WO2015078157A1 - 彩膜基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

彩膜基板及其制作方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2015078157A1
WO2015078157A1 PCT/CN2014/078705 CN2014078705W WO2015078157A1 WO 2015078157 A1 WO2015078157 A1 WO 2015078157A1 CN 2014078705 W CN2014078705 W CN 2014078705W WO 2015078157 A1 WO2015078157 A1 WO 2015078157A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
color filter
light
layer
quantum dot
substrate
Prior art date
Application number
PCT/CN2014/078705
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
舒适
谷敬霞
徐传祥
姚琪
齐永莲
Original Assignee
京东方科技集团股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 京东方科技集团股份有限公司 filed Critical 京东方科技集团股份有限公司
Publication of WO2015078157A1 publication Critical patent/WO2015078157A1/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00—Materials and properties
    • G02F2202/36—Micro- or nanomaterials

Definitions

  • Color film substrate manufacturing method thereof, and display device
  • Embodiments of the present disclosure relate to a color filter substrate, a method of fabricating the same, and a display device. Background technique
  • TFT-LCD Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display
  • the TFT-LCD converts the white light emitted by the light source into red, green, blue, etc. by the filtering effect of the color filter layer such as the red color filter layer, the green color filter layer, and the blue color filter layer.
  • Light, color filter layers of different colors respectively transmit light of a corresponding color band, thereby realizing color display of the TFT-LCD.
  • the inventors have found in the process of designing the present disclosure that if it is necessary to enlarge the color gamut of the LCD, the color purity of the color filter layer is increased, but this reduces the light transmittance of the color filter layer. In order to ensure the display brightness of the TFT-LCD, it is also necessary to increase the light output intensity of the light source, resulting in an increase in the power consumption of the TFT-LCD. Summary of the invention
  • At least one embodiment of the present disclosure provides a color filter substrate capable of improving a color gamut range and a light transmittance of a display device without increasing power consumption of the display device.
  • a color film substrate comprising a substrate substrate and a color filter layer on the substrate, further comprising:
  • the quantum dot layer located above the color filter layer, the quantum dot layer comprising at least three quantum dots, and any one of the quantum dot layers is illuminated to emit light of a corresponding wavelength band.
  • the color filter substrate further includes a black matrix between the color filter layer and the substrate.
  • the color filter substrate further includes: the quantum dot layer Flat layer and spacer above.
  • the quantum dot layer has a thickness of 0.01 to 2 ⁇ m.
  • the quantum dot layer is located on the light incident side of the color filter substrate, white light or other color light entering the substrate substrate first enters the quantum dot layer, and the quantum dots in the excited quantum dot layer are emitted including red.
  • a display device comprising the above-described color filter substrate.
  • a method of fabricating a color filter substrate comprising:
  • a quantum dot layer comprising at least three quantum dots is formed over the color filter layer, and any one of the quantum dot dots is illuminated by light to emit light of a corresponding wavelength band.
  • the method before the color filter layer is formed on the base substrate, the method further includes: forming a black matrix on the base substrate;
  • forming a color filter layer on the base substrate comprises: forming a color filter layer on the black matrix.
  • the method further comprises: forming a flat layer and a spacer over the quantum dot layer.
  • the quantum dot layer has a thickness of 0.01 to 2 ⁇ m.
  • FIG. 1 is a schematic structural view of a color filter substrate according to an embodiment of the present disclosure
  • FIG. 2 is a flow chart of a method of fabricating a color film substrate in accordance with an embodiment of the present disclosure. detailed description
  • the color filter substrate includes a substrate substrate 1 and a color filter layer 2 on the substrate substrate 1, and further includes:
  • the quantum dot layer 3 includes at least three kinds of quantum dots, and any one of the quantum dot layers 3 is illuminated to emit a corresponding wavelength band. Light.
  • Quantum dots are extremely tiny semiconductor nanocrystals that are invisible to the naked eye. They are composed of a combination of words, cadmium, selenium and gram atoms. The diameter of the particles in the crystal is usually less than 10 nm. It has a distinctive feature: it emits light when it is stimulated by electricity or light, producing a solid color of light. The color of the emitted light is determined by the material and size and shape of the quantum dots. The smaller the size of the quantum dot, the more the light excited by the light is biased toward blue light, the larger the size of the quantum dot, and the more the light is excited toward the red light after illumination. According to the actual situation, the size of the quantum dots can be adjusted to obtain different colors of light.
  • the quantum dot layer 3 includes red quantum dots that emit red light, green quantum dots that emit green light, and blue quantum dots that emit blue light.
  • the red quantum dot has a size of 8-1 Onm, and the red light emits a wavelength of 610 nm to 620 nm;
  • the green quantum dot has a size of 5 to 7 nm, and the emitted green light has a wavelength of 540 nm to 550 nm;
  • the color quantum dots have a size of 3 to 5 ⁇ , and emit blue light having a wavelength of 475 nm to 485 nm.
  • the wavelength of the light of each color excited by the quantum dots in this embodiment is narrow, that is, the color of the light of each color is relatively pure.
  • the quantum dot layer 3 is located on the light incident side of the color filter substrate, white light or other light entering the substrate first passes through the quantum dot layer 3. After the white light enters the quantum dot layer 3, the quantum dots are excited to emit light.
  • the red quantum dots emit pure red light
  • the green quantum dots emit pure green light
  • the blue quantum dots emit pure blue light, that is, the quantum dot layer 3 Under the excitation of white light or other light, a mixture of red, green and blue light is emitted.
  • the light emitted by the quantum dot layer 3 is mixed light, and cannot be used for display use immediately, so
  • the mixed light needs to enter the color filter layer 2 and pass through the color filter layer 2 for filtering.
  • the red color filter layer 2 absorbs the green light and the blue light in the mixed light to allow only the red light to pass; similarly, the green color filter layer 2 will be mixed in the light.
  • the red and blue light are absorbed and only the green light is allowed to pass; the blue color filter layer 2 absorbs the red and blue light in the mixed light and allows only the blue light in the mixed light to pass.
  • the saturation of the final light can be ensured without increasing the color purity of the color filter layer 2.
  • the color purity is high, so that the light transmittance of the color filter layer 2 can be ensured, thereby ensuring the display brightness of the display device.
  • the red color filter in the color filter layer 2 of the substrate in this embodiment emits pure red light
  • the green color filter in the color filter layer 2 emits pure green light
  • the color filter layer The blue color filter in 2 emits pure blue light. It is apparent that the color of the solid color light emitted from the substrate in this embodiment is high, and therefore, the display device including the substrate can provide many types of colors and a large color gamut range.
  • the quantum dot layer is located on the light incident side of the color filter substrate, white light or other light entering the substrate substrate first enters the quantum dot layer, and the quantum dot in the quantum dot layer is excited to be emitted.
  • the base substrate 1 can be made of a common transparent material such as glass or quartz, and the color filter layer 2 is usually formed by a patterning process using a pigment-doped transparent resin.
  • the thickness of the quantum dot layer 3 is preferably 0.01 to 2 ⁇ m.
  • the color filter substrate further includes: a black matrix 4 between the color filter layer 2 and the substrate substrate 1.
  • the black matrix 4 can cover structures such as gate lines, data lines, and thin film transistor cells on the array substrate, and improve contrast between the sub-pixel units.
  • the black matrix 4 can be made of a black or dark resin. Since a light-shielding material is first deposited on the formed passivation layer in the process of fabricating the black matrix 4, a plurality of black matrices 4 corresponding to the respective sub-pixel units are formed by a patterning process including etching.
  • a black photoresist is used for the production process, Using the photosensitive properties of the photoresist, the use of a photoresist can be omitted when the black matrix 4 is fabricated.
  • the monochromaticity of the light passing through the color filter layer 2 is reduced, thereby reducing the display effect of the display device, as shown in FIG.
  • the color filter layer is typically partially located above the black matrix 4.
  • the color filter substrate further includes a flat layer 5 and a spacer 6 over the quantum dot layer 3.
  • the flat layer 5 is usually formed of an insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, hafnium oxide or resin to planarize the surface of the color filter substrate, thereby facilitating further processing of the color filter substrate.
  • an insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, hafnium oxide or resin to planarize the surface of the color filter substrate, thereby facilitating further processing of the color filter substrate.
  • the spacer 6 is formed on the flat layer 5.
  • the spacer 6 can be classified into a spherical spacer, a rod spacer, a column spacer, and the like according to the shape.
  • the column spacer has the advantages of easy size control, high contrast, good uniformity, high durability, and less smearing effect than spherical spacers or rod spacers.
  • the spacer 6 is selected as a column spacer.
  • the spacer 6 can maintain the thickness of the cell between the color filter substrate and the array substrate behind the cartridge to ensure that the amount of liquid crystal at any place is equal between the two, thereby ensuring the display effect of the liquid crystal display device.
  • the spacers are disposed to correspond to the black matrix 4 as shown in FIG.
  • inventions of the present disclosure also provide a display device including the above color film substrate.
  • the display device can be any product or component having a display function, such as a liquid crystal panel, a liquid crystal television, a liquid crystal display, a digital photo frame, a mobile phone, a tablet, and the like.
  • This embodiment provides a method for fabricating a color filter substrate according to Embodiment 1 of the present invention. As shown in Figure 2, the method includes:
  • Step S101 forming a color filter layer on the base substrate
  • Step S102 forming a quantum dot layer including at least three kinds of quantum dots on the color filter layer, and any one of the quantum dot layers is illuminated to emit light of a corresponding wavelength band.
  • the quantum dot layer 3 has a thickness of 0.01 to 2 ⁇ m.
  • the method further includes forming a black matrix 4 on the base substrate 1, and then forming a color filter layer over the black matrix in step S101.
  • the manufacturing method further includes: A flat layer and a spacer are formed over the quantum dot layer.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

一种彩膜基板，其包括衬底基板（1）和位于所述衬底基板（1）上的彩色滤色层（2），还包括：位于所述彩色滤色层（2）之上的量子点层（3），所述量子点层（3）包括至少三种量子点，所述量子点层（3）中的任一种量子点受到光照激发出对应波段的光。上述彩膜基板能够在不增加显示装置的功耗的同时，提高显示装置的色域范围和透光率。另外，还提供了一种制作彩膜基板的方法以及包括该彩膜基板的显示装置。

Description

彩膜基板及其制作方法、 显示装置 技术领域
本公开的实施例涉及一种彩膜基板及其制作方法、 显示装置。 背景技术
近年来， 随着科技的发展， 液晶显示器技术也得到不断完善。 薄膜场效 应晶体管液晶显示装置 （Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display, 简称 TFT-LCD )以其图像显示品质好、 能耗低、 环保等优势占据着显示器领域的 重要位置。
TFT-LCD依靠其内部设置的红色滤色层、绿色滤色层、 以及蓝色滤色层 等彩色滤色层的滤光作用， 将光源发出的白光分别转化为红、 绿、 蓝等单色 光， 不同颜色的彩色滤色层分别透射对应颜色波段的光，从而实现 TFT-LCD 的彩色显示。
发明人在设计本公开的过程中发现， 若需要扩大 LCD 的色域范围， 就 得提高彩色滤色层的色彩纯度， 但这样会降低彩色滤色层的透光率。 为了保 证 TFT-LCD的显示亮度， 还需要提高光源的出光强度， 导致 TFT-LCD功耗 的增力口。 发明内容
根据本公开的一个方面，本公开的至少一个实施例提供了一种彩膜基板， 能够在不增加显示装置的功耗的同时， 提高显示装置的色域范围、 透光率。
根据本公开的至少一个实施例的彩膜基板， 包括衬底基板和位于所述衬 底基板上的彩色滤色器层， 还包括：
位于所述彩色滤色器层之上的量子点层， 所述量子点层包括至少三种量 子点， 所述量子点层中的任一种量子点受到光照后激发出对应波段的光。
根据本发明的一个实施例， 所述彩膜基板还包括位于所述彩色滤色器层 和所述衬底基板之间的黑矩阵。
根据本发明的一个实施例， 所述的彩膜基板还包括： 位于所述量子点层 之上的平坦层和隔垫物。
根据本发明的一个实施例， 所述量子点层的厚度为 0.01~2μπι。
在本公开的技术方案中， 由于量子点层位于所述彩膜基板的入光侧， 使 得进入衬底基板的白光或其他色光首先进入量子点层， 激发量子点层中的量 子点发出包括红光、 绿光和蓝光在内的混合光， 之后混合光进入彩色滤色器 层， 彩色滤色器层不同颜色的滤色器滤出不同颜色的光。 由于量子点发出的 单色光的色彩纯度较高， 因此无需提高彩色滤色层的色彩纯度， 从而在不增 加显示装置的光源的出光强度的同时，提高了显示装置的色域范围和透光率。
根据本公开的第二方面， 提供了一种显示装置， 该显示装置包括上述的 彩膜基板。
根据本公开的第三方面， 提供了一种制作彩膜基板的方法， 所述方法包 括：
在衬底基板上形成彩色滤色器层；
在所述彩色滤色器层之上形成包括至少三种量子点的量子点层， 所述量 子点层中的任一种量子点受到光照激发出对应波段的光。
根据本发明的一个实施例， 在衬底基板上形成彩色滤色器层之前， 所述 方法还包括： 在所述衬底基板上形成黑矩阵；
其中， 所述在衬底基板上形成彩色滤色器层包括： 在所述黑矩阵之上形 成彩色滤色层。
根据本发明的一个实施例， 所述方法还包括： 在所述量子点层之上形成 平坦层和隔垫物。
根据本发明的一个实施例， 所述量子点层的厚度为 0.01~2μπι。 附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案， 下面将对实施例的附图作 简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例， 而非对本公开的限制。
图 1为根据本公开实施例的彩膜基板的结构示意图； 以及
图 2为根据本公开实施例的彩膜基板的制作方法的流程图。 具体实施方式
为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本发 明实施例的附图， 对本发明实施例的技术方案进行清楚、 完整地描述。显然， 所描述的实施例是本发明的一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于所描 述的本发明的实施例， 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获 得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。
实施例一
该实施例提供了一种彩膜基板， 如图 1所示， 该彩膜基板包括衬底基板 1和位于所述衬底基板 1上的彩色滤色器层 2， 还包括：
位于所述彩色滤色层 2之上的量子点层 3， 所述量子点层 3包括至少三 种量子点， 所述量子点层 3中的任一种量子点受到光照后激发出对应波段的 光。
量子点是一些肉眼无法看到的、极其微小的半导体纳米晶体， 由辞、镉、 硒和石克原子等组合而成， 晶体中的颗粒直径通常不足 10 纳米。 它有一个与 众不同的特性： 当受到电或光刺激时就会发光， 产生纯色的光线， 发出的光 线的颜色由量子点的组成材料和大小、 形状所决定。 量子点的尺寸越小， 光 照后激发出的光越偏向蓝光、 量子点的尺寸越大， 光照后激发出得光越偏向 红光。 才艮据实际情况对量子点的尺寸进行调整， 可以得到不同颜色的光线。
在该实施例中， 该量子点层 3包括发出红光的红色量子点、 发出绿光的 绿色量子点和发出蓝光的蓝色量子点。 一般而言， 红色量子点的尺寸为 8-1 Onm , 其发出的红光的波长为 610nm~620nm ; 绿色量子点的尺寸为 5~7nm,其发出的绿光的波长为 540nm~550nm;蓝色量子点的尺寸为 3~5匪， 其发出的蓝光的波长为 475nm~485nm。显然， 该实施例中的量子点激发出的 各颜色的光的波长较窄， 即各颜色的光的颜色较纯。
进一步的， 在该实施例中， 由于所述量子点层 3位于所述彩膜基板的入 光侧， 即进入基板的白光或其他光线首先经过量子点层 3。 白光进入量子点 层 3后， 激发各量子点发光， 相应的， 红色量子点发出纯粹的红光， 绿色量 子点发出纯粹的绿光， 蓝色量子点发出纯粹的蓝光， 即量子点层 3在白光或 其他光线的激发下， 发出红光、 绿光和蓝光的混合光。
此时量子点层 3发出的光为混合光， 并不能立即用于显示使用， 因此还 需要使该混合光进入彩色滤色器层 2， 经过彩色滤色器层 2的滤光作用。 在 该彩色滤色器层 2中， 红色的滤色器层 2将混合光中的绿光和蓝光吸收掉而 只允许红光通过； 类似的， 绿色的彩色滤色器层 2将混合光中的红光和蓝光 吸收掉而只允许绿光通过； 蓝色的彩色滤色器层 2将混合光中的红光和蓝光 吸收掉而只允许混合光中的蓝光通过。
需要说明的是， 由于量子点层 3受激发出的红光、 绿光和蓝光波长的差 距较大， 因此， 无需提高彩色滤色器层 2的色彩纯度即可保证最终发出的光 的饱和度、 色彩纯度较高， 因此， 可保证彩色滤色层 2的透光率， 进而保证 显示装置的显示亮度。
最终， 该实施例中的基板的彩色滤色器层 2中的红色滤色器发出纯粹的 红光， 彩色滤色器层 2中的绿色滤色器发出纯粹的绿光， 彩色滤色器层 2中 的蓝色滤色器发出纯粹的蓝光。 显然， 该实施例中的基板发出的纯色的光线 的色彩纯度较高， 因此， 包含该基板的显示装置可以提供的颜色的种类较多， 其色域范围较大。
综上， 在该实施例中， 由于量子点层位于所述彩膜基板的入光侧， 使得 进入衬底基板的白光或其他光线首先进入量子点层， 激发量子点层中的量子 点发出包括红光、绿光和蓝光在内的混合光，之后混合光进入彩色滤色器层， 彩色滤色层中的不同颜色滤色器滤出不同颜色的光。 由于量子点发出的单色 光的色彩纯度较高， 因此无需提高彩色滤色层的色彩纯度， 从而在不增加显 示装置的光源的出光强度的同时， 提高了显示装置的色域范围和透光率。
衬底基板 1可以利用玻璃、 石英等常见的透明材质制成， 彩色滤色器层 2通常利用掺杂了颜料的透明树脂经过数次构图工艺形成。
在该实施例中， 所述量子点层 3的厚度优选为 0.01~2μπι。
进一步的， 所述彩膜基板还包括： 位于所述彩色滤色器层 2和所述衬底 基板 1之间的黑矩阵 4。
黑矩阵 4可以遮盖阵列基板上的栅线、数据线和薄膜晶体管单元等结构， 提高各亚像素单元之间的对比度。该黑矩阵 4可选用黑色或深色的树脂制作。 由于在制作黑矩阵 4的过程中，首先在所形成的钝化层上沉积一层遮光材料， 之后通过包括刻蚀在内的构图工艺形成对应各个亚像素单元的多个黑矩阵 4。 为了减少彩膜基板的制作流程， 在该实施例中釆用黑色的光刻胶来制作， 利用光刻胶的感光性质， 制作黑矩阵 4时可以省略使用光刻胶。
需要说明的是， 为了防止彩色滤色器层 2和黑矩阵 4之间漏光， 降低经 过彩色滤色器层 2的光线的单色性， 进而降低显示装置的显示效果， 如图 1 所示， 彩色滤色器层通常部分位于黑矩阵 4之上。
进一步的， 该彩膜基板还包括位于所述量子点层 3之上的平坦层 5和隔 垫物 6。
该平坦层 5通常釆用氧化硅、 氮化硅、 氧化铪、 树脂等绝缘材料形成， 使所述彩膜基板的表面平坦化， 便于对该彩膜基板进行进一步加工。
之后， 在该平坦层 5上形成隔垫物 6， 在发明人已知的技术中， 隔垫物 6 按形貌可分为球状隔垫物、 棒状隔垫物、 柱状隔垫物等。 柱状隔垫物具有尺 寸易于控制、 对比度高、 均匀性佳、 高耐久度、 与球状隔垫物或棒状隔垫物 相比不易出现拖尾效应等优点。 因而， 在本公开的实施例中， 将所述隔垫物 6选择为柱状隔垫物。
该隔垫物 6可维持对盒后的彩膜基板和阵列基板之间的盒厚以保证两者 之间任意处的液晶量相等， 从而保证液晶显示装置的显示效果。
需要说明的是， 为了防止隔垫物影响显示装置的显示效果， 通常， 如图 1所示将隔垫物设置得对应于黑矩阵 4。
进一步的， 本公开的实施例还提供了一种显示装置， 包括上述的彩膜基 板。 该显示装置可以是任何具有显示功能的产品或部件， 例如液晶面板、 液 晶电视、 液晶显示器、 数码相框、 手机、 平板电脑等。
实施例二
该实施例提供了一种用于制作根据本发明实施例一的彩膜基板的方法。 如图 2所示， 该方法包括：
步骤 S101、 在衬底基板上形成彩色滤色层； 以及
步骤 S102、 在所述彩色滤色层之上形成包括至少三种量子点的量子点 层， 所述量子点层中的任一种量子点受到光照后激发出对应波段的光。
在该实施例中， 量子点层 3的厚度为 0.01~2 μ πι。
通常， 在形成彩色滤色器层 2之前， 该方法还包括在所述衬底基板 1上 形成黑矩阵 4， 则在步骤 S101包括在黑矩阵之上形成彩色滤色器层。
进一步的， 该制作方法还包括： 在所述量子点层之上形成平坦层和隔垫物。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式， 而非用于限制本发明的保护范 围， 本发明的保护范围由所附的权利要求确定。
本申请要求于 2013年 11月 27日递交的中国专利申请第 201310616389.8 号的优先权， 在此全文引用上述中国专利申请公开的内容以作为本申请的一 部分。

Claims

权利要求书
1、一种彩膜基板，其包括衬底基板和位于所述衬底基板上的彩色滤色器 层， 其还包括：
量子点层， 所述量子点层位于所述彩色滤色层之上， 所述量子点层包括 至少三种量子点， 所述量子点层中的任一种量子点受到光照后激发出对应波 段的光。
2、 根据权利要求 1所述的彩膜基板， 其还包括：
黑矩阵， 其位于所述彩色滤色器层和所述衬底基板之间。
3、 根据权利要求 1或 2所述的彩膜基板， 其还包括：
平坦层和隔垫物， 所述平坦层和所述隔垫物位于所述量子点层之上。
4、 根据权利要求 1-3任一项所述的彩膜基板， 其中， 所述量子点层的厚 度为 0.01~2 μ πι。
5、 一种显示装置， 其包括如权利要求 1-4任一项所述的彩膜基板。
6、 一种制作彩膜基板的方法， 所述方法包括：
在衬底基板上形成彩色滤色器层；
在所述彩色滤色器层之上形成包括至少三种量子点的量子点层， 所述量 子点层中的任一种量子点受到光照后激发出对应波段的光。
7、根据权利要求 6所述的制作方法， 其中， 所述在衬底基板上形成彩色 滤色层之前， 所述还包括：
在所述衬底基板上形成黑矩阵；
所述在衬底基板上形成彩色滤色器层包括：
在所述黑矩阵之上形成彩色滤色器层。
8、 根据权利要求 6或 7所述的方法， 其还包括：
在所述量子点层之上形成平坦层和隔垫物。
9、 根据权利要求 6-8任一项所述的方法， 其中， 所述量子点层的厚度为 0.01~2μπι。
PCT/CN2014/078705 2013-11-27 2014-05-28 彩膜基板及其制作方法、显示装置 WO2015078157A1 (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310616389.8 2013-11-27
CN201310616389.8A CN103823317A (zh) 2013-11-27 2013-11-27 彩膜基板及其制作方法、显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015078157A1 true WO2015078157A1 (zh) 2015-06-04

Family

ID=50758456

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/CN2014/078705 WO2015078157A1 (zh) 2013-11-27 2014-05-28 彩膜基板及其制作方法、显示装置

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN103823317A (zh)
WO (1) WO2015078157A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108831317A (zh) * 2018-06-15 2018-11-16 青岛海信电器股份有限公司 显示装置及其制备方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107004699A (zh) * 2014-12-18 2017-08-01 Lg电子株式会社 有机发光二极管显示装置
JP2016212348A (ja) * 2015-05-13 2016-12-15 株式会社 オルタステクノロジー 液晶表示装置
CN106647002B (zh) * 2017-01-16 2020-06-02 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制备方法、显示面板

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060125990A1 (en) * 2004-12-14 2006-06-15 Lee Dong H LCD device and method for manufacturing the same
CN102681246A (zh) * 2012-04-12 2012-09-19 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制造方法、以及液晶显示器
CN102736314A (zh) * 2012-06-29 2012-10-17 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶面板及其制作方法以及液晶显示器
CN103207476A (zh) * 2013-04-07 2013-07-17 易美芯光（北京）科技有限公司 一种led背光液晶显示装置及其发光材料的涂覆方法
CN103472513A (zh) * 2013-08-21 2013-12-25 京东方科技集团股份有限公司 一种彩色滤光层、彩膜基板、显示装置
CN203587924U (zh) * 2013-11-27 2014-05-07 京东方科技集团股份有限公司 显示装置及其彩膜基板

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060125990A1 (en) * 2004-12-14 2006-06-15 Lee Dong H LCD device and method for manufacturing the same
CN102681246A (zh) * 2012-04-12 2012-09-19 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制造方法、以及液晶显示器
CN102736314A (zh) * 2012-06-29 2012-10-17 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶面板及其制作方法以及液晶显示器
CN103207476A (zh) * 2013-04-07 2013-07-17 易美芯光（北京）科技有限公司 一种led背光液晶显示装置及其发光材料的涂覆方法
CN103472513A (zh) * 2013-08-21 2013-12-25 京东方科技集团股份有限公司 一种彩色滤光层、彩膜基板、显示装置
CN203587924U (zh) * 2013-11-27 2014-05-07 京东方科技集团股份有限公司 显示装置及其彩膜基板

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108831317A (zh) * 2018-06-15 2018-11-16 青岛海信电器股份有限公司 显示装置及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN103823317A (zh) 2014-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9823510B2 (en) Quantum dot color film substrate, manufacturing method thereof and LCD apparatus
TWI536080B (zh) 液晶透鏡顯示裝置及其製作方法
KR101969462B1 (ko) 광발광 디스플레이 장치 및 그 제조방법
TW584766B (en) Liquid crystal display device
US9703191B2 (en) Method of manufacturing color conversion substrate
US20200393600A1 (en) Colour film sheet and fabricating method therefor, colour film substrate, and display apparatus
WO2017143687A1 (zh) 阵列基板及其制作方法、显示面板、触控面板
WO2015096391A1 (zh) 阵列基板及其制作方法、显示装置
US20210088840A1 (en) Method of having a polarizer built in a lcd panel, lcd device, and lcd device manufacturing method
US20180224698A1 (en) Color filter substrate, display panel and display device
WO2018228024A1 (zh) 显示基板及其制备方法、显示面板及显示装置
US20150357373A1 (en) Array substrate and manufacturing method thereof and display device
WO2019024434A1 (zh) 显示面板及显示装置
WO2018090572A1 (zh) 显示基板及其制造方法、和显示面板
US20230037592A1 (en) Display panel, method for manufacturing the same, and display device
WO2013143301A1 (zh) 彩膜基板、显示装置及彩膜基板的制备方法
CN107450218B (zh) 光致发光显示装置及其制造方法
WO2014194613A1 (zh) 阵列基板、液晶显示面板和显示装置
CN105182601A (zh) 一种阵列基板、显示面板、显示装置及制作方法
WO2017147991A1 (zh) 彩膜基板及其制作方法、显示装置
US7643114B2 (en) Transflective display device with reflection pattern on the color filter substrate
KR102344911B1 (ko) 광루미네선스 장치, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치
WO2015078157A1 (zh) 彩膜基板及其制作方法、显示装置
US10642088B2 (en) Liquid crystal display panel, display device and display method
KR20110075537A (ko) 표면 플라즈몬을 이용한 컬러필터 및 액정표시장치의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14865489

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

32PN Ep: public notification in the ep bulletin as address of the adressee cannot be established

Free format text: NOTING OF LOSS OF RIGHTS PURSUANT TO RULE 112(1) EPC (EPO FORM 1205A DATED 04.11.2016)

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 14865489

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1