WO2016089159A1

WO2016089159A1 - Flexible substrate and method for manufacturing same

Info

Publication number: WO2016089159A1
Application number: PCT/KR2015/013219
Authority: WO
Inventors: 유병묵; 송인규
Original assignee: 동우화인켐 주식회사
Priority date: 2014-12-05
Filing date: 2015-12-04
Publication date: 2016-06-09

Abstract

The present invention relates to a flexible substrate and a method for manufacturing the same and, more particularly, to a flexible substrate and a method for manufacturing the same, the flexible substrate comprising: a separation layer; a first protective film arranged on the separation layer; and an electrode pattern arranged on the first protective film, wherein the first protective film comprises a first protective film material and a nanofiber, which is scattered over the first protective film material, thereby having improved strength and excellent resistance to bending fatigue.

Description

유연 기판 및 이의 제조 방법Flexible substrate and method for manufacturing same

본 발명은 유연 기판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible substrate and a method of manufacturing the same.

터치스크린 패널은 영상표시장치 등의 화면에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력장치이다.The touch screen panel is an input device for inputting a user's command by selecting instructions displayed on a screen such as an image display device with a human hand or an object.

이를 위해, 터치스크린 패널은 영상표시장치의 전면(front face)에 구비되어 사람의 손 또는 물체에 직접 접촉된 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다. 이에 따라, 접촉위치에서 선택된 지시 내용이 입력신호로 받아들여진다.To this end, the touch screen panel is provided on the front face of the image display device to convert a contact position in direct contact with a human hand or an object into an electrical signal. Accordingly, the instruction content selected at the contact position is received as an input signal.

이와 같은 터치스크린 패널은 키보드 및 마우스와 같이 영상표시장치에 연결되어 동작하는 별도의 입력장치를 대체할 수 있기 때문에 그 이용범위가 점차 확장되고 있는 추세이다.Since the touch screen panel can replace a separate input device connected to an image display device such as a keyboard and a mouse, its use range is gradually expanding.

터치스크린 패널을 구현하는 방식으로는 저항막 방식, 광감지 방식 및 정전용량 방식 등이 알려져 있으며, 이중 정전용량 방식의 터치스크린 패널은, 사람의 손 또는 물체가 접촉될 때 도전성 센싱패턴이 주변의 다른 센싱패턴 또는 접지전극 등과 형성하는 정전용량의 변화를 감지함으로써, 접촉위치를 전기적 신호로 변환한다.As a method of implementing a touch screen panel, a resistive film method, a light sensing method, and a capacitive method are known. In the dual capacitive touch screen panel, a conductive sensing pattern is applied when a human hand or an object is touched. By detecting a change in capacitance formed in another sensing pattern or ground electrode, the contact position is converted into an electrical signal.

이와 같은 터치스크린 패널은 일반적으로 액정표시장치, 유기전계 발광 표시장치와 같은 평판표시장치의 외면에 부착되어 제품화되는 경우가 많다. 따라서, 상기 터치스크린 패널은 높은 투명도 및 얇은 두께의 특성이 요구된다.Such a touch screen panel is generally attached to the outer surface of a flat panel display device such as a liquid crystal display device and an organic light emitting display device to be commercialized. Therefore, the touch screen panel requires high transparency and thin thickness.

또한, 최근 들어 플렉서블한 평판표시장치가 개발되고 있는 추세이며, 이 경우 상기 플렉서블 평판표시장치 상에 부착되는 터치스크린 패널 역시 플렉서블한 특성이 요구된다.In addition, in recent years, a flexible flat panel display device has been developed. In this case, a touch screen panel attached to the flexible flat panel display device also requires a flexible characteristic.

이러한 플렉서블 터치 스크린 패널의 경우 지속적으로 휘거나 구부리는 등의 굴곡이 가해지는바, 이에 사용되는 기재는 수만번, 수십만번 이상의 굴곡 피로를 가해도 파괴되지 않는 특성을 지닐 필요가 있다.In the case of such a flexible touch screen panel, bending such as continuously bending or bending is applied, the substrate used therein needs to have properties that are not destroyed even after applying bending fatigue tens of thousands of times.

그러나, 이와 같은 충분한 피로 파괴 내성을 갖는 기재에 대해서는 아직 확립되지 않은 실정이다.However, there is no situation yet established for a substrate having such sufficient fatigue fracture resistance.

한국등록특허 제647701호에는 플렉서블 기판, 플렉서블 박막 트랜지스터 기판 및 이를구비한 평판 디스플레이 장치가 개시되어 있다.Korean Patent No. 647701 discloses a flexible substrate, a flexible thin film transistor substrate, and a flat panel display apparatus having the same.

[선행기술문헌][Preceding technical literature]

[특허문헌][Patent Documents]

한국등록특허 제647701호Korean Patent Registration No. 647701

본 발명은 크랙 발생을 억제할 수 있는 유연 기판을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a flexible substrate capable of suppressing crack generation.

본 발명은 우수한 광학 특성을 갖는 유연 기판을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a flexible substrate having excellent optical properties.

1. 분리층;1. Separation layer;

상기 분리층 상에 배치된 제1 보호막; 및A first passivation layer disposed on the separation layer; And

상기 제1 보호막 상에 배치된 전극 패턴;을 포함하며,An electrode pattern disposed on the first passivation layer;

상기 제1 보호막은 제1 보호막 소재 및 상기 제1 보호막 소재에 산재된 나노 섬유를 포함하는, 유연 기판.The first passivation layer includes a first passivation layer material and nanofibers interspersed with the first passivation layer material.

2. 위 1에 있어서, 상기 나노 섬유는 유리 나노 섬유; 또는 Al₂O₃, MgO 및 SiO₂로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 나노 섬유인, 유연 기판.2. The above 1, wherein the nanofibers are glass nanofibers; Or at least one nanofiber selected from the group consisting of Al ₂ O ₃ , MgO and SiO ₂ .

3. 위 1에 있어서, 상기 제1 보호막 소재와 나노 섬유의 굴절률 차이가 0.1 이하인, 유연 기판.3. In the above 1, the refractive index difference between the first protective film material and the nanofiber is 0.1 or less, flexible substrate.

4. 위 2에 있어서, 상기 나노 섬유는 지름이 2 내지 5nm이고, 길이가 200 내지 500nm인, 유연 기판.4. In the above 2, wherein the nanofibers are 2 to 5nm in diameter, 200 to 500nm in length, flexible substrate.

5. 위 1에 있어서, 상기 나노 섬유는 굴절률이 1.46 내지 1.56인, 유연 기판.5. according to the above 1, wherein the nanofibers have a refractive index of 1.46 to 1.56, flexible substrate.

6. 위 2에 있어서, 상기 나노 섬유는 제1 보호막에 5 내지 25중량%로 포함되는, 유연 기판.6. In the above 2, wherein the nanofiber is included in the first protective film 5 to 25% by weight, flexible substrate.

7. 위 1에 있어서, 상기 나노 섬유는 셀룰로오스 나노 파이버(Cellulose Nano Fiber)인, 유연 기판.7. In the above 1, wherein the nanofibers are cellulose nano fibers (Cellulose Nano Fiber), a flexible substrate.

8. 위 7에 있어서, 상기 나노 섬유는 지름이 1 내지 50nm이고, 길이가 500 내지 2,000nm인, 유연 기판.8. In the above 7, wherein the nanofibers are 1 to 50nm in diameter, 500 to 2,000nm in length, flexible substrate.

9. 위 7에 있어서, 상기 나노 섬유는 제1 보호막에 1 내지 50중량%로 포함되는, 유연 기판.9. In the above 7, wherein the nanofibers are included in the first protective film 1 to 50% by weight, flexible substrate.

10. 위 1에 있어서, 상기 제1 보호막은 아크릴계 공중합체, 다관능 아크릴계 단량체, 광개시제, 경화보조제, 용제 및 나노 섬유를 포함하는 제1 보호막 형성용 조성물로 형성된 것인, 유연 기판.10. In the above 1, wherein the first protective film is formed of a composition for forming a first protective film comprising an acrylic copolymer, a polyfunctional acrylic monomer, a photoinitiator, a curing aid, a solvent and nanofibers.

11. 위 1에 있어서, 상기 전극 패턴이 배치된 제1 보호막 상에 부착되는 유연 기재를 더 포함하는, 유연 기판.11. The flexible substrate of 1 above, further comprising a flexible substrate attached on the first protective film on which the electrode pattern is disposed.

12. 위 11에 있어서, 상기 제1 보호막과 유연 기재 사이에 제2 보호막을 더 포함하는, 유연 기판.12. The flexible substrate of 11 above, further comprising a second protective film between the first protective film and the flexible substrate.

13. 위 12에 있어서, 상기 제2 보호막은 제2 보호막 소재 및 상기 제2 보호막 소재에 산재된 나노 섬유를 포함하는, 유연 기판.13. In the above 12, wherein the second protective film is a flexible substrate comprising a second protective film material and nano-fiber interspersed in the second protective film material.

14. 위 13에 있어서, 상기 제2 보호막 소재와 상기 나노 섬유의 굴절률 차이가 0.1 이하인, 유연 기판.14. In the above 13, the refractive index difference between the second protective film material and the nanofiber is 0.1 or less, flexible substrate.

본 발명의 유연 기판은 개선된 강도를 가져, 굴곡 피로에 대한 내성이 뛰어나다. 이에 따라 굴곡 피로에 의한 파괴를 억제할 수 있다.The flexible substrate of the present invention has improved strength and is excellent in resistance to bending fatigue. Thereby, breakdown by bending fatigue can be suppressed.

또한, 본 발명의 유연 기판은 상기 개선된 강도뿐만 아니라, 우수한 광학 특성도 동시에 나타낼 수 있다.In addition, the flexible substrate of the present invention can exhibit not only the improved strength but also excellent optical properties at the same time.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 유연 기판의 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a flexible substrate according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 구현예에 따른 유연 기판의 개략적인 단면도이다.2 is a schematic cross-sectional view of a flexible substrate according to an embodiment of the present invention.

도 3 및 4는 본 발명의 일 구현예에 따른 유연 기판 제조 방법의 개략적인 공정도이다.3 and 4 is a schematic process diagram of a method for manufacturing a flexible substrate according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 분리층; 상기 분리층 상에 배치된 제1 보호막; 및 상기 제1 보호막 상에 배치된 전극 패턴;을 포함하며, 상기 제1 보호막은 제1 보호막 소재 및 상기 제1 보호막 소재에 산재된 나노 섬유를 포함함으로써, 개선된 강도를 가져, 굴곡 피로에 대한 내성이 뛰어난 유연 기판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention is a separation layer; A first passivation layer disposed on the separation layer; And an electrode pattern disposed on the first passivation layer, wherein the first passivation layer includes the first passivation layer material and the nanofibers interspersed with the first passivation layer material, thereby having improved strength and thus preventing bending fatigue. It relates to a flexible substrate having excellent resistance and a method of manufacturing the same.

도 1 및 2는 본 발명의 일 구현예에 따른 유연 기판의 개략적인 단면을 도시한 것인데, 이하 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.1 and 2 illustrate a schematic cross-sectional view of a flexible substrate according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

분리층(10)은 캐리어 기재(60)와의 분리를 위해 형성되는 층이며, 전극 패턴(30)층을 피복하여 전극 패턴(30)을 보호하는 층이 된다.The separation layer 10 is a layer formed for separation from the carrier substrate 60, and covers the electrode pattern 30 layer to protect the electrode pattern 30.

분리층(10)은 고분자 유기막일 수 있으며, 예를 들면 폴리이미드(polyimide)계 고분자, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol)계 고분자, 폴리아믹산(polyamic acid)계 고분자, 폴리아미드(polyamide)계 고분자, 폴리에틸렌(polyethylene)계 고분자, 폴리스타일렌(polystylene)계 고분자, 폴리노보넨(polynorbornene)계 고분자, 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer)계 고분자, 폴리아조벤젠(polyazobenzene)계 고분자, 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide)계 고분자, 폴리에스테르(polyester)계 고분자, 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate)계 고분자, 폴리아릴레이트(polyarylate)계 고분자, 신나메이트(cinnamate)계 고분자, 쿠마린(coumarin)계 고분자, 프탈리미딘(phthalimidine)계 고분자, 칼콘(chalcone)계 고분자, 방향족 아세틸렌계 고분자 등의 고분자로 제조된 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The separation layer 10 may be a polymer organic membrane, for example, a polyimide polymer, a polyvinyl alcohol polymer, a polyamic acid polymer, a polyamide polymer , Polyethylene polymer, polystylene polymer, polynorbornene polymer, phenylmaleimide copolymer polymer, polyazobenzene polymer, polyphenylene phthalamide (polyphenylenephthalamide) polymer, polyester polymer, polymethyl methacrylate polymer, polyarylate polymer, cinnamate polymer, coumarin polymer, It may be made of a polymer such as phthalimidine-based polymer, chalcone-based polymer, aromatic acetylene-based polymer, but That's not one. These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

제1 보호막(20)은 상기 분리층(10) 상에 배치되어, 후술할 전극 패턴(30)에 대한 패시베이션층의 역할을 하고, 분리층(10)과 마찬가지로 전극 패턴(30)을 피복하여 전극 패턴(30)의 오염을 방지한다. 뿐만 아니라, 캐리어 기재(60)로부터 분리시, 그리고 접고 구부리는 등의 사용에 의한 유연 기판의 크랙 발생을 방지한다.The first passivation layer 20 is disposed on the separation layer 10, and serves as a passivation layer for the electrode pattern 30, which will be described later, and covers the electrode pattern 30 in the same manner as the separation layer 10. The contamination of the pattern 30 is prevented. In addition, it prevents cracking of the flexible substrate due to separation from the carrier substrate 60 and use of folding and bending.

제1 보호막(20)은 제1 보호막(20) 소재 및 상기 제1 보호막(20) 소재에 산재된 나노 섬유를 포함한다.The first passivation layer 20 includes a material of the first passivation layer 20 and nanofibers interspersed with the first passivation layer 20.

제1 보호막(20)은 그 소재에 산재된 나노 섬유를 포함함으로써 강도가 개선되어, 유연 기판의 피로에 의한 파괴를 현저히 줄일 수 있다.Since the first protective film 20 includes nanofibers interspersed with the material, the strength is improved, and the breakdown due to fatigue of the flexible substrate can be significantly reduced.

고체 재료에 반복 응력을 연속하여 가하면 인장 강도보다 훨씬 낮은 응력에서 재료가 파괴된다. 이처럼 재료에 반복 응력이 연속적으로 가해지는 것이 재료의 피로이며, 피로에 의한 파괴를 피로 파괴라 한다.Subsequent application of cyclic stress to a solid material destroys the material at a stress much lower than its tensile strength. As described above, the repeated stress is applied to the material, and the fatigue of the material is referred to as fatigue failure.

다만, 나노 섬유가 제1 보호막(20) 소재와 굴절률 차이가 나는 경우, 나노 섬유가 시인되거나, 유연 기판을 적용한 디스플레이의 광학 특성 저하 문제가 발생할 수 있다.However, when the nanofibers differ in refractive index from the material of the first passivation layer 20, the nanofibers may be viewed or a problem of deterioration in optical properties of the display to which the flexible substrate is applied may occur.

따라서, 우수한 강도를 나타내면서, 적정 굴절률을 가져 우수한 광학 특성도 동시에 나타낸다는 측면에서 바람직하게는 상기 나노 섬유는 유리 나노 섬유; 또는 Al₂O₃, MgO 및 SiO₂로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 나노 섬유일 수 있다.Accordingly, the nanofibers are preferably glass nanofibers in view of exhibiting excellent strength and at the same time having an appropriate refractive index and excellent optical properties. Or at least one nanofiber selected from the group consisting of Al ₂ O ₃ , MgO and SiO ₂ .

유리 나노 섬유로는 당 분야에 공지된 것이 제한없이 사용될 수 있으며, 예를 들면 Al₂O₃, BaO, CaO, MgO, NaO₂, SiO₂ 등을 포함하는 유리 나노 섬유를 사용할 수 있으며, 우수한 크랙 방지 및 광학 특성의 측면에서 바람직하게는 Al₂O₃, MgO, SiO₂ 등을 포함하는 유리 나노 섬유를 사용할 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the glass nanofibers, those known in the art may be used without limitation, and for example, glass nanofibers including Al ₂ O ₃ , BaO, CaO, MgO, NaO ₂ , SiO ₂ , and the like may be used, and excellent cracks may be used. In view of prevention and optical properties, glass nanofibers preferably including Al ₂ O ₃ , MgO, SiO ₂ , and the like may be used. These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

나노 섬유는 제1 보호막(20)소재와 굴절률 차이가 0.1 이하인 것이 바람직하다. 굴절률 차이가 0.1 초과이면 나노 섬유가 시인되거나, 광학 특성이 저하되는 문제가 발생할 수 있다. 보다 바람직하게는 굴절률 차이가 0.05 이하일 수 있다.The nanofibers preferably have a refractive index difference of 0.1 or less from the material of the first passivation layer 20. If the difference in refractive index is greater than 0.1, the nanofibers may be viewed or a problem may occur in which optical properties are degraded. More preferably, the refractive index difference may be 0.05 or less.

나노 섬유의 굴절률은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 1.46 내지 1.56일 수 있다. 상기 굴절률 범위를 갖는 것이 전술한 제1 보호막 소재와 적정 굴절률 차이를 가져 우수한 광학 특성을 나타낸다는 점에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 굴절률이 1.48 내지 1.52일 수 있다.The refractive index of the nanofibers is not particularly limited, and may be, for example, 1.46 to 1.56. It is preferable to have the said refractive index range in the point which shows the outstanding optical characteristic by having an appropriate refractive index difference with the above-mentioned 1st protective film material. More preferably, the refractive index may be 1.48 to 1.52.

나노 섬유는 지름이 2nm 내지 5nm이고, 길이가 200nm 내지 500nm일 수 있다. 지름 및 길이가 상기 범위 미만인 경우 취급이 어려울 수 있고, 상기 범위 초과인 경우 나노 섬유가 시인되거나 광학 특성이 저하될 수 있다.The nanofibers may have a diameter of 2 nm to 5 nm and a length of 200 nm to 500 nm. If the diameter and length are less than the above range, handling may be difficult, and if it is above the above range, the nanofibers may be viewed or the optical properties may be degraded.

나노 섬유의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 제1 보호막(20) 중 5 내지 25중량%로 포함될 수 있다. 함량이 5중량% 미만이면 강도 개선 효과가 미미할 수 있고, 25중량% 초과이면 투과율이 저하되고, 나노 섬유 간의 응집으로 인해 오히려 강도가 저하될 수 있다.The content of the nanofibers is not particularly limited. For example, the nanofibers may be included in an amount of 5 to 25 wt% in the first passivation layer 20. If the content is less than 5% by weight, the effect of improving strength may be insignificant. If it is more than 25% by weight, the transmittance may be lowered, and the strength may be lowered due to aggregation between nanofibers.

본 발명의 다른 일 구현예에 따르면, 본 발명에 따른 나노 섬유는 셀룰로오스 나노 파이버(Cellulose Nano fiber)일 수 있다. 셀룰로오스 나노 파이버는 유연성이 우수하여, 이를 포함한 유연 기판은 굴곡성이 우수하고, 굴곡 피로에 대한 내성이 뛰어나다.According to another embodiment of the present invention, the nanofibers according to the present invention may be cellulose nanofibers (Cellulose Nano fiber). Cellulose nanofibers are excellent in flexibility, the flexible substrate including them is excellent in flexibility and excellent resistance to bending fatigue.

셀룰로오스 나노 파이버는 예를 들면 지름이 1 내지 50nm이고, 길이가 500 내지 2,000nm일 수 있다. 지름, 길이가 상기 범위 내인 경우 취급이 용이하고, 광학 특성 저하를 유발하지 않는다.The cellulose nanofibers may be, for example, 1-50 nm in diameter and 500-2,000 nm in length. When diameter and length are in the said range, handling is easy and it does not cause an optical characteristic fall.

나노 섬유로서 셀룰로오스 나노 파이버를 사용하는 경우, 그 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 제1 보호막(20) 중 1 내지 50중량%로 포함될 수 있다. 함량이 1중량% 미만이면 강도 및 유연성 개선 효과가 미미할 수 있고, 50중량% 초과이면 투과율이 저하되고, 나노 섬유 간의 응집으로 인해 오히려 강도가 저하될 수 있다. 보다 바람직하게는 20 내지 40중량%로 포함될 수 있다. 셀룰로오스 나노 파이버는 유기물로서 전술한 무기 나노 섬유들에 비해 비중이 작아 잘 가라앉지 않으므로 보다 지름과 길이가 크거나, 과량으로 첨가해도 응집, 투과율 저하 등의 문제가 덜 발생한다.In the case of using the cellulose nanofibers as the nanofibers, the content thereof is not particularly limited, and may be included, for example, in an amount of 1 to 50% by weight in the first protective film 20. If the content is less than 1% by weight, the effect of improving strength and flexibility may be insignificant. If the content is more than 50% by weight, the transmittance may be lowered, and the strength may be lowered due to aggregation between nanofibers. More preferably, it may be included in 20 to 40% by weight. Since the cellulose nanofiber is an organic material and has a specific gravity smaller than that of the inorganic nanofibers described above, the cellulose nanofiber does not sink well, and thus, problems such as agglomeration and a decrease in transmittance occur even if the diameter and the length are larger or excessively added.

제1 보호막(20)으로는 상기 굴절률 차를 만족시키는 것이라면 당 분야에 공지된 유기 또는 무기 고분자 소재를 제한없이 사용할 수 있으며, 구체적인 예를 들면, 아크릴계 공중합체, 다관능 아크릴계 단량체, 광개시제, 경화보조제, 용제 및 상기 나노 섬유를 포함하는 제1 보호막 형성용 조성물로 형성된 것일 수 있다.As the first passivation layer 20, any organic or inorganic polymer material known in the art may be used without limitation as long as it satisfies the refractive index difference. Specific examples thereof include an acrylic copolymer, a polyfunctional acrylic monomer, a photoinitiator, and a curing aid. It may be formed of a first protective film forming composition comprising a solvent and the nanofibers.

아크릴계 공중합체로는 변성 에폭시기를 갖는 아크릴계 공중합체를 사용할 수 있다.As the acrylic copolymer, an acrylic copolymer having a modified epoxy group can be used.

변성 에폭시기를 갖는 아크릴계 공중합체는 불포화 카르복시산 단량체와 에폭시기를 함유하는 불포화 화합물 단량체를 포함하는 단량체, 및 올레핀계 불포화 단량체를 포함하는 단량체들을 중합반응시켜 얻어질 수 있다.An acrylic copolymer having a modified epoxy group may be obtained by polymerizing a monomer including an unsaturated carboxylic acid monomer and an unsaturated compound monomer containing an epoxy group, and a monomer including an olefinically unsaturated monomer.

불포화 카르복시산 단량체의 함량은 아크릴계 공중합체(고형분) 전체 중량에 대하여 5 내지 50 중량%일 수 있으며, 바람직하게는 8 내지 30 중량%일 수 있다. 상기 불포화 카르복시산 화합물의 함량이 5중량% 미만일 경우에는 알칼리 수용액에 대한 용해성이 낮아지며, 50중량%를 초과할 경우에는 알칼리 수용액에 대한 용해성이 지나치게 커지게 된다.The content of the unsaturated carboxylic acid monomer may be 5 to 50 wt% with respect to the total weight of the acrylic copolymer (solid content), and preferably 8 to 30 wt%. When the content of the unsaturated carboxylic acid compound is less than 5% by weight, solubility in the aqueous alkali solution is lowered, and when it exceeds 50% by weight, the solubility in the aqueous alkali solution is too large.

불포화 카르복시산 단량체로는 아크릴산, 메타크릴산, 메틸메타크릴산, 말레인산, 푸마르산, 시트라콘산, 메타콘산, 이타콘산, 또는 이들의 무수물 등을 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the unsaturated carboxylic acid monomer, acrylic acid, methacrylic acid, methylmethacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, metaconic acid, itaconic acid, or anhydrides thereof may be used alone or in combination of two or more thereof.

에폭시기를 함유한 불포화 화합물 단량체는, 예를 들어, 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α-에틸아크릴산 글리시딜, α-n-프로필아크릴산 글리시딜, α-n-부틸아크릴산 글리시딜, 아크릴산-β-메틸글리시딜, 메타크릴산-β-메틸글리시딜, 아크릴산-β-에틸글리시딜, 메타크릴산-β-에틸글리시딜, 아크릴산-3,4-에폭시부틸, 메타크릴산-3,4-에폭시부틸, 아크릴산-6,7-에폭시헵틸, 메타크릴산-6,7-에폭시헵틸, α-에틸아크릴산-6,7-에폭시헵틸, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르 또는 p-비닐벤질글리시딜에테르 등을 포함할 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합되어 사용될 수 있다.The unsaturated compound monomer containing an epoxy group is, for example, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, α-ethyl acrylate glycidyl, α-n-propyl acrylate glycidyl, α-n-butyl acrylate Cydyl, acrylic acid-β-methylglycidyl, methacrylic acid-β-methylglycidyl, acrylic acid-β-ethylglycidyl, methacrylic acid-β-ethylglycidyl, acrylic acid-3,4-epoxy Butyl, methacrylic acid-3,4-epoxybutyl, acrylic acid-6,7-epoxyheptyl, methacrylic acid-6,7-epoxyheptyl, α-ethylacrylic acid-6,7-epoxyheptyl, o-vinylbenzyl glyc Cyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, or p-vinyl benzyl glycidyl ether, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

에폭시기를 함유한 불포화 화합물 단량체의 함량은 아크릴계 공중합체(고형분) 전체 중량에 대하여 10 내지 40중량%일 수 있다.The content of the unsaturated compound monomer containing an epoxy group may be 10 to 40% by weight based on the total weight of the acrylic copolymer (solid content).

올레핀계 불포화 단량체는 예를 들면, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 2-메틸시클로헥실메타크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸메타크릴레이트, 이소보로닐메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸아크릴레이트, 이소보로닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 스티렌, α-메틸 스티렌, m-메틸 스티렌, p-메틸 스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시 스티렌, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸 1,3-부타디엔, 3-(트리메톡시실릴)프로필 메타크릴레이트 등을 포함할 수 있으며 이들을 각각 단독 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.The olefinically unsaturated monomers are, for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, methyl acrylate, isopropyl acrylate, cyclo Hexyl methacrylate, 2-methylcyclohexyl methacrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl methacrylate, dicyclopentanyl methacrylate, dicyclopentanyloxyethyl methacrylate Isobornyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methylcyclohexyl acrylate, dicyclopentanyloxyethyl acrylate, isoboroyl acrylate, phenyl methacrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, styrene, α-methyl styrene, m-methyl styrene, p-methyl styrene, vinyltoluene, p -Methoxy styrene, 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl 1,3-butadiene, 3- (trimethoxysilyl) propyl methacrylate, and the like, each of which may be used alone or in combination of two or more. Can be used.

올레핀계 불포화 화합물 단량체의 함량은 아크릴계 공중합체(고형분) 전체 중량에 대하여 10 내지 85중량%일 수 있다. 10중량% 미만인 경우 아크릴계 공중합체의 안정성이 지나치게 저하되며, 85중량%를 초과하는 경우 경화도가 급격히 떨어질 수 있다.The content of the olefinically unsaturated compound monomer may be 10 to 85% by weight based on the total weight of the acrylic copolymer (solid content). If it is less than 10% by weight, the stability of the acrylic copolymer is excessively lowered, and if it exceeds 85% by weight, the degree of curing may drop sharply.

또한, 본 발명에 따른 상기 아크릴계 공중합체에 있어서, 당업자의 고려에 의해 상기 3종의 단량체 외에 추가적인 단량체가 사용되는 것이 제한되는 것은 아니다.In addition, in the acrylic copolymer according to the present invention, the use of additional monomers in addition to the three types of monomers is not limited by consideration of those skilled in the art.

아크릴계 공중합체를 제조하기 위해서는 중합 개시제를 사용할 수 있으며, 상기 중합 개시제는, 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(4-메톡시 2,4-디메틸발 레로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 또는 디메틸 2,2'-아조비스이소부틸레이트 등을 사용할 수 있다.In order to prepare an acrylic copolymer, a polymerization initiator may be used, and the polymerization initiator may be, for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile or 2,2'-azobis (2,4-dimethylvalero Nitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy 2,4-dimethylvaleronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), or dimethyl 2,2'-azo Bisisobutylate etc. can be used.

아크릴계 공중합체는 폴리스티렌 환산 중량평균분자량이 6,000 내지 30,000인 것이 바람직하다.The acrylic copolymer preferably has a polystyrene reduced weight average molecular weight of 6,000 to 30,000.

본 발명의 제1 보호막 형성용 조성물에 있어서, 상기 변성 에폭시기를 갖는 아크릴계 공중합체(고형분)는 조성물 전체 100중량부 대비 5 내지 60중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 함량이 5중량부 미만인 경우 코팅성이 급격히 저하될 수 있고, 60중량부 초과인 경우 제1 보호막 형성용 조성물의 경화도와 현상성이 저하될 수 있다.In the composition for forming a first protective film of the present invention, the acrylic copolymer (solid content) having the modified epoxy group is preferably included in an amount of 5 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition. If the content is less than 5 parts by weight of the coating property may be drastically reduced, and if more than 60 parts by weight, the curability and developability of the first protective film forming composition may be reduced.

다관능성 아크릴계 단량체로는 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중결합을 갖는 단량체를 사용할 수 있다. 구체적인 예로는 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사디아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리디아크릴레이트, 디펜타에리스리톨디아크릴레이트, 솔비톨트리아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트 유도체, 디펜타에리스리톨 폴리아크릴레이트 또는 이들의 메타크릴레이트류 등을 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the polyfunctional acrylic monomer, a monomer having at least two or more ethylenic double bonds can be used. Specific examples include 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, trimethylolpropanediacrylate, trimethylolpropanetriacrylate, pentaerythritol triacrylate, penta Erythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol hexadiacrylate, dipentaerythritol tridiacrylate, dipentaerythritol diacrylate, sorbitol triacrylate, bisphenol A diacrylate Rate derivatives, dipentaerythritol polyacrylates, and methacrylates thereof may be used alone or in combination of two or more thereof.

다관능성 아크릴계 단량체는 조성물 전체 100중량부 대비 2 내지 40중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 함량이 2중량부 미만인 경우 잔막 두께가 얇아 물리적 성질이 떨어질 수 있으며, 40중량부 초과인 경우 해상도가 떨어질 수 있다.The polyfunctional acrylic monomer is preferably included 2 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition. If the content is less than 2 parts by weight, the residual film thickness may be thin, so that the physical properties may be degraded. If the content is more than 40 parts by weight, the resolution may be reduced.

광개시제로는 아세토페논계, 벤조페논계, 트리아진계, 벤조인계, 이미다졸계, 크산톤계 등을 각각 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 광개시제는 조성물 전체 100중량부 대비 0.5 내지 10중량부로 포함되는 것이 바람직하다.As a photoinitiator, acetophenone series, a benzophenone series, a triazine series, a benzoin series, an imidazole series, a xanthone series, etc. can be used individually or in mixture, respectively. The photoinitiator is preferably included in 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition.

경화보조제는 아크릴계 공중합체의 에폭시 개환반응을 기존의 약 220℃ 보다 낮은 온도인 140 내지 170℃에서 일어날수 있도록 도와주는 역할을 한다.The curing aid serves to help the epoxy ring-opening reaction of the acrylic copolymer to occur at 140 to 170 ° C., which is lower than the existing about 220 ° C.

경화보조제로는 이소시아네이트기를 갖는 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들어, 트리글리시딜 이소시아누레이트, 트리스-(2-카르복시에틸)이소시아누레이트 및 디시안아미드를 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.As the curing aid, a compound having an isocyanate group can be used. For example, it is preferable to use triglycidyl isocyanurate, tris- (2-carboxyethyl) isocyanurate, and dicyanamide, alone or in combination of two or more thereof.

경화보조제는 조성물 전체 100중량부에 대하여, 0.1 내지 3중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 함량이 0.1중량부 미만이면 에폭시기의 충분한 경화가 이루어지지 않아 경도 등 물리적 특성이 저하될 수 있고, 3중량부 초과이면 미반응 모노머로 남아 장기 신뢰성에 문제를 줄 수 있다.The curing aid is preferably included in an amount of 0.1 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition. If the content is less than 0.1 parts by weight, the epoxy group may not be sufficiently cured and physical properties such as hardness may be lowered. If the content is more than 3 parts by weight, it may remain as an unreacted monomer, which may cause long-term reliability.

용제는 전술한 성분들을 용해시키고, 우수한 코팅성과 투명한 박막을 얻기 위해 사용하는 것으로, 고형분 성분과의 상용성을 고려하여 당분야에서 사용되는 적절한 것을 채택할 수 있다.The solvent is used to dissolve the above-mentioned components and to obtain excellent coating properties and a transparent thin film, and may be appropriately used in the art in consideration of compatibility with the solid content component.

용제의 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 메틸 에틸 카비톨, 디에틸렌글리콜 등의 알코올류; 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브 아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트등의 에틸렌글리콜알킬에테르 아세테이트류; 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜부틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트 등의 프로필렌글리콜디알킬아세테이트류; 프로필렌글리콜메틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜부틸에테르프로피오네이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르프로피오네이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 4-히드록시 4-메틸 2-펜타논 등의 케톤류; 또는 초산메틸, 초산에틸, 초산프로필, 초산부틸, 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시 2-메틸프로피온산 메틸, 2-히드록시 2-메틸프로피온산 에틸, 히드록시초산메틸, 히드록시초산에틸, 히드록시초산부틸, 유산메틸, 유산에틸, 유산프로필, 유산부틸, 3-히드록시프로피온산메틸, 3-히드록시프로피온산에틸, 3-히드록시프로피온산프로필, 3-히드록시프로피온산부틸, 2-히드록시 3-메틸부탄산 메틸, 메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산프로필, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸, 에톡시초산프로필, 에톡시초산부틸, 프로폭시초산메틸, 프로폭시초산에틸, 프로폭시초산프로필, 프로폭시초산부틸, 부톡시초산메틸, 부톡시 초산에틸, 부톡시초산프로필, 부톡시초산부틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산부틸, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시플피온산에틸, 2-에톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산부틸, 2-부톡시프로피온산메틸, 2-부톡시프로피온산에틸, 2-부톡시프로피오산프로필,2-부톡시프로피온산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산부틸, 3-프로폭시프로피온산메틸, 3-프로폭시프로피온산에틸, 3-프로폭시프로피온산프로필, 3-프로폭시프로피온산부틸, 3-부톡시프로피온산메틸, 3-부톡시프로피온산에틸, 3-부톡시프로피온산프로필, 3-부톡시프로피온산부틸 등의 에스테르류를 포함할 수 있으며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합되어 사용될 수 있다. 반응성 및 알칼리 용액에 대한 용해성 등을 고려할 때, 상기 용제는 글리콜 에테르계, 에틸렌알킬에테르 아세테이트계, 디에틸렌글리콜 등을 포함하는 것이 바람직하다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, methyl ethyl carbitol and diethylene glycol; Ethers such as tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, and propylene glycol butyl ether acetate; Propylene glycol dialkyl acetates such as propylene glycol methyl ethyl acetate; Propylene glycol alkyl ether propionates such as propylene glycol methyl ether propionate, propylene glycol ethyl ether propionate, propylene glycol propyl ether propionate and propylene glycol butyl ether propionate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and 4-hydroxy 4-methyl 2-pentanone; Or methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, 2-hydroxy propionate, methyl 2-hydroxy 2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy 2-methylpropionate, methyl hydroxyacetate, ethyl hydroxyacetate, Butyl hydroxy acetate, methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, butyl lactate, methyl 3-hydroxypropionate, ethyl 3-hydroxypropionate, propyl 3-hydroxypropionate, butyl hydroxypropionate, 2-hydroxy 3 Methyl methyl butyrate, methyl methoxy acetate, ethyl methoxy acetate, methoxy propyl acetate, methoxy butyl acetate, ethoxy acetate, ethyl ethoxy acetate, ethoxy propyl acetate, butyl ethoxy acetate, methyl propoxy acetate , Ethyl propoxy acetate, propyl propoxy acetate, butyl propoxy acetate, methyl butoxy acetate, ethyl butoxy acetate, propyl butoxy acetate, butyl butoxy acetate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, 2-methoxy Propyl propionate, butyl 2-methoxy propionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, propyl 2-ethoxypropionate, butyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-butoxypropionate, 2-part Ethyl oxypropionate, propyl 2-butoxypropionate, butyl 2-butoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, propyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-E Ethoxy Propionate, 3-Ethoxy Propionate, 3-Ethoxy Propionate, 3-Propoxy Propionate, 3-Propoxy Propionate, 3-Propoxy Propionate, 3-Propyl Propionate, 3-Butoxy Esters such as methyl propionate, ethyl 3-butoxypropionate, propyl 3-butoxypropionate, and butyl 3-butoxypropionate, and these may be used alone or in combination of two or more thereof. . In consideration of reactivity and solubility in alkaline solutions, the solvent preferably includes a glycol ether, an ethylene alkyl ether acetate, diethylene glycol and the like.

또한, 상기 아크릴계 공중합체 제조시에도 상기 언급한 용제들이 사용될 수 있다.In addition, the above-mentioned solvents may be used when preparing the acrylic copolymer.

용제는 전체 조성물이 적절한 점도를 가질 수 있도록 첨가될 수 있으며, 그에 따라 그 함량은 특별히 제한되지 않는다. 조성물 내 다른 성분이 전체 조성물 100 중량부에 대하여 상기 언급된 함량을 가질 수 있도록 조절하여 첨가되어 조성물의 나머지 함량(잔량)을 차지한다. 예를 들면 전체 조성물 100 중량부 대비 11 내지 92중량부로 포함될 수 있으나, 이는 단지 예시일 뿐 이에 한정되는 것은 아니다.The solvent may be added so that the entire composition can have an appropriate viscosity, and the content thereof is therefore not particularly limited. The other ingredients in the composition are adjusted to have the above-mentioned content with respect to 100 parts by weight of the total composition, so as to occupy the remaining content (remaining amount) of the composition. For example, 11 to 92 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition may be included, but is not limited thereto.

선택적으로, 본 발명의 제1 보호막 형성용 조성물은 제1 보호막(20)의 분리층(10)에 대한 접착력을 향상시키기 위해 접착증진제를 더 포함할 수 있다.Optionally, the composition for forming a first passivation layer of the present invention may further include an adhesion promoter to improve adhesion to the separation layer 10 of the first passivation layer 20.

접착증진제로는, 4,4',4"-메틸리딘트리스페놀, 4,4',4"-에틸리딘트리스페놀, 4-[비스(4-하이드록시페닐)메틸]-2-메톡시페놀, 4-[비스(4-하이드록시페닐)메틸]-2-에톡시페놀, 4,4'-[(2-하이드록시페닐)메틸렌]비스[2-메틸페놀], 4,4'-[(4-하이드록시페닐)메틸렌]비스[2-메틸페놀], 4,4'-[(3-하이드록시페닐)메틸렌]비스[2,6-디메틸페놀], 3-글리시디록시프로필 트리메톡시 실란 등을 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of adhesion promoters include 4,4 ', 4 "-methylidritrisphenol, 4,4', 4" -ethylidine trisphenol, and 4- [bis (4-hydroxyphenyl) methyl] -2-methoxyphenol , 4- [bis (4-hydroxyphenyl) methyl] -2-ethoxyphenol, 4,4 '-[(2-hydroxyphenyl) methylene] bis [2-methylphenol], 4,4'-[ (4-hydroxyphenyl) methylene] bis [2-methylphenol], 4,4 '-[(3-hydroxyphenyl) methylene] bis [2,6-dimethylphenol], 3-glycidoxypropyl trimeth A oxy silane etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

접착증진제는 조성물 전체 100 중량부 대비 0.2 내지 3 중량부로 포함되는 것이 바람직하다.Adhesion promoters are preferably included in 0.2 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition.

선택적으로, 본 발명의 제1 보호막 형성용 조성물은 각 성분의 균일한 분산을 위해 실리콘계 계면활성제를 더 포함할 수 있다.Optionally, the first protective film-forming composition of the present invention may further include a silicone-based surfactant for uniform dispersion of each component.

실리콘계 계면활성제의 예를 들면, (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시실란, (3-글리시드옥시프로필)트리에톡시실란, (3-글리시드옥시프로필)메틸디메톡시실란, (3-글리시드옥시프로필)트리메톡시실란, (3-글리시드옥시프로필)디메틸에톡시실란, (3-글리시드옥시프로필)디메틸에톡시실란, 3,4-에폭시부틸트리메톡시실란, 3,4-에폭시부틸트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시크로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시 시크로헥실)에틸트리에톡시실란, 아미노프로필트리메톡시실란 등을 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of silicone-based surfactants include (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane, (3-glycidoxyoxy) triethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) methyldimethoxysilane, (3- Glycidoxypropyl) trimethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) dimethylethoxysilane, (3-glycidoxypropyl) dimethylethoxysilane, 3,4-epoxybutyltrimethoxysilane, 3,4 -Epoxybutyl triethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxy cyclohexyl) ethyltriethoxysilane, aminopropyltrimethoxysilane Etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

실리콘계 계면활성제는 조성물 전체 100중량부 대비 0.2 내지 3중량부로 포함되는 것이 바람직하다.The silicone surfactant is preferably included in an amount of 0.2 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the total composition.

제1 보호막 형성용 조성물은 예를 들면 나노 섬유와 전술한 굴절율 차이를 나타내도록 조절된 것일 수 있다. 구체적으로 무기 나노 섬유는 굴절율이 셀룰로오스 나노 파이버에 비해 다소 높으므로, 유리 나노 섬유; 또는 Al₂O₃, MgO 및 SiO₂로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 나노 섬유를 사용하는 경우, 굴절율을 높이는 처리가 수행된 것일 수 있다. 이러한 방법의 예로는 제1 보호막 형성용 조성물의 구성 성분에 방향족 아크릴계 단량체의 비율을 늘리는 방법 등을 들 수 있다.The first protective film-forming composition may be adjusted to exhibit the difference in refractive index with the nanofibers, for example. Specifically, since the inorganic nanofibers have a slightly higher refractive index than cellulose nanofibers, glass nanofibers; Alternatively, when using one or more nanofibers selected from the group consisting of Al ₂ O ₃ , MgO, and SiO ₂ , a treatment to increase the refractive index may be performed. As an example of such a method, the method of increasing the ratio of an aromatic acryl-type monomer to the component of the composition for 1st protective film formation, etc. are mentioned.

전극 패턴(30)은 상기 제1 보호막(20) 상에 배치된다.The electrode pattern 30 is disposed on the first passivation layer 20.

전극 패턴(30)으로는 전도성 물질이라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 예를 들면 인듐틴옥사이드(ITO), 인듐징크옥사이드(IZO), 인듐징크틴옥사이드(IZTO), 알루미늄징크옥사이드(AZO), 갈륨징크옥사이드(GZO), 플로린틴옥사이드(FTO), 인듐틴옥사이드-은-인듐틴옥사이드(ITO-Ag-ITO), 인듐징크옥사이드-은-인듐징크옥사이드(IZO-Ag-IZO), 인듐징크틴옥사이드-은-인듐징크틴옥사이드(IZTO-Ag-IZTO) 및 알루미늄징크옥사이드-은-알루미늄징크옥사이드(AZO-Ag-AZO)로 이루어진 군에서 선택된 금속산화물류; 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo) 및 APC로 이루어진 군에서 선택된 금속류; 금, 은, 구리 및 납으로 이루어진 군에서 선택된 금속의 나노와이어; 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀 (graphene)으로 이루어진 군에서 선택된 탄소계 물질류; 및 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(PEDOT) 및 폴리아닐린(PANI)으로 이루어진 군에서 선택된 전도성 고분자 물질류에서 선택된 재료로 형성될 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The electrode pattern 30 may be used without limitation as long as it is a conductive material. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO), aluminum zinc oxide (AZO), and gallium Zinc Oxide (GZO), Florin Tin Oxide (FTO), Indium Tin Oxide-Silver-Indium Tin Oxide (ITO-Ag-ITO), Indium Zinc Oxide-Silver-Indium Zinc Oxide (IZO-Ag-IZO), Indium Zinc Tin Metal oxides selected from the group consisting of oxide-silver-indium zinc tin oxide (IZTO-Ag-IZTO) and aluminum zinc oxide-silver-aluminum zinc oxide (AZO-Ag-AZO); Metals selected from the group consisting of gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), molybdenum (Mo), and APC; Nanowires of metals selected from the group consisting of gold, silver, copper and lead; Carbon-based materials selected from the group consisting of carbon nanotubes (CNT) and graphene; And conductive polymer materials selected from the group consisting of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT) and polyaniline (PANI). These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

전극 패턴(30)은 그 패턴 상부에 감광성 레지스트 패턴을 더 구비할 수 있다.The electrode pattern 30 may further include a photosensitive resist pattern on the pattern.

본 발명의 유연 기판은 상기 전극 패턴(30)이 배치된 제1 보호막(20) 상에 부착된 유연 기재(50)를 더 포함한다.The flexible substrate of the present invention further includes a flexible substrate 50 attached to the first passivation layer 20 on which the electrode pattern 30 is disposed.

유연 기재(50)는 당 분야에 널리 사용되는 소재로 제조된 투명 필름이 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 예를 들면, 셀룰로오스 에스테르(예: 셀룰로오스 트리아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트, 셀룰로오스 부티레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 및 니트로셀룰로오스), 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르(예: 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌 1,2-디페녹시에탄-4,4´-디카르복실레이트 및 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리스티렌(예: 신디오택틱(syndiotactic) 폴리스티렌), 폴리올레핀(예: 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 및 폴리메틸펜텐), 폴리술폰, 폴리에테르 술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르-이미드, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에테르 케톤, 폴리비닐알코올 및 폴리염화비닐로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물로 제조된 필름일 수 있다.The flexible substrate 50 may be used without being limited to a transparent film made of a material widely used in the art, for example, cellulose esters such as cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate pro Cypionate, and nitrocellulose), polyimide, polycarbonate, polyester (e.g. polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene 1,2-diphenoxyethane- 4,4´-dicarboxylate and polybutylene terephthalate, polystyrenes (e.g. syndiotactic polystyrenes), polyolefins (e.g. polypropylenes, polyethylenes and polymethylpentenes), polysulfones, polyether sulfones, Polyarylate, polyether-imide, polymethylmethacrylate, polyether ketone, poly It may be a film made of a single or a mixture thereof selected from the group consisting of vinyl alcohol and polyvinyl chloride.

유연 기재(50)는 당 분야에 공지된 수계 점착제, 접착제 또는 광경화성 또는 열경화성의 점착제 또는 접착제를 사용하여 부착된 것일 수 있다.The flexible substrate 50 may be attached using an aqueous adhesive, an adhesive, or a photocurable or thermosetting adhesive or adhesive known in the art.

필요에 따라, 본 발명의 유연 기판은 상기 제1 보호막(20)과 유연 기재(50) 사이에 제2 보호막(40)을 더 포함할 수 있다. 도 2는 그러한 경우의 단면을 개략적으로 나타낸 것이다.If necessary, the flexible substrate of the present invention may further include a second protective film 40 between the first protective film 20 and the flexible substrate 50. 2 schematically shows a cross section in such a case.

제2 보호막(40)을 더 포함하는 경우, 유연 기재(50)를 상하에서 동시에 보호하여, 크랙 억제 효과를 더욱 개선할 수 있다.In the case where the second protective film 40 is further included, the flexible base material 50 may be protected at the same time up and down to further improve the crack suppression effect.

제2 보호막(40)으로는 당 분야에 공지된 유기 또는 무기 절연 소재가 제한 없이 사용될 수 있다.As the second passivation layer 40, an organic or inorganic insulating material known in the art may be used without limitation.

또한, 제2 보호막(40)으로는 상기 제1 보호막 형성용 조성물에서 나노 섬유를 제외한 조성물을 사용할 수도 있으며, 제1 보호막 형성용 조성물과 동일 조성으로도 사용 가능하다.In addition, the second protective film 40 may be a composition other than nanofibers in the composition for forming the first protective film, and may be used in the same composition as the composition for forming the first protective film.

즉, 제2 보호막(40)도 산재된 나노 섬유를 포함할 수 있고, 그러한 경우 제2 보호막(40) 소재와 제2 보호막(40)에 산재된 나노 섬유의 굴절률 차이는 0.1 이하일 수 있다. 그러한 경우 강도는 개선하면서, 광학 특성 저하를 막을 수 있다.That is, the second passivation layer 40 may also include interspersed nanofibers, in which case the difference in refractive index between the material of the second passivation layer 40 and the nanofibers interspersed with the second passivation layer 40 may be 0.1 or less. In such a case, the strength can be improved while preventing the deterioration of the optical properties.

또한, 본 발명은 상기 유연 기판의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a method for producing the flexible substrate.

도 3 및 4는 본 발명의 일 구현예에 따른 유연 기판의 제조 방법의 개략적인 공정도로서, 이하 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.3 and 4 is a schematic process diagram of a method for manufacturing a flexible substrate according to an embodiment of the present invention, with reference to the drawings will be described in detail the present invention.

먼저, 도 3 (a)와 같이, 캐리어 기재(60) 상에 분리층(10)을 형성한다.First, as shown in FIG. 3A, a separation layer 10 is formed on the carrier substrate 60.

캐리어 기재(60)로는 공정 중에 쉽게 휘거나 뒤틀리지 않고 고정될 수 있도록 적정 강도를 제공하며 열이나 화학 처리에 영향이 거의 없는 재료라면 특별한 제한이 없이 사용될 수 있다. 예를 들면 글라스, 석영, 실리콘 웨이퍼, 서스 등이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 글라스가 사용될 수 있다.The carrier substrate 60 may be used without particular limitation as long as it provides a suitable strength so that it can be fixed without being easily bent or twisted during the process and has little effect on heat or chemical treatment. For example, glass, quartz, silicon wafers, sus etc. may be used, preferably glass may be used.

분리층(10)은 전술한 고분자 소재로 형성할 수 있다.The separation layer 10 may be formed of the aforementioned polymer material.

분리층(10)의 형성 방법은 특별히 한정되지 않고, 상기 고분자 조성물을 슬릿 코팅법, 나이프 코팅법, 스핀 코팅법, 캐스팅법, 마이크로 그라비아 코팅법, 그라비아 코팅법, 바 코팅법, 롤 코팅법, 와이어 바 코팅법, 딥 코팅법, 스프레이 코팅법, 스크린 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 코팅법, 디스펜서 인쇄법, 노즐 코팅법, 모세관 코팅법 등의 당 분야에 공지된 방법에 의해 도포하여 형성된 것일 수 있다.The method of forming the separation layer 10 is not particularly limited, and the polymer composition may be slit coated, knife coated, spin coated, cast, micro gravure coated, gravure coated, bar coated, roll coated, Wire bar coating method, dip coating method, spray coating method, screen printing method, gravure printing method, flexographic printing method, offset printing method, inkjet coating method, dispenser printing method, nozzle coating method, capillary coating method, etc. It may be formed by coating by a known method.

분리층(10)은 상기 도포 이후에 추가적인 경화 공정을 더 거친 것일 수 있다.The separation layer 10 may be further subjected to an additional curing process after the application.

전술한 방법에 의해 분리층(10)을 형성한 이후에, 추가적인 경화 공정을 더 거친 것일 수 있다.After the separation layer 10 is formed by the above-described method, it may be further subjected to an additional curing process.

경화 방법은 특별히 한정되지 않고 광경화 또는 열경화에 의하거나, 상기 2가지 방법을 모두 사용 가능하다. 광경화 및 열경화를 모두 수행시 그 순서는 특별히 한정되지 않는다.The hardening method is not specifically limited, Photocuring or thermosetting, or both methods can be used. The order in which both photocuring and thermosetting are performed is not specifically limited.

이후, 도 3 (b)와 같이, 상기 분리층(10) 상에 제1 보호막(20)을 형성한다.Thereafter, as shown in FIG. 3B, a first passivation layer 20 is formed on the separation layer 10.

나노 섬유로는 전술한 나노 섬유를 사용할 수 있다.As the nanofibers, the aforementioned nanofibers can be used.

나노 섬유는 제1 보호막(20) 소재와 굴절률 차이가 0.1 이하일 수 있고, 나노 섬유는 예를 들면 제1 보호막(20) 중 5 내지 25중량%로 포함될 수 있다.The nanofibers may have a refractive index difference of 0.1 or less from the material of the first passivation layer 20, and the nanofibers may be included, for example, in an amount of 5 to 25 wt% in the first passivation layer 20.

제1 보호막(20)은 전술한 나노 섬유를 포함하는 제1 보호막 형성용 조성물을 분리층(10) 상에 도포하고 경화시켜 형성할 수 있다.The first passivation layer 20 may be formed by applying and curing the first passivation layer forming composition including the nanofibers on the separation layer 10.

도포 방법은 특별히 한정되지 않으며, 상기 분리층(10) 형성용 조성물의 도포 방법과 동일한 방법에 의할 수 있다.The coating method is not particularly limited, and may be based on the same method as the coating method of the composition for forming the separation layer 10.

제1 보호막(20)의 광경화 조건은 경화물의 제반 물성을 훼손하지 않으면서 충분한 경화가 이루어질 정도로 제어된다면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 24시간 이내로 수행될 수 있다.The photocuring conditions of the first protective film 20 are not particularly limited as long as they are controlled to such a degree that sufficient curing is achieved without compromising the overall physical properties of the cured product. For example, it can be performed within 24 hours.

광량은 예를 들면 10 내지 1,000mJ/cm², 바람직하게는 10 내지 500mJ/cm²일 수 있다. 광량이 10mJ/cm² 미만인 경우 충분한 경화가 일어나지 않으며, 1,000mJ/cm² 초과인 경우 황변 또는 크랙 등이 발생할 수 있다.The amount of light may be, for example, 10 to 1,000 mJ / cm ² , preferably 10 to 500 mJ / cm ² . If the amount of light is less than 10mJ / cm ² , sufficient curing does not occur, and if it is more than 1,000mJ / cm ² , yellowing or cracking may occur.

추가로, 제1 보호막(20)은 상기 광경화 이후에 열경화를 더 거친 것일 수 있다.In addition, the first passivation layer 20 may be further subjected to thermal curing after the photocuring.

구체적인 예를 들자면, 30초 내지 5분의 광경화를 수행 후, 열경화를 수행할 수 있다.For example, after performing the photocuring for 30 seconds to 5 minutes, it may be carried out thermal curing.

열경화는 예를 들면 220℃ 미만, 바람직하게는 200℃ 이하에서 수행되는 것일 수 있다. 열경화가 220℃이상에서 수행되는 경우, 캐리어 기재(60)의 열팽창 계수가 높거나 유리전이온도(Tg)가 낮을 경우 사용할 수 없는 문제점이 생길 수 있다.The thermosetting may be for example carried out at less than 220 ℃, preferably 200 ℃ or less. When thermal curing is performed at 220 ° C. or higher, a problem may occur due to a high thermal expansion coefficient of the carrier substrate 60 or a low glass transition temperature (Tg).

열경화는 예를 들면 30분 내지 120분간 수행될 수 있다.Thermal curing can be carried out, for example, for 30 minutes to 120 minutes.

열경화 속도 증가를 위해, 제1 보호막 형성용 조성물은 열경화 보조제를 더 포함할 수 있다.In order to increase the thermal curing rate, the first protective film-forming composition may further include a thermosetting aid.

이후에, 도 3 (c)와 같이, 상기 제1 보호막(20) 상에 전극 패턴(30)을 형성한다.Thereafter, as illustrated in FIG. 3C, an electrode pattern 30 is formed on the first passivation layer 20.

전극 패턴(30)은 전술한 금속산화물류, 금속류, 금속 나노와이어, 탄소계 물질류, 전도성 고분자 물질 등의 소재로 형성할 수 있다.The electrode pattern 30 may be formed of a material such as metal oxides, metals, metal nanowires, carbon-based materials, and conductive polymer materials.

전극 패턴(30)의 형성 방법은 특별히 한정되지 않으며, 물리적 증착법, 화학적 증착법, 플라즈마 증착법, 플라즈마 중합법, 열 증착법, 열 산화법, 양극 산화법, 클러스터 이온빔 증착법, 스크린 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 코팅법, 디스펜서 인쇄법 등의 당 분야에 공지된 방법에 의할 수 있다.The formation method of the electrode pattern 30 is not specifically limited, The physical vapor deposition method, the chemical vapor deposition method, the plasma vapor deposition method, the plasma polymerization method, the thermal vapor deposition method, the thermal oxidation method, the anodic oxidation method, the cluster ion beam deposition method, the screen printing method, the gravure printing method, the flexo It may be by a method known in the art, such as a printing method, an offset printing method, an inkjet coating method, a dispenser printing method.

본 발명의 유연 기판의 제조 방법은 상기 전극 패턴(30)이 형성된 제1 보호막(20) 상에 유연 기재(50)를 부착하는 단계를 더 포함한다.The method of manufacturing the flexible substrate of the present invention further includes attaching the flexible substrate 50 on the first passivation layer 20 on which the electrode pattern 30 is formed.

도 4는 유연 기재(50)의 부착 전에 제2 보호막(40)을 먼저 형성하는 경우의 공정도이나, 이에 제한되는 것은 아니고 제2 보호막(40) 형성 단계를 거치지 않을 수도 있다.FIG. 4 is a process diagram when the second protective film 40 is first formed prior to the attachment of the flexible substrate 50, but is not limited thereto. The second protective film 40 may not be formed.

유연 기재(50)는 당 분야에 공지된 수계 점착제, 접착제 또는 광경화성 또는 열경화성의 점착제 또는 접착제를 사용하여 부착할 수 있다.The flexible substrate 50 may be attached using an aqueous adhesive, an adhesive, or a photocurable or thermosetting adhesive or adhesive known in the art.

유연 기재(50)로는 전술한 투명필름을 사용할 수 있다.As the flexible substrate 50, the above-mentioned transparent film can be used.

필요에 따라, 본 발명의 유연 기판의 제조 방법은 상기 유연 기재(50)의 부착 전에, 전극 패턴(30)이 형성된 제1 보호막(20) 상에 제2 보호막(40)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.If necessary, the manufacturing method of the flexible substrate of the present invention further comprises the step of forming the second protective film 40 on the first protective film 20 on which the electrode pattern 30 is formed, before the flexible substrate 50 is attached. It may include.

제2 보호막(40)을 형성하는 경우, 크랙 방지 효과를 더욱 개선할 수 있다.When the second protective film 40 is formed, the crack prevention effect can be further improved.

제2 보호막(40)은 전술한 유기 또는 무기 절연소재, 나노 섬유를 제외한 제1 보호막 형성용 조성물 또는 제1 보호막 형성용 조성물과 동일 조성물로 형성할 수 있다.The second passivation layer 40 may be formed of the same composition as the composition for forming the first passivation layer or the composition for forming the first passivation layer except for the aforementioned organic or inorganic insulating material and nanofibers.

제2 보호막(40)의 형성 방법도 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 제1 보호막(20)과 동일한 방법으로 형성할 수 있다.The formation method of the 2nd protective film 40 is not specifically limited, either, For example, it can be formed by the method similar to the 1st protective film 20. FIG.

유연 기판은 분리층(10)을 캐리어 기판으로부터 분리함으로써 제조될 수 있는데, 분리 시기는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 전극 패턴(30)의 형성 이후, 제2 보호막(40)의 형성 이후, 또는 유연 기재(50)의 부착 이후에 분리할 수도 있다.The flexible substrate may be manufactured by separating the separation layer 10 from the carrier substrate, and the separation timing is not particularly limited, for example, after the formation of the electrode pattern 30, after the formation of the second protective film 40, or It may be separated after the attachment of the flexible substrate 50.

본 발명의 유연 기판의 제조 방법은 상기 나노 섬유가 산재된 제1 보호층을 형성함으로써, 상기 캐리어 기판으로부터의 분리시에 또는 사용시에 발생할 수 있는 크랙을 억제할 수 있고, 광학 특성의 저하도 최소화 할 수 있다.In the method of manufacturing the flexible substrate of the present invention, by forming the first protective layer interspersed with the nanofibers, it is possible to suppress cracks that may occur during separation or use from the carrier substrate, and to minimize the deterioration of optical properties. can do.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Hereinafter, preferred examples are provided to aid the understanding of the present invention, but these examples are merely illustrative of the present invention and are not intended to limit the scope of the appended claims, which are within the scope and spirit of the present invention. It is apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made to the present invention, and such modifications and changes belong to the appended claims.

합성예1. 아크릴계 공중합체의 제조Synthesis Example 1. Preparation of Acrylic Copolymer

플라스크에 용제로 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트(PGMEA) 70중량부, 메타크릴산 글리시딜 10중량부, 3-(트리메톡시실릴)프로필 메타크릴레이트 1중량부, 메틸메타크릴산 8중량부, 메틸메타크릴레이트 10중량부를 넣고, 개시제로서 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴) 1중량부를 첨가한 후, 그 혼합물을 교반하였다. 상기 반응 용액의 온도를 70℃까지 상승시켜 6시간 동안 반응하여 아크릴계 공중합체를 형성하였다.70 parts by weight of propylene glycol methyl ethyl acetate (PGMEA) as a solvent, 10 parts by weight of glycidyl methacrylate, 1 part by weight of 3- (trimethoxysilyl) propyl methacrylate, 8 parts by weight of methyl methacrylate, 10 parts by weight of methyl methacrylate was added, 1 part by weight of 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) was added as an initiator, and the mixture was stirred. The temperature of the reaction solution was raised to 70 ℃ to react for 6 hours to form an acrylic copolymer.

합성예 2. 아크릴계 공중합체의 제조Synthesis Example 2 Preparation of Acrylic Copolymer

플라스크에 용제로 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트(PGMEA) 70중량부, 3-(트리메톡시실릴)프로필 메타크릴레이트 1중량부, 메틸메타크릴산 8중량부, 메틸메타크릴레이트 20중량부를 넣고, 개시제로서 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴) 1중량부를 첨가한 후, 그 혼합물을 교반하였다. 상기 반응 용액의 온도를 70℃까지 상승시켜 6시간 동안 반응하여 아크릴계 공중합체를 형성하였다.Into the flask, 70 parts by weight of propylene glycol methyl ethyl acetate (PGMEA), 1 part by weight of 3- (trimethoxysilyl) propyl methacrylate, 8 parts by weight of methyl methacrylate, and 20 parts by weight of methyl methacrylate were added. As 1 part by weight of 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile) was added, the mixture was stirred. The temperature of the reaction solution was raised to 70 ℃ to react for 6 hours to form an acrylic copolymer.

제조예. 보호막 형성용 조성물의 제조Preparation example. Preparation of protective film forming composition

합성예 1의 아크릴계 공중합체 27중량부, 합성예 2의 아크릴계 공중합체 27중량부, 다관능성 아크릴레이트계 단량체로서 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 36중량부, 광개시제로 α-하이드록시알킬페논 4.3중량부, 경화보조제로 트리스-(2-카르복시에틸)아이소시아누레이트 3중량부, 밀착성 증진을 위한 실란커플링제 2.7중량부 및 용제로서 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르(MEDG) 30중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40중량부, 3-메톡시부탄올 30중량부를 혼합하였다.27 parts by weight of the acrylic copolymer of Synthesis Example 1, 27 parts by weight of the acrylic copolymer of Synthesis Example 2, 36 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional acrylate monomer, and 4.3 parts by weight of α-hydroxyalkylphenone as a photoinitiator. , 3 parts by weight of tris- (2-carboxyethyl) isocyanurate as a curing aid, 2.7 parts by weight of silane coupling agent for enhancing adhesion, and 30 parts by weight of diethylene glycol methyl ethyl ether (MEDG) as a solvent, propylene glycol monomethyl 40 parts by weight of ether acetate (PGMEA) and 30 parts by weight of 3-methoxybutanol were mixed.

이후, 상기 혼합물에 표 1에 기재된 성분 및 함량(보호막 형성용 조성물 총 중량 중 중량%)의 나노 섬유를 첨가하여 보호막 형성용 조성물을 제조하였다.Thereafter, nanofibers of the components and contents (wt% of the total weight of the protective film forming composition) shown in Table 1 were added to the mixture to prepare a protective film forming composition.

표 1

Table 1

실시예Example

두께 700㎛의 소다라임 글라스 상에 폴리이미드(polyimide)를 포함하는 분리층을 두께 0.13㎛로 코팅하였다. 이후에, 상기 분리층 상에 상기 제조예의 보호막 형성용 조성물을 도포하고, 180mJ/cm² 조건으로 경화하여 두께 1.5㎛의 제1 보호막을 형성하였다.A separation layer including polyimide was coated on a soda lime glass having a thickness of 700 μm to a thickness of 0.13 μm. Thereafter, a protective film-forming composition of the Preparation Example was applied onto the separation layer, and cured under a condition of 180 mJ / cm ² to form a first protective film having a thickness of 1.5 μm.

이후에, 상기 제1 보호막 상에 ITO층을 두께 0.05㎛로 형성하고, 상기 ITO층 상에 감광성 레지스트를 도포하여 전극 패턴을 형성하였다.Thereafter, an ITO layer was formed to a thickness of 0.05 μm on the first passivation layer, and a photosensitive resist was applied on the ITO layer to form an electrode pattern.

이후에, 전극 패턴이 형성된 제1 보호막 상에 제2 보호막을 형성하고, 제2 보호막 상에 아크릴계 점착층을 형성한 다음, 두께 50㎛의 폴리카보네이트 기재를 부착하여, 유연 기판을 제조하였다.Thereafter, a second protective film was formed on the first protective film on which the electrode pattern was formed, an acrylic adhesive layer was formed on the second protective film, and then a polycarbonate substrate having a thickness of 50 μm was attached to prepare a flexible substrate.

표 2

TABLE 2

실험예Experimental Example

(1) 굴곡 크랙 평가(1) bending crack evaluation

시릿예 및 비교예의 유연 기판을 100mm x 10mm로 커팅하고 굴곡 테스터기 (JIRBT-210, Juniltech)에 장착하여 1만회의 굴곡을 거친 후, 유연 기판의 크랙 발생 여부를 육안으로 평가하였다.The flexible substrates of the sheet and comparative examples were cut to 100 mm x 10 mm, mounted on a flexural tester (JIRBT-210, Juniltech), and subjected to 10,000 bends, and then the cracks of the flexible substrate were visually evaluated.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

○: 크랙 미발생○: no crack

△: 미세 크랙 발생△: fine crack generation

X: 유연 기판 파단X: Flexible Board Break

(2) 투과율 측정(2) transmittance measurement

실시예 및 비교예의 유연 기판의 가시광 투과율을 헤이즈 측정장비(HM-150, Murasaki사)로 측정하였다.The visible light transmittance of the flexible substrates of Examples and Comparative Examples was measured by a haze measuring device (HM-150, Murasaki).

표 3

TABLE 3

상기 표 3을 참조하면, 실시예 1 내지 3의 유연 기판은 강도가 개선되어 굴곡 특성이 현저히 우수하며, 이와 동시에 높은 투과율을 갖는 것을 확인할 수 있다.Referring to Table 3, it can be seen that the flexible substrates of Examples 1 to 3 have improved strength and significantly superior bending characteristics, and at the same time, have a high transmittance.

실시예 4 및 5는 유리 나노 섬유의 함량이 바람직한 범위를 벗어났으나, 여전히 우수한 굴곡 특성 및 투과율을 나타내는 것을 확인할 수 있다.Examples 4 and 5, although the content of the glass nanofibers is outside the preferred range, it can be seen that still exhibits excellent bending characteristics and transmittance.

실시예 6은 굴절률 차이가 바람직한 범위를 벗어났으나, 현저히 우수한 굴곡 특성을 나타내는 것을 확인하였다.In Example 6, the difference in refractive index was out of the preferred range, but it was confirmed that it showed a remarkably excellent bending characteristic.

실시예 7은 유연 기판의 강도가 개선되어 굴곡 특성이 현저히 우수하며, 이와 동시에 높은 투과율을 갖는 것을 확인하였다.In Example 7, it was confirmed that the flexibility of the flexible substrate was improved, and thus the bending property was remarkably excellent, and at the same time, it had a high transmittance.

실시예 8 및 9는 셀룰로오스 나노 파이버를 사용하여, 우수한 굴곡 특성 및 투과율을 나타내는 것을 확인하였다.It was confirmed that Examples 8 and 9 exhibited excellent bending characteristics and transmittance using cellulose nanofibers.

실시예 10은 셀룰로오스 나노 파이버를 다소 과량 사용하였으나, 여전히 우수한 굴곡 특성 및 투과율을 나타내는 것을 확인하였다.Example 10 was found to use some excess of cellulose nanofibers, but still showed excellent flexural properties and transmittance.

그러나, 비교예 1의 유연 기판은 굴곡 평가에 의해 완전히 파단되었다.However, the flexible substrate of Comparative Example 1 was completely broken by bending evaluation.

[부호의 설명][Description of the code]

10: 분리층 20: 제1 보호막10: separation layer 20: first protective film

30: 전극 패턴 40: 제2 보호막30: electrode pattern 40: second protective film

50: 유연 기재 60: 캐리어 기재50: flexible substrate 60: carrier substrate

Claims

분리층;Separation layer;

상기 분리층 상에 배치된 제1 보호막; 및A first passivation layer disposed on the separation layer; And

상기 제1 보호막 상에 배치된 전극 패턴;을 포함하며,An electrode pattern disposed on the first passivation layer;

상기 제1 보호막은 제1 보호막 소재 및 상기 제1 보호막 소재에 산재된 나노 섬유를 포함하는, 유연 기판.The first passivation layer includes a first passivation layer material and nanofibers interspersed with the first passivation layer material.
청구항 1에 있어서, 상기 나노 섬유는 유리 나노 섬유; 또는 Al₂O₃, MgO 및 SiO₂로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 나노 섬유인, 유연 기판.The method according to claim 1, wherein the nanofibers are glass nanofibers; Or at least one nanofiber selected from the group consisting of Al ₂ O ₃ , MgO and SiO ₂ .
청구항 1에 있어서, 상기 제1 보호막 소재와 나노 섬유의 굴절률 차이가 0.1 이하인, 유연 기판.The flexible substrate according to claim 1, wherein a difference in refractive index between the first protective film material and the nanofibers is 0.1 or less.
청구항 2에 있어서, 상기 나노 섬유는 지름이 2 내지 5nm이고, 길이가 200 내지 500nm인, 유연 기판.The flexible substrate of claim 2, wherein the nanofibers have a diameter of 2 to 5 nm and a length of 200 to 500 nm.
청구항 1에 있어서, 상기 나노 섬유는 굴절률이 1.46 내지 1.56인, 유연 기판.The flexible substrate of claim 1, wherein the nanofibers have a refractive index of 1.46 to 1.56.
청구항 2에 있어서, 상기 나노 섬유는 제1 보호막에 5 내지 25중량%로 포함되는, 유연 기판.The flexible substrate of claim 2, wherein the nanofibers are included in an amount of 5 to 25 wt% in the first passivation layer.
청구항 1에 있어서, 상기 나노 섬유는 셀룰로오스 나노 파이버(Cellulose Nano Fiber)인, 유연 기판.The flexible substrate of claim 1, wherein the nanofibers are Cellulose Nano Fibers.
청구항 7에 있어서, 상기 나노 섬유는 지름이 1 내지 50nm이고, 길이가 500 내지 2,000nm인, 유연 기판.The flexible substrate of claim 7, wherein the nanofibers have a diameter of 1 to 50 nm and a length of 500 to 2,000 nm.
청구항 7에 있어서, 상기 나노 섬유는 제1 보호막에 1 내지 50중량%로 포함되는, 유연 기판.The flexible substrate of claim 7, wherein the nanofibers are included in an amount of 1 to 50 wt% in the first passivation layer.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 보호막은 아크릴계 공중합체, 다관능 아크릴계 단량체, 광개시제, 경화보조제, 용제 및 나노 섬유를 포함하는 제1 보호막 형성용 조성물로 형성된 것인, 유연 기판.The flexible substrate of claim 1, wherein the first protective film is formed of a composition for forming a first protective film including an acrylic copolymer, a polyfunctional acrylic monomer, a photoinitiator, a curing aid, a solvent, and nanofibers.
청구항 1에 있어서, 상기 전극 패턴이 배치된 제1 보호막 상에 부착되는 유연 기재를 더 포함하는, 유연 기판.The flexible substrate according to claim 1, further comprising a flexible substrate attached on the first protective film on which the electrode pattern is disposed.
청구항 11에 있어서, 상기 제1 보호막과 유연 기재 사이에 제2 보호막을 더 포함하는, 유연 기판.The flexible substrate according to claim 11, further comprising a second protective film between the first protective film and the flexible substrate.
청구항 12에 있어서, 상기 제2 보호막은 제2 보호막 소재 및 상기 제2 보호막 소재에 산재된 나노 섬유를 포함하는, 유연 기판.The flexible substrate of claim 12, wherein the second protective film includes a second protective film material and nanofibers interspersed with the second protective film material.
청구항 13에 있어서, 상기 제2 보호막 소재와 상기 나노 섬유의 굴절률 차이가 0.1 이하인, 유연 기판.The flexible substrate according to claim 13, wherein a difference in refractive index between the second protective film material and the nanofiber is 0.1 or less.