WO2014088214A1 - 정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물, 고분자 여과막의 제조 방법 및 고분자 여과막 - Google Patents

정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물, 고분자 여과막의 제조 방법 및 고분자 여과막 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a polymer resin composition that can be suitably used for the production of a microfiltration membrane or an ultrafiltration membrane, a method for producing a polymer filtration membrane using the same, and a polymer filtration membrane according thereto.
  • Polymer filtration membranes are used for separation of liquids or gases in various fields such as medicine, semiconductor, battery, biotechnology, dairy, beverage and food, and water treatment.
  • Such a polymer filtration membrane is an important factor that can determine the efficiency and economic efficiency of the material separation process, the polymer filtration membrane is injected into the mold .
  • a heat-induced phase conversion film prepared by mixing with a diluent in silver, or a phase conversion film by a solvent exchange method formed by dipping a homogeneous solution containing a polymer resin in a non-solvent and the like are known.
  • the solvent exchange method is mainly used to commercially manufacture the microfiltration membrane or the ultrafiltration membrane.
  • the microporous polymer membrane is a method of casting a polymer solution prepared by selecting an appropriate solvent and then exposing it to steam so that the vapor is absorbed on the exposed surface (steam induction phase transition,
  • US Patent No. 5,886,059 relates to a method for producing an asymmetric polyether sulfone polymer filtration membrane, (1) preparing a polyether sulfone polymer solution, (2) adding a non-solvent to the polymer solution and mixing to prepare a dispersion, (3 ) Exposing the dispersion to a gaseous environment, and (4) precipitating the prepared dispersion to prepare a polyethersulfone polymer filtration membrane.
  • the polymer filtration membrane prepared according to the US patent has a limitation in that it is difficult to ensure uniform pore distribution or sufficient permeability.
  • US Patent No. 6,056,903 relates to a method for producing a polyether sulfone membrane, comprising: (1) preparing a polyether sulfone polymer, a polymer solution containing a solvent and a lower aliphatic glycol, (2) forming a polymer solution on a support; (3) exposing the coated support to an atmospheric condition, (4) precipitating the exposed coated support in a precipitation bath containing lower aliphatic glycol and water to produce a polyethersulfone membrane, and (5 ) The washing and drying step of the polyether sulfone membrane is started.
  • additives are used in the manufacturing process to control the size or shape of the pores of the microfiltration membrane or ultrafiltration membrane, and if the additives are prepared by adding hydrophilic additives, the water permeability of the membrane is not only improved. In addition, it reduces the fouling phenomenon that the contaminants are adsorbed on the membrane surface.
  • these hydrophilic additives are often dissolved in water due to their high affinity with water, and hydrophilic additives are dissolved in water even during the actual operation of the microfiltration membrane or the ultrafiltration membrane.
  • the water permeability enhancement or anti-fouling effect induced by the use of additives decreases over time, resulting in better adsorption by contaminants and a loss of membrane separation, resulting in a shorter lifespan. do.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-185280, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-018245 or Korean Unexamined Patent Publication No. 2009-0034976 disclose various polymer additives, but these additives are not easily produced or applied to actual polymer filtration membranes. There was a certain limit in securing high water permeability.
  • Patent Document 0001 U.S. Patent No. 5,886,059
  • Patent Document 0002 US Patent No. 6,056,903
  • Patent Document 0003 Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-185280
  • Patent Document 0004 Japanese Laid-Open Patent No. 2002-018245
  • Patent Document 0005 Korean Patent Publication No. 2009-0034976
  • the present invention is to provide a polymer resin composition that enables the provision of a microporous membrane that can be more uniformly distributed and exhibit a high water permeability.
  • the present invention is to provide a method for producing a polymer filtration membrane that can exhibit excellent mechanical properties and filtration performance using the polymer resin composition, and to provide a polymer filtration membrane accordingly.
  • a polymer base resin A compound represented by Formula 1; And a polymer resin composition for preparing a microfiltration membrane or an ultrafiltration membrane comprising an organic solvent: [Formula 1]
  • R is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, n is an integer of 1 to 50.
  • the step of applying the polymer resin composition for producing the microfiltration membrane or ultrafiltration membrane on a substrate A vapor induced phase transition step of exposing the polymer resin composition applied on the substrate to air at a relative humidity of 10% to 100%; And a non-solvent induction phase transition step of precipitating the product of the vapor induction phase transition step in the non-solvent, there is provided a method for producing a polymer filtration membrane.
  • the polymer filtration membrane is prepared by the method, and includes a polymer base resin and a compound represented by the formula (1), and a plurality of pores having a maximum diameter of 0.1 nm to 10 /
  • the formed polymer filtration membrane is provided.
  • a microfiltration membrane or an ultrafiltration membrane polymer resin composition for manufacturing, a method for preparing a polymer filtration membrane and a polymer filtration membrane will be described in more detail.
  • a polymer base resin A compound represented by Formula 1;
  • R is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms
  • n is an integer of 1 to 50.
  • the inventors of the present invention in the course of repeating the study on the polymer filtration membrane, when using the polymer resin composition containing the compound represented by the formula (1), micropores are more uniformly distributed and provide a microporous membrane that can exhibit a high water permeability It was confirmed that to enable, to complete the present invention.
  • the compound represented by Formula 1 may act as a nonionic surfactant having both amphiphilic properties, and when using a polymer resin composition including the same, the shape and size of the compound may be appropriately It is possible to obtain a polymer filtration membrane in which the regulated pores are formed more uniformly.
  • the compound represented by the formula (1) non-limiting examples, 2- (methoxy) ethane [2- (methoxy) ethanol], 2- (ethoxy) ethanol [2- (ethoxy) ethanol ], Lauryl alcohol ethoxylate, 2- (nuxadecyloxy) ethane [2- (hexadecyloxy) ethanol], and one type selected from the group consisting of methoxy polyethylene glycol It may contain the above.
  • the compound represented by Chemical Formula 1 may have a molecular weight (weight average molecular weight in the case of a polymer) of 200 to 5000, preferably 200 to 3500, more preferably 200 to 2500.
  • the molecular weight of the compound represented by the formula (1) is advantageously controlled in the above-described range.
  • the compound represented by the formula (1) may be more advantageous in terms of expression of the above-mentioned effect that the lauryl alcohol satisfying the above-mentioned molecular weight range, execilate, methoxy polyethylene glycol, or a combination thereof have.
  • the compound represented by Formula 1 may be included as a reference in the range of 0.1 to 50 parts by weight 0/0, preferably from 0.1 to 40 parts by weight 0/0, more preferably from 1 to 30 parts by weight 0 / the total weight of the composition. . That is, the effect of the addition of the compound represented by the formula (1) is fully expressed and at the same time, in view of the pore shape and distribution control difficulties that may occur when excessive addition, the content of the compound represented by the formula (1) is It is advantageous to be adjusted in the above-described range.
  • the polymer resin composition according to the present invention may include a polymer base resin. Such a polymer base resin forms a basic skeleton of the filtration membrane produced from the resin composition and becomes a place where pores are formed.
  • the polymer base resin a conventional polymer resin applied to a microfiltration membrane or an ultrafiltration membrane in the art to which the present invention pertains may be applied without particular limitation.
  • the polymer base resin is polyether sulfone (PES), cellulose-based polymer, polyamide-based polymer, polysulfone (PSf), polyether ketone (PEK), polyether ether ketone (PEEK) , Polyvinylidene fluoride (PVDF), polytetrafluoroethyllan (PTFE), polyvinylchloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC) or a combination of two or more thereof.
  • PES polyether sulfone
  • PSf polyether ketone
  • PEEK polyether ether ketone
  • PVDF Polyvinylidene fluoride
  • PVDF polytetrafluoroethyllan
  • PVDC polyvinylchloride
  • PVDC polyvinylidene chloride
  • Polyethersulfone (PES), polysulfone (PSf), polyetherketone (PEK) or polyetheretherketone (PEEK) which may be used as the polymer base resin may have a weight average molecular weight of 5,000 to 200,000.
  • the polyvinylidene fluoride (PVDF), poly tetrafluoro ethylene (PTFE), polyvinylchloride (PVC) or polyvinylidene chloride (PVDC) may have a weight average molecular weight of 50,000 to 2,000,000.
  • the polyamide-based polymer may have a relative viscosity (based on 96% sulfuric acid solution) of 2.0 to 4.0.
  • the salose based polymer may have a weight average molecular weight of 10,000 to 5,000,000.
  • the polymer base resin may be included in, based on the total weight of the composition 1 to 70 parts by weight 0/0, preferably from 1 to 50 parts by weight 0/0, more preferably from 5 to 40 parts by weight 0 /. That is, in view of securing the mechanical properties of the polymer filter membrane prepared using the polymer resin composition according to the present invention, and in consideration of the pore shape and difficulty in controlling the distribution, which may occur when an excessive amount of the polymer base resin is added, The content of the polymer base resin is advantageously controlled in the above-described range.
  • the polymer resin composition according to the present invention may include an organic solvent.
  • the organic solvent allows the polymer resin composition to have an appropriate viscosity, and allows the polymer base resin and the compound represented by the formula (1) to be sufficiently dissolved and mixed.
  • the organic solvent is dimethylacetamide (DMAc), N-methyl-pyridinone (NMP), N-octyl-pyridinone, N-phenyl-pyridinone, dimethylsulfoxide (DMSO), Sulfolane, catechol, ethyl lactate, acetone, ethyl acetate, butyl carbyl, monoethane amine, butyrolactone, diglycol amine, Y-butylactone, tetrahydrofuran (THF), methyl form Mate, ethyl ether, ethyl benzoate, acetonitrile, ethylene glycol, glycerol, dioxane, methyl carbi, monoethane, amine, pyridine, propylene carbonate, toluene, decane, Nucleic acid, nucleic acids, xylenes, cyclonucleic acid, 1 H, 1 H, 9H-perfluoro-1-
  • the organic solvent to 10 parts by weight based on the total composition weight to 95 0 /. preferably may comprise from 20 to 95 weight 0/0, and more preferably 30 to 90 parts by weight 0 /. That is, while allowing the polymer base resin and the compound of Formula 1 to be sufficiently dissolved and mixed in the polymer resin composition, impart the appropriate viscosity required for the preparation of the polymer filtration membrane, and the pore shape that may occur when excessive addition and In view of the difficulty in controlling the distribution, the content of the organic solvent is advantageously controlled in the above-described range.
  • the polymer resin composition may optionally further include an additive in order to control the physical properties and uses of the polymer filter membrane to be produced, the shape and size of the pores formed on the surface or inside the filter membrane.
  • the additive may include conventional components that can achieve the above object, non-limiting examples include polyethylene glycol, polyoxyethylene-polyoxypropylene block copolymer, polyvinylpyridone (PVP), LiCl, LiCI0 4, methanol, ethane, isopropanol, acetone, phosphoric acid, propionic acid, acetic acid, silica (SiO 2 ), pyridine and polyvinylpyridine.
  • PVP polyvinylpyridone
  • LiCl LiCI0 4
  • the content of the additive may be adjusted in view of the above-mentioned purpose, preferably 0.1 to 90 weight 0 /., More preferably 0.1 to 80 weight 0 /. . Meanwhile, according to another embodiment of the present invention,
  • Non-solvent induction phase transition step of precipitating the result of the steam induction phase transition step in the non-solvent Provided is a method for producing a polymer filtration membrane.
  • the polymer filtration membrane can be provided with a more uniformly formed pores on the surface and the inside of the shape and size is properly controlled.
  • the polymer base resin A compound represented by Chemical Formula 1
  • the polymer resin composition for preparing a microfiltration membrane or ultrafiltration membrane including an organic solvent on a predetermined substrate and sequentially undergoing a vapor induction phase transition step and a non-solvent induction phase transition phase, pores of fine size are uniformly having high porosity.
  • a distributed microfiltration membrane or an ultrafiltration membrane can be obtained.
  • the microfiltration membrane or the ultrafiltration membrane polymer resin composition for manufacturing may be applied on a predetermined substrate in a thickness of 10 Mn to 300 iM, preferably 50 IM to 250 kPa.
  • a conventionally known method for applying or coating the polymer resin may be applied without any limitation.
  • the step of applying the polymer resin composition may be uniformly applied over the entire surface of the substrate using a casting knife coating device for performing line injection.
  • the substrate may be a nonwoven fabric, a polyester resin, a polyethylene resin, a polypropylene resin, cellulose acetate or a resin in which these are mixed (blended).
  • the substrate may have a variety of forms according to the specific shape or characteristics of the microfiltration membrane or ultrafiltration membrane to be produced, specifically, the substrate may have a structure of a film, tubular or hollow fiber (hollow fiber) type.
  • the manufacturing method of the polymer filtration membrane may be carried out further comprising the step of impregnating the substrate in an organic solvent, before the application of the polymer resin composition.
  • the manufacturing method of the polymer filtration membrane may be carried out further comprising the step of removing the organic solvent (impregnation solvent) from the substrate after the impregnation step.
  • the organic solvent impregnation solvent
  • the thickness of the polymer can be adjusted according to the viscosity of the impregnation solution or the affinity between the impregnation solution and the polymer solution, the porosity and porosity generated on the surface and inside of the polymer filtration membrane It can be further improved, and the surface of the polymer film can be formed more uniformly.
  • alkylene glycols polyalkylene glycols containing 1 to 10 carbon atoms alkylene glycol repeating unit, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, methylpi Lydonone, dimethylacetamide, dimethylformamide dimethylsulfoxide, sulfolane, glycerol and methylpyrrolidone mixed solvent, glycerol and dimethylacetamide mixed solvent, polyethylene glycol and methylpyrrolidone mixed solvent, and the like.
  • the polymer resin composition applied on the substrate is exposed to moist air, thereby predetermining the surface of the resin composition
  • the pores of may be formed.
  • the vapor induction phase transition step is a relative humidity in consideration of the efficiency of the process
  • the vapor induction phase transition step may be performed for 1 second to 10 minutes at a temperature of 0 to 30C C, may be performed for a time within 5 minutes at a temperature of 0 to 50 ° C.
  • the steam-induced phase transition step is water, polyethylene glycol (PEG) having a weight average molecular weight of 900 or less, glycer, 1,3-butanedi, 1,4-butanediol and 1,5-pentanediol Humidification solvents including one or more selected from the group consisting of can be used.
  • PEG polyethylene glycol
  • the non-solvent induction phase transition step of precipitating the product of the vapor induction phase transition step in the non-solvent the step of forming the internal pores by precipitating the polymer resin composition applied on the substrate subjected to the vapor induction phase transition step in the non-solvent .
  • Non-solvents that may be used at this time include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, water, glycols, or a combination of two or more thereof.
  • the non-solvent induction phase transition step may be performed by depositing the result of the vapor induction phase transition step in the non-solvent having a temperature of 0 to 90 ° C for 10 minutes to 24 hours.
  • the manufacturing method of the polymer filtration membrane may be performed by further comprising the step of washing and drying the product of the non-solvent induction phase transition step.
  • the result of the non-solvent induced phase transition step is washed with a solvent that does not dissolve, and then dried in a predetermined degree of silver to finally obtain a polymer filtration membrane.
  • Acetone, methanol, ethane or water may be used for the washing, and preferably 20 to 90 ° C. water may be used.
  • the resultant after the washing is dried at a temperature of 20 to 200 ° C, preferably 40 to 100 ° C, finally a microporous polymer filtration membrane can be obtained.
  • a microporous polymer filtration membrane can be obtained.
  • the polymer filtration membrane is prepared by the above-described method, and includes a polymer base resin and a compound represented by Chemical Formula 1, wherein a plurality of pores having a maximum diameter of 0.1 nm to 10 are formed.
  • the polymer filtration membrane is obtained by the manufacturing method using the polymer resin composition as described above, fine pores may be more uniformly distributed and may exhibit high water permeability.
  • the polymer filtration membrane may be a microfiltration membrane or an ultrafiltration membrane in which a plurality of pores having a maximum diameter of 0.1 nm to 10 is formed.
  • the polymer filtration membrane may have a permeation flow rate of 100 to 700 LMH (m 3 / m 2 hr), preferably 1000 to 500 LMH.
  • the polymer resin composition according to the present invention enables the provision of a polymer filtration membrane capable of more uniform distribution of fine pores and high water permeability.
  • the method for producing a polymer filtration membrane according to the present invention can more stably produce a polymer filtration membrane having excellent physical properties in a simplified process.
  • Example 1 is a scanning electron micrograph (a) of 2,000 times magnification of the surface of the polyether sulfone polymer filtration membrane prepared in Example 1 and a scanning electron micrograph (b) of 5,000 times the cross section of the polymer filtration membrane.
  • Example 2 is a scanning electron micrograph (a) of 2,000 times magnification observation of the surface of the polyether sulfone polymer filtration membrane prepared in Example 2 and a scanning electron micrograph (b) of 5,000 times magnification observation of a cross section of the polymer filtration membrane.
  • Example 3 is a scanning electron micrograph (a) of 2,000 times magnification observation of the surface of the polyether sulfone polymer filtration membrane prepared in Example 3 and a scanning electron micrograph (b) of 5,000 times magnification observation of a cross section of the polymer filtration membrane.
  • Example 4 is a scanning electron micrograph (a) of 2,000 times magnification of the surface of the polyether sulfone polymer filtration membrane prepared in Example 4 and a scanning electron micrograph (b) of 5,000 times the cross section of the polymer filtration membrane.
  • Example 5 is a scanning electron micrograph (a) of 2,000 times magnification of the surface of the polyether sulfone polymer filtration membrane prepared in Example 5 and a scanning electron micrograph (b) of 5,000 times the cross section of the polymer filtration membrane.
  • Example 6 is a scanning electron micrograph (a) of 2,000 times magnification of the surface of the polyether sulfone polymer filtration membrane prepared in Example 6, and a scanning electron micrograph (b) of 5,000 times the cross section of the polymer filtration membrane.
  • Example 1 Polyethersulfone (weight-average molecular weight: about 58,000) from about 10 parts by weight 0/0; Hydroxy methoxy polyethylene glycol (weight-average molecular weight: about 1,200, Manufacturer: Company Chemical Company, product name: mPEG-1200) of about 5 parts by weight 0/0; Combined methylpiperidin wave the pyrrolidone 65 parts by weight 0/0, and glycerol approximately 20 weight 0 /. To prepare a polymeric resin composition.
  • a polyester support was prepared in which glycerol was impregnated into the impregnation solution for about 5 seconds and then the residual impregnation solvent was removed.
  • the polymer resin composition was cast on the polyester support impregnated with glycerol by adjusting the thickness of the casting knife to about 150 while maintaining the temperature of about 30 ° C.
  • the polyester, the relative humidity of the polymer resin composition is cast on a support by a vapor humidification solvent under the conditions of about 90% and a temperature of about 20 ° C and exposed for about 15 seconds (medium induced phase transition step).
  • the polymer resin composition cast on the polyester support having undergone the vapor induction phase transition step was precipitated in non-solvent water (about 20 ° C.) for about 12 hours to prepare a polyether sulfone polymer filter membrane.
  • the washed polyether sulfone polymer filtration membrane was washed with distilled water at about 70 ° C. for about 3 hours, and then dried in a dry oven at about 7C C for about 24 hours.
  • Polyethersulfone (weight-average molecular weight: about 58,000) from about 10 parts by weight 0/0; Lauryl alkoeul eteuk rate (molecular weight: about 278, ethylene oxide mole number: 2, Manufacturer: Company Chemical Company, product name: LAE-2) from about 5 weight 0/0; 65 parts by weight 0/0 and glyceryl pyrrolidone common to about 20% by weight of the combined-methylpyrrolidone to prepare a polymeric resin composition.
  • a polyester support was prepared by impregnating the glycerol impregnation solution for about 5 seconds and then removing residual impregnation solvent. Subsequently, while maintaining the polymer resin composition at a temperature of about 30 ° C., the thickness of the casting knife was adjusted to about 150 zm and cast on the polyester support impregnated with glycerol.
  • the polymer resin composition cast on the polyester support was exposed for about 15 seconds under conditions of a relative humidity of about 90% and a temperature of about 20 ° C. using water vapor as a humidification solvent (vapor induction phase transition step).
  • the polymer resin composition cast on the polyester support having undergone the vapor induction phase transition step was precipitated in non-solvent water (about 20 ° C.) for about 12 hours to prepare a polyether sulfone polymer filter membrane.
  • the polyethersulfone polymer filtration membrane thus prepared was washed for about 3 hours with about 7 C distilled water, and then dried in a dry oven at about 70 ° C. for about 24 hours.
  • Polyethersulfone (weight-average molecular weight: about 58,000) from about 10 parts by weight 0/0; Lauryl alkoeul eteuk rate (molecular weight: about 278, number of moles ethylene oxide: 15, manufacturer: Company Chemical Company, product name: LAE-15) for about 5 weight 0/0;
  • a polymer resin composition was prepared by mixing 65% by weight of methylpyridone and 0 % by weight of glycerol.
  • a polyester support was prepared in which glycerol was impregnated into the impregnation solution for about 5 seconds and then the residual impregnation solvent was removed.
  • the thickness of the casting knife was adjusted to about 150 while maintaining the polymer resin composition at a temperature of about 30 ° C., and the glycerol was cast on the polyester support impregnated.
  • the polymer resin composition cast on the polyester support was exposed for about 15 seconds under conditions of a relative humidity of about 90% and a temperature of about 20 ° C. using water vapor as a humidification solvent (vapor induction phase transition step).
  • the polymer resin composition cast on the polyester support having undergone the vapor induction phase transition step was precipitated in non-solvent water (about 20 ° C.) for about 12 hours to prepare a polyether sulfone polymer filter membrane.
  • Polyethersulfone (weight average molecular weight: about 58,000) about 12 weight%; Hydroxy methoxy polyethylene glycol (weight-average molecular weight: about 1,200, Manufacturer: Company Chemical Company, product name: mPEG-1200) of about 3 parts by weight 0/0; 65% by weight of methylpyrrolidone and about 20% by weight of glycerol were mixed to prepare a polymer resin composition.
  • a polyester support was prepared by impregnating the glycerol impregnation solution for about 5 seconds and then removing residual impregnation solvent.
  • the thickness of the casting knife was adjusted to about 150 kPa while maintaining the polymer resin composition at a temperature of about 30 ° C.
  • the glycerol was cast on the polyester support impregnated.
  • the polymer resin composition cast on the polyester support was exposed for about 15 seconds under conditions of a relative humidity of about 90% and a temperature of about 20 ° C. using water vapor as a humidification solvent (vapor induction phase transition step).
  • the polymer resin composition cast on the polyester support having undergone the vapor induction phase transition step was precipitated in non-solvent water (about 20 ° C.) for about 12 hours to prepare a polyether sulfone polymer filter membrane.
  • non-solvent water about 20 ° C.
  • Polyethersulfone (weight-average molecular weight: about 5,8000) about 12 weight 0/0; Lauryl the alkoeul hydroxyethyl acrylate (molecular weight: about 278, ethylene oxide mole number: 2, Manufacturer: Company Chemical Company, product name: LAE-2) from about 3 parts by weight 0/0; 65 parts by weight 0/0 and glyceryl pyrrolidone common to about 20 parts by weight 0/0 by adding the polymer-methylpyrrolidone to prepare a resin composition.
  • a polyester support was prepared in which glycerol was impregnated into the impregnation solution for about 5 seconds and then the residual impregnation solvent was removed.
  • the polymer resin composition was cast on the polyester cock impregnated with glycerol by adjusting the thickness of the casting knife to about 150 while maintaining the temperature of about 3 ( rc.
  • the polymer resin composition cast on the polyester support was exposed for about 15 seconds under conditions of a relative humidity of about 90% and a temperature of about 20 ° C. using water vapor as a humidifying solvent (vapor induction phase transition step).
  • the polymer resin composition cast on the polyester support having undergone the vapor induction phase transition step was precipitated in non-solvent water (about 2 (C) for about 12 hours to prepare a polyether sulfone polymer filtration membrane.
  • the sulfone polymer filtration membrane was washed with distilled water at about 70 ° C. for about 3 hours and then dried at about 7C C in a dry oven for about 24 hours.
  • Polyethersulfone (weight average molecular weight: about 58,000) about 12 weight%; Lauryl alcohol ethoxylate (molecular weight: about 278, ethylene oxide moles: 15, manufacturer: Lotte Chemical Company, product name: LAE-15) for about 3 weight 0/0; Combined-methylpyrrolidone 65 parts by weight 0/0 and glyceryl pyrrolidone common to about 20 parts by weight 0 /.
  • Lauryl alcohol ethoxylate moles: about 278, ethylene oxide moles: 15, manufacturer: Lotte Chemical Company, product name: LAE-15
  • Combined-methylpyrrolidone 65 parts by weight 0/0 and glyceryl pyrrolidone common to about 20 parts by weight 0 /.
  • a polyester support was prepared in which glycerol was impregnated into the impregnation solution for about 5 seconds and then the residual impregnation solvent was removed.
  • the thickness of the casting knife was adjusted to about 150 while maintaining the polymer resin composition at a temperature of about 30 ° C., and the glycerol was cast on the polyester support impregnated.
  • the polymer resin composition cast on the polyester support was exposed for about 15 seconds under conditions of a relative humidity of about 90% and a temperature of about 20 ° C. using water vapor as a humidification solvent (vapor induction phase transition step).
  • the polymer resin composition cast on the polyester support having undergone the vapor induction phase transition step was precipitated in non-solvent water (about 20 ° C.) for about 12 hours to prepare a polyether sulfone polymer filter membrane.
  • non-solvent water about 20 ° C.
  • the average value of the permeation flux (LMH, m 3 / m 2 hr) ⁇ ) of the polyether sulfone polymer filtration membrane was measured under a 0.1 bar vacuum condition using a circular porous plate having a diameter of 40 mm.
  • the polymer filtration membranes according to Examples 1 to 6 had a plurality of pores having an average pore size of less than 1, preferably about 0.4 to 0.6, and a permeate flow rate of about It was shown that 100 to 400 LMH, it can be effectively applied as a microfiltration membrane or an ultrafiltration membrane.

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Abstract

본 발명은 정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물과, 상기 고분자 수지 조성물을 사용하여 고분자 여과막을 제조하는 방법과, 상기 제조 방법에 의하여 제공되는 고분자 여과막에 관한 것이다. 본 발명에 따른 고분자 수지 조성물은, 미세 기공이 보다 균일하게 분포하며 높은 수투과도를 나타낼 수 있는 미세 다공성 막의 제공을 가능케 한다.

Description

【명세서】
【발명의 명칭】
정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물, 고분자 여과막의 제조 방법 및 고분자 여과막
【기술분야】
본 발명은 정밀여과막 또는 한외여과막의 제조에 적합하게 사용될 수 있는 고분자 수지 조성물, 이를 사용한 고분자 여과막의 제조 방법 및 그에 따른 고분자 여과막에 관한 것이다.
【발명의 배경이 되는 기술】
의약 분야, 반도체 분야, 전지 분야, 생명공학 분야, 유제품, 음료 및 식품 분야, 수처리 분야 등 다양한 분야에서 액체 또는 기체의 분리를 위하여 고분자 여과막을 이용하고 있다.
이와 같은 고분자 여과막은 물질의 분리 공정에 있어서 공정의 효율 및 경제성을 결정할 수 있는 중요한 인자이며, 이러한 고분자 여과막으로는 고분자 입자를 몰드에 주입하고. 소결하여 얻어지는 소결막이나, 결정성 고분자 필름이나 중공사를 연신하여 다공성을 부여하는 연신막이나, 고분자 필름에 방사선을 조사하고 이를 에칭 용액에 담그어 제조되는 트랙킹 에칭막이나, 고분자의 용융점을 상회하는 은도에서 희석제와 흔합하여 제조하는 열유도 상변환막이나, 또는 고분자 수지를 포함하는 균질 용액을 비용매에 담궈서 형성되는 용매 교환법에 의한 상변환막 등이 알려져 있다. 현재 정밀 여과막이나 한외 여과막을 상업적으로 제조하기 위해서는 용매 교환법을 주로 사용하고 있다. 그리고, 최근에는 고분자 용액을 캐스팅하고 이를 비용매 웅집조에 침전시키는 방법 (비용매유도상전이,
Nonsolvent Induced Phase Separation)과 더불어 미세 다공성 고분자 막은 적절한 용매를 선택하여 제조된 고분자 용액을 캐스팅한 후 증기에 노출시켜서 증기가 노출 표면에 흡습되도록 하는 방법 (증기유도상전이,
Vapor Induced Phase Separation)이 함깨 사용되고 있다.
미국특허 제 5,886,059 호는 비대칭 플리에테르술폰 고분자 여과막의 제조방법에 관한 것으로 (1) 폴리에테르술폰 고분자 용액 제조 단계, (2) 상기 고분자 용액에 비용매를 첨가 및 흔합하여 분산액을 제조 단계, (3) 상기 분산액을 기체상 환경 (gaseous environment)에 노출시키는 단계, 및 (4) 제조된 분산액을 침전시켜서 폴리에테르술폰 고분자 여과막올 제조하는 단계에 관하여 개시하고 있다. 그러나 상기 미국특허에 따른 고분자 여과막의 제조 공정에서는, 고분자 용액을 다루기 어렵거나, 고분자 용액은 점도가 낮아서 적절한 물성의 고분자 여과막을 제조하기가 용이하지 않은 것으로 보인다. 또한, 상기 미국특허에 따라 제조된 고분자 여과막은 균일한 기공의 분포 또는 충분한 투과성을 확보하기 어려운 한계가 있다.
미국특허 제 6,056,903 호는 폴리에테르술폰막의 제조방법에 관한 것으로서, (1) 폴리에테르술폰 고분자, 용매 및 저급 지방성 (aliphatic) 글리콜을 함유하는 고분자 용액 제조 단계, (2) 지지체 위에 고분자 용액 제막 단계, (3) 코팅된 지지체를 대기 (atmospheric condition) 중에 노출시키는 단계, (4) 상기 노출된 코팅된 지지체를 저급 지방성 글리콜과 물을 함유하는 침전조에 침전시켜서 폴리에테르술폰막을 제조하는 단계, 및 (5) 상기 폴리에테르술폰막을 세척 및 건조 단계를 개시하고 있다. 그리나, 상기 미국특허에서와 같이, 저급 지방성 글리콜을 사용하고, 침전조의 용매의 성격을 바꿔 비용매 유도 상전이 방법을 이용한 경우에는 기공 형성이 용이하지 않거나 형성되는 기공의 분포가 균일하지 않거나 고분자 막이 층분한 투과 유량을 갖기 어려울 수 있다.
또한, Park, H.C. et al. (Journal of Membrane Science I 1999년, page: 169-178)의 문헌에는 증기유도상전이 공정과 비용매유도상전이 공정을 이용하여 고분자 여과막을 제조하는 방법이 개시되어 있으나, 상기 두 공정을 동시에 이용한다 할지라도 적절한 크기를 갖는 기공을 균일하게 형성하거나 높은 투과 유량을 확보하는데에는 일정한 한계가 있었다.
한편, 정밀여과막 또는 한외여과막의 존재하는 기공의 크기나 형태를 조절하기 위하여 제조 과정에서 다양한 첨가제가 사용되는데, 이러한 첨가제들 증 친수성 첨가제를 넣어 분리막을 제조하게 되면 분리막의 수투과도가 향상 될 뿐 아니라, 분리막 표면에 오염물질이 흡착되는 파울링 (fouling) 현상을 줄여주게 된다. 하지만 이러한 친수성 첨가제는 물과의 친화도가 높아서 물에 녹는 경우가 대부분인데, 정밀여과막 또는 한외여과막의 실제 운전 과정에서도 친수성 첨가제가 물에 녹게 되어, 첨가제 사용에 따라 유도되는 수투과도 향상이나 앤티파울링 (Anti-fouling) 효과가 운전 시간이 지날수록 줄어들어 결국에는 오염원에 의해 흡착이 잘 되고 그로 인해 막의 분리 기능을 잃어 수명 이 단축되는 문제점 이 발생하게 된다.
일본공개특허 평 7-185280 호, 일본공개특허 제 2002-018245 호 또는 한국공개특허 게 2009-0034976 호에는 다양한 고분자 첨가제가 개시되어 있으나, 이 러한 첨가제들은 생산이 용이하지 않거나, 실제 고분자 여과막에 적용시 높은 투수성를 확보하는데 일정 한 한계가 있었다.
【선행기술문헌】
【특허문헌】
(특허문헌 0001 ) 미국특허 제 5,886,059 호
(특허문헌 0002) 미국특허 제 6,056,903 호
(특허문헌 0003) 일본공개특허 평 7-185280 호
(특허문헌 0004) 일본공개특허 제 2002-018245 호
(특허문헌 0005) 한국공개특허 제 2009-0034976 호
【비특허문헌】
Park, H.C. et al. (Journal of Membrane Science I 1999 년, page: 169-
178)
【발명의 내용】
【해결하고자 하는 과제】
본 발명은 미세 기공이 보다 균일하게 분포하며 높은 수투과도를 나타낼 수 있는 미세 다공성 막의 제공을 가능케 하는 고분자 수지 조성물을 제공하기 위 한 것이다. ᅳ
또한, 본 발명은 상기 고분자 수지 조성물을 사용하여 우수한 기 계적 물성과 여과 성능을 나타낼 수 있는 고분자 여과막의 제조 방법과, 그에 따른 고분자 여과막을 제공하기 위 한 것이다.
【과제의 해결 수단】
본 발명에 따르면, 고분자 베 이스 수지 ; 하기 화학식 1 로 표시되는 화합물; 및 유기 용매를 포함하는 정밀여과막 또는 한외 여과막 제조용 고분자 수지 조성물이 제공된다: 【화학식 1]
Figure imgf000006_0001
상기 화학식 1 에서, R 은 탄소수 1 내지 20 의 알킬기이고, n 은 1 내지 50의 정수이다.
그리고, 본 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물을 기재 상에 도포하는 단계; 상기 기재 상에 도포된 고분자 수지 조성물을 상대 습도 10% 내지 100%의 공기에 노출하는 증기 유도 상전이 단계; 및 상기 증기 유도 상전이 단계의 결과물을 비용매에 침전시키는 비용매 유도 상전이 단계를 포함하는, 고분자 여과막의 제조 방법이 제공된다.
그리고, 본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 고분자 여과막의 제조 방법으로 제조되며, 고분자 베이스 수지 및 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물을 포함하고, 0.1 nm 내지 10 / 의 최대 직경을 갖는 다수의 기공이 형성된 고분자 여과막이 제공된다. 이하, 발명의 구체적인 구현예에 따른, 정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물, 고분자 여과막의 제조 방법 및 고분자 여과막에 관하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.
그에 앞서, 본 명세서 전체에서 명시적인 언급이 없는 한, 전문 용어는 단지 특정 구현 예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다.
그리고, 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다.
또한, 명세서에서 사용되는 '포함 '의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 또는 성분의 부가를 제외시키는 것은 아니다. 먼저, 본 발명의 일 구현예에 따르면, 고분자 베이스 수지 ; 하기 화학식 1 로 표시되는 화합물; 및 유기 용매를 포함하는 정밀여과막 또는 한의 여과막 제조용 고분자 수지 조성물이 제공된다:
[화학식 1]
Figure imgf000007_0001
상기 화학식 1 에서, R 은 탄소수 1 내지 20 의 알킬기 이고, n 은 1 내지 50 의 정수이다.
본 발명자들은 고분자 여과막에 대한 연구를 거듭하는 과정에서, 상기 화학식 1 로 표시 되는 화합물을 포함하는 고분자 수지 조성물을 사용할 경우, 미세 기공이 보다 균일하게 분포하며 높은 수투과도를 나타낼 수 있는 미세 다공성 막의 제공을 가능케 함을 확인하여, 본 발명을 완성하였다. 특히, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물은 양쪽 친매성 (amphiphilic)을 갖는 비 이온성 계면활성제로 작용할 수 있어 , 이를 포함하는 고분자 수지 조성물을 사용할 경우, 표면 및 내부에 형 태와 크기가 적 절하게 조절된 기공이 보다 균일하게 형성된 고분자 여과막을 얻을 수 있다.
본 발명에 따르면, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물은, 비 제한적 인 예로, 2- (메톡시 )에탄을 [2-(methoxy)ethanol], 2- (에톡시 )에탄올 [2- (ethoxy)ethanol], 라우릴 알코을 에톡시 레이트 (lauryl alcohol ethoxylate), 2- (핵사데실옥시 )에탄을 [2-(hexadecyloxy)ethanol], 및 메톡시 폴리에틸렌 글리콜 (methoxy polyethylene glycol)로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있다.
특히, 본 발명에 따르면, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물은 분자량 (고분자인 경우 중량 평균 분자량)이 200 내지 5000, 바람직하게는 200 내지 3500, 보다 바람직하게는 200 내지 2500 일 수 있다.
즉, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물의 분자량이 너무 작으면, 고분자 수지 조성물에 포함되는 다른 성분 (예를 들어, 후술하는 고분자 베이스 수지 등)과 엉 키 거나 반옹하는 정도가 낮아지고, 그에 따라 제조되는 여과막의 기계적 물성이 저하되거나, 본 발명에서 요구되는 미세 기공의 확보 효과가 층분히 발현되지 못할 수 있다. 그리고, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물의 분자량이 너무 크면, 이를 포함하는 고분자 수지 조성물의 용해도가 낮아지고, 그에 따라 본 발명에서 요구되는 적절한 물성을 갖는 여과막의 제조가 용이하지 않을 수 있다. 따라서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 분자량은 전술한 범위에서 조절되는 것이 유리하다. 특히, 본 발명에 따르면, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물은 전술한 분자량 범위를 만족하는 라우릴 알코을 에특시레이트, 메록시 폴리에틸렌 글리콜, 또는 이들의 흔합물인 것이 전술한 효과의 발현 측면에서 보다 유리할 수 있다.
그리고, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물은 조성물 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 50 중량0 /0, 바람직하게는 0.1 내지 40 중량0 /0, 보다 바람직하게는 1 내지 30 중량0 /。로 포함될 수 있다. 즉, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물의 첨가에 따른 효과를 층분히 발현시킴과 동시에, 과량 첨가시 발생할 수 있는 기공 형상 및 분포 제어의 어려움 등을 감안하여, 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물의 함량은 전술한 범위에서 조절되는 것이 유리하다. 한편, 본 발명에 따른 상기 고분자 수지 조성물은 고분자 베이스 수지를 포함할 수 있다. 이러한 고분자 베이스 수지는 상기 수지 조성물로부터 제조되는 여과막의 기본적인 골격을 이루고 기공이 형성되는 장소가 된다.
상기 고분자 베이스 수지로는 본 발명이 속하는 기술분야에서 정밀여과막 또는 한외여과막에 적용되는 통상적인 고분자 수지가 특별한 제한 없이 적용될 수 있다. 다만, 본 발명에 따르면, 상기 고분자 베이스 수지는 폴리에테르술폰 (PES), 셀를로오스계 고분자, 폴리아마이드계 고분자, 폴리술폰 (PSf), 폴리에테르케톤 (PEK), 폴리에테르에테르케톤 (PEEK), 폴리비닐라이덴 플로라이드 (PVDF), 폴리테트라플루오로에틸랜 (PTFE), 폴리비닐클로라이드 (PVC), 폴리비닐라이덴 클로라이드 (PVDC) 또는 이들의 2종 이상의 흔합물일 수 있다. 상기 고분자 베이스 수지로 사용될 수 있는 폴리 에 테르술폰 (PES), 폴리술폰 (PSf), 폴리에테르케톤 (PEK) 또는 폴리에 테르에 테르케톤 (PEEK)는 5,000 내지 200,000 의 중량 평균 분자량을 가질 수 있다. 또한, 상기 폴리비닐라이 덴 플로라이드 (PVDF), 폴리 테트라플루오로에 틸랜 (PTFE), 폴리비닐클로라이드 (PVC) 또는 폴리비닐라이 덴 클로라이드 (PVDC)는 50,000 내지 2,000,000 의 중량 평균 분자량을 가질 수 있다. 그리고, 상기 폴리아미 이드계 고분자는 2.0 내지 4.0 의 상대점도 (황산 96% 용액 기준)을 가질 수 있다. 그리고, 상기 샐를로오스계 고분자는 10,000 내지 5,000,000 의 중량 평균 분자량을 가질 수 있다.
그리고, 상기 고분자 베이스 수지는 조성물 전체 중량을 기준으로 1 내지 70 중량0 /0, 바람직하게는 1 내지 50 중량0 /0, 보다 바람직하게는 5 내지 40 중량0 /。로 포함될 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 고분자 수지 조성물을 사용하여 제조된 고분자 여과막의 기 계적 물성을 확보함과 동시에 , 고분자 베이스 수지의 과량 첨가시 발생할 수 있는 기공 형상 및 분포 제어의 어 려움 등을 감안하여, 상기 고분자 베이스 수지 의 함량은 전술한 범위에서 조절되는 것이 유리하다. 한편, 본 발명에 따른 상기 고분자 수지 조성물은 유기 용매를 포함할 수 있다. 상기 유기 용매는 상기 고분자 수지 조성물이 적절한 점도를 갖도록 하고, 상기 고분자 베이스 수지와 화학식 1 로 표시되는 화합물이 층분히 용해 및 흔합될 수 있도록 한다.
상기 유기 용매는 디 메틸아세트아마이드 (DMAc), N-메틸- 피를리디논 (NMP), N-옥틸-피를리디논, N-페닐-피를리디논, 디 메틸설폭시드 (DMSO), 설포란, 카테콜, 에 틸 락테이트, 아세톤, 에 틸 아세테이트, 부틸 카르비를, 모노에탄을아민, 부티를 락톤, 디글리콜 아민, Y- 부티를락톤, 테트라히드로푸란 (THF), 메틸 포르메이트, 디에 틸 에 테르, 에 틸 벤조에 이트, 아세토니트릴, 에 틸렌 글리콜, 글리세를, 디옥산, 메틸 카르비를, 모노에탄을아민, 피 리딘, 프로필렌 카르보네이트, 를루엔, 데칸, 핵산, 핵산류, 크실렌류, 시클로핵산, 1 H,1 H,9H-퍼플루오로 -1-노난올, 퍼플루오로 -1,2- 디메틸시클로부탄, 퍼플루오로 -1,2-디메틸시클로핵산, 퍼플루오로핵산 (류) 및 이들의 흔합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.
그리고, 상기 유기 용매는 조성물 전체 중량을 기준으로 10 내지 95 중량0 /。, 바람직하게는 20 내지 95 중량0 /0, 보다 바람직하게는 30 내지 90 중량0 /。로 포함될 수 있다. 즉, 상기 고분자 수지 조성물에 포함되는 고분자 베이스 수지와 화학식 1 의 화합물이 층분히 용해 및 흔합될 수 있도록 하면서도, 고분자 여과막의 제조에 요구되는 적절한 점도를 부여하고, 과량 첨가시 발생할 수 있는 기공 형상 및 분포 제어의 어려움 등을 감안하여, 상기 유기 용매의 함량은 전술한 범위에서 조절되는 것이 유리하다. 한편, 상기 고분자 수지 조성물은 제조되는 고분자 여과막의 물성과 용도, 여과막 표면 또는 내부에 형성되는 기공의 형태와 크기를 조절하기 위하여, 선택적으로 첨가제를 더 포함할수 있다.
상기 첨가제로는 전술한 목적을 달성할 수 있는 통상적인 성분들이 포함될 수 있으며, 비제한적인 예로, 폴리에틸렌글리콜, 폴리옥시에틸렌- 폴리옥시프로필렌 블록 공중합체, 폴리비닐피를리돈 (PVP), LiCl, LiCI04, 메탄올, 에탄을, 이소프로판올, 아세톤 (Acetone), 인산, 프로피온산, 아세트산, 실리카 (SiO2), 피리딘 및 폴리비닐피리딘으로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상의 화합물일 수 있다.
그리고, 상기 첨가제의 함량은 전술한 목적을 감안하여 조절될 수 있으며, 바람직하게는 조성물 전체 중량을 기준으로 0.1 내지 90 중량0 /。, 보다 바람직하게는 0.1 내지 80 중량 0/。로 포함될 수 있다. 한편, 본 발명의 다른 구현예에 따르면,
전술한 정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물을 기재 상에 도포하는 단계;
상기 기재 상에 도포된 고분자 수지 조성물을 상대 습도 10% 내지 100%의 공기에 노출하는 증기 유도 상전이 단계; 및
상기 증기 유도 상전이 단계의 결과물을 비용매에 침전시키는 비용매 유도 상전이 단계 를 포함하는, 고분자 여과막의 제조 방법이 제공된다.
상술한 바와 같이, 상기 화학식 로 표시되는 화합물을 포함한 고분자 수지 조성물을 사용할 경우, 표면 및 내부에 형태와 크기가 적절하게 조절된 기공이 보다 균일하게 형성된 고분자 여과막이 제공될 수 있다.
구체적으로, 상기 고분자 베이스 수지; 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물; 및 유기 용매를 포함하는 정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물을 소정의 기재 상에 도포한 이후, 순차적으로 증기 유도 상전이 단계 및 비용매 유도 상전이 단계를 거치면, 미세한 크기의 기공이 높은 기공도로 균일하게 분포한 정밀여과막 또는 한외여과막이 얻어질 수 있다.
상기 정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물은 소정의 기재 상에 10 Mn 내지 300 iM, 바람직하게는 50 IM 내지 250 卿의 두께로 도포될 수 있다.
상기 정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물올 기재 상에 도포하는 단계에서는 통상적으로 알려진 고분자 수지의 도포 또는 코팅 방법을 별 다른 제한 없이 적용할 수 있다. 예를 들어, 상기 고분자 수지 조성물을 도포하는 단계에서는 라인 분사를 행하는 캐스팅 나이프 도포 장치를 이용하여 기재의 전체면에 걸쳐 균일한 도포를 진행할 수 있다. 상기 기재는 부직포, 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 셀를로스아세테이트 또는 이들이 흔합 (블렌드)된 수지를 사용할 수 있다. 또한, 상기 기재는 제조되는 정밀여과막 또는 한외여과막의 구체적인 형태 또는 특성에 따라서 다양한 형태를 가질 수 있는데, 구체적으로 상기 기재는 필름형, 튜브형 또는 중공사 (hollow fiber)형의 구조를 가질 수 있다.
한편, 상기 고분자 여과막의 제조 방법은 상기 고분자 수지 조성물의 도포 이전에, 상기 기재를 유기 용매에 함침하는 단계를 더 포함하여 수행될 수 있다. 또한, 상기 고분자 여과막의 제조 방법은 함침 단계 이후에 기재에서 유기 용매 (함침 용매)를 제거하는 단계를 더 포함하여 수행될 수 있다. 상기 고분자 수지 조성물의 도포 이전에, 상기 기재를 유기 용매에 함침함에 따라서 기재 표면 또는 내부에 존재하는 기공을 줄일 수 있고, 기재 내부에 유기 용매를 침투시켜서 후속 공정에서 기재 표면에 도포되는 고분자 수지 조성물층이 쉽게 박리되거나 손상되는 것을 방지할 수 있다. 또한 상기와 같은 유기 용매로의 함침 단계를 거치게 되면 함침 용액의 점도 또는 함침 용액과 고분자 용액과의 친연성에 따라서 고분자의 두께가 조절될 수 있으며, 고분자 여과막의 표면과 내부에서 생기는 기공 및 기공도가 보다 더 향상될 수 있고, 고분자 막의 표면이 보다 균일하게 형성될 수 있다.
상기 함침 단계에서 사용 가능한 유기 용매로는, 탄소수 1 내지
10 의 알킬렌 글리콜, 탄소수 1 내지 10 의 알킬렌 글리콜 반복 단위를 포함한 폴리알킬렌 글리콜, 1,3-부탄다이올, 1,4-부탄다이올, 1,5-펜단다이올, 메틸피를리돈, 디메틸아세트아마이드, 디메틸포름아마이드 디메틸설폭사이드, 설포란, 글리세를과 메틸피를리돈 흔합 용매, 글리세를과 디메틸아세트아마이드 흔합 용매, 폴리에틸렌글리콜과 메틸피롤리돈 흔합 용매 등을 들 수 있다.
한편, 상기 기재 상에 도포된 고분자 수지 조성물을 상대 습도 10% 내지 100%의 공기에 노출하는 증기 유도 상전이 단계에서는, 상기 기재 상에 도포된 고분자 수지 조성물이 습한 공기에 노출됨으로써 수지 조성물 표면에 소정의 기공이 형성될 수 있다.
상기 증기 유도 상전이 단계는 공정의 효율을 감안하여 상대 습도
10% 내지 100%, 바람직하게는 50% 내지 100%에서 이루어질 수 있다. 또한, 상기 증기 유도 상전이 단계는 0 내지 30C C의 온도에서 1 초 내지 10분 동안 진행될 수 있고, 0 내지 50°C의 온도에서 5분 이내의 시간 동안 진행될 수 있다.
또한, 상기 증기 유도 상전이 단계에는 물, 900 이하의 중량 평균 분자량을 갖는 폴리에틸렌글리콜 (PEG), 글리세를, 1,3-부탄다이을, 1,4- 부탄다이올 및 1,5-펜단다이올로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상 포함한 가습 용매가 사용될 수 있다. 한편, 상기 증기 유도 상전이 단계의 결과물을 비용매에 침전시키는 비용매 유도 상전이 단계에서는, 상기 증기 유도 상전이 단계를 거친 기재 상에 도포된 고분자 수지 조성물을 비용매에 침전시켜서 내부 기공을 형성시키는 단계이다. 이때 사용될 수 있는 비용매로는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 물, 글라이콜류, 또는 이들의 2 종 이상의 흔합물을 들 수 있다.
상기 비용매 유도 상전이 단계는, 상기 증기 유도 상전이 단계의 결과물을 0 내지 90°C의 온도를 갖는 비용매에 10 분 내지 24 시간 동안 침전시키는 단계를 포함하여 수행될 수 있다.
그리고, 상기 고분자 여과막의 제조 방법은, 상기 비용매 유도 상전이 단계의 결과물을 세척하고 건조하는 단계를 더 포함하여 수행될 수 있다. 상기 비용매 유도 상전이 단계의 결과물을 녹이지 않는 용매를 사용하여 세척한 뒤 일정 은도에서 건조함으로써 최종적으로 고분자 여과막을 얻을 수 있다. 상기 세척에는 아세톤, 메탄올, 에탄을 또는 물 등이 사용될 수 있으며, 바람직하게는 20 내지 90°C의 물이 사용될 수 있다. 또한, 상기 세척 후 결과물을 20 내지 200 °C, 바람직하게는 40 내지 100°C의 온도하에서 건조하여, 최종적으로 미세 다공성 고분자 여과막이 얻어질 수 있다. 한편, 본 발명의 또 다른 구현예에 따르면
전술한 방법으로 제조되며, 고분자 베이스 수지 및 상기 화학식 1 로 표시되는 화합물을 포함하고, 0.1 nm 내지 10 의 최대 직경을 갖는 다수의 기공이 형성된, 고분자 여과막이 제공된다.
상기 고분자 여과막은 전술한 바와 같은 고분자 수지 조성물을 사용한 제조 방법으로 얻어짐에 따라 미세 기공이 보다 균일하게 분포하며 높은 수투과도를 나타낼 수 있다.
이와 같은 상기 고분자 여과막은 0.1 nm 내지 10 의 최대 직경을 갖는 다수의 기공이 형성된 정밀여과막 또는 한외여과막일 수 있다. 그리고, 상기 고분자 여과막은 100 내지 700 LMH(m3/m2hr), 바람직하게는 1000 내지 500 LMH의 투과 유량을 가질 수 있다. 【발명의 효과】
본 발명에 따른 고분자 수지 조성물은, 미세한 기공이 보다 균일하게 분포하고 높은 수투과도를 나타낼 수 있는 고분자 여과막의 제공을 가능케 한다. 또한, 본 발명에 따른 고분자 여과막의 제조 방법은 단순화된 공정으로 우수한 물성을 갖는 고분자 여과막을 보다 안정적으로 생산할 수 있다.
【도면의 간단한 설명】
도 1 은 실시예 1 에서 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 표면을 2,000 배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (a)과 상기 고분자 여과막의 단면을 5,000배 확대 관찰한주사 전자 현미경 사진 (b)이다.
도 2 는 실시예 2 에서 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 표면을 2,000 배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (a)과 상기 고분자 여과막의 단면을 5,000배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (b)이다.
도 3 은 실시예 3 에서 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 표면을 2,000 배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (a)과 상기 고분자 여과막의 단면을 5,000배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (b)이다.
도 4 는 실시예 4 에서 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 표면을 2,000 배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (a)과 상기 고분자 여과막의 단면을 5,000배 확대 관찰한주사 전자 현미경 사진 (b)이다.
도 5 는 실시예 5 에서 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 표면을 2,000 배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (a)과 상기 고분자 여과막의 단면을 5,000배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (b)이다.
도 6 은 실시예 6 에서 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 표면을 2,000 배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (a)과 상기 고분자 여과막의 단면을 5,000배 확대 관찰한 주사 전자 현미경 사진 (b)이다.
【발명을 실시하기 위한 구체적인 내용】
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예들을 제시한다. 다만 하기의 실시예들은 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예들에 의하여 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 폴리에테르술폰 (중량 평균 분자량: 약 58,000) 약 10 중량0 /0; 메록시 폴리에틸렌 글리콜 (중량 평균 분자량: 약 1,200, 제조사: 롯데케미칼, 제품명: mPEG-1200) 약 5 중량0 /0; 메틸피를리돈 65 중량0 /0, 및 글리세롤 약 20 중량0 /。를 흔합하여 고분자 수지 조성물을 준비하였다.
이와 별도로, 글리세를 함침 용액에 약 5 초 동안 함침한 후에 잔여 함침 용매를 제거한 폴리에스테르 지지체를 준비하였다.
이어서, 상기 고분자 수지 조성물을 약 30°C의 온도로 유지하면서 캐스팅 나이프의 두께를 약 150 로 조절하여 글리세를이 함침된 폴리에스테르 지지체 위에 캐스팅하였다.
상기 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 수증기를 가습 용매로 하는 '상대 습도 약 90% 및 약 20°C의 온도의 조건에서 약 15초간 노출시켰다 (중기 유도 상전이 단계).
그리고, 상기 증기 유도 상전이 단계를 거친 플리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 비용매인 물 (약 20°C)에 약 12 시간 동안 침전 시켜서 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 제조하였다. 이렇게 쎄조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 약 70°C 증류수로 약 3시간 세척한 후, 약 7C C의 드라이 오븐에서 약 24시간 동안 건조시켰다.
상기 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 기공의 모양, 크기 및 분포도 등을 확인하기 위하여 주사 전자 현미경으로 관찰하였고, 그 결과를 도 1 에 나타내었다. 도 1 에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 에 따른 폴리에테르술폰 고분자 여과막에는 0.5 내지 1.0 크기의 기공이 형성되었음을 확인하였다.
실시예 2
폴리에테르술폰 (중량 평균 분자량: 약 58,000) 약 10 중량0 /0; 라우릴 알코을 에특시레이트 (분자량: 약 278, ethylene oxide 몰수: 2, 제조사: 롯데케미칼, 제품명: LAE-2) 약 5 중량0 /0; 메틸피를리돈 65 중량0 /0 및 글리세를 약 20 중량%를 흔합하여 고분자 수지 조성물을 준비하였다.
이와 별도로, 글리세롤 함침 용액에 약 5 초 동안 함침한 후에 잔여 함침 용매를 제거한 폴리에스테르 지지체를 준비하였다. 이어서, 상기 고분자 수지 조성물을 약 30°C의 온도로 유지하면서 , 캐스팅 나이프의 두께를 약 150 zm로 조절하여 글리세를이 함침된 폴리에스테르 지지체 위에 캐스팅하였다.
상기 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 수증기를 가습 용매로 하는 상대 습도 약 90% 및 약 20°C의 온도의 조건에서 약 15초간 노출시켰다 (증기 유도 상전이 단계).
그리고, 상기 증기 유도 상전이 단계를 거친 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 비용매인 물 (약 20°C)에 약 12 시간 동안 침전 시켜서 폴리에테르술폰 고분자 여과막올 제조하였다. 이렇게 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 약 7( C 증류수로 약 3시간 세척한 후, 약 70°C의 드라이 오븐에서 약 24시간 동안 건조시켰다.
상기 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 기공의 모양, 크기 및 분포도 등을 확인하기 위하여 주사 전자 현미경으로 관찰하였고, 그 결과를 도 2 에 나타내었다. 도 2 에 나타낸 바와 같이, 실시예 2 에 따른 폴리에테르술폰 고분자 여과막에는 0.1 내지 0.5 크기의 기공이 형성되었음을 확인하였다.
실시예 3
폴리에테르술폰 (중량 평균 분자량: 약 58,000) 약 10 중량0 /0; 라우릴 알코을 에특시레이트 (분자량: 약 278, ethylene oxide 몰수: 15, 제조사: 롯데케미칼, 제품명: LAE-15) 약 5 중량0 /0; 메틸피를리돈 65 중량0 /。 및 글리세를 약 20 증량 %를 흔합하여 고분자 수지 조성물을 준비하였다.
이와 별도로, 글리세를 함침 용액에 약 5 초 동안 함침한 후에 잔여 함침 용매를 제거한 폴리에스테르 지지체를 준비하였다.
이어서, 상기 고분자 수지 조성물을 약 30°C의 온도로 유지하면서 캐스팅 나이프의 두께를 약 150 로 조절하여 글리세를이 함침된 폴리에스테르 지지체 위에 캐스팅하였다.
상기 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 수증기를 가습 용매로 하는 상대 습도 약 90% 및 약 20°C의 온도의 조건에서 약 15초간 노출시켰다 (증기 유도 상전이 단계). 그리고, 상기 증기 유도 상전이 단계를 거친 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 비용매인 물 (약 20°C)에 약 12 시간 동안 침전 시켜서 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 제조하였다. 이렇게 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 약 70°C 증류수로 약 3시간 세척한 후, 약 70°C의 드라이 오븐에서 약 24시간 동안 건조시켰다.
상기 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 기공의 모양, 크기 및 분포도 등을 확인하기 위하여 주사 전자 현미경으로 관찰하였고, 그 결과를 도 3 에 나타내었다. 도 3 에 나타낸 바와 같이, 실시예 3 에 따른 폴리에테르술폰 고분자 여과막에는 0.4 내지 1.0 m 크기의 기공이 형성되었음을 확인하였다.
실시예 4
폴리에테르술폰 (중량 평균 분자량: 약 58,000) 약 12 중량 %; 메록시 폴리에틸렌 글리콜 (중량 평균 분자량: 약 1,200, 제조사: 롯데케미칼, 제품명: mPEG-1200) 약 3 중량0 /0; 메틸피롤리돈 65 중량 % 및 글리세롤 약 20 중량 %를 흔합하여 고분자 수지 조성물을 준비하였다.
이와 별도로, 글리세롤 함침 용액에 약 5 초 동안 함침한 후에 잔여 함침 용매를 제거한 폴리에스테르 지지체를 준비하였다.
이어서, 상기 고분자 수지 조성물을 약 30°C의 온도로 유지하면서 캐스팅 나이프의 두께를 약 150 卿로 조절하여 글리세를이 함침된 폴리에스테르 지지체 위에 캐스팅하였다.
상기 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 수증기를 가습 용매로 하는 상대 습도 약 90% 및 약 20°C의 온도의 조건에서 약 15초간 노출시켰다 (증기 유도 상전이 단계).
그리고, 상기 증기 유도 상전이 단계를 거친 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 비용매인 물 (약 20°C)에 약 12 시간 동안 침전 시켜서 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 제조하였다. 이렇게 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 약 70°C 증류수로 약 3시간 세척한 후, 약 70°C의 드라이 오븐에서 약 24시간 동안 건조시켰다.
상기 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 기공의 모양, 크기 및 분포도 등을 확인하기 위하여 주사 전자 현미경으로 관찰하였고, 그 결과를 도 4 에 나타내었다. 도 4 에 나타낸 바와 같이, 실시예 4 에 따른 폴리에테르술폰 고분자 여과막에는 0.1 내지 0.4 urn 크기의 기공이 형성되었음을 확인하였다.
실시예 5
폴리에테르술폰 (중량 평균 분자량: 약 5,8000) 약 12 중량0 /0; 라우릴 알코을 에록시레이트 (분자량: 약 278, ethylene oxide 몰수: 2, 제조사: 롯데케미칼, 제품명: LAE-2) 약 3 중량0 /0; 메틸피를리돈 65 중량0 /0 및 글리세를 약 20 중량0 /0를 흔합하여 고분자 수지 조성물을 준비하였다.
이와 별도로, 글리세를 함침 용액에 약 5 초 동안 함침한 후에 잔여 함침 용매를 제거한 폴리에스테르 지지체를 준비하였다.
이어서, 상기 고분자 수지 조성물을 약 3(rc의 온도로 유지하면서 캐스팅 나이프의 두께를 약 150 로 조절하여 글리세를이 함침된 폴리에스테르 자지체 위에 캐스팅하였다.
상기 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물올 수증기를 가습 용매로 하는 상대 습도 약 90% 및 약 20°C의 온도의 조건에서 약 15초간 노출시켰다 (증기 유도 상전이 단계).
그리고, 상기 증기 유도 상전이 단계를 거친 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 비용매인 물 (약 2( C)에 약 12 시간 동안 침전 시켜서 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 제조하였다. 이렇게 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 약 70°C 증류수로 약 3시간 세척한 후, 약 7C C의 드라이 오븐에서 약 24시간 동안 건조시켰다.
상기 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 기공의 모양, 크기 및 분포도 등을 확인하가 위하여 주사 전자 현미경으로 관찰하였고, 그 결과를 도 5 에 나타내었다. 도 5 에 나타낸 바와 같이, 실시예 5 에 따른 폴리에테르술폰 고분자 여과막에는 0.1 내지 0.5 im 크기의 기공이 형성되었음을 확인하였다.
실시예 6
폴리에테르술폰 (중량 평균 분자량: 약 58,000) 약 12 중량 %; 라우릴 알코을 에톡시레이트 (분자량: 약 278, ethylene oxide 몰수: 15, 제조사: 롯데케미칼, 제품명: LAE-15) 약 3 중량0 /0; 메틸피를리돈 65 중량0 /0 및 글리세를 약 20 중량0 /。를 흔합하여 고분자 수지 조성물을 준비하였다.
이와 별도로, 글리세를 함침 용액에 약 5 초 동안 함침한 후에 잔여 함침 용매를 제거한 폴리에스테르 지지체를 준비하였다.
이어서, 상기 고분자 수지 조성물을 약 30°C의 온도로 유지하면서 캐스팅 나이프의 두께를 약 150 로 조절하여 글리세를이 함침된 폴리에스테르 지지체 위에 캐스팅하였다.
상기 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 수증기를 가습 용매로 하는 상대 습도 약 90% 및 약 20°C의 온도의 조건에서 약 15초간 노출시켰다 (증기 유도 상전이 단계).
그리고, 상기 증기 유도 상전이 단계를 거친 폴리에스테르 지지체 상에 캐스팅된 고분자 수지 조성물을 비용매인 물 (약 20°C)에 약 12 시간 동안 침전 시켜서 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 제조하였다. 이렇게 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막을 약 70°C 증류수로 약 3시간 세척한 후, 약 70°C의 드라이 오븐에서 약 24시간 동안 건조시켰다.
상기 제조된 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 기공의 모양, 크기 및 분포도 등을 확인하기 위하여 주사 전자 현미경으로 관찰하였고, 그 결과를 도 6 에 나타내었다. 도 6 에 나타낸 바와 같이, 실시예 6 에 따른 폴리에테르술폰 고분자 여과막에는 0/1 내지 0.5 크기의 기공이 형성되었음을 확인하였다.
시험예
실시예 1 내지 실시예 6 을 통해 얻어진 각각의 폴리에테르술폰 고분자 여과막에 대하여, 버블 포인트법을 이용한 오토 펌-포로미터 (CFP- 1200AEL)를 이용하여 평균 기공 크기와 분포를 측정하였다.
그리고, 지름 40 mm 의 원형 다공판을 이용하여 0.1 bar 진공 조건에서 폴리에테르술폰 고분자 여과막의 투과 유량 (LMH, m3/m2hr)≤) 평균값을 측정하였다.
이와 같이 측정된 평균 기공 크기와 투과 유량을 하기 표 1 에 각각 나타내었다.
【표 1】
Figure imgf000020_0001
상기 표 1 을 통해 알 수 있는 바와 같이 , 실시 예 1 내지 실시 예 6 에 따른 고분자 여과막은 평균 기공 크기가 1 미만, 바람직하게는 약 0.4 내지 0.6 인 다수의 기공이 형성되어 있었으며, 투과 유량도 약 100 내지 400 LMH 로 나타나, 정밀여과막 또는 한외 여과막 등으로 유효하게 적용될 수 있음을 확인하였다.

Claims

【특허 청구범위】 【청구항 1】 고분자 베이스 수지 ; 하기 화학식 1 로 표시되는 화합물; 및 유기 용매 를 포함하는 정밀여과막 또는 한외 여과막 제조용 고분자 수 조성물:
[화학식 1]
Figure imgf000021_0001
상기 화학식 1 에서 , R 은 탄소수 1 내지 20 의 알킬기 이고, n 은 1 내지 50 의 정수이다.
【청구항 2】
제 1 항에 있어서 ,
상기 화학식 1 로 표시되는 화합물은 2- (메특시 )에탄올 [2-
(methoxy)ethanol], 2- (에록시 )에탄을 [2-(ethoxy)ethanol], 라우릴 알코올 에톡시 레이트 (lauryl alcohol ethoxylate), 2- (핵사데실옥시 )에탄올 [2- (hexadecyloxy)ethanol], 및 메톡시 폴리에 틸렌 글리콜 (methoxy polyethylene glycol)로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상을 포함하는, 고분자 수지 조성물.
【청구항 3】
제 1 항에 있어서,
상기 화학식 1 로 표시 되는 화합물은 200 내지 5000 의 분자량 또는 중량 평균 분자량을 갖는, 고분자 수지 조성물.
【청구항 4】
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 베이스 수지는 폴리에테르술폰 (PES), 셀롤로오스계 고분자, 폴리아마이드계 고분자; 폴리술폰 (PSf), 폴리에테르케톤 (PEK), 폴리에테르에테르케톤 (PEEK), 폴리비닐라이덴 플로라이드 (PVDF), 폴리테트라플루오로에틸랜 (PTFE), 폴리비닐클로라이드 (PVC) 및 폴리비닐라이덴 클로라이드 (PVDC)으로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상을 포함하는, 고분자 수지 조성물.
【청구항 5】
제 1 항에 있어서,
상기 유기 용매는 디메틸아세트아마이드 (DMAc), N-메틸 -2- 피를리디논 (NMP), N-옥틸-피롤리디논, N-페닐-피를리디논, 디메틸설폭시드 (DMSO), 설포란, 카테콜, 에틸 락테이트, 아세톤, 에틸 아세테이트, 부틸 카르비를, 모노에탄올아민, 부티롤 락톤, 디글리콜 아민, Y- 부티롤락톤, 테트라히드로푸란 (THF), 메틸 포르메이트, 디에틸 에테르, 에틸 벤조에이트, 아세토니트릴, 에틸렌 글리콜, 글리세를, 디옥산, 메틸 카르비를, 모노에탄올아민, 피리딘, 프로필렌 카르보네이트, 를루엔, 데칸, 핵산, 핵산류, 크실렌류, 시클로헥산, 1H,1H,9H-퍼플루오로 -1-노난올, 퍼풀루오로 -1,2- 디메틸시클로부탄, 퍼플루오로 -1,2-디메틸시클로핵산, 퍼플루오로핵산 (류) 및 이들의 흔합물로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상을 포함하는, 고분자 수지 조성물.
【청구항 6】
제 1 항에 있어서,
상기 고분자 베이스 수지 1 내지 70중량0 /。;
상기 화학식 1로 표시되는 화합물 0.1 내지 50 중량0 /。; 및
유기 용매 10 내지 95중량0 /0
를 포함하는, 고분자 수지 조성물.
【청구항 7】
제 1 항에 있어서, 폴리에틸렌글리콜 폴리옥시에틸렌 -플리옥시프로필렌 블록 공중합체, 폴리비닐피를리돈, LiCI, L1CIO4,메탄올, 에탄을, 이소프로판올, 아세톤, 인산, 프로피온산, 아세트산, 실리카 (Si02), 피리딘 및 폴리비닐피리딘으로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상의 첨가제를 더 포함하는, 고분자 수지 조성물.
【청구항 8】
제 1 항에 따른 정밀여과막 또는 한외여과막 제조용 고분자 수지 조성물을 기재 상에 도포하는 단계;
상기 기재 상에 도포된 고분자 수지 조성물을 상대 습도 10% 내지
100%의 공기에 노출하는 증기 유도 상전이 단계; 및
상기 증기 유도 상전이 단계의 결과물을 비용매에 침전시키는 비용매 유도 상전이 단계
를 포함하는 고분자 여과막의 제조 방법.
【청구항 9】
제 8 항에 있어서,
상기 기재 상에 도포되는 고분자 수지 조성물의 두께가 10 내지 300/皿인, 고분자 여과막의 제조 방법.
【청구항 10]
제 8 항에 있어서,
상기 기재는 부직포, 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 샐를로스아세테이트 또는 이들의 블렌드된 수지로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하고,
필름형, 튜브형 또는 중공사 (hollow fiber)형의 구조를 갖는 고분자 여과막의 제조 방법.
【청구항 111
제 8 항에 있어서, 상기 고분자 수지 조성물의 도포 이전에, 상기 기재를 유기 용매에 함침하는 단계를 더 포함하는, 고분자 여과막의 제조 방법 .
【청구항 12】
제 8 항에 있어서,
상기 증기 유도 상전이 단계는 0 내지 300°C의 온도에서 1 초 내지 10분 동안 진행되는, 고분자 여과막의 제조 방법.
【청구항 13]
제 8 항에 있어서,
상기 증기 유도 상전이 단계는 물, 900 이하의 중량 평균 분자량을 갖는 플리에틸렌글리콜 (PEG), 글리세를, 1,3-부탄다이올, 1,4-부탄다이올 및 1,5-펜단다이올로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상 포함한 가습 용매를 사용하여 수행되는, 고분자 여과막의 제조 방법.
【청구항 14】
제 8 항에 있어서,
상기 비용매 유도 상전이 단계는, 상기 증기 유도 상전이 단계의 결과물을 0 내지 90°C의 온도를 갖는 비용매에 10 분 내지 24 시간 동안 침전시키는 방법으로 수행되는, 고분자 여과막의 제조 방법.
【청구항 15】
제 8 항에 있어서,
상기 비용매 유도 상전이 단계의 결과물을 세척하고 건조하는 단계를 더 포함하는, 고분자 여과막의 제조 방법.
【청구항 16】
제 8 항에 있어서,
상기 고분자 여과막은 정밀여과막 또는 한외여과막인, 고분자 여과막의 제조 방법.
【청구항 17]
제 8 항의 방법으로 제조되며, 고분자 베이스 수지 및 하기 화학식 1 로 표시되는 화합물을 포함하고, 0.1 nm 내지 10 의 최대 직경을 갖는 다수의 기공이 형성된 고분자 여과막:
[화학식 1]
Figure imgf000025_0001
상기 화학식 1 에서, R은 탄소수 1 내지 20 의 알킬기이고, n 은 1 내지 50의 정수이다.
【청구항 18】
제 17 항에 있어서,
100 내지 700 LMH(m3/m^hr)의 투과 유량을 갖는 고분자 여과막.
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