WO2019240414A1 - 광학 디바이스 - Google Patents

광학 디바이스 Download PDF

Info

Publication number
WO2019240414A1
WO2019240414A1 PCT/KR2019/006560 KR2019006560W WO2019240414A1 WO 2019240414 A1 WO2019240414 A1 WO 2019240414A1 KR 2019006560 W KR2019006560 W KR 2019006560W WO 2019240414 A1 WO2019240414 A1 WO 2019240414A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
liquid crystal
adhesive film
optical device
curable adhesive
less
Prior art date
Application number
PCT/KR2019/006560
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
이성민
이영신
전병건
문인주
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to JP2020542997A priority Critical patent/JP7222170B2/ja
Priority to EP19820197.2A priority patent/EP3809172A4/en
Priority to US16/969,394 priority patent/US10996387B2/en
Priority to CN201980013274.5A priority patent/CN111712746B/zh
Publication of WO2019240414A1 publication Critical patent/WO2019240414A1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J123/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J123/02—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09J123/04—Homopolymers or copolymers of ethene
    • C09J123/08—Copolymers of ethene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J123/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J123/02—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C09J123/04—Homopolymers or copolymers of ethene
    • C09J123/08—Copolymers of ethene
    • C09J123/0846—Copolymers of ethene with unsaturated hydrocarbons containing other atoms than carbon or hydrogen atoms
    • C09J123/0853—Vinylacetate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J175/00—Adhesives based on polyureas or polyurethanes; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J175/04—Polyurethanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J183/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K19/60—Pleochroic dyes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/137—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering
    • G02F1/13725—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering based on guest-host interaction
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/12—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • B32B37/26—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer which influences the bonding during the lamination process, e.g. release layers or pressure equalising layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00—Materials and properties
    • G02F2202/28—Adhesive materials or arrangements

Definitions

  • the present application relates to an optical device.
  • a device having a variable transmittance using a so-called guest host cell to which a mixture of a host material and a dichroic dye guest is applied is known, and the liquid crystal compound is mainly used as a host material in the device. This is used.
  • variable transmittance device is applied to various applications including eyewear such as sunglasses or glasses, outer walls of buildings, or sunroofs of vehicles.
  • the present application provides an optical device that is capable of varying transmittance and that can reduce light loss while improving appearance defects.
  • the present application relates to an optical device capable of adjusting transmittance, for example, to an optical device capable of switching at least between a transmission mode and a blocking mode.
  • the transmission mode is a state in which the optical device shows a relatively high transmittance
  • the blocking mode is a state in which the optical device shows a relatively low transmission.
  • the optical device may have a transmission in the transmission mode of about 30% or more, 35% or more, 40% or more, 45% or more or about 50% or more.
  • the optical device may have a transmittance of about 20% or less, 15% or less, or about 10% or less in the blocking mode.
  • the upper limit of the transmittance in the transmission mode may be about 100%, 95%, 90%, 85%, 80%, 75%, 70%, 65% or about 60%.
  • the lower limit of transmittance in the blocking mode may be about 0%, 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, 6%, 7%, 8%, 9% or about 10%.
  • the transmittance may be a linear light transmittance.
  • the term linear light transmittance may be a ratio of light (direct light) transmitted through the optical device in the same direction as the incident direction to light incident on the optical device in the predetermined direction.
  • the transmittance may be a result (normal light transmittance) measured with respect to light incident in a direction parallel to the surface normal of the optical device.
  • the light whose transmittance is controlled in the optical device of the present application may be ultraviolet light, visible light or near infrared ray in the UV-A region.
  • ultraviolet rays in the UV-A region are used to mean radiation having a wavelength in the range of 320 nm to 380 nm
  • visible light means radiation having a wavelength in the range of 380 nm to 780 nm
  • Near-infrared light is used to mean radiation having a wavelength in the range of 780 nm to 2000 nm.
  • the optical device of the present application is designed to be able to switch at least between the transmission mode and the blocking mode. If desired, the optical device can be designed to implement other modes in addition to the transmission mode and the blocking mode. For example, it can be designed such that a third mode can be implemented that can exhibit any transmittance between the transmission modes of the transmission mode and the blocking mode.
  • the optical device comprising a liquid crystal element.
  • the liquid crystal element is a liquid crystal element capable of switching between an alignment state of at least two or more optical axes, for example, first and second alignment states.
  • the optical axis may mean a long axis direction when the liquid crystal compound included in the liquid crystal device has a rod shape, and may mean a normal direction of the disc plane when the discotic shape has a discotic shape.
  • the optical axis of the liquid crystal device may be defined as an average optical axis, in which case the average optical axis is a vector sum of the optical axes of the liquid crystal compounds. It may mean.
  • the alignment state can be changed by application of energy, for example, application of voltage. That is, the liquid crystal device may have one of the first and second alignment states in a state where no voltage is applied, and then switch to another alignment state when a voltage is applied.
  • the blocking mode may be implemented in one of the first and second alignment states, and the transmission mode may be implemented in another alignment state.
  • the blocking mode is implemented in the first alignment state unless otherwise stated.
  • the liquid crystal device may include a liquid crystal layer including at least a liquid crystal compound.
  • the liquid crystal layer may be a so-called guest host liquid crystal layer, and may be a liquid crystal layer including a liquid crystal compound and a dichroic dye guest.
  • the liquid crystal layer is a liquid crystal layer using a so-called guest host effect, and is a liquid crystal layer in which the dichroic dye guests are aligned according to an alignment direction of the liquid crystal compound (hereinafter, may be referred to as a liquid crystal host).
  • the alignment direction of the liquid crystal host may be adjusted depending on whether the external energy is applied.
  • the type of liquid crystal host used in the liquid crystal layer is not particularly limited, and a general kind of liquid crystal compound applied for realizing the guest host effect may be used.
  • a smectic liquid crystal compound, a nematic liquid crystal compound, or a cholesteric liquid crystal compound may be used as the liquid crystal host.
  • a nematic liquid crystal compound may be used.
  • the term nematic liquid crystal compound refers to a liquid crystal compound that can be arranged in order in the direction of the molecular axis, although there is no regularity with respect to the position of the liquid crystal molecules, such liquid crystal compounds are in the form of rods or discoids Can be.
  • Such nematic liquid crystal compounds have a clearing point of at least about 40 ° C., at least 50 ° C., at least 60 ° C., at least 70 ° C., at least 80 ° C., at least 90 ° C., at least 100 ° C., or at least about 110 ° C. It may be selected to have a phase transition point in the above range, that is, a phase transition point from the nematic phase to the isotropic phase. In one example, the clearing point or phase transition point may be about 160 ° C. or less, 150 ° C. or less or about 140 ° C. or less.
  • the liquid crystal compound may have negative or positive dielectric anisotropy.
  • the absolute value of the dielectric anisotropy may be appropriately selected in consideration of the purpose.
  • the dielectric anisotropy may be greater than about 3 or greater than about 7, or less than about ⁇ 2 or less than about ⁇ 3.
  • the liquid crystal compound may also have optical anisotropy ( ⁇ n) of about 0.01 or more or about 0.04 or more.
  • the optical anisotropy of the liquid crystal compound may be about 0.3 or less or about 0.27 or less in another example.
  • Liquid crystal compounds that can be used as the liquid crystal host of the guest host liquid crystal layer are known to those skilled in the art and can be freely selected from them.
  • the liquid crystal layer contains a dichroic dye guest together with the liquid crystal host.
  • the term dye may mean a material capable of intensively absorbing and / or modifying light in at least part or the entire range within the visible region, for example, in the wavelength range from 380 nm to 780 nm, and the term dichroic dye guest May refer to a material capable of absorbing light in at least part or the entire range of the visible light region.
  • a known dye known to have a property that can be aligned according to the alignment state of the liquid crystal host can be selected and used.
  • an azo dye, an anthraquinone dye, etc. can be used as a dichroic dye guest, and in order to achieve light absorption in a wide wavelength range, a liquid crystal layer may contain 1 type, or 2 or more types of dyes.
  • the dichroic ratio of the dichroic dye guest may be appropriately selected in consideration of the purpose of use of the dichroic dye guest.
  • the dichroic dye guest may have a dichroic ratio of about 5 or more to about 20 or less.
  • the term dichroic ratio for example, in the case of a p-type dye, may mean a value obtained by dividing the absorption of the polarization parallel to the long axis direction of the dye by the absorption of the polarization parallel to the direction perpendicular to the long axis direction.
  • the dichroic dye guest can be at least one wavelength, some range of wavelengths, or a full range of wavelengths within a wavelength range of the visible region, for example within a wavelength range of about 380 nm to about 780 nm or about 400 nm to about 700 nm. It may have the dichroic ratio in.
  • the content of the dichroic dye guest in the liquid crystal layer may be appropriately selected in consideration of the purpose of use of the dichroic dye guest.
  • the content of the dichroic dye guest based on the total weight of the liquid crystal host and the dichroic dye guest may be selected within the range of about 0.1 to about 10% by weight.
  • the ratio of the dichroic dye guest can be changed in consideration of the desired transmittance and the solubility of the dichroic dye guest in the liquid crystal host.
  • the liquid crystal layer basically includes the liquid crystal host and the dichroic dye guest, and if necessary, may further include other optional additives according to known forms.
  • the additive may include, but are not limited to, chiral dopants or stabilizers and the like.
  • the liquid crystal layer may have an anisotropy (R) of about 0.5 or more.
  • the anisotropy (R) is the absorbance (E (p)) of the light polarized in parallel to the alignment direction of the liquid crystal host and the absorbance (E (s)) of the light polarized perpendicular to the alignment direction of the liquid crystal host It is measured according to the following equation.
  • the criterion used above is another identical device which does not contain dye in the liquid crystal layer.
  • the anisotropy (R) is measured from the value (E (p)) of the absorbance of the liquid crystal layer in which the dye molecules are horizontally oriented and from the value (E (s)) of the absorbance of the same liquid crystal layer in which the dye molecules are vertically aligned.
  • the absorbance is measured in comparison with the liquid crystal layer containing no dye but otherwise having the same constitution. This measurement can be performed using polarized light rays in which the oscillating plane oscillates in one direction parallel to the orientation direction (E (p)) and in subsequent measurements oscillates in the direction perpendicular to the orientation direction (E (s)). Can be.
  • the liquid crystal layer is not switched or rotated during the measurement, so the measurement of E (p) and E (s) can be performed by rotating the oscillating surface of polarized incident light.
  • Spectra for the measurement of E (p) and E (s) can be recorded using a spectrometer such as a Perkin Elmer Lambda 1050 UV spectrometer.
  • the spectrometer is equipped with a Glan-Thompson polariser for a wavelength range of about 250 nm to about 2500 nm in both the measuring beam and the reference beam.
  • the two polarizers are controlled by a stepping motor and are oriented in the same direction.
  • a change in the polarizer direction of the polarizer for example a switch of 0 degrees to 90 degrees, is always performed synchronously and in the same direction with respect to the measuring beam and the reference beam.
  • the orientation of the individual polarizers is the tee of the University of Wurzburg. It can be measured using the method described in T. Karstens's 1973 dissertation.
  • the polarizer is rotated in steps of 5 degrees for the oriented dichroic sample, and the absorbance is recorded at a fixed wavelength, for example in the maximum absorption region.
  • a new baseline zero line is implemented for each polarizer position.
  • E (p) and E (s) an antiparallel-rubbed test cell coated with polyimide AL-1054 from JSR was placed in the measuring beam and the reference beam.
  • the two test cells can be selected with the same layer thickness.
  • Test cells containing a pure host (liquid crystal compound) are placed in the reference beam.
  • a test cell containing a solution of dye in the liquid crystal is placed in the measuring beam.
  • Two test cells for the measuring beam and the reference beam are installed in the sound path in the same orientation direction.
  • E (p) may necessarily be in its maximum absorption wavelength range, for example in the wavelength range of about 0.5 to about 1.5. This corresponds to a transmission of 30% to 5%. This is set by correspondingly adjusting the layer thickness and / or dye concentration.
  • the anisotropy (R) may be about 0.55 or more, 0.6 or more, or about 0.65 or more in another example.
  • the anisotropy R may be, for example, about 0.9 or less, 0.85 or less, 0.8 or less, 0.75 or less, or about 0.7 or less.
  • Such anisotropic degree (R) can be achieved by controlling the kind of liquid crystal layer, for example, the kind of liquid crystal compound (host), the kind and ratio of a dichroic dye guest, or the thickness of a liquid crystal layer.
  • the anisotropy (R) within the above range can be used to provide an optical device in which the contrast ratio is increased due to the difference in transmittance between the transmission mode and the blocking mode, while using lower energy.
  • the thickness of the liquid crystal layer may be appropriately selected in consideration of, for example, desired anisotropy.
  • the thickness of the liquid crystal layer may be about 0.01 ⁇ m or more, 0.05 ⁇ m or more, 0.1 ⁇ m or more, 0.5 ⁇ m or more, 1 ⁇ m or more, 1.5 ⁇ m or more, 2 ⁇ m or more, 2.5 ⁇ m or more, 3 ⁇ m or more, 3.5 ⁇ m or more, 4 ⁇ m or more , At least 4.5 ⁇ m, at least 5 ⁇ m, at least 5.5 ⁇ m, at least 6 ⁇ m, at least 6.5 ⁇ m, at least 7 ⁇ m, at least 7.5 ⁇ m, at least 8 ⁇ m, at least 8.5 ⁇ m, at least 9 ⁇ m, or at least about 9.5 ⁇ m.
  • the thickness By controlling the thickness in this way, it is possible to implement an optical device having a large difference between the transmittance in the transmission mode and the transmittance in the blocking mode, that is, a device having a large contrast ratio.
  • the first and second alignment states may, in one example, be selected from a horizontal orientation, a vertical orientation, a twisted nematic orientation or a cholesteric orientation state, respectively.
  • the liquid crystal element or liquid crystal layer in the blocking mode is at least in a horizontal orientation, twisted nematic orientation or cholesteric orientation
  • the liquid crystal element or liquid crystal layer in a vertical orientation or in a direction different from the horizontal orientation of the blocking mode. It may be in a horizontal alignment state having an optical axis of.
  • the liquid crystal device may be a device in a normally black mode in which the blocking mode is implemented in a voltage-free state, or may implement a normally transparent mode in which the transmission mode is implemented in a voltage-free state.
  • the method of confirming which direction the optical axis of the said liquid crystal layer is formed in the orientation state of a liquid crystal layer is well-known.
  • the direction of the optical axis of the liquid crystal layer can be measured using another polarizing plate that knows the direction of the optical axis, which can be measured using a known measuring device, for example, a polarimeter such as Jasco's P-2000. have.
  • the liquid crystal element may include the liquid crystal layer provided between two substrate films disposed opposite to each other and the two substrate films.
  • the said liquid crystal element is a sealant which affixes the said base film in the state in which the space
  • the material of the spacer and / or sealant a known material may be used without particular limitation.
  • an inorganic film such as glass or a plastic film
  • the plastic film include a triacetyl cellulose (TAC) film; COP (cyclo olefin copolymer) films, such as norbornene derivatives; Acrylic films such as PMMA (poly (methyl methacrylate); PC (polycarbonate) film; PE (polyethylene) film; PP (polypropylene) film; PVA (polyvinyl alcohol) film; DAC (diacetyl cellulose) film; Pac (Polyacrylate) film; Polyether sulfone (PES) film; polyetheretherketon (PEEK) film; polyphenylsulfone (PPS) film; polyetherimide (PEI) film; polyethylenenaphthatlate (PEN) film; polyethyleneterephtalate (PET) film; polyimide (PI) film; polysulfone (PSF) film; A PAR (polyarylate) film
  • TAC triacetyl cellulose
  • the base film a film having a phase difference in a predetermined range can be used.
  • the base film may have a front retardation of about 100 nm or less.
  • the front phase difference is about 95 nm or less, 90 nm or less, 85 nm or less, 80 nm or less, 75 nm or less, 70 nm or less, 65 nm or less, 60 nm or less, 55 nm or less, 50 nm or less, 45 nm in another example.
  • the front phase difference may be, in another example, about 0 nm or more, 1 nm or more, 2 nm or more, 3 nm or more, 4 nm or more, 5 nm or more, 6 nm or more, 7 nm or more, 8 nm or more, 9 nm or more, or about 9.5. may be greater than or equal to nm.
  • the absolute value of the thickness direction retardation of a base film may be about 200 nm or less, for example.
  • the absolute value of the thickness direction retardation is about 190 nm or less, 180 nm or less, 170 nm or less, 160 nm or less, 150 nm or less, 140 nm or less, 130 nm or less, 120 nm or less, 110 nm or less, or 100 nm in another example.
  • the thickness direction phase difference may be negative or positive if the absolute value is within the range, for example, may be negative.
  • the front phase difference Rin is a value calculated by Equation 1 below
  • the thickness direction phase difference Rth is a value calculated by Equation 2 below, and unless otherwise specified, reference wavelengths of the front and thickness direction phase differences Is about 550 nm.
  • Thickness Direction Retardation (Rth) d ⁇ (nz-ny)
  • d is the thickness of the base film
  • nx is the refractive index in the slow axis direction of the base film
  • ny is the refractive index in the fast axis direction of the base film
  • nz is the refractive index in the thickness direction of the base film.
  • angles formed by the slow axes of the base films arranged oppositely are, for example, in the range of about -10 degrees to about 10 degrees, in the range of about -7 degrees to about 7 degrees, about- It may be in the range of 5 degrees to about 5 degrees or in the range of about ⁇ 3 degrees to about 3 degrees or approximately parallel.
  • the angle which the slow axis of the said base film and the light absorption axis of the polarizer mentioned later make for example in the range of about -10 degree to about 10 degree, in the range of about -7 degree to about 7 degree, about -5 In the range of degrees to about 5 degrees or in the range of about -3 degrees to about 3 degrees or approximately parallel, or in the range of about 80 degrees to about 100 degrees, in the range of about 83 degrees to about 97 degrees, about 85 degrees to about It may be in the range of about 95 degrees or in the range of about 87 degrees to about 92 degrees or approximately vertical.
  • phase difference adjustment or the arrangement of the slow axis as described above it is possible to implement an optically excellent and uniform transmission mode and blocking mode.
  • the base film may have a coefficient of thermal expansion of about 100 ppm / K or less.
  • the thermal expansion coefficient is, in another example, about 95 ppm / K or less, 90 ppm / K or less, 85 ppm / K or less, 80 ppm / K or less, 75 ppm / K or less, 70 ppm / K or less, or about 65 ppm / K or less, or about 10 at least ppm / K, at least 20 ppm / K, at least 30 ppm / K, at least 40 ppm / K, at least 50 ppm / K, or at least about 55 ppm / K.
  • the coefficient of thermal expansion of the base film can be measured, for example, according to the provisions of ASTM D696, the film can be cut in the form provided by the standard, the coefficient of thermal expansion can be calculated by measuring the change in length per unit temperature, It can measure by a well-known method, such as TMA (ThermoMechanic Analysis).
  • a base film having a break elongation of about 90% or more can be used as the base film.
  • the elongation at break is about 95% or more, 100% or more, 105% or more, 110% or more, 115% or more, 120% or more, 125% or more, 130% or more, 135% or more, 140% or more, 145% or more, 150 At least%, at least 155%, at least 160%, at least 165%, at least 170%, or at least about 175%, at most about 1,000%, at most 900%, at most 800%, at most 700%, at most 600%, at most 500%. , Up to 400%, up to 300% or up to about 200%.
  • the elongation at break of the base film can be measured according to ASTM D882 standard, and the equipment (to measure the strength and length at the same time) can cut the film in the form provided by the standard and measure the stress-strain curve. Can be measured.
  • a more durable optical device can be provided by the base film being selected to have such a coefficient of thermal expansion and / or elongation at break.
  • the thickness of the base film as described above is not particularly limited, and may be, for example, in a range of about 50 ⁇ m to about 200 ⁇ m.
  • the physical properties mentioned in the present specification unless the measurement temperature or pressure affects the results, the physical properties are measured at normal temperature and normal pressure unless otherwise specified.
  • ambient temperature is a naturally occurring temperature that is warmed or undecreased, and may generally be any temperature in the range of about 10 ° C to about 30 ° C, about 23 ° C or about 25 ° C.
  • the unit of temperature in this specification is ° C.
  • atmospheric pressure is a natural pressure that is not particularly reduced or raised, generally meaning a pressure of about 1 atmosphere, such as atmospheric pressure.
  • a conductive layer and / or an alignment layer may exist on one surface of the base film, for example, on the surface facing the liquid crystal layer.
  • the conductive layer which exists on the surface of a base film is a structure for applying a voltage to a liquid crystal layer, and a well-known conductive layer can be applied without a restriction
  • a conductive layer for example, a conductive polymer, a conductive metal, a conductive nanowire, or a metal oxide such as indium tin oxide (ITO) may be applied.
  • ITO indium tin oxide
  • Examples of the conductive layer that can be applied in the present application are not limited to the above, and any kind of conductive layer known in the art to be applied to the liquid crystal device may be used.
  • an alignment layer is present on the surface of the base film.
  • a conductive layer may first be formed on one surface of a base film, and an alignment layer may be formed thereon.
  • the alignment film is a configuration for controlling the alignment of the liquid crystal host included in the liquid crystal layer, and a known alignment film can be applied without particular limitation.
  • a known alignment film can be applied without particular limitation.
  • the alignment film known in the art include a rubbing alignment film, a photoalignment film, and the like, and the alignment film that can be used in the present application is the above known alignment film, which is not particularly limited.
  • the alignment direction of the alignment layer may be controlled.
  • the alignment directions of the two alignment films formed on each surface of the two base films arranged to face each other may be at an angle within a range of about -10 degrees to about 10 degrees, an angle within a range of about -7 degrees to about 7 degrees, and about Angles in the range of -5 degrees to about 5 degrees or angles in the range of about -3 degrees to about 3 degrees or approximately parallel to each other.
  • the alignment direction of the two alignment layers is in an angle in the range of about 80 degrees to about 100 degrees, in an angle in the range of about 83 degrees to about 97 degrees, in an angle in the range of about 85 degrees to about 95 degrees, or in a range of about 87 degrees to about 95 degrees. It may be at an angle within the range of 92 degrees or approximately perpendicular to each other.
  • the said orientation direction can be known by confirming the direction of the optical axis of a liquid crystal layer.
  • the form of the liquid crystal element having the above configuration is not particularly limited and may be determined according to the application of the optical device, and is generally in the form of a film or sheet.
  • the optical device may further include a polarizer together with the liquid crystal element.
  • a polarizer for example, an absorption type linear polarizer, that is, a polarizer having a light absorption axis formed in one direction and a light transmission axis formed substantially perpendicular thereto may be used.
  • the polarizer has an angle between an average optical axis (vector sum of optical axes) of the first alignment state and a light absorption axis of the polarizer when the blocking state is realized in the first alignment state of the liquid crystal layer.
  • the alignment directions of the alignment films formed on the respective surfaces of the two base films arranged opposite to each other are angles within a range of about -10 degrees to about 10 degrees, about -7 degrees to Orientation of any one of the two alignment films when the angle is in the range of about 7 degrees, the angle is in the range of about -5 degrees to about 5 degrees, or the angle is in the range of about -3 degrees to about 3 degrees or is substantially parallel to each other.
  • the angle between the direction and the light absorption axis of the polarizer may be about 80 degrees to about 100 degrees or about 85 degrees to about 95 degrees, or may be approximately perpendicular.
  • the alignment direction of the two alignment layers is in an angle in the range of about 80 degrees to about 100 degrees, an angle in the range of about 83 degrees to about 97 degrees, in an angle in the range of about 85 degrees to about 95 degrees, or in a range of about 87 degrees to about 95 degrees.
  • the angle between the alignment direction of the alignment layer disposed closer to the polarizer and the light absorption axis of the polarizer, among the two alignment layers is about 80 degrees to about 100 degrees or about 85 degrees. Or from about 95 degrees, or approximately vertical.
  • the liquid crystal device 10 and the polarizer 20 are stacked with each other in an optical axis (average optical axis) and the polarizer 20 in a first alignment direction of the liquid crystal device 10. ) May be arranged such that the light absorption axis is in the above relationship.
  • the polarizer may be a conventional material used in conventional LCDs, for example, a PVA (poly (vinyl alcohol)) polarizer, a lyotropic liquid crystal (LLC) or a reactive liquid crystal (RM: Polarizers implemented by a coating method, such as a polarizing coating layer including Reactive Mesogen) and a dichroic dye, may be used.
  • a coating method such as a polarizing coating layer including Reactive Mesogen
  • a dichroic dye may be used.
  • the polarizer implemented as a coating method as described above may be referred to as a polarizing coating layer.
  • a known liquid crystal may be used without particular limitation.
  • a breast liquid crystal capable of forming a breast liquid crystal layer having a dichroic ratio of about 30 to about 40 may be used.
  • the polarizing coating layer includes a reactive liquid crystal (RM) and a dichroic dye
  • RM reactive liquid crystal
  • a linear dye or a discotic dye may be used as the dichroic dye. It may be.
  • the optical device of the present application may include only one liquid crystal element and one polarizer, respectively.
  • the optical device may include only one of the liquid crystal elements and only one polarizer.
  • the optical device includes two outer substrates that are disposed to face each other.
  • one of the two outer substrates may be referred to as a first outer substrate, and the other may be referred to as a second outer substrate.
  • the expressions of the first and the second may refer to the top and bottom relationships of the outer substrate. It is not prescribed.
  • the polarizer included with the liquid crystal device may be positioned between the two outer substrates.
  • the liquid crystal element 10 and the polarizer 20 may exist between the two outer substrates 30 arranged oppositely.
  • an inorganic substrate such as glass or a plastic substrate
  • the plastic substrate include a triacetyl cellulose (TAC) film; COP (cyclo olefin copolymer) films, such as norbornene derivatives; Acrylic films such as PMMA (poly (methyl methacrylate); PC (polycarbonate) film; PE (polyethylene) film; PP (polypropylene) film; PVA (polyvinyl alcohol) film; DAC (diacetyl cellulose) film; Pac (Polyacrylate) film; Polyether sulfone (PES) film; polyetheretherketon (PEEK) film; polyphenylsulfone (PPS) film, polyetherimide (PEI) film; polyethylenemaphthatlate (PEN) film; polyethyleneterephtalate (PET) film; polyimide (PI) film; polysulfone (PSF) film; A PAR (polyarylate) film or
  • the outer substrate a substrate having a phase difference in a predetermined range may be used.
  • the outer substrate may have a front phase difference of about 100 nm or less.
  • the front phase difference is about 95 nm or less, 90 nm or less, 85 nm or less, 80 nm or less, 75 nm or less, 70 nm or less, 65 nm or less, 60 nm or less, 55 nm or less, 50 nm or less, 45 nm in another example.
  • the front phase difference may be, in another example, about 0 nm or more, 1 nm or more, 2 nm or more, 3 nm or more, 4 nm or more, 5 nm or more, 6 nm or more, 7 nm or more, 8 nm or more, 9 nm or more, or about 9.5. may be greater than or equal to nm.
  • the absolute value of the thickness direction retardation of the outer substrate may be, for example, about 200 nm or less.
  • the absolute value of the thickness direction retardation is about 190 nm or less, 180 nm or less, 170 nm or less, 160 nm or less, 150 nm or less, 140 nm or less, 130 nm or less, 120 nm or less, 110 nm or less, or 100 nm in another example.
  • the thickness direction phase difference may be negative or positive if the absolute value is within the range, for example, may be negative.
  • the front phase difference (Rin) and the thickness direction phase difference (Rth) of the outer substrate are the thickness (d), the slow axis refractive index (nx), the fast axis direction refractive index (ny), and the thickness direction of the base film in Equations 1 and 2, respectively.
  • the refractive index (nz) of the outer substrate can be calculated in the same manner except by substituting the thickness (d) of the outer substrate, the slow axis refractive index (nx), the fast axis refractive index (ny), and the refractive index (nz) in the thickness direction. have.
  • angles formed by the slow axes of the outer substrates arranged oppositely are, for example, in the range of about -10 degrees to about 10 degrees, in the range of about -7 degrees to about 7 degrees, about- It may be in the range of 5 degrees to about 5 degrees or in the range of about ⁇ 3 degrees to about 3 degrees or approximately parallel.
  • the angle formed by the slow axis of the base film is about -7 degree to about 10 degree to about 10 degree, for example. In the range of about 7 degrees, in the range of about -5 degrees to about 5 degrees or in the range of about -3 degrees to about 3 degrees, or approximately parallel, or in the range of about 80 degrees to about 100 degrees, about 83 degrees to about It may be in the range of 97 degrees, in the range of about 85 degrees to about 95 degrees, or in the range of about 87 degrees to about 92 degrees, or approximately perpendicular.
  • phase difference adjustment or the arrangement of the slow axis as described above it is possible to implement an optically excellent and uniform transmission mode and blocking mode.
  • thermal expansion coefficient of about 100 ppm / K or less
  • the thermal expansion coefficient is, in another example, about 95 ppm / K or less, 90 ppm / K or less, 85 ppm / K or less, 80 ppm / K or less, 75 ppm / K or less, 70 ppm / K or less, 65 ppm / K or less, 60 ppm / K Or less, 50 ppm / K or less, 40 ppm / K or less, 30 ppm / K or less, 20 ppm / K or less, or about 15 ppm / K or less, about 1 ppm / K or more, 2 ppm / K or more, 3 ppm / K K or more, 4 ppm / K or more, 5 ppm / K or more, 6 ppm / K or more, 7 ppm / K or more, 8 ppm / K or more, 9 ppm / K or less
  • the measuring method of the thermal expansion coefficient of the said outer substrate is the same as the measuring method of the thermal expansion coefficient of the base film mentioned above.
  • the outer substrate By selecting the outer substrate to have such a coefficient of thermal expansion, a more durable optical device can be provided.
  • the thickness of the outer substrate is not particularly limited, and may be, for example, about 0.3 mm or more.
  • the thickness may, in another example, be at least about 0.5 mm, at least 1 mm, at least 1.5 mm, or at least about 2 mm, about 10 mm or less, 9 mm or less, 8 mm or less, 7 mm or less, 6 mm or less, 5 mm. 4 mm or less or about 3 mm or less may be sufficient.
  • the outer substrate may be a flat substrate or a substrate having a curved shape.
  • the two outer substrates may be simultaneously flat substrates, simultaneously curved surfaces, or one may be a flat substrate, and the other may be a curved substrate.
  • each curvature or radius of curvature may be the same or different.
  • Curvature or radius of curvature herein can be measured in a manner known in the art, for example, a non-contact type, such as a 2D Profile Laser Sensor, a Chromatic confocal line sensor, or a 3D Measuring Conforcal Microscopy. Can be measured with the instrument. It is known to measure the curvature or radius of curvature using such equipment.
  • a non-contact type such as a 2D Profile Laser Sensor, a Chromatic confocal line sensor, or a 3D Measuring Conforcal Microscopy.
  • the curvature or curvature radius of the opposing surface that is, in the case of the first outer substrate, faces the second outer substrate.
  • the curvature or curvature radius of the surface and the curvature or curvature radius of the surface facing the first outer substrate in the case of the second outer substrate may be a reference.
  • the curvature or curvature radius on the surface is not constant and different portions exist, the largest curvature or radius of curvature may be the reference, or the smallest curvature or radius of curvature may be the reference, or the average curvature or average The radius of curvature may be a reference.
  • the two outer substrates have a difference in curvature or radius of curvature of about 10%, 9%, 8%, 7%, 6%, 5%, 4%, 3%, 2 It may be within% or about 1%.
  • the difference between the curvature or the radius of curvature is a numerical value calculated by 100 ⁇ (C L -C S ) / C S when a large curvature or a radius of curvature is referred to as C L and a small curvature or radius of curvature is referred to as C S.
  • the lower limit of the difference between the curvature or the radius of curvature is not particularly limited. Since the difference in curvature or radius of curvature of the two outer substrates may be the same, the difference in curvature or radius of curvature may be greater than about 0% or greater than about 0%.
  • Such curvature or curvature radius is useful in the structure which enclosed the liquid crystal element and / or polarizer with the some curable adhesive film and non-curable adhesive film mentioned later.
  • the term encapsulation may mean covering the entire surface of the liquid crystal device and / or polarizer with an adhesive film.
  • both the first and second outer substrates are curved, the curvature of both may be the same.
  • the two outer substrates may be curved in the same direction. That is, in this case, the center of curvature of the first outer substrate and the center of curvature of the second outer substrate are both present at the same portion among upper and lower portions of the first and second outer substrates.
  • FIG. 3 is an exemplary view showing a side of an optical device in which an encapsulation portion 400 including a liquid crystal element or the like exists between the first and second outer substrates 30, in which case the first and second The center of curvature of all the outer substrates 30 is the case where it exists in the lower part in the figure.
  • each curvature or radius of curvature of the first and second outer substrates is not particularly limited.
  • the radius of curvature of each substrate is about 100R or more, 200R or more, 300R or more, 400R or more, 500R or more, 600R or more, 700R or more, 800R or more, or about 900R or more, or about 10,000R or less, 9,000R or less , 8,000R or less, 7,000R or less, 6,000R or less, 5,000R or less, 4,000R or less, 3,000R or less, 2,000R or less, 1,900R or less, 1,800R or less, 1,700R or less, 1,600R or less, 1,500R or less, 1,400 R may be 1,300 R or less, 1,200 R or less, 1,100 R or less, or about 1,050 R or less.
  • R means the degree of bending of a circle having a radius of 1 mm.
  • 100R is the degree of curvature of a circle having a radius of 100 mm or the radius of curvature for such a circle.
  • the curvature is zero and the radius of curvature is infinite.
  • the first and second outer substrates may have the same or different radius of curvature in the above range.
  • the radius of curvature of the substrate having the larger curvature may be within the above range.
  • a substrate having a large curvature may be a substrate disposed in a gravity direction when the optical device is used.
  • the optical device of this application contains a some adhesive film.
  • the plurality of adhesive films may be a curable adhesive film and a non-curable adhesive film.
  • the curable adhesive film refers to an adhesive film including a component or a functional group capable of causing a chemical curing reaction
  • the non-curable adhesive film refers to an adhesive film containing no component or a functional group capable of causing a chemical curing reaction.
  • the curable adhesive film is not particularly limited and a known curable adhesive film can be used.
  • the curable adhesive film may be an ethylene vinyl acetate adhesive film or may include an epoxy adhesive resin, an acrylate adhesive resin, or a silicone adhesive resin.
  • an ethylene vinyl acetate adhesive film it may be present in an adhesive film state at room temperature before curing, and may be a so-called hot melt adhesive film.
  • the adhesive film is formed by using other epoxy adhesive resin, acrylate adhesive resin or silicone adhesive resin, the adhesive including the resin may be in the form of a film or liquid at room temperature, and in the case of liquid, the adhesive after curing A film can be formed.
  • the non-curable adhesive film is not particularly limited and a known non-curable adhesive film can be used.
  • the non-curable adhesive film may be a thermoplastic polyurethane adhesive film or a polyolefin adhesive film.
  • the absolute value of the thickness direction retardation (Rth) may be, for example, about 50 nm or less.
  • the absolute value may be about 45 nm or less, 40 nm or less, 35 nm or less, 30 nm or less, or about 25 nm or less, in another example, about 0 nm or more or more than about 0 nm.
  • the thickness direction phase difference may be negative or positive if the absolute value is within the range, for example, may be negative.
  • the thickness direction retardation (Rth) of the adhesive film is the thickness (d), the fast axis direction refractive index (ny) and the refractive index (nz) of the thickness direction of the base film in the formula 2, the thickness (d), the fast axis of the adhesive film
  • the same calculation can be performed except for calculating by substituting the refractive index ny and the refractive index nz in the thickness direction.
  • the adhesive film may be used to bond and / or encapsulate the liquid crystal element and / or polarizer in an autoclave process under high temperature and high pressure.
  • the adhesive film when only a plurality of curable adhesive films or non-curable adhesive films are used as the adhesive film, light loss may occur or optical device appearance defects may occur.
  • a first adhesive film when only the curable adhesive film (hereinafter, referred to as a first adhesive film) is used as the adhesive film, light loss due to the adhesive film itself may occur.
  • the absolute value of the thickness direction retardation (Rth) is 100 nm or more with the curable adhesive film, light passing through the first adhesive film is birefringent, and when the birefringent light passes through the optical element or the polarizer, Only part of the light birefringent by the one adhesive film may pass through the optical element or the polarizer. Therefore, light loss due to the first adhesive film itself may occur as much as the light that does not pass through the optical element or the polarizer among the light passing through the first adhesive film.
  • the non-curable adhesive film when only a non-curable adhesive film (hereinafter referred to as a second adhesive film) is used as the adhesive film, the non-curable adhesive film may be partially remelted due to high temperature and high pressure, thereby adhering to the outer substrate. Appearance defects may occur in the optical device, such as gaps between the films or wrinkles in the adhesive film.
  • the above problem can be improved. That is, by producing the optical device by mixing the first adhesive film and the second adhesive film, it is possible to prevent the appearance defects of the optical device and to reduce the light loss.
  • the first adhesive film is used to prevent appearance defects such as a gap between the outer substrate and the adhesive film or wrinkles on the adhesive film, and the absolute value of the thickness direction retardation (Rth) of the first adhesive film is 100. Even in the case of more than nm, the optical loss by the adhesive film itself can be reduced by using the second adhesive film having an absolute value of the thickness direction retardation (Rth) of 50 nm or less.
  • the plurality of curable adhesive films and the non-curable adhesive film may be positioned between the first and second outer substrates disposed oppositely.
  • the plurality of curable adhesive films and the non-curable adhesive films may be It may be located between the first outer substrate and the liquid crystal element, may be located between the second outer substrate and the liquid crystal element, or may be located between both the first outer substrate and the liquid crystal element and between the second outer substrate and the liquid crystal element. Can be.
  • the first adhesive film 40a may be positioned between the first outer substrate 30 and the liquid crystal element 10, and the second outer substrate 30 and the liquid crystal element ( The second adhesive film 40b may be positioned between 10.
  • a first adhesive film may be located between the first outer substrate and the liquid crystal device, and a second adhesive film may be located between the second outer substrate and the liquid crystal device, and the side surface of the liquid crystal device may be appropriately positioned.
  • the first adhesive film and the second adhesive film may be located.
  • the first adhesive film 40a may be positioned between the first outer substrate 30 and the liquid crystal device 10
  • the second outer substrate 30 and the liquid crystal device ( 10 a second adhesive film 40b may be located between the first adhesive film 40a and the second adhesive film 40b on the side surface of the liquid crystal device 10.
  • the first and second adhesive films may adhere the first outer substrate 30 and the liquid crystal element 10, the liquid crystal element 10, and the second outer substrate 30 to each other, and may include the first and / or The second adhesive film may encapsulate the liquid crystal device 10 together.
  • the plurality of curable adhesive films and the non-curable adhesive film may be located between the first outer substrate and the polarizer, and may be located between the second outer substrate and the polarizer, Or between both the first outer substrate and the polarizer and between the second outer substrate and the polarizer.
  • the first adhesive film 40a may be positioned between the first outer substrate 30 and the liquid crystal element 10 and between the polarizer 20 and the second outer substrate 30.
  • the second adhesive film 40b may be positioned between the liquid crystal element 10 and the polarizer 20.
  • the first adhesive film may be positioned between the first outer substrate and the liquid crystal element and between the polarizer and the second outer substrate, and the second adhesive film may be positioned between the liquid crystal element and the polarizer, A first adhesive film on side surfaces of the liquid crystal element and the polarizer, preferably on all sides; Second adhesive film; Alternatively, the first adhesive film and the second adhesive film; may be located.
  • the first adhesive film 40a is positioned between the first outer substrate 30 and the liquid crystal element 10 and between the polarizer 20 and the second outer substrate 30.
  • the second adhesive film 40b may be positioned between the liquid crystal element 10 and the polarizer 20, and the first adhesive film 40a may be disposed on the side surfaces of the liquid crystal element 10 and the polarizer 20. ) May be located.
  • the first and second adhesive films may include the first outer substrate 30 and the liquid crystal element 10, the liquid crystal element 10 and the polarizer 20, and the polarizer 20 and the second outer substrate 30.
  • the first and / or second adhesive films may be encapsulated together with the liquid crystal device 10 and the polarizer 20.
  • stacked the 1st adhesive film 40a and the 2nd adhesive film 40b in the above position can prevent the appearance defect of an optical device more efficiently, and can also reduce light loss more efficiently. Can be.
  • the plurality of curable adhesive films and the non-curable adhesive films may use those having a Young's modulus in the range of about 0.1 MPa to about 100 MPa, respectively.
  • the Young's modulus can be measured, for example, in the manner specified in ASTM D882, and can be used to cut the film in the form provided by the standard and to measure the stress-strain curve (the strength and length can be measured simultaneously. Can be measured).
  • Better durability of the optical device can be provided by selecting the first and second adhesive films to each have such a Young's modulus.
  • the thicknesses of the plurality of curable adhesive films and the non-curable adhesive film are not particularly limited.
  • the thicknesses of the first and second adhesive films may be in the range of about 200 ⁇ m to about 1,270 ⁇ m, respectively.
  • the thickness of the first adhesive film 40a may be a thickness between the outer substrate 30 and the liquid crystal device 10, for example, the gap between the outer substrate 30 or the polarizer 20, or the outer substrate.
  • the thickness between 30 may be, for example, the gap between the two.
  • the thickness of the second adhesive film 40b may be a thickness between the liquid crystal device 10 and the polarizer 20, for example, the gap between the two.
  • the optical device may further include a buffer layer.
  • a buffer layer may be present on one side or both sides of the liquid crystal device.
  • 8 illustrates a structure in which the buffer layer 50 exists on both sides of the liquid crystal element 10, but the buffer layer 50 may exist only on one side of the liquid crystal element 10.
  • Such a buffer layer can alleviate the sound pressure caused by the difference in the coefficient of thermal expansion between layers in the structure in which the liquid crystal element is encapsulated by the first and / or the second adhesive film, and enable a more durable device to be realized. Can be.
  • the buffer layer a layer having a Young's modulus of about 1 MPa or less may be used.
  • the Young's modulus of the buffer layer is about 0.9 MPa or less, 0.8 MPa or less, 0.7 MPa or less, 0.6 MPa or less, 0.5 MPa or less, 0.4 MPa or less, 0.3 MPa or less, 0.2 MPa or less, 0.1 MPa or less, 0.09 MPa or less, 0.08 Or less, 0.07 MPa or less, or about 0.06 MPa or less.
  • the Young's modulus is at least about 0.001 MPa, at least 0.002 MPa, at least 0.003 MPa, at least 0.004 MPa, at least 0.005 MPa, at least 0.006 MPa, at least 0.007 MPa, at least 0.008 MPa, at least 0.009 MPa, at least 0.01 MPa, at least 0.02 MPa. , At least 0.03 MPa, at least 0.04 MPa, or at least about 0.045 MPa.
  • the measuring method of the Young's modulus in the above is the same as the measuring method of the above-mentioned adhesive film.
  • a transparent material exhibiting the above-described Young's modulus may be used without particular limitation, and for example, an acrylate-based, urethane-based, rubber-based, or silicon-based oligomer or polymer material may be used.
  • the thickness of the buffer layer is not particularly limited, and may be selected in a range in which the Young's modulus in the above range is exhibited so as to effectively alleviate the sound pressure generated inside the device.
  • the optical device may further include any necessary configuration, and may include, for example, a known configuration such as a retardation layer, an optical compensation layer, an antireflection layer, or a hard coating layer at an appropriate position.
  • a known configuration such as a retardation layer, an optical compensation layer, an antireflection layer, or a hard coating layer at an appropriate position.
  • the present application also includes a first outer substrate; A second surgical substrate; A liquid crystal device positioned between the first outer substrate and the second outer substrate; A polarizer positioned between the second outer substrate and the liquid crystal element; And a plurality of adhesive films encapsulating the liquid crystal element and the polarizer between the first and second outer substrates, wherein the plurality of adhesive films include a curable adhesive film and a non-curable adhesive film, and the non-curable An adhesive film relates to the optical device located between the said liquid crystal element and a polarizer.
  • the non-curable adhesive film (or second adhesive film) may have an absolute value of the thickness direction retardation (Rth) of 50 nm or less.
  • the non-curable adhesive film having an absolute value of the thickness direction retardation (Rth) of 50 nm or less By disposing the non-curable adhesive film having an absolute value of the thickness direction retardation (Rth) of 50 nm or less between the liquid crystal element and the polarizer, light loss due to the adhesive film itself can be reduced more efficiently.
  • Rth thickness direction retardation
  • the curable adhesive film may be located at one or more places selected from the group consisting of the second outer substrate and the polarizer and between the first outer substrate and the liquid crystal element.
  • the non-curable adhesive film may have some remelting under high temperature and high pressure so that the second adhesive film is selected from the group consisting of between the second outer substrate and the polarizer and between the first outer substrate and the liquid crystal element.
  • appearance defects may occur in the optical device, such as a gap between the outer substrate and the adhesive film or wrinkles in the adhesive film.
  • the curable adhesive film does not generate remelting due to high temperature and high pressure. Therefore, when the first adhesive film is located at one or more places selected from the group consisting of the second outer substrate and the polarizer and between the first outer substrate and the liquid crystal element, it is possible to more effectively prevent the appearance defect of the optical device.
  • the method for manufacturing the optical device of the present application is not particularly limited.
  • the optical device is manufactured by bonding a liquid crystal device between the first and second outer substrates disposed to face each other using a plurality of adhesive films including a curable adhesive film and a non-curable adhesive film. Can be.
  • the curable adhesive film and the non-curable adhesive film may be the first adhesive film and the second adhesive film described above.
  • the method of bonding in particular is not restrict
  • the bonding method may use an autoclave process.
  • the autoclave process may be performed by heating / pressing a plurality of curable adhesive films, non-curable adhesive films, liquid crystal elements and / or polarizers between the outer substrates according to a desired structure.
  • an autoclave is a laminate in which the outer substrate 30, the first adhesive film 40a, the liquid crystal element 10, the second adhesive film 40b, and the outer substrate 30 are arranged in the above order. Heating / pressurizing in the) process can form an optical device as shown in FIG. 4.
  • the outer substrate 30, the first adhesive film 40a, the liquid crystal element 10, the second adhesive film 40b and the outer substrate 30 are arranged in the above order, and the side surfaces of the liquid crystal element 10
  • an optical device as shown in FIG. 5 can be formed.
  • the outer substrate 30, the first adhesive film 40a, the liquid crystal element 10, the second adhesive film 40b, the polarizer 20, the first adhesive film 40a, and the outer substrate 30 Is heated / pressurized by an autoclave process to form an optical device as shown in FIG. 6.
  • the outer substrate 30, the first adhesive film 40a, the liquid crystal element 10, the second adhesive film 40b, the polarizer 20, the first adhesive film 40a and the outer substrate 30 are When the laminate is arranged in order, and the laminate in which the first adhesive film 40a is also disposed on the side surfaces of the liquid crystal element 10 and the polarizer 20 is heated / pressurized by an autoclave process, it is as shown in FIG. 7.
  • An optical device can be formed.
  • the conditions of the autoclave process is not particularly limited, and may be performed under appropriate temperature and pressure, for example, depending on the type of the first and second adhesive films applied.
  • the temperature of a typical autoclave process is at least about 80 ° C, at least 90 ° C or at least about 100 ° C, and the pressure is at least about 2 atmospheres, but is not limited thereto.
  • the upper limit of the process temperature may be about 200 ° C. or less, 190 ° C. or less, 180 ° C. or less or about 170 ° C. or less, and the upper limit of the process pressure may be about 10 atmospheres or less, 9 atmospheres or less, 8 atmospheres or less, 7 atmospheres or less or about It may be about 6 atm or less.
  • the appearance defect of the optical device can be prevented more efficiently. Can also reduce the light loss more efficiently.
  • Such an optical device can be used for various purposes, for example, eyewear such as sunglasses or eyewear for AR (Argumented Reality) or VR (Virtual Reality); Exterior walls of buildings; Or a sunroof for a vehicle.
  • the optical device may itself be a sunroof for a vehicle.
  • the optical device or the vehicle sunroof mounted in the opening may be used.
  • the present application can provide an optical device capable of varying the transmittance, and can reduce light loss while improving appearance defects.
  • Such an optical device may be used for various applications such as sunglasses, eyewear such as AR (Argumented Reality) or eyewear for virtual reality (VR), exterior walls of buildings, and sunroofs for vehicles.
  • 1 to 8 are exemplary diagrams for explaining the optical device of the present application.
  • Example 9 is a view showing the results of Example 1 and Comparative Example 1.
  • Example 1 Comparative Example 1
  • Example 1 Comparative Example 1
  • Appearance defect is applied to the optical device manufactured in Example 1 and Comparative Example 1 to a high temperature long-term durability test (maintained about 168 hours at a temperature of 100 °C), and appearance defect of the optical device by the appearance of wrinkles in the appearance of the optical device was measured.
  • Guest-host liquid crystal device (cell gap: about 12 ⁇ m, base film type: PET (poly (ethylene terephthalate) film), liquid crystal / dye mixture type: Merck's MAT-16-969 liquid crystal and dichroic dye guest (BASF) And a mixture of X12) and a PVA (polyvinylalcohol) polarizer were encapsulated with a curable adhesive film and a non-curable adhesive film between two outer substrates to prepare an optical device.
  • base film type PET (poly (ethylene terephthalate) film)
  • liquid crystal / dye mixture type Merck's MAT-16-969 liquid crystal and dichroic dye guest (BASF)
  • BASF dichroic dye guest
  • a mixture of X12) and a PVA (polyvinylalcohol) polarizer were encapsulated with a curable adhesive film and a non-curable adhesive film between two outer substrates to prepare an optical device.
  • first adhesive film an ethylene vinyl acetate adhesive film (thickness: about 400 ⁇ m, manufacturer: SKC, product name: EF2N) was used, and the non-curable adhesive film (second adhesive film) was used in the thickness direction.
  • a thermoplastic polyurethane adhesive film (thickness: about 0.38 mm, manufacturer: Argotec, product name: ArgoFlex) having an absolute value of retardation (Rth) of about 15 nm was used.
  • a glass substrate having a thickness of about 3 mm was used, and a substrate having a radius of curvature of about 2,470 R (first outer substrate) and a substrate having a radius of curvature of about 2,400 R (second outer substrate) were used. .
  • the first outer substrate, the first adhesive film, the liquid crystal element, the second adhesive film, the polarizer, the first adhesive film and the second outer substrate are laminated in the above order, and all sides of the liquid crystal element and the polarizer Also, the first adhesive film was disposed to prepare a laminate.
  • the second outer substrate is disposed in the direction of gravity as compared to the first outer substrate.
  • an autoclave process was performed at a temperature of about 100 ° C. and a pressure of about 2 atmospheres to prepare an optical device.
  • a second adhesive film was used instead of the first adhesive film between the first outer substrate and the liquid crystal element and between the polarizer and the second outer substrate, and a second adhesive film instead of the first adhesive film on all sides of the liquid crystal element and the polarizer.
  • An optical device was manufactured in the same manner as in Example 1 except for using.
  • FIG. 9 is a photograph of the device after the durability test, the left side is a device photograph of Example 1, and the right side is a device photograph of Comparative Example 1.
  • FIG. The device of Example 1 can be confirmed that the optical device is produced stably without appearance defects such as rim wrinkles, in contrast, the device of Comparative Example 1 confirmed that appearance defects such as rim wrinkles occurred can do.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)

Abstract

본 출원은 광학 디바이스에 대한 것이다. 본 출원의 광학 디바이스는 투과율의 가변이 가능하고, 외관불량이 개선됨과 동시에 광 손실을 감소 시킬 수 있다. 이러한 광학 디바이스는, 선글라스나 AR(Argumented Reality) 또는 VR(Virtual Reality)용 아이웨어(eyewear) 등의 아이웨어류, 건물의 외벽이나 차량용 선루프 등의 다양한 용도에 사용될 수 있다.

Description

광학 디바이스
본 출원은 2018년 06월 12일자 제출된 대한민국 특허출원 제10-2018-0067624에 기초한 우선권의 이익을 주장하며, 해당 대한민국 특허출원의 문헌에 개시된 모든 내용은 본 명세서의 일부로서 포함된다.
본 출원은, 광학 디바이스에 관한 것이다.
액정 화합물을 이용하여 투과율을 가변 할 수 있도록 설계된 광학 디바이스는 다양하게 알려져 있다.
예를 들면, 호스트 물질(host material)과 이색성 염료 게스트(dichroic dye guest)의 혼합물을 적용한 소위 GH셀(Guest host cell)을 사용한 투과율 가변 장치가 알려져 있고, 상기 장치에서 호스트 물질로 주로 액정 화합물이 사용된다.
이러한 투과율 가변 장치는 선글라스나 안경 등의 아이웨어(eyewear), 건물 외벽 또는 차량의 선루프 등을 포함한 다양한 용도에 적용되고 있다.
본 출원은, 투과율 가변이 가능하고, 외관 불량이 개선됨과 동시에 광 손실을 감소시킬 수 있는 광학 디바이스를 제공한다.
본 출원은, 투과율의 조절이 가능한 광학 디바이스로서, 예를 들면, 적어도 투과 모드와 차단 모드 사이를 스위칭 할 수 있는 광학 디바이스에 대한 것이다.
상기 투과 모드는 광학 디바이스가 상대적으로 높은 투과율을 나타내는 상태이고, 차단 모드는 광학 디바이스가 상대적으로 낮은 투과율을 나타내는 상태이다.
일 예시에서 상기 광학 디바이스는, 상기 투과 모드에서의 투과율이 약 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상 또는 약 50% 이상일 수 있다. 또한, 상기 광학 디바이스는, 상기 차단 모드에서의 투과율이 약 20% 이하, 15% 이하 또는 약 10% 이하일 수 있다.
상기 투과 모드에서의 투과율은 수치가 높을수록 유리하고, 차단 모드에서의 투과율은 낮을수록 유리하기 때문에 각각의 상한과 하한은 특별히 제한되지 않는다. 일 예시에서 상기 투과 모드에서의 투과율의 상한은 약 100%, 95%, 90%, 85%, 80%, 75%, 70%, 65% 또는 약 60%일 수 있다. 상기 차단 모드에서의 투과율의 하한은 약 0%, 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, 6%, 7%, 8%, 9% 또는 약 10%일 수 있다.
상기 투과율은 직진광 투과율일 수 있다. 용어 직진광 투과율은 소정 방향으로 광학 디바이스를 입사한 광 대비 상기 입사 방향과 동일한 방향으로 상기 광학 디바이스를 투과한 광(직진광)의 비율일 수 있다. 일 예시에서 상기 투과율은, 상기 광학 디바이스의 표면 법선과 평행한 방향으로 입사한 광에 대하여 측정한 결과(법선광 투과율)일 수 있다.
본 출원의 광학 디바이스에서 투과율이 조절되는 광은, UV-A 영역의 자외선, 가시광 또는 근적외선일 수 있다. 일반적으로 사용되는 정의에 따르면, UV-A 영역의 자외선은 320 nm 내지 380 nm의 범위 내의 파장을 가지는 방사선을 의미하는 것으로 사용되고, 가시광은 380 nm 내지 780 nm의 범위 내의 파장을 가지는 방사선을 의미하는 것으로 사용되며, 근적외선은 780 nm 내지 2000 nm의 범위 내의 파장을 가지는 방사선을 의미하는 것으로 사용된다.
본 출원의 광학 디바이스는 적어도 상기 투과 모드와 차단 모드의 사이를 스위칭 할 수 있도록 설계된다. 필요한 경우에 광학 디바이스는 상기 투과 모드 및 차단 모드 외에 다른 모드도 구현할 수 있도록 설계될 수 있다. 예를 들면, 상기 투과 모드 및 차단 모드의 투과율 사이에서 임의의 투과율을 나타낼 수 있는 제 3의 모드도 구현될 수 있도록 설계될 수 있다.
이와 같은 모드간의 스위칭은 예를 들어 광학 디바이스가 액정 소자를 포함함으로써 달성될 수 있다. 상기에서 액정 소자는, 적어도 2개 이상의 광축의 배향 상태, 예를 들면, 제 1 및 제 2 배향 상태의 사이를 스위칭 할 수 있는 액정 소자다. 상기에서 광축은 액정 소자에 포함되어 있는 액정 화합물이 막대(rod)형인 경우에는 그 장축 방향을 의미할 수 있고, 원반(discotic) 형태인 경우에는 상기 원반 평면의 법선 방향을 의미할 수 있다. 한편, 액정 소자가 임의의 배향 상태에서 서로 광축 방향이 다른 복수의 액정 화합물들을 포함하는 경우에 액정 소자의 광축은 평균 광축으로 정의될 수 있고, 이 경우 평균 광축은 상기 액정 화합물들의 광축의 벡터합을 의미할 수 있다.
상기와 같은 액정 소자에서 배향 상태는 에너지의 인가, 예를 들면, 전압의 인가에 의해 변경할 수 있다. 즉, 상기 액정 소자는 전압의 인가가 없는 상태에서 상기 제 1 및 제 2 배향 상태 중에서 어느 한 배향 상태를 가지고 있다가 전압이 인가되면 다른 배향 상태로 스위칭될 수 있다.
상기 제 1 및 제 2 배향 상태 중 어느 한 배향 상태에서 상기 차단 모드가 구현되고, 다른 배향 상태에서 상기 투과 모드가 구현될 수 있다. 편의상 본 명세서에서는 특별히 달리 언급하지 않는 한 상기 제 1 배향 상태에서 차단 모드가 구현되는 것으로 기술한다.
상기 액정 소자는 적어도 액정 화합물을 포함하는 액정층을 포함할 수 있다. 일 예시에서 상기 액정층은 소위 게스트 호스트 액정층으로서, 액정 화합물과 이색성 염료 게스트를 포함하는 액정층일 수 있다.
상기 액정층은, 소위 게스트 호스트 효과를 이용한 액정층으로서, 상기 액정 화합물(이하, 액정 호스트라 칭할 수 있다)의 배향 방향에 따라 상기 이색성 염료 게스트가 정렬되는 액정층이다. 상기 액정 호스트의 배향 방향은 전술한 외부 에너지의 인가 여부에 따라 조절할 수 있다.
액정층에 사용되는 액정 호스트의 종류는 특별히 제한되지 않고, 게스트 호스트 효과의 구현을 위해 적용되는 일반적인 종류의 액정 화합물이 사용될 수 있다.
예를 들면, 상기 액정 호스트로는, 스멕틱 액정 화합물, 네마틱 액정 화합물 또는 콜레스테릭 액정 화합물이 사용될 수 있다. 일반적으로는 네마틱 액정 화합물이 사용될 수 있다. 용어 네마틱 액정 화합물은, 액정 분자의 위치에 대한 규칙성은 없지만, 모두 분자축 방향으로 질서를 가지고 배열할 수 있는 액정 화합물을 의미하고, 이러한 액정 화합물은 막대(rod) 형태이거나 원반(discotic) 형태일 수 있다.
이러한 네마틱 액정 화합물은 예를 들면, 약 40℃ 이상, 50℃ 이상, 60℃ 이상, 70℃ 이상, 80℃ 이상, 90℃ 이상, 100℃ 이상 또는 약 110℃ 이상의 등명점(clearing point)를 가지거나, 상기 범위의 상전이점, 즉 네마틱상에서 등방상으로의 상전이점을 가지는 것이 선택될 수 있다. 일 예시에서 상기 등명점 또는 상전이점은 약 160℃ 이하, 150℃ 이하 또는 약 140℃ 이하일 수 있다.
상기 액정 화합물은 유전율 이방성이 음수 또는 양수일 수 있다. 상기 유전율 이방성의 절대값은 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들면, 상기 유전율 이방성은 약 3 초과 또는 약 7 초과이거나, 약 -2 미만 또는 약 -3 미만일 수 있다.
액정 화합물은 또한 약 0.01 이상 또는 약 0.04 이상의 광학 이방성(△n)을 가질 수 있다. 액정 화합물의 광학 이방성은 다른 예시에서 약 0.3 이하 또는 약 0.27 이하일 수 있다.
게스트 호스트 액정층의 액정 호스트로 사용될 수 있는 액정 화합물은 본 기술 분야의 전문가들에게 공지되어 있으며, 그들로부터 자유롭게 선택될 수 있다.
액정층은 상기 액정 호스트와 함께 이색성 염료 게스트를 포함한다. 용어 염료는, 가시광 영역, 예를 들면, 380 nm 내지 780 nm 파장 범위 내에서 적어도 일부 또는 전체 범위 내의 광을 집중적으로 흡수 및/또는 변형시킬 수 있는 물질을 의미할 수 있고, 용어 이색성 염료 게스트는 상기 가시광 영역의 적어도 일부 또는 전체 범위에서 광의 흡수가 가능한 물질을 의미할 수 있다.
이색성 염료 게스트로는, 예를 들면, 액정 호스트의 정렬 상태에 따라 정렬될 수 있는 특성을 가지는 것으로 알려진 공지의 염료를 선택하여 사용할 수 있다. 예를 들면, 이색성 염료 게스트로는 아조 염료 또는 안트라퀴논 염료 등을 사용할 수 있고, 넓은 파장 범위에서의 광 흡수를 달성하기 위해서 액정층은 1종 또는 2종 이상의 염료를 포함할 수도 있다.
이색성 염료 게스트의 이색비(dichroic ratio)는 이색성 염료 게스트의 사용 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 이색성 염료 게스트는 이색비가 약 5 이상 내지 약 20 이하일 수 있다. 용어 이색비는, 예를 들어, p형 염료인 경우, 염료의 장축 방향에 평행한 편광의 흡수를 상기 장축 방향에 수직하는 방향에 평행한 편광의 흡수로 나눈 값을 의미할 수 있다. 이색성 염료 게스트는 가시광 영역의 파장 범위 내, 예를 들면, 약 380 nm 내지 약 780 nm 또는 약 400 nm 내지 약 700 nm의 파장 범위 내에서 적어도 어느 한 파장, 일부 범위의 파장 또는 전 범위의 파장에서 상기 이색비를 가질 수 있다.
액정층 내에서의 이색성 염료 게스트의 함량은 이색성 염료 게스트의 사용 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 액정 호스트와 이색성 염료 게스트의 합계 중량을 기준으로 상기 이색성 염료 게스트의 함량은 약 0.1 내지 약 10 중량% 범위 내에서 선택될 수 있다. 이색성 염료 게스트의 비율은 목적하는 투과율과 액정 호스트에 대한 이색성 염료 게스트의 용해도 등을 고려하여 변경할 수 있다.
액정층은 상기 액정 호스트와 이색성 염료 게스트를 기본적으로 포함하고, 필요한 경우에 다른 임의의 첨가제를 공지의 형태에 따라 추가로 포함할 수 있다. 첨가제의 예로는 키랄 도펀트 또는 안정화제 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 액정층은 약 0.5 이상의 이방성도(R)를 가질 수 있다. 상기 이방성도(R)는 액정 호스트의 배향 방향(alignment direction)에 평행하게 편광된 광선의 흡광도(E(p)) 및 액정 호스트의 배향 방향에 수직으로 편광된 광선의 흡광도(E(s))로부터 하기 수학식에 따라 측정한다.
<이방성도 수식>
이방성도(R) = [E(p)-E(s)] / [E(p) + 2*E(s)].
상기에서 사용되는 기준은 액정층 내에 염료를 함유하지 않는 다른 동일한 장치이다.
구체적으로 이방성도(R)는 염료 분자가 수평 배향된 액정층의 흡광도에 대한 값(E(p)) 및 염료 분자가 수직 배향된 동일한 액정층의 흡광도에 대한 값(E(s))으로부터 측정될 수 있다. 상기 흡광도는 염료를 전혀 함유하지 않지만 그 밖에는 동일한 구성을 가지는 액정층과 비교하여 측정한다. 이러한 측정은 진동면이 하나의 경우에는 배향 방향과 평행한 방향으로 진동(E(p))하고 후속 측정에서는 배향 방향과 수직인 방향으로 진동(E(s))하는 편광된 광선을 이용하여 수행될 수 있다. 액정층은 측정 도중에 스위칭되거나 회전되지 않고, 따라서 상기 E(p) 및 E(s)의 측정은 편광된 입사광의 진동면을 회전시킴으로써 수행될 수 있다.
상세한 절차의 일 예시는 하기에 기술된 바와 같다. E(p) 및 E(s)의 측정을 위한 스펙트럼은 퍼킨 엘머사의 람다 1050 UV 분광계(Perkin Elmer Lambda 1050 UV spectrometer) 등과 같은 분광계를 이용하여 기록할 수 있다. 분광계에는 측정용 빔 및 기준 빔 모두에서 약 250 nm 내지 약 2500 nm의 파장 범위용의 글랜-톰슨 편광자(Glan-Thompson polariser)가 장착되어 있다. 2개의 편광자는 스테핑 모터(stepping motor)에 의해 제어되며, 동일한 방향으로 배향된다. 편광자의 편광자 방향에 있어서의 변화, 예를 들면 0도 내지 90도의 전환은 측정용 빔 및 기준 빔에 대하여 항상 동기적으로 및 동일한 방향으로 수행된다. 개별 편광자의 배향은 뷔르츠부르크 대학교(University of Wurzburg)의 티. 카르스텐스(T. Karstens)의 1973년 학위 논문에 기술되어 있는 방법을 이용하여 측정할 수 있다.
이 방법에서, 편광자는 배향된 이색성 샘플에 대해 5도씩 단계적으로 회전되며, 흡광도는 예를 들면 최대 흡수 영역에서 고정된 파장에서 기록된다. 각각의 편광자 위치에 대해 새로운 기준선 영점(zero line)이 실행된다. 2개의 이색성 스펙트럼 E(p) 및 E(s)의 측정을 위하여, JSR 사의 폴리이미드 AL-1054 로 코팅된 역평행-러빙된 테스트 셀은 측정용 빔 및 기준 빔 내에 위치된다. 2개의 테스트 셀은 동일한 층 두께로 선택될 수 있다. 순수한 호스트(액정 화합물)를 함유하는 테스트 셀은 기준 빔 내에 위치된다. 액정 중에 염료의 용액을 함유하는 테스트 셀은 측정용 빔 내에 위치된다. 측정용 빔 및 기준 빔에 대한 2개의 테스트 셀은 동일한 배향 방향에서 음파 경로(ray path)내에 설치된다. 분광계의 최대로 가능한 정밀도를 보장하기 위하여, E(p)는 반드시 그의 최대 흡수 파장 범위, 예를 들면, 약 0.5 내지 약 1.5의 파장 범위 내에 있을 수 있다. 이는 30% 내지 5%의 투과도에 상응한다. 이는 층 두께 및/또는 염료 농도를 상응하게 조정함으로써 설정된다.
이방성도(R)는 문헌[참조: "Polarized Light in Optics and Spectroscopy", D. S. Kliger et al., Academic Press, 1990]에 나타나 있는 바와 같은 상기 수학식에 따라 E(p) 및 E(s)에 대한 측정값으로부터 계산될 수 있다.
상기 이방성도(R)는 다른 예시에서 약 0.55 이상, 0.6 이상 또는 약 0.65 이상일 수 있다. 상기 이방성도(R)는 예를 들면, 약 0.9 이하, 0.85 이하, 0.8 이하, 0.75 이하 또는 약 0.7 이하일 수 있다.
이러한 이방성도(R)는 액정층의 종류, 예를 들면, 액정 화합물(호스트)의 종류, 이색성 염료 게스트의 종류 및 비율 또는 액정층의 두께 등을 제어하여 달성할 수 있다.
상기 범위 내의 이방성도(R)를 통해 보다 저에너지를 사용하면서도, 투과 모드와 차단 모드에서의 투과율의 차이가 커져서 콘트라스트 비율이 높아지는 광학 디바이스의 제공이 가능할 수 있다.
상기 액정층의 두께는, 예를 들면, 목적하는 이방성도 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 일 예시에서 상기 액정층의 두께는, 약 0.01μm 이상, 0.05μm 이상, 0.1μm 이상, 0.5μm 이상, 1μm 이상, 1.5μm 이상, 2μm 이상, 2.5μm 이상, 3μm 이상, 3.5μm 이상, 4μm 이상, 4.5μm 이상, 5μm 이상, 5.5μm 이상, 6μm 이상, 6.5μm 이상, 7μm 이상, 7.5μm 이상, 8μm 이상, 8.5μm 이상, 9μm 이상 또는 약 9.5μm 이상일 수 있다. 이와 같이 두께를 제어함으로써, 투과 모드에서의 투과율과 차단 모드에서의 투과율의 차이가 큰 광학 디바이스, 즉 콘트라스트 비율이 큰 디바이스를 구현할 수 있다. 상기 두께는 두꺼울수록 높은 콘트라스트 비율의 구현이 가능하여 특별히 제한되는 것은 아니지만, 일반적으로 약 30 μm 이하, 25 μm 이하, 20 μm 이하 또는 약 15 μm 이하일 수 있다
상기 제 1 및 제 2 배향 상태는, 일 예시에서, 각각 수평 배향, 수직 배향, 트위스트 네마틱 배향 또는 콜레스테릭 배향 상태에서 선택될 수 있다. 예를 들면, 차단 모드에서 액정 소자 또는 액정층은 적어도 수평 배향, 트위스트 네마틱 배향 또는 콜레스테릭 배향이고, 투과 모드에서 액정 소자 또는 액정층은 수직 배향 또는 상기 차단 모드의 수평 배향과는 다른 방향의 광축을 가지는 수평 배향 상태일 수 있다. 액정 소자는 전압 무인가 상태에서 상기 차단 모드가 구현되는 통상 차단 모드(Normally Black Mode)의 소자이거나, 전압 무인가 상태에서 상기 투과 모드가 구현되는 통상 투과 모드(Normally Transparent Mode)를 구현할 수 있다.
액정층의 배향 상태에서 해당 액정층의 광축이 어떤 방향으로 형성되어 있는 것인지를 확인하는 방식은 공지이다. 예를 들면, 액정층의 광축의 방향은 광축 방향을 알고 있는 다른 편광판을 이용하여 측정할 수 있으며, 이는 공지의 측정 기기, 예를 들면, Jasco 사의 P-2000 등의 polarimeter를 사용하여 측정할 수 있다.
액정 호스트의 유전율 이방성 또는 액정 호스트를 배향시키는 후술하는 배향막의 배향 방향 등을 조절하여, 상기와 같은 통상 투과 모드 또는 차단 모드의 액정 소자를 구현하는 방식은 공지이다.
상기 액정 소자는 대향 배치되어 있는 2장의 기재 필름과 상기 2장의 기재 필름의 사이에 구비된 상기 액정층을 포함할 수 있다.
또한, 상기 액정 소자는 상기 2장의 기재 필름의 사이에서 상기 2장의 기재 필름의 간격을 유지하는 스페이서 및/또는 대향 배치된 2장의 기재 필름의 간격이 유지된 상태로 상기 기재 필름을 부착시키고 있는 실런트를 추가로 포함할 수 있다. 상기 스페이서 및/또는 실런트의 재료는 특별한 제한 없이 공지의 소재가 사용될 수 있다.
기재 필름으로는, 예를 들면, 유리 등의 무기 필름 또는 플라스틱 필름이 사용될 수 있다. 플라스틱 필름으로는, TAC(triacetyl cellulose) 필름; 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer) 필름; PMMA(poly(methyl methacrylate) 등의 아크릴 필름; PC(polycarbonate) 필름; PE(polyethylene) 필름; PP(polypropylene) 필름; PVA(polyvinyl alcohol) 필름; DAC(diacetyl cellulose) 필름; Pac(Polyacrylate) 필름; PES(poly ether sulfone) 필름; PEEK(polyetheretherketon) 필름; PPS(polyphenylsulfone) 필름; PEI(polyetherimide) 필름; PEN(polyethylenenaphthatlate) 필름; PET(polyethyleneterephtalate) 필름; PI(polyimide) 필름; PSF(polysulfone) 필름; PAR(polyarylate) 필름; 또는 불소 수지 필름 등이 사용될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 기재 필름에는 필요에 따라서 금; 은; 또는 이산화 규소 또는 일산화 규소 등의 규소 화합물의 코팅층이나, 반사 방지층 등의 기능층이 존재할 수도 있다.
기재 필름으로는, 소정 범위의 위상차를 가지는 필름이 사용될 수 있다. 일 예시에서 상기 기재 필름은 정면 위상차가 약 100 nm 이하일 수 있다. 상기 정면 위상차는 다른 예시에서 약 95 nm 이하, 90 nm 이하, 85 nm 이하, 80 nm 이하, 75 nm 이하, 70 nm 이하, 65 nm 이하, 60 nm 이하, 55 nm 이하, 50 nm 이하, 45 nm 이하, 40 nm 이하, 35 nm 이하, 30 nm 이하, 25 nm 이하, 20 nm 이하, 15 nm 이하 또는 약 10 nm 이하 일 수 있다. 상기 정면 위상차는 다른 예시에서 약 0 nm 이상, 1 nm 이상, 2 nm 이상, 3 nm 이상, 4 nm 이상, 5 nm 이상, 6 nm 이상, 7 nm 이상, 8 nm 이상, 9 nm 이상 또는 약 9.5 nm 이상일 수 있다.
기재 필름의 두께 방향 위상차의 절대값은, 예를 들면, 약 200 nm 이하일 수 있다. 상기 두께 방향 위상차의 절대값은 다른 예시에서 약 190 nm 이하, 180 nm 이하, 170 nm 이하, 160 nm 이하, 150 nm 이하, 140 nm 이하, 130 nm 이하, 120 nm 이하, 110 nm 이하, 100 nm 이하, 90 nm 이하, 85 nm 이하 또는 약 80 nm 이하일 수 있고, 약 0 nm 이상, 10 nm 이상, 20 nm 이상, 30 nm 이상, 40 nm 이상, 50 nm 이상, 60 nm 이상, 70 nm 이상 또는 약 75 nm 이상일 수 있다. 상기 두께 방향 위상차는 절대값이 상기 범위 내라면 음수이거나, 양수일 수 있으며, 예를 들면, 음수일 수 있다.
본 명세서에서 정면 위상차(Rin)는 하기 수식 1로 계산되는 수치이고, 두께 방향 위상차(Rth)는 하기 수식 2로 계산되는 수치이며, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 상기 정면 및 두께 방향 위상차의 기준 파장은 약 550 nm이다.
[수식 1]
정면 위상차(Rin) = d × (nx - ny)
[수식 2]
두께 방향 위상차(Rth) = d × (nz - ny)
수식 1 및 2에서 d는 기재 필름의 두께이고, nx는 기재 필름의 지상축 방향의 굴절률이며, ny는 기재 필름의 진상축 방향의 굴절률이고, nz는 기재 필름의 두께 방향의 굴절률이다.
기재 필름이 광학 이방성인 경우에 대향 배치되어 있는 기재 필름들의 지상축들이 이루는 각도는, 예를 들면, 약 -10도 내지 약 10도의 범위 내, 약 -7도 내지 약 7도의 범위 내, 약 -5도 내지 약 5도의 범위 내 또는 약 -3도 내지 약 3도의 범위 내이거나 대략 평행할 수 있다.
또한, 상기 기재 필름의 지상축과 후술하는 편광자의 광 흡수축이 이루는 각도는, 예를 들면, 약 -10도 내지 약 10도의 범위 내, 약 -7도 내지 약 7도의 범위 내, 약 -5도 내지 약 5도의 범위 내 또는 약 -3도 내지 약 3도의 범위 내이거나 대략 평행할 수 있거나, 혹은 약 80도 내지 약 100도의 범위 내, 약 83도 내지 약 97도의 범위 내, 약 85도 내지 약 95도의 범위 내 또는 약 87도 내지 약 92도의 범위 내이거나 대략 수직일 수 있다.
상기와 같은 위상차 조절 또는 지상축의 배치를 통해서 광학적으로 우수하고 균일한 투과 모드 및 차단 모드의 구현이 가능할 수 있다.
기재 필름은 열팽창 계수가 약 100 ppm/K 이하일 수 있다. 상기 열팽창 계수는, 다른 예시에서 약 95ppm/K 이하, 90ppm/K 이하, 85ppm/K 이하, 80ppm/K 이하, 75ppm/K 이하, 70 ppm/K 이하 또는 약 65 ppm/K 이하이거나, 약 10 ppm/K 이상, 20 ppm/K 이상, 30 ppm/K 이상, 40 ppm/K 이상, 50 ppm/K 이상 또는 약 55 ppm/K 이상일 수 있다. 기재 필름의 열팽창 계수는, 예를 들면, ASTM D696의 규정에 따르 측정할 수 있고, 해당 규격에서 제공하는 형태로 필름을 재단하고, 단위 온도당 길이의 변화를 측정하여 열팽창 계수를 계산할 수 있으며, TMA(ThermoMechanic Analysis) 등의 공지의 방식으로 측정할 수 있다.
기재 필름으로는, 파단 신율이 약 90% 이상인 기재 필름을 사용할 수 있다. 상기 파단 신율은 약 95% 이상, 100% 이상, 105% 이상, 110% 이상, 115% 이상, 120% 이상, 125% 이상, 130% 이상, 135% 이상, 140% 이상, 145% 이상, 150% 이상, 155% 이상, 160% 이상, 165% 이상, 170% 이상 또는 약 175% 이상일 수 있고, 약 1,000% 이하, 900% 이하, 800% 이하, 700% 이하, 600% 이하, 500% 이하, 400% 이하, 300% 이하 또는 약 200% 이하일 수 있다. 기재 필름의 파단 신율은 ASTM D882 규격에 따라 측정할 수 있고, 해당 규격에서 제공하는 형태로 필름을 재단하고, Stress-Strain curve를 측정할 수 있는 장비(힘과 길이를 동시에 측정할 수 있는)를 이용하여 측정할 수 있다.
기재 필름이 상기와 같은 열팽창 계수 및/또는 파단 신율을 가지도록 선택되는 것에 의해 보다 우수한 내구성의 광학 디바이스가 제공될 수 있다.
상기와 같은 기재 필름의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 약 50 μm 내지 약 200μm 정도의 범위 내일 수 있다.
본 명세서에서 언급하는 물성 중에서 측정 온도나, 압력이 결과에 영향을 미치는 경우에 특별히 달리 규정하지 않는 한, 해당 물성은 상온과 상압에서 측정한 것이다.
용어 상온은 가온하거나 감온하지 않은 자연 그대로의 온도로서, 일반적으로 약 10℃ 내지 약 30℃의 범위 내의 어느 한 온도, 약 23℃ 또는 약 25℃ 정도의 온도일 수 있다. 또한, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 본 명세서에서 온도의 단위는 ℃이다.
용어 상압은 특별히 줄이거나, 높이지 않은 자연 그대로의 압력으로서, 일반적으로 대기압과 같은 약 1기압 정도의 압력을 의미한다.
액정 소자에서 상기 기재 필름의 일면, 예를 들면, 상기 액정층을 향하는 면상에는 도전층 및/또는 배향막이 존재할 수 있다.
기재 필름의 면상에 존재하는 도전층은, 액정층에 전압을 인가하기 위한 구성으로서, 특별한 제한 없이 공지의 도전층이 적용될 수 있다. 도전층으로는, 예를 들면, 전도성 고분자, 전도성 금속, 전도성 나노와이어 또는 ITO(Indium Tin Oxide) 등의 금속 산화물 등이 적용될 수 있다. 본 출원에서 적용될 수 있는 도전층의 예는 상기에 제한되지 않으며, 이 분야에서 액정 소자에 적용될 수 있는 것으로 알려진 모든 종류의 도전층이 사용될 수 있다.
일 예시에서 상기 기재 필름의 면상에는 배향막이 존재한다. 예를 들면, 기재 필름의 일면에 우선 도전층이 형성되고, 그 상부에 배향막이 형성될 수 있다.
배향막은 액정층에 포함되는 액정 호스트의 배향을 제어하기 위한 구성이고, 특별한 제한 없이 공지의 배향막을 적용할 수 있다. 업계에서 공지된 배향막으로는, 러빙 배향막이나 광배향막 등이 있고, 본 출원에서 사용될 수 있는 배향막은 상기 공지의 배향막이고, 이는 특별히 제한되지 않는다.
전술한 광축의 배향을 달성하기 위해서 상기 배향막의 배향 방향이 제어될 수 있다. 예를 들면, 대향 배치되어 있는 2장의 기재 필름의 각 면에 형성된 2개의 배향막의 배향 방향은 서로 약 -10도 내지 약 10도의 범위 내의 각도, 약 -7도 내지 약 7도의 범위 내의 각도, 약 -5도 내지 약 5도의 범위 내의 각도 또는 약 -3도 내지 약 3도의 범위 내의 각도를 이루거나 서로 대략 평행할 수 있다. 다른 예시에서 상기 2개의 배향막의 배향 방향은 약 80도 내지 약 100도의 범위 내의 각도, 약 83도 내지 약 97도의 범위 내의 각도, 약 85도 내지 약 95도의 범위의 각도 내 또는 약 87도 내지 약 92도의 범위 내의 각도를 이루거나 서로 대략 수직일 수 있다.
이와 같은 배향 방향에 따라서 액정층의 광축의 방향이 결정되기 때문에, 상기 배향 방향은 액정층의 광축의 방향을 확인하여 알 수 있다.
상기와 같은 구성을 가지는 액정 소자의 형태는 특별히 제한되지 않고, 광학 디바이스의 적용 용도에 따라서 정해질 수 있으며, 일반적으로는 필름 또는 시트 형태이다.
광학 디바이스는, 상기 액정 소자와 함께 편광자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 편광자로는, 예를 들면, 흡수형 선형 편광자, 즉 일방향으로 형성된 광흡수축과 그와는 대략 수직하게 형성된 광투과축을 가지는 편광자를 사용할 수 있다.
상기 편광자는, 상기 액정층의 제 1 배향 상태에서 상기 차단 상태가 구현된다고 가정하는 경우에 상기 제 1 배향 상태의 평균 광축(광축의 벡터합)과 상기 편광자의 광흡수축이 이루는 각도가 약 80도 내지 약 100도 또는 약 85도 내지 약 95도를 이루거나, 대략 수직이 되도록 광학 디바이스에 배치되어 있거나, 혹은 약 35도 내지 약 55도 또는 약 40도 내지 약 50도가 되거나 대략 45도가 되도록 광학 디바이스에 배치되어 있을 수 있다.
배향막의 배향 방향을 기준으로 할 때에, 전술한 것과 같이 대향 배치되어 있는 2장의 기재 필름의 각 면상에 형성된 배향막의 배향 방향이 서로 약 -10도 내지 약 10도의 범위 내의 각도, 약 -7도 내지 약 7도의 범위 내의 각도, 약 -5도 내지 약 5도의 범위 내의 각도 또는 약 -3도 내지 약 3도의 범위 내의 각도를 이루거나 서로 대략 평행한 경우에 상기 2개의 배향막 중에서 어느 하나의 배향막의 배향 방향과 상기 편광자의 광흡수축이 이루는 각도가 약 80도 내지 약 100도 또는 약 85도 내지 약 95도를 이루거나, 대략 수직이 될 수 있다.
다른 예시에서 상기 2개의 배향막의 배향 방향이 약 80도 내지 약 100도의 범위 내의 각도, 약 83도 내지 약 97도의 범위 내의 각도, 약 85도 내지 약 95도의 범위의 각도 내 또는 약 87도 내지 약 92도의 범위 내의 각도를 이루거나 서로 대략 수직인 경우에는 2장의 배향막 중에서 상기 편광자에 보다 가깝게 배치된 배향막의 배향 방향과 상기 편광자의 광흡수축이 이루는 각도가 약 80도 내지 약 100도 또는 약 85도 내지 약 95도를 이루거나, 대략 수직이 될 수 있다.
예를 들면, 도 1에 나타난 바와 같이 상기 액정 소자(10)와 상기 편광자(20)는 서로 적층된 상태에서 상기 액정 소자(10)의 제 1 배향 방향의 광축(평균 광축)과 상기 편광자(20)의 광 흡수축이 상기 관계가 되도록 배치될 수 있다.
본 출원의 광학 디바이스에서 적용될 수 있는 상기 편광자의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 편광자로는, 기존 LCD 등에서 사용되는 통상의 소재, 예를 들면, PVA(poly(vinyl alcohol)) 편광자 등이나, 유방성 액정(LLC: Lyotropic Liquid Cystal)이나, 반응성 액정(RM: Reactive Mesogen)과 이색성 염료(dichroic dye)를 포함하는 편광 코팅층과 같이 코팅 방식으로 구현한 편광자을 사용할 수 있다. 본 명세서에서 상기와 같이 코팅 방식으로 구현된 편광자는 편광 코팅층으로 호칭될 수 있다. 상기 유방성 액정으로는 특별한 제한 없이 공지의 액정을 사용할 수 있으며, 예를 들면, 이색비(dichroic ratio)가 약 30 내지 약 40 정도인 유방성 액정층을 형성할 수 있는 유방성 액정을 사용할 수 있다. 한편, 편광 코팅층이 반응성 액정(RM: Reactive Mesogen)과 이색성 염료(dichroic dye)를 포함하는 경우에 상기 이색성 염료로는 선형의 염료를 사용하거나, 혹은 디스코틱형의 염료(discotic dye)가 사용될 수도 있다.
본 출원의 광학 디바이스는 상기와 같은 액정 소자와 편광자를 각각 하나씩만 포함할 수 있다. 따라서, 상기 광학 디바이스는 오직 하나의 상기 액정 소자만을 포함하고, 오직 하나의 편광자만을 포함할 수 있다.
광학 디바이스는, 대향 배치되어 있는 2장의 외곽 기판을 포함한다. 본 명세서에서는 편의상 상기 2장의 외곽 기판 중에서 어느 하나를 제 1 외곽 기판으로 호칭하고, 다른 하나를 제 2 외곽 기판으로 호칭할 수 있으나, 상기 제 1 및 2의 표현이 외곽 기판의 선후 내지는 상하 관계를 규정하는 것은 아니다. 일 예시에서 상기 액정 소자와 함께 포함되는 편광자는 상기 2장의 외곽 기판의 사이에서 위치할 수 있다. 예를 들면, 도 2에 나타난 바와 같이 상기 대향 배치된 2장의 외곽 기판(30)의 사이에 상기 액정 소자(10)와 편광자(20)가 존재할 수 있다.
상기 외곽 기판으로는, 예를 들면, 글라스 등의 무기 기판 또는 플라스틱 기판이 사용될 수 있다. 플라스틱 기판으로는, TAC(triacetyl cellulose) 필름; 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer) 필름; PMMA(poly(methyl methacrylate) 등의 아크릴 필름; PC(polycarbonate) 필름; PE(polyethylene) 필름; PP(polypropylene) 필름; PVA(polyvinyl alcohol) 필름; DAC(diacetyl cellulose) 필름; Pac(Polyacrylate) 필름; PES(poly ether sulfone) 필름; PEEK(polyetheretherketon) 필름; PPS(polyphenylsulfone) 필름, PEI(polyetherimide) 필름; PEN(polyethylenemaphthatlate) 필름; PET(polyethyleneterephtalate) 필름; PI(polyimide) 필름; PSF(polysulfone) 필름; PAR(polyarylate) 필름 또는 불소 수지 필름 등이 사용될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 외곽 기판에는, 필요에 따라서 금; 은; 또는 이산화 규소 또는 일산화 규소 등의 규소 화합물의 코팅층이나, 반사 방지층 등의 기능층이 존재할 수도 있다.
외곽 기판으로는 소정 범위의 위상차를 가지는 기판이 사용될 수 있다. 일 예시에서 상기 외곽 기판은 정면 위상차가 약 100 nm 이하일 수 있다. 상기 정면 위상차는 다른 예시에서 약 95 nm 이하, 90 nm 이하, 85 nm 이하, 80 nm 이하, 75 nm 이하, 70 nm 이하, 65 nm 이하, 60 nm 이하, 55 nm 이하, 50 nm 이하, 45 nm 이하, 40 nm 이하, 35 nm 이하, 30 nm 이하, 25 nm 이하, 20 nm 이하, 15 nm 이하 또는 약 10 nm 이하일 수 있다. 상기 정면 위상차는 다른 예시에서 약 0 nm 이상, 1 nm 이상, 2 nm 이상, 3 nm 이상, 4 nm 이상, 5 nm 이상, 6 nm 이상, 7 nm 이상, 8 nm 이상, 9 nm 이상 또는 약 9.5 nm 이상일 수 있다.
외곽 기판의 두께 방향 위상차의 절대값은, 예를 들면, 약 200 nm 이하일 수 있다. 상기 두께 방향 위상차의 절대값은 다른 예시에서 약 190 nm 이하, 180 nm 이하, 170 nm 이하, 160 nm 이하, 150 nm 이하, 140 nm 이하, 130 nm 이하, 120 nm 이하, 110 nm 이하, 100 nm 이하, 90 nm 이하, 85 nm 이하 또는 약 80 nm 이하 일 수 있고, 약 0 nm 이상, 5 nm 이상, 10 nm 이상, 20 nm 이상, 30 nm 이상, 40 nm 이상, 50 nm 이상, 60 nm 이상, 70 nm 이상 또는 약 75 nm 이상일 수 있다. 상기 두께 방향 위상차는 절대값이 상기 범위 내라면 음수이거나, 양수일 수 있으며, 예를 들면, 음수일 수 있다.
상기 외곽 기판의 정면 위상차(Rin) 및 두께 방향 위상차(Rth)는 각각 상기 수식 1 및 2에서 기재 필름의 두께(d), 지상축 방향 굴절률(nx), 진상축 방향 굴절률(ny) 및 두께 방향의 굴절률(nz)을, 외곽 기판의 두께(d), 지상축 방향 굴절률(nx), 진상축 방향 굴절률(ny) 및 두께 방향의 굴절률(nz)로 대체하여 계산하는 것 외에는 동일하게 계산될 수 있다.
외곽 기판이 광학 이방성인 경우에 대향 배치되어 있는 외곽 기판들의 지상축들이 이루는 각도는, 예를 들면, 약 -10도 내지 약 10도의 범위 내, 약 -7도 내지 약 7도의 범위 내, 약 -5도 내지 약 5도의 범위 내 또는 약 -3도 내지 약 3도의 범위 내이거나 대략 평행할 수 있다.
또한, 상기 외곽 기판의 지상축과 전술한 기재 필름이 광학 이방성인 경우에 그 기재 필름의 지상축이 이루는 각도는, 예를 들면, 약 -10도 내지 약 10도의 범위 내, 약 -7도 내지 약 7도의 범위 내, 약 -5도 내지 약 5도의 범위 내 또는 약 -3도 내지 약 3도의 범위 내이거나 대략 평행할 수 있거나, 혹은 약 80도 내지 약 100도의 범위 내, 약 83도 내지 약 97도의 범위 내, 약 85도 내지 약 95도의 범위 내 또는 약 87도 내지 약 92도의 범위 내이거나 대략 수직일 수 있다.
상기와 같은 위상차 조절 또는 지상축의 배치를 통해서 광학적으로 우수하고 균일한 투과 모드 및 차단 모드의 구현이 가능할 수 있다.
외곽 기판으로는, 열팽창 계수가 약 100 ppm/K 이하인 것을 사용할 수 있다. 상기 열팽창 계수는, 다른 예시에서 약 95ppm/K 이하, 90ppm/K 이하, 85ppm/K 이하, 80ppm/K 이하, 75ppm/K 이하, 70 ppm/K 이하, 65 ppm/K 이하, 60 ppm/K 이하, 50 ppm/K 이하, 40 ppm/K 이하, 30 ppm/K 이하, 20 ppm/K 이하 또는 약 15 ppm/K 이하이거나, 약 1 ppm/K 이상, 2 ppm/K 이상, 3 ppm/K 이상, 4 ppm/K 이상, 5 ppm/K 이상, 6 ppm/K 이상, 7 ppm/K 이상, 8 ppm/K 이상, 9 ppm/K 이상 또는 약 10 ppm/K 이상일 수 있다.
상기 외곽 기판의 열팽창 계수의 측정 방식은 전술한 기재 필름의 열팽창 계수의 측정 방식과 동일하다.
외곽 기판이 상기와 같은 열팽창 계수를 가지도록 선택되는 것에 의해 보다 우수한 내구성의 광학 디바이스가 제공될 수 있다.
상기와 같은 외곽 기판의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 약 0.3 mm 이상일 수 있다. 상기 두께는 다른 예시에서 약 0.5 mm 이상, 1 mm 이상, 1.5 mm 이상 또는 약 2 mm 이상 정도일 수 있고, 약 10 mm 이하, 9 mm 이하, 8 mm 이하, 7 mm 이하, 6 mm 이하, 5 mm 이하, 4 mm 이하 또는 약 3 mm 이하 정도일 수도 있다.
상기 외곽 기판은, 평편(flat)한 기판이거나, 혹은 곡면 형상을 가지는 기판일 수 있다. 예를 들면, 상기 2장의 외곽 기판은 동시에 평편한 기판이거나, 동시에 곡면 형상을 가지거나, 혹은 어느 하나는 평편한 기판이고, 다른 하나는 곡면 형상의 기판일 수 있다.
또한, 상기에서 동시에 곡면 형상을 가지는 경우에는 각각의 곡률 또는 곡률 반경은 동일하거나 상이할 수 있다.
본 명세서에서 곡률 또는 곡률 반경은, 업계에서 공지된 방식으로 측정할 수 있으며, 예를 들면, 2D Profile Laser Sensor (레이저 센서), Chromatic confocal line sensor (공초점 센서) 또는 3D Measuring Conforcal Microscopy 등의 비접촉식 장비를 이용하여 측정할 수 있다. 이러한 장비를 사용하여 곡률 또는 곡률 반경을 측정하는 방식은 공지이다.
또한, 상기 외곽 기판과 관련해서 예를 들어, 표면과 이면에서의 곡률 또는 곡률 반경이 다른 경우에는 각각 마주보는 면의 곡률 또는 곡률 반경, 즉 제 1 외곽 기판의 경우, 제 2 외곽 기판과 대향하는 면의 곡률 또는 곡률 반경과 제 2 외곽 기판의 경우 제 1 외곽 기판과 대향하는 면의 곡률 또는 곡률 반경이 기준이 될 수 있다. 또한, 해당 면에서의 곡률 또는 곡률 반경이 일정하지 않고, 상이한 부분이 존재하는 경우에는 가장 큰 곡률 또는 곡률 반경이 기준이 되거나, 가장 작은 곡률 또는 곡률 반경이 기준일 될 수 있고, 또는 평균 곡률 또는 평균 곡률 반경이 기준이 될 수 있다.
상기 2장의 외곽 기판은, 양자가 곡률 또는 곡률 반경의 차이가 약 10% 이내, 9% 이내, 8% 이내, 7% 이내, 6% 이내, 5% 이내, 4% 이내, 3% 이내, 2% 이내 또는 약 1% 이내일 수 있다. 상기 곡률 또는 곡률 반경의 차이는, 큰 곡률 또는 곡률 반경을 CL이라고 하고, 작은 곡률 또는 곡률 반경을 CS라고 할 때에 100×(CL-CS)/CS로 계산되는 수치이다. 또한, 상기 곡률 또는 곡률 반경의 차이의 하한은 특별히 제한되지 않는다. 2장의 외곽 기판의 곡률 또는 곡률 반경의 차이는 동일할 수 있기 때문에, 상기 곡률 또는 곡률 반경의 차이는 약 0% 이상이거나, 약 0% 초과일 수 있다.
상기와 같은 곡률 또는 곡률 반경은, 후술하는 복수의 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름으로 액정 소자 및/또는 편광자를 봉지한 구조에 있어서 유용하다. 본 출원에서 용어 봉지(또는 캡슐화(encapsulation))는 접착 필름으로 액정 소자 및/또는 편광자의 전면을 피복하는 것을 의미할 수 있다.
제 1 및 제 2 외곽 기판이 모두 곡면인 경우에 양자의 곡률은 동일 부호일 수 있다. 다시 말하면, 상기 2개의 외곽 기판은 모두 동일한 방향으로 굴곡되어 있을 수 있다. 즉, 상기 경우는 제 1 외곽 기판의 곡률 중심과 제 2 외곽 기판의 곡률 중심이 모두 제 1 및 제 2 외곽 기판의 상부 및 하부 중에서 같은 부분에 존재하는 경우이다.
도 3은, 제 1 및 제 2 외곽 기판(30)의 사이에 액정 소자 등을 포함하는 봉지 부위(400)가 존재하는 광학 디바이스의 측면을 보여주는 예시적인 도면인데, 이 경우는 제 1 및 제 2 외곽 기판(30) 모두의 곡률 중심은 도면에서 하부에 존재하는 경우이다.
제 1 및 제 2 외곽 기판의 각각의 곡률 또는 곡률 반경의 구체적인 범위는 특별히 제한되지 않는다. 일 예시에서 상기 각각의 기판의 곡률 반경은, 약 100R 이상, 200R 이상, 300R 이상, 400R 이상, 500R 이상, 600R 이상, 700R 이상, 800R 이상 또는 약 900R 이상이거나, 약 10,000R 이하, 9,000R 이하, 8,000R 이하, 7,000R 이하, 6,000R 이하, 5,000R 이하, 4,000R 이하, 3,000R 이하, 2,000R 이하, 1,900R 이하, 1,800R 이하, 1,700R 이하, 1,600R 이하, 1,500R 이하, 1,400R 이하, 1,300R 이하, 1,200R 이하, 1,100R 이하 또는 약 1,050R 이하일 수 있다. 상기에서 R은 반지름이 1 mm인 원의 휘어진 정도를 의미한다. 따라서, 상기에서 예를 들어, 100R은 반지름이 100mm인 원의 휘어진 정도 또는 그러한 원에 대한 곡률 반경이다. 물론 기판이 평편한 경우에 곡률은 0이고, 곡률 반경은 무한대이다.
제 1 및 제 2 외곽 기판은 상기 범위에서 동일하거나 상이한 곡률 반경을 가질 수 있다. 일 예시에서 제 1 및 제 2 외곽 기판의 곡률이 서로 다른 경우에, 그 중에서 곡률이 큰 기판의 곡률 반경이 상기 범위 내일 수 있다.
일 예시에서 제 1 및 제 2 외곽 기판의 곡률이 서로 다른 경우에는 그 중에서 곡률이 큰 기판이 광학 디바이스의 사용 시에 보다 중력 방향으로 배치되는 기판일 수 있다.
기판간의 곡률 또는 곡률 반경을 위와 같이 제어하게 되면, 접착 필름에 의한 합착력이 떨어지게 되어도 복원력과 중력의 합인 알짜힘이 작용하여 벌어짐을 막아줄 수 있고, 오토클레이브(Autoclave)와 같은 공정 압력에도 잘 견딜 수 있다.
본 출원의 광학 디바이스는, 복수의 접착 필름을 포함한다. 상기 복수의 접착 필름은 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름일 수 있다.
본 출원에서 경화성 접착 필름이란 화학적 경화 반응을 유발할 수 있는 성분 또는 관능기를 포함하는 접착 필름을 의미하고, 비경화성 접착 필름이란 화학적 경화 반응을 유발할 수 있는 성분 또는 관능기를 포함하지 않는 접착 필름을 의미한다.
상기 경화성 접착 필름은 특별히 제한되지 않으며 공지의 경화성 접착 필름을 이용할 수 있다. 일예로 경화성 접착 필름은 에틸렌초산비닐 접착 필름이거나 에폭시 접착 수지, 아크릴레이트 접착 수지 또는 실리콘 접착 수지를 포함할 수 있다. 에틸렌초산비닐 접착 필름의 경우 경화 전에 상온에서 접착 필름 상태로 존재할 수 있으며, 소위 핫멜트(hot melt)형 접착 필름일 수 있다. 기타 에폭시 접착 수지, 아크릴레이트 접착 수지 또는 실리콘 접착 수지가 사용되어 상기 접착 필름이 형성되는 경우에 상기 수지를 포함하는 접착제는 상온에서 필름 형태일 수도 있고 액상일 수 있으며, 액상인 경우에 경화 후에 접착 필름을 형성할 수 있다.
상기 비경화성 접착 필름은 특별히 제한되지 않으며 공지의 비경화성 접착 필름을 이용할 수 있다. 일예로 비경화성 접착 필름은 열가소성 폴리우레탄 접착 필름 또는 폴리올레핀 접착 필름일 수 있다.
한편, 상기 비경화성 접착 필름은, 두께 방향 위상차(Rth)의 절대 값이 예를 들면, 약 50 nm 이하일 수 있다. 상기 절대값은 다른 예시에서 약 45 nm 이하, 40 nm 이하, 35 nm 이하, 30 nm 이하 또는 약 25 nm 이하일 수 있고, 약 0 nm 이상 또는 약 0 nm 초과일 수 있다.
상기 두께 방향 위상차는 절대값이 상기 범위 내라면 음수이거나, 양수일 수 있으며, 예를 들면, 음수일 수 있다.
상기 접착 필름의 두께 방향 위상차(Rth)는 상기 수식 2에서 기재 필름의 두께(d), 진상축 방향 굴절률(ny) 및 두께 방향의 굴절률(nz)을, 접착 필름의 두께(d), 진상축 방향 굴절률(ny) 및 두께 방향의 굴절률(nz)로 대체하여 계산하는 것 외에는 동일하게 계산될 수 있다.
접착 필름을 사용하여 고온 및 고압하에서 오토클레이브(Autoclave) 공정으로 액정 소자 및/또는 편광자를 접착 및/또는 봉지할 수 있다. 이때 접착 필름으로 복수의 경화성 접착 필름 또는 비경화성 접착 필름만을 사용하는 경우 광 손실이 발생되거나 또는 광학 디바이스 외관 불량이 발생될 수 있다.
일 구체 예에서 접착 필름으로 경화성 접착 필름(이하, 제 1 접착 필름이라 칭할 수 있다.)만을 사용하는 경우, 접착 필름 자체에 의한 광 손실이 발생될 수 있다. 일 구체예에서 경화성 접착 필름으로 두께 방향 위상차(Rth)의 절대 값이 100 nm 이상인 경우, 제 1 접착 필름을 통과하는 광은 복굴절되고, 상기 복굴절된 광이 광학 소자 또는 편광자를 통과하는 경우, 제 1 접착 필름에 의해 복굴절된 광 중에서 일부만이 광학 소자 또는 편광자를 통과할 수 있다. 따라서 제 1 접착 필름을 통과한 광 중에서 광학 소자 또는 편광자를 통과하지 못한 광 만큼 제 1 접착 필름 자체에 의한 광 손실이 발생될 수 있다.
한편, 접착 필름으로 비경화성 접착 필름(이하, 제 2 접착 필름이라 칭할 수 있다.)만을 사용하는 경우, 고온 및 고압에 의해 비경화성 접착 필름은 일부 재융해 될 수 있고, 이에 따라 외곽 기판과 접착 필름 사이가 벌어지거나 접착 필름에 주름 등이 생성되는 등 광학 디바이스에 외관 불량이 발생될 수 있다.
복수의 제 1 접착 필름 및 제 2 접착 필름을 혼합하여 사용하는 경우 상기 문제를 개선할 수 있다. 즉 제 1 접착 필름 및 제 2 접착 필름을 혼합 사용하여 광학 디바이스를 제조함으로써 광학 디바이스의 외관 불량 발생을 방지 할 수 있고 또한 광 손실을 감소 시킬 수 있다. 구체적으로 제 1 접착 필름을 사용하여 외곽 기판과 접착 필름 사이가 벌어지거나 접착 필름에 주름 등이 생성되는 등의 외관 불량을 방지하고, 제 1 접착 필름이 두께 방향 위상차(Rth)의 절대 값이 100 nm 이상인 경우라 하더라도 두께 방향 위상차(Rth)의 절대 값이 50 nm 이하인 제 2 접착 필름을 사용하여 접착 필름 자체에 의한 광 손실을 감소 시킬 수 있다.
본 출원의 광학 디바이스에서, 복수의 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름은 대향 배치되어 있는 제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에 위치할 수 있다.일예로, 복수의 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름은 제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이에 위치할 수 있고, 제 2 외곽 기판과 액정 소자 사이에 위치할 수 있으며, 또는 제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이 및 제 2 외곽 기판과 액정 소자 사이 모두에 위치할 수 있다.
다른예로, 도 4에 나타난 바와 같이 제 1 외곽 기판(30)과 액정 소자(10)의 사이에 제 1 접착 필름(40a)이 위치할 수 있고, 제 2 외곽 기판(30)과 액정 소자(10) 사이에 제 2 접착 필름(40b)이 위치할 수 있다.
또 다른 예로, 제 1 외곽 기판과 액정 소자의 사이에 제 1 접착 필름이 위치할 수 있고, 제 2 외곽 기판과 액정 소자 사이에 제 2 접착 필름이 위치 할 수 있으며, 상기 액정 소자의 측면, 적절하게는 모든 측면에 제 1 접착 필름; 제 2 접착 필름; 또는 제 1 접착 필름 및 제 2 접착 필름;이 위치할 수 있다. 일 구체예에서 도 5에 나타난 바와 같이 제 1 외곽 기판(30)과 액정 소자(10)의 사이에 제 1 접착 필름(40a)이 위치할 수 있고, 제 2 외곽 기판(30)과 액정 소자(10) 사이에 제 2 접착 필름(40b)이 위치 할 수 있으며, 상기 액정 소자(10)의 측면에 제 1 접착 필름(40a) 및 제 2 접착 필름(40b)이 위치할 수 있다.
상기 제 1 및 제 2 접착 필름은, 상기 제 1 외곽 기판(30)과 액정 소자(10), 액정 소자(10)와 제 2 외곽 기판(30)들을 서로 접착시킬 수 있으며, 제 1 및/또는 제 2 접착 필름은 상기 액정 소자(10)를 함께 봉지하고 있을 수 있다.
광학 디바이스에 전술한 편광자가 추가로 포함되어 있는 경우, 복수의 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름은 제 1 외곽 기판과 편광자 사이에 위치할 수 있고, 제 2 외곽 기판과 편광자 사이에 위치할 수 있으며, 또는 제 1 외곽 기판과 편광자 사이 및 제 2 외곽 기판과 편광자 사이 모두에 위치할 수 있다.
일예로, 도 6에 나타난 바와 같이 제 1 외곽 기판(30)과 액정 소자(10)의 사이 및 편광자(20)와 제 2 외곽 기판(30)의 사이에 제 1 접착 필름(40a)이 위치할 수 있고, 액정 소자(10)와 편광자(20)의 사이에 제 2 접착 필름(40b)이 위치할 수 있다.
다른예로, 제 1 외곽 기판과 액정 소자의 사이 및 편광자와 제 2 외곽 기판의 사이에 제 1 접착 필름이 위치할 수 있고, 액정 소자와 편광자의 사이에 제 2 접착 필름이 위치 할 수 있으며, 상기 액정 소자와 편광자의 측면, 적절하게는 모든 측면에 제 1 접착 필름; 제 2 접착 필름; 또는 제 1 접착 필름 및 제 2 접착 필름;이 위치할 수 있다. 일 구체 예에서 도 7에 나타난 바와 같이 제 1 외곽 기판(30)과 액정 소자(10)의 사이 및 편광자(20)와 제 2 외곽 기판(30)의 사이에 제 1 접착 필름(40a)이 위치할 수 있고, 액정 소자(10)와 편광자(20)의 사이에 제 2 접착 필름(40b)이 위치 할 수 있으며, 상기 액정 소자(10)와 편광자(20)의 측면에 제 1 접착 필름(40a)이 위치할 수 있다.
상기 제 1 및 제 2 접착 필름은, 상기 제 1 외곽 기판(30)과 액정 소자(10), 액정 소자(10)와 편광자(20) 및 편광자(20)와 제 2 외곽 기판(30)들을 서로 접착시킬 수 있으며, 제 1 및/또는 제 2 접착 필름은 상기 액정 소자(10)와 편광자(20)를 함께 봉지하고 있을 수 있다.
제 1 접착 필름(40a) 및 제 2 접착 필름(40b)을 상기와 같은 위치에 적층한 광학 디바이스는 보다 효율적으로 광학 디바이스의 외관 불량 발생을 방지할 수 있고, 또한 보다 효율적으로 광 손실을 감소 시킬 수 있다.
하나의 예시에서 복수의 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름은, 영률(Young’s modulus)이 각각 약 0.1 MPa 내지 약 100 MPa의 범위 내에 있는 것을 사용할 수 있다. 상기 영률은, 예를 들면, ASTM D882에 규정된 방식으로 측정할 수 있고, 해당 규격에서 제공하는 형태로 필름을 재단하고, Stress-Strain curve를 측정할 수 있는 장비(힘과 길이를 동시에 측정할 수 있는)를 이용하여 측정할 수 있다. 제 1 및 제 2 접착 필름이 각각 상기와 같은 영률을 가지도록 선택되는 것에 의해 보다 우수한 내구성의 광학 디바이스가 제공될 수 있다.
하나의 예시에서 복수의 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 제 1 및 제 2 접착 필름의 두께는 각각 약 200 μm 내지 약 1,270 μm 정도의 범위 내일 수 있다. 다른 예로 상기에서 제 1 접착 필름(40a)의 두께는 상기 외곽 기판(30)과 액정 소자(10)의 사이의 두께, 예를 들면 상기 양자간의 간격일 수 있고, 또는 편광자(20)와 외곽 기판(30)의 사이의 두께, 예를 들면 상기 양자간의 간격일 수 있다. 상기에서 제 2 접착 필름(40b)의 두께는 액정 소자(10)와 편광자(20)의 사이의 두께, 예를 들면 상기 양자간의 간격일 수 있다.
광학 디바이스는 또한, 버퍼층을 추가로 포함할 수 있다. 이러한 버퍼층은, 상기 액정 소자의 일면 또는 양면에 존재할 수 있다. 도 8는, 액정 소자(10)의 양측에 버퍼층(50)이 존재하는 구조를 나타내지만, 상기 버퍼층(50)은 액정 소자(10)의 일측에만 존재할 수도 있다.
상기와 같은 버퍼층은, 액정 소자가 제 1 및/또는 제 2 접착 필름에 의해 봉지되어 있는 구조에서 층간 열팽창 계수의 차이 등에 의해 발생하는 음압을 완화하고, 보다 내구성이 있는 디바이스가 구현될 수 있도록 할 수 있다.
하나의 예시에서 상기 버퍼층으로는, 영률(Young’s modulus)이 약 1 MPa 이하인 층을 사용할 수 있다. 상기 버퍼층의 영률은 다른 예시에서 약 0.9 MPa 이하, 0.8 MPa 이하, 0.7 MPa 이하, 0.6 MPa 이하, 0.5 MPa 이하, 0.4 MPa 이하, 0.3 MPa 이하, 0.2 MPa 이하, 0.1 MPa 이하, 0.09 MPa 이하, 0.08 MPa 이하, 0.07 MPa 이하 또는 약 0.06 MPa 이하일 수 있다. 상기 영률은 다른 예시에서 약 0.001 MPa 이상, 0.002 MPa 이상, 0.003 MPa 이상, 0.004 MPa 이상, 0.005 MPa 이상, 0.006 MPa 이상, 0.007 MPa 이상, 0.008 MPa 이상, 0.009 MPa 이상, 0.01 MPa 이상, 0.02 MPa 이상, 0.03 MPa 이상, 0.04 MPa 이상, 또는 약 0.045 MPa 이상일 수 있다. 상기에서 영률의 측정 방식은 전술한 접착 필름의 측정 방식과 같다.
버퍼층의 구체적인 종류로는, 특별한 제한 없이 전술한 영률을 나타내는 투명 소재가 사용될 수 있는데, 예를 들면, 아크릴레이트계, 우레탄계, 러버계 또는 규소계의 올리고머 또는 고분자 재료 등을 사용할 수 있다.
버퍼층의 두께는 특별히 제한되지 않고, 상기 범위의 영률을 나타내어 디바이스의 내부에서 발생하는 음압 등을 효과적으로 완화할 수 있는 범위에서 선택될 수 있다.
광학 디바이스는 상기 구성 외에도 필요한 임의 구성을 추가로 포함할 수 있고, 예를 들면, 위상차층, 광학 보상층, 반사 방지층 또는 하드코팅층 등의 공지의 구성을 적절한 위치에 포함할 수 있다.
본 출원 또한, 제 1 외곽 기판; 제 2 외과 기판; 상기 제 1 외곽 기판과 제 2 외곽 기판 사이에 위치하는 액정 소자; 상기 제 2 외곽 기판과 액정 소자 사이에 위치하는 편광자; 및 상기 제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에서 상기 액정 소자 및 편광자를 봉지하고 있는 복수의 접착 필름;을 포함하고, 상기 복수의 접착 필름은 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름을 포함하며, 상기 비경화성 접착 필름은 상기 액정 소자 및 편광자의 사이에 위치하는 광학 디바이스에 관한 것이다.
한편, 상기 비경화성 접착 필름(또는 제 2 접착 필름)은 두께 방향 위상차(Rth)의 절대 값이 50 nm 이하일 수 있다.
액정 소자와 편광자 사이에 50 nm 이하의 두께 방향 위상차(Rth)의 절대 값을 가지는 비경화성 접착 필름을 위치시킴으로써 접착 필름 자체에 의한 광 손실을 보다 효율적으로 감소 시킬 수 있다.
한편, 상기 경화성 접착 필름은 제 2 외곽 기판과 편광자 사이 및 제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 장소에 위치할 수 있다.
비경화성 접착 필름(또는 제 2 접착 필름)은 고온 및 고압하에서 일부 재융해가 일어날 수 있고 따라서 제 2 접착 필름이 제 2 외곽 기판과 편광자 사이 및 제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 장소에 위치하는 경우 외곽 기판과 접착 필름 사이가 벌어지거나 접착 필름에 주름 등이 생성되는 등 광학 디바이스에 외관 불량이 발생될 수 있다. 그러나 경화성 접착 필름(또는 제 1 접착 필름)은 고온 및 고압에 의해 재융해가 발생되지 않는다. 따라서 제 1 접착 필름이 제 2 외곽 기판과 편광자 사이 및 제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 장소에 위치하는 경우, 광학 디바이스의 외관 불량 발생을 보다 효율적으로 방지 할 수 있다.
본 출원의 상기 광학 디바이스를 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않는다. 일 예시에서 상기 광학 디바이스는, 대향 배치 되어 있는 제 1 및 제 2 외곽 기판의 사이에 있는 액정 소자를 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름을 포함하는 복수의 접착 필름을 사용하여 접착하는 단계를 거쳐 제조될 수 있다.
상기 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름은 전술한 제 1 접착 필름 및 제 2 접착 필름일 수 있다.
상기에서 접착하는 방법은 특별히 제한되지 않고 공지의 접착하는 방법을 이용할 수 있다. 일예로, 상기 접착하는 방법은 오토클레이브(Autoclave) 공정을 이용할 수 있다.
상기 오토클레이브(Autoclave) 공정은, 외곽 기판의 사이에 목적하는 구조에 따라서 복수의 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름 그리고 액정 소자 및/또는 편광자를 배치하고, 가열/가압에 의해 수행할 수 있다.
예를 들어, 외곽 기판(30), 제 1 접착 필름(40a), 액정 소자(10), 제 2 접착 필름(40b) 및 외곽 기판(30)을 상기 순서로 배치한 적층체를 오토클레이브(Autoclave) 공정으로 가열/가압 처리하면, 도 4에 나타난 것과 같은 광학 디바이스가 형성될 수 있다. 또는 외곽 기판(30), 제 1 접착 필름(40a), 액정 소자(10), 제 2 접착 필름(40b) 및 외곽 기판(30)을 상기 순서로 배치하고, 액정 소자(10)의 측면에도 제 1 접착 필름(40a) 및 제 2 접착 필름(40b)을 배치한 적층체를 오토클레이브(Autoclave) 공정으로 가열/가압 처리하면, 도 5에 나타난 것과 같은 광학 디바이스가 형성될 수 있다.
다른 예를 들어, 외곽 기판(30), 제 1 접착 필름(40a), 액정 소자(10), 제 2 접착 필름(40b), 편광자(20), 제 1 접착 필름(40a) 및 외곽 기판(30)을 상기 순서로 배치한 적층체를 오토클레이브(Autoclave) 공정으로 가열/가압 처리하면, 도 6에 나타난 것과 같은 광학 디바이스가 형성될 수 있다. 또는, 외곽 기판(30), 제 1 접착 필름(40a), 액정 소자(10), 제 2 접착 필름(40b), 편광자(20), 제 1 접착 필름(40a) 및 외곽 기판(30)을 상기 순서로 배치하고, 액정 소자(10)와 편광자(20)의 측면에도 제 1 접착 필름(40a)을 배치한 적층체를 오토클레이브(Autoclave) 공정으로 가열/가압 처리하면, 도 7에 나타난 것과 같은 광학 디바이스가 형성될 수 있다.
상기 오토클레이브(Autoclave) 공정의 조건은 특별한 제한이 없고, 예를 들면, 적용된 제 1 및 제 2 접착 필름의 종류에 따라 적절한 온도 및 압력 하에서 수행할 수 있다. 통상의 오토클레이브(Autoclave) 공정의 온도는 약 80℃ 이상, 90℃ 이상 또는 약 100℃ 이상이며, 압력은 약 2기압 이상이나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 공정 온도의 상한은 약 200℃ 이하, 190℃ 이하, 180℃ 이하 또는 약 170℃ 이하 정도일 수 있고, 공정 압력의 상한은 약 10기압 이하, 9기압 이하, 8기압 이하, 7기압 이하 또는 약 6기압 이하 정도일 수 있다.
광학 디바이스에서 제 1 접착 필름(40a) 및 제 2 접착 필름(40b)를 상기와 같은 위치에 적층하고 오토클레이브(Autoclave) 공정으로 광학 디바이스를 제조함으로써 광학 디바이스의 외관 불량 발생을 보다 효율적으로 방지할 수 있고 또한 광 손실을 보다 효율적으로 감소 시킬 수 있다. 상기와 같은 광학 디바이스는 다양한 용도로 사용될 수 있으며, 예를 들면, 선글라스나 AR(Argumented Reality) 또는 VR(Virtual Reality)용 아이웨어(eyewear) 등의 아이웨어류; 건물의 외벽; 또는 차량용 선루프 등에 사용될 수 있다.
하나의 예시에서 상기 광학 디바이스는, 그 자체로서 차량용 선루프일 수 있다.
예를 들면, 적어도 하나 이상의 개구부가 형성되어 있는 차체를 포함하는 자동차에 있어서 상기 개구부에 장착된 상기 광학 디바이스 또는 차량용 선루프를 장착하여 사용될 수 있다.
본 출원은 투과율의 가변이 가능하고, 외관불량이 개선됨과 동시에 광 손실을 감소시킬 수 있는 광학 디바이스를 제공할 수 있다. 이러한 광학 디바이스는, 선글라스나 AR(Argumented Reality) 또는 VR(Virtual Reality)용 아이웨어(eyewear) 등의 아이웨어류, 건물의 외벽이나 차량용 선루프 등의 다양한 용도에 사용될 수 있다.
도 1 내지 8은 본 출원의 광학 디바이스를 설명하기 위한 예시적인 도면이다.
도 9은 실시예 1 및 비교예 1의 결과를 보여주는 도면이다.
이하 실시예 1 및 비교예 1을 통해 본 출원을 구체적으로 설명하지만, 본 출원의 범위가 하기 실시예 1에 제한되는 것은 아니다.
외관 불량 측정 방법
외관 불량은 실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 광학 디바이스를 고온 장기 내구성 테스트(100℃의 온도에서 약 168 시간 유지)에 적용하고, 광학 디바이스의 외관에 주름의 발생 여부로 광학 디바이스의 외관 불량을 측정 하였다.
실시예 1
액정 소자로서 게스트-호스트 액정 소자(셀갭: 약 12 μm, 기재 필름 종류: PET(poly(ethylene terephthalate) 필름), 액정/염료 혼합물 종류: Merck사의 MAT-16-969 액정과 이색성 염료 게스트(BASF사, X12)의 혼합물)와 PVA(polyvinylalcohol)계 편광자를 2장의 외곽 기판의 사이에서 경화성 접착 필름 및 비경화성 접착 필름으로 봉지하여 광학 디바이스를 제조하였다.
상기 경화성 접착 필름(제 1 접착 필름)은 에틸렌초산비닐 접착 필름(두께: 약 400 μm, 제조사: SKC사, 제품명: EF2N)을 이용하였으며, 상기 비경화성 접착 필름(제 2 접착 필름)은 두께 방향 위상차(Rth)의 절대값이 약 15nm인 열가소성 폴리우렌탄 접착 필름(두께: 약 0.38 mm, 제조사: Argotec사, 제품명: ArgoFlex)을 이용하였다.
상기에서 외곽 기판으로는 두께가 약 3mm 정도인 글라스 기판을 사용하였으며, 곡률 반경이 약 2,470R인 기판(제 1 외곽 기판)과 곡률 반경이 약 2,400R인 기판(제 2 외곽 기판)을 사용하였다.
상기 제 1 외곽 기판, 상기 제 1 접착 필름, 상기 액정 소자, 상기 제 2 접착 필름, 상기 편광자, 상기 제 1 접착 필름 및 상기 제 2 외곽 기판을 상기 순서로 적층하고, 액정 소자 및 편광자의 모든 측면에도 상기 제 1 접착 필름을 배치하여 적층체를 제조하였다.(제 1 외곽 기판에 비해서 제 2 외곽 기판이 중력 방향으로 배치)
그 후 약 100℃의 온도 및 2기압 정도의 압력으로 오토클레이브 (Autoclave) 공정을 수행하여 광학 디바이스를 제조하였다.
비교예 1
상기 제 1 외곽 기판과 상기 액정 소자 사이 및 상기 편광자와 제 2 외곽 기판 사이에 제 1 접착 필름 대신 제 2 접착 필름을 사용하였으며, 액정 소자 및 편광자의 모든 측면에도 제 1 접착 필름 대신 제 2 접착 필름을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 광학 디바이스를 제조하였다.
도 9은, 상기 내구성 테스트 후의 디바이스의 사진으로, 좌측은 실시예1의 디바이스 사진이고, 우측은 비교예 1의 디바이스 사진이다. 실시예 1의 디바이스는 테두리부 주름 등의 외관불량이 발생됨이 없이 안정적으로 광학 디바이스가 제조된 것을 확인할 수 있고, 이와 대조적으로 비교예 1의 디바이스는 테두리부 주름 등의 외관불량이 발생된 것을 확인 할 수 있다.

Claims (18)

  1. 대향 배치되어 있는 제 1 및 제 2 외곽 기판;
    상기 제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에 위치하는 액정 소자; 및
    상기 제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에서 상기 액정 소자를 봉지하고 있는 복수의 접착 필름;을 포함하고,
    상기 복수의 접착 필름은 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름을 포함하는 광학 디바이스.
  2. 제 1 항에 있어서, 외곽 기판은 글라스 기판인 광학 디바이스.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 외곽 기판의 곡률의 차이가 10% 이내인 광학 디바이스.
  4. 제 1 항에 있어서, 액정 소자는 액정 호스트와 이색성 염료 게스트를 포함하고, 제 1 배향 상태와 제 2 배향 상태의 사이를 스위칭 할 수 있는 액정층을 가지는 광학 디바이스.
  5. 제 1 항에 있어서, 액정 소자는 대향 배치되어 있는 2장의 기재 필름과 상기 2장의 기재 필름의 사이에 구비된 액정층을 포함하는 광학 디바이스.
  6. 제 5 항에 있어서, 기재 필름은 액정층을 향하는 면 상에 도전층 또는 배향막을 추가로 포함하는 광학 디바이스.
  7. 제 1 항에 있어서, 경화성 접착 필름은, 에틸렌초산비닐 접착 필름이거나 에폭시 접착 수지, 아크릴레이트 접착 수지 또는 실리콘 접착 수지를 포함하는 광학 디바이스.
  8. 제 1 항에 있어서, 비경화성 접착 필름은 열가소성 폴리우레탄 접착 필름 또는 폴리올레핀 접착 필름인 광학 디바이스.
  9. 제 1 항에 있어서, 비경화성 접착 필름은 두께 방향 위상차(Rth)의 절대 값이 50 nm 이하인 광학 디바이스.
  10. 제 1 항에 있어서, 경화성 접착 필름은 제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이; 및 제 2 외곽 기판과 액정 소자 사이에 위치하는 광학 디바이스.
  11. 제 1 항에 있어서, 제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에 위치하는 편광자를 추가로 포함하는 광학 디바이스.
  12. 제 1 외곽 기판;
    제 2 외과 기판;
    상기 제 1 외곽 기판과 제 2 외곽 기판 사이에 위치하는 액정 소자;
    상기 제 2 외곽 기판과 액정 소자 사이에 위치하는 편광자; 및
    상기 제 1 및 제 2 외곽 기판 사이에서 상기 액정 소자 및 편광자를 봉지하고 있는 복수의 접착 필름;을 포함하고,
    상기 복수의 접착 필름은 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름을 포함하며,
    상기 비경화성 접착 필름은 상기 액정 소자 및 편광자의 사이에 위치하는 광학 디바이스.
  13. 제 12 항에 있어서, 비경화성 접착 필름은 두께 방향 위상차(Rth)의 절대 값이 50 nm 이하인 광학 디바이스.
  14. 제 12 항에 있어서, 경화성 접착 필름은, 제 2 외곽 기판과 편광자 사이 및 제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 장소에 위치하는 광학 디바이스.
  15. 제 14 항에 있어서, 액정 소자와 편광자 사이에 위치하는 비경화성 접착 필름; 및 제 2 외곽 기판과 편광자 사이에 위치하는 경화성 접착 필름이 함께 상기 편광자를 봉지하는 광학 디바이스.
  16. 제 14 항에 있어서, 액정 소자와 편광자 사이에 위치하는 비경화성 접착 필름; 및 제 1 외곽 기판과 액정 소자 사이에 위치하는 경화성 접착 필름은 함께 상기 액정 소자를 봉지하는 광학 디바이스.
  17. 대향 배치 되어 있는 제 1 및 제 2 외곽 기판의 사이에 있는 액정 소자를 경화성 접착 필름과 비경화성 접착 필름을 포함하는 복수의 접착 필름을 사용하여 접착하는 단계를 포함하는 광학 디바이스의 제조 방법.
  18. 하나 이상의 개구부가 형성되어 있는 차체; 및 상기 개구부에 장착된 제 1 항 내지 제 16 항의 광학 디바이스를 포함하는 자동차.
PCT/KR2019/006560 2018-06-12 2019-05-31 광학 디바이스 WO2019240414A1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020542997A JP7222170B2 (ja) 2018-06-12 2019-05-31 光学デバイス
EP19820197.2A EP3809172A4 (en) 2018-06-12 2019-05-31 OPTICAL DEVICE
US16/969,394 US10996387B2 (en) 2018-06-12 2019-05-31 Optical device
CN201980013274.5A CN111712746B (zh) 2018-06-12 2019-05-31 光学装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2018-0067624 2018-06-12
KR1020180067624A KR102171277B1 (ko) 2018-06-12 2018-06-12 광학 디바이스

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019240414A1 true WO2019240414A1 (ko) 2019-12-19

Family

ID=68842663

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2019/006560 WO2019240414A1 (ko) 2018-06-12 2019-05-31 광학 디바이스

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10996387B2 (ko)
EP (1) EP3809172A4 (ko)
JP (1) JP7222170B2 (ko)
KR (1) KR102171277B1 (ko)
CN (1) CN111712746B (ko)
WO (1) WO2019240414A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7484073B2 (ja) 2020-10-29 2024-05-16 エルジー・ケム・リミテッド 光学デバイス

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112019003296T5 (de) * 2018-06-29 2021-04-01 Agp America S.A. Laminierte verglasung mit einer umschaltbaren flüssigkristallschicht
CN115769136A (zh) * 2020-07-09 2023-03-07 株式会社Lg化学 光学装置
TW202346992A (zh) * 2022-03-30 2023-12-01 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 液晶胞、光學元件及汽車
KR102609521B1 (ko) * 2022-07-18 2023-12-04 주식회사 옵티플 곡면 부착용 투과도 가변 필름셀 및 이를 이용한 광학 기기

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100717100B1 (ko) * 2004-09-29 2007-05-10 닛토덴코 가부시키가이샤 액정 패널 및 액정 표시 장치
KR20080064803A (ko) * 2005-09-14 2008-07-09 닛토덴코 가부시키가이샤 광학 보상층 부착 편광판, 광학 보상층 부착 편광판을사용한 액정 패널, 및 화상표시장치
US20160085131A1 (en) * 2010-12-15 2016-03-24 Switch Materials, Inc. Variable transmittance optical devices
KR20170047972A (ko) * 2015-10-26 2017-05-08 주식회사 엘지화학 광학 소자
KR20180046871A (ko) * 2016-10-28 2018-05-09 주식회사 엘지화학 투과도 가변 필름
KR20180067624A (ko) 2016-06-17 2018-06-20 베이징 시아오미 모바일 소프트웨어 컴퍼니 리미티드 지문 입력 제시 방법 및 장치

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4950052A (en) * 1988-08-29 1990-08-21 Taliq Corporation Encapsulated liquid crystal apparatus with a polymer additive
US7110163B2 (en) * 2001-07-09 2006-09-19 E Ink Corporation Electro-optic display and lamination adhesive for use therein
JP2004093873A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Asahi Glass Co Ltd 調光窓
US20050068629A1 (en) 2003-09-26 2005-03-31 Primal Fernando Adjustably opaque window
KR20060035404A (ko) 2004-10-22 2006-04-26 기아자동차주식회사 가변유리를 장착한 차량의 투명도 조절 장치
CN100380206C (zh) * 2004-12-02 2008-04-09 日东电工株式会社 配有光学补偿层的偏光板及使用该偏光板的图像显示装置
US20070218217A1 (en) * 2006-03-17 2007-09-20 Primal Fernando Adjustably opaque film for substantially smooth surface
KR100790876B1 (ko) 2006-06-05 2008-01-03 삼성전자주식회사 편광전환 도광판 유닛 및 이를 채용한 디스플레이 장치
JP2008077043A (ja) * 2006-08-25 2008-04-03 Fujifilm Corp 光学補償シート、偏光板及び液晶表示装置
WO2010125976A1 (ja) * 2009-04-30 2010-11-04 三菱電機株式会社 表示装置およびその製造方法
TWI537356B (zh) * 2010-12-17 2016-06-11 Toagosei Co Ltd Photo-curable adhesive composition, polarizing plate and manufacturing method thereof, optical member and liquid crystal display device (1)
KR20130139134A (ko) * 2012-06-12 2013-12-20 제일모직주식회사 접착제 조성물, 이를 이용한 편광판, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 광학 부재
KR101566060B1 (ko) * 2012-12-27 2015-11-04 제일모직주식회사 점착 필름, 이를 위한 점착제 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 부재
WO2015046225A1 (ja) * 2013-09-30 2015-04-02 富士フイルム株式会社 偏光板および画像表示装置
JP6364200B2 (ja) * 2014-02-07 2018-07-25 積水化学工業株式会社 電子部品用粘着テープ、電子部品の製造方法及びイメージセンサの製造方法
KR101577374B1 (ko) * 2014-03-06 2015-12-14 도레이첨단소재 주식회사 광학용 폴리에스테르 필름
KR101768745B1 (ko) * 2014-05-13 2017-08-17 주식회사 엘지화학 터치스크린패널용 비경화성 고무계 점착제 조성물 및 이를 이용한 터치스크린패널용 비경화성 고무계 점착필름
CN111704865A (zh) * 2014-11-01 2020-09-25 三星Sdi株式会社 粘合剂膜以及包含粘合剂膜的显示部件
JP6456686B2 (ja) * 2014-12-25 2019-01-23 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置
JP6492925B2 (ja) * 2015-04-21 2019-04-03 Ａｇｃ株式会社 両面粘着シートの製造方法、両面粘着シート付き透明面材の製造方法、表示装置の製造方法
KR101612228B1 (ko) 2015-06-12 2016-04-27 주식회사 토러스테크날리지 빛의 투과율이 가변되는 필름 및 필름 어셈블리
KR20170011306A (ko) * 2015-07-22 2017-02-02 삼성전자주식회사 광학 필름, 그 제조 방법 및 표시 장치
EP3356445B1 (en) * 2015-09-30 2021-01-06 E Ink Corporation Polyurethane adhesive layers for electro-optic assemblies
JP6245537B1 (ja) * 2016-11-21 2017-12-13 大日本印刷株式会社 調光装置及び車両
CN206565667U (zh) * 2016-08-10 2017-10-20 深圳壹号柜科技股份有限公司 一种控制光线样品柜
CN110198839A (zh) * 2016-11-09 2019-09-03 康宁公司 具有减小的弓曲的可调光窗玻璃和包括所述可调光窗玻璃的中空玻璃单元

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100717100B1 (ko) * 2004-09-29 2007-05-10 닛토덴코 가부시키가이샤 액정 패널 및 액정 표시 장치
KR20080064803A (ko) * 2005-09-14 2008-07-09 닛토덴코 가부시키가이샤 광학 보상층 부착 편광판, 광학 보상층 부착 편광판을사용한 액정 패널, 및 화상표시장치
US20160085131A1 (en) * 2010-12-15 2016-03-24 Switch Materials, Inc. Variable transmittance optical devices
KR20170047972A (ko) * 2015-10-26 2017-05-08 주식회사 엘지화학 광학 소자
KR20180067624A (ko) 2016-06-17 2018-06-20 베이징 시아오미 모바일 소프트웨어 컴퍼니 리미티드 지문 입력 제시 방법 및 장치
KR20180046871A (ko) * 2016-10-28 2018-05-09 주식회사 엘지화학 투과도 가변 필름

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
D. S. KLIGER ET AL.: "Polarized Light in Optics and Spectroscopy", 1990, ACADEMIC PRESS
See also references of EP3809172A4
T. KARSTENS: "thesis", 1973, UNIVERSITY OF WURZBURG

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7484073B2 (ja) 2020-10-29 2024-05-16 エルジー・ケム・リミテッド 光学デバイス

Also Published As

Publication number Publication date
US10996387B2 (en) 2021-05-04
JP7222170B2 (ja) 2023-02-15
US20210055463A1 (en) 2021-02-25
KR102171277B1 (ko) 2020-10-28
CN111712746B (zh) 2022-09-06
EP3809172A1 (en) 2021-04-21
KR20190140743A (ko) 2019-12-20
JP2021514484A (ja) 2021-06-10
EP3809172A4 (en) 2021-08-11
CN111712746A (zh) 2020-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2019240414A1 (ko) 광학 디바이스
WO2018199615A1 (ko) 광학 디바이스
WO2018199619A1 (ko) 광학 디바이스
WO2018199616A1 (ko) 광학 디바이스
WO2018199618A1 (ko) 광학 디바이스
WO2017179940A1 (ko) 투과도 가변 필름
WO2019124961A1 (ko) 투과도 가변 필름 및 이의 용도
WO2021080361A1 (ko) 광변조 디바이스
WO2017061768A1 (ko) 광학 필름
WO2018199614A1 (ko) 투과율 가변 장치
WO2019146977A1 (ko) 다층 액정 필름, 편광판 및 편광판의 제조방법
WO2019190187A1 (ko) 광학 디바이스
KR20190113645A (ko) 광학 디바이스
WO2019066456A1 (ko) 광학 소자의 구동 방법
WO2021071263A1 (ko) 광변조 디바이스
WO2020036322A1 (ko) 광학 디바이스
WO2019088640A1 (ko) 투과율 가변 장치
WO2022010185A1 (ko) 광학 디바이스
WO2019221529A1 (ko) 광학 디바이스의 제조 방법
WO2020175793A1 (ko) 광학 디바이스
WO2022092843A1 (ko) 광학 디바이스
WO2019107709A1 (ko) 광학 디바이스
WO2020050572A1 (ko) 광학 디바이스
WO2023191547A1 (ko) 광학 디바이스
WO2020197282A1 (ko) 광학 디바이스

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 19820197

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2020542997

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2019820197

Country of ref document: EP

Effective date: 20210112