WO2019107503A1

WO2019107503A1 - 長期培養可能な細胞培養容器及びその製造方法

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Publication number: WO2019107503A1
Application number: PCT/JP2018/044014
Authority: WO
Inventors: 康平鈴木; 佳臣広井; 昌史岩上; 泰斗西野
Original assignee: 日産化学株式会社
Priority date: 2017-11-29
Filing date: 2018-11-29
Publication date: 2019-06-06
Also published as: EP3719113A4; EP3719113A1; JPWO2019107503A1; TW201934745A; US20200369999A1

Abstract

本発明は、下記式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位とを含む共重合体であって、式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位の共重合体全体に対するモル比率が１～５０モル％である共重合体を含むコーティングを、表面の少なくとも一部に備えることを特徴とする、長期細胞非接着培養用の細胞培養容器を提供する。［式中、Ｕａ１、Ｕａ２、Ｕｂ１、Ｕｂ２及びＵｂ３、Ｒｃ、並びにＡｎ－は、明細書及び特許請求の範囲に規定のとおりである。］

Description

長期培養可能な細胞培養容器及びその製造方法

　本発明は、長期細胞非接着培養用の細胞培養容器及びその製造方法、並びにそれを用いる細胞凝集塊の製造方法に関するものである。

　近年、動物や植物体内で異なった役割を果たしている様々な器官、組織、及び細胞を生体外にて増殖又は維持させるための技術が発展してきている。これらの器官、組織を生体外にて増殖又は維持することは、それぞれ器官培養、組織培養と呼ばれており、器官、組織から分離された細胞を生体外にて増殖、分化又は維持することは細胞培養と呼ばれている。細胞培養は、分離した細胞を培地中で生体外にて増殖、分化又は維持する技術であり、生体内の各種器官、組織、細胞の機能及び構造を詳細に解析するために不可欠なものとなっている。また、当該技術により培養された細胞及び／又は組織は、化学物質、医薬品等の薬効及び毒性評価や、酵素、細胞増殖因子、抗体等の有用物質の大量生産、疾患や欠損により失われた器官、組織、細胞を補う再生医療、植物の品種改良、遺伝子組み換え作物の作成等の様々な分野で利用されている。

　細胞の培養には、通常、シャーレ、ディッシュ、フラスコ、バッグ、プレート、チャンバースライド、チューブ、トレイ、ボトル等の細胞培養容器が用いられ、細胞種、培養方法、培養スケール等の諸条件に応じて適宜選択されている。細胞培養容器の材質は、専ら、ガラス又は樹脂であるが、例えば、細胞培養容器が樹脂製であり、且つその表面が疎水性である場合には、細胞や細胞増殖に係わるペプチドなどの生体物質の容器表面への付着が生じ、それにより細胞の増殖性や機能発現が損なわれるという問題があった。

　従来の二次元的な単層培養とは異なり、生体外で細胞の三次元的な構造を構築する培養法として、細胞凝集塊（細胞スフェロイドまたは細胞塊などともいう）を形成させる手法が注目されている。細胞凝集塊は、三次元的に培養され、細胞同士が集合・凝集化した細胞集合体であり、生体様構造が構築されることから、細胞の機能を長期間維持でき、生理的機能が向上することが報告されている。そのため、細胞凝集塊の、創薬研究における、又は細胞治療や再生治療における利用についての期待が高まっている。それに伴い、細胞又は細胞凝集塊の容器表面への付着が抑制され、三次元的な培養に適した細胞培養容器への要求も高まっている。

　例えば、細胞を非接着状態で培養する方法として、寒天、アガロース、及びポリ（２－ヒドロキシエチルメタクリレート）から選択される材料を基質とし、その基質上で癌細胞を最大１２日間非接着状態で培養することで細胞凝集塊を形成する方法が報告されている（例えば、特許文献１参照）。また、細胞凝集塊として培養した場合の用途として、患者から単離された癌細胞を細胞非接着状態で細胞凝集塊として培養することで、腫瘍形成を引き起こすタンパク質を同定し、癌化のメカニズム解明されたことが報告されている（例えば、非特許文献１参照）。

　一方で、カチオン、アニオンを側鎖に含む高分子材料を表面に有する材料は、その静電気的バランスにより、該表面が電気的に中性に保たれることで生体物質（蛋白質、細胞等）の吸着を防ぐ作用があることが知られている。また、それらの機能を用いたコーティング材料も提案されており、ガラスやポリマー基板などへの固着・固定化方法に関しても様々な報告がされている。例えば、本発明者らは、様々な生体物質の付着抑制能を有するコーティング材料として期待されているリン酸エステル基を有するポリマーに注目し、検討を重ねた。その結果、特定のアニオン性基とカチオン性基を含む共重合体を含むコーティング剤が、基体の種類を選ばず強固に固着することができ、また固着後は水系溶媒への耐性に優れたコーティング膜となり、且つ優れた生体物質（例えば、血小板やフィブリノゲン等）の付着抑制能を示すことを報告した（例えば、特許文献２、３参照）。また、同コーティング剤でコーティングされていることを特徴とする細胞培養容器が、細胞の付着抑制能に優れると共に、溶媒や放射線への耐性にも優れることを報告した（例えば、特許文献４参照）。

特開２０１７-６０４９８号公報国際公開第２０１４／１９６６５０号国際公開第２０１６／０９３２９３号国際公開第２０１４／１９６６５２号

Todaro M el al. Cell Stem Cell 4, 389-402 (2007)

　二次元的な単層培養は、通常、細胞外マトリックス様の足場材料上や物理的に表面処理を行った培養容器上に単層状態で細胞を播種することにより行われる。一方、細胞凝集塊を形成するための三次元的な培養は、通常、非接着性の表面を持つ細胞培養容器を用い、細胞を浮遊培養することにより行われる。特に、均一な形状やサイズの細胞凝集塊を、大量に、安定的に、かつ簡便に入手するためには、培養を長期間にわたって行うことが望ましいが、そのような長期の細胞非接着培養を可能とする細胞培養容器は報告されていない。

　本発明者らは、特定のアニオン構造、特定のカチオン構造、及び特定の疎水性構造を含み、かつ疎水性構造が特定の割合で存在する共重合体を含むコーティングを、容器の表面の少なくとも一部に備える細胞培養容器が、長期間にわたる細胞の非接着培養を可能とすることを見出し、本発明を完成させた。
　本発明は以下のとおりである。

［１］　下記式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位とを含む共重合体：

［式中、
Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；
Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表す］
であって、式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位の共重合体全体に対するモル比率が１～５０モル％である共重合体を含むコーティングを、表面の少なくとも一部に備えることを特徴とする、長期細胞非接着培養用の細胞培養容器。

［２］　上記式（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位が、それぞれ、下記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：

［式中、
Ｔ^ａ、Ｔ^ｂ、Ｔ^ｃ、Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
Ｑ^ａ及びＱ^ｂは、それぞれ独立して、単結合、エステル結合又はアミド結合を表し、Ｑ^ｃは、単結合、エーテル結合又はエステル結合を表し；
Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖又は分岐アルキレン基を表し、Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表し；
ｍは、０乃至６の整数を表す］
で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位である、上記［１］に記載の細胞培養容器。

［３］　上記共重合体が、さらに下記式（Ｄ）又は（Ｅ）：

［式中、
Ｔ^ｄ、Ｔ^ｅ及びＵ^ｅは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖又は分岐アルキレン基を表し；
ｎは、１乃至６の整数を表わす］
で表されるモノマーから誘導される架橋構造を含む、上記［１］又は［２］に記載の細胞培養容器。

［４］　生体物質の付着抑制能を有する、上記［１］乃至［３］何れかに記載の細胞培養容器。

［５］　下記式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位とを含む共重合体：

［式中、
Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；
Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表す］
であって、式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位の共重合体全体に対するモル比率が１～５０モル％である共重合体を、容器の表面の少なくとも一部にコーティングする工程を含む、長期細胞非接着培養用の細胞培養容器の製造方法。

［６］　上記式（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位が、それぞれ、下記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：

［式中、
Ｔ^ａ、Ｔ^ｂ、Ｔ^ｃ、Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
Ｑ^ａ及びＱ^ｂは、それぞれ独立して、単結合、エステル結合又はアミド結合を表し、Ｑ^ｃは、単結合、エーテル結合又はエステル結合を表し；
Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖又は分岐アルキレン基を表し、Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表し；
ｍは、０乃至６の整数を表す］
で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位である、上記［５］に記載の製造方法。

［７］　コーティング工程が、共重合体を含むワニスを用いて実施される、上記［５］又は［６］に記載の製造方法。

［８］　共重合体を含むワニスが、予めｐＨ調整されている、上記［７］に記載の製造方法。

［９］　さらに、コーティングされた細胞培養容器を、乾燥工程前及び／又は後に、洗浄する工程を含む、上記［５］乃至［８］何れか１項に記載の製造方法。

［１０］　乾燥工程後の洗浄が、水及び電解質を含む水溶液からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒を用いて実施される、上記［９］に記載の製造方法。

［１１］　上記［１］乃至［４］何れか１項に記載の細胞培養容器又は上記［５］乃至［１０］何れか１項に記載の製造方法により製造された細胞培養容器を用いることを特徴とする、細胞凝集塊の製造方法。

　本発明の細胞培養容器は、式（ａ）で表されるアニオン性基と、式（ｂ）で表されるカチオン性基と、式（ｃ）で表される疎水性基とを含み、かつ式（ｃ）で表される疎水性基が特定の割合で存在する共重合体を含むコーティングを、容器の表面の少なくとも一部に備えるため、長期間（例えば１４日以上、例えば２１日以上）にわたる非接着培養に用いることができる。

試験例２の繊維芽細胞付着抑制試験に付した各実施例及び比較例のプレート、並びに陽性対照及び陰性対照のプレートの、培養４日間後の細胞付着の様子を示した顕微鏡写真である。試験例３のがん細胞付着抑制試験に付した各実施例及び比較例のプレート、並びに陽性対照及び陰性対照のプレートの、培養２１日間後、培地除去前の細胞付着の様子を示した顕微鏡写真である。試験例３のがん細胞付着抑制試験に付した各実施例及び比較例のプレート、並びに陽性対照及び陰性対照のプレートの、培養２１日間後に培地除去及び染色し、細胞付着の様子を示した顕微鏡写真である。試験例５で用いたＰＤＭＳコーティングプレートの概略図である。試験例５で用いたＰＤＭＳコーティングプレートのディンプル部分及び断面の拡大図である。試験例５で用いたＰＤＭＳコーティングプレート作製スキームの概略図である。試験例５の細胞付着抑制試験に付した各実施例及び比較例のプレート、並びに陰性対照のプレートの、培養１日間後の細胞付着の様子を示した顕微鏡写真である。

≪用語の説明≫
　本発明において用いられる用語は、他に特に断りのない限り、以下の定義を有する。

　本発明において、「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を意味する。

　本発明において、「アルキル基」は、直鎖若しくは分岐の、飽和脂肪族炭化水素の１価の基を意味する。「炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、t－ブチル基、ｎ－ペンチル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１，１－ジメチルプロピル基、１，２－ジメチルプロピル基、２，２－ジメチルプロピル基又は１－エチルプロピル基が挙げられる。「炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基」としては、「炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基」の例に加え、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基又はデシル基、あるいはそれらの異性体が挙げられる。
　これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基及びt－ブチル基が好ましい。

　本発明において、「ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基」は、上記炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を意味するか、あるいは１以上の上記ハロゲン原子で置換された上記炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を意味する。「炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基」の例は、上記のとおりである。一方「１以上のハロゲン原子で置換された炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基」は、上記炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基の１以上の任意の水素原子が、ハロゲン原子で置き換えられているものを意味し、例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、２，２，２－トリクロロエチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロブチル基、又はペルフルオロペンチル基等が挙げられる。

　本発明において、「エステル結合」は、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－若しくは－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を意味し、「アミド結合」は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－若しくは－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－を意味し、エーテル結合は、－Ｏ－を意味する。

　本発明において、「ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキレン基」は、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキレン基、あるいは１以上のハロゲン原子で置換された炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキレン基を意味する。ここで、「アルキレン基」は、上記アルキル基に対応する２価の有機基を意味する。「炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキレン基」の例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、１－メチルプロピレン基、２－メチルプロピレン基、ジメチルエチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、１－メチル－テトラメチレン基、２－メチル－テトラメチレン基、１，１－ジメチル－トリメチレン基、１，２－ジメチル－トリメチレン基、２，２－ジメチル－トリメチレン基、１－エチル－トリメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基及びデカメチレン基等が挙げられ、これらの中で、エチレン基、プロピレン基、オクタメチレン基及びデカメチレン基が好ましく、例えば、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等の炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキレン基がより好ましく、特にエチレン基又はプロピレン基が好ましい。「１以上のハロゲン原子で置換された炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキレン基」は、上記アルキレン基の１以上の任意の水素原子が、ハロゲン原子で置き換えられているものを意味し、特に、エチレン基又はプロピレン基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換えられているものが好ましい。

　本発明において、「炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基」は、炭素原子数３乃至１０の、単環式若しくは多環式の、飽和若しくは部分不飽和の、脂肪族炭化水素の１価の基を意味する。この中でも、炭素原子数３乃至１０の、単環式若しくは二環式の、飽和脂肪族炭化水素の１価の基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基又はシクロヘキシル基等の炭素原子数３乃至１０のシクロアルキル基、あるいはビシクロ［３．２．１］オクチル基、ボルニル基、イソボルニル基等の炭素原子数４乃至１０のビシクロアルキル基が挙げられる。

　本発明において、「炭素原子数６乃至１０のアリール基」は、炭素原子数６乃至１０の、単環式若しくは多環式の、芳香族炭化水素の１価の基を意味し、例えば、フェニル基、ナフチル基又はアントリル基等が挙げられる。「炭素原子数６乃至１０のアリール基」は、１以上の上記「ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基」で置換されていてもよい。

　本発明において、「炭素原子数７乃至１５のアラルキル基」は、基－Ｒ－Ｒ’（ここで、Ｒは、上記「炭素原子数１乃至５のアルキレン基」を表し、Ｒ’は、上記「炭素原子数６乃至１０のアリール基」を表す）を意味し、例えば、ベンジル基、フェネチル基、又はα－メチルベンジル基等が挙げられる。「炭素原子数７乃至１５のアラルキル基」のアリール部分は、１以上の上記「ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基」で置換されていてもよい。

　本発明において、「炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基」は、基－Ｒ－Ｏ－Ｒ’（ここで、Ｒは、上記「炭素原子数１乃至５のアルキレン基」を表し、Ｒ’は、上記「炭素原子数６乃至１０のアリール基」を表す）を意味し、例えば、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、又はフェノキシプロピル基等が挙げられる。「炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基」のアリール部分は、１以上の上記「ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基」で置換されていてもよい。

　本発明において、「ハロゲン化物イオン」とは、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン又はヨウ化物イオンを意味する。
　本発明において、「無機酸イオン」とは、炭酸イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、リン酸水素イオン、リン酸二水素イオン、硝酸イオン、過塩素酸イオン又はホウ酸イオンを意味する。
　上記Ａｎ^－として好ましいのは、ハロゲン化物イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンであり、特に好ましいのはハロゲン化物イオンである。

　本発明において、（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方を意味する。例えば（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸を意味する。
　また、本発明において、「アニオン」又は「アニオン性基」とは、陰イオン又は陰イオン性基を意味し、水中で解離して陰イオン又は陰イオン性基になり得るものも含む。同様に、本発明において、「カチオン」又は「カチオン性基」とは、陽イオン又は陽イオン性基を意味し、水中で解離して陽イオン又は陽イオン性基になり得るものも含む。

　本発明において、生体物質としては、ペプチド、蛋白質、糖、核酸及び細胞又はそれらの組み合わせが挙げられる。例えばペプチド又は蛋白質としてはフィブリノゲン、牛血清アルブミン（ＢＳＡ）、ヒトアルブミン、各種グロブリン、β－リポ蛋白質、各種抗体（ＩｇＧ、ＩｇＡ、ＩｇＭ）、ペルオキシダーゼ、各種補体、各種レクチン、フィブロネクチン、リゾチーム、フォン・ヴィレブランド因子（ｖＷＦ）、血清γ－グロブリン、ペプシン、卵白アルブミン、インシュリン、ヒストン、リボヌクレアーゼ、コラーゲン、シトクロームｃ、例えば糖としてはグルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、ヘパリン、ヒアルロン酸、例えば核酸としてはデオキシリボ核酸（ＤＮＡ）、リボ核酸（ＲＮＡ）、例えば細胞としては線維芽細胞、骨髄細胞、Ｂリンパ球、Ｔリンパ球、好中球、赤血球、血小板、マクロファージ、単球、骨細胞、周皮細胞、樹枝状細胞、ケラチノサイト、脂肪細胞、間葉細胞、上皮細胞、表皮細胞、内皮細胞、血管内皮細胞、肝実質細胞、軟骨細胞、卵丘細胞、神経系細胞、グリア細胞、ニューロン、オリゴデンドロサイト、マイクログリア、星状膠細胞、心臓細胞、食道細胞、筋肉細胞（例えば、平滑筋細胞又は骨格筋細胞）、膵臓ベータ細胞、メラニン細胞、造血前駆細胞、単核細胞、胚性幹細胞（ＥＳ細胞）、胚性腫瘍細胞、胚性生殖幹細胞、人工多能性幹細胞（ｉＰＳ細胞）、神経幹細胞、造血幹細胞、間葉系幹細胞、肝幹細胞、膵幹細胞、筋幹細胞、生殖幹細胞、腸幹細胞、癌幹細胞、毛包幹細胞、及び各種細胞株（例えば、ＨＣＴ１１６、Ｈｕｈ７、ＨＥＫ２９３（ヒト胎児腎細胞）、ＨｅＬａ（ヒト子宮頸癌細胞株）、ＨｅｐＧ２（ヒト肝癌細胞株）、ＵＴ７／ＴＰＯ（ヒト白血病細胞株）、ＣＨＯ（チャイニーズハムスター卵巣細胞株）、ＭＤＣＫ、ＭＤＢＫ、ＢＨＫ、Ｃ－３３Ａ、ＨＴ－２９、ＡＥ－１、３Ｄ９、Ｎｓ０／１、Ｊｕｒｋａｔ、ＮＩＨ３Ｔ３、ＰＣ１２、Ｓ２、Ｓｆ９、Ｓｆ２１、Ｈｉｇｈ　Ｆｉｖｅ、Ｖｅｒｏ）等が挙げられる。

　生体物質の付着抑制能を有するとは、例えば、
　生体物質がタンパク質の場合、実施例に記載した方法で行うＱＣＭ－Ｄ測定にて、コーティング膜無しと比較した場合の相対単位面積当たりの質量（％）（（実施例の単位面積当たりの質量（ｎｇ／ｃｍ^２）／（比較例の単位面積当たりの質量（ｎｇ／ｃｍ^２）））が５０％以下、好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２０％以下であることを意味するか；又は
　生体物質がタンパク質の場合、実施例に記載した方法で行うプレートリーダーによるコーティング膜無しと比較した場合の相対光学濃度（４５０ｎｍ）（％）（（実施例の光学濃度（４５０ｎｍ））／（比較例の光学濃度（４５０ｎｍ）））が５０％以下、好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１０％以下であることを意味し；
　生体物質が細胞の場合、実施例に記載した方法で行う蛍光顕微鏡によるコーティング膜無しと比較した場合の相対吸光度（ＷＳＴ　Ｏ．Ｄ．４５０ｎｍ）（％）（（実施例の吸光度（ＷＳＴ　Ｏ．Ｄ．４５０ｎｍ））／（比較例の吸光度（ＷＳＴ　Ｏ．Ｄ．４５０ｎｍ）））が５０％以下、好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１０％以下、最も好ましくは６％以下であることを意味する。

　本発明において、長期細胞非接着培養とは、長期（例えば１４日以上、あるいは２１日以上）の時間を要する細胞培養において、細胞を非接着状態のまま培養できることを意味する。また、この効果により細胞が容器へ接着する力よりも細胞同士が接着する力が強くなり、細胞種によっては効率的に細胞凝集塊（スフェロイド）形成ができる。
　一般的な培養容器では、通常細胞の基材への接着力が、細胞間同士の接着力より大きくなるよう設計されているため、細胞を基材へ接着させた培養が可能であるが、本願のコーティング剤を基材へ塗布することで、細胞の基材への接着力よりも、細胞間同士の接着力が大きくなり、スフェロイドが形成できることになる。

≪本発明の説明≫
　本発明の長期細胞非接着培養用の細胞培養容器は、下記式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位とを含む共重合体：

［式中、Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表す］であって、式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位の共重合体全体に対するモル比率が１～５０モル％である共重合体を含むコーティングを、表面の少なくとも一部に備えることを特徴とする。

　本発明に係る共重合体は、上記式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位と、上記式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位と、上記式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位を含み、式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位の共重合体全体に対するモル比率が１～５０モル％である共重合体であれば特に制限は無い。なお、本発明において、上記式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位は、上記式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位及び上記式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位とは異なる。該重合体は、上記式（ａ）で表される基を含むモノマーと、上記式（ｂ）で表される基を含むモノマーと、上記式（ｃ）で表される基を含むモノマーとをラジカル重合して得られたものが望ましいが、重縮合、重付加反応させたものも使用できる。共重合体の例としては、オレフィンが反応したビニル重合ポリマー、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン等が挙げられるが、これらの中でも特にオレフィンが反応したビニル重合ポリマー又は（メタ）アクリレート化合物を重合させた（メタ）アクリルポリマーが望ましい。

　本発明に係る共重合体中における式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位の割合は、３モル％乃至８０モル％であり、好ましくは５モル％乃至６０モル％であり、さらに好ましくは７モル％乃至４０モル％である。最も好ましくは１０モル％乃至３０モル％である。なお、本発明に係る共重合体は、２種以上の式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位を含んでいてもよい。

　本発明のコーティング膜に係る共重合体中における式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位の割合は、３モル％乃至８０モル％であり、好ましくは１０モル％乃至７５モル％であり、さらに好ましくは２０モル％乃至７０モル％である。最も好ましくは４０モル％乃至６５モル％である。なお、本発明に係る共重合体は、２種以上の式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位を含んでいてもよい。

　本発明に係る共重合体中における式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位の割合は、１モル％乃至５０モル％であり、好ましくは３モル％乃至４５モル％である。さらに好ましくは５モル％乃至４０モル％である。最も好ましくは１０モル％乃至３５モル％である。なお、本発明に係る共重合体は、２種以上の式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位を含んでいてもよい。

　本発明に係る共重合体中における上記式（ａ）、式（ｂ）及び式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位の割合の組み合わせは、
好ましくは、
式（ａ）：３モル％乃至８０モル％、式（ｂ）：３モル％乃至８０モル％、式（ｃ）：１モル％乃至５０モル％、
より好ましくは、
式（ａ）：５モル％乃至６０モル％、式（ｂ）：１０モル％乃至７５モル％、式（ｃ）：３モル％乃至４５モル％、
さらに好ましくは、
式（ａ）：７モル％乃至４０モル％、式（ｂ）：２０モル％乃至７０モル％、式（ｃ）：５モル％乃至４０モル％、
最も好ましくは、
式（ａ）：１０モル％乃至３０モル％、式（ｂ）：４０モル％乃至６５モル％、式（ｃ）：１０モル％乃至３５モル％、
である。

　本発明に係る共重合体は、下記式（ａ１）、（ｂ１）及び（ｃ１）の繰り返し単位を含む共重合体が特に好ましく用いられる。

　式中、Ｔ^ａ、Ｔ^ｂ、Ｔ^ｃ、Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し、Ｑ^ａ及びＱ^ｂは、それぞれ独立して、単結合、エステル結合又はアミド結合を表し、Ｑ^ｃは、単結合、エーテル結合又はエステル結合を表し、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキレン基を表し、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキレン基を表し、Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し、Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表し、ｍは、０乃至６の整数を表す。

　式（ａ１）において、ｍは０乃至６の整数を表すが、好ましくは１乃至６の整数を表し、より好ましくは１乃至５の整数を表し、特に好ましくは１である。

　本発明に係る共重合体中に含まれる式（ａ１）で表される繰り返し単位の割合は、３モル％乃至８０モル％であり、好ましくは５モル％乃至６０モル％であり、さらに好ましくは７モル％乃至４０モル％であり、最も好ましくは１０モル％乃至３０モル％である。なお、本発明に係る共重合体は、２種以上の式（ａ１）で表される繰り返し単位を含んでいてもよい。

　本発明に係る共重合体に含まれる式（ｂ１）で表される繰り返し単位の割合は、３モル％乃至８０モル％であり、好ましくは１０モル％乃至７５モル％であり、さらに好ましくは２０モル％乃至７０モル％であり、最も好ましくは４０モル％乃至６５モル％である。なお、本発明に係る共重合体は、２種以上の式（ｂ１）で表される繰り返し単位を含んでいてもよい。

　本発明に係る共重合体に含まれる式（ｃ１）で表される繰り返し単位の割合は、１モル％乃至５０モル％であり、好ましくは３モル％乃至４５モル％であり、さらに好ましくは５モル％乃至４０モル％であり、最も好ましくは１０モル％乃至３５モル％である。なお、本発明に係る共重合体は、２種以上の式（ｃ１）で表される繰り返し単位を含んでいてもよい。

　本発明に係る共重合体中における上記式（ａ１）、式（ｂ１）及び式（ｃ１）で表され繰り返し単位の割合の組み合わせは、
好ましくは、
式（ａ１）：３モル％乃至８０モル％、式（ｂ１）：３モル％乃至８０モル％、式（ｃ１）：１モル％乃至５０モル％、
より好ましくは、
式（ａ１）：５モル％乃至６０モル％、式（ｂ１）：１０モル％乃至７５モル％、式（ｃ１）：３モル％乃至４５モル％、
さらに好ましくは、
式（ａ１）：７モル％乃至４０モル％、式（ｂ１）：２０モル％乃至７０モル％、式（ｃ１）：５モル％乃至４０モル％、
最も好ましくは、
式（ａ１）：１０モル％乃至３０モル％、式（ｂ１）：４０モル％乃至６５モル％、式（ｃ１）：１０モル％乃至３５モル％、
である。

　本発明に係る共重合体はまた、下記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：

［式中、
Ｔ^ａ、Ｔ^ｂ、Ｔ^ｃ、Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
Ｑ^ａ及びＱ^ｂは、それぞれ独立して、単結合、エステル結合又はアミド結合を表し、Ｑ^ｃは、単結合、エーテル結合又はエステル結合を表し；
Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキレン基を表し、Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、炭ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；
Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表し；
ｍは、０乃至６の整数を表す］
で表される化合物を含むモノマー混合物を、溶媒中にて反応（重合）させることにより得られる。

　Ｔ^ａ、Ｔ^ｂ及びＴ^ｃとしては、水素原子、メチル基又はエチル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３としては、水素原子、メチル基、エチル基又はｔ－ブチル基が好ましく、式（ａ）のＵ^ａ１及びＵ^ａ２には水素原子、式（ｂ）のＵ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３には水素原子、メチル基、エチル基又はｔ－ブチル基がより好ましい。

　上記式（Ａ）の具体例としては、ビニルホスホン酸、アシッドホスホオキシエチル（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－アシッドホスホオキシプロピル（メタ）アクリレート、アシッドホスホオキシプロピル（メタ）アクリレート、アシッドホスホオキシメチル（メタ）アクリレート、アシッドホスホオキポリオキシエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びアシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられるが、この中でもビニルホスホン酸、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（＝リン酸２－（メタクリロイルオキシ）エチル）、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタアクリレート及びアシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレートが好ましく用いられる。

　ビニルホスホン酸、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（＝リン酸２－（メタクリロイルオキシ)エチル）、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート及びアシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレートの構造式は、それぞれ下記式（Ａ－１）～式（Ａ－４）で表される。

　例えば、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（＝リン酸２－（メタクリロイルオキシ）エチル）は、製品名；ホスマーＭ（ユニケミカル（株）製）やライトエステルＰ－１Ｍ（共栄社化学（株）製）に含まれる化合物である。
　例えば、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタアクリレートは、製品名；ホスマーＰＥ（ユニケミカル（株）製）に含まれる化合物である。
　例えば、アシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレートは、製品名；ホスマーＰＰ（ユニケミカル（株）製）に含まれる化合物である。

　これらの化合物は、合成時において、後述する一般式（Ｄ）又は（Ｅ）で表されるような、２つの官能基を有する（メタ）アクリレート化合物を含む場合がある。

　上記式（Ｂ）の具体例としては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、２－（ｔ－ブチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、メタクロイルコリンクロリド等が挙げられるが、この中でもジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メタクロイルコリンクロリド又は２－（ｔ－ブチルアミノ）エチル（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。

　ジメチルアミノエチルアクリレート（＝アクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル）、ジエチルアミノエチルメタクリレート（＝メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル）、ジメチルアミノエチルメタクリレート（＝メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル）、メタクロイルコリンクロリド及び２－（ｔ－ブチルアミノ）エチルメタクリレート（＝メタクリル酸２－（ｔ－ブチルアミノ）エチルの構造式は、それぞれ下記式（Ｂ－１）～式（Ｂ－５）で表される。

　上記式（Ｃ）の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸の直鎖若しくは分岐アルキルエステル類；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸の環状アルキルエステル類；ベンジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸のアラルキルエステル類；スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン系モノマー；メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル系モノマー；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル系モノマーが挙げられる。この中でもメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸の炭素原子数１乃至６の直鎖若しくは分岐アルキルエステル、又はシクロヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸の炭素原子数３乃至６のシクロアルキルエステルが好ましく、特にメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート及びｎ－ヘキシル（メタ）アクリレートが好ましく、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓ－ブチル（メタ）アクリレート及びｔ－ブチル（メタ）アクリレートがさらに好ましい。

　例えば、ｎ－ブチルメタクリレート（＝メタクリル酸ｎ－ブチル）及びシクロヘキシルメタクリレート（＝メタクリル酸シクロヘキシル）の構造式は、それぞれ下記式（Ｃ－１）及び式（Ｃ－２）で表される。

　本発明に係る共重合体は、さらに任意の第４成分が共重合していてもよい。例えば、第４成分として２以上の官能基を有する（メタ）アクリレート化合物が共重合しており、ポリマーの一部が部分的に３次元架橋していてもよい。そのような第４成分として、例えば、下記式（Ｄ）又は（Ｅ）：

［式中、Ｔ^ｄ、Ｔ^ｅ及びＵ^ｅは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し、Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキレン基を表し；ｎは、１乃至６の整数を表す］で表される２官能性モノマーが挙げられる。すなわち本発明に係る共重合体は、好ましくは、このような２官能性モノマーから誘導される架橋構造を含むものである。

　式（Ｄ）及び（Ｅ）において、Ｔ^ｄ及びＴ^ｅは、好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はエチル基であり、より好ましくは、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基である。

　式（Ｅ）において、Ｕ^ｅは、好ましくは、水素原子、メチル基又はエチル基であり、より好ましくは、水素原子である。

　式（Ｄ）において、Ｒ^ｄは、好ましくは、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至３の直鎖若しくは分岐アルキレン基であり、より好ましくは、それぞれ独立して、エチレン基若しくはプロピレン基であるか、あるいは１つの塩素原子で置換されたエチレン基若しくはプロピレン基であり、特に好ましくは、エチレン基若しくはプロピレン基である。また式（Ｄ）において、ｎは、好ましくは、１乃至５の整数を表し、特に好ましくは１である。

　式（Ｅ）において、Ｒ^ｅは、好ましくは、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至３の直鎖若しくは分岐アルキレン基であり、より好ましくは、それぞれ独立して、エチレン基若しくはプロピレン基であるか、あるいは１つの塩素原子で置換されたエチレン基若しくはプロピレン基であり、特に好ましくは、エチレン基若しくはプロピレン基である。また式（Ｅ）において、ｎは、好ましくは、１乃至５の整数を表し、特に好ましくは１である。

　式（Ｄ）及び（Ｅ）において、好ましいのは式（Ｅ）である。

　式（Ｄ）で表される２官能性モノマーは、好ましくは、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、あるいは上記式（Ａ－３）又は（Ａ－４）由来の２官能性モノマー等が挙げられる。
　式（Ｅ）で表される２官能性モノマーは、好ましくは、リン酸ビス（メタクリロイルオキシメチル）、リン酸ビス［（２－メタクリロイルオキシ）エチル］、リン酸ビス［３－（メタクリロイルオキシ）プロピル］、あるいは上記式（Ａ－３）又は（Ａ－４）由来の２官能性モノマーが挙げられる。

　また、３官能（メタ）アクリレート化合物としては、トリアクリル酸ホスフィニリジントリス（オキシ－２，１－エタンジイル）が挙げられる。

　これら第４成分の中でも、特に、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］、リン酸ビス［３－（メタクリロイルオキシ）プロピル］並びに上記式（Ａ－３）及び（Ａ－４）由来の２官能性モノマーのうち、エチレングリコール又はプロピレングリコールの繰り返し単位を有するジ（メタ）アクリレート及びリン酸エステル基を介してエチレングリコール又はプロピレングリコールの繰り返し単位を有するジ（メタ）アクリレートが好ましく、その構造式は、それぞれ、下記式（Ｄ－１）～（Ｄ－３）及び式（Ｅ－１）～（Ｅ－３）で表される。特に式（Ｅ－１）～（Ｅ－３）が好ましい。

　共重合体には、これらの第４成分の１種又は２種以上が含まれていてもよい。
　上記共重合体中における第４成分、例えば、上記式（Ｄ）又は（Ｅ）で表される２官能性モノマーから誘導される架橋構造の割合は、０モル％乃至５０モル％である。

　式（Ａ）で表される化合物の、上記共重合体を形成するモノマー全体に対する割合は、３モル％乃至８０モル％であり、好ましくは５モル％乃至６０モル％であり、さらに好ましくは７モル％乃至４０モル％であり、最も好ましくは１０モル％乃至３０モル％である。また、式（Ａ）で表される化合物は、２種以上であってもよい。
　式（Ｂ）で表される化合物の、上記共重合体を形成するモノマー全体に対する割合は、３モル％乃至８０モル％であり、好ましくは１０モル％乃至７５モル％であり、さらに好ましくは２０モル％乃至７０モル％であり、最も好ましくは４０モル％乃至６５モル％である。また、式（Ｂ）で表される化合物は、２種以上であってもよい。
　式（Ｃ）で表される化合物の、上記共重合体を形成するモノマー全体に対する割合は、１モル％乃至５０モル％であり、好ましくは３モル％乃至４５モル％であり、さらに好ましくは５モル％乃至４０モル％であり、最も好ましくは１０モル％乃至３５モル％である。また、式（Ｃ）で表される化合物は、２種以上であってもよい。

　本発明に係る共重合体は、さらに任意の第５成分として、エチレン性不飽和モノマー、又は多糖類若しくはその誘導体が共重合していてもよい。エチレン性不飽和モノマーの例としては、（メタ）アクリル酸及びそのエステル；酢酸ビニル；ビニルピロリドン；エチレン；ビニルアルコール；並びにそれらの親水性の官能性誘導体からなる群より選択される１種又は２種以上のエチレン性不飽和モノマーを挙げることができる。多糖類又はその誘導体の例としては、ヒドロキシアルキルセルロース（例えば、ヒドロキシエチルセルロース又はヒドロキシプロピルセルロース）等のセルロース系高分子、デンプン、デキストラン、カードランを挙げることができる。

　親水性の官能性誘導体とは、親水性の官能基又は構造を有するエチレン性不飽和モノマーを指す。親水性の官能性基又は構造の例としては、ベタイン構造；アミド構造；アルキレングリコール残基；アミノ基；並びにスルフィニル基等が挙げられる。

　ベタイン構造は、第４級アンモニウム型の陽イオン構造と、酸性の陰イオン構造との両性中心を持つ化合物の一価又は二価の基を意味し、例えば、ホスホリルコリン基：

を挙げることができる。そのような構造を有するエチレン性不飽和モノマーの例としては、２－メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン（ＭＰＣ）等を挙げることができる。

　アミド構造は、下記式：

［ここで、Ｒ^１６、Ｒ^１７及びＲ^１８は、互いに独立して、水素原子又は有機基（例えば、メチル基、ヒドロキシメチル基又はヒドロキシエチル基等）である］
で表される基を意味する。そのような構造を有するエチレン性不飽和モノマーの例としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド等を挙げることができる。さらに、そのような構造を有するモノマー又はポリマーは、例えば、特開２０１０－１６９６０４号公報等に開示されている。

　アルキレングリコール残基は、アルキレングリコール（ＨＯ－Ａｌｋ－ＯＨ；ここでＡｌｋは、炭素原子数１乃至１０のアルキレン基である）の片側端末又は両端末の水酸基が他の化合物と縮合反応した後に残るアルキレンオキシ基（－Ａｌｋ－Ｏ－）を意味し、アルキレンオキシ単位が繰り返されるポリ（アルキレンオキシ）基も包含する。そのような構造を有するエチレン性不飽和モノマーの例としては、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等を挙げることができる。さらに、そのような構造を有するモノマー又はポリマーは、例えば、特開２００８－５３３４８９号公報等に開示されている。

　アミノ基は、式：－ＮＨ_２、－ＮＨＲ^１９又は－ＮＲ^２０Ｒ^２１［ここで、Ｒ^１９、Ｒ^２０及びＲ^２１は、互いに独立して、有機基（例えば、炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基等）である］で表される基を意味する。本発明におけるアミノ基には、４級化又は塩化されたアミノ基を包含する。そのような構造を有するエチレン性不飽和モノマーの例としては、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２－（ｔ－ブチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルコリンクロリド等を挙げることができる。

　スルフィニル基は、下記式：

［ここで、Ｒ^２２は、有機基（例えば、炭素原子数１乃至１０の有機基、好ましくは、１個以上のヒドロキシ基を有する炭素原子数１乃至１０のアルキル基等）である］
で表される基を意味する。そのような構造を有するポリマーとして、特開２０１４－４８２７８号公報等に開示された共重合体を挙げることができる。

　本発明に係る共重合体の合成方法としては、一般的なアクリルポリマー又はメタクリルポリマー等の合成方法であるラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などの方法により合成することができる。その形態は溶液重合、懸濁重合、乳化重合、塊状重合など種々の方法が可能である。

　重合反応における溶媒としては、水、リン酸緩衝液又はエタノール等のアルコール又はこれらを組み合わせた混合溶媒でもよいが、水又はエタノールを含むことが望ましい。さらには水又はエタノールを１０質量％以上１００質量％以下含むことが好ましい。さらには水又はエタノールを５０質量％以上１００質量％以下含むことが好ましい。さらには水又はエタノールを８０質量％以上１００質量％以下含むことが好ましい。さらには水又はエタノールを９０質量％以上１００質量％以下含むことが好ましい。好ましくは水とエタノールの合計が１００質量％である。

　反応濃度としては、例えば上記式（Ａ）又は式（Ｂ）で表される化合物の反応溶媒中の濃度を、０．０１質量％乃至４質量％とすることが好ましい。濃度が４質量％以上であると、例えば式（Ａ）で表されるリン酸基の有する強い会合性により共重合体が反応溶媒中でゲル化してしまう場合がある。濃度０．０１質量％以下では、得られたワニスの濃度が低すぎるため、十分な膜厚のコーティング膜を得るためのコーティング剤の作成が困難である。濃度が、０．０１質量％乃至３質量％、例えば３質量％、２質量％又は１質量％であることがより好ましい。

　また本発明に係る共重合体の合成においては、例えば式（１）に記載の酸性リン酸エステル単量体（ハーフ塩）を作成後、式（Ｃ）で表される化合物と共に重合して共重合体を作製してもよい。

　リン酸基含有モノマーは会合し易いモノマーのため、反応系中に滴下されたとき、速やかに分散できるように反応溶媒中に少量ずつ滴下してもよい。

　さらに、反応溶媒はモノマー及びポリマーの溶解性を上げるために加温（例えば４０℃乃至１００℃）してもよい。

　重合反応を効率的に進めるためには、重合開始剤を使用することが望ましい。重合開始剤の例としては、２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）（和光純薬工業（株）製；Ｖ－６５、１０時間半減期温度；５１℃）、４，４’－アゾビス（４－シアノ吉草酸）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、１－［（１－シアノ－１－メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］二塩酸塩（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０４４、１０時間半減期温度；４４℃）、２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル)プロパン］（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０６１、１０時間半減期温度；６１℃）、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオンアミジン）二塩酸塩、２，２’－アゾ（２－メチル－Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）プロピオンアミド（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０８６、１０時間半減期温度；８６℃）、過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７、１０時間半減期温度；５７℃）、４，４’－アゾビス（４－シアノペンタノイックアシド）（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－５０１）、２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］ジスルファートジヒドレート（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０４６Ｂ、１０時間半減期温度；４６℃）、２，２’－アゾビス（２－アミジノプロパン）ジヒドロクロリド（和光純薬工業（株）製；Ｖ－５０、１０時間半減期温度；５６℃）、ペルオキソ二硫酸又はｔ－ブチルヒドロペルオキシド等が用いられる。
　水への溶解性、イオンバランス及びモノマーとの相互作用を考慮した場合、２，２’－アゾ（２－メチル－Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）プロピオンアミド、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物、４，４’－アゾビス（４－シアノペンタノイックアシッド）、２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］ジスルファートジヒドレート、２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］、２，２’－アゾビス（２－アミジノプロパン）ジヒドロクロリド及びペルオキソ二硫酸から選ばれることが好ましい。
　有機溶媒への溶解性、イオンバランス及びモノマーとの相互作用を考慮した場合、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）又は２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）を用いることが望ましい。

　重合開始剤の添加量としては、重合に用いられるモノマーの合計重量に対し、０．０５質量％～１０質量％である。

　反応条件は反応容器をオイルバス等で５０℃乃至２００℃に加熱し、1時間乃至４８時間、より好ましくは８０℃乃至１５０℃、５時間乃至３０時間攪拌を行うことで、重合反応が進み本発明の共重合体が得られる。反応雰囲気は窒素雰囲気が好ましい。

　反応手順としては、全反応物質を室温の反応溶媒に全て入れてから、上記温度に加熱して重合させてもよいし、あらかじめ加温した溶媒中に、反応物質の混合物全部又は一部を少々ずつ滴下してもよい。

　後者の反応手順によれば、本発明の共重合体含有ワニスは、上記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）で表される化合物、溶媒及び重合開始剤を含む混合物を、重合開始剤の１０時間半減期温度より高い温度に保持した溶媒に滴下し、反応（重合）させる工程を含む製造方法により調製することができる。

　この実施態様では、上記の反応手順と温度条件を採用することにより、上記式（Ａ）又は式（Ｂ）で表される化合物の反応溶媒中の濃度を、例えば、０．０１質量％乃至１０質量％とすることができる。この実施態様では、濃度が４質量％を超えても、反応前に滴下相及び反応相が透明均一な溶液となり、反応後の共重合体の反応溶媒中でのゲル化を抑制することができる。この実施態様におけるその他の条件は、上記と同様である。

　本発明に係る共重合体の重量分子量は数千から数百万程度であれば良く、好ましくは５，０００乃至５，０００，０００である。さらに好ましくは、１０，０００乃至２，０００，０００である。また、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれでも良く、該共重合体を製造するための共重合反応それ自体には特別の制限はなく、ラジカル重合やイオン重合や光重合、マクロマー、乳化重合を利用した重合等の公知の溶液中で合成される方法を使用できる。これらは目的の用途によって、本発明の共重合体のうちいずれかを単独使用することもできるし、複数の共重合体を混合し、且つその比率は変えて使用することもできる。

　また、このようにして製造される種々の共重合体は、２次元ポリマーでも３次元ポリマーであってもよく、水やアルコールを含有する溶液に分散した状態である。つまり、これらのポリマーを含むワニスでは、不均一なゲル化や白濁沈殿ができることは好ましくはなく、透明なワニス、分散コロイド状のワニス、若しくはゾルであるのが好ましい。

　本発明に係わる細胞培養容器にコーティングを形成するために用いられるコーティング剤は、所望の共重合体を、場合により所望の溶媒にて所定の濃度に希釈することにより調製してもよい。

　そのような溶媒としては、水、リン酸緩衝生理食塩水（ＰＢＳ）、アルコールが挙げられる。アルコールとしては、炭素数２乃至６のアルコール、例えば、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、イソブタノール、ｔ－ブタノール、１－ペンタノール、２－ペンタノール、３－ペンタノール、１－ヘプタノール、２－ヘプタノール、２，２－ジメチル－１－プロパノール（＝ネオペンチルアルコール）、２－メチル－１－プロパノール、２－メチル－１－ブタノール、２－メチル－２－ブタノール（＝ｔ－アミルアルコール）、３－メチル－１－ブタノール、３－メチル－３－ペンタノール、シクロペンタノール、１－ヘキサノール、２－ヘキサノール、３－ヘキサノール、２，３－ジメチル－２－ブタノール、３，３－ジメチル－１－ブタノール、３，３－ジメチル－２－ブタノール、２－エチル－１－ブタノール、２－メチル－１－ペンタノール、２－メチル－２－ペンタノール、２－メチル－３－ペンタノール、３－メチル－１－ペンタノール、３－メチル－２－ペンタノール、３－メチル－３－ペンタノール、４－メチル－１－ペンタノール、４－メチル－２－ペンタノール、４－メチル－３－ペンタノール及びシクロヘキサノールが挙げられ、単独で又はそれらの組み合わせの混合溶媒を用いてもよいが、共重合体の溶解の観点から、水、ＰＢＳ、エタノール、プロパノール、及びそれらの混合溶媒から選ばれるのが好ましく、水、エタノール、及びそれらの混合溶媒から選ばれるのがより好ましい。

　さらにコーティング剤は、共重合体含有ワニスから調製してもよい。共重合体含有ワニスは、例えば、上記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）で表される化合物を、溶媒中で、化合物の合計濃度０．０１質量％乃至２０質量％にて反応（重合）させる工程を含む製造方法により調製することができる。

　コーティング剤中の固形分の濃度としては、均一にコーティング膜を形成させるために、０．０１乃至５０質量％が望ましい。また、コーティング剤中の共重合体の濃度としては、好ましくは０．０１乃至４質量％、より好ましくは０．０１乃至３質量％、特に好ましくは０．０１乃至２質量％、さらに好ましくは０．０１乃至１質量％である。共重合体の濃度が０．０１質量％未満であると、コーティング剤中の共重合体の濃度が低すぎて十分な膜厚のコーティング膜が形成できず、４質量％超であると、コーティング剤の保存安定性が悪くなり、溶解物の析出やゲル化が起こる可能性がある。

　さらにコーティング剤は、上記共重合体と溶媒の他に、必要に応じて得られるコーティング膜の性能を損ねない範囲で他の物質を添加することもできる。他の物質としては、防腐剤、界面活性剤、酸化防止剤、還元剤、基材との密着性を高めるプライマー、防カビ剤及び糖類等が挙げられる。

　コーティング剤中の共重合体のイオンバランスを調節するために、さらにコーティング剤中のｐＨを予め調整する工程を含んでいてもよい。ｐＨ調整は、例えば上記共重合体と溶媒を含むコーティング剤にｐＨ調整剤を添加し、該剤のｐＨを３．５乃至９．０、好ましくは３．５乃至８．５、さらに好ましくは４．０乃至８．０とすることにより実施してもよい。使用しうるｐＨ調整剤の種類及びその量は、上記共重合体の濃度や、そのアニオンとカチオンの存在比等に応じて適宜選択される。
　ｐＨ調整剤の例としては、アンモニア、ジエタノールアミン、ピリジン、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン等の有機アミン；水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物；塩化カリウム、塩化ナトリウム等のアルカリ金属ハロゲン化物；硫酸、リン酸、塩酸、炭酸等の無機酸又はそのアルカリ金属塩；コリン等の４級アンモニウムカチオン、あるいはこれらの混合物（例えば、リン酸緩衝生理食塩水等の緩衝液）を挙げることができる。これらの中でも、アンモニア、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、コリン、Ｎ－メチル－Ｄ－グルカミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンが好ましく、特にアンモニア、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム及びコリンが好ましい。

　細胞非接着性を向上させるために、コーティング剤にリン酸をさらに添加してもよい。リン酸の添加量は通常、該剤全体を１００重量％とした場合、例えば０．０１重量％～１０重量％である。

　本発明の細胞培養容器は、上記コーティング剤より形成されたコーティングを、細胞培養容器の表面の少なくとも一部に有する。具体的には、細胞及び細胞増殖に係わるペプチド等の生体物質を含む培養液と接触し得る、容器の内部及び／又は外部の表面の少なくとも一部に有する。特に、細胞及び細胞増殖に係わるペプチド等の生体物質を含む培養液と接触し得る、容器の内部表面の表面積のうち、好ましくは５０％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上、特に好ましくは１００％にコーティングを有する。

　本発明の細胞培養容器を構成する、共重合体がコーティングされる容器は、当技術分野で使用され得る任意の形態の容器類であればよく、例えば、細胞の培養に一般的に用いられるペトリデッシュ、組織培養用ディッシュ、マルチディッシュなどのシャーレ又はディッシュ、細胞培養フラスコ、スピナーフラスコなどのフラスコ、プラスチックバッグ、テフロン（登録商標）バッグ、培養バッグなどのバッグ、マイクロプレート、マイクロウェルプレート、マルチプレート、マルチウェルプレートなどのプレート、チャンバースライド、チューブ、トレイ、ローラーボトルなどのボトル等が挙げられる。好ましくは、６～１５３６穴のマルチウェルプレート及びシャーレが挙げられる。

　また、容器の材質は、例えば、ガラス、金属、金属含有化合物若しくは半金属含有化合物、活性炭又は樹脂を挙げることができる。金属は、典型金属：（アルカリ金属：Li、Na、K、Rb、Cs；アルカリ土類金属：Ca、Sr、Ba、Ra）、マグネシウム族元素：Be、Mg、Zn、Cd、Hg；アルミニウム族元素：Al、Ga、In；希土類元素：Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu；スズ族元素：Ti、Zr、Sn、Hf、Pb、Th；鉄族元素：Fe、Co、Ni；土酸元素：V、Nb、Ta、クロム族元素：Cr、Mo、W、U；マンガン族元素：Mn、Re；貴金属：Cu、Ag、Au；白金族元素：Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt等が挙げられる。金属含有化合物若しくは半金属含有化合物は、例えば基本成分が金属酸化物で、高温での熱処理によって焼き固めた焼結体であるセラミックス、シリコンのような半導体、金属酸化物若しくは半金属酸化物（シリコン酸化物、アルミナ等）、金属炭化物若しくは半金属炭化物、金属窒化物若しくは半金属窒化物（シリコン窒化物等）、金属ホウ化物若しくは半金属ホウ化物等の無機化合物の成形体等の無機固体材料、アルミニウム、ニッケルチタン、ステンレス（ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ等）が挙げられる。

　樹脂としては、天然樹脂若しくはその誘導体、又は合成樹脂いずれでもよく、天然樹脂若しくはその誘導体としては、セルロース、三酢酸セルロース（ＣＴＡ）、ニトロセルロース（ＮＣ）、デキストラン硫酸を固定化したセルロース等、合成樹脂としてはポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、ポリエステル系ポリマーアロイ（ＰＥＰＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリウレタン（ＰＵ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＡＬ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエステル、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＰＥ）、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン樹脂（ＡＢＳ）又はテフロン（登録商標）が好ましく用いられる。本発明の細胞培養容器の製造では、共重合体を、該容器の表面の少なくとも一部に存在するようにコーティングする際に、高温での処理を要しないため、耐熱性が低い樹脂等も適用可能である。

　容器の材質は１種類であっても２種類以上の組み合わせであってもよい。これらの材質の中において、ガラス、シリコン、シリコン酸化物、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、テフロン（登録商標）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）若しくはステンレス（ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ等）単独、又はこれらから選ばれる組み合わせであることが好ましく、ガラス、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ステンレス（ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ等）であることが特に好ましい。

　本発明は、上述したようなコーティング剤を、容器の表面の少なくとも一部と接触させる工程を含む、容器の部表面の少なくとも一部にコーティングを備える細胞培養容器の製造方法に関する。コーティング剤と容器の表面との接触には特に制限は無いが、容器をコーティング剤に浸漬する、コーティング剤を容器に添加し、所定の時間静置する、又はコーティング剤を容器の表面に塗布する等の方法が用いられるが、コーティング剤を容器に添加し、所定の時間静置する方法が好ましい。添加は、例えば、容器の全容積の０．５乃至１倍量のコーティング剤を、シリンジ等を用いて添加することによって行うことができる。静置は、容器の材質やコーティング剤の種類に応じて、時間や温度を適宜選択して実施されるが、例えば、５分から２４時間、好ましくは３０分から３時間、１０乃至３５℃、好ましくは２０乃至３０℃、最も好ましくは２５℃で実施される。これにより、容器の表面の少なくとも一部に、好ましくは全体にわたって、コーティングを有する細胞培養容器を製造することができる。

　また、かかる方法により得られる容器の表面のコーティングは、上記容器の表面の少なくとも一部と接触させる工程後、好ましくはコーティング剤を添加し、所定の時間静置する工程後、乾燥工程を経ずにそのまま、あるいは水又は細胞培養に付される試料の媒質（例えば、水、緩衝液、培地等）を用いての洗浄後に、細胞培養容器として使用することができる。
　すなわち、上記容器の表面の少なくとも一部と接触させる工程後、好ましくはコーティング剤を添加し、所定の時間静置する工程後、４８時間以内、好ましくは２４時間以内、さらに好ましくは１２時間以内、さらに好ましくは６時間以内、さらに好ましくは３時間以内、さらに好ましくは１時間以内に乾燥工程を経ずにそのまま、あるいは水又は細胞培養に付される試料の媒質（例えば、水、緩衝液、培地等、特に好ましくは培地（例えば、ＤＭＥＭ培地（ダルベッコ改変イーグル培地））を用いての洗浄後に、細胞培養容器として使用することができる。

　容器は、乾燥工程に付してもよい。乾燥工程は、大気下又は真空下にて、好ましくは、温度－２００℃乃至２００℃の範囲内で行なう。乾燥工程により、上記コーティング剤中の溶媒を取り除くと共に、本発明に係わる共重合体の式（ａ）及び式（ｂ）同士がイオン結合を形成して基体へ完全に固着する。
　コーティングは、例えば室温（１０℃乃至３５℃、好ましくは２０℃乃至３０℃、例えば２５℃）での乾燥でも形成することができるが、より迅速にコーティングを形成させるために、例えば４０℃乃至５０℃にて乾燥させてもよい。またフリーズドライ法による極低温乃至低温（－２００℃乃至－３０℃前後）での乾燥工程を用いてもよい。フリーズドライは真空凍結乾燥と呼ばれ、通常乾燥させたいものを冷媒で冷却し、真空状態にて溶媒を昇華により除く方法である。フリーズドライで用いられる一般的な冷媒は、ドライアイスとメタノールの混合媒体（－７８℃）、液体窒素（－１９６℃）等が挙げられる。

　乾燥温度が－２００℃未満であると、一般的ではない冷媒を使用しなければならず汎用性に欠けることと、溶媒昇華のために乾燥に長時間を要し効率が悪い。乾燥温度が２００℃超であると、コーティング表面のイオン結合反応が進みすぎて該表面が親水性を失い、細胞及び細胞増殖に係わるペプチド等の生体物質の付着抑制能が発揮されない。より好ましい乾燥温度は１０℃乃至１８０℃、より好ましい乾燥温度は２５℃乃至１５０℃である。
　本願のコーティングは、以上の簡便な工程を経て製造される。

　また、コーティングに残存する不純物、未反応モノマー等を無くすため、さらにはコーティング中の共重合体のイオンバランスを調節するために、水及び電解質を含む水溶液から選ばれる少なくとも１種の溶媒で洗浄する工程を実施してもよい。洗浄は、流水洗浄又は超音波洗浄等が望ましい。上記水及び電解質を含む水溶液は例えば４０℃乃至９５℃の範囲で加温されたものでもよい。電解質を含む水溶液は、ＰＢＳ、生理食塩水（塩化ナトリウムのみを含むもの）、ダルベッコリン酸緩衝生理食塩水、トリス緩衝生理食塩水、ＨＥＰＥＳ緩衝生理食塩水及びベロナール緩衝生理食塩水が好ましく、ＰＢＳが特に好ましい。固着後は水、ＰＢＳ及びアルコール等で洗浄してもコーティング膜は溶出せずに基体に強固に固着したままである。形成されたコーティングは細胞又はタンパク質が付着してもその後水洗等にて容易に除去することができ、本発明のコーティングが形成された容器の表面は、細胞及び細胞増殖に係わるペプチド等の生体物質の付着抑制能を有し、長期非接着培養に適したものとなる。

　本発明の容器の表面に付与されるコーティングの膜厚は、容器の形状や、試料の種類等に応じて適宜調整でき、また容器の表面全体にわたってほぼ均一であっても、部分的に不均一であってもよいが、特に限定はなく、好ましくは１０乃至１０００Åであり、さらに好ましくは１０乃至５００Åであり、最も好ましくは１０乃至３００Åである。

　本発明はまた、上述の細胞培養容器を用いることを特徴とする、細胞凝集塊の製造方法に関する。細胞培養容器の表面の少なくとも一部に、上述のコーティングを行うことにより、培養期間が長期に及んでも、細胞の容器表面への接着が抑制されることから、浮遊培養等により細胞凝集塊を効率よく製造することができる。かかる方法における、細胞、細胞凝集塊、コーティング及び容器等の意味は、上述のとおりである。

　以下、合成例、調製例、実施例、試験例等に基づいて、本発明をさらに詳細に説明するが本発明はこれらに限定されない。

＜合成例１＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）７．００ｇに純水３２．１０ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール３２．１０ｇ、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル９．４１ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸ｎ－ブチル１．３４ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０９ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水９６．３１ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．７４質量％の共重合体含有ワニス１７８．３５ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約２１０,０００であった。

＜合成例２＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）７．００ｇに純水１６．０５ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール４８．１６ｇ、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル９．４１ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸ｎ－ブチル１．３４ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０９ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水９６．３１ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．６１質量％の共重合体含有ワニス１７８．３５ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約２２０，０００であった。

＜合成例３＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）７．００ｇに純水１５．８１ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール４７．４４ｇ、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル９．４１ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸エチル１．０７ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０９ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水９４．８８ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．７５質量％の共重合体含有ワニス１７５．７１ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約２８０,０００であった。

＜合成例４＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）７．００ｇに純水１７．０３ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール５１．０８ｇ、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル９．４１ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸エチル２．４２ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０９ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水１０２．１７ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．５２質量％の共重合体含有ワニス１８９．２０ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約２５０,０００であった。

＜合成例５＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）７．００ｇに純水１８．５９ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール５５．７７ｇ、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル９．４１ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸エチル４．１４ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．１０ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水１１１．５３ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．４９質量％の共重合体含有ワニス１８５．８８ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約２００,０００であった。

＜合成例６＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水１１．６４ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール３４．９１ｇ、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル６．７２ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸ｎ－ヘキシル１．１４ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０６ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水６９．８２ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．８０質量％の共重合体含有ワニス１２９．２９ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約２１０，０００であった。

＜合成例７＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水２１．１３ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール２１．１３ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル５．７２ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸ｎ－ブチル０．９６ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０６ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水６３．４０ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．５６質量％の共重合体含有ワニス１１７．４１ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約３８０,０００であった。

＜合成例８＞
　　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水１２．３８ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール３７．１５ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル５．７２ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸エチル２．９７ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０７ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水７４．３１ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約８．８９質量％の共重合体含有ワニス１３７．４１ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約５４０,０００であった。

＜合成例９＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水２０．２４ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール２０．２４ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル３．８２ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸エチル２．３７ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０６ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水６０．７３ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．３４質量％の共重合体含有ワニス１１２．４７ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約５８０,０００であった。

＜合成例１０＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水２４．８１ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール２４．８１ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル５．７２ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸エチル２．９７ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０９ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水７４．４２ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．３８質量％の共重合体含有ワニス１３７．８１ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約２８０,０００であった。

＜合成例１１＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水１９．５８ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール１９．５８ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル２．２９ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル２．６９ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸ｎ－ブチル０．８４ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０５ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水５８．７３ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．８２質量％の共重合体含有ワニス１０８．７５ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約３３０,０００であった。

＜合成例１２＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水２０．５４ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール２０．５４ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル１．６４ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル３．８４ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸ｎ－ブチル０．８８ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０６ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水６１．６１ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．８１質量％の共重合体含有ワニス１１４．０９ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約３２０,０００であった。

＜合成例１３＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水１８．７４ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール１８．７４ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル２．８６ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル１．６８ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸エチル０．６８ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０５ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水５６．２１ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．７５質量％の共重合体含有ワニス１０４．０９ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約３７０,０００であった。

＜合成例１４＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水２０．２２ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール２０．２２ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル１．６４ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル３．８４ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸エチル０．７０ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０６ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水６０．６７ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．７１質量％の共重合体含有ワニス１１２．３６ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約４１０,０００であった。

＜合成例１５＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水１８．４５ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール１８．４５ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル２．８６ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル１．６８ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸エチル０．６５ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０５ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水５７．８３ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．７０質量％の共重合体含有ワニス１０７．０９ｇを得た。
得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約４９０,０００であった。

＜比較合成例１＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）２５．００ｇを３５℃以下に冷却しながらコリン（４８－５０％水溶液：東京化成工業（株）製）２９．９５ｇを加えて均一になるまで撹拌した。この混合液にメタクロイルコリンクロリド８０％水溶液（東京化成工業（株）製）２０．９５ｇ、メタクリル酸ｎ－ブチル（東京化成工業（株）製）２８．６７ｇ、２，２’－アゾビス（２,４－ジメチルバレロニトリル）（和光純薬工業（株）製；Ｖ－６５）０．７０ｇ、エタノール１１０．８４ｇを３５℃以下に保ちながら順に加えた。さらに、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．７０ｇを純水２７．７１ｇに溶解させた水溶液を３５℃以下に保ちながら上記の溶液に加え、十分に撹拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水５６．８１ｇとエタノール１３１．６２ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに入れ、これを窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、１時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、２４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約１９．８６質量％の共重合体含有ワニス４３２．９７ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約１９,０００であった。

＜比較合成例２＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇを３５℃以下に冷却しながらコリン（４８－５０％水溶液：東京化成工業（株）製）５．９９ｇを加えて均一になるまで撹拌した。この混合液にメタクロイルコリンクロリド８０％水溶液（東京化成工業（株）製）４．１９ｇ、メタクリル酸メチル（東京化成工業（株）製）１６．１６ｇ、２，２’－アゾビス（２,４－ジメチルバレロニトリル）（和光純薬工業（株）製；Ｖ－６５）０．２５ｇ、エタノール３５．７８ｇを３５℃以下に保ちながら順に加えた。さらに、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．２５ｇを純水８．９５ｇに溶解させた水溶液を３５℃以下に保ちながら上記の溶液に加え、十分に撹拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水２０．７２ｇとエタノール４２．４９ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに入れ、これを窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、１時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約２０．３４質量％の共重合体含有ワニス１１２．１６ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約２６，０００であった。

＜比較合成例３＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇを３５℃以下に冷却しながらコリン（４８－５０％水溶液：東京化成工業（株）製）５．９９ｇを加えて均一になるまで撹拌した。この混合液にメタクロイルコリンクロリド８０％水溶液（東京化成工業（株）製）４．１９ｇ、メタクリル酸エチル（東京化成工業（株）製）１０．７５ｇ、２，２’－アゾビス（２,４－ジメチルバレロニトリル）（和光純薬工業（株）製；Ｖ－６５）０．１９ｇ、エタノール２８．７１ｇを３５℃以下に保ちながら順に加えた。さらに、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．１９ｇを純水７．１８ｇに溶解させた水溶液を３５℃以下に保ちながら上記の溶液に加え、十分に撹拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水１５．８６ｇとエタノール３４．１０ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに入れ、これを窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、１時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約２０．０２質量％の共重合体含有ワニス１６８．４７ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約３７,０００であった。

＜比較合成例４＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）８．００ｇに純水３０．３２ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール３０．３２ｇ、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル８．７６ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０８ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水９０．９７ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．６１質量％の共重合体含有ワニス１６８．４７ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約２９０,０００であった。

＜比較合成例５＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水１８．０５ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール１８．０５ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル２．２９ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル２．６９ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０５ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水５４．１５ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．７０質量％の共重合体含有ワニス１００．２８ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約９５０,０００であった。

＜比較合成例６＞
　　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水１８．９５ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール１８．９５ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル１．６４ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル３．８４ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０５ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水５６．８５ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．９８質量％の共重合体含有ワニス１０５．２９ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約５００,０００であった。

＜比較合成例７＞
　アシッドホスホオキシエチルメタアクリレート（製品名；ホスマーＭ、ユニケミカル（株）社製、乾固法１００℃・１時間における不揮発分：９１．８％、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート（４４．２質量％）、リン酸ビス［２－（メタクリロイルオキシ）エチル］（２８．６質量％）、その他の物質（２７．２質量％）の混合物）５．００ｇに純水１７．２６ｇを加え十分に溶解した。次いで、エタノール１７．２６ｇ、メタクリル酸２－（ジメチルアミノ）エチル２．８６ｇ（東京化成工業（株）社製）、メタクリル酸２－（ジエチルアミノ）エチル１．６８ｇ（東京化成工業（株）社製）、２，２’－アゾビス（Ｎ－（２－カルボキシエチル）－２－メチルプロピオンアミジン）ｎ－水和物（和光純薬工業（株）製；ＶＡ－０５７）０．０５ｇを、２０℃以下に保ちながら、ホスマーＭの水溶液に順に加えた。十分に攪拌して均一となった上記全てのものが入った混合液を、滴下ロートに導入した。一方で、別途純水５１．７９ｇを冷却管付きの３つ口フラスコに加えて窒素フローし、撹拌しながらリフラックス温度まで昇温した。この状態を維持しつつ、上記混合液を導入した滴下ロートを３つ口フラスコにセットし、２時間かけて混合液を純水とエタノールの沸騰液内に滴下した。滴下後、４時間上記環境を維持した状態で加熱撹拌することで固形分約９．９８質量％の共重合体含有ワニス９５．９０ｇを得た。得られた透明液体のＧＦＣにおける重量平均分子量は約６００,０００であった。

（シリコンウェハの準備）
　半導体評価用の市販のシリコンウエハをそのまま用いた。

（ＱＣＭセンサー（ＰＳ）の作成）
　Ａｕ蒸着された水晶振動子（Ｑ－Ｓｅｎｓｅ，ＱＳＸ３０４）を、ＵＶ／オゾン洗浄装置（ＵＶ２５３Ｅ、フィルジェン（株）製）を用いて１０分間洗浄し、直後に２－アミノエタンチオール（東京化成工業（株）製）０．０７７２ｇをエタノール１０００ｍＬに溶解した溶液中に２４時間浸漬した。エタノールでセンサー表面を洗浄後自然乾燥し、ポリスチレン（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）１．００ｇをトルエン９９．００ｇに溶解したワニスをスピンコーターにて３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃで膜センサー側にスピンコートし、１２０℃／１分乾燥することでＱＣＭセンサー（ＰＳ）とした。

＜調製例１＞
　上記合成例１で得られた共重合体含有ワニス４．００ｇに、純水２４．０ｇ、エタノール１０．８８ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）製）０．２７ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．５であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ７９Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２＞
　上記合成例１で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水１４．２８ｇ、エタノール１７．０３ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．１５ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ５１Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例３＞
　上記合成例１で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水１４．４３ｇ、エタノール１７．０５ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは６．７であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ３９Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例４＞
　上記合成例２で得られた共重合体含有ワニス３．８０ｇに、純水２２．１９ｇ、エタノール９．８２ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．３４ｇ、純水で５％に希釈したリン酸水溶液（関東化学（株）社製）０．１８ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ６２Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例５＞
　上記合成例３で得られた共重合体含有ワニス３．４９ｇに、純水２１．３４ｇ、エタノール９．１９ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．１８ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．５であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ５９Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例６＞
　上記合成例４で得られた共重合体含有ワニス３．５０ｇに、純水２０．７１ｇ、エタノール８．９５ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．１９ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．５であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ７２Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例７＞
　上記合成例５で得られた共重合体含有ワニス３．５１ｇに、純水２０．６６ｇ、エタノール８．８８ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．１８ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．５であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ９９Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例８＞
　上記合成例５で得られた共重合体含有ワニス３．５１ｇに、純水１３．５２ｇ、エタノール１６．１６ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．１１ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ６２Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例９＞
　上記合成例５で得られた共重合体含有ワニス３．５１ｇに、純水１３．６３ｇ、エタノール１６．１６ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは６．８であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ５１Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１０＞
　上記合成例６で得られた共重合体含有ワニス３．５１ｇに、純水２１．４３ｇ、エタノール９．２８ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．１９ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ１１０Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１１＞
　上記合成例７で得られた共重合体含有ワニス３．５１ｇに、純水１９．１７ｇ、エタノール８．３０ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．２２ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ７５Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１２＞
　上記合成例７で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水２０．９３ｇ、エタノール９．５２ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．１９ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．２であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ９８Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１３＞
　上記合成例７で得られた共重合体含有ワニス５．８０ｇに、純水３４．２３ｇ、エタノール１５．４２ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは６．２であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ５２Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１４＞
　上記合成例８で得られた共重合体含有ワニス３．５１ｇに、純水１９．１７ｇ、エタノール８．３０ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．２２ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ５０Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１５＞
　上記合成例８で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水２１．３６ｇ、エタノール９．２２ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．１７ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．３であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ７２Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１６＞
　上記合成例８で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水２１．１２ｇ、エタノール９．２２ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．４１ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは８．０であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ６０Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１７＞
　上記合成例９で得られた共重合体含有ワニス４．００ｇに、純水２２．６ｇ、エタノール１０．４０ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．４７ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．５であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ６５Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１８＞
　上記合成例１０で得られた共重合体含有ワニス３．７０ｇに、純水２１．１０ｇ、エタノール９．７０ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．２３ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ６９Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例１９＞
　上記合成例１０で得られた共重合体含有ワニス３．６１ｇに、純水２０．９３ｇ、エタノール９．２６ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．１３ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．０であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ４５Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２０＞
　上記合成例１０で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水７．１２ｇ、エタノール２２．７７ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．３０ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは８．０であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ６１Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２１＞
　上記合成例１０で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水６．７６ｇ、エタノール２２．８７ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．７５ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは９．０であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ１７０Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２２＞
　上記合成例１０で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水６．７６ｇ、エタノール２２．８７ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．７５ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．５であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ６３Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２３＞
　上記合成例１０で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水１３．６３ｇ、エタノール１６．１９ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．５４ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは８．５であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ１４０Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２４＞
　上記合成例１０で得られた共重合体含有ワニス３．６１ｇに、純水１４．１９ｇ、エタノール１６．０４ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．２３ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．５であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ８４Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２５＞
　上記合成例１０で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水２０．７７ｇ、エタノール９．３７ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．２７ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．６であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ５２Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２６＞
　上記合成例１０で得られた共重合体含有ワニス３．６０ｇに、純水１３．７６ｇ、エタノール１６．００ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．２５ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．７であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ４４Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２７＞
　上記合成例１１で得られた共重合体含有ワニス３．７０ｇに、純水２１．９８ｇ、エタノール１０．１３ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．３４ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ１４９Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２８＞
　上記合成例１２で得られた共重合体含有ワニス３．７０ｇに、純水２１．９９ｇ、エタノール１０．１１ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．３１ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ１０１Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例２９＞
　上記合成例１３で得られた共重合体含有ワニス３．７０ｇに、純水２１．７４ｇ、エタノール１０．０５ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．３９ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ１３６Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例３０＞
　上記合成例１４で得られた共重合体含有ワニス３．７０ｇに、純水２１．７２ｇ、エタノール１０．００ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．３０ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ４０Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜調製例３１＞
　上記合成例１５で得られた共重合体含有ワニス３．７０ｇに、純水２１．６２ｇ、エタノール１０．００ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．３９ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。得られたコーティング剤を１５００ｒｐｍ／６０ｓｅｃで上記シリコンウェハにスピンコートし、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティング膜上に付着している未硬化のコーティング剤をＰＢＳと純水で十分に洗浄を行って、コーティング膜が形成されたシリコンウェハを得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ７３Åであった。
　また、上記コーティング剤を３５００ｒｐｍ／３０ｓｅｃでＱＣＭセンサー（ＰＳ）にスピンコートし、乾燥工程として５０℃のオーブンで２４時間ベークした。その後、洗浄工程として過剰についた未硬化のコーティング剤をＰＢＳと超純水にて各２回ずつ洗浄し、表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。

＜比較調製例１＞
　上記ＱＣＭセンサー（ＰＳ）をそのまま用いた。

＜比較調製例２＞
　上記比較合成例１で得られた共重合体含有ワニス３．３０ｇに、純水８．２８ｇ、エタノール２０．２２ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ塩化水素酸（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．４１ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは３．４であった。調製例１と同様の方法にて、コーティング膜が形成されたシリコンウェハ、及び表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ５８４Åであった。

＜比較調製例３＞
　上記比較合成例２で得られた共重合体含有ワニス７．０１ｇに、純水１８．６６ｇ、エタノール４５．０３ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ塩化水素酸（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．７８ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは３．３であった。調製例１と同様の方法にて、コーティング膜が形成されたシリコンウェハ、及び表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ７１５Åであった。

＜比較調製例４＞
　上記比較合成例３で得られた共重合体含有ワニス７．００ｇに、純水１８．１０ｇ、エタノール４４．１７ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ塩化水素酸（１Ｎ）（関東化学（株）社製）０．８８ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは３．３であった。調製例１と同様の方法にて、コーティング膜が形成されたシリコンウェハ、及び表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ６５９Åであった。

＜比較調製例５＞
　上記比較合成例４で得られた共重合体含有ワニス３８０．１０ｇに、純水２２２９．３７ｇ、エタノール１０７９．６７ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）６４．０２ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。調製例１と同様の方法にて、コーティング膜が形成されたシリコンウェハ、及び表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ１８７Åであった。

＜比較調製例６＞
　上記比較合成例５で得られた共重合体含有ワニス３８０．１０ｇに、純水２２２９．３７ｇ、エタノール１０７９．６７ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）６４．０２ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。調製例１と同様の方法にて、コーティング膜が形成されたシリコンウェハ、及び表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ２５５Åであった。

＜比較調製例７＞
　上記比較合成例６で得られた共重合体含有ワニス３８０．１０ｇに、純水２２２９．３７ｇ、エタノール１０７９．６７ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）６４．０２ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。調製例１と同様の方法にて、コーティング膜が形成されたシリコンウェハ、及び表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ４７Åであった。

＜比較調製例８＞
　上記比較合成例７で得られた共重合体含有ワニス３８０．１０ｇに、純水２２２９．３７ｇ、エタノール１０７９．６７ｇ、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１Ｎ）（関東化学（株）社製）６４．０２ｇを加えて十分に攪拌し、コーティング剤を調製した。ｐＨは７．４であった。調製例１と同様の方法にて、コーティング膜が形成されたシリコンウェハ、及び表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を得た。上記シリコンウェハを用いて分光エリプソメーターでコーティング膜の膜厚を確認したところ６４Åであった。

＜試験例１＞
［タンパク質付着試験；ＱＣＭ－Ｄ測定］
　各調製例及び比較例によって得た表面処理済ＱＣＭセンサー（ＰＳ）を散逸型水晶振動子マイクロバランスＱＣＭ－Ｄ（Ｅ４、Ｑ－Ｓｅｎｓｅ）に取り付け、周波数の変化が１時間で１Ｈｚ以下となる安定したベースラインを確立するまでＰＢＳを流した。次に、安定したベースラインの周波数を０Ｈｚとして約１０分間ＰＢＳを流した。引き続き、41010 - Basal Medium Eagle (BME), no Glutamine（サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製）に１５ｗｔ％のウシ血清(FBS)、L-Glutamine、抗生物質としてペニシリンとストレプトマイシンを添加した溶液を約３０分流し、その後再びＰＢＳを約２０分流した後の９次オーバートーンの吸着誘起周波数のシフト（Δｆ）を読み取った。分析のためにＱ－Ｔｏｏｌｓ（Ｑ－Ｓｅｎｓｅ）を使用して、吸着誘起周波数のシフト（Δｆ）を、Ｓａｕｅｒｂｒｅｙ式で説明される吸着誘起周波数のシフト（Δｆ）を単位面積当たりの質量（ｎｇ／ｃｍ^２）と換算したものを生体物質の付着量として表１に示す。調製例は１桁低い各種タンパク質吸着量を示した。

＜実施例１＞
　以下の各処理工程を順番に実施し、本発明における細胞培養容器を調製した。
処理１：上記調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、メッシュサイズが０．２２μｍのフィルターを用いてろ過した後、９６穴細胞培養プレート（ＢＤバイオサイエンス社製、＃３５１１７２）のウェルに２００μＬ（固形分１質量％）／ウェルとなるよう添加し、室温にて１時間静置後、過剰のワニスを除去した。

処理２：オーブン（アドバンテック東洋株式会社製、乾燥機ＦＣ－６１２）を用いて５０℃で１晩乾燥させた。その後、滅菌水を１ウェルあたり２００μＬ添加後、除去して洗浄を行った。同様に、さらに２回洗浄を行い、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例２＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例８で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例３＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例９で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例４＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例１０で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例５＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例１１で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例６＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例１４で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例７＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例１５で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例８＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例１６で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例９＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例１８で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例１０＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例１９で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例１１＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例２０で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例１２＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例２１で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例１３＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例２２で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例１４＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例２３で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜実施例１５＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、調製例２４で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜比較例１＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、比較調製例２で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜比較例２＞
　以下の各処理工程を順番に実施し、本発明における細胞培養容器を調製した。
処理１：上記比較調製例３で調製した共重合体含有ワニスを、メッシュサイズが０．２２μｍのフィルターを用いてろ過した後、９６穴細胞培養プレート（ＢＤバイオサイエンス社製、＃３５１１７２）のウェルに２００μＬ（固形分２質量％）／ウェルとなるよう添加し、室温にて１時間静置後、過剰のワニスを除去した。

＜比較例３＞
　比較例２で使用した、比較調製例３で調製した共重合体含有ワニスを、比較調製例４で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、比較例２と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜比較例４＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、比較調製例５で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜比較例５＞
　実施例１で使用した、調製例７で調製した共重合体含有ワニスを、比較調製例６で調製した共重合体含有ワニスに代えた以外は、実施例１と同様にして、コーティングされた細胞培養容器を得た。

＜試験例２：繊維芽細胞付着抑制試験＞
（コーティングプレートの調製）
　実施例１～１５及び比較例1～５によって得られたコーティングされた細胞培養容器を用いた。陽性対照のサンプルとしては、市販の細胞低接着プレート（コーニング社製、＃３４７４）を用いた。陰性対照としては、コーティングを施していない９６穴細胞培養プレート（ＢＤバイオサイエンス社製、＃３５１１７２）を用いた。

（細胞の調製）
　細胞は、マウス胚線維芽細胞Ｃ３Ｈ１０Ｔ１／２（ＤＳファーマバイオメディカル社製）を用いた。細胞の培養に用いた培地は、１０（ｖ／ｖ）％ＦＢＳ（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製）とＬ－グルタミン－ペニシリン－ストレプトマイシン安定化溶液（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を含むＢＭＥ培地（サーモフィッシャーサイエンティフィック社製）を用いた。細胞は、３７℃／ＣＯ_２インキュベーター内にて５（ｖ／ｖ）％二酸化炭素濃度を保った状態で、直径１０ｃｍのシャーレ（培地８ｍＬ）を用いて２日間以上静置培養した。引き続き、本細胞をＰＢＳ５ｍＬで洗浄した後、トリプシン－ＥＤＴＡ溶液（インビトロジェン社製）１ｍＬを添加して細胞を剥がし、上記の培地１０ｍＬにてそれぞれ懸濁した。本懸濁液を遠心分離（株式会社トミー精工製、型番ＬＣ－２００、１０００ｒｐｍ／３分、室温）後、上清を除き、上記の培地を添加して細胞懸濁液を調製した。

（細胞付着実験）
　上記にて調製したプレートに対して、それぞれの細胞懸濁液を２×１０^３ｃｅｌｌｓ／ｗｅｌｌとなるように各１００μＬ加えた。その後、５％二酸化炭素濃度を保った状態で、３７℃で４日間ＣＯ_２インキュベーター内にて静置した。

（細胞付着の観察）
　培養４日間後、各実施例及び比較例のプレート、陽性対照、及び陰性対照のプレートに対する細胞の付着を倒立型顕微鏡（オリンパス社製、ＩＸ７３）による観察（倍率：４倍）に基づき比較した。各プレートの結果（培養４日間後）を図１に示す。また、Ｃｅｌｌ　Ｃｏｕｎｔｉｎｇ　Ｋｉｔ－８溶液（同仁化学研究所製）を１ウェル当たり１０μＬ添加し、３７℃で２時間ＣＯ_２インキュベーター内にて静置した。その後、吸光度計（ＭｏｌｅｃｕｌａｒＤｅｖｉｃｅｓ社製、ＳｐｅｃｔｒａＭａｘ）で４５０ｎｍの吸光度を測定した。各測定値は、それぞれ培地のみを添加したウェルでの測定値を差し引いた。その結果を表２に示す。

　上記の通り、比較例１～５及び陰性対照プレートでは細胞が付着したが、実施例５～７、９～１１、１３、１５及び陽性対照プレートでは細胞が付着しないことが示された。この際、付着しなかった細胞は細胞凝集塊（スフェロイド）を形成した。

＜試験例３：がん細胞付着抑制試験＞
（コーティングプレートの調製）
　実施例１～１５及び比較例1～５によって得られたコーティングされた細胞培養容器を用いた。陽性対照のサンプルとしては、市販の細胞低接着プレート（コーニング社製、＃３４７４）を用いた。陰性対照としては、コーティングを施していない９６穴細胞培養プレート（ＢＤバイオサイエンス社製、＃３５１１７２）を用いた。

（細胞の調製）
　細胞は、ヒト肺胞基底上皮腺がん細胞株Ａ５４９（ＤＳファーマバイオメディカル株式会社製）を用いた。細胞の培養に用いた培地は、１０（ｖ／ｖ）％ＦＢＳ（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製）を含むＤＭＥＭ（和光純薬工業（株）製）を用いた。細胞は、３７℃／ＣＯ_２インキュベーター内にて５（ｖ／ｖ）％二酸化炭素濃度を保った状態で、直径１０ｃｍのシャーレ（培地８ｍＬ）を用いて２日間以上静置培養した。引き続き、本細胞をＰＢＳ５ｍＬで洗浄した後、トリプシン－ＥＤＴＡ溶液（インビトロジェン社製）１ｍＬを添加して細胞を剥がし、上記の培地１０ｍＬにてそれぞれ懸濁した。本懸濁液を遠心分離（株式会社トミー精工製、型番ＬＣ－２００、１０００ｒｐｍ／３分、室温）後、上清を除き、上記の培地を添加して細胞懸濁液を調製した。

（細胞付着実験）
　上記にて調製したプレートに対して、それぞれの細胞懸濁液を２×１０^３ｃｅｌｌｓ／ｗｅｌｌとなるように各１００μＬ加えた。その後、５％二酸化炭素濃度を保った状態で、３７℃で２１日間ＣＯ_２インキュベーター内にて静置した。

（細胞付着の観察）
　培養２１日間後、各プレートにおける細胞の付着を倒立型顕微鏡（オリンパス社製、ＩＸ７３）による観察（倍率：４倍）に基づき比較した。各プレートの結果（培養２１日間後）を図２に示す。観察後、培地を除き、０．５（ｗ／ｖ）％クリスタルバイオレット（和光純薬工業（株）製）、２０（ｖ／ｖ）％メタノール（和光純薬工業（株）製）となるように滅菌水に溶解した染色液を各ウェルに５０μＬ加え、１０分間染色した。その後、滅菌水を１ウェルあたり２００μＬ添加後、除去して洗浄を行った。同様に、さらに２回洗浄を行った。各プレートにおける染色後の付着細胞を倒立型顕微鏡（オリンパス社製、ＩＸ７３）による観察（倍率：４倍）に基づき比較した。各プレートの結果を図３に示す。

　染色前において、実施例５～７、９～１１、１３、１５及び陽性対照のプレートでスフェロイドを形成したが、比較例１～５、及び陰性対照のプレートでは細胞の付着が見られ、スフェロイドを形成しなかった。染色後において、実施例５～７、９～１１、１３、１５及び陽性対照のプレートで染色された付着細胞はほとんど見られなかったが、比較例１～５、及び陰性対照のプレートでは染色された付着細胞が見られた。

＜実施例１６～２０、比較例６＞
　実施例２、７、９、１１、１３及び比較例１で使用した、９６穴細胞培養プレート（ＢＤバイオサイエンス社製、＃３５１１７２）を、９６穴プレート（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、＃３３６３（材質：ポリプロピレン））に代えた以外は、実施例２、７、９、１１、１３及び比較例１と同様にして、それぞれ実施例１６～２０及び比較例６のコーティングされたプレートを得た。陰性対照として、コーティングを施していない９６穴プレートを用いた。

＜実施例２１～２５、比較例７＞
　実施例２、７、９、１１、１３及び比較例１で使用した、９６穴細胞培養プレート（ＢＤバイオサイエンス社製、＃３５１１７２）を、９６穴プレート（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、＃９０１７（材質：ポリスチレン））に代えた以外は、実施例２、７、９、１１、１３及び比較例１と同様にして、それぞれ実施例２１～２５及び比較例７のコーティングされたプレートを得た。陰性対照として、コーティングを施していない９６穴プレートを用いた。

＜試験例４：タンパク質吸着抑制試験＞
（コーティングプレートの調製）
　実施例１６～２５及び比較例６～７によって得られたコーティングされたプレートを使用した。陰性対照として、コーティングを施していない９６穴プレートを用いた。

（タンパク質吸着実験）
　Ｈｏｒｓｅｒａｄｉｓｈ　ｐｅｒｏｘｉｄａｓｅ（ＨＲＰと略記）標識Ｇｏａｔ　Ａｎｔｉ－Ｍｏｕｓｅ　ＩｇＧ（ＳｏｕｔｈｅｒＢｉｏｔｅｃｋ社製）をＤ－ＰＢＳ（－）（和光純薬工業（株）製）で希釈し、上記でコーティングしたウェルに入れ、室温で３０分静置した。Ｄ－ＰＢＳ（－）で洗浄後、ＴＭＢ　１－Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ　Ｍｉｃｒｏｗｅｌｌ　Ｐｅｒｏｘｉｄａｓｅ　Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ，　ＳｕｒｅＢｌｕｅ（Ｋｉｒｋｅｇａａｒｄ　＆　Ｐｅｒｒｙ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ，　Ｉｎｃ．製、ＴＭＢと略記）を加えてＨＲＰと反応させ、ＴＭＢ　Ｓｔｏｐ　Ｓｏｌｕｔｉｏｎ（Ｋｉｒｋｅｇａａｒｄ　＆　Ｐｅｒｒｙ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ，　Ｉｎｃ．製）を加えて反応を停止させた。この時のＴＭＢ溶液の光学濃度（４５０ｎｍ）をプレートリーダー（ＳＰＥＣＴＲＡＭＡＸ　１９０，　Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｄｅｖｉｃｅｓ）により測定し、タンパク質吸着量として評価した。その結果を表３に示す。

　実施例１６～２５及び比較例６～７のコーティングされたポリプロピレン製プレート及びポリスチレン製プレートは、タンパク質の付着抑制能を有することが確認された。

＜試験例５：ＰＤＭＳに対する細胞付着抑制試験＞
（ＰＤＭＳプレートの作製）
　図４の形状を転写できるような金型を作成する。ＳＹＬＧＡＲＤ１８４シリコーン・エラストマー（ダウコーニング社製）の主剤１０．００ｇと硬化剤１．００ｇの比率で混合・撹拌し、作成した金型に流し込む。減圧ポンプで泡抜きをおこなったあと８０℃で１時間オーブンにて乾燥する。室温まで冷却してから金型からＰＤＭＳの硬化物を取り出す。純水の中に硬化物を浸漬させ、１２０℃で６０分間オートクレーブ滅菌処理を行う。アズノールシャーレ：φ４０×１３．５ｍｍ（アズワン製）の底を図５のディンプル領域に合わせて２０ｍｍ角でカットして、７０％エタノールで洗浄後したＰＤＭＳ硬化物をシャーレに入れてフタをする。直径１ｍｍ（ディンプル間距離０．３ｍｍ）、深さ０．５ｍｍ、ディンプル１つあたりの容積約０．３μＬのディンプル数２０３個有するＰＤＭＳプレートとする（図６参照）。

（コーティングプレートの調製）
上記で作成したＰＤＭＳプレートに実施例９、１１で使用したコーティング剤及び３％ｐＨＥＭＡ（ポリヒドロキシエチルメタクリレート）溶液を１ｍＬずつ別々のウェルに注入した。それらを１時間静置させた後に、除去し、オーブンにて５０℃、２４時間乾燥させた。その後、コーティングしたウェルを１ｍＬの純水で各３回ずつ洗浄を行い、それぞれ実施例２６、２７及び比較例８として試験に使用した。陰性対照としては、コーティングを施していないウェルを用いた。

（細胞付着実験）
　上記にて調製したプレートに対して、それぞれの細胞懸濁液を３０×１０⁴ｃｅｌｌｓ／プレートとなるように各１ｍＬ加えた。その後、５％二酸化炭素濃度を保った状態で、３７℃で２日間ＣＯ_２インキュベーター内にて静置した。

（細胞付着の観察）
　培養１日間後、各実施例及び比較例のプレート、及び陰性対照のプレートに対する細胞の付着を倒立型顕微鏡（オリンパス社製、ＩＸ７３）による観察（倍率：４倍）に基づき比較した。各プレートの結果（培養１日間後）を図７に示す。膜の塗布性と細胞付着、培地添加後の気泡の有無について、結果を表４に示す。細胞付着抑制については、細胞が付着していた場合を×、付着していなかった場合を○として記載した。塗布性については細胞や気泡以外で観察領域に確認される塗膜物由来のイメージが確認される場合を塗布不良として×、陰性対象と同じイメージを維持する場合は○として記載した。

　pHEMA及び陰性対照のプレートでは細胞が付着した。実施例２６、２７では良好な塗布性が確認でき、細胞の付着がなく良好なスフェロイドが確認された。

Claims

　下記式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位とを含む共重合体：

［式中、
Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；
Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表す］
であって、式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位の共重合体全体に対するモル比率が１～５０モル％である共重合体を含むコーティングを、表面の少なくとも一部に備えることを特徴とする、長期細胞非接着培養用の細胞培養容器。
　上記式（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位が、それぞれ、下記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：

［式中、
Ｔ^ａ、Ｔ^ｂ、Ｔ^ｃ、Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
Ｑ^ａ及びＱ^ｂは、それぞれ独立して、単結合、エステル結合又はアミド結合を表し、Ｑ^ｃは、単結合、エーテル結合又はエステル結合を表し；
Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖又は分岐アルキレン基を表し、Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表し；
ｍは、０乃至６の整数を表す］
で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位である、請求項１に記載の細胞培養容器。
　上記共重合体が、さらに下記式（Ｄ）又は（Ｅ）：

［式中、
Ｔ^ｄ、Ｔ^ｅ及びＵ^ｅは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し、
Ｒ^ｄ及びＲ^ｅは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖又は分岐アルキレン基を表し；
ｎは、１乃至６の整数を表わす］
で表されるモノマーから誘導される架橋構造を含む、請求項１又は２に記載の細胞培養容器。
　生体物質の付着抑制能を有する、請求項１乃至３何れかに記載の細胞培養容器。
　下記式（ａ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｂ）で表される基を含む繰り返し単位と、下記式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位とを含む共重合体：

［式中、
Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；
Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表す］
であって、式（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位の共重合体全体に対するモル比率が１～５０モル％である共重合体を、容器の表面の少なくとも一部にコーティングする工程を含む、長期細胞非接着培養用の細胞培養容器の製造方法。
　上記式（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）で表される基を含む繰り返し単位が、それぞれ、下記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：

［式中、
Ｔ^ａ、Ｔ^ｂ、Ｔ^ｃ、Ｕ^ａ１、Ｕ^ａ２、Ｕ^ｂ１、Ｕ^ｂ２及びＵ^ｂ３は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し；
Ｑ^ａ及びＱ^ｂは、それぞれ独立して、単結合、エステル結合又はアミド結合を表し、Ｑ^ｃは、単結合、エーテル結合又はエステル結合を表し；
Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至１０の直鎖又は分岐アルキレン基を表し、Ｒ^ｃは、炭素原子数１乃至１０の直鎖若しくは分岐アルキル基、炭素原子数３乃至１０の脂環式炭化水素基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数７乃至１５のアラルキル基又は炭素原子数７乃至１５のアリールオキシアルキル基（ここで、前記アリール部分は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１乃至５の直鎖若しくは分岐アルキル基で置換されていてもよい）を表し；Ａｎ^－は、ハロゲン化物イオン、無機酸イオン、水酸化物イオン及びイソチオシアネートイオンからなる群から選ばれる陰イオンを表し；
ｍは、０乃至６の整数を表す］
で表されるモノマーから誘導される繰り返し単位である、請求項５に記載の製造方法。
　コーティング工程が、共重合体を含むワニスを用いて実施される、請求項５又は６に記載の製造方法。
　共重合体を含むワニスが、予めｐＨ調整されている、請求項７に記載の製造方法。
　さらに、コーティングされた細胞培養容器を、乾燥工程前及び／又は後に、洗浄する工程を含む、請求項５乃至８何れか１項に記載の製造方法。
　乾燥工程後の洗浄が、水及び電解質を含む水溶液からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶媒を用いて実施される、請求項９に記載の製造方法。
　請求項１乃至４何れか１項に記載の細胞培養容器又は請求項５乃至１０何れか１項に記載の製造方法により製造された細胞培養容器を用いることを特徴とする、細胞凝集塊の製造方法。