樹脂フィルム層と、反射フィルムとを把持し、１８０℃方向に引っ張り、剥離する程度を１～５の５段階で確認した。「１」が最も剥離しやすく、「５」が剥離困難であることを示している。
　表１に示されるように、本発明の実施例１～１３の反射フィルムは、金属蒸着層とトップコート層との密着性が優れており、剥離が困難であった。一方、硫黄化合物を含んでいない比較例１の反射フィルムは、碁盤目剥離試験では本発明の反射フィルムとの差異は見られなかったが、より過酷な試験であるドライラミネート後の剥離試験では、容易に剥離した。
　１　反射フィルム
　２　基材
　３　アンダーコート層
　４　金属蒸着層
　５　トップコート層
　５１　硫黄化合物が多く含まれる領域
　６　接着層
　７　樹脂フィルム層
　８　液晶表示装置
　９　液晶パネル
　１０　導光板
　１１　光源
　１２　拡散プリズム

Claims (9)

  1. 　基材と、前記基材上に設けられたアンダーコート層と、前記アンダーコート層上に設けられた金属蒸着層と、前記金属蒸着層上に設けられたトップコート層とを有し、
    　前記金属蒸着層は、銀または銀を主成分とする銀合金を含み、
    　前記トップコート層は、硫黄化合物を含み、
    　前記トップコート層における前記硫黄化合物の硫黄元素濃度は、前記トップコート層の厚み方向において、前記金属蒸着層側の方が、前記金属蒸着層と反対側よりも高い、反射フィルム。
  2. 　前記硫黄化合物は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により前記トップコート層の前記金属蒸着層と反対側から前記金属蒸着層側に向けて、前記トップコート層の厚み方向における、前記トップコート層の硫黄元素濃度を測定する場合において、前記トップコート層の厚み方向における前記金属蒸着層側に、前記硫黄元素濃度の最大濃度ピークを示すよう、前記トップコート層に含まれる、請求項１記載の反射フィルム。
  3. 　前記硫黄元素濃度の最大濃度ピークは、０．５～３０．０原子％である、請求項２記載の反射フィルム。
  4. 　前記アンダーコート層は、メラミン樹脂を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の反射フィルム。
  5. 　前記トップコート層は、メラミン樹脂を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の反射フィルム。
  6. 　前記硫黄化合物の含有量は、前記トップコート中、樹脂固形分換算で、０．５～２０質量％である、請求項１～５のいずれか１項に記載の反射フィルム。
  7. 　前記トップコート層上に、接着層を介して樹脂フィルム層が設けられる、請求項１～６のいずれか１項に記載の反射フィルム。
  8. 　光源と、導光板と、請求項１～７のいずれか１項に記載の反射フィルムと、液晶パネルとを備える、液晶表示装置。
  9. 　基材上に、アンダーコート層を設けるアンダーコート層形成工程と、
    　前記アンダーコート層上に、金属蒸着層を設ける蒸着工程と、
    　前記金属蒸着層上に、トップコート層用樹脂組成物の樹脂溶液を塗布してトップコート層を設けるトップコート層形成工程と、
    　８０～１５０℃にて乾燥する低温乾燥工程と、
    前記トップコート層上に、接着剤を付与した樹脂フィルム層を設ける樹脂フィルム層形成工程とを有し、
    　前記金属蒸着層は、銀または銀を主成分とする銀合金を含み、
    　前記トップコート層用樹脂組成物は、硫黄化合物を含み、
    　前記トップコート層形成工程は、
    　　前記トップコート層用樹脂組成物の樹脂溶液を前記金属蒸着層に塗布することにより、前記樹脂溶液中の前記硫黄化合物と、前記金属蒸着層中の前記銀または銀を主成分とする銀合金とを反応させ、
    　　前記トップコート層における前記硫黄化合物の硫黄元素濃度が、前記トップコート層の厚み方向において、前記金属蒸着層側の方が、前記金属蒸着層と反対側よりも高くなるよう硫黄化合物を偏在させる工程である、反射フィルムの製造方法。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09111442A (ja) * 1995-10-18 1997-04-28 Oike Ind Co Ltd 高耐久性反射フイルム
JP2005280131A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Reiko Co Ltd 反射フイルム
JP2009109625A (ja) * 2007-10-29 2009-05-21 Oike Ind Co Ltd 反射フィルム
JP2009286100A (ja) * 2008-06-02 2009-12-10 Oike Ind Co Ltd 積層フィルム及び該積層フィルムを用いた物品
JP2012232538A (ja) * 2011-05-09 2012-11-29 Konica Minolta Advanced Layers Inc フィルムミラー、太陽光反射用ミラー及び太陽熱発電用反射装置
WO2017002814A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 コニカミノルタ株式会社 光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法及び液晶表示装置用バックライトユニット

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2017164226A1 (ja) 2016-03-25 2019-02-07 コニカミノルタ株式会社 光反射フィルム及び液晶表示装置用バックライトユニット
JP7064778B2 (ja) 2019-04-26 2022-05-11 尾池工業株式会社 液晶表示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09111442A (ja) * 1995-10-18 1997-04-28 Oike Ind Co Ltd 高耐久性反射フイルム
JP2005280131A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Reiko Co Ltd 反射フイルム
JP2009109625A (ja) * 2007-10-29 2009-05-21 Oike Ind Co Ltd 反射フィルム
JP2009286100A (ja) * 2008-06-02 2009-12-10 Oike Ind Co Ltd 積層フィルム及び該積層フィルムを用いた物品
JP2012232538A (ja) * 2011-05-09 2012-11-29 Konica Minolta Advanced Layers Inc フィルムミラー、太陽光反射用ミラー及び太陽熱発電用反射装置
WO2017002814A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 コニカミノルタ株式会社 光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法及び液晶表示装置用バックライトユニット

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