WO2019022121A1 - 積層体、積層体の製造方法および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、二色性物質の優れた配向性を維持し、高温耐久性および湿熱耐久性のいずれも良好となる積層体およびその製造方法ならびにそれを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。本発明の積層体は、透明支持体、光吸収異方性膜および透明樹脂層をこの順に有する積層体であって、光吸収異方性膜が、所定の式で表される二色性物質を含有する膜であり、透明樹脂層が、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する層である、積層体である。

Description

積層体、積層体の製造方法および画像表示装置

　本発明は、積層体、積層体の製造方法および画像表示装置に関する。

　従来、レーザー光や自然光を含む照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、遮光機能等が必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
　例えば、液晶ディスプレイ（liquid crystal display：ＬＣＤ）では、表示における旋光性や複屈折性を制御するために直線偏光板や円偏光板が用いられている。また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。

　これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光素子についても検討されている。
　例えば、特許文献１には、所定のアゾ系色素と重合性液晶化合物とを含む組成物から形成される偏光膜が記載されている（［請求項１］）。

特開２０１６－００６５０２号公報

　本発明者らは、特許文献１に記載された偏光膜について検討したところ、アゾ系色素の初期の配向性（以下、単に「配向性」という。）に優れることは分かったが、偏光膜を含む積層体の層構成によっては、高温耐久性および湿熱耐久性が劣ることを明らかとした。

　そこで、本発明は、二色性物質の優れた配向性を維持し、高温耐久性および湿熱耐久性のいずれも良好となる積層体およびその製造方法ならびにそれを用いた画像表示装置を提供することを課題とする。

　本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、所定の構造式を有する二色性物質を含有する光吸収異方性膜とともに、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する透明樹脂層を設けることにより、二色性物質の優れた配向性を維持し、高温耐久性および湿熱耐久性がいずれも良好な積層体となることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

　［１］　透明支持体、光吸収異方性膜および透明樹脂層をこの順に有する積層体であって、
　光吸収異方性膜が、後述する式（１）で表される二色性物質を含有する膜であり、
　透明樹脂層が、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する層である、積層体。
　［２］　透明樹脂層におけるポリマーの含有量が、透明樹脂層の全固形分の総質量に対して３０質量％以上である、［１］に記載の積層体。
　［３］　透明樹脂層におけるポリマーが、Ｃ－Ｈ結合を有する炭素数に対する親水性基の数の比が０．０５～０．４５となるポリマーである、［１］または［２］に記載の積層体。
　［４］　透明樹脂層の光吸収異方性膜側とは反対側の表面の水接触角が２５°以上６０°以下である、［１］～［３］のいずれかに記載の積層体。
　［５］　光吸収異方性膜が、二色性物質と、液晶性化合物と含有する液晶組成物を用いて形成される膜である、［１］～［４］のいずれかに記載の積層体。

　［６］　透明支持体と光吸収異方性膜との間に、配向膜を有する、［１］～［５］のいずれかに記載の積層体。
　［７］　配向膜が、光配向化合物を含有する組成物を用いて形成される光配向膜であり、
　光配向化合物が、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光反応性基を有する感光性化合物であり、
　光反応性基が、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、ポリイミド化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体または化合物の骨格を有する、［６］に記載の積層体。

　［８］　二色性物質が、後述する式（２）で表される構造を有する、［１］～［７］のいずれかに記載の積層体。
　［９］　式（２）において、Ａ^４がフェニレン基である、［８］に記載の積層体。
　［１０］　式（２）において、Ｌ^３およびＬ^４の少なくとも一方が架橋性基を含む、［８］または［９］に記載の積層体。
　［１１］　式（２）において、Ｌ^３およびＬ^４の両方が架橋性基を含む、［８］～［１０］のいずれかに記載の積層体。
　［１２］　架橋性基が、アクリロイル基またはメタクリロイル基である、［１０］または［１１］に記載の積層体。

　［１３］　更に、透明樹脂層の光吸収異方性膜側とは反対側に粘着層を有する、［１］～［１２］のいずれかに記載の積層体。
　［１４］　更に、粘着層の透明樹脂層側とは反対側にλ／４板を有する、［１３］に記載の積層体。

　［１５］　透明支持体、光吸収異方性膜および透明樹脂層をこの順に有する積層体を作製する積層体の製造方法であって、
　透明支持体上に、後述する式（１）で表される二色性物質を含有する液晶組成物を用いて光吸収異方性膜を形成する、光吸収異方性膜形成工程と、
　光吸収異方性膜上に、親水性基を有する重合性化合物を含有する硬化性組成物を用いて、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する透明樹脂層を形成する、透明樹脂層形成工程とを有する、積層体の製造方法。
　［１６］　重合性化合物のＣｌｏｇＰ値が２．０未満である、［１５］に記載の積層体の製造方法。
　［１７］　重合性化合物が、Ｃ－Ｈ結合を有する炭素数に対する親水性基の数の比が０．０５～０．４５となる化合物である、［１６］に記載の積層体の製造方法。
　［１８］　［１］～［１４］のいずれかに記載の積層体を有する、画像表示装置。

　本発明によれば、二色性物質の優れた配向性を維持し、高温耐久性および湿熱耐久性のいずれも良好となる積層体およびその製造方法ならびにそれを用いた画像表示装置を提供することができる。

図１Ａは、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｂは、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｃは、比較例１の積層体を示す模式的な断面図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　また、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独でも用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。

［積層体］
　本発明の積層体は、透明支持体、光吸収異方性膜および透明樹脂層をこの順に有する積層体である。
　また、本発明の積層体が有する光吸収異方性膜は、後述する式（１）で表される二色性物質を含有する膜である。
　また、本発明の積層体が有する透明樹脂層は、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する層である。
　ここで、本発明でいう「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。

　本発明においては、上述した通り、後述する式（１）で表される二色性物質を含有する光吸収異方性膜とともに、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する透明樹脂層を設けることにより、二色性物質の優れた配向性を維持し、高温耐久性および湿熱耐久性がいずれも良好な積層体となる。
　この理由の詳細は未だ明らかになっていないが、本発明者らは以下の理由によるものと推測している。
　まず、本発明者らは、有機色素を二色性物質として使用した従来公知の偏光素子（偏光膜）について、高温耐久性および湿熱耐久性が劣る原因を調べたところ、偏光素子に他の機能層（例えば、位相差フィルムなど）を貼合する際に、偏光素子上に粘着層を形成すると、高温耐久性および湿熱耐久性が劣る問題が顕著に発生することを見出した。
　そのため、本発明においては、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する所定の透明樹脂層を設けることにより、他の機能層や粘着層への二色性色素の移行が抑制され、その結果、二色性物質の優れた配向性が維持され、高温耐久性および湿熱耐久性が良好になったと考えられる。

　図１Ａおよび図１Ｂに、本発明の積層体の一例を示す模式的な断面図を示す。
　ここで、図１Ａに示す積層体１０は、透明支持体１２、配向膜１４、光吸収異方性膜１６および透明樹脂層１８をこの順に有する層構成（以下、「構成Ａ」とも略す。）の積層体である。
　また、図１Ｂに示す積層体２０は、透明支持体１２、光吸収異方性膜１６および透明樹脂層１８をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｂ」とも略す。）の積層体である。
　一方、図１Ｃは、比較例１の積層体の模式的な断面図であり、図１Ｃに示す積層体３０は、透明支持体１２、配向膜１４および光吸収異方性膜１６をこの順に有する層構成（以下、「構成Ｃ」とも略す。）の積層体である。
　以下に、本発明の積層体が有する透明支持体、光吸収異方性膜および透明樹脂層ならびに任意の配向膜などについて詳述する。

 〔透明支持体〕
　本発明の積層体が有する透明支持体を形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；などが挙げられる。

　また、透明支持体を形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることができる。このような熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等が挙げられる。
　また、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に代表される、セルロース系ポリマーも好ましく用いることができる。

　本発明においては、透明支持体の厚みは特に限定されず、１００μｍ以下であることが好ましく、８０μｍ以下であることがより好ましく、１０～８０μｍであることが更に好ましい。

 〔光吸収異方性膜〕
　本発明の積層体が有する光吸収異方性膜は、下記式（１）で表される二色性物質（以下、「特定二色性物質」とも略す。）を含有する膜である。

　ここで、式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
　また、式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
　また、式（１）中、ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２であることが好ましい。

　上記式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」について説明する。
　上記置換基としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２３７］～［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４－メチルフェノキシカルボニル、４－メトキシフェニルカルボニルなど）等が好適に挙げられ、アルキル基がより好適に挙げられ、炭素数１～５のアルキル基がさらに好適に挙げられる。
　一方、２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
　上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６～１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
　また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基（以下、「チエノチアゾール基」と略す。）等が挙げられる。
　上記２価の芳香族基の中でも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。

　ここで、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３のうちいずれか１つが、置換基を有していてもよい２価のチエノチアゾール基であることが好ましい。なお、２価のチエノチアゾール基の置換基の具体例は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じである。
　また、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３のうち、Ａ^２が２価のチエノチアゾール基であることがより好ましい。この場合には、Ａ^１およびＡ^２は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
　Ａ^２が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ^１およびＡ^２の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ^１およびＡ^２の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。

　上記式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２が表す「置換基」について説明する。
　上記置換基としては、溶解性やネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
　例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１２、特に好ましくは炭素数１～８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－デシル基、ｎ－ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２－ブテニル基、３－ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１２、特に好ましくは炭素数２～８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３－ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０、より好ましくは炭素数６～２０、特に好ましくは炭素数６～１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、３，５－ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１５、特に好ましくは２～１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは２～６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～２０、より好ましくは炭素数２～１０、特に好ましくは炭素数２～６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～２０、より好ましくは炭素数７～１６、特に好ましくは炭素数７～１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～２０、より好ましくは炭素数０～１０、特に好ましくは炭素数０～６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～２０、より好ましくは炭素数６～１６、特に好ましくは炭素数６～１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～２０、より好ましくは炭素数１～１０、特に好ましくは炭素数１～６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１～３０、より好ましくは１～１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３～４０、より好ましくは炭素数３～３０、特に好ましくは、炭素数３～２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
　これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

　Ｌ^１およびＬ^２が表す置換基として好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルホニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいスルホニル基、置換基を有していてもよいウレイド基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、イミノ基、アゾ基、ハロゲン原子、および、ヘテロ環基であり、より好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、イミノ基、および、アゾ基である。

　Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方は、架橋性基（重合性基）を含むことが好ましく、Ｌ^１およびＬ^２の両方に架橋性基を含むことがより好ましい。
　架橋性基としては、具体的には、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。

　Ｌ^１およびＬ^２の好適な態様としては、上記架橋性基で置換されたアルキル基、上記架橋性基で置換されたジアルキルアミノ基、および、上記架橋性基で置換されたアルコキシ基が挙げられる。

　本発明においては、光吸収異方性膜に含まれる特定二色性物質の配向度がより向上する理由から、特定二色性物質が、下記式（２）で表される構造を有していることが好ましい。

　ここで、式（２）中、Ａ^４は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
　また、式（２）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に、置換基を表す。
　また、式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
　また、式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表す。
　また、式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
　また、式（２）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を表す。
　また、式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

　上記式（２）中、Ａ^４が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」の具体例および好適態様は、上述した式（１）中のＡ^１～Ａ^３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」と同様である。
　Ａ^４の特に好ましい態様としては、フェニレン基である。

　上記式（２）中、Ｌ^３およびＬ^４が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した式（１）中のＬ^１およびＬ^２が表す「置換基」と同様である。
　Ｌ^３およびＬ^４のより好適な態様としては、Ｌ^３およびＬ^４の少なくとも一方が架橋性基を含むことであり、さらに好適な態様としては、Ｌ^３およびＬ^４の両方が架橋性基を含むことである。これにより、光吸収異方性膜に含まれる特定二色性物質の配向度がより向上し、積層体の高温耐久性および湿熱耐久性がより良好となる。
　また、Ｌ^３およびＬ^４の架橋性基のより好適な態様としては、アクリロイル基またはメタクリロイル基である。

　上記式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表し、合成適性の観点から、窒素原子であることが好ましい。
　また、特定二色性物質を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００～５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
　一方、特定二色性物質を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。

　上記式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表し、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。
　次に、Ｒ^１が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」および「置換基を有していてもよいアルコキシ基」について説明する。
　置換基としては、例えば、ハロゲン原子等が挙げられる。
　アルキル基としては、炭素数１～８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
　アルコキシ基としては、炭素数１～８のアルコキシ基が挙げられる。中でも、炭素数１～６のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１～３のアルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であることがさらに好ましい。

　上記式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましい。
　Ｒ^２が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」の具体例および好適態様は、上述した式（２）のＲ^１における「置換基を有していてもよいアルキル基」と同様であるので、その説明を省略する。
　なお、Ｒ^２は、Ｅが窒素原子である場合に式（２）中で存在する基となる（すなわち、ｎ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ^２は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（２）中で存在しない基となる（すなわち、ｎ＝０の場合を意味する）。

　上記式（２）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を表す。
　Ｒ^３が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。

　上記式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

　上記式（１）で表される特定二色性物質としては、具体的には、例えば、特開２０１０－１５２３５１号公報の［００５１］～［００８１］段落に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　これらのうち、上記式（２）で表される構造を有する特定二色性物質としては、特開２０１０－１５２３５１号公報の［００７４］～［００８１］段落に記載された化合物（Ｄ－１）～（Ｄ－５３）の他に、以下に示す化合物（Ｄ－５４）～（Ｄ－５８）も好適に挙げられる。

　本発明においては、二色性物質の析出を抑止しながら、二色性物質をより高い配向度で配向させることができる理由から、光吸収異方性膜が、上述した二色性物質とともに液晶性化合物と含有する液晶組成物を用いて形成される膜であることが好ましい。

　＜液晶性化合物＞
　液晶組成物が含有する液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。
　ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
　また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
　低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６に記載されているが挙げられる。
　高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。

　＜界面改良剤＞
　液晶組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度の向上や、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
　界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２５３］～［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
　液晶組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１～５質量部が好ましく、０．０１～３質量部が好ましい。

　＜重合開始剤＞
　液晶組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
　重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）等が挙げられる。
　このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９およびイルガキュアＯＸＥ－０１等が挙げられる。
　本発明の液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の硬化性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向が良好となる。

　＜溶媒＞
　液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
　溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　これらの溶媒のうち、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。
　液晶組成物が溶媒を含有する場合において、溶媒の含有量は、液晶組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが更に好ましい。

　＜他の成分＞
　液晶組成物は、さらに上記特定二色性物質以外の二色性物質を含有してもよいし、上記特定二色性物質を複数含有してもよい。複数の二色性物質を含有する場合、液晶組成物をより硬化する観点からは、上記特定二色性物質と架橋する架橋基を持つ二色性物質を含有することが好ましく、上記特定二色性物質を複数含有することがさらに好ましい。

　＜形成方法＞
　上述した液晶組成物を用いた光吸収異方性膜の形成方法は特に限定されず、上記液晶組成物を透明支持体上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
　なお、液晶性成分とは、上述した液晶性化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

　（塗布膜形成工程）
　塗布膜形成工程は、液晶組成物を透明支持体上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
　上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、透明支持体上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
　液晶組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
　なお、本態様では、液晶組成物が透明支持体上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、透明支持体上に設けられた配向膜上に液晶組成物を塗布してもよい。配向膜の詳細については後述する。

　（配向工程）
　配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
　配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
　ここで、液晶組成物に含まれる液晶性成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
　乾燥処理が塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

　塗布膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

　配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
　加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

　配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶性成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
　以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
　なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶性成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

　（他の工程）
　光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
　硬化工程は、例えば、光吸収異方性膜が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
　硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
　露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性膜に含まれる液晶性成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
　また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

　本発明においては、光吸収異方性膜の厚みは特に限定されず、０．１～５．０μｍであることが好ましく、０．３～１．５μｍであることがより好ましい。

 〔透明樹脂層〕
　本発明の積層体が有する透明樹脂層は、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度（Ｔｇ）を有していないポリマー（以下、「特定ポリマー」とも略す。）を含有する層である。
　ここで、親水性基としては、１価または２価の基であって、例えば、アミド基、ヒドロキシ基、ウレタン基（ウレタン結合）、ポリオキシアルキレン基（例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、オキシエチレン基とオキシプロピレン基がブロックまたはランダム結合したポリオキシアルキレン基）、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシル基のアルカリ金属塩、アルコキシ基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、スルホン酸基、スルホン酸基のアルカリ金属塩などが挙げられる。
　なお、透明樹脂層における特定ポリマーの親水性基の存在および同定は、フーリエ変換赤外分光装置（例えば、Nicolet iS5 FT-IR、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製）を用いて、全反射赤外分光法（ＡＴＲ－ＩＲ）で測定を行い、プリズムにダイヤモンド結晶を使用し、４５度入射（一回反射）にて測定することにより、検出することができる。

　一方、ガラス転移温度（Ｔｇ）とは、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて昇温速度１０℃／分で昇温したときに、その測定温度がベースラインから変化しはじめる温度と、再びベースラインに戻る温度との平均値のことをいい、本発明においては、積層体から削り出した透明樹脂層を評価サンプルとし、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の示差走査型熱量計（ＤＳＣ）Ｑ２０００を用いて、真空乾燥した評価サンプル約２ｍｇをアルミニウムパン上で秤量し、アルミニウムパンをＤＳＣ測定ホルダーにセットし、１０℃～３００℃まで２℃／ｍｉｎで昇温したときの変曲点から求めた。

　特定ポリマーの主鎖構造は、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有さないポリマーとなる限り、特に限定されず、例えば、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリウレアなどが挙げられる。

　本発明においては、透明樹脂層における特定ポリマーの含有量は、透明樹脂層の全固形分の総質量に対して３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０～９８質量％であることが更に好ましい。

　本発明においては、特定ポリマーは、Ｃ－Ｈ結合を有する炭素数に対する親水性基の数の比が０．０５～０．４５となるポリマーであることが好ましい。
　ここで、Ｃ－Ｈ結合を有する炭素数に対する親水性基の数の比は、特定ポリマーを重合反応から得るための親水性基を有するモノマー（後述する親水性モノマー）の分子構造が同定できている場合は、その分子構造内のＣ－Ｈ結合を有する炭素数に対する親水性基の数の比をそのまま求めることができる。一方、モノマーが不明である場合には、フーリエ変換赤外分光装置（例えば、Nicolet iS5 FT-IR、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製）を用いて、全反射赤外分光法（ＡＴＲ－ＩＲ）により波数を横軸とする吸収スペクトルを得た後に、特定ポリマーの親水性基に由来するピーク面積、および、Ｃ－Ｈ結合に由来するピーク面積から算出することができる。

　また、本発明においては、積層体の高温耐久性および湿熱耐久性がより良好となる理由から、透明樹脂層の光吸収異方性膜側とは反対側の表面の水接触角が２５°以上６０°以下であることが好ましく、２５°以上５０°以下であることがより好ましく、２５°以上４０°以下であることが更に好ましい。
　ここで、水接触角は、透明樹脂層を２５℃、相対湿度６０％で２時間以上調湿した後、水平に保持した測定対象の表面に、水を１．７μＬ静置し、２０秒後の表面と水滴のなす角から求める。なお、本発明においては、協和界面科学株式会社製の表面接触角測定装置（ＦＡＣＥ ＣＯＮＴＡＣＴ-ＡＮＧＬＥ ＭＥＴＥＲ ＣＡ－Ａ）を使用した。

　本発明においては、透明樹脂層の厚みは特に限定されず、０．１～１０μｍであることが好ましく、０．５～５μｍであることがより好ましい。

 〔配向膜〕
　本発明の積層体は、上述した透明支持体と光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
　配向膜を形成する方法としては、例えば、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、および、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルなど）の累積などの手法が挙げられる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
　なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。

　＜ラビング処理配向膜＞
　ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～１μｍであることが更に好ましい。

　＜光配向膜＞
　光照射により形成される配向膜に用いられる光配向化合物としては、多数の文献等に記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。

　これらのうち、光配向化合物として、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光反応性基を有する感光性化合物を用いることが好ましい。
　また、光反応性基が、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、ポリイミド化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体または化合物の骨格を有することが好ましい。

　上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
　本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

　光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプ等のランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

　直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子等を用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

　照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、又は裏面から配向膜表面に対して垂直、又は斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°が好ましい。
　非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°が更に好ましい。
　照射時間は、１分～６０分が好ましく、１分～１０分がより好ましい。

　パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

 〔粘着層〕
　本発明の積層体は、上述した透明樹脂層の光吸収異方性膜側とは反対側に他の機能層（例えば、後述するλ／４板など）を貼合する観点から、上述した透明樹脂層の光吸収異方性膜側とは反対側に粘着層を有していてもよい。

　粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
　これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。

　粘着層は、例えば、粘着剤の溶液を離型シート上に塗布し、乾燥した後に後、透明樹脂層の表面に転写する方法；粘着剤の溶液を透明樹脂層の表面に直接塗布し、乾燥させる方法；等により形成することができる。
　粘着剤の溶液は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の溶剤に、粘着剤を溶解または分散させた１０～４０質量％程度の溶液として調製される。
　塗布法は、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法などを採用できる。

　また、離型シートの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレートなどの合成樹脂フィルム；ゴムシート；紙；布；不織布；ネット；発泡シート；金属箔；等の適宜な薄葉体等が挙げられる。

　本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ～５０μｍであることが好ましく、４μｍ～４０μｍであることがより好ましく、５μｍ～３０μｍであることが更に好ましい。

 〔λ／４板〕
　本発明の積層体は、上述した粘着層の透明樹脂層側とは反対側にλ／４板を有していてもよい。
　ここで、「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
　λ／４板の具体例としては、例えば米国特許出願公開２０１５／０２７７００６号などが挙げられる。
　例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルム等が挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。

 〔用途〕
　本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、具体的には、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
　本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。

［積層体の製造方法］
　本発明の積層体の製造方法は、上述した本発明の積層体を作製する積層体の製造方法である。
　本発明の積層体の製造方法は、上述した透明支持体上に、上述した式（１）で表される二色性物質（特定二色性物質）を含有する液晶組成物を用いて光吸収異方性膜を形成する、光吸収異方性膜形成工程と、
　光吸収異方性膜上に、親水性基を有する重合性化合物を含有する硬化性組成物を用いて、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する透明樹脂層を形成する、透明樹脂層形成工程とを有する。

 〔光吸収異方性膜形成工程〕
　光吸収異方性膜形成工程は、上述した透明支持体上に、上述した式（１）で表される二色性物質（特定二色性物質）を含有する液晶組成物を用いて光吸収異方性膜を形成する工程である。
　ここで、液晶組成物は、本発明の積層体が有する光吸収異方性膜において説明した液晶組成物と同様、液晶性化合物、界面活性剤、重合開始剤、溶媒および他の成分を含有していてもよい。
　また、液晶組成物を用いた光吸収異方性膜の形成方法としては、本発明の積層体が有する光吸収異方性膜において説明した形成方法と同様の方法、すなわち、上述した塗布膜形成工程および配向工程を有する形成方法が挙げられる。

 〔透明樹脂層形成工程〕
　透明樹脂層形成工程は、上述した光吸収異方性膜上に、親水性基を有する重合性化合物（以下、「親水性モノマー」とも略す。）を含有する硬化性組成物を用いて、本発明の積層体が有する透明樹脂層を形成する工程である。

　＜親水性モノマー＞
　上記硬化性組成物に含まれる親水性モノマーとしては、親水性基と重合性基とを有する化合物であれば、特に限定されない。
　ここで、親水性基としては、上述した特定ポリマーで挙げたものと同様のものが挙げられる。
　また、重合性基としては、例えば、エチレン性不飽和結合基が挙げられ、具体的には、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。

　本発明においては、得られる透明樹脂層が疎水的な物質を浸透し難くなる理由から、親水性モノマーのＣｌｏｇＰ値が２．０未満であることが好ましく、１．５以下であることがより好ましい。
　ここで、ＣｌｏｇＰ値とは、１－オクタノールと水への分配係数Ｐの常用対数ｌｏｇＰを計算によって求めた値である。ＣｌｏｇＰ値の計算に用いる方法やソフトウェアについては公知の物を用いることができるが、特に断らない限り、本発明ではＣａｍｂｒｉｄｇｅ ｓｏｆｔ社の ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ Ｕｌｔｒａ １３．０に組み込まれたＣｌｏｇＰプログラムを用いることとする。

　また、本発明においては、親水性モノマーが、Ｃ－Ｈ結合を有する炭素数に対する親水性基の数の比が０．０５～０．４５となる化合物であることが好ましい。
　ここで、Ｃ－Ｈ結合を有する炭素数に対する親水性基の数の比は、対象とする親水性モノマーの分子構造が同定できている場合は、その分子構造内のＣ－Ｈ結合を有する炭素数に対する親水性基の数の比をそのまま求めることができる。一方、対象とする親水性モノマーが複数種のモノマーの混合物である場合は、フーリエ変換赤外分光装置（例えば、Nicolet iS5 FT-IR、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製）を用いて、全反射赤外分光法（ＡＴＲ－ＩＲ）により波数を横軸とする吸収スペクトルを得た後に、対象とする親水性モノマーの混合物の親水性基に由来するピーク面積、および、Ｃ－Ｈ結合に由来するピーク面積から算出することができる。

　更に、本発明においては、架橋密度が高いほど、硬化膜中の空隙が少なく、物質移動を抑止できるという観点から、親水性モノマーのエチレン性不飽和結合基は、１分子当たり２官能以上であることが好ましく、３官能以上がより好ましい。また、親水性モノマーのエチレン性不飽和結合基（Ｃ＝Ｃ基）の等量が３００未満であることが好ましく、７０～２００であることがより好ましい。
　ここで、Ｃ＝Ｃ基等量は、Ｃ＝Ｃ基の数に対する親水性モノマーの分子量から算出される値をいう。

　このような親水性モノマーとしては、具体的には、例えば、下記式で表される親水性モノマーＨＭ－１～ＨＭ－１１が挙げられる。

　＜重合開始剤＞
　上記硬化性組成物は、親水性モノマー以外に、重合開始剤を含有するのが好ましい。
　重合開始剤としては、上述した液晶組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。

　＜溶媒＞
　上記硬化性組成物は、親水性モノマー以外に、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
　溶媒としては、上述した液晶組成物において説明したものと同様のものが挙げられる。

　透明樹脂層の形成方法としては、例えば、上記硬化性組成物を用いて、上述した光吸収異方性膜上に塗布し、乾燥させた後に、重合により固定化する方法などが挙げられる。
　ここで、塗布方法は特に限定されず、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法などが挙げられる。
　ここで、重合条件は特に限定されないが、光照射による重合においては、紫外線を用いることが好ましい。照射量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２～５０Ｊ／ｃｍ^２であることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ^２～５Ｊ／ｃｍ^２であることがより好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ^２～３Ｊ／ｃｍ^２であることが更に好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが特に好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。

［画像表示装置］
　本発明の画像表示装置は、上述した本発明の積層体を有する。
　本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
　これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

 〔液晶表示装置〕
　本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した本発明の積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
　なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる積層体のうち、フロント側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の積層体を用いるのがより好ましい。
　以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

　＜液晶セル＞
　液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
　ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０～１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
　ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２－１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモード（Ｍｕｌｔｉ－ｄｏｍａｉｎ　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）の）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ－ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ　ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　ａｌｉｇｎｅｄ　ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８～５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ　ｃｒｙｓｔａｌ　ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ－Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６－２１５３２６号公報、および特表２００８－５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
　ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０－５４９８２号公報、特開平１１－２０２３２３号公報、特開平９－２９２５２２号公報、特開平１１－１３３４０８号公報、特開平１１－３０５２１７号公報、特開平１０－３０７２９１号公報などに開示されている。

 〔有機ＥＬ表示装置〕
　本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、上述した本発明の積層体（ただし、粘着層およびλ／４板を含む）と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。この場合には、積層体は、視認側から、透明支持体、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、透明樹脂層、粘着層、および、λ／４板の順に配置されている。
　また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］
　＜透明支持体１の作製＞
　厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）上に、下記の組成の配向膜塗布液９を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み０．８μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜が形成された透明支持体１が得られた。
　なお、変性ポリビニルアルコールは、固形分濃度が４ｗｔ％となるように配向膜塗布液中に加えた。
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液９の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の変性ポリビニルアルコール
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　変性ポリビニルアルコール（下記式中、繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位のモル比率を表す。）

　＜配向膜１の形成＞
　下記構造の光配向材料Ｅ－１の１質量部に、ブトキシエタノール４１．６質量部、ジプロピレングリコールモノメチル４１．６質量部、および、純水１５．８質量部を加え、得られた溶液を０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過することで光配向膜用塗布液１を調製した。
　次いで、得られた光配向膜用塗布液１を透明支持体１上に塗布し、６０℃で１分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、配向膜１を作製した。

　＜光吸収異方性膜１の形成＞
　得られた配向膜１上に、下記の光吸収異方性膜形成用組成物１（下記表１においては「組成物１」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
　次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
　次いで、８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
　その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射することにより、配向膜１上に光吸収異方性膜１を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記イエローアゾ色素Ｙ－１　　　　　　　　　　　　７．１質量部
・下記シアンアゾ色素Ｄ－５５　　　　　　　　　　　　９．１質量部
・下記高分子液晶化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　１０１．１質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　１．０質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　６１７．０質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　２６４．４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　イエローアゾ色素Ｙ－１

　シアンアゾ色素Ｄ－５５

　高分子液晶化合物Ｐ－１

　界面改良剤Ｆ－１

　＜透明樹脂層１の形成＞
　実施例１の光吸収異方性膜１上に、下記硬化性組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃で５分間乾燥を行った。
　その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射し、樹脂組成物を硬化させ、光吸収異方性膜１上に透明樹脂層１が形成された積層体を作製した。
　ミクロトーム切削機を用いて、透明樹脂層１の断面を切削し、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）観察にて膜厚を測定したところ、膜厚は約１．２μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化性組成物１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記親水性モノマーＨＭ－１　　　　　　　　　　　　　　　２９質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　　　　　１質量部
エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　親水性モノマーＨＭ－１

［実施例２］
　＜配向膜２の形成＞
　（重合体Ｅ－２の合成）
　撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
　このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、^１Ｈ－ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
　次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ－５３００」、アクリル酸ω－カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５－２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｅ－２）を含む溶液を得た。この重合体Ｅ－２の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、^１Ｈ－ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｅ－２中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。

　（配向膜形成用組成物２の調製）
　以下の成分を混合して、配向膜形成用組成物２を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体Ｅ－２　　　　　　　　　　　　　　　　１０．６７質量部
・下記低分子化合物Ｒ－１　　　　　　　　　　　　　　５．１７質量部
・下記添加剤（Ｂ－１）　　　　　　　　　　　　　　　０．５３質量部
・酢酸ブチル　　　　　　　　　　　　　　　　　８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　添加剤（Ｂ－１）：サンアプロ社製ＴＡ－６０Ｂ（以下、構造式参照）

　ＰＥＴ支持体上に、配向膜形成用組成物２をスピンコート法により塗布し、配向膜形成用組成物２が塗布された支持体を８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶剤を除去し、塗膜を形成した。
　得られた塗膜に対して、偏光紫外線照射（２５ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ）することで配向膜２を作製した。

　配向膜１の代わりに配向膜２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例２の積層体を作製した。

［実施例３］
　＜配向膜３の形成＞
　配向膜形成用組成物３を＃４のバーを用いて乾燥後のＰＥＴ支持体上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物３を８０℃で１５分間乾燥後、２５０℃で１時間加熱して、ＰＥＴ支持体上に塗布膜を形成した。
　得られた塗布膜に偏光紫外線照射（１Ｊ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ）を１回施して、ＰＥＴ支持体上に配向膜３を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイミド配向膜材料（ＳＥ－１３０、日産化学社製）　２．０質量部
・Ｎ－メチルピロリドン　　　　　　　　　　　　　　　９８．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　配向膜１の代わりに配向膜３を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例３の積層体を作製した。

［実施例４］
　＜液晶性化合物の合成＞
　Ｌｕｂ eｔ aｌ. Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５, ３２１－３２８（１９９６）記載の方法で、下記式（１－６）で表される液晶性化合物（１－６）を合成した。

　次いで、上記化合物（１－６）の合成方法を参考に、下記式（１－７）で表される液晶性化合物（１－７）を合成した。

　＜光吸収異方性膜形成用組成物２の調製＞
　下記の成分を混合し、８０℃で１時間撹拌することで、光吸収異方性膜形成用組成物２（下記表１においては「組成物２」と略す。）を調製した。

――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物２の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性化合物（１－６）　　　　　　　　　　　　　　　５０部質量部
液晶性化合物（１－７）　　　　　　　　　　　　　　　５０部質量部
アゾ色素（ＮＫＸ２０２９；林原生物化学研究所製）　　２．５質量部
重合開始剤イルガキュア３６９（ＢＡＳＦ社製）　　　　　　６質量部
ポリアクリレート化合物
（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）　　　１．２質量部
シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　２５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　光吸収異方性膜形成用組成物１の代わりに光吸収異方性膜形成用組成物２を用い、下記形成方法にしたこと以外は、実施例１と同様の方法で、実施例４の積層体を作製した。
　＜形成方法＞
　配向膜１上に、光吸収異方性膜形成用組成物２を膜厚が０．７μｍになるようにスピンコート法により塗布した。その後、１２０℃のホットプレート上で３分間加熱乾燥した後、速やかに７０℃以下まで冷却し、次いで、紫外線照射装置を用いて、露光量２４００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）を照射し、硬化させた。

［実施例５］
　光吸収異方性膜形成用組成物１の代わりに光吸収異方性膜形成用組成物３（下記表１においては「組成物３」と略す。）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例５の積層体を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記シアンアゾ色素Ｄ－５５　　　　　　　　　　　　１６．２質量部
・上記高分子液晶化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　　１０１．１質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　　１．０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　６１７．０質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　２６４．４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　シアンアゾ色素Ｄ－５５

［実施例６］
　光吸収異方性膜形成用組成物１の代わりに光吸収異方性膜形成用組成物４（下記表１においては「組成物４」と略す。）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例６の積層体を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物４の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記イエローアゾ色素Ｙ－２　　　　　　　　　　　　　７．１質量部
・下記シアンアゾ色素Ｄ－５６　　　　　　　　　　　　　９．１質量部
・上記高分子液晶化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　　１０１．１質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　　１．０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　６１７．０質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　２６４．４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　イエローアゾ色素Ｙ－２

　シアンアゾ色素Ｄ－５６

［実施例７～１４および１７～１９ならびに比較例４および５］
　透明樹脂層を形成する硬化性組成物１において、親水性ポリマーＨＭ－１の代わりに、下記表１に示す種類の親水性モノマーを用いた以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作製した。
　なお、下記表１中の示す親水性ポリマーＨＭ－２～ＨＭ－１１の構造式は、上述した通りであり、ＤＰＨＡおよびＡ－ＤＣＰの構造式は、以下に示す通りである。

［実施例１５および１６］
　透明樹脂層の厚みを下記表１に記載の膜厚となるようにした以外は、実施例１と同様の方法で、積層体を作成した。

［比較例１］
　透明樹脂層を設けなかった以外は、実施例１と同様の方法で、比較例１の積層体を作製した。

［比較例２］
　光吸収異方性膜形成用組成物１の代わりに光吸収異方性膜形成用組成物５（下記表１においては「組成物５」と略す。）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、比較例２の積層体を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性膜形成用組成物５の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記イエロー色素Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　７．１質量部
・下記シアン色素Ｄ　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．１質量部
・上記高分子液晶化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　　１０１．１質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）　　１．０質量部
・上記界面改良剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　６１７．０質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　２６４．４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　イエロー色素Ａ

　シアン色素Ｄ

［比較例３］
　硬化性組成物１の代わりに下記硬化性組成物２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、比較例３の積層体を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
硬化性組成物２
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記変性ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）　　　　　　　　　　７質量部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７２質量部
メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　変性ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）

　実施例１～２０および比較例１～５の透明樹脂層の形成に用いた重合性化合物（親水性モノマー）のＣｌｏｇＰ値およびＣ＝Ｃ基等量、ならびに、透明樹脂層に含まれる特定ポリマーの親水性基および９５℃以下の温度領域におけるガラス転移温度（Ｔｇ）の有無（Ｔｇを有している場合は温度）および透明樹脂層の表面における水接触角について、上述した方法で測定した。これらの結果を下記表１に示す。
　なお、比較例３のＣｌｏｇＰ値について、ＰＶＡを構成している親水性基は、下記構造（下記表１においては「ビニルＯＨ」と略す。）の計算値である。

　＜配向度＞
　光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ　Ｅ６００　ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各光吸収異方性膜をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００～７００ｎｍの波長域における光吸収異方性膜の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。結果を下記表１に示す。
　　配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
　　Ａｚ０：光吸収異方性膜の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
　　Ａｙ０：光吸収異方性膜の偏光軸方向の偏光に対する吸光度

　＜高温耐久性＞
　作製した積層体における透明硬樹脂層（比較例１では光吸収異方性膜）に粘着層を形成し、ガラスに貼り合わせた状態で、８０℃（ドライ）５００時間の耐久試験をおこなった。この耐久試験前後での透過率を測定し、下記基準で評価した。結果を下記表１に示す。
　Ａ：透過率変化が１％未満
　Ｂ：透過率変化が１％以上３％未満
　Ｃ：透過率変化が３％以上５％未満
　Ｄ：透過率変化が３％以上１５％未満
　Ｅ：透過率変化が１５％以上

　＜湿熱耐久性＞
　作製した積層体における透明硬樹脂層（比較例１では光吸収異方性膜）に粘着層を形成し、ガラスに貼り合わせた状態で、６０℃、相対湿度９０％、５００時間の耐久試験をおこなった。この耐久試験前後での透過率を測定し、下記基準で評価した。結果を下記表１に示す。
　Ａ：透過率変化が１％未満
　Ｂ：透過率変化が１％以上３％未満
　Ｃ：透過率変化が３％以上５％未満
　Ｄ：透過率変化が３％以上１５％未満
　Ｅ：透過率変化が１５％以上

　表１に示す結果から、上記式（１）で表される二色性物質を含有する光吸収異方性膜とともに、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する透明樹脂層を設けた積層体は、二色性物質の優れた配向性が維持され、高温耐久性および湿熱耐久性がいずれも良好となることが分かった（実施例１～１９）。

［実施例２０］
 〔λ/４位相差フィルム１の作製〕
　＜光配向膜用組成物の調製＞
　実施例２で用いた配向膜２の形成に用いた配向膜形成用組成物２と同様の組成物を調製した。

　＜光学異方性層用塗布液の調製＞
　下記組成の光学異方性層用塗布液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ－３　　　　　　　　　　　　　４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－４　　　　　　　　　　　　　４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ－１　　　　　　　　　　　　　１６．００質量部
・下記低分子化合物Ｂ－２　　　　　　　　　　　　　　６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１（オキシム型）　　　　　　　　０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｇ－１　　　　　　　　　　　　　　０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製）　　　　　　２．００質量部
・ＮＫエステルＡ－２００（新中村化学工業社製）　　　１．００質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　４２４．８質量部
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　なお、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

 〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
　（コア層セルロースアシレートドープの作製）
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
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コア層セルロースアシレートドープ
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・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート　　　　１００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　１２質量部
・下記化合物Ｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
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　化合物Ｆ

　（外層セルロースアシレートドープの作製）
　上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
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マット剤溶液
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）　　 　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　７６質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　１質量部
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　（セルロースアシレートフィルム１の作製）
　上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
　次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
　その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これを実施例２０の光学フィルムとした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

 〔λ/４位相差フィルム１の作製〕
　作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した各光配向膜用組成物をバーコーターで塗布した。
　塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
　得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
　次いで、光配向膜上に、先に調製した光学異方性層用塗布液をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
　形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
　その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、λ／４位相差フィルム１を作製した。得られた光学積層体の面内レターデーションは１４０ｎｍであった。

 〔ポジティブＣプレート膜２の作製〕
　仮支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ－ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた（これをセルロースアシレートフィルム２とする）。セルロースアシレートフィルム２を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。
　次いで、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。
　次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２を作製した。
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アルカリ溶液の組成（質量部）
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水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．７質量部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１５．８質量部
イソプロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ）　　　　　　　　　　１．０質量部
プロピレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　１４．８質量部
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　上記アルカリ鹸化処理されたセルロースアシレートフィルム２を用い、下記の組成の配向膜形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
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配向膜形成用塗布液の組成
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ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３）　　　　２．４質量部
イソプロピルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　１．６質量部
メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６質量部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０質量部
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　上記で作成した配向膜を有するセルロースアシレートフィルム２上に、下記塗布液Ｎを塗布し、６０℃６０秒間熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート膜１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｔｈが－６０ｎｍであった。

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光学異方性膜用塗布液Ｎの組成
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下記液晶性化合物Ｌ－１　　　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
下記液晶性化合物Ｌ－２　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
下記垂直配液晶化合物向剤（Ｓ０１）　　　　　　　　　　　　１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）　　　　　　　　　　　８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）　　　　　　　　　　　　３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）　　　　　　　　　１質量部
下記化合物Ｂ０３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１７０質量部
シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
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　＜円偏光板の作製＞
　λ/４位相差フィルム１の光学異方性層側に、粘着剤を介して上記で作成したポジティブＣプレート膜２を転写し、セルロースアシレートフィルム２を除去した。また、λ/４位相差フィルムのセルロースアシレートフィルム１側に粘着剤を介して実施例１で作製した積層体を貼り合わせて円偏光板を得た。

　有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ　Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した円偏光板をポジティブＣプレート側がパネル側になるようにタッチパネル上に貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。

　作製した有機ＥＬ表示装置について、λ／４板として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を用いた場合と同様の評価を行ったところ、λ／４板として、λ/４位相差フィルム１とポジティブＣプレート膜２の積層体を用いた場合でも同様の効果が発揮されることを確認した。

　１０、２０、３０　積層体
　１２　透明支持体
　１４　配向膜
　１６　光吸収異方性膜
　１８　透明樹脂層

Claims (18)

1. 　透明支持体、光吸収異方性膜および透明樹脂層をこの順に有する積層体であって、
   　前記光吸収異方性膜が、下記式（１）で表される二色性物質を含有する膜であり、
   　前記透明樹脂層が、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する層である、積層体。
   

   

   　前記式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
   　前記式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
   　前記式（１）中、ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。
2. 　前記透明樹脂層における前記ポリマーの含有量が、前記透明樹脂層の全固形分の総質量に対して３０質量％以上である、請求項１に記載の積層体。
3. 　前記透明樹脂層における前記ポリマーが、Ｃ－Ｈ結合を有する炭素数に対する前記親水性基の数の比が０．０５～０．４５となるポリマーである、請求項１または２に記載の積層体。
4. 　前記透明樹脂層の前記光吸収異方性膜側とは反対側の表面の水接触角が２５°以上６０°以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の積層体。
5. 　前記光吸収異方性膜が、前記二色性物質と、液晶性化合物と含有する液晶組成物を用いて形成される膜である、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
6. 　前記透明支持体と前記光吸収異方性膜との間に、配向膜を有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の積層体。
7. 　前記配向膜が、光配向化合物を含有する組成物を用いて形成される光配向膜であり、
   　前記光配向化合物が、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光反応性基を有する感光性化合物であり、
   　前記光反応性基が、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、ポリイミド化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも１種の誘導体または化合物の骨格を有する、請求項６に記載の積層体。
8. 　前記二色性物質が、下記式（２）で表される構造を有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の積層体。
   

   

   　前記式（２）中、Ａ^４は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
   　前記式（２）中、Ｌ^３およびＬ^４は、それぞれ独立に、置換基を表す。
   　前記式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
   　前記式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表す。
   　前記式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
   　前記式（２）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を表す。
   　前記式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
9. 　前記式（２）において、Ａ^４がフェニレン基である、請求項８に記載の積層体。
10. 　前記式（２）において、Ｌ^３およびＬ^４の少なくとも一方が架橋性基を含む、請求項８または９に記載の積層体。
11. 　前記式（２）において、Ｌ^３およびＬ^４の両方が架橋性基を含む、請求項８～１０のいずれか１項に記載の積層体。
12. 　前記架橋性基が、アクリロイル基またはメタクリロイル基である、請求項１０または１１に記載の積層体。
13. 　更に、前記透明樹脂層の前記光吸収異方性膜側とは反対側に粘着層を有する、請求項１～１２のいずれか１項に記載の積層体。
14. 　更に、前記粘着層の前記透明樹脂層側とは反対側にλ／４板を有する、請求項１３に記載の積層体。
15. 　透明支持体、光吸収異方性膜および透明樹脂層をこの順に有する積層体を作製する積層体の製造方法であって、
    　透明支持体上に、下記式（１）で表される二色性物質を含有する液晶組成物を用いて光吸収異方性膜を形成する、光吸収異方性膜形成工程と、
    　前記光吸収異方性膜上に、親水性基を有する重合性化合物を含有する硬化性組成物を用いて、親水性基を有し、かつ、９５℃以下の温度領域にガラス転移温度を有していないポリマーを含有する透明樹脂層を形成する、透明樹脂層形成工程とを有する、積層体の製造方法。
    

    

    　前記式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
    　前記式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
    　前記式（１）中、ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。
16. 　前記重合性化合物のＣｌｏｇＰ値が２．０未満である、請求項１５に記載の積層体の製造方法。
17. 　前記重合性化合物が、Ｃ－Ｈ結合を有する炭素数に対する前記親水性基の数の比が０．０５～０．４５となる化合物である、請求項１６に記載の積層体の製造方法。
18. 　請求項１～１４のいずれか１項に記載の積層体を有する、画像表示装置。

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