WO2017026000A1 - 狭帯域化レーザ装置 - Google Patents
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- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
Definitions
- the present disclosure relates to a line narrowed laser device.
- the semiconductor exposure apparatus is hereinafter simply referred to as "exposure apparatus". For this reason, shortening of the wavelength of the light output from the light source for exposure is advanced.
- a gas laser device is used in place of a conventional mercury lamp.
- KrF excimer laser devices that output ultraviolet light of wavelength 248 nm and ArF excimer laser devices that output ultraviolet light of wavelength 193 nm are used as gas laser devices for exposure.
- spectral line width in natural oscillation of KrF and ArF excimer laser devices is as wide as about 350 to 400 pm
- chromatic aberration of laser light (ultraviolet light) reduced and projected onto the wafer by the projection lens on the exposure device side is generated and resolution is descend. Therefore, it is necessary to narrow the spectral line width of the laser beam output from the gas laser device until the chromatic aberration can be ignored.
- Spectral line widths are also referred to as spectral widths. Therefore, a line narrowing module (line narrowing module) having a band narrowing element is provided in the laser resonator of the gas laser device, and narrowing of the spectrum width is realized by the narrow band module.
- the narrowing element may be an etalon or a grating.
- the laser device whose spectrum width is narrowed as described above is called a narrow banded laser device.
- a narrow-band laser device performs pulse oscillation by performing a plurality of burst oscillations including a first burst oscillation and a second burst oscillation performed after the first burst oscillation.
- a narrow-band laser device for outputting laser light which applies a pulse voltage to a laser resonator, a chamber disposed between the laser resonators, a pair of electrodes disposed in the chamber, and a pair of electrodes
- a power source a wavelength selection element disposed in the laser resonator, a spectrum width variable unit disposed in the laser resonator, a duty in a predetermined period before the start of the second burst oscillation, and
- a control unit that measures a pause time from when the burst oscillation ends to when the second burst oscillation starts, and controls the spectrum width variable unit based on the duty and the pause time; It may be provided.
- a narrowband laser apparatus performs multiple burst oscillations including a first burst oscillation and a second burst oscillation performed after the first burst oscillation. And a first chamber disposed between the laser resonator and a first pair of electrodes disposed in the first chamber.
- a first power supply for applying a pulse voltage to the first pair of electrodes, a wavelength selection element disposed in the laser resonator, and a second light path disposed in the optical path of the pulsed laser light output from the laser resonator.
- FIG. 1 schematically shows the configuration of a narrow band laser device according to a comparative example.
- FIG. 2 shows an example of a specific configuration of the etalon spectrometer included in the spectral width detector 16d shown in FIG.
- FIG. 3 is a diagram for explaining an example of the definition of the spectrum width.
- FIG. 4 is a diagram for explaining the basic concept of control of the spectrum width by the spectrum width control unit 30a.
- FIG. 5 is a diagram for explaining the basic concept of control of the spectrum width by the spectrum width control unit 30a.
- FIG. 6 shows an example of the relationship between the length of the pause time Tr and the spectrum width change ⁇ E 95 s.
- FIG. 7 is a flowchart showing processing of spectrum width control by the spectrum width control unit 30a shown in FIG.
- FIG. 8 is a flowchart showing a subroutine of part of the process of the flowchart shown in FIG.
- FIG. 9 is a flowchart showing a subroutine of part of the process of the flowchart shown in FIG.
- FIG. 10 is a flowchart showing a subroutine of part of the process of the flowchart shown in FIG.
- FIG. 11 shows the structure of a data table showing the relationship between the spectrum width change ⁇ E95s and the idle time Tr.
- FIG. 12 is a diagram for explaining the problem of the present disclosure.
- FIG. 13 is a diagram for explaining the problem of the present disclosure.
- FIG. 12 is a diagram for explaining the problem of the present disclosure.
- FIG. 14 schematically illustrates the configuration of a line narrowing laser device according to the first embodiment of the present disclosure.
- FIG. 15 shows the relationship between the length of the pause time Tr and the spectrum width change ⁇ E 95 s for each value of the duty D at the time of the previous burst oscillation.
- FIG. 16 shows the structure of a data table showing the relationship between the spectrum width change ⁇ E 95 s with respect to the duty D during the previous burst oscillation and the pause time Tr.
- FIG. 17 is a flowchart showing processing of spectrum width control by the spectrum width control unit 30a shown in FIG.
- FIG. 18 is a flowchart showing a subroutine of part of the process of the flowchart shown in FIG. FIG.
- FIG. 19 is a flowchart showing a subroutine of part of the process of the flowchart shown in FIG.
- FIG. 20 is a flowchart showing duty measurement processing by the duty measurement unit 30c shown in FIG.
- FIG. 21A schematically shows the configuration of the spectrum width variable unit 15 shown in FIG.
- FIG. 21B schematically shows a configuration of the spectrum width variable unit 15 shown in FIG.
- FIG. 22 schematically illustrates the configuration of a line narrowing laser device according to a second embodiment of the present disclosure.
- FIG. 23 is a flowchart showing processing of the spectrum width control unit 30a shown in FIG.
- FIG. 24 is a flowchart showing the details of the process of the adjustment oscillation shown in FIG.
- FIG. 25 is a flow chart showing in detail the process of the adjustment oscillation shown in FIG. FIG.
- FIG. 26 is a flow chart showing processing of the spectrum width control unit 30a in the band narrowed laser device according to the third embodiment of the present disclosure.
- FIG. 27 is a flow chart showing processing of the spectrum width control unit 30a in the band narrowed laser device according to the third embodiment of the present disclosure.
- FIG. 28 is a flowchart showing the processing of the spectrum width control unit 30a in the line narrowing laser device according to the third embodiment of the present disclosure.
- FIG. 29 is a flowchart showing a first modified example of the process of the duty measurement unit in the first to third embodiments.
- FIG. 30 is a flowchart showing a second modified example of the process of the duty measurement unit in the first to third embodiments.
- FIG. 31 schematically illustrates the configuration of a line narrowing laser device according to a fourth embodiment of the present disclosure.
- FIG. 32 shows the relationship between the pulse energy and the spectrum width, and the delay time of the discharge timing of the master oscillator and the power oscillator in the MOPO laser device.
- FIG. 33 is a block diagram showing a schematic configuration of a control unit.
- Narrow-band laser device according to a comparative example 1.1 laser chamber 1.2 narrow-band module 1.3 spectrum width variable portion 1.4 energy sensor 1.5 etalon spectrometer 1.6 control portion 1.7 operation 1. 8 Task 2. Narrowed-band laser device for controlling spectrum width based on duty (first embodiment) 2.1 Configuration 2.2 Operation 2.3 Details of Spectrum Width Variable Section 3. Narrowed-band laser apparatus performing data update by adjusted oscillation (second embodiment) 3.1 Configuration 3.2 Operation 3.2.1 Main flow 3.2.2 Details of tuning oscillation 4. Narrowed-band laser device for controlling spectrum width using approximate curve (third embodiment) 4.1 Spectrum width control 4.2 Tuning oscillation 5. Modification of Duty Measurement 5.1 First Modification 5.2 Second Modification Narrowed-band laser device for controlling spectrum width by synchronization between MOPOs (fourth embodiment) 7. Configuration of control unit
- FIG. 1 schematically shows the configuration of a narrow banded laser device according to a comparative example.
- the narrowing laser device shown in FIG. 1 includes a laser chamber 10, a pair of discharge electrodes 11a and 11b, a charger 12, a pulse power module (PPM) 13, a narrowing module 14, and a variable spectral width. And 15 may be included.
- the band narrowed laser device may further include a sensor unit 16 and a laser control unit 30.
- the line narrowing laser device may be an excimer laser device that outputs pulsed laser light to be incident on the exposure device 4.
- FIG. 1 shows a narrow band laser device as viewed in a direction substantially parallel to the discharge direction between the pair of discharge electrodes 11a and 11b.
- the discharge electrode 11b may be located on the depth side of the paper surface of the discharge electrode 11a.
- the traveling direction of the pulsed laser light output from the band narrowed laser device may be the Z direction.
- the discharge direction between the pair of discharge electrodes 11a and 11b may be the V direction or the -V direction.
- the direction perpendicular to both of these may be the H direction.
- the laser chamber 10 may be, for example, a chamber in which a laser gas including an argon gas or krypton gas as a rare gas, a fluorine gas or a chlorine gas as a halogen gas, and a neon gas or a helium gas as a buffer gas is sealed. Windows 10 a and 10 b may be provided at both ends of the laser chamber 10.
- the pair of discharge electrodes 11a and 11b may be disposed in the laser chamber 10 as electrodes for exciting the laser medium by the discharge.
- the charger 12 may be connected to the pulse power module 13.
- the pulse power module 13 may include a charging capacitor (not shown) and a switch 13a.
- the output of the charger 12 is connected to a charge capacitor, which can hold electrical energy for applying a high voltage between the pair of discharge electrodes 11a and 11b.
- the pulse power module 13 can generate a pulsed high voltage from the electrical energy held by the charger 12 . This pulsed high voltage may be applied between the pair of discharge electrodes 11a and 11b.
- discharge may occur between the pair of discharge electrodes 11a and 11b.
- the energy of this discharge can excite the laser medium in the laser chamber 10 to move to a high energy level.
- the excited laser medium subsequently shifts to a low energy level, it can emit light according to the energy level difference.
- the windows 10a and 10b are arranged such that the plane of incidence of light with respect to these windows and the HZ plane are substantially coincident, and the angle of incidence of this light is approximately Brewster's angle It is also good.
- the light generated in the laser chamber 10 may be emitted to the outside of the laser chamber 10 through the windows 10 a and 10 b.
- the narrowing module 14 may include two prisms 14a and 14b and a grating 14c.
- the prism 14a, the prism 14b, and the grating 14c may be supported by holders, which are not shown.
- the band narrowing module 14 may constitute the wavelength selective element of the present disclosure.
- the prisms 14a and 14b may expand the beam width in the H direction of the light emitted from the window 10a of the laser chamber 10 and allow the light to be incident on the grating 14c.
- the prisms 14a and 14b may reduce the beam width of the reflected light from the grating 14c in the H direction and return the light to the discharge space in the laser chamber 10 via the window 10a.
- the grating 14 c may be made of a material of the surface made of a material of high reflectance, and a large number of grooves may be formed on the surface at predetermined intervals. Each groove may be, for example, a right triangular groove.
- the light incident on the grating 14c from the prisms 14a and 14b may be reflected by these grooves and diffracted in a direction according to the wavelength of the light.
- the grating 14c may be arranged in a Littrow manner such that the incident angle of light entering the grating 14c from the prisms 14a and 14b matches the diffraction angle of diffracted light of a desired wavelength. Thereby, light near the desired wavelength may be returned to the laser chamber 10 via the prisms 14a and 14b.
- the spectrum width variable portion 15 may include a plano-concave cylindrical lens 15a and a plano-convex cylindrical lens 15b.
- the plano-concave cylindrical lens 15a may be disposed closer to the laser chamber 10 than the plano-convex cylindrical lens 15b. These lenses may be arranged such that the concave surface of the plano-concave cylindrical lens 15a and the convex surface of the plano-convex cylindrical lens 15b face each other.
- the plano-concave cylindrical lens 15a may be movable in the Z direction or the -Z direction by the linear stage 15c.
- the linear stage 15c may be driven by a driver 15d.
- a partial reflection film may be coated on the flat surface of the plano-convex cylindrical lens 15b. Therefore, the spectrum width variable unit 15 including the plano-convex cylindrical lens 15 b transmits and outputs a part of the light output from the window 10 b of the laser chamber 10 and reflects the other part to the laser chamber 10. You may return it inside.
- the wave front of light which is incident from the laser chamber 10 to the spectral width variable unit 15 and is returned to the laser chamber 10 may be adjusted.
- the wavefront By adjusting the wavefront, the spectral width of the light selected by the narrowing module 14 may be changed.
- a slit 10c may be disposed between the laser chamber 10 and the narrowing module 14 to limit the beam width.
- a slit 10 d for limiting the beam width may be arranged between the laser chamber 10 and the spectral width variable unit 15.
- the line narrowing module 14 and the spectrum width variable unit 15 may constitute an optical resonator.
- the light emitted from the laser chamber 10 reciprocates between the band narrowing module 14 and the spectral width variable unit 15, and can be amplified and oscillated every time it passes through the discharge space between the discharge electrodes 11a and 11b.
- the laser light may be narrowed in spectral width each time it is folded back by the narrowing module 14.
- the polarization component in the H direction can be selected by the arrangement of the windows 10a and 10b described above.
- the laser beam amplified in this manner can be output from the spectrum width changing unit 15 to the exposure device 4.
- a sensor unit 16 may be disposed in the optical path of the pulsed laser light between the spectral width variable unit 15 and the exposure apparatus 4.
- Sensor unit 16 may include beam splitters 16a and 16b, a pulse energy detector 16c, and a spectral width detector 16d.
- the beam splitter 16 a may transmit the pulse laser light output from the spectrum width changing unit 15 with high transmittance, and may reflect part of the pulse laser light output from the spectrum width changing unit 15.
- the beam splitter 16b may be disposed in the optical path of the pulsed laser light reflected by the beam splitter 16a.
- the beam splitter 16b may transmit a part of the pulsed laser light reflected by the beam splitter 16a and may reflect another part of the pulsed laser light reflected by the beam splitter 16a.
- the pulse energy detector 16c may be disposed in the optical path of the pulse laser light reflected by the beam splitter 16b.
- the pulse energy detector 16c may detect pulse energy of pulse laser light reflected by the beam splitter 16b.
- the pulse energy detector 16 c may output data of the detected pulse energy to the laser control unit 30.
- the pulse energy detector 16c may be a photodiode, a phototube, or a pyroelectric element.
- the spectral width detector 16d may be disposed in the optical path of the pulsed laser light transmitted through the beam splitter 16b.
- the spectral width detector 16 d may detect the spectral width of the pulsed laser light transmitted through the beam splitter 16 b.
- the spectrum width detector 16 d may output the data of the detected spectrum width to the laser control unit 30.
- the spectral width detector 16d may include an etalon spectrometer. The specific configuration of the etalon spectrometer will be described later with reference to FIG.
- FIG. 2 shows an example of a specific configuration of the etalon spectrometer included in the spectrum width detector 16 d shown in FIG.
- the etalon spectrometer may include a diffusion plate 16e, an etalon 16f, a condenser lens 16g, and a line sensor 16h.
- the diffusion plate 16e may be a transmissive optical element having a large number of irregularities on the surface.
- the diffusion plate 16e may transmit the pulsed laser light incident on the diffusion plate 16e as scattered light.
- the scattered light transmitted through the diffusion plate 16e may enter the etalon 16f.
- the etalon 16f may be an air gap etalon that includes two partially reflective mirrors of predetermined reflectivity R.
- two partial reflection mirrors may be opposed to each other with an air gap d of a predetermined distance, and may be bonded via a spacer.
- the incident angle ⁇ of the light incident on the etalon 16 f the light transmitted through the etalon 16 f without reciprocating between the two partial reflection mirrors, and after one reciprocation between the two partial reflection mirrors
- the optical path difference between the light passing through the etalon 16 f may be different.
- this optical path difference is an integer m times the wavelength ⁇
- light incident on the etalon 16f is transmitted between the two partial reflection mirrors without passing back and forth between the two partial reflection mirrors and between the two partial reflection mirrors
- a plurality of lights respectively transmitted through the etalon 16 f after reciprocating once, twice,..., K times may interfere with each other and transmit the etalon 16 f with high transmittance.
- n 2nd cos ⁇ (1)
- n may be a refractive index between air gaps.
- the light of wavelength ⁇ incident on the etalon 16 f can pass through the etalon with high transmittance when the incident angle ⁇ satisfies the equation (1). Therefore, the incident angle ⁇ of the light transmitted through the etalon 16 f with high transmittance may differ depending on the wavelength of the light incident on the etalon 16 f.
- the light transmitted through the etalon 16 f may be incident on the condenser lens 16 g.
- the condenser lens 16g may be an optical element having a condensing performance.
- the light transmitted through the condensing lens 16g may be incident on the line sensor 16h disposed at a position corresponding to the focal distance f of the condensing lens 16g from the condensing lens 16g.
- the light transmitted through the condenser lens 16g can form interference fringes in the line sensor 16h. From the above equation (1), the square of the radius of this interference pattern can be in proportion to the wavelength ⁇ of the pulsed laser light.
- the line sensor 16 h may receive the light transmitted through the condenser lens 16 g and detect interference fringes. Based on the interference fringes, an arithmetic circuit (not shown) included in the spectrum width detector 16 d may detect a wavelength component included in the pulse laser light to calculate the spectrum width. The data of the spectrum width may be output to the laser control unit 30. Alternatively, all or part of the functions of the arithmetic circuit described above may be provided in the laser control unit 30. Also, instead of the line sensor 16h, a one-dimensional or two-dimensional image sensor (not shown) may be used.
- FIG. 3 is a diagram for explaining an example of the definition of the spectrum width.
- the spectral waveform of the pulsed laser light is shown in FIG.
- the spectral width E95 As shown in FIG. 3, of the total energy of the pulse laser beam, the entire width of the portion occupying 95% around the peak wavelength lambda 0, referred to as the spectral width E95 herein.
- the spectral width E95 is also referred to as spectral purity.
- the spectrum width E95 corresponds to ⁇ in the following equation.
- g ( ⁇ + ⁇ 0 ) is the energy at the wavelength ( ⁇ + ⁇ 0 ) of the spectrum waveform.
- the exposure apparatus 4 may include an exposure apparatus control unit 40.
- the exposure apparatus control unit 40 may control movement of a wafer stage (not shown).
- the exposure apparatus control unit 40 may output, to the laser control unit 30, data of target pulse energy, data of target spectrum width, and a trigger signal.
- the laser control unit 30 may set the charging voltage of the charger 12 based on the data of pulse energy received from the pulse energy detector 16 c and the data of target pulse energy received from the exposure apparatus control unit 40. . Thereby, the pulse energy of the pulsed laser light output from the band narrowed laser device may be brought close to the target pulse energy.
- the laser control unit 30 may include a spectrum width control unit 30a.
- the spectrum width control unit 30 a may be configured as a program module loaded in a memory 1002 described later included in the laser control unit 30. Based on the data of the spectrum width received from the spectrum width detector 16 d and the data of the target spectrum width received from the exposure apparatus control unit 40, the spectrum width control unit 30 a transmits the spectrum width changing unit 15 via the driver 15 d. You may control. Thereby, the spectrum width of the pulsed laser light output from the narrow band laser device may be brought close to the target spectrum width.
- the laser control unit 30 may include the idle time measurement unit 30 b.
- the pause time measuring unit 30 b may be configured as a program module loaded in a memory 1002 described later included in the laser control unit 30.
- the laser control unit 30 may output the trigger signal received from the exposure apparatus control unit 40 to the switch 13 a of the pulse power module 13.
- the trigger signal may be further input to the pause time measuring unit 30b.
- the pause time measuring unit 30b may measure the pause time of the line narrowed laser device based on the trigger signal.
- the pause time may be a period from the reception of one trigger signal to the reception of the next trigger signal.
- the narrow band laser apparatus may alternately repeat burst oscillation in which the repetition frequency is performed at or above a predetermined threshold and pause of burst oscillation.
- the burst oscillation period may be, for example, a period in which exposure of the individual chip areas of the semiconductor wafer is performed in the exposure apparatus 4.
- the period during which burst oscillation is suspended is, for example, a period for moving the wafer stage (not shown) until exposure of the second chip region is started after exposure of the first chip region is completed. It may be a period for replacing the semiconductor wafer mounted on the wafer stage. During the period for replacing the semiconductor wafer, adjustment oscillation described later may be performed.
- control of the spectrum width changing unit 15 is performed based on the data of the spectrum width received from the spectrum width detector 16 d described above and the data of the target spectrum width received from the exposure apparatus control unit 40. It is also good.
- the spectrum width may shift when the next burst oscillation is started.
- the shift of the spectrum width is shown by small broken circles in FIGS. 4 and 5.
- one of the causes of the spectral width shifting during the period in which the burst oscillation is suspended is that the characteristics of the optical element are changed due to the change in temperature of the optical element while the burst oscillation is suspended. Be done.
- the shift in spectral width may vary with the length of the dwell time. For example, as shown in FIG. 4, when the pause time Tr is relatively short, the spectral width change is relatively small, and as shown in FIG. 5, when the pause time Tr is relatively long, the spectral width change is It may be relatively large.
- FIG. 6 shows an example of the relationship between the length of the pause time Tr and the spectrum width change ⁇ E 95 s.
- the spectrum width change ⁇ E 95 s may have an approximate relation to the first-order delay decay function. Therefore, the spectrum width control unit 30a may control the spectrum width changing unit 15 in advance before the next burst oscillation is started after the previous burst oscillation is completed. This control may be performed to compensate for the spectrum width change ⁇ E 95 s according to the length of the pause time Tr.
- pulsed laser light having a spectrum width close to the target spectrum width E 95 t can be output from the beginning of the next burst oscillation.
- FIG. 7 is a flowchart showing processing of spectrum width control by the spectrum width control unit 30a shown in FIG.
- FIGS. 8 to 10 are flowcharts showing subroutines of processing of a part of the flowchart shown in FIG.
- the spectrum width control unit 30a may perform control (S800) in a period in which burst oscillation is suspended and control (S600) in a burst oscillation period by the following processing.
- the spectrum width control unit 30a may read data indicating the relationship between the spectrum width change ⁇ E 95s with the pause time Tr from a storage device (not shown).
- the relationship between the spectrum width change ⁇ E 95 s and the pause time Tr may be a relationship approximate to the first-order delay decay function described with reference to FIG.
- the spectrum width control unit 30a may read a data table indicating the relationship between the spectrum width change ⁇ E 95s and the pause time Tr in S210.
- the structure of the data table which shows the relationship of spectrum width change (DELTA) E95s with respect to rest time Tr is shown by FIG.
- the pause time Tr and the spectrum width change ⁇ E 95 s may correspond to one to one.
- the spectrum width control unit 30a may read the pause time Tr measured by the pause time measurement unit 30b.
- the pause time Tr may be a period from the reception of one trigger signal to the reception of the next trigger signal.
- the spectrum width control unit 30a may determine whether or not burst oscillation is in progress based on the measured pause time Tr. For example, when the pause time Tr is equal to or less than the predetermined threshold Tb, the spectrum width control unit 30a may determine that burst oscillation is in progress (S500; YES), and the process may proceed to S600.
- the predetermined threshold Tb may be 0.01 seconds or more and 0.05 seconds or less.
- the predetermined threshold Tb may be, for example, about 0.02 seconds. That is, when the trigger signal is input at a repetition frequency of 50 Hz or more, the spectrum width control unit 30a may determine that burst oscillation is in progress. If the pause time Tr exceeds the predetermined threshold value Tb, the spectrum width control unit 30a determines that burst oscillation is not being performed but burst oscillation is suspended (S500; NO), and the process is performed. You may advance to S800.
- the spectrum width control unit 30a may control the spectrum width changing unit 15 based on the measured pause time Tr. That is, the spectrum width control unit 30a may perform feedforward control of the spectrum width. After S800, the spectrum width control unit 30a may return the process to S400 described above and repeat the subsequent process. If the pause time Tr is further prolonged, the spectrum width varying unit 15 may be controlled in S800 each time the pause time Tr is newly measured.
- the spectrum width control unit 30a may read out the spectrum width change ⁇ E 95s from the data table based on the pause time Tr measured in S810.
- the spectrum width control unit 30a may control the spectrum width changing unit 15 so that the spectrum width change ⁇ E 95s is compensated in S830.
- the relationship between the spectrum width change ⁇ E95s and the pause time Tr is similar to the first-order delay decay function described with reference to FIG.
- the control for compensating for the spectrum width change ⁇ E95s is a control for widening the spectrum width It may be That is, the spectrum width variable part is made such that the spectrum width becomes wider by
- the spectrum width control unit 30a may control the spectrum width changing unit 15 based on the measured spectrum width. That is, the spectrum width control unit 30a may perform feedback control of the spectrum width. After S600, the spectrum width control unit 30a may return the process to S400 described above and repeat the subsequent process. If burst oscillation continues, the spectrum width varying unit 15 may be controlled in S600 each time the spectrum width is newly measured.
- the spectrum width control unit 30a may first read out the measured spectrum width E95 in S610. Next, in S620, the spectrum width control unit 30a may control the spectrum width changing unit 15 so that the difference between the measured spectrum width E95 and the target value E95t of the spectrum width approaches zero.
- FIGS. 12 and 13 are diagrams for explaining the problems of the present disclosure.
- the spectrum width at the start of burst oscillation is controlled based on the pause time Tr from the end of the previous burst oscillation, but the spectrum width at the start of burst oscillation is not always pause It is not determined only by the time Tr.
- the previous burst oscillation is an oscillation with a low repetition frequency and in the case where the previous burst oscillation is an oscillation with a high repetition frequency as shown in FIG.
- the characteristics of the optical element may be different even in the same idle time Tr.
- the repetition frequency of the previous burst oscillation is small, the temperature of the optical element does not become high as the repetition frequency of the previous burst oscillation is large, and the spectrum width change may be relatively small.
- the repetition frequency of the previous burst oscillation is large, the spectrum width change can be relatively large.
- the spectrum width change ⁇ E 95 s is calculated based only on the pause time Tr, there is a possibility that the spectrum width may vary at the start of the next burst oscillation. Note that even if the repetition frequency of burst oscillation is the same, if the pause time is long, the thermal load on the optical element may be small, and the change in spectrum width may be relatively small. Conversely, even if the repetition frequency of the burst oscillation is the same, if the pause time is short, the thermal load on the optical element may be large, and the spectral width change may be relatively large.
- the duty of laser oscillation may be measured, and the spectrum width changing unit 15 may be controlled based on the measured duty.
- FIG. 14 schematically illustrates the configuration of the line narrowing laser device according to the first embodiment of the present disclosure.
- the laser control unit 30 of the band narrowed laser device may include a duty measurement unit 30 c in addition to the configuration of the comparative example described with reference to FIG. 1.
- the duty measurement unit 30 c may be configured as a program module loaded in a memory 1002 described later included in the laser control unit 30.
- the duty measurement unit 30 c may measure the duty of the pulse laser light based on the trigger signal output from the exposure apparatus control unit 40.
- the duty of the pulsed laser light may be, for example, a ratio of the actual number of pulses of the predetermined time to the number of pulses when laser oscillation is performed at the maximum repetition frequency for a predetermined time.
- the measured duty value may be output to the spectrum width control unit 30a.
- FIG. 15 shows the relationship between the length of the pause time Tr and the spectrum width change ⁇ E 95 s for each value of the duty D at the time of the previous burst oscillation.
- the spectrum width change ⁇ E 95 s may have a relation approximate to the first-order delay decay function with respect to the length of the pause time Tr.
- spectrum width change ⁇ E 95 s is small, and when duty D is large, spectrum width change ⁇ E 95 s may be large. Therefore, by controlling the spectrum width changing unit 15 according to the combination of the duty D and the pause time Tr, it is possible to adjust the spectrum width at the start of the next burst oscillation with high accuracy.
- FIG. 16 shows the structure of a data table showing the relationship of the spectrum width change ⁇ E 95 s with respect to the duty D during the previous burst oscillation and the pause time Tr.
- the combination of the duty D and the idle time Tr may correspond to the spectrum width change ⁇ E 95 s one to one.
- FIG. 17 is a flowchart showing processing of spectrum width control by the spectrum width control unit 30a shown in FIG.
- FIG. 18 and FIG. 19 are flowcharts showing subroutines of processing of a part of the flowchart shown in FIG.
- the spectrum width control unit 30a may perform control (S900) in a period in which burst oscillation is paused based on the duty of the pulse laser light by the following processing.
- the spectrum width control unit 30a may read, for each duty D, data indicating the relationship between the spectrum width change ⁇ E95s and the idle time Tr from a storage device (not shown).
- the subroutine of S300 shown in FIG. 18 may be the same as the subroutine of S200 described with reference to FIG. 8 except that the data table is read for each duty.
- the processes of S400 and S500 following S300 may be the same as those of the comparative example described with reference to FIG. If the spectrum width control unit 30a determines in S500 that burst oscillation is in progress (S500; YES), the process may proceed to S600.
- the process of S600 may be similar to that of the comparative example described with reference to FIG.
- the spectrum width control unit 30a may advance the process to S700.
- the spectrum width control unit 30a may read the measured value of the duty D from the duty measurement unit 30c.
- the spectrum width control unit 30a may control the spectrum width changing unit 15 based on the measured duty D and the measured rest time Tr. That is, the spectrum width control unit 30a may perform feedforward control of the spectrum width.
- the spectrum width control unit 30a may return the process to S400 described above and repeat the subsequent process.
- S930 may be similar to S830 of FIG.
- FIG. 20 is a flowchart showing duty measurement processing by the duty measurement unit 30c shown in FIG.
- the processing of the duty measurement may be performed by the duty measurement unit 30c separately from the control of the spectrum width described with reference to FIG.
- the duty measurement unit 30c may measure the duty of the pulse laser beam by the following process.
- the process of measuring the duty of the pulsed laser light may be performed during burst oscillation or may not be performed during a period in which burst oscillation is suspended.
- Nmax fmax ⁇ Ts
- fmax may be the maximum repetition frequency of the narrowed laser device.
- the duty measuring unit 30c may reset and start the timer T.
- the duty measuring unit 30c may determine whether or not a trigger signal is input.
- the duty measuring unit 30 c may advance the process to S 709.
- the duty measuring unit 30c may update the value of the counter N by adding 1 to the value of the counter N. After S709, the duty measurement unit 30c may advance the process to S711.
- the duty measuring unit 30 c may skip the process of S 709 and may advance the process to S 711. That is, the value of the counter N may not be updated.
- the duty measuring unit 30c may compare the value of the timer T with Ts to determine whether a predetermined time Ts has elapsed since the timer T was started.
- the fixed time Ts may be, for example, 1 minute or more and 10 minutes or less. If the predetermined time Ts has not elapsed (S711; NO), the duty measuring unit 30c may return the process to S708 described above to determine whether a trigger signal is newly input. If the predetermined time Ts has elapsed (S711; YES), the duty measuring unit 30c may advance the process to S712.
- the duty measuring unit 30c may store the current value of the counter N in a storage layer (not shown) as the number Ns of pulses in a predetermined time Ts.
- the ratio of the actual number of pulses of the predetermined time Ts to the number of pulses when laser oscillation is performed at the maximum repetition frequency for the predetermined time Ts may be calculated as the duty D.
- FIGS. 21A and 21B schematically show the configuration of the spectrum width variable portion 15 shown in FIG. 21A is a view of the spectrum width variable portion 15 in the H direction
- FIG. 21B is a view of the cut surface at line XXIB-XXIB shown in FIG. 21A and the configuration below the cut surface in the V direction. It is.
- the spectrum width variable unit 15 may include a plano-concave cylindrical lens 15 a and a plano-convex cylindrical lens 15 b.
- the plano-convex cylindrical lens 15b may be fixed to the plate 15e by a holder 15f.
- the plano-concave cylindrical lens 15a may be fixed to the holder 15g.
- the holder 15g may be movable in the Z direction and the -Z direction with respect to the plate 15e while maintaining its posture by a guide member (not shown).
- the inclined member 15 h and one end of the spring 15 i may be fixed to the holder 15 g.
- the other end of the spring 15i may be fixed to a fixing member 15j fixed to the plate 15e.
- a tensile force in the -Z direction may always be applied to the holder 15g by the spring 15i.
- the inclined surface of the inclined member 15h may be in contact with a wheel 15m attached to the tip of the rod 15k.
- the linear motor 15n may be configured such that the rod 15k can be advanced and retracted in the V direction and the -V direction together with the wheel 15m.
- the positional relationship between the linear motor 15n and the plate 15e may be fixed by the fixing member 15o.
- the wheel 15m may push the inclined member 15h in the Z direction by moving the wheel 15m in the -V direction. Thereby, the holder 15g may move in the Z direction together with the plano-concave cylindrical lens 15a.
- the holder 15g may be pulled in the -Z direction by the spring 15i and move in the -Z direction together with the plano-concave cylindrical lens 15a.
- the plano-concave cylindrical lens 15a may be movable in the Z direction and the -Z direction.
- the spectrum width variable unit 15 also functions as an output coupling mirror
- the present disclosure is not limited to this.
- An output coupling mirror may be separately provided, and the spectral width variable unit may be disposed inside the optical resonator.
- FIG. 22 schematically illustrates the configuration of a line narrowing laser device according to a second embodiment of the present disclosure.
- the relationship between the value of the duty D described in the first embodiment and the spectrum width change ⁇ E 95 s with respect to the length of the idle time Tr may change depending on the operating condition of the narrow band laser device. Therefore, in the second embodiment, it is possible to enable adjustment oscillation for acquiring again data concerning the relationship of the spectrum width change ⁇ E 95 s with respect to the value of the duty D and the length of the pause time Tr and updating.
- the narrowed laser device may be provided with a shutter 17 that can be opened and closed.
- the shutter 17 can suppress input of pulse laser light to the exposure device 4 by closing the shutter 17 during adjustment oscillation.
- a signal line for transmitting and receiving a control signal of adjustment oscillation may be connected between the laser control unit 30 and the exposure apparatus control unit 40.
- FIG. 23 is a flowchart showing processing of the spectrum width control unit 30a shown in FIG. As described below, in addition to controlling the spectrum width, the spectrum width control unit 30a may perform data update by adjustment oscillation.
- the spectrum width control unit 30a may perform adjustment oscillation, and may update data on the relationship between the value of the duty D and the length of the pause time Tr with respect to the spectrum width change ⁇ E95s. Details of the process of S100 will be described later with reference to FIG. The processes from S300 to S900 after S100 may be the same as the processes of the first embodiment described with reference to FIG.
- the spectrum width control unit 30a may determine whether or not to perform data adjustment by performing adjustment oscillation. For example, the data may be updated when a predetermined time has elapsed since the previous data update. Alternatively, the data may be updated when the absolute value of the difference between the target spectrum width and the spectrum width at the start of burst oscillation exceeds a predetermined value.
- the spectrum width control unit 30a may return the process to S100 described above to perform adjustment oscillation.
- the spectrum width control unit 30a may return the process to S400 described above to continue the control of the spectrum width based on the measured data.
- FIG. 24 is a flowchart showing details of the processing of tuning oscillation shown in FIG. The process shown in FIG. 24 may be performed by the spectrum width control unit 30a as a subroutine of S100 shown in FIG.
- the spectrum width control unit 30a may output the adjustment oscillation request signal to the exposure apparatus control unit 40.
- the spectrum width control unit 30a may determine whether or not the adjustment oscillation OK signal has been received from the exposure apparatus control unit 40.
- the spectrum width control unit 30a may stand by until the adjustment oscillation OK signal is received.
- the spectrum width control unit 30a may advance the process to S130.
- the exposure apparatus control unit 40 may stop control of the wafer stage or the like while the adjustment oscillation is performed.
- the spectrum width control unit 30a may close the shutter 17.
- the spectrum width control unit 30a may perform adjustment oscillation to measure the relationship between the duty D, the idle time Tr, and the spectrum width change ⁇ E 95s. Details of the process of S140 will be described later with reference to FIG.
- the spectrum width control unit 30a may open the shutter 17 in S160. Next, in S170, the spectrum width control unit 30a may output an adjustment oscillation completion signal to the exposure apparatus control unit 40. After S170, the spectrum width control unit 30a may end the processing of this flowchart.
- FIG. 25 is a flow chart showing in detail the process of the adjustment oscillation shown in FIG.
- the process shown in FIG. 25 may be performed by the spectrum width control unit 30a as a subroutine of S140 shown in FIG.
- the spectrum width control unit 30a may measure the relationship between the pause time Tr and the spectrum width change ⁇ E 95s while changing the duty D.
- the spectrum width control unit 30a may generate a trigger signal for a fixed time Tt with the set duty D, and may cause laser oscillation. At this time, the spectrum width control unit 30a may perform feedback control of the spectrum width.
- the spectrum width control unit 30a may measure the spectrum width E95 immediately before the end of the oscillation.
- the spectrum width control unit 30a may store the value of the measured spectrum width E95 immediately before the end of the measured oscillation as a reference value E95o of the spectrum width change in a storage device (not shown).
- the spectrum width control unit 30a may reset and start the timer Tm.
- the spectrum width control unit 30a may start laser oscillation with a low repetition frequency by outputting a trigger signal with a predetermined low duty.
- the spectrum width control unit 30a may not perform feedback control of the spectrum width.
- the predetermined low duty may be a low duty at which the influence on the change of the spectrum width can be substantially ignored. For example, if the maximum repetition frequency is 6000 Hz, the predetermined low duty may be 100 Hz repetition frequency.
- the spectrum width control unit 30a may measure the spectrum width E95 during oscillation at a predetermined low duty.
- the spectrum width control unit 30a may store the value of the timer Tm when measuring the spectrum width E95 in the storage device (not shown) as the current time Tr.
- the spectrum width control unit 30a may calculate the spectrum width change ⁇ E 95s according to the following equation.
- ⁇ E95s E95o-E95 That is, the spectrum width change ⁇ E 95 s may be the difference between the reference value E 95 o of the spectrum width change measured in S 144 and the spectrum width E 95 measured in S 147.
- the spectrum width control unit 30a may store the combination of the duty D, the current time Tr, and the change ⁇ E 95s of the spectrum width in the data table.
- the spectrum width control unit 30a may determine whether or not a predetermined time TL has elapsed since the timer Tm started.
- the spectrum width control unit 30a may return the process to S147 described above, and repeat the measurement of the spectrum width E95 during oscillation at a predetermined low duty. .
- the spectrum width control unit 30a may advance the process to S152.
- the spectrum width control unit 30a may update the setting value of the duty D to a value smaller than the current value by subtracting the predetermined positive value ⁇ D from the value of the duty D.
- the spectrum width control unit 30a may determine whether the set value of the duty D is less than or equal to the lower limit value DL.
- the lower limit value DL may be, for example, 0.1.
- spectrum width control unit 30a If the set value of duty D is not less than or equal to lower limit value DL (S153; NO), spectrum width control unit 30a returns the process to S142 described above, and uses the new set value of duty to stop time Tr and the spectrum width. The relationship with the change ⁇ E 95 s may be measured. If the set value of the duty D is less than or equal to the lower limit value DL (S153: YES), the spectrum width control unit 30a may end the processing of this flowchart.
- FIGS. 26 to 28 are flowcharts showing processing of the spectrum width control unit 30a in the narrow band laser device according to the third embodiment of the present disclosure.
- the configuration of the band narrowed laser device according to the third embodiment may be the same as that of the band narrowed laser device according to the second embodiment described above.
- the calculation of the spectrum width change ⁇ E 95 s based on the value of the duty D and the length of the pause time Tr may be performed using an approximate curve.
- FIG. 26 shows a subroutine of a process of reading data indicating the relationship between the spectrum width change ⁇ E 95 s and the pause time Tr for each duty D in the third embodiment.
- the spectrum width control unit 30a may read two parameters ⁇ 1 and ⁇ instead of reading the data table described with reference to FIG.
- FIG. 27 shows a subroutine of processing of controlling the spectrum width changing unit 15 based on the measured duty D and the measured rest time Tr in the third embodiment.
- the spectrum width control unit 30a may calculate the spectrum width change ⁇ E95s based on the following equation instead of reading the spectrum width change ⁇ E95s from the data table.
- ⁇ E95s D ⁇ ⁇ 1 ⁇ ⁇ exp (-Tr / ⁇ ) -1 ⁇
- FIG. 28 is a flowchart showing details of the process of adjustment oscillation in the third embodiment.
- the processing from S141 to S151 in FIG. 28 may be the same as that described with reference to FIG. That is, for example, in S150, the measurement result may be stored in the data table.
- two parameters ⁇ 1 and ⁇ may be calculated based on the data stored in the data table in S154.
- the parameters ⁇ 1 and ⁇ may be calculated by the least squares method so that the value of ⁇ E 95 s when the duty D and the idle time Tr are substituted into the following equation approximates to the measurement result.
- ⁇ E95s D ⁇ ⁇ 1 ⁇ ⁇ exp (-Tr / ⁇ ) -1 ⁇
- the other points may be similar to those of the second embodiment.
- FIG. 29 is a flowchart showing a first modification of the processing of the duty measurement unit in the first to third embodiments. The process shown in FIG. 29 may be performed instead of the process of the duty measurement unit described with reference to FIG. In FIG. 29, the duty measurement unit 30c may measure the moving average of the duty.
- step S701 the process of S701 may be the same as that described with reference to FIG.
- the duty measuring unit 30c may read the duty D k measured immediately before from a storage medium (not shown). Duty D k may be calculated by the following equation.
- i may be an integer specifying each of a plurality of consecutive periods, and the smaller the value of i may indicate a past period.
- Each period specified by the value of i is hereinafter referred to as a block.
- d i may be a duty in each block when the measurement period of the duty is divided into a plurality of blocks. That, d 1 is the duty of the first block, d 2 may be a duty in the next second block of the first block. dk-1 may be the duty in the block immediately before the current. Therefore, the duty D k shown in the above equation may be obtained by arithmetically averaging the duties in the latest 10 consecutive blocks. Not limited to the duty in ten blocks, the duty in a smaller or larger number of blocks may be used.
- the duty measuring unit 30c may advance the process to S713.
- the fixed time Ts may be, for example, 3 seconds.
- the duty measuring unit 30c may store the current value of the counter N in a storage device (not shown) as the number of pulses N k-1 in the k ⁇ 1th block.
- the duty measuring unit 30c may calculate the duty D k as follows. First, the following equation is established from the equation of D k described above.
- the latest data can be acquired frequently.
- the sample period for measuring the duty D k is a period corresponding to 10 times Ts, stable data can be acquired.
- FIG. 30 is a flowchart showing a second modification of the processing of the duty measurement unit in the first to third embodiments. The process shown in FIG. 30 may be performed instead of the modification described with reference to FIG. In FIG. 30, the duty measuring unit 30c may measure the duty by integrating pulse energy instead of the number of pulses.
- Emax e fmax Ts
- e may be the maximum pulse energy of the narrowed laser device.
- next S703 may be similar to that shown in FIG.
- the duty measuring unit 30c may update the value of k by adding 1 to the value of the block number k indicating the current block.
- the processes of S707 and S708 following S706 may be similar to those of FIG.
- the duty measurement unit 30c may advance the process to S710.
- the duty measuring unit 30c reads the value of the pulse energy e m outputted from the pulse energy detector 16c, adds the value of the pulse energy e m to the value of the pulse energy cumulative value E, the pulse energy cumulative value E The value of may be updated. After S710, the duty measurement unit 30c may advance the process to S711.
- the process of S711 may be similar to that of FIG.
- the duty measuring unit 30c stores the current value of the pulse energy integrated value E in the storage device (not shown) as the pulse energy integrated value E k-1 in the k ⁇ 1 th block. Good.
- the duty measuring unit 30c may calculate the duty D k .
- the process of S718 may be similar to that of FIG.
- FIG. 31 schematically illustrates the configuration of a line narrowing laser device according to a fourth embodiment of the present disclosure.
- the output coupling mirror 15p, the high reflection mirrors 31 and 32, and the power between the laser chamber 10 and the sensor unit 16 of the narrowband laser device according to the first embodiment described above, An oscillator may be disposed.
- the spectrum width variable unit 15 may be omitted.
- the output coupling mirror 15p may be a partial reflection mirror, and may not have a function of adjusting a wavefront.
- the output coupling mirror 15p is coated with a film that partially reflects the light of the oscillation wavelength of the narrow-band laser device and transmits visible discharge light generated between the pair of discharge electrodes 11a and 11b with high transmittance. It is also good.
- the laser chamber 10, the pair of discharge electrodes 11a and 11b, the charger 12, the pulse power module 13, the narrowing module 14, and the output coupling mirror 15p are master oscillators (MO). May be configured.
- the high reflection mirrors 31 and 32 may guide the pulsed laser light output from the output coupling mirror 15p to the rear mirror 24 of the power oscillator (PO) by reflecting it with high reflectance.
- the high reflection mirrors 31 and 32 may be coated with a film that transmits visible discharge light. Among the light generated by the discharge between the pair of discharge electrodes 11 a and 11 b, a part of visible light may pass through the output coupling mirror 15 p and the high reflection mirror 31 and may be guided to the MO discharge sensor 18.
- the MO discharge sensor 18 may be configured to detect the timing of discharge between the pair of discharge electrodes 11 a and 11 b of the master oscillator from visible light transmitted through the output coupling mirror 15 p and the high reflection mirror 31. The signal indicating the discharge timing may be output to the synchronization control unit 33.
- the power oscillator may include a laser chamber 20, a pair of discharge electrodes 21a and 21b, a charger 22, and a pulse power module 23. These configurations may be similar to the corresponding configurations of the master oscillator.
- the power oscillator may further include a rear mirror 24 and an output coupling mirror 25.
- the rear mirror 24 and the output coupling mirror 25 are partial reflection mirrors, and may constitute an optical resonator.
- the output coupling mirror 25 may be coated with a film that partially reflects the light of the wavelength for laser oscillation.
- the reflectance of the partial reflection film of the output coupling mirror 25 may be 10% to 30%.
- a portion of the pulsed laser light that has entered the rear mirror 24 from the high reflection mirror 32 may be introduced into the laser chamber 20 and may be amplified while reciprocating between the output coupling mirror 25 and the rear mirror 24.
- the amplified pulsed laser light may be output from the output coupling mirror 25.
- a laser apparatus that amplifies and outputs the pulsed laser light output from the master oscillator by the power oscillator is referred to as a MOPO type laser apparatus.
- the rear mirror 24 may be coated with a film that partially reflects light of a wavelength for laser oscillation and transmits visible discharge light with high transmittance.
- the reflectance of the partial reflection film of the rear mirror 24 may be 70% to 90%.
- part of visible light may be guided to the PO discharge sensor 28 via the rear mirror 24 and the high reflection mirror 32.
- the PO discharge sensor 28 may be configured to detect the timing of discharge between the pair of discharge electrodes 21 a and 21 b of the power oscillator from visible light transmitted through the rear mirror 24 and the high reflection mirror 32.
- the signal indicating the discharge timing may be output to the synchronization control unit 33.
- the laser control unit 30 may output a trigger signal to the synchronization control unit 33.
- the synchronization control unit 33 outputs the first switch signal to the switch 13a of the pulse power module 13 of the master oscillator based on the trigger signal received from the laser control unit 30, and transmits the first switch signal to the switch 23a of the pulse power module 23 of the power oscillator.
- a second switch signal may be output.
- the synchronization control unit 33 controls the timing of the first switch signal and the second switch signal so that the delay time of the discharge timing in the power oscillator with respect to the discharge timing in the master oscillator becomes a desired delay time. It is also good.
- FIG. 32 shows the relationship between the pulse energy and the spectrum width, and the delay time of the discharge timing of the master oscillator and the power oscillator in the MOPO laser device.
- the pulse energy of the pulsed laser light output from the power oscillator can be substantially constant.
- the spectrum width of the pulsed laser light output from the power oscillator may differ depending on the delay time of the discharge timing of the master oscillator and the power oscillator. In particular, the spectral width may be narrowed as the delay time is increased.
- the spectrum width may be controlled by adjusting the delay time of the discharge timing of the master oscillator and the power oscillator.
- the other points may be the same as in the first to third embodiments.
- an example of a Fabry-Perot resonator is shown as the optical resonator of the power oscillator, but the present invention is not limited to this embodiment, and may be a ring resonator.
- FIG. 33 is a block diagram showing a schematic configuration of the control unit.
- the control units such as the laser control unit 30 and the synchronization control unit 33 in the above-described embodiment may be configured by general-purpose control devices such as a computer and a programmable controller. For example, it may be configured as follows.
- the control unit is connected to the processing unit 1000 and the processing unit 1000.
- the storage memory 1005, the user interface 1010, the parallel I / O controller 1020, the serial I / O controller 1030, A / D, D / A It may be configured by converter 1040.
- the processing unit 1000 may also be configured of a CPU 1001 and a memory 1002, a timer 1003, and a GPU 1004 connected to the CPU 1001.
- the processing unit 1000 may read the program stored in the storage memory 1005. Furthermore, the processing unit 1000 may execute the read program, read data from the storage memory 1005 according to the execution of the program, or store data in the storage memory 1005.
- the parallel I / O controller 1020 may be connected to communicable devices 1021 to 102x through parallel I / O ports.
- the parallel I / O controller 1020 may control communication with digital signals through the parallel I / O port, which is performed by the processing unit 1000 in the process of executing a program.
- the serial I / O controller 1030 may be connected to communicable devices 1031 to 103x via a serial I / O port.
- the serial I / O controller 1030 may control communication with digital signals through the serial I / O port, which is performed by the processing unit 1000 in the process of executing a program.
- the A / D and D / A converters 1040 may be connected to communicatable devices 1041 to 104x via analog ports.
- the A / D and D / A converter 1040 may control communication by an analog signal through an analog port performed by the processing unit 1000 in the process of executing a program.
- the user interface 1010 may be configured to allow the operator to display an execution process of a program by the processing unit 1000 or to cause the processing unit 1000 to stop execution of the program execution by the operator or interrupt processing.
- the CPU 1001 of the processing unit 1000 may perform arithmetic processing of a program.
- the memory 1002 may perform temporary storage of a program or temporary storage of data in an operation process while the CPU 1001 executes the program.
- the timer 1003 may measure time or elapsed time, and may output the time or elapsed time to the CPU 1001 according to execution of a program.
- the GPU 1004 may process the image data according to the execution of the program and output the result to the CPU 1001.
- the devices 1021 to 102x that can be communicated via the parallel I / O port connected to the parallel I / O controller 1020 receive and transmit trigger signals of the exposure apparatus control unit 40, other control units, etc. and signals indicating timing. You may use it for
- the devices 1031 to 103x which can be communicated via the serial I / O port and connected to the serial I / O controller 1030 may be used for transmission / reception of data of the exposure apparatus control unit 40, other control units, etc. .
- the devices 1041 to 104x which can be communicated via the analog port and connected to the A / D and D / A converter 1040 may be various sensors such as the pulse energy detector 16c and the spectrum width detector 16d. By being configured as described above, the control unit may be able to realize the operation shown in each embodiment.
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Abstract
狭帯域化レーザ装置は、第1のバースト発振と、第1のバースト発振の次に行われる第2のバースト発振と、を含む複数回のバースト発振を行ってパルスレーザ光を出力する狭帯域化レーザ装置であって、レーザ共振器と、レーザ共振器の間に配置されたチャンバと、チャンバに配置された一対の電極と、一対の電極にパルス電圧を印加する電源と、レーザ共振器に配置された波長選択素子と、レーザ共振器に配置されたスペクトル幅可変部と、第2のバースト発振が開始される時より前の所定期間におけるデューティーと、第1のバースト発振が終了した時から第2のバースト発振が開始される時までの休止時間と、を計測し、デューティーと休止時間とに基づいて、スペクトル幅可変部を制御する制御部と、を備えてもよい。
Description
本開示は、狭帯域化レーザ装置に関する。
半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、半導体露光装置においては解像力の向上が要請されている。半導体露光装置を以下、単に「露光装置」という。このため露光用光源から出力される光の短波長化が進められている。露光用光源には、従来の水銀ランプに代わってガスレーザ装置が用いられている。現在、露光用のガスレーザ装置としては、波長248nmの紫外線を出力するKrFエキシマレーザ装置ならびに、波長193nmの紫外線を出力するArFエキシマレーザ装置が用いられている。
現在の露光技術としては、露光装置側の投影レンズとウエハ間の間隙を液体で満たして、当該間隙の屈折率を変えることによって、露光用光源の見かけの波長を短波長化する液浸露光が実用化されている。ArFエキシマレーザ装置を露光用光源として用いて液浸露光が行われた場合は、ウエハには水中における波長134nmの紫外光が照射される。この技術をArF液浸露光という。ArF液浸露光はArF液浸リソグラフィーとも呼ばれる。
KrF、ArFエキシマレーザ装置の自然発振におけるスペクトル線幅は約350~400pmと広いため、露光装置側の投影レンズによってウエハ上に縮小投影されるレーザ光(紫外線光)の色収差が発生して解像力が低下する。そこで色収差が無視できる程度となるまでガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を狭帯域化する必要がある。スペクトル線幅はスペクトル幅とも呼ばれる。このためガスレーザ装置のレーザ共振器内には狭帯域化素子を有する狭帯域化モジュール(Line Narrowing Module)が設けられ、この狭帯域化モジュールによりスペクトル幅の狭帯域化が実現されている。なお、狭帯域化素子はエタロンやグレーティング等であってもよい。このようにスペクトル幅が狭帯域化されたレーザ装置を狭帯域化レーザ装置という。
本開示の1つの観点に係る狭帯域化レーザ装置は、第1のバースト発振と、第1のバースト発振の次に行われる第2のバースト発振と、を含む複数回のバースト発振を行ってパルスレーザ光を出力する狭帯域化レーザ装置であって、レーザ共振器と、レーザ共振器の間に配置されたチャンバと、チャンバに配置された一対の電極と、一対の電極にパルス電圧を印加する電源と、レーザ共振器に配置された波長選択素子と、レーザ共振器に配置されたスペクトル幅可変部と、第2のバースト発振が開始される時より前の所定期間におけるデューティーと、第1のバースト発振が終了した時から第2のバースト発振が開始される時までの休止時間と、を計測し、デューティーと休止時間とに基づいて、スペクトル幅可変部を制御する制御部と、を備えてもよい。
本開示の他の1つの観点に係る狭帯域化レーザ装置は、第1のバースト発振と、第1のバースト発振の次に行われる第2のバースト発振と、を含む複数回のバースト発振を行ってパルスレーザ光を出力する狭帯域化レーザ装置であって、レーザ共振器と、レーザ共振器の間に配置された第1のチャンバと、第1のチャンバに配置された第1の一対の電極と、第1の一対の電極にパルス電圧を印加する第1の電源と、レーザ共振器に配置された波長選択素子と、レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の光路に配置された第2のチャンバと、第2のチャンバに配置された第2の一対の電極と、第2の一対の電極にパルス電圧を印加する第2の電源と、第2のバースト発振が開始される時より前の所定期間におけるデューティーと、第1のバースト発振が終了した時から第2のバースト発振が開始される時までの休止時間と、を計測し、デューティーと休止時間とに基づいて、第1の一対の電極の間における放電のタイミングと第2の一対の電極の間における放電のタイミングとの差を制御する制御部と、を備えてもよい。
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図1は、比較例に係る狭帯域化レーザ装置の構成を模式的に示す。
図2は、図1に示されるスペクトル幅検出器16dに含まれるエタロン分光器の具体的構成の例を示す。
図3は、スペクトル幅の定義の例を説明する図である。
図4は、スペクトル幅制御部30aによるスペクトル幅の制御の基本概念を説明する図である。
図5は、スペクトル幅制御部30aによるスペクトル幅の制御の基本概念を説明する図である。
図6は、休止時間Trの長さと、スペクトル幅変化ΔE95sとの関係の例を示す。
図7は、図1に示されるスペクトル幅制御部30aによるスペクトル幅制御の処理を示すフローチャートである。
図8は、図7に示されるフローチャートの一部の処理について、そのサブルーチンを示すフローチャートである。
図9は、図7に示されるフローチャートの一部の処理について、そのサブルーチンを示すフローチャートである。
図10は、図7に示されるフローチャートの一部の処理について、そのサブルーチンを示すフローチャートである。
図11は、休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータテーブルの構造を示す。
図12は、本開示の課題を説明する図である。
図13は、本開示の課題を説明する図である。
図14は、本開示の第1の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を概略的に示す。
図15は、前回のバースト発振時のデューティーDの値ごとに、休止時間Trの長さと、スペクトル幅変化ΔE95sとの関係を示す。
図16は、前回のバースト発振中のデューティーDと、休止時間Trとに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータテーブルの構造を示す。
図17は、図14に示されるスペクトル幅制御部30aによるスペクトル幅制御の処理を示すフローチャートである。
図18は、図17に示されるフローチャートの一部の処理について、そのサブルーチンを示すフローチャートである。
図19は、図17に示されるフローチャートの一部の処理について、そのサブルーチンを示すフローチャートである。
図20は、図14に示されるデューティー計測部30cによるデューティー計測の処理を示すフローチャートである。
図21Aは、図14に示されるスペクトル幅可変部15の構成を模式的に示す。
図21Bは、図14に示されるスペクトル幅可変部15の構成を模式的に示す。
図22は、本開示の第2の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を概略的に示す。
図23は、図22に示されるスペクトル幅制御部30aの処理を示すフローチャートである。
図24は、図23に示される調整発振の処理の詳細を示すフローチャートである。
図25は、図24に示される調整発振の処理の詳細を示すフローチャートである。
図26は、本開示の第3の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置におけるスペクトル幅制御部30aの処理を示すフローチャートである。
図27は、本開示の第3の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置におけるスペクトル幅制御部30aの処理を示すフローチャートである。
図28は、本開示の第3の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置におけるスペクトル幅制御部30aの処理を示すフローチャートである。
図29は、第1~第3の実施形態におけるデューティー計測部の処理の第1の変形例を示すフローチャートである。
図30は、第1~第3の実施形態におけるデューティー計測部の処理の第2の変形例を示すフローチャートである。
図31は、本開示の第4の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を概略的に示す。
図32は、MOPO方式のレーザ装置におけるマスターオシレータとパワーオシレータの放電タイミングの遅延時間と、パルスエネルギー及びスペクトル幅との関係を示す。
図33は、制御部の概略構成を示すブロック図である。
<内容>
1.比較例に係る狭帯域化レーザ装置
1.1 レーザチャンバ
1.2 狭帯域化モジュール
1.3 スペクトル幅可変部
1.4 エネルギーセンサ
1.5 エタロン分光器
1.6 制御部
1.7 動作
1.8 課題
2.デューティーに基づいてスペクトル幅を制御する狭帯域化レーザ装置(第1の実施形態)
2.1 構成
2.2 動作
2.3 スペクトル幅可変部の詳細
3.調整発振によるデータ更新を行う狭帯域化レーザ装置(第2の実施形態)
3.1 構成
3.2 動作
3.2.1 メインフロー
3.2.2 調整発振の詳細
4.近似曲線を用いてスペクトル幅を制御する狭帯域化レーザ装置(第3の実施形態)
4.1 スペクトル幅の制御
4.2 調整発振
5.デューティー計測の変形例
5.1 第1の変形例
5.2 第2の変形例
6.MOPO間の同期によりスペクトル幅を制御する狭帯域化レーザ装置(第4の実施形態)
7.制御部の構成
1.比較例に係る狭帯域化レーザ装置
1.1 レーザチャンバ
1.2 狭帯域化モジュール
1.3 スペクトル幅可変部
1.4 エネルギーセンサ
1.5 エタロン分光器
1.6 制御部
1.7 動作
1.8 課題
2.デューティーに基づいてスペクトル幅を制御する狭帯域化レーザ装置(第1の実施形態)
2.1 構成
2.2 動作
2.3 スペクトル幅可変部の詳細
3.調整発振によるデータ更新を行う狭帯域化レーザ装置(第2の実施形態)
3.1 構成
3.2 動作
3.2.1 メインフロー
3.2.2 調整発振の詳細
4.近似曲線を用いてスペクトル幅を制御する狭帯域化レーザ装置(第3の実施形態)
4.1 スペクトル幅の制御
4.2 調整発振
5.デューティー計測の変形例
5.1 第1の変形例
5.2 第2の変形例
6.MOPO間の同期によりスペクトル幅を制御する狭帯域化レーザ装置(第4の実施形態)
7.制御部の構成
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
1.比較例に係る狭帯域化レーザ装置
図1は、比較例に係る狭帯域化レーザ装置の構成を模式的に示す。図1に示される狭帯域化レーザ装置は、レーザチャンバ10と、一対の放電電極11a及び11bと、充電器12と、パルスパワーモジュール(PPM)13と、狭帯域化モジュール14と、スペクトル幅可変部15と、を含んでもよい。狭帯域化レーザ装置は、さらに、センサユニット16と、レーザ制御部30と、を含んでもよい。狭帯域化レーザ装置は、露光装置4に入射させるためのパルスレーザ光を出力するエキシマレーザ装置であってもよい。
図1は、比較例に係る狭帯域化レーザ装置の構成を模式的に示す。図1に示される狭帯域化レーザ装置は、レーザチャンバ10と、一対の放電電極11a及び11bと、充電器12と、パルスパワーモジュール(PPM)13と、狭帯域化モジュール14と、スペクトル幅可変部15と、を含んでもよい。狭帯域化レーザ装置は、さらに、センサユニット16と、レーザ制御部30と、を含んでもよい。狭帯域化レーザ装置は、露光装置4に入射させるためのパルスレーザ光を出力するエキシマレーザ装置であってもよい。
図1においては、一対の放電電極11a及び11bの間の放電方向に略平行な方向からみた狭帯域化レーザ装置が示されている。放電電極11bは、放電電極11aよりも紙面の奥行側に位置してもよい。狭帯域化レーザ装置から出力されるパルスレーザ光の進行方向は、Z方向であってよい。一対の放電電極11a及び11bの間の放電方向は、V方向又は-V方向であってよい。これらの両方に垂直な方向は、H方向であってよい。
1.1 レーザチャンバ
レーザチャンバ10は、例えば、レアガスとしてアルゴンガスやクリプトンガス、ハロゲンガスとしてフッ素ガスや塩素ガス、バッファガスとしてネオンガスやヘリュームガスを含むレーザガスが封入されるチャンバでもよい。レーザチャンバ10の両端にはウインドウ10a及び10bが設けられてもよい。
レーザチャンバ10は、例えば、レアガスとしてアルゴンガスやクリプトンガス、ハロゲンガスとしてフッ素ガスや塩素ガス、バッファガスとしてネオンガスやヘリュームガスを含むレーザガスが封入されるチャンバでもよい。レーザチャンバ10の両端にはウインドウ10a及び10bが設けられてもよい。
一対の放電電極11a及び11bは、レーザ媒質を放電により励起するための電極として、レーザチャンバ10内に配置されてもよい。パルスパワーモジュール13には、充電器12が接続されてもよい。パルスパワーモジュール13は、図示しない充電コンデンサと、スイッチ13aと、を含んでいてもよい。充電器12の出力は、充電コンデンサに接続され、この充電コンデンサは、一対の放電電極11a及び11b間に高電圧を印加するための電気エネルギーを保持し得る。レーザ制御部30からスイッチ13aにトリガ信号が入力されて、スイッチ13aがOFFからONになると、パルスパワーモジュール13は、充電器12に保持されていた電気エネルギーからパルス状の高電圧を生成し得る。このパルス状の高電圧が、一対の放電電極11a及び11b間に印加されてもよい。
一対の放電電極11a及び11b間に高電圧が印加されると、一対の放電電極11a及び11b間に放電が起こり得る。この放電のエネルギーにより、レーザチャンバ10内のレーザ媒質が励起されて高エネルギー準位に移行し得る。励起されたレーザ媒質が、その後低エネルギー準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた光を放出し得る。
図1に示されるように、ウインドウ10a及び10bは、これらのウインドウに対する光の入射面とHZ平面とが略一致し、かつ、この光の入射角度が略ブリュースター角となるように配置されてもよい。レーザチャンバ10内で発生した光は、ウインドウ10a及び10bを介してレーザチャンバ10の外部に出射してもよい。
1.2 狭帯域化モジュール
狭帯域化モジュール14は、2つのプリズム14a及び14bと、グレーティング14cと、を含んでもよい。プリズム14a、プリズム14b、及びグレーティング14cは、それぞれ図示しないホルダに支持されてもよい。狭帯域化モジュール14は、本開示の波長選択素子を構成し得る。
狭帯域化モジュール14は、2つのプリズム14a及び14bと、グレーティング14cと、を含んでもよい。プリズム14a、プリズム14b、及びグレーティング14cは、それぞれ図示しないホルダに支持されてもよい。狭帯域化モジュール14は、本開示の波長選択素子を構成し得る。
プリズム14a及び14bは、レーザチャンバ10のウインドウ10aから出射された光のH方向のビーム幅を拡大させて、その光をグレーティング14cに入射させてもよい。また、プリズム14a及び14bは、グレーティング14cからの反射光のH方向のビーム幅を縮小させるとともに、その光を、ウインドウ10aを介して、レーザチャンバ10内の放電空間に戻してもよい。
グレーティング14cは、表面の物質が高反射率の材料によって構成され、表面に多数の溝が所定間隔で形成されていてもよい。各溝は例えば直角三角形の溝であってもよい。プリズム14a及び14bからグレーティング14cに入射した光は、これらの溝によって反射されるとともに、光の波長に応じた方向に回折させられてもよい。グレーティング14cは、プリズム14a及び14bからグレーティング14cに入射する光の入射角と、所望波長の回折光の回折角とが一致するようにリトロー配置されてもよい。これにより、所望波長付近の光がプリズム14a及び14bを介してレーザチャンバ10に戻されてもよい。
1.3 スペクトル幅可変部
スペクトル幅可変部15は、平凹シリンドリカルレンズ15aと、平凸シリンドリカルレンズ15bとを含んでもよい。平凹シリンドリカルレンズ15aは、平凸シリンドリカルレンズ15bよりもレーザチャンバ10に近い位置に配置されてもよい。平凹シリンドリカルレンズ15aの凹面と、平凸シリンドリカルレンズ15bの凸面とが向き合うように、これらのレンズが配置されてもよい。平凹シリンドリカルレンズ15aは、リニアステージ15cによって、Z方向又は-Z方向に移動可能とされていてもよい。リニアステージ15cは、ドライバ15dによって駆動されてもよい。平凸シリンドリカルレンズ15bの平面には、部分反射膜がコーティングされていてもよい。従って、平凸シリンドリカルレンズ15bを含むスペクトル幅可変部15は、レーザチャンバ10のウインドウ10bから出力される光のうちの一部を透過させて出力し、他の一部を反射させてレーザチャンバ10内に戻してもよい。
スペクトル幅可変部15は、平凹シリンドリカルレンズ15aと、平凸シリンドリカルレンズ15bとを含んでもよい。平凹シリンドリカルレンズ15aは、平凸シリンドリカルレンズ15bよりもレーザチャンバ10に近い位置に配置されてもよい。平凹シリンドリカルレンズ15aの凹面と、平凸シリンドリカルレンズ15bの凸面とが向き合うように、これらのレンズが配置されてもよい。平凹シリンドリカルレンズ15aは、リニアステージ15cによって、Z方向又は-Z方向に移動可能とされていてもよい。リニアステージ15cは、ドライバ15dによって駆動されてもよい。平凸シリンドリカルレンズ15bの平面には、部分反射膜がコーティングされていてもよい。従って、平凸シリンドリカルレンズ15bを含むスペクトル幅可変部15は、レーザチャンバ10のウインドウ10bから出力される光のうちの一部を透過させて出力し、他の一部を反射させてレーザチャンバ10内に戻してもよい。
平凹シリンドリカルレンズ15aをZ方向又は-Z方向に移動させることにより、レーザチャンバ10からスペクトル幅可変部15に入射してレーザチャンバ10に戻される光の波面が調節されてもよい。波面が調節されることにより、狭帯域化モジュール14によって選択される光のスペクトル幅が変更されてもよい。
レーザチャンバ10と狭帯域化モジュール14との間に、ビーム幅を制限するスリット10cが配置されてもよい。レーザチャンバ10とスペクトル幅可変部15との間に、ビーム幅を制限するスリット10dが配置されてもよい。
狭帯域化モジュール14とスペクトル幅可変部15とが、光共振器を構成してもよい。レーザチャンバ10から出射した光は、狭帯域化モジュール14とスペクトル幅可変部15との間で往復し、放電電極11a及び11bの間の放電空間を通過する度に増幅されレーザ発振し得る。レーザ光は、狭帯域化モジュール14で折り返される度にスペクトル幅が狭帯域化され得る。さらに、上述したウインドウ10a及び10bの配置によって、H方向の偏光成分が選択され得る。こうして増幅されたレーザ光が、スペクトル幅可変部15から露光装置4に向けて出力され得る。
1.4 エネルギーセンサ
スペクトル幅可変部15と露光装置4との間のパルスレーザ光の光路には、センサユニット16が配置されてもよい。センサユニット16は、ビームスプリッタ16a及び16bと、パルスエネルギー検出器16cと、スペクトル幅検出器16dと、を含んでもよい。ビームスプリッタ16aは、スペクトル幅可変部15から出力されたパルスレーザ光を高い透過率で透過させ、スペクトル幅可変部15から出力されたパルスレーザ光の一部を反射してもよい。ビームスプリッタ16bは、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の光路に配置されていてもよい。ビームスプリッタ16bは、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の一部を透過させ、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の他の一部を反射してもよい。
スペクトル幅可変部15と露光装置4との間のパルスレーザ光の光路には、センサユニット16が配置されてもよい。センサユニット16は、ビームスプリッタ16a及び16bと、パルスエネルギー検出器16cと、スペクトル幅検出器16dと、を含んでもよい。ビームスプリッタ16aは、スペクトル幅可変部15から出力されたパルスレーザ光を高い透過率で透過させ、スペクトル幅可変部15から出力されたパルスレーザ光の一部を反射してもよい。ビームスプリッタ16bは、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の光路に配置されていてもよい。ビームスプリッタ16bは、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の一部を透過させ、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の他の一部を反射してもよい。
パルスエネルギー検出器16cは、ビームスプリッタ16bによって反射されたパルスレーザ光の光路に配置されてもよい。パルスエネルギー検出器16cは、ビームスプリッタ16bによって反射されたパルスレーザ光のパルスエネルギーを検出してもよい。パルスエネルギー検出器16cは、検出されたパルスエネルギーのデータを、レーザ制御部30に出力してもよい。パルスエネルギー検出器16cは、フォトダイオード、光電管、あるいは焦電素子であってもよい。
スペクトル幅検出器16dは、ビームスプリッタ16bを透過したパルスレーザ光の光路に配置されてもよい。スペクトル幅検出器16dは、ビームスプリッタ16bを透過したパルスレーザ光のスペクトル幅を検出してもよい。スペクトル幅検出器16dは、検出されたスペクトル幅のデータを、レーザ制御部30に出力してもよい。スペクトル幅検出器16dは、エタロン分光器を含んでもよい。エタロン分光器の具体的構成については、図2を参照しながら後述する。
1.5 エタロン分光器
図2は、図1に示されるスペクトル幅検出器16dに含まれるエタロン分光器の具体的構成の例を示す。エタロン分光器は、拡散プレート16eと、エタロン16fと、集光レンズ16gと、ラインセンサ16hと、を含んでもよい。
図2は、図1に示されるスペクトル幅検出器16dに含まれるエタロン分光器の具体的構成の例を示す。エタロン分光器は、拡散プレート16eと、エタロン16fと、集光レンズ16gと、ラインセンサ16hと、を含んでもよい。
拡散プレート16eは、表面に多数の凹凸を有する透過型の光学素子であってもよい。拡散プレート16eは、拡散プレート16eに入射したパルスレーザ光を散乱光として透過させてもよい。拡散プレート16eを透過した散乱光は、エタロン16fに入射してもよい。
エタロン16fは、2枚の所定の反射率Rの部分反射ミラーを含むエアギャップエタロンであってもよい。このエアギャップエタロンにおいては、2枚の部分反射ミラーが、所定距離のエアギャップdを有して対向し、スペーサを介して貼りあわせられていてもよい。
エタロン16fに入射した光の入射角θに応じて、2枚の部分反射ミラーの間で往復せずにエタロン16fを透過する光と、2枚の部分反射ミラーの間で1回往復した後でエタロン16fを透過する光と、の光路差は異なり得る。この光路差が波長λの整数m倍の時に、エタロン16fに入射した光は、2枚の部分反射ミラーの間で往復せずにエタロン16fを透過する光と、2枚の部分反射ミラーの間で1回、2回、・・・、k回往復した後でエタロン16fをそれぞれ透過する複数の光と、が干渉し、高い透過率でエタロン16fを透過し得る。
エタロン16fに入射した光の入射角θに応じて、2枚の部分反射ミラーの間で往復せずにエタロン16fを透過する光と、2枚の部分反射ミラーの間で1回往復した後でエタロン16fを透過する光と、の光路差は異なり得る。この光路差が波長λの整数m倍の時に、エタロン16fに入射した光は、2枚の部分反射ミラーの間で往復せずにエタロン16fを透過する光と、2枚の部分反射ミラーの間で1回、2回、・・・、k回往復した後でエタロン16fをそれぞれ透過する複数の光と、が干渉し、高い透過率でエタロン16fを透過し得る。
エタロンの基本式を以下に示す。
mλ=2ndcosθ (1)
ここで、nはエアギャップ間での屈折率であってもよい。
エタロン16fに入射した波長λの光は、(1)式を満たす入射角θになった時に、高い透過率でエタロンを通過し得る。
従って、エタロン16fに入射する光の波長に応じて、エタロン16fを高い透過率で透過する光の入射角θが異なり得る。エタロン16fを透過した光は、集光レンズ16gに入射してもよい。
mλ=2ndcosθ (1)
ここで、nはエアギャップ間での屈折率であってもよい。
エタロン16fに入射した波長λの光は、(1)式を満たす入射角θになった時に、高い透過率でエタロンを通過し得る。
従って、エタロン16fに入射する光の波長に応じて、エタロン16fを高い透過率で透過する光の入射角θが異なり得る。エタロン16fを透過した光は、集光レンズ16gに入射してもよい。
集光レンズ16gは、集光性能を有する光学素子であってもよい。集光レンズ16gを透過した光は、集光レンズ16gから集光レンズ16gの焦点距離fに相当する位置に配置されたラインセンサ16hに入射してもよい。集光レンズ16gを透過した光は、ラインセンサ16hにおいて干渉縞を形成し得る。
上述の(1)式から、この干渉縞の半径の2乗は、パルスレーザ光の波長λと比例関係となり得る。
上述の(1)式から、この干渉縞の半径の2乗は、パルスレーザ光の波長λと比例関係となり得る。
ラインセンサ16hは、集光レンズ16gを透過した光を受光し、干渉縞を検出してもよい。この干渉縞に基づいて、スペクトル幅検出器16dに含まれている図示しない演算回路が、パルスレーザ光に含まれる波長成分を検出し、スペクトル幅を算出してもよい。スペクトル幅のデータが、レーザ制御部30に出力されてもよい。あるいは、上述の演算回路の機能の全部又は一部がレーザ制御部30に備えられていてもよい。また、ラインセンサ16hの代わりに、図示しない1次元または2次元のイメージセンサが用いられてもよい。
図3は、スペクトル幅の定義の例を説明する図である。図3には、パルスレーザ光のスペクトル波形が示されている。図3に示されるように、パルスレーザ光の全エネルギーのうち、ピーク波長λ0を中心として95%を占める部分の全幅を、本明細書においてはスペクトル幅E95と称する。スペクトル幅E95は、スペクトル純度とも言われる。スペクトル幅E95は、以下の式におけるΔλに相当する。なお、g(λ+λ0)は、スペクトル波形のうちの波長(λ+λ0)におけるエネルギーである。
1.6 制御部
図1を再び参照し、露光装置4は、露光装置制御部40を含んでいてもよい。露光装置制御部40は、図示しないウエハステージの移動などの制御を行ってもよい。露光装置制御部40は、レーザ制御部30に対し、目標パルスエネルギーのデータと、目標スペクトル幅のデータと、トリガ信号とを出力してもよい。
図1を再び参照し、露光装置4は、露光装置制御部40を含んでいてもよい。露光装置制御部40は、図示しないウエハステージの移動などの制御を行ってもよい。露光装置制御部40は、レーザ制御部30に対し、目標パルスエネルギーのデータと、目標スペクトル幅のデータと、トリガ信号とを出力してもよい。
レーザ制御部30は、パルスエネルギー検出器16cから受信したパルスエネルギーのデータと、露光装置制御部40から受信した目標パルスエネルギーのデータとに基づいて、充電器12の充電電圧を設定してもよい。これにより、狭帯域化レーザ装置から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギーが目標パルスエネルギーに近づけられてもよい。
レーザ制御部30は、スペクトル幅制御部30aを含んでいてもよい。スペクトル幅制御部30aは、レーザ制御部30に含まれる後述のメモリ1002にロードされたプログラムモジュールとして構成されていてもよい。
スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅検出器16dから受信したスペクトル幅のデータと、露光装置制御部40から受信した目標スペクトル幅のデータとに基づいて、ドライバ15dを介してスペクトル幅可変部15を制御してもよい。これにより、狭帯域化レーザ装置から出力されるパルスレーザ光のスペクトル幅が目標スペクトル幅に近づけられてもよい。
スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅検出器16dから受信したスペクトル幅のデータと、露光装置制御部40から受信した目標スペクトル幅のデータとに基づいて、ドライバ15dを介してスペクトル幅可変部15を制御してもよい。これにより、狭帯域化レーザ装置から出力されるパルスレーザ光のスペクトル幅が目標スペクトル幅に近づけられてもよい。
レーザ制御部30は、休止時間計測部30bを含んでいてもよい。休止時間計測部30bは、レーザ制御部30に含まれる後述のメモリ1002にロードされたプログラムモジュールとして構成されていてもよい。
レーザ制御部30は、露光装置制御部40から受信したトリガ信号を、パルスパワーモジュール13のスイッチ13aに出力してもよい。トリガ信号は、さらに、休止時間計測部30bに入力されてもよい。休止時間計測部30bは、トリガ信号に基づいて、狭帯域化レーザ装置の休止時間を計測してもよい。休止時間は、1つのトリガ信号を受信してから次のトリガ信号を受信するまでの期間であってもよい。
図4及び図5は、スペクトル幅制御部30aによるスペクトル幅の制御の基本概念を説明する図である。図4及び図5における個々の小円は、トリガ信号に基づいて生成されたパルスレーザ光の個々のパルスに対応する。狭帯域化レーザ装置は、繰り返し周波数が所定の閾値以上で行われるバースト発振と、バースト発振の休止とを交互に繰り返してもよい。バースト発振の期間は、例えば、露光装置4において、半導体ウエハの個々のチップ領域の露光が行われる期間であってもよい。バースト発振を休止する期間は、例えば、第1のチップ領域の露光が終了した後、第2のチップ領域の露光が開始されるまでの、図示しないウエハステージの移動を行うための期間であったり、ウエハステージに搭載された半導体ウエハを交換するための期間であったりしてもよい。半導体ウエハを交換するための期間においては、後述の調整発振が行われてもよい。
バースト発振の期間においては、上述のスペクトル幅検出器16dから受信したスペクトル幅のデータと、露光装置制御部40から受信した目標スペクトル幅のデータとに基づくスペクトル幅可変部15の制御が行われてもよい。
バースト発振を休止する期間においては、スペクトル幅検出器16dからスペクトル幅のデータを受信できないことがあり得る。前回のバースト発振の終了時におけるスペクトル幅可変部15の制御値を維持したままにしておくと、次のバースト発振を開始するときに、スペクトル幅がシフトすることがあり得る。スペクトル幅がシフトした様子が、図4及び図5に破線の小円で示されている。スペクトル幅がシフトすると、露光装置4における集光性能が変化し、露光品質に悪影響が出るおそれがあり得る。
バースト発振を休止する期間中にスペクトル幅がシフトする原因の1つは、バースト発振を休止している間に光学素子の温度が変化することにより、光学素子の特性が変化することであると推測される。スペクトル幅のシフトは、休止時間の長さによって変化し得る。例えば、図4に示されるように、休止時間Trが比較的短い場合は、スペクトル幅変化は比較的小さく、図5に示されるように、休止時間Trが比較的長い場合は、スペクトル幅変化は比較的大きくなる場合がある。
図6に、休止時間Trの長さと、スペクトル幅変化ΔE95sとの関係の例を示す。休止時間Trの長さに対して、スペクトル幅変化ΔE95sは、一次遅れの減衰関数に近似した関係を有し得る。
そこで、スペクトル幅制御部30aは、前回のバースト発振が終了した後、次回のバースト発振が開始されるまでに、予めスペクトル幅可変部15を制御しておいてもよい。この制御は、休止時間Trの長さに応じて、スペクトル幅変化ΔE95sを補償するように行われてもよい。これにより、図4及び図5に実線で示されるように、次回のバースト発振の先頭から、目標のスペクトル幅E95tに近いスペクトル幅のパルスレーザ光が出力され得る。
そこで、スペクトル幅制御部30aは、前回のバースト発振が終了した後、次回のバースト発振が開始されるまでに、予めスペクトル幅可変部15を制御しておいてもよい。この制御は、休止時間Trの長さに応じて、スペクトル幅変化ΔE95sを補償するように行われてもよい。これにより、図4及び図5に実線で示されるように、次回のバースト発振の先頭から、目標のスペクトル幅E95tに近いスペクトル幅のパルスレーザ光が出力され得る。
1.7 動作
図7は、図1に示されるスペクトル幅制御部30aによるスペクトル幅制御の処理を示すフローチャートである。図8~図10は、図7に示されるフローチャートの一部の処理について、そのサブルーチンを示すフローチャートである。スペクトル幅制御部30aは、以下の処理により、バースト発振を休止する期間における制御(S800)と、バースト発振期間における制御(S600)と、を行ってもよい。
図7は、図1に示されるスペクトル幅制御部30aによるスペクトル幅制御の処理を示すフローチャートである。図8~図10は、図7に示されるフローチャートの一部の処理について、そのサブルーチンを示すフローチャートである。スペクトル幅制御部30aは、以下の処理により、バースト発振を休止する期間における制御(S800)と、バースト発振期間における制御(S600)と、を行ってもよい。
まず、図7のS200において、スペクトル幅制御部30aは、休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータを、図示しない記憶装置から読込んでもよい。休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係は、図6を参照しながら説明した一次遅れの減衰関数に近似した関係であってもよい。
図8に示されるS200のサブルーチンを参照し、スペクトル幅制御部30aは、S210において、休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータテーブルを読込んでもよい。
図11に、休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータテーブルの構造が示されている。図11に示されるデータテーブルにおいては、休止時間Trとスペクトル幅変化ΔE95sとは1対1に対応していてもよい。
図8に示されるS200のサブルーチンを参照し、スペクトル幅制御部30aは、S210において、休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータテーブルを読込んでもよい。
図11に、休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータテーブルの構造が示されている。図11に示されるデータテーブルにおいては、休止時間Trとスペクトル幅変化ΔE95sとは1対1に対応していてもよい。
図7を再び参照し、S200の次のS400において、スペクトル幅制御部30aは、休止時間計測部30bにおいて計測された休止時間Trを読込んでもよい。上述のように、休止時間Trは、1つのトリガ信号を受信してから次のトリガ信号を受信するまでの期間であってもよい。
次に、S500において、スペクトル幅制御部30aは、計測された休止時間Trに基づいて、バースト発振中か否かを判定してもよい。例えば、休止時間Trが、所定の閾値Tb以下である場合に、スペクトル幅制御部30aは、バースト発振中であると判定し(S500;YES)、処理をS600に進めてもよい。所定の閾値Tbは、0.01秒以上、0.05秒以下であってもよい。所定の閾値Tbは、例えば、0.02秒程度であってもよい。すなわち、50Hz以上の繰り返し周波数でトリガ信号が入力されている場合に、スペクトル幅制御部30aは、バースト発振中であると判定してもよい。
休止時間Trが、所定の閾値Tbを超えている場合に、スペクトル幅制御部30aは、バースト発振中ではなく、バースト発振を休止している期間であると判定し(S500;NO)、処理をS800に進めてもよい。
休止時間Trが、所定の閾値Tbを超えている場合に、スペクトル幅制御部30aは、バースト発振中ではなく、バースト発振を休止している期間であると判定し(S500;NO)、処理をS800に進めてもよい。
S800において、スペクトル幅制御部30aは、計測された休止時間Trに基づいて、スペクトル幅可変部15を制御してもよい。すなわち、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅のフィードフォワード制御を行ってもよい。
S800の後、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS400に戻してその後の処理を繰り返してもよい。もし、休止時間Trがさらに長引いた場合は、新たに休止時間Trが計測される度に、S800においてスペクトル幅可変部15を制御してもよい。
S800の後、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS400に戻してその後の処理を繰り返してもよい。もし、休止時間Trがさらに長引いた場合は、新たに休止時間Trが計測される度に、S800においてスペクトル幅可変部15を制御してもよい。
図9に示されるS800のサブルーチンを参照し、まず、スペクトル幅制御部30aは、S810において、計測された休止時間Trに基づいて、データテーブルからスペクトル幅変化ΔE95sを読み出してもよい。次に、スペクトル幅制御部30aは、S830において、スペクトル幅変化ΔE95sが補償されるように、スペクトル幅可変部15を制御してもよい。休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係が、図6を参照しながら説明した一次遅れの減衰関数に近似した関係である場合、スペクトル幅変化ΔE95sを補償する制御とは、スペクトル幅を広くする制御であってもよい。すなわち、前回のバースト発振終了後にまったくスペクトル幅可変部15を制御しないと仮定した場合のスペクトル幅に対して、ΔE95sの絶対値である|ΔE95s|だけスペクトル幅が広くなるように、スペクトル幅可変部15が制御されてもよい。
図7を再び参照し、S600において、スペクトル幅制御部30aは、計測されたスペクトル幅に基づいて、スペクトル幅可変部15を制御してもよい。すなわち、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅のフィードバック制御を行ってもよい。
S600の後、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS400に戻してその後の処理を繰り返してもよい。もし、バースト発振が続いた場合には、新たにスペクトル幅が計測される度に、S600においてスペクトル幅可変部15が制御されてもよい。
S600の後、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS400に戻してその後の処理を繰り返してもよい。もし、バースト発振が続いた場合には、新たにスペクトル幅が計測される度に、S600においてスペクトル幅可変部15が制御されてもよい。
図10に示されるS600のサブルーチンを参照し、まず、スペクトル幅制御部30aは、S610において、計測されたスペクトル幅E95を読み出してもよい。次に、スペクトル幅制御部30aは、S620において、計測されたスペクトル幅E95とスペクトル幅の目標値E95tとの差が0に近づくように、スペクトル幅可変部15を制御してもよい。
1.8 課題
図12及び図13は、本開示の課題を説明する図である。上述の比較例においては、バースト発振の開始時のスペクトル幅を、前回のバースト発振の終了時からの休止時間Trに基づいて制御していたが、バースト発振の開始時のスペクトル幅は、必ずしも休止時間Trのみで決まるものではない。
図12及び図13は、本開示の課題を説明する図である。上述の比較例においては、バースト発振の開始時のスペクトル幅を、前回のバースト発振の終了時からの休止時間Trに基づいて制御していたが、バースト発振の開始時のスペクトル幅は、必ずしも休止時間Trのみで決まるものではない。
例えば、図12に示されるように、前回のバースト発振が繰り返し周波数の小さい発振であった場合と、図13に示されるように、前回のバースト発振が繰り返し周波数の大きい発振であった場合とでは、同じ休止時間Trでも光学素子の特性が異なることがあり得る。前回のバースト発振の繰り返し周波数が小さい場合は、前回のバースト発振の繰り返し周波数が大きい場合ほど光学素子が高温にならず、スペクトル幅変化は比較的小さくなり得る。前回のバースト発振の繰り返し周波数が大きい場合は、スペクトル幅変化は比較的大きくなり得る。従って、休止時間Trのみに基づいてスペクトル幅変化ΔE95sを算出すると、次回のバースト発振の開始時に、スペクトル幅がばらついてしまう可能性がある。
なお、バースト発振の繰り返し周波数が同じであっても、休止時間が長いと、光学素子の熱負荷が小さくなり、スペクトル幅変化は比較的小さくなり得る。逆に、バースト発振の繰り返し周波数が同じであっても、休止時間が短いと、光学素子の熱負荷が大きくなり、スペクトル幅変化は比較的大きくなり得る。
なお、バースト発振の繰り返し周波数が同じであっても、休止時間が長いと、光学素子の熱負荷が小さくなり、スペクトル幅変化は比較的小さくなり得る。逆に、バースト発振の繰り返し周波数が同じであっても、休止時間が短いと、光学素子の熱負荷が大きくなり、スペクトル幅変化は比較的大きくなり得る。
以下に説明される実施形態においては、この課題を解決するために、レーザ発振のデューティーを計測し、計測されたデューティーに基づいて、スペクトル幅可変部15を制御してもよい。
2.デューティーに基づいてスペクトル幅を制御する狭帯域化レーザ装置(第1の実施形態)
2.1 構成
図14は、本開示の第1の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を概略的に示す。第1の実施形態おいて、狭帯域化レーザ装置のレーザ制御部30は、図1を参照しながら説明した比較例の構成に加えて、デューティー計測部30cを備えていてもよい。デューティー計測部30cは、レーザ制御部30に含まれる後述のメモリ1002にロードされたプログラムモジュールとして構成されていてもよい。
2.1 構成
図14は、本開示の第1の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を概略的に示す。第1の実施形態おいて、狭帯域化レーザ装置のレーザ制御部30は、図1を参照しながら説明した比較例の構成に加えて、デューティー計測部30cを備えていてもよい。デューティー計測部30cは、レーザ制御部30に含まれる後述のメモリ1002にロードされたプログラムモジュールとして構成されていてもよい。
デューティー計測部30cは、露光装置制御部40から出力されたトリガ信号に基づいて、パルスレーザ光のデューティーを計測してもよい。パルスレーザ光のデューティーは、例えば、一定時間にわたって最大繰り返し周波数でレーザ発振した場合のパルス数に対する、当該一定時間の実際のパルス数の比率であってもよい。計測されたデューティーの値は、スペクトル幅制御部30aに出力されてもよい。
図15は、前回のバースト発振時のデューティーDの値ごとに、休止時間Trの長さと、スペクトル幅変化ΔE95sとの関係を示す。デューティーDの値ごとにみると、休止時間Trの長さに対して、スペクトル幅変化ΔE95sは、一次遅れの減衰関数に近似した関係を有し得る。デューティーDが小さい場合には、スペクトル幅変化ΔE95sは小さく、デューティーDが大きい場合には、スペクトル幅変化ΔE95sは大きくなり得る。そこで、デューティーDと休止時間Trとの組合せに応じてスペクトル幅可変部15を制御することにより、次回のバースト発振の開始時におけるスペクトル幅を精度よく調整することができる。
図16に、前回のバースト発振中のデューティーDと、休止時間Trとに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータテーブルの構造が示されている。図16に示されるデータテーブルにおいては、デューティーDと休止時間Trとの組合せは、スペクトル幅変化ΔE95sと1対1に対応していてもよい。
2.2 動作
図17は、図14に示されるスペクトル幅制御部30aによるスペクトル幅制御の処理を示すフローチャートである。図18及び図19は、図17に示されるフローチャートの一部の処理について、そのサブルーチンを示すフローチャートである。スペクトル幅制御部30aは、以下の処理により、パルスレーザ光のデューティーに基づいて、バースト発振を休止する期間における制御(S900)を行ってもよい。
図17は、図14に示されるスペクトル幅制御部30aによるスペクトル幅制御の処理を示すフローチャートである。図18及び図19は、図17に示されるフローチャートの一部の処理について、そのサブルーチンを示すフローチャートである。スペクトル幅制御部30aは、以下の処理により、パルスレーザ光のデューティーに基づいて、バースト発振を休止する期間における制御(S900)を行ってもよい。
まず、図17のS300において、スペクトル幅制御部30aは、各デューティーDについて、休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータを、図示しない記憶装置から読込んでもよい。
図18に示されるS300のサブルーチンは、各デューティーについてデータテーブルを読込む点の他、図8を参照しながら説明したS200のサブルーチンと同様でよい。
図18に示されるS300のサブルーチンは、各デューティーについてデータテーブルを読込む点の他、図8を参照しながら説明したS200のサブルーチンと同様でよい。
図17を再び参照し、S300の次のS400及びS500の処理は、図7を参照しながら説明した比較例と同様でよい。
S500において、スペクトル幅制御部30aは、バースト発振中であると判定した場合に(S500;YES)、処理をS600に進めてもよい。S600の処理は、図7を参照しながら説明した比較例と同様でよい。
スペクトル幅制御部30aは、バースト発振中ではないと判定した場合に(S500;NO)、処理をS700に進めてもよい。
S500において、スペクトル幅制御部30aは、バースト発振中であると判定した場合に(S500;YES)、処理をS600に進めてもよい。S600の処理は、図7を参照しながら説明した比較例と同様でよい。
スペクトル幅制御部30aは、バースト発振中ではないと判定した場合に(S500;NO)、処理をS700に進めてもよい。
S700において、スペクトル幅制御部30aは、計測されたデューティーDの値をデューティー計測部30cから読込んでもよい。
次に、S900において、スペクトル幅制御部30aは、計測されたデューティーD及び計測された休止時間Trに基づいて、スペクトル幅可変部15を制御してもよい。すなわち、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅のフィードフォワード制御を行ってもよい。
S900の後、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS400に戻してその後の処理を繰り返してもよい。
次に、S900において、スペクトル幅制御部30aは、計測されたデューティーD及び計測された休止時間Trに基づいて、スペクトル幅可変部15を制御してもよい。すなわち、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅のフィードフォワード制御を行ってもよい。
S900の後、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS400に戻してその後の処理を繰り返してもよい。
図19に示されるS900のサブルーチンは、S910において、計測されたデューティーを用いる点が、図9のS810と異なり、その他は同じ処理であってもよい。S930は、図9のS830と同様であってもよい。
図20は、図14に示されるデューティー計測部30cによるデューティー計測の処理を示すフローチャートである。デューティー計測の処理は、図17を参照しながら説明したスペクトル幅の制御とは別に、デューティー計測部30cによって行われてもよい。デューティー計測部30cは、以下の処理により、パルスレーザ光のデューティーを計測してもよい。パルスレーザ光のデューティーを計測する処理は、バースト発振中に行われるものとしてもよく、バースト発振を休止する期間中には行われなくてもよい。
まず、S701において、デューティー計測部30cは、デューティーD=1の場合の一定時間Tsでのパルス数Nmaxを以下の式により計算してもよい。
Nmax=fmax・Ts
ここで、fmaxは、当該狭帯域化レーザ装置の最大繰り返し周波数であってもよい。
Nmax=fmax・Ts
ここで、fmaxは、当該狭帯域化レーザ装置の最大繰り返し周波数であってもよい。
次に、S704において、デューティー計測部30cは、パルス数のカウンタNの値をN=0に初期設定してもよい。
次に、S707において、デューティー計測部30cは、タイマーTをリセット及びスタートさせてもよい。
次に、S707において、デューティー計測部30cは、タイマーTをリセット及びスタートさせてもよい。
次に、S708において、デューティー計測部30cは、トリガ信号が入力されたか否かを判定してもよい。トリガ信号が入力された場合(S708;YES)、デューティー計測部30cは、処理をS709に進めてもよい。
S709において、デューティー計測部30cは、カウンタNの値に1を加えて、カウンタNの値を更新してもよい。S709の後、デューティー計測部30cは、処理をS711に進めてもよい。
S709において、デューティー計測部30cは、カウンタNの値に1を加えて、カウンタNの値を更新してもよい。S709の後、デューティー計測部30cは、処理をS711に進めてもよい。
トリガ信号が入力されない場合(S708;NO)、デューティー計測部30cは、S709の処理をスキップして、処理をS711に進めてもよい。すなわち、カウンタNの値を更新しなくてもよい。
S711において、デューティー計測部30cは、タイマーTの値をTsと比較して、タイマーTがスタートしてから一定時間Tsが経過したか否かを判定してもよい。ここで、一定時間Tsは、例えば1分以上10分以下でもよい。
一定時間Tsが経過していない場合(S711;NO)、デューティー計測部30cは、処理を上述のS708に戻して、新たにトリガ信号が入力されたか否かを判定してもよい。
一定時間Tsが経過した場合(S711;YES)、デューティー計測部30cは、処理をS712に進めてもよい。
S712において、デューティー計測部30cは、現在のカウンタNの値を、一定時間Tsでのパルス数Nsとして図示しない記憶層に記憶させてもよい。
次に、S715において、デューティー計測部30cは、デューティーDを以下の式により計算してもよい。
D=Ns/Nmax
一定時間Tsが経過していない場合(S711;NO)、デューティー計測部30cは、処理を上述のS708に戻して、新たにトリガ信号が入力されたか否かを判定してもよい。
一定時間Tsが経過した場合(S711;YES)、デューティー計測部30cは、処理をS712に進めてもよい。
S712において、デューティー計測部30cは、現在のカウンタNの値を、一定時間Tsでのパルス数Nsとして図示しない記憶層に記憶させてもよい。
次に、S715において、デューティー計測部30cは、デューティーDを以下の式により計算してもよい。
D=Ns/Nmax
以上のようにして、一定時間Tsにわたって最大繰り返し周波数でレーザ発振した場合のパルス数に対する、当該一定時間Tsの実際のパルス数の比率が、デューティーDとして算出されてもよい。
2.3 スペクトル幅可変部の詳細
図21A及び図21Bは、図14に示されるスペクトル幅可変部15の構成を模式的に示す。図21Aは、スペクトル幅可変部15をH方向からみた図であり、図21Bは、図21Aに示されるXXIB-XXIB線における切断面と、当該切断面より下方の構成とをV方向からみた図である。
図21A及び図21Bは、図14に示されるスペクトル幅可変部15の構成を模式的に示す。図21Aは、スペクトル幅可変部15をH方向からみた図であり、図21Bは、図21Aに示されるXXIB-XXIB線における切断面と、当該切断面より下方の構成とをV方向からみた図である。
スペクトル幅可変部15は、平凹シリンドリカルレンズ15aと、平凸シリンドリカルレンズ15bとを含んでもよい。平凸シリンドリカルレンズ15bは、ホルダ15fによって、プレート15eに固定されていてもよい。
平凹シリンドリカルレンズ15aは、ホルダ15gに固定されていてもよい。図示しないガイド部材により、ホルダ15gは、その姿勢を維持したままプレート15eに対してZ方向及び-Z方向に移動可能とされていてもよい。
ホルダ15gには、傾斜部材15hと、バネ15iの一端とがそれぞれ固定されていてもよい。バネ15iの他端が、プレート15eに固定された固定部材15jに固定されていてもよい。ホルダ15gには、バネ15iによって、-Z方向の引っ張り力が常時作用していてもよい。
傾斜部材15hの斜面には、ロッド15kの先端に取り付けられた車輪15mが接していてもよい。リニアモータ15nによって、ロッド15kが車輪15mとともにV方向及び-V方向に進退できるように構成されてもよい。リニアモータ15nは、固定部材15oによってプレート15eとの位置関係が固定されていてもよい。
車輪15mが-V方向に移動することにより、車輪15mが傾斜部材15hをZ方向に押してもよい。これにより、ホルダ15gが平凹シリンドリカルレンズ15aとともにZ方向に移動してもよい。
車輪15mがV方向に移動することにより、ホルダ15gは、バネ15iによって-Z方向に引っ張られて、平凹シリンドリカルレンズ15aとともに、-Z方向に移動してもよい。
車輪15mがV方向に移動することにより、ホルダ15gは、バネ15iによって-Z方向に引っ張られて、平凹シリンドリカルレンズ15aとともに、-Z方向に移動してもよい。
このようにして、平凹シリンドリカルレンズ15aが、Z方向及び-Z方向に移動可能とされてもよい。
なお、ここでは平凸シリンドリカルレンズ15bに部分反射膜がコートされ、スペクトル幅可変部15が出力結合ミラーとしても機能する場合について説明したが、本開示はこれに限定されない。出力結合ミラーが別途設けられ、光共振器の内部にスペクトル幅可変部が配置されてもよい。
なお、ここでは平凸シリンドリカルレンズ15bに部分反射膜がコートされ、スペクトル幅可変部15が出力結合ミラーとしても機能する場合について説明したが、本開示はこれに限定されない。出力結合ミラーが別途設けられ、光共振器の内部にスペクトル幅可変部が配置されてもよい。
3.調整発振によるデータ更新を行う狭帯域化レーザ装置(第2の実施形態)
3.1 構成
図22は、本開示の第2の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を概略的に示す。第1の実施形態において説明したデューティーDの値と休止時間Trの長さとに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係は、狭帯域化レーザ装置の運転状況などによって変化し得る。そこで、第2の実施形態においては、デューティーDの値と休止時間Trの長さとに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係に関するデータを改めて取得して更新するための調整発振を可能としてもよい。
3.1 構成
図22は、本開示の第2の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を概略的に示す。第1の実施形態において説明したデューティーDの値と休止時間Trの長さとに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係は、狭帯域化レーザ装置の運転状況などによって変化し得る。そこで、第2の実施形態においては、デューティーDの値と休止時間Trの長さとに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係に関するデータを改めて取得して更新するための調整発振を可能としてもよい。
第2の実施形態おいて、狭帯域化レーザ装置は、図14を参照しながら説明した第1の実施形態の構成に加えて、開閉可能なシャッタ17を備えていてもよい。シャッタ17は、調整発振の際に、閉状態とすることにより、パルスレーザ光が露光装置4に入力されるのを抑制し得る。
また、第2の実施形態において、レーザ制御部30と露光装置制御部40との間に、調整発振の制御信号を送受信するための信号線が接続されていてもよい。
また、第2の実施形態において、レーザ制御部30と露光装置制御部40との間に、調整発振の制御信号を送受信するための信号線が接続されていてもよい。
3.2 動作
3.2.1 メインフロー
図23は、図22に示されるスペクトル幅制御部30aの処理を示すフローチャートである。以下に説明されるように、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅を制御する他に、調整発振によるデータの更新を行ってもよい。
3.2.1 メインフロー
図23は、図22に示されるスペクトル幅制御部30aの処理を示すフローチャートである。以下に説明されるように、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅を制御する他に、調整発振によるデータの更新を行ってもよい。
まず、S100において、スペクトル幅制御部30aは、調整発振を行い、デューティーDの値と休止時間Trの長さとに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係に関するデータを更新してもよい。
S100の処理の詳細については、図24を参照しながら後述する。
S100の後のS300からS900までの処理は、図17を参照しながら説明した第1の実施形態の処理と同様でよい。
S100の処理の詳細については、図24を参照しながら後述する。
S100の後のS300からS900までの処理は、図17を参照しながら説明した第1の実施形態の処理と同様でよい。
S900の後、S1000において、スペクトル幅制御部30aは、調整発振を行ってデータを更新するか否かを判定してもよい。例えば、前回のデータ更新から所定時間経過した場合に、データを更新することとしてもよい。また、目標スペクトル幅とバースト発振開始時のスペクトル幅との差の絶対値が所定値を超えた場合に、データを更新することとしてもよい。
データを更新する場合(S1000;YES)、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS100に戻して、調整発振を行ってもよい。データを更新しない場合(S1000;NO)、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS400に戻して、計測済みのデータに基づいてスペクトル幅の制御を続けてもよい。
3.2.2 調整発振の詳細
図24は、図23に示される調整発振の処理の詳細を示すフローチャートである。図24に示される処理は、図23に示されるS100のサブルーチンとして、スペクトル幅制御部30aによって行われてもよい。
図24は、図23に示される調整発振の処理の詳細を示すフローチャートである。図24に示される処理は、図23に示されるS100のサブルーチンとして、スペクトル幅制御部30aによって行われてもよい。
まず、S110において、スペクトル幅制御部30aは、調整発振要求信号を露光装置制御部40に出力してもよい。
次に、S120において、スペクトル幅制御部30aは、露光装置制御部40から調整発振OK信号を受信したか否かを判定してもよい。調整発振OK信号を受信していない場合(S120;NO)、スペクトル幅制御部30aは、調整発振OK信号を受信するまで待機してもよい。調整発振OK信号を受信した場合(S120;YES)、スペクトル幅制御部30aは、処理をS130に進めてもよい。露光装置制御部40は、調整発振が行われている間、ウエハステージの制御等を中止してもよい。
S130において、スペクトル幅制御部30aは、シャッタ17を閉めてもよい。
S130において、スペクトル幅制御部30aは、シャッタ17を閉めてもよい。
次に、S140において、スペクトル幅制御部30aは、調整発振を行って、デューティーDと休止時間Trとスペクトル幅変化ΔE95sとの関係を計測してもよい。
S140の処理の詳細については、図25を参照しながら後述する。
S140の処理の詳細については、図25を参照しながら後述する。
調整発振が終了したら、S160において、スペクトル幅制御部30aは、シャッタ17を開いてもよい。
次に、S170において、スペクトル幅制御部30aは、調整発振完了信号を露光装置制御部40に出力してもよい。
S170の後、スペクトル幅制御部30aは、本フローチャートの処理を終了してもよい。
次に、S170において、スペクトル幅制御部30aは、調整発振完了信号を露光装置制御部40に出力してもよい。
S170の後、スペクトル幅制御部30aは、本フローチャートの処理を終了してもよい。
図25は、図24に示される調整発振の処理の詳細を示すフローチャートである。図25に示される処理は、図24に示されるS140のサブルーチンとして、スペクトル幅制御部30aによって行われてもよい。以下に説明するように、スペクトル幅制御部30aは、デューティーDを変えながら、休止時間Trとスペクトル幅変化ΔE95sとの関係を計測してもよい。
まず、S141において、スペクトル幅制御部30aは、デューティーDの値をD=1に初期設定してもよい。
次に、S142において、スペクトル幅制御部30aは、設定されたデューティーDで、一定時間Ttにわたってトリガ信号を生成し、レーザ発振させてもよい。この時は、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅のフィードバック制御を実施してもよい。
次に、S142において、スペクトル幅制御部30aは、設定されたデューティーDで、一定時間Ttにわたってトリガ信号を生成し、レーザ発振させてもよい。この時は、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅のフィードバック制御を実施してもよい。
次に、S143において、スペクトル幅制御部30aは、発振終了直前のスペクトル幅E95を計測してもよい。
次に、S144において、スペクトル幅制御部30aは、計測した発振終了直前のスペクトル幅E95の値を、スペクトル幅変化の基準値E95oとして、図示しない記憶装置に記憶させてもよい。
次に、S144において、スペクトル幅制御部30aは、計測した発振終了直前のスペクトル幅E95の値を、スペクトル幅変化の基準値E95oとして、図示しない記憶装置に記憶させてもよい。
次に、S145において、スペクトル幅制御部30aは、タイマーTmをリセット及びスタートしてもよい。
次に、S146において、スペクトル幅制御部30aは、所定の低デューティーでトリガ信号を出力することにより、低い繰り返し周波数によるレーザ発振を開始してもよい。この時は、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅のフィードバック制御を実施しなくてもよい。ここで、所定の低デューティーは、スペクトル幅の変化への影響が実質的に無視できる程度の低いデューティーでもよい。例えば、最大繰り返し周波数が6000Hzである場合に、所定の低デューティーは、繰り返し周波数が100Hzであってもよい。
次に、S146において、スペクトル幅制御部30aは、所定の低デューティーでトリガ信号を出力することにより、低い繰り返し周波数によるレーザ発振を開始してもよい。この時は、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅のフィードバック制御を実施しなくてもよい。ここで、所定の低デューティーは、スペクトル幅の変化への影響が実質的に無視できる程度の低いデューティーでもよい。例えば、最大繰り返し周波数が6000Hzである場合に、所定の低デューティーは、繰り返し周波数が100Hzであってもよい。
次に、S147において、スペクトル幅制御部30aは、所定の低デューティーでの発振中におけるスペクトル幅E95を計測してもよい。
次に、S148において、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅E95を計測した時のタイマーTmの値を現在時刻Trとして図示しない記憶装置に記憶させてもよい。
次に、S148において、スペクトル幅制御部30aは、スペクトル幅E95を計測した時のタイマーTmの値を現在時刻Trとして図示しない記憶装置に記憶させてもよい。
次に、S149において、スペクトル幅制御部30aは、以下の式により、スペクトル幅変化ΔE95sを算出してもよい。
ΔE95s=E95o-E95
すなわち、スペクトル幅変化ΔE95sは、S144において計測したスペクトル幅変化の基準値E95oと、S147で計測したスペクトル幅E95との差であってもよい。
ΔE95s=E95o-E95
すなわち、スペクトル幅変化ΔE95sは、S144において計測したスペクトル幅変化の基準値E95oと、S147で計測したスペクトル幅E95との差であってもよい。
次に、S150において、スペクトル幅制御部30aは、デューティーD、現在時刻Tr、及び、スペクトル幅の変化ΔE95sの組合せをデータテーブルに記憶させてもよい。
次に、S151において、スペクトル幅制御部30aは、タイマーTmがスタートしてから所定時間TLが経過したか否かを判定してもよい。
次に、S151において、スペクトル幅制御部30aは、タイマーTmがスタートしてから所定時間TLが経過したか否かを判定してもよい。
所定時間TLが経過していない場合(S151;NO)、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS147に戻して、所定の低デューティーでの発振中におけるスペクトル幅E95の計測を繰り返してもよい。
所定時間TLが経過した場合(S151;YES)、スペクトル幅制御部30aは、処理をS152に進めてもよい。
所定時間TLが経過した場合(S151;YES)、スペクトル幅制御部30aは、処理をS152に進めてもよい。
S152において、スペクトル幅制御部30aは、デューティーDの値から所定の正の値ΔDを減算することにより、デューティーDの設定値を現在の値よりも小さい値に更新してもよい。
次に、S153において、スペクトル幅制御部30aは、デューティーDの設定値が下限値DL以下であるか否かを判定してもよい。下限値DLは、例えば、0.1であってもよい。
次に、S153において、スペクトル幅制御部30aは、デューティーDの設定値が下限値DL以下であるか否かを判定してもよい。下限値DLは、例えば、0.1であってもよい。
デューティーDの設定値が下限値DL以下ではない場合(S153;NO)、スペクトル幅制御部30aは、処理を上述のS142に戻して、新たなデューティーの設定値を用いて休止時間Trとスペクトル幅変化ΔE95sとの関係を計測してもよい。
デューティーDの設定値が下限値DL以下である場合(S153;YES)、スペクトル幅制御部30aは、本フローチャートの処理を終了してもよい。
デューティーDの設定値が下限値DL以下である場合(S153;YES)、スペクトル幅制御部30aは、本フローチャートの処理を終了してもよい。
4.近似曲線を用いてスペクトル幅を制御する狭帯域化レーザ装置(第3の実施形態)
図26~図28は、本開示の第3の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置におけるスペクトル幅制御部30aの処理を示すフローチャートである。第3の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成は、上述の第2の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置と同様でよい。第3の実施形態においては、デューティーDの値と休止時間Trの長さとに基づくスペクトル幅変化ΔE95sの算出を、近似曲線を用いて行ってもよい。
図26~図28は、本開示の第3の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置におけるスペクトル幅制御部30aの処理を示すフローチャートである。第3の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成は、上述の第2の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置と同様でよい。第3の実施形態においては、デューティーDの値と休止時間Trの長さとに基づくスペクトル幅変化ΔE95sの算出を、近似曲線を用いて行ってもよい。
4.1 スペクトル幅の制御
図26は、第3の実施形態において、各デューティーDについての休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータを読込む処理のサブルーチンを示す。図26のS320に示されるように、スペクトル幅制御部30aは、図16を参照しながら説明したデータテーブルを読込むのではなく、2つのパラメータα1及びβを読込んでもよい。
図26は、第3の実施形態において、各デューティーDについての休止時間Trに対するスペクトル幅変化ΔE95sの関係を示すデータを読込む処理のサブルーチンを示す。図26のS320に示されるように、スペクトル幅制御部30aは、図16を参照しながら説明したデータテーブルを読込むのではなく、2つのパラメータα1及びβを読込んでもよい。
図27は、第3の実施形態において、計測されたデューティーD及び計測された休止時間Trに基づいて、スペクトル幅可変部15を制御する処理のサブルーチンを示す。図27のS920に示されるように、スペクトル幅制御部30aは、データテーブルからスペクトル幅変化ΔE95sを読込むのではなく、以下の式に基づいて、スペクトル幅変化ΔE95sを算出してもよい。
ΔE95s=D・α1・{exp(-Tr/β)-1}
ΔE95s=D・α1・{exp(-Tr/β)-1}
これによれば、2つのパラメータα1及びβを読込むだけで、計測されたデューティーD及び計測された休止時間Trに基づいて、スペクトル幅変化ΔE95sを算出することができる。なお、この式において、スペクトル幅変化ΔE95sがデューティーDに比例するものとして説明したが、本開示はこれに限定されない。スペクトル幅変化ΔE95sが以下の式で表されてもよい。
ΔE95s=α(D)・{exp(-Tr/β)-1}
ここで、α(D)はDの関数であってもよい。
S920の次のS930の処理は、図19に示されたものと同様でよい。
ΔE95s=α(D)・{exp(-Tr/β)-1}
ここで、α(D)はDの関数であってもよい。
S920の次のS930の処理は、図19に示されたものと同様でよい。
4.2 調整発振
図28は、第3の実施形態における調整発振の処理の詳細を示すフローチャートである。図28のS141からS151までの処理は、図25を参照しながら説明したものと同様でよい。すなわち、例えば、S150においては、計測結果がデータテーブルに記憶されてもよい。
図28は、第3の実施形態における調整発振の処理の詳細を示すフローチャートである。図28のS141からS151までの処理は、図25を参照しながら説明したものと同様でよい。すなわち、例えば、S150においては、計測結果がデータテーブルに記憶されてもよい。
図28においては、S151の後、S154において、データテーブルに記憶されたデータに基づいて、2つのパラメータα1及びβが算出されてもよい。パラメータα1及びβは、以下の式にデューティーD及び休止時間Trを代入したときのΔE95sの値が、計測結果と近似するように、最小二乗法によって算出されてもよい。
ΔE95s=D・α1・{exp(-Tr/β)-1}
他の点については、第2の実施形態と同様でよい。
ΔE95s=D・α1・{exp(-Tr/β)-1}
他の点については、第2の実施形態と同様でよい。
5.デューティー計測の変形例
5.1 第1の変形例
図29は、第1~第3の実施形態におけるデューティー計測部の処理の第1の変形例を示すフローチャートである。図29に示される処理は、図20を参照しながら説明したデューティー計測部の処理の代わりに行われてもよい。図29においては、デューティー計測部30cがデューティーの移動平均を計測してもよい。
5.1 第1の変形例
図29は、第1~第3の実施形態におけるデューティー計測部の処理の第1の変形例を示すフローチャートである。図29に示される処理は、図20を参照しながら説明したデューティー計測部の処理の代わりに行われてもよい。図29においては、デューティー計測部30cがデューティーの移動平均を計測してもよい。
まず、S701の処理は、図20を参照しながら説明したものと同様でよい。
S701の次のS703において、デューティー計測部30cは、直前に計測されたデューティーDkを、図示しない記憶媒体から読込んでもよい。デューティーDkは、以下の式によって算出されたものでもよい。
S701の次のS703において、デューティー計測部30cは、直前に計測されたデューティーDkを、図示しない記憶媒体から読込んでもよい。デューティーDkは、以下の式によって算出されたものでもよい。
ここで、iは連続する複数の期間のそれぞれを特定する整数でもよく、iの値が小さいほど過去の期間を示してもよい。iの値で特定されるそれぞれの期間を、以下ではブロックと称する。diは、デューティーの計測期間を複数のブロックに分けた場合の、各ブロック内のデューティーであってもよい。すなわち、d1は第1のブロックにおけるデューティーであり、d2は第1のブロックの次の第2のブロックにおけるデューティーであってもよい。dk-1は、現在の直前のブロックにおけるデューティーであってもよい。従って、上記の式に示されたデューティーDkは、直近の連続する10回のブロックにおけるデューティーを相加平均したものであってもよい。10回のブロックにおけるデューティーに限らず、これより少ない数又は多い数のブロックにおけるデューティーを用いてもよい。
S703の次のS705において、デューティー計測部30cは、現在のブロックを示すブロック番号kの値に1を加えてkの値を更新してもよい。また、デューティー計測部30cは、パルス数のカウンタNの値をN=0に初期設定してもよい。
S705の次のS707からS711までの処理は、図20と同様でよい。これによりブロック内のパルス数をカウントしてもよい。
S705の次のS707からS711までの処理は、図20と同様でよい。これによりブロック内のパルス数をカウントしてもよい。
一定時間Tsが経過した場合(S711;YES)、デューティー計測部30cは、処理をS713に進めてもよい。ここで、一定時間Tsは、例えば3秒間でもよい。
S713において、デューティー計測部30cは、現在のカウンタNの値を、k-1番目のブロック内のパルス数Nk-1として図示しない記憶装置に記憶させてもよい。
次に、S716において、デューティー計測部30cは、k-1番目のブロック内のデューティーdk-1を、以下の式により計算してもよい。
dk-1=Nk-1/Nmax
S713において、デューティー計測部30cは、現在のカウンタNの値を、k-1番目のブロック内のパルス数Nk-1として図示しない記憶装置に記憶させてもよい。
次に、S716において、デューティー計測部30cは、k-1番目のブロック内のデューティーdk-1を、以下の式により計算してもよい。
dk-1=Nk-1/Nmax
従って、差分をとることにより、以下の式が成立する。
Dk=Dk-1+(dk-1-dk-11)/10
この式により、デューティー計測部30cは、デューティーDkを計算してもよい。
その他の点については、図20に示された処理と同様でよい。
Dk=Dk-1+(dk-1-dk-11)/10
この式により、デューティー計測部30cは、デューティーDkを計算してもよい。
その他の点については、図20に示された処理と同様でよい。
図29に示された処理によれば、最新のブロックにおけるデューティーdk-1を頻繁に反映させることができるので、最新データを頻繁に取得し得る。一方、デューティーDkを計測するためのサンプル期間を、Tsの10倍に相当する期間とするので、安定したデータを取得し得る。
5.2 第2の変形例
図30は、第1~第3の実施形態におけるデューティー計測部の処理の第2の変形例を示すフローチャートである。図30に示される処理は、図29を参照しながら説明した変形例の代わりに行われてもよい。図30においては、デューティー計測部30cが、パルス数ではなくパルスエネルギーを積算することにより、デューティーを計測してもよい。
図30は、第1~第3の実施形態におけるデューティー計測部の処理の第2の変形例を示すフローチャートである。図30に示される処理は、図29を参照しながら説明した変形例の代わりに行われてもよい。図30においては、デューティー計測部30cが、パルス数ではなくパルスエネルギーを積算することにより、デューティーを計測してもよい。
まず、S702において、デューティー計測部30cは、デューティーD=1の場合の一定時間Tsでのパルスエネルギー積算値Emaxを以下の式により計算してもよい。
Emax=e・fmax・Ts
ここで、eは、当該狭帯域化レーザ装置の最大パルスエネルギーであってもよい。
Emax=e・fmax・Ts
ここで、eは、当該狭帯域化レーザ装置の最大パルスエネルギーであってもよい。
次のS703の処理は、図29に示されたものと同様でよい。
次のS706において、デューティー計測部30cは、現在のブロックを示すブロック番号kの値に1を加えてkの値を更新してもよい。また、デューティー計測部30cは、パルスエネルギー積算値Eの値をE=0に初期設定してもよい。
S706の次のS707及びS708の処理は、図29と同様でよい。
S708においてトリガ信号が入力された場合(S708;YES)、デューティー計測部30cは、処理をS710に進めてもよい。
S710において、デューティー計測部30cは、パルスエネルギー検出器16cから出力されたパルスエネルギーemの値を読み取り、パルスエネルギー積算値Eの値にパルスエネルギーemの値を加えて、パルスエネルギー積算値Eの値を更新してもよい。S710の後、デューティー計測部30cは、処理をS711に進めてもよい。
S711の処理は、図29と同様でよい。
次のS706において、デューティー計測部30cは、現在のブロックを示すブロック番号kの値に1を加えてkの値を更新してもよい。また、デューティー計測部30cは、パルスエネルギー積算値Eの値をE=0に初期設定してもよい。
S706の次のS707及びS708の処理は、図29と同様でよい。
S708においてトリガ信号が入力された場合(S708;YES)、デューティー計測部30cは、処理をS710に進めてもよい。
S710において、デューティー計測部30cは、パルスエネルギー検出器16cから出力されたパルスエネルギーemの値を読み取り、パルスエネルギー積算値Eの値にパルスエネルギーemの値を加えて、パルスエネルギー積算値Eの値を更新してもよい。S710の後、デューティー計測部30cは、処理をS711に進めてもよい。
S711の処理は、図29と同様でよい。
次に、S714において、デューティー計測部30cは、現在のパルスエネルギー積算値Eの値を、k-1番目のブロック内のパルスエネルギー積算値Ek-1として、図示しない記憶装置に記憶させてもよい。
次に、S717において、デューティー計測部30cは、k-1番目のブロック内のデューティーdk-1を以下の式により計算してもよい。
dk-1=Ek-1/Emax
次に、S717において、デューティー計測部30cは、k-1番目のブロック内のデューティーdk-1を以下の式により計算してもよい。
dk-1=Ek-1/Emax
次に、S718において、デューティー計測部30cは、デューティーDkを計算してもよい。S718の処理は、図29と同様でよい。
6.MOPO間の同期によりスペクトル幅を制御する狭帯域化レーザ装置(第4の実施形態)
図31は、本開示の第4の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を概略的に示す。第4の実施形態においては、上述の第1の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置のレーザチャンバ10とセンサユニット16との間に、出力結合ミラー15pと、高反射ミラー31及び32と、パワーオシレータと、が配置されていてもよい。スペクトル幅可変部15は、省略されてもよい。
図31は、本開示の第4の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置の構成を概略的に示す。第4の実施形態においては、上述の第1の実施形態に係る狭帯域化レーザ装置のレーザチャンバ10とセンサユニット16との間に、出力結合ミラー15pと、高反射ミラー31及び32と、パワーオシレータと、が配置されていてもよい。スペクトル幅可変部15は、省略されてもよい。
出力結合ミラー15pは、部分反射ミラーであってもよく、波面を調節する機能を有しなくてもよい。出力結合ミラー15pは、当該狭帯域化レーザ装置の発振波長の光は部分反射し、一対の放電電極11a及び11b間で発生する可視の放電光を高い透過率で透過する膜がコートされていてもよい。第4の実施形態において、レーザチャンバ10と、一対の放電電極11a及び11bと、充電器12と、パルスパワーモジュール13と、狭帯域化モジュール14と、出力結合ミラー15pは、マスターオシレータ(MO)を構成してもよい。
高反射ミラー31及び32は、出力結合ミラー15pから出力されたパルスレーザ光を高い反射率で反射することにより、パワーオシレータ(PO)のリアミラー24に導いてもよい。高反射ミラー31及び32は、可視の放電光を透過する膜がコートされていてもよい。一対の放電電極11a及び11b間の放電によって発生した光のうち、可視光の一部は、出力結合ミラー15pと高反射ミラー31とを透過し、MO放電センサ18に導かれてもよい。MO放電センサ18は、出力結合ミラー15p及び高反射ミラー31を透過した可視光から、マスターオシレータの一対の放電電極11a及び11b間における放電のタイミングを検出するように構成されてもよい。放電タイミングを示す信号は同期制御部33に出力されてもよい。
パワーオシレータは、レーザチャンバ20と、一対の放電電極21a及び21bと、充電器22と、パルスパワーモジュール23と、を含んでもよい。これらの構成は、マスターオシレータの対応する構成と同様でよい。パワーオシレータは、さらにリアミラー24と出力結合ミラー25とを含んでもよい。リアミラー24及び出力結合ミラー25は、部分反射ミラーであり、光共振器を構成してもよい。出力結合ミラー25は、レーザ発振する波長の光が部分反射する膜がコートされていてもよい。ここで、出力結合ミラー25の部分反射膜の反射率は、10%~30%であってもよい。
高反射ミラー32からリアミラー24に入射したパルスレーザ光の一部は、レーザチャンバ20内に導入され、出力結合ミラー25とリアミラー24とで往復する間に増幅されてもよい。増幅されたパルスレーザ光は、出力結合ミラー25から出力されもよい。このように、マスターオシレータから出力されたパルスレーザ光をパワーオシレータによって増幅して出力するレーザ装置を、MOPO方式のレーザ装置という。
リアミラー24は、レーザ発振する波長の光が部分反射し、可視の放電光を高い透過率で透過する膜がコートされていてもよい。ここで、リアミラー24の部分反射膜の反射率は、70%~90%であってもよい。一対の放電電極21a及び21b間の放電により発生した光のうち、可視光の一部が、リアミラー24及び高反射ミラー32を介してPO放電センサ28に導かれてもよい。PO放電センサ28は、リアミラー24及び高反射ミラー32を透過した可視光から、パワーオシレータの一対の放電電極21a及び21b間における放電のタイミングを検出するように構成されてもよい。放電タイミングを示す信号は同期制御部33に出力されてもよい。
レーザ制御部30は、同期制御部33にトリガ信号を出力してもよい。同期制御部33は、レーザ制御部30から受信したトリガ信号に基づいて、マスターオシレータのパルスパワーモジュール13のスイッチ13aに第1のスイッチ信号を出力し、パワーオシレータのパルスパワーモジュール23のスイッチ23aに第2のスイッチ信号を出力してもよい。ここで、同期制御部33は、マスターオシレータにおける放電タイミングに対するパワーオシレータにおける放電タイミングの遅延時間が所望の遅延時間となるように、第1のスイッチ信号と第2のスイッチ信号のタイミングを制御してもよい。
図32は、MOPO方式のレーザ装置におけるマスターオシレータとパワーオシレータの放電タイミングの遅延時間と、パルスエネルギー及びスペクトル幅との関係を示す。図32に示されるように、マスターオシレータとパワーオシレータの放電タイミングの遅延時間が所定の許容範囲にあれば、パワーオシレータから出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギーはほぼ一定となり得る。しかし、このような許容範囲内であっても、マスターオシレータとパワーオシレータの放電タイミングの遅延時間に応じて、パワーオシレータから出力されるパルスレーザ光のスペクトル幅が異なり得る。具体的には、遅延時間が長くなるのに応じて、スペクトル幅は狭くなり得る。そこで、第4の実施形態においては、マスターオシレータとパワーオシレータの放電タイミングの遅延時間を調整することにより、スペクトル幅を制御してもよい。
他の点については、第1~第3の実施形態と同様でよい。
さらに、本実施形態では、パワーオシレータの光共振器として、ファブリペロ型の共振器の例を示したが、この実施形態に限定されることなく、リング型の共振器であってもよい。
他の点については、第1~第3の実施形態と同様でよい。
さらに、本実施形態では、パワーオシレータの光共振器として、ファブリペロ型の共振器の例を示したが、この実施形態に限定されることなく、リング型の共振器であってもよい。
7.制御部の構成
図33は、制御部の概略構成を示すブロック図である。
上述した実施の形態におけるレーザ制御部30、同期制御部33等の制御部は、コンピュータやプログラマブルコントローラ等汎用の制御機器によって構成されてもよい。例えば、以下のように構成されてもよい。
図33は、制御部の概略構成を示すブロック図である。
上述した実施の形態におけるレーザ制御部30、同期制御部33等の制御部は、コンピュータやプログラマブルコントローラ等汎用の制御機器によって構成されてもよい。例えば、以下のように構成されてもよい。
(構成)
制御部は、処理部1000と、処理部1000に接続される、ストレージメモリ1005と、ユーザインターフェイス1010と、パラレルI/Oコントローラ1020と、シリアルI/Oコントローラ1030と、A/D、D/Aコンバータ1040とによって構成されてもよい。また、処理部1000は、CPU1001と、CPU1001に接続された、メモリ1002と、タイマー1003と、GPU1004とから構成されてもよい。
制御部は、処理部1000と、処理部1000に接続される、ストレージメモリ1005と、ユーザインターフェイス1010と、パラレルI/Oコントローラ1020と、シリアルI/Oコントローラ1030と、A/D、D/Aコンバータ1040とによって構成されてもよい。また、処理部1000は、CPU1001と、CPU1001に接続された、メモリ1002と、タイマー1003と、GPU1004とから構成されてもよい。
(動作)
処理部1000は、ストレージメモリ1005に記憶されたプログラムを読出してもよい。また、処理部1000は、読出したプログラムを実行したり、プログラムの実行に従ってストレージメモリ1005からデータを読出したり、ストレージメモリ1005にデータを記憶させたりしてもよい。
処理部1000は、ストレージメモリ1005に記憶されたプログラムを読出してもよい。また、処理部1000は、読出したプログラムを実行したり、プログラムの実行に従ってストレージメモリ1005からデータを読出したり、ストレージメモリ1005にデータを記憶させたりしてもよい。
パラレルI/Oコントローラ1020は、パラレルI/Oポートを介して通信可能な機器1021~102xに接続されてもよい。パラレルI/Oコントローラ1020は、処理部1000がプログラムを実行する過程で行うパラレルI/Oポートを介した、デジタル信号による通信を制御してもよい。
シリアルI/Oコントローラ1030は、シリアルI/Oポートを介して通信可能な機器1031~103xに接続されてもよい。シリアルI/Oコントローラ1030は、処理部1000がプログラムを実行する過程で行うシリアルI/Oポートを介した、デジタル信号による通信を制御してもよい。
A/D、D/Aコンバータ1040は、アナログポートを介して通信可能な機器1041~104xに接続されてもよい。A/D、D/Aコンバータ1040は、処理部1000がプログラムを実行する過程で行うアナログポートを介した、アナログ信号による通信を制御してもよい。
ユーザインターフェイス1010は、オペレータが処理部1000によるプログラムの実行過程を表示したり、オペレータによるプログラム実行の中止や割り込み処理を処理部1000に行わせたりするよう構成されてもよい。
処理部1000のCPU1001はプログラムの演算処理を行ってもよい。メモリ1002は、CPU1001がプログラムを実行する過程で、プログラムの一時記憶や、演算過程でのデータの一時記憶を行ってもよい。タイマー1003は、時刻や経過時間を計測し、プログラムの実行に従ってCPU1001に時刻や経過時間を出力してもよい。GPU1004は、処理部1000に画像データが入力された際、プログラムの実行に従って画像データを処理し、その結果をCPU1001に出力してもよい。
パラレルI/Oコントローラ1020に接続される、パラレルI/Oポートを介して通信可能な機器1021~102xは、露光装置制御部40、他の制御部等のトリガ信号やタイミングを示す信号の受送信に使用してもよい。
シリアルI/Oコントローラ1030に接続される、シリアルI/Oポートを介して通信可能な機器1031~103xは、露光装置制御部40、他の制御部等のデータの受送信に使用してもよい。
A/D、D/Aコンバータ1040に接続される、アナログポートを介して通信可能な機器1041~104xは、パルスエネルギー検出器16c、スペクトル幅検出器16d等の各種センサであってもよい。
以上のように構成されることで、制御部は各実施形態に示された動作を実現可能であってよい。
シリアルI/Oコントローラ1030に接続される、シリアルI/Oポートを介して通信可能な機器1031~103xは、露光装置制御部40、他の制御部等のデータの受送信に使用してもよい。
A/D、D/Aコンバータ1040に接続される、アナログポートを介して通信可能な機器1041~104xは、パルスエネルギー検出器16c、スペクトル幅検出器16d等の各種センサであってもよい。
以上のように構成されることで、制御部は各実施形態に示された動作を実現可能であってよい。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「1つの」は、「少なくとも1つ」又は「1又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
Claims (20)
- 第1のバースト発振と、前記第1のバースト発振の次に行われる第2のバースト発振と、を含む複数回のバースト発振を行ってパルスレーザ光を出力する狭帯域化レーザ装置であって、
レーザ共振器と、
前記レーザ共振器の間に配置されたチャンバと、
前記チャンバに配置された一対の電極と、
前記一対の電極にパルス電圧を印加する電源と、
前記レーザ共振器に配置された波長選択素子と、
前記レーザ共振器に配置されたスペクトル幅可変部と、
前記第2のバースト発振が開始される時より前の所定期間におけるデューティーと、前記第1のバースト発振が終了した時から前記第2のバースト発振が開始される時までの休止時間と、を計測し、前記デューティーと前記休止時間とに基づいて、前記スペクトル幅可変部を制御する制御部と、
を備える狭帯域化レーザ装置。 - 前記所定期間は、前記第1のバースト発振が終了する直前の期間である、請求項1記載の狭帯域化レーザ装置。
- 前記制御部は、
kを自然数として、第1の期間及びその後の第2の期間から第(k-1)の期間までの期間を前記所定期間として前記デューティーを計測し、
前記第(k-1)の期間の後の第kの期間が終了した後で、前記第2の期間から前記第kの期間までを前記所定期間として前記デューティーを新たに計測して、前記デューティーを更新する、
請求項1記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記制御部は、前記パルスレーザ光の最大繰り返し周波数と前記所定期間の長さとの積に対する、前記所定期間に計測された前記パルスレーザ光のパルス数の比に基づいて、前記デューティーを計測する、請求項1記載の狭帯域化レーザ装置。
- 前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の光路に配置されたパルスエネルギー検出器をさらに備え、
前記制御部は、前記パルスレーザ光の最大パルスエネルギーと最大繰り返し周波数と前記所定期間の長さとの積に対する、前記所定期間に計測された前記パルスレーザ光のパルスエネルギーの積算値の比に基づいて、前記デューティーを計測する、請求項1記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記制御部は、前記デューティーと前記休止時間とスペクトル幅の変化との関係を記憶した媒体にアクセス可能に構成され、前記媒体から取得したデータに基づいて前記スペクトル幅可変部を制御する、請求項1記載の狭帯域化レーザ装置。
- 前記媒体は、前記デューティーの値ごとに、前記休止時間とスペクトル幅の変化との関係を1次遅れの減衰関数として記憶している、請求項6記載の狭帯域化レーザ装置。
- 前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の光路に配置されたスペクトル幅検出器をさらに備え、
前記制御部は、前記スペクトル幅検出器の出力に基づいて前記デューティーと前記休止時間と前記スペクトル幅との関係を算出し、前記媒体に記憶させる、請求項6記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記スペクトル幅可変部は、前記レーザ共振器で往復する光の波面を変化させる、請求項1記載の狭帯域化レーザ装置。
- 前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の光路に配置されたスペクトル幅検出器をさらに備え、
前記制御部は、
前記第1のバースト発振が終了する前の前記所定期間におけるデューティーに基づいて、前記第1のバースト発振が終了した後、前記第2のバースト発振が開始される前に、前記スペクトル幅可変部を制御し、
前記スペクトル幅検出器の出力に基づいて、前記第2のバースト発振が開始された後に、前記スペクトル幅可変部を制御する、
請求項1記載の狭帯域化レーザ装置。 - 第1のバースト発振と、前記第1のバースト発振の次に行われる第2のバースト発振と、を含む複数回のバースト発振を行ってパルスレーザ光を出力する狭帯域化レーザ装置であって、
レーザ共振器と、
前記レーザ共振器の間に配置された第1のチャンバと、
前記第1のチャンバに配置された第1の一対の電極と、
前記第1の一対の電極にパルス電圧を印加する第1の電源と、
前記レーザ共振器に配置された波長選択素子と、
前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の光路に配置された第2のチャンバと、
前記第2のチャンバに配置された第2の一対の電極と、
前記第2の一対の電極にパルス電圧を印加する第2の電源と、
前記第2のバースト発振が開始される時より前の所定期間におけるデューティーと、前記第1のバースト発振が終了した時から前記第2のバースト発振が開始される時までの休止時間と、を計測し、前記デューティーと前記休止時間とに基づいて、前記第1の一対の電極の間における放電のタイミングと前記第2の一対の電極の間における放電のタイミングとの差を制御する制御部と、
を備える狭帯域化レーザ装置。 - 前記第1の一対の電極の間における放電のタイミングを計測する第1のセンサと、
前記第2の一対の電極の間における放電のタイミングを計測する第2のセンサと、
をさらに備え、
前記制御部は、前記第1のセンサ及び前記第2のセンサの出力に基づいて、前記第1の電源に与えるトリガ信号と前記第2の電源に与えるトリガ信号とのタイミング差を制御する、請求項11記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記所定期間は、前記第1のバースト発振が終了する直前の期間である、請求項11記載の狭帯域化レーザ装置。
- 前記制御部は、
kを自然数として、第1の期間及びその後の第2の期間から第(k-1)の期間までの期間を前記所定期間として前記デューティーを計測し、
前記第(k-1)の期間の後の第kの期間が終了した後で、前記第2の期間から前記第kの期間までを前記所定期間として前記デューティーを新たに計測して、前記デューティーを更新する、
請求項11記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記制御部は、前記パルスレーザ光の最大繰り返し周波数と前記所定期間の長さとの積に対する、前記所定期間に計測された前記パルスレーザ光のパルス数の比に基づいて、前記デューティーを計測する、請求項11記載の狭帯域化レーザ装置。
- 前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の光路に配置されたパルスエネルギー検出器をさらに備え、
前記制御部は、前記パルスレーザ光の最大パルスエネルギーと最大繰り返し周波数と前記所定期間の長さとの積に対する、前記所定期間に計測された前記パルスレーザ光のパルスエネルギーの積算値の比に基づいて、前記デューティーを計測する、請求項11記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記制御部は、前記デューティーと前記休止時間とスペクトル幅の変化との関係を記憶した媒体にアクセス可能に構成され、前記媒体から取得したデータに基づいて前記第1の一対の電極の間における放電のタイミングと前記第2の一対の電極の間における放電のタイミングとの差を制御する、請求項11記載の狭帯域化レーザ装置。
- 前記媒体は、前記デューティーの値ごとに、前記休止時間とスペクトル幅の変化との関係を1次遅れの減衰関数として記憶している、請求項17記載の狭帯域化レーザ装置。
- 前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の光路に配置されたスペクトル幅検出器をさらに備え、
前記制御部は、前記スペクトル幅検出器の出力に基づいて前記デューティーと前記休止時間と前記スペクトル幅との関係を算出し、前記媒体に記憶させる、請求項17記載の狭帯域化レーザ装置。 - 前記レーザ共振器から出力されたパルスレーザ光の光路に配置されたスペクトル幅検出器をさらに備え、
前記制御部は、
前記第1のバースト発振が終了する前の前記所定期間におけるデューティーに基づいて、前記第1のバースト発振が終了した後、前記第2のバースト発振が開始される前に、前記第1の一対の電極の間における放電のタイミングと前記第2の一対の電極の間における放電のタイミングとの差を制御し、
前記スペクトル幅検出器の出力に基づいて、前記第2のバースト発振が開始された後に、前記第1の一対の電極の間における放電のタイミングと前記第2の一対の電極の間における放電のタイミングとの差を制御する、
請求項11記載の狭帯域化レーザ装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2015/072456 WO2017026000A1 (ja) | 2015-08-07 | 2015-08-07 | 狭帯域化レーザ装置 |
CN201580081429.0A CN107851958B (zh) | 2015-08-07 | 2015-08-07 | 窄带化激光装置 |
JP2017534030A JP6585174B2 (ja) | 2015-08-07 | 2015-08-07 | 狭帯域化レーザ装置 |
US15/857,894 US10615565B2 (en) | 2015-08-07 | 2017-12-29 | Line narrowed laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2015/072456 WO2017026000A1 (ja) | 2015-08-07 | 2015-08-07 | 狭帯域化レーザ装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
US15/857,894 Continuation US10615565B2 (en) | 2015-08-07 | 2017-12-29 | Line narrowed laser apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2017026000A1 true WO2017026000A1 (ja) | 2017-02-16 |
Family
ID=57984483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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PCT/JP2015/072456 WO2017026000A1 (ja) | 2015-08-07 | 2015-08-07 | 狭帯域化レーザ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10615565B2 (ja) |
JP (1) | JP6585174B2 (ja) |
CN (1) | CN107851958B (ja) |
WO (1) | WO2017026000A1 (ja) |
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-
2015
- 2015-08-07 WO PCT/JP2015/072456 patent/WO2017026000A1/ja active Application Filing
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JPWO2017026000A1 (ja) | 2018-05-31 |
JP6585174B2 (ja) | 2019-10-02 |
US10615565B2 (en) | 2020-04-07 |
CN107851958A (zh) | 2018-03-27 |
CN107851958B (zh) | 2021-01-12 |
US20180123312A1 (en) | 2018-05-03 |
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121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 15900955 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2017534030 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
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|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 15900955 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |