WO2018131863A1 - 코팅유리 및 이를 포함하는 접합유리 - Google Patents

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WO2018131863A1
WO2018131863A1 PCT/KR2018/000390 KR2018000390W WO2018131863A1 WO 2018131863 A1 WO2018131863 A1 WO 2018131863A1 KR 2018000390 W KR2018000390 W KR 2018000390W WO 2018131863 A1 WO2018131863 A1 WO 2018131863A1
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dielectric layer
conductive metal
glass
functional conductive
layer
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PCT/KR2018/000390
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윤윤희
강현민
오영훈
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주식회사 케이씨씨
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00—Ohmic-resistance heating
    • H05B3/84—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00—Ohmic-resistance heating
    • H05B3/84—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields
    • H05B3/86—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields the heating conductors being embedded in the transparent or reflecting material

Definitions

  • the present invention relates to a coated glass and a laminated glass comprising the same.
  • Transparent heating coating technology for glass has been used to solve the accident problem caused by the difficulty of securing visibility due to the frost of the outer and outer shaft glass due to the indoor and outdoor temperature difference, such as winter.
  • transparent heat-coated glass when transparent heat-coated glass is applied to a window pane of an automobile, laminated glass in which the transparent heat-coated glass is bonded to another glass substrate by a polymer film in order to reduce scattering of glass fragments due to external impact. Since it is provided as may cause a decrease in the visible light transmittance accordingly.
  • the transparent heating coated glass applied to the window glass of the car uses a lower voltage than the transparent heating coating technology applied to the building swimming pool and the transparent freezer door, so it has low surface resistance due to high conductivity and high transmittance for ensuring visibility. Should have
  • the functional conductive metal layer such as the silver layer
  • the decrease in the visible light transmittance can be minimized, so that the coating having low resistance and high visible light transmittance suitable for practical use in various applications such as building or automotive window glass Development of glass or laminated glass is required.
  • the present invention can minimize the deterioration of the visible light transmittance while the overall thickness of the functional conductive metal layer such as the silver layer is secured to a certain level, thereby providing a low resistance and high visible light transmittance suitable for practical use in various applications such as building window panes and automotive window panes.
  • Eggplant provides a coated glass and laminated glass comprising the same.
  • the present invention provides a first glass substrate, a first dielectric layer sequentially formed on the first glass substrate, a first functional conductive metal layer, a second dielectric layer, a second functional conductive metal layer, a third dielectric layer, a third functional conductive metal layer, and a first 4 comprising a dielectric layer, wherein the physical thickness ratio of the first functional conductive metal layer to the total thickness of the first, second and third functional conductive metal layers is 25 to 30%, wherein the first, second and third functional conductive metal layers The physical thickness ratio of the second and third functional conductive metal layers to the total physical thickness of is 35 to 37.5%, respectively, and the total physical thickness of the first, second and third functional conductive metal layers is 34 to 40 nm.
  • the optical thickness ratio of the fourth dielectric layer to the optical thickness of the first dielectric layer is 0.9 to 1.2, and the optical thickness ratio of the third dielectric layer to the optical thickness of the second dielectric layer is 1.0 to 1.2.
  • Phosphorus and coated glass can be provided.
  • the coated glass may be heat treatable.
  • the coating glass may have a visible light transmittance of 70% or more (A light).
  • the coated glass may have a surface resistance of 1.0 ⁇ / sq or less.
  • the coated glass may further include a barrier layer on at least one of upper and lower layers of the first, second and third functional conductive metal layers.
  • the barrier layer may be at least one of Ni, Cr, Ni-Cr alloy and NiCrNx (where x is 0.1 to 10).
  • At least one of the first, second, third and fourth dielectric layers each comprises a main dielectric layer comprising a Si based nitride or a Ti based oxide and at least one sub including a Zn based oxide. It may comprise a dielectric layer.
  • the topmost protective layer comprises TiOxNy, where 0 ⁇ x ⁇ 2.5, 0 ⁇ y ⁇ 0.6, x: y is 100 mol%: 0 mol% to 75 mol%: 25 It may be mole%.
  • the first, second and third functional conductive metal layers may include those selected from Ag, Au, Cu and combinations thereof.
  • the present invention provides a step of providing a first glass substrate, a first dielectric layer, a first functional conductive metal layer, a second dielectric layer, a second functional conductive metal layer, a third dielectric layer, a third functional layer sequentially on the first glass substrate.
  • Forming a conductive metal layer and a fourth dielectric layer wherein the physical thickness ratio of the first functional conductive metal layer to the total thickness of the first, second and third functional conductive metal layers is 25 to 30%, wherein the first, The ratio of the physical thickness of the second and third functional conductive metal layers to the total physical thickness of the second and third functional conductive metal layers is 35 to 37.5%, respectively, and the total physical thickness of the first, second and third functional conductive metal layers.
  • the thickness is 34 to 40 nm
  • the optical thickness ratio of the fourth dielectric layer to the optical thickness of the first dielectric layer is 0.9 to 1.2
  • the third dielectric to the optical thickness of the second dielectric layer is 1.0 to 1.2
  • the formation of the layers provides a method of coating glass are carried out by sputter deposition.
  • a laminated glass comprising the coating glass, a polymer film laminated on the coating glass and a second glass substrate laminated on the polymer film.
  • the laminated glass may be one containing a visible light transmittance of 70% or more.
  • the laminated glass may be one containing a surface resistance of 1.0 ⁇ / sq or less.
  • the present invention can be useful as a coating glass for various applications, such as architectural glazing, automotive glazing, as the overall thickness of the functional conductive metal layer, such as a silver layer, is secured to a certain level, while the resistance is low and the degradation of visible light transmittance can be minimized. Can be used.
  • 1 is a penetration view of a coated glass according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a penetration view of the coated glass according to another embodiment of the present invention.
  • 3 is a penetration view of the coated glass according to another embodiment of the present invention.
  • Figure 4 is a penetrating view of the coated glass according to another embodiment of the present invention.
  • the coated glass 1 of the present invention comprises first, second and third functional conductive metal layers 5, 9 and 13 and first, second, third and fourth dielectric layers 3 and 7. , 11 and 15).
  • the coating glass 1 is sequentially formed on the first glass substrate 2, the first dielectric layer 3, the first functional conductive metal layer 5, the second dielectric layer 7, the second functional conductive metal layer 9,
  • the third dielectric layer 11, the third functional conductive metal layer 13, and the fourth dielectric layer 15 may be coated with glass.
  • the physical thickness ratio of each of the functional conductive metal layers 5, 9, and 13 has a specific ratio
  • an optical thickness ratio between each of the dielectric layers 3, 7, 11, and 15 has a specific ratio of coated glass ( May be 1).
  • Coating glass 1 according to an embodiment of the present invention may be heat treatment possible.
  • the coating glass 1 may have a visible light transmittance of 70% or more (A light) after heat treatment, and a sheet resistance of 1.0 ⁇ / sq or less.
  • the coated glass 1 according to the embodiment of the present invention may have a visible light transmittance of 70% or more, preferably 72% or more, and a sheet resistance of 1.0 ⁇ / sq or less under a D65 light standard light source of 380 to 780 nm. have.
  • the first glass substrate 2 may be a conventional glass, for example, soda-lime glass used for building or automobile.
  • a glass having a thickness of 2 to 12mm depending on the purpose of use for example, soda-lime glass having a thickness of 2.1 mm can be used, but is not limited thereto.
  • the first, second and third functional conductive metal layers 5, 9 and 13 are respectively coated between the dielectric layers and selectively transmit solar visible light and provide high conductivity relative to transmittance.
  • the first, second and third functional conductive metal layers 5, 9 and 13 may comprise a material selected from Ag, Au, Cu and combinations thereof.
  • at least one of the first, second and third functional conductive metal layers 5, 9 and 13 may comprise Ag which best matches high transmittance and good conductivity in the visible region.
  • the overall physical thickness of the first, second and third functional conductive metal layers 5, 9 and 13 may be 34 to 40 nm.
  • the physical thickness ratio of the first functional conductive metal layer 5 to the total physical thickness of the first, second and third functional conductive metal layers 5, 9, and 13 may be 25 to 30%. Further, the physical thickness ratios of the second and third functional conductive metal layers 9 and 13 to the total physical thicknesses of the first, second and third functional conductive metal layers 5, 9 and 13 may be 35 to 37.5%, respectively. Can be. In the thickness ratio range of the functional conductive metal layer, the total physical thickness of the silver layer may be secured to a certain level, and may exhibit high visible light transmittance of 70% or more while exhibiting low sheet resistance of 1.0 ⁇ / sq or less.
  • each layer of the first to third functional conductive metal layers 5, 9 and 13 may each independently range from 8 to 16 nm, for example from 9 to 14 nm.
  • the first to third functional conductive metal layers 5, 9 and 13 may not be formed normally, and thus electrical conduction performance may be insufficient. If it exceeds 16 nm, the transmittance may decrease, and the reflectance may increase, thereby reducing visibility.
  • the first to fourth dielectric layers 3, 7, 11, and 15 block oxygen or ions transferred to the first to third functional conductive metal layers 5, 9, and 13 during heat treatment such as reinforcement and bending. Play a role.
  • the optical thickness ratio of the fourth dielectric layer 15 to the optical thickness of the first dielectric layer 3 may be 0.9 to 1.2, and the optical thickness of the third dielectric layer 11 to the optical thickness of the second dielectric layer 7.
  • the ratio may be 1.0 to 1.2.
  • the optical thickness of the third dielectric layer 11 may be thicker than the optical thickness of the second dielectric layer 7. It can exhibit low surface resistance (electrical conductivity) and high visible light transmittance after heat treatment within the thickness ratio range between the dielectric layers.
  • each of the first dielectric layer 3 and the fourth dielectric layer 15 is 38 to 100 nm, specifically 59 to 96 nm, based on the wavelength of 550 nm, and their total thickness may be 76 to 200 nm.
  • a second dielectric layer 7 and a third dielectric layer 11 are positioned between the first dielectric layer 3 and the fourth dielectric layer 15.
  • the optical thickness of each of the second dielectric layer 7 and the third dielectric layer 11 may be 80 to 200 nm, specifically 148 to 192 nm based on a wavelength of 550 nm, and their total thickness may be 160 to 400 nm.
  • the term "optical thickness” is the thickness obtained by "physical thickness of the layer x refractive index of the material used in that layer".
  • the refractive index differs depending on the material used for the dielectric layer, and accordingly, the physical thickness of the dielectric layer is adjusted according to the material used for the dielectric layer to satisfy the optical thickness range.
  • the refractive index of SiNx 1.0 ⁇ x ⁇ 1.5
  • the refractive index of TiOx (0 ⁇ x ⁇ 2.5) is 2.43
  • the refractive index of ZnOx 1.5 ⁇ x ⁇ 2.0
  • At least one of the first to fourth dielectric layers 3, 7, 11 and 15 may be a main dielectric layer 3.1, 7.1, 11.1 and 15.1 and at least one sub dielectric layer 3. 2, 7.2, 7.3, respectively. , 11.2, 11.3 and 15.2).
  • at least one of the first to fourth dielectric layers 3, 7, 11, and 15 may have a sub-dielectric layer formed on at least one of the upper and lower portions of the main dielectric layer.
  • the main dielectric layer may be thicker than the sub dielectric layer.
  • the main dielectric layer and the sub dielectric layer included in the first dielectric layer 3 are described as the first main dielectric layer 3.1 and the first sub dielectric layer 3.2, respectively.
  • the main dielectric layer and the sub dielectric layer included in the second dielectric layer 7 are described as the second main dielectric layer 7.1, the second sub dielectric layer 7.2, and the third sub dielectric layer 7.3, respectively.
  • the main dielectric layer and the sub dielectric layer included in the third dielectric layer 11 are described as the third main dielectric layer 11.1, the fourth sub dielectric layer 11.2, and the fifth sub dielectric layer 11.3, respectively.
  • the main dielectric layer and the sub dielectric layer included in the fourth dielectric layer 15 are described as the fourth main dielectric layer 15.1 and the sixth sub dielectric layer 15.2, respectively.
  • the first to fourth main dielectric layers 3.1, 7.1, 11.1, and 15.1 may block Na + diffused from the lower soda lime glass during heat treatment for reinforcement and bending, and oxygen may be transferred to the functional conductive metal layer. It blocks the ions.
  • the optical thicknesses of the main dielectric layers 3.1, 7.1, 11.1, and 15.1 may range from 38 to 200 nm, eg, 59 to 192 nm, based on the 550 nm wavelength. If the optical thickness of the main dielectric layer (3.1, 7.1, 11.1 and 15.1) is less than 38nm or more than 200nm based on the 550nm wavelength, there may be a problem that the durability and chemical resistance of the coating glass or the optical properties are degraded. More specifically, the optical thicknesses of the first main dielectric layer 3.1 directly formed on the first glass substrate 2 and the fourth main dielectric layer 15. 1 formed at the end of the multilayer coating structure are each independently 38 to 100 nm.
  • the second main dielectric layer 7.1 and the third main dielectric layer 11. 1 formed in the middle of the coated glass 1 in the range of 59 to 96 nm may be independently 80 to 200 nm, for example. , 148 to 192 nm.
  • the optical thickness ratio of the fourth main dielectric layer to the optical thickness of the first main dielectric layer formed on the first glass substrate is 0.9 to 1.2, and the optical thickness ratio of the third main dielectric layer to the optical thickness of the second main dielectric layer is 1.0. To 1.2. In this case, the optical thickness of the third main dielectric layer may be thicker than the optical thickness of the second main dielectric layer.
  • the main dielectric layer (3.1, 7.1, 11.1 and 15.1) may include Si-based nitride (SiNx, 1.0 ⁇ x ⁇ 1.5) or Ti-based oxide (TiOx, 0 ⁇ x ⁇ 2.5).
  • the Si-based nitride may further include one or more elements selected from Zr, Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, Ti, and Ni.
  • the Si-based nitride may be Si-based nitride containing Al.
  • the Ti-based oxide may further include one or more elements selected from Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, and Ni.
  • Si or Ti content may be 80% by weight, for example, 80 to 99% by weight, more preferably 90 to 99% by weight, It is not limited.
  • the main dielectric layers 3.1, 7.1, 11.1, and 15.1 may use Ti-based oxides to further improve visible light transmittance.
  • the first to sixth sub dielectric layers 3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3, and 15.2 may include Zn-based oxides (SiNx, 1.5 ⁇ x ⁇ 2.0).
  • the Zn-based oxide may further include a Zn-based oxide further containing at least one element selected from Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, Ti, and Ni, for example, a Zn-based oxide containing Al. Can be.
  • Each sub-dielectric layer is positioned above and below the functional conductive metal layers 5, 9 and 13 to induce crystallization of the functional conductive metal layers 5, 9 and 13 well.
  • an oxygen defect is prevented from being diffused into dielectric layers positioned above and below the heat treated functional conductive metal layers 5, 9, and 13, and an optical defect such as agglomeration is performed. This can be suppressed from occurring.
  • X-Ray Diffractrometer (XRD) analysis shows that the Zn-based layer surface and the first to third functional conduction of the first to sixth sub-dielectric layers (3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 and 15.2)
  • the peak of the Ag layer surface which is the metal layers 5, 9 and 13, appears, which means that the Zn-based layer and the Ag layer have crystallinity.
  • crystallinity may improve crystallization of the functional conductive metal layers 5, 9, and 13, thereby reducing the sheet resistance of the coated glass, thereby improving heat generation performance.
  • the first to sixth sub-dielectric layers (3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 and 15.2) have a Zn content of 85 wt% or more, for example, in order to facilitate crystallization of the functional conductive metal layers 5, 9 and 13. , 85 to 99% by weight, more preferably 92 to 99% by weight, but is not limited thereto.
  • the physical thickness of each of the sub dielectric layers 3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3, and 15.2 may be 5 to 20 nm, preferably 5 to 15 mm, more preferably 7 to 12 mm. Can be. If the physical thickness of each of the sub-dielectric layers (3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3, and 15.2) is less than 5 mm, the crystallization of the functional conductive metal layers (5, 9, and 13) may not be performed well. There may be a problem of this lowering.
  • Figure 3 is a penetration of the coated glass according to another embodiment of the present invention
  • Figure 4 is a penetration of the coated glass according to another embodiment of the present invention.
  • the barrier layer 6 may be further included in at least one of upper and lower portions of the first, second and third functional conductive metal layers 5, 9, and 13.
  • the barrier layer 6 may include at least one of Ni, Cr, Ni-Cr alloy, and NiCrNx.
  • the barrier layer 6 may include Ni-Cr alloy. In the case of Ni-Cr alloys, it is preferable that they are alloys of 75 to 85 wt% Ni and 15 to 25 wt% Cr.
  • X may be 0.1 to 10.
  • the barrier layer 6 serves as a barrier to prevent the movement of Na + and O 2 in the air diffused from the first glass substrate 2 during heat treatment for reinforcement and bending, and the functional conductive metal layers 5, 9 and 13. ) Serves to assist the fusion of the functional conductive metal layers 5, 9 and 13 to enable stable behavior even under high heat treatment conditions. Finally, it absorbs O 2 penetrating into the functional conductive metal layers 5, 9 and 13 to help maintain electrical conduction performance.
  • the physical thickness of the barrier layer 6 may be each independently preferably in the range of 0.1 to 5 nm, more preferably 0.2 to 2.5 nm. If the thickness of the barrier layer 6 is less than 0.1 nm, there may be a problem that the cloudyness of the coated glass is increased after the heat treatment and the bending process. If the thickness of the barrier layer 6 is greater than 5 nm, the transmittance is lowered or the cloudyness of the coated glass is also increased after the heat treatment and the bending process. There may be a problem.
  • the uppermost protective layer 17 may be further included on the fourth dielectric layer 15 of the coated glass 1 of the present invention.
  • the top protective layer 17 comprises TiOxNy using a TiOx (0 ⁇ x ⁇ 2.5) ceramic material, where 0 ⁇ x ⁇ 2.5, 0 ⁇ y ⁇ 0.6, y / x ⁇ 1, for example , x: y may be 100 mol%: 0 mol% to 75 mol%: 25 mol% based on 100 mol% of the sum of x and y.
  • the uppermost protective layer 17 may reduce surface roughness, increase scratch resistance, and increase mechanical and chemical durability of the coated glass 1.
  • the physical thickness of the top protective layer 17 may be 2 to 15 nm, preferably 2 to 9 nm. If the thickness of the uppermost protective layer 17 is less than 2 nm, the durability may be lowered. If the thickness of the uppermost protective layer 17 is more than 15 nm, the transmittance may be reduced or cause blur.
  • the coating glass 1 of the present invention may include a first glass substrate, at least three transparent conductor multilayer coating film sets formed on the first glass substrate, and an additional dielectric layer formed on the transparent conductor multilayer coating film sets. Can be.
  • the coating glass 1 may include a first glass substrate 2 and a set of first to third transparent conductor multilayer coating layers 4, 1, 4, formed on the first glass substrate 2. 2 and 4,3), the fourth dielectric layer 15 and the uppermost protective layer 17 formed on the first to third transparent conductor multilayer coating film sets 4,1, 4,2 and 4,3. can do.
  • the first to third transparent conductor multilayer coating film sets 4, 1, 4, 2, and 4, 3 may include first to third functional conductive metal layers 5, 9, and 13, and first to third dielectric layers 3,. 7 and 11), respectively.
  • the first to third transparent conductor multilayer coating film sets 4, 1, 4, 2, and 4, 3 further include at least one barrier layer.
  • the first transparent conductor multilayer coating film set 4.1 includes a first dielectric layer 3, a barrier layer 6, a first functional conductive metal layer 5 and a barrier layer 6 sequentially coated.
  • the second transparent conductor multilayer coating film set (4.2) comprises a second dielectric layer (7), a barrier layer (6), a second functional conductive metal layer (9) and a barrier layer (6) sequentially coated, and
  • the third transparent conductor multilayer coating layer set 4.3 may include a third dielectric layer 11, a barrier layer 6, a third functional conductive metal layer 13, and a barrier layer 6 sequentially coated.
  • coated glass of the present invention may have any one of the following multilayer structures, but the present invention is not limited thereto.
  • the transparent conductor multilayer coating film set may independently have any one of the following multilayer structures:
  • the first, second, third and fourth dielectric layers may each include a main dielectric layer and at least one sub dielectric layer. At least one of the first to fourth dielectric layers may have a sub dielectric layer formed on at least one of an upper portion and a lower portion of the main dielectric layer.
  • the coated glass of the present invention may further include a functional layer conventionally adopted for the coated glass within the scope of achieving the object of the present invention.
  • Such a method of manufacturing the coated glass 1 of the present invention is as follows.
  • Method for producing a coated glass (1) of the present invention comprises the steps of providing a first glass substrate; Sequentially forming a first dielectric layer, a first functional conductive metal layer, a second dielectric layer, a second functional conductive metal layer, a third dielectric layer, a third functional conductive metal layer, and a fourth dielectric layer on the first glass substrate, The formation of each of the layers can be performed by sputter deposition.
  • the coated glass of the present invention may be manufactured by the following procedure. First, into a glass substrate in a vacuum chamber vacuum is 5 ⁇ 10 - may be evacuated until the 6 torr to form a vacuum of 7 to 9 ⁇ 10. After injecting argon (Ar), oxygen (O 2 ), nitrogen (N 2 ) gas into the vacuum chamber and applying a direct current or an alternating voltage between the two electrodes, a discharge occurs. As gas ions collide with a cathode provided with a metal target to be deposited on the substrate, atoms may be released from the metal target and stacked on the substrate.
  • Ar argon
  • O 2 oxygen
  • N 2 nitrogen
  • An appropriate gas may be introduced according to the type of coating film to be laminated, and the thickness of the coating film to be formed may be appropriately controlled by appropriately adjusting the deposition rate of each coating film and the time exposed to the sputtering process. At this time, there is no particular limitation on the temperature of the substrate.
  • the coated glass of the present invention can be prepared by sequentially coating the functional layers onto the first glass substrate using a tubular Magnettron sputter coater.
  • argon and nitrogen are used to coat the nitride film
  • a SiAl metal target may be used and the ratio of nitrogen in the mixed gas may be 45 to 60% by volume. If the ratio of nitrogen is too high, the deposition rate of the film is lowered. If the ratio of nitrogen is too low, the absorption coefficient may be high, and thus high transmittance may not be realized.
  • the oxide film is coated using argon and oxygen, the ratio of oxygen in the mixed gas using the ZnAl metal target is 80 to 90% by volume or the ratio of oxygen in the mixed gas is 5 to 20% by volume using the ZnAlOx ceramic target. May be suitable. If the ratio of oxygen is too high, the functional conductive metal layer (eg, Ag layer) may be oxidized during the coating process. If the ratio of oxygen is too low, it may be coated with a metal film instead of a partial oxide film
  • the coated glass prepared as described above may be heat treated.
  • the heat treatment may be performed for 10 to 20 minutes at a temperature of 650 to 750 °C. Outside the heat treatment temperature and time may reduce the surface stress of each coating film coated on the first glass substrate, which may cause a problem that the coating film may be peeled off.
  • the laminated glass of the present invention includes a polymer film laminated on the above-described coating glass and a second glass substrate laminated on the polymer film.
  • the laminated glass is based on 5.72T laminated glass (e.g., coated glass (2.1T) / polymer (e.g. PVB) film (1.52T) / second glass substrate (e.g. CLR glass) (2.1T))
  • 5.72T laminated glass e.g., coated glass (2.1T) / polymer (e.g. PVB) film (1.52T) / second glass substrate (e.g. CLR glass) (2.1T)
  • the visible light transmittance may be 70% or more, and the sheet resistance may be 1.0 ⁇ / sq or less.
  • the physical thickness ratio of the functional conductive metal layers included in the above-described coating glass and the optical thickness ratio between the dielectric layers may be controlled such that the visible light transmittance of the laminated glass is 70% or more (A light) and the sheet resistance is 1.0 ⁇ / sq or less. have.
  • the polymer film laminated on the coating glass may be used by adopting a (co) polymer film having a material and thickness that is commonly used as a bonding layer of laminated glass in the art without particular limitation.
  • a polymer film a polyvinyl butyral (PVB) film, a polyester film, an ethylene vinyl acetate (EVA) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, or the like may be used, and in particular, a polyvinyl butyral (PVB) film may be used.
  • the thickness may be 0.1 to 2mm, for example, 1.2 to 1.7mm level, but is not limited thereto.
  • the second glass substrate laminated on the polymer film may be the same material and thickness range as the first glass substrate of the coating glass.
  • the method of manufacturing the laminated glass there is no particular limitation on the method of manufacturing the laminated glass, and the conventional laminated glass manufacturing method and equipment may be used as it is or modified appropriately.
  • the coated glass and the second glass substrate as described above are cut and chamfered and then washed.
  • the laminated glass of the present invention may be manufactured through a process of simultaneously forming a curved molding and a compressive stress by heat treatment at a temperature of 650 to 750 ° C. between the second glass substrate and the coated glass as described above through a polymer film. .
  • coating glass was prepared by forming layers having a composition and thickness shown in Table 1 below on a 2.1 mm thick glass substrate.
  • x is 1.0 to 1.5 in SiNx
  • x is 1.5 to 2.0 in ZnOx
  • x is 0 ⁇ x ⁇ 2.5
  • y is 0 ⁇ y ⁇ 0.6 in TiOxNy.
  • the physical thickness ratio of the first functional conductive metal layer to the total physical thickness of the first, second and third functional conductive metal layers is 25 to 30%, and the first and second The ratio of the physical thickness of the second and third functional conductive metal layers to the total physical thickness of the second and third functional conductive metal layers is 35 to 37.5%, respectively, and the total physical thickness of the first, second and third functional conductive metal layers.
  • the optical thickness ratio of the fourth dielectric layer to the optical thickness of the first dielectric layer is 0.9 to 1.2
  • the optical thickness ratio of the third dielectric layer to the optical thickness of the second dielectric layer is 1.0 to 1.2. It has a phosphorus coating film structure.
  • the physical thickness ratio of the first, second and third functional conductive metal layers was out of the above range, and the coated glass prepared according to Comparative Example 3 had optical properties of the dielectric layer.
  • the thickness ratio is out of the above range.
  • Example 1 Glass / SiNx (63.8) / ZnOx (7) / Ag (9.6) / NiCr (0.2) / ZnOx (7) / SiNx (151.5) / ZnOx (7) / Ag (12.4) / NiCr (0.2) / ZnOx (7 ) / SiNx (159.5) / ZnOx (7) / Ag (12.4) / NiCr (0.36) / ZnOx (7) / SiNx (68.8) / TiOxNy (3)
  • Example 2 Glass / TiOx (63.8) / ZnOx (7) / Ag (9.6) / NiCr (0.2) / ZnOx (7) / TiOx (151.5) / ZnOx (7) / Ag (12.4) / NiCr (0.2) / ZnOx (7 ) / TiOx (159.5) / ZnOx (7) / Ag (12.4) / NiCr (0.36)
  • coating glass was prepared by forming layers having the composition and thickness shown in Table 2 below on a 2.1 mm thick first glass substrate.
  • x is 1.0 to 1.5 in SiNx
  • x is 1.5 to 2.0 in ZnOx
  • x is 0 ⁇ x ⁇ 2.5
  • y is 0 ⁇ y ⁇ 0.6 in TiOxNy.
  • the coated glass prepared according to Examples 6 to 11 has a physical thickness ratio of 25 to 30% of the total thickness of the first to third functional conductive metal layers, and the first to third functional conductive metal layers.
  • the physical thickness ratio of the second and third functional conductive metal layers to the total physical thickness is 35 to 37.5%, respectively, and the optical thickness ratio of the third dielectric layer to the optical thickness of the dielectric layer formed on the first glass substrate is 0.9 to 1.2.
  • the optical thickness ratio of the second dielectric layer to the optical thickness of the first dielectric layer has a coating film structure of 1.0 to 1.2.
  • the physical thickness ratio of the functional conductive metal layers was outside the above range
  • the coated glass prepared according to Comparative Examples 7 and 8 had an optical thickness ratio between the dielectric layers within the above range. Got out.
  • Each coated glass was bonded with a 1.52 mm thick PVB film and a 2.1 mm thick second glass substrate to prepare a 5.72T laminated glass. At this time, the bonding was performed so that the coating film of the coating glass is located outside.
  • the heat treatment was performed for 15 minutes at a temperature of 700 °C.
  • Visible light transmittance was measured according to KS L 2514 with a D65 light standard light source of 380-780 nm.
  • the sheet resistance was measured by a non-contact sheet resistance meter (717B, Delcom) at room temperature.
  • the visible light transmittance was measured according to KS A 0066 with an A light standard light source of 300 to 780 nm.
  • the sheet resistance was measured by a non-contact sheet resistance meter (717B, Delcom) at room temperature.

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Abstract

본 발명은 제1 유리 기판; 상기 제1 유리 기판 상에 순차적으로 형성된 제1 유전체층, 제1 기능성 전도 금속층, 제2 유전체층, 제2 기능성 전도 금속층, 제3 유전체층, 제3 기능성 전도 금속층 및 제4 유전체층을 포함하는 코팅유리 및 이를 포함하는 접합유리를 제공한다.

Description

코팅유리 및 이를 포함하는 접합유리
본 발명은 코팅유리 및 이를 포함하는 접합유리에 관한 것이다.
유리에 대한 투명 발열 코팅 기술은 겨울철과 같이 실내 및 실외 온도 차이에 의한 김서림 및 외축 유리의 결빙으로 인한 시인성 확보의 어려움으로부터 발생하는 사고 문제를 해결하기 위해 사용되고 있다.
상대적으로 큰 유리를 가열하기 위해서는 예를 들어 1 Ω/sq 이하의 더욱 낮은 면 저항이 요구된다. 이는 통상적으로 3 개의 은 층을 갖는 코팅유리의 개별 은 층의 두께를 증가시킴으로써 달성할 수 있다. 그러나, 은 층의 두께 증가는 가시광 투과율 저하 또는 비용 상승을 초래할 수 있다[대한민국 공개특허 제10-2014-0099548호 참조].
특히, 투명 발열 코팅된 유리가 자동차의 창유리로 적용되는 경우에는, 외부 충격에 의한 유리 파편의 비산량을 줄이기 위해 상기 투명 발열 코팅된 유리가 중합체 필름에 의해 또 다른 유리 기판과 접합된 형태의 접합유리로 제공되기 때문에 이에 따른 가시광 투과율 저하를 초래할 수 있다. 또한, 자동차의 창유리로 적용되는 투명 발열 코팅된 유리는 건축용 건물 수영장, 투명 냉동고 문에 적용된 투명 발열 코팅기술보다 낮은 전압을 사용하므로 높은 전도도에 의한 낮은 면 저항을 갖는 동시에 시인성 확보를 위한 높은 투과율도 가져야 한다.
이에, 은 층과 같은 기능성 전도 금속층의 전체 두께가 일정 수준으로 확보되면서도 가시광 투과율의 저하가 최소화될 수 있어 건축용 또는 자동차용 창유리 등의 다양한 용도로 실용화하기에 적합한 낮은 저항 및 높은 가시광 투과율을 가지는 코팅유리 또는 접합유리의 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 은 층과 같은 기능성 전도 금속층의 전체 두께가 일정 수준으로 확보되면서도 가시광 투과율의 저하가 최소화될 수 있어 건축용 창유리, 자동차용 창유리 등의 다양한 용도로 실용화하기에 적합한 낮은 저항 및 높은 가시광 투과율을 가지는 코팅유리 및 이를 포함하는 접합유리를 제공한다.
본 발명은, 제1 유리 기판, 상기 제1 유리 기판 상에 순차적으로 형성된 제1 유전체층, 제1 기능성 전도 금속층, 제2 유전체층, 제2 기능성 전도 금속층, 제3 유전체층, 제3 기능성 전도 금속층 및 제4 유전체층을 포함하고, 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 두께에 대한 제1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이며, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 상기 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%이고, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm이며, 상기 제1 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제4 유전체층의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2이며, 상기 제2 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제3 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2인, 코팅유리를 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 코팅유리는 열처리 가능한 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 코팅유리는 가시광 투과율이 70% 이상(A광)일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 코팅유리는 면 저항이 1.0 Ω/sq 이하일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 코팅유리는 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 상부 및 하부 중 적어도 하나의 층에 배리어층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 배리어층은 Ni, Cr, Ni-Cr 합금 및 NiCrNx(여기서, x는 0.1 내지 10임) 중 적어도 하나를 포함하는 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1, 제2, 제3 및 제4 유전체층 중 적어도 하나는 각각, Si계 질화물 또는 Ti계 산화물을 포함하는 메인 유전체층 및 Zn계 산화물을 포함하는 적어도 하나의 서브 유전체층을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제4 유전체층의 상부에 최상위 보호층을 더 포함하는 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 최상위 보호층은 TiOxNy를 포함하며, 여기서 0 < x ≤ 2.5이고, 0 < y ≤ 0.6이며, x : y는 100몰% : 0 몰% 내지 75몰% : 25몰%일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제1, 제2, 제3 기능성 전도 금속층은 Ag, Au, Cu 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명은 제1 유리 기판을 제공하는 단계, 상기 제1 유리 기판 상에 순차적으로 제1 유전체층, 제1 기능성 전도 금속층, 제2 유전체층, 제2 기능성 전도 금속층, 제3 유전체층, 제3 기능성 전도 금속층 및 제4 유전체층을 형성하는 단계를 포함하고, 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 두께에 대한 제1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이며, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 상기 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%이고, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm이며, 상기 제1 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제4 유전체층의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2이고, 상기 제2 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제3 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2이며, 상기 각 층들의 형성은 스퍼터링 증착에 의해 수행되는, 코팅유리의 제조방법을 제공한다.
또한, 상기 코팅유리, 상기 코팅유리 상에 적층된 중합체 필름 및 상기 중합체 필름 상에 적층된 제2 유리 기판을 포함하는 접합유리를 제공한다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 접합유리는 가시광 투과율이 70% 이상인 것을 포함하는 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 접합유리는 면 저항이 1.0Ω/sq 이하인 것을 포함하는 것일 수 있다.
본 발명은 은 층과 같은 기능성 전도 금속층의 전체 두께가 일정 수준으로 확보되면서도, 저항이 낮고, 가시광 투과율의 저하도 최소화될 수 있으므로, 건축용 창유리, 자동차용 창유리 등의 다양한 용도의 코팅유리로 유용하게 사용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다.
도 2은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다.
1. 코팅유리
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 코팅유리(1)는 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13) 및 제1, 제2, 제3 및 제4 유전체층(3, 7, 11 및 15)를 포함할 수 있다.
상기 코팅유리(1)는 제1 유리 기판(2) 상에 순차적으로 제1 유전체층(3), 제1 기능성 전도 금속층(5), 제2 유전체층(7), 제2 기능성 전도 금속층(9), 제3 유전체층(11), 제3 기능성 전도 금속층(13) 및 제4 유전체층(15)이 코팅된 유리일 수 있다. 이때, 상기 각각의 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)들의 물리적 두께 비율이 특정 비율을 갖고, 상기 각각의 유전체층(3, 7, 11 및 15)들 간의 광학적 두께 비가 특정 비를 갖는 코팅유리(1)일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 코팅유리(1)는 열처리 가능한 것일 수 있다. 또한, 상기 코팅유리(1)는 열처리 후 가시광 투과율이 70% 이상(A광)이고, 면 저항이 1.0Ω/sq 이하일 수 있다. 특히, 본 발명의 일 실시형태에 따른 코팅유리(1)는 380 내지 780nm의 D65광 표준 광원 하에서 가시광 투과율이 70% 이상이며, 바람직하게는 72% 이상이고, 면 저항이 1.0 Ω/sq 이하일 수 있다.
상기 제1 유리 기판(2)은 건축용 혹은 자동차용으로 사용되는 통상의 유리, 예를 들어 소다라임 유리가 사용될 수 있다. 또한 사용목적에 따라 2 내지 12mm의 두께를 갖는 유리를 사용할 수 있으며, 예를 들어 2.1 mm 두께의 소다라임 유리를 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)은 유전체층 사이에 각각 코팅되며, 태양광 가시광선을 선택적으로 투과시키며 투과율 대비 높은 전도성을 제공하는 역할을 한다. 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)은 Ag, Au, Cu 및 이들의 조합으로부터 선택되는 재료를 포함할 수 있다. 바람직하게는 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13) 중 적어도 하나는 가시광선 영역에서의 높은 투과율 및 우수한 전도성에 가장 잘 부합하는 Ag를 포함할 수 있다.
상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm일 수 있다.
이때, 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 전체 물리적 두께에 대한 제1 기능성 전도 금속층(5)의 물리적 두께 비율이 25 내지 30%일 수 있다. 또한, 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 전체 물리적 두께에 대한 제2 및 제3 기능성 전도 금속층(9 및 13)의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%일 수 있다. 이러한 기능성 전도 금속층의 두께 비율 범위에서 은 층의 전체 물리적 두께를 일정 수준으로 확보하여 1.0 Ω/sq 이하의 낮은 면 저항을 나타내면서도 70% 이상의 높은 가시광 투과율을 나타낼 수 있다.
상기 제1 내지 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 각각의 층의 물리적 두께는 각각 독립적으로 8 내지 16nm, 예를 들어, 9 내지 14nm의 범위일 수 있다. 상기 제1 내지 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 두께가 8nm 미만이면 상기 제1 내지 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 형성이 정상적으로 이루어지지 않아 전기 전도 성능이 충분치 못하게 될 우려가 있고, 16 nm를 초과하면 투과율이 저하되고 반사율이 높아져서 시인성을 저하시킬 수 있다.
상기 제1 유전체층 내지 제4 유전체층(3, 7, 11 및 15)은 강화, 굽힘 등의 열처리 시에 제1 내지 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)으로 전달되는 산소 또는 이온을 차단하는 역할을 한다.
상기 제1 유전체층(3)의 광학적 두께에 대한 제4 유전체층(15)의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2일 수 있고, 제2 유전체층(7)의 광학적 두께에 대한 제3 유전체층(11)의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2일 수 있다. 이 경우, 제3 유전체 층(11)의 광학적 두께가 제2 유전체층(7)의 광학적 두께 보다 두꺼울 수 있다. 이러한 유전체층들 간의 두께 비 범위 내에서 열처리 후 낮은 면 저항(전기 전도성)과 높은 가시광 투과율을 나타낼 수 있다.
상기 제1 유전체층(3)및 제4 유전체층(15)의 각각의 광학적 두께는 550nm 파장 기준 38 내지 100nm, 구체적으로 59 내지 96nm 이고, 이들의 전체 두께는 76 내지 200 nm일 수 있다. 또한, 제1 유전체층(3)과 제4 유전체층(15) 사이에 제2 유전체층(7) 및 3 유전체층(11)이 위치한다. 상기 제2 유전체층(7) 및 제3 유전체층(11)의 각각의 광학적 두께는 550nm 파장 기준 80 내지 200nm, 구체적으로 148 내지 192nm이고, 이들의 전체 두께는 160 내지 400 nm일 수 있다.
본 발명에서 사용되는 용어 "광학적 두께"는 "해당 층의 물리적 두께 × 해당 층에 사용된 물질의 굴절률"로 얻어지는 두께이다. 유전체층에 사용된 물질에 따라 굴절률이 상이하고, 이에 따라 상기 광학적 두께 범위를 만족하기 위하여 유전체층에 사용된 물질에 따라 유전체층의 물리적 두께가 조절된다. 예를 들어, SiNx(1.0≤x≤1.5)의 굴절률은 1.99이고, TiOx(0<x≤2.5)의 굴절률은 2.43이며, ZnOx(1.5≤x≤2.0)의 굴절률은 2.0 이다.
도 2는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다. 도 2를 참조하면, 상기 제1 내지 제4 유전체층(3, 7, 11 및 15) 중 적어도 하나는 각각 메인 유전체층(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1) 및 적어도 하나의 서브 유전체층(3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 및 15.2)을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 내지 제4 유전체층(3, 7, 11 및 15) 중 적어도 하나는 메인 유전체층의 상부 및 하부 중 적어도 하나에 서브 유전체층이 형성될 수 있다. 이 경우, 메인 유전체층은 서브 유전체층보다 두께가 두꺼울 수 있다.
본 발명에서는 제1 유전체층(3)에 포함된 메인 유전체층과 서브 유전체층을 각각 제1 메인 유전체층(3.1) 및 제1 서브 유전체층(3.2)으로 기재한다. 또한 제2 유전체층(7)에 포함된 메인 유전체층과 서브 유전체층을 각각 제2 메인 유전체층(7.1), 제2 서브 유전체층(7.2) 및 제3 서브 유전체층(7.3)으로 기재한다. 또한 제3 유전체층(11)에 포함된 메인 유전체층과 서브 유전체층을 각각 제3 메인 유전체층(11.1), 제4 서브 유전체층(11.2) 및 제5 서브 유전체층(11.3)으로 기재한다. 또한 제4 유전체층(15)에 포함된 메인 유전체층과 서브 유전체층을 각각 제4 메인 유전체층(15.1) 및 제6 서브 유전체층(15.2)으로 기재한다.
상기 제1 내지 제4 메인 유전체층(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1)은 강화 및 굽힘 등을 위한 열처리 시에 하부 소다라임 유리에서 확산되어 넘어오는 Na+을 차단하고, 기능성 전도 금속층으로 전달되는 산소 또는 이온을 차단하는 역할을 한다.
상기 메인 유전체층(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1)의 광학적 두께는 550nm 파장 기준 38 내지 200nm, 예를 들어, 59 내지 192nm의 범위일 수 있다. 상기 메인 유전체층(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1)의 광학적 두께가 550nm 파장 기준 38nm 미만이거나 200nm를 초과하면, 코팅유리의 내구성 및 내화학성이 떨어지거나 광학 특성이 저하되는 문제가 발생 할 수 있다. 보다 구체적으로, 제1 유리 기판(2) 상에 직접 형성되는 제1 메인 유전체층(3.1) 및 다층 코팅 구조의 가장 마지막에 형성되는 제4 메인 유전체층(15.1)의 광학적 두께는 각각 독립적으로 38 내지 100nm, 예를 들어, 59 내지 96nm의 범위이고, 그 외에 코팅유리(1)의 중간에 형성되는 제2 메인 유전체층(7.1) 및 제3 메인 유전체층(11.1)은 각각 독립적으로 80 내지 200nm, 예를 들어, 148 내지 192nm의 범위일 수 있다.
상기 제1 유리 기판 상에 형성된 제1 메인 유전체층의 광학적 두께에 대한 제4 메인 유전체층의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2이고, 제2 메인 유전체층의 광학적 두께에 대한 제3 메인 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2일 수 있다. 이 경우, 제3 메인 유전체층의 광학적 두께가 제2 메인 유전체층의 광학적 두께 보다 두꺼울 수 있다.
상기 메인 유전체층은(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1)은 Si계 질화물(SiNx, 1.0≤x≤1.5) 또는 Ti계 산화물(TiOx, 0<x≤2.5)을 포함할 수 있다.
상기 Si계 질화물은 추가로 Zr, Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, Ti 및 Ni 으로부터 선택된 하나 이상의 원소가 더 포함될 수 있다. 예를 들어, 상기 Si계 질화물은 Al이 함유된 Si계 질화물일 수 있다. 또한, 상기 Ti계 산화물은 추가로 Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr 및 Ni으로부터 선택된 하나 이상의 원소가 더 포함될 수 있다. 상기 메인 유전체층(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1)의 가시광 투과율을 향상시키기 위해 Si 또는 Ti 함량이 80중량%, 예컨대, 80 내지 99중량%, 보다 바람직하게는 90 내지 99 중량%일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 상기 메인 유전체층(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1)은 가시광 투과율을 더욱 향상시키기 위해서 Ti계 산화물을 사용할 수 있다.
상기 제1 내지 제6 서브 유전체층(3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 및 15.2)은 Zn계 산화물(SiNx, 1.5≤x≤2.0)을 포함할 수 있다. 상기 Zn계 산화물은 추가로 Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, Ti 및 Ni 중 선택된 적어도 하나의 원소가 더 함유된 Zn계 산화물, 예를 들어, Al이 함유된 Zn계 산화물을 포함할 수 있다.
각 서브 유전체층은 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 상부 및 하부에 위치하여 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 결정화가 잘 이루어질 수 있도록 유도하는 역할을 한다. 또한 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)이 열처리될 경우 열처리된 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 상부 및 하부에 위치하는 유전체층으로 산소 가스가 확산되는 것을 방지하고, 뭉침과 같은 광학적 결함이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 본 발명의 일 구체예에 따르면, XRD(X-Ray Diffractrometer) 분석 결과 제1 내지 제6 서브 유전체층(3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 및 15.2)의 Zn계 층면 및 제1 내지 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)인 Ag 층면의 피크(peak)가 나타나며, 이는 Zn계 층과 Ag 층이 결정성을 지녔음을 의미한다. 이러한 결정성은, 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 결정화가 잘 이루어질 수 있도록 유도하여 코팅유리의 면 저항을 감소시켜 발열 성능을 향상시킬 수 있다. 또한 형성된 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)이 안정화될 수 있도록 도움으로써, 열처리시 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)이 뭉치거나 상부 및 하부 유전체층으로 확산되는 등의 광학적 결함이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 상기 제1 내지 제6 서브 유전체층(3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 및 15.2)은 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 결정화가 잘 이루어질 수 있도록 하기 위해 Zn 함량이 85중량% 이상, 예컨대, 85 내지 99중량%, 보다 바람직하게 는 92 내지 99 중량%일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
특별히 한정하지 않으나 상기 서브 유전체층(3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 및 15.2)의 각각의 물리적 두께는 5 내지 20nm 일 수 있으며, 바람직하게는 5 내지 15mm, 더 바람직하게는 7 내지 12mm의 범위일 수 있다. 상기 서브 유전체층(3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 및 15.2)의 각각의 물리적 두께가 5mm 미만이면 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 결정화가 잘 이루어지지 않을 수 있고, 15mm를 초과하면 투과율이 낮아지는 문제가 있을 수 있다.
도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이며, 도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다. 도 3 및 도 4를 참조하면, 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 상부 및 하부 중 적어도 하나의 층에 배리어층(6)을 더 포함할 수 있다. 상기 배리어층(6)은 Ni, Cr, Ni-Cr 합금 및 NiCrNx 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 예를 들어, Ni-Cr 합금을 포함할 수 있다. Ni-Cr 합금의 경우, 75 내지 85중량% Ni 및 15 내지 25중량% Cr의 합금인 것이 바람직하다. 상기 x는 0.1 내지 10일 수 있다.
상기 배리어층(6)은 강화 및 굽힘 등을 위한 열처리 시에 제1 유리 기판(2)에서 확산되는 Na+및 공기 중의 O2의 이동을 방해하는 장벽 역할과 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)이 높은 열처리 조건에서도 안정적인 거동이 가능하도록 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 융착을 돕는 역할을 한다. 최종적으로 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)으로 침투하는 O2를 흡수하여 전기 전도 성능을 유지하도록 돕는 역할을 한다.
상기 배리어층(6)의 물리적 두께는 각각 독립적으로 바람직하게 0.1 내지 5nm, 보다 바람직하게는, 0.2 내지 2.5nm의 범위일 수 있다. 배리어층(6)의 두께가 0.1nm 미만이면 열처리 및 굽힘 공정 후에 코팅유리의 흐림이 증가하는 문제가 있을 수 있으며, 5nm를 초과하면 투과율이 낮아지거나 열처리 및 굽힘 공정 후에 코팅유리의 흐림이 역시 증가하는 문제가 있을 수 있다.
특히, 도 4를 참조하면, 본 발명의 코팅유리(1)의 제 4 유전체층(15)의 상부에 최상위 보호층(17)을 더 포함할 수 있다. 상기 최상위 보호층(17)은 TiOx(0<x≤2.5) 세라믹 재료를 사용한 TiOxNy를 포함하며, 여기서 0 <x ≤ 2.5이고, 0 < y ≤ 0.6이며, y/x<1이고, 예를 들어, x : y는, x 와 y의 합 100몰%를 기준으로, 100몰% : 0몰% 내지 75몰% : 25몰%일 수 있다.
상기 최상위 보호층(17)은 표면 거칠기를 감소시키며 내스크래치성을 증대시키고, 코팅유리(1)의 기계적 및 화학적 내구성을 증대시킬 수 있다. 최상위 보호층(17)의 물리적 두께는 2 내지 15nm, 바람직하게, 2 내지 9nm일 수 있다. 최상위 보호층(17)의 두께가 2nm 미만이면 내구성이 저하될 우려가 있고, 15nm를 초과하면 투과율이 저하되거나 흐림을 발생시키는 원인이 될 수 있다.
구체적으로, 본 발명의 코팅유리(1)는 제1 유리 기판, 상기 제1 유리 기판 상에 형성된 적어도 3개 이상의 투명 전도체 다층 코팅막 세트 및 상기 투명 전도체 다층 코팅막 세트 상에 형성된 추가의 유전체층을 포함할 수 있다.
도 4를 참조하면, 코팅유리는(1)는 제1 유리 기판(2), 상기 제1 유리 기판(2) 상에 형성된 형성된 제1 내지 제3 투명 전도체 다층 코팅막 세트(4,1, 4,2 및 4,3), 상기 제1 내지 제3의 투명 전도체 다층 코팅막 세트(4,1, 4,2 및 4,3) 상에 형성된 제4 유전체층(15) 및 최상위 보호층(17)을 포함할 수 있다. 상기 제1 내지 제3 투명 전도체 다층 코팅막 세트(4,1, 4,2 및 4,3)는 제1 내지 제3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)과 제1 내지 제3 유전체층(3, 7 및 11)을 각각 포함한다. 또한 상기 제1 내지 제3 투명 전도체 다층 코팅막 세트(4,1, 4,2 및 4,3)는 적어도 하나의 배리어층을 더 포함한다.
구체적으로, 상기 제1 투명 전도체 다층 코팅막 세트(4.1)는 순차적으로 코팅된, 제1 유전체층(3), 배리어층(6), 제1 기능성 전도 금속층(5) 및 배리어층(6)을 포함하고, 상기 제2 투명 전도체 다층 코팅막 세트(4.2)는 순차적으로 코팅된, 제2 유전체층(7), 배리어층(6), 제2 기능성 전도 금속층(9) 및 배리어층(6)을 포함하며, 상기 제3 투명 전도체 다층 코팅막 세트(4.3)는 순차적으로 코팅된, 제3 유전체층(11), 배리어층(6), 제3 기능성 전도 금속층(13) 및 배리어층(6)을 포함할 수 있다.
한편, 본 발명의 코팅유리는 다음과 같은 다층 구조 중 어느 하나를 가질 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다:
제1 유리 기판/ [투명 전도체 다층 코팅막 세트]x3 또는 그 이상/ 제4 유전체층; 및
제1 유리 기판/ [투명 전도체 다층 코팅막 세트]x3 또는 그 이상/ 제4 유전체층/ 오버코트층.
여기서, 상기 투명 전도체 다층 코팅막 세트는 독립적으로 다음과 같은 다층 구조 중 어느 하나를 가질 수 있다:
제1, 제2 또는 제3 유전체층/ 제1, 제2 또는 제3 기능성 전도 금속층;
제1, 제2 또는 제3 유전체층/ 제1, 제2 또는 제3 기능성 전도 금속층/ 배리어층; 및 제1, 제2 또는 제3 유전체층/ 배리어층/ 제1, 제2 또는 제3 기능성 전도 금속층/ 배리어층.
상기 제1, 제2, 제3 및 제4 유전체층은 각각 메인 유전체층 및 적어도 하나의 서브 유전체층을 포함할 수 있다. 상기 제1 내지 제4 유전체층 중 적어도 하나는 메인 유전체층의 상부 및 하부 중 적어도 하나에 서브 유전체층이 형성될 수 있다.
본 발명의 코팅유리는 상기 설명한 기능성 층들 이외에도, 본 발명의 목적을 달성할 수 있는 범위 내에서 코팅유리에 통상적으로 채택되는 기능성층을 더 포함할 수 있다.
이와 같은 본 발명의 코팅유리(1)의 제조방법은 다음과 같다.
본 발명의 코팅유리(1)의 제조방법은 제1 유리 기판을 제공하는 단계; 상기 제1 유리 기판 상에 순차적으로 제1 유전체층, 제1 기능성 전도 금속층, 제2 유전체층, 제2 기능성 전도 금속층, 제3 유전체층, 제3 기능성 전도 금속층 및 제4 유전체층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 각 층들의 형성이 스퍼터링 증착에 의해 수행될 수 있다.
이에 한정되는 것은 아니나, 본 발명의 구체 예에 따르면 본 발명의 코팅유리는 다음과 같은 절차에 의하여 제조될 수 있다. 먼저, 유리 기판을 진공챔버 내에 넣고 진공도가 5 × 10- 7내지 9 × 10- 6torr가 될 때까지 배기하여 진공을 형성시킬 수 있다. 이후 진공 챔버 내에 아르곤(Ar), 산소(O2),질소(N2)가스 등을 주입한 뒤 2개의 전극 간에 직류 또는 교류 전압을 가하면 방전이 일어나게 되고, 기체의 플라즈마가 생김에 따라 기판상에 적층시키고자 하는 금속 타겟이 설치된 음극에 기체 이온이 충돌하면서 금속 타겟으로부터 원자가 방출되어 기판상에 적층될 수 있다. 적층하고자 하는 코팅막의 종류에 따라 적절한 기체를 도입하고, 각 코팅막의 증착속도 및 스퍼터링 공정에 노출되는 시간을 적절히 조절하여 성막 하고자 하는 코팅막의 두께를 적절히 제어할 수 있다. 이때, 기판의 온도에는 특별한 제한이 없다.
본 발명의 코팅유리는 관형 마그네트론(Magnetron) 스퍼터 코팅기를 사용하여 기능성 층들을 제1 유리 기판 위에 순차적으로 코팅함으로써 제조될 수 있다. 아르곤과 질소를 사용하여 질화막을 코팅할 경우, SiAl 메탈 타겟을 사용하며 혼합 기체 내 질소의 비율은 45 내지 60부피%인 것이 적당할 수 있다. 질소의 비율이 너무 높으면 막의 증착 속도가 저하되며, 너무 낮으면 흡수율(Extinction Coefficient)이 높아져 높은 투과율을 구현할 수 없게 될 수 있다. 아르곤과 산소를 사용하여 산화막을 코팅할 경우, ZnAl 메탈 타겟을 사용하여 혼합기체 내 산소의 비율은 80 내지 90부피% 혹은 ZnAlOx 세라믹 타겟을 사용하여 혼합 기체 내 산소의 비율은 5 내지 20부피%인 것이 적당할 수 있다. 산소의 비율이 너무 높으면 코팅 과정 중 기능성 전도 금속층(예: Ag 층)이 산화될 수 있으며, 산소 비율이 너 무 낮으면 부분 산화 막이 아닌, 금속막으로 코팅될 수도 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기와 같이 제조된 코팅유리는 열처리 될 수 있다.
상기 열처리는 650 내지 750℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 수행 할 수 있다. 상기 열처리 온도 및 시간을 벗어나면 제1 유리 기판에 코팅된 각각의 코팅막의 표면 응력이 감소될 수 있으며, 이로 인해 코팅막이 박리될 수 있는 문제점이 발생 할 수 있다.
2. 접합유리
본 발명의 접합유리는 상술한 코팅유리 상에 적층된 중합체 필름 및 상기 중합체 필름 상에 적층된 제2 유리기판을 포함한다.
상기 접합유리는 5.72T 접합 유리(예를 들어, 코팅유리(2.1T) / 중합체(예, PVB) 필름(1.52T) / 제2 유리 기판(예, CLR 유리)(2.1T))를 기준으로 300 내지 780nm의 A광 표준 광원 하에서 가시광 투과율이 70% 이상이고, 면 저항이 1.0 Ω/sq 이하일 수 있다.
상기 접합유리의 가시광 투과율이 70% 이상(A광)이고, 면 저항이 1.0 Ω/sq 이하가 되도록 상술한 코팅유리에 포함된 기능성 전도 금속층들의 물리적 두께 비율과 유전체층들 간의 광학적 두께 비가 제어될 수 있다.
상기 코팅유리 상에 적층된 중합체 필름은 당해 분야에서 접합유리의 접합층으로서 통상적으로 사용되는 재질 및 두께의 (공)중합체 필름을 특별한 제한 없이 채택하여 사용할 수 있다. 상기 중합체 필름으로는 폴리비닐부티랄(PVB) 필름, 폴리에스테르 필름, 에틸렌 비닐 아세테이트(EVA) 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 등을 사용할 수 있고, 특히 폴리비닐부티랄(PVB) 필름을 사용할 수 있다. 또한, 그 두께는 0.1 내지 2mm, 예를 들어 1.2 내지 1.7mm 수준일 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
상기 중합체 필름 상에 적층된 제2 유리 기판은 상기 코팅유리의 제1 유리 기판과 동일한 재질 및 두께 범위일 수 있다.
상기 접합유리를 제조하는 방법에는 특별한 제한이 없으며, 통상의 접합유리 제조방법 및 장비를 그대로 또는 적절히 변형하여 사용할 수 있다. 예컨대, 상기 설명한 바와 같은 코팅유리 및 제2 유리 기판을 절단 및 면취 가공한 뒤 세척한다. 상기 제2 유리 기판과 상기 설명한 바와 같은 코팅유리 사이에 중합체 필름을 개재하여 650 내지 750℃의 온도로 열처리하여 곡 성형 및 압축응력을 동시에 형성하는 공정을 통하여 본 발명의 접합유리를 제조할 수 있다.
이하, 실시예 및 비교예를 통해 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명의 범위는 이들 실시예로 한정되지 않는다.
실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3: 코팅유리의 제조
스퍼터 코팅기를 사용하여, 2.1 mm 두께의 유리 기판 상에 하기 표 1에 나타낸 조성 및 두께를 갖는 층들을 형성시켜 코팅유리를 제조하였다. 이때, SiNx에서 x는 1.0 내지 1.5이고, ZnOx에서 x는 1.5 내지 2.0이며, TiOxNy에서 x는 0 <x ≤ 2.5이고 y는 0 < y ≤ 0.6이었다. 실시예 1 내지 5에 따라 제조된 코팅유리는 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 제1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이고, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 상기 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%이며, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm이며, 상기 제1 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제4 유전체층의 두께 광학적 비는 0.9 내지 1.2이고, 상기 제2 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제3 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2인 코팅막 구조를 갖고 있다.
반면, 비교예 1 및 2에 따라 제조된 코팅유리는 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율이 상기 범위를 벗어났으며, 비교예 3에 따라 제조된 코팅유리는 유전체층의 광학적 두께 비가 상기 범위를 벗어났다.
막 종류 (막 두께: nm)
실시예 1 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 2 Glass/TiOx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/TiOx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/TiOx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/TiOx(68.8)/TiOxNy(3)
비교예 1 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(10.2)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(10.2)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(14)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
비교예 2 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(13.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(7.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(13.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
비교예 3 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(100.0)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 3 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/TiOx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 4 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/TiOx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 5 Glass/TiOx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 6 내지 11 및 비교예 4 내지 8: 접합유리의 제조
스퍼터 코팅기를 사용하여, 2.1 mm 두께의 제1 유리 기판 상에 하기 표 2에 나타낸 조성 및 두께를 갖는 층들을 형성시켜 코팅유리를 제조하였다. 이때, SiNx에서 x는 1.0 내지 1.5이고, ZnOx에서 x는 1.5 내지 2.0이며, TiOxNy에서 x는 0 <x ≤ 2.5이고 y는 0 < y ≤ 0.6이었다. 실시예 6 내지 11에 따라 제조된 코팅유리는 제1 내지 제3 기능성 전도 금속층의 전체 두께에 대한 제1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이고, 제1 내지 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율이 각각 35 내지 37.5%이며, 제1 유리 기판 상에 형성된 유전체층의 광학적 두께에 대한 제3 유전체층의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2이고, 제1 유전체층의 광학적 두께에 대한 제2 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2인 코팅막 구조를 갖고 있다.
반면, 비교예 4 내지 6에 따라 제조된 코팅유리는 기능성 전도 금속층들의 물리적 두께 비율이 상기 범위를 벗어났으며, 비교예 7 및 8에 따라 제조된 코팅유리는 유전체층들 간의 광학적 두께 비가 상기 범위를 벗어났다.
상기 각각의 코팅유리를 1.52mm 두께의 PVB 필름 및 2.1mm 두께의 제2 유리 기판과 접합시켜 5.72T 접합 유리를 제조하였다. 이때, 상기 코팅유리의 코팅막이 외측에 위치하도록 접합을 수행하였다.
막 종류 (막 두께: nm)
실시예 6 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 7 Glass/TiOx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/TiOx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/TiOx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/TiOx(68.8)/TiOxNy(3)
비교예 4 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(10.2)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(10.2)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(14)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
비교예 5 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(13.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(7.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(13.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
비교예 6 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(5.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(14.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(14.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 8 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/TiOx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 9 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/TiOx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 10 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/TiOx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
실시예 11 Glass/TiOx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
비교예 7 Glass/SiNx(49.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(89.7)/TiOxNy(3)
비교예 8 Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(139.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3)
실험예 1: 코팅유리의 가시광 투과율 및 면 저항 측정
상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3에 따라 제조된 코팅유리의 열처리 후 면 저항 및 가시광 투과율을 각각 하기와 같이 측정하여, 그 결과를 하기 표 3 에 나타내었다.
상기 열처리는 700℃의 온도에서 15분 동안 수행하였다.
가시광 투과율은 380 내지 780nm의 D65광 표준 광원으로 KS L 2514에 따라 측정하였다.
면 저항은 상온에서 비접촉 면 저항 측정기(717B, Delcom 사)로 측정하였다.
가시광 투과율(%) 면 저항 (Ω/sq)
실시예 1 74.9 0.96
실시예 2 79.3 0.98
비교예 1 71.8 0.97
비교예 2 61.4 0.98
비교예 3 66.3 0.99
실시예 3 74.2 0.97
실시예 4 76.0 0.96
실시예 5 75.7 0.98
상기 표 3의 결과로부터 알 수 있듯이, 실시예 1 내지 5의 코팅유리는 비교예 1 내지 3의 코팅유리에 비하여 동일 면저항 대비 더욱 높은 가시광선 투과율(D65광)을 나타내는 것을 확인할 수 있었다.
실험예 2: 접합유리의 가시광 투과율 및 면 저항 측정
상기 실시예 6 내지 11 및 비교예 4 내지 8에 따라 제조된 5.72T 접합유리의 가시광 투과율 및 면 저항을 각각 하기와 같이 측정하여, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.
가시광 투과율은 300 내지 780nm의 A광 표준 광원으로 KS A 0066에 따라 측정하였다.
면 저항은 상온에서 비접촉 면 저항 측정기(717B, Delcom 사)로 측정하였다.
가시광 투과율(%) 면 저항 (Ω/sq)
실시예 6 70.4 0.96
실시예 7 77.9 0.98
비교예 4 63.1 0.97
비교예 5 52.1 0.98
비교예 6 68.7 0.99
실시예 8 73.6 0.97
실시예 9 70.8 0.96
실시예 10 70.0 0.97
실시예 11 71.1 0.98
비교예 7 69.1 0.99
비교예 8 67.8 0.96
상기 표 4의 결과로부터 알 수 있듯이, 실시예 6 내지 11의 접합유리는 비교예 4 내지 8의 접합유리에 비하여 동일 면 저항 대비 더욱 높은 가시광선 투과율(A광)을 나타내는 것을 확인할 수 있었다.

Claims (14)

  1. 제1 유리 기판, 상기 제1 유리 기판 상에 순차적으로 형성된 제1 유전체층, 제1 기능성 전도 금속층, 제2 유전체층, 제2 기능성 전도 금속층, 제3 유전체층, 제3 기능성 전도 금속층 및 제4 유전체층을 포함하고,
    제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 두께에 대한 제1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이며, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 상기 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%이고, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm이며,
    상기 제1 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 4 유전체층의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2이며, 상기 제 2 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 3 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2인, 코팅유리.
  2. 제1항에 있어서, 상기 코팅유리는 열처리 가능한 것인 코팅유리.
  3. 제1항에 있어서, 상기 코팅유리는 가시광 투과율이 70% 이상(A광)인 코팅유리.
  4. 제1항에 있어서, 상기 코팅유리는 면 저항이 1.0Ω/sq 이하인 코팅유리.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 상부 및 하부 중 적어도 하나의 층에 배리어층을 더 포함하는 코팅유리.
  6. 제5항에 있어서, 상기 배리어층은 Ni, Cr, Ni-Cr 합금 및 NiCrNx(여기서, x는 0.1 내지 10임) 중 적어도 하나를 포함하는 것인 코팅유리.
  7. 제1항에 있어서, 상기 제1, 제2, 제3 및 제4 유전체층 중 적어도 하나는 각각, Si계 질화물 또는 Ti계 산화물을 포함하는 메인 유전체층 및 Zn계 산화물을 포함하는 적어도 하나의 서브 유전체층을 포함하는 코팅유리.
  8. 제1항에 있어서, 상기 제4 유전체층은 상부에 최상위 보호층을 더 포함하는 코팅유리.
  9. 제8항에 있어서, 상기 최상위 보호층은 TiOxNy를 포함하며, 여기서 0 < x ≤ 2.5이고, 0 < y ≤ 0.6이며, x : y는 100몰% : 0 몰% 내지 75몰% : 25몰%인 코팅유리.
  10. 제1항에 있어서, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층은 Ag, Au, Cu 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것을 포함하는 코팅유리.
  11. 제1 유리 기판을 제공하는 단계, 상기 제1 유리 기판 상에 순차적으로 제1 유전체층, 제1 기능성 전도 금속층, 제2 유전체층, 제2 기능성 전도 금속층, 제3 유전체층, 제3 기능성 전도 금속층 및 제4 유전체층을 형성하는 단계를 포함하고,
    제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 두께에 대한 제1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이며, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 상기 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%이고, 상기 제1, 제2 및 제3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm이며,
    상기 제1 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제4 유전체층의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2이고, 상기 제2 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제3 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2이며,
    상기 각 층들의 형성은 스퍼터링 증착에 의해 수행되는, 코팅유리의 제조방법.
  12. 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 따른 코팅유리, 상기 코팅유리 상에 적층된 중합체 필름 및 상기 중합체 필름 상에 적층된 제2 유리 기판을 포함하는 접합유리.
  13. 제12항에 있어서, 상기 접합유리는 가시광 투과율이 70% 이상인 접합유리.
  14. 제12항에 있어서, 상기 접합유리는 면 저항이 1.0 Ω/sq 이하인 접합유리.
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