WO2015174325A1 - 自動分析装置及びノズル洗浄方法 - Google Patents

自動分析装置及びノズル洗浄方法 Download PDF

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WO2015174325A1
WO2015174325A1 PCT/JP2015/063235 JP2015063235W WO2015174325A1 WO 2015174325 A1 WO2015174325 A1 WO 2015174325A1 JP 2015063235 W JP2015063235 W JP 2015063235W WO 2015174325 A1 WO2015174325 A1 WO 2015174325A1
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suction
cleaning
nozzle
cleaning liquid
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PCT/JP2015/063235
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瑞木 中村
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日本電子株式会社
富士レビオ株式会社
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    • G01N35/10—Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B08B9/02—Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes

Definitions

  • the present invention relates to an automatic analyzer and a nozzle cleaning method, and more particularly to a technique for cleaning a nozzle that discharges and sucks a liquid such as a specimen or a reagent.
  • Automatic analyzers are used for tests in various fields such as immunological tests, biochemical tests, blood transfusion tests, etc., and simultaneously perform analysis on a large number of specimens, and analyze multiple components quickly and with high accuracy. .
  • a nozzle cleaning mechanism is provided for cleaning.
  • the nozzle cleaning mechanism is configured to supply a cleaning liquid to the probe.
  • the probe is moved to the position of the nozzle cleaning mechanism, the cleaning liquid is supplied to the probe, and the probe is moved. Washing.
  • Patent Document 1 describes a nozzle cleaning technique in which a cleaning operation including discharge and suction of a cleaning liquid is performed at least twice using a nozzle having a discharge nozzle and a suction nozzle.
  • This nozzle is configured such that the lower end of the discharge nozzle is disposed above the lower end of the suction nozzle by a predetermined length.
  • first cleaning liquid a first amount of cleaning liquid
  • second cleaning liquid a second amount of cleaning liquid exceeding the first liquid amount is injected into the cleaning tank by the discharge nozzle, and the second cleaning liquid is sucked by the suction nozzle.
  • the amount of the cleaning liquid discharged at the time of cleaning is discharged in at least two stages of the first cleaning liquid amount and the second cleaning liquid amount.
  • the amount of the first cleaning liquid is an amount that the tip of the suction nozzle is immersed to the height where the nozzle is immersed in the liquid when the nozzle enters the liquid such as the reagent or the specimen
  • the amount of the second cleaning liquid is the cleaning tank Is the amount that is almost full. That is, in the technique described in Patent Document 1, a high-concentration contaminated region from the lower end of the suction nozzle to the above-described height is cleaned using the first cleaning liquid, and from the lower end of the suction nozzle to a predetermined height using the second cleaning liquid. The low concentration contamination area is cleaned.
  • the present invention has been made in consideration of such a situation, and an object of the present invention is to obtain a higher cleaning effect than before in cleaning a nozzle having a discharge nozzle and a suction nozzle.
  • one embodiment of the present invention is an automatic analyzer that is discharged from a cylindrical discharge unit that discharges cleaning liquid, and a cylindrical discharge unit that flows down along the outer peripheral surface.
  • a discharge operation by the discharge unit is started, and a suction operation by the suction unit is started in parallel with the discharge operation by the discharge unit.
  • the suction operation by the suction portion is once ended.
  • the discharge operation by the discharge unit is terminated.
  • the suction operation by the suction unit is resumed in a state where the suction unit is immersed in the cleaning liquid stored in the cleaning tank.
  • the cleaning liquid discharged from the discharge section flows along the outer peripheral surface of the suction section and is sucked by the suction section, so that the time when the lower end portion of the suction section is in contact with the cleaning liquid It is possible to make the length relatively longer than the time during which the portion touches the cleaning liquid.
  • the cleaning liquid discharged from the discharge unit before the suction unit once completes the suction operation does not accumulate in the cleaning tank, the cleaning liquid immersed in the suction unit is washed water discharged before the suction operation is temporarily ended. Will not be polluted by. Therefore, a higher cleaning effect than before can be obtained.
  • FIG. 3A represents a high concentration contaminated area
  • FIG. 3B represents a low concentration contaminated area.
  • FIG. 3A represents a high concentration contaminated area
  • FIG. 3B represents a low concentration contaminated area.
  • FIG. 3A represents a high concentration contaminated area
  • FIG. 3B represents a low concentration contaminated area.
  • FIG. 3A represents a high concentration contaminated area
  • FIG. 3B represents a low concentration contaminated area.
  • FIG. 3A represents a high concentration contaminated area
  • FIG. 3B represents a low concentration contaminated area.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an automatic analyzer according to the first embodiment of the present invention.
  • the automatic analyzer 1 shown in FIG. 1 is an application of an immune analyzer that performs immunoanalysis such as antigen-antibody reaction of a subject.
  • the automatic analyzer 1 includes a measuring device 2 and a control device 40 that controls the entire automatic analyzer 1 including the measuring device 2 and analyzes measurement data output from the measuring device 2.
  • the automatic analyzer 1 to which the immunoassay device is applied is, for example, a chemiluminescent enzyme immunoassay (CLEIA) : Chemiluminescent Enzyme Immunoassay).
  • CLIA chemiluminescent enzyme immunoassay
  • the main steps are a reaction step in which a specimen (antigen or antibody) and a reagent are reacted in a reaction vessel, and a separation step (BF) in which a reaction product (bound) and an unreacted substance (free) in the reaction vessel are separated. Separation), and a photometric step of measuring the amount of luminescence generated from the immune complex produced by the reaction between each reagent and the specimen.
  • the measuring device 2 is roughly divided into a reaction container supply unit 3, a sample erection unit 4, a reaction container transport unit 5, a sample dispensing unit 6, a reagent cold storage unit 7, a first reagent dispensing unit 8, and a second reagent dispensing.
  • a unit 9, an immunoenzyme reaction unit 10, a first BF separation unit 11, a second BF separation unit 12, a substrate solution cool box 14, a container transfer arm 15, and a luminescence measurement unit 16 are provided.
  • the reaction container supply unit 3 accommodates a plurality of reaction containers (cuvettes) 3a and supplies the plurality of reaction containers 3a one by one to the transfer position.
  • the reaction container 3 a supplied to the transfer position is transported to the immunoenzyme reaction unit 10 by the reaction container transport unit 5.
  • a sample and a predetermined reagent are injected into the reaction container 3a transported to the immunoenzyme reaction unit 10.
  • the reaction container transport unit 5 includes an arm that freely moves up and down in the vertical direction and rotates around a vertical line passing through its base end as a central axis, and a holding portion provided at the tip of the arm.
  • the reaction container transport unit 5 holds the reaction container 3a supplied to the supply position of the reaction container supply unit 3 by a holding unit, rotates the arm, and transports the reaction container 3a to a predetermined position of the immunoenzyme reaction unit 10 at a predetermined timing. To do.
  • the specimen erection unit 4 includes a turntable formed in a substantially cylindrical container shape with one axial end opened.
  • the sample erection unit 4 accommodates a plurality of sample containers 4a.
  • a specimen (sample) made of blood or urine collected from the subject is accommodated in the specimen container 4a.
  • the plurality of sample containers 4 a are arranged side by side with a predetermined interval in the circumferential direction of the sample erection unit 4.
  • the sample erection unit 4 is supported by a drive mechanism (not shown) so as to be rotatable along the circumferential direction.
  • the sample erection unit 4 is rotated at a predetermined speed in a predetermined angular range in the circumferential direction by a drive mechanism (not shown).
  • a drive mechanism not shown
  • two rows of sample containers 4 a arranged in the circumferential direction of the sample erection unit 4 are provided at a predetermined interval in the radial direction of the sample erection unit 4.
  • a sample diluted with a predetermined diluent may be used as the sample.
  • the specimen dispensing unit 6 includes an arm that freely moves up and down in the vertical direction and rotates around the vertical line passing through its base end as a central axis, and a probe provided at the tip of the arm.
  • the sample dispensing unit 6 sucks the sample in the sample container 4a moved to a predetermined position of the sample erection unit 4 with a probe, turns the arm, and moves it to a predetermined position of the immunoenzyme reaction unit 10 at a predetermined timing. Dispense into a certain reaction vessel 3a.
  • the reagent cold storage unit 7 includes a turntable formed in a substantially cylindrical container shape having one end in the axial direction opened, like the sample erection unit 4.
  • the reagent cooler unit 7 is supported by a drive mechanism (not shown) so as to be rotatable along the circumferential direction.
  • the drive mechanism (not shown) rotates forward at a predetermined speed in a predetermined angular range in the circumferential direction. Or reverse rotation.
  • the reagent cold storage unit 7 accommodates a first reagent container 7a and a second reagent container 7b.
  • the first reagent container 7a and the second reagent container 7b are arranged side by side at a predetermined interval on the circumferential direction of the reagent cold storage unit 7.
  • the first reagent container 7a contains a magnetic reagent made of magnetic particles that reacts with the target antigen in the sample as the first reagent.
  • the second reagent container 7b accommodates a labeling reagent (enzyme antibody) that reacts with a reaction product in which an antigen in a specimen and a magnetic reagent are bound as a second reagent.
  • the inside of the reagent cooling unit 7 is kept at a predetermined temperature by a cooling mechanism (not shown). Therefore, the first reagent (magnetic reagent) accommodated in the first reagent container 7a and the second reagent (labeling reagent) accommodated in the second reagent container 7b are kept cold at a predetermined temperature.
  • the first reagent dispensing unit 8 includes an arm that freely moves up and down in the vertical direction and rotates around a vertical line passing through its base end as a central axis, and a probe provided at the tip of the arm. .
  • the first reagent dispensing unit 8 sucks the first reagent (magnetic reagent) in the first reagent container 7a moved to a predetermined position of the reagent cold-reserving unit 7 with a probe, rotates the arm, Is dispensed into the reaction container 3a located at a predetermined position of the immunoenzyme reaction unit 10 at the timing.
  • the second reagent dispensing unit 9 has the same configuration as the first reagent dispensing unit 8.
  • the second reagent dispensing unit 9 sucks the second reagent (labeled reagent) in the second reagent container 7b moved to a predetermined position of the reagent cold-reserving unit 7 with the probe, rotates the arm, Is dispensed into the reaction container 3a located at a predetermined position of the immunoenzyme reaction unit 10 at the timing.
  • the immunoenzyme reaction unit 10 an immune reaction between a specimen and a predetermined reagent corresponding to an analysis item in a reaction container 3 a arranged in the circumferential direction, and an immune complex generated by this immune reaction and an enzyme by a chemiluminescent substrate Reaction.
  • the immunoenzyme reaction unit 10 includes a turntable formed in a substantially cylindrical container shape with one axial end opened.
  • the immunoenzyme reaction unit 10 is rotatably supported along a circumferential direction by a drive mechanism (not shown), and rotates at a predetermined speed by a predetermined angle range in the circumferential direction by the drive mechanism (not shown). .
  • the immunoenzyme reaction unit 10 rotates counterclockwise.
  • the rows of reaction containers 3 a arranged in the circumferential direction of the immunoenzyme reaction unit 10 are set in a row at a predetermined interval in the radial direction of the immunoenzyme reaction unit 10. You may provide the row
  • the immunoenzyme reaction unit 10 When the magnetic reagent is dispensed by the first reagent dispensing unit 8 into the reaction container 3a into which the specimen has been injected, the immunoenzyme reaction unit 10 agitates the mixed liquid of the magnetic reagent and the specimen by a stirring mechanism (not shown). The antigen in the sample and the magnetic reagent are allowed to undergo an immune reaction for a certain period of time (primary immune reaction). Next, the immunoenzyme reaction unit 10 moves the reaction vessel 3a to the first magnetism collecting mechanism (magnet 13), and magnetizes the reaction product in which the antigen and the magnetic reagent are combined by magnetic force. In this state, the inside of the reaction vessel 3a is washed, and unreacted substances that have not reacted with the magnetic reagent are removed (primary BF separation).
  • the first magnetic flux collecting mechanism is fixed at a position corresponding to the first BF separation unit 11 disposed in the vicinity of the outer periphery of the immunoenzyme reaction unit 10.
  • the turntable of the immunoenzyme reaction unit 10 is composed of two layers, a fixed lower layer and a rotatable upper layer.
  • a magnet 13 is disposed as a first magnetic flux collecting mechanism on the lower turntable, and a reaction vessel 3a is disposed on the upper turntable. The magnet 13 collects the reaction product in the reaction vessel 3a.
  • the first BF separation unit 11 includes an arm 25, a nozzle 21 attached to the arm 25, and a cleaning tank 24.
  • the arm 25 freely moves up and down in the vertical direction and rotates around the vertical line passing through its base end as a central axis.
  • the arm 25 moves the nozzle 21 to the reaction vessel 3a at the primary BF separation position of the immunoenzyme reaction unit 10 and the cleaning tank 24 at the nozzle cleaning position on the first BF separation unit 11 side.
  • the nozzle 21 discharges and sucks the cleaning liquid into the reaction vessel 3a into which the specimen and the magnetic reagent are injected, and cleans the unreacted substance that has not reacted with the magnetic reagent (BF cleaning). ).
  • the first BF separation unit 11 performs primary BF separation when the reaction vessel 3a is transported to the primary BF separation position.
  • a reaction product in which the target antigen in the specimen and the magnetic reagent are combined is collected in the reaction vessel 3a.
  • the arm 25 moves the nozzle 21 to the nozzle cleaning position where the cleaning tank 24 is located.
  • the immunoenzyme reaction unit 10 uses a magnetic reagent by a stirring mechanism (not shown). And the sample mixture are stirred, and the reaction product and the labeling reagent are allowed to immunoreact for a certain period of time (secondary immune reaction).
  • the immunoenzyme reaction unit 10 moves the reaction vessel 3a to a second magnetic collecting mechanism (not shown), and magnetically collects the immune complex in which the reaction product and the labeling reagent are bound by a magnetic force. In this state, the inside of the reaction vessel 3a is washed, and unreacted substances that have not reacted with the labeling reagent are removed (secondary BF separation).
  • the second magnetism collecting mechanism has a magnet similar to the magnet 13 of the first magnetism collecting mechanism, and is located at a position corresponding to the second BF separation unit 12 disposed in the vicinity of the outer periphery of the immunoenzyme reaction unit 10. It is fixed.
  • the magnet included in the second magnetic flux collecting mechanism is disposed below the nozzle 21 at the secondary BF separation position.
  • the second BF separation unit 12 has the same configuration as that of the first BF separation unit 11 and is arranged at a predetermined distance in the circumferential direction with respect to the first BF separation unit 11.
  • the arm 25 freely moves up and down in the vertical direction and rotates around the vertical line passing through its base end as a central axis.
  • the arm 25 moves the nozzle 21 to the reaction vessel 3a at the secondary BF separation position of the immunoenzyme reaction unit 10 and the cleaning tank 24 at the nozzle cleaning position on the second BF separation unit 12 side.
  • the nozzle 21 discharges and sucks the cleaning liquid into the reaction vessel 3a into which the labeling reagent has been injected and cleans it, thereby removing excess unreacted substances that have not reacted with the labeling reagent (BF cleaning). ).
  • the second BF separation unit 12 performs secondary BF separation when the reaction vessel 3a is transported to the secondary BF separation position.
  • secondary BF separation and BF washing an immune complex in which a reaction product composed of a target antigen and a magnetic reagent in a specimen and a labeling reagent are combined is collected in the reaction container 3a.
  • the arm 21 moves the nozzle 21 to the nozzle cleaning position where the cleaning tank 24 is located.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the structure of the nozzle 21 and the cleaning tank 24.
  • 3A and 3B are explanatory diagrams of the contaminated area of the suction nozzle of the nozzle 21.
  • FIG. 3A shows a high-concentration contaminated area
  • FIG. 3B shows a high-concentration contaminated area
  • the nozzle 21 includes a discharge nozzle 22 (an example of a discharge unit) that discharges a cleaning liquid and a suction nozzle 23 (an example of a suction unit) that sucks the cleaning liquid.
  • the discharge nozzle 22 and the suction nozzle 23 are disposed so as to be in parallel with the axial direction.
  • the discharge nozzle 22 has a cylindrical shape, and an opening 22a (discharge port) is formed at the lower end.
  • the suction nozzle 23 has a cylindrical shape that is longer than the discharge nozzle 22 in the axial direction, and an opening 23a (suction port) is formed at the lower end.
  • the lower end side of the nozzle 21 is a direction in which the nozzle 21 enters the reaction vessel 3 a or the cleaning tank 24.
  • the discharge nozzle 22 and the suction nozzle 23 are configured such that the lower end of the discharge nozzle 22 is separated from the lower end of the suction nozzle 23 by a distance L (see FIG. 3A).
  • the distance L is determined so that the lower end of the discharge nozzle 22 is higher than the liquid level when the suction nozzle 23 is immersed in the liquid in the reaction vessel 3a and the cleaning tank 24. That is, the distance L between the tip of the discharge nozzle 22 and the tip of the suction nozzle 23 is such that the cleaning liquid does not reach the discharge nozzle 22 when the nozzle 21 is inserted into the reaction vessel 3a to be cleaned and the cleaning liquid is discharged. It is determined.
  • the shape of the cleaning tank 24 is determined in relation to this distance L. In other words, the distance L is determined from the amount of cleaning liquid necessary for the original BF cleaning and the container shape.
  • Tubes are attached to the upper ends of the discharge nozzle 22 and the suction nozzle 23, and are connected to a suction pump and a discharge pump (not shown).
  • the cleaning tank 24 has a substantially quadrangular prism shape or a substantially cylindrical shape having an opening in the upper portion, and overflows from the cleaning unit 24a, a cleaning unit 24a that can store the cleaning liquid by inserting the nozzle 21 from above during nozzle cleaning. It has an overflow part 24b into which the cleaning liquid flows. A discharge port 24c is formed on the bottom surface of the overflow part 24b, and the cleaning liquid flowing into the overflow part 24b is discharged through the discharge port 24c.
  • the high-concentration contaminated region of the suction nozzle 23 is a region corresponding to a portion where the suction nozzle 23 is immersed in the liquid in the reaction vessel 3a, and corresponds to the tip portion of the suction nozzle 23 as shown in FIG. 3A.
  • region is dependent on the shape of the reaction container 3a to handle.
  • the cleaning liquid when the cleaning liquid is filled in the reaction container 3 a in the BF separation step, the liquid level of the cleaning liquid rises to the vicinity of the opening 22 a of the discharge nozzle 22. Therefore, most of the distance L of the suction nozzle 23 becomes a low-concentration contaminated region due to the cleaning liquid that is contaminated to a low concentration by the contamination in the reaction container 3a being diffused. Again, the height from the lower end (opening 23a) of the actual low-concentration contaminated region depends on the shape of the reaction vessel 3a to be handled.
  • these contaminated areas in the nozzle 21 are cleaned.
  • the target value to be cleaned is, for example, 0.1 ppm or less (contaminant adhering to the nozzle 21 is diluted to 1 / 10,000,000 or less by cleaning) as required by immunoassay.
  • a substrate liquid dispensing unit 26 is further attached to the arm 25 of the second BF separation unit 12.
  • the substrate liquid dispensing unit 26 is disposed at a position farther from the rotation axis of the arm 25 than the nozzle 21.
  • the substrate liquid dispensing unit 26 is connected via a tube (not shown) to the substrate liquid cold storage 14 that stores and cools the substrate liquid.
  • Substrate solution dispensing unit 26 separates a substrate solution containing a chemiluminescent substrate that reacts specifically with the labeling reagent for the immune complex to which the magnetic reagent, antigen, and labeling reagent (enzyme antibody) are bound. Dispense into the subsequent reaction vessel 3a.
  • reaction container 3 a into which the substrate solution has been injected is transported to a predetermined position by the rotation of the immunoenzyme reaction unit 10.
  • the reaction container 3 a transported to a predetermined position is transported to the luminescence measurement unit 16 by the container transport arm 15.
  • the luminescence measurement unit 16 is a photometry unit using a photomultiplier tube (PMT) 16a as a detector, and measures a luminescence phenomenon composed of an immune complex and a chemiluminescence substrate by photo counting. That is, the light emission amount is measured.
  • a photometric signal corresponding to the light beam (amount of light emission) detected by the light emission measurement unit 16 is digitized by an analog-digital converter (not shown).
  • the digitized photometric signal is input to the control device 40 via a serial interface (not shown) and the like, and analysis processing is performed.
  • Each unit of the measurement device 2 and the light emission measurement unit 16 operate based on a command from the control device 40.
  • FIG. 4 is a configuration diagram showing a piping system and a control system related to cleaning of the nozzle 21 of the automatic analyzer 1.
  • the discharge nozzle 22 is connected to the discharge pump 32 and the cleaning liquid tank 33 through a discharge electromagnetic valve 31 with a tube.
  • a discharge electromagnetic valve 31 By switching between the open state and the closed state of the discharge electromagnetic valve 31, the suction of the cleaning liquid from the cleaning liquid tank 33 to the discharge pump 32 and the discharge of the cleaning liquid from the discharge pump 32 to the discharge nozzle 22 are controlled.
  • the suction nozzle 23 is connected to a suction pump 35 by a tube via a suction electromagnetic valve 34.
  • the other end of the suction pump 35 is connected to a drain tank (not shown) in the measuring apparatus 2 or a drain outlet outside the measuring apparatus 2 as an outlet for waste liquid.
  • the suction pump 35 is used by continuously operating. In that case, suction control is performed by switching between the open state and the closed state of the suction electromagnetic valve 34.
  • a syringe pump is used as the discharge pump 32 and a diaphragm pump is used as the suction pump 35.
  • the pump combination may be reversed.
  • a diaphragm pump may be used as the discharge pump 32.
  • the arm 25 to which the nozzle 21 is attached moves in the vertical direction by, for example, a pulse motor 25m as a drive mechanism, and moves in the horizontal direction (BF separation position and nozzle cleaning position) by a drive mechanism (not shown).
  • the discharge port 24 c of the cleaning tank 24 is connected to a drain tank (not shown) in the measurement device 2 and a drain port outside the measurement device 2.
  • Each pump, each electromagnetic valve, and drive mechanism are connected to the control device 40 via a serial interface (not shown).
  • control device 40 includes a control unit 41, an input unit 42, an analysis unit 43, a storage unit 44, an output unit 45, and a communication interface (indicated as “communication I / F” in FIG. 4) 46. .
  • the control unit 41 includes, for example, a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory) (not shown) that stores a program, and a RAM (Random Access Memory) used as a work area of the CPU.
  • the CPU of the control unit 41 reads the program stored in the ROM into the RAM, and controls the processing and operation of each component of the automatic analyzer 1 according to this program.
  • the control unit 41 is electrically connected to the input unit 42, the analysis unit 43, the storage unit 44, the output unit 45, and the communication interface 46 via a system bus (not shown).
  • the control device 40 controls the reaction process, the separation process (BF separation), and the photometry process in the immunoassay using various programs related to each process of the automatic analyzer 1.
  • the input unit 42 is a part that performs an operation of inputting a measurement item or the like to the control unit 41.
  • a keyboard or a mouse is used.
  • the analysis unit 43 is connected to the luminescence measurement unit 16 via the control unit 41, analyzes the component concentration or the like of the measurement item of the sample based on the amount of light received by the luminescence measurement unit 16, and outputs the analysis result to the control unit 41. To do.
  • the storage unit 44 is a nonvolatile large-capacity storage device, and stores various information including measurement conditions for each measurement item of the specimen, analysis results of the measurement items of the specimen, and the like.
  • a storage device such as an SSD (Solid State Drive) or a magnetic disk is used.
  • the storage unit 44 You may provide the auxiliary memory
  • the output unit 45 is configured using a display (display unit), a speaker, a printer, and the like, and outputs various information related to the analysis of the sample under the control of the control unit 41.
  • the display displays the analysis contents of the sample, alarms, and the like.
  • the input unit 42 and the display unit may be realized by a touch panel.
  • the communication interface 46 is an interface that transmits and receives information according to a predetermined format via a communication network (not shown). For example, a serial interface is applied as the communication interface 46.
  • the control unit 41 outputs a command to each pump, each electromagnetic valve, and the drive mechanism via the communication interface 46, and controls the nozzle cleaning process in the separation process of the immunological analysis.
  • FIG. 5 is a flowchart showing the nozzle cleaning process of the automatic analyzer 1.
  • FIG. 6 is an explanatory diagram showing the flow of the cleaning liquid discharged from the discharge nozzle 22.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram showing a flow (1) of the cleaning liquid during nozzle cleaning according to the first embodiment.
  • FIG. 8 is an explanatory diagram showing a flow (2) of the cleaning liquid during nozzle cleaning according to the first embodiment.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram showing a flow (3) of the cleaning liquid during nozzle cleaning according to the first embodiment.
  • the control unit 41 of the control device 40 first has the first BF separation unit 11 (or the second BF separation unit 12).
  • the arm 21 moves the nozzle 21 to the nozzle cleaning position, that is, above the cleaning tank 24. Then, the control unit 41 starts a nozzle cleaning operation using the nozzle 21 and the cleaning tank 24.
  • the control unit 41 prepares a cleaning liquid used for cleaning the nozzle 21 (step S1). Specifically, the discharge electromagnetic valve 31 and the discharge pump 32 are controlled, and the discharge pump 32 sucks the cleaning liquid from the cleaning liquid tank 33.
  • control unit 41 controls the suction electromagnetic valve 34 and the suction pump 35 to start the suction operation (first time) by the suction nozzle 23 (step S2).
  • control unit 41 starts the descent of the nozzle 21 to the cleaning tank 24 (step S3). Then, when the opening 23a of the suction nozzle 23 reaches the bottom surface of the cleaning unit 24a in the cleaning tank 24, the control unit 41 ends the lowering of the nozzle 21 and fixes the position of the nozzle 21 (step S4). By bringing the opening 23a of the suction nozzle 23 into contact with the bottom surface of the cleaning unit 24a, all of the cleaning liquid accumulated in the cleaning unit 24a can be sucked when a cleaning liquid described later is sucked.
  • the control unit 41 may end the lowering of the nozzle 21 when the opening 23a of the suction nozzle 23 reaches the vicinity of the bottom surface of the cleaning unit 24a.
  • the opening 23a of the suction nozzle 23 In the state where the opening 23a of the suction nozzle 23 is in the vicinity of the bottom surface, if the cleaning liquid existing on the bottom surface can be absorbed from the opening 23a, the state in which the opening 23a is in the vicinity of the bottom surface substantially reaches the bottom surface. It can be said that it is in a state of being.
  • control unit 41 controls the discharge electromagnetic valve 31 and the discharge pump 32 to start a discharge operation for discharging the cleaning liquid from the opening 22a by the discharge nozzle 22 (step S5). Since the discharge nozzle 22 and the suction nozzle 23 are in close contact with each other, as shown in FIG. 6, the cleaning liquid W discharged from the opening 22 a of the discharge nozzle 22 flows down along the outer peripheral surface of the suction nozzle 23. The flow rate of the cleaning liquid discharged from the discharge nozzle 22 is adjusted to an appropriate value so that the cleaning liquid flows down along the outer peripheral surface of the suction nozzle 23.
  • the suction nozzle 23 continues to perform the suction operation continuously, the cleaning liquid W that has flowed down along the outer peripheral surface of the suction nozzle 23 is sequentially sucked from the opening 23 a of the suction nozzle 23.
  • the high concentration contaminated region (FIG. 3A) at the tip of the suction nozzle 23 is cleaned.
  • the discharge amount of the cleaning liquid per unit time by the discharge nozzle 22 and the suction amount of the cleaning liquid per unit time by the suction nozzle 23 have a relationship of “discharge amount ⁇ suction amount”. Since all of the cleaning liquid W discharged from the discharge nozzle 22 is sucked from the opening 23a of the suction nozzle 23, the discharged cleaning liquid W does not accumulate in the cleaning section 24a of the cleaning tank 24 (see FIG. 7). Therefore, the inside of the cleaning unit 24a is kept clean.
  • the control unit 41 determines whether or not a predetermined time has elapsed since the suction operation by the suction nozzle 23 was started (step S6).
  • the time is measured using a clock signal output from a CPU (not shown) that constitutes the control unit 41.
  • the control device 40 may be provided with a timer. If the predetermined time has not elapsed since the suction operation by the suction nozzle 23 was started, the control unit 41 continues this determination process.
  • This predetermined time is at least the time required for the discharge nozzle 22 to discharge the cleaning liquid W necessary for cleaning the high concentration contaminated region of the suction nozzle 23.
  • step S7 the control unit 41 ends the suction operation by the suction nozzle 23 (step S7).
  • the suction operation by the suction nozzle 23 is once ended, but the cleaning liquid W is continuously discharged from the discharge nozzle 22. Therefore, the cleaning liquid W discharged from the discharge nozzle 22 accumulates in the cleaning unit 24a (see FIG. 8).
  • the positional relationship between the discharge nozzle 22 and the suction nozzle 23 is determined so that the low-concentration contaminated region (FIG.
  • the control unit 41 ends the cleaning liquid discharge operation by the discharge nozzle 22 (step S8).
  • the amount of the cleaning liquid W in which at least the low-concentration contaminated region of the suction nozzle 23 is immersed in the cleaning liquid W is obtained in advance.
  • the control unit 41 controls the discharge electromagnetic valve 31 and the discharge pump 32 based on the liquid amount obtained in advance. It should be noted that the end operation of the suction operation in step S7 and the end operation of the discharge operation in step S8 are allowed to slightly change in time as long as the cleaning liquid necessary for cleaning the low concentration contaminated region can be stored. Alternatively, the discharge of the cleaning liquid by the discharge nozzle 22 may be terminated by detecting with an arbitrary sensor that the cleaning liquid W has overflowed from the cleaning unit 24a.
  • control unit 41 starts the suction operation (second time) by the suction nozzle 23 again, and sucks all the cleaning liquid W (residual liquid) accumulated in the cleaning unit 24a (step S9).
  • the controller 41 sucks all the cleaning liquid W collected in the cleaning part 24a by the suction nozzle 23, and then ends the suction operation by the suction nozzle 23 (step S10).
  • the control unit 41 ends the nozzle cleaning operation.
  • the tip portion (high concentration contaminated region) of the suction nozzle 23 contaminated with high concentration is first cleaned with a small amount of cleaning liquid W, and the cleaning liquid W used for cleaning is suctioned with the suction nozzle 23. To do. Subsequently, the entire suction nozzle 23 (low-concentration contaminated region) contaminated with low concentration is cleaned with the cleaning liquid W accumulated in the cleaning unit 24 a, and the cleaning liquid W used for cleaning is sucked with the suction nozzle 23.
  • the cleaning liquid W discharged from above the high-concentration contaminated area of the suction nozzle 23 flows through the high-concentration contaminated area of the suction nozzle 23 and is sucked from below (opening 23a).
  • the time during which the high concentration contaminated area is in contact with the cleaning liquid W can be made relatively longer than the time during which the low concentration contaminated area is in contact with the cleaning liquid W. For this reason, the cleaning power with respect to a high concentration contaminated area
  • the cleaning liquid W collected in the cleaning unit 24a and used for cleaning the low concentration contaminated area of the suction nozzle 23 is hardly contaminated by the cleaning liquid W used for cleaning the high concentration contaminated area. Therefore, according to the first embodiment, a higher cleaning effect than the conventional one can be obtained.
  • the necessary cleaning liquid amount is the amount of the cleaning liquid itself used for actual cleaning. Therefore, it is not necessary to perform complicated setting (calculation), and the amount of cleaning liquid used for nozzle cleaning can be easily determined.
  • the complexity of “the amount of the second cleaning liquid to be discharged is slightly less than the difference between the required cleaning liquid amount and the first cleaning liquid amount”. It is necessary to make an appropriate setting (calculation), and this control is also complicated.
  • the “discharge amount of the cleaning liquid is slightly less than the required cleaning liquid amount”. Such complicated control is not required.
  • the discharge of the cleaning liquid is performed at least twice, and the method of determining each discharge amount as described above is also complicated.
  • the same cleaning effect as when the cleaning liquid is discharged a plurality of times by only discharging a predetermined amount or more of the cleaning liquid W from the discharge nozzle 22 once per nozzle cleaning. And the nozzle cleaning process is simplified.
  • Second Embodiment> In the first embodiment, a configuration in which the high-concentration contaminated region and the low-concentration contaminated region of the suction nozzle 23 are sequentially cleaned by controlling the suction operation by the suction nozzle 23 while discharging the cleaning liquid from the discharge nozzle 22 will be described. did. Actually, due to the delay in opening and closing the suction electromagnetic valve 34 and the influence of the residual pressure after the suction electromagnetic valve 34 is closed, a part of the cleaning liquid discharged after cleaning the high concentration contaminated area is sucked by the suction nozzle 23. This may cause a phenomenon that the amount of cleaning liquid necessary for cleaning the low-concentration contaminated area does not accumulate in the cleaning unit 24a.
  • the second embodiment relates to a nozzle cleaning process for avoiding such a phenomenon, and the configuration of the control system and the piping system is the same as the configuration of the automatic analyzer 1 according to the first embodiment. It is.
  • the nozzle 21 starts to descend after the nozzle cleaning operation is started, and before the nozzle 21 descends, the cleaning liquid is discharged and sucked.
  • the specific procedure of the nozzle cleaning process according to the second embodiment will be described below with reference to FIGS.
  • FIG. 12 is a flowchart showing a nozzle cleaning process according to the second embodiment.
  • FIG. 13 is an explanatory diagram showing the flow (1) of the cleaning liquid during nozzle cleaning according to the second embodiment.
  • FIG. 14 is an explanatory diagram showing a flow (2) of the cleaning liquid during nozzle cleaning according to the second embodiment.
  • FIG. 15 is an explanatory diagram showing a flow (3) of the cleaning liquid during nozzle cleaning according to the second embodiment.
  • FIG. 16 is an explanatory diagram showing a flow (4) of the cleaning liquid during nozzle cleaning according to the second embodiment.
  • step S11 corresponds to step S1 in FIG. 5
  • steps S14 and S15 correspond to steps S5 and S6 in FIG. 5
  • steps S18 to S20 correspond to steps S8 to S10 in FIG. Below, it demonstrates centering on the difference between FIG. 12 and FIG.
  • the control unit 41 when starting the nozzle cleaning operation, the control unit 41 first prepares the cleaning liquid (step S11), and then starts to lower the nozzle 21 to the cleaning tank 24 (step S12).
  • the controller 41 starts the suction operation (first time) by the suction nozzle 23 at the same time as or after the lowering of the nozzle 21 (step S13). Note that the suction operation by the suction nozzle 23 may be started before the nozzle 21 is lowered.
  • the control unit 41 starts a discharge operation for discharging the cleaning liquid from the opening 22a by the discharge nozzle 22 (step S14).
  • the opening 23a of the suction nozzle 23 has not yet reached the bottom surface of the cleaning section 24a in the cleaning tank 24, so that the cleaning liquid discharged from the opening 22a of the discharge nozzle 22 It flows down along the outer peripheral surface of the nozzle 23 and is sucked as it is from the opening 23a of the suction nozzle 23 (see FIG. 13).
  • the high concentration contaminated region (FIG. 3A) at the tip of the suction nozzle 23 is cleaned.
  • the discharge amount of the cleaning liquid by the discharge nozzle 22 and the suction amount of the cleaning liquid by the suction nozzle 23 have a relationship of “discharge amount ⁇ suction amount”. Accordingly, since all the cleaning liquid W discharged from the discharge nozzle 22 and flowing down along the outer peripheral surface of the suction nozzle 23 is sucked from the opening 23a of the suction nozzle 23, the cleaning liquid W enters the cleaning section 24a of the cleaning tank 24. There is no flow. Therefore, the inside of the cleaning unit 24a is kept clean.
  • control unit 41 determines whether or not a predetermined time has elapsed since the suction operation by the suction nozzle 23 was started (step S15). If the predetermined time has not elapsed since the suction operation by the suction nozzle 23 was started, the control unit 41 continues this determination process.
  • the control unit 41 when a predetermined time has elapsed after starting the suction operation by the suction nozzle 23 in step S15, the control unit 41 once ends the suction operation by the suction nozzle 23 (step S16). Thereafter, when the opening 23a of the suction nozzle 23 reaches the bottom surface of the cleaning unit 24a of the cleaning tank 24, the control unit 41 ends the lowering of the nozzle 21 and fixes the position of the nozzle 21 (step S17). In this way, the lowering of the nozzle 21, the discharge operation by the discharge nozzle 22, and the suction operation by the suction nozzle 23 are performed at least partially overlapping in time.
  • the cleaning liquid W discharged from the discharge nozzle 22 accumulates in the cleaning unit 24a (see FIG. 14), and the entire low-concentration contaminated region (FIG. 3B) of the suction nozzle 23 is cleaned. It is immersed in the cleaning liquid W in the part 24a (see FIG. 15). Further, the excess cleaning liquid W overflows into the overflow portion 24b and is discharged from the discharge port 24c (see FIG. 16).
  • the suction operation by the suction nozzle 23 is completed before the nozzle 21 reaches the bottom surface of the cleaning unit 24a. Therefore, before the cleaning liquid W accumulates in the cleaning unit 24a, there is no influence of the delay in opening and closing the suction electromagnetic valve 34 and the residual pressure after the suction electromagnetic valve 34 is closed, and a part of the cleaning liquid W collected in the cleaning unit 24a is removed. The suction nozzle 23 is not sucked. Therefore, it is possible to prevent the amount of the cleaning liquid necessary for cleaning the low concentration contaminated area of the suction nozzle 23 from being insufficient.
  • the end operation of the suction operation in step S16 and the end processing of the lowering of the nozzle 21 in step S17 are temporally performed. It is permissible to move around a little.
  • step S18 After all the low-concentration contaminated areas of the suction nozzle 23 are immersed in the cleaning liquid W, the control unit 41 ends the cleaning liquid discharge operation by the discharge nozzle 22 (step S18). Thereafter, the control unit 41 starts the suction operation (second time) by the suction nozzle 23 again, and sucks all the cleaning liquid W (residual liquid) accumulated in the cleaning unit 24a (step S19). Then, after all the cleaning liquid W collected in the cleaning unit 24a is sucked by the suction nozzle 23, the suction operation by the suction nozzle 23 is ended (step S20). When the process of step S20 ends, the control unit 41 ends the nozzle cleaning operation.
  • the tip portion (high concentration contaminated region) of the suction nozzle 23 is first cleaned with a small amount of cleaning liquid W, and the cleaning liquid W used for cleaning is suctioned. Suction is performed by the nozzle 23. Subsequently, the entire suction nozzle 23 (low-concentration contaminated region) is cleaned with the cleaning liquid W accumulated in the cleaning unit 24 a, and the cleaning liquid W used for cleaning is sucked with the suction nozzle 23. The high concentration contaminated area of the suction nozzle 23 is cleaned in the air, and the cleaning liquid W used for cleaning the high concentration contaminated area does not touch the cleaning unit 24a.
  • the cleaning liquid W stored in the cleaning unit 24a and used for cleaning the low concentration contaminated area of the suction nozzle 23 is not contaminated by the cleaning liquid W used for cleaning the high concentration contaminated area. Therefore, similarly to the first embodiment, the second embodiment can obtain a higher cleaning effect than the conventional one.
  • the suction operation by the suction nozzle 23 is terminated before the nozzle 21 reaches the bottom surface of the cleaning unit 24a, and the cleaning electromagnetic valve 34 is set before the cleaning liquid W is accumulated in the cleaning unit 24a.
  • the effects of residual pressure after opening / closing delay and suction solenoid valve 34 are closed are eliminated. Therefore, a part of the cleaning liquid W accumulated in the cleaning unit 24a is not sucked by the suction nozzle 23, and it is possible to prevent the amount of the cleaning liquid necessary for cleaning the low concentration contaminated area of the suction nozzle 23 from being insufficient.
  • the cleaning liquid W is discharged from the discharge nozzle 22 only once by a predetermined amount or more of the cleaning liquid W.
  • the same cleaning effect as that obtained when the nozzle is discharged a plurality of times is obtained, and the nozzle cleaning process is simplified.
  • the tip of the suction nozzle 23 is in the cleaning tank 24 (cleaning unit 24a), and the suction nozzle 23 does not contact the bottom surface of the cleaning unit 24a.
  • the first cleaning liquid W is discharged and sucked.
  • the state where the tip of the suction nozzle 23 is inside the cleaning unit 24a is a state where the tip is at the same height or lower side as the uppermost part of the cleaning unit 24a.
  • the control unit 41 starts the descent of the nozzle 21, the tip of the suction nozzle 23 is in the cleaning unit 24 a, and the tip of the suction nozzle 23 contacts the bottom surface of the cleaning unit 24 a.
  • the nozzle 21 is temporarily stopped at a height that does not.
  • the control unit 41 starts the discharge operation by the discharge nozzle 22 and the suction operation (first time) by the suction nozzle 23.
  • This state remains because the tip of the suction nozzle 23 is not in contact with the bottom surface of the cleaning unit 24a, as in the case of discharging and suctioning the cleaning liquid W in the air while lowering the nozzle 21 in the second embodiment. An effect of suppressing the influence of pressure is obtained.
  • the control unit 41 ends the suction operation by the suction nozzle 23 after a predetermined time has elapsed since the suction operation by the suction nozzle 23 was started.
  • control unit 41 lowers the nozzle 21 again until or until the tip of the suction nozzle 23 reaches the bottom surface of the cleaning unit 24a. And the control part 41 complete
  • the suction nozzle 23 since the tip of the suction nozzle 23 is not in contact with the bottom surface of the cleaning unit 24a during the first suction operation by the suction nozzle 23, the residual pressure The suction nozzle 23 can be cleaned while suppressing the influence of the above. Furthermore, in the third embodiment, since discharge and suction are performed with at least the tip of the suction nozzle 23 entering the inside of the cleaning tank 24 (cleaning unit 24a), the suction nozzle 23 is discharged from the discharge nozzle 22. Accordingly, it is possible to prevent the cleaning liquid W that has fallen from splashing out of the cleaning tank 24.
  • the suction nozzle 23 inserted into the reaction vessel 3a and the washing tank 24 has a tip (opening) at the bottom of the reaction vessel 3a or the washing unit 24a of the washing tank 24.
  • Positioned to contact the bottom surface of The suction nozzle 50 shown in FIG. 17 is formed such that the shape of the opening 50a at the tip thereof is a plane perpendicular to the axial direction.
  • the tip shape of the suction nozzle 23 is a plane perpendicular to the axial direction because the suction force is reduced due to close contact with the bottom surface of the reaction vessel 3a or the cleaning unit 24a. Therefore, hereinafter, a modification of the tip shape for increasing the suction force of the suction nozzle 23 will be described with reference to FIGS.
  • FIG. 18 is a first modification of the tip shape of the suction nozzle.
  • the opening 51a at the tip is formed in a plane having a certain angle with respect to the axial direction.
  • a gap is formed when the tip of the suction nozzle 51 is brought into contact with the bottom surface of the reaction vessel 3a or the bottom surface of the cleaning unit 24a. It does not decline. Therefore, the liquid remaining on the bottom surface can be reliably sucked to the end.
  • the shape of the opening 23a of the suction nozzle 23 used in the first to third embodiments is the same shape as the opening 51a of the suction nozzle 51.
  • FIG. 19 shows a second modification of the tip shape of the suction nozzle.
  • the suction nozzle 52 shown in FIG. 19 has an opening 52a having an oblique plane similar to that in FIG. 18, and an opening 52b having a plane obtained by cutting a part of the opening 52a along a plane perpendicular to the axial direction.
  • a gap is formed when the tip of the suction nozzle 23 is brought into contact with the bottom surface of the reaction vessel 3a or the bottom surface of the cleaning unit 24a, like the suction nozzle 50 of FIG.
  • the suction power does not decrease.
  • the suction nozzle 52 has a smaller substantial opening through which the liquid can be sucked compared to the suction nozzle 51 of FIG.
  • the suction operation of the cleaning liquid by the suction nozzle 52 that is, the suction amount of the cleaning liquid is stabilized.
  • FIG. 20 shows a third modification of the tip shape of the suction nozzle.
  • the suction nozzle 53 shown in FIG. 20 has an opening 53a made of a plane perpendicular to the axial direction, similar to FIG. However, a slit 53b is provided in a part of the opening 53a.
  • the width of the opening 53a and the inner diameter of the suction nozzle 53 (intervals indicated by broken lines) have a similar structure.
  • two slits 53b are formed in the circular opening 53a at intervals of 180 degrees.
  • the suction nozzle 53 according to the third modification can obtain the same effects as those of the first and second modifications. Furthermore, in the suction nozzle 53, when the tip part contacts the bottom surface of the reaction vessel 3a or the bottom surface of the cleaning unit 24a, the substantial opening through which the liquid can be sucked is small compared to the first and second modified examples. .
  • the width of the opening 53 a is approximately the same as the inner diameter of the suction nozzle 53, but the width of the opening 53 a may be narrower than the inner diameter of the suction nozzle 53.
  • FIG. 21 shows a fourth modification of the tip shape of the suction nozzle.
  • the suction nozzle 54 has an opening 54a made of a plane perpendicular to the axial direction, similar to FIG. However, the circular opening 54a is provided with four slits 54b1 to 54b4 at intervals of 90 degrees, for example.
  • the same effect as in the third modification can be obtained.
  • the suction nozzle 54 has slits 54b1 to 54b4 formed at four locations, and the amount of cleaning liquid that can be sucked per unit time is increased as compared with the third modification in which slits 53b are formed at two locations. .
  • the discharge nozzle 22 has a shape of the opening 22a at the tip thereof formed in a plane perpendicular to the axial direction.
  • the present invention is not limited to this example.
  • FIG. 22 shows an example of the tip shape of the discharge nozzle.
  • the opening 55a at the tip is formed in a plane having a certain angle (for example, 45 degrees) with respect to the axial direction.
  • the opening 55a is formed to face the suction nozzle (the suction nozzle is disposed on the right side of the discharge nozzle 55 in FIG. 22).
  • the opening 55a is a plane that is oblique to the axial direction
  • the upper side of the oblique opening 55a is in contact with the suction nozzle, so that the cleaning liquid discharged from the opening 55a is more smoothly transmitted to the suction nozzle. And flow.
  • the above-described automatic analyzer 1 according to the first to third embodiments is an example applied to an immunological test apparatus having a BF separation step.
  • the nozzle cleaning technique according to these embodiments is applied to biochemistry.
  • the present invention can be applied to an automatic analyzer having a nozzle for cleaning a reaction vessel such as an analyzer.
  • the first suction operation by the suction nozzle 23 may not start before the discharge of the cleaning liquid. That is, after a certain period of time has elapsed after the tip of the suction nozzle 23 (opening 23a) has reached the bottom surface of the cleaning unit 24a and discharge of the cleaning liquid has started, the highly concentrated contaminated region of the suction nozzle 23 has been immersed in the cleaning liquid.
  • the suction operation by the suction nozzle 23 may be performed.
  • the cleaning liquid used for cleaning the low-concentration contaminated region of the suction nozzle 23 is contaminated by the contamination of the wall surface of the cleaning unit 24a.
  • the number of times of discharge and suction of the cleaning liquid are the same and easy to control.
  • the example in which the discharge of the cleaning liquid is started when the tip (opening 23a) of the suction nozzle 23 reaches the bottom surface of the cleaning unit 24a has been described.
  • the process of starting to lower the nozzle 21 and ending the lowering of the nozzle 21 may be executed immediately after the start of the nozzle cleaning operation and before the suction operation by the suction nozzle 23 is started.
  • the cleaning liquid when the cleaning liquid is discharged after the nozzle 21 is positioned at a height where the tip of the suction nozzle 23 does not contact the bottom surface of the cleaning unit 24a, the cleaning liquid is sucked by the suction nozzle 23. In doing so, the nozzle 21 may be lowered so that the tip (opening 23a) of the suction nozzle 23 follows the surface of the cleaning liquid.
  • a trap that operates following the suction pressure and a preload tank that stores the liquid collected by the trap may be provided on the suction side. Further, when the suction pump 35 is not used for purposes other than cleaning liquid suction, the suction electromagnetic valve 34 can be dispensed with.
  • SYMBOLS 1 Automatic analyzer, 2 ... Measuring apparatus, 10 ... Immune enzyme reaction unit, 11 ... 1st BF separation unit, 12 ... 2nd BF separation unit, 21 ... Nozzle, 22 ... Discharge nozzle, 22a ... Opening part, 23 ... Suction nozzle, 23a ... Opening, 24 ... Cleaning tank, 24a ... Cleaning part, 24b ... Overflow part, 24c ... Discharge port, 31 ... Discharge solenoid valve, 32 ... Discharge pump, 33 ... Cleaning liquid tank, 34 ... Suction Solenoid valve, 35 ... suction pump, 40 ... control device, 41 ... control unit, 43 ... analysis unit, W ... cleaning solution

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Abstract

　自動分析装置における、筒状であって洗浄液の吐出を行う吐出部と、筒状であって外周面に沿って流れ落ちる吐出部から吐出された洗浄液の吸引を行う吸引部とを備えるノズルを洗浄する際に、まず吐出部による吐出動作を開始し、その吐出部による吐出動作と並行して吸引部による吸引動作を開始する。そして、吸引部が外周面に沿って流れ落ちる洗浄液を所定時間吸引した後に、吸引動作を一旦終了する。続いて、洗浄槽内に所定量の洗浄液が溜まった後に、吐出動作を終了する。そして、吸引部が洗浄槽に溜められた洗浄液に浸った状態において、再度、吸引動作を再開する。

Description

自動分析装置及びノズル洗浄方法
　本発明は、自動分析装置及びノズル洗浄方法に関し、特に検体や試薬等の液体の吐出及び吸引を行うノズルを洗浄する技術に関わる。
　自動分析装置は、免疫検査、生化学検査、輸血検査などさまざまな分野での検査に用いられ、多数の検体に対する分析処理を同時に行い、さらに、多成分を迅速に、かつ、高精度で分析する。
　従来、自動分析装置では、先に分注した検体や試薬等の液体がプローブに付着したまま次に分注する液体に持ち越されることで、分析結果に影響を及ぼすキャリーオーバーを回避するため、プローブを洗浄するノズル洗浄機構を備えている。このノズル洗浄機構は、プローブに対して洗浄液を供給するように構成されている。このノズル洗浄機構を用いたノズル洗浄方法では、液体の吸引および吐出を行って分注が完了した後に、プローブをノズル洗浄機構の位置に移動させ、このプローブに対して洗浄液を供給してプローブを洗浄している。
　例えば、特許文献１に、吐出ノズルと吸引ノズルを有するノズルを用いて、洗浄液の吐出と吸引からなる洗浄動作を少なくとも２回に分けて行うノズル洗浄の技術が記載されている。このノズルは、吐出ノズルの下端が吸引ノズルの下端よりも所定の長さだけ上方に配置されて構成されている。
　特許文献１に記載された技術によれば、ノズルを洗浄する際に、まず吸引ノズルの先端が洗浄槽の底部近傍に位置するようにノズルを洗浄槽に挿入する。次に、第１の液量の洗浄液（第１の洗浄液）を吐出ノズルにより洗浄槽に注入し、吸引ノズルによりこの第１の洗浄液を吸引する。続いて、第１の液量を超える第２の液量の洗浄液（第２の洗浄液）を吐出ノズルにより洗浄槽に注入し、吸引ノズルによりこの第２の洗浄液を吸引する。
　このように、特許文献１に記載の技術では、洗浄時に吐出する洗浄液量を、第１の洗浄液量と第２の洗浄液量との少なくとも２段階に分けて吐出している。第１の洗浄液量は、ノズルが試薬や検体等の液体中に浸入した際に、吸引ノズルの先端部分が当該液体に浸漬した高さまで浸る量であり、また第２の洗浄液量は、洗浄槽が概ね満杯になる量である。すなわち、特許文献１に記載の技術では、第１の洗浄液を用いて吸引ノズルの下端から上記高さまでの高濃度汚染領域を洗浄し、第２の洗浄液を用いて吸引ノズルの下端から所定高さまでの低濃度汚染領域を洗浄している。
特開２００５－２８３２４６号公報
　近年、自動分析装置により高い分析精度が求められている。それに伴い、試薬や検体等の液体のキャリーオーバーを抑制するため、液体が直接接触するノズルに関する洗浄性能の向上が要求されている。
　特に、生化学分析よりも高精度な分析性能が要求される免疫検査は、検体の分析に伴う反応過程に免疫吸着物質に特異的に結合した成分と、結合しなかった成分とを分離する、いわゆるＢＦ分離操作を含んでいる。このＢＦ分離は、高感度な免疫測定を行うために、磁性粒子等を含む免疫吸着物質を高性能に分離することが求められる。しかし、ＢＦ分離において、試薬や検体等の液体に触れるノズルの洗浄が不十分であると、免疫吸着物質の分離性能が低下し、高感度な免疫測定が阻害されてしまう。
　特許文献１に記載の技術では、第１の洗浄液を洗浄槽に注入した後、これを吸引し、続いて、第２の洗浄液を洗浄槽に注入していた。すなわち、吸引ノズルの先端部分に付着した液体（汚染物）が第１の洗浄液に混入し、かつ、洗浄槽内の第１の洗浄液が浸った部分に第２の洗浄液が注入されていた。したがって、後から洗浄槽に注入される第２の洗浄液は、吸引ノズルに付着した液体が混入した第１の洗浄液によって汚染されてしまう。
　本発明は係る状況を考慮してなされたものであり、吐出ノズルと吸引ノズルを備えるノズルの洗浄において、従来よりも高い洗浄効果を得ることを目的とする。
　上記課題を解決するために、本発明の一態様は、自動分析装置における、筒状であって洗浄液の吐出を行う吐出部と、筒状であって外周面に沿って流れ落ちる吐出部から吐出された洗浄液の吸引を行う吸引部とを備えるノズルを洗浄する際に、まず吐出部による吐出動作を開始し、その吐出部による吐出動作と並行して吸引部による吸引動作を開始する。そして、吸引部が外周面に沿って流れ落ちる洗浄液を所定時間吸引した後に、吸引部による吸引動作を一旦終了する。続いて、洗浄槽内に所定量の洗浄液が溜まった後に、吐出部による吐出動作を終了する。そして、吸引部が洗浄槽に溜められた洗浄液に浸った状態において、再度、吸引部による吸引動作を再開する。
　本発明の少なくとも一態様によれば、吐出部から吐出される洗浄液が吸引部の外周面に沿って流れて吸引部により吸引されることで、吸引部の下端部分が洗浄液に触れる時間を、その他の部分が洗浄液に触れる時間に比べて相対的に長くすることができる。また、吸引部が吸引動作を一旦終了する前に吐出部から吐出された洗浄液は洗浄槽に溜まらないため、吸引部が浸漬される洗浄液は、吸引動作を一旦終了する前に吐出された洗浄水によって汚染されることがない。したがって、従来よりも高い洗浄効果を得られる。
本発明の第１の実施の形態に係る自動分析装置を示す概略構成図である。 図１のノズルと洗浄槽の構造を示す概略断面図である。 図２の吸引ノズルの汚染領域の説明図であり、図３Ａは高濃度汚染領域、図３Ｂは低濃度汚染領域を表している。 図１の自動分析装置の制御系の構成図である。 本発明の第１の実施の形態に係るノズル洗浄処理を示すフローチャートである。 本発明の第１の実施の形態に係る吐出ノズルから吐出された洗浄液の流れを示す説明図である。 本発明の第１の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（１）を示す説明図である。 本発明の第１の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（２）を示す説明図である。 本発明の第１の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（３）を示す説明図である。 従来技術における必要洗浄液量と洗浄液量との関係を示す説明図である。 本発明の第１の実施の形態に係る必要洗浄液量と洗浄液量との関係を示す説明図である。 本発明の第２の実施の形態に係るノズル洗浄処理を示すフローチャートである。 本発明の第２の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（１）を示す説明図である。 本発明の第２の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（２）を示す説明図である。 本発明の第２の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（３）を示す説明図である。 本発明の第２の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（４）を示す説明図である。 吸引ノズルの先端形状の一例である。 吸引ノズルの先端形状の第１の変形例である。 吸引ノズルの先端形状の第２の変形例である。 吸引ノズルの先端形状の第３の変形例である。 吸引ノズルの先端形状の第４の変形例である。 吐出ノズルの先端形状の一例である。
　以下、本発明を実施するための形態の例について、添付図面を参照しながら説明する。なお、各図において共通の構成要素には、同一の符号を付して重複する説明を省略する。
＜１．第１の実施の形態＞
　［自動分析装置の概要］
　図１は、本発明の第１の実施の形態に係る自動分析装置を示す概略構成図である。
　図１に示す自動分析装置１は、被検体の抗原抗体反応などの免疫分析を行う免疫分析装置を適用したものである。自動分析装置１は、測定装置２と、測定装置２を含む自動分析装置１全体の制御を行うとともに測定装置２から出力される測定データの分析を行う制御装置４０とを備えている。
　免疫分析装置が適用された自動分析装置１は、例えば化学発光酵素免疫測定法（CLEIA
：Chemiluminescent Enzyme Immunoassay）を用いて、高感度の測定を行う。ＣＬＥＩＡ
は、主な工程として、反応容器内で検体（抗原又は抗体）と試薬とを反応させる反応工程、反応容器内の反応生成物（ｂｏｕｎｄ）と未反応物質（ｆｒｅｅ）を分離する分離工程（ＢＦ分離）、各試薬と検体とが反応して生成される免疫複合体から生じる発光の発光量を測定する測光工程を有する。
［自動分析装置１の測定系］
　測定装置２は、大別して反応容器供給ユニット３、検体架設ユニット４、反応容器搬送ユニット５、検体分注ユニット６、試薬保冷ユニット７、第１の試薬分注ユニット８、第２の試薬分注ユニット９、免疫酵素反応ユニット１０、第１のＢＦ分離ユニット１１、第２のＢＦ分離ユニット１２、基質液保冷庫１４、容器移送アーム１５及び発光測定ユニット１６を備える。
　反応容器供給ユニット３は、複数の反応容器（キュベット）３ａを収容し、それら複数の反応容器３ａを１つずつ移送位置に供給する。移送位置に供給された反応容器３ａは、反応容器搬送ユニット５によって免疫酵素反応ユニット１０に搬送される。免疫酵素反応ユニット１０に搬送された反応容器３ａには、検体と所定の試薬が注入される。
　反応容器搬送ユニット５は、鉛直方向への昇降および自身の基端部を通過する鉛直線を中心軸とする回転を自在に行うアームと、アームの先端部に設けられた保持部を備える。反応容器搬送ユニット５は、反応容器供給ユニット３の供給位置に供給された反応容器３ａを保持部により保持し、アームを旋回して、所定のタイミングで免疫酵素反応ユニット１０の所定の位置に搬送する。
　検体架設ユニット４は、軸方向の一端が開口した略円筒状をなす容器状に形成されているターンテーブルを備える。この検体架設ユニット４には、複数の検体容器４ａが収容されている。検体容器４ａには、被検者から採取した血液又は尿等からなる検体（サンプル）が収容される。複数の検体容器４ａは、検体架設ユニット４の周方向に所定の間隔を空けて並べて配置されている。検体架設ユニット４は、不図示の駆動機構によって周方向に沿って回転可能に支持されている。そして、検体架設ユニット４は、不図示の駆動機構により、周方向に所定の角度範囲ごとに、所定の速度で回転する。図１の例では、検体架設ユニット４の周方向に並べられた検体容器４ａの列は、検体架設ユニット４の半径方向に所定の間隔を空けて２列設けられている。なお、検体として、所定の希釈液で希釈された検体を用いてもよい。
　検体分注ユニット６は、鉛直方向への昇降および自身の基端部を通過する鉛直線を中心軸とする回転を自在に行うアームと、アームの先端部に設けられたプローブを備える。検体分注ユニット６は、検体架設ユニット４の所定位置に移動された検体容器４ａ内の検体をプローブによって吸引し、アームを旋回して、所定のタイミングで免疫酵素反応ユニット１０の所定の位置にある反応容器３ａに分注する。
　試薬保冷ユニット７は、検体架設ユニット４と同様に、軸方向の一端が開口した略円筒状をなす容器状に形成されているターンテーブルを備える。試薬保冷ユニット７は、不図示の駆動機構によって周方向に沿って回動可能に支持されており、この不図示の駆動機構により、その周方向に所定の角度範囲ずつ、所定の速度で正回転又は逆回転する。
　試薬保冷ユニット７には、第１の試薬容器７ａと第２の試薬容器７ｂが収容されている。第１の試薬容器７ａと第２の試薬容器７ｂは、試薬保冷ユニット７の周方向上に所定の間隔を空けて並べて配置される。第１の試薬容器７ａには、第１の試薬として、検体中の目的の抗原と反応する磁性粒子からなる磁性試薬が収容される。また、第２の試薬容器７ｂには、第２の試薬として、検体中の抗原と磁性試薬が結合した反応生成物と反応する標識試薬（酵素抗体）が収容される。試薬保冷ユニット７内は、不図示の保冷機構によって所定の温度に保たれている。そのため、第１の試薬容器７ａに収容された第１の試薬（磁性試薬）と、第２の試薬容器７ｂに収容された第２の試薬（標識試薬）は、所定の温度で保冷される。
　第１の試薬分注ユニット８は、鉛直方向への昇降および自身の基端部を通過する鉛直線を中心軸とする回転を自在に行うアームと、アームの先端部に設けられたプローブを備える。第１の試薬分注ユニット８は、試薬保冷ユニット７の所定位置に移動された第１の試薬容器７ａ内の第１の試薬（磁性試薬）をプローブによって吸引し、アームを旋回して、所定のタイミングで免疫酵素反応ユニット１０の所定の位置にある反応容器３ａに分注する。
　第２の試薬分注ユニット９は、第１の試薬分注ユニット８と同様の構成を有する。第２の試薬分注ユニット９は、試薬保冷ユニット７の所定位置に移動された第２の試薬容器７ｂ内の第２の試薬（標識試薬）をプローブによって吸引し、アームを旋回して、所定のタイミングで免疫酵素反応ユニット１０の所定の位置にある反応容器３ａに分注する。
　免疫酵素反応ユニット１０では、周方向に配置された反応容器３ａ内で検体と分析項目に対応する所定の試薬との免疫反応と、この免疫反応で生成される免疫複合体と化学発光基質による酵素反応とが行われる。免疫酵素反応ユニット１０は、検体架設ユニット４と同様に、軸方向の一端が開口した略円筒状をなす容器状に形成されているターンテーブルを備える。免疫酵素反応ユニット１０は、不図示の駆動機構によって周方向に沿って回転可能に支持されており、この不図示の駆動機構により、その周方向に所定の角度範囲ずつ、所定の速度で回転する。ここでは、免疫酵素反応ユニット１０は、反時計回りに回転する。図１の例では、免疫酵素反応ユニット１０の周方向に並べられた反応容器３ａの列は、免疫酵素反応ユニット１０の半径方向に所定の間隔を空けて１列セットされているが、後述する第１の試薬用の反応容器３ａの列と第２の試薬用の反応容器３ａの列を半径方向に所定の間隔を空けて設けてもよい。
　免疫酵素反応ユニット１０は、検体が注入された反応容器３ａに第１の試薬分注ユニット８によって磁性試薬が分注されると、不図示の撹拌機構により磁性試薬と検体の混合液を撹拌し、検体中の抗原と磁性試薬とを一定時間免疫反応させる（１次免疫反応）。次に、免疫酵素反応ユニット１０は、この反応容器３ａを第１の集磁機構（磁石１３）に移動し、抗原と磁性試薬が結合した反応生成物を磁力により集磁する。そして、この状態で反応容器３ａ内が洗浄され、磁性試薬と反応しなかった未反応物質が除去される（１次ＢＦ分離）。
　第１の集磁機構は、免疫酵素反応ユニット１０の外周部近傍に配置された第１のＢＦ分離ユニット１１に対応した位置に固定されている。免疫酵素反応ユニット１０のターンテーブルは、固定された下層と回転可能な上層の二層で構成されている。下層のターンテーブルには、第１の集磁機構として磁石１３が配置され、上層のターンテーブルには反応容器３ａが配置される。磁石１３は、反応容器３ａ内の反応生成物を集磁する。
　第１のＢＦ分離ユニット１１は、アーム２５と、アーム２５に取り付けられたノズル２１と、洗浄槽２４とを備える。アーム２５は、鉛直方向への昇降および自身の基端部を通過する鉛直線を中心軸とする回転を自在に行う。このアーム２５は、ノズル２１を、免疫酵素反応ユニット１０の１次ＢＦ分離位置にある反応容器３ａと、第１のＢＦ分離ユニット１１側のノズル洗浄位置にある洗浄槽２４に移動する。ノズル２１は、１次ＢＦ分離位置において、検体と磁性試薬が注入された反応容器３ａ内に洗浄液を吐出及び吸引して洗浄し、磁性試薬と反応しなかった未反応物質を除去する（ＢＦ洗浄）。
　第１のＢＦ分離ユニット１１は、反応容器３ａが１次ＢＦ分離位置に搬送されると、１次ＢＦ分離を行う。１次ＢＦ分離及びＢＦ洗浄により、反応容器３ａには、検体中の目的の抗原と磁性試薬が結合した反応生成物が集磁される。そして、１次ＢＦ分離が終了すると、アーム２５によりノズル２１を洗浄槽２４があるノズル洗浄位置に移動する。
　１次ＢＦ分離後、免疫酵素反応ユニット１０は、反応生成物が残留した反応容器３ａに、第２の試薬分注ユニット９によって標識試薬が分注されると、不図示の撹拌機構により磁性試薬と検体の混合液を撹拌し、反応生成物と標識試薬とを一定時間免疫反応させる（２次免疫反応）。次に、免疫酵素反応ユニット１０は、この反応容器３ａを不図示の第２の集磁機構に移動し、反応生成物と標識試薬が結合した免疫複合体を磁力により集磁する。そして、この状態で反応容器３ａ内が洗浄され、標識試薬と反応しなかった未反応物質が除去される（２次ＢＦ分離）。
　第２の集磁機構は、第１の集磁機構の磁石１３と同様の磁石を有し、免疫酵素反応ユニット１０の外周部近傍に配置された第２のＢＦ分離ユニット１２に対応した位置に固定されている。図１の例では、第２の集磁機構が備える磁石は、２次ＢＦ分離位置にあるノズル２１の下方に配置されている。
　第２のＢＦ分離ユニット１２は、第１のＢＦ分離ユニット１１と同様の構成を有し、第１のＢＦ分離ユニット１１に対し周方向に所定の距離をあけて配置される。アーム２５は、鉛直方向への昇降および自身の基端部を通過する鉛直線を中心軸とする回転を自在に行う。このアーム２５は、ノズル２１を、免疫酵素反応ユニット１０の２次ＢＦ分離位置にある反応容器３ａと、第２のＢＦ分離ユニット１２側のノズル洗浄位置にある洗浄槽２４に移動する。ノズル２１は、２次ＢＦ分離位置において、標識試薬が注入された反応容器３ａ内に洗浄液を吐出及び吸引して洗浄し、標識試薬と反応しなかった余剰の未反応物質を除去する（ＢＦ洗浄）。
　第２のＢＦ分離ユニット１２は、反応容器３ａが２次ＢＦ分離位置に搬送されると、２次ＢＦ分離を行う。２次ＢＦ分離及びＢＦ洗浄により、反応容器３ａには、検体中の目的の抗原及び磁性試薬からなる反応生成物と標識試薬とが結合した免疫複合体が集磁される。そして、２次ＢＦ分離が終了すると、アーム２５によりノズル２１を洗浄槽２４があるノズル洗浄位置に移動する。
　ここで、ノズル２１と洗浄槽２４について説明する。第１のＢＦ分離ユニット１１と第２のＢＦ分離ユニット１２を共通して説明する。
　図２は、ノズル２１と洗浄槽２４の構造を示す概略断面図である。
　図３は、ノズル２１の吸引ノズルの汚染領域の説明図であり、図３Ａは高濃度汚染領域、図３Ｂは低濃度汚染領域を表している。
　図２に示すように、ノズル２１は、洗浄液を吐出する吐出ノズル２２（吐出部の一例）と、洗浄液を吸引する吸引ノズル２３（吸引部の一例）とで構成されている。吐出ノズル２２と吸引ノズル２３は、軸方向に平行に接触するように配置されている。吐出ノズル２２は筒状であり、下端に開口部２２ａ（吐出口）が形成されている。また、吸引ノズル２３は、吐出ノズル２２よりも軸方向に長い筒状であり、下端に開口部２３ａ（吸引口）が形成されている。ノズル２１の下端側が、ノズル２１を反応容器３ａ又は洗浄槽２４に浸入させる方向である。図３に示すように、吐出ノズル２２と吸引ノズル２３は、吐出ノズル２２の下端が吸引ノズル２３の下端よりも上方に距離Ｌ（図３Ａ参照）だけ離れるように構成されている。
　ここで、距離Ｌは、吸引ノズル２３が反応容器３ａ及び洗浄槽２４内の液体に浸漬したときの液面よりも、吐出ノズル２２の下端が高い位置にあるように決定されている。すなわち、吐出ノズル２２の先端と吸引ノズル２３の先端との距離Ｌは、洗浄対象の反応容器３ａにノズル２１を挿入し洗浄液を吐出した際に、洗浄液が吐出ノズル２２に到達しないような距離に決定される。洗浄槽２４の形状は、この距離Ｌとの関係で決定される。換言するならば、距離Ｌは、本来のＢＦ洗浄に必要な洗浄液量と容器形状から決定されるものである。このように距離Ｌを決定することにより、吐出ノズル２２は、当該吐出ノズル２２が吐出する洗浄液以外の液体と接触することがない。吐出ノズル２２と吸引ノズル２３のそれぞれの上端部には、チューブが取り付けられ、不図示の吸引ポンプおよび吐出ポンプに接続される。
　洗浄槽２４は、上部に開口部を有する略四角柱状又は略円柱状であり、ノズル洗浄時にノズル２１を上方から挿入して洗浄液を溜めることができる洗浄部２４ａと、洗浄部２４ａから溢れ出た洗浄液が流れ込むオーバーフロー部２４ｂを有する。オーバーフロー部２４ｂの底面には、排出口２４ｃが形成さており、排出口２４ｃを通じてオーバーフロー部２４ｂに流れ込んだ洗浄液が排出される。
　次に、ノズル２１の洗浄が必用な部分を説明する。
　免疫分析装置が適用された自動分析装置１では、反応容器３ａ中に、例えば５０～１００μＬ程度の検体が存在する。吸引ノズル２３の高濃度汚染領域は、吸引ノズル２３が反応容器３ａ内の液体に浸漬した部分に対応する領域であり、図３Ａに示すように吸引ノズル２３の先端部分に該当する。なお、実際の高濃度汚染領域の下端（開口部２３ａ）からの高さは、取り扱う反応容器３ａの形状に依存する。一方で、ＢＦ分離工程において洗浄液が反応容器３ａ内に満たされたとき、洗浄液の液面は吐出ノズル２２の開口部２２ａの近くまで上昇する。したがって、反応容器３ａ中の汚染物が拡散して低濃度に汚染された洗浄液によって、吸引ノズル２３の距離Ｌの大部分が低濃度汚染領域となる。これも実際の低濃度汚染領域の下端（開口部２３ａ）からの高さは、取り扱う反応容器３ａの形状に依存する。
　本実施の形態では、ノズル２１におけるこれらの汚染領域の洗浄を行う。洗浄する目標値としては、例えば免疫分析で求められている０．１ｐｐｍ以下（ノズル２１に付着した汚染物が洗浄によって１，０００万分の１以下に薄められる）とする。
　図１の説明に戻る。第２のＢＦ分離ユニット１２のアーム２５には、さらに基質液分注ユニット２６が取り付けられている。基質液分注ユニット２６は、ノズル２１よりもアーム２５の回転軸から遠い位置に配置される。基質液分注ユニット２６は、不図示のチューブを介して、基質液を収容して保冷する基質液保冷庫１４と接続している。基質液分注ユニット２６は、磁性試薬、抗原及び標識試薬（酵素抗体）が結合した免疫複合体に対し、標識試薬と特異的に反応する化学発光基質を含んだ基質液を、２次ＢＦ分離後の反応容器３ａ内に分注する。そして、基質液が注入された反応容器３ａは、免疫酵素反応ユニット１０の回転によって、所定位置までに搬送される。所定位置に搬送された反応容器３ａは、容器移送アーム１５によって発光測定ユニット１６へ移送される。
　発光測定ユニット１６は、光電子増倍管（ＰＭＴ）１６ａを検出器とする測光部であり、免疫複合体と化学発光基質からなる発光現象をフォトカウントにより測光する。つまり、発光量を測定する。発光測定ユニット１６で検出された光束（発光量）に対応する測光信号は、不図示のアナログ－デジタル変換器によりデジタル化される。そして、デジタル化された測光信号は、不図示のシリアルインターフェース等を介して制御装置４０に入力され、分析処理が行われる。
　これら測定装置２の各ユニット、発光測定ユニット１６は、制御装置４０からの指令に基づいて動作する。
［自動分析装置１の配管系統及び制御系］
　次に、自動分析装置１の配管系統及び制御系について説明する。
　図４は、自動分析装置１のノズル２１の洗浄に関わる配管系統及び制御系を示す構成図である。
（配管系統）
　自動分析装置１の測定装置２では、吐出ノズル２２は、吐出電磁弁３１を介してチューブで吐出ポンプ３２および洗浄液タンク３３と接続されている。吐出電磁弁３１の開状態及び閉状態を切り替えることで、洗浄液タンク３３から吐出ポンプ３２への洗浄液の吸引、および吐出ポンプ３２から吐出ノズル２２への洗浄液の吐出を制御する。
　吸引ノズル２３は、吸引電磁弁３４を介してチューブで吸引ポンプ３５と接続されている。吸引ポンプ３５の他端は、廃液の出口として測定装置２内の不図示の排水タンクや測定装置２外の排水口に接続されている。一般的に、吸引ポンプ３５は連続動作させて用いられる。その場合には、吸引電磁弁３４の開状態及び閉状態を切り替えることで吸引の制御を行う。
　本実施の形態では、一例として、吐出ポンプ３２にシリンジポンプを用い、吸引ポンプ３５にダイアフラムポンプを用いる。なお、ポンプの組み合わせはその逆でもよい。また、吐出ポンプ３２にダイアフラムポンプを用いてもよい。
　ノズル２１が取り付けられたアーム２５は、駆動機構として例えばパルスモータ２５ｍにより垂直方向に移動し、不図示の駆動機構により水平方向（ＢＦ分離位置及びノズル洗浄位置）に移動する。洗浄槽２４の排出口２４ｃは、測定装置２内の不図示の排水タンクや測定装置２外の排水口に接続されている。
　上記の各ポンプ、各電磁弁、駆動機構は、不図示のシリアルインターフェース等を介して制御装置４０と接続されている。
（制御系）
　次に、制御装置４０について説明する。
　図４に示すように、制御装置４０は、制御部４１、入力部４２、分析部４３、記憶部４４、出力部４５および通信インターフェース（図４では「通信Ｉ／Ｆ」と表記）４６を備える。
　制御部４１は、例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）と、プログラムを記憶する
不図示のＲＯＭ（Read Only Memory）と、ＣＰＵの作業領域として使用されるＲＡＭ（Random Access Memory）とを有する。制御部４１のＣＰＵは、ＲＯＭに記憶されたプログラムをＲＡＭに読み出し、このプログラムに従い、自動分析装置１の各構成部位の処理および動作を制御する。また、制御部４１は、不図示のシステムバスを介して、入力部４２、分析部４３、記憶部４４、出力部４５および通信インターフェース４６と電気的に接続されている。制御装置４０は、自動分析装置１の各処理にかかわる各種プログラムを用いて、免疫分析における反応工程、分離工程（ＢＦ分離）、測光工程の制御を行う。
　入力部４２は、制御部４１へ測定項目等を入力する操作を行う部分であり、例えば、キーボードやマウス等が使用される。
　分析部４３は、制御部４１を介して発光測定ユニット１６に接続され、発光測定ユニット１６が受光した光量に基づいて検体の測定項目の成分濃度等を分析し、分析結果を制御部４１に出力する。
　記憶部４４は、不揮発性の大容量記憶装置であり、検体の測定項目ごとの測定条件や検体の測定項目の分析結果等を含む諸情報を記憶する。記憶部４４には、例えば、ＳＳＤ（Solid State Drive）、磁気ディスク等の記憶装置が用いられる。また、記憶部４４は、
光ディスク、光磁気ディスク、ＩＣカード、ＳＤカード等の記憶媒体に記憶された情報を読み取ることができる補助記憶装置を備えてもよい。
　出力部４５は、ディスプレイ（表示部）、スピーカー、プリンタ等を用いて構成され、制御部４１の制御の下、検体の分析に関する諸情報を出力する。ディスプレイは、検体の分析内容や警報等を表示する。また、入力部４２および表示部はタッチパネルによって実現するようにしてもよい。
　通信インターフェース４６は、図示しない通信ネットワークを介して、所定の形式に従った情報の送受信を行なうインターフェースである。例えば、通信インターフェース４６としてシリアルインターフェースが適用される。
　制御部４１は、通信インターフェース４６を介して、上記の各ポンプ、各電磁弁、駆動機構に指令を出力し、免疫分析の分離工程におけるノズル洗浄処理の制御を行う。
［自動分析装置１のノズル洗浄処理］
　次に、自動分析装置１のノズル洗浄処理について説明する。
　本実施の形態に係るノズル洗浄処理では、吸引ノズル２３の高濃度洗浄領域をより効果的に洗浄するため、はじめに高濃度汚染領域を少量の洗浄液で洗浄し、続いて吸引ノズル２３の低濃度汚染領域全体を洗浄液中に浸漬する。汚染領域が洗浄液と触れている時間が長ければ長いほど、より高い洗浄効果が得られる。このとき、吸引ノズル２３を洗浄するにあたり制御を簡便にするために、吐出ノズル２２による洗浄液の吐出は複数回には分けず、１回だけ行う。以下、図５～図９を参照してノズル洗浄処理の具体的な手順を説明する。
　図５は、自動分析装置１のノズル洗浄処理を示すフローチャートである。
　図６は、吐出ノズル２２から吐出された洗浄液の流れを示す説明図である。
　図７は、第１の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（１）を示す説明図である。
　図８は、第１の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（２）を示す説明図である。
　図９は、第１の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（３）を示す説明図である。
　図５に示すように、１次ＢＦ分離（又は２次ＢＦ分離）が終了した後、制御装置４０の制御部４１は、まず第１のＢＦ分離ユニット１１（又は第２のＢＦ分離ユニット１２）のアーム２５により、ノズル２１をノズル洗浄位置すなわち洗浄槽２４の上方に移動する。そして、制御部４１は、ノズル２１と洗浄槽２４を用いるノズル洗浄動作を開始する。
　ノズル洗浄動作を開始すると、制御部４１は、ノズル２１の洗浄に用いる洗浄液の準備を行う（ステップＳ１）。具体的には、吐出電磁弁３１及び吐出ポンプ３２を制御し、吐出ポンプ３２が洗浄液タンク３３から洗浄液を吸引する。
　次に、制御部４１は、吸引電磁弁３４及び吸引ポンプ３５を制御して、吸引ノズル２３による吸引動作（１回目）を開始する（ステップＳ２）。
　次に、制御部４１は、ノズル２１の洗浄槽２４への降下を開始する（ステップＳ３）。そして、制御部４１は、吸引ノズル２３の開口部２３ａが洗浄槽２４内の洗浄部２４ａの底面に到達すると、ノズル２１の降下を終了してノズル２１の位置を固定する（ステップＳ４）。吸引ノズル２３の開口部２３ａを洗浄部２４ａの底面に接触させることにより、後述する洗浄液を吸引時に、洗浄部２４ａ内に溜まった洗浄液をすべて吸引することができる。なお、制御部４１は、吸引ノズル２３の開口部２３ａが洗浄部２４ａの底面近傍に到達したときに、ノズル２１の降下を終了するようにしてもよい。吸引ノズル２３の開口部２３ａが底面近傍にある状態において、開口部２３ａから底面に存在する洗浄液を吸収できるならば、開口部２３ａが底面近傍にある状態は開口部２３ａが実質的に底面に到達している状態であると言える。
　次に、制御部４１は、吐出電磁弁３１及び吐出ポンプ３２を制御し、吐出ノズル２２による開口部２２ａから洗浄液を吐出する吐出動作を開始する（ステップＳ５）。吐出ノズル２２と吸引ノズル２３は密着して構成されているため、図６に示すように、吐出ノズル２２の開口部２２ａから吐出された洗浄液Ｗは、吸引ノズル２３の外周面を伝って流れ落ちる。吐出ノズル２２から吐出される洗浄液の流速は、洗浄液が吸引ノズル２３の外周面に沿って流れ落ちる適度な値に調整されている。吸引ノズル２３は、連続的に吸引動作を続けているため、吸引ノズル２３の外周面に沿って流れ落ちてきた洗浄液Ｗは、逐次吸引ノズル２３の開口部２３ａより吸引される。この動作により、まず吸引ノズル２３の先端部分の高濃度汚染領域（図３Ａ）が洗浄される。
　ここで、吐出ノズル２２による洗浄液の単位時間あたりの吐出量と、吸引ノズル２３による洗浄液の単位時間あたりの吸引量とは、「吐出量≦吸引量」の関係にある。吐出ノズル２２から吐出された洗浄液Ｗはすべて吸引ノズル２３の開口部２３ａから吸引されるため、吐出された洗浄液Ｗが洗浄槽２４の洗浄部２４ａに溜まることがない（図７参照）。よって、洗浄部２４ａ内は清浄な状態に保たれる。
　この間に制御部４１は、吸引ノズル２３による吸引動作を開始してから所定時間が経過したかどうかを判定する（ステップＳ６）。時間の計測は、制御部４１を構成する不図示のＣＰＵが出力するクロック信号を利用して行う。あるいは、制御装置４０にタイマを設けてもよい。吸引ノズル２３による吸引動作を開始してから所定時間を経過していない場合には、制御部４１は、この判定処理を継続する。この所定時間は少なくとも、吐出ノズル２２が、吸引ノズル２３の高濃度汚染領域を洗浄するために必要な洗浄液Ｗを吐出するのに要する時間である。
　一方、ステップＳ５において吸引ノズル２３による吸引動作を開始してから所定時間を経過した場合には、制御部４１は、吸引ノズル２３による吸引動作を終了する（ステップＳ７）。吸引ノズル２３の高濃度汚染領域を洗浄するのに必要な洗浄液Ｗが吐出された後、吸引ノズル２３による吸引動作を一旦終了するが、吐出ノズル２２からは洗浄液Ｗが引き続き吐出される。したがって、吐出ノズル２２から吐出された洗浄液Ｗは洗浄部２４ａに溜まっていく（図８参照）。このとき、吸引ノズル２３の低濃度汚染領域（図３Ｂ）が洗浄部２４ａに完全に入るように、吐出ノズル２２と吸引ノズル２３との位置関係が決められているので、吸引ノズル２３の低濃度汚染領域の全体が洗浄部２４ａ内の洗浄液Ｗ中に浸漬される。また、余剰の洗浄液Ｗは、オーバーフロー部２４ｂに溢れ出し、排出口２４ｃから排出される（図９参照）。
　次に、制御部４１は、吸引ノズル２３の低濃度汚染領域がすべて洗浄液Ｗに浸漬した後、吐出ノズル２２による洗浄液の吐出動作を終了する（ステップＳ８）。少なくとも吸引ノズル２３の低濃度汚染領域がすべて洗浄液Ｗに浸かる洗浄液Ｗの液量を、予め求めておく。制御部４１は、予め求めた液量に基づいて吐出電磁弁３１及び吐出ポンプ３２を制御する。なお、ステップＳ７の吸引動作の終了処理とステップＳ８の吐出動作の終了処理は、低濃度汚染領域の洗浄に必要な洗浄液を溜められるのであれば、時間的に多少前後することは許容される。また、洗浄部２４ａから洗浄液Ｗが溢れ出たことを任意のセンサで検知して、吐出ノズル２２による洗浄液の吐出を終了するようにしてもよい。
　その後、制御部４１は、吸引ノズル２３による吸引動作（２回目）を再び開始し、洗浄部２４ａに溜まった洗浄液Ｗ（残液）をすべて吸引する（ステップＳ９）。制御部４１は、洗浄部２４ａに溜まった洗浄液Ｗを吸引ノズル２３によってすべて吸引した後、吸引ノズル２３による吸引動作を終了する（ステップＳ１０）。制御部４１は、このステップＳ１０の処理が終了すると、ノズル洗浄動作を終了する。
　上述した第１の実施の形態では、まず高濃度に汚染された吸引ノズル２３の先端部分（高濃度汚染領域）を少量の洗浄液Ｗで洗浄し、洗浄に用いた洗浄液Ｗを吸引ノズル２３で吸引する。続いて、低濃度に汚染された吸引ノズル２３の全体（低濃度汚染領域）を洗浄部２４ａに溜まった洗浄液Ｗで洗浄し、洗浄に用いた洗浄液Ｗを吸引ノズル２３で吸引する。吸引ノズル２３の高濃度汚染領域の上方（吐出ノズル２２の開口部２２ａ）から吐出される洗浄液Ｗが、吸引ノズル２３の高濃度汚染領域を流れて下方（開口部２３ａ）から吸引されることで、高濃度汚染領域が洗浄液Ｗに触れる時間を、低濃度汚染領域が洗浄液Ｗに触れる時間に比べて相対的に長くすることができる。このため、高濃度汚染領域に対する洗浄力が高まる。さらに、吸引ノズル２３の下端部分の高濃度汚染領域の洗浄に用いた洗浄液Ｗは洗浄部２４ａに溜まらない。そのため、洗浄部２４ａに溜められて吸引ノズル２３の低濃度汚染領域の洗浄に用いられる洗浄液Ｗは、高度濃度汚染領域の洗浄に用いた洗浄液Ｗによって汚染されることはほとんどない。したがって、第１の実施の形態によれば、従来よりも高い洗浄効果を得られる。
　また、第１の実施の形態によれば、特許文献１に記載のノズル洗浄で必要としていた、「必要洗浄液量」（図１０参照）を算出する必要がなく、予め決められた一定量以上の洗浄液を吐出して洗浄に用いればよい。すなわち、本実施の形態では、図１１に示すように、必要洗浄液量は、実際の洗浄に用いる洗浄液量そのものの量である。したがって、複雑な設定（計算）を行う必要がなく、ノズル洗浄に用いる洗浄液の液量を簡単に決定することができる。
　また、特許文献１に記載のノズル洗浄では、「吐出する第２の洗浄液量を、必要洗浄液量と第１の洗浄液量との差よりも僅かに少なくする」ように制御する必要がある。これは、排液の吸引にシリンジノズル（シリンジポンプ）を使用していることから、洗浄槽における残液を確実に吸引するためであると考えられる。この考えに基づけば、洗浄液の吐出には連続的に送液するためのポンプを使用しているため、第１および第２の洗浄液量を規定量になるように吐出する制御は、非常に煩雑になる。また、洗浄後の廃液の吸引にシリンジポンプを使用していることから、「吐出する第２の洗浄液量を、必要洗浄液量と第１の洗浄液量との差よりも僅かに少なくする」という複雑な設定（計算）を行う必要があり、この制御も煩雑である。これに対し、本実施の形態のように、洗浄後の排液の吸引に連続的に送液できるシリンジポンプを使用した場合には、「洗浄液の吐出量を必要洗浄液量より僅かに少なくする」といった煩雑な制御は必要としない。
　また、特許文献１に記載のノズル洗浄では、洗浄液の吐出を少なくとも２回に分けて実施しており、上記のとおりそれぞれの吐出量を決定する方法も煩雑である。これに対し、本実施の形態では、１回のノズル洗浄につき、吐出ノズル２２から予め決められた一定量以上の洗浄液Ｗを１回吐出するだけで、洗浄液を複数回吐出した場合と同じ洗浄効果が得られ、かつ、ノズル洗浄の工程が簡略化される。
＜２．第２の実施の形態＞
　第１の実施の形態において、吐出ノズル２２から洗浄液を吐出しながら吸引ノズル２３による吸引動作を制御することで、吸引ノズル２３の高濃度汚染領域および低濃度汚染領域を順番に洗浄する構成を説明した。実際には吸引電磁弁３４の開閉遅延や、吸引電磁弁３４を閉塞した後の残留圧力の影響等により、高濃度汚染領域を洗浄後に引き続き吐出される洗浄液の一部が吸引ノズル２３に吸引されてしまい、低濃度汚染領域の洗浄に必要な洗浄液量が洗浄部２４ａに溜まらないという現象が発生する可能性がある。
　第２の実施の形態は、このような現象を回避するためのノズル洗浄処理に係るものであり、制御系及び配管系統の構成は第１の実施の形態に係る自動分析装置１の構成と同様である。第２の実施の形態では、ノズル洗浄動作を開始した後にノズル２１の降下を開始し、ノズル２１の降下を終了する前に、洗浄液の吐出及び吸引を行う。以下、図１２～図１６を参照して第２の実施の形態に係るノズル洗浄処理の具体的な手順を説明する。
　図１２は、第２の実施の形態に係るノズル洗浄処理を示すフローチャートである。
　図１３は、第２の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（１）を示す説明図である。
　図１４は、第２の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（２）を示す説明図である。
　図１５は、第２の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（３）を示す説明図である。
　図１６は、第２の実施の形態に係るノズル洗浄時の洗浄液の流れ（４）を示す説明図である。
　図１２におけるステップＳ１１～Ｓ２０のうち、ステップＳ１１は図５のステップＳ１に、ステップＳ１４，Ｓ１５は図５のステップＳ５，Ｓ６に、ステップＳ１８～Ｓ２０は図５のステップＳ８～Ｓ１０に対応する。以下では、図１２と図５との相違点を中心に説明する。
　図１２に示すように、制御部４１は、ノズル洗浄動作を開始すると、まず洗浄液の準備を行い（ステップＳ１１）、続いて、ノズル２１の洗浄槽２４への降下を開始する（ステップＳ１２）。制御部４１は、ノズル２１の降下と同時又はその後に続いて吸引ノズル２３による吸引動作（１回目）を開始する（ステップＳ１３）。なお、ノズル２１の降下の前に、吸引ノズル２３による吸引動作を開始してもよい。
　次に、制御部４１は、吐出ノズル２２による開口部２２ａから洗浄液を吐出する吐出動作を開始する（ステップＳ１４）。洗浄液の吐出を開始した直後は、まだ吸引ノズル２３の開口部２３ａが洗浄槽２４内の洗浄部２４ａの底面に到達していないので、吐出ノズル２２の開口部２２ａから吐出された洗浄液は、吸引ノズル２３の外周面を伝って流れ落ち、そのまま吸引ノズル２３の開口部２３ａから吸引される（図１３参照）。この動作により、まず吸引ノズル２３の先端部分の高濃度汚染領域（図３Ａ）が洗浄される。吸引ノズル２３の先端部分に付着した高濃度汚染物は洗浄槽２４内に入ることなく、吸引ノズル２３の開口部２３ａから吸引されるため、この後に続く吸引ノズル２３の低濃度汚染領域（図３Ｂ）の洗浄効率をより高めることができる。
　ここで、第１の実施の形態と同様に、吐出ノズル２２による洗浄液の吐出量と、吸引ノズル２３による洗浄液の吸引量とは、「吐出量≦吸引量」の関係にある。したがって、吐出ノズル２２から吐出されて吸引ノズル２３の外周面に沿って流れ落ちてきた洗浄液Ｗは、すべて吸引ノズル２３の開口部２３ａから吸引されるため、洗浄液Ｗが洗浄槽２４の洗浄部２４ａに流れることがない。よって、洗浄部２４ａ内は清浄な状態に保たれる。
　この間に制御部４１は、吸引ノズル２３による吸引動作を開始してから所定時間が経過したかどうかを判定する（ステップＳ１５）。吸引ノズル２３による吸引動作を開始してから所定時間を経過していない場合には、制御部４１は、この判定処理を継続する。
　一方、ステップＳ１５において吸引ノズル２３による吸引動作を開始してから所定時間を経過した場合には、制御部４１は、吸引ノズル２３による吸引動作を一旦終了する（ステップＳ１６）。その後、制御部４１は、吸引ノズル２３の開口部２３ａが洗浄槽２４の洗浄部２４ａの底面に到達すると、ノズル２１の降下を終了してノズル２１の位置を固定する（ステップＳ１７）。このように、ノズル２１の降下と、吐出ノズル２２による吐出動作と、吸引ノズル２３による吸引動作が、少なくとも時間的に一部重複して行われる。
　吸引ノズル２３による吸引動作を一旦終了すると、吐出ノズル２２から吐出された洗浄液Ｗは洗浄部２４ａに溜まっていき（図１４参照）、吸引ノズル２３の低濃度汚染領域（図３Ｂ）の全体が洗浄部２４ａ内の洗浄液Ｗ中に浸漬される（図１５参照）。また、余剰の洗浄液Ｗは、オーバーフロー部２４ｂに溢れ出し、排出口２４ｃから排出される（図１６参照）。
　ここで、ノズル２１が洗浄部２４ａの底面に到達する前に吸引ノズル２３による吸引動作が終了している。そのため、洗浄部２４ａ内に洗浄液Ｗが溜まる前に、吸引電磁弁３４の開閉遅延や吸引電磁弁３４を閉塞した後の残留圧力の影響がなくなり、洗浄部２４ａに溜まった洗浄液Ｗの一部が吸引ノズル２３に吸引されることはない。それゆえ、吸引ノズル２３の低濃度汚染領域の洗浄に必要な洗浄液量が不足することを防止できる。なお、ノズル２１が洗浄部２４ａの底面に到達直後はまだ洗浄部２４ａに洗浄液Ｗが溜まらないため、ステップＳ１６の吸引動作の終了処理とステップＳ１７のノズル２１の降下の終了処理は、時間的に多少前後することは許容される。
　次に、制御部４１は、吸引ノズル２３の低濃度汚染領域がすべて洗浄液Ｗに浸漬した後、吐出ノズル２２による洗浄液の吐出動作を終了する（ステップＳ１８）。その後、制御部４１は、吸引ノズル２３による吸引動作（２回目）を再び開始し、洗浄部２４ａに溜まった洗浄液Ｗ（残液）をすべて吸引する（ステップＳ１９）。そして、洗浄部２４ａに溜まった洗浄液Ｗを吸引ノズル２３によってすべて吸引した後、吸引ノズル２３による吸引動作を終了する（ステップＳ２０）。制御部４１は、このステップＳ２０の処理が終了すると、ノズル洗浄動作を終了する。
　上述した第２の実施の形態では、第１の実施の形態と同様に、まず吸引ノズル２３の先端部分（高濃度汚染領域）を少量の洗浄液Ｗで洗浄し、洗浄に用いた洗浄液Ｗを吸引ノズル２３で吸引する。続いて、吸引ノズル２３の全体（低濃度汚染領域）を洗浄部２４ａに溜まった洗浄液Ｗで洗浄し、洗浄に用いた洗浄液Ｗを吸引ノズル２３で吸引する。吸引ノズル２３の高濃度汚染領域の洗浄は空中で行われ、高濃度汚染領域の洗浄に用いた洗浄液Ｗは洗浄部２４ａに触れない。それゆえ、洗浄部２４ａに溜められて吸引ノズル２３の低濃度汚染領域の洗浄に用いられる洗浄液Ｗは、高度濃度汚染領域の洗浄に用いた洗浄液Ｗによって汚染されない。したがって、第２の実施の形態は、第１の実施の形態と同様に、従来よりも高い洗浄効果を得られる。
　さらに、第２の実施の形態では、ノズル２１が洗浄部２４ａの底面に到達する前に吸引ノズル２３による吸引動作を終了し、洗浄部２４ａ内に洗浄液Ｗが溜まる前に、吸引電磁弁３４の開閉遅延や吸引電磁弁３４を閉塞した後の残留圧力の影響をなくしている。それゆえ、洗浄部２４ａに溜まった洗浄液Ｗの一部が吸引ノズル２３に吸引されることがなく、吸引ノズル２３の低濃度汚染領域の洗浄に必要な洗浄液量が不足することを防止できる。
　また、第２の実施の形態では、第１の実施の形態と同様に、１回のノズル洗浄につき、吐出ノズル２２から予め決められた一定量以上の洗浄液Ｗを１回吐出するだけで、洗浄液を複数回吐出した場合と同じ洗浄効果が得られ、かつ、ノズル洗浄の工程が簡略化される。
＜３．第３の実施の形態＞
　上述した第２の実施の形態では、ノズル２１を洗浄槽２４（洗浄部２４ａ）に向かって降下させながら洗浄液Ｗの吸引及び吐出を行い、最終的にはノズル２１を洗浄部２４ａの底面に接触させた状態で吸引を完了している。しかし、洗浄槽２４の上空で吐出ノズル２２から洗浄液Ｗを吐出すると、洗浄槽２４の底面から吸引ノズル２３の先端（開口部２３ａ）までの距離によっては、吸引ノズル２３をつたって落ちてきた洗浄液Ｗが洗浄槽２４の外に飛び散ることも考えられる。そこで、第３の実施の形態では、少なくとも吸引ノズル２３の先端が洗浄槽２４（洗浄部２４ａ）の内部に入った状態で、なおかつ吸引ノズル２３が洗浄部２４ａの底面には接触しない高さで、最初の洗浄液Ｗの吐出及び吸引を行うようにする。なお、吸引ノズル２３の先端が洗浄部２４ａの内部に入った状態とは、先端が洗浄部２４ａの最上部と同じ高さ又は下側にある状態である。
　具体的には、制御部４１は、ノズル２１の降下を開始後、吸引ノズル２３の先端が洗浄部２４ａの内部に入った状態で、かつ、吸引ノズル２３の先端が洗浄部２４ａの底面に接触しない高さでノズル２１を一旦停止する。制御部４１は、この状態で、吐出ノズル２２による吐出動作及び吸引ノズル２３による吸引動作（１回目）を開始する。この状態は、第２の実施の形態においてノズル２１を降下させながら空中で洗浄液Ｗの吐出及び吸引を行う場合と同様に、吸引ノズル２３の先端が洗浄部２４ａの底面に接触していないため残留圧力の影響を抑制する効果が得られる。制御部４１は、吸引ノズル２３による吸引動作を開始してから所定時間が経過した後、吸引ノズル２３による吸引動作を終了する。
　次に、制御部４１は、ノズル２１を、吸引ノズル２３の先端が洗浄部２４ａの底面に到達するまで又はその近傍まで再び降下させる。そして、制御部４１は、第２の実施の形態と同様に、吸引ノズル２３の低濃度汚染領域がすべて洗浄液Ｗに浸漬した後、吐出ノズル２２による吐出動作を終了する。その後、制御部４１は、吸引ノズル２３による吸引動作（２回目）を再び開始し、洗浄部２４ａに溜まった洗浄液Ｗを吸引ノズル２３によってすべて吸引した後、吸引ノズル２３による吸引動作を終了する。
　上述した第３の実施の形態では、第２の実施の形態と同様に、吸引ノズル２３による１回目の吸引動作時に、吸引ノズル２３の先端が洗浄部２４ａの底面に接触していないため残留圧力の影響を抑制しつつ、吸引ノズル２３の洗浄を行うことができる。さらに、第３の実施の形態では、少なくとも吸引ノズル２３の先端が洗浄槽２４（洗浄部２４ａ）の内部に入った状態で吐出及び吸引が行われるため、吐出ノズル２２から吐出され吸引ノズル２３をつたって落ちてきた洗浄液Ｗが洗浄槽２４の外に飛び散ることを防止できる。
　以上説明した第１～第３の実施の形態によれば、従来技術のような洗浄液についての煩雑な液量設定、並びに煩雑な洗浄液の吐出及び吸引の制御を行う必要がなく、より簡便な制御で従来よりも高い洗浄効率を達成することができる。
＜４．変形例＞
　第１～第３の実施の形態において、反応容器３ａ内および洗浄槽２４内に挿入される吸引ノズル２３は、その先端部（開口部）が反応容器３ａの底面または洗浄槽２４の洗浄部２４ａの底面に接触するように位置決めされる。図１７に示す吸引ノズル５０は、その先端の開口部５０ａの形状が、軸方向に垂直な平面に形成されている。図１７に示すように、吸引ノズル２３の先端形状が軸方向に垂直な平面であると、反応容器３ａ又は洗浄部２４ａの底面に密接し、吸引力が低下するため好ましくない。そこで、以下では、図１８～図２１を参照して吸引ノズル２３の吸引力を高めるための先端形状の変形例を説明する。
　図１８は、吸引ノズルの先端形状の第１の変形例である。
　図１８に示す吸引ノズル５１では、その先端の開口部５１ａは、軸方向に対し一定角度を有する平面に形成されている。このように開口部５１ａが軸方向に対し斜めの平面である場合、吸引ノズル５１の先端部を反応容器３ａの底面や洗浄部２４ａの底面に接触させたときに隙間ができるため、吸引力が低下しない。よって、底面に残った液体を最後まで確実に吸引することができる。なお、第１～第３の実施の形態において用いた吸引ノズル２３の開口部２３ａの形状は、この吸引ノズル５１の開口部５１ａと同じ形状である。
　図１９は、吸引ノズルの先端形状の第２の変形例である。
　図１９に示す吸引ノズル５２は、図１８と同様な斜めの平面からなる開口部５２ａと、開口部５２ａの一部を軸方向に垂直な平面で切断した平面からなる開口部５２ｂとを有する。第２の変形例に係る吸引ノズル５２は、図１８の吸引ノズル５０と同様に、吸引ノズル２３の先端部を反応容器３ａの底面や洗浄部２４ａの底面に接触させたときに隙間ができるため、吸引力が低下しない。さらに、吸引ノズル５２では、先端部を反応容器３ａの底面や洗浄部２４ａの底面に接触したときに、図１８の吸引ノズル５１と比較して液体を吸引できる実質的な開口が小さい。そのため、洗浄液の吸引時に、より洗浄液の表面張力を利用することができ、吸引する空気が少なくなる。したがって、吸引ノズル５２による洗浄液の吸引動作、すなわち洗浄液の吸引量が安定する。
　図２０は、吸引ノズルの先端形状の第３の変形例である。
　図２０に示す吸引ノズル５３は、図１７と同様な軸方向に垂直な平面からなる開口部５３ａを有する。ただし、この開口部５３ａの一部にスリット５３ｂが設けられている。開口部５３ａの幅と吸引ノズル５３の内径（破線で示した間隔）が、同程度の構造である。スリット５３ｂは、例えば円形の開口部５３ａに１８０度の間隔で２つ形成される。吸引ノズル５３の先端部を反応容器３ａの底面や洗浄部２４ａの底面に接触させたときに、このスリット５３ｂによって双方の間に隙間ができるため、吸引力が低下しない。それゆえ、第３の変形例に係る吸引ノズル５３では、第１及び第２の変形例と同様の効果が得られる。さらに、吸引ノズル５３では、先端部を反応容器３ａの底面や洗浄部２４ａの底面に接触したときに、第１及び第２の変形例と比較して、液体を吸引できる実質的な開口が小さい。なお、図２０の例では、開口部５３ａの幅は吸引ノズル５３の内径と同程度であるが、開口部５３ａの幅は吸引ノズル５３の内径より狭くてもよい。
　図２１は、吸引ノズルの先端形状の第４の変形例である。
　図２１では、第４の変形例に係る吸引ノズル５４を下方から見た平面図を表している。吸引ノズル５４は、図１７と同様な軸方向に垂直な平面からなる開口部５４ａを有する。ただし、この円形の開口部５４ａには、例えば９０度の間隔で４つのスリット５４ｂ１～５４ｂ４が設けられている。第４の変形例に係る吸引ノズル５４では、第３の変形例と同様の効果が得られる。また吸引ノズル５４は４箇所にスリット５４ｂ１～５４ｂ４が形成されており、２箇所にスリット５３ｂが形成された第３の変形例と比較して、単位時間あたりに吸引できる洗浄液の液量が増大する。
　なお、第１～第３の実施の形態において、吐出ノズル２２は、その先端の開口部２２ａの形状が、軸方向に垂直な平面に形成されているが、この例に限られない。
　図２２は、吐出ノズルの先端形状の一例である。
　図２２に示す吐出ノズル５５では、その先端の開口部５５ａは、軸方向に対し一定角度（例えば４５度）を有する平面に形成されている。ここで開口部５５ａは吸引ノズルと対向するように形成される（図２２の吐出ノズル５５の右側に吸引ノズルが配置される）。このように開口部５５ａが軸方向に対し斜めの平面である場合、斜めの開口部５５ａの上側が吸引ノズルと接触するため、開口部５５ａから吐出された洗浄液がよりスムーズに吸引ノズルへと伝って流れていく。
　以上、本発明の実施の形態例について説明したが、本発明は上述した実施の形態例に限定されるものではなく、請求の範囲に記載した本発明の要旨を逸脱しない限りにおいて、他の変形例、応用例を含むものである。
　例えば、上述した実施の形態例は、本発明をわかりやすく説明するために装置及びシステムの構成を詳細且つ具体的に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施の形態の構成の一部を他の構成に置き換えることは可能であり、ある実施の形態の構成に他の構成を加えることも可能である。
　上述した第１～第３の実施の形態に係る自動分析装置１は、ＢＦ分離工程を有する免疫検査装置に適用した例としているが、これらの実施の形態に係るノズル洗浄の技術を、生化学分析装置などの反応容器を洗浄するノズルを備える自動分析装置に適用可能である。
　また、上述した第１の実施の形態は次のような変形例を採り得る。
　例えば、吸引ノズル２３による１回目の吸引動作は洗浄液の吐出前から開始しなくてもよい。すなわち、吸引ノズル２３の先端（開口部２３ａ）が洗浄部２４ａの底面に到達して洗浄液の吐出を開始した後一定時間が経過し、吸引ノズル２３の高濃度汚染領域が洗浄液中に浸った後に、吸引ノズル２３による吸引動作を行ってもよい。この場合は、洗浄部２４ａの壁面が汚染することにより吸引ノズル２３の低濃度汚染領域の洗浄に用いられる洗浄液が汚染するが、洗浄液の吐出と吸引の回数（第１の実施の形態では、吐出１回、吸引２回）は同じであり、制御が容易である。
　また、上述した第１の実施の形態では、吸引ノズル２３の先端（開口部２３ａ）が洗浄部２４ａの底面に到達したときに、洗浄液の吐出を開始する例を説明したが、この例に限られない。例えば、ノズル２１の降下開始及びノズル２１の降下終了の処理を、ノズル洗浄動作開始直後から吸引ノズル２３による吸引動作開始前の間に実行してもよい。
　また、上述した第３の実施の形態において、吸引ノズル２３の先端が洗浄部２４ａの底面と接触しない高さでノズル２１を位置決めしてから洗浄液の吐出を行う場合、吸引ノズル２３により洗浄液を吸引する時に、吸引ノズル２３の先端（開口部２３ａ）が洗浄液の液面に追従するように、ノズル２１を降下させるようにしてもよい。
　また、吸引圧力調整のため、吸引側に吸引圧力に追従して動作するトラップと、該トラップにより回収した液体を収容する予圧タンクを設けてもよい。また、吸引ポンプ３５を洗浄液の吸引以外の用途に使用しない場合には、吸引電磁弁３４を不要とすることができる。
　１…自動分析装置、　２…測定装置、　１０…免疫酵素反応ユニット、　１１…第１のＢＦ分離ユニット、　１２…第２のＢＦ分離ユニット、　２１…ノズル、　２２…吐出ノズル、　２２ａ…開口部、　２３…吸引ノズル、２３ａ……開口部、　２４…洗浄槽、　２４ａ…洗浄部、　２４ｂ…オーバーフロー部、　２４ｃ…排出口、　３１…吐出電磁弁、　３２…吐出ポンプ、　３３…洗浄液タンク、　３４…吸引電磁弁、　３５…吸引ポンプ、　４０…制御装置、　４１…制御部、　４３…分析部、　Ｗ…洗浄液

Claims (8)

  1. 　筒状であって洗浄液の吐出を行う吐出部と、筒状であって外周面に沿って流れ落ちる前記吐出部から吐出された洗浄液の吸引を行う吸引部と、を備え、分析に用いる液体の吐出及び吸引を行うノズルと、
    　前記吐出部から吐出される洗浄液を溜める洗浄槽と、
    　前記洗浄槽に対するノズルの昇降動作と、前記吐出部から洗浄液を吐出する吐出動作と、前記吸引部が前記吐出部から吐出された洗浄液を吸引する吸引動作と、を制御する制御部と、を備え、
    　前記制御部は、前記ノズルを洗浄する際に、前記吐出部による吐出動作を開始し、前記吐出部による吐出動作と並行して前記吸引部による吸引動作を開始し、前記吸引部が外周面に沿って流れ落ちる前記洗浄液を所定時間吸引した後に、前記吸引部による吸引動作を一旦終了し、続いて、前記洗浄槽内に所定量の前記洗浄液が溜まった後に、前記吐出部による吐出動作を終了し、前記吸引部が前記洗浄槽に溜められた前記洗浄液に浸った状態において、前記吸引部による吸引動作を再開する制御を行う
    　自動分析装置。
  2. 　前記制御部は、前記吸引部の下端にある吸引口が前記洗浄槽の内部に位置し、かつ、前記洗浄槽の底面から所定の高さに到達するまで前記ノズルを降下させた後、前記吐出部による吐出動作を行うよう制御する
    　請求項１に記載の自動分析装置。
  3. 　前記制御部は、前記吸引部の下端にある吸引口が前記洗浄槽の底面に到達するまで前記ノズルを降下させる
    　請求項２に記載の自動分析装置。
  4. 　前記制御部は、前記ノズルの降下動作と、前記吐出部による吐出動作と、前記吸引部による再開前の吸引動作とを、少なくとも時間的に一部重複して行うよう制御する
    　請求項１に記載の自動分析装置。
  5. 　前記制御部は、前記ノズルの降下動作を終了する前に、前記吸引部による吸引動作を一旦終了し、前記ノズルの降下動作の途中で又は前記吸引部の下端にある吸引口が前記洗浄槽の底面に到達するまで前記ノズルを降下した後に、前記吐出部による吐出動作を終了して前記吸引部による吸引動作を再開するよう制御する
    　請求項４に記載の自動分析装置。
  6. 　前記洗浄槽は、前記吐出部から吐出された洗浄液が注入される洗浄部と、前記洗浄部を溢れた洗浄液が流れ込むオーバーフロー部と、を有し、
    　前記制御部は、前記洗浄槽の前記洗浄部に、前記吸引部の下端から所定の高さの汚染領域を浸漬する前記洗浄液が溜まったときに、前記吸引部による吸引動作を再開するよう制御する
    　請求項１に記載の自動分析装置。
  7. 　前記吸引部が吸引する単位時間あたりの洗浄液の液量は、前記吐出部が吐出する単位時間あたりの洗浄液の液量と同じ又はそれ以上である
    　請求項１に記載の自動分析装置。
  8. 　自動分析装置における、筒状であって洗浄液の吐出を行う吐出部と、筒状であって外周面に沿って流れ落ちる前記吐出部から吐出された洗浄液の吸引を行う吸引部とを備えるノズルを洗浄する際に、前記吐出部による吐出動作を開始し、
    　前記吐出部による吐出動作と並行して前記吸引部による吸引動作を開始し、
    　前記吸引部が外周面に沿って流れ落ちる前記洗浄液を所定時間吸引した後に、前記吸引部による吸引動作を一旦終了し、
    　続いて、洗浄槽内に所定量の前記洗浄液が溜まった後に、前記吐出部による吐出動作を終了し、
    　前記吸引部が前記洗浄槽に溜められた前記洗浄液に浸った状態において、前記吸引部による吸引動作を再開する
    　ノズル洗浄方法。
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