WO2013007444A1 - Lichtemittierendes bauelement und verfahren zum herstellen eines lichtemittierenden bauelements - Google Patents

Lichtemittierendes bauelement und verfahren zum herstellen eines lichtemittierenden bauelements Download PDF

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WO2013007444A1
WO2013007444A1 PCT/EP2012/060237 EP2012060237W WO2013007444A1 WO 2013007444 A1 WO2013007444 A1 WO 2013007444A1 EP 2012060237 W EP2012060237 W EP 2012060237W WO 2013007444 A1 WO2013007444 A1 WO 2013007444A1
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WO
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layer
light
electrode
substrate
thermotropic
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PCT/EP2012/060237
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English (en)
French (fr)
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Karsten Heuser
Daniel-Steffen SETZ
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Osram Opto Semiconductors Gmbh
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    • H10K2102/331—Nanoparticles used in non-emissive layers, e.g. in packaging layer

Definitions

  • organic light emitted light in part directly coupled out of the organic light emitting diode.
  • the remaining light is distributed into different loss channels, as in a representation of an organic light emitting diode 100 in Fig.l
  • FIG. 1 shows an organic light-emitting diode 100 with a glass substrate 102 and a transparent first electrode layer 104 arranged thereon, for example made of indium tin oxide (ITO).
  • ITO indium tin oxide
  • a first organic layer 106 is arranged, on which an emitter layer 108 is arranged.
  • a second organic layer 110 is arranged. Furthermore, a second electrode layer 112, for example made of a metal, is arranged on the second organic layer 110.
  • An electrical power supply 114 is coupled to the first electrode layer 104 and to the second electrode layer 112, such that an electric current for generating light through the between the
  • Electrode layers 104, 112 arranged layer structure is performed.
  • a first arrow 116 symbolizes one
  • desired light coupled out, for example, a part of the light, which arises due to a reflection of a part of the light generated at the interface of the light Glass substrate 102 to the air (symbolized by a third arrow 122) and due to a reflection of a portion of the generated light at the interface between the first electrode layer 104 and the glass substrate 102nd
  • the following loss channels are thus present, for example: loss of light in the glass substrate 102, loss of light in the organic layers and the transparent electrode 104, 106, 108, 110 as well as surface plasmons generated at the metallic cathode (second electrode layer 112). These light components can not be readily decoupled from the organic light emitting diode 100.
  • Auskoppelfolien applied, which can decouple the light from the substrate by means of optical scattering or by means of microlenses. It is also known to structure the free substrate surface directly.
  • Crystals can decouple only certain wavelengths.
  • thermotropic glass layer to adapt the
  • Light extraction from a light emitting device such as an organic light emitting diode
  • a light-emitting device for example, in a two-sided light-emitting device
  • a two-sided light-emitting device in the off state.
  • the light emitting device may include an electrically active region and a thermotropic layer disposed outside the electrically active region.
  • electrically active area may have a first
  • thermotropic layer may be a
  • the matrix material is
  • the particles may comprise microparticles.
  • the light-emitting diode may comprise microparticles.
  • Component further comprising a substrate
  • thermotropic layer is disposed between the electrically active region and the substrate.
  • Component further comprising a substrate and a first
  • thermotropic layer is disposed between the substrate and the first cover.
  • Component further comprising a substrate and a
  • Encapsulation which is arranged on the side facing away from the substrate of the electrically active region; and wherein the thermotropic layer is disposed over the encapsulant.
  • Component further comprising a substrate; an encapsulation, wherein the encapsulation is arranged on the side facing away from the substrate of the electrically active region; and a second cover disposed over the encapsulant; wherein the thermotropic layer is disposed over the second cover.
  • Component further comprise an encapsulation, wherein the Encapsulation is arranged on the side facing away from the substrate of the electrically active region; and a second thermotropic layer, wherein the second thermotropic layer is disposed over the encapsulant.
  • Component further comprise an encapsulation, wherein the encapsulation is disposed on the side facing away from the substrate of the electrically active region; a second cover disposed over the encapsulant; and a second thermotropic layer, wherein the second thermotropic layer is disposed over the second cover.
  • Component be configured as an organic light emitting diode.
  • a method of manufacturing a light-emitting device In various embodiments, a method of manufacturing a light-emitting device
  • the method may include forming an electrically active region and forming a thermotropic layer outside the electrically active region.
  • Forming an electrically active region may include forming a first electrode; forming a second electrode; and forming an organic functional one
  • the embodiments of the light-emitting component apply, as far as appropriate, correspondingly to the method for producing a light-emitting component.
  • Figure 1 is a cross-sectional view of a conventional
  • Figure 2 is a cross-sectional view of a light-emitting
  • Figure 3 is a cross-sectional view of a light-emitting
  • Figure 4 is a cross-sectional view of a light-emitting
  • Figure 5 is a cross-sectional view of a light-emitting
  • Figure 6 is a cross-sectional view of a light-emitting
  • Figure 7 is a cross-sectional view of a light-emitting
  • FIG. 8 shows a flow chart in which a method for the
  • a light emitting device may be in different
  • Embodiments as an organic light emitting diode as an organic light emitting diode (organic light emitting diode, OLED) or be designed as an organic light emitting transistor.
  • the light emitting device may be in different
  • Embodiments be part of an integrated circuit. Furthermore, a plurality of light-emitting
  • the light emitting device 200 in the form of a
  • Organic light emitting diode 200 may include a substrate 202.
  • the substrate 202 may serve as a support for electronic elements or layers, such as light-emitting elements.
  • the substrate 202 may include or be formed from glass, quartz, and / or a semiconductor material, or any other suitable material. Further, the substrate 202 may include a
  • the plastic may be one or more polyolefins (eg, high or low density polyethylene (PE) or
  • the plastic may be polyvinyl chloride (PVC), polystyrene (PS), polyester and / or polycarbonate (PC),
  • PVC polyvinyl chloride
  • PS polystyrene
  • PC polycarbonate
  • the substrate 202 may comprise, for example, a metal foil, for example an aluminum foil, a stainless steel foil, a copper foil or a combination or a layer stack thereof.
  • the substrate 202 may include one or more of the above materials.
  • the substrate 202 may be translucent or even transparent.
  • translucent or “translucent layer” can be understood in various embodiments that a layer is permeable to light
  • the light generated by the light emitting device for example one or more
  • Wavelength ranges for example, for light in one
  • Wavelength range of the visible light (for example, at least in a partial region of the wavelength range of 380 nm to 780 nm). For example, is below the term
  • Translucent layer in various embodiments to understand that essentially the whole in one Structure (for example, a layer) coupled
  • Quantity of light is also coupled out of the structure (for example, layer), wherein a portion of the light can be scattered in this case
  • transparent or “transparent layer” can be understood in various embodiments that a layer is transparent to light
  • Wavelength range from 380 nm to 780 nm), wherein light coupled into a structure (for example a layer) is coupled out of the structure (for example layer) substantially without scattering or light conversion.
  • Embodiments as a special case of "translucent" to look at.
  • the optically translucent layer structure at least in a partial region of the wavelength range of the desired monochrome light or for the limited
  • the organic light emitting diode 200 (or else the light emitting devices according to the above or hereinafter described
  • Embodiments as a so-called top emitter and / or as a so-called bottom emitter. Under a top emitter can be in different
  • an organic light-emitting diode in which the light from the organic light emitting diode upwards, for example by the second electrode, as will be explained in more detail below, is emitted.
  • Under a bottom emitter can be in different
  • Embodiments understood an organic light emitting diode be in which the light from the organic light emitting diode down, for example, by the substrate and a first electrode, as will be explained in more detail below, is emitted.
  • thermotropic layer 204 may be applied.
  • thermotropic layer 204 may, in various embodiments, be understood as meaning a layer or a plurality of layers which contains at least one layer (referred to as a matrix) which contains thermotropic particles which are designed such that their refractive index depends on the temperature of the layer change.
  • the thermotropic particles in the layer 204 may be configured to relatively change their refractive index in a range of about 1% to about 10%, for example, in one
  • At least 15 ° C for example by at least 17 ° C, for example by at least 19 ° C, for example to
  • thermotropic layer 204 in various embodiments, a thermotropic layer 204 in various embodiments, a thermotropic layer 204 in various embodiments, a
  • Layer or a plurality of layers are understood, which contains at least one layer (referred to as a matrix) containing particles, wherein the matrix is set up in such a way is that it varies its refractive index depending on the temperature of the layer compared with the refractive index of the particles contained in the matrix.
  • the matrix of the thermotropic layer 204 may have a refractive index in the range from approximately 1.4 to approximately 1.9 when the (light-emitting device is not additionally heated) is switched off.
  • thermotropic particles contained in the matrix have a refractive index which is not or only minimally different from the refractive index of the matrix when switched off (clearly not heated). As a result, no light scattering occurs when switched off
  • thermotropic layer is transparent
  • thermotropic layer 204 can change their refractive index, for example, when the light-emitting component is switched on (in order to be additionally heated) so that it differs from the refractive index of the matrix and thus causes light scattering.
  • the thermotropic layer is thus translucent. The larger the difference in refractive index difference between matrix of the thermotropic layer and the particles, the larger the
  • thermotropic particles may be one
  • Refractive index in a range of about 1.37 to about 1.44 for example, in a range of about 1.38 to about 1.43, for example, in a range of about 1.39 to about 1.42, for example, in a range about 1.40 to about 1.41, for example one
  • Refractive index of about 1.43 or a refractive index of about 1.43 Refractive index of about 1.43 or a refractive index of about 1.43.
  • thermotropic layer 204 at a first temperature which is below a threshold temperature, be transparent and at a second temperature which is greater than the first temperature and greater than the threshold temperature, have light-scattering properties.
  • the matrix of the thermotropic layer 204 may comprise a matrix material
  • thermotropic particles for example, microparticles, for example, microcapsules with temperature-dependent
  • variable refractive index which are arranged to change their refractive index depending on the temperature.
  • thermotropic layer 204 may have a layer structure in which the matrix material between translucent or transparent layers
  • thermotropic the thermotropic
  • thermotropic layer 204 may have a layer thickness in a range of about 1 ym to about 1000 ym, for example one
  • thermotropic layer 204 may be a layer thickness in a range of about 10 ym to about 500 ym, for example, a layer thickness in a range of about 20 ym to about 200 ym.
  • the thermotropic layer 204 may be a
  • Component 200 may be arranged.
  • Area 206 may be considered the area of the light emitting
  • the electrically active region 206 may include a first electrode 208, a second electrode 210, and an organic functional one
  • Layer structure 212 as will be explained in more detail below.
  • the first electrode 208 on or above the thermotropic layer 204, the first electrode 208
  • the first electrode 208 (for example in the form of a first electrode layer 208).
  • the first electrode 208 (also referred to below as the lower electrode 208) may consist of a
  • electrically conductive material or be, such as a metal or a conductive transparent oxide (TCO) or a layer stack of multiple layers of the same metal or different metals and / or the same TCO or different TCOs.
  • TCO conductive transparent oxide
  • Transparent conductive oxides are transparent, conductive materials, for example
  • Metal oxides such as zinc oxide, tin oxide,
  • binary metal oxygen compounds such as ZnO, SnO 2, or ⁇ 2 ⁇ 3 also include ternary metal oxygen compounds, such as AlZnO, Zn 2 SnO 4, CdSn03, ZnSn03, Mgln204, Galn03, Zn2ln20s or
  • TCOs do not necessarily correspond to one
  • the first stoichiometric composition may also be p-doped or n-doped.
  • the first stoichiometric composition may also be p-doped or n-doped.
  • the first stoichiometric composition may also be p-doped or n-doped.
  • Electrode 208 comprises a metal; For example, Ag, Pt, Au, Mg, Al, Ba, In, Ag, Au, Mg, Ca, Sm or Li, and
  • Electrode 208 may be formed by a stack of layers of a combination of a layer of a metal on a layer of a TCO, or vice versa.
  • An example is one
  • ITO indium tin oxide
  • Electrode 208 may include one or more of the following materials, as an alternative or in addition to the materials listed above: networks of metallic nanowires and particles, such as Ag; Networks off
  • Carbon nanotubes Carbon nanotubes; Graphene particles and layers; Networks of semiconducting nanowires.
  • first electrode 208 may comprise electrically conductive polymers or transition metal oxides or electrically
  • the first electrode 208 and the substrate 202 may be translucent or transparent
  • the first electrode 208 may have, for example, a layer thickness of less than or equal to about 25 nm, for example one
  • the first electrode 208 may have, for example, a layer thickness of greater than or equal to approximately 10 nm, for example a layer thickness of .mu.m greater than or equal to about 15 nm.
  • a layer thickness of greater than or equal to approximately 10 nm for example a layer thickness of .mu.m greater than or equal to about 15 nm.
  • the first electrode 208 a is a first electrode 208 a
  • Layer thickness in a range of about 10 nm to about 25 nm for example, a layer thickness in a range of about 10 nm to about 18 nm, for example, a layer thickness in a range of about 15 nm to about 18 nm.
  • the first electrode 208 may have a layer thickness in a range of about 50 nm to about 500 nm, for example, a layer thickness in one Range of about 75 nm to about 250 nm, for example, a layer thickness in a range of
  • first electrode 208 transparent first electrode 208 and in the event that the first electrode 208 from a network of metallic nanowires, for example, from Ag, which may be combined with conductive polymers, a
  • the first electrode 208 for example, have a layer thickness in one
  • the first electrode 208 can also be configured opaque or reflective.
  • the first electrode 208 (for example, in the case of a metallic electrode), for example, a Have layer thickness of greater than or equal to about 40 nm, for example, a layer thickness of greater than or equal to about 50 nm.
  • the first electrode 208 can be used as the anode, ie
  • hole-injecting electrode may be formed or as
  • Cathode that is as an electron-injecting electrode.
  • the first electrode 208 may be a first electrical
  • a first electrical potential (provided by a power source (not shown), for example, a power source or a voltage source) can be applied.
  • the first electrical potential may be applied to or be to the substrate 202 and then indirectly applied to the first electrode 208.
  • the first electrical potential may be, for example, the ground potential or another predetermined reference potential.
  • the organic electroluminescent layer structure 210 may include one or more emitter layers 212, such as with fluorescent and / or phosphorescent emitters, and one or more hole line layers 214 (also referred to as hole transport layer (s) 214).
  • one or more electron conductive layers 216 also referred to as electron transport layer (s) 216) may be provided. Examples of emitter materials used in the
  • organometallic compounds such as derivatives of polyfluorene, polythiophene and polyphenylene (eg 2- or 2,5-substituted poly-p-phenylenevinylene) and metal complexes, for example iridium complexes such as blue-phosphorescent FIrPic (bis (3,5-difluoro-2- (bis 2-pyridyl) phenyl- (2-carboxypyridyl) -iridium III), green phosphorescent
  • non-polymeric emitters can be deposited by means of thermal evaporation, for example. Furthermore, can
  • Polymer emitters are used, which in particular by means of a wet-chemical process, such as spin coating, are deposited.
  • the emitter materials may be suitably embedded in a matrix material. It should be noted that other suitable materials
  • Emitter materials are also provided in other embodiments.
  • light-emitting device 200 may be selected such that light-emitting device 200 emits white light.
  • the emitter layer (s) 212 may comprise a plurality of emitter materials of different colors (for example blue and yellow or blue, green and red)
  • the emitter layer (s) 212 may also be constructed of multiple sublayers, such as a blue fluorescent emitter layer 212 or blue phosphorescent emitter layer 212, a green
  • phosphorescent emitter layer 212 By mixing the different colors, the emission of light can result in a white color impression.
  • a converter material in the beam path of the primary emission generated by these layers, which at least partially absorbs the primary radiation and emits secondary radiation of a different wavelength, so that from a (not yet white) primary radiation by the combination of primary radiation and secondary Radiation produces a white color impression.
  • the organic electroluminescent layer structure 210 may generally include one or more electroluminescent layers.
  • Layers may or may include organic polymers, organic oligomers, organic monomers, organic small, non-polymeric molecules ("small molecules”), or a combination of these materials
  • Organic electroluminescent layer structure 210 may include one or more electroluminescent layers configured as hole transport layer 214 such that, for example, in the case of an OLED, an effective one
  • the organic electroluminescent layer structure may include one or more functional layers referred to as
  • Electron transport layer 216 is performed or, so that, for example, in the case of an OLED effective electron injection into an electroluminescent layer or an electroluminescent region is made possible.
  • As a material for the hole transport layer 214 can be any material for the hole transport layer 214 .
  • Hole transport layer 214 may be deposited on or over the first electrode 208, for example, deposited, and the emitter layer 212 may be on or above the
  • Hole transport layer 214 applied, for example
  • the organic electroluminescent layer structure 210 (ie
  • Hole transport layer (s) 214 and emitter layer (s) 212 and electron transport layer (s) 216) have a layer thickness
  • the organic electroluminescent layer structure 210 for example, a stack of
  • each OLED has light emitting diodes (OLEDs).
  • a layer thickness may have a maximum of about 1.5 ym, for example, a layer thickness of at most about 1.2 ym, for example, a layer thickness of at most about 1 ym, for example, a layer thickness of at most about 800 nm, for example, a layer thickness of at most about 500 nm
  • a layer thickness of at most about 400 nm for example, a layer thickness of at most about 300 nm.
  • the organic electroluminescent layer structure 210 for example, a stack of three or four directly
  • Layer structure 210 may have a layer thickness of at most about 3 ym.
  • the light emitting device 200 may generally include other organic functional layers, for example
  • a second electrode 218 may be applied (for example in the form of a second electrode layer 218).
  • Electrode 218 may comprise or be formed from the same materials as the first electrode 208, wherein
  • metals are particularly suitable.
  • Electrode 218 (for example, in the case of a metallic second electrode 218), for example, have a layer thickness of less than or equal to about 50 nm,
  • a layer thickness of less than or equal to approximately 45 nm for example a layer thickness of less than or equal to approximately 40 nm, for example a layer thickness of less than or equal to approximately 35 nm, for example a layer thickness of less than or equal to approximately 30 nm,
  • a layer thickness of less than or equal to about 25 nm for example, a layer thickness of less than or equal to about 20 nm, for example, a layer thickness of less than or equal to about 15 nm, for example, a layer thickness of less than or equal to about 10 nm.
  • the second electrode 218 may generally be formed similar to, or different from, the first electrode 208.
  • the second electrode 218 may be made of one or more embodiments in various embodiments
  • the second electrode 218 may be reflective.
  • the light emitting device 200 shown in Fig.2 can be configured as a bottom emitter.
  • the second electrode 218 can be used as the anode, ie as
  • hole-injecting electrode may be formed or as
  • the second electrode 218 may have a second electrical connection to which a second electrical connection
  • the second electrical potential may, for example, have a value such that the
  • Difference from the first electrical potential has a value in a range of about 1.5 V to about 20 V, for example, a value in a range of about 2.5 V to about 15 V, for example, a value in a range of about 3 V. up to about 12 V.
  • thermotropic layer 204 is disposed outside of the electrically active region 206,
  • an encapsulation 220 for example in the form of a
  • Barrier thin film / thin film encapsulation 220 may be formed or its.
  • a “barrier thin film” or a “barrier thin film” 220 can be understood as meaning, for example, a layer or a layer structure which is suitable for providing a barrier to chemical
  • the barrier film 220 is configured to be resistant to OLED damaging materials such as
  • Water, oxygen or solvents can not or at most be penetrated to very small proportions.
  • the barrier film layer 220 may be formed as a single layer (in other words, as
  • Single layer may be formed.
  • the barrier thin-film layer 220 may comprise a plurality of sub-layers formed on one another.
  • the barrier thin-film layer 220 may comprise a plurality of sub-layers formed on one another.
  • Barrier thin layer 220 as a stack of layers (stack)
  • the barrier film 220 or one or more sublayers of the barrier film 220 may be formed, for example, by a suitable deposition process, e.g. by means of a
  • Atomic Layer Deposition e.g. plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) or plasmaless
  • PECVD plasma assisted vapor deposition
  • plasmalose vapor deposition plasmalose vapor deposition
  • PLCVD Chemical Vapor Deposition
  • ALD atomic layer deposition process
  • Barrier film 220 comprising a plurality of sublayers, all sublayers being formed by an atomic layer deposition process.
  • a layer sequence comprising only ALD layers may also be referred to as "nanolaminate”.
  • a barrier film 220 comprising a plurality of sub-layers comprises one or more sub-layers of the barrier film 220 by a deposition method other than one
  • Atomic layer deposition processes are deposited
  • the barrier film 220 may, in one embodiment, have a layer thickness of about 0.1 nm (one atomic layer) to about 1000 nm, for example, a layer thickness of about 10 nm to about 100 nm according to a
  • Embodiment for example, about 40 nm according to an embodiment.
  • all partial layers may have the same layer thickness. According to another embodiment in which the barrier thin layer 220 has a plurality of partial layers, all partial layers may have the same layer thickness. According to another embodiment in which the barrier thin layer 220 has a plurality of partial layers, all partial layers may have the same layer thickness. According to another embodiment in which the barrier thin layer 220 has a plurality of partial layers, all partial layers may have the same layer thickness. According to another embodiment in which the barrier thin layer 220 has a plurality of partial layers, all partial layers may have the same layer thickness. According to another
  • Barrier thin layer 220 have different layer thicknesses.
  • at least one of Partial layers have a different layer thickness than one or more other of the sub-layers.
  • the barrier thin film 220 or the individual partial layers of the barrier thin film 220 may be formed as a translucent or transparent layer according to an embodiment.
  • the barrier film 220 (or the individual sublayers of the barrier film 220) may be made of a translucent or transparent material (or combination of materials that is translucent or transparent).
  • the barrier thin layer 220 or (in the case of a layer stack having a plurality of partial layers) one or more of the partial layers of the
  • Barrier film 220 comprising or consisting of one of the following materials: alumina, zinc oxide, zirconia, titania, hafnia, tantalum oxide
  • Silicon oxynitride indium tin oxide, indium zinc oxide, aluminum ⁇ doped zinc oxide, and mixtures and alloys
  • an adhesive and / or a protective lacquer 222 may be provided on or above the encapsulation 220, by means of which, for example, an optional cover 224 (for example a glass cover 224) is fastened, for example glued, to the encapsulation 220.
  • an optional cover 224 for example a glass cover 224.
  • translucent layer of adhesive and / or protective varnish 222 have a layer thickness of greater than 1 ym
  • a layer thickness of several ym for example, a layer thickness of several ym.
  • the adhesive may comprise or be a lamination adhesive.
  • Adhesive layer can in various embodiments embedded yet light scattering particles, which contribute to a further improvement of the color angle distortion and the
  • Exemplary embodiments may be provided as light-scattering particles, for example scattered dielectric particles, such as, for example, metal oxides, such as e.g. Silicon oxide (SiO 2), zinc oxide (ZnO), zirconium oxide (ZrO 2), indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), gallium oxide (Ga20a)
  • metal oxides such as e.g. Silicon oxide (SiO 2), zinc oxide (ZnO), zirconium oxide (ZrO 2), indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), gallium oxide (Ga20a)
  • Alumina, or titania may also be suitable, provided that they have a refractive index which is different from the effective refractive index of the matrix of the translucent layer structure, for example air bubbles, acrylate or glass hollow spheres.
  • metallic nanoparticles metals such as gold, silver, iron nanoparticles, or the like may be provided as light-scattering particles.
  • an electrically insulating layer is disposed between the second electrode 218 and the layer of adhesive and / or resist 222.
  • SiN for example, with a layer thickness in a range of about 300 nm to about 1.5 ym, for example, with a layer thickness in a range of about 500 nm to about 1 ym to protect electrically unstable materials, for example during a
  • FIG. 3 shows a cross-sectional view of a light emitting device 300 according to various embodiments.
  • the organic light-emitting diode 300 according to FIG. 3 is similar in many aspects to the organic light-emitting diode 200 according to FIG. 2, for which reason only the differences between the
  • organic light-emitting diode 300 according to Figure 3 to the organic light emitting diode 200 according to Figure 2 are explained in more detail;
  • organic light-emitting diode 200 according to Figure 2 referenced.
  • thermotropic layer 204 is not arranged between the substrate 202 and the electrically active region 206, but rather on the side of the substrate facing away from the electrically active region 206 202, in other words, for example, below the substrate 202.
  • thermotropic layer 302 (for example, a glass cover 302) may be provided, which may be disposed below the thermotropic layer 204.
  • the further cover 302 may be disposed on the side of the substrate 202 facing away from the electrically active region 206, and the thermotropic layer 204 may be disposed between the substrate 202 and the further cover 302.
  • Electrode 208 in physical contact with substrate 202 is located on one side of substrate 202, and thermotropic layer 204 may be bonded to substrate 202 on top of substrate 202
  • FIG. 4 shows a cross-sectional view of a light emitting device 400 according to various embodiments.
  • the organic light-emitting diode 400 according to FIG. 4 is in many aspects similar to the organic light-emitting diode 200 according to FIG. 2, which is why in the following only the differences between FIGS.
  • organic light emitting diode 400 according to Figure 4 to the organic LED 200 are explained in more detail according to Figure 2;
  • organic light-emitting diode 200 according to Figure 2 referenced.
  • the light emitting device 400 may be configured as a top emitter. This means, for example, that the first electrode 208 may be formed reflecting and that the second electrode 218 may be formed optically transparent.
  • thermotropic layer 204 is not arranged between the substrate 202 and the electrically active region 206, but instead on or above the encapsulation 220
  • the optically translucent layer of adhesive and / or protective lacquer 222 can optionally be arranged on or above the thermotropic layer 204 and the
  • thermotropic layer 204 for example, stick it on.
  • FIG. 5 shows a cross-sectional view of a light emitting device 500 according to various embodiments.
  • the organic light-emitting diode 500 according to FIG. 5 is in many aspects similar to the organic light-emitting diode 200 according to FIG. 2, for which reason only the differences between FIGS
  • organic light-emitting diode 500 according to Figure 5 to the organic light emitting diode 200 according to Figure 2 are explained in more detail;
  • first electrode 208 may be formed reflective and that the second electrode 218 may be formed optically transparent.
  • thermotropic layer 204 is not arranged between the substrate 202 and the electrically active region 206, but instead on or above the cover 224 an additional cover 502 (eg, an additional glass cover 502) may be disposed on or over the thermotropic layer 204.
  • FIG. 6 shows a cross-sectional view of a light emitting device 600 according to various embodiments.
  • the organic light-emitting diode 600 according to FIG. 6 is in many aspects similar to the organic light-emitting diode 200 according to FIG. 2, which is why in the following only the differences between FIGS.
  • organic light-emitting diode 600 according to Figure 6 to the organic light emitting diode 200 according to Figure 2 are explained in more detail;
  • light-emitting device 600 may be configured as a transparent light-emitting device 600, in other words, be configured as a top and bottom emitter. This means, for example, that the first electrode 208 and the second electrode 218 are optically transparent
  • thermotropic layer 602 is provided which can be arranged between the layer of adhesive and / or protective lacquer 222 and the cover 224.
  • the additional thermotropic layer 602 may be configured in the same manner as the thermotropic layer 204.
  • FIG. 7 shows a cross-sectional view of a light emitting device 700 according to various embodiments.
  • the organic light-emitting diode 700 according to FIG. 7 is in many aspects similar to the organic light-emitting diode 300 according to FIG. 3, for which reason only the differences between FIGS
  • organic light emitting diode 700 according to Figure 7 to the organic
  • organic light emitting diode 300 according to Figure 3 and the organic
  • light-emitting device 700 may be configured as a transparent light-emitting device 700, in other words, be configured as a top and bottom emitter. This means, for example, that the first electrode 208 and the second electrode 218 are optically transparent
  • thermotropic layer 702 which may be arranged on or above the cover 224, is provided in the case of the organic light-emitting diode 700 according to FIG.
  • the additional thermotropic layer 702 may be configured in the same manner as the thermotropic layer 204.
  • an additional cover 704 (for example, an additional glass cover 704) may optionally be placed on or be arranged above the additional thermotropic layer 702.
  • Embodiments also in completely transparent light-emitting components, for example the
  • thermotropic organic light emitting diode 600 according to Figure 6 or the organic light emitting diode 700 according to Figure 7 each only a thermotropic
  • thermotropic layer 204, 602, 702 may be provided and the other may be omitted. It should be noted that the thermotropic layer differs in different
  • Embodiments may also be located between the first electrode and the substrate. In the various embodiments will be of it
  • thermotropic layer (s) and / or thermotropic particles in a matrix change their refractive index at certain temperatures.
  • light emitting devices such as organic light emitting diodes do not have 100 percent efficiency, they heat up in the
  • thermotropic layer (s) i. for example, in existing current flow between the electrodes of the light-emitting device. This effect is combined with thermotropic layer (s) and / or thermotropic particles (s) in different
  • the light-emitting component takes, for example, the ambient temperature, for example
  • the light-emitting device heats up significantly (for example, at a high luminance provided by the light-emitting device) and the thermotropic (n)
  • thermotropic layer (s) and / or thermotropic particles change their refractive index.
  • the thermotropic layer (s) and / or the thermotropic particles become translucent and thus a light scattering is produced, which improves the coupling out of the light from the light-emitting component, for example from the organic light-emitting diode.
  • thermotropy the organic light emitting diode, the substrate or the entire light emitting device cools again.
  • the effect of thermotropy can be different
  • one-side emitting light emitting device receive the specular off state appearance and the light decoupling in the off state, i. in operation, is improved.
  • thermotropic layer may be placed between the first electrode and the substrate (not shown).
  • FIG. 8 shows a flowchart 800, in which a method for producing a light-emitting component according to
  • an electrically active region is formed, wherein a first electrode and a second electrode are formed and being an organic functional
  • thermotropic layer may be formed outside the electrically active region.
  • thermotropic layer 204 the thermotropic layer 204
  • electrodes 208, 218 the electrodes 208, 218 and the others
  • the organic functional layer structure 212 the hole transport layer (s) 214 or the
  • Electron transport layer (s) 216 may be formed by
  • Various processes are applied, for example, be deposited, for example by means of a CVD method (chemical vapor deposition, chemical vapor deposition) or by means of a PVD process
  • CVD method can be used in various embodiments, a plasma-assisted chemical deposition method from the gas phase (plasma enhanced chemical vapor deposition, PE-CVD).
  • PE-CVD plasma enhanced chemical vapor deposition
  • the dielectric layer can be reduced as compared to a plasma-less CVD process.
  • This can be an advantage, for example be when the element, for example, the light-emitting electronic component to be formed in a
  • the maximum temperature may be, for example, about 120 ° C in a to be formed light-emitting electronic component according to various embodiments, so that the temperature at which, for example, the dielectric layer is applied may be less than or equal to 120 ° C and, for example, less than or equal to 80 ° C. ,

Abstract

In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein lichtemittierendes Bauelement (200, 300, 400, 500, 600, 700), aufweisend einen elektrisch aktiven Bereich (206) und eine thermotrope Schicht, die außerhalb des elektrisch aktiven Bereichs (206) angeordnet ist. Der elektrisch aktive Bereich (206) kann aufweisen eine erste Elektrode (208); eine zweite Elektrode (218); und eine organische funktionelle Schichtenstruktur (210) zwischen der ersten Elektrode (208) und der zweiten Elektrode (218).

Description

Beschreibung
Lichtemittierendes Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines lichtemittierenden Bauelements
Verschiedene Ausführungsbeispiele betreffen ein
lichtemittierendes Bauelement und ein Verfahren zum
Herstellen eines lichtemittierenden Bauelements. In einer organischen Leuchtdiode wird das von dieser
organischen Leuchtdiode erzeugte Licht zum Teil direkt aus der organischen Leuchtdiode ausgekoppelt. Das restliche Licht verteilt sich in verschiedene Verlustkanäle, wie in einer Darstellung einer organischen Leuchtdiode 100 in Fig.l
dargestellt ist. Fig.l zeigt eine organische Leuchtdiode 100 mit einem Glassubstrat 102 und einer darauf angeordneten transparenten ersten Elektrodenschicht 104, beispielsweise aus Indium-Zinn-Oxid (ITO). Auf der ersten Elektrodenschicht 104 ist eine erste organische Schicht 106 angeordnet, auf welcher eine Emitterschicht 108 angeordnet ist. Auf der
Emitterschicht 108 ist eine zweite organische Schicht 110 angeordnet. Weiterhin ist auf der zweiten organischen Schicht 110 eine zweite Elektrodenschicht 112, beispielsweise aus einem Metall angeordnet. Eine elektrische Stromversorgung 114 ist an die erste Elektrodenschicht 104 und an die zweite Elektrodenschicht 112 gekoppelt, so dass ein elektrischer Strom zum Erzeugen von Licht durch die zwischen den
Elektrodenschichten 104, 112 angeordnete Schichtenstruktur geführt wird. Ein erster Pfeil 116 symbolisiert einen
Transfer von elektrischer Energie in Oberflächenplasmonen in die zweite Elektrodenschicht 112. Ein weiterer Verlustkanal kann in Absorptionsverlusten in dem Lichtemissionspfad gesehen werden (symbolisiert mittels eines zweiten Pfeils 118) . Aus der organischen Leuchtdiode 100 nicht in
gewünschter Weise ausgekoppeltes Licht ist beispielsweise ein Teil des Lichts, das entsteht aufgrund einer Reflexion eines Teils des erzeugten Lichts an der Grenzfläche des Glassubstrats 102 zur Luft (symbolisiert mittels eines dritten Pfeils 122) sowie aufgrund einer Reflexion eines Teils des erzeugten Lichts an der Grenzfläche zwischen der ersten Elektrodenschicht 104 und dem Glassubstrat 102
(symbolisiert mittels eines vierten Pfeils 124) . Der aus dem Glassubstrat 102 ausgekoppelte Teil des erzeugten Lichts ist in Fig.l mittels eines fünften Pfeils 120 symbolisiert.
Anschaulich sind somit beispielsweise folgende Verlustkanäle vorhanden: Lichtverlust in dem Glassubstrat 102, Lichtverlust in den organischen Schichten und der transparenten Elektrode 104, 106, 108, 110 sowie an der metallischen Kathode (zweite Elektrodenschicht 112) erzeugte Oberflächenplasmonen . Diese Lichtanteile können nicht ohne weiteres aus der organischen Leuchtdiode 100 ausgekoppelt werden.
Zur Auskopplung von Substratmoden werden herkömmlicher Weise auf der Unterseite des Substrats einer organischen
Leuchtdiode so genannte Auskoppelfolien aufgebracht, welche mittels optischer Streuung oder mittels Mikrolinsen das Licht aus dem Substrat auskoppeln können. Es ist weiterhin bekannt, die freie Substratoberfläche direkt zu strukturieren.
Allerdings wird mit einem solchen Verfahren das
Erscheinungsbild der organischen Leuchtdiode erheblich beeinflusst. Es ergibt sich dadurch eine milchige Oberfläche des Substrats.
Für eine Auskopplung des Lichts in den organischen Schichten der organischen Leuchtdiode existieren derzeit verschiedene Ansätze, jedoch ist noch keiner dieser Ansätze zur
Produktreife gelangt.
Diese Ansätze sind unter anderem:
• Einbringen von periodischen Strukturen in die aktiven Schichten der organischen Leuchtdiode (photonische
Kristalle) . Diese weisen jedoch eine sehr starke
Wellenlängenabhängigkeit auf, da die photonischen
Kristalle nur bestimmte Wellenlängen auskoppeln können. • Verwendung eines hochbrechenden Substrats zur direkten Einkopplung des Lichts der organischen Schichten in das Substrat. Dieser Ansatz ist aufgrund der hohen Kosten für ein hochbrechendes Substrat sehr kostenintensiv. Weiterhin ist ein hochbrechendes Substrat auf weitere
Auskoppelhilfen in Form von Mikrolinsen, Streufolien (jeweils mit hohem Brechungsindex) bzw.
Oberflächenstrukturierungen angewiesen . Ferner ist eine thermotrope Glasschicht zur Anpassung der
Transparenz von einem Fensterglas bekannt und von der Firma
®
Tilse unter der Bezeichnung Solardim erhältlich.
Verschiedene Ausführungsbeispiele erhöhen die
Lichtauskopplung aus einem lichtemittierenden Bauelement, beispielsweise einer organischen Leuchtdiode, bei
gleichzeitiger Beibehaltung eines spiegelnden
Erscheinungsbildes des lichtemittierenden Bauelements
(beispielsweise bei einem einseitig lichtemittierenden
Bauelement), bzw. bei gleichzeitiger Beibehaltung der optischen Transparenz des lichtemittierenden Bauelements (beispielsweise bei einem zweiseitig lichtemittierenden Bauelement) im ausgeschalteten Zustand. In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein
lichtemittierendes Bauelement bereitgestellt. Das
lichtemittierende Bauelement kann aufweisen einen elektrisch aktiven Bereich und eine thermotrope Schicht, die außerhalb des elektrisch aktiven Bereichs angeordnet ist. Der
elektrisch aktive Bereich kann aufweisen eine erste
Elektrode; eine zweite Elektrode; und eine organische funktionelle Schichtenstruktur zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode. In einer Ausgestaltung kann die thermotrope Schicht ein
Matrixmaterial aufweisen, in dem Partikel eingebettet sind, die derart eingerichtet sind, dass sie ihren Brechungsindex abhängig von der Temperatur verändern.
In noch einer Ausgestaltung kann das Matrixmaterial
Polymermaterial aufweisen.
In noch einer Ausgestaltung können die Partikel Mikropartikel aufweisen . In noch einer Ausgestaltung kann das lichtemittierende
Bauelement ferner aufweisen ein Substrat; wobei die
thermotrope Schicht zwischen dem elektrisch aktiven Bereich und dem Substrat angeordnet ist. In noch einer Ausgestaltung kann das lichtemittierende
Bauelement ferner aufweisen ein Substrat und eine erste
Abdeckung, wobei die erste Abdeckung auf der dem elektrisch aktiven Bereich abgewandten Seite des Substrats angeordnet ist; und wobei die thermotrope Schicht zwischen dem Substrat und der ersten Abdeckung angeordnet ist.
In noch einer Ausgestaltung kann das lichtemittierende
Bauelement ferner aufweisen ein Substrat und eine
Verkapselung, die auf der dem Substrat abgewandten Seite des elektrisch aktiven Bereichs angeordnet ist; und wobei die thermotrope Schicht über der Verkapselung angeordnet ist.
In noch einer Ausgestaltung kann das lichtemittierende
Bauelement ferner aufweisen ein Substrat; eine Verkapselung, wobei die Verkapselung auf der dem Substrat abgewandten Seite des elektrisch aktiven Bereichs angeordnet ist; und eine über der Verkapselung angeordnete zweite Abdeckung; wobei die thermotrope Schicht über der zweiten Abdeckung angeordnet ist .
In noch einer Ausgestaltung kann das lichtemittierende
Bauelement ferner aufweisen eine Verkapselung, wobei die Verkapselung auf der dem Substrat abgewandten Seite des elektrisch aktiven Bereichs angeordnet ist; und eine zweite thermotrope Schicht, wobei die zweite thermotrope Schicht über der Verkapselung angeordnet ist.
In noch einer Ausgestaltung kann das lichtemittierende
Bauelement ferner aufweisen eine Verkapselung, wobei die Verkapselung auf der dem Substrat abgewandten Seite des elektrisch aktiven Bereichs angeordnet ist; eine über der Verkapselung angeordnete zweite Abdeckung; und eine zweite thermotrope Schicht, wobei die zweite thermotrope Schicht über der zweiten Abdeckung angeordnet ist.
In noch einer Ausgestaltung kann das lichtemittierende
Bauelement als organische Leuchtdiode eingerichtet sein.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird ein Verfahren zum Herstellen eines lichtemittierenden Bauelements
bereitgestellt. Das Verfahren kann aufweisen ein Bilden eines elektrisch aktiven Bereichs und ein Bilden einer thermotropen Schicht außerhalb des elektrisch aktiven Bereichs. Das Bilden eines elektrisch aktiven Bereichs kann aufweisen ein Bilden einer ersten Elektrode; ein Bilden einer zweiten Elektrode; und ein Bilden einer organischen funktionellen
Schichtenstruktur zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode.
Die Ausgestaltungen des lichtemittierenden Bauelements gelten, soweit sinnvoll, entsprechend für das Verfahren zum Herstellen eines lichtemittierenden Bauelements.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert. Es zeigen Figur 1 eine Querschnittansicht eines herkömmlichen
lichtemittierenden Bauelements;
Figur 2 eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden
Bauelements gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen;
Figur 3 eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden
Bauelements gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen;
Figur 4 eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden
Bauelements gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen,·
Figur 5 eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden
Bauelements gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen,·
Figur 6 eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden
Bauelements gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen,·
Figur 7 eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden
Bauelements gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen; und
Figur 8 ein Ablaufdiagramm, in dem ein Verfahren zum
Herstellen eines lichtemittierenden Bauelements gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen dargestellt ist.
In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische
Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird
Richtungsterminologie wie etwa „oben", „unten", „vorne", „hinten", „vorderes", „hinteres", usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur (en) verwendet. Da
Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl
verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der
Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.
Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe
"verbunden", "angeschlossen" sowie "gekoppelt" verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.
Ein lichtemittierendes Bauelement kann in verschiedenen
Ausführungsbeispielen als eine organische lichtemittierende Diode (organic light emitting diode, OLED) oder als ein organischer lichtemittierender Transistor ausgebildet sein. Das lichtemittierende Bauelement kann in verschiedenen
Ausführungsbeispielen Teil einer integrierten Schaltung sein. Weiterhin kann eine Mehrzahl von lichtemittierenden
Bauelementen vorgesehen sein, beispielsweise untergebracht in einem gemeinsamen Gehäuse.
Fig.2 zeigt eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden Bauelements 200 gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen. Das lichtemittierende Bauelement 200 in Form einer
organischen Leuchtdiode 200 kann ein Substrat 202 aufweisen. Das Substrat 202 kann beispielsweise als ein Trägerelement für elektronische Elemente oder Schichten, beispielsweise lichtemittierende Elemente, dienen. Beispielsweise kann das Substrat 202 Glas, Quarz, und/oder ein Halbleitermaterial oder irgendein anderes geeignetes Material aufweisen oder daraus gebildet sein. Ferner kann das Substrat 202 eine
Kunststofffolie oder ein Laminat mit einer oder mit mehreren Kunststofffolien aufweisen oder daraus gebildet sein. Der Kunststoff kann ein oder mehrere Polyolefine (beispielsweise Polyethylen (PE) mit hoher oder niedriger Dichte oder
Polypropylen (PP) ) aufweisen oder daraus gebildet sein.
Ferner kann der Kunststoff Polyvinylchlorid (PVC) , Polystyrol (PS) , Polyester und/oder Polycarbonat (PC) ,
Polyethylenterephthalat (PET), Polyethersulfon (PES) und/oder Polyethylennaphthalat (PEN) aufweisen oder daraus gebildet sein. Weiterhin kann das Substrat 202 beispielsweise eine Metallfolie aufweisen, beispielsweise eine Aluminiumfolie, eine Edelstahlfolie, eine Kupferfolie oder eine Kombination oder einen Schichtenstapel daraus. Das Substrat 202 kann eines oder mehrere der oben genannten Materialien aufweisen. Das Substrat 202 kann transluzent oder sogar transparent ausgeführt sein.
Unter dem Begriff „transluzent" bzw. „transluzente Schicht" kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen verstanden werden, dass eine Schicht für Licht durchlässig ist,
beispielsweise für das von dem Lichtemittierenden Bauelement erzeugte Licht, beispielsweise einer oder mehrerer
Wellenlängenbereiche, beispielsweise für Licht in einem
Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts (beispielsweise zumindest in einem Teilbereich des Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm) . Beispielsweise ist unter dem Begriff
„transluzente Schicht" in verschiedenen Ausführungsbeispielen zu verstehen, dass im Wesentlichen die gesamte in eine Struktur (beispielsweise eine Schicht) eingekoppelte
Lichtmenge auch aus der Struktur (beispielsweise Schicht) ausgekoppelt wird, wobei ein Teil des Licht hierbei gestreut werden kann
Unter dem Begriff „transparent" oder „transparente Schicht" kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen verstanden werden, dass eine Schicht für Licht durchlässig ist
(beispielsweise zumindest in einem Teilbereich des
Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm) , wobei in eine Struktur (beispielsweise eine Schicht) eingekoppeltes Licht im Wesentlichen ohne Streuung oder Lichtkonversion auch aus der Struktur (beispielsweise Schicht) ausgekoppelt wird.
Somit ist „transparent" in verschiedenen
Ausführungsbeispielen als ein Spezialfall von „transluzent" anzusehen .
Für den Fall, dass beispielsweise ein lichtemittierendes monochromes oder im Emissionsspektrum begrenztes
elektronisches Bauelement bereitgestellt werden soll, ist es ausreichend, dass die optisch transluzente Schichtenstruktur zumindest in einem Teilbereich des Wellenlängenbereichs des gewünschten monochromen Lichts oder für das begrenzte
Emissionsspektrum transluzent ist.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die organische Leuchtdiode 200 (oder auch die lichtemittierenden Bauelemente gemäß den oben oder noch im Folgenden beschriebenen
Ausführungsbeispielen) als ein so genannter Top-Emitter und/oder als ein so genannter Bottom-Emitter eingerichtet sein. Unter einem Top-Emitter kann in verschiedenen
Ausführungsbeispielen eine organische Leuchtdiode verstanden werden, bei der das Licht von der organischen Leuchtdiode nach oben, beispielsweise durch die zweite Elektrode, wie sie im Folgenden noch näher erläutert wird, abgestrahlt wird. Unter einem Bottom-Emitter kann in verschiedenen
Ausführungsbeispielen eine organische Leuchtdiode verstanden werden, bei der das Licht von der organischen Leuchtdiode nach unten, beispielsweise durch das Substrat und eine erste Elektrode, wie sie im Folgenden noch näher erläutert wird, abgestrahlt wird.
Auf oder über dem Substrat 202 kann eine thermotrope Schicht 204 aufgebracht sein.
Unter einer thermotropen Schicht 204 kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen eine Schicht oder eine Mehrzahl von Schichten verstanden werden, die mindestens eine Schicht (bezeichnet als Matrix) enthält, die thermotrope Partikel enthält, die derart eingerichtet sind, dass sie abhängig von der Temperatur der Schicht ihren Brechungsindex verändern. In verschiedenen Ausführungsbeispielen können die thermotropen Partikel in der Schicht 204 derart eingerichtet sein, dass sie ihren Brechungsindex relativ ändern in einem Bereich von ungefähr 1 % bis ungefähr 10 %, beispielsweise in einem
Bereich von ungefähr 3 % bis ungefähr 8 %, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 4 % bis ungefähr 7 %,
beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 4,5 % bis ungefähr 6 %, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 4,75 % bis ungefähr 5 %, beispielsweise bei einer
Temperaturerhöhung der Schicht um mindestens 5 °C,
beispielsweise um mindestens 10 °C, beispielsweise um
mindestens 15 °C, beispielsweise um mindestens 17 °C, beispielsweise um mindestens 19 °C, beispielsweise um
mindestens 20 °C, beispielsweise bei einer Temperaturerhöhung der Schicht von ungefähr 20 °C auf ungefähr 50 °C,
beispielsweise bei einer Temperaturerhöhung der Schicht von ungefähr 25 °C auf ungefähr 45 °C, beispielsweise bei einer Temperaturerhöhung der Schicht von ungefähr 30 °C auf ungefähr 40 °C. Alternativ kann unter einer thermotropen Schicht 204 in verschiedenen Ausführungsbeispielen eine
Schicht oder eine Mehrzahl von Schichten verstanden werden, die mindestens eine Schicht (bezeichnet als Matrix) enthält, die Partikel enthält, wobei die Matrix derart eingerichtet ist, dass sie abhängig von der Temperatur der Schicht ihren Brechungsindex verändert verglichen mit dem Brechungsindex der Partikel, die in der Matrix enthalten sind. Beispielsweise kann die Matrix der thermotropen Schicht 204 bei ausgeschaltetem (anschaulich nicht zusätzlich erhitztem) lichtemittierenden Bauelement einen Brechungsindex aufweisen in einem Bereich ungefähr 1,4 bis ungefähr 1,9,
beispielsweise in einem Bereich von 1,5 bis ungefähr 1,7, beispielsweise in einem Bereich ungefähr 1,46 bis ungefähr 1,54, beispielsweise in einem Bereich ungefähr 1,47 bis ungefähr 1,53, beispielsweise in einem Bereich ungefähr 1,48 bis ungefähr 1,52, beispielsweise in einem Bereich ungefähr 1,49 bis ungefähr 1,51, beispielsweise einen Brechungsindex von ungefähr 1,49 oder einen Brechungsindex von ungefähr 1,50. Die in der Matrix enthaltenen thermotropen Partikel besitzen im ausgeschalteten (anschaulich nicht erhitztem) Zustand einen Brechungsindex welcher sich nicht oder nur minimal vom Brechungsindex der Matrix unterscheidet. Dadurch wird im ausgeschalteten Zustand keine Lichtstreuung
hervorgerufen und die thermotrope Schicht ist transparent
Ferner können die Partikel in der thermotropen Schicht 204 beispielsweise bei eingeschaltetem (anschaulich zusätzlich erhitztem) lichtemittierenden Bauelement ihren Brechungsindex ändern damit dieser vom Brechungsindex der Matrix abweicht und somit Lichtstreuung hervorgerufen wird. Die thermotrope Schicht wird somit transluzent. Je größer die entstehende Brechungsindexdifferenz zwischen Matrix der thermotropen Schicht und den Partikeln ist, desto größer ist die
lichtstreuende Wirkung der Schicht. Für einen Brechungsindex der Matrix der thermotropen Schicht von beispielsweise 1,5 können die thermotropen Partikel beispielsweise einen
Brechungsindex aufweisen in einem Bereich ungefähr 1,37 bis ungefähr 1,44, beispielsweise in einem Bereich ungefähr 1,38 bis ungefähr 1,43, beispielsweise in einem Bereich ungefähr 1,39 bis ungefähr 1,42, beispielsweise in einem Bereich ungefähr 1,40 bis ungefähr 1,41, beispielsweise einen
Brechungsindex von ungefähr 1,43 oder einen Brechungsindex von ungefähr 1,43. Somit kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen die
thermotrope Schicht 204 bei einer ersten Temperatur, die unterhalb einer Schwellentemperatur liegt, transparent sein und bei einer zweiten Temperatur, die größer ist als die erste Temperatur und größer ist als die Schwellentemperatur, lichtstreuende Eigenschaften aufweisen.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die Matrix der thermotropen Schicht 204 ein Matrixmaterial aufweisen
(beispielsweise eine Polymermatrix, beispielsweise ein Harz) , in dem thermotrope Partikel (beispielsweise Mikropartikel , beispielsweise Mikrokapseln mit temperaturabhängig
veränderbarem Brechungsindex) eingebettet sind, die derart eingerichtet sind, dass sie ihren Brechungsindex abhängig von der Temperatur verändern. In verschiedenen
Ausführungsbeispielen kann die thermotrope Schicht 204 eine Schichtenstruktur aufweisen, bei der das Matrixmaterial zwischen transluzenten oder transparenten Schichten
(beispielsweise Polymerschichten und/oder Glasschichten) angeordnet ist.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die thermotrope
Schicht 204 die von der Firma Tilse unter der Bezeichnung
®
Solardim erhältliche Schichtenstruktur aufweisen. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die thermotrope Schicht 204 eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 1 ym bis ungefähr 1000 ym, beispielsweise eine
Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 10 ym bis ungefähr 500 ym, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 20 ym bis ungefähr 200 ym. Auf oder über der thermotropen Schicht 204 kann ein
elektrisch aktiver Bereich 206 des lichtemittierenden
Bauelements 200 angeordnet sein. Der elektrisch aktive
Bereich 206 kann als der Bereich des lichtemittierenden
Bauelements 200 verstanden werden, in dem ein elektrischer Strom zum Betrieb des lichtemittierenden Bauelements 200 fließt. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann der elektrisch aktive Bereich 206 eine erste Elektrode 208, eine zweite Elektrode 210 und eine organische funktionelle
Schichtenstruktur 212 aufweisen, wie sie im Folgenden noch näher erläutert werden.
So kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen auf oder über der thermotropen Schicht 204 die erste Elektrode 208
(beispielsweise in Form einer ersten Elektrodenschicht 208) aufgebracht sein. Die erste Elektrode 208 (im Folgenden auch als untere Elektrode 208 bezeichnet) kann aus einem
elektrisch leitfähigen Material gebildet werden oder sein, wie beispielsweise aus einem Metall oder einem leitfähigen transparenten Oxid (transparent conductive oxide, TCO) oder einem Schichtenstapel mehrerer Schichten desselben Metalls oder unterschiedlicher Metalle und/oder desselben TCO oder unterschiedlicher TCOs . Transparente leitfähige Oxide sind transparente, leitfähige Materialien, beispielsweise
Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid,
Cadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid, oder Indium-Zinn-Oxid (ITO). Neben binären MetallsauerstoffVerbindungen, wie beispielsweise ZnO, Sn02, oder Ιη2θ3 gehören auch ternäre MetallsauerstoffVerbindungen, wie beispielsweise AlZnO, Zn2Sn04, CdSn03, ZnSn03, Mgln204, Galn03, Zn2ln20s oder
In4Sn30]_2 oder Mischungen unterschiedlicher transparenter leitfähiger Oxide zu der Gruppe der TCOs und können in verschiedenen Ausführungsbeispielen eingesetzt werden.
Weiterhin entsprechen die TCOs nicht zwingend einer
stöchiometrischen Zusammensetzung und können ferner p-dotiert oder n-dotiert sein. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die erste
Elektrode 208 ein Metall aufweisen; beispielsweise Ag, Pt, Au, Mg, AI, Ba, In, Ag, Au, Mg, Ca, Sm oder Li, sowie
Verbindungen, Kombinationen oder Legierungen dieser
Materialien.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die erste
Elektrode 208 gebildet werden von einem Schichtenstapel einer Kombination einer Schicht eines Metalls auf einer Schicht eines TCOs, oder umgekehrt. Ein Beispiel ist eine
Silberschicht, die auf einer Indium-Zinn-Oxid-Schicht (ITO) aufgebracht ist (Ag auf ITO) oder ITO-Ag-ITO Multischichten .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die erste
Elektrode 208 eines oder mehrere der folgenden Materialien vorsehen alternativ oder zusätzlich zu den oben genannten Materialien: Netzwerke aus metallischen Nanodrähten und - teilchen, beispielsweise aus Ag; Netzwerke aus
Kohlenstoff-Nanoröhren; Graphen-Teilchen und -Schichten; Netzwerke aus halbleitenden Nanodrähten.
Ferner kann die erste Elektrode 208 elektrisch leitfähige Polymere oder Übergangsmetalloxide oder elektrisch
leitfähige transparente Oxide aufweisen.
Für den Fall, dass das lichtemittierende Bauelement 200 Licht durch das Substrat 202 abstrahlt, können die erste Elektrode 208 und das Substrat 202 transluzent oder transparent
ausgebildet sein. In diesem Fall kann für den Fall, dass die erste Elektrode 208 aus einem Metall gebildet wird, die erste Elektrode 208 beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen von kleiner oder gleich ungefähr 25 nm, beispielsweise eine
Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 20 nm,
beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 18 nm. Weiterhin kann die erste Elektrode 208 beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen von größer oder gleich ungefähr 10 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von größer oder gleich ungefähr 15 nm. In verschiedenen
Ausführungsbeispielen kann die erste Elektrode 208 eine
Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 25 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 18 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 15 nm bis ungefähr 18 nm.
Weiterhin kann für den Fall einer transluzenten oder
transparenten ersten Elektrode 208 und für den Fall, dass die erste Elektrode 208 aus einem leitfähigen transparenten Oxid (TCO) gebildet wird, die erste Elektrode 208 beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen in einem Bereich von ungefähr 50 nm bis ungefähr 500 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 75 nm bis ungefähr 250 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von
ungefähr 100 nm bis ungefähr 150 nm.
Ferner kann für den Fall einer transluzenten oder
transparenten ersten Elektrode 208 und für den Fall, dass die erste Elektrode 208 aus beispielsweise einem Netzwerk aus metallischen Nanodrähten, beispielsweise aus Ag, die mit leitfähigen Polymeren kombiniert sein können, einem
Netzwerk aus Kohlenstoff-Nanoröhren, die mit leitfähigen Polymeren kombiniert sein können, oder von Graphen- Schichten und Kompositen gebildet wird, die erste Elektrode 208 beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen in einem
Bereich von ungefähr 1 nm bis ungefähr 500 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 10 nm bis ungefähr 400 nm, beispielsweise eine Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 40 nm bis ungefähr 250 nm.
Für den Fall, dass das lichtemittierende Bauelement 200 Licht ausschließlich nach oben abstrahlt, kann die erste Elektrode 208 auch opak oder reflektierend eingerichtet sein. In diesem Fall kann die erste Elektrode 208 (beispielsweise für den Fall einer metallischen Elektrode) beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen von größer oder gleich ungefähr 40 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von größer oder gleich ungefähr 50 nm. Die erste Elektrode 208 kann als Anode, also als
löcherinjizierende Elektrode ausgebildet sein oder als
Kathode, also als eine elektroneninjizierende Elektrode.
Die erste Elektrode 208 kann einen ersten elektrischen
Anschluss aufweisen, an den ein erstes elektrisches Potential (bereitgestellt von einer Energiequelle (nicht dargestellt) , beispielsweise einer Stromquelle oder einer Spannungsquelle) anlegbar ist. Alternativ kann das erste elektrische Potential an das Substrat 202 angelegt werden oder sein und darüber dann mittelbar der ersten Elektrode 208 zugeführt werden oder sein. Das erste elektrische Potential kann beispielsweise das Massepotential oder ein anderes vorgegebenes Bezugspotential sein . Weiterhin kann der elektrisch aktive Bereich 206 des
lichtemittierenden Bauelements 200 eine organische
elektrolumineszente Schichtenstruktur 210 aufweisen, die auf oder über der ersten Elektrode 208 aufgebracht ist oder wird. Die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 210 kann eine oder mehrere Emitterschichten 212, beispielsweise mit fluoreszierenden und/oder phosphoreszierenden Emittern, enthalten, sowie eine oder mehrere Lochleitungsschichten 214 (auch bezeichnet als Lochtransportschicht (en) 214). In verschiedenen Ausführungsbeispielen können alternativ oder zusätzlich eine oder mehrere Elektronenleitungsschichten 216 (auch bezeichnet als Elektronentransportschicht (en) 216) vorgesehen sein. Beispiele für Emittermaterialien, die in dem
lichtemittierenden Bauelement 200 gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen für die Emitterschicht (en) 212 eingesetzt werden können, schließen organische oder
organometallische Verbindungen, wie Derivate von Polyfluoren, Polythiophen und Polyphenylen (z.B. 2- oder 2,5- substituiertes Poly-p-phenylenvinylen) sowie Metallkomplexe, beispielsweise Iridium-Komplexe wie blau phosphoreszierendes FIrPic (Bis (3, 5-difluoro-2- (2-pyridyl) phenyl- (2- carboxypyridyl ) -iridium III), grün phosphoreszierendes
Ir (ppy) 3 (Tris (2-phenylpyridin) iridium III), rot
phosphoreszierendes Ru (dtb-bpy) 3*2 (PFg) (Tris [4, 4' -di-tert- butyl- (2, 2 ' ) -bipyridin] ruthenium (III) komplex) sowie blau fluoreszierendes DPAVBi (4, 4-Bis [4- (di-p- tolylamino) styryl] biphenyl) , grün fluoreszierendes TTPA
( 9, 10-Bis [N, -di- (p-tolyl) -amino] anthracen) und rot
fluoreszierendes DCM2 (4-Dicyanomethylen) -2-methyl-6- j ulolidyl- 9-enyl-4H-pyran) als nichtpolymere Emitter ein. Solche nichtpolymeren Emitter sind beispielsweise mittels thermischen Verdampfens abscheidbar. Ferner können
Polymeremitter eingesetzt werden, welche insbesondere mittels eines nasschemischen Verfahrens, wie beispielsweise Spin Coating, abscheidbar sind.
Die Emittermaterialien können in geeigneter Weise in einem Matrixmaterial eingebettet sein. Es ist darauf hinzuweisen, dass andere geeignete
Emittermaterialien in anderen Ausführungsbeispielen ebenfalls vorgesehen sind.
Die Emittermaterialien der Emitterschicht (en) 212 des
lichtemittierenden Bauelements 200 können beispielsweise so ausgewählt sein, dass das lichtemittierende Bauelement 200 Weißlicht emittiert. Die Emitterschicht (en) 212 kann/können mehrere verschiedenfarbig (zum Beispiel blau und gelb oder blau, grün und rot) emittierende Emittermaterialien
aufweisen, alternativ kann/können die Emitterschicht (en) 212 auch aus mehreren Teilschichten aufgebaut sein, wie einer blau fluoreszierenden Emitterschicht 212 oder blau phosphoreszierenden Emitterschicht 212, einer grün
phosphoreszierenden Emitterschicht 212 und einer rot
phosphoreszierenden Emitterschicht 212. Durch die Mischung der verschiedenen Farben kann die Emission von Licht mit einem weißen Farbeindruck resultieren. Alternativ kann auch vorgesehen sein, im Strahlengang der durch diese Schichten erzeugten Primäremission ein Konvertermaterial anzuordnen, das die Primärstrahlung zumindest teilweise absorbiert und eine Sekundärstrahlung anderer Wellenlänge emittiert, so dass sich aus einer (noch nicht weißen) Primärstrahlung durch die Kombination von primärer Strahlung und sekundärer Strahlung ein weißer Farbeindruck ergibt.
Die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 210 kann allgemein eine oder mehrere elektrolumineszente Schichten aufweisen. Die eine oder mehreren elektrolumineszenten
Schichten kann oder können organische Polymere, organische Oligomere, organische Monomere, organische kleine, nicht- polymere Moleküle („small molecules") oder eine Kombination dieser Materialien aufweisen. Beispielsweise kann die
organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 210 eine oder mehrere elektrolumineszente Schichten aufweisen, die als Lochtransportschicht 214 ausgeführt ist oder sind, so dass beispielsweise in dem Fall einer OLED eine effektive
Löcherinjektion in eine elektrolumineszierende Schicht oder einen elektrolumineszierenden Bereich ermöglicht wird.
Alternativ kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur eine oder mehrere funktionelle Schichten aufweisen, die als
Elektronentransportschicht 216 ausgeführt ist oder sind, so dass beispielsweise in dem Fall einer OLED eine effektive Elektroneninjektion in eine elektrolumineszierende Schicht oder einen elektrolumineszierenden Bereich ermöglicht wird. Als Material für die Lochtransportschicht 214 können
beispielsweise tertiäre Amine, Carbazoderivate, leitendes
Polyanilin oder Polythylendioxythiophen verwendet werden. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann oder können die eine oder die mehreren elektrolumineszenten Schichten als
elektrolumineszierende Schicht ausgeführt sein.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die
Lochtransportschicht 214 auf oder über der ersten Elektrode 208 aufgebracht, beispielsweise abgeschieden, sein, und die Emitterschicht 212 kann auf oder über der
Lochtransportschicht 214 aufgebracht, beispielsweise
abgeschieden, sein.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 210 (also
beispielsweise die Summe der Dicken von
Lochtransportschicht (en) 214 und Emitterschicht (en) 212 und Elektronentransportschicht (en) 216) eine Schichtdicke
aufweisen von maximal ungefähr 1,5 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1,2 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 800 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 500 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 400 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 300 nm. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 210 beispielsweise einen Stapel von
mehreren direkt übereinander angeordneten organischen
Leuchtdioden (OLEDs) aufweisen, wobei jede OLED
beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen kann von maximal ungefähr 1,5 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1,2 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 1 ym, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 800 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 500 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 400 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von maximal ungefähr 300 nm. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die organische elektrolumineszente Schichtenstruktur 210 beispielsweise einen Stapel von drei oder vier direkt
übereinander angeordneten OLEDs aufweisen, in welchem Fall beispielsweise die organische elektrolumineszente
Schichtenstruktur 210 eine Schichtdicke aufweisen kann von maximal ungefähr 3 ym. Das lichtemittierende Bauelement 200 kann optional allgemein weitere organische Funktionsschichten, beispielsweise
angeordnet auf oder über der einen oder mehreren
Emitterschichten 212 aufweisen, die dazu dienen, die
Funktionalität und damit die Effizienz des lichtemittierenden Bauelements 200 weiter zu verbessern.
Auf oder über der organischen elektrolumineszenten
Schichtenstruktur 210 oder gegebenenfalls auf oder über der einen oder mehreren weiteren organischen Funktionsschichten kann eine zweite Elektrode 218 (beispielsweise in Form einer zweiten Elektrodenschicht 218) aufgebracht sein.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die zweite
Elektrode 218 die gleichen Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein wie die erste Elektrode 208, wobei in
verschiedenen Ausführungsbeispielen Metalle besonders geeignet sind.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die zweite
Elektrode 218 (beispielsweise für den Fall einer metallischen zweiten Elektrode 218) beispielsweise eine Schichtdicke aufweisen von kleiner oder gleich ungefähr 50 nm,
beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 45 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 40 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 35 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 30 nm,
beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 25 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 20 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 15 nm, beispielsweise eine Schichtdicke von kleiner oder gleich ungefähr 10 nm. Die zweite Elektrode 218 kann allgemein in ähnlicher Weise ausgebildet werden oder sein wie die erste Elektrode 208, oder unterschiedlich zu dieser. Die zweite Elektrode 218 kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen aus einem oder
mehreren der Materialien und mit der jeweiligen Schichtdicke (je nachdem, ob die zweite Elektrode reflektierend,
transluzent oder transparent ausgebildet werden soll) ausgebildet sein oder werden, wie oben im Zusammenhang mit der ersten Elektrode 208 beschrieben. In der in Fig.2
dargestellten Ausführungsform kann die zweite Elektrode 218 reflektierend ausgebildet sein. Somit kann das in Fig.2 dargestellte lichtemittierende Bauelement 200 als Bottom- Emitter eingerichtet sein.
Die zweite Elektrode 218 kann als Anode, also als
löcherinjizierende Elektrode ausgebildet sein oder als
Kathode, also als eine elektroneninjizierende Elektrode. Die zweite Elektrode 218 kann einen zweiten elektrischen Anschluss aufweisen, an den ein zweites elektrisches
Potential (welches unterschiedlich ist zu dem ersten
elektrischen Potential) , bereitgestellt von der
Energiequelle, anlegbar ist. Das zweite elektrische Potential kann beispielsweise einen Wert aufweisen derart, dass die
Differenz zu dem ersten elektrischen Potential einen Wert in einem Bereich von ungefähr 1,5 V bis ungefähr 20 V aufweist, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 2,5 V bis ungefähr 15 V, beispielsweise einen Wert in einem Bereich von ungefähr 3 V bis ungefähr 12 V.
Somit ist anschaulich die thermotrope Schicht 204 außerhalb des elektrisch aktiven Bereichs 206 angeordnet,
beispielsweise, wie in der in Fig.2 dargestellten
Ausführungsform, zwischen dem Substrat 202 und der ersten Elektrode 208 des elektrisch aktiven Bereichs 206. Auf oder über der zweiten Elektrode 112 und damit auf oder über dem elektrisch aktiven Bereich 206 kann optional noch eine Verkapselung 220, beispielsweise in Form einer
Barrierendünnschicht/Dünnschichtverkapselung 220 gebildet werden oder sein.
Unter einer „Barrierendünnschicht" bzw. einem „Barriere- Dünnfilm" 220 kann im Rahmen dieser Anmeldung beispielsweise eine Schicht oder eine Schichtenstruktur verstanden werden, die dazu geeignet ist, eine Barriere gegenüber chemischen
Verunreinigungen bzw. atmosphärischen Stoffen, insbesondere gegenüber Wasser (Feuchtigkeit) und Sauerstoff, zu bilden. Mit anderen Worten ist die Barrierendünnschicht 220 derart ausgebildet, dass sie von OLED-schädigenden Stoffen wie
Wasser, Sauerstoff oder Lösemittel nicht oder höchstens zu sehr geringen Anteilen durchdrungen werden kann.
Gemäß einer Ausgestaltung kann die Barrierendünnschicht 220 als eine einzelne Schicht (anders ausgedrückt, als
Einzelschicht) ausgebildet sein. Gemäß einer alternativen
Ausgestaltung kann die Barrierendünnschicht 220 eine Mehrzahl von aufeinander ausgebildeten Teilschichten aufweisen. Mit anderen Worten kann gemäß einer Ausgestaltung die
Barrierendünnschicht 220 als Schichtstapel (Stack)
ausgebildet sein. Die Barrierendünnschicht 220 oder eine oder mehrere Teilschichten der Barrierendünnschicht 220 können beispielsweise mittels eines geeigneten Abscheideverfahrens gebildet werden, z.B. mittels eines
Atomlagenabscheideverfahrens (Atomic Layer Deposition (ALD) ) gemäß einer Ausgestaltung, z.B. eines plasmaunterstützten Atomlagenabscheideverfahrens (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD) ) oder eines plasmalosen
Atomlageabscheideverfahrens (Plasma-less Atomic Layer
Deposition (PLALD) ) , oder mittels eines chemischen
Gasphasenabscheideverfahrens (Chemical Vapor Deposition
(CVD) ) gemäß einer anderen Ausgestaltung, z.B. eines
plasmaunterstützten Gasphasenabscheideverfahrens (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) ) oder eines plasmalosen Gasphasenabscheideverfahrens (Plasma-less
Chemical Vapor Deposition (PLCVD) ) , oder alternativ mittels anderer geeigneter Abscheideverfahren.
Durch Verwendung eines Atomlagenabscheideverfahrens (ALD) können sehr dünne Schichten abgeschieden werden. Insbesondere können Schichten abgeschieden werden, deren Schichtdicken im Atomlagenbereich liegen.
Gemäß einer Ausgestaltung können bei einer
Barrierendünnschicht 220, die mehrere Teilschichten aufweist, alle Teilschichten mittels eines Atomlagenabscheideverfahrens gebildet werden. Eine Schichtenfolge, die nur ALD-Schichten aufweist, kann auch als „Nanolaminat" bezeichnet werden.
Gemäß einer alternativen Ausgestaltung können bei einer
Barrierendünnschicht 220, die mehrere Teilschichten aufweist, eine oder mehrere Teilschichten der Barrierendünnschicht 220 mittels eines anderen Abscheideverfahrens als einem
Atomlagenabscheideverfahren abgeschieden werden,
beispielsweise mittels eines Gasphasenabscheideverfahrens .
Die Barrierendünnschicht 220 kann gemäß einer Ausgestaltung eine Schichtdicke von ungefähr 0.1 nm (eine Atomlage) bis ungefähr 1000 nm aufweisen, beispielsweise eine Schichtdicke von ungefähr 10 nm bis ungefähr 100 nm gemäß einer
Ausgestaltung, beispielsweise ungefähr 40 nm gemäß einer Ausgestaltung .
Gemäß einer Ausgestaltung, bei der die Barrierendünnschicht 220 mehrere Teilschichten aufweist, können alle Teilschichten dieselbe Schichtdicke aufweisen. Gemäß einer anderen
Ausgestaltung können die einzelnen Teilschichten der
Barrierendünnschicht 220 unterschiedliche Schichtdicken aufweisen. Mit anderen Worten kann mindestens eine der Teilschichten eine andere Schichtdicke aufweisen als eine oder mehrere andere der Teilschichten.
Die Barrierendünnschicht 220 oder die einzelnen Teilschichten der Barrierendünnschicht 220 können gemäß einer Ausgestaltung als transluzente oder transparente Schicht ausgebildet sein. Mit anderen Worten kann die Barrierendünnschicht 220 (oder die einzelnen Teilschichten der Barrierendünnschicht 220) aus einem transluzenten oder transparenten Material (oder einer Materialkombination, die transluzent oder transparent ist) bestehen .
Gemäß einer Ausgestaltung kann die Barrierendünnschicht 220 oder (im Falle eines Schichtenstapels mit einer Mehrzahl von Teilschichten) eine oder mehrere der Teilschichten der
Barrierendünnschicht 220 eines der nachfolgenden Materialien aufweisen oder daraus bestehen: Aluminiumoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Titanoxid, Hafniumoxid, Tantaloxid
Lanthaniumoxid, Siliziumoxid, Siliziumnitrid,
Siliziumoxinitrid, Indiumzinnoxid, Indiumzinkoxid, Aluminium¬ dotiertes Zinkoxid, sowie Mischungen und Legierungen
derselben .
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann auf oder über der Verkapselung 220 ein Klebstoff und/oder ein Schutzlack 222 vorgesehen sein, mittels dessen beispielsweise eine optionale Abdeckung 224 (beispielsweise eine Glasabdeckung 224) auf der Verkapselung 220 befestigt, beispielsweise aufgeklebt ist. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die optisch
transluzente Schicht aus Klebstoff und/oder Schutzlack 222 eine Schichtdicke von größer als 1 ym aufweisen,
beispielsweise eine Schichtdicke von mehreren ym. In
verschiedenen Ausführungsbeispielen kann der Klebstoff ein Laminations-Klebstoff aufweisen oder sein.
In die Schicht des Klebstoffs (auch bezeichnet als
Kleberschicht) können in verschiedenen Ausführungsbeispielen noch lichtstreuende Partikel eingebettet sein, die zu einer weiteren Verbesserung des Farbwinkelverzugs und der
Auskoppeleffizienz führen können. In verschiedenen
Ausführungsbeispielen können als lichtstreuende Partikel beispielsweise dielektrische Streupartikel vorgesehen sein wie beispielsweise Metalloxide wie z.B. Siliziumoxid (Si02), Zinkoxid (ZnO) , Zirkoniumoxid (Zr02), Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO), Galliumoxid (Ga20a)
Aluminiumoxid, oder Titanoxid. Auch andere Partikel können geeignet sein, sofern sie ein Brechungsindex haben, der von dem effektiven Brechungsindex der Matrix der transluzenten Schichtenstruktur verschieden ist, beispielsweise Luftblasen, Acrylat, oder Glashohlkugeln. Ferner können beispielsweise metallische Nanopartikel . Metalle wie Gold, Silber, Eisen- Nanopartikel, oder dergleichen als lichtstreuende Partikel vorgesehen sein.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann zwischen der zweiten Elektrode 218 und der Schicht aus Klebstoff und/oder Schutzlack 222 noch eine elektrisch isolierende Schicht
(nicht dargestellt) aufgebracht werden oder sein,
beispielsweise SiN, beispielsweise mit einer Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 300 nm bis ungefähr 1,5 ym, beispielsweise mit einer Schichtdicke in einem Bereich von ungefähr 500 nm bis ungefähr 1 ym, um elektrisch instabile Materialien zu schützen, beispielsweise während eines
nasschemischen Prozesses.
Fig.3 zeigt eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden Bauelements 300 gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen.
Die organische Leuchtdiode 300 gemäß Fig.3 ist in vielen Aspekten gleich der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2, weshalb im Folgenden lediglich die Unterschiede der
organischen Leuchtdiode 300 gemäß Fig.3 zu der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 näher erläutert werden;
hinsichtlich der übrigen Elemente der organischen Leuchtdiode 300 gemäß Fig.3 wird auf obige Ausführungen zu der
organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 verwiesen.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das
lichtemittierende Bauelement 300 als Bottom-Emitter
eingerichtet sein.
Im Unterschied zu der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 ist bei der organischen Leuchtdiode 300 gemäß Fig.3 die thermotrope Schicht 204 nicht zwischen dem Substrat 202 und dem elektrisch aktiven Bereich 206 angeordnet, sondern auf der dem elektrisch aktiven Bereich 206 abgewandten Seite des Substrats 202, anders ausgedrückt beispielsweise unterhalb des Substrats 202. Ferner kann in verschiedenen
Ausführungsbeispielen optional noch eine weitere Abdeckung
302 (beispielsweise eine Glasabdeckung 302) vorgesehen sein, die unterhalb der thermotropen Schicht 204 angeordnet sein kann. Somit kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen die weitere Abdeckung 302 auf der dem elektrisch aktiven Bereich 206 abgewandten Seite des Substrats 202 angeordnet sein und die thermotrope Schicht 204 kann zwischen dem Substrat 202 und der weiteren Abdeckung 302 angeordnet sein.
Somit kann in diesen Ausführungsbeispielen die erste
Elektrode 208 in körperlichem Kontakt mit dem Substrat 202 stehen auf einer Seite des Substrats 202, und die thermotrope Schicht 204 kann mit dem Substrat 202 auf der
gegenüberliegenden Seite des Substrats 202 in körperlichem Kontakt stehen.
Fig.4 zeigt eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden Bauelements 400 gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen.
Die organische Leuchtdiode 400 gemäß Fig.4 ist in vielen Aspekten gleich der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2, weshalb im Folgenden lediglich die Unterschiede der
organischen Leuchtdiode 400 gemäß Fig.4 zu der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 näher erläutert werden;
hinsichtlich der übrigen Elemente der organischen Leuchtdiode 400 gemäß Fig.4 wird auf obige Ausführungen zu der
organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 verwiesen.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das
lichtemittierende Bauelement 400 als Top-Emitter eingerichtet sein. Dies bedeutet beispielsweise, dass die erste Elektrode 208 reflektierend ausgebildet sein kann und dass die zweite Elektrode 218 optisch transparent ausgebildet sein kann.
Im Unterschied zu der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 ist bei der organischen Leuchtdiode 400 gemäß Fig.4 die thermotrope Schicht 204 nicht zwischen dem Substrat 202 und dem elektrisch aktiven Bereich 206 angeordnet, sondern auf oder über der Verkapselung 220. In diesen
Ausführungsbeispielen kann optional die optisch transluzente Schicht aus Klebstoff und/oder Schutzlack 222 auf oder über der thermotropen Schicht 204 angeordnet sein und die
Abdeckung 224 auf der thermotropen Schicht 204 befestigen, beispielsweise festkleben.
Fig.5 zeigt eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden Bauelements 500 gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen.
Die organische Leuchtdiode 500 gemäß Fig.5 ist in vielen Aspekten gleich der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2, weshalb im Folgenden lediglich die Unterschiede der
organischen Leuchtdiode 500 gemäß Fig.5 zu der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 näher erläutert werden;
hinsichtlich der übrigen Elemente der organischen Leuchtdiode 500 gemäß Fig.5 wird auf obige Ausführungen zu der
organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 verwiesen. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das
lichtemittierende Bauelement 500 als Top-Emitter eingerichtet sein. Dies bedeutet beispielsweise, dass die erste Elektrode 208 reflektierend ausgebildet sein kann und dass die zweite Elektrode 218 optisch transparent ausgebildet sein kann.
Im Unterschied zu der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 ist bei der organischen Leuchtdiode 500 gemäß Fig.5 die thermotrope Schicht 204 nicht zwischen dem Substrat 202 und dem elektrisch aktiven Bereich 206 angeordnet, sondern auf oder über der Abdeckung 224. Ferner kann optional noch eine zusätzliche Abdeckung 502 (beispielsweise eine zusätzliche Glasabdeckung 502) auf oder über der thermotropen Schicht 204 angeordnet sein.
Fig.6 zeigt eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden Bauelements 600 gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen.
Die organische Leuchtdiode 600 gemäß Fig.6 ist in vielen Aspekten gleich der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2, weshalb im Folgenden lediglich die Unterschiede der
organischen Leuchtdiode 600 gemäß Fig.6 zu der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 näher erläutert werden;
hinsichtlich der übrigen Elemente der organischen Leuchtdiode 600 gemäß Fig.6 wird auf obige Ausführungen zu der
organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 verwiesen. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das
lichtemittierende Bauelement 600 als ein transparentes lichtemittierendes Bauelement 600 eingerichtet sein, anders ausgedrückt als ein Top-/ und Bottom-Emitter eingerichtet sein. Dies bedeutet beispielsweise, dass die erste Elektrode 208 und die zweite Elektrode 218 optisch transparent
ausgebildet sein können.
Zusätzlich zu der organischen Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 ist bei der organischen Leuchtdiode 600 gemäß Fig.6 noch eine zusätzliche thermotrope Schicht 602 vorgesehen, die zwischen der Schicht aus Klebstoff und/oder Schutzlack 222 und der Abdeckung 224 angeordnet sein kann. In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die zusätzliche thermotrope Schicht 602 in gleicher Weise eingerichtet sein wie die thermotrope Schicht 204.
Fig.7 zeigt eine Querschnittansicht eines lichtemittierenden Bauelements 700 gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen.
Die organische Leuchtdiode 700 gemäß Fig.7 ist in vielen Aspekten gleich der organischen Leuchtdiode 300 gemäß Fig.3, weshalb im Folgenden lediglich die Unterschiede der
organischen Leuchtdiode 700 gemäß Fig.7 zu der organischen
Leuchtdiode 300 gemäß Fig.3 näher erläutert werden;
hinsichtlich der übrigen Elemente der organischen Leuchtdiode 700 gemäß Fig.7 wird auf obige Ausführungen zu der
organischen Leuchtdiode 300 gemäß Fig.3 und der organischen
Leuchtdiode 200 gemäß Fig.2 verwiesen.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann das
lichtemittierende Bauelement 700 als ein transparentes lichtemittierendes Bauelement 700 eingerichtet sein, anders ausgedrückt als ein Top-/ und Bottom-Emitter eingerichtet sein. Dies bedeutet beispielsweise, dass die erste Elektrode 208 und die zweite Elektrode 218 optisch transparent
ausgebildet sein können.
Zusätzlich zu der organischen Leuchtdiode 300 gemäß Fig.3 ist bei der organischen Leuchtdiode 700 gemäß Fig.7 noch eine zusätzliche thermotrope Schicht 702 vorgesehen, die auf oder über der Abdeckung 224 angeordnet sein kann.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die zusätzliche thermotrope Schicht 702 in gleicher Weise eingerichtet sein wie die thermotrope Schicht 204.
Ferner kann optional noch eine zusätzliche Abdeckung 704 (beispielsweise eine zusätzliche Glasabdeckung 704) auf oder über der zusätzlichen thermotropen Schicht 702 angeordnet sein .
Es ist darauf hinzuweisen, dass in verschiedenen
Ausführungsbeispielen auch bei vollständig transparenten lichtemittierenden Bauelementen, beispielsweise der
organischen Leuchtdiode 600 gemäß Fig.6 oder der organischen Leuchtdiode 700 gemäß Fig.7 jeweils nur ein thermotrope
Schicht 204, 602, 702 vorgesehen sein kann und die andere weggelassen werden kann. Es ist darauf hinzuweisen, dass die thermotrope Schicht sich in verschiedenen
Ausführungsbeispielen auch zwischen der ersten Elektrode und dem Substrat befinden kann. In den verschiedenen Ausführungsbeispielen wird davon
Gebrauch gemacht, dass thermotrope Schicht (en) und/oder thermotrope Partikel in einer Matrix (beispielsweise aus Harz oder eine Polymermatrix) ihren Brechungsindex bei bestimmten Temperaturen ändern. Da lichtemittierende Bauelemente wie beispielsweise organische Leuchtdioden jedoch keine 100- prozentige Effizienz aufweisen, erhitzen sich diese im
Betrieb, d.h. beispielsweise bei existierenden Stromfluss zwischen den Elektroden des lichtemittierenden Bauelements. Dieser Effekt wird mit thermotropen Schicht (en) und/oder thermotrope Partikel (n) in verschiedenen
Ausführungsbeispielen ausgenutzt. Im Ausgeschaltet-Zustand eines lichtemittierenden Bauelements gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen nimmt das lichtemittierende Bauelement beispielsweise die Umgebungstemperatur, beispielsweise
Raumtemperatur, an. Im Angeschaltet-Zustand, anders
ausgedrückt im Betrieb, eines lichtemittierenden Bauelements gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen erwärmt sich das lichtemittierende Bauelement signifikant (beispielsweise bei einer hohen Leuchtdichte, die von dem lichtemittierenden Bauelement bereitgestellt wird) und die thermotrope (n)
Schicht (en) und/oder thermotrope (n) Partikel ändern ihren Brechungsindex . Dadurch wird/werden die thermotrope (n) Schicht (en) und/oder die thermotropen Partikel transluzent und somit wird eine Lichtstreuung hervorgerufen, welche die Auskopplung des Lichts aus dem lichtemittierenden Bauelement, beispielsweise aus der organischen Leuchtdiode, verbessert. Nach dem
Ausschalten des lichtemittierenden Bauelements,
beispielsweise der organischen Leuchtdiode, kühlt sich das Substrat bzw. das gesamte lichtemittierende Bauelement wieder ab. Der Effekt der Thermotropie kann in verschiedenen
Ausführungsbeispielen reversibel gestaltet werden und dadurch sind die Schichten im Ausgeschaltet-Zustand des
lichtemittierenden Bauelements wieder transparent. In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird bei einem
einseitig emittierenden lichtemittierenden Bauelement das spiegelnde Ausgeschaltet-Zustand-Erscheinungsbild erhalten und die Lichtauskopplung im Ausgeschaltet-Zustand, d.h. im Betrieb, wird verbessert.
Ferner wird in verschiedenen Ausführungsbeispielen bei einem zweiseitig emittierenden lichtemittierenden Bauelement, d.h. bei einem optisch transparenten lichtemittierenden
Bauelement, die Transparenz im Ausgeschaltet-Zustand erhalten und die Lichtauskopplung im Ausgeschaltet-Zustand, d.h. im Betrieb, wird verbessert.
In verschiedenen Ausführungsbeispielen kann die thermotrope Schicht zwischen der ersten Elektrode und dem Substrat platziert sein (nicht dargestellt) .
Fig.8 zeigt ein Ablaufdiagramm 800, in dem ein Verfahren zum Herstellen eines lichtemittierenden Bauelements gemäß
verschiedenen Ausführungsbeispielen dargestellt ist
In 802 wird ein elektrisch aktiven Bereich gebildet, wobei eine erste Elektrode und eine zweite Elektrode gebildet werden und wobei eine organische funktionelle
Schichtenstruktur zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode gebildet wird. Ferner kann in 804 eine thermotrope Schicht außerhalb des elektrisch aktiven Bereichs gebildet werden.
Die verschiedenen Schichten, beispielsweise die thermotrope Schicht 204, die Elektroden 208, 218 sowie die anderen
Schichten des elektrisch aktiven Bereichs 206 wie
beispielsweise die organische funktionelle Schichtenstruktur 212, die Lochtransportschicht (en) 214 oder die
Elektronentransportschicht (en) 216 können mittels
verschiedener Prozesse aufgebracht werden, beispielsweise abgeschieden werden, beispielsweise mittels eines CVD- Verfahrens (chemisches Abscheiden aus der Gasphase, chemical vapor deposition) oder mittels eines PVD-Verfahrens
(physikalisches Abscheiden aus der Gasphase, physical vapor deposition, beispielsweise Sputtern, ionenunterstütztes
Abscheideverfahren oder thermisches Verdampfen) , alternativ mittels eines Plating-Verfahrens ; eines
Tauchabscheideverfahrens; eines AufSchleuderverfahrens (spin coating) ; Druckens; Rakelns; oder Sprühens.
Als CVD-Verfahren kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen ein plasmaünterstütztes chemisches Abscheideverfahren aus der Gasphase (plasma enhanced chemical vapor deposition, PE-CVD) eingesetzt werden. Dabei kann in einem Volumen über und/oder um das Element, auf das die aufzubringende Schicht
aufgebracht werden soll, herum ein Plasma erzeugt, wobei dem Volumen zumindest zwei gasförmige Ausgangsverbindungen zugeführt werden, die in dem Plasma ionisiert und zur
Reaktion miteinander angeregt werden. Durch die Erzeugung des Plasmas kann es möglich sein, dass die Temperatur, auf welche die Oberfläche des Elements aufzuheizen ist, um eine
Erzeugung beispielsweise der dielektrischen Schicht zu ermöglichen, im Vergleich zu einem plasmalosen CVD-Verfahren erniedrigt werden kann. Das kann beispielsweise von Vorteil sein, wenn das Element, beispielsweise das zu bildende lichtemittierende elektronische Bauelement, bei einer
Temperatur oberhalb einer Maximaltemperatur geschädigt werden würde. Die Maximaltemperatur kann beispielsweise bei einem zu bildenden lichtemittierenden elektronischen Bauelement gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen etwa 120 °C betragen, so dass die Temperatur, bei der beispielsweise die dielektrische Schicht aufgebracht wird, kleiner oder gleich 120 °C und beispielsweise kleiner oder gleich 80 °C sein kann.

Claims

Patentansprüche
1. Lichtemittierendes Bauelement (200, 300, 400, 500, 600, 700), aufweisend:
einen elektrisch aktiven Bereich (206), aufweisend:
• eine erste Elektrode (208);
• eine zweite Elektrode (218);
• eine organische funktionelle Schichtenstruktur (210) zwischen der ersten Elektrode (208) und der zweiten Elektrode (218);
eine thermotrope Schicht (204), die außerhalb des elektrisch aktiven Bereichs (206) angeordnet ist.
2. Lichtemittierendes Bauelement (200, 300, 400, 500, 600, 700) gemäß Anspruch 1,
wobei die thermotrope Schicht (204) ein Matrixmaterial aufweist, in dem Partikel eingebettet sind, die derart eingerichtet sind, dass sie ihren Brechungsindex abhängig von der Temperatur verändern.
3. Lichtemittierendes Bauelement (200, 300, 400, 500, 600, 700) gemäß Anspruch 2,
wobei das Matrixmaterial Polymermaterial aufweist.
4. Lichtemittierendes Bauelement (200, 300, 400, 500, 600, 700) gemäß Anspruch 2 oder 3,
wobei die Partikel Mikropartikel aufweisen.
5. Lichtemittierendes Bauelement (200, 600) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4,
• ferner aufweisend ein Substrat (202);
• wobei die thermotrope Schicht (204) zwischen dem
elektrisch aktiven Bereich (206) und dem Substrat (202) angeordnet ist.
6. Lichtemittierendes Bauelement (300, 700) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, ferner aufweisend ein Substrat (202) und eine erste Abdeckung (302), wobei die erste Abdeckung (302) auf der dem elektrisch aktiven Bereich (206) abgewandten Seite des Substrats (202) angeordnet ist;
wobei die thermotrope Schicht (204) zwischen dem Substrat (202) und der ersten Abdeckung (302) angeordnet ist.
Lichtemittierendes Bauelement (400) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4,
• ferner aufweisend ein Substrat (202) und eine
Verkapselung (220), wobei die Verkapselung (220) auf der dem Substrat (202) abgewandten Seite des
elektrisch aktiven Bereichs (206) angeordnet ist;
• wobei die thermotrope Schicht (204) über der
Verkapselung (220) angeordnet ist.
Lichtemittierendes Bauelement (500) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, ferner aufweisend:
• ein Substrat (202);
• eine Verkapselung (220), wobei die Verkapselung
(220) auf der dem Substrat (202) abgewandten Seite des elektrisch aktiven Bereichs (206) angeordnet ist; und
• eine über der Verkapselung (220) angeordnete zweite Abdeckung (224) ;
• wobei die thermotrope Schicht (204) über der zweiten Abdeckung (224) angeordnet ist.
Lichtemittierendes Bauelement (600) gemäß Anspruch 5, ferner aufweisend:
• eine Verkapselung (220), wobei die Verkapselung
(220) auf der dem Substrat (202) abgewandten Seite des elektrisch aktiven Bereichs (206) angeordnet ist; und • eine zweite thermotrope Schicht (602), wobei die zweite thermotrope Schicht (602) über der
Verkapselung (220) angeordnet ist.
Lichtemittierendes Bauelement (700) gemäß Anspruch 5, ferner aufweisend:
• eine Verkapselung (220), wobei die Verkapselung
(220) auf der dem Substrat (202) abgewandten Seite des elektrisch aktiven Bereichs (206) angeordnet ist ;
• eine über der Verkapselung (220) angeordnete zweite Abdeckung (224); und
• eine zweite thermotrope Schicht (702), wobei die zweite thermotrope Schicht (702) über der zweiten Abdeckung (224) angeordnet ist.
Lichtemittierendes Bauelement (200, 300, 400, 500, 600, 700) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10,
eingerichtet als organische Leuchtdiode (200, 300, 400, 500, 600, 700) .
Verfahren (800) zum Herstellen eines lichtemittierenden Bauelements (200, 300, 400, 500, 600, 700), wobei das Verfahren aufweist:
Bilden (802) eines elektrisch aktiven Bereichs (206), aufweisend :
• Bilden einer ersten Elektrode (208);
• Bilden einer zweiten Elektrode (218);
• Bilden einer organischen funktionellen
Schichtenstruktur (210) zwischen der ersten
Elektrode (208) und der zweiten Elektrode (218);
Bilden (804) einer thermotropen Schicht außerhalb des elektrisch aktiven Bereichs (206).
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