WO2016089013A1 - Wet gas cleaning apparatus using ultrasonic waves - Google Patents

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WO2016089013A1
WO2016089013A1 PCT/KR2015/011464 KR2015011464W WO2016089013A1 WO 2016089013 A1 WO2016089013 A1 WO 2016089013A1 KR 2015011464 W KR2015011464 W KR 2015011464W WO 2016089013 A1 WO2016089013 A1 WO 2016089013A1
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gas
cleaning liquid
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cleaning
ultrasonic
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PCT/KR2015/011464
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김태우
신현수
김정식
정붕익
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(주)테크윈
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    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
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    • B01D47/06—Spray cleaning
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
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    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact

Definitions

  • Patent Document 1 Korea Patent Registration No. 10-1172708
  • a gas pretreatment unit for removing the foreign matter contained in the process gas to be supplied to the gas treatment tower.
  • the non-aqueous gas can be treated more effectively.
  • the removal rate can also be improved. Detailed experimental examples will be described later.

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Abstract

Disclosed is a wet gas cleaning apparatus using ultrasonic waves comprising: a gas processing tower in which a gas inflow pipe, into which a gas to be processed flows therein, is connected to a cleaning solution supply pipe for processing the gas, and in which an atomized cleaning solution and the gas to be processed can be mixed, come into contact, and react with each other; and an ultrasonic wave generation unit generating ultrasonic waves in the gas processing tower so as to atomize the cleaning solution supplied to the inside of the gas processing tower, wherein the ultrasonic waves are generated by setting an ultrasonic frequency region according to a type, a density, a composition, a particle size, and a temperature condition of the cleaning solution.

Description

초음파를 이용한 습식 가스 세정장치Ultrasonic Wet Gas Cleaner
본 발명은 선박 및 육상 플랜트에서 발생되는 가스에 포함된 오염물질을 세정액을 이용하여 습식으로 제거하는 초음파를 이용한 습식 가스 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wet gas cleaning apparatus using ultrasonic waves to wetly remove contaminants contained in gas generated from ships and land plants using a cleaning liquid.
가스에 포함된 오염물질을 제거하기 위한 종래의 습식세정장치는 대한민국 등록특허 제10-1172708호에 기재되어 있다.Conventional wet cleaning apparatus for removing contaminants contained in gas is described in Korean Patent No. 10-1172708.
종래의 습식세정장치는, 제거 대상 가스가 액상의 세정액 표면을 통해 물질전달과 확산이 이루어진다는 전제 하에 성립되기 때문에 일산화탄소 등 비수용성 가스상 오염물질 제거에 불리하다는 단점이 있다.The conventional wet cleaning apparatus has a disadvantage in that it is disadvantageous to remove water-insoluble gaseous contaminants such as carbon monoxide because the gas to be removed is established under the premise that material transfer and diffusion are performed through the surface of the liquid cleaning liquid.
또한, 대한민국 공개특허 제10-2013-00783078호에는 비수용성 가스를 상대적으로 용해도가 높은 화학물질로 산화시키기 위해 2종 이상의 세정액을 분사하여 해결하는 방법이 기재되어 있다.In addition, Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2013-00783078 describes a method of spraying two or more cleaning solutions to oxidize a non-aqueous gas into a relatively high solubility chemical.
그러나, 일반적으로 세정액 미세 분사 또는 충진물에 의한 표면적 증대만으로는 비수용성 가스와 산화제 간의 효과적인 접촉 및 물질전달이 이루어질 수 없어 과다한 세정액의 사용이나 설비 사이즈의 확대가 불가피한 문제점이 있다.However, in general, effective contact and mass transfer between the non-aqueous gas and the oxidant cannot be achieved only by increasing the surface area of the cleaning solution by fine spraying or filling, and thus there is an inevitable problem of excessive use of the cleaning solution or expansion of the size of the equipment.
이를 위해서, 초음파를 이용하여 약액을 미립화함으로써 특정 가스상 물질을 제거하고자 하는 종래 기술이 대한민국 등록특허 제10-1290660호에 기재되어 있다. 종래의 기술에 의하면, 중화제인 NaOH를 초음파 진동자로 미립화시켜 황화수소 가스와 반응시킴으로써 고체상 염을 생성시켜 회수하는 것을 목적으로 하고 있으나, 초음파 주파수에 대한 고려가 배제되어 있어서 중화제 미립화가 최적화되기 어려워 불필요한 전력소모나 효율저하가 불가피하다는 문제점이 있다.To this end, conventional techniques for removing specific gaseous substances by atomizing the chemical liquid using ultrasonic waves are described in Korean Patent Registration No. 10-1290660. According to the prior art, an object of the present invention is to produce and recover a solid salt by atomizing NaOH, which is a neutralizing agent, by an ultrasonic vibrator and reacting with hydrogen sulfide gas. However, there is a problem that the efficiency decrease is inevitable.
[선행기술문헌][Preceding technical literature]
(특허문헌 1) 대한한국 등록특허 제10-1172708호(Patent Document 1) Korea Patent Registration No. 10-1172708
(특허문헌 2) 대한민국 공개특허 제10-2013-00783078호(Patent Document 2) Republic of Korea Patent Publication No. 10-2013-00783078
(특허문헌 3) 대한민국 등록특허 제10-1290660호(Patent Document 3) Republic of Korea Patent No. 10-1290660
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 기-액 접촉 및 물질전달 효율을 극대화하여 수용성 및 비수용성 가스상 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있는 초음파를 이용한 습식 가스 세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, to provide a wet gas cleaning device using ultrasonic waves that can effectively remove the water-soluble and water-insoluble gaseous contaminants by maximizing the gas-liquid contact and mass transfer efficiency. There is a purpose.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 습식 가스 세정장치는, 처리할 대상 가스가 유입되는 가스 유입관과, 가스를 처리할 세정액 공급관이 연결되고, 미립화된 세정액과 처리 대상가스가 혼합, 접촉, 반응할 수 있는 가스 처리탑과; 상기 가스 처리탑에서 초음파를 발생시켜 상기 가스 처리탑 내로 공급된 세정액을 미립화하되, 상기 세정액의 종류, 농도, 조성, 입자 사이즈 및 온도조건에 따라 초음파 주파수 영역을 설정하여 발생하는 초음파 발생부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the wet gas scrubber of the present invention for achieving the above object, a gas inlet pipe into which a gas to be treated is introduced and a cleaning liquid supply pipe to process the gas are connected, and the atomized cleaning liquid and the gas to be treated are mixed, contacted, and reacted. A gas treatment tower capable of; Ultrasonic generator for generating an ultrasonic wave in the gas treatment tower to atomize the cleaning liquid supplied into the gas treatment tower, and to set the ultrasonic frequency region according to the type, concentration, composition, particle size and temperature conditions of the cleaning liquid; It is characterized by including.
여기서, 상기 가스 처리탑에서 처리된 가스가 배출되는 처리가스 배출라인에 설치되어, 처리가스에 포함된 액체와 가스를 분리하는 기액분리부; 및 상기 기액분리부의 응축 폐수 배출라인에 연결되어 폐수를 처리하는 폐수 처리 및 재생부;를 더 포함하는 것이 바람직하다.Here, the gas-liquid separator installed in the processing gas discharge line for discharging the gas treated in the gas processing tower, separating the liquid and gas contained in the processing gas; And a wastewater treatment and regeneration unit connected to the condensate wastewater discharge line of the gas-liquid separator to treat the wastewater.
또한, 상기 폐수 처리 및 재생부에서 재생된 세정액을 상기 가스 처리탑으로 재공급하는 세정액 회수라인을 더 포함하는 것이 좋다.The cleaning solution recovery line may further include a cleaning solution recovery line for resupplying the cleaning solution regenerated by the wastewater treatment and regeneration unit to the gas treatment tower.
또한, 상기 가스 처리탑으로 공급될 처리가스에 포함된 이물질을 제거하기 위한 가스 전처리유닛을 더 포함하는 것이 좋다.In addition, it is preferable to further include a gas pretreatment unit for removing the foreign matter contained in the process gas to be supplied to the gas treatment tower.
또한, 상기 가스 전처리유닛에서 처리되고 남은 세정폐수를 폐수 처리 및 재생부로 공급하기 위한 1차 세정 폐수 공급라인을 더 포함하는 것이 좋다.In addition, it is preferable to further include a primary washing wastewater supply line for supplying the remaining wastewater treated in the gas pretreatment unit to the wastewater treatment and regeneration unit.
또한, 상기 초음파 발생부에서 발생되는 주파수 범위는 16kHz 이상의 초음파인 것이 좋다.In addition, the frequency range generated by the ultrasonic generator is preferably 16kHz or more ultrasonic waves.
또한, 상기 가스 처리탑은 복수가 서로 연결되게 배치되어, 상류에 설치된 가스 처리탑에서 처리된 처리가스를 하류에 설치되는 가스 처리탑에서 재차 처리하고, 재처리된 처리가스는 상기 기액분리부로 이송되며, 상기 복수의 가스 처리탑 각각에는 상기 세정액 공급라인이 연결되고, 상기 초음파 발생기는 상기 복수의 가스 처리탑 중 적어도 어느 하나에 설치되며, 상기 복수의 가스 처리탑 각각에 목적에 대응되는 세정액이 상기 세정액 공급관을 통해 선택적으로 공급 가능한 것이 좋다.In addition, the gas treatment tower is arranged so that the plurality is connected to each other, the treatment gas treated in the gas treatment tower installed upstream is processed again in the gas treatment tower installed downstream, the reprocessed treatment gas is transferred to the gas-liquid separator. The cleaning solution supply line is connected to each of the plurality of gas treatment towers, the ultrasonic generator is installed in at least one of the plurality of gas treatment towers, and the cleaning solution corresponding to the purpose is provided in each of the plurality of gas treatment towers. It can be selectively supplied through the cleaning liquid supply pipe.
또한, 상기 가스 처리탑 내부에는 세정액을 분사하는 분사노즐이 설치되는 것이 좋다.In addition, it is preferable that an injection nozzle for spraying a cleaning liquid is installed inside the gas treatment tower.
또한, 상기 가스 처리탑 내부에는 초음파에 의해 미립화된 세정액을 분사하는 분사노즐이 설치되는 것이 좋다.In addition, it is preferable that an injection nozzle for spraying the cleaning liquid atomized by ultrasonic waves is installed inside the gas treatment tower.
또한, 상기 가스 처리탑 내부에는 세정액에 흡수된 처리 대상 가스를 환원시켜 제거할 수 있는 촉매로 구성된 충진물이 설치되는 것이 좋다.In addition, the gas treatment tower is preferably provided with a filler consisting of a catalyst that can be removed by reducing the gas to be treated in the cleaning liquid.
본 발명의 습식 가스 세정장치에 따르면, 세정액의 종류 및 특성에 따라서 미리 확보된 데이터 상의 주파대역으로 초음파를 발생하여 세정액의 미립화함으로써 처리 대상 가스와 효과적으로 접촉 및 반응시켜서 유해가스를 효율적으로 제거할 수 있게 된다.According to the wet gas scrubbing apparatus of the present invention, ultrasonic waves are generated in the frequency band on the data secured in advance according to the type and characteristic of the scrubbing liquid to atomize the scrubbing liquid, thereby effectively contacting and reacting with the gas to be treated to efficiently remove harmful gases. Will be.
따라서, 세정액의 사용량을 줄일 수 있고, 적은 양의 세정액으로도 유해가스 제거율을 높일 수 있게 되어, 비용을 줄일 수 있음은 물론, 설비를 콤팩트화하여 설비 공간을 줄이고 설비 비용을 절약할 수 있는 이점이 있다.Therefore, the amount of cleaning solution used can be reduced, and the removal rate of harmful gases can be increased even with a small amount of cleaning solution, which can reduce costs, and can also reduce the installation space and reduce the installation cost by making the installation compact. There is this.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 습식 가스 세정장치를 나타내 보인 개략적인 도면이다.1 is a schematic view showing a wet gas scrubber according to a first embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 제2실시예에 따른 습식 가스 세정장치를 나타내 보인 개략적인 도면이다.Figure 2 is a schematic diagram showing a wet gas scrubber according to a second embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 제3실시예에 따른 습식 가스 세정장치를 나타내 보인 개략적인 도면이다.3 is a schematic view showing a wet gas cleaning apparatus according to a third embodiment of the present invention.
도 4a는 비교실험을 위한 일반적인 구성을 나타내 보인 도면이다.Figure 4a is a diagram showing a general configuration for a comparative experiment.
도 4b는 본 발명의 제4실시예에 따른 습식 가스 세정장치를 나타내 보인 개략적인 도면이다.Figure 4b is a schematic diagram showing a wet gas cleaning device according to a fourth embodiment of the present invention.
도 4c는 본 발명의 제5실시예에 따른 습식 가스 세정장치를 나타내 보인 개략적인 도면이다.Figure 4c is a schematic diagram showing a wet gas cleaning device according to a fifth embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 제6실시예에 따른 습식 가스 세정장치를 나타내 보인 개략적인 도면이다.5 is a schematic view showing a wet gas scrubber according to a sixth embodiment of the present invention.
도 6은 수학식1을 토대로 하여 초음파 주파수와 액적 사이즈 간 상관관계에 대한 데이터를 실험을 통해 얻어서 나타내 보인 도면이다.FIG. 6 is a diagram illustrating data obtained from correlations between ultrasonic frequencies and droplet sizes based on Equation 1 through experiments.
도 7은 본 발명의 제7실시예에 따른 습식 가스 세정장치를 나타내 보인 개략적인 도면이다.7 is a schematic view showing a wet gas cleaning apparatus according to a seventh embodiment of the present invention.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 초음파를 이용한 습식 가스 세정장치를 자세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a wet gas cleaning apparatus using ultrasonic waves according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 습식 가스 세정장치(100)를 나타내 보인 개략적인 도면이다. 가스 세정장치(100)는 가스 처리탑(10)과, 초음파 발생기(20), 기액 분리부(30) 및 폐수 처리 및 재생부(40)를 구비한다.1 is a schematic diagram showing a wet gas scrubber 100 according to a first embodiment of the present invention. The gas scrubber 100 includes a gas treatment tower 10, an ultrasonic generator 20, a gas-liquid separator 30, and a wastewater treatment and regeneration unit 40.
가스 처리탑(10)은 일예로서, 흡수탑을 포함할 수 있으며, 세정액 공급관(51)과 처리할 대상 가스가 유입되는 가스 유입관(53)이 연결된다.For example, the gas treatment tower 10 may include an absorption tower, and a cleaning liquid supply pipe 51 and a gas inflow pipe 53 through which a gas to be treated is introduced are connected.
그리고 가스 처리탑(10)의 상단에는 처리 가스가 배출되는 처리가스 배출라인(12)이 연결되어, 가스 처리탑(10)에서 처리된 가스가 배출되어 기액분리부(30)로 이송되도록 한다.In addition, a processing gas discharge line 12 through which the processing gas is discharged is connected to an upper end of the gas processing tower 10 so that the gas treated in the gas processing tower 10 is discharged and transferred to the gas-liquid separator 30.
가스 처리탑(10) 내에서는 처리할 대상가스와 세정액이 혼합, 접촉 및 반응하여 대상 가스에 포함된 오염물질을 산화시키거나 중화시켜서 제거할 수 있다. In the gas treatment tower 10, the target gas to be treated and the cleaning liquid may be mixed, contacted, and reacted to oxidize or neutralize contaminants contained in the target gas.
상기 세정액 공급관(51)을 통해 공급되는 세정액은 처리할 대상가스의 종류에 따라서 서로 대응되는 산화제 등으로 선택적으로 공급될 수 있다.The cleaning liquid supplied through the cleaning liquid supply pipe 51 may be selectively supplied to oxidants corresponding to each other according to the type of the target gas to be treated.
상기 초음파 발생부(20)는 가스 처리탑(10) 내에서 특정 범위의 주파수를 가진 음파 즉, 초음파를 발생함으로서 세정액을 공동현상(cavitation)에 의해 액체가 미립화되도록 하며, 이때 미립화된 액적의 사이즈는 수 마이크로미터에서 수백 마이크로미터까지 이른다. 이때 바람직하게는 초음파 발생부(20)에서 발생되는 초음파는 가청주파수인 16kHz 이상의 주파수인 것이 바람직하며, 보다 구체적으로는 세정액의 물리적 성질을 측정하여 데이터베이스화한 정보와 아래의 수학식1을 토대로 하여 초음파 주파수와 액적 사이즈 간의 상관관계에 따라 최상의 효과를 얻을 수 있는 주파수로 초음파를 발생한다. 즉, 가스상 오염물질이 초음파 진동에 의해 미립화된 세정액과 접촉/반응함으로써 미세 입자의 세정액 상에 고정되어 제거되게 되는데, 가스의 제거효율은 세정액의 입자 사이즈와 밀접한 관계가 있다. 즉, 입자 사이즈가 작을수록 가스상 오염물과 접촉할 수 있는 표면적이 증대되고, 가스의 유동과 어우러져 쉽게 혼합 및 부유할 수 있기 때문에 오염물의 제거 효율을 증대시킬 수 있다.The ultrasonic wave generator 20 generates a sound wave having a specific range of frequencies, that is, an ultrasonic wave in the gas treatment tower 10, so that the liquid is atomized by cavitation, and the size of the atomized droplets Ranges from a few micrometers to hundreds of micrometers. In this case, preferably, the ultrasonic wave generated by the ultrasonic wave generation unit 20 is a frequency of 16 kHz or more, which is an audible frequency, and more specifically, based on database information by measuring physical properties of the cleaning solution and Equation 1 below. According to the correlation between the ultrasonic frequency and the droplet size, ultrasonic waves are generated at a frequency that can obtain the best effect. That is, the gaseous contaminants are fixed and removed on the cleaning liquid of the fine particles by contacting / reacting with the cleaning liquid atomized by ultrasonic vibration, and the gas removal efficiency is closely related to the particle size of the cleaning liquid. That is, the smaller the particle size is, the more the surface area which can come into contact with gaseous contaminants is increased, and the efficiency of removing contaminants can be increased because it can be easily mixed and suspended in combination with the flow of gas.
세정액의 입자 사이즈는 초음파 주파수에 의해 제어될 수 있으며, 아래 수학식 1에 따라 주파수가 커질수록 입자 사이즈가 작아지는 것을 알 수 있다.The particle size of the cleaning liquid can be controlled by the ultrasonic frequency, it can be seen that the particle size is smaller as the frequency increases according to Equation 1 below.
Figure PCTKR2015011464-appb-M000001
Figure PCTKR2015011464-appb-M000001
여기서, d = droplet diameter(m)Where d = droplet diameter (m)
T = surface tension of liquid(N/m)T = surface tension of liquid (N / m)
ρ = density of lipuid(kg/m3)ρ = density of lipuid (kg / m 3 )
f = frequency (Hz)f = frequency (Hz)
그러나 주파수는 변환기(transducer) 용량, 진동자 설계, 전력 소비량 등의 부분과 연계되므로 주파수를 무조건 높일 수는 없으므로, 경제적인 측면과 액적 사이즈를 고려하여 최적의 주파수 범위를 유지하도록 제어할 필요가 있다. 이를 위해, 세정액의 비중/표면저항 등을 고려한 주파수 발생 제어가 필요하게 되며, 그러한 데이터는 실험을 통해 얻을 수 있고, 얻어진 실험데이터를 근거로 하여 초음파 발생부(20)의 구동을 제어할 수 있게 된다.However, because frequency is related to transducer capacity, vibrator design, and power consumption, the frequency cannot be increased unconditionally. Therefore, it is necessary to control to maintain the optimal frequency range in consideration of economical aspects and droplet size. To this end, it is necessary to control the frequency generation in consideration of the specific gravity / surface resistance of the cleaning liquid, such data can be obtained through the experiment, and to control the driving of the ultrasonic generator 20 based on the obtained experimental data. do.
도 6은, 상기 수학식1을 토대로 하여 초음파 주파수와 액적 사이즈 간 상관관계에 대한 데이터를 실험을 통해 얻어서 나타내 보인 도면이다. 이와 같이, 사용되는 세정액의 농도 및 성상 변화에 따라 인가되는 초음파 주파수의 영역을 달리 함으로써, 가스상 오염물 제거에 가장 적합한 액적 사이즈를 유지하도록 초음파의 주파수를 발생시켜 가스상 오염물질의 제거효율을 높일 수 있다. FIG. 6 is a diagram showing data obtained from correlations between ultrasonic frequencies and droplet sizes based on Equation 1 through experiments. In this way, by varying the region of the ultrasonic frequency applied according to the concentration and property change of the cleaning liquid used, it is possible to increase the removal efficiency of the gaseous contaminants by generating the frequency of the ultrasonic wave to maintain the droplet size most suitable for removing the gaseous contaminants. .
상기와 같이, 초음파 발생부(20)는 세정액 별 물리적 성질을 이용한 최적의 주파수를 미리 데이터베이스화된 정보를 근거로 하여 발생시키게 되며, 가스 처리탑(10) 내에서는 대상 가스와 미립화된 세정액이 혼합 및 반응하여 오염물질이 제거된다.As described above, the ultrasonic wave generation unit 20 generates an optimal frequency using the physical properties of the cleaning liquid based on the database information in advance, and the target gas and the atomized cleaning liquid are mixed in the gas treatment tower 10. And contaminants are removed by reaction.
그리고 처리된 가스는 처리가스 배출라인(12)을 통해 기액 분리부(30)로 이송된다.The treated gas is then transferred to the gas-liquid separator 30 through the process gas discharge line 12.
기액 분리부(30)는 전달된 처리가스를 처리하여, 가스와 액체를 분리한다. 이를 위해 기액 분리부(30)는 특정한 장치에 한정되지 않고 일반적인 기액분리 수단이라면 어떠한 것이라도 적용이 가능하다. 기액 분리부(30)에서 분리된 가스(기체)는 최종 처리가스 배출라인(31)을 통해 배출되고, 응축되어 회수된 폐수는 폐수 배출라인(33)을 통해 폐수 처리 및 재생부(40)로 이송된다.The gas-liquid separator 30 processes the transferred process gas to separate the gas and the liquid. For this purpose, the gas-liquid separator 30 is not limited to a specific device, and any gas-liquid separation means may be applied. The gas (gas) separated from the gas-liquid separator 30 is discharged through the final treatment gas discharge line 31, and the wastewater recovered by condensation is discharged to the wastewater treatment and regeneration unit 40 through the wastewater discharge line 33. Transferred.
폐수 처리 및 재생부(40)는 기액 분리부(30)에서 응축되어 이송된 폐수를 필요한 후처리를 거쳐 폐수 방출라인(41)을 통해 최종 배출하거나, 또는 별도의 폐수시설로 보낼 수도 있다.The wastewater treatment and regeneration unit 40 may finally discharge the wastewater condensed and transferred from the gas-liquid separator 30 through the wastewater discharge line 41 through necessary post-treatment, or may be sent to a separate wastewater facility.
또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 가스 세정장치(100')의 경우에는, 폐수 처리 및 재생부(40)에서 처리된 후 재생된 세정액을 가스 처리탑(10)으로 재공급하는 세정액 회수라인(43)이 더 구비되는데 특징이 있다.In addition, as shown in FIG. 2, in the case of the gas scrubber 100 ′ according to the second embodiment of the present invention, the scrubbing liquid that has been recycled after being treated by the wastewater treatment and regeneration unit 40 is treated with a gas treatment tower ( It is characterized in that the cleaning solution recovery line 43 for supplying again to 10).
이와 같이, 세정액 회수라인(43)을 설치하여 폐수 처리 및 재생부(40)에서 재생된 세정액을 회수하여 가스 처리탑(10)으로 공급함으로써, 세정액의 사용비용을 줄일 수 있다.In this way, the cleaning solution recovery line 43 is installed to recover the cleaning solution regenerated by the wastewater treatment and regeneration unit 40 and supply it to the gas treatment tower 10, thereby reducing the use cost of the cleaning solution.
또한, 도 3을 참조하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 가스 세정장치(100")는, 가스 처리탑(10)으로 공급될 처리 대상 가스에 포함된 이물질 등을 미리 제거하기 위한 전처리유닛(60)을 더 구비하는데 그 특징이 있다.In addition, referring to FIG. 3, the gas cleaning device 100 ″ according to the third exemplary embodiment of the present invention may include a pretreatment unit for removing in advance foreign substances contained in the gas to be processed to be supplied to the gas treatment tower 10. It further has a feature of 60.
전처리유닛(60)은 가스상 오염물질의 배출원에 따라서 가스 내의 입자상 오염물, 분진 등이 포함될 수 있으므로, 이러한 입자상 오염물이 가서 처리탑(10)으로 직접 유입되기 전에 제거하기 위한 것으로서, 가스 공급관(53)과 세정액1 공급(52)이 연결되는 가스 전처리부(61)와, 가스 전처리부(61)에서 사용된 폐 세정액을 폐수 처리 및 재생부(40)로 이송하는 1차 세정 폐수 공급라인(63) 및 전 처리된 가스를 가스 처리탑(10)으로 이송하는 전처리 가스 공급관(65)을 구비한다.Since the pretreatment unit 60 may include particulate contaminants, dust, and the like in the gas depending on the discharge source of the gaseous contaminants, the pretreatment unit 60 is to remove the particulate contaminants before they go directly into the treatment tower 10. And a gas pretreatment unit 61 to which the cleaning solution 1 supply 52 is connected, and a primary cleaning wastewater supply line 63 for transferring the waste cleaning liquid used in the gas pretreatment unit 61 to the wastewater treatment and regeneration unit 40. And a pretreatment gas supply pipe 65 for transferring the pretreated gas to the gas treatment tower 10.
상기 전처리부(61)는 가스상의 입자상 오염물을 제거하기 위한 것으로서, 사이클론, 벤츄리, 스크러버, 필터 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. The pretreatment unit 61 is for removing gaseous particulate contaminants, and may include at least one of a cyclone, a venturi, a scrubber, and a filter.
또한, 도 4b에 도시된 바와 같이, 복수의 가스 처리탑(10,70)을 직렬로 연결하여 처리 대상 가스를 1차 및 2차에 걸쳐 처리할 수도 있다.In addition, as illustrated in FIG. 4B, the plurality of gas treatment towers 10 and 70 may be connected in series to treat the gas to be treated in the first and second stages.
즉, 1차 가스 처리탑(10)은 흡수탑으로서, 그 내부에는 초음파 발생부(20)가 설치된 구성으로서, 유입된 세정액1을 초음파 발생기(20)의 초음파로 미립화하여 처리 대상가스를 1차로 처리하여 유해물질을 제거한다. 그리고 1차 가스 처리탑(10) 즉, 흡수탑에서 1차 처리된 가스를 처리 가스 배출라인(12)을 통해 2차 처리탑(70) 즉, 충진탑으로 이송된다.That is, the primary gas treatment tower 10 is an absorption tower, and the ultrasonic generator 20 is installed therein, and the cleaning solution 1 is atomized by ultrasonic waves of the ultrasonic generator 20 to firstly process the gas to be treated. Treatment to remove harmful substances. In addition, the primary gas treatment tower 10, that is, the gas treated first in the absorption tower is transferred to the secondary treatment tower 70, that is, the filling tower, through the treatment gas discharge line 12.
2차 가스 처리탑(70)인 충진탑 내에는 세정액2를 분사하기 위한 노즐(71)이 설치되어 처리 대상 가스의 오염물질을 제거할 수 있게 된다. 2차 처리탑(70)에서 최종 처리된 가스를 외부로 배출되고, 세정 폐수도 배출되어 처리된다.In the filling tower, which is the secondary gas treatment tower 70, a nozzle 71 for spraying the cleaning liquid 2 is installed to remove contaminants of the gas to be treated. The gas finally treated in the secondary treatment tower 70 is discharged to the outside, and the washing waste water is also discharged and treated.
여기서, 1차 가스 처리탑(10)에 공급되는 세정액1은 초음파에 의해 미립화되어 가스를 처리하는 산화제일 수 있고, 2차 가스 처리탑(70)에 공급되어 분사되는 세정액2는 흡수제일 수 있다.Here, the cleaning liquid 1 supplied to the primary gas treatment tower 10 may be an oxidizing agent that is atomized by ultrasonic waves to process gas, and the cleaning liquid 2 supplied to the secondary gas processing tower 70 and injected may be an absorbent agent. .
또한, 이에 한정하지 않고, 1차, 2차 중 적어도 어느 하나 이상에 초음파에 의해 미립화된 세정액을 사용하는 가스 처리탑이 적용될 수 있다. 즉, 일예로서, 도 4c에 도시된 바와 같이, 2차 가스 처리탑(70)으로 공급되는 세정액을 발생기(20)를 이용하여 미리 초음파에 의해 미립화한 상태에서 2차 가스 처리탑(70) 내에서 분사노즐(71)을 통해 분사하도록 구성될 수 있다. 물론, 1차 가스 처리탑(10)으로도 초음파에 의해 미립화된 세정액을 분사하도록 구성될 수도 있다.In addition, the present invention is not limited thereto, and a gas treatment tower using a cleaning liquid atomized by ultrasonic waves may be applied to at least one of the primary and the secondary. That is, as an example, as shown in FIG. 4C, the cleaning liquid supplied to the secondary gas treatment tower 70 is atomized in advance by ultrasonic waves using the generator 20 in the secondary gas treatment tower 70. It may be configured to spray through the injection nozzle 71 in the. Of course, the primary gas treatment tower 10 may also be configured to spray the cleaning liquid atomized by the ultrasonic wave.
이와 같이, 1차 및 2차 가스 처리탑(10,70)을 직렬로 설치하여 대상 가스를 1차 및 2차에 걸쳐 산화제 및 흡수제로 처리함으로써, 비수용성 가스를 보다 효과적으로 처리할 수 있게 되며, 그 제거율도 향상시킬 수 있다. 자세한 실험예는 후에 설명하기로 한다.As such, by installing the first and second gas treatment towers 10 and 70 in series and treating the target gas with the oxidizing agent and the absorbent over the first and second stages, the non-aqueous gas can be treated more effectively. The removal rate can also be improved. Detailed experimental examples will be described later.
또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 동일한 구조의 가스 처리탑(10,10')을 직렬로 연결하여 기액 접촉방식에 의해 처리 대상 가스를 1차 및 2차로 처리하도록 할 수도 있다. 이때, 직렬로 연결된 가스 처리탑(10,10')은 흡수탑으로서, 각각으로 세정액1 및 세정액2가 독립적으로 공급될 수 있다. 따라서 각 가스 처리탑(10,10')에 설치된 초음파 발생부(20)에 의해 세정액1 및 세정액2를 각각 미립화하여 유입된 처리대상가스와 접촉 및 반응하도록 하여 유해물질을 효과적으로 제거할 수 있게 된다.In addition, as shown in FIG. 5, the gas treatment towers 10 and 10 ′ having the same structure may be connected in series to treat the gas to be treated first and second by the gas-liquid contact method. At this time, the gas treatment towers 10 and 10 'connected in series are absorption towers, and the cleaning liquid 1 and the cleaning liquid 2 may be independently supplied to each other. Therefore, the ultrasonic generator 20 installed in each of the gas treatment towers 10 and 10 ′ atomizes the cleaning solution 1 and the cleaning solution 2 so as to contact and react with the introduced processing target gas, thereby effectively removing the harmful substances. .
또한, 도 7에 도시된 바와 같이, 세정액에 흡수된 처리 대상 가스 성분을 환원시켜 제거할 수 있는 촉매로 구성된 충진물(73)이 설치된 가스 처리탑(70')을 적용한 가스 세정장치를 구성할 수도 있다. 일 예로서, 일산화질소와 이산화질소로 대표되는 질소산화물을 습식 흡수 방법으로 세정할 경우, 질소산화물은 세정액 내에서 Nitrate(NO3 -)와 Nitrite(NO2 -)로 존재하게 된다. 이러한 질산염 성분은 수환경에서도 오염물로 작용하기 때문에 별도의 제거 공정이 요구되며, 흡수탑 내에 환원 촉매로 구성된 충진물(73)을 설치함으로써 질소산화물이 세정액에 흡수됨과 동시에 Nitrate와 Nitrite를 질소 가스(N2)로 환원시켜 효과적인 습식 흡수 및 탈질 공정을 기대할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 7, a gas cleaning device to which a gas treatment tower 70 ′ provided with a packing 73 composed of a catalyst capable of reducing and removing the gas component absorbed in the cleaning liquid is removed. have. As an example, when the nitrogen oxides represented by nitrogen monoxide and nitrogen dioxide are cleaned by a wet absorption method, the nitrogen oxides are present as Nitrate (NO 3 − ) and Nitrite (NO 2 − ) in the cleaning solution. Since the nitrate component acts as a contaminant even in the water environment, a separate removal process is required, and by installing a packing 73 composed of a reduction catalyst in the absorption tower, the nitrogen oxide is absorbed into the cleaning solution and nitrogen and Nitrite Reduction) can be expected an effective wet absorption and denitrification process.
이하에서 초음파 발생부를 사용하지 않은 경우와, 초음파를 사용하여 처리대상 가스를 처리한 실험예를 설명하기로 한다.Hereinafter, a case in which the ultrasonic generator is not used and an experimental example in which the gas to be treated by using ultrasonic waves will be described.
먼저, 대표적인 가스상 오염물질이면서 비수용성인 일산화질소를 해수의 무격막식 전기분해로 제조한 차아염소산 나트륨(OCl-/HOCl) 용액을 세정제로 적용하여 제거한 경우에 대한 실험데이터와 설비 구성에 대해 설명하기로 한다.First, a typical, yet gaseous pollutants adult nitrous oxide, non-aqueous a sodium hypochlorite (OCl - / HOCl) made of a non-diaphragm type electrolysis of sea water to describe the experimental data and the equipment configuration for the case and the solution removed by application as a cleansing agent Shall be.
먼저, 도 4a는 노즐(71)에 의해 산화제와 흡수제를 각각 분사하여 가스를 처리하는 2개의 충진탑을 직렬 연결하여 가스를 처리하기 위한 비교실험구성이고, 도 4b는 초음파에 의해 미립화된 산화제와 처리 대상가스가 1차 반응 한 후(흡수탑에서), 혼합된 유체가 흡수제를 분사하는 충진탑(70)으로 주입되어 2차로 처리되는 공정을 위한 실험구성을 나타낸다.First, FIG. 4A is a comparative experimental configuration for treating gas by connecting two packed towers for treating gas by injecting an oxidant and an absorbent by the nozzle 71 in series, and FIG. 4B is an oxidant atomized by ultrasonic waves and After the first reaction of the gas to be treated (in the absorption tower), the mixed fluid is injected into the filling tower 70 for injecting the absorbent shows an experimental configuration for the second process.
이때 사용된 산화제와 흡수제의 농도, 흡수제의 분사유량, 일산화탄소의 농도 및 유량, 접촉시간 등은 모두 동일한 조건에서 진행하였다.At this time, the concentration of the oxidizing agent and the absorbent used, the injection flow rate of the absorbent, the concentration and flow rate of the carbon monoxide, and the contact time were all performed under the same conditions.
여기서, 실험에 사용된 산화제로는 비수용성인 일산화질소를 상대적으로 높은 용해도를 지닌 이산화질소로 산화시키기 위한 산화제로 차아염소산 나트륨(OCl-/HOCl) 용액을 사용하였고, 이때 생성된 이산화질소의 흡수를 위해 강알칼리 계열의 흡수제를 사용하였다.Here, with an oxidizing agent used in this experiment is sodium hypochlorite (OCl - / HOCl) with an oxidizing agent for the oxidation of the water-insoluble nitrogen monoxide to nitrogen dioxide having a relatively high solubility was used as a solution, wherein the alkali for the absorption of the resulting nitrogen dioxide A series of absorbers were used.
아래 표 1은 도 4a의 구성에 의한 비교예(충진탑+충진탑)와, 도 4b의 구성에 의한 실험예(초음파이용한 흡수탑+충진탑)의 결과를 나타내 보인 것이다.Table 1 below shows the results of Comparative Example (filling tower + filling tower) according to the configuration of Figure 4a, and Experimental Example (absorption tower + filling tower for ultrasonic piezo) according to the configuration of Figure 4b.
구분division 산화제소비량(L)/가스주입량(m3)Oxidizer consumption (L) / Gas injection (m 3 ) 일산화질소 제거율(%)Nitrogen monoxide removal rate (%) T-N(mg/L)T-N (mg / L)
비교예(충진탑+충진탑)Comparative Example (filling tower + filling tower) 30.030.0 1515 1.221.22
실험예1(초음파+충진탑)Experimental Example 1 (Ultrasonic + Filling Tower) 0.20.2 5555 640.30640.30
실험예2(초음파+충진탑)Experimental Example 2 (Ultrasonic + Filling Tower) 0.50.5 9595 433.25433.25
표 1에서 알 수 있듯이, 현저히 적은 양의 산화제를 이용해서 3배 이상의 높은 제거율을 확인할 수 있었다. 이는 세정액의 입자 사이즈가 수 마이크론 수준으로 작게 쪼개지면서 비수용성 일산화질소(NO) 가스와의 접촉 면적이 많이 증가하게 되고, 일산화질소(NO) 분자가 세정액 표면 저항을 이기고 침투, 확산하는 속도가 크게 향상된 결과라고 판단할 수 있다. 결과적으로 세정액의 사용량이 크게 절감되면서 설비 운영비가 감소하는 효과를 얻을 수 있다.As can be seen from Table 1, by using a significantly small amount of oxidizing agent it was confirmed that three times higher removal rate. This is because the particle size of the cleaning liquid is broken down to a few microns level, and the contact area with the non-aqueous nitrogen monoxide (NO) gas increases a lot, and the rate at which the nitrogen monoxide (NO) molecules overcome the surface resistance of the cleaning solution, penetrate and diffuse significantly. This may be an improved result. As a result, the amount of cleaning liquid used is significantly reduced, and the operation cost of the equipment can be reduced.
또한, 기체와 액체 간 접촉 시간을 줄일 수 있기 때문에 흡수탑을 콤팩트하게 설계할 수 있는 이점을 기대할 수 있다.In addition, since the contact time between the gas and the liquid can be reduced, it is expected that the absorption tower can be compactly designed.
또한, 아래 표 2는 강력한 산화제로 알려진 과황산나트륨 용액을 이용하여 일산화질소 가스의 습식 제거실험을 진행한 결과를 나타내 보인 것이다. 과황산나트륨 용액을 초음파를 이용하여 미립화하여 일산화질소 가스와 접촉시킬 경우 별도의 흡수제 없이도 일산화질소가 산화 및 흡수되어 최종 배출수 중에 고정되어 있는 것을 확인할 수 있었다. 이는 도 1과 같은 구성에서 실험한 것이다.In addition, Table 2 below shows the results of the wet removal of the nitrogen monoxide gas using a sodium persulfate solution known as a powerful oxidizing agent. When the sodium persulfate solution was atomized using ultrasonic waves and contacted with nitrogen monoxide gas, nitrogen monoxide was oxidized and absorbed without a separate absorbent and fixed in the final effluent. This is an experiment in the configuration as shown in FIG.
산화제소비량(L)/가스주입량(m3)Oxidizer consumption (L) / Gas injection (m 3 ) 일산화질소 제거율(%)Nitrogen monoxide removal rate (%) T-N(mg/L)T-N (mg / L)
실험예1(초음파 흡수탑)Experimental Example 1 (Ultrasonic Absorption Tower) 0.20.2 4040 469.50469.50
실험예2(초음파 흡수탑)Experimental Example 2 (Ultrasonic Absorption Tower) 0.50.5 8484 401.78401.78
표 1과 2를 통해 알 수 있듯이, 실험 결과 산화제 소비량에 비례하여 일산화질소 제거율이 증가하였고, 흡수반응을 거친 미립 세정액을 응축하여 총 질소농도를 분석한 결과 산화제소비량과 일산화질소 제거율은 상관관계의 영향으로 변화하는 것을 확인할 수 있었다.As can be seen from Tables 1 and 2, the experimental results showed that the nitrogen monoxide removal rate was increased in proportion to the oxidant consumption, and the total nitrogen concentration was analyzed by condensing the particulate cleaning solution after the absorption reaction. It could be confirmed that the effect is changed.
또한, 아래 표 3은 대표적인 악취성 가스오염물질로 알려진 암모니아 제거를 위해 염소계 산화제와 초음파 발생부(진동자)를 이용한 실험결과를 나타내 보인 것이다. 즉, 본 실험에서는 염소계 산화제를 노즐 분사하거나 버블링시키는 대신, 도 1의 구성과 같이 초음파를 발생하여 염소계 산화제를 미립화하였으며, 유입 전후단에서의 암모니아 가스의 농도를 통해 제거되는 정도를 측정하였다.In addition, Table 3 below shows the results of experiments using a chlorine-based oxidant and an ultrasonic generator (vibrator) to remove ammonia known as a representative malodorous gas pollutant. That is, in the present experiment, instead of spraying or bubbling the chlorine oxidant, the ultrasonic wave was generated as shown in FIG. 1 to atomize the chlorine oxidant, and the degree of removal was measured through the concentration of ammonia gas at the front and rear ends of the inlet.
산화제소비량(L)/가스주입량(m3)Oxidizer consumption (L) / Gas injection (m 3 ) 암모니아 입구측농도(ppm)Ammonia Inlet Concentration (ppm) 암모니아 출구측농도(ppm)Ammonia Outlet Concentration (ppm) 제거율(%)% Removal
실험예1(초음파 기액접촉)Experimental Example 1 (Ultrasonic Gas-liquid Contact) 0.20.2 10001000 500500 5050
실험예1(초음파 기액접촉)Experimental Example 1 (Ultrasonic Gas-liquid Contact) 0.50.5 10001000 300300 7070
표 3을 통해 알 수 있듯이, 산화제의 투입량에 암모니아 제거율이 비례하여 상승함을 알 수 있었으며, 특히 별도의 추가적인 설비 없이도 초음파를 이용하여 암모니아를 효과적으로 제거할 수 있음을 확인할 수 있었다.As can be seen from Table 3, it can be seen that the ammonia removal rate is increased proportionally to the input amount of the oxidant, and in particular, it can be confirmed that ammonia can be effectively removed using ultrasonic waves without additional equipment.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 세정액의 특성에 따라 초음파의 주파수를 제어하여 세정액을 미립화하여 처리 대상 가스와 접촉 및 반응하도록 하여 처리함으로써, 적은 양의 세정액을 가지고도 유해가스를 효과적으로 제거할 수 있게 된다.As described above, according to the present invention, by controlling the frequency of the ultrasonic wave in accordance with the characteristics of the cleaning liquid, the cleaning liquid is atomized to be in contact with and reacted with the gas to be treated, thereby effectively removing harmful gases even with a small amount of the cleaning liquid. You can do it.
따라서, 설비를 소형화할 수 있음은 물론, 세정액 사용량을 줄일 수 있어 비용을 줄일 수 있는 이점이 있다.Therefore, it is possible to reduce the size of the equipment, as well as to reduce the amount of cleaning solution used, thereby reducing the cost.
이상, 본 발명을 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직한 실시예와 관련하여 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니다. 오히려 첨부된 특허청구범위의 사상 및 범위를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다.While the invention has been shown and described in connection with preferred embodiments for illustrating the principles of the invention, the invention is not limited to the construction and operation as shown and described. Rather, those skilled in the art will appreciate that many modifications and variations of the present invention are possible without departing from the spirit and scope of the appended claims.
[부호의 설명][Description of the code]
10,10',70..가스 처리탑 20..초음파 발생부10,10 ', 70 .. Gas treatment tower 20 .. Ultrasonic generator
30..기액 분리부 40..폐수 처리 및 재생부30. Gas-liquid separator 40. Wastewater treatment and regeneration unit
60..가스 전처리부 71..노즐60..Gas pretreatment unit 71.Nozzle

Claims (10)

  1. 처리할 대상 가스가 유입되는 가스 유입관과, 가스를 처리할 세정액 공급관이 연결되고, 미립화된 세정액과 처리 대상가스가 혼합, 접촉, 반응할 수 있는 가스 처리탑과;A gas processing tower to which a gas inflow pipe into which a gas to be treated is introduced and a cleaning liquid supply pipe to treat gas are connected, and the atomized cleaning liquid and the gas to be treated are mixed, contacted, and reacted;
    상기 가스 처리탑에서 초음파를 발생시켜 상기 가스 처리탑 내로 공급된 세정액을 미립화하되, 상기 세정액의 종류, 농도, 조성, 입자 사이즈 및 온도조건에 따라 초음파 주파수 영역을 설정하여 발생하는 초음파 발생부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.Ultrasonic generator for generating an ultrasonic wave in the gas treatment tower to atomize the cleaning liquid supplied into the gas treatment tower, and to set the ultrasonic frequency region according to the type, concentration, composition, particle size and temperature conditions of the cleaning liquid; Wet gas cleaning device using ultrasonic waves, comprising: a.
  2. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 가스 처리탑에서 처리된 가스가 배출되는 처리가스 배출라인에 설치되어, 처리가스에 포함된 액체와 가스를 분리하는 기액분리부; 및A gas-liquid separator installed in a processing gas discharge line through which the gas treated in the gas processing tower is discharged, and separating a liquid and a gas included in the processing gas; And
    상기 기액분리부의 응축 폐수 배출라인에 연결되어 폐수를 처리하는 폐수 처리 및 재생부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.And a wastewater treatment and regeneration unit connected to the condensate wastewater discharge line of the gas-liquid separator to treat the wastewater.
  3. 제2항에 있어서,The method of claim 2,
    상기 폐수 처리 및 재생부에서 재생된 세정액을 상기 가스 처리탑으로 재공급하는 세정액 회수라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.And a cleaning liquid recovery line for resupplying the cleaning liquid regenerated by the wastewater treatment and regeneration unit to the gas treatment tower.
  4. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 가스 처리탑으로 공급될 처리가스에 포함된 이물질을 제거하기 위한 가스 전처리유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.And a gas pretreatment unit for removing the foreign matter contained in the process gas to be supplied to the gas treatment tower.
  5. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein
    상기 가스 전처리유닛에서 처리되고 남은 세정폐수를 폐수 처리 및 재생부로 공급하기 위한 1차 세정 폐수 공급라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.And a first washing waste water supply line for supplying the remaining washing waste water treated by the gas pretreatment unit to the wastewater treatment and regeneration unit.
  6. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 초음파 발생부에서 발생되는 주파수 범위는 16kHz 이상의 초음파인 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.The frequency range generated by the ultrasonic generator is a wet gas cleaning device using ultrasonic waves, characterized in that more than 16kHz ultrasonic waves.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6,
    상기 가스 처리탑은 복수가 서로 연결되게 배치되어, 상류에 설치된 가스 처리탑에서 처리된 처리가스를 하류에 설치되는 가스 처리탑에서 재차 처리하고, 재처리된 처리가스는 상기 기액분리부로 이송되며,The gas treatment tower is arranged to be connected to each other, the treatment gas treated in the gas treatment tower installed upstream in the gas treatment tower installed downstream, the reprocessed treatment gas is transferred to the gas-liquid separator,
    상기 복수의 가스 처리탑 각각에는 상기 세정액 공급라인이 연결되고,The cleaning solution supply line is connected to each of the plurality of gas treatment towers.
    상기 초음파 발생기는 상기 복수의 가스 처리탑 중 적어도 어느 하나에 설치되며,The ultrasonic generator is installed in at least one of the plurality of gas treatment towers,
    상기 복수의 가스 처리탑 각각에 목적에 대응되는 세정액이 상기 세정액 공급관을 통해 선택적으로 공급 가능한 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.The wet gas cleaning device using ultrasonic waves, characterized in that the cleaning liquid corresponding to the purpose can be selectively supplied to each of the plurality of gas treatment towers through the cleaning liquid supply pipe.
  8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6,
    상기 가스 처리탑 내부에는 세정액을 분사하는 분사노즐이 설치되는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.Wet gas cleaning apparatus using ultrasonic waves, characterized in that the injection nozzle for spraying the cleaning liquid is installed inside the gas treatment tower.
  9. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6,
    상기 가스 처리탑 내부에는 초음파에 의해 미립화된 세정액을 분사하는 분사노즐이 설치되는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.Wet gas cleaning device using ultrasonic waves, characterized in that the injection nozzle for spraying the cleaning liquid atomized by the ultrasonic wave is installed in the gas treatment tower.
  10. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6,
    상기 가스 처리탑 내부에는 세정액에 흡수된 처리 대상 다스를 환원시켜 제거할 수 있는 촉매로 구성된 충진물이 설치되는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 습식 가스세정장치.Wet gas cleaning apparatus using ultrasonic waves, characterized in that the filling material consisting of a catalyst that can be removed by reducing the dosing targets absorbed in the cleaning liquid inside the gas treatment tower.
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