WO2019002737A1 - Glazing with solar protection properties comprising a titanium oxynitride layer - Google Patents

Glazing with solar protection properties comprising a titanium oxynitride layer Download PDF

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WO2019002737A1
WO2019002737A1 PCT/FR2018/051536 FR2018051536W WO2019002737A1 WO 2019002737 A1 WO2019002737 A1 WO 2019002737A1 FR 2018051536 W FR2018051536 W FR 2018051536W WO 2019002737 A1 WO2019002737 A1 WO 2019002737A1
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titanium
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nanometers
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Laura SINGH
Corentin MONMEYRAN
Vincent Reymond
Rémy DODET
Jean LORENZZI
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Saint-Gobain Glass France
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Definitions

  • the invention relates to the field of substrates or glassware, the glazing type of buildings or automobiles, comprising on their surface coatings of the type thin layers conferring antisolar or low-emissive properties.
  • Glazing means for the purposes of the present invention any glass product consisting of one or more glass substrates, especially single glazing, double glazing, triple glazing etc.
  • the present invention relates in particular to laminated glazings comprising at least two glass substrates interconnected by a layer of plastic material such as PVB (polyvinyl butyral) or PU (polyurethane).
  • sunscreen means the ability of the glazing to limit the energy flow, in particular Infrared (IR) radiation, passing from the outside towards the interior of the dwelling or the passenger compartment, while by maintaining a light transmission allowing vision at least from the inside to the outside of the building or the cabin that it equips.
  • IR Infrared
  • Low-emissive stacking is understood to mean stacks incorporating at least one functional layer operating essentially in the reflection mode of a major part of the average IR (infrared) radiation.
  • Such glazings provided with stacks of thin layers thus act on the incident solar radiation and allow sun protection and / or thermal insulation of the passenger compartment or dwelling.
  • these coatings must be aesthetically pleasing, that is to say that they must have a colorimetry, in transmission as in reflection, sufficiently neutral so as not to inconvenience users or alternatively a blue or green tint, especially in the building field.
  • other glazings according to the invention may have another color in external reflection, especially bronze or any other desired color, or even have a reflective appearance from the outside of the building.
  • These coatings are conventionally deposited by CVD type deposition techniques for the simplest or most often at present by vacuum deposition techniques, often called magnetron in the field, especially when the coating is consisting of a more complex stack of successive layers.
  • the thin-film stacks having solar control properties comprise one or more active layers.
  • active or functional layer is meant a layer acting significantly on the solar or thermal radiation flow through said glazing.
  • Such an active layer in a known manner, can operate either mainly in the incident infrared radiation reflection mode, or mainly in the incident infrared radiation absorption mode.
  • the most efficient stacks marketed at present incorporate at least one silver-like metal layer operating essentially in the mode of reflection of a major part of the incident IR (infrared) radiation.
  • IR infrared
  • a strong reflection of the average infra-red radiation also confers the property of low emissivity.
  • these layers are very sensitive to moisture and are therefore exclusively used in double glazing, on face 2 or 3 of it to be protected from moisture.
  • the stacks according to the invention do not include such layers of the Silver type (in particular gold, platinum, copper, aluminum).
  • the selectivity is most often expressed as the ratio between the light transmittance factor and the solar factor g (or FS). These quantities are in particular defined in the standard NF EN 410.
  • the light transmittance or light transmission factor T L corresponds to the percentage of the incident light flux, that is to say in the wavelength range 380 to 780 nm, passing through the glazing, according to FIG. Illuminant D65.
  • the solar factor g is equal to the ratio of the energy passing through the glazing (that is to say entering the room) and incident solar energy. More particularly, it corresponds to the sum of the flux transmitted directly through the glazing and the flux absorbed by the glazing (including the stacks of layers possibly present at one of its surfaces) and then re-emitted inwards (the local).
  • the object of the present invention is thus to provide glazings comprising a stack of layers giving them antisolar properties, preferably with low emissivity (ie far infrared reflection) properties, for example a normal emissivity of less than 0.5, or even less than 0.4 and having a high selectivity, in the sense previously described, that is to say an optimized ratio T L / g, especially close to 1, or even greater than 1 said stack being durable in time without any particular precaution.
  • low emissivity ie far infrared reflection
  • emissivity is meant the normal emissivity and as measured in Annex A of ISO 10292 (1994).
  • Glazing according to a first aspect of the present invention thus advantageously makes it possible to select the radiation passing through it, by promoting the transmission of light waves in the visible range, that is to say the wavelength of which is between approximately 380 and 780 nm, by absorbing and / or selectively reflecting the majority of infrared radiation, that is to say whose wavelength is greater than 780 nm, in particular near infrared, that is to say whose wavelength is between about 780 nm and about 3000 nm, and reflecting the average infrared, from 3 pm to 50 pm.
  • the glazings according to this first aspect of the present invention have a light transmission.
  • sunscreen glazing whose said stack confers on said glazing a transmission color and substantially neutral external reflection or a blue-green shade, such as sought in particular in the building sector .
  • neutral color is understood to mean, in the colorimetry system (L *, a *, b *), values b * and values a * close to zero, in particular less than 10, or even less than to 5, in absolute values.
  • blue-green color is understood to mean, in the colorimetry system (L *, a *, b *), b * negative values, in particular less than -10, or even less than -15 and values a * close to zero, in particular less than 10, or even less than 5, in absolute values.
  • the sunscreen according to the invention is a laminated glazing in the sense previously described, it also becomes possible to obtain neutral colors, in particular whose values of parameters a * and b * are less than 5, in absolute values.
  • the present invention makes it possible to provide glazings having such a mirror effect, that is to say a strong external reflection, in the sense previously described, as well as the maintaining antisolar properties and preserving a relatively high selectivity, as previously described, ie an optimized ratio T L / g, in particular of the order of 1 or slightly less than 1, and in all substantially improved state of the art compared to the glazing proposed in WO01 / 21540 application cited above.
  • the applicant company has discovered that such objectives can be achieved by the use on glass substrates of stackings of layers including all the functional layers, that is to say all the layers of the reflective stack.
  • absorbing most of the solar infrared radiation are layers of titanium oxynitride.
  • very good values of emissivity, selectivity and colorimetry in the sense previously described, could be obtained in such stacks thanks to the action of such layers, for oxygen and nitrogen levels controlled and as described later.
  • the present invention relates to an antisolar glass article comprising at least one glass substrate and a stack of layers deposited on at least one face of said substrate, said layer stack comprising at least one titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , wherein 1.00 ⁇ x ⁇ 1.20 and wherein 0.01 ⁇ y ⁇ 0.10, said stack of layers consisting, in addition to said titanium oxynitride layer (s), of layers of dielectric materials and optionally metal layers based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements or nitride layers of such metals.
  • dielectric material any material whose solid form devoid of impurities has a resistivity initially greater than 10 10 ohm meters ( ⁇ . ⁇ ).
  • Such materials once deposited in thin layers, may however comprise elements additional significantly increasing their electrical conductivity, useful in particular to improve the sputtering efficiency of the precursor material constituting the magnetron target.
  • silicon nitride layers used in the stack according to the invention may comprise a small amount of aluminum, the metallic silicon target conventionally used during sputtering, for example generally comprising from 6 to 10% by weight. of aluminum, to increase the conductivity.
  • the thickness of the layer (s) of titanium oxynitride is between 10 and 80 nanometers, in particular between 10 and 60 nanometers, and especially between 15 and 50 nanometers.
  • the stack also incorporates, beneath and / or above the titanium oxynitride layer, one or more layers of dielectric materials.
  • the dielectric material or materials are selected from silicon nitride optionally doped with Al, Zr, B, aluminum nitride, tin oxide, a zinc or tin mixed oxide Sn y Zn z O x , silicon oxide, titanium oxide, silicon oxynitrides SiO x N y .
  • the dielectric material is silicon nitride, optionally doped with Al, Zr, B.
  • the stack also incorporates, beneath and / or possibly above, the titanium oxynitride layer, a layer of a metal, possibly partially or totally oxidized and / or nitrided, said metal being based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer having for example a thickness of less than 10 nm, especially less than 5 nm, in particular of thickness less than 3 nm.
  • the metal is selected from Ti, Nb or an alloy of nickel and chromium, said metal or alloy being optionally nitrided. Most preferably, the metal is an alloy of nickel and chromium, optionally and more preferably nitrided.
  • the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
  • a layer based on silicon nitride preferably between 20 and 80 nm thick, preferably between 25 and 70 nm thick,
  • a layer of a metal possibly partially or completely oxidized and / or nitrided, said metal being based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer having for example a thickness less than 10 nm, or even less than 5 nm, or even less than 3 nm,
  • said titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y with a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 15 and 60 nanometers, and more preferably between 15 and 50 nanometers,
  • a layer of a metal possibly partially or completely oxidized and / or nitrided, said metal being based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer having for example a thickness less than 10 nm, or even less than 6 nm, or even less than 5 nm or even less than 3 nm, a layer based on silicon nitride, having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
  • the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
  • a layer based on silicon nitride having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
  • a first titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y in which 1.00 ⁇ x ⁇
  • a layer based on silicon nitride having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
  • a second titanium oxynitride layer of the general formula TiN x O y in which 1.00 ⁇ x ⁇ 1.20 and in which 0.01 ⁇ y ⁇ 0.10, with a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 20 and 60 nanometers, and more preferably between 30 and 50 nanometers,
  • a layer based on silicon nitride having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
  • the article is a glazing comprising only one glass substrate.
  • - Said article has undergone a heat treatment such as quenching, bending or annealing, in particular performed by a laser.
  • thermoplastic sheet in particular polyvinyl butyral (PVB).
  • the glass article having an antisolar function comprises at least one glass substrate and a stack of layers deposited on at least one face of said substrate, and said stack of layers comprises at least:
  • a first titanium oxynitride layer of the general formula TiN x O y in which 1.00 ⁇ x ⁇ 1.20 and in which 0.01 ⁇ y ⁇ 0.10, the thickness of said first layer of titanium oxynitride being between 10 and 80 nanometers,
  • a second metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said second layer possibly being nitrided,
  • said second layer being disposed between the first titanium oxynitride layer and said face of said substrate or above the first titanium oxynitride layer in the stack.
  • the stack consists of said at least first and second layers and layers of dielectric materials and preferably the second layer is disposed between the first layer of titanium oxynitride and said face of said substrate.
  • the thickness of said first layer of oxynitride titanium is especially between 10 and 30 nanometers, and especially between 10 and 25 nanometers.
  • the thickness of said second optionally nitrided metal layer is advantageously between 3 and 15 nm, in particular between 5 and 10 nanometers.
  • the thickness of said first layer is greater than the thickness of said second layer by a factor at least equal to 1.3, preferably by a factor equal to at least 1.5 or even by a factor of at least 2, or at least 2.5.
  • the second metal layer is deposited directly on said face of said substrate.
  • Said first and said second layers are preferably in contact with each other.
  • said first and second layers may be separated by at least one layer of dielectric material.
  • the dielectric material or materials are chosen from silicon nitride optionally doped with Al, Zr, B, aluminum nitride, tin oxide, a mixed zinc oxide or Sn tin oxide. y Zn z O x, silicon oxide, titanium oxide, silicon oxynitride SiO x N y.
  • the dielectric material is silicon nitride, optionally doped with Al, Zr, B.
  • the second layer is a layer of nickel and chromium, preferably nitrided.
  • said stack consists of a succession of said first and second layers and possibly layers of dielectric materials separating said first and second layers.
  • the invention relates to a glass article as described above, in which the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
  • At least said second metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, preferably nitrided, said layer preferably having a thickness of between 3 and 15 nanometers, preferably between 5 and 10 nanometers, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, preferably nitrided,
  • one or more lower layers of dielectric materials in particular based on silicon nitride, having a total thickness of between 10 and 120 nm,
  • At least one metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements said layer possibly being nitrided, said layer having for example a thickness of less than 10 nm, or even less than 5 nm, or even less than 3 nm, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, preferably nitrided, one or more upper layers of dielectric materials, in particular based on silicon nitride, with a total physical thickness of between 10 and 100 nm,
  • the invention relates to a glass article as described above, in which the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
  • a titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y in which 0.01 ⁇ y ⁇ 0.10, preferably 0.02 ⁇ y ⁇ 0.08 and in which 1.00 ⁇ x ⁇ 1, 20, preferably 1.05 ⁇ x ⁇ 1.18, of thickness between 10 and 80 nm, preferably between 10 and 30 nanometers, and more preferably between 10 and 25 nanometers,
  • a layer based on silicon nitride having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
  • the invention relates to a glass article in which the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
  • a layer based on silicon nitride with a thickness of between 50 and 120 nm, preferably between 70 and 100 nm,
  • a titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y in which 0.01 ⁇ y ⁇ 0.10, preferably 0.02 ⁇ y ⁇ 0.08 and in which 1.00 ⁇ x ⁇ 1, 20, preferably 1.05 ⁇ x ⁇ 1.18, with a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 10 and 50 nanometers, and more preferably between 10 and 30 nanometers,
  • a layer based on silicon nitride with a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 30 and
  • Said article as described above may be glazing comprising only one glass substrate, said stack being disposed on at least one face of said glazing.
  • Such an article may have undergone a treatment thermal such as quenching, bending or annealing.
  • said article is a laminated glazing constituted by a set of at least two glass substrates interconnected by a thermoplastic sheet, in particular polyvinyl butyral (PVB), said stack preferably being disposed on at least one face of one of the glass substrates facing inwardly of said laminated glazing.
  • PVB polyvinyl butyral
  • the glass article according to the invention may be a laminated glazing unit, a double glazing unit (consisting of two glass panels separated by a gas strip) or else an assembly of a composite glazing unit consisting of a laminated glazing unit as previously described. included in a double glazed structure.
  • All layers of the stacks were deposited using conventional magnetron sputtering vacuum deposition techniques.
  • Example 1 According to a first series of experiments (examples 1 to 5 which follow), it is demonstrated the possibility according to the invention to obtain glazings having a high light transmission (close to 50%) while preserving a high selectivity and good properties sunscreen.
  • Example 1 (according to the invention):
  • the TiN x O y layer is obtained by the magnetron sputtering technique from a titanium metal target in an atmosphere very essentially of nitrogen and argon, but containing an amount of oxygen of the order of 2% in volume.
  • the silicon nitride layers are deposited according to conventional techniques in the field, from a silicon target comprising 8% by weight of aluminum in a nitrogen and argon atmosphere.
  • the glazing thus obtained is used as single glazing or as a first substrate for obtaining laminated glazing by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet. stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
  • Example 2 the procedure was identical to Example 1 and obtained a substantially identical stack, except that the nitrogen flow rate in the spray chamber was increased to 800 sccm, so as to increase the value. of x.
  • the glazing thus obtained is used as single glazing or as a first substrate for obtaining laminated glazing by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
  • the TiN x O y layer is obtained by magnetron sputtering from a titanium metal target in an atmosphere very essentially of nitrogen and argon, but containing an amount of oxygen of the order of 2% by volume .
  • the glazing thus obtained is used as single glazing or as first substrate for obtaining a laminated laminated glazing with another Planilux®-type glass substrate by means of a PVB sheet, the stack being placed between the two glass substrates in the final glazing.
  • Example 3 it was practiced identically to Example 3 and obtained a substantially identical stack, except that was introduced into the spray chamber a higher amount of oxygen, of the order of 5% in volume in the atmosphere essentially nitrogen and argon.
  • the glazing thus obtained is used as single glazing (S) or as first substrate for obtaining a laminated glazing unit (F) by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
  • a glazing unit of the depositing company marketed under the reference Cool-Lite ST120 whose stack comprises a layer of nitride of niobium as a reflective / absorbing layer of solar radiation, surrounded by two layers of silicon nitride.
  • the glazing thus obtained is used as single glazing (S) or as a first substrate for obtaining a laminated glazing unit (F) by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
  • Table 2 Comparison of the data reported in Tables 1 and 2 shows that greater selectivity is obtained when the stack in question comprises a functional layer whose nitrogen content x is in accordance with the invention, as shown by the comparison of Examples 1 and 2, while the best emissivity, i.e. the lowest emissivity, is obtained for lower oxygen levels, as shown in the comparison of Examples 3 and 4.
  • the present invention allows the optimization of these two parameters, high selectivity and low emissivity.
  • the applicant company has been able to show, through the examples reported in the present application, that in such layers of titanium oxynitride the very precise control of the composition of said layer, in particular the values of x and y , allowed to optimize both the selectivity and the emissivity of the glazing.
  • the substrate provided with its stack was also subjected to a heat treatment consisting of heating at 650 ° C. for a few minutes followed by quenching. This treatment is representative of the conditions experienced by the glazing if it must be soaked or bulging.
  • the parameters a * T and b * T remain relatively low, ensuring a relatively neutral color in transmission.
  • the parameter a * ex t according to the glazing according to the invention is relatively low and often negative, while the parameter b * is close to 0 for laminated glazing (neutral color reflection) is strongly negative for the simple glazing according to Example 1, which ensures a blue color of the glazing as sought in external vision.
  • Such colorimetric properties thus result in a neutral or blue-green color of the glazings in transmission but especially in external reflection, as currently sought in the field of building.
  • the sunscreen stacks according to the present invention whose active layer or layers are based on a titanium oxynitride are extremely simple to manufacture, in particular by the magnetron sputtering vacuum deposition technique.
  • a stack made up of the following sequence of layers is deposited on a Planilux®-type glass substrate:
  • the silicon nitride layers are deposited according to conventional techniques in the field, from a silicon target comprising 8% by weight of aluminum in a nitrogen and argon atmosphere.
  • NiCrN layer is deposited from the sputtering of a NiCr target in an argon and nitrogen atmosphere, the Ni and Cr elements being present in the target in the following proportions: 80% by weight Ni and 20 % by weight of Cr.
  • the main characteristics of the deposition process have been reported:
  • the glazing thus obtained can be used as single glazing or as a first substrate for obtaining laminated glazing by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
  • the layers of TiN x O y , NiCrN and S1 3 4 are obtained according to the same principles as previously discussed.
  • the glazing thus obtained is used as single glazing or as a first substrate for obtaining laminated glazing by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a sheet of glass. PVB, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
  • a glazing unit was used from the applicant company marketed under the reference Cool-Lite STB120 whose stack comprises a layer of niobium nitride as a reflective / absorbent layer of solar radiation, surrounded by two layers of silicon nitride.
  • Table 4 Comparison of the data reported in Table 4 shows that greater selectivity is obtained for a stack comprising the two layers in accordance with the present invention, that is to say for the stacking of Examples 6 and 7, and even equal to 1 for the stack according to Example 6, despite the presence of the highly reflective NiCrN layer.
  • the colorimetric characteristics of the glazing according to Examples 6 to 8 were also measured in the international system (CIE L * b * a *) in transmission and in external reflection (external side).
  • the parameter a * Rex t according to the glazing according to the invention is always relatively low and most often negative, while the parameter b * Rext is close to 0 for Example 6, which ensures a neutral color in reflection, strongly negative (example 7), which ensures a blue color in reflection as sought in the field of building.
  • Such colorimetric properties thus result in a neutral color of the glazings in transmission and a neutral color (example 6) or blue color (example 7) in external reflection, as currently sought in the field of the building.
  • the antisolar stacks according to the present invention are extremely simple to manufacture, in particular by the magnetron sputtering vacuum deposition technique.

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Abstract

The invention concerns a glass item with a solar protection function comprising at least one glass substrate and a stack of layers deposited on at least one face of said substrate, said stack of layers comprising a layer of titanium oxynitride of general formula TiNxOy, in which 1.00 < x < 1.20 and in which 0.01 < y < 0.10, said stack of layers further consisting of layers of dielectric materials and optionally of metal or nitrided layers made from chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements.

Description

VITRAGE A PROPRIETES ANTISOLAIRES COMPRENANT UNE COUCHE GLAZING WITH ANTISOLAR PROPERTIES COMPRISING A LAYER
D ' OXYNITRURE DE TITANE TITANIUM OXYNITRIDE
L'invention se rapporte au domaine des substrats ou articles verriers, du type vitrage de bâtiments ou automobiles, comprenant à leur surface des revêtements du type couches minces leur conférant des propriétés antisolaires voire bas-émissives . Par vitrage, on entend au sens de la présente invention tout produit verrier constitué par un ou plusieurs substrats verriers, en particulier les simples vitrages, les doubles vitrages, les triples vitrages etc. La présente invention se rapporte en particulier à des vitrages feuilletés comprenant au moins deux substrats verriers liés entre eux par une couche de matière plastique comme le PVB (polyvinylbutyral ) ou le PU (polyuréthane ) . Par antisolaire, on entend au sens de la présente invention la faculté du vitrage de limiter le flux énergétique, notamment du rayonnement Infrarouge (IR), le traversant depuis l'extérieur vers l'intérieur de l'habitation ou de l'habitacle, tout en conservant une transmission lumineuse permettant la vision au moins depuis l'intérieur vers l'extérieur du bâtiment ou de l'habitacle qu'il équipe. The invention relates to the field of substrates or glassware, the glazing type of buildings or automobiles, comprising on their surface coatings of the type thin layers conferring antisolar or low-emissive properties. Glazing means for the purposes of the present invention any glass product consisting of one or more glass substrates, especially single glazing, double glazing, triple glazing etc. The present invention relates in particular to laminated glazings comprising at least two glass substrates interconnected by a layer of plastic material such as PVB (polyvinyl butyral) or PU (polyurethane). For the purposes of the present invention, sunscreen means the ability of the glazing to limit the energy flow, in particular Infrared (IR) radiation, passing from the outside towards the interior of the dwelling or the passenger compartment, while by maintaining a light transmission allowing vision at least from the inside to the outside of the building or the cabin that it equips.
Par empilement bas-émissif, on entend des empilements incorporant au moins une couche fonctionnelle fonctionnant essentiellement sur le mode de la réflexion d'une majeure partie du rayonnement IR (infrarouge) moyen.  Low-emissive stacking is understood to mean stacks incorporating at least one functional layer operating essentially in the reflection mode of a major part of the average IR (infrared) radiation.
De tels vitrages munis d'empilements de couches minces agissent ainsi sur le rayonnement solaire incident et permettent une protection solaire et/ou une isolation thermique de l'habitacle ou de l'habitation. En outre, ces revêtements doivent être esthétiquement plaisants, c'est-à- dire qu'ils doivent présenter une colorimétrie, en transmission comme en réflexion, suffisamment neutre pour ne pas incommoder les utilisateurs ou alternativement une teinte bleue ou verte, notamment dans le domaine du bâtiment. Alternativement, d'autres vitrages selon l'invention peuvent présenter une autre couleur en réflexion extérieure, notamment bronze ou toute autre couleur recherchée, voire présenter un aspect réfléchissant vu de l'extérieur du bâtiment. Ces revêtements sont de façon classique déposés par des techniques de dépôt du type CVD pour les plus simples ou le plus souvent à l'heure actuelle par des techniques de dépôt par pulvérisation sous vide, souvent appelé magnétron dans le domaine, notamment lorsque le revêtement est constitué d'un empilement plus complexe de couches successives. Such glazings provided with stacks of thin layers thus act on the incident solar radiation and allow sun protection and / or thermal insulation of the passenger compartment or dwelling. In addition, these coatings must be aesthetically pleasing, that is to say that they must have a colorimetry, in transmission as in reflection, sufficiently neutral so as not to inconvenience users or alternatively a blue or green tint, especially in the building field. Alternatively, other glazings according to the invention may have another color in external reflection, especially bronze or any other desired color, or even have a reflective appearance from the outside of the building. These coatings are conventionally deposited by CVD type deposition techniques for the simplest or most often at present by vacuum deposition techniques, often called magnetron in the field, especially when the coating is consisting of a more complex stack of successive layers.
Le plus souvent les empilements en couches minces ayant des propriétés de contrôle solaire comprennent une voire plusieurs couches actives. Par couche active ou encore fonctionnelle, on entend une couche agissant de manière sensible sur le flux de rayonnement solaire ou thermique traversant ledit vitrage. Une telle couche active, de façon connue, peut fonctionner soit principalement en mode de réflexion du rayonnement infrarouge incident, soit principalement en mode d'absorption du rayonnement infrarouge incident.  Most often the thin-film stacks having solar control properties comprise one or more active layers. By active or functional layer is meant a layer acting significantly on the solar or thermal radiation flow through said glazing. Such an active layer, in a known manner, can operate either mainly in the incident infrared radiation reflection mode, or mainly in the incident infrared radiation absorption mode.
Notamment, les empilements les plus performants commercialisés à l'heure actuelle incorporent au moins une couche métallique du type argent fonctionnant essentiellement sur le mode de la réflexion d'une majeure partie du rayonnement IR (infrarouge) incident. Une forte réflexion du rayonnement infra-rouge moyen confère aussi la propriété de basse émissivité. Ces couches sont cependant très sensibles à l'humidité et sont donc exclusivement utilisées dans des doubles vitrages, en face 2 ou 3 de celui-ci pour être protégées de l'humidité. Les empilements selon l'invention ne comprennent pas de telles couches du type Argent (en particulier or, platine, cuivre, aluminium) . In particular, the most efficient stacks marketed at present incorporate at least one silver-like metal layer operating essentially in the mode of reflection of a major part of the incident IR (infrared) radiation. A strong reflection of the average infra-red radiation also confers the property of low emissivity. However, these layers are very sensitive to moisture and are therefore exclusively used in double glazing, on face 2 or 3 of it to be protected from moisture. The stacks according to the invention do not include such layers of the Silver type (in particular gold, platinum, copper, aluminum).
D'autres couches métalliques à fonction antisolaire ont également été décrites dans le domaine, comprenant des couches fonctionnelles du type Nb, Ta ou W ou des nitrures de ces métaux, tel que décrit par exemple dans la demande WO01/21540. Cependant, au sein de telles couches, le rayonnement solaire est cette fois absorbé et/ou réfléchi mais de manière peu sélective, c'est-à-dire que le rayonnement IR (dont la longueur d'onde est compris entre environ 780 nm et 2500 nm) et le rayonnement visible sont également absorbés/réfléchis de manière non sélective. De tels vitrages présentent ainsi pas ou peu de sélectivité, et présentent généralement une émissivité élevée.  Other metal layers with an antisolar function have also been described in the field, comprising functional layers of the Nb, Ta or W type or nitrides of these metals, as described for example in the application WO01 / 21540. However, within such layers, the solar radiation is this time absorbed and / or reflected but not very selectively, that is to say that the IR radiation (whose wavelength is between about 780 nm and 2500 nm) and visible radiation are also non-selectively absorbed / reflected. Such glazings thus have little or no selectivity, and generally have a high emissivity.
De manière classique dans le domaine des vitrages isolants, la sélectivité s'exprime le plus souvent comme le rapport entre le facteur de Transmission Lumineuse et le facteur solaire g (ou FS) . Ces grandeurs sont en particulier définies dans la norme NF EN 410.  Conventionally in the field of insulating glass, the selectivity is most often expressed as the ratio between the light transmittance factor and the solar factor g (or FS). These quantities are in particular defined in the standard NF EN 410.
De manière connue et classique, le facteur de transmission lumineuse ou transmission lumineuse TL correspond au pourcentage du flux lumineux incident, c'est- à-dire dans le domaine de longueurs d'onde 380 à 780 nm, traversant le vitrage, selon l'illuminant D65. In a known and conventional manner, the light transmittance or light transmission factor T L corresponds to the percentage of the incident light flux, that is to say in the wavelength range 380 to 780 nm, passing through the glazing, according to FIG. Illuminant D65.
De manière connue le facteur solaire g est lui égal au rapport de l'énergie traversant le vitrage (c'est-à-dire entrant dans le local) et de l'énergie solaire incidente. Plus particulièrement, il correspond à la somme du flux transmis directement à travers le vitrage et du flux absorbé par le vitrage (en y incluant les empilements de couches éventuellement présents à l'une de ses surfaces) puis éventuellement réémis vers l'intérieur (le local). In known manner the solar factor g is equal to the ratio of the energy passing through the glazing (that is to say entering the room) and incident solar energy. More particularly, it corresponds to the sum of the flux transmitted directly through the glazing and the flux absorbed by the glazing (including the stacks of layers possibly present at one of its surfaces) and then re-emitted inwards (the local).
D'une manière générale, toutes les caractéristiques lumineuses présentées dans la présente description sont obtenues selon les principes et méthodes décrits dans la norme européenne (et française) EN 410 se rapportant à la détermination des caractéristiques lumineuses et solaires des vitrages utilisés dans le verre pour la construction.  In general, all the luminous characteristics presented in the present description are obtained according to the principles and methods described in the European (and French) standard EN 410 relating to the determination of the luminous and solar characteristics of the glazings used in the glass for construction.
Le but de la présente invention est ainsi de fournir des vitrages comprenant un empilement de couches leur conférant des propriétés antisolaires, avec de préférence des propriétés de basse émissivité (c'est-à-dire de réflexion de l'infrarouge lointain), par exemple une émissivité normale inférieure à 0,5, voire inférieure à 0,4 et présentant une sélectivité élevée, au sens précédemment décrit, c'est-à-dire un rapport TL/g optimisé, notamment proche de 1, voire supérieur à 1, ledit empilement étant durable dans le temps sans précaution particulière. The object of the present invention is thus to provide glazings comprising a stack of layers giving them antisolar properties, preferably with low emissivity (ie far infrared reflection) properties, for example a normal emissivity of less than 0.5, or even less than 0.4 and having a high selectivity, in the sense previously described, that is to say an optimized ratio T L / g, especially close to 1, or even greater than 1 said stack being durable in time without any particular precaution.
Par émissivité, on entend 1 'émissivité normale et telle que mesurée dans l'annexe A de la norme ISO 10292 (1994) .  By emissivity is meant the normal emissivity and as measured in Annex A of ISO 10292 (1994).
Un vitrage selon un premier aspect de la présente invention permet ainsi avantageusement de sélectionner le rayonnement le traversant, en favorisant la transmission des ondes lumineuses dans le domaine du visible, c'est-à- dire dont la longueur d'onde est comprise entre environ 380 et 780 nm, en absorbant et/ou réfléchissant sélectivement la majorité des radiations infrarouges, c'est-à-dire dont la longueur d'onde est supérieure à 780 nm, en particulier les infrarouges proches, c'est-à-dire dont la longueur d'onde est comprise entre environ 780nm et environ 3000 nm, et en réfléchissant les infrarouges moyens, de 3 pm à 50 pm. De préférence, les vitrages selon ce premier aspect de la présente invention présentent une transmission lumineuse importante, c'est-à-dire typiquement supérieure à 20%, voire supérieure à 25%, voire supérieure à 30%, voire encore supérieure à 40% ou même supérieure à 50%. Selon ce premier aspect de l'invention, il est ainsi possible de maintenir une forte illumination de la pièce ou de l'habitacle protégé par le vitrage tout en minimisant la quantité de chaleur y entrant. Glazing according to a first aspect of the present invention thus advantageously makes it possible to select the radiation passing through it, by promoting the transmission of light waves in the visible range, that is to say the wavelength of which is between approximately 380 and 780 nm, by absorbing and / or selectively reflecting the majority of infrared radiation, that is to say whose wavelength is greater than 780 nm, in particular near infrared, that is to say whose wavelength is between about 780 nm and about 3000 nm, and reflecting the average infrared, from 3 pm to 50 pm. Preferably, the glazings according to this first aspect of the present invention have a light transmission. important, that is to say typically greater than 20%, even greater than 25%, or even greater than 30%, or even greater than 40% or even greater than 50%. According to this first aspect of the invention, it is thus possible to maintain a strong illumination of the room or the cabin protected by the glazing while minimizing the amount of heat entering it.
Selon un autre aspect de l'invention, il est ainsi possible de limiter les transferts radiatifs entre l'intérieur et l'extérieur de la pièce ou de l'habitacle en proposant des vitrages dont l'émissivité est basse.  According to another aspect of the invention, it is thus possible to limit the radiative transfers between the interior and exterior of the room or the cabin by proposing glazing whose emissivity is low.
Selon un autre aspect optionnel de la présente invention, on cherche à fournir des vitrages antisolaires dont ledit empilement confère audit vitrage une couleur en transmission et en réflexion extérieure sensiblement neutre ou encore une teinte bleue-verte, telle que recherchée notamment dans le secteur du bâtiment. According to another optional aspect of the present invention, it is sought to provide sunscreen glazing whose said stack confers on said glazing a transmission color and substantially neutral external reflection or a blue-green shade, such as sought in particular in the building sector .
Par couleur neutre, on entend au sens de la présente invention, dans le système de colorimétrie (L*, a*, b*), des valeurs b* et des valeurs a* proches de zéro, en particulier inférieures à 10, voire inférieures à 5, en valeurs absolues.  For the purposes of the present invention, neutral color is understood to mean, in the colorimetry system (L *, a *, b *), values b * and values a * close to zero, in particular less than 10, or even less than to 5, in absolute values.
Par couleur bleue-verte, on entend au sens de la présente invention, dans le système de colorimétrie (L*, a*, b*), des valeurs b* négatives, en particulier inférieure à -10, voire inférieures à -15 et des valeurs a* proches de zéro, en particulier inférieures à 10, voire inférieures à 5, en valeurs absolues.  For the purposes of the present invention, blue-green color is understood to mean, in the colorimetry system (L *, a *, b *), b * negative values, in particular less than -10, or even less than -15 and values a * close to zero, in particular less than 10, or even less than 5, in absolute values.
Dans le cas où le vitrage antisolaire selon l'invention est un vitrage feuilleté au sens précédemment décrit, il devient également possible d'obtenir des couleurs neutres, en particulier dont les valeurs des paramètres a* et b* sont inférieures à 5, en valeurs absolues . In the case where the sunscreen according to the invention is a laminated glazing in the sense previously described, it also becomes possible to obtain neutral colors, in particular whose values of parameters a * and b * are less than 5, in absolute values.
Selon un autre aspect, tel qu'il est également recherché actuellement, en particulier dans le domaine du bâtiment, il est possible, selon certaines configurations de la présente invention, de fournir des vitrages présentant un effet miroir, c'est-à-dire une forte réflexion lumineuse extérieure, en particulier de l'ordre de 15 à 40%, notamment de 20 à 40%, de telle façon que le vitrage apparaisse comme une surface miroir vue de l'extérieur du bâtiment mais que la vision demeure cependant possible et aisée depuis l'intérieur vers l'extérieur du bâtiment. Une telle disposition peut entraîner une forte diminution de la transmission lumineuse à travers le vitrage et éventuellement une diminution sensible de la sélectivité du vitrage, au sens précédemment décrit. Dans le cas d'une telle réalisation d'un vitrage à haute réflectivité, la présente invention permet de fournir des vitrages présentant un tel effet miroir, c'est-à-dire une forte réflexion extérieure, au sens précédemment décrit, ainsi que le maintien de propriétés antisolaires et la préservation d'une sélectivité relativement élevée, au sens précédemment décrit, c'est-à-dire un rapport TL/g optimisé, notamment de l'ordre de 1 ou légèrement inférieur à 1, et en tout état de cause sensiblement améliorée par rapport aux vitrages proposés dans la demande WO01/21540 précédemment cité. According to another aspect, as it is also currently sought, in particular in the field of building, it is possible, according to certain configurations of the present invention, to provide glazing having a mirror effect, that is to say a strong external light reflection, in particular of the order of 15 to 40%, especially 20 to 40%, so that the glazing appears as a mirror surface from the outside of the building but that vision remains possible and easy from the inside to the outside of the building. Such an arrangement can lead to a sharp reduction in the light transmission through the glazing and possibly a significant reduction in the selectivity of the glazing, as previously described. In the case of such an embodiment of a high reflectivity glazing, the present invention makes it possible to provide glazings having such a mirror effect, that is to say a strong external reflection, in the sense previously described, as well as the maintaining antisolar properties and preserving a relatively high selectivity, as previously described, ie an optimized ratio T L / g, in particular of the order of 1 or slightly less than 1, and in all substantially improved state of the art compared to the glazing proposed in WO01 / 21540 application cited above.
En particulier, la société déposante a découvert que de tels objectifs pouvaient être atteints par l'utilisation sur des substrats verriers d'empilements de couches dont toutes les couches fonctionnelles, c'est-à-dire toutes les couches de l'empilement réfléchissant /absorbant l'essentiel du rayonnement infrarouge solaire, sont des couches en oxynitrure de titane. Tout particulièrement, selon l'invention, il a été trouvé de très bonnes valeurs d'émissivité, de sélectivité, et de colorimétrie, au sens précédemment décrit, pouvaient être obtenues dans de tels empilements grâce à l'action de telles couches, pour des taux d'oxygène et d'azote contrôlés et tels que décrits par la suite. En particulier, alors que l'oxygène est considéré dans la technique comme une impureté nuisant fortement aux propriétés énergétiques des couches fonctionnelles du type nitrure, il a été trouvé que de très bonnes sélectivités et même de faibles émissivités pouvaient être obtenues pour des composés comprenant des proportions très précises des éléments Ti, 0, et N, tout en contrôlant la colorimétrie de tels vitrages, notamment leur aspect extérieur. In particular, the applicant company has discovered that such objectives can be achieved by the use on glass substrates of stackings of layers including all the functional layers, that is to say all the layers of the reflective stack. absorbing most of the solar infrared radiation, are layers of titanium oxynitride. In particular, according to the invention, very good values of emissivity, selectivity and colorimetry, in the sense previously described, could be obtained in such stacks thanks to the action of such layers, for oxygen and nitrogen levels controlled and as described later. In particular, while oxygen is considered in the art as an impurity highly detrimental to the energetic properties of the nitride functional layers, it has been found that very good selectivities and even low emissivities can be obtained for compounds comprising very precise proportions of the elements Ti, 0, and N, while controlling the colorimetry of such glazings, in particular their external appearance.
Plus précisément, la présente invention se rapporte à un article verrier à fonction antisolaire comprenant au moins un substrat verrier et un empilement de couches déposé sur au moins une face dudit substrat, ledit empilement de couches comprenant au moins une couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 1,00 < x < 1,20 et dans laquelle 0,01 < y < 0,10, ledit empilement de couches étant constitué, outre la ou lesdites couches d'oxynitrure de titane, de couches de matériaux diélectriques et éventuellement de couches métalliques à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments ou de couches du nitrure de tels métaux. Par matériau diélectrique, on entend tout matériau dont la forme massive et dénuée d'impuretés a une résistivité initialement supérieure à 1010 ohms-mètres (Ω.ιη) . De tels matériaux, une fois déposés en couches minces, peuvent cependant comprendre des éléments supplémentaires augmentant sensiblement leur conductivité électrique, utiles notamment pour améliorer le rendement de pulvérisation cathodique du matériau précurseur constituant la cible magnétron. Par exemple, des couches de nitrure de silicium utilisées dans l'empilement selon l'invention peuvent comprendre une faible quantité d'aluminium, la cible de silicium métallique classiquement utilisée lors de la pulvérisation cathodique comprenant par exemple en général de 6 à 10% poids d'aluminium, pour en augmenter la conductivité. More specifically, the present invention relates to an antisolar glass article comprising at least one glass substrate and a stack of layers deposited on at least one face of said substrate, said layer stack comprising at least one titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , wherein 1.00 <x <1.20 and wherein 0.01 <y <0.10, said stack of layers consisting, in addition to said titanium oxynitride layer (s), of layers of dielectric materials and optionally metal layers based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements or nitride layers of such metals. By dielectric material is meant any material whose solid form devoid of impurities has a resistivity initially greater than 10 10 ohm meters (Ω.ιη). Such materials, once deposited in thin layers, may however comprise elements additional significantly increasing their electrical conductivity, useful in particular to improve the sputtering efficiency of the precursor material constituting the magnetron target. For example, silicon nitride layers used in the stack according to the invention may comprise a small amount of aluminum, the metallic silicon target conventionally used during sputtering, for example generally comprising from 6 to 10% by weight. of aluminum, to increase the conductivity.
Selon des modes préférés de réalisation de la présente invention, qui peuvent éventuellement être combinés entre eux :  According to preferred embodiments of the present invention, which may optionally be combined with one another:
- Dans l'article verrier, 0,02 < y < 0,08.  - In the glass article, 0.02 <y <0.08.
- Dans l'article verrier, 1,05 < x < 1,20.  - In the glass article, 1.05 <x <1.20.
- L'épaisseur de la ou les couche (s) d'oxynitrure de titane est comprise entre 10 et 80 nanomètres, en particulier entre 10 et 60 nanomètres, et tout particulièrement entre 15 et 50 nanomètres.  The thickness of the layer (s) of titanium oxynitride is between 10 and 80 nanometers, in particular between 10 and 60 nanometers, and especially between 15 and 50 nanometers.
- L'empilement incorpore en outre, en dessous et/ou au- dessus de la couche d'oxynitrure de titane, une ou plusieurs couches de matériaux diélectriques.  The stack also incorporates, beneath and / or above the titanium oxynitride layer, one or more layers of dielectric materials.
- Le ou les matériaux diélectriques sont choisies parmi le nitrure de Silicium éventuellement dopé par Al, Zr, B, le nitrure d'aluminium, l'oxyde d'étain, un oxyde mixte de zinc ou d'étain SnyZnzOx, l'oxyde de silicium, l'oxyde de titane, les oxynitrures de silicium SiOxNy. De préférence, le matériau diélectrique est le nitrure de Silicium éventuellement dopé par Al, Zr, B. - The dielectric material or materials are selected from silicon nitride optionally doped with Al, Zr, B, aluminum nitride, tin oxide, a zinc or tin mixed oxide Sn y Zn z O x , silicon oxide, titanium oxide, silicon oxynitrides SiO x N y . Preferably, the dielectric material is silicon nitride, optionally doped with Al, Zr, B.
- L'empilement incorpore en outre, en dessous, et/ou éventuellement au-dessus, de la couche d'oxynitrure de titane, une couche d'un métal, éventuellement partiellement ou totalement oxydée et/ou nitrurée, ledit métal étant à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche ayant par exemple une épaisseur inférieure à 10 nm, notamment inférieure à 5 nm, notamment d'épaisseur inférieure à 3 nm. Le métal est choisi parmi Ti, Nb ou un alliage de nickel et de chrome, ledit métal ou alliage étant éventuellement nitruré. Tout particulièrement préféré, le métal est un alliage de nickel et de chrome, éventuellement et de préférence encore nitruré. The stack also incorporates, beneath and / or possibly above, the titanium oxynitride layer, a layer of a metal, possibly partially or totally oxidized and / or nitrided, said metal being based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer having for example a thickness of less than 10 nm, especially less than 5 nm, in particular of thickness less than 3 nm. The metal is selected from Ti, Nb or an alloy of nickel and chromium, said metal or alloy being optionally nitrided. Most preferably, the metal is an alloy of nickel and chromium, optionally and more preferably nitrided.
L'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier : The stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur de préférence comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et 70 nm,  a layer based on silicon nitride, preferably between 20 and 80 nm thick, preferably between 25 and 70 nm thick,
- éventuellement une couche d'un métal, éventuellement partiellement ou totalement oxydée et/ou nitrurée, ledit métal étant à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche ayant par exemple une épaisseur inférieure à 10 nm, ou même inférieure à 5 nm, voire inférieure à 3 nm,  optionally a layer of a metal, possibly partially or completely oxidized and / or nitrided, said metal being based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer having for example a thickness less than 10 nm, or even less than 5 nm, or even less than 3 nm,
- ladite couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 15 et 60 nanomètres, et de préférence encore entre 15 et 50 nanomètres, said titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , with a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 15 and 60 nanometers, and more preferably between 15 and 50 nanometers,
- éventuellement une couche d'un métal, éventuellement partiellement ou totalement oxydée et/ou nitrurée, ledit métal étant à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche ayant par exemple une épaisseur inférieure à 10 nm, ou même inférieure à 6 nm, voire inférieure à 5 nm ou même inférieure à 3 nm, - une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et 70 nm, optionally a layer of a metal, possibly partially or completely oxidized and / or nitrided, said metal being based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer having for example a thickness less than 10 nm, or even less than 6 nm, or even less than 5 nm or even less than 3 nm, a layer based on silicon nitride, having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
- éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium, voire à base d'un oxyde de silicium.  optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium, or even based on a silicon oxide.
L'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier: The stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et 70 nm,  a layer based on silicon nitride, having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
- une première couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 1,00 < x <a first titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , in which 1.00 <x <
1,20 et dans laquelle 0,01 < y < 0,10, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 20 et 60 nanomètres, et de préférence encore entre 30 et 50 nanomètres, 1.20 and in which 0.01 <y <0.10, with a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 20 and 60 nanometers, and more preferably between 30 and 50 nanometers,
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et 70 nm,  a layer based on silicon nitride, having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
une deuxième couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 1,00 < x < 1,20 et dans laquelle 0,01 < y < 0,10, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 20 et 60 nanomètres, et de préférence encore entre 30 et 50 nanomètres, a second titanium oxynitride layer of the general formula TiN x O y , in which 1.00 <x <1.20 and in which 0.01 <y <0.10, with a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 20 and 60 nanometers, and more preferably between 30 and 50 nanometers,
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et 70 nm,  a layer based on silicon nitride, having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium. - Ledit article est un vitrage ne comprenant qu'un seul substrat verrier. optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium. - The article is a glazing comprising only one glass substrate.
- Ledit article a subi un traitement thermique tel qu'une trempe, un bombage ou encore un recuit, notamment effectué par un laser.  - Said article has undergone a heat treatment such as quenching, bending or annealing, in particular performed by a laser.
- Ledit article est un vitrage feuilleté constitué par un ensemble d'au moins deux substrats verriers liés entre eux par un feuillet thermoplastique, notamment de polyvinyl butyral (PVB) .  - Said article is a laminated glazing consisting of a set of at least two glass substrates interconnected by a thermoplastic sheet, in particular polyvinyl butyral (PVB).
Selon un mode de réalisation particulier de l'invention, l'article verrier à fonction antisolaire comprend au moins un substrat verrier et un empilement de couches déposées sur au moins une face dudit substrat, et ledit empilement de couches comprend au moins : According to a particular embodiment of the invention, the glass article having an antisolar function comprises at least one glass substrate and a stack of layers deposited on at least one face of said substrate, and said stack of layers comprises at least:
- une première couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 1,00 < x < 1,20 et dans laquelle 0,01 < y < 0,10, l'épaisseur de ladite première couche d'oxynitrure de titane étant comprise entre 10 et 80 nanomètres, a first titanium oxynitride layer of the general formula TiN x O y , in which 1.00 <x <1.20 and in which 0.01 <y <0.10, the thickness of said first layer of titanium oxynitride being between 10 and 80 nanometers,
- une seconde couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite seconde couche étant éventuellement nitrurée,  a second metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said second layer possibly being nitrided,
ladite seconde couche étant disposée entre la première couche d'oxynitrure de titane et ladite face dudit substrat ou au-dessus de la première couche d'oxynitrure de titane dans l'empilement.  said second layer being disposed between the first titanium oxynitride layer and said face of said substrate or above the first titanium oxynitride layer in the stack.
Avantageusement, selon ce mode, l'empilement est constitué desdites au moins première et seconde couches et de couches de matériaux diélectriques et de préférence la seconde couche est disposée entre la première couche d'oxynitrure de titane et ladite face dudit substrat. L'épaisseur de ladite première couche d'oxynitrure de titane est notamment comprise 10 et 30 nanomètres, et tout particulièrement entre 10 et 25 nanomètres. L'épaisseur de ladite seconde couche métallique éventuellement nitrurée est avantageusement comprise entre 3 et 15 nm, en particulier est comprise entre 5 et 10 nanomètres. Selon une réalisation privilégiée de ce mode, l'épaisseur de ladite première couche est supérieure à l'épaisseur de ladite seconde couche d'un facteur au moins égal à 1,3, de préférence d'un facteur égal à au moins 1,5 ou même d'un facteur au moins égal à 2, voire au moins égal à 2,5. Advantageously, according to this mode, the stack consists of said at least first and second layers and layers of dielectric materials and preferably the second layer is disposed between the first layer of titanium oxynitride and said face of said substrate. The thickness of said first layer of oxynitride titanium is especially between 10 and 30 nanometers, and especially between 10 and 25 nanometers. The thickness of said second optionally nitrided metal layer is advantageously between 3 and 15 nm, in particular between 5 and 10 nanometers. According to a preferred embodiment of this embodiment, the thickness of said first layer is greater than the thickness of said second layer by a factor at least equal to 1.3, preferably by a factor equal to at least 1.5 or even by a factor of at least 2, or at least 2.5.
Typiquement, la seconde couche métallique est déposée directement sur ladite face dudit substrat. Ladite première et ladite seconde couche sont de préférence en contact l'une avec l'autre. Alternativement, ladite première et ladite seconde couche peuvent être séparées par au moins une couche de matériau diélectrique.  Typically, the second metal layer is deposited directly on said face of said substrate. Said first and said second layers are preferably in contact with each other. Alternatively, said first and second layers may be separated by at least one layer of dielectric material.
De préférence selon ce mode, 1,05 < x < 1,18.  Preferably in this mode, 1.05 <x <1.18.
De préférence selon ce mode, 0,02 < y < 0,08.  Preferably in this mode, 0.02 <y <0.08.
Dans un tel article verrier, le ou les matériaux diélectriques sont choisies parmi le nitrure de Silicium éventuellement dopé par Al, Zr, B, le nitrure d'aluminium, l'oxyde d'étain, un oxyde mixte de zinc ou d'étain SnyZnzOx, l'oxyde de silicium, l'oxyde de titane, les oxynitrures de silicium SiOxNy. De préférence, le matériau diélectrique est le nitrure de Silicium éventuellement dopé par Al, Zr, B. In such a glass article, the dielectric material or materials are chosen from silicon nitride optionally doped with Al, Zr, B, aluminum nitride, tin oxide, a mixed zinc oxide or Sn tin oxide. y Zn z O x, silicon oxide, titanium oxide, silicon oxynitride SiO x N y. Preferably, the dielectric material is silicon nitride, optionally doped with Al, Zr, B.
Avantageusement, la seconde couche est une couche de nickel et de chrome, préfèrentiellement nitrurée.  Advantageously, the second layer is a layer of nickel and chromium, preferably nitrided.
Selon un mode préférentiel, ledit empilement est constitué d'une succession desdites première et seconde couches et éventuellement des couches de matériaux diélectriques séparant lesdites première et seconde couches . Notamment, l'invention concerne un article verrier tel que décrit précédemment, dans lequel l'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier : According to a preferred embodiment, said stack consists of a succession of said first and second layers and possibly layers of dielectric materials separating said first and second layers. In particular, the invention relates to a glass article as described above, in which the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
- au moins ladite seconde couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée, ladite couche étant de préférence une couche de nickel et de chrome, préfèrentiellement nitrurée, ladite couche ayant de préférence une épaisseur comprise entre 3 et 15 nanomètres, de préférence entre 5 et 10 nanomètres, ladite couche étant de préférence une couche de nickel et de chrome, préfèrentiellement nitrurée,  at least said second metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, preferably nitrided, said layer preferably having a thickness of between 3 and 15 nanometers, preferably between 5 and 10 nanometers, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, preferably nitrided,
- éventuellement une ou plusieurs couches inférieures de matériaux diélectriques, notamment à base de nitrure de silicium, d'épaisseur, au total, comprise entre 10 et 120 nm,  optionally one or more lower layers of dielectric materials, in particular based on silicon nitride, having a total thickness of between 10 and 120 nm,
- ladite première couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 0,01 < y <said first titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , wherein 0.01 <y <
0,10, de préférence 0,02 < y < 0,08, et dans laquelle 1,00 < x < 1,20, de préférence 1,05 < x < 1,18, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 10 et 30 nanomètres, et de préférence encore entre 10 et 25 nanomètres, 0.10, preferably 0.02 <y <0.08, and wherein 1.00 <x <1.20, preferably 1.05 <x <1.18, of thickness between 10 and 80 nm preferably between 10 and 30 nanometers, and more preferably between 10 and 25 nanometers,
- éventuellement au moins une couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée, ladite couche ayant par exemple une épaisseur inférieure à 10 nm, ou même inférieure à 5 nm, voire inférieure à 3 nm, ladite couche étant de préférence une couche de nickel et de chrome, préfèrentiellement nitrurée, - une ou plusieurs couches supérieures de matériaux diélectriques, notamment à base de nitrure de silicium, d'épaisseur physique, au total, comprise entre 10 et 100 nm, optionally at least one metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided, said layer having for example a thickness of less than 10 nm, or even less than 5 nm, or even less than 3 nm, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, preferably nitrided, one or more upper layers of dielectric materials, in particular based on silicon nitride, with a total physical thickness of between 10 and 100 nm,
- éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium ou encore à base d'oxyde de silicium.  optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium or based on silicon oxide.
Selon un premier aspect du mode décrit précédemment, l'invention concerne un article verrier tel que décrit précédemment, dans lequel l'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier: According to a first aspect of the mode described above, the invention relates to a glass article as described above, in which the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
- une couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée, ladite couche ayant une épaisseur comprise entre 3 et 15 nanomètres, de préférence entre 5 et 10 nanomètres, ladite couche étant de préférence une couche de nickel et de chrome, préfèrentiellement nitrurée ,  a metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided, said layer having a thickness of between 3 and 15 nanometers, preferably between 5 and 10 nanometers, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, preferably nitrided,
- une couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 0,01 < y < 0,10, de préférence 0,02 < y < 0,08 et dans laquelle 1,00 < x < 1,20, de préférence 1,05 < x < 1,18, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 10 et 30 nanomètres, et de préférence encore entre 10 et 25 nanomètres,a titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , in which 0.01 <y <0.10, preferably 0.02 <y <0.08 and in which 1.00 <x <1, 20, preferably 1.05 <x <1.18, of thickness between 10 and 80 nm, preferably between 10 and 30 nanometers, and more preferably between 10 and 25 nanometers,
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et 70 nm, a layer based on silicon nitride, having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
- éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium. Selon un second aspect alternatif du mode décrit précédemment, l'invention concerne un article verrier dans lequel l'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier: optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium. According to a second alternative aspect of the mode described above, the invention relates to a glass article in which the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
- une couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée, ladite couche ayant une épaisseur comprise entre 3 et 15 nanomètres, de préférence entre 5 et 10 nanomètres, ladite couche étant de préférence une couche de nickel et de chrome, préfèrent iellement nitrurée ,  a metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided, said layer having a thickness of between 3 and 15 nanometers, preferably between 5 and 10 nanometers, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, preferably i.e.
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 50 et 120 nm, de préférence entre 70 et 100 nm,  a layer based on silicon nitride, with a thickness of between 50 and 120 nm, preferably between 70 and 100 nm,
- une couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 0,01 < y < 0,10, de préférence 0,02 < y < 0,08 et dans laquelle 1,00 < x < 1,20, de préférence 1,05 < x < 1,18, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 10 et 50 nanomètres, et de préférence encore entre 10 et 30 nanomètres,a titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , in which 0.01 <y <0.10, preferably 0.02 <y <0.08 and in which 1.00 <x <1, 20, preferably 1.05 <x <1.18, with a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 10 and 50 nanometers, and more preferably between 10 and 30 nanometers,
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 30 eta layer based on silicon nitride, with a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 30 and
60 nm, 60 nm,
- éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium.  optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium.
Ledit article tel que décrit précédemment peut être un vitrage ne comprenant qu'un seul substrat verrier, ledit empilement étant disposé sur au moins une face dudit vitrage. Un tel article peut avoir subi un traitement thermique tel qu'une trempe, un bombage ou encore un recuit . Said article as described above may be glazing comprising only one glass substrate, said stack being disposed on at least one face of said glazing. Such an article may have undergone a treatment thermal such as quenching, bending or annealing.
Alternativement, ledit article est un vitrage feuilleté constitué par un ensemble d'au moins deux substrats verriers liés entre eux par un feuillet thermoplastique, notamment de polyvinyl butyral (PVB) , ledit empilement étant disposé de préférence sur au moins une face d'un des substrats verriers tournés vers l'intérieur dudit vitrage feuilleté. Alternatively, said article is a laminated glazing constituted by a set of at least two glass substrates interconnected by a thermoplastic sheet, in particular polyvinyl butyral (PVB), said stack preferably being disposed on at least one face of one of the glass substrates facing inwardly of said laminated glazing.
L'article verrier selon l'invention peut être un vitrage feuilleté, un double vitrage (constitué de deux panneaux de verre séparés par une lame de gaz) ou encore un ensemble d'un vitrage composite constitué d'un vitrage feuilleté tel que décrit précédemment compris dans une structure du type double vitrage. The glass article according to the invention may be a laminated glazing unit, a double glazing unit (consisting of two glass panels separated by a gas strip) or else an assembly of a composite glazing unit consisting of a laminated glazing unit as previously described. included in a double glazed structure.
Les exemples qui suivent sont donnés à titre purement illustratifs et ne limitent sous aucun des aspects décrits la portée de la présente invention. A des fins de comparaison, tous les empilements des exemples qui suivent sont synthétisés sur des substrats verriers montés en simple vitrage. The examples which follow are given purely by way of illustration and in no way limit the scope of the present invention. For comparative purposes, all the stacks of the following examples are synthesized on glass substrates mounted in single glazing.
Toutes les couches des empilements ont été déposées selon les techniques classiques de dépôts sous vide par pulvérisation magnétron.  All layers of the stacks were deposited using conventional magnetron sputtering vacuum deposition techniques.
Selon une première série d'expérience (exemple 1 à 5 qui suivent), on démontre la possibilité selon l'invention d'obtenir des vitrages présentant une transmission lumineuse élevée (proche de 50%) tout en préservant une forte sélectivité et de bonnes propriétés antisolaires. Exemple 1 (selon 1 ' invention) : According to a first series of experiments (examples 1 to 5 which follow), it is demonstrated the possibility according to the invention to obtain glazings having a high light transmission (close to 50%) while preserving a high selectivity and good properties sunscreen. Example 1 (according to the invention):
Dans cet exemple selon l'invention, on a déposé, selon les techniques magnétrons classiques, sur un substrat en verre du type Planilux®, un empilement constitué par la séquence de couches suivantes :  In this example according to the invention, a stack consisting of the following sequence of layers has been deposited according to conventional magnetron techniques on a Planilux®-type glass substrate:
Verre /Si3N4 / TiNxOy / Si3N4 Glass / Si 3 N 4 / TiN x O y / Si 3 N 4
(31nm) (19nm) (29nm)  (31nm) (19nm) (29nm)
La couche TiNxOy est obtenue par la technique de pulvérisation magnétron à partir d'une cible de titane métallique dans une atmosphère très essentiellement d'azote et d'argon, mais contenant une quantité d'oxygène de l'ordre de 2% en volume. The TiN x O y layer is obtained by the magnetron sputtering technique from a titanium metal target in an atmosphere very essentially of nitrogen and argon, but containing an amount of oxygen of the order of 2% in volume.
Les couches de nitrure de silicium sont déposées selon les techniques classiques dans le domaine, à partir d'une cible de silicium comprenant 8% en poids d'aluminium dans une atmosphère d'azote et d'argon.  The silicon nitride layers are deposited according to conventional techniques in the field, from a silicon target comprising 8% by weight of aluminum in a nitrogen and argon atmosphere.
Dans le tableau qui suit, on a reporté les principales caractéristiques du procédé de dépôt :  In the following table, the main characteristics of the deposition process have been reported:
Vitesse de la ligne (m/min) 1, 7 Speed of the line (m / min) 1, 7
Puissance sur Power on
64  64
cathode (kW)  cathode (kW)
Si3N4 Pression (pbar ) 4 If 3 N 4 Pressure (pbar) 4
Flux Ar (sccm) 700  Ar Flow (sccm) 700
Flux 2 (sccm) 850 Flux 2 (sccm) 850
Puissance (kW) 87  Power (kW) 87
Pression (pbar) 6  Pressure (pbar) 6
TiNxOy TiN x O y
Flux Ar (sccm) 1600  Flux Ar (sccm) 1600
Flux N2 + 02 (sccm) 500 Flux N 2 + 0 2 (sccm) 500
Puissance (kW) 78  Power (kW) 78
Pression (pbar) 4  Pressure (pbar) 4
S13N4  S13N4
Flux Ar (sccm) 700  Ar Flow (sccm) 700
Flux 2 (sccm) 850 Selon l'invention, le vitrage ainsi obtenu est utilisé comme vitrage simple ou comme premier substrat pour l'obtention d'un vitrage feuilleté par feuilletage avec un autre substrat en verre du type Planilux® au moyen d'une feuille de PVB, l'empilement étant disposé entre les deux substrats verriers dans le vitrage final. Flux 2 (sccm) 850 According to the invention, the glazing thus obtained is used as single glazing or as a first substrate for obtaining laminated glazing by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet. stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
Sur le vitrage simple et le vitrage feuilleté ainsi obtenus, on a mesuré les facteurs TL et g afin d'en déterminer la sélectivité. Les résultats sont reportés dans le tableau 1. On a également mesuré leurs propriétés colorimétriques ci-après. Les résultats sont reportés dans le tableau 3 ci-après. On the single glazing and the laminated glazing thus obtained, the factors T L and g were measured in order to determine their selectivity. The results are reported in Table 1. The following colorimetric properties were also measured. The results are reported in Table 3 below.
Exemple 2 (comparatif) : Example 2 (comparative):
Dans cet exemple, on a pratiqué de façon identique à l'exemple 1 et obtenu un empilement sensiblement identique, à l'exception que le débit d'azote dans la chambre de pulvérisation a été augmenté à 800 sccm, de manière à augmenter la valeur de x.  In this example, the procedure was identical to Example 1 and obtained a substantially identical stack, except that the nitrogen flow rate in the spray chamber was increased to 800 sccm, so as to increase the value. of x.
Comme pour l'exemple 1, le vitrage ainsi obtenu est utilisé comme vitrage simple ou comme premier substrat pour l'obtention d'un vitrage feuilleté par feuilletage avec un autre substrat en verre du type Planilux® au moyen d'une feuille de PVB, l'empilement étant disposé entre les deux substrats verriers dans le vitrage final.  As for Example 1, the glazing thus obtained is used as single glazing or as a first substrate for obtaining laminated glazing by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
Sur le vitrage simple et le vitrage feuilleté ainsi obtenus, on a mesuré les facteurs TL et g afin d'en déterminer la sélectivité. Les résultats sont reportés dans le tableau 1. Exemple 3 (selon 1 ' invention) : On the single glazing and the laminated glazing thus obtained, the factors T L and g were measured in order to determine their selectivity. The results are reported in Table 1. Example 3 (according to the invention):
Dans cet exemple selon l'invention, on a déposé, selon les techniques magnétrons classiques, sur un substrat en verre du type Planilux®, un empilement constitué par la séquence de couches suivantes:  In this example according to the invention, a stack consisting of the following sequence of layers has been deposited according to conventional magnetron techniques on a Planilux®-type glass substrate:
Verre /Si3N4 / TiNxOy / Si3N4 Glass / Si 3 N 4 / TiN x O y / Si 3 N 4
(61nm) (39nm) (60nm)  (61nm) (39nm) (60nm)
La couche TiNxOy est obtenue par pulvérisation magnétron à partir d'une cible de titane métallique dans une atmosphère très essentiellement d'azote et d'argon, mais contenant une quantité d'oxygène, de l'ordre de 2% en volume . The TiN x O y layer is obtained by magnetron sputtering from a titanium metal target in an atmosphere very essentially of nitrogen and argon, but containing an amount of oxygen of the order of 2% by volume .
Dans le tableau qui suit, on a reporté les principales caractéristiques du procédé de dépôt :  In the following table, the main characteristics of the deposition process have been reported:
Figure imgf000020_0001
Figure imgf000020_0001
Comme pour l'exemple 1, le vitrage ainsi obtenu est utilisé comme vitrage simple ou comme premier substrat pour l'obtention d'un vitrage feuilleté par feuilletage avec un autre substrat en verre du type Planilux® au moyen d'une feuille de PVB, l'empilement étant disposé entre les deux substrats verriers dans le vitrage final. As for example 1, the glazing thus obtained is used as single glazing or as first substrate for obtaining a laminated laminated glazing with another Planilux®-type glass substrate by means of a PVB sheet, the stack being placed between the two glass substrates in the final glazing.
Sur le vitrage simple et le vitrage feuilleté ainsi obtenus, on a mesuré les facteurs TL et g afin d'en déterminer la sélectivité. Les résultats sont reportés dans le tableau 2. On a également mesuré leurs propriétés colorimétriques ci-après. Les résultats sont reportés dans le tableau 3 ci-après. On the single glazing and the laminated glazing thus obtained, the factors T L and g were measured in order to determine their selectivity. The results are reported in Table 2. The following colorimetric properties were also measured. The results are reported in Table 3 below.
Exemple 4 (comparatif) : Example 4 (comparative):
Dans cet exemple, on a pratiqué de façon identique à l'exemple 3 et obtenu un empilement sensiblement identique, à l'exception qu'on a introduit dans la chambre de pulvérisation une quantité d'oxygène supérieure, de l'ordre de 5% en volume dans l'atmosphère essentiellement d'azote et d'argon.  In this example, it was practiced identically to Example 3 and obtained a substantially identical stack, except that was introduced into the spray chamber a higher amount of oxygen, of the order of 5% in volume in the atmosphere essentially nitrogen and argon.
Comme pour les exemples précédents, le vitrage ainsi obtenu est utilisé comme vitrage simple (S) ou comme premier substrat pour l'obtention d'un vitrage feuilleté (F) par feuilletage avec un autre substrat en verre du type Planilux® au moyen d'une feuille de PVB, l'empilement étant disposé entre les deux substrats verriers dans le vitrage final.  As for the preceding examples, the glazing thus obtained is used as single glazing (S) or as first substrate for obtaining a laminated glazing unit (F) by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
Sur le vitrage simple et le vitrage feuilleté ainsi obtenus, on a mesuré les facteurs TL et g afin d'en déterminer la sélectivité. Les résultats sont reportés dans le tableau 2. On the single glazing and the laminated glazing thus obtained, the factors T L and g were measured in order to determine their selectivity. The results are reported in Table 2.
Exemple 5 (comparatif) : Example 5 (comparative):
Dans cet exemple, on a utilisé un vitrage de la société déposante commercialisé sous la référence Cool-Lite ST120 dont l'empilement comprend une couche de nitrure de niobium comme couche réfléchissante/absorbante du rayonnement solaire, entourée par deux couches de nitrure de silicium. In this example, a glazing unit of the depositing company marketed under the reference Cool-Lite ST120 whose stack comprises a layer of nitride of niobium as a reflective / absorbing layer of solar radiation, surrounded by two layers of silicon nitride.
Sur ces vitrages, on a mesuré dans les mêmes conditions que précédemment les facteurs TL et g afin d'en déterminer la sélectivité. Les résultats sont reportés dans le tableau 2. On these glazings, the factors T L and g were measured under the same conditions as above in order to determine their selectivity. The results are reported in Table 2.
Comme pour l'exemple 1, le vitrage ainsi obtenu est utilisé comme vitrage simple (S) ou comme premier substrat pour l'obtention d'un vitrage feuilleté (F) par feuilletage avec un autre substrat en verre du type Planilux® au moyen d'une feuille de PVB, l'empilement étant disposé entre les deux substrats verriers dans le vitrage final. As for Example 1, the glazing thus obtained is used as single glazing (S) or as a first substrate for obtaining a laminated glazing unit (F) by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
Sur le vitrage simple et le vitrage feuilleté ainsi obtenus, on a mesuré les facteurs TL et g afin d'en déterminer la sélectivité. Les résultats sont reportés dans le tableau 2. Les valeurs de x et y dans les couches d'oxynitrure de titane sont mesurées classiquement par des techniques de XPS ( spectrométrie de photoélectrons induits par rayons X) sur un appareil Nova-Kratos selon les conditions suivantes : On the single glazing and the laminated glazing thus obtained, the factors T L and g were measured in order to determine their selectivity. The results are reported in Table 2. The values of x and y in the titanium oxynitride layers are conventionally measured by XPS (X-ray photoelectron spectrometry) techniques on a Nova-Kratos apparatus under the following conditions: :
CONDITIONS D'ANALYSES : CONDITIONS OF ANALYSIS:
Source : Al Ka monochromatisée Source: Al Ka monochromatized
300 Watts pour les spectres particuliers 300 Watts for particular spectrums
Aire analysée : 110x110 μηι2
Figure imgf000022_0001
Analysis area: 110x110 μηι 2
Figure imgf000022_0001
Angle de détection : normal (Θ = 0°) Detection angle: normal (Θ = 0 °)
Profondeur analysée inférieure à 10 nm en détection normale  Depth analyzed below 10 nm in normal detection
CONDITIONS D'ABRASION : ABRASION CONDITIONS:
Ions : Ar - 2.0 keV Ions: Ar - 2.0 keV
Balayage : 3 x 3 mm2 centré sur la zone d'analyse Scanning: 3 x 3 mm 2 centered on the analysis area
Cycles d'abrasion/temps par cycle : 30 cycles de 1 minute. Les caractéristiques des différents vitrages obtenus pour les exemples 1 et 2, mesurées selon les normes précisées précédemment, sont reportées dans le tableau 1 qui suit : Abrasion cycles / time per cycle: 30 cycles of 1 minute. The characteristics of the various glazings obtained for Examples 1 and 2, measured according to the standards specified above, are reported in Table 1 which follows:
Figure imgf000023_0001
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S : vitrage simple - F : vitrage feuilleté  S: single glazing - F: laminated glazing
N.A : non applicable  N.A: not applicable
Tableau  Board
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S : vitrage simple - F : vitrage feuilleté  S: single glazing - F: laminated glazing
N.A : non applicable  N.A: not applicable
Tableau 2 La comparaison des données reportées dans les tableaux 1 et 2 montre qu'une plus grande sélectivité est obtenue lorsque l'empilement en cause comprend une couche fonctionnelle dont le taux d'azote x est conforme à l'invention, comme le montre la comparaison des exemples 1 et 2, tandis que la meilleure émissivité, c'est-à-dire la plus basse, est obtenue pour des taux d'oxygène plus faibles, comme le montre la comparaison des exemples 3 et 4. La présente invention permet l'optimisation de ces deux paramètres, forte sélectivité et basse émissivité. En particulier, la société déposante a pu montrer, au travers des exemples reportés dans la présente demande, que dans de telles couches d'oxynitrure de titane le contrôle très précis de la composition de ladite couche, en particulier des valeurs de x et de y, permettait d'optimiser à la fois la sélectivité et l'émissivité du vitrage. Table 2 Comparison of the data reported in Tables 1 and 2 shows that greater selectivity is obtained when the stack in question comprises a functional layer whose nitrogen content x is in accordance with the invention, as shown by the comparison of Examples 1 and 2, while the best emissivity, i.e. the lowest emissivity, is obtained for lower oxygen levels, as shown in the comparison of Examples 3 and 4. The present invention allows the optimization of these two parameters, high selectivity and low emissivity. In particular, the applicant company has been able to show, through the examples reported in the present application, that in such layers of titanium oxynitride the very precise control of the composition of said layer, in particular the values of x and y , allowed to optimize both the selectivity and the emissivity of the glazing.
Les caractéristiques colorimétriques du vitrage selon l'exemple 1 et selon l'exemple 3, dans le système international (CIE L*b*a*), ont été également mesurés en transmission et en réflexion externe (coté extérieur) . The colorimetric characteristics of the glazing according to example 1 and according to example 3, in the international system (CIE L * b * a *), were also measured in transmission and in external reflection (external side).
On a également soumis le substrat muni de son empilement à un traitement thermique consistant en un chauffage à 650°C pendant quelques minutes suivi d'une trempe. Ce traitement est représentatif des conditions subies par le vitrage si celui-ci doit être trempé ou encore bombé. The substrate provided with its stack was also subjected to a heat treatment consisting of heating at 650 ° C. for a few minutes followed by quenching. This treatment is representative of the conditions experienced by the glazing if it must be soaked or bulging.
Toutes les données optiques sont reportées dans le tableau 3 qui suit : Transmission lumineuse Réflexion extérieureAll the optical data are reported in Table 3 which follows: Light transmission Outdoor reflection
TL g TL/g R-Lext a- Rext " ■hU*RextT L g T L / g R-Lext a- Rext " ■ hU * Rext
Example 1 Vitrage Example 1 Glazing
49, 1 45, 8 1, 07 -2,2 -2,8 10,9 -2,2 -9,5 simple  49, 1 45, 8 1, 07 -2,2 -2,8 10,9 -2,2 -9,5 simple
Vitrage  Glazing
simple 55, 2 48,3 1,14 -2,4 0,9 12,9 -3,8 -13, 2 trempé  single 55, 2 48.3 1.14 -2.4 0.9 12.9 -3.8 -13, 2 hardened
Vitrage  Glazing
49, 7 44,9 1,11 -3,4 -2 10,9 0,9 - o,i feuilleté  49, 7 44.9 1.11 -3.4 -2 10.9 0.9 - o, laminated
Example 3 Vitrage  Example 3 Glazing
32,1 29,8 1,08 -2,9 8,8 21,3 -2,2 7,0 simple  32.1 29.8 1.08 -2.9 8.8 21.3 -2.2 7.0 simple
Vitrage  Glazing
simple 40, 4 33, 2 1,2 -4,6 9,1 19, 7 4,0 -0,6 trempé  simple 40, 4 33, 2 1,2 -4,6 9,1 19, 7 4,0 -0,6 tempered
Vitrage  Glazing
28,9 30,9 0, 93 -4,5 2,8 17,4 1,1 3,3 feuilleté  28.9 30.9 0, 93 -4.5 2.8 17.4 1.1 3.3 laminated
Tableau 3  Table 3
Les données reportées dans le tableau 3 montrent les propriétés idéales de colorimétrie en transmission et en réflexion extérieure des vitrages munis des empilements selon l'invention : The data shown in Table 3 show the ideal colorimetric properties in transmission and in external reflection of the glazing provided with the stacks according to the invention:
- En transmission les paramètres a*T et b*T restent relativement faible, assurant une couleur relativement neutre en transmission. In transmission, the parameters a * T and b * T remain relatively low, ensuring a relatively neutral color in transmission.
- En réflexion, le paramètre a* ext selon les vitrages selon l'invention, est relativement faible et souvent négatif, tandis que le paramètre b* est proche de 0 pour les vitrages feuilletés (couleur neutre en réflexion) soit fortement négatif pour le vitrage simple selon l'exemple 1, ce qui assure une couleur bleue du vitrage telle que recherchée en vision extérieure. De telles propriétés colorimétriques entraînent donc une couleur neutre ou bleue-verte des vitrages en transmission mais surtout en réflexion extérieure, telle qu'actuellement recherchée dans le domaine du bâtiment. - In reflection, the parameter a * ex t according to the glazing according to the invention is relatively low and often negative, while the parameter b * is close to 0 for laminated glazing (neutral color reflection) is strongly negative for the simple glazing according to Example 1, which ensures a blue color of the glazing as sought in external vision. Such colorimetric properties thus result in a neutral or blue-green color of the glazings in transmission but especially in external reflection, as currently sought in the field of building.
Selon un autre avantage, les empilements antisolaires selon la présente invention, dont la ou les couches actives sont à base d'un oxynitrure de titane sont extrêmement simples à fabriquer, notamment par la technique du dépôt sous vide par pulvérisation cathodique dite magnétron.  According to another advantage, the sunscreen stacks according to the present invention, whose active layer or layers are based on a titanium oxynitride are extremely simple to manufacture, in particular by the magnetron sputtering vacuum deposition technique.
En outre, des tests de durabilité complémentaires ont montré que de telles couches pouvaient être sans difficulté déposées en face 2 d'un vitrage simple, sans risque de dégradation de celle-ci, par action chimique (humidité) ou par action mécanique (abrasion de l'empilement).  In addition, additional durability tests have shown that such layers can be easily deposited in the face 2 of a single glazing, without risk of degradation thereof, by chemical action (moisture) or by mechanical action (abrasion of the stack).
Exemple 6 (selon l'invention): Example 6 (according to the invention):
Dans cet exemple selon l'invention, on cherche à obtenir un article verrier selon l'invention présentant une forte réflexion lumineuse extérieure tout en préservant une bonne sélectivité, ainsi qu'une colorimétrie neutre en réflexion extérieure telle que recherchée dans le domaine du bâtiment.  In this example according to the invention, it is sought to obtain a glass article according to the invention having a strong external light reflection while maintaining good selectivity, as well as neutral colorimetry in external reflection as sought in the field of building.
Pour cela, on dépose, selon les techniques magnétrons classiques, sur un substrat en verre du type Planilux®, un empilement constitué par la séquence de couches suivantes:  For this, according to conventional magnetron techniques, a stack made up of the following sequence of layers is deposited on a Planilux®-type glass substrate:
Verre /NiCrN / TiNxOy / Si3N4 Glass / NiCrN / TiN x O y / Si 3 N 4
(8nm) (13nm) (52nm)  (8nm) (13nm) (52nm)
La couche TiNxOy est obtenue par la technique de pulvérisation magnétron à partir d'une cible de titane métallique dans une atmosphère essentiellement d'azote et d'argon mais contenant une quantité d'oxygène de l'ordre de 2% en volume. Des valeurs de x = 1,18 et y = 0,07 dans la couche d'oxynitrure de titane TiNxOy sont mesurées classiquement par les techniques de XPS décrites précédemment . The TiN x O y layer is obtained by the magnetron sputtering technique from a titanium metal target in an atmosphere essentially of nitrogen and argon but containing an amount of oxygen of the order of 2% by volume. Values of x = 1.18 and y = 0.07 in the titanium oxynitride layer TiN x O y are conventionally measured by XPS of the techniques described above.
Les couches de nitrure de silicium sont déposées selon les techniques classiques dans le domaine, à partir d'une cible de silicium comprenant 8% en poids d'aluminium dans une atmosphère d'azote et d'argon.  The silicon nitride layers are deposited according to conventional techniques in the field, from a silicon target comprising 8% by weight of aluminum in a nitrogen and argon atmosphere.
La couche de NiCrN est déposée à partir de la pulvérisation d'une cible de NiCr dans une atmosphère d'argon et d'azote, les éléments Ni et Cr étant présents dans la cible selon les proportions suivantes : 80% poids de Ni et 20% poids de Cr . Dans le tableau qui suit, on a reporté les principales caractéristiques du procédé de dépôt :  The NiCrN layer is deposited from the sputtering of a NiCr target in an argon and nitrogen atmosphere, the Ni and Cr elements being present in the target in the following proportions: 80% by weight Ni and 20 % by weight of Cr. In the following table, the main characteristics of the deposition process have been reported:
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Selon l'invention, le vitrage ainsi obtenu peut être utilisé comme vitrage simple ou comme premier substrat pour l'obtention d'un vitrage feuilleté par feuilletage avec un autre substrat en verre du type Planilux® au moyen d'une feuille de PVB, l'empilement étant disposé entre les deux substrats verriers dans le vitrage final. According to the invention, the glazing thus obtained can be used as single glazing or as a first substrate for obtaining laminated glazing by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a PVB sheet, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
Sur le vitrage simple et le vitrage feuilleté ainsi obtenus, on a mesuré les facteurs TL et g afin d'en déterminer la sélectivité et leurs propriétés colorimétriques . Les résultats sont reportés dans les tableaux qui suivent . On the single glazing and the laminated glazing thus obtained, the factors T L and g were measured in order to determine their selectivity and their colorimetric properties. The results are reported in the following tables.
Exemple 7 (selon l'invention): Example 7 (according to the invention):
Dans cet exemple selon l'invention, on a déposé, selon les techniques magnétrons classiques, sur un substrat en verre du type Planilux®, un autre empilement constitué par la séquence de couches suivantes:  In this example according to the invention, it was deposited, according to conventional magnetron techniques, on a glass substrate of Planilux® type, another stack consisting of the following sequence of layers:
Verre /NiCrN / Si3N4 / TiNxOy / Si3N4 Glass / NiCrN / Si 3 N 4 / TiN x O y / Si 3 N 4
(6 nm) (93 nm) (25nm) (46nm)  (6 nm) (93 nm) (25 nm) (46 nm)
Les couches de TiNxOy, NiCrN et S13 4 sont obtenues selon les mêmes principes que précédemment exposés. The layers of TiN x O y , NiCrN and S1 3 4 are obtained according to the same principles as previously discussed.
Des valeurs de x = 1,13 et y = 0,07 dans la couche d'oxynitrure de titane TiNxOy sont mesurées classiquement par les techniques de XPS décrites précédemment. Values of x = 1.13 and y = 0.07 in the titanium oxynitride layer TiN x O y are conventionally measured by XPS of the techniques described above.
Dans le tableau qui suit, on a reporté les principales caractéristiques du procédé de dépôt : In the following table, the main characteristics of the deposition process have been reported:
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De même que pour l'exemple précédent, le vitrage ainsi obtenu est utilisé comme vitrage simple ou comme premier substrat pour l'obtention d'un vitrage feuilleté par feuilletage avec un autre substrat en verre du type Planilux® au moyen d'une feuille de PVB, l'empilement étant disposé entre les deux substrats verriers dans le vitrage final . As for the previous example, the glazing thus obtained is used as single glazing or as a first substrate for obtaining laminated glazing by laminating with another glass substrate of the Planilux® type by means of a sheet of glass. PVB, the stack being disposed between the two glass substrates in the final glazing.
Sur le vitrage simple et le vitrage feuilleté ainsi obtenus, on a mesuré les facteurs TL et g afin d'en déterminer la sélectivité et leurs propriétés colorimétriques . Les résultats sont reportés dans les tableaux qui suivent . Exemple 8 (comparatif) : On the single glazing and the laminated glazing thus obtained, the factors T L and g were measured in order to determine their selectivity and their colorimetric properties. The results are reported in the following tables. Example 8 (comparative):
Dans cet exemple, on a utilisé un vitrage de la société déposante commercialisé sous la référence Cool-Lite STB120 dont l'empilement comprend une couche de nitrure de niobium comme couche réfléchissante/absorbante du rayonnement solaire, entourée par deux couches de nitrure de silicium.  In this example, a glazing unit was used from the applicant company marketed under the reference Cool-Lite STB120 whose stack comprises a layer of niobium nitride as a reflective / absorbent layer of solar radiation, surrounded by two layers of silicon nitride.
Sur le vitrage simple et le vitrage feuilleté ainsi obtenus, on a mesuré les facteurs TL et g afin d'en déterminer la sélectivité et leurs propriétés colorimétriques . Les résultats sont reportés dans les tableaux qui suivent . On the single glazing and the laminated glazing thus obtained, the factors T L and g were measured in order to determine their selectivity and their colorimetric properties. The results are reported in the following tables.
Les caractéristiques de sélectivité des différents vitrages obtenus, mesurées selon les normes précisées, sont reportées dans le tableau 4 qui suit :  The selectivity characteristics of the different glazings obtained, measured according to the specified standards, are reported in Table 4 which follows:
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Tableau 4 La comparaison des données reportées dans le tableau 4 montre qu'une plus grande sélectivité est obtenue pour un empilement comprenant les deux couches conformes à la présente invention, c'est-à-dire pour l'empilement des exemples 6 et 7, et même égale à 1 pour l'empilement selon l'exemple 6, malgré la présence de la couche fortement réfléchissante en NiCrN. Les caractéristiques colorimétriques du vitrage selon les exemples 6 à 8, ont été également mesurés dans le système international (CIE L*b*a*) en transmission et en réflexion externe (coté extérieur) . Table 4 Comparison of the data reported in Table 4 shows that greater selectivity is obtained for a stack comprising the two layers in accordance with the present invention, that is to say for the stacking of Examples 6 and 7, and even equal to 1 for the stack according to Example 6, despite the presence of the highly reflective NiCrN layer. The colorimetric characteristics of the glazing according to Examples 6 to 8 were also measured in the international system (CIE L * b * a *) in transmission and in external reflection (external side).
Toutes les données optiques sont reportées dans le tableau 5 qui suit :  All the optical data are reported in Table 5 which follows:
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Tableau 5  Table 5
Les données reportées dans le tableau 5 montrent les propriétés idéales de colorimétrie en transmission et en réflexion extérieure des vitrages munis des empilements selon l'invention : The data reported in Table 5 show the ideal colorimetric properties in transmission and in external reflection of glazing provided with stacks according to the invention:
- En transmission les paramètres a*T et b*T sont le plus souvent négatif et restent relativement faibles, assurant une couleur relativement neutre en transmission. In transmission the parameters a * T and b * T are most often negative and remain relatively low, ensuring a relatively neutral color in transmission.
- En réflexion, le paramètre a*Rext selon les vitrages selon l'invention, est toujours relativement faible et le plus souvent négatif, tandis que le paramètre b*Rext est soit proche de 0 pour l'exemple 6, ce qui assure une couleur neutre en réflexion, soit fortement négatif (exemple 7), ce qui assure une couleur bleue en réflexion telle que recherchée dans le domaine du bâtiment. - In reflection, the parameter a * Rex t according to the glazing according to the invention, is always relatively low and most often negative, while the parameter b * Rext is close to 0 for Example 6, which ensures a neutral color in reflection, strongly negative (example 7), which ensures a blue color in reflection as sought in the field of building.
De telles propriétés colorimétriques entraînent donc une couleur neutre des vitrages en transmission et une couleur neutre (exemple 6) ou bleue (exemple 7) en réflexion extérieure, telle qu'actuellement recherchée dans le domaine du bâtiment.  Such colorimetric properties thus result in a neutral color of the glazings in transmission and a neutral color (example 6) or blue color (example 7) in external reflection, as currently sought in the field of the building.
Selon un autre avantage, les empilements antisolaires selon la présente sont extrêmement simples à fabriquer, notamment par la technique du dépôt sous vide par pulvérisation cathodique dite magnétron.  According to another advantage, the antisolar stacks according to the present invention are extremely simple to manufacture, in particular by the magnetron sputtering vacuum deposition technique.
En outre, des tests de durabilité complémentaires ont montré que de telles couches pouvaient être sans difficulté déposées en face 2 d'un vitrage simple, sans risque de dégradation de celle-ci, par action chimique (humidité) ou par action mécanique (abrasion de l'empilement).  In addition, additional durability tests have shown that such layers can be easily deposited in the face 2 of a single glazing, without risk of degradation thereof, by chemical action (moisture) or by mechanical action (abrasion of the stack).

Claims

REVENDICATIONS
Article verrier à fonction antisolaire comprenant au moins un substrat verrier et un empilement de couches déposées sur au moins une face dudit substrat, ledit empilement de couches comprenant une couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 1,00 < x < 1,20 et dans laquelle 0,01 < y < 0,10, ledit empilement de couches étant constitué d'au moins une telle couche d'oxynitrure de titane et de couches de matériaux diélectriques, ainsi qu'éventuellement des couches métalliques à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, lesdites couches métalliques étant éventuellement nitrurées. A glass article with an antisolar function comprising at least one glass substrate and a stack of layers deposited on at least one face of said substrate, said stack of layers comprising a titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , in which 1.00 <x <1.20 and wherein 0.01 <y <0.10, said layer stack consisting of at least one such layer of titanium oxynitride and layers of dielectric materials, as well as optionally layers metals based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said metal layers being optionally nitrided.
Article verrier selon l'une des revendications précédentes, dans lequel 0,02 < y < 0,08. Glass article according to one of the preceding claims, wherein 0.02 <y <0.08.
Article verrier selon l'une des revendications précédentes, dans lequel 1,05 < x < 1,20. Glass article according to one of the preceding claims, wherein 1.05 <x <1.20.
Article verrier selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'épaisseur de ladite couche d'oxynitrure de titane est comprise entre 10 et 80 nanomètres, en particulier entre 10 et 60 nanomètres. Glass article according to one of the preceding claims, wherein the thickness of said titanium oxynitride layer is between 10 and 80 nanometers, in particular between 10 and 60 nanometers.
Article verrier selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'empilement incorpore en outre, en dessous et/ou au-dessus de la couche d'oxynitrure de titane, une ou plusieurs couches de matériaux diélectriques. Glass article according to one of the preceding claims, wherein the stack further incorporates, beneath and / or above the titanium oxynitride layer, one or more layers of dielectric materials.
6. Article verrier selon la revendication précédente, dans lequel le ou les matériaux diélectriques sont choisies parmi le nitrure de Silicium éventuellement dopé par Al, Zr, B, le nitrure d'aluminium, l'oxyde d'étain, un oxyde mixte de zinc ou d'étain SnyZnzOx, l'oxyde de silicium, l'oxyde de titane, les oxynitrures de silicium SiOxNy. 6. Glass article according to the preceding claim, wherein the one or more dielectric materials are chosen from silicon nitride optionally doped with Al, Zr, B, aluminum nitride, tin oxide, a mixed zinc oxide. or tin Sn y Zn z O x , silicon oxide, titanium oxide, silicon oxynitrides SiO x N y .
7. Article verrier selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'empilement incorpore en outre, en dessous, et/ou éventuellement au-dessus, de la couche d'oxynitrure de titane, une couche d'un métal, éventuellement partiellement ou totalement oxydée et/ou nitrurée, ledit métal étant à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche ayant une épaisseur inférieure à 5 nm, de préférence d'épaisseur inférieure à 3 nm. 8. Article verrier selon la revendication précédente, dans lequel le métal est choisi parmi Ti, Nb ou un alliage de nickel et de chrome, ledit métal ou alliage étant éventuellement nitruré. 9. Article verrier selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier: 7. Glass article according to one of the preceding claims, wherein the stack further incorporates, underneath, and / or possibly above, the titanium oxynitride layer, a layer of a metal, possibly partially or totally oxidized and / or nitrided, said metal being based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer having a thickness of less than 5 nm, preferably Thickness less than 3 nm. 8. Glass article according to the preceding claim, wherein the metal is selected from Ti, Nb or an alloy of nickel and chromium, said metal or alloy being optionally nitrided. 9. Glass article according to one of the preceding claims, wherein the stack comprises or consists of the succession of subsequent layers, from the surface of the glass substrate:
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et a layer based on silicon nitride, with a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and
70 nm, 70 nm,
- éventuellement une couche d'un métal, éventuellement partiellement ou totalement oxydée et/ou nitrurée, ledit métal étant à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche ayant une épaisseur inférieure à 5 nm de préférence inférieure à 3 nm,optionally a layer of a metal, possibly partially or completely oxidized and / or nitrided, said metal being based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer having a thickness less than 5 nm, preferably less than 3 nm,
- une couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 15 et 60 nanomètres, et de préférence encore entre 15 et 50 nanomètres a titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , with a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 15 and 60 nanometers, and more preferably between 15 and 50 nanometers
- de préférence une couche d'un métal, éventuellement partiellement ou totalement nitrurée, ledit métal étant à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, de préférence encore une couche d'un nitrure de nickel et de chrome, ladite couche ayant une épaisseur inférieure à 6 nm,  preferably a layer of a metal, possibly partially or completely nitrided, said metal being based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, more preferably one layer of a nitride of nickel and chromium, said layer having a thickness of less than 6 nm,
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et a layer based on silicon nitride, with a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and
70 nm 70 nm
- éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium ou à base d'un oxyde de silicium.  optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium or based on a silicon oxide.
Article verrier selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier: Glass article according to one of the preceding claims, in which the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et 70 nm,  a layer based on silicon nitride, having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
une première couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 1,00 < x < 1,20 et dans laquelle 0,01 < y < 0,10, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 20 et 60 nanomètres, et de préférence encore entre 30 et 50 nanomètres, - une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et 70 nm, a first titanium oxynitride layer of the general formula TiN x O y , wherein 1.00 <x <1.20 and wherein 0.01 <y <0.10, having a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 20 and 60 nanometers, and more preferably between 30 and 50 nanometers, a layer based on silicon nitride, having a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
- une deuxième couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 1,00 < x < 1,20 et dans laquelle 0,01 < y < 0,10, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 20 et 60 nanomètres, et de préférence encore entre 30 et 50 nanomètres,a second titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , in which 1.00 <x <1.20 and in which 0.01 <y <0.10, with a thickness of between 10 and 80 nm preferably between 20 and 60 nanometers, and more preferably between 30 and 50 nanometers,
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 eta layer based on silicon nitride, with a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and
70 nm, 70 nm,
éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium.  optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium.
11. Article verrier selon l'une des revendications 1 à 6, comprenant au moins un substrat verrier et un empilement de couches déposées sur au moins une face dudit substrat, ledit empilement de couches comprenant au moins: 11. A glass article according to one of claims 1 to 6, comprising at least one glass substrate and a stack of layers deposited on at least one face of said substrate, said stack of layers comprising at least:
- une première couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 1,00 < x < 1,20 et dans laquelle 0,01 < y < 0,10, l'épaisseur de ladite première couche d'oxynitrure de titane étant comprise entre 10 et 80 nanomètres, a first titanium oxynitride layer of the general formula TiN x O y , in which 1.00 <x <1.20 and in which 0.01 <y <0.10, the thickness of said first layer of titanium oxynitride being between 10 and 80 nanometers,
- une seconde couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite seconde couche étant éventuellement nitrurée,  a second metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said second layer possibly being nitrided,
ladite seconde couche étant disposée entre la première couche d'oxynitrure de titane et ladite face dudit substrat . said second layer being disposed between the first titanium oxynitride layer and said face of said substrate.
12. Article verrier selon la revendication précédente, dans lequel ladite seconde couche métallique est à base de nitrure de chrome et de nickel (NiCrN) . 13. Article verrier selon l'une des revendications 11 ou 12, dans lequel l'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier: 12. Glass article according to the preceding claim, wherein said second metal layer is based on chromium nitride and nickel (NiCrN). 13. Glass article according to one of claims 11 or 12, wherein the stack comprises or consists of the succession of subsequent layers, from the surface of the glass substrate:
- au moins ladite seconde couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée,  at least said second metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided,
- éventuellement une ou plusieurs couches inférieures de matériaux diélectriques, notamment à base de nitrure de silicium, d'épaisseur, au total, comprise entre 10 et 120 nm,  optionally one or more lower layers of dielectric materials, in particular based on silicon nitride, having a total thickness of between 10 and 120 nm,
- ladite première couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 0,01 < y < 0,10, de préférence dans laquelle 0,02 < y < 0,08, et dans laquelle 1,00 < x < 1,20, de préférence dans laquelle 1,05 < x < 1,18, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 10 et 30 nanomètres, et de préférence encore entre 10 et 25 nanomètres,said first titanium oxynitride layer of the general formula TiN x O y , in which 0.01 <y <0.10, preferably in which 0.02 <y <0.08, and in which 1.00 < x <1.20, preferably wherein 1.05 <x <1.18, of thickness between 10 and 80 nm, preferably between 10 and 30 nanometers, and more preferably between 10 and 25 nanometers,
- éventuellement au moins une couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée, optionally at least one metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided,
- une ou plusieurs couches supérieures de matériaux diélectriques, notamment à base de nitrure de silicium, d'épaisseur physique, au total, comprise entre 10 et 100 nm  one or more upper layers of dielectric materials, in particular based on silicon nitride, with a total physical thickness of between 10 and 100 nm
- éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium. Article verrier selon l'une des revendications 11 à 13, dans lequel l'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier: optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium. Glass article according to one of Claims 11 to 13, in which the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
une couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée, ladite couche ayant une épaisseur comprise entre 3 et 15 nanomètres, de préférence entre 5 et 10 nanomètres, ladite couche étant de préférence une couche de nickel et de chrome, de préférence encore nitrurée ,  a metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided, said layer having a thickness of between 3 and 15 nanometers, preferably between 5 and 10 nanometers, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, more preferably nitride,
une couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 0,01 < y < 0,10, de préférence 0,02 < y < 0,08 et dans laquelle 1,00 < x < 1,20, de préférence 1,05 < x < 1,18, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 10 et 30 nanomètres, et de préférence encore entre 10 et 25 nanomètres, une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 25 et 70 nm, a titanium oxynitride layer of the general formula TiN x O y , wherein 0.01 <y <0.10, preferably 0.02 <y <0.08 and wherein 1.00 <x <1.20 , preferably 1.05 <x <1.18, of thickness between 10 and 80 nm, preferably between 10 and 30 nanometers, and more preferably between 10 and 25 nanometers, a layer based on silicon nitride, with a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 25 and 70 nm,
éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium.  optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium.
Article verrier selon l'une des revendications 11 à 13, dans lequel l'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier: Glass article according to one of Claims 11 to 13, in which the stack comprises or consists of the succession of the following layers, starting from the surface of the glass substrate:
une couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée, ladite couche ayant une épaisseur comprise entre 3 et 15 nanomètres, de préférence entre 5 et 10 nanomètres, ladite couche étant de préférence une couche de nickel et de chrome, préfèrent iellement nitrurée , a metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided, said layer having a thickness of between 3 and 15 nanometers, preferably between 5 and 10 nanometers, said layer preferably being a layer of nickel and chromium, preferably i.e.
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 50 et 120 nm, de préférence entre 70 et 100 nm,  a layer based on silicon nitride, with a thickness of between 50 and 120 nm, preferably between 70 and 100 nm,
- une couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 0,01 < y < 0,10, de préférence 0,02 < y < 0,08 et dans laquelle 1,00 < x < 1,20, de préférence 1,05 < x < 1,18, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 10 et 50 nanomètres, et de préférence encore entre 10 et 30 nanomètres,a titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , in which 0.01 <y <0.10, preferably 0.02 <y <0.08 and in which 1.00 <x <1, 20, preferably 1.05 <x <1.18, with a thickness of between 10 and 80 nm, preferably between 10 and 50 nanometers, and more preferably between 10 and 30 nanometers,
- une couche à base de nitrure de silicium, d'épaisseur comprise entre 20 et 80 nm, de préférence entre 30 eta layer based on silicon nitride, with a thickness of between 20 and 80 nm, preferably between 30 and
60 nm, 60 nm,
- éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium.  optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium.
16. Article verrier selon l'une des revendications 1 à 6, dans lequel l'empilement comprend ou est constitué par la succession des couches suivantes, à partir de la surface du substrat verrier: 16. A glass article according to one of claims 1 to 6, wherein the stack comprises or consists of the succession of subsequent layers, from the surface of the glass substrate:
- au moins ladite seconde couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée,  at least said second metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided,
- éventuellement une ou plusieurs couches inférieures de matériaux diélectriques, notamment à base de nitrure de silicium, d'épaisseur, au total, comprise entre 10 et 120 nm,  optionally one or more lower layers of dielectric materials, in particular based on silicon nitride, having a total thickness of between 10 and 120 nm,
- ladite première couche d'oxynitrure de titane de formule générale TiNxOy, dans laquelle 0,01 < y < 0,10, de préférence dans laquelle 0,02 < y < 0,08, et dans laquelle 1,00 < x < 1,20, de préférence dans laquelle 1,05 < x < 1,18, d'épaisseur comprise entre 10 et 80 nm, de préférence entre 10 et 30 nanomètres, et de préférence encore entre 10 et 25 nanomètres,said first titanium oxynitride layer of general formula TiN x O y , wherein 0.01 <y < 0.10, preferably wherein 0.02 <y <0.08, and wherein 1.00 <x <1.20, preferably wherein 1.05 <x <1.18, of thickness between 10 and 80 nm, preferably between 10 and 30 nanometers, and more preferably between 10 and 25 nanometers,
- éventuellement au moins une couche métallique à base de chrome, de nickel, de titane, de niobium ou d'un mélange d'au moins deux de ces éléments, ladite couche étant éventuellement nitrurée, optionally at least one metal layer based on chromium, nickel, titanium, niobium or a mixture of at least two of these elements, said layer possibly being nitrided,
- une ou plusieurs couches supérieures de matériaux diélectriques, notamment à base de nitrure de silicium, d'épaisseur physique, au total, comprise entre 10 et 100 nm  one or more upper layers of dielectric materials, in particular based on silicon nitride, with a total physical thickness of between 10 and 100 nm
- éventuellement une couche supérieure à base d'un oxyde de titane, d'un oxyde de zirconium ou d'un oxyde de titane et de zirconium.  optionally an upper layer based on a titanium oxide, a zirconium oxide or an oxide of titanium and zirconium.
Article verrier selon l'une des revendications précédentes, dans lequel ledit article est un vitrage ne comprenant qu'un seul substrat verrier. Glass article according to one of the preceding claims, wherein said article is a glazing comprising only one glass substrate.
Article verrier selon la revendication précédente, dans lequel ledit article a subi un traitement thermique tel qu'une trempe, un bombage ou encore un recuit. Glass article according to the preceding claim, wherein said article has undergone a heat treatment such as quenching, bending or annealing.
Article verrier selon l'une des revendications 1 à 16, dans lequel ledit article est un vitrage feuilleté constitué par un ensemble d'au moins deux substrats verriers liés entre eux par un feuillet thermoplastique, notamment de polyvinyl butyral (PVB) . Glass article according to one of claims 1 to 16, wherein said article is a laminated glazing consisting of a set of at least two glass substrates interconnected by a thermoplastic sheet, in particular polyvinyl butyral (PVB).
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