WO2019021417A1 - 貼り付け方法、貼り付け装置、塗布方法及び塗布装置。 - Google Patents
貼り付け方法、貼り付け装置、塗布方法及び塗布装置。 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2019021417A1 WO2019021417A1 PCT/JP2017/027215 JP2017027215W WO2019021417A1 WO 2019021417 A1 WO2019021417 A1 WO 2019021417A1 JP 2017027215 W JP2017027215 W JP 2017027215W WO 2019021417 A1 WO2019021417 A1 WO 2019021417A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- stage
- coating
- film
- substrate
- cover glass
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 64
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 claims description 77
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 60
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 41
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 41
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 24
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 17
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 11
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 6
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 5
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 24
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C63/00—Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor
- B29C63/02—Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor using sheet or web-like material
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/50—Forming devices by joining two substrates together, e.g. lamination techniques
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C63/00—Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor
- B29C63/02—Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor using sheet or web-like material
- B29C63/024—Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor using sheet or web-like material the sheet or web-like material being supported by a moving carriage
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/0046—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by constructional aspects of the apparatus
- B32B37/0053—Constructional details of laminating machines comprising rollers; Constructional features of the rollers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/16—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with all layers existing as coherent layers before laminating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
- B32B38/18—Handling of layers or the laminate
- B32B38/1866—Handling of layers or the laminate conforming the layers or laminate to a convex or concave profile
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/1201—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/80—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass using temporary substrates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/412—Transparent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2309/00—Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
- B32B2309/16—Tension
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2309/00—Parameters for the laminating or treatment process; Apparatus details
- B32B2309/60—In a particular environment
- B32B2309/68—Vacuum
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2315/00—Other materials containing non-metallic inorganic compounds not provided for in groups B32B2311/00 - B32B2313/04
- B32B2315/08—Glass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/0007—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding involving treatment or provisions in order to avoid deformation or air inclusion, e.g. to improve surface quality
- B32B37/003—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding involving treatment or provisions in order to avoid deformation or air inclusion, e.g. to improve surface quality to avoid air inclusion
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/873—Encapsulations
- H10K59/8731—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/40—Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
Definitions
- the cover glass 40, the OCA 41, the adhesive sheet 42, and the carrier tape 57 are disposed in order from the stage 46. Then, while the roller 52 presses the OCA 41 against the cover glass 40 via the carrier tape 57, the OCA 41 is attached to the cover glass 40 by moving from one end of the stage 46 to the other end (arrow C in FIG. 3). At this time, the adhesive sheet remains adhered to the carrier tape 57, and only the OCA 41 is attached to the cover glass 40.
- FIGS. 6A to 6C are diagrams showing the movement of the stage 46 of the affixing device 47 (4), and the affixing proceeds in the order of (a) ⁇ (b) ⁇ (c).
- the roller 52 (1) is fixed in the X-axis direction.
- the stage 46 moves while changing the tilt angle. Specifically, it moves in the X-axis direction while changing the inclination in the Z-axis direction.
- the coating method according to aspect 7 of the present invention is a coating method in which an adhesive layer is provided on a substrate having a curved surface, and the substrate is disposed on a stage, and resin particles are applied to the substrate.
- the adhesive layer is provided.
- the position of the coating can be moved in two orthogonal directions on the substrate.
- the stage includes an XY axis drive mechanism, It is movable in two orthogonal directions on the substrate.
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
基材(40)は、ステージ(46)に配置されており、基材(40)とフィルム(41)とが、ステージ(46)とローラー(52(1))とにより圧接されることで貼り付けが行われ、ステージ(46)が移動することで、フィルム(41)の全面に渡って圧接が行われる。
Description
本発明は、EL素子(electroluminescence element)を含むELデバイス等表示デバイスの製造方法等に関する。
EL素子を含むフレキシブルなELデバイスを製造する場合、カバーガラスと粘着シート等、種々の貼り付けを行う必要がある。
曲面を有する基材への貼り付けを良好に行うこと。
本発明の一態様に係る貼り付け方法は、曲面を有する基材にフィルムを貼り付ける方法であって、前記基材は、ステージに配置されており、前記基材と前記フィルムとが、前記ステージとローラーとにより圧接されることで前記貼り付けが行われ、前記ステージが移動することで、前記フィルムの全面に渡って前記圧接が行われる。
本発明の一態様によれば、簡易な構成で、曲面を有する基材への貼り付けを良好に行うことができる。
図1はELデバイスの製造方法の一例を示すフローチャートである。図2(a)は、本実施形態のELデバイスの形成途中の構成例を示す断面図である。図2(b)は、本実施形態のELデバイスの構成例を示す断面図である。
フレキシブルなELデバイスを製造する場合、図1~図2に示すように、まず、透光性のマザー基板(例えば、ガラス基板)50上に樹脂層12を形成する(ステップS1)。次いで、無機バリア膜3を形成する(ステップS2)。次いで、複数の無機絶縁膜16・18・20および平坦化膜21を含むTFT層4を形成する(ステップS3)。次いで、発光素子層(例えば、OLED素子層。表示体。)5を形成する(ステップS4)。次いで、無機封止膜26・28および有機封止膜27を含む封止層6を形成する(ステップS5)。次いで、封止層6上に接着層8を介して保護材9(例えば、PETフィルム)を貼り付ける(ステップS6)。
次いで、樹脂層12にレーザーを照射する(ステップS7)。ここでは、照射されたレーザーを樹脂層12が吸収することで、樹脂層12の下面(マザー基板50との界面)がアブレーションによって変質し剥離層13が形成され、樹脂層12およびマザー基板50間の結合力が低下する。次いで、マザー基板50を樹脂層12から剥離する(ステップS8)。これにより、図2(a)に示す積層体7とマザー基板50とが剥離する。
次いで、図2(b)に示すように、樹脂層12の下面に、接着層11を介して支持材10(例えば、PETフィルム)を貼り付ける(ステップS9)。次いで、マザー基板50を分断するとともに保護材9をカットし、複数のELデバイスを切り出す(ステップS10)。次いで、TFT層4の端子部上の保護材9を剥離し、端子出しを行う(ステップS11)。これにより、図2(b)に示すELデバイス2を得る。次いで機能フィルム39を貼り付け(ステップS12)、ACF等を用いて端子部に電子回路基板を実装する(ステップS13)。なお、前記ステップS12は、機能フィルム39の貼り付けに限定されず、例えばカバーガラスの貼り付け等、積層体7と他の部材との貼り付けを広く含む。また、前記各ステップはELデバイスの製造装置が行う。
本発明の一態様に係るELデバイスの製造方法は、特にこのステップS12に特徴がある。詳細については後述する。
樹脂層12の材料としては、例えば、ポリイミド、エポキシ、ポリアミド等が挙げられる。中でもポリイミドが好適に用いられる。
無機バリア膜3は、ELデバイスの使用時に、水分や不純物が、TFT層4や発光素子層5に到達することを防ぐ膜であり、例えば、CVDにより形成される、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、あるいは酸窒化シリコン膜、またはこれらの積層膜で構成することができる。無機バリア膜3の厚さは、例えば、50nm~1500nmである。
TFT層4は、半導体膜15と、半導体膜15の上側に形成される無機絶縁膜16(ゲート絶縁膜)と、ゲート絶縁膜16の上側に形成されるゲート電極Gと、ゲート電極Gの上側に形成される無機絶縁膜18・20と、無機絶縁膜20の上側に形成される、ソース電極S、ドレイン電極Dおよび端子TMと、ソース電極Sおよびドレイン電極Dの上側に形成される平坦化膜21とを含む。半導体膜15、無機絶縁膜16、ゲート電極G、無機絶縁膜18・20、ソース電極Sおよびドレイン電極Dは、薄層トランジスタ(TFT)を構成する。TFT層4の端部(非アクティブ領域NA)には、ICチップ、FPC等の電子回路基板との接続に用いられる複数の端子TMおよび端子配線TWを含む端子部が形成される。端子TMは端子配線TWを介してTFT層4の各種配線に接続される。
半導体膜15は、例えば低温ポリシリコン(LPTS)あるいは酸化物半導体で構成される。ゲート絶縁膜16は、例えば、CVD法によって形成された、酸化シリコン(SiOx)膜あるいは窒化シリコン(SiNx)膜またはこれらの積層膜によって構成することができる。ゲート電極G、ソース電極S、ドレイン電極D、および端子は、例えば、アルミニウム(Al)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、チタン(Ti)、銅(Cu)の少なくとも1つを含む金属の単層膜あるいは積層膜によって構成される。なお、図2では、半導体膜15をチャネルとするTFTがトップゲート構造で示されているが、ボトムゲート構造でもよい(例えば、TFTのチャネルが酸化物半導体の場合)。
無機絶縁膜18・20は、例えば、CVD法によって形成された、酸化シリコン(SiOx)膜あるいは窒化シリコン(SiNx)膜またはこれらの積層膜によって構成することができる。平坦化膜21は、有機絶縁膜であり、例えば、ポリイミド、アクリル等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。
発光素子層5(例えば、有機発光ダイオード層)は、平坦化膜21の上側に形成されるアノード電極22と、アクティブ領域DAのサブピクセルを規定する隔壁23cと、非アクティブ領域NAに形成されるバンク23bと、アノード電極22の上側に形成されるEL(エレクトロルミネッセンス)層24と、EL層24の上側に形成されるカソード電極25とを含み、アノード電極22、EL層24、およびカソード電極25によって発光素子(例えば、有機発光ダイオード)が構成される。
隔壁23cおよびバンク23bは、ポリイミド、エポキシ、アクリル等の塗布可能な感光性有機材料を用いて、例えば同一工程で形成することができる。非アクティブ領域NAのバンク23bは無機絶縁膜20上に形成される。バンク23bは有機封止膜27のエッジを規定する。
EL層24は、蒸着法あるいはインクジェット法によって、隔壁23cによって囲まれた領域(サブピクセル領域)に形成される。発光素子層5が有機発光ダイオード(OLED)層である場合、EL層24は、例えば、下層側から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を積層することで構成される。
アノード電極(陽極)22は、例えばITO(Indium Tin Oxide)とAgを含む合金との積層によって構成され、光反射性を有する。カソード電極25は、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zincum Oxide)等の透明金属で構成することができる。
発光素子層5がOLED層である場合、アノード電極22およびカソード電極25間の駆動電流によって正孔と電子がEL層24内で再結合し、これによって生じたエキシトンが基底状態に落ちることによって、光が放出される。
発光素子層5は、OLED素子を構成する場合に限られず、無機発光ダイオードあるいは量子ドット発光ダイオードを構成してもよい。
封止層6は、隔壁23cおよびカソード電極25を覆う第1無機封止膜26と、第1無機封止膜26を覆う有機封止膜27と、有機封止膜27を覆う第2無機封止膜28とを含む。
第1無機封止膜26および第2無機封止膜28はそれぞれ、例えば、CVDにより形成される、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、あるいは酸窒化シリコン膜、またはこれらの積層膜で構成することができる。有機封止膜27は、第1無機封止膜26および第2無機封止膜28よりも厚い、透光性の有機絶縁膜であり、ポリイミド、アクリル等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。例えば、このような有機材料を含むインクを第1無機封止膜26上にインクジェット塗布した後、UV照射により硬化させる。封止層6は、発光素子層5を覆い、水、酸素等の異物の発光素子層5への浸透を防いでいる。
保護材9は、接着層8を介して封止層6上に貼り付けられ、マザー基板50を剥離した時の支持材として機能する。保護材9の材料としては、PET(ポリエチレンテレフタレート)等が挙げられる。
支持材10は、マザー基板50を剥離した後に樹脂層12の下面に貼り付けることで、柔軟性に優れたELデバイスを製造するためのものであり、その材料としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)等が挙げられる。
機能フィルムは、例えば、光学補償機能、タッチセンサ機能、保護機能等を有する。
電子回路基板は、例えば、複数の端子TM上に実装されるICチップあるいはフレキシブルプリント基板である。
(ステップ12)
以下本発明の特徴である前記ステップ12(機能フィルム、カバーガラス等の貼り付け)につて説明する。
以下本発明の特徴である前記ステップ12(機能フィルム、カバーガラス等の貼り付け)につて説明する。
ここで、前記貼り付け及びそれに関連する貼り付けには、複数の構成や方法が考えられる。例えば、貼り付けの組み合わせとしては、(1)積層体7とカバーガラスとの貼り付け、(2)積層体7と機能フィルムとの貼り付け、(3)積層体7と、機能フィルム及びカバーガラスの一体品との貼り付け等が考えられる。また、これらの貼り付けの前工程として、カバーガラスと機能フィルムとの貼り付けや、カバーガラスと接着層との貼り付け等も含まれる。なお、積層体7は、必要に応じて接着層8や保護材9が取り除かれた後に前記貼り付けに供される。
また、貼り付けの方法としては、例えば、真空下で行う場合や、大気下で行う場合等がある。さらには、積層体を、カバーガラスや機能フィルムに直接貼り付ける場合や、機能フィルムをカバーガラスに貼り付けた一体品に、積層体を貼り付ける場合などがある。
(実施形態1)
(ローラー移動)
実施形態1では、図3等に基づいて、カバーガラス40にOCA41等のフィルムを貼り付ける場合について説明する。図3は、ローラー52を用いて前記貼り付けを行う貼り付け装置47(3)の概略を示す図である。
(ローラー移動)
実施形態1では、図3等に基づいて、カバーガラス40にOCA41等のフィルムを貼り付ける場合について説明する。図3は、ローラー52を用いて前記貼り付けを行う貼り付け装置47(3)の概略を示す図である。
図3に示すように、貼り付け装置47(3)は、ステージ46、ローラー52、キャリアテープ55及びテンション制御装置54を備える。テンション制御装置54はステージ46の両側に設けられており、それぞれテンションローラー55を備えている。また、ローラー52は、ステージ46上を移動可能に設けられている。キャリアテープ55は、2個のテンションローラー55及び、その間に設けられているローラー52に通紙されており、テンション制御装置54の作用によりテンションが付与される。具体的には、テンション制御装置54は上下方向(Z軸方向)に移動可能に設けられており、テンション制御装置54の上下移動(図3の矢印D)に伴い、テンションローラー55も上下する(図3の矢印E)。これによりキャリアテープ55にテンションが付与され、そのテンションが制御される。ステージ46にはカバーガラス40が配置され、キャリアテープ57には、粘着シート42を介してOCA41が保持されている。粘着シート42は、OCA41等のフィルムを微粘着によりキャリアテープ57に保持するものであり、AS(Adhesive Sheet、保持シート)とも呼ばれる。
ステージ46上では、ステージ46から順に、カバーガラス40、OCA41、粘着シート42、キャリアテープ57の順に配置されている。そして、ローラー52が、キャリアテープ57を介してOCA41をカバーガラス40に押し付けながら、ステージ46の一端から他端へ移動する(図3の矢印C)ことにより、OCA41をカバーガラス40に貼り付ける。その際、粘着シートはキャリアテープ57に粘着したままとなり、OCA41のみがカバーガラス40に貼り付けられる。
図4、図5(a)及び図5(b)に基づいてより詳しく説明する。図4、図5(a)及び図5(b)は、貼り付け装置47(3)のステージ46部分を示す図である。図4に示すように、ローラー52はカバーガラス40の内側面40(1)に対してほぼ垂直な方向に圧力をかける(図4の矢印H)。そして、ステージ46の上面に平行な方向(図4の矢印G。X軸方向)に移動する。また、キャリアテープ57は、上向き(Z軸方向)、すなわち、被貼り付け面であるカバーガラス40の内側面40(1)の湾曲方向に沿った方向に、テンションが掛けられている(図4の矢印F)。
なお、位置合わせ等を行うために、ステージ46を例えばXY平面内で回転可能に構成してもよい。
また、図5(a)に示すように、ローラー52の径をカバーガラス40の端部の湾曲に合わすことで、良好にOCA41をカバーガラス40に貼り付けしやすくなる。ただし、図5(b)に示すように、ローラー52が進行(図5(a)の矢印I)した後、カバーガラス40の端部における湾曲部分(図5(b)の点線囲みJ)では、キャリアテープ57にテンションが掛かりにくくなる場合がある。キャリアテープ57が、カバーガラス40の端部に引っかかる場合があるためである。このような場合には、貼り付けに不具合を生じることがある。
(ステージ移動)
そこで、図5(a)及び(b)に示すような、ステージ46は固定としローラー52を移動させるのではなく、ローラーを固定しステージを移動させる構成が考えられる。図6(a)から(c)に基づいて説明する。
そこで、図5(a)及び(b)に示すような、ステージ46は固定としローラー52を移動させるのではなく、ローラーを固定しステージを移動させる構成が考えられる。図6(a)から(c)に基づいて説明する。
図6(a)から(c)は、貼り付け装置47(4)のステージ46の動きを示す図であり、(a)→(b)→(c)の順で貼り付けが進行する。図6(a)から(c)に通じて、ローラー52(1)はX軸方向において固定されている。そして、ステージ46が傾斜角度を変えながら移動する。具体的には、Z軸方向への傾きを変えながら、X軸方向に移動する。
図6(a)は、貼り付け開始時の貼り付け装置47(4)の概要を示している。図6(a)に示すように、ステージ46の他端、すなわちローラー52(1)が位置していない方の端部が、上方向(X軸のプラス方向)に傾斜している。これにより、キャリアテープ57がカバーガラス40の端部に引っかかりにくくなる(図6(a)の点線囲みK
)。そして、カバーガラス40の平坦部分に対して貼り付けを行う間は、図6(b)に示すように、ステージ46はX軸に平行な角度に戻り(傾斜なし)、図6(b)の矢印Lに示す方向(X軸のマイナス方向)に移動する。これにより、カバーガラス40の平坦部分において、被貼り付け面であるカバーガラス40の内側面40(1)に対してほぼ垂直な方向(X軸方向)にローラー52(1)は加圧することができる。よって、カバーガラス40の平坦部分において、良好な貼り付けをすることができる。
)。そして、カバーガラス40の平坦部分に対して貼り付けを行う間は、図6(b)に示すように、ステージ46はX軸に平行な角度に戻り(傾斜なし)、図6(b)の矢印Lに示す方向(X軸のマイナス方向)に移動する。これにより、カバーガラス40の平坦部分において、被貼り付け面であるカバーガラス40の内側面40(1)に対してほぼ垂直な方向(X軸方向)にローラー52(1)は加圧することができる。よって、カバーガラス40の平坦部分において、良好な貼り付けをすることができる。
図6(c)は、貼り付け終了時の貼り付け装置47(4)の概要を示している。図6(c)に示すように、ステージ46の他端、すなわちローラー52(1)が位置していない方の端部が、上方向(X軸のプラス方向)に傾斜している。ステージ46が移動しているため、図6(c)に示すステージ46は、図6(a)に示したステージ46はとは反対の方向に傾斜している。これにより、キャリアテープ57がカバーガラス40の端部に引っかかりにくくなり(図6(c)の点線囲みM)、貼り付け不良を抑制することができる。なお、ステージ46の傾斜方向は、ローラー52(1)がカバーガラス40に加える圧力の方向が、カバーガラス40の曲面における法線の方向に近づくような方向にすることが好ましい。これにより、平坦部分と曲面とでの貼り付け条件の差異を少なくすることができる。
貼り付けの際のローラー52(1)の回転数や、ローラー52(1)がカバーガラス40等に加える圧力(カバーガラス40とOCA41とが、ステージ46とローラー52(1)とによって圧接される際の圧力)は特には限定されず、被貼り付け部材や貼り付け部材の物性等に応じて適宜決定される。ローラー52(1)は、少なくとも貼り付けの間はX軸方向において固定されているものの、Z軸方向には可動となっており、圧力等の調整が可能となっている。例えば、被貼り付け部材がカバーガラス40であり、貼り付け部材がOCA41である場合には、ローラー52(1)を回転させた状態で、貼り付けを始め(ローラー52(1)、キャリアテープ57、OCA41及びカバーガラス40が接する)、荷重(5kgf/cm2)を均等に保ちながら回転させる。ここで、カバーガラス40が湾曲している端部近傍では、荷重を10kg/cm2に変えてもよい。なお、荷重を変更、制御する際には、ローラー52(1)をZ軸方向に上下させる。また、ステージ46が傾斜している場合は、その傾斜面にはより多くの荷重がかかる場合がある。
また、荷重の大きさは、被貼り付け部材や貼り付け部材が例えば発光素子層を含む積層体である場合には小さ目に設定する。発光素子層に欠陥が生じるのを抑制するためである。
前記のようにステージ46を可動とすることで、貼り付け装置47(4)の構造の簡素化ができる。また湾曲径の小さい極小曲面のカバーガラス40に対しても巧く追従しながら貼り付けを行うことができる。また貼り付け面に均一に加圧でき易くなるため、気泡の噛み込みが生じにくくなり、良品が得られやすくなる。
なお、前記の説明では、OCA41をカバーガラス40に貼り付ける場合を例にして説明した。ただし、貼り付ける部材はこれに限定されるものではなく、例えば、カバーガラスの代わりに、発光素子層を含む積層体や、TSP(Touch Screen Panel,タッチパネル)等の機能フィルムであってもよい。また、OCAの代わりに、偏光フィルム(POL)であってもよい。
また、上記貼り付けは、真空下でも大気下でも行うことができる。ただし、真空下で行う方が、貼り付け面に気泡が入り難い。
また、ステージ46がZ軸方向へ傾斜する際の回転軸の位置は特には限定されないが、例えばステージ46のX軸方向の中心や、ステージ46の端部、すなわちステージ46に湾曲面が設けられている部分の近傍とすることができる。
また、図7に示すように、ローラー52の径を、カバーガラス40の湾曲に比べて小さくすることにより、より良好な貼り付けを行うこともできる。
(実施形態2)
実施形態2では、図8(a)及び(b)に基づいて、接着剤41として予め成膜されたフィルム状のOCAを用いるのではなく、液体の接着剤をカバーガラス40に塗布することについて説明する。図8(a)及び(b)は、本実施形態の塗布装置60(1)の概要を示す図であり、図8(a)は塗布中を示し、図8(b)は塗布後を示す。
実施形態2では、図8(a)及び(b)に基づいて、接着剤41として予め成膜されたフィルム状のOCAを用いるのではなく、液体の接着剤をカバーガラス40に塗布することについて説明する。図8(a)及び(b)は、本実施形態の塗布装置60(1)の概要を示す図であり、図8(a)は塗布中を示し、図8(b)は塗布後を示す。
塗布装置60(1)は、ステージ46と塗布機58(1)とを備える。ステージ46にはカバーガラス40が配置され、その上方に塗布機58(1)が配置されている。塗布機58(1)は液体の接着剤、例えば液状のOCR樹脂を吐出可能に構成されている。本実施形態では、塗布機58(1)はOCR樹脂の粒子(樹脂粒子41(1))をカバーガラス40の上方からカバーガラス40上に吐出する(図8(a)の矢印Q。Z軸のマイナス方向。)。
また、塗布機58(1)は、カバーガラス40の上方を、カバーガラス40の平面部と平行な方向(図8(a)の矢印P。X軸方向。)に移動する。これにより、1個の塗布機58(1)で、カバーガラス40の全面に樹脂粒子41(1)を塗布することができる。
また、塗布機58(1)の移動は、カバーガラス40上の樹脂粒子41(1)の厚さが均一となるように制御される。例えば、カバーガラス40の平面部では、図8(a)の矢印Rに示すように、等間隔に樹脂粒子41(1)が塗布される。
また、塗布機58(1)に吐出口が複数個設けられている場合、例えば、塗布機58(1)の移動方向(矢印P)と直交する方向(Y軸方向)に吐出口が複数個設けられることで、カバーガラス40のY軸方向の全幅に対して一度で樹脂粒子41を塗布できる場合には(ライン塗布)、塗布機58(1)を一度カバーガラス40のX軸方向の全幅に対して移動することで(一回の走査)、カバーガラス40の全面に対して樹脂粒子41を塗布することができる。
なお、塗布機58(1)の具体的構成は特には限定されず、例えばピエジェット式やメカニカルジェット式等ジェット塗布その他、種々の塗布機を用いることができる。
塗布した後、適宜必要に応じて加熱等の処理を行い、カバーガラス40の表面に接着剤の塗膜を形成する。図8(b)は、塗布した樹脂粒子41(1)が樹脂層41(2)を形成した様子を示している。この樹脂層41(2)は、フィルム(テープ)の貼り付け(ラミネーション)によるOCA41と同様の機能を有する。
すなわち、樹脂層41を介して、カバーガラス40に偏光フィルム(POL)等の機能フィルムを貼り付けることができる。
また、この貼り付けの際には、実施形態1で図6(a)から(c)に基づいて説明した、ローラーを固定し、ステージを移動させる貼り付け方法を用いることもできる。
接着層を塗布により形成することで、カバーガラスの形状からの制約を受けることなく、カバーガラスの表面に接着層を形成することができる。具体的には、例えば、2.5D形状に加え、カバーガラスの形状が3.0D形状であっても、カバーガラス表面に良好な接着層を形成することができる。
(実施形態3)
実施形態3では、図9に基づいて、液体の接着剤をカバーガラス40に塗布する他の構成について説明する。図9は、塗布装置60(2)の概要を示す図である。本実施形態の塗布装置60(2)は、図8(a)に示した実施形態2の塗布装置60(1)と比べ、カバーガラス40に対する樹脂粒子41の塗布形態が異なる。具体的には、塗布装置に備えられた塗布機の構成が異なる。
実施形態3では、図9に基づいて、液体の接着剤をカバーガラス40に塗布する他の構成について説明する。図9は、塗布装置60(2)の概要を示す図である。本実施形態の塗布装置60(2)は、図8(a)に示した実施形態2の塗布装置60(1)と比べ、カバーガラス40に対する樹脂粒子41の塗布形態が異なる。具体的には、塗布装置に備えられた塗布機の構成が異なる。
本実施の形態の塗布機58(2)は、その先端にインク供給部61とヘッド62とが設けられている。詳しくは、ヘッド62は、インク供給部61に可動に設けられている。図9に例示する構成では、インク供給部61は球形であり、その外周にそって動くことができるように、ヘッド62がインク供給部61に設けられている。これにより、ヘッド62は、塗布機58(2)の前記先端において回動可能となっている。
ヘッド62が回動可能であるため、ヘッド62は、例えばヘッド62とカバーカラス40との位置関係に応じて、適宜ヘッド62の角度を変えることができる。これにより、例えば図9に示すようにカバーガラス40のX方向における両端が湾曲している場合、樹脂粒子41(1)の吐出方向(図9の矢印Q)とカバーガラス40の表面との角度を、90度近傍に保ちやすくなる。
具体的なヘッド62の動きは、例えば次のようになる。塗布機58(2)がY軸のマイナス側からプラス側に移動する場合(図9の矢印P)、ヘッド62の傾斜方向は、塗布機58(2)の移動に伴い、X軸のマイナス方向 → Y軸のマイナス方向(鉛直方向) → X軸のプラス方向へと順に変化する。
これにより、カバーガラス40のY軸マイナス側の縦面(第一縦面40(2))に対して樹脂粒子41(1)の吐出する場合、ヘッド62がX軸のマイナス方向に傾斜することで、カバーガラス40に対して90度に近い方向から樹脂粒子41(1)を吐出することができる。そして、塗布機58(2)が矢印P方向に動き、平坦面40(3)にさしかかると、ヘッド62はY軸のマイナス方向(鉛直方向)に向く。続いて、塗布機58(2)が、カバーガラス40のY軸プラス側の縦面(第二縦面40(4))にさしかかると、ヘッド62はX軸のプラス方向に傾斜する。
以上のように、ヘッド62がカバーガラス40の曲面に沿って回動することで、樹脂粒子41(1)の吐出方向(図9の矢印Q)と、カバーガラス40の表面との角度をほぼ90度に保ちながら、カバーガラス40に樹脂粒子41(1)の吐出することができる。
これにより、カバーガラス40の全面にわたって樹脂粒子41(1)を均一に吐出することが可能となり、よってより均一なOCA樹脂層41(2)の形成が容易になる。
(実施形態4)
実施形態4では、図10(a)及び(b)に基づいて、液体の接着剤をカバーガラス40に塗布する他の構成について説明する。図10(a)及び(b)は、本実施形態の塗布装置60(3)の概要を示す図であり、図10(a)は塗布中を示し、図10(b)は塗布後を示す。実施形態4が実施形態2と相違する点は、塗布機58(3)にXY軸駆動機構59(1)が設けられている点である。
実施形態4では、図10(a)及び(b)に基づいて、液体の接着剤をカバーガラス40に塗布する他の構成について説明する。図10(a)及び(b)は、本実施形態の塗布装置60(3)の概要を示す図であり、図10(a)は塗布中を示し、図10(b)は塗布後を示す。実施形態4が実施形態2と相違する点は、塗布機58(3)にXY軸駆動機構59(1)が設けられている点である。
図10(a)に示すように、塗布機58(3)がX軸方向及びY軸方向に可動な場合には、例えば塗布機58(3)が備える吐出口が1個である場合でも、塗布機58(3)をX軸方向及びY軸方向(直交する二方向)に移動させながら樹脂粒子41(1)を吐出することで(図10(a)の矢印S)、カバーガラス40表面の全面に、樹脂粒子41(1)を塗布することができる。
これにより、塗布機58(3)の吐出口の数を1個にするなど、塗布機58(3)の構成を簡素化することができる。
なお、XY軸駆動機構の具体的な構成は特には限定されない。例えば、塗布機58(3)の上部にXY可動機構を設け、それに塗布機58(3)を設置してもよい。
(実施形態5)
実施形態5では、図11(a)及び(b)に基づいて、液体の接着剤をカバーガラス40に塗布する他の構成について説明する。図11(a)及び(b)は、本実施形態の塗布装置60(4)の概要を示す図であり、図11(a)は塗布中を示し、図11(b)は塗布後を示す。実施形態5が実施形態2と相違する点は、ステージ46にXY軸駆動機構59(2)が設けられている点である。
実施形態5では、図11(a)及び(b)に基づいて、液体の接着剤をカバーガラス40に塗布する他の構成について説明する。図11(a)及び(b)は、本実施形態の塗布装置60(4)の概要を示す図であり、図11(a)は塗布中を示し、図11(b)は塗布後を示す。実施形態5が実施形態2と相違する点は、ステージ46にXY軸駆動機構59(2)が設けられている点である。
図11(a)に示すように、ステージ46がX軸方向及びY軸方向に可動な場合には、例えば塗布機58(3)が備える吐出口が1個で、固定されている場合でも、ステージ46をX軸方向及びY軸方向(直交する二方向)に移動させながら、塗布機58(4)から樹脂粒子41(1)を吐出することで(図11(a)の矢印T)、カバーガラス40表面の全面に、樹脂粒子41(1)を塗布することができる。
これにより、塗布機58(3)の吐出口の数を1個にするなど、塗布機58(3)の構成を簡素化することができる。
なお、XY軸駆動機構の具体的な構成は特には限定されない。例えば、ステージ46の下方にXY可動機構を設け、それにステージ46を設置してもよい。
(まとめ)
本発明の態様1に係る貼り付け方法は、曲面を有する基材にフィルムを貼り付ける方法であって、前記基材は、ステージに配置されており、前記基材と前記フィルムとが、前記ステージとローラーとにより圧接されることで前記貼り付けが行われ、前記ステージが移動することで、前記フィルムの全面に渡って前記圧接が行われる。
本発明の態様1に係る貼り付け方法は、曲面を有する基材にフィルムを貼り付ける方法であって、前記基材は、ステージに配置されており、前記基材と前記フィルムとが、前記ステージとローラーとにより圧接されることで前記貼り付けが行われ、前記ステージが移動することで、前記フィルムの全面に渡って前記圧接が行われる。
本発明の態様2に係る貼り付け方法は、前記ステージが、前記曲面に合わせて傾斜する。
本発明の態様3に係る貼り付け方法は、前記圧接の方向が前記曲面の法線に近づくように、前記傾斜をする。
本発明の態様4に係る貼り付け方法は、前記基材が、表示体のカバーガラスである。
本発明の態様5に係る貼り付け方法は、前記フィルムが、粘着性フィルムである。
本発明の態様6に係る貼り付け装置は、ローラーとステージとを備え、基材にフィルムを貼り付ける貼り付け装置であって、前記基材は、ステージに配置されており、前記基材と前記フィルムとが、前記ステージと前記ローラーとにより圧接されることで前記貼り付けが行われ、前記ステージが移動することで、前記フィルムの全面に渡って前記圧接が行われる。
本発明の態様7に係る塗布方法は、曲面を有する基材に接着層を設ける塗布方法であって、前記基材は、ステージに配置されており、前記基材に樹脂粒子を塗布することで前記接着層を設ける。
本発明の態様8に係る塗布方法は、前記基材の一方向に於ける幅に対して一度に前記塗布が可能であり、前記一方向に直交する方向に前記塗布を進めることで、前記基材の全面に前記接着層を設ける。
本発明の態様9に係る塗布方法は、前記塗布の位置は、前記基板上の直交する2方向に移動可能である。
本発明の態様10に係る塗布方法は、前記ステージは、直交する2方向に移動可能である。
本発明の態様11に係る塗布方法は、上記塗布は、ピエジェット式又はメカニカルジェット式である。
本発明の態様12に係る貼り付け方法は、前記基材が、表示体のカバーガラスである。
本発明の態様13に係る塗布装置は、ステージと塗布機とを備え、基材に接着層を設ける塗布装置であって、前記基材は、ステージに配置されており、前記塗布機が樹脂粒子を前記基材に吐出する。
本発明の態様14に係る塗布装置は、前記塗布機には、前記樹脂粒子を吐出するヘッドが設けられており、前記ヘッドは、回動可能である。
本発明の態様15に係る塗布装置は、前記ヘッドは、前記基材の曲面に沿って回動する。
本発明の態様16に係る塗布装置は、前記塗布機は、XY軸駆動機構を備えており、
前記基板上の直交する2方向に移動可能である。
前記基板上の直交する2方向に移動可能である。
本発明の態様17に係る塗布装置は、前記ステージは、XY軸駆動機構を備えており、
前記基板上の直交する2方向に移動可能である。
前記基板上の直交する2方向に移動可能である。
本発明の態様18に係る塗布装置は、上記塗布機は、ピエジェット式又はメカニカルジェット式の塗布機である。
(付記事項)
本発明は前記した実施形態に限定されるものではなく、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
本発明は前記した実施形態に限定されるものではなく、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
2 ELデバイス
4 TFT層
3 無機バリア膜
5 発光素子層(表示体)
6 封止層
7 積層体
8、11 接着層
9 保護材
10 支持材
12 樹脂層
13 剥離層
15 半導体膜
16 ゲート絶縁膜
16、18、20 無機絶縁膜
21 平坦化膜
22 アノード電極
23b バンク
23c 隔壁
24 EL層
25 カソード電極
26 第1無機封止膜
26、28 無機封止膜
27 有機封止膜
28 第2無機封止膜
39 機能フィルム
40 カバーガラス(基材)
40(1) 内側面(被貼り付け面)
40(2) 第一縦面
40(3) 平坦面
40(4) 第二縦面
41 接着層
(OCA:Optical Clear Adhesive、貼り付け部材、粘着性フィルム)
41(1) OCA 樹脂粒子
41(2) OCA 樹脂層
42 粘着シート(AS:Adhesive Sheet、保持シート)
46 ステージ
47(1)、(2)、(3)、(4) 貼り付け装置
50 マザー基板
52 ローラー
52(1) ローラー
54 テンション制御装置
55 テンションローラー
57 キャリアテープ
58(1)、(2)、(3)、(4) 塗布機
59(1)、(2) XY軸駆動機構
60(1)、(2)、(3)、(4) 塗布装置
61 インク供給部
62 ヘッド
DA アクティブ領域
NA 非アクティブ領域
4 TFT層
3 無機バリア膜
5 発光素子層(表示体)
6 封止層
7 積層体
8、11 接着層
9 保護材
10 支持材
12 樹脂層
13 剥離層
15 半導体膜
16 ゲート絶縁膜
16、18、20 無機絶縁膜
21 平坦化膜
22 アノード電極
23b バンク
23c 隔壁
24 EL層
25 カソード電極
26 第1無機封止膜
26、28 無機封止膜
27 有機封止膜
28 第2無機封止膜
39 機能フィルム
40 カバーガラス(基材)
40(1) 内側面(被貼り付け面)
40(2) 第一縦面
40(3) 平坦面
40(4) 第二縦面
41 接着層
(OCA:Optical Clear Adhesive、貼り付け部材、粘着性フィルム)
41(1) OCA 樹脂粒子
41(2) OCA 樹脂層
42 粘着シート(AS:Adhesive Sheet、保持シート)
46 ステージ
47(1)、(2)、(3)、(4) 貼り付け装置
50 マザー基板
52 ローラー
52(1) ローラー
54 テンション制御装置
55 テンションローラー
57 キャリアテープ
58(1)、(2)、(3)、(4) 塗布機
59(1)、(2) XY軸駆動機構
60(1)、(2)、(3)、(4) 塗布装置
61 インク供給部
62 ヘッド
DA アクティブ領域
NA 非アクティブ領域
Claims (18)
- 曲面を有する基材にフィルムを貼り付ける方法であって、
前記基材は、ステージに配置されており、
前記基材と前記フィルムとが、前記ステージとローラーとにより圧接されることで前記貼り付けが行われ、
前記ステージが移動することで、前記フィルムの全面に渡って前記圧接が行われる貼り付け方法。 - 前記ステージが、前記曲面に合わせて傾斜する請求項1に記載の貼り付け方法。
- 前記圧接の方向が前記曲面の法線に近づくように、前記傾斜をする請求項2に記載の貼り付け方法。
- 前記基材が、表示体のカバーガラスである請求項1から3の何れか1項に記載の貼り付け方法。
- 前記フィルムが、粘着性フィルムである請求項1から4の何れか1項に記載の貼り付け方法。
- ローラーとステージとを備え、基材にフィルムを貼り付ける貼り付け装置であって、
前記基材は、ステージに配置されており、
前記基材と前記フィルムとが、前記ステージと前記ローラーとにより圧接されることで前記貼り付けが行われ、
前記ステージが移動することで、前記フィルムの全面に渡って前記圧接が行われる貼り付け装置。 - 曲面を有する基材に接着層を設ける塗布方法であって、
前記基材は、ステージに配置されており、
前記基材に樹脂粒子を塗布することで前記接着層を設ける塗布方法。 - 前記基材の一方向に於ける幅に対して一度に前記塗布が可能であり、
前記一方向に直交する方向に前記塗布を進めることで、前記基材の全面に前記接着層を設ける請求項7に記載の塗布方法。 - 前記塗布の位置は、前記基板上の直交する2方向に移動可能である請求項7に記載の塗布方法。
- 前記ステージは、直交する2方向に移動可能である請求項7から9の何れか1項に記載の塗布方法。
- 上記塗布は、ピエジェット式又はメカニカルジェット式である請求項7から10の何れか1項に記載の塗布方法。
- 前記基材が、表示体のカバーガラスである請求項7から11の何れか1項に記載の塗布方法。
- ステージと塗布機とを備え、基材に接着層を設ける塗布装置であって、
前記基材は、ステージに配置されており、
前記塗布機が樹脂粒子を前記基材に吐出することで前記接着層を設ける塗布装置。 - 前記塗布機には、前記樹脂粒子を吐出するヘッドが設けられており、
前記ヘッドは、回動可能である請求項13に記載の塗布装置。 - 前記ヘッドは、前記基材の曲面に沿って回動する、請求項14に記載の塗布装置。
- 前記塗布機は、XY軸駆動機構を備えており、
前記基板上の直交する2方向に移動可能である請求項13から15の何れか1項に記載の塗布装置。 - 前記ステージは、XY軸駆動機構を備えており、
前記基板上の直交する2方向に移動可能である請求項13から15の何れか1項に記載の塗布装置。 - 上記塗布機は、ピエジェット式又はメカニカルジェット式の塗布機である請求項13から17の何れか1項に記載の塗布装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/463,010 US20190280208A1 (en) | 2017-07-27 | 2017-07-27 | Bonding method and coating device |
PCT/JP2017/027215 WO2019021417A1 (ja) | 2017-07-27 | 2017-07-27 | 貼り付け方法、貼り付け装置、塗布方法及び塗布装置。 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/027215 WO2019021417A1 (ja) | 2017-07-27 | 2017-07-27 | 貼り付け方法、貼り付け装置、塗布方法及び塗布装置。 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2019021417A1 true WO2019021417A1 (ja) | 2019-01-31 |
Family
ID=65039517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/027215 WO2019021417A1 (ja) | 2017-07-27 | 2017-07-27 | 貼り付け方法、貼り付け装置、塗布方法及び塗布装置。 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190280208A1 (ja) |
WO (1) | WO2019021417A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110930882A (zh) * | 2019-12-02 | 2020-03-27 | Oppo(重庆)智能科技有限公司 | 一种柔性显示面板贴合装置及方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0745186A (ja) * | 1993-07-28 | 1995-02-14 | Asahi Glass Co Ltd | 3次元曲面上へのフィルム積層方法 |
JP2007115560A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 異方導電フィルム及びその製造方法 |
WO2010018628A1 (ja) * | 2008-08-13 | 2010-02-18 | 富士通株式会社 | フィルム貼着装置及びフィルム貼着方法及び電子ペーパの製造方法 |
JP2016042121A (ja) * | 2014-08-15 | 2016-03-31 | 旭硝子株式会社 | 貼合方法及び貼合装置 |
JP2016078352A (ja) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | オリジン電気株式会社 | 接合部材の製造方法及び接合部材の製造装置 |
JP2016179600A (ja) * | 2015-03-24 | 2016-10-13 | 株式会社Fuk | 貼付装置 |
JP2016186328A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-27 | Nok株式会社 | プレート一体ガスケットの接着剤塗布方法 |
-
2017
- 2017-07-27 WO PCT/JP2017/027215 patent/WO2019021417A1/ja active Application Filing
- 2017-07-27 US US16/463,010 patent/US20190280208A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0745186A (ja) * | 1993-07-28 | 1995-02-14 | Asahi Glass Co Ltd | 3次元曲面上へのフィルム積層方法 |
JP2007115560A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 異方導電フィルム及びその製造方法 |
WO2010018628A1 (ja) * | 2008-08-13 | 2010-02-18 | 富士通株式会社 | フィルム貼着装置及びフィルム貼着方法及び電子ペーパの製造方法 |
JP2016042121A (ja) * | 2014-08-15 | 2016-03-31 | 旭硝子株式会社 | 貼合方法及び貼合装置 |
JP2016078352A (ja) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | オリジン電気株式会社 | 接合部材の製造方法及び接合部材の製造装置 |
JP2016179600A (ja) * | 2015-03-24 | 2016-10-13 | 株式会社Fuk | 貼付装置 |
JP2016186328A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-27 | Nok株式会社 | プレート一体ガスケットの接着剤塗布方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110930882A (zh) * | 2019-12-02 | 2020-03-27 | Oppo(重庆)智能科技有限公司 | 一种柔性显示面板贴合装置及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190280208A1 (en) | 2019-09-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US12010907B2 (en) | Display apparatus | |
US11502154B2 (en) | Display apparatus and method for manufacturing the same | |
CN110993829B (zh) | 支撑体供应装置、叠层体制造装置 | |
US10175514B2 (en) | Method for manufacturing display panel | |
CN107079543B (zh) | 有机el显示单元及其制造方法以及电子设备 | |
WO2018179261A1 (ja) | 貼り付け方法及び貼り付け装置 | |
KR102035462B1 (ko) | 슬릿코터 및 이의 구동방법, 이를 이용한 플렉서블 표시장치 및 이의 제조방법 | |
JP6632410B2 (ja) | 表示装置、及びその製造方法 | |
US20170338441A1 (en) | Display device and manufacturing method thereof | |
JP2018534620A (ja) | 偏光板一体型のウィンドウ基板及びその製造方法 | |
TW201621978A (zh) | 元件製造方法及轉印基板 | |
US20230165121A1 (en) | Organic light emitting diode display panel and display device | |
KR20180126108A (ko) | 플렉서블 표시 장치 및 이의 제조 방법 | |
JP4870020B2 (ja) | テープ貼付装置 | |
WO2019021417A1 (ja) | 貼り付け方法、貼り付け装置、塗布方法及び塗布装置。 | |
WO2018179216A1 (ja) | Elデバイスの製造方法 | |
KR100615217B1 (ko) | 평판표시장치의 제조방법 | |
WO2021159574A1 (zh) | 一种柔性显示面板、显示装置及显示装置制备方法 | |
WO2019069352A1 (ja) | 表示デバイスの製造方法、表示デバイスの製造装置 | |
WO2018158841A1 (ja) | Elデバイスの製造方法、elデバイス、elデバイスの製造装置、実装装置 | |
JP5275433B2 (ja) | テープ貼付装置 | |
WO2020213069A1 (ja) | フレキシブル表示装置、フレキシブル表示装置の製造方法及びフォルダブル表示装置 | |
WO2019186771A1 (ja) | 表示デバイスの製造方法 | |
US20220199940A1 (en) | Display device | |
WO2019064532A1 (ja) | 表示素子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 17919227 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 17919227 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: JP |