WO2019230242A1 - ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、ガラスパネルユニットの組立て品の製造方法 - Google Patents
ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、ガラスパネルユニットの組立て品の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2019230242A1 WO2019230242A1 PCT/JP2019/016757 JP2019016757W WO2019230242A1 WO 2019230242 A1 WO2019230242 A1 WO 2019230242A1 JP 2019016757 W JP2019016757 W JP 2019016757W WO 2019230242 A1 WO2019230242 A1 WO 2019230242A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- space
- partition
- exhaust
- partitions
- panel unit
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B3/00—Window sashes, door leaves, or like elements for closing wall or like openings; Layout of fixed or moving closures, e.g. windows in wall or like openings; Features of rigidly-mounted outer frames relating to the mounting of wing frames
- E06B3/66—Units comprising two or more parallel glass or like panes permanently secured together
- E06B3/6612—Evacuated glazing units
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
- C03C27/10—Joining glass to glass by processes other than fusing with the aid of adhesive specially adapted for that purpose
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B3/00—Window sashes, door leaves, or like elements for closing wall or like openings; Layout of fixed or moving closures, e.g. windows in wall or like openings; Features of rigidly-mounted outer frames relating to the mounting of wing frames
- E06B3/66—Units comprising two or more parallel glass or like panes permanently secured together
- E06B3/663—Elements for spacing panes
- E06B3/66304—Discrete spacing elements, e.g. for evacuated glazing units
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B3/00—Window sashes, door leaves, or like elements for closing wall or like openings; Layout of fixed or moving closures, e.g. windows in wall or like openings; Features of rigidly-mounted outer frames relating to the mounting of wing frames
- E06B3/66—Units comprising two or more parallel glass or like panes permanently secured together
- E06B3/663—Elements for spacing panes
- E06B3/66309—Section members positioned at the edges of the glazing unit
- E06B3/66328—Section members positioned at the edges of the glazing unit of rubber, plastics or similar materials
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B3/00—Window sashes, door leaves, or like elements for closing wall or like openings; Layout of fixed or moving closures, e.g. windows in wall or like openings; Features of rigidly-mounted outer frames relating to the mounting of wing frames
- E06B3/66—Units comprising two or more parallel glass or like panes permanently secured together
- E06B3/673—Assembling the units
- E06B3/67326—Assembling spacer elements with the panes
- E06B3/6733—Assembling spacer elements with the panes by applying, e.g. extruding, a ribbon of hardenable material on or between the panes
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B3/00—Window sashes, door leaves, or like elements for closing wall or like openings; Layout of fixed or moving closures, e.g. windows in wall or like openings; Features of rigidly-mounted outer frames relating to the mounting of wing frames
- E06B3/66—Units comprising two or more parallel glass or like panes permanently secured together
- E06B3/677—Evacuating or filling the gap between the panes ; Equilibration of inside and outside pressure; Preventing condensation in the gap between the panes; Cleaning the gap between the panes
- E06B3/6775—Evacuating or filling the gap during assembly
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B3/00—Window sashes, door leaves, or like elements for closing wall or like openings; Layout of fixed or moving closures, e.g. windows in wall or like openings; Features of rigidly-mounted outer frames relating to the mounting of wing frames
- E06B3/66—Units comprising two or more parallel glass or like panes permanently secured together
- E06B3/663—Elements for spacing panes
- E06B3/66309—Section members positioned at the edges of the glazing unit
- E06B3/66333—Section members positioned at the edges of the glazing unit of unusual substances, e.g. wood or other fibrous materials, glass or other transparent materials
- E06B2003/66338—Section members positioned at the edges of the glazing unit of unusual substances, e.g. wood or other fibrous materials, glass or other transparent materials of glass
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A30/00—Adapting or protecting infrastructure or their operation
- Y02A30/24—Structural elements or technologies for improving thermal insulation
- Y02A30/249—Glazing, e.g. vacuum glazing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B80/00—Architectural or constructional elements improving the thermal performance of buildings
- Y02B80/22—Glazing, e.g. vaccum glazing
Definitions
- the present disclosure relates to a glass panel unit assembly, a glass panel unit manufacturing method, and a glass panel unit manufacturing method.
- the present disclosure particularly relates to an assembly of a glass panel unit for heat insulation having a space between a pair of glass panels, a method for manufacturing the glass panel unit, and a method for manufacturing an assembly of the glass panel unit.
- Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a glass panel unit.
- an internal space surrounded by a frame material is formed between the first glass substrate and the second glass substrate bonded to each other.
- the internal space is partitioned into a first space and a second space by a partition material.
- the air in the first space is discharged to the outside through the ventilation path, the second space, and the ventilation hole, and the pressure is reduced until the first space reaches the vacuum space.
- the partition material is melted by heating and deformed so as to close the air passage.
- a temporary assembly unit (assembled product of a glass panel unit) including the first space which is a vacuum space is obtained.
- the temporary assembly unit is cut and physically separated into a part having the first space and a part having the second space. A portion having the first space is used as a glass panel unit.
- Patent Document 1 the internal space is divided into a first space and a second space by a partition material. For this reason, when the temporary assembly unit is heated in the melting furnace, it is difficult for hot air to pass through the internal space, and heating of the temporary assembly unit may be insufficient. This can cause a decrease in yield.
- the problem is to provide a glass panel unit assembly, a glass panel unit manufacturing method, and a glass panel unit manufacturing method that can improve the yield of the glass panel unit.
- An assembly of a glass panel unit includes a pair of glass substrates facing each other, a frame-shaped peripheral wall between the pair of glass substrates, a plurality of partitions, an exhaust port, and a plurality of ventilation paths. And comprising.
- the plurality of partitions partition an internal space surrounded by the pair of glass substrates and the peripheral wall into an exhaust space and a ventilation space.
- the exhaust port connects the ventilation space and the external space.
- the plurality of ventilation paths are used to exhaust the exhaust space through the exhaust port.
- the plurality of air passages constitute a plurality of ventilation paths that are lined up along a second direction perpendicular to the first direction in which the pair of glass substrates face each other and penetrate the internal space along the second direction. Includes specific air passages.
- the method for manufacturing a glass panel unit includes an assembly process, a joining process, an exhaust process, and a sealing process.
- the assembly step is a step of preparing an assembly of the glass panel unit.
- the joining step is a step of sending hot air along the second direction to once melt the peripheral wall and air-tightly joining the pair of glass substrates with the peripheral wall.
- the exhausting step is a step of exhausting the exhaust space through the plurality of vent paths, the vent space, and the exhaust port.
- the sealing step is a step of blocking the plurality of air passages by deforming the plurality of partitions.
- the manufacturing method of the assembly product of the glass panel unit includes an application step of applying the plurality of partition materials to one of the pair of glass substrates.
- the plurality of partitions include a first partition extending along the second direction and a plurality of second partitions extending along a third direction orthogonal to the first direction and intersecting the second direction.
- the material is applied so that the end portions of the plurality of second partitions face the side portions of the first partition with a predetermined interval therebetween, thereby forming the plurality of specific ventilation paths.
- FIG. 1 is a plan view of a work in progress of a glass panel unit according to an embodiment.
- 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
- FIG. 3 is a plan view of an assembly of the glass panel unit of the above embodiment.
- 4 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG.
- FIG. 5 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the method for manufacturing the glass panel unit of the embodiment.
- FIG. 6 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 7 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 1 is a plan view of a work in progress of a glass panel unit according to an embodiment.
- 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
- FIG. 3 is a plan view of an assembly of the glass panel unit of the above embodiment.
- 4 is
- FIG. 8 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 9 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 10 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 11 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 12 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 13 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 14 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 14 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 15 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 16 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 17 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 18 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 19 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 20 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 21 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 22 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method.
- FIG. 23 is an explanatory diagram of the removal step of the manufacturing method.
- FIG. 24 is a plan view of a work in progress of the glass panel unit of the first modification.
- FIG. 25 is a plan view of an assembly of the glass panel unit of the first modification.
- FIG. 26 is an explanatory diagram of a preparation process (assembly process) of the manufacturing method of the glass panel unit of the first modification.
- FIG. 27 is a plan view of an assembly of the glass panel unit of the second modified example.
- FIG. 28 is an explanatory diagram of a preparation step (assembly step) of the method for manufacturing the glass panel unit of the second modified example.
- FIG. 29 is a plan view of an assembly of the glass panel unit of the third modification.
- FIG. 30 is an explanatory diagram of a preparation step (assembly step) of the method for manufacturing the glass panel unit of the third modification.
- FIG. 31 is an explanatory diagram of an assembly of the glass panel unit of the fourth modified example.
- FIG. 32 is an explanatory diagram of an assembly of the glass panel unit of the fifth modification.
- FIG. 33 is an explanatory diagram of an assembly of the glass panel unit of the fifth modification.
- FIGS. 1 and 2 show a work-in-process 110 of a glass panel unit according to an embodiment.
- the in-process product 110 of the glass panel unit is used for manufacturing one or more glass panel units (in this embodiment, the glass panel units 10A to 10H shown in FIG. 23).
- the in-process product 110 is formed in the process of manufacturing the glass panel unit 10 (10A to 10H) from the assembly product 100 shown in FIGS.
- the assembly 100 includes a pair of glass substrates 200 and 300 facing each other, a frame-shaped peripheral wall 410 between the pair of glass substrates 200 and 300, a plurality of partitions 420, an exhaust port 700, and a plurality of ventilation paths 600. And comprising.
- the plurality of partitions 420 partitions the internal space 500 surrounded by the pair of glass substrates 200 and 300 and the peripheral wall 410 into an exhaust space 511 (511a to 511h) and a ventilation space 520.
- the exhaust port 700 connects the ventilation space 520 and the external space.
- the plurality of ventilation paths 600 are used to exhaust the exhaust spaces 511a to 511h via the exhaust port 700.
- the plurality of ventilation paths 600 include a plurality of specific ventilation paths 610.
- the plurality of specific ventilation paths 610 are aligned along the second direction along the second direction along the second direction (vertical direction in FIG. 3) perpendicular to the first direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
- the ventilation path P10 (P10a to P10h) penetrating through is formed.
- the assembly 100 has a ventilation path P10 (P10a to P10h) that penetrates the internal space 500 along the second direction (the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300). Therefore, when the assembly 100 is heated in the melting furnace, hot air F10 is sent along the second direction (see FIG. 16). That is, when the assembly 100 is heated, the hot air F10 passes through the ventilation path P10. Accordingly, heat is sufficiently transmitted to the partition 420 in the internal space 500 of the assembly 100, and heating of the assembly 100 (especially heating of the partition 420) is facilitated. As a result, it is possible to sufficiently remove unnecessary components serving as a gas generation source such as a binder contained in the material of the partition 420 when the peripheral wall 410 is heated. Therefore, it is possible to reduce the yield reduction due to the gas generated from such unnecessary components. Therefore, the yield of the glass panel unit can be improved.
- P10 P10a to P10h
- the assembly 100 is used to manufacture a plurality (here, eight) of glass panel units 10 (10A to 10H) shown in FIG.
- the work-in-process 110 is formed in the process of manufacturing the glass panel unit 10 (10A to 10H) from the assembly 100.
- the glass panel unit assembly 100 is simply referred to as “assembly product” and the glass panel unit work product 110 is simply referred to as “work product” as necessary.
- the glass panel unit 10 (10A to 10H) is a vacuum heat insulating glass unit.
- the vacuum heat insulating glass unit is a kind of multilayer glass panel including at least a pair of glass panels, and has a vacuum space between the pair of glass panels.
- Each glass panel unit 10A to 10H includes a pair of glass panels (first and second glass panels) 20 and 30 and a frame body 40 as shown in FIG.
- Each of the glass panel units 10A to 10H has a space (exhaust space) 511 (511a to 511h (see FIG. 1)) surrounded by the pair of glass panels 20 and 30 and the frame body 40.
- each of the glass panel units 10A to 10H includes a gas adsorber 60 and a plurality of pillars (spacers) 70 in the exhaust space 511.
- the glass panel units 10A to 10H are all quadrangular in plan view, and have the same size and shape.
- the pair of glass panels 20 and 30 have the same shape. Each of the pair of glass panels 20 and 30 has a rectangular flat plate shape.
- the material of the pair of glass panels 20 and 30 is, for example, soda lime glass, high strain point glass, chemically tempered glass, alkali-free glass, quartz glass, neoceram, and physically tempered glass.
- a coating may be provided on the surfaces of the pair of glass panels 20 and 30.
- An example of the coating is a transparent infrared reflective film.
- the coating is not limited to the infrared reflective film, and may be a film having desired physical characteristics.
- the frame body 40 is between the pair of glass panels 20 and 30 and joins the pair of glass panels 20 and 30 in an airtight manner.
- an exhaust space 511 surrounded by the pair of glass panels 20 and 30 and the frame body 40 is formed.
- the exhaust space 511 surrounded by the pair of glass panels 20 and 30 and the frame body 40 is in a vacuum state. In other words, the exhaust space 511 is in a state where the internal pressure is lower than the atmospheric pressure.
- the frame body 40 is formed of a thermal adhesive (sealing material).
- the frame 40 is a cured thermal adhesive.
- the thermal adhesive is, for example, a glass frit. Examples of the glass frit include a low melting point glass frit.
- the low melting point glass frit examples include a bismuth glass frit, a lead glass frit, and a vanadium glass frit.
- the frame body 40 has a polygonal (quadrangle in this embodiment) frame shape similar to the pair of glass panels 20 and 30.
- the frame body 40 is formed along the outer periphery of the pair of glass panels 20 and 30.
- the thermal adhesive is not limited to glass frit, and may be, for example, a low melting point metal or a hot melt adhesive.
- the gas adsorber 60 is disposed in the exhaust space 511. Specifically, the gas adsorber 60 has a long flat plate shape and is disposed on the glass panel 30.
- the gas adsorber 60 is used to adsorb unnecessary gas (residual gas or the like).
- the unnecessary gas is, for example, a gas released from the thermal adhesive when the thermal adhesive forming the frame body 40 is heated.
- the gas adsorber 60 has a getter.
- a getter is a material that has the property of adsorbing molecules smaller than a predetermined size.
- the getter is, for example, an evaporation type getter.
- the evaporable getter has a property of releasing adsorbed molecules when the temperature is higher than a predetermined temperature (activation temperature).
- the gas adsorber 60 includes the getter powder. Specifically, the gas adsorber 60 is obtained by a liquid containing getter powder (for example, a dispersion obtained by dispersing getter powder in the liquid, or by dissolving the getter powder in the liquid. It is formed by applying and solidifying a solution. In this case, the gas adsorber 60 can be made small. Therefore, the gas adsorber 60 can be arranged even if the exhaust space 511 is narrow.
- the plurality of pillars 70 are disposed in the exhaust space 511.
- the plurality of pillars 70 are used to maintain a distance between the pair of glass panels 20 and 30 at a predetermined distance. That is, the plurality of pillars 70 are used to maintain the distance between the pair of glass panels 20 and 30 at a desired value.
- the size of the pillars 70, the number of pillars 70, the interval between the pillars 70, and the arrangement pattern of the pillars 70 can be selected as appropriate.
- Each pillar 70 has a cylindrical shape having a height substantially equal to the predetermined interval.
- the pillar 70 has a diameter of 1 mm and a height of 100 ⁇ m.
- Each pillar 70 may have a desired shape such as a prismatic shape or a spherical shape.
- the assembly 100 includes a pair of (first and second) glass substrates 200 and 300 facing each other, a peripheral wall 410, first partitions 421a to 421d, and second partitions 422a to 422. 422j, a plurality of ventilation paths 600, and an exhaust port 700 are provided.
- the assembly 100 includes a plurality of gas adsorbers 60 and a plurality of pillars (spacers) 70.
- the first partitions 421a to 421d are simply referred to as the first partition 421 unless otherwise distinguished.
- the second partitions 422a to 422j are not particularly distinguished, they are simply referred to as second partitions 422.
- the first partition 421 and the second partition 422 are not particularly distinguished, they are simply referred to as a partition 420.
- the first glass substrate 200 is a member that is the basis of the first glass panel 20 and is formed of the same material as the first glass panel 20.
- the second glass substrate 300 is a member that is the basis of the second glass panel 30 and is formed of the same material as the second glass panel 30.
- the first and second glass substrates 200 and 300 have the same shape. Both the first and second glass substrates 200 and 300 are polygonal (rectangular in the present embodiment) plate shapes.
- the first glass substrate 200 has a size capable of forming the first glass panel 20 of the glass panel units 10A to 10H
- the second glass substrate 300 is the second glass of the glass panel units 10A to 10H.
- the panel 30 can be formed.
- the peripheral wall 410 is formed of a sealing material (first sealing material).
- the first sealing material includes, for example, a thermal adhesive.
- the thermal adhesive is, for example, a glass frit.
- the glass frit is, for example, a low melting point glass frit. Examples of the low melting point glass frit include a bismuth glass frit, a lead glass frit, and a vanadium glass frit.
- the first sealing material includes a core material.
- the core material is used to define the height of the frame body 40.
- the core material is, for example, a spherical glass bead.
- the diameter of the glass beads is selected according to the height of the frame body 40.
- Such a core material is dispersed in the thermal adhesive at a predetermined ratio.
- glass beads having a diameter of 50 to 300 ⁇ m are contained at 0.01 to 1 wt% (0.03 to 3% by volume) with respect to the thermal adhesive.
- Such a first sealing material is porous and has air permeability until melted, but loses air permeability once melted.
- the peripheral wall 410 is between the pair of glass substrates 200 and 300. As shown in FIG. 3, the peripheral wall 410 has a frame shape. In particular, the peripheral wall 410 has a rectangular frame shape. The peripheral wall 410 is formed along the outer periphery of the first and second glass substrates 200 and 300. The peripheral wall 410 has first to fourth sides 410a to 410d. The first and second sides 410a and 410b extend along the width direction (vertical direction in FIG. 3) of the first and second glass substrates 200 and 300. The third and fourth sides 410c and 410d extend along the length direction of the first and second glass substrates 200 and 300 (left and right direction in FIG. 3). The peripheral wall 410 is for airtightly bonding the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300. Thereby, in the assembled product 100, an internal space 500 surrounded by the peripheral wall 410, the first glass substrate 200, and the second glass substrate 300 is formed.
- the plurality of partitions 420 are all formed of a sealing material (second sealing material).
- the second sealing material includes, for example, a thermal adhesive.
- the thermal adhesive is, for example, a glass frit.
- the glass frit is, for example, a low melting point glass frit. Examples of the low melting point glass frit include a bismuth glass frit, a lead glass frit, and a vanadium glass frit.
- the thermal adhesive of the partition 420 is the same thermal adhesive as that of the peripheral wall 410. Therefore, the partition 420 and the peripheral wall 410 have the same softening point.
- the second sealing material includes the same core material as the first sealing material. Also in the second sealing material, the core material is dispersed at a predetermined ratio in the thermal adhesive.
- glass beads having a diameter of 50 to 300 ⁇ m are contained at 0.01 to 1 wt% (0.03 to 3% by volume) with respect to the thermal adhesive.
- a second sealing material is porous and has air permeability until it is melted, but loses air permeability after being once melted.
- the plurality of partitions 420 divide the internal space 500 surrounded by the pair of glass substrates 200 and 300 and the peripheral wall 410 into an exhaust space 511 (511a to 511h), a buffer space 512 (512a to 512f), and a ventilation space 520.
- the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f are spaces (first spaces) to be exhausted later.
- the ventilation space 520 is a space (second space) used for exhausting the first space (exhaust spaces 511a to 511h and buffer spaces 512a to 512f). In particular, the exhaust spaces 511a to 511h are exhausted to obtain the glass panel units 10A to 10H.
- the buffer spaces 512a to 512f are exhausted in the same manner as the exhaust spaces 511a to 511h, but this is not for obtaining the glass panel units 10A to 10H but for improving the yield of the glass panel units 10A to 10H. For.
- the partition 420 is in a region surrounded by the peripheral wall 410. All of the partitions 420 are lower than the peripheral wall 410. Therefore, as shown in FIG. 4, the peripheral wall 410 comes into contact with both the first and second glass substrates 200 and 300 before the partition 420. In the example of FIG. 3, since the partitions 420a to 420p are formed on the second glass substrate 300, they are separated from the first glass substrate 200.
- the plurality of partitions 420 are long. Each partition 420 has both ends 423 (423a, 423b) in the length direction and both sides 424 (424a, 424b) in the width direction. In FIG. 3, only the second partition 422a is denoted by reference numeral 423 (423a, 423b) and only the first partition 421d is denoted by reference numeral 424 (424a, 424b) for the sake of clarity. ing.
- the plurality of partitions 420 include first partitions 421 (421a to 421d) and second partitions 422 (422a to 422j). The first partition 421 (421a to 421d) and the second partition 422 (422a to 422j) are different from each other in the length direction.
- the first partition 421 (421a to 421d) extends along a second direction orthogonal to the first direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
- the first direction is the thickness direction of the pair of glass substrates 200 and 300 (the vertical direction in FIG. 4).
- the second direction is the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300 (the vertical direction in FIG. 3).
- the second partitions 422 (422a to 422j) extend along a third direction that is orthogonal to the first direction and intersects the second direction.
- the third direction is orthogonal to the second direction.
- the third direction is the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300 (the left-right direction in FIG. 3).
- the first partitions 421a, 421b, 421c, 421d have a long shape extending along the width direction (vertical direction in FIG. 3) of the pair of glass substrates 200, 300.
- the side portion 424a is a side portion on the first side 410a side (right side in FIG. 3) of the peripheral wall 410
- the side portion 424b is the second side of the peripheral wall 410. This is the side portion on the 410b side (left side in FIG. 3).
- the first partitions 421a, 421b, 421c, 421d are arranged in this order from the first side 410a of the peripheral wall 410 toward the second side 410b in the length direction of the pair of glass substrates 200, 300 (left-right direction in FIG. 3). , Lined up at intervals. Further, none of the first partitions 421a, 421b, 421c, 421d is in contact with the third and fourth sides 410c, 410d of the peripheral wall 410.
- the second partitions 422a to 422j have a long shape extending along the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300.
- the end 423a is an end on the first side 410a side (right side in FIG. 3) of the peripheral wall 410
- the end 423b is on the second side 410b side (in FIG. 3). It is the end of the left side.
- the second partitions 422a and 422b are located between the second side 410b of the peripheral wall 410 and the first partition 421d.
- the second partitions 422a and 422b are arranged at intervals in this order from the third side 410c of the peripheral wall 410 toward the fourth side 410d in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300.
- the second partitions 422a and 422b are not in contact with the second side 410b of the peripheral wall 410 and the first partition 421d, respectively.
- the end portions 423a of the second partitions 422a and 422b are opposed to the side portions 424b of the first partition 421d with a predetermined interval.
- the second partitions 422c and 422d are located between the first partitions 421c and 421d.
- the second partitions 422c and 422d are arranged at intervals in this order from the third side 410c of the peripheral wall 410 toward the fourth side 410d in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300.
- the second partitions 422c and 422d are not in contact with the first partitions 421c and 421d, respectively.
- the end portions 423a of the second partitions 422c and 422d are opposed to the side portions 424b of the first partition 421c with a predetermined interval.
- the end portions 423b of the second partitions 422c and 422d are opposed to the side portions 424a of the first partition 421d with a predetermined interval.
- the second partitions 422e and 422f are located between the first partitions 421b and 421c.
- the second partitions 422e and 422f are arranged at intervals in this order from the third side 410c to the fourth side 410d of the peripheral wall 410 in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300.
- the second partitions 422e and 422f are not in contact with the first partitions 421b and 421c, respectively.
- the end portions 423a of the second partitions 422e and 422f are opposed to the side portions 424b of the first partition 421b with a predetermined interval.
- the end portions 423b of the second partitions 422e and 422f are opposed to the side portions 424a of the first partition 421c with a predetermined interval.
- the second partitions 422g and 422h are located between the first partitions 421a and 421b.
- the second partitions 422g and 422h are arranged at intervals in this order from the third side 410c to the fourth side 410d of the peripheral wall 410 in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300.
- the second partitions 422g and 422h are not in contact with the first partitions 421a and 421b, respectively.
- the end portions 423a of the second partitions 422g and 422h are opposed to the side portions 424b of the first partition 421a with a predetermined interval.
- the end portions 423b of the second partitions 422g and 422h are opposed to the side portions 424a of the first partition 421b with a predetermined interval.
- the second partitions 422i and 422j are located between the first side 410a of the peripheral wall 410 and the first partition 421a.
- the second partitions 422i and 422j are arranged at intervals in this order from the third side 410c of the peripheral wall 410 to the fourth side 410d in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300.
- the second partitions 422i and 422j are not in contact with the first side 410a of the peripheral wall 410 and the first partition 421a, respectively.
- the end portions 423b of the second partitions 422i and 422j are opposed to the side portions 424a of the first partition 421a with a predetermined interval.
- the exhaust space 511a is a space surrounded by the second and third sides 410b and 410c of the peripheral wall 410, the first partition 421d, and the second partition 422a.
- the exhaust space 511b is a space surrounded by the third side 410c of the peripheral wall 410, the first partitions 421c and 421d, and the second partition 422c.
- the exhaust space 511c is a space surrounded by the third side 410c of the peripheral wall 410, the first partitions 421b and 421c, and the second partition 422e.
- the exhaust space 511d is a space surrounded by the third side 410c of the peripheral wall 410, the first partitions 421a and 421b, and the second partition 422g.
- the exhaust space 511e is a space surrounded by the second side 410b of the peripheral wall 410, the first partition 421d, and the second partitions 422a and 422b.
- the exhaust space 511f is a space surrounded by the first partitions 421c and 421d and the second partitions 422c and 422d.
- the exhaust space 511g is a space surrounded by the first partitions 421b and 421c and the second partitions 422e and 422f.
- the exhaust space 511h is a space surrounded by the first partitions 421a and 421b and the second partitions 422g and 422h.
- the buffer space 512a is a space surrounded by the first and third sides 410a and 410c of the peripheral wall 410, the first partition 421a, and the second partition 422i.
- the buffer space 512b is a space surrounded by the first side 410a of the peripheral wall 410, the first partition 421a, and the second partitions 422i and 422j.
- the buffer space 512c is a space surrounded by the second and fourth sides 410b and 410d of the peripheral wall 410, the first partition 421d, and the second partition 422b.
- the buffer space 512d is a space surrounded by the fourth side 410d of the peripheral wall 410, the first partitions 421c and 421d, and the second partition 422d.
- the buffer space 512e is a space surrounded by the fourth side 410d of the peripheral wall 410, the first partitions 421b and 421c, and the second partition 422f.
- the buffer space 512f is a space surrounded by the fourth side 410d of the peripheral wall 410, the first partitions 421a and 421b, and the second partition 422h.
- the ventilation space 520 is a space surrounded by the first and fourth sides 410a and 410d of the peripheral wall 410, the first partition 421a, and the second partition 422j.
- the gas adsorber 60 is disposed only in each of the exhaust spaces 511a to 511h, as shown in FIG. That is, the gas adsorber 60 is disposed not in the buffer spaces 512a through 512f and the ventilation space 520 but in the exhaust spaces 511a through 511h.
- the plurality of pillars 70 are arranged in the entire internal space 500 (exhaust spaces 511a to 511h, buffer spaces 512a to 512f, and ventilation space 520). That is, the plurality of pillars 70 are arranged across the exhaust spaces 511a to 511h, the buffer spaces 512a to 512d, and the ventilation space 520.
- the plurality of ventilation paths 600 are used to exhaust the first space (exhaust spaces 511a to 511h and buffer spaces 512a and 512b) through the exhaust port 700.
- the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f are connected to the ventilation space 520 (directly or indirectly) via the plurality of ventilation paths 600.
- the peripheral wall 410 and the partitions 420 (421a to 421h, 422a to 422d) are arranged so as not to contact each other.
- each of the clearance gaps between the surrounding wall 410 and the partition 420 comprises the ventilation path 600.
- Each air passage 600 is closed by once melting and deforming the partition 420.
- the plurality of ventilation paths 600 include a plurality of specific ventilation paths 610 arranged along a second direction orthogonal to the first direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
- the plurality of specific ventilation paths 610 constitute a ventilation path P10 (P10a to P10h) that penetrates the internal space 500 along the second direction (vertical direction in FIG. 3).
- the ventilation path P ⁇ b> 10 is shaded for easy understanding.
- the specific ventilation path 610 which comprises the ventilation path P10a is the space (gap) between the edge part 423a of 2nd partition 422a, 422b and the side part 424b of 1st partition 421d.
- the specific ventilation path 610 constituting the ventilation path P10b is a space (gap) between the end part 423b of the second partition 422c, 422d and the side part 424a of the first partition 421d.
- the specific ventilation path 610 constituting the ventilation path P10c is a space (gap) between the end portions 423a of the second partitions 422c and 422d and the side portion 424b of the first partition 421c.
- the specific ventilation path 610 constituting the ventilation path P10d is a space (gap) between the end portions 423b of the second partitions 422e and 422f and the side portion 424a of the first partition 421c.
- the specific ventilation path 610 constituting the ventilation path P10e is a space (gap) between the end portions 423a of the second partitions 422e and 422f and the side portion 424b of the first partition 421b.
- the specific ventilation path 610 constituting the ventilation path P10f is a space (gap) between the end portions 423b of the second partitions 422g and 422h and the side portion 424a of the first partition 421b.
- the specific ventilation path 610 constituting the ventilation path P10g is a space (gap) between the end portions 423a of the second partitions 422g and 422h and the side portion 424b of the first partition 421a.
- the specific ventilation path 610 constituting the ventilation path P10h is a space (gap) between the end 423b of the second partition 422i, 422j and the side 424a of the first partition 421a.
- the exhaust port 700 connects the ventilation space 520 and the external space.
- the exhaust port 700 is used to exhaust the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f using the ventilation space 520 and the ventilation path 600. Therefore, the ventilation path 600, the ventilation space 520, and the exhaust port 700 constitute an exhaust path for exhausting the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f.
- the exhaust port 700 is formed in the second glass substrate 300 so as to connect the ventilation space 520 and the external space. Specifically, the exhaust port 700 is in a corner portion of the second glass substrate 300.
- the work-in-process 110 includes a pair of glass substrates (first and second glass substrates) 200 and 300, a peripheral wall 41, and partition walls 42 (42a to 42m). .
- the work-in-progress 110 has an internal space 500 including exhaust spaces 511a to 511h, buffer spaces 512a to 512f, and aeration space 520.
- the work-in-process 110 includes a gas adsorber 60 and a plurality of pillars (spacers) 70 in the internal space 500.
- the work-in-process 110 includes an exhaust port 700.
- the peripheral wall 41 is between the pair of glass substrates 200 and 300, and joins the pair of glass substrates 200 and 300 in an airtight manner.
- the peripheral wall 41 is formed by once melting the peripheral wall 410 of the assembly 100 and solidifying it again.
- the peripheral wall 41 of the work-in-progress item 110 has a frame shape like the peripheral wall 410 of the assembly product 100.
- the peripheral wall 41 has first to fourth sides 41a to 41d.
- the first and second sides 41a and 41b extend along the width direction (vertical direction in FIG. 1) of the first and second glass substrates 200 and 300.
- the third and fourth sides 41c and 41d extend along the length direction of the first and second glass substrates 200 and 300 (left and right direction in FIG. 1).
- the partition walls 42a to 42m hermetically separate the internal space 500 surrounded by the pair of glass substrates 200 and 300 and the peripheral wall 41 into exhaust spaces 511a to 511h, buffer spaces 512a to 512f, and aeration space 520.
- the partition walls 42a to 42m are formed from partitions 420 (421a to 421d, 422a to 422j). More specifically, the partition wall 42a has a linear shape extending in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connects the third and fourth sides 41c and 41d of the peripheral wall 41.
- the partition wall 42a is formed by deformation of the first partition 421a.
- the partition walls 42b to 42d have a long shape extending in the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and are integrally connected to the third side 41c of the peripheral wall 41.
- the partitions 42b to 42d are formed by deformation of the first partitions 421b to 421d, respectively.
- the partition walls 42e and 42f have a long shape extending in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connect the second side 41b of the peripheral wall 41 and the partition wall 42d.
- the partition walls 42e and 42f are formed by deformation of the second partitions 422a and 422b, respectively.
- the partition walls 42g and 42h have a long shape extending in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connect the partition walls 42c and 42d of the peripheral wall 41.
- the partition walls 42g and 42h are formed by deformation of the second partitions 422c and 422d, respectively.
- the partition walls 42 i and 42 j have a long shape extending in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connect the partition walls 42 b and 42 c of the peripheral wall 41.
- the partition walls 42i and 42j are formed by deformation of the second partitions 422e and 422f, respectively.
- the partition walls 42k and 42l have a long shape extending in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connect the partition walls 42a and 42b of the peripheral wall 41.
- the partition walls 42k and 421 are formed by deformation of the second partitions 422g and 422h, respectively.
- the partition wall 42m has a long shape extending in the length direction of the pair of glass substrates 200 and 300, and integrally connects the first side 41a of the peripheral wall 41 and the partition wall 42a.
- the partition wall 42m is formed by deformation of the second partition 422j.
- the partition walls 42a to 42m separate the exhaust spaces 511a to 511h from each other (airtight), and separate the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f from the ventilation space 520 (airtight).
- the buffer spaces 512a and 512b are not separated from each other (airtight), and the buffer spaces 512c to 512f are not separated from each other (airtight).
- the buffer spaces 512a and 512b may be separated (airtight) from each other.
- the buffer spaces 512c to 512f may be separated from each other (airtight). That is, whether or not the buffer spaces 512a to 512f are separated (airtight) from each other is an arbitrary matter.
- the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f are exhausted through the ventilation space 520 and the exhaust port 700, and the internal pressure is lower than that of the ventilation space 520. It is said that.
- the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f are in a vacuum state. Therefore, the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f can be said to be vacuum spaces.
- a vacuum state means the state whose vacuum degree is below a predetermined value. The predetermined value is, for example, 0.1 Pa.
- the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f are completely sealed by the first glass substrate 200, the second glass substrate 300, the peripheral wall 41, and the partition walls 42a to 42m. It is separated.
- the exhaust space 511a is a space surrounded by the second and third sides 41b and 41c of the peripheral wall 41 and the partition walls 42d and 42e.
- the exhaust space 511b is a space surrounded by the third side 41c of the peripheral wall 41 and the partition walls 42c, 42d, and 42g.
- the exhaust space 511c is a space surrounded by the third side 41c of the peripheral wall 41 and the partition walls 42b, 42c, and 42i.
- the exhaust space 511d is a space surrounded by the third side 41c of the peripheral wall 41 and the partition walls 42a, 42b, and 42k.
- the exhaust space 511e is a space surrounded by the second side 41b of the peripheral wall 41 and the partition walls 42d, 42e, and 42f.
- the exhaust space 511f is a space surrounded by the partition walls 42c, 42d, 42g, and 42h.
- the exhaust space 511g is a space surrounded by the partition walls 42b, 42c, 42i, and 42j.
- the exhaust space 511h is a space surrounded by the partition walls 42a, 42b, 42k, and 42l.
- the buffer spaces 512a and 512b are spaces surrounded by the first and third sides 41a and 41c of the peripheral wall 41 and the partition walls 42a and 42m.
- the buffer spaces 512c to 512f are spaces surrounded by the second and fourth sides 41b and 41d of the peripheral wall 41 and the partition walls 42a, 42f, 42h, 42j, and 42l.
- the ventilation space 520 is a space surrounded by the first and fourth sides 41a and 41d of the peripheral wall 41 and the partition walls 42a and 42m.
- the peripheral wall 41 and the partition walls 42a to 42m integrally include a plurality of frames 40 that respectively surround the exhaust spaces 511a to 511h. That is, the portion surrounding the exhaust spaces 511a to 511h in the peripheral wall 41 and the partition walls 42a to 42m constitutes the frame body 40.
- the pressure inside the exhaust spaces 511a to 511h is lower than the ventilation space 520 (that is, atmospheric pressure) in which the exhaust port 700 is included. For this reason, in the portions (exhaust spaces 511a to 511h) used for the glass panel unit 10 (10A to 10H), a force is applied to narrow the distance between the pair of glass substrates 200 and 300. On the other hand, the pressure inside the ventilation space 520 becomes equal to the atmospheric pressure. Therefore, in the ventilation space 520, which is a part not used for the glass panel unit 10 (10A to 10H), a force that resists the force that narrows the distance between the pair of glass substrates 200 and 300 is generated.
- buffer spaces 512a to 512f are provided in portions that are not used for the glass panel unit 10 (10A to 10H).
- the buffer spaces 512a to 512f have a lower internal pressure than the ventilation space 520, like the exhaust spaces 511a to 511h.
- the ventilation space 520 is a rectangular space.
- the glass substrates 200 and 300 have a long side of 2400 mm and a short side of 1500 mm.
- the short side of the ventilation space 520 is 500 mm or less
- the area of the ventilation space 520 in a plan view is preferably 250,000 mm 2 or less.
- the short side of the ventilation space 520 is 350 mm or less, and the area of the ventilation space 520 in plan view is 90,000 mm 2 or less.
- the ratio of the area of the ventilation space 520 to the area of the internal space 500 in plan view is 10% or less, preferably 7% or less, and more preferably 2.5% or less.
- the buffer spaces 512a and 512b are adjacent to the exhaust spaces 511d and 511h, and the buffer spaces 512c to 512f are adjacent to the exhaust spaces 511e to 511h. Therefore, a particularly advantageous effect can be expected in the exhaust spaces 511d to 511h adjacent to the buffer spaces 512a to 512f.
- the manufacturing method of the glass panel unit 10 includes a preparation process and a removal process.
- the preparation step is a step of preparing the work-in-process 110 shown in FIGS. 1 and 2.
- the preparation process includes an assembly process, a first melting process, an exhaust process, and a second melting process.
- the assembly process is a process for preparing the assembly product 100. That is, in the assembly process, in order to obtain the assembly 100, the first glass substrate 200, the second glass substrate 300, the peripheral wall 410, the partition 420, the internal space 500, the air passage 600, the exhaust port 700, and the plurality of gas adsorbers 60 are obtained. , And a step of forming a plurality of pillars 70.
- the assembly process includes first to sixth processes. Note that the order of the second to fifth steps may be changed as appropriate.
- the first step is a step of forming the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 (substrate forming step). For example, in the first step, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are produced. In the first step, the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are cleaned as necessary.
- the second step is a step of forming the exhaust port 700.
- an exhaust port 700 is formed in the second glass substrate 300 as shown in FIG.
- the second glass substrate 300 is cleaned as necessary.
- the third step is a step of placing the peripheral wall 410 and the partition 420 (first partition 421a to 421d, second partition 422a to 422j) (sealing material placement step).
- the third step includes a peripheral wall forming step and a partition forming step.
- the peripheral wall forming step is a step of forming the peripheral wall 410. More specifically, in the peripheral wall forming step, as shown in FIG. 6, the material (first sealing material) M ⁇ b> 10 of the peripheral wall 410 is transferred to one of the pair of glass substrates 200 and 300 (here, the second glass substrate 300) by a dispenser 810. ) To form the peripheral wall 410. In the peripheral wall forming step, as shown in FIG. 6, when the material M10 of the peripheral wall 410 is applied to the second glass substrate 300, the material M10 of the peripheral wall 410 discharged from the nozzle 811 of the dispenser 810 is not pressed by the nozzle 811. I have to.
- the dispenser 810 is moved along the periphery of the second glass substrate 300 as indicated by a path T10 in FIG. 5 while discharging the material M10 from the nozzle 811. Thereafter, the material M10 is dried to form the peripheral wall 410.
- a peripheral wall 410 having first to fourth sides 410a to 410d having a height H1 and a width W1 is obtained.
- the height of the peripheral wall 410 is the dimension of the peripheral wall 410 in the direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
- the height of the peripheral wall 410 is the height H1 of the first to fourth sides 410a to 410d.
- the height H1 and the width W1 can be adjusted by the moving speed of the dispenser 810, the discharge amount of the material M10, and the like.
- the partition forming step is a step of forming the first partitions 421a to 421d and the second partitions 422a to 422j.
- the first partitions 421a to 421d and the second partitions 422a to 422j are collectively referred to as a partition 420.
- a material (second sealing material) M20 of the partition 420 is applied to one of the pair of glass substrates 200 and 300 (here, the second glass substrate 300) by a dispenser 820. This is a step of forming the partition 420.
- the partition forming step includes an application step of applying the material M20 of the plurality of partitions 420 to one of the pair of glass substrates 200 and 300.
- the partition forming step as shown in FIG. 8, when the material M20 of the partition 420 is applied to the second glass substrate 300, the material M20 of the partition 420 discharged from the nozzle 821 of the dispenser 820 is pressed by the nozzle 821. Yes. This is for adjusting the height of the partition 420. In this way, as shown in FIG. 9, a partition 420 having a height H2 lower than the height H1 of the peripheral wall 410 is obtained.
- the height of the partition 420 is a dimension of the partition 420 in a direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
- the width W2 of the partition 420 can be adjusted by the moving speed of the dispenser 820, the discharge amount of the material M20, and the like. However, there is a limit to the range that can be adjusted by the moving speed of the dispenser 820 and the discharge amount of the material M20. Therefore, in this embodiment, in order to make the width W2 of the partition 420 larger than the width of the peripheral wall 410 (that is, the width W1 of the first to fourth sides 410a to 410d), the material M20 of the partition 420 is changed in the width direction of the partition 420. The number of times of application is increased in the adjacent direction.
- the number of times that the material M20 is applied adjacently in the direction that becomes the width direction of the partition 420 is the number of times that the material M10 is applied adjacently in the direction that becomes the width direction of the peripheral wall 410 (width direction of each side 410a to 410d). More than. In other words, when the partition 420 is formed, the number of application rows is larger than when the peripheral wall 410 is formed.
- the material M20 of the partition 420 is applied twice along the direction that becomes the length direction of the partition 420, adjacent to the direction that becomes the width direction of the partition 420, Two coating rows L21 and L22 are formed.
- the dispenser 820 is moved along a square side as shown by paths T21a to T21d and T22a to T22j in FIG. 5 while discharging the material M20 from the nozzle 821.
- the paths T21a to T21d correspond to the first partitions 421a to 421d, respectively.
- the paths T22a to T22j correspond to the second partitions 422a to 422j, respectively.
- the distance D1 between the adjacent coating rows L21 and L22 is set so that the surfaces of the adjacent coating rows L21 and L22 are connected flatly (located on the same plane). This prevents a depression between the surfaces of the adjacent coating rows L21 and L22. In this way, a partition 420 having a flat surface can be obtained as shown in FIG.
- partitions 420 (421a to 421d, 422a to 422j) having a height of H2 and a width of W2 are obtained.
- the partition formation step the material M20 of the partition 420 discharged from the nozzle 821 of the dispenser 820 is pressed by the nozzle 821 of the dispenser 820.
- the partition 420 is made lower than the peripheral wall 410.
- the material M20 in the direction toward the width of the partition 420 is larger than the number of times the material M10 is applied adjacent to the direction in the width direction of each side 410a to 410d of the peripheral wall 410. The number of times of coating is increased.
- the partition 420 is wider than the peripheral wall 410.
- the second partition 422 (422a to 422j) has a bulging portion 425 protruding on both sides in the width direction of the second partition 422 (vertical direction in FIG. 12).
- the bulging portion 425 is wider than the main body portion (center portion) of the second partition 422.
- the bulging portion 425 is spherical. According to the bulging portion 425, when the partition 42 is formed by deforming the first partition 421 and the second partition 422 as shown in FIG. 13, the angle of the corner portion C10 is changed between the first partition 421 and the second partition 421. The angle (90 degrees in this embodiment) at which the partition 422 intersects can be approached.
- the corner portion C10 is a portion including a corner of a connection portion between the region S10 formed by the first partition 421 and the region S20 formed by the second partition 422 in the partition wall 42.
- the angle of the corner portion C10 is greatly different from the angle (90 degrees in the present embodiment) at which the first partition 421 and the second partition 422 intersect.
- the bulging portion 425 is provided at each end portion 423 of the partition 422.
- the partition 420 (the partition wall 42) blocks the ventilation path 600 and becoming narrow. Therefore, a decrease in strength of the partition 420 (partition wall 42) can be reduced, and the yield can be improved.
- the bulging portion 425 may be provided at both end portions 423 of the partition 421. As a result, it is possible to suppress a decrease in strength and a deterioration in appearance at the connection portion between the partition wall 42 and the peripheral wall 41.
- the bulging portion 425 only has to protrude to the exhaust space 511 side at least in the width direction of the second partition 422.
- the bulging portion 425 has at least the exhaust space 511 in the width direction of the second partition 422. It only has to protrude to the side. That is, the bulging portion 425 does not have to protrude toward the space (the buffer space 512 or the ventilation space 520) other than the exhaust space 511 in the width direction of the second partition 422. This is because, in spaces other than the exhaust space 511, a decrease in the strength of the partition wall 42 does not become a big problem.
- the bulging part 425 protrudes on both sides in the width direction of the 2nd partition 422.
- the bulging portion 425 can be formed by adjusting the speed at which the dispenser 820 moves along the path T22 while discharging the material M20 from the nozzle 821. Specifically, the speed at which the material M20 is applied along the short side of the second partition 422 (the speed at which the material M20 is moved along the arrow A12) is set along the long side of the second partition 422. What is necessary is just to make it slower than the speed
- the material M20 is applied along the long side of the second partition 422 at the speed at which the material M20 is applied along the short side of the second partition 422 (the speed at which the material M20 is moved along the arrow A12). It is assumed that the speed is higher than or equal to the speed (arrows A11 and A13). In this case, a tapered end portion 423 having no bulging portion 425 as shown in FIG. 14 is obtained.
- the fourth step is a step of forming the pillar 70 (pillar forming step).
- a plurality of pillars 70 are formed in advance, and the plurality of pillars 70 are arranged at predetermined positions on the second glass substrate 300 using a chip mounter or the like.
- the pillar 70 is disposed across the exhaust spaces 511a to 511h, the buffer spaces 512a to 512d, and the ventilation space 520.
- the pillar 70 is lower than the partition 420.
- the plurality of pillars 70 may be formed using a photolithography technique and an etching technique. In this case, the plurality of pillars 70 are formed using a photocurable material or the like. Alternatively, the plurality of pillars 70 may be formed using a known thin film forming technique.
- the fifth step is a step of forming the gas adsorbent 60 (gas adsorbent forming step).
- the gas adsorber 60 is formed by applying a solution in which getter powder is dispersed to a predetermined position of the second glass substrate 300 using a dispenser and drying the solution.
- the gas adsorber 60 is disposed in each of the exhaust spaces 511a to 511h without being disposed in the buffer spaces 512a to 512f and the ventilation space 520.
- the peripheral wall 410, the partition 420, the air passage 600, the exhaust port 700, the plurality of gas adsorbers 60, and the plurality of gas adsorbers 60 are formed on the second glass substrate 300.
- a pillar 70 is formed.
- the sixth step is a step of arranging the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 (arrangement step).
- the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are arranged so as to be parallel and opposed to each other.
- the assembly 100 is obtained by the assembly process described above. Then, after the assembly process, a first melting process (joining process), an exhaust process, and a second melting process (sealing process) are performed.
- the first melting step is a step in which the peripheral wall 410 is once melted and the pair of glass substrates 200 and 300 are joined airtightly by the peripheral wall 410.
- the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are placed in a melting furnace and heated at a first melting temperature for a predetermined time (first melting time).
- first melting time a predetermined time
- the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are hermetically bonded by the peripheral wall 410, but the air passage 600 is not blocked by the partition 420.
- the lower limit of the first melting temperature is the softening point of the peripheral wall 410, but the upper limit of the first melting temperature is set so that the ventilation path 600 is not blocked by the partition 420.
- the first melting temperature is set to 440 ° C.
- the first melting time is, for example, 10 minutes.
- the assembled product 100 has a ventilation path P10 (P10a to P10h) that penetrates the internal space 500 along the second direction (the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300).
- a ventilation path P10 P10a to P10h
- the assembled product 100 has a ventilation path P10 (P10a to P10h) that penetrates the internal space 500 along the second direction (the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300).
- hot air F10 is sent along the second direction (see FIG. 16). That is, when the assembly 100 is heated, the hot air F10 passes through the ventilation path P10. Accordingly, heat is sufficiently transmitted to the partition 420 in the internal space 500 of the assembly 100, and heating of the assembly 100 (especially heating of the partition 420) is facilitated.
- the yield of the glass panel unit can be improved.
- the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f are exhausted through the vent passage 600, the vent space 520, and the exhaust port 700, and the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f are in a vacuum state (that is, , Vacuum space).
- Exhaust is performed using, for example, a vacuum pump.
- the vacuum pump is connected to the assembly 100 by an exhaust pipe 830 and a seal head 840 as shown in FIG.
- the exhaust pipe 830 is joined to the second glass substrate 300 so that the inside of the exhaust pipe 830 communicates with the exhaust port 700.
- the exhaust pipe 830 and the glass substrate 300 are joined using, for example, an adhesive 850.
- the adhesive 850 is a glass frit.
- a seal head 840 is attached to the exhaust pipe 830, whereby the suction port of the vacuum pump is connected to the exhaust port 700.
- the first melting process, the exhaust process, and the second melting process are performed while the assembly 100 is placed in the melting furnace. Therefore, the exhaust pipe 830 is joined to the second glass substrate 300 at least before the first melting step.
- the exhaust space 511a to 511h and the buffer space 512a are passed through the ventilation path 600, the ventilation space 520 and the exhaust port 700 for a predetermined time (exhaust time) above the exhaust temperature before the start of the second melting process. ⁇ 512f is exhausted.
- the exhaust temperature is set higher than the activation temperature of the getter of the gas adsorber 60 (for example, 350 ° C.) and lower than the softening point of the partition 420 (for example, 434 ° C.).
- the exhaust temperature is 390 ° C. In this way, the partition 420 is not deformed.
- the getter of the gas adsorber 60 is activated, and molecules (gas) adsorbed by the getter are released from the getter.
- the exhaust time is set so that the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f have a desired degree of vacuum (for example, a vacuum degree of 0.1 Pa or less). For example, the exhaust time is set to 120 minutes.
- the second melting step is a step of obtaining the work-in-progress 110 by forming the partition wall 42 by deforming the partition 420 and closing the air passage 600. Further, in the second melting step, the ventilation path 600 is blocked, thereby forming a plurality of frames 40 that respectively surround the exhaust spaces 511a to 511h. As a result, as shown in FIGS. 1, 2 and 17, partition walls 42a to 42m are formed that air-tightly separate the internal space 500 into exhaust spaces 511a to 511h, buffer spaces 512a to 512f, and aeration space 520.
- the partition 420 in the second melting step, is deformed to block the ventilation path 600, and the internal space 500 is separated into the exhaust spaces 511a to 511h, the buffer spaces 512a to 512f, and the ventilation space 520 in an airtight manner.
- This is a step of forming 42 m.
- the partition 420 since the partition 420 is softened, the partition 420 itself does not support the first glass substrate 200, and the first glass substrate 200 is supported by the pillar 70.
- the partition 420 is deformed by once melting the partition 420 at a predetermined temperature (second melting temperature) equal to or higher than the softening point of the partition 420.
- second melting temperature a predetermined temperature
- the first glass substrate 200 and the second glass substrate 300 are heated for a predetermined time (second melting time) at the second melting temperature in the melting furnace.
- the second melting temperature and the second melting time are set so that the partition 420 is softened and the ventilation path 600 is blocked.
- the lower limit of the second melting temperature is the softening point of the partition 420 (for example, 434 ° C.).
- the second melting temperature is set to 460 ° C.
- the second melting time is, for example, 30 minutes.
- the exhaust of the internal space 500 is continued in the second melting process. That is, in the second melting step, the partition 420 is deformed at the second melting temperature while exhausting the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f through the ventilation path 600, the ventilation space 520, and the exhaust port 700. Thus, partition walls 42a to 42m that block the ventilation path 600 are formed. This further prevents the degree of vacuum of the exhaust spaces 511a to 511h and the buffer spaces 512a to 512f from being deteriorated during the second melting step. However, it is not always necessary to continue exhausting the internal space 500 in the second melting step.
- the second melting step may be a step of deforming the partition 420 to block at least the ventilation path 600 other than the ventilation path 600 connecting the buffer spaces 512a to 512f among the plurality of ventilation paths 600. That is, the ventilation path 600 between the buffer spaces 512a to 512f does not necessarily need to be blocked. However, the ventilation path 600 between the buffer spaces 512a to 512f may be closed together with other ventilation paths 600.
- the exhaust pipe 830 is removed after the partition wall 42 is formed.
- the adhesive pipe 830 is removed while leaving the adhesive part 831 adhered to the glass substrate 300, and then the adhesive part 831 is shaved. More specifically, first, as shown in FIG. 18, an impact is applied to the exhaust pipe 830 by a relatively hard object 860, the exhaust pipe 830 is folded, and the exhaust part 830 is left leaving an adhesive portion 831 as shown in FIG. Tube 830 is removed.
- the impact applied to the exhaust pipe 830 by the object 860 is preferably made sufficiently gentle so that the pair of glass substrates 200 and 300 are not broken.
- FIG. 18 an impact is applied to the exhaust pipe 830 by the object 860 is preferably made sufficiently gentle so that the pair of glass substrates 200 and 300 are not broken.
- the adhesive portion 831 of the exhaust pipe 830 is scraped and removed together with the adhesive 850 by the grinder 870.
- the exhaust pipe 830 is removed from the glass substrate 300 as shown in FIG.
- the periphery of the exhaust port 700 of the glass substrate 300 is not a mirror surface but a rough surface R10. It may be considered that the rough surface R10 shows a trace of the bonded portion 831 of the exhaust pipe 830 that has been scraped with a grinder 870 or the like.
- FIG. 21 it is possible to remove the exhaust pipe 830 together with the adhesive 850 with the object 860 without using the grinder 870.
- the in-process product 110 shown in FIGS. 3, 4 and 17 is obtained by the above-described preparation process.
- the peripheral wall 410 and the partition 420 are once melted in the first melting process and the second melting process. Therefore, the interval between the pair of glass substrates 200 and 300 is defined not by the peripheral wall 410 but by the pillar 70.
- the partition 420 and the peripheral wall 410 have different heights, but the same core material is dispersed in the first sealing material and the second sealing material. Therefore, the peripheral wall 41 and the partition wall 42 formed from the partition 420 and the peripheral wall 410 have the same height. As a result, a frame 40 having a uniform height is obtained.
- the removal process is executed after the preparation process.
- the removing step is a step of obtaining the glass panel units 10A to 10H from the work-in-process 110.
- the removing step is a step of obtaining glass panel units 10A to 10H, which are portions having exhaust spaces 511a to 511h, by removing portions 11 (11A, 11B) having buffer spaces 512a to 512f and ventilation space 520. That is, in the removing step, the work-in-process 110 is cut and separated into glass panel units 10A to 10H. In the work-in-process 110, the glass panel units 10A to 10H are integrally formed. Therefore, by cutting the work-in-process 110, the glass panel units 10A to 10H are separated from each other. As an example, as shown in FIG.
- the work-in-progress 110 may be cut along a cutting line 900 along the partition wall 42.
- the plurality of pillars 70 are disposed in the entire internal space 500 (exhaust spaces 511a to 511h, buffer spaces 512a to 512d, and ventilation space 520). Therefore, the stress applied to the pair of glass substrates 200 and 300 when the work-in-process 110 is cut can be dispersed and made uniform by the plurality of pillars 70, and the occurrence of breakage and cutting failure of the pair of glass substrates 200 and 300 can be reduced.
- glass panel units 10A to 10H are obtained from the work-in-process 110 as shown in FIG.
- the portion 11 (11A) including the buffer spaces 512a and 512b and the ventilation space 520 and the portion 11 (11B) including the buffer spaces 512c to 512f are obtained, but these are not used.
- Embodiments of the present disclosure are not limited to the above-described embodiments.
- the above embodiment can be variously modified according to the design and the like as long as the object of the present disclosure can be achieved.
- the modification of the said embodiment is enumerated.
- FIG. 24 shows a work-in-process 110A of a glass panel unit according to a first modification.
- the in-process product 110 ⁇ / b> A of the glass panel unit of the first modification has a partition wall 42 ⁇ / b> A different from the partition wall 42 of the in-process product 110, and the other configuration is the same as the in-process product 110.
- the partition wall 42A hermetically separates the internal space 500 surrounded by the pair of glass substrates 200 and 300 and the peripheral wall 41 into a plurality (seven in the illustrated example) of the exhaust space 511, the buffer space 512, and the ventilation space 520.
- the partition wall 42A separates the plurality of exhaust spaces 511, the buffer spaces 512, and the ventilation spaces 520 in an airtight manner.
- the plurality of exhaust spaces 511 used for the glass panel unit are all rectangular in plan view, but the size and shape are not the same.
- the exhaust space 511 and the buffer space 512 are in a state where the internal pressure is lower than that of the ventilation space 520 (for example, a vacuum state).
- a predetermined portion including the exhaust space 511 excluding a portion including the buffer space 512 and the ventilation space 520 in the work-in-process 110A constitutes the glass panel unit.
- the plurality of pillars 70 are arranged in the entire internal space 500 (seven exhaust spaces 511, buffer spaces 512, and ventilation spaces 520). That is, the plurality of pillars 70 are arranged across the exhaust space 511, the buffer space 512, and the ventilation space 520.
- the gas adsorber 60 is disposed only in each of the exhaust spaces 511. That is, the gas adsorber 60 is disposed not in the buffer space 512 and the ventilation space 520 but in the exhaust space 511.
- the work-in-process 110A can be obtained from the glass panel unit assembly 100A shown in FIG. Similar to the assembly 100, the assembly 100 ⁇ / b> A includes a pair of glass substrates 200 and 300, a peripheral wall 410, a plurality of partitions 420, a plurality of ventilation paths 600, an exhaust port 700, a gas adsorber 60, and pillars. 70.
- the plurality of partitions 420 are provided to form the partition wall 42A. Therefore, the plurality of partitions 420 divide the internal space 500 into a plurality (seven in the illustrated example) of the exhaust space 511, the buffer space 512, and the ventilation space 520. As illustrated in FIG. 25, the plurality of partitions 420 include a plurality (eight in the illustrated example) of first partitions 421 and a plurality (eight in the illustrated example) of second partitions 422.
- the peripheral wall 410 and the partition 420 can be formed by the same method as in the above embodiment.
- the dispenser 810 is discharging the material M10 from the nozzle 811, while the second glass substrate 300 is shown by a path T10 in FIG. What is necessary is just to move along the periphery.
- the partition 420 as shown in the paths T21 and T22 in FIG. 26, while the dispenser 820 discharges the material M20 from the nozzle 821, as in the partition formation process of the above embodiment, the sides of the rectangle 420 are formed. And move along. At this time, an end portion 423 of the partition 420 may be provided with a bulging portion 425 as in the above embodiment.
- the plurality of ventilation paths 600 are used to exhaust the first space (exhaust space 511 and buffer space 512) through the exhaust port 700.
- the exhaust space 511 and the buffer space 512 are connected to the ventilation space 520 (directly or indirectly) via the plurality of ventilation paths 600.
- the peripheral wall 410 and the partition 420 are arranged so as not to contact each other.
- Each of the gaps between the peripheral wall 410 and the partition 420 constitutes a ventilation path 600.
- Each air passage 600 is closed by once melting and deforming the partition 420. Accordingly, at least the exhaust spaces 511 are separated from each other (airtight), and the exhaust space 511 and the buffer space 512 are separated (airtight) from the ventilation space 520.
- the plurality of ventilation paths 600 include a plurality of (first) ventilation paths 610 arranged along a second direction orthogonal to the first direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
- the plurality of first specific ventilation paths 610 form a (first) ventilation path P10 that penetrates the internal space 500 along the second direction (vertical direction in FIG. 25).
- the plurality of ventilation paths 600 include a plurality of (second) specific ventilation paths 620 arranged along a third direction orthogonal to the first direction and intersecting the second direction.
- the plurality of second specific ventilation paths 620 form a (second) ventilation path P20 that penetrates the internal space 500 along the third direction (the left-right direction in FIG. 25).
- the ventilation paths P10 and P20 are shaded for easy understanding.
- the assembly 100A has a plurality of first ventilation paths P10 along the second direction and a plurality of second ventilation paths P20 along the third direction, as shown in FIG. Therefore, the assembly 100A can pass hot air along the third direction in addition to hot air along the second direction. Accordingly, heat is more sufficiently transferred to the partition 420 in the internal space 500 of the assembly 100A, and thus the heating of the partition 420 is facilitated. Accordingly, it is possible to sufficiently remove unnecessary components that become a gas generation source such as a binder contained in the material of the partition 420 (second sealing material) in the first melting step.
- a gas generation source such as a binder contained in the material of the partition 420 (second sealing material) in the first melting step.
- FIG. 27 shows an assembly 100B of a glass panel unit of a second modified example. Similar to the assembly 100A, the assembly 100B can be used to form an in-process product 110A of the glass panel unit of the first modification shown in FIG.
- the assembly 100B includes a pair of glass substrates 200, 300, a peripheral wall 410, a plurality of partitions 420, a plurality of ventilation paths 600, an exhaust port 700, a gas adsorber 60, and pillars. 70.
- the gas adsorber 60 and the pillar 70 are omitted only for the sake of simplicity.
- the plurality of partitions 420 are provided to form the partition wall 42A. Therefore, the plurality of partitions 420 divide the internal space 500 into a plurality (seven in the illustrated example) of the exhaust space 511, the buffer space 512, and the ventilation space 520. As shown in FIG. 27, the plurality of partitions 420 include a plurality (four in the illustrated example) of first partitions 421 and a plurality (four in the illustrated example) of second partitions 422.
- the peripheral wall 410 and the partition 420 can be formed by the same method as in the above embodiment.
- the dispenser 810 discharges the material M10 from the nozzle 811, and the second glass substrate 300 is indicated by a path T10 in FIG. What is necessary is just to move along the periphery.
- the dispenser 820 discharges the material M20 from the nozzle 821, and as shown by paths T21 and T22 in FIG. And move along. At this time, an end portion 423 of the partition 420 may be provided with a bulging portion 425 as in the above embodiment.
- the plurality of ventilation paths 600 are used to exhaust the first space (exhaust space 511 and buffer space 512) through the exhaust port 700.
- the exhaust space 511 and the buffer space 512 are connected to the ventilation space 520 (directly or indirectly) via the plurality of ventilation paths 600.
- the peripheral wall 410 and the partition 420 are arranged so as not to contact each other.
- each of the clearance gaps between the surrounding wall 410 and the partition 420 comprises the ventilation path 600.
- Each air passage 600 is closed by once melting and deforming the partition 420. Accordingly, at least the exhaust spaces 511 are separated from each other (airtight), and the exhaust space 511 and the buffer space 512 are separated (airtight) from the ventilation space 520.
- the plurality of ventilation paths 600 include a plurality of specific ventilation paths 610 arranged along a second direction orthogonal to the first direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
- the plurality of specific ventilation paths 610 form a ventilation path P10 that penetrates the internal space 500 along the second direction (the vertical direction in FIG. 27). In FIG. 27, the ventilation path P10 is shaded for the sake of easy understanding.
- the assembly 100B has a plurality of ventilation paths P10 along the second direction, as shown in FIG.
- a gas generation source such as a binder contained in the material of the partition 420 (second sealing material) in the first melting step.
- the assembled product 100B it is possible to obtain an in-process product 110A (see FIG. 24) that is the same as the assembled product 100A while reducing the number of partitions 420 compared to the assembled product 100A.
- FIG. 29 shows an assembly 100C of a glass panel unit of a third modified example. Similar to the assembled products 100A and 100B, the assembled product 100C can be used to form an in-process product 110A of the glass panel unit of the first modification shown in FIG.
- the assembled product 100C includes a pair of glass substrates 200 and 300, a peripheral wall 410, a plurality of partitions 420, a plurality of ventilation paths 600, an exhaust port 700, and a gas adsorber 60.
- the pillar 70 is provided. In FIG. 29, the gas adsorber 60 and the pillar 70 are omitted only for the sake of simplicity.
- the plurality of partitions 420 are provided to form the partition wall 42A. Therefore, the plurality of partitions 420 divide the internal space 500 into a plurality (seven in the illustrated example) of the exhaust space 511, the buffer space 512, and the ventilation space 520. As illustrated in FIG. 29, the plurality of partitions 420 include a plurality (five in the illustrated example) of first partitions 421 and a plurality (three in the illustrated example) of second partitions 422.
- the peripheral wall 410 and the partition 420 can be formed by the same method as in the above embodiment.
- the dispenser 810 is discharging the material M10 from the nozzle 811, and as shown by a path T10 in FIG. What is necessary is just to move along the periphery.
- the dispenser 820 discharges the material M20 from the nozzle 821, and as shown by paths T21 and T22 in FIG. And move along.
- the bulging part 425 may be provided in the end part 423 of the partition 420 similarly to the said embodiment.
- the plurality of ventilation paths 600 are used to exhaust the first space (exhaust space 511 and buffer space 512) through the exhaust port 700.
- the exhaust space 511 and the buffer space 512 are connected to the ventilation space 520 (directly or indirectly) via the plurality of ventilation paths 600.
- the peripheral wall 410 and the partition 420 are arranged so as not to contact each other.
- each of the clearance gaps between the surrounding wall 410 and the partition 420 comprises the ventilation path 600.
- Each air passage 600 is closed by once melting and deforming the partition 420. Accordingly, at least the exhaust spaces 511 are separated from each other (airtight), and the exhaust space 511 and the buffer space 512 are separated (airtight) from the ventilation space 520.
- the plurality of ventilation paths 600 include a plurality of specific ventilation paths 610 arranged along a second direction orthogonal to the first direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
- the plurality of specific ventilation paths 610 form a ventilation path P10 that penetrates the internal space 500 along the second direction (vertical direction in FIG. 29). In FIG. 29, the ventilation path P10 is shaded for the sake of simplicity.
- the assembled product 100C has the ventilation path P10 along the second direction as shown in FIG.
- a gas generation source such as a binder contained in the material of the partition 420 (second sealing material) in the first melting step.
- an in-process product 110A see FIG. 24
- FIG. 24 it is possible to obtain an in-process product 110A that is the same as the assembled product 100A while reducing the number of partitions 420 compared to the assembled product 100A.
- FIG. 31 shows a state in which the plurality of partitions 420 include a first partition 421 and a second partition 422 whose length directions are different from each other.
- the end portion 423 of the second partition 422 is opposed to the side portion 424 of the first partition 421 with a predetermined interval, and the ventilation path 600 is connected to the end portion 423 of the second partition 422 and the first partition 421. It is a space between the side part 424.
- the second partition 422 has a bulging portion 425 that protrudes on both sides in the width direction (vertical direction in FIG. 31) of the second partition 422 at the end 423.
- the bulging portion 425 has portions protruding in an oblique direction from the end portion 423 on both sides in the width direction of the second partition 422.
- the bulging portion 425 in FIG. 31 has a so-called heart shape.
- the angle of the corner portion C10 can be brought close to the angle (90 degrees in the present embodiment) at which the first partition 421 and the second partition 422 intersect. .
- the bulging portion 425 may be provided at both end portions 423 of the partition 421.
- the bulging part 425 in this modification should just protrude in the exhaust space 511 side at least in the width direction of the 2nd partition 422 similarly to the bulging part 425 of the said embodiment.
- route T23 contains the part (arrow A21, A23, A25, A26) for forming the bulging part 425.
- the speed at which the material M20 is applied by the dispenser 820 may be constant.
- the shape of the bulging portion 425 is not particularly limited as long as it protrudes on both sides in the width direction of the second partition 422.
- the bulging portion 425 may be provided in the partition 420 as necessary regardless of whether the first partition 421 or the second partition 422 is used.
- the end portion 423 of the partition 420 may face the peripheral wall 410 with a predetermined interval, and the ventilation path 600 may be a space between the end portion 423 of the partition 420 and the peripheral wall 410.
- the partition 420 may have a bulging portion 425 at the end portion 423 that protrudes toward the exhaust space 511 at least in the width direction of the partition 420.
- the partition 420 may have a bulging portion 425 protruding to both sides in the width direction of the partition 420 at the end portion 423.
- FIG. 32 shows a state where the plurality of partitions 420 include a first partition 421 and a second partition 422 whose length directions are different from each other. Further, it is assumed that the second partition 422 is between the exhaust spaces 511.
- the end portion 423 of the second partition 422 is opposed to the side portion 424 of the first partition 421 with a predetermined interval, and the ventilation path 600 is connected to the end portion 423 of the second partition 422 and the first partition 421. It is a space between the side part 424.
- the 1st partition 421 protrudes from the side part 424 of the 1st partition 421 so that it may be located in the both sides of the edge part 423 of the 2nd partition 422 in the width direction (up-down direction in FIG. 32) of the 2nd partition 422. Projecting portion 426.
- Each protrusion 426 becomes narrower as it approaches the second partition 422.
- Each protrusion 426 has a so-called arc shape.
- the first partition 421 has a pair of protrusions 426 that protrude from the side portion 424 of the first partition 421 toward the end portion 423 of the second partition 422. In FIG.
- each of the pair of protrusions 426 faces the end 423 of the second partition 422 and is more exhausted than the second partition 422. Close to 511. That is, in FIG. 32, the upper protrusion 426 is closer to the upper exhaust space 511 than the second partition 422, and the lower protrusion 426 is closer to the lower exhaust space 511 than the second partition 422. close.
- the fact that the protrusion 426 is closer to the exhaust space 511 than the second partition 422 means that the center axis X10 of the protrusion 426 is closer to the exhaust space 511 than the center axis X20 of the second partition 422.
- the central axis X10 of the protrusion 426 may be an axis along a line that bisects the protrusion 426 in the width direction.
- the central axis X20 of the second partition 422 may be an axis along a line that bisects the second partition 422 in the width direction.
- the central axis X ⁇ b> 20 of the second partition 422 is between the central axes X ⁇ b> 10 of the pair of protrusions 426.
- the protruding portion 426 also sets the angle of the corner portion C10 to an angle at which the first partition 421 and the second partition 422 intersect (in this embodiment, 90 °), as shown in FIG. Degree).
- 90 ° an angle at which the first partition 421 and the second partition 422 intersect
- at least one of the pair of protrusions 426 may be closer to the exhaust space 511 than the second partition 422.
- one of the pair of protrusions 426 is located in the exhaust space 511 more than the second partition 422. Get closer. That is, at least one of the one or more projecting portions 426 only needs to face the end portion 423 of the second partition 422 and be closer to the exhaust space 511 than the second partition 422.
- the first partition 421 may have only the protruding portion 426 that is closer to the exhaust space 511 than the second partition 422. This is because, in spaces other than the exhaust space 511, a decrease in the strength of the partition wall 42 does not become a big problem.
- the protrusion 426 can be formed by moving the dispenser 820 along the path T24 while discharging the material M20 from the nozzle 821.
- the path T24 includes a path along three sides of a rectangle that temporarily approaches the end 423 side of the partition 422 in order to form the protrusion 426. That is, in the application process, when the material M20 is applied along the long side of the first partition 421, the pair of protrusions 426 is formed by partially approaching the end 423 side of the second partition 422.
- the protrusion 426 can also be formed by moving the dispenser 820 along the path T25 shown in FIG. 33 while discharging the material M20 from the nozzle 821.
- the path T25 includes a path along three sides of a rectangle that temporarily approaches the end 423 side of the partition 422 in order to form the protrusion 426. That is, in the application process, when the material M20 is applied along the long side of the first partition 421, the pair of protrusions 426 may be formed by partially approaching the end 423 side of the second partition 422.
- the shape of the protrusion 426 is not particularly limited as long as it protrudes toward the end 423 of the partition 422. Further, the protruding portion 426 only needs to protrude so as to approach the end portion 423 of the partition 422, and does not need to overlap the end portion 423 in the length direction of the partition 422.
- the protruding portion 426 may be provided on the partition 420 as necessary regardless of whether the first partition 421 or the second partition 422 is provided.
- the second partition 422 does not have the bulging portion 425.
- the second partition 422 may have a bulging portion 425 at the end 423.
- the protruding portion 426 may be provided on the peripheral wall 410.
- the end portion 423 of the partition 420 may face the peripheral wall 410 with a predetermined interval, and the ventilation path 600 may be a space between the end portion 423 of the partition 420 and the peripheral wall 410.
- the peripheral wall 410 may have one or more protrusions 426 that protrude toward the end 423 of the partition 420. At least one of the one or more projecting portions 426 only needs to face the end portion 423 of the partition 420 and be closer to the exhaust space 511 than the partition 420.
- the peripheral wall 410 may have a pair of projecting portions 426 that project so as to be positioned on both sides of the end portion 423 of the partition 420 in the width direction of the partition 420.
- the protrusion part 426 should just protrude so that it may approach the edge part 423 of the target partition 420, and does not need to overlap with the edge part 423 in the length direction of the partition 420.
- the partition 420 may have the bulging portion 425 at the end portion 423.
- the glass panel unit 10 has a rectangular shape, but the glass panel unit 10 may have a desired shape such as a circular shape or a polygonal shape. That is, the first glass panel 20, the second glass panel 30, and the frame body 40 may have a desired shape such as a circular shape or a polygonal shape instead of a rectangular shape.
- each shape of the 1st glass substrate 200, the 2nd glass substrate 300, the surrounding wall 410, the partition 420, and the reinforcement wall 430 is not limited to the shape of the said embodiment,
- the glass panel unit 10 of desired shape is obtained. Any shape can be used.
- the shape and size of the glass panel unit 10 are determined according to the application of the glass panel unit 10.
- the pair of glass panels 20 and 30 may not have the same planar shape and planar size, and may not have the same thickness.
- the pair of glass panels 20 and 30 may not be formed of the same material. These points are the same for the pair of glass substrates 200 and 300.
- the frame body 40 may not have the same planar shape as the pair of glass panels 20 and 30.
- the peripheral walls 41 and 410 may not have the same planar shape as the pair of glass substrates 200 and 300.
- the first sealing material of the peripheral wall 410 (peripheral wall 41) and the second sealing material of the partition 420 (partition wall 42) do not necessarily include the same core material, and may include different core materials. Moreover, the 1st sealing material may contain only the heat adhesive agent, and the 2nd sealing material may also contain only the heat adhesive agent. Moreover, the bulging part 425 and the protrusion part 426 are not essential.
- the peripheral wall 410 is only between the pair of glass substrates 200 and 300, and these are not joined. However, at the stage of the assembly 100, the peripheral wall 410 may join the pair of glass substrates 200 and 300 together. In short, in the assembly 100, the peripheral wall 410 may be between the pair of glass substrates 200 and 300, and it is not essential to join them.
- the air flow path 600 is a gap between the partitions 420 or a gap between the partition 420 and the peripheral wall 410, but may be a through hole formed in the partition 420.
- the air passage 600 may be a gap between the partition 420 and the first glass substrate 200.
- the internal space 500 is partitioned into a plurality of exhaust spaces 511 and buffer spaces 512 and a single ventilation space 520.
- the internal space 500 may be partitioned into one or more exhaust spaces 511, one or more buffer spaces 512, and one or more ventilation spaces 520 by a partition.
- the buffer space 512 is not essential.
- a melting furnace is used to heat the peripheral wall 410, the gas adsorbent 60, and the partition 420.
- the heating can be performed by an appropriate heating means.
- the heating means is, for example, a laser or a heat transfer plate connected to a heat source.
- the assembly 100 has a plurality of air passages 600, but the number of air passages 600 may be one or more.
- the shape of the ventilation path 600 is not specifically limited.
- the assembly 100 should just have the 1 or more ventilation path
- the ventilation path P10 may be in the length direction instead of the width direction of the pair of glass substrates 200 and 300. In short, the ventilation path P10 may be a direction orthogonal to the direction in which the pair of glass substrates 200 and 300 face each other.
- the exhaust port 700 is formed in the second glass substrate 300.
- the exhaust port 700 may be formed in the first glass substrate 200 or may be formed in the peripheral wall 410 (peripheral wall 41).
- the exhaust port 700 may be formed so as to connect the ventilation space 520 and the external space.
- the glass panel unit 10 includes one gas adsorber 60, but the number of gas adsorbers 60 is not particularly limited. Further, the glass panel unit 10 may not include the gas adsorber 60. Further, the gas adsorber 60 may be provided in the buffer space 512 and the ventilation space 520.
- the getter of the gas adsorber 60 is an evaporative getter, but the getter may be a non-evaporable getter.
- the gas adsorber 60 has a long flat plate shape, but may have other shapes. Further, the gas adsorber 60 does not necessarily have to be at the end of the exhaust space 511.
- the gas adsorbent 60 is obtained by a liquid containing getter powder (for example, a dispersion obtained by dispersing getter powder in the liquid or by dissolving the getter powder in the liquid. Formed solution).
- the gas adsorber 60 may include a substrate and a getter fixed to the substrate. Such a gas adsorber 60 can be obtained by immersing the substrate in a liquid containing getter powder and drying it.
- the substrate may have a desired shape, for example, a long rectangular shape.
- the gas adsorber 60 may be a film formed entirely or partially on the surface of the second glass substrate 300. Such a gas adsorber 60 can be obtained by coating the surface of the second glass substrate 300 with a liquid containing getter powder.
- the gas adsorber 60 may be included in the pillar 70.
- the pillar 70 is formed of a material including a getter, the pillar 70 including the gas adsorber 60 can be obtained.
- the gas adsorber 60 may be a solid formed by a getter.
- the plurality of pillars 70 are disposed in the entire internal space 500 (each of the exhaust space 511, the buffer space 512, and the ventilation space 520), but the pillars 70 are disposed in the buffer space 512 and the ventilation space 520. It is not essential to do.
- the glass panel unit 10 includes a plurality of pillars 70, but the glass panel unit 10 may include one pillar 70. Alternatively, the glass panel unit 10 may not include the pillar 70.
- the exhaust space 511 and the buffer space 512 are in a vacuum state, but may be in a reduced pressure state instead of a vacuum state.
- the depressurized state may be a state where the pressure is lower than the atmospheric pressure.
- the assembly (100; 100A; 100B; 100C) of the glass panel unit of the first aspect includes a pair of glass substrates (200, 300) facing each other and a frame between the pair of glass substrates (200, 300). -Shaped peripheral wall (410).
- the assembly (100; 100A; 100B; 100C) further includes a plurality of partitions (420), an exhaust port (700), and a plurality of ventilation paths (600).
- the plurality of partitions (420) partition the internal space (500) surrounded by the pair of glass substrates (200, 300) and the peripheral wall (410) into an exhaust space (511) and a ventilation space (520).
- the exhaust port (700) connects the ventilation space (520) and the external space.
- the plurality of ventilation paths (600) are used to exhaust the exhaust space (511) through the exhaust port (700).
- the plurality of ventilation paths (600) are arranged along the second direction orthogonal to the first direction in which the pair of glass substrates (200, 300) face each other, and the internal space (500) extends in the second direction. It includes a plurality of specific ventilation paths (610) constituting a ventilation path (P10) penetrating along. According to the first aspect, the yield of the glass panel unit (10) can be improved.
- the assembly (100; 100A; 100B; 100C) of the glass panel unit of the second aspect can be realized by a combination with the first aspect.
- the plurality of partitions (420) are along a first direction (421) extending along the second direction and a third direction orthogonal to the first direction and intersecting the second direction.
- a plurality of second partitions (422) extending in the direction.
- the end portions (423) of the plurality of second partitions (422) face the side portions (424) of the first partition (421) with a predetermined interval.
- the plurality of specific ventilation paths (610) are spaces between end portions (423) of the plurality of second partitions (422) and side portions (424) of the first partition (421).
- the ventilation path (P10) can be provided with a simple structure.
- the assembly (100; 100A; 100B; 100C) of the glass panel unit of the third aspect can be realized by a combination with the first or second aspect.
- the plurality of specific ventilation paths (610) include a specific ventilation path (610) that connects the exhaust space (511) and the ventilation space (520) in the second direction. According to the 3rd aspect, the improvement of the yield of a glass panel unit (10) can be aimed at.
- the assembly (100; 100A; 100B; 100C) of the glass panel unit of the fourth aspect can be realized by a combination with the first or second aspect.
- the internal space (520) is partitioned by the plurality of partitions (420) and includes the plurality of exhaust spaces (511).
- the plurality of specific ventilation paths (610) include a specific ventilation path (610) that connects the exhaust spaces (511) adjacent to each other in the second direction among the plurality of exhaust spaces (511). According to the fourth aspect, the yield of the glass panel unit (10) can be improved.
- the assembly (100; 100B; 100C) of the glass panel unit of the fifth aspect can be realized by a combination with the first or second aspect.
- the internal space (520) is partitioned by the plurality of partitions (420) and includes a buffer space (512).
- the plurality of specific ventilation paths (610) include a specific ventilation path (610) that connects the exhaust space (511) and the buffer space (512) in the second direction. According to the fifth aspect, the yield of the glass panel unit (10) can be improved.
- the assembly (100) of the glass panel unit of the sixth aspect can be realized by a combination with the first or second aspect.
- the internal space (520) is partitioned by the plurality of partitions (420) and includes a plurality of buffer spaces (512).
- the plurality of specific ventilation paths (610) include a specific ventilation path (610) that connects the buffer spaces (512) adjacent to each other in the second direction among the plurality of buffer spaces (512). According to the sixth aspect, the yield of the glass panel unit (10) can be improved.
- the assembly (100) of the glass panel unit of the seventh aspect can be realized by a combination with the first or second aspect.
- the internal space (520) is partitioned by the plurality of partitions (420) and includes a buffer space (512).
- the plurality of specific ventilation paths (610) include a specific ventilation path (610) that connects the ventilation space (520) and the buffer space (512) in the second direction. According to the seventh aspect, the yield of the glass panel unit (10) can be improved.
- the assembly (100A) of the glass panel unit of the eighth aspect can be realized by a combination with any one of the first to seventh aspects.
- the plurality of ventilation paths (600) include a plurality of second specific ventilation paths (620) arranged along a third direction orthogonal to the first direction and intersecting the second direction. Including.
- the plurality of second specific ventilation paths (620) constitute a second ventilation path (P20) penetrating the internal space (500) along the third direction.
- the yield of the glass panel unit (10) can be improved.
- the manufacturing method of the glass panel unit according to the ninth aspect includes an assembly process, a joining process, an exhaust process, and a sealing process.
- the assembling step is a step of preparing an assembly (100; 100A; 100B; 100C) of the glass panel unit according to any one of the first to eighth aspects.
- hot air (F10) is sent along the second direction to once melt the peripheral wall (410), and the pair of glass substrates (200, 300) are hermetically joined to each other by the peripheral wall (410). It is a process to do.
- the exhausting step is a step of exhausting the exhaust space (511) through the plurality of ventilation paths (600), the ventilation space (520), and the exhaust port (700).
- the sealing step is a step of closing the plurality of ventilation paths (600) by sending hot air (F10) along the second direction to deform the plurality of partitions (420).
- the unnecessary component used as gas generation sources such as a binder contained in the material of a partition (420), can fully be removed at the time of heating a surrounding wall (410).
- the manufacturing method of the glass panel unit of the tenth aspect can be realized by a combination with the ninth aspect.
- the exhaust space (511) is exhausted through the plurality of vent paths (600), the vent space (520), and the exhaust port (700), A plurality of partitions (420) are deformed.
- exhaustion can be performed efficiently.
- the manufacturing method of the glass panel unit of the eleventh aspect can be realized by a combination with the ninth or tenth aspect.
- the method for manufacturing the glass panel unit further includes a removing step.
- the said removal process is a process of obtaining the glass panel unit (10) which is a part which has the said exhaust space (511) by removing the part which has the said ventilation space (520).
- the glass panel unit (10) without an exhaust port (700) is obtained.
- the manufacturing method of the glass panel unit assembly according to the twelfth aspect is a method for manufacturing the glass panel unit assembly according to any one of the first to eighth aspects.
- the twelfth aspect includes an application step of applying the material (M20) of the plurality of partitions (420) to one of the pair of glass substrates (200, 300).
- the plurality of partitions (420) includes a first partition (421) extending along the second direction and a plurality of second partitions extending along a third direction orthogonal to the first direction and intersecting the second direction.
- the material (M20) is applied so that the end portions (423) of the plurality of second partitions (422) face the side portions (424) of the first partition (421) with a predetermined interval therebetween,
- the plurality of specific ventilation paths (610) are formed. According to the twelfth aspect, the yield of the glass panel unit (10) can be improved.
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Civil Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Securing Of Glass Panes Or The Like (AREA)
Abstract
課題は、ガラスパネルユニットの歩留まりの向上が図れる、ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラスパネルユニットの組立て品の製造方法を提供することである。組立て品(100)は、一対のガラス基板(200,300)と、ガラス基板(200,300)間にある周壁(410)と、仕切り(420)と、排気口(700)と、通気路(600)と、を備える。仕切り(420)は、ガラス基板(200,300)及び周壁(410)で囲まれた内部空間(500)を排気空間(511)と通気空間(520)とに仕切る。排気口(700)は、通気空間(520)と外部空間とをつなぐ。通気路(600)は、排気口(700)を介して排気空間(511)を排気するためのものである。通気路(600)は、ガラス基板(200,300)が互いに対向する第1方向と直交する第2方向に沿って並んで内部空間(500)を第2方向に沿って貫通する通風経路(P10)を構成する特定の通気路(610)を含む。
Description
本開示は、ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラスパネルユニットの組立て品の製造方法に関する。本開示は、特に、一対のガラスパネルの間に空間がある断熱用のガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラスパネルユニットの組立て品の製造方法に関する。
特許文献1は、ガラスパネルユニットの製造方法を開示する。特許文献1のガラスパネルユニットの製造方法では、互いに接合された第一ガラス基板と第二ガラス基板の間には、枠材に囲まれた内部空間が形成される。内部空間は、仕切り材によって、第一空間と第二空間に仕切られる。そして、第一空間内の空気が、通気路と第二空間と通気孔とを介して外部に排出され、第一空間が真空空間に至るまで減圧される。その後に、仕切り材を加熱により溶融して通気路を塞ぐように変形する。これによって、真空空間となった第一空間を備える仮組立ユニット(ガラスパネルユニットの組立て品)が得られる。その後、仮組立ユニットは切断され、第一空間を有する部分と、第二空間を有する部分とに、物理的に分離される。第一空間を有する部分が、ガラスパネルユニットとして用いられる。
特許文献1では、内部空間は、仕切り材によって、第一空間と第二空間に仕切られている。そのため、仮組立ユニットを溶融炉で加熱する際に、熱風が内部空間を通りにくく、仮組立ユニットの加熱が不十分となることがあり得る。これは、歩留りの低下の原因になり得る。
課題は、ガラスパネルユニットの歩留りの向上が図れる、ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラスパネルユニットの組立て品の製造方法を提供することである。
本開示の一態様のガラスパネルユニットの組立て品は、互いに対向する一対のガラス基板と、前記一対のガラス基板間にある枠状の周壁と、複数の仕切りと、排気口と、複数の通気路と、を備える。前記複数の仕切りは、前記一対のガラス基板及び前記周壁で囲まれた内部空間を排気空間と通気空間とに仕切る。前記排気口は、前記通気空間と外部空間とをつなぐ。前記複数の通気路は、前記排気口を介して前記排気空間を排気するために用いられる。前記複数の通気路は、前記一対のガラス基板が互いに対向する第1方向と直交する第2方向に沿って並んで前記内部空間を前記第2方向に沿って貫通する通風経路を構成する複数の特定の通気路を含む。
本開示の一態様のガラスパネルユニットの製造方法は、組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程とを含む。前記組立工程は、前記ガラスパネルユニットの組立て品を用意する工程である。前記接合工程は、前記第2方向に沿って熱風を送って前記周壁を一旦溶融させて前記周壁で前記一対のガラス基板同士を気密に接合する工程である。前記排気工程は、前記複数の通気路と前記通気空間と前記排気口とを介して前記排気空間を排気する工程である。前記封止工程は、前記複数の仕切りを変形させて前記複数の通気路を塞ぐ工程である。
本開示の一態様のガラスパネルユニットの組立て品の製造方法は、前記複数の仕切りの材料を前記一対のガラス基板の一方に塗布する塗布工程を含む。前記複数の仕切りは、前記第2方向に沿って伸びる第1仕切りと、前記第1方向に直交し前記第2方向に交差する第3方向に沿って伸びる複数の第2仕切りとを含む。前記複数の第2仕切りの端部が前記第1仕切りの側部に所定間隔を空けて対向するようにして前記材料を塗布して、前記複数の特定の通気路を形成する。
1.実施形態
1.1 概要
図1及び図2は、一実施形態のガラスパネルユニットの仕掛り品110を示す。ガラスパネルユニットの仕掛り品110は、1以上のガラスパネルユニット(本実施形態では、図23に示すガラスパネルユニット10A~10H)を製造するために利用される。
1.1 概要
図1及び図2は、一実施形態のガラスパネルユニットの仕掛り品110を示す。ガラスパネルユニットの仕掛り品110は、1以上のガラスパネルユニット(本実施形態では、図23に示すガラスパネルユニット10A~10H)を製造するために利用される。
仕掛り品110は、図3及び図4に示す組立て品100からガラスパネルユニット10(10A~10H)を製造する過程で形成される。組立て品100は、互いに対向する一対のガラス基板200,300と、一対のガラス基板200,300間にある枠状の周壁410と、複数の仕切り420と、排気口700と、複数の通気路600と、を備える。複数の仕切り420は、一対のガラス基板200,300及び周壁410で囲まれた内部空間500を排気空間511(511a~511h)と通気空間520とに仕切る。排気口700は、通気空間520と外部空間とをつなぐ。複数の通気路600は、排気口700を介して排気空間511a~511hを排気するために用いられる。複数の通気路600は、複数の特定の通気路610を含む。複数の特定の通気路610は、一対のガラス基板200,300が互いに対向する第1方向と直交する第2方向(図3における上下方向)に沿って並んで内部空間500を第2方向に沿って貫通する通風経路P10(P10a~P10h)を構成する。
組立て品100は、図3に示すように、内部空間500を第2方向(一対のガラス基板200,300の幅方向)に沿って貫通する通風経路P10(P10a~P10h)を有している。そこで、組立て品100を溶融炉内で加熱するにあたって、第2方向に沿って熱風F10を送る(図16参照)。つまり、組立て品100を加熱する際に、熱風F10が通風経路P10内を通過するようにする。これによって、組立て品100の内部空間500にある仕切り420にも熱が十分に伝わるため、組立て品100の加熱(特に仕切り420の加熱)が容易になる。これによって、仕切り420の材料に含まれるバインダ等のガスの発生源となる不要成分を周壁410の加熱時において十分に除去することが可能となる。したがって、このような不要成分から生じるガスに起因する歩留りの低下を低減できる。よって、ガラスパネルユニットの歩留りの向上が図れる。
1.2 構成
以下、ガラスパネルユニット10(10A~10H)、ガラスパネルユニットの組立て品100、及び、ガラスパネルユニットの仕掛り品110について詳細に説明する。組立て品100は、図23に示す複数(ここでは8つ)のガラスパネルユニット10(10A~10H)を製造するために利用される。仕掛り品110は、組立て品100からガラスパネルユニット10(10A~10H)を製造する過程で形成される。なお、以下では、必要に応じて、ガラスパネルユニットの組立て品100を単に「組立て品」といい、ガラスパネルユニットの仕掛り品110を単に「仕掛り品」という。
以下、ガラスパネルユニット10(10A~10H)、ガラスパネルユニットの組立て品100、及び、ガラスパネルユニットの仕掛り品110について詳細に説明する。組立て品100は、図23に示す複数(ここでは8つ)のガラスパネルユニット10(10A~10H)を製造するために利用される。仕掛り品110は、組立て品100からガラスパネルユニット10(10A~10H)を製造する過程で形成される。なお、以下では、必要に応じて、ガラスパネルユニットの組立て品100を単に「組立て品」といい、ガラスパネルユニットの仕掛り品110を単に「仕掛り品」という。
1.2.1 ガラスパネルユニット
まず、ガラスパネルユニット10(10A~10H)について説明する。ガラスパネルユニット10(10A~10H)は、真空断熱ガラスユニットである。真空断熱ガラスユニットは、少なくとも一対のガラスパネルを備える複層ガラスパネルの一種であって、一対のガラスパネル間に真空空間を有している。各ガラスパネルユニット10A~10Hは、図23に示すように、一対のガラスパネル(第1及び第2ガラスパネル)20,30と、枠体40と、を備える。また、各ガラスパネルユニット10A~10Hは、一対のガラスパネル20,30と枠体40とで囲まれた空間(排気空間)511(511a~511h(図1参照))を有する。更に、各ガラスパネルユニット10A~10Hは、排気空間511内に、ガス吸着体60と、複数のピラー(スペーサ)70と、を備える。なお、ガラスパネルユニット10A~10Hはいずれも平面視において四角形状であり、大きさ及び形状も同一である。
まず、ガラスパネルユニット10(10A~10H)について説明する。ガラスパネルユニット10(10A~10H)は、真空断熱ガラスユニットである。真空断熱ガラスユニットは、少なくとも一対のガラスパネルを備える複層ガラスパネルの一種であって、一対のガラスパネル間に真空空間を有している。各ガラスパネルユニット10A~10Hは、図23に示すように、一対のガラスパネル(第1及び第2ガラスパネル)20,30と、枠体40と、を備える。また、各ガラスパネルユニット10A~10Hは、一対のガラスパネル20,30と枠体40とで囲まれた空間(排気空間)511(511a~511h(図1参照))を有する。更に、各ガラスパネルユニット10A~10Hは、排気空間511内に、ガス吸着体60と、複数のピラー(スペーサ)70と、を備える。なお、ガラスパネルユニット10A~10Hはいずれも平面視において四角形状であり、大きさ及び形状も同一である。
一対のガラスパネル20,30は、同形状である。一対のガラスパネル20,30はいずれも矩形の平板状である。一対のガラスパネル20,30の材料は、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。なお、一対のガラスパネル20,30の表面には、コーティングが設けられていてもよい。コーティングの例としては、透明な赤外線反射膜が挙げられる。なお、コーティングは、赤外線反射膜に限定されず、所望の物理特性を有する膜であってもよい。
枠体40は、一対のガラスパネル20,30間にあり、一対のガラスパネル20,30を互いに気密に接合する。これによって、一対のガラスパネル20,30と枠体40とで囲まれた排気空間511が形成される。そして、一対のガラスパネル20,30と枠体40とで囲まれた排気空間511は真空状態となっている。換言すれば、排気空間511は、内部の圧力が大気圧より低い状態となっている。枠体40は、熱接着剤(封着材)で形成されている。言い換えれば、枠体40は、硬化した熱接着剤である。熱接着剤は、例えば、ガラスフリットである。ガラスフリットの例としては、低融点ガラスフリットが挙げられる。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。枠体40は、一対のガラスパネル20,30と同様の多角形(本実施形態では四角形)の枠状である。枠体40は、一対のガラスパネル20,30の外周に沿って形成されている。また、熱接着剤は、ガラスフリットに限定されず、例えば、低融点金属や、ホットメルト接着材などであってもよい。
ガス吸着体60は、排気空間511内に配置される。具体的には、ガス吸着体60は、長尺の平板状であり、ガラスパネル30に配置されている。ガス吸着体60は、不要なガス(残留ガス等)を吸着するために用いられる。不要なガスは、例えば、枠体40を形成する熱接着剤が加熱された際に、熱接着剤から放出されるガスである。ガス吸着体60は、ゲッタを有する。ゲッタは、所定の大きさより小さい分子を吸着する性質を有する材料である。ゲッタは、例えば、蒸発型ゲッタである。蒸発型ゲッタは、所定温度(活性化温度)以上になると、吸着された分子を放出する性質を有している。そのため、蒸発型ゲッタの吸着能力が低下しても、蒸発型ゲッタを活性化温度以上に加熱することで、蒸発型ゲッタの吸着能力を回復させることができる。蒸発型ゲッタは、例えば、ゼオライトまたはイオン交換されたゼオライト(例えば、銅イオン交換されたゼオライト)である。ガス吸着体60は、このゲッタの粉体を備えている。具体的には、ガス吸着体60は、ゲッタの粉体を含む液体(例えばゲッタの粉体を液体に分散して得られた分散液や、ゲッタの粉体を液体に溶解させて得られた溶液)を塗布して固形化することにより形成される。この場合、ガス吸着体60を小さくできる。したがって、排気空間511が狭くてもガス吸着体60を配置できる。
複数のピラー70は、排気空間511内に配置されている。複数のピラー70は、一対のガラスパネル20,30間の間隔を所定間隔に維持するために用いられる。つまり、複数のピラー70は、一対のガラスパネル20,30間の距離を所望の値に維持するために使用される。なお、ピラー70の大きさ、ピラー70の数、ピラー70の間隔、ピラー70の配置パターンは、適宜選択することができる。各ピラー70は、上記所定間隔とほぼ等しい高さを有する円柱状である。例えば、ピラー70は、直径が1mm、高さが100μmである。なお、各ピラー70は、角柱状や球状などの所望の形状であってもよい。
1.2.2 ガラスパネルユニットの組立て品
次に、ガラスパネルユニットの組立て品100について説明する。組立て品100は、図3及び図4に示すように、互いに対向する一対の(第1及び第2)ガラス基板200,300と、周壁410と、第1仕切り421a~421d及び第2仕切り422a~422jと、複数の通気路600と、排気口700と、を備える。また、組立て品100は、複数のガス吸着体60と、複数のピラー(スペーサ)70と、を備える。なお、以下では、第1仕切り421a~421dを特に区別しない場合には、単に、第1仕切り421という。また、第2仕切り422a~422jを特に区別しない場合には、単に第2仕切り422という。更に、第1仕切り421及び第2仕切り422を特に区別しない場合には、単に仕切り420という。
次に、ガラスパネルユニットの組立て品100について説明する。組立て品100は、図3及び図4に示すように、互いに対向する一対の(第1及び第2)ガラス基板200,300と、周壁410と、第1仕切り421a~421d及び第2仕切り422a~422jと、複数の通気路600と、排気口700と、を備える。また、組立て品100は、複数のガス吸着体60と、複数のピラー(スペーサ)70と、を備える。なお、以下では、第1仕切り421a~421dを特に区別しない場合には、単に、第1仕切り421という。また、第2仕切り422a~422jを特に区別しない場合には、単に第2仕切り422という。更に、第1仕切り421及び第2仕切り422を特に区別しない場合には、単に仕切り420という。
第1ガラス基板200は、第1ガラスパネル20の基礎となる部材であり、第1ガラスパネル20と同じ材料で形成されている。第2ガラス基板300は、第2ガラスパネル30の基礎となる部材であり、第2ガラスパネル30と同じ材料で形成されている。第1及び第2ガラス基板200,300は同形状である。第1及び第2ガラス基板200,300はいずれも多角形(本実施形態では長方形)の板状である。本実施形態では、第1ガラス基板200は、ガラスパネルユニット10A~10Hの第1ガラスパネル20を形成可能な大きさであり、第2ガラス基板300は、ガラスパネルユニット10A~10Hの第2ガラスパネル30を形成可能な大きさである。
周壁410は、封着材(第1封着材)で形成されている。第1封着材は、例えば、熱接着剤を含む。熱接着剤は、例えば、ガラスフリットである。ガラスフリットは、例えば、低融点ガラスフリットである。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。また、第1封着材は、芯材を含む。芯材は、枠体40の高さを規定するために用いられる。芯材は、例えば、球状のガラスビーズである。ガラスビーズの径は、枠体40の高さに応じて選択される。このような芯材は、熱接着剤に所定の割合で分散される。一例としては、直径50~300μmのガラスビーズが、熱接着剤に対して0.01~1wt%(体積比で0.03~3%)で含まれている。このような第1封着材は、多孔質であり、溶融されるまでは通気性を有するが、一度溶融された後は通気性を喪失する。
周壁410は、一対のガラス基板200,300間にある。周壁410は、図3に示すように、枠状である。特に、周壁410は、矩形の枠状である。周壁410は、第1及び第2ガラス基板200,300の外周に沿って形成されている。周壁410は、第1~第4辺410a~410dを有する。第1及び第2辺410a,410bは、第1及び第2ガラス基板200,300の幅方向(図3の上下方向)に沿って伸びる。第3及び第4辺410c,410dは、第1及び第2ガラス基板200,300の長さ方向(図3の左右方向)に沿って伸びる。周壁410は、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とを気密に接合するためのものである。これにより、組立て品100では、周壁410と第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とで囲まれた内部空間500が形成される。
複数の仕切り420は、いずれも封着材(第2封着材)で形成されている。第2封着材は、例えば、熱接着剤を含む。熱接着剤は、例えば、ガラスフリットである。ガラスフリットは、例えば、低融点ガラスフリットである。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。本実施形態では、仕切り420の熱接着剤は、周壁410と同じ熱接着剤である。よって、仕切り420と周壁410とは同じ軟化点を有している。また、第2封着材は、第1封着材と同じ芯材を含む。第2封着材においても、芯材は、熱接着剤に所定の割合で分散される。一例としては、直径50~300μmのガラスビーズが、熱接着剤に対して0.01~1wt%(体積比で0.03~3%)で含まれている。このような第2封着材は、第1封着材と同様に、多孔質であり、溶融されるまでは通気性を有するが、一旦溶融された後は通気性を喪失する。
複数の仕切り420は、一対のガラス基板200,300及び周壁410で囲まれた内部空間500を排気空間511(511a~511h)と、緩衝空間512(512a~512f)と、通気空間520とに仕切る。組立て品100では、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fは後に排気される空間(第1空間)である。通気空間520は、第1空間(排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512f)の排気に使用される空間(第2空間)である。特に、排気空間511a~511hは、ガラスパネルユニット10A~10Hを得るために排気される。これに対して、緩衝空間512a~512fは、排気空間511a~511hと同様に排気されるが、これは、ガラスパネルユニット10A~10Hを得るためではなく、ガラスパネルユニット10A~10Hの歩留まりの向上のためである。
図3に示すように、仕切り420は周壁410で囲まれた領域内にある。そして、仕切り420は、いずれも周壁410より低い。そのため、図4に示すように、仕切り420よりも周壁410が先に第1及び第2ガラス基板200,300の両方に接する。図3の例では、仕切り420a~420pが第2ガラス基板300に形成されているから、第1ガラス基板200とは離間している。
複数の仕切り420は、長尺状である。各仕切り420は、長さ方向の両端部423(423a,423b)及び幅方向の両側部424(424a,424b)を有する。なお、図3では、単に図面を見やすくするためだけに、第2仕切り422aについてのみ、符号423(423a,423b)を付し、第1仕切り421dについてのみ、符号424(424a,424b)を付している。複数の仕切り420は、第1仕切り421(421a~421d)と、第2仕切り422(422a~422j)とを含む。第1仕切り421(421a~421d)と第2仕切り422(422a~422j)とは、長さ方向が互いに異なる。より詳細には、第1仕切り421(421a~421d)は、一対のガラス基板200,300が互いに対向する第1方向に直交する第2方向に沿って延びる。本実施形態では、第1方向は、一対のガラス基板200,300の厚み方向(図4における上下方向)である。第2方向は、一対のガラス基板200,300の幅方向(図3における上下方向)である。第2仕切り422(422a~422j)は、第1方向に直交し第2方向に交差する第3方向に沿って延びる。本実施形態では、第3方向は、第2方向に直交している。第3方向は、一対のガラス基板200,300の長さ方向(図3における左右方向)である。
より詳細には、第1仕切り421a,421b,421c,421dは、一対のガラス基板200,300の幅方向(図3の上下方向)に沿って延びる長尺状である。第1仕切り421a,421b,421c,421dの各々では、側部424aは、周壁410の第1辺410a側(図3の右側)の側部であり、側部424bは、周壁410の第2辺410b側(図3の左側)の側部である。
第1仕切り421a,421b,421c,421dは、一対のガラス基板200,300の長さ方向(図3の左右方向)に、周壁410の第1辺410aから第2辺410bに向かって、この順に、間隔を空けて並んでいる。また、第1仕切り421a,421b,421c,421dは、いずれも、周壁410の第3及び第4辺410c,410dとは接触していない。
第2仕切り422a~422jは、一対のガラス基板200,300の長さ向に沿って延びる長尺状である。第2仕切り422a~422jでは、端部423aは、周壁410の第1辺410a側(図3の右側)の端部であり、端部423bは、周壁410の第2辺410b側(図3の左側)の端部である。
第2仕切り422a,422bは、周壁410の第2辺410bと第1仕切り421dとの間にある。第2仕切り422a,422bは、一対のガラス基板200,300の幅方向に、周壁410の第3辺410cから第4辺410dに向かって、この順に、間隔を空けて並んでいる。第2仕切り422a,422bは、周壁410の第2辺410bと第1仕切り421dとにそれぞれ接触していない。特に、第2仕切り422a,422bの端部423aは、第1仕切り421dの側部424bに所定間隔を空けて対向している。
第2仕切り422c,422dは、第1仕切り421c,421d間にある。第2仕切り422c,422dは、一対のガラス基板200,300の幅方向に、周壁410の第3辺410cから第4辺410dに向かって、この順に、間隔を空けて並んでいる。第2仕切り422c,422dは、第1仕切り421c,421dにそれぞれ接触していない。特に、第2仕切り422c,422dの端部423aは、第1仕切り421cの側部424bに所定間隔を空けて対向している。また、第2仕切り422c,422dの端部423bは、第1仕切り421dの側部424aに所定間隔を空けて対向している。
第2仕切り422e,422fは、第1仕切り421b,421c間にある。第2仕切り422e,422fは、一対のガラス基板200,300の幅方向に、周壁410の第3辺410cから第4辺410dに向かって、この順に、間隔を空けて並んでいる。第2仕切り422e,422fは、第1仕切り421b,421cにそれぞれ接触していない。特に、第2仕切り422e,422fの端部423aは、第1仕切り421bの側部424bに所定間隔を空けて対向している。また、第2仕切り422e,422fの端部423bは、第1仕切り421cの側部424aに所定間隔を空けて対向している。
第2仕切り422g,422hは、第1仕切り421a,421b間にある。第2仕切り422g,422hは、一対のガラス基板200,300の幅方向に、周壁410の第3辺410cから第4辺410dに向かって、この順に、間隔を空けて並んでいる。第2仕切り422g,422hは、第1仕切り421a,421bにそれぞれ接触していない。特に、第2仕切り422g,422hの端部423aは、第1仕切り421aの側部424bに所定間隔を空けて対向している。また、第2仕切り422g,422hの端部423bは、第1仕切り421bの側部424aに所定間隔を空けて対向している。
第2仕切り422i,422jは、周壁410の第1辺410aと第1仕切り421aとの間にある。第2仕切り422i,422jは、一対のガラス基板200,300の幅方向に、周壁410の第3辺410cから第4辺410dに向かって、この順に、間隔を空けて並んでいる。第2仕切り422i,422jは、周壁410の第1辺410aと第1仕切り421aとにそれぞれ接触していない。特に、第2仕切り422i,422jの端部423bは、第1仕切り421aの側部424aに所定間隔を空けて対向している。
組立て品100では、排気空間511aは、周壁410の第2及び第3辺410b,410cと第1仕切り421dと第2仕切り422aとで囲まれる空間である。排気空間511bは、周壁410の第3辺410cと第1仕切り421c,421dと第2仕切り422cとで囲まれる空間である。排気空間511cは、周壁410の第3辺410cと第1仕切り421b,421cと第2仕切り422eとで囲まれる空間である。排気空間511dは、周壁410の第3辺410cと第1仕切り421a,421bと第2仕切り422gとで囲まれる空間である。排気空間511eは、周壁410の第2辺410bと第1仕切り421dと第2仕切り422a,422bとで囲まれる空間である。排気空間511fは、第1仕切り421c,421dと第2仕切り422c,422dとで囲まれる空間である。排気空間511gは、第1仕切り421b,421cと第2仕切り422e,422fとで囲まれる空間である。排気空間511hは、第1仕切り421a,421bと第2仕切り422g,422hとで囲まれる空間である。緩衝空間512aは、周壁410の第1及び第3辺410a,410cと第1仕切り421aと第2仕切り422iとで囲まれる空間である。緩衝空間512bは、周壁410の第1辺410aと第1仕切り421aと第2仕切り422i,422jとで囲まれる空間である。緩衝空間512cは、周壁410の第2及び第4辺410b,410dと第1仕切り421dと第2仕切り422bとで囲まれる空間である。緩衝空間512dは、周壁410の第4辺410dと第1仕切り421c,421dと第2仕切り422dとで囲まれる空間である。緩衝空間512eは、周壁410の第4辺410dと第1仕切り421b,421cと第2仕切り422fとで囲まれる空間である。緩衝空間512fは、周壁410の第4辺410dと第1仕切り421a,421bと第2仕切り422hとで囲まれる空間である。通気空間520は、周壁410の第1及び第4辺410a,410dと第1仕切り421aと第2仕切り422jとで囲まれる空間である。
ここで、ガス吸着体60は、図3に示すように、排気空間511a~511hの各々にだけ配置されている。つまり、ガス吸着体60は、緩衝空間512a~512f及び通気空間520ではなく排気空間511a~511hに配置されている。一方、複数のピラー70は、図1に示すように、内部空間500の全体(排気空間511a~511h、緩衝空間512a~512f及び通気空間520の各々)に配置されている。つまり、複数のピラー70は、排気空間511a~511hと緩衝空間512a~512dと通気空間520に亘って配置されている。
複数の通気路600は、排気口700を介して第1空間(排気空間511a~511h及び緩衝空間512a,512b)を排気するために用いられる。複数の通気路600を介して、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fは、通気空間520に(直接的又は間接的に)つながれる。本実施形態では、周壁410と仕切り420(421a~421h,422a~422d)は、互いに接触しないように配置されている。そして、周壁410と仕切り420間の隙間の各々が、通気路600を構成している。各通気路600は、仕切り420を一旦溶融させて変形させることで閉塞される。これによって、少なくとも排気空間511a~511h同士を互いに(気密に)分離するとともに、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fを通気空間520から(気密に)分離する(図1参照)。
本実施形態では、複数の通気路600は、一対のガラス基板200,300が互いに対向する第1方向と直交する第2方向に沿って並ぶ複数の特定の通気路610を有する。複数の特定の通気路610は、内部空間500を第2方向(図3における上下方向)に沿って貫通する通風経路P10(P10a~P10h)を構成する。なお、図3では、単に説明を分かりやすくするためだけに、通風経路P10を網掛けで示している。本実施形態では、通風経路P10aを構成する特定の通気路610は、第2仕切り422a,422bの端部423aと第1仕切り421dの側部424bとの間の空間(隙間)である。通風経路P10bを構成する特定の通気路610は、第2仕切り422c,422dの端部423bと第1仕切り421dの側部424aとの間の空間(隙間)である。通風経路P10cを構成する特定の通気路610は、第2仕切り422c,422dの端部423aと第1仕切り421cの側部424bとの間の空間(隙間)である。通風経路P10dを構成する特定の通気路610は、第2仕切り422e,422fの端部423bと第1仕切り421cの側部424aとの間の空間(隙間)である。通風経路P10eを構成する特定の通気路610は、第2仕切り422e,422fの端部423aと第1仕切り421bの側部424bとの間の空間(隙間)である。通風経路P10fを構成する特定の通気路610は、第2仕切り422g,422hの端部423bと第1仕切り421bの側部424aとの間の空間(隙間)である。通風経路P10gを構成する特定の通気路610は、第2仕切り422g,422hの端部423aと第1仕切り421aの側部424bとの間の空間(隙間)である。通風経路P10hを構成する特定の通気路610は、第2仕切り422i,422jの端部423bと第1仕切り421aの側部424aとの間の空間(隙間)である。
排気口700は、通気空間520と外部空間とをつなぐ。排気口700は、通気空間520及び通気路600を利用して排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fを排気するために用いられる。したがって、通気路600と通気空間520と排気口700とは、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fを排気するための排気路を構成する。排気口700は、通気空間520と外部空間とをつなぐように第2ガラス基板300に形成されている。具体的には、排気口700は、第2ガラス基板300の角部分にある。
1.2.3 ガラスパネルユニットの仕掛り品
次に、ガラスパネルユニットの仕掛り品110について説明する。仕掛り品110は、図1及び図2に示されるように、一対のガラス基板(第1及び第2ガラス基板)200,300と、周壁41と、隔壁42(42a~42m)と、を備える。また、仕掛り品110は、排気空間511a~511hと、緩衝空間512a~512fと、通気空間520とを含む内部空間500を有する。更に、仕掛り品110は、ガス吸着体60と、複数のピラー(スペーサ)70とを、内部空間500内に備える。更に、仕掛り品110は、排気口700を備える。
次に、ガラスパネルユニットの仕掛り品110について説明する。仕掛り品110は、図1及び図2に示されるように、一対のガラス基板(第1及び第2ガラス基板)200,300と、周壁41と、隔壁42(42a~42m)と、を備える。また、仕掛り品110は、排気空間511a~511hと、緩衝空間512a~512fと、通気空間520とを含む内部空間500を有する。更に、仕掛り品110は、ガス吸着体60と、複数のピラー(スペーサ)70とを、内部空間500内に備える。更に、仕掛り品110は、排気口700を備える。
周壁41は、一対のガラス基板200,300間にあり、一対のガラス基板200,300同士を気密に接合する。周壁41は、組立て品100の周壁410を一旦溶融し再度固化することで形成されている。仕掛り品110の周壁41は、組立て品100の周壁410と同様に、枠状である。特に、周壁41は、第1~第4辺41a~41dを有する。第1及び第2辺41a,41bは、第1及び第2ガラス基板200,300の幅方向(図1における上下方向)に沿って伸びる。第3及び第4辺41c,41dは、第1及び第2ガラス基板200,300の長さ方向(図1における左右方向)に沿って伸びる。
隔壁42a~42mは、一対のガラス基板200,300及び周壁41で囲まれた内部空間500を排気空間511a~511hと緩衝空間512a~512fと通気空間520とに気密に分離する。 隔壁42a~42mは、仕切り420(421a~421d,422a~422j)から形成される。より詳細には、隔壁42aは、一対のガラス基板200,300の幅方向に延びる直線状であり、周壁41の第3及び第4辺41c,41d同士を一体に連結する。隔壁42aは、第1仕切り421aの変形により形成される。隔壁42b~42dは、一対のガラス基板200,300の幅方向に延びる長尺状であり、周壁41の第3辺41cに一体に連結される。隔壁42b~42dは、それぞれ第1仕切り421b~421dの変形により形成される。隔壁42e,42fは、一対のガラス基板200,300の長さ方向に延びる長尺状であり、周壁41の第2辺41bと隔壁42dとを一体に連結する。隔壁42e,42fは、それぞれ第2仕切り422a,422bの変形により形成される。隔壁42g,42hは、一対のガラス基板200,300の長さ方向に延びる長尺状であり、周壁41の隔壁42c,42d同士を一体に連結する。隔壁42g,42hは、それぞれ第2仕切り422c,422dの変形により形成される。隔壁42i,42jは、一対のガラス基板200,300の長さ方向に延びる長尺状であり、周壁41の隔壁42b,42c同士を一体に連結する。隔壁42i,42jは、それぞれ第2仕切り422e,422fの変形により形成される。隔壁42k,42lは、一対のガラス基板200,300の長さ方向に延びる長尺状であり、周壁41の隔壁42a,42b同士を一体に連結する。隔壁42k,42lは、それぞれ第2仕切り422g,422hの変形により形成される。隔壁42mは、一対のガラス基板200,300の長さ方向に延びる長尺状であり、周壁41の第1辺41aと隔壁42aとを一体に連結する。隔壁42mは、第2仕切り422jの変形により形成される。
特に、隔壁42a~42mは、排気空間511a~511h同士を互いに(気密に)分離するとともに、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fを通気空間520から(気密に)分離する。なお、本実施形態では、緩衝空間512a,512bは互いに(気密に)分離されておらず、緩衝空間512c~512fも互いに(気密に)分離されていない。ただし、緩衝空間512a,512bは互いに(気密に)分離されていてもよい。同様に、緩衝空間512c~512fも互いに(気密に)分離されていてもよい。つまり、緩衝空間512a~512f同士が互いに(気密に)分離されるかどうかは任意の事項である。
仕掛り品110では、組立て品100とは異なり、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fは、通気空間520及び排気口700を介して排気されて、通気空間520より内部の圧力が低い状態とされている。本実施形態では、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fは、真空状態とされている。したがって、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fは、真空空間であるといえる。なお、真空状態は、真空度が所定値以下の状態をいう。所定値は、例えば、0.1Paである。排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fは、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300と周壁41と隔壁42a~42mとで完全に密閉されているから、通気空間520及び排気口700から分離されている。
仕掛り品110では、排気空間511aは、周壁41の第2及び第3辺41b,41cと隔壁42d,42eとで囲まれる空間である。排気空間511bは、周壁41の第3辺41cと隔壁42c,42d,42gとで囲まれる空間である。排気空間511cは、周壁41の第3辺41cと隔壁42b,42c,42iとで囲まれる空間である。排気空間511dは、周壁41の第3辺41cと隔壁42a,42b,42kとで囲まれる空間である。排気空間511eは、周壁41の第2辺41bと隔壁42d,42e,42fとで囲まれる空間である。排気空間511fは、隔壁42c,42d,42g,42hで囲まれる空間である。排気空間511gは、隔壁42b,42c,42i,42jで囲まれる空間である。排気空間511hは、隔壁42a,42b,42k,42lで囲まれる空間である。緩衝空間512a,512bは、周壁41の第1及び第3辺41a,41cと隔壁42a,42mとで囲まれる空間である。緩衝空間512c~512fは、周壁41の第2及び第4辺41b,41dと隔壁42a,42f,42h,42j,42lとで囲まれる空間である。通気空間520は、周壁41の第1及び第4辺41a,41dと隔壁42a,42mとで囲まれる空間である。
このように、周壁41及び隔壁42a~42mは、排気空間511a~511hをそれぞれ囲う複数の枠体40を一体に含んでいる。つまり、周壁41及び隔壁42a~42mにおいて各排気空間511a~511hを囲う部分が枠体40を構成する。
仕掛り品110では、排気空間511a~511hの内部の圧力が排気口700の含まれる通気空間520(つまり、大気圧)より低い。そのため、ガラスパネルユニット10(10A~10H)に利用される部位(排気空間511a~511h)においては一対のガラス基板200,300間の間隔を狭める力がかかる。一方で、通気空間520の内部の圧力は大気圧に等しくなる。そのため、ガラスパネルユニット10(10A~10H)に利用されない部位である通気空間520では一対のガラス基板200,300間の間隔を狭める力に抵抗する力が発生する。本実施形態では、ガラスパネルユニット10(10A~10H)に利用されない部位に、緩衝空間512a~512fが設けられている。そして、緩衝空間512a~512fは、排気空間511a~511hと同様に、内部の圧力が通気空間520より低い。このような緩衝空間512a~512fを設けることで、仕掛り品110において、内部の圧力が大気圧に等しい部位(つまり、一対のガラス基板200,300間の間隔を狭める力に抵抗する力が発生する部位)を減らすことができる。その結果、一対のガラス基板200,300における排気空間511a~511hに対応する部位とそれ以外の部位との圧力差に起因する影響を低減できる。したがって、このような圧力差に起因して一対のガラス基板200,300や隔壁42a~42mが破損する可能性を低減できる。よって、ガラスパネルユニットの仕掛り品110では、歩留りの向上が図れる。本実施形態では、仕掛り品110において、通気空間520は矩形状の空間である。あくまでも一例であるが、ガラス基板200,300のサイズが長辺2400mm、短辺1500mmであるとする。この場合、通気空間520の短辺は、500mm以下であり、通気空間520の平面視における面積は250,000mm2以下であるとよい。より好ましくは、通気空間520の短辺は350mm以下であり、通気空間520の平面視における面積は90,000mm2以下であるとよい。別の観点から言えば、平面視における、内部空間500の面積に対する通気空間520の面積の割合は、10%以下、好ましくは7%以下、より好ましくは2.5%以下であるとよい。特に、緩衝空間512a,512bは、排気空間511d,511hに隣接し、緩衝空間512c~512fは、排気空間511e~511hに隣接している。そのため、緩衝空間512a~512fに隣接する排気空間511d~511hにおいて特に有利な効果が見込まれ得る。
1.3 製造方法
次に、組立て品100を用いた、ガラスパネルユニット10(10A~10H)の製造方法について図3~図23を参照して説明する。ガラスパネルユニット10の製造方法は、準備工程と、除去工程とを含む。
次に、組立て品100を用いた、ガラスパネルユニット10(10A~10H)の製造方法について図3~図23を参照して説明する。ガラスパネルユニット10の製造方法は、準備工程と、除去工程とを含む。
準備工程は、図1及び図2に示す仕掛り品110を用意する工程である。準備工程は、組立工程と、第1溶融工程と、排気工程と、第2溶融工程とを含む。
組立工程は、組立て品100を用意する工程である。つまり、組立工程は、組立て品100を得るために、第1ガラス基板200、第2ガラス基板300、周壁410、仕切り420、内部空間500、通気路600、排気口700、複数のガス吸着体60、及び複数のピラー70を形成する工程である。組立工程は、第1~第6工程を有する。なお、第2~第5工程の順番は、適宜変更してもよい。
第1工程は、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300を形成する工程(基板形成工程)である。例えば、第1工程では、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300を作製する。また、第1工程では、必要に応じて、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300を洗浄する。
第2工程は、排気口700を形成する工程である。第2工程では、図5に示すように、第2ガラス基板300に、排気口700を形成する。また、第2工程では、必要に応じて、第2ガラス基板300を洗浄する。
第3工程は、周壁410及び仕切り420(第1仕切り421a~421d、第2仕切り422a~422j)を配置する工程(封着材配置工程)である。第3工程は、周壁形成工程及び仕切り形成工程を含む。
周壁形成工程は、周壁410を形成する工程である。より詳細には、周壁形成工程は、図6に示すように、ディスペンサ810により周壁410の材料(第1封着材)M10を一対のガラス基板200,300の一方(ここでは第2ガラス基板300)に塗布して周壁410を形成する工程である。周壁形成工程では、図6に示すように、周壁410の材料M10を第2ガラス基板300に塗布する際に、ディスペンサ810のノズル811から吐出された周壁410の材料M10をノズル811で押圧しないようにしている。そして、ディスペンサ810を、ノズル811から材料M10を吐出しながら、図5に経路T10で示すように、第2ガラス基板300の周縁に沿って移動させる。その後、材料M10を乾燥させて周壁410を形成する。これにより、図7に示すように、第1~第4辺410a~410dが高さH1と幅W1を持つ周壁410が得られる。周壁410の高さは、一対のガラス基板200,300が対向する方向における周壁410の寸法である。本実施形態では、周壁410の高さは、第1~第4辺410a~410dの高さH1である。高さH1及び幅W1は、ディスペンサ810の移動速度及び材料M10の吐出量等により調整され得る。
仕切り形成工程は、第1仕切り421a~421d及び第2仕切り422a~422jを形成する工程である。仕切り形成工程の説明において、第1仕切り421a~421d及び第2仕切り422a~422jを区別する必要がない場合には、第1仕切り421a~421d及び第2仕切り422a~422jを一括して仕切り420という。この仕切り形成工程は、図8に示すように、ディスペンサ820により仕切り420の材料(第2封着材)M20を一対のガラス基板200,300の一方(ここでは第2ガラス基板300)に塗布して仕切り420を形成する工程である。このように、仕切り形成工程は、複数の仕切り420の材料M20を一対のガラス基板200,300の一方に塗布する塗布工程を含む。仕切り形成工程では、図8に示すように、仕切り420の材料M20を第2ガラス基板300に塗布する際に、ディスペンサ820のノズル821から吐出された仕切り420の材料M20をノズル821で押圧している。これは、仕切り420の高さを調整するためである。このようにすれば、図9に示すように、周壁410の高さH1より低い高さH2を持つ仕切り420が得られる。仕切り420の高さは、一対のガラス基板200,300が対向する方向における仕切り420の寸法である。仕切り420の幅W2は、ディスペンサ820の移動速度及び材料M20の吐出量等により調整され得る。しかしながら、ディスペンサ820の移動速度及び材料M20の吐出量等により調整できる範囲には限界がある。そこで、本実施形態では、仕切り420の幅W2を周壁410の幅(つまり、第1~第4辺410a~410dの幅W1)より大きくするために、仕切り420の材料M20を仕切り420の幅方向となる方向に隣接させて塗布する回数を増やしている。つまり、仕切り420の幅方向となる方向に材料M20を隣接させて塗布する回数は、周壁410の幅方向(各辺410a~410dの幅方向)となる方向に材料M10を隣接させて塗布する回数よりも多い。言い換えれば、仕切り420を形成する場合に、周壁410を形成する場合よりも、塗布列を多くしている。
本実施形態では、図10に示すように、仕切り420の材料M20を、仕切り420の幅方向となる方向に隣接させて、仕切り420の長さ方向となる方向に沿って2回塗布して、2つの塗布列L21,L22を形成している。具体的には、ディスペンサ820を、ノズル821から材料M20を吐出しながら、図5に経路T21a~T21d,T22a~T22jで示すように、四角形の辺に沿って移動させる。なお、経路T21a~T21dは、それぞれ第1仕切り421a~421dに対応する。また、経路T22a~T22jは、それぞれ第2仕切り422a~422jに対応する。なお、経路T21a~T21dを区別しない場合、必要に応じて符号T21を用い、経路T22a~T22jを区別しない場合、必要に応じて符号T22を用いる。ここで、隣接する塗布列L21,L22間の間隔D1は、隣接する塗布列L21,L22の表面が平坦につながる(同一平面上に位置する)ように設定されている。これによって、隣接する塗布列L21,L22の表面間の窪みが生じないようにしている。このようにすれば、図11に示すように、表面が平坦な仕切り420が得られる。
その後、材料M20を乾燥させて仕切り420を形成する。これにより、図11に示すように、H2の高さとW2の幅を持つ仕切り420(421a~421d,422a~422j)が得られる。このように、仕切り形成工程では、ディスペンサ820のノズル821から吐出された仕切り420の材料M20をディスペンサ820のノズル821で押圧している。これによって、仕切り420が周壁410より低くなるようにしている。また、仕切り形成工程では、上述したように、周壁410の各辺410a~410dの幅方向となる方向に材料M10を隣接させて塗布する回数よりも、仕切り420の幅向となる方向に材料M20を隣接させて塗布する回数を多くしている。これによって、仕切り420が周壁410よりも幅が広くなるようにしている。
本実施形態では、図12に示すように、第2仕切り422(422a~422j)は、第2仕切り422の幅方向(図12における上下方向)において両側に突出する膨出部425を端部423に有している。膨出部425は、第2仕切り422の本体部分(中央部分)よりも幅が広い。図12では、膨出部425は、球状である。この膨出部425によれば、図13に示すように第1仕切り421及び第2仕切り422を変形させて隔壁42を形成した際に、角部分C10の角度を、第1仕切り421と第2仕切り422とが交差する角度(本実施形態では、90度)に近付けることができる。角部分C10は、隔壁42において第1仕切り421で形成される領域S10と第2仕切り422で形成される領域S20との接続部分の角を含む部分である。例えば、図14に示すように、第2仕切り422が端部423に膨出部425を有していない場合には、図15に示すように、領域S10と領域S20との接続部分にくびれ(窪み)が生じ得る。この場合、角部分C10の角度が第1仕切り421と第2仕切り422とが交差する角度(本実施形態では、90度)と大きく異なってしまう。このような接続部分のくびれは、隔壁42の強度の低下や見た目の悪化の原因になる。本実施形態では、膨出部425は、仕切り422の両端部423にそれぞれ設けられている。そのため、仕切り420(隔壁42)が通気路600を塞いだ部分において窪みが生じて細くなってしまうことを抑制できる。そのため、仕切り420(隔壁42)の強度の低下を低減でき、歩留りの向上が図れる。特に、仕切り421,422で形成される領域S10,S20間の接続部分での強度の低下や見た目の悪化を抑制できる。更に、膨出部425は、仕切り421の両端部423にも設けられていてよい。これによって、隔壁42と周壁41との間の接続部分での強度の低下や見た目の悪化を抑制できる。なお、膨出部425は、少なくとも、第2仕切り422の幅方向において排気空間511側に突出していればよい。例えば、第2仕切り422が排気空間511とそれ以外の空間(緩衝空間512又は通気空間520)との間にある場合、膨出部425は、少なくとも、第2仕切り422の幅方向において排気空間511側に突出していればよい。つまり、膨出部425は、第2仕切り422の幅方向において、排気空間511以外の空間(緩衝空間512又は通気空間520)側に突出していなくてよい。排気空間511以外の空間については、隔壁42の強度の低下は大きな問題にならないからである。なお、第2仕切り422が排気空間511間にある場合、もちろん、膨出部425は、第2仕切り422の幅方向において両側に突出することが好ましい。
膨出部425は、ディスペンサ820をノズル821から材料M20を吐出しながら経路T22に沿って移動させる速度を調整することで形成できる。具体的には、材料M20を第2仕切り422の短辺に沿って塗布する際の速度(矢印A12に沿って移動させる際の速度)を、材料M20を第2仕切り422の長辺に沿って塗布する際の速度(矢印A11,A13)よりも遅くすればよい。これによって、図12に示すような膨出部425が得られる。ここで、材料M20を第2仕切り422の短辺に沿って塗布する際の速度(矢印A12に沿って移動させる際の速度)を、材料M20を第2仕切り422の長辺に沿って塗布する際の速度(矢印A11,A13)以上としたとする。この場合には、図14に示すような膨出部425のない先細りの端部423が得られる。
第4工程は、ピラー70を形成する工程(ピラー形成工程)である。第4工程では、複数のピラー70を予め形成しておき、チップマウンタなどを利用して、複数のピラー70を、第2ガラス基板300の所定位置に配置する。特に、第4工程では、ピラー70を、排気空間511a~511hと緩衝空間512a~512dと通気空間520に亘って配置する。ここで、ピラー70は、仕切り420より低くしている。なお、複数のピラー70は、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して形成されていてもよい。この場合、複数のピラー70は、光硬化性材料などを用いて形成される。あるいは、複数のピラー70は、周知の薄膜形成技術を利用して形成されていてもよい。
第5工程は、ガス吸着体60を形成する工程(ガス吸着体形成工程)である。第5工程では、ディスペンサなどを利用して、ゲッタの粉体が分散された溶液を第2ガラス基板300の所定位置に塗布し、乾燥させることで、ガス吸着体60を形成する。特に、第5工程では、ガス吸着体60を、緩衝空間512a~512f及び通気空間520には配置せずに、排気空間511a~511hの各々に配置する。
第1工程から第5工程が終了することで、図16に示すように、第2ガラス基板300に、周壁410、仕切り420、通気路600、排気口700、複数のガス吸着体60及び複数のピラー70が形成される。
第6工程は、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とを配置する工程(配置工程)である。第6工程では、図16に示すように、第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とは、互いに平行かつ対向するように配置される。
上述した組立工程によって、組立て品100が得られる。そして、組立工程の後には、第1溶融工程(接合工程)と、排気工程と、第2溶融工程(封止工程)とが実行される。
第1溶融工程は、周壁410を一旦溶融させて周壁410で一対のガラス基板200,300同士を気密に接合する工程である。具体的には、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300は、溶融炉内に配置され、第1溶融温度で所定時間(第1溶融時間)だけ加熱される。第1溶融温度及び第1溶融時間は、周壁410によって第1ガラス基板200と第2ガラス基板300とが気密に接合されるが、仕切り420によって通気路600が塞がれることがないように、設定される。つまり、第1溶融温度の下限は、周壁410の軟化点であるが、第1溶融温度の上限は、仕切り420によって通気路600が塞がれることがないように設定される。例えば、周壁410及び仕切り420の軟化点が434℃である場合、第1溶融温度は、440℃に設定される。また、第1溶融時間は、例えば、10分である。また、第1溶融工程では、周壁410が軟化するため、周壁410自体は第1ガラス基板200を支えなくなり、第1ガラス基板200は仕切り420で支持される。
本実施形態では、組立て品100は、図3に示すように、内部空間500を第2方向(一対のガラス基板200,300の幅方向)に沿って貫通する通風経路P10(P10a~P10h)を有している。そこで、第1溶融工程では、組立て品100を溶融炉内で加熱するにあたって、第2方向に沿って熱風F10を送る(図16参照)。つまり、組立て品100を加熱する際に、熱風F10が通風経路P10内を通過するようにする。これによって、組立て品100の内部空間500にある仕切り420にも熱が十分に伝わるため、組立て品100の加熱(特に仕切り420の加熱)が容易になる。これによって、仕切り420の材料(第2封着材)に含まれるバインダ等のガスの発生源となる不要成分を第1溶融工程において十分に除去することが可能となる。したがって、このような不要成分から生じるガスに起因する歩留りの低下を低減できる。よって、ガラスパネルユニットの歩留りの向上が図れる。
排気工程は、通気路600と通気空間520と排気口700とを介して排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fを排気して排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fを真空状態(つまり、真空空間)とする工程である。排気は、例えば、真空ポンプを用いて行われる。真空ポンプは、図16に示されるように、排気管830と、シールヘッド840と、により組立て品100に接続される。排気管830は、排気管830の内部と排気口700とが連通するように第2ガラス基板300に接合される。排気管830とガラス基板300との接合は、例えば、接着材850を利用して行われる。接着材850は、一例として、ガラスフリットである。そして、排気管830にシールヘッド840が取り付けられ、これによって、真空ポンプの吸気口が排気口700に接続される。第1溶融工程と排気工程と第2溶融工程とは、組立て品100を溶融炉内に配置したまま行われる。そのため、排気管830は、少なくとも第1溶融工程の前に、第2ガラス基板300に接合される。
排気工程では、第2溶融工程の開始前までに、排気温度以上で所定時間(排気時間)は、通気路600と通気空間520と排気口700とを介して排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fを排気する。排気温度は、ガス吸着体60のゲッタの活性化温度(例えば、350℃)より高く、かつ、仕切り420の軟化点(例えば434℃)より低く設定される。例えば、排気温度は、390℃である。このようにすれば、仕切り420は変形しない。また、ガス吸着体60のゲッタが活性化し、ゲッタが吸着していた分子(ガス)がゲッタから放出される。そして、ゲッタから放出された分子(つまりガス)は、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512f、通気路600、通気空間520、及び、排気口700を通じて排出される。したがって、排気工程では、ガス吸着体60の吸着能力が回復する。排気時間は、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fの所望の真空度(例えば、0.1Pa以下の真空度)を有する状態になるように設定される。例えば、排気時間は、120分に設定される。
第2溶融工程は、仕切り420を変形させて通気路600を塞ぐことで隔壁42を形成して仕掛り品110を得る工程である。また、第2溶融工程では、通気路600が塞がれることで、排気空間511a~511hをそれぞれ囲む複数の枠体40が形成される。これによって、図1、図2及び図17に示すように、内部空間500を排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fと通気空間520とに気密に分離する隔壁42a~42mが形成される。換言すれば、第2溶融工程は、仕切り420を変形させて通気路600を塞いで内部空間500を排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fと通気空間520とに気密に分離する隔壁42a~42mを形成する工程である。なお、第2溶融工程では、仕切り420が軟化するため、仕切り420自体は第1ガラス基板200を支えなくなり、第1ガラス基板200はピラー70で支持される。
より詳細には、仕切り420の軟化点以上の所定温度(第2溶融温度)で仕切り420を一旦溶融させることで、仕切り420を変形させる。具体的には、第1ガラス基板200及び第2ガラス基板300は、溶融炉内で、第2溶融温度で所定時間(第2溶融時間)だけ加熱される。第2溶融温度及び第2溶融時間は、仕切り420が軟化し、通気路600が塞がれるように設定される。第2溶融温度の下限は、仕切り420の軟化点(例えば434℃)である。例えば、第2溶融温度は、460℃に設定される。また、第2溶融時間は、例えば、30分である。
第2溶融工程でも、内部空間500の排気を継続している。つまり、第2溶融工程では、第2溶融温度で、通気路600と通気空間520と排気口700とを介して排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fを排気しながら、仕切り420を変形させて通気路600を塞ぐ隔壁42a~42mを形成する。これによって、第2溶融工程中に、排気空間511a~511h及び緩衝空間512a~512fの真空度が悪化することがさらに防止される。ただし、第2溶融工程では、必ずしも、内部空間500の排気を継続する必要はない。また、第2溶融工程は、仕切り420を変形させて、少なくとも、複数の通気路600のうち緩衝空間512a~512f間を繋ぐ通気路600以外の通気路600を塞ぐ工程であってよい。つまり、緩衝空間512a~512f間の通気路600は必ずしも塞がれる必要はない。ただし、緩衝空間512a~512f間の通気路600も他の通気路600とともに塞いでよい。
なお、封止工程では、隔壁42の形成後に、排気管830を除去する。排気管830を除去するにあたっては、ガラス基板300に接着された接着部分831を残して排気管830を除去してから接着部分831を削る。より詳細には、最初に、図18に示すように、比較的固い物体860により排気管830に衝撃を与えて、排気管830を折り、図19に示すように、接着部分831を残して排気管830を除去する。物体860により排気管830に与える衝撃は、一対のガラス基板200,300が割れたりしないように、十分に緩やかにすることが好ましい。次に、図19に示すように、グラインダ870によって、排気管830の接着部分831を接着材850とともに削って除去する。これによって、図20に示すように、排気管830がガラス基板300から除去される。この場合、ガラス基板300の排気口700の周囲は、鏡面ではなく粗面R10になる。粗面R10は、排気管830の接着部分831をグラインダ870等で削った痕跡を示していると考えてよい。ここで、図21に示すように、グラインダ870を用いずに、物体860で接着材850と一緒に排気管830を除去することも考えられる。しかしながら、物体860で接着材850と一緒に排気管830を除去するには排気管830だけを折る場合に比べて大きな衝撃が必要になり、一対のガラス基板200,300が割れる可能性がある。また、この場合には、図22に示すように、接着材850を完全には除去できず、接着材850の残留物R20がガラス基板300の排気口700の周囲に存在する。このような残留物R20は、ガラス基板300の表面から突出しているから、仕掛り品110の運搬等の際に邪魔になることがある。例えば、複数の仕掛り品110の運搬時に、複数の仕掛り品110を重ねようとした際に、残留物R20が他の仕掛り品110に当たって邪魔になったり、損傷を与えたりする可能性がある。図18~図20に示す方法によれば、物体860による衝撃を小さくでき、しかも、残留物R20が発生しない。よって、ガラス基板200,300の破損の可能性を低減でき、仕掛り品110の運搬が容易になる。
上述した準備工程によって、図3、図4及び図17に示す仕掛り品110が得られる。仕掛り品110では、第1溶融工程及び第2溶融工程で周壁410及び仕切り420が一旦溶融される。そのため、一対のガラス基板200,300間の間隔は、周壁410ではなく、ピラー70によって規定される。なお、仕切り420と周壁410とは高さが異なっているが、第1封着材及び第2封着材には同じ芯材を分散させている。そのため、仕切り420と周壁410から形成される周壁41と隔壁42とは同じ高さを有することになる。これによって、均一な高さの枠体40が得られる。
除去工程は、準備工程の後に実行される。除去工程は、仕掛り品110からガラスパネルユニット10A~10Hを得る工程である。除去工程は、緩衝空間512a~512f及び通気空間520を有する部分11(11A,11B)を除去することで、排気空間511a~511hを有する部分であるガラスパネルユニット10A~10Hを得る工程である。つまり、除去工程では、仕掛り品110を切断してガラスパネルユニット10A~10Hに分離する。仕掛り品110では、ガラスパネルユニット10A~10Hが一体に形成されているから、仕掛り品110を切断することによって、ガラスパネルユニット10A~10Hを相互に分離する。一例としては、図1に示すように、仕掛り品110(特に、ガラス基板200,300)を、隔壁42に沿った切断線900に沿って切断すればよい。本実施形態では、複数のピラー70が、内部空間500の全体(排気空間511a~511hと緩衝空間512a~512dと通気空間520の各々)に配置されている。そのため、仕掛り品110の切断時に一対のガラス基板200,300にかかる応力を複数のピラー70で分散して均一にでき、一対のガラス基板200,300の破損や切断不良の発生を低減できる。
上述した除去工程によって、図23に示すように、仕掛り品110から、ガラスパネルユニット10A~10Hが得られる。このとき、緩衝空間512a,512b及び通気空間520を含む部分11(11A)及び緩衝空間512c~512fを含む部分11(11B)が得られるが、これらは使用されない。
2.変形例
本開示の実施形態は、上記実施形態に限定されない。上記実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。以下に、上記実施形態の変形例を列挙する。
本開示の実施形態は、上記実施形態に限定されない。上記実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。以下に、上記実施形態の変形例を列挙する。
2.1 第1変形例
図24は、第1変形例のガラスパネルユニットの仕掛り品110Aを示す。図24に示すように、第1変形例のガラスパネルユニットの仕掛り品110Aは、隔壁42Aが仕掛り品110の隔壁42と相違し、その他の構成は仕掛り品110と同様である。隔壁42Aは、一対のガラス基板200,300及び周壁41で囲まれた内部空間500を複数(図示例では7つ)の排気空間511と緩衝空間512と通気空間520とに気密に分離する。第1変形例では、隔壁42Aは、複数の排気空間511と緩衝空間512と通気空間520とを個別に気密に分離する。ガラスパネルユニットに利用される複数の排気空間511はいずれも平面視において四角形状であるが、大きさ及び形状は同一ではない。仕掛り品110Aにおいても、排気空間511と緩衝空間512は、内部の圧力が通気空間520より低い状態(一例として真空状態)である。そして、仕掛り品110Aにおいて緩衝空間512及び通気空間520を含む部位を除く、排気空間511を含む所定部分がガラスパネルユニットを構成する。仕掛り品110Aにおいても、複数のピラー70は、内部空間500の全体(7つの排気空間511と緩衝空間512と通気空間520)に配置されている。つまり、複数のピラー70は、排気空間511と緩衝空間512と通気空間520に亘って配置されている。一方で、ガス吸着体60は、排気空間511の各々にだけ配置されている。つまり、ガス吸着体60は、緩衝空間512及び通気空間520ではなく排気空間511に配置されている。
図24は、第1変形例のガラスパネルユニットの仕掛り品110Aを示す。図24に示すように、第1変形例のガラスパネルユニットの仕掛り品110Aは、隔壁42Aが仕掛り品110の隔壁42と相違し、その他の構成は仕掛り品110と同様である。隔壁42Aは、一対のガラス基板200,300及び周壁41で囲まれた内部空間500を複数(図示例では7つ)の排気空間511と緩衝空間512と通気空間520とに気密に分離する。第1変形例では、隔壁42Aは、複数の排気空間511と緩衝空間512と通気空間520とを個別に気密に分離する。ガラスパネルユニットに利用される複数の排気空間511はいずれも平面視において四角形状であるが、大きさ及び形状は同一ではない。仕掛り品110Aにおいても、排気空間511と緩衝空間512は、内部の圧力が通気空間520より低い状態(一例として真空状態)である。そして、仕掛り品110Aにおいて緩衝空間512及び通気空間520を含む部位を除く、排気空間511を含む所定部分がガラスパネルユニットを構成する。仕掛り品110Aにおいても、複数のピラー70は、内部空間500の全体(7つの排気空間511と緩衝空間512と通気空間520)に配置されている。つまり、複数のピラー70は、排気空間511と緩衝空間512と通気空間520に亘って配置されている。一方で、ガス吸着体60は、排気空間511の各々にだけ配置されている。つまり、ガス吸着体60は、緩衝空間512及び通気空間520ではなく排気空間511に配置されている。
仕掛り品110Aは、図25に示す、ガラスパネルユニットの組立て品100Aから得られ得る。組立て品100Aは、組立て品100と同様に、一対のガラス基板200,300と、周壁410と、複数の仕切り420と、複数の通気路600と、排気口700と、ガス吸着体60と、ピラー70と、を備える。
複数の仕切り420は、隔壁42Aを形成するために設けられる。よって、複数の仕切り420は、内部空間500を、複数(図示例では7つ)の排気空間511と緩衝空間512と通気空間520とを仕切る。図25に示すように、複数の仕切り420は、複数(図示例では8つ)の第1仕切り421と、複数(図示例では8つ)の第2仕切り422とを含む。なお、周壁410及び仕切り420は、上記実施形態と同様の手法により形成され得る。例えば、周壁410を形成するにあたっては、上記実施形態の周壁形成工程と同様に、ディスペンサ810を、ノズル811から材料M10を吐出しながら、図26に経路T10で示すように、第2ガラス基板300の周縁に沿って移動させればよい。また、仕切り420を形成するにあたっては、上記実施形態の仕切り形成工程と同様に、ディスペンサ820を、ノズル821から材料M20を吐出しながら、図26に経路T21,T22で示すように、四角形の辺に沿って移動させればよい。このとき、仕切り420の端部423には、上記実施形態と同様に、膨出部425を設けてよい。
複数の通気路600は、排気口700を介して第1空間(排気空間511及び緩衝空間512)を排気するために用いられる。複数の通気路600を介して、排気空間511及び緩衝空間512は、通気空間520に(直接的又は間接的に)つながれる。図25では、周壁410と仕切り420とは互いに接触しないように配置されている。そして、周壁410と仕切り420間の隙間の各々が、通気路600を構成している。各通気路600は、仕切り420を一旦溶融させて変形させることで閉塞される。これによって、少なくとも排気空間511同士を互いに(気密に)分離するとともに、排気空間511及び緩衝空間512を通気空間520から(気密に)分離する。
複数の通気路600は、一対のガラス基板200,300が互いに対向する第1方向と直交する第2方向に沿って並ぶ複数の(第1の)特定の通気路610を有する。複数の第1の特定の通気路610は、内部空間500を第2方向(図25における上下方向)に沿って貫通する(第1)通風経路P10を構成する。また、複数の通気路600は、第1方向と直交し第2方向に交差する第3方向に沿って並ぶ複数の(第2の)特定の通気路620を有する。複数の第2の特定の通気路620は、内部空間500を第3方向(図25における左右方向)に沿って貫通する(第2)通風経路P20を構成する。なお、図25では、単に説明を分かりやすくするためだけに、通風経路P10,P20を網掛けで示している。
このように組立て品100Aは、図25に示すように、第2方向に沿った複数の第1通風経路P10と、第3方向に沿った複数の第2通風経路P20とを有している。そのため、組立て品100Aは、第2方向に沿った熱風に加えて、第3方向に沿った熱風も通すことができる。これによって、組立て品100Aの内部空間500にある仕切り420に熱をよりが十分に伝わるため、仕切り420の加熱が容易になる。これによって、仕切り420の材料(第2封着材)に含まれるバインダ等のガスの発生源となる不要成分を第1溶融工程において十分に除去することが可能となる。
2.2 第2変形例
図27は、第2変形例のガラスパネルユニットの組立て品100Bを示す。組立て品100Bは、組立て品100Aと同様に、図24に示す第1変形例のガラスパネルユニットの仕掛り品110Aを形成するために用いられ得る。
図27は、第2変形例のガラスパネルユニットの組立て品100Bを示す。組立て品100Bは、組立て品100Aと同様に、図24に示す第1変形例のガラスパネルユニットの仕掛り品110Aを形成するために用いられ得る。
組立て品100Bは、組立て品100Aと同様に、一対のガラス基板200,300と、周壁410と、複数の仕切り420と、複数の通気路600と、排気口700と、ガス吸着体60と、ピラー70と、を備える。なお、図27では、図示を簡略化するためだけに、ガス吸着体60及びピラー70を省略している。
複数の仕切り420は、隔壁42Aを形成するために設けられる。よって、複数の仕切り420は、内部空間500を、複数(図示例では7つ)の排気空間511と緩衝空間512と通気空間520とに仕切る。図27に示すように、複数の仕切り420は、複数(図示例では4つ)の第1仕切り421と、複数(図示例では4つ)の第2仕切り422とを含む。なお、周壁410及び仕切り420は、上記実施形態と同様の手法により形成され得る。例えば、周壁410を形成するにあたっては、上記実施形態の周壁形成工程と同様に、ディスペンサ810を、ノズル811から材料M10を吐出しながら、図28に経路T10で示すように、第2ガラス基板300の周縁に沿って移動させればよい。また、仕切り420を形成するにあたっては、上記実施形態の仕切り形成工程と同様に、ディスペンサ820を、ノズル821から材料M20を吐出しながら、図28に経路T21,T22で示すように、四角形の辺に沿って移動させればよい。このとき、仕切り420の端部423には、上記実施形態と同様に、膨出部425を設けてよい。
複数の通気路600は、排気口700を介して第1空間(排気空間511及び緩衝空間512)を排気するために用いられる。複数の通気路600を介して、排気空間511及び緩衝空間512は、通気空間520に(直接的又は間接的に)つながれる。図27では、周壁410と仕切り420とは互いに接触しないように配置されている。そして、周壁410と仕切り420間の隙間の各々が、通気路600を構成している。各通気路600は、仕切り420を一旦溶融させて変形させることで閉塞される。これによって、少なくとも排気空間511同士を互いに(気密に)分離するとともに、排気空間511及び緩衝空間512を通気空間520から(気密に)分離する。
複数の通気路600は、一対のガラス基板200,300が互いに対向する第1方向と直交する第2方向に沿って並ぶ複数の特定の通気路610を有する。複数の特定の通気路610は、内部空間500を第2方向(図27における上下方向)に沿って貫通する通風経路P10を構成する。なお、図27では、単に説明を分かりやすくするためだけに、通風経路P10を網掛けで示している。
このように組立て品100Bは、図27に示すように、第2方向に沿った複数の通風経路P10を有している。これによって、上記実施形態と同様に、仕切り420の材料(第2封着材)に含まれるバインダ等のガスの発生源となる不要成分を第1溶融工程において十分に除去することが可能となる。また、組立て品100Bによれば、組立て品100Aに比べて仕切り420の数を減らしながらも、組立て品100Aと同じ仕掛り品110A(図24参照)を得ることができる。
2.3 第3変形例
図29は、第3変形例のガラスパネルユニットの組立て品100Cを示す。組立て品100Cは、組立て品100A,100Bと同様に、図24に示す第1変形例のガラスパネルユニットの仕掛り品110Aを形成するために用いられ得る。
図29は、第3変形例のガラスパネルユニットの組立て品100Cを示す。組立て品100Cは、組立て品100A,100Bと同様に、図24に示す第1変形例のガラスパネルユニットの仕掛り品110Aを形成するために用いられ得る。
組立て品100Cは、組立て品100A,100Bと同様に、一対のガラス基板200,300と、周壁410と、複数の仕切り420と、複数の通気路600と、排気口700と、ガス吸着体60と、ピラー70と、を備える。なお、図29では、図示を簡略化するためだけに、ガス吸着体60及びピラー70を省略している。
複数の仕切り420は、隔壁42Aを形成するために設けられる。よって、複数の仕切り420は、内部空間500を、複数(図示例では7つ)の排気空間511と緩衝空間512と通気空間520とに仕切る。図29に示すように、複数の仕切り420は、複数(図示例では5つ)の第1仕切り421と、複数(図示例では3つ)の第2仕切り422とを含む。なお、周壁410及び仕切り420は、上記実施形態と同様の手法により形成され得る。例えば、周壁410を形成するにあたっては、上記実施形態の周壁形成工程と同様に、ディスペンサ810を、ノズル811から材料M10を吐出しながら、図28に経路T10で示すように、第2ガラス基板300の周縁に沿って移動させればよい。また、仕切り420を形成するにあたっては、上記実施形態の仕切り形成工程と同様に、ディスペンサ820を、ノズル821から材料M20を吐出しながら、図30に経路T21,T22で示すように、四角形の辺に沿って移動させればよい。このとき、仕切り420の端部423には、上記実施形態と同様に、膨出部425を設けてよい。
複数の通気路600は、排気口700を介して第1空間(排気空間511及び緩衝空間512)を排気するために用いられる。複数の通気路600を介して、排気空間511及び緩衝空間512は、通気空間520に(直接的又は間接的に)つながれる。図29では、周壁410と仕切り420とは互いに接触しないように配置されている。そして、周壁410と仕切り420間の隙間の各々が、通気路600を構成している。各通気路600は、仕切り420を一旦溶融させて変形させることで閉塞される。これによって、少なくとも排気空間511同士を互いに(気密に)分離するとともに、排気空間511及び緩衝空間512を通気空間520から(気密に)分離する。
複数の通気路600は、一対のガラス基板200,300が互いに対向する第1方向と直交する第2方向に沿って並ぶ複数の特定の通気路610を有する。複数の特定の通気路610は、内部空間500を第2方向(図29における上下方向)に沿って貫通する通風経路P10を構成する。なお、図29では、単に説明を分かりやすくするためだけに、通風経路P10を網掛けで示している。
このように組立て品100Cは、図29に示すように、第2方向に沿った通風経路P10を有している。これによって、上記実施形態と同様に、仕切り420の材料(第2封着材)に含まれるバインダ等のガスの発生源となる不要成分を第1溶融工程において十分に除去することが可能となる。また、組立て品100Cによれば、組立て品100Aに比べて仕切り420の数を減らしながらも、組立て品100Aと同じ仕掛り品110A(図24参照)を得ることができる。
2.4 第4変形例
第4変形例のガラスパネルユニットの組立て品は、図31に示すように、仕切り420(特に、第2仕切り422)の形状が上記実施形態と相違する。図31は、複数の仕切り420が、長さ方向が互いに異なる第1仕切り421及び第2仕切り422を含んでいる状態を示している。ここで、第2仕切り422の端部423は、第1仕切り421の側部424に所定間隔を空けて対向しており、通気路600は、第2仕切り422の端部423と第1仕切り421の側部424との間の空間である。第2仕切り422は、図31に示すように、第2仕切り422の幅方向(図31における上下方向)において両側に突出する膨出部425を端部423に有している。膨出部425は、端部423から、第2仕切り422の幅方向の両側に、斜め方向に突出した部分を有している。図31の膨出部425は、いわゆるハート状である。
第4変形例のガラスパネルユニットの組立て品は、図31に示すように、仕切り420(特に、第2仕切り422)の形状が上記実施形態と相違する。図31は、複数の仕切り420が、長さ方向が互いに異なる第1仕切り421及び第2仕切り422を含んでいる状態を示している。ここで、第2仕切り422の端部423は、第1仕切り421の側部424に所定間隔を空けて対向しており、通気路600は、第2仕切り422の端部423と第1仕切り421の側部424との間の空間である。第2仕切り422は、図31に示すように、第2仕切り422の幅方向(図31における上下方向)において両側に突出する膨出部425を端部423に有している。膨出部425は、端部423から、第2仕切り422の幅方向の両側に、斜め方向に突出した部分を有している。図31の膨出部425は、いわゆるハート状である。
この膨出部425によっても、図13に示すように、角部分C10の角度を、第1仕切り421と第2仕切り422とが交差する角度(本実施形態では、90度)に近付けることができる。これによって、仕切り421,422で形成される領域S10,S20間の接続部分での強度の低下や見た目の悪化を抑制できる。更に、膨出部425は、仕切り421の両端部423にも設けられていてよい。これによって、隔壁42と周壁41との間の接続部分での強度の低下や見た目の悪化を抑制できる。また、本変形例における膨出部425も、上記実施形態の膨出部425と同様に、少なくとも、第2仕切り422の幅方向において排気空間511側に突出していればよい。
図31に示す膨出部425は、ディスペンサ820をノズル821から材料M20を吐出しながら経路T23に沿って移動させることで形成できる。経路T23は、膨出部425を形成するための部分(矢印A21,A23,A25,A26)を含んでいる。つまり、ディスペンサ820を経路T23上で矢印A21~A27にしたがって動かすことで、端部423に膨出部425を有する仕切り422を形成することができる。なお、材料M20をディスペンサ820により塗布する際の速度は、一定であってよい。
このように、膨出部425の形状は、第2仕切り422の幅方向において両側に突出していれば、特に限定されない。また、膨出部425は、第1仕切り421と第2仕切り422との別に関係なく、必要に応じて仕切り420に設けてよい。例えば、仕切り420の端部423が周壁410に所定間隔を空けて対向し、通気路600が仕切り420の端部423と周壁410との間の空間である場合がある。この場合、仕切り420は、少なくとも仕切り420の幅方向において排気空間511側に突出する膨出部425を端部423に有していてよい。特に、仕切り420は、仕切り420の幅方向において両側に突出する膨出部425を端部423に有していてよい。
2.5 第5変形例
第5変形例のガラスパネルユニットの組立て品は、図32に示すように、仕切り420(特に、第1仕切り421)の形状が上記実施形態と相違する。図32は、複数の仕切り420が、長さ方向が互いに異なる第1仕切り421及び第2仕切り422を含んでいる状態を示している。また、第2仕切り422が排気空間511間にあるとする。ここで、第2仕切り422の端部423は、第1仕切り421の側部424に所定間隔を空けて対向しており、通気路600は、第2仕切り422の端部423と第1仕切り421の側部424との間の空間である。そして、第1仕切り421は、第2仕切り422の幅方向(図32における上下方向)において第2仕切り422の端部423の両側に位置するように第1仕切り421の側部424から突出する一対の突出部426を有する。各突出部426は、第2仕切り422に近付くほど幅が狭くなる。各突出部426は、いわゆる円弧状である。このように、第1仕切り421は、第1仕切り421の側部424から第2仕切り422の端部423側に突出する一対の突出部426を有している。そして、図32では、第2仕切り422が排気空間511間にあるから、一対の突出部426の各々は、第2仕切り422の端部423に対向し、かつ、第2仕切り422よりも排気空間511に近い。つまり、図32において、上側の突出部426は、第2仕切り422よりも、上側の排気空間511に近く、下側の突出部426は、第2仕切り422よりも、下側の排気空間511に近い。突出部426が第2仕切り422よりも排気空間511に近いとは、一例としては、突出部426の中心軸X10が第2仕切り422の中心軸X20よりも排気空間511に近いことをいう。一例としては、突出部426の中心軸X10は、突出部426をその幅方向に2分する線に沿った軸であってよい。また、第2仕切り422の中心軸X20は、第2仕切り422を幅方向に2分する線に沿った軸であってよい。ここで、図32では、第2仕切り422の中心軸X20は、一対の突出部426の中心軸X10の間にある。
第5変形例のガラスパネルユニットの組立て品は、図32に示すように、仕切り420(特に、第1仕切り421)の形状が上記実施形態と相違する。図32は、複数の仕切り420が、長さ方向が互いに異なる第1仕切り421及び第2仕切り422を含んでいる状態を示している。また、第2仕切り422が排気空間511間にあるとする。ここで、第2仕切り422の端部423は、第1仕切り421の側部424に所定間隔を空けて対向しており、通気路600は、第2仕切り422の端部423と第1仕切り421の側部424との間の空間である。そして、第1仕切り421は、第2仕切り422の幅方向(図32における上下方向)において第2仕切り422の端部423の両側に位置するように第1仕切り421の側部424から突出する一対の突出部426を有する。各突出部426は、第2仕切り422に近付くほど幅が狭くなる。各突出部426は、いわゆる円弧状である。このように、第1仕切り421は、第1仕切り421の側部424から第2仕切り422の端部423側に突出する一対の突出部426を有している。そして、図32では、第2仕切り422が排気空間511間にあるから、一対の突出部426の各々は、第2仕切り422の端部423に対向し、かつ、第2仕切り422よりも排気空間511に近い。つまり、図32において、上側の突出部426は、第2仕切り422よりも、上側の排気空間511に近く、下側の突出部426は、第2仕切り422よりも、下側の排気空間511に近い。突出部426が第2仕切り422よりも排気空間511に近いとは、一例としては、突出部426の中心軸X10が第2仕切り422の中心軸X20よりも排気空間511に近いことをいう。一例としては、突出部426の中心軸X10は、突出部426をその幅方向に2分する線に沿った軸であってよい。また、第2仕切り422の中心軸X20は、第2仕切り422を幅方向に2分する線に沿った軸であってよい。ここで、図32では、第2仕切り422の中心軸X20は、一対の突出部426の中心軸X10の間にある。
この突出部426によっても、膨出部425と同様に、図13に示すように、角部分C10の角度を、第1仕切り421と第2仕切り422とが交差する角度(本実施形態では、90度)に近付けることができる。これによって、仕切り421,422で形成される領域S10,S20間の接続部分での強度の低下や見た目の悪化を抑制できる。なお、一対の突出部426は、少なくとも一方が、第2仕切り422よりも排気空間511に近くてもよい。例えば、第2仕切り422が排気空間511とそれ以外の空間(緩衝空間512又は通気空間520)との間にある場合、一対の突出部426の一方が、第2仕切り422よりも排気空間511に近くなる。つまり、1以上の突出部426の少なくとも一つが、第2仕切り422の端部423に対向し、かつ、第2仕切り422よりも排気空間511に近ければよい。この場合、第1仕切り421は、第2仕切り422よりも排気空間511に近い突出部426だけを有していてよい。これは、排気空間511以外の空間については、隔壁42の強度の低下は大きな問題にならないからである。
突出部426は、ディスペンサ820をノズル821から材料M20を吐出しながら経路T24に沿って移動させることで形成できる。経路T24は、突出部426を形成するために、一時的に仕切り422の端部423側に近付く矩形の3辺に沿った経路を含んでいる。つまり、塗布工程では、材料M20を第1仕切り421の長辺に沿って塗布する際に部分的に第2仕切り422の端部423側に近付けて、一対の突出部426を形成する。また、突出部426は、ディスペンサ820をノズル821から材料M20を吐出しながら、図33に示す経路T25に沿って移動させることでも形成できる。経路T25は、突出部426を形成するために、一時的に仕切り422の端部423側に近付く矩形の3辺に沿った経路を含んでいる。つまり、塗布工程では、材料M20を第1仕切り421の長辺に沿って塗布する際に部分的に第2仕切り422の端部423側に近付けて、一対の突出部426を形成すればよい。
突出部426の形状は、仕切り422の端部423側に突出していれば、特に限定されない。また、突出部426は、仕切り422の端部423に近付くように突出していればよく、仕切り422の長さ方向において、端部423と重複している必要はない。突出部426は、第1仕切り421と第2仕切り422との別に関係なく、必要に応じて仕切り420に設けてよい。なお、第5変形例では、第2仕切り422は、膨出部425を有していない。しかしながら、第5変形例においても、第2仕切り422は、端部423に膨出部425を有していてもよい。
また、突出部426は、周壁410に設けてもよい。例えば、仕切り420の端部423が周壁410に所定間隔を空けて対向し、通気路600が仕切り420の端部423と周壁410との間の空間である場合がある。この場合、周壁410は、仕切り420の端部423側に突出する1以上の突出部426を有していてよい。そして、1以上の突出部426の少なくとも一つは、仕切り420の端部423に対向し、かつ、仕切り420より排気空間511に近ければよい。特に、周壁410は、仕切り420の幅方向において仕切り420の端部423の両側に位置するように突出する一対の突出部426を有していてよい。なお、突出部426は、対象の仕切り420の端部423に近付くように突出していればよく、仕切り420の長さ方向において、端部423と重複している必要はない。この場合であっても、仕切り420は、端部423に膨出部425を有していてもよい。
2.6 その他の変形例
上記実施形態では、ガラスパネルユニット10は矩形状であるが、ガラスパネルユニット10は、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。つまり、第1ガラスパネル20、第2ガラスパネル30、及び枠体40は、矩形状ではなく、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。なお、第1ガラス基板200、第2ガラス基板300、周壁410、仕切り420、及び補強壁430のそれぞれの形状は、上記実施形態の形状に限定されず、所望の形状のガラスパネルユニット10が得られるような形状であればよい。なお、ガラスパネルユニット10の形状や大きさは、ガラスパネルユニット10の用途に応じて決定される。
上記実施形態では、ガラスパネルユニット10は矩形状であるが、ガラスパネルユニット10は、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。つまり、第1ガラスパネル20、第2ガラスパネル30、及び枠体40は、矩形状ではなく、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。なお、第1ガラス基板200、第2ガラス基板300、周壁410、仕切り420、及び補強壁430のそれぞれの形状は、上記実施形態の形状に限定されず、所望の形状のガラスパネルユニット10が得られるような形状であればよい。なお、ガラスパネルユニット10の形状や大きさは、ガラスパネルユニット10の用途に応じて決定される。
一対のガラスパネル20,30は同じ平面形状及び平面サイズを有していなくてもよいし、同じ厚みを有していなくてもよい。また、一対のガラスパネル20,30は同じ材料で形成されていなくてもよい。これらの点は、一対のガラス基板200,300についても同様である。
枠体40は、一対のガラスパネル20,30と同じ平面形状を有していなくてもよい。同様に、周壁41,410は、一対のガラス基板200,300と同じ平面形状を有していなくてもよい。
周壁410(周壁41)の第1封着材と仕切り420(隔壁42)の第2封着材とは、必ずしも同じ芯材を含んでいる必要はなく、異なる芯材を含んでいてもよい。また、第1封着材は、熱接着剤のみを含んでいてもよいし、第2封着材も、熱接着剤のみを含んでいてもよい。また、膨出部425及び突出部426は必須ではない。
また、組立て品100では、周壁410は一対のガラス基板200,300間にあるだけでこれらを接合していない。しかしながら、組立て品100の段階で、周壁410が一対のガラス基板200,300同士を接合していてもよい。要するに、組立て品100では、周壁410は一対のガラス基板200,300間にあればよく、これらを接合していることは必須ではない。
また、上記実施形態では、通気路600は、仕切り420間の隙間や、仕切り420と周壁410との隙間であるが、仕切り420に形成された貫通孔であってもよい。あるいは、通気路600は、仕切り420と第1ガラス基板200との隙間であってもよい。
また、上記実施形態では、内部空間500は、複数の排気空間511及び緩衝空間512と単一の通気空間520とに仕切られている。ただし、内部空間500は、仕切りによって、1以上の排気空間511と1以上の緩衝空間512と1以上の通気空間520とに仕切られていてもよい。なお、緩衝空間512は、必須ではない。
上記実施形態では、周壁410、ガス吸着体60、及び仕切り420の加熱に溶融炉を利用している。しかしながら、加熱は、適宜の加熱手段で行うことができる。加熱手段は、例えば、レーザや、熱源に接続された伝熱板などである。
上記実施形態では、組立て品100は複数の通気路600を有しているが、通気路600の数は1以上であってよい。また、通気路600の形状は、特に限定されない。また、組立て品100は、1以上の通風経路P10を有していればよく、複数の通風経路P10がある必要はない。また、通風経路P10は、一対のガラス基板200,300の幅方向ではなく、長さ方向であってもよい。要するに、通風経路P10は、一対のガラス基板200,300が互いに対向する方向に直交する方向であってよい。
上記実施形態では、排気口700は、第2ガラス基板300に形成されている。しかし、排気口700は、第1ガラス基板200に形成されていてもよいし、周壁410(周壁41)に形成されていてもよい。要するに、排気口700は、通気空間520と外部空間とをつなぐように形成されていればよい。
上記実施形態では、ガラスパネルユニット10は、1つのガス吸着体60を備えているが、ガス吸着体60の数は特に限定されない。また、ガラスパネルユニット10は、ガス吸着体60を備えていなくてもよい。また、ガス吸着体60は、緩衝空間512及び通気空間520に設けてもよい。また、ガス吸着体60のゲッタは蒸発型ゲッタであるが、ゲッタは非蒸発型ゲッタであってもよい。
上記実施形態では、ガス吸着体60は、長尺の平板状であるが、他の形状であってもよい。また、ガス吸着体60は、必ずしも排気空間511の端にある必要はない。また、上記実施形態では、ガス吸着体60は、ゲッタの粉体を含む液体(例えばゲッタの粉体を液体に分散して得られた分散液や、ゲッタの粉体を液体に溶解させて得られた溶液)を塗布することにより形成される。しかしながら、ガス吸着体60は、基板と、基板に固着されたゲッタと、を備えていてもよい。このようなガス吸着体60は、ゲッタの粉末を含む液体に基板を浸漬し、乾燥することで得ることができる。なお、基板は、所望の形状であってよく、例えば、長尺の矩形状である。あるいは、ガス吸着体60は、第2ガラス基板300の表面に全体的あるいは部分的に形成された膜であってもよい。このようなガス吸着体60は、第2ガラス基板300の表面をゲッタの粉末を含む液体でコーティングすることで得ることができる。あるいは、ガス吸着体60は、ピラー70に含まれていてもよい。例えば、ピラー70を、ゲッタを含む材料で形成すれば、ガス吸着体60を含むピラー70を得ることができる。あるいは、ガス吸着体60は、ゲッタで形成された固形物であってもよい。
上記実施形態では、複数のピラー70が、内部空間500の全体(排気空間511、緩衝空間512及び通気空間520の各々)に配置されているが、緩衝空間512及び通気空間520にピラー70を配置することは必須ではない。また、ガラスパネルユニット10は複数のピラー70を備えているが、ガラスパネルユニット10は、一つのピラー70を備えていてもよい。あるいは、ガラスパネルユニット10は、ピラー70を備えていなくてもよい。
上記実施形態では、排気空間511及び緩衝空間512を真空状態としているが、真空状態の代わりに、減圧状態としてもよい。減圧状態とは、圧力が大気圧より低い状態であればよい。
3.態様
上記実施形態及び変形例から明らかなように、本開示は、下記の態様を含む。以下では、実施形態との対応関係を明示するためだけに、符号を括弧付きで付している。
上記実施形態及び変形例から明らかなように、本開示は、下記の態様を含む。以下では、実施形態との対応関係を明示するためだけに、符号を括弧付きで付している。
第1の態様のガラスパネルユニットの組立て品(100;100A;100B;100C)は、互いに対向する一対のガラス基板(200,300)と、前記一対のガラス基板(200,300)間にある枠状の周壁(410)と、を備える。前記組立て品(100;100A;100B;100C)は、更に、複数の仕切り(420)と、排気口(700)と、複数の通気路(600)と、を備える。前記複数の仕切り(420)は、前記一対のガラス基板(200,300)及び前記周壁(410)で囲まれた内部空間(500)を排気空間(511)と通気空間(520)とに仕切る。前記排気口(700)は、前記通気空間(520)と外部空間とをつなぐ。前記複数の通気路(600)は、前記排気口(700)を介して前記排気空間(511)を排気するために用いられる。前記複数の通気路(600)は、前記一対のガラス基板(200,300)が互いに対向する第1方向と直交する第2方向に沿って並んで前記内部空間(500)を前記第2方向に沿って貫通する通風経路(P10)を構成する複数の特定の通気路(610)を含む。第1の態様によれば、ガラスパネルユニット(10)の歩留まりの向上が図れる。
第2の態様のガラスパネルユニットの組立て品(100;100A;100B;100C)は、第1の態様との組み合わせにより実現され得る。第2の態様では、前記複数の仕切り(420)は、前記第2方向に沿って延びる第1仕切り(421)と、前記第1方向に直交し前記第2方向に交差する第3方向に沿って延びる複数の第2仕切り(422)とを含む。前記複数の第2仕切り(422)の端部(423)は、前記第1仕切り(421)の側部(424)に所定間隔を空けて対向する。前記複数の特定の通気路(610)は、前記複数の第2仕切り(422)の端部(423)と前記第1仕切り(421)の側部(424)との間の空間である。第2の態様によれば、簡単な構造で通風経路(P10)を設けることができる。
第3の態様のガラスパネルユニットの組立て品(100;100A;100B;100C)は、第1又は第2の態様との組み合わせにより実現され得る。第3の態様では、前記複数の特定の通気路(610)は、前記第2方向において前記排気空間(511)と前記通気空間(520)とをつなぐ特定の通気路(610)を含む。第3の態様によれば、ガラスパネルユニット(10)の歩留まりの向上が図れる。
第4の態様のガラスパネルユニットの組立て品(100;100A;100B;100C)は、第1又は第2の態様との組み合わせにより実現され得る。第4の態様では、前記内部空間(520)は、前記複数の仕切り(420)で仕切られて、複数の前記排気空間(511)を含む。前記複数の特定の通気路(610)は、前記複数の排気空間(511)のうち前記第2方向において隣り合う排気空間(511)同士をつなぐ特定の通気路(610)を含む。第4の態様によれば、ガラスパネルユニット(10)の歩留まりの向上が図れる。
第5の態様のガラスパネルユニットの組立て品(100;100B;100C)は、第1又は第2の態様との組み合わせにより実現され得る。第5の態様では、前記内部空間(520)は、前記複数の仕切り(420)で仕切られて、緩衝空間(512)を含む。前記複数の特定の通気路(610)は、前記第2方向において前記排気空間(511)と前記緩衝空間(512)とをつなぐ特定の通気路(610)を含む。第5の態様によれば、ガラスパネルユニット(10)の歩留まりの向上が図れる。
第6の態様のガラスパネルユニットの組立て品(100)は、第1又は第2の態様との組み合わせにより実現され得る。第6の態様では、前記内部空間(520)は、前記複数の仕切り(420)で仕切られて、複数の緩衝空間(512)を含む。前記複数の特定の通気路(610)は、前記複数の緩衝空間(512)のうち前記第2方向において隣り合う緩衝空間(512)同士をつなぐ特定の通気路(610)を含む。第6の態様によれば、ガラスパネルユニット(10)の歩留まりの向上が図れる。
第7の態様のガラスパネルユニットの組立て品(100)は、第1又は第2の態様との組み合わせにより実現され得る。第7の態様では、前記内部空間(520)は、前記複数の仕切り(420)で仕切られて、緩衝空間(512)を含む。前記複数の特定の通気路(610)は、前記第2方向において前記通気空間(520)と前記緩衝空間(512)とをつなぐ特定の通気路(610)を含む。第7の態様によれば、ガラスパネルユニット(10)の歩留まりの向上が図れる。
第8の態様のガラスパネルユニットの組立て品(100A)は、第1~第7の態様のいずれか一つとの組み合わせにより実現され得る。第8の態様では、前記複数の通気路(600)は、前記第1方向と直交し前記第2方向に交差する第3方向に沿って並ぶ複数の第2の特定の通気路(620)を含む。前記複数の第2の特定の通気路(620)は、前記内部空間(500)を前記第3方向に沿って貫通する第2通風経路(P20)を構成する。第8の態様によれば、ガラスパネルユニット(10)の歩留まりの向上が図れる。
第9の態様のガラスパネルユニットの製造方法は、組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程とを含む。前記組立工程は、第1~第8の態様のいずれか一つのガラスパネルユニットの組立て品(100;100A;100B;100C)を用意する工程である。前記接合工程は、前記第2方向に沿って熱風(F10)を送って前記周壁(410)を一旦溶融させて前記周壁(410)で前記一対のガラス基板(200,300)同士を気密に接合する工程である。前記排気工程は、前記複数の通気路(600)と前記通気空間(520)と前記排気口(700)とを介して前記排気空間(511)を排気する工程である。前記封止工程は、前記第2方向に沿って熱風(F10)を送って前記複数の仕切り(420)を変形させて前記複数の通気路(600)を塞ぐ工程である。第9の態様によれば、仕切り(420)の材料に含まれるバインダ等のガスの発生源となる不要成分を周壁(410)の加熱時に十分に除去できる。
第10の態様のガラスパネルユニットの製造方法は、第9の態様との組み合わせにより実現され得る。第10の態様では、前記封止工程では、前記複数の通気路(600)と前記通気空間(520)と前記排気口(700)とを介して前記排気空間(511)を排気しながら、前記複数の仕切り(420)を変形させる。第10の態様によれば、排気を効率よく行える。
第11の態様のガラスパネルユニットの製造方法は、第9又は第10の態様との組み合わせにより実現され得る。第11の態様では、前記ガラスパネルユニットの製造方法は、更に、除去工程を含む。前記除去工程は、前記通気空間(520)を有する部分を除去することで、前記排気空間(511)を有する部分であるガラスパネルユニット(10)を得る工程である。第11の態様によれば、排気口(700)のないガラスパネルユニット(10)が得られる。
第12の態様のガラスパネルユニットの組立て品の製造方法は、第1~第8の態様のいずれか一つのガラスパネルユニットの組立て品を製造するための方法である。第12の態様は、前記複数の仕切り(420)の材料(M20)を前記一対のガラス基板(200,300)の一方に塗布する塗布工程を含む。前記複数の仕切り(420)は、前記第2方向に沿って伸びる第1仕切り(421)と、前記第1方向に直交し前記第2方向に交差する第3方向に沿って伸びる複数の第2仕切り(422)とを含む。前記複数の第2仕切り(422)の端部(423)が前記第1仕切り(421)の側部(424)に所定間隔を空けて対向するようにして前記材料(M20)を塗布して、前記複数の特定の通気路(610)を形成する。第12の態様によれば、ガラスパネルユニット(10)の歩留まりの向上が図れる。
10,10A~10H ガラスパネルユニット
100,100A,100B,100C ガラスパネルユニットの組立て品
200,300 ガラス基板
410 周壁
420 仕切り
421 仕切り(第1仕切り)
422 仕切り(第2仕切り)
423 端部
424 側部
500 内部空間
511 排気空間
520 通気空間
600 通気路
610 通気路(特定の通気路)
700 排気口
P10 通風経路
F10 熱風
M20 材料
100,100A,100B,100C ガラスパネルユニットの組立て品
200,300 ガラス基板
410 周壁
420 仕切り
421 仕切り(第1仕切り)
422 仕切り(第2仕切り)
423 端部
424 側部
500 内部空間
511 排気空間
520 通気空間
600 通気路
610 通気路(特定の通気路)
700 排気口
P10 通風経路
F10 熱風
M20 材料
Claims (12)
- 互いに対向する一対のガラス基板と、
前記一対のガラス基板間にある枠状の周壁と、
前記一対のガラス基板及び前記周壁で囲まれた内部空間を排気空間と通気空間とに仕切る複数の仕切りと、
前記通気空間と外部空間とをつなぐ排気口と、
前記排気口を介して前記排気空間を排気するための複数の通気路と、
を備え、
前記複数の通気路は、前記一対のガラス基板が互いに対向する第1方向と直交する第2方向に沿って並んで前記内部空間を前記第2方向に沿って貫通する通風経路を構成する複数の特定の通気路を含む、
ガラスパネルユニットの組立て品。 - 前記複数の仕切りは、前記第2方向に沿って延びる第1仕切りと、前記第1方向に直交し前記第2方向に交差する第3方向に沿って延びる複数の第2仕切りとを含み、
前記複数の第2仕切りの端部は、前記第1仕切りの側部に所定間隔を空けて対向し、
前記複数の特定の通気路は、前記複数の第2仕切りの端部と前記第1仕切りの側部との間の空間である、
請求項1のガラスパネルユニットの組立て品。 - 前記複数の特定の通気路は、前記第2方向において前記排気空間と前記通気空間とをつなぐ特定の通気路を含む、
請求項1又は2のガラスパネルユニットの組立て品。 - 前記内部空間は、前記複数の仕切りで仕切られて、複数の前記排気空間を含み、
前記複数の特定の通気路は、前記複数の排気空間のうち前記第2方向において隣り合う排気空間同士をつなぐ特定の通気路を含む、
請求項1又は2のガラスパネルユニットの組立て品。 - 前記内部空間は、前記複数の仕切りで仕切られて、緩衝空間を含み、
前記複数の特定の通気路は、前記第2方向において前記排気空間と前記緩衝空間(512)とをつなぐ特定の通気路を含む、
請求項1又は2のガラスパネルユニットの組立て品。 - 前記内部空間は、前記複数の仕切りで仕切られて、複数の緩衝空間を含み、
前記複数の特定の通気路は、前記複数の緩衝空間のうち前記第2方向において隣り合う緩衝空間同士をつなぐ特定の通気路を含む、
請求項1又は2のガラスパネルユニットの組立て品。 - 前記内部空間は、前記複数の仕切りで仕切られて、緩衝空間を含み、
前記複数の特定の通気路は、前記第2方向において前記通気空間と前記緩衝空間とをつなぐ特定の通気路を含む、
請求項1又は2のガラスパネルユニットの組立て品。 - 前記複数の通気路は、前記第1方向と直交し前記第2方向に交差する第3方向に沿って並ぶ複数の第2の特定の通気路を含み、
前記複数の第2の特定の通気路は、前記内部空間を前記第3方向に沿って貫通する第2通風経路を構成する、
請求項1~7のいずれか一つのガラスパネルユニットの組立て品。 - 組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程とを含み、
前記組立工程は、請求項1~8のいずれか一つのガラスパネルユニットの組立て品を用意する工程であり、
前記接合工程は、前記第2方向に沿って熱風を送って前記周壁を一旦溶融させて前記周壁で前記一対のガラス基板同士を気密に接合する工程であり、
前記排気工程は、前記複数の通気路と前記通気空間と前記排気口とを介して前記排気空間を排気する工程であり、
前記封止工程は、前記複数の仕切りを変形させて前記複数の通気路を塞ぐ工程である、
ガラスパネルユニットの製造方法。 - 前記封止工程では、前記複数の通気路と前記通気空間と前記排気口とを介して前記排気空間を排気しながら、前記複数の仕切りを変形させる、
請求項9のガラスパネルユニットの製造方法。 - 更に、除去工程を含み、
前記除去工程は、前記通気空間を有する部分を除去することで、前記排気空間を有する部分であるガラスパネルユニットを得る工程である、
請求項9又は10のガラスパネルユニットの製造方法。 - 請求項1~8のいずれか一つのガラスパネルユニットの組立て品の製造方法であって、
前記複数の仕切りの材料を前記一対のガラス基板の一方に塗布する塗布工程を含み、
前記複数の仕切りは、前記第2方向に沿って伸びる第1仕切りと、前記第1方向に直交し前記第2方向に交差する第3方向に沿って伸びる複数の第2仕切りとを含み、
前記複数の第2仕切りの端部が前記第1仕切りの側部に所定間隔を空けて対向するようにして前記材料を塗布して、前記複数の特定の通気路を形成する、
ガラスパネルユニットの組立て品の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP19812253.3A EP3805175B1 (en) | 2018-05-31 | 2019-04-19 | Glass panel unit assembly, method for manufacturing glass panel unit, and method for manufacturing glass panel unit assembly |
JP2020521787A JP7117655B2 (ja) | 2018-05-31 | 2019-04-19 | ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、ガラスパネルユニットの組立て品の製造方法 |
US17/044,827 US11326388B2 (en) | 2018-05-31 | 2019-04-19 | Glass panel unit assembly, method for manufacturing glass panel unit, and method for manufacturing glass panel unit assembly |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018105533 | 2018-05-31 | ||
JP2018-105533 | 2018-05-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2019230242A1 true WO2019230242A1 (ja) | 2019-12-05 |
Family
ID=68696675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/016757 WO2019230242A1 (ja) | 2018-05-31 | 2019-04-19 | ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、ガラスパネルユニットの組立て品の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11326388B2 (ja) |
EP (1) | EP3805175B1 (ja) |
JP (1) | JP7117655B2 (ja) |
WO (1) | WO2019230242A1 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013172034A1 (ja) * | 2012-05-18 | 2013-11-21 | パナソニック株式会社 | 複層ガラスの製造方法 |
WO2016143328A1 (ja) | 2015-03-11 | 2016-09-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法およびガラス窓の製造方法 |
WO2017043054A1 (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 真空ガラスパネル、ガラス窓、および真空ガラスパネルの製造方法 |
WO2017056419A1 (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法およびガラス窓の製造方法 |
WO2017170076A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法、建具の製造方法、ガラスパネルユニットの製造装置、及びガラスパネルユニット |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10020527B2 (en) | 2014-09-19 | 2018-07-10 | Osaka Gas Co., Ltd. | Electrochemical element, solid oxide fuel cell, and methods for producing the same |
CN106795046A (zh) * | 2014-09-30 | 2017-05-31 | 松下知识产权经营株式会社 | 玻璃面板单元、玻璃面板单元的临时组装件、玻璃面板单元的完整组装件、制造玻璃面板单元的方法 |
JP6528343B2 (ja) | 2015-09-29 | 2019-06-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法、及びガラス窓の製造方法 |
-
2019
- 2019-04-19 WO PCT/JP2019/016757 patent/WO2019230242A1/ja unknown
- 2019-04-19 JP JP2020521787A patent/JP7117655B2/ja active Active
- 2019-04-19 EP EP19812253.3A patent/EP3805175B1/en active Active
- 2019-04-19 US US17/044,827 patent/US11326388B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013172034A1 (ja) * | 2012-05-18 | 2013-11-21 | パナソニック株式会社 | 複層ガラスの製造方法 |
WO2016143328A1 (ja) | 2015-03-11 | 2016-09-15 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法およびガラス窓の製造方法 |
WO2017043054A1 (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 真空ガラスパネル、ガラス窓、および真空ガラスパネルの製造方法 |
WO2017056419A1 (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法およびガラス窓の製造方法 |
WO2017170076A1 (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法、建具の製造方法、ガラスパネルユニットの製造装置、及びガラスパネルユニット |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3805175A1 (en) | 2021-04-14 |
US20210131167A1 (en) | 2021-05-06 |
US11326388B2 (en) | 2022-05-10 |
EP3805175C0 (en) | 2023-09-27 |
JP7117655B2 (ja) | 2022-08-15 |
JPWO2019230242A1 (ja) | 2021-07-08 |
EP3805175B1 (en) | 2023-09-27 |
EP3805175A4 (en) | 2021-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2016051787A1 (ja) | ガラスパネルユニット、ガラスパネルユニットの仮組立て品、ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法 | |
JP2019178063A (ja) | ガラスパネルユニットの製造方法 | |
WO2018062140A1 (ja) | ガラスパネルユニット、ガラス窓およびガラスパネルユニットの製造方法 | |
JP7108948B2 (ja) | ガラスパネルユニットの製造方法 | |
WO2019230242A1 (ja) | ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、ガラスパネルユニットの組立て品の製造方法 | |
WO2019230247A1 (ja) | ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法 | |
JP7149622B2 (ja) | ガラスパネルユニットの製造方法 | |
WO2019207968A1 (ja) | ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法、ガラスパネルユニットの仕掛り品、ガラスパネルユニット | |
WO2019188766A1 (ja) | ガラスパネルユニットの仕掛り品、ガラスパネルユニットの製造方法 | |
US11808080B2 (en) | Production method of glass panel unit | |
WO2019207971A1 (ja) | ガラスパネルユニット、ガラスパネルユニットの仕掛り品、ガラスパネルユニットの組立て品、ガラスパネルユニットの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 19812253 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2020521787 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2019812253 Country of ref document: EP Effective date: 20210111 |