WO2010137355A1

WO2010137355A1 - 有機エレクトロルミネセンス表示装置、その製造方法、カラーフィルタ基板及びその製造方法

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Publication number: WO2010137355A1
Application number: PCT/JP2010/051049
Authority: WO
Inventors: 園田通; 山本恵美
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2009-05-28
Filing date: 2010-01-27
Publication date: 2010-12-02
Also published as: US9093399B2; US20120012834A1

Abstract

本発明は、安価かつ容易に作製することができ、また、絵素領域の小型化が可能な有機ＥＬ表示装置、その製造方法、カラーフィルタ基板及びその製造方法を提供する。本発明の有機ＥＬ表示装置は、第一～第三の色の絵素領域を含む複数の絵素領域が表示エリア内に配置された基板を備え、複数の絵素領域の各々に有機発光層を含む機能性材料層が配置された有機ＥＬ表示装置であって、表示エリア内の基板上には第一～第三隔壁部が配置され、表示エリア外の基板上には第一～第三枠状構造物が配置され、第一の色の絵素領域は、第一隔壁部で区画された第一区画領域内に配置され、第二の色の絵素領域は、第二隔壁部で区画された第二区画領域内に配置され、第三の色の絵素領域は、第三隔壁部で区画された第三区画領域内に配置され、第一区画領域は、第一枠状構造物内に接続され、第二区画領域は、第二枠状構造物内に接続され、第三区画領域は、第三枠状構造物内に接続される有機ＥＬ表示装置である。

Description

有機エレクトロルミネセンス表示装置、その製造方法、カラーフィルタ基板及びその製造方法

本発明は、有機エレクトロルミネセンス表示装置、その製造方法、カラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。より詳しくは、カラー表示の表示装置に好適な有機エレクトロルミネセンス表示装置、その製造方法、カラーフィルタ基板及びその製造方法に関するものである。

有機エレクトロルミネセンス表示装置（以下、有機ＥＬ表示装置、又は、ＯＬＥＤとも言う。）は、薄型化が容易であり、応答速度が速く、バックライトが不要であるため消費電力が少ないという長所があり、液晶表示装置やＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ　Ｒａｙ　Ｔｕｂｅ）に替わる表示装置として期待されている。

現状、有機ＥＬ表示装置では、マスク蒸着法又はインクジェット（ＩＪ）法による赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の絵素の塗り分けが行われている。すなわち、図１１に示すように、各絵素３００（絵素発光部３１０）を覆うように、スロットマスクを介して、各色の絵素３００毎に、機能性材料層（有機機能層）の材料、すなわち機能性材料を個別に蒸着していく。これにより、各色の絵素３００を覆う蒸着領域３２０が形成される。なお、スリットマスクを用いる場合は、各色の絵素３００毎に、ストライプ状に機能性材料を蒸着する。他方、インクジェット法を用いる場合、各絵素３００を囲むバンクを形成し、その中に機能性材料を塗布する。なお、この場合は、バンク内の塗布領域が、図１１中の、画素発光部３１０に相当する。インクジェット法のような溶液を用いた塗布型のＲ、Ｇ及びＢの絵素の形成方法は、材料利用効率が高いため、現在注目されている。また、インクジェット法は、有機ＥＬ素子の有機層のみならず、カラーフィルタ基板のカラーフィルタ層（着色層）や、金属配線基板のパターン配線等の機能性薄膜の製造に用いられている。

しかしながら、マスク蒸着法を用いて異なる色（例えば、ＲＧＢ）の絵素を形成する場合には、蒸着マスクを高精度に貼り合わせる技術や、蒸着ボケを極小化する技術（異なる色の絵素間の境界を明確にする技術）が必要であるという点で、技術的課題が大きかった。また、基板の大型化に伴うマスクの重量増加も問題となっていた。

一方、インクジェット法を用いて異なる色の絵素を形成する場合も、絵素毎で塗布のバラツキを抑制する技術や、高精度にインクを吐出する技術が必要であるといった点で、技術的課題が大きかった。

このように、従来の有機ＥＬ表示装置では、Ｒ、Ｇ及びＢの絵素毎に、個別に層（膜）を形成するのが困難であった。したがって、液晶表示装置で実現している３００ｐｐｉレベル以上の高精細な有機ＥＬ表示装置や、４０インチレベルの大型の有機ＥＬ表示装置を作製するためには、装置面、歩留まり面、コスト面及び技術面の重大な課題を抱えていた。すなわち、簡便で安価な有機層の形成方法の開発が望まれていた。

このような状況の中、簡便で安価な有機層の形成方法として、特許文献１には、毛細管現象により有機ＥＬ溶液を画素に充填する方法が開示されている。この方法は、高解像度の表示装置にも適用可能である。より詳細には、各溝の先端の位置がずれるように、Ｒ、Ｇ及びＢの絵素用の溝を形成するとともに、有機ＥＬ溶液の進入を阻害するストッパ（フォトレジスト）をＲ及びＧの絵素用の溝に設けることで、Ｒ、Ｇ及びＢの塗り分けを行う。すなわち、この方法は、先端が一番高いＢの絵素用の溝にＢの有機ＥＬ溶液を充填し、次に、Ｇの絵素用の溝に設けられたストッパを剥離し、次に、Ｂの絵素用の溝の先端がＧの有機ＥＬ溶液に付かないようにしつつ、Ｇの有機ＥＬ溶液をＧの絵素用の溝に充填し、次に、Ｒの絵素用の溝に設けられたストッパを剥離し、最後に、Ｒの有機ＥＬ溶液をＲの絵素用の溝に充填する。

また、毛細管現象を利用した有機ＥＬ表示装置の製造方法は、特許文献２及び３にも開示されている。特許文献２には、フォトレジストに形成されたトレンチ（溝）に対して、毛細管現象を利用してドーパント材料を充填する有機ＥＬ表示装置の製造方法が開示されている。特許文献３には、画素が配置された開口に連通した注入溝を誘電層に形成し、この注入溝に発光層材料等の液を注入することで、毛細管現象によって注入溝から液を画素まで流入させ、膜形成を行う方法が開示されている。特許文献２及び３の方法によれば、毛細管現象を利用して、最大で２色の絵素を塗り分けることが可能である。

国際公開第２００３／０２２０１０号パンフレット国際公開第２００４／０２８２１６号パンフレット特開２００４－３６３１０７号公報

特許文献１に記載の技術においては、有機ＥＬ溶液を貯めた槽に基板を浸すことにより、絵素に有機ＥＬ溶液を充填するため、多量の有機ＥＬ溶液が必要となる。また、基板を槽に浸したとき、先に形成された有機ＥＬ層の再溶解が発生した場合、後に用いられる有機ＥＬ溶液の混濁が起きてしまう。更に、基板の有機ＥＬ層を形成しない部分も有機ＥＬ溶液に浸かるため、基板が汚染されてしまう。そして、レジストを剥離する工程を有機ＥＬ層形成中に２回実施する必要があるため、製造工程の複雑化や有機ＥＬ層の特性劣化を招いてしまう。

また、特許文献２及び３の方法は、最大で２色の絵素しか毛細管現象を利用して塗り分けることができない。一般的に、カラー表示を行う表示装置の画素は、３色（例えば、ＲＧＢ）の絵素で構成されている。したがって、特許文献２又は３の方法を用いたとしても、少なくとも１色の絵素はマスク蒸着等を用いて形成する必要があるという点で、改善の余地があった。

したがって、特性劣化を抑制しつつ、安価かつ容易に有機ＥＬ表示装置を作製する方法については、未だ要望されていた。

また、解像度が３００ｐｐｉレベル以上の高精細な液晶表示装置用のカラーフィルタ基板について、インクジェット法を用いて全ての色（例えば、Ｒ、Ｇ及びＢ）の着色層を塗り分ける場合には、高精度な吐出位置性能を有するインクジェット装置又は吐出ヘッドが全ての色に対して必要であり、更に、塗布時間も長くなるため、スループット（単位時間あたりの処理能力）が低減するおそれがあった。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、安価かつ容易に作製することができ、また、絵素領域の小型化が可能な有機ＥＬ表示装置、その製造方法、カラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、安価かつ容易に作製することができ、また、絵素領域の小型化が可能な有機ＥＬ表示装置について種々検討したところ、表示エリア外に形成された枠状構造物内に注入した塗液を、毛細管現象等によって生じる塗液の流動を利用して、表示エリア内の絵素領域に流し込む方法に着目した。そして、表示エリア外に少なくとも３つの枠状構造物を形成し、上記方法を用いることにより、３色以上の絵素領域を塗り分けることができ、画素を構成する全ての色の絵素領域を安価かつ容易に形成することが可能となることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。

すなわち、本発明は、第一の色の絵素領域、第二の色の絵素領域及び第三の色の絵素領域を含む複数の絵素領域が表示エリア内に配置された基板を備え、上記複数の絵素領域の各々には、有機発光層を含む機能性材料層が配置された有機ＥＬ表示装置であって、上記表示エリア内の上記基板上には、第一隔壁部、第二隔壁部及び第三隔壁部が配置され、上記表示エリア外の上記基板上には、第一枠状構造物、第二枠状構造物及び第三枠状構造物が配置され、上記第一の色の絵素領域は、上記第一隔壁部で区画された第一区画領域内に配置され、上記第二の色の絵素領域は、上記第二隔壁部で区画された第二区画領域内に配置され、上記第三の色の絵素領域は、上記第三隔壁部で区画された第三区画領域内に配置され、上記第一区画領域は、上記第一枠状構造物内に接続され、上記第二区画領域は、上記第二枠状構造物内に接続され、上記第三区画領域は、上記第三枠状構造物内に接続される有機ＥＬ表示装置である。

本発明の有機ＥＬ表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素により特に限定されるものではない。
本発明の有機ＥＬ表示装置における好ましい形態について以下に詳しく説明する。

上記基板を平面視したとき、上記第一枠状構造物及び上記第二枠状構造物は、上記表示エリアを挟むように対向して配置され、上記第三枠状構造物は、上記第一枠状構造物及び上記第二枠状構造物に挟まれた領域に配置されることが好ましい。このように、表示エリアを３方向から囲むように第一、第二及び第三枠状構造物をコの字状に配置することにより、第一、第二及び第三区画領域のそれぞれに、異なる塗液を容易に流し込むことができる。その結果、３色の絵素領域を容易に塗り分けることができる。

上記基板を平面視したとき、２つの上記第三枠状構造物が上記表示エリアを挟むように対向して配置されることが好ましい。これにより、第三区画領域に短時間で塗液を充填させることができる。

上記基板を平面視したとき、上記第三区画領域は、上記第一区画領域及び上記第二区画領域のいずれかの輪郭線に沿ったＵ字型の形状を含むことが好ましい。一般的に、表示エリアには、異なる色の絵素領域が行列方向に複数配置される。例えば、画素がＲＧＢで構成される場合、複数のＲの絵素領域で構成された列と、複数のＧの絵素領域で構成された列と、複数のＢの絵素領域で構成された列とが横並びに配置される。このような形態において、特許文献１～３で開示されているように、直線状の溝に塗液を流し込む方法では、３色以上の絵素領域を塗り分けることが困難であった。これに対し、第三区画領域が上記Ｕ字型の形状を含むことにより、第三区画領域に注入された塗液を、他の隔壁部によって区画された領域を回り込んで塗り広げることができる。これにより、３色の絵素領域を容易に塗り分けることが可能となる。

なお、本発明の有機ＥＬ表示装置によって塗り分けが可能な絵素領域は、３色に限定されず、枠状構造物及び隔壁部を追加することにより、４色以上の絵素領域を塗り分けることも可能である。その場合、例えば、追加する隔壁部で区画された領域が、第三区画領域に沿ったＵ字型の形状を含んでいればよい。また、追加する枠状構造物を配置する位置は特に限定されず、表示エリア外に配置する部材に合わせて適宜設定することができる。

上述したような第三区画領域がＵ字型の形状を含む場合の好ましい形態の１つとして、上記基板を平面視したとき、上記第三区画領域内には、上記第一区画領域及び上記第二区画領域のいずれかを挟むように複数の上記絵素領域が対向して配置される形態が挙げられる。

上述したような第三区画領域がＵ字型の形状を含む場合の好ましい形態の１つとして、上記基板を平面視したとき、上記第三区画領域内には、上記第一区画領域及び上記第二区画領域を挟まないように上記絵素領域が配置される形態が挙げられる。

上記基板を平面視したとき、上記基板上には、上記第一区画領域と上記第二区画領域とが交互に複数並置されており、上記第三区画領域は、上記第一区画領域の輪郭線及び上記第二区画領域の輪郭線に沿って蛇行した形状であることが好ましい。これにより、第一区画領域と、第二区画領域との間に、第三区画領域を一体的な形状で配置することが可能となる。これにより、例えば、第一区画領域と、第二区画領域と、第三区画領域とをストライプ状に配置したとしても、３色の絵素領域を容易に塗り分けることができる。

上記基板上には、上記機能性材料層を挟持する一対の電極と、上記一対の電極の一方の端部を覆うエッジカバーとが配置され、上記第一隔壁部、上記第二隔壁部及び上記第三隔壁部の少なくとも１つは、上記エッジカバー上に配置されることが好ましい。これにより、一対の電極同士が短絡するのを防止しながら、本発明の効果を奏することができる。

上記基板は、ＴＦＴ基板であることが好ましい。

上記表示エリア内には、上記第一の色の絵素領域、上記第二の色の絵素領域及び上記第三の色の絵素領域を含んで構成された画素が行列方向に複数並置され、上記第一の色の絵素領域、上記第二の色の絵素領域及び上記第三の色の絵素領域のうち、少なくとも１つの色の絵素領域は、１つの上記画素に２つ配置されることが好ましい。

上記表示エリア内には、上記第一の色の絵素領域、上記第二の色の絵素領域及び上記第三の色の絵素領域を含んで構成された画素が行列方向に複数並置され、上記第一の色の絵素領域、上記第二の色の絵素領域及び上記第三の色の絵素領域は、行方向に隣接する上記画素に点対称に配置されることが好ましい。

上記第一枠状構造物内には、上記第一の色の絵素領域に配置された上記機能性材料層の材料が配置され、上記第二枠状構造物内には、上記第二の色の絵素領域に配置された上記機能性材料層の材料が配置され、上記第三枠状構造物内には、上記第三の色の絵素領域に配置された上記機能性材料層の材料が配置されることが好ましい。

上記第一枠状構造物内には、上記第一の色の絵素領域に配置された上記有機発光層の材料が配置され、上記第二枠状構造物内には、上記第二の色の絵素領域に配置された上記有機発光層の材料が配置され、上記第三枠状構造物内には、上記第三の色の絵素領域に配置された上記有機発光層の材料が配置されることが好ましい。

本発明はまた、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、上記製造方法は、上記第一枠状構造物内に、上記第一の色の絵素領域に配置される上記機能性材料層の材料を含む第一塗液を注入する工程と、上記第二枠状構造物内に、上記第二の色の絵素領域に配置される上記機能性材料層の材料を含む第二塗液を注入する工程と、上記第三枠状構造物内に、上記第三の色の絵素領域に配置される上記機能性材料層の材料を含む第三塗液を注入する工程とを含む有機ＥＬ表示装置の製造方法（以下、本発明の第一の有機ＥＬ表示装置の製造方法とも言う。）でもある。第一区画領域は、第一枠状構造物内に接続されているため、第一枠状構造物内に注入された塗液は、第一区画領域に流れこみ、第一区画領域内に配置されている第一の色の絵素領域に充填される。第二及び第三枠状構造物についても同様である。したがって、本発明によれば、第一、第二及び第三区画領域に異なる塗液を注入することができ、３色の絵素領域を容易に塗り分けることができる。また、画素を構成する全ての色の絵素領域を蒸着マスクを用いずに形成することも可能となる。

本発明の第一の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記工程を有するものである限り、その他の工程により特に限定されるものではない。
本発明の第一の有機ＥＬ表示装置における好ましい態様について以下に詳しく説明する。

上記第三塗液は、上記第一塗液及び上記第二塗液よりも粘度が低いことが好ましい。これにより、第三隔壁部で区画された領域に、短時間で塗液を充填させることができる。また、上述したように、第三区画領域が、Ｕ字型の形状を含む形態や、蛇行した形状を有する形態の場合、第三区画領域内に配置された第三の色の絵素領域に塗液を充填させるためには、長い時間を要する場合がある。これらの態様は、上記形態に特に有効である。

上記有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記第一隔壁部、上記第二隔壁部、上記第三隔壁部、上記第一枠状構造物、上記第二枠状構造物及び上記第三枠状構造物を同時に形成する工程を含むことが好ましい。これにより、有機ＥＬ表示装置の製造工程を更に簡略化することができる。

本発明はまた、第一の色の絵素領域、第二の色の絵素領域及び第三の色の絵素領域を含む複数の絵素領域が表示エリア内に配置された基板を備え、上記複数の絵素領域の各々には、有機発光層を含む機能性材料層が配置された有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、上記製造方法は、上記表示エリア内の上記基板上に、上記第一の色の絵素領域を区画する第一隔壁部、上記第二の色の絵素領域を区画する第二隔壁部、及び、上記第三の色の絵素領域を区画する第三隔壁部を形成する工程と、上記表示エリア外の上記基板上に、上記第一隔壁部で区画された第一区画領域に内部が接続された第一枠状構造物、上記第二隔壁部で区画された第二区画領域に内部が接続された第二枠状構造物、及び、上記第三隔壁部で区画された第三区画領域に内部が接続された第三枠状構造物を形成する工程と、上記第一枠状構造物内に、上記第一の色の絵素領域に配置される上記機能性材料層の材料を含む第一塗液を注入する工程と、上記第二枠状構造物内に、上記第二の色の絵素領域に配置される上記機能性材料層の材料を含む第二塗液を注入する工程と、上記第三枠状構造物内に、上記第三の色の絵素領域に配置される上記機能性材料層の材料を含む第三塗液を注入する工程とを含む有機ＥＬ表示装置の製造方法（以下、本発明の第二の有機ＥＬ表示装置の製造方法とも言う。）でもある。これにより、本発明の第一の有機ＥＬ表示装置の製造方法と同様の効果を奏することができる。

本発明の第二の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上記工程を有するものである限り、その他の工程により特に限定されるものではない。
なお、上述した本発明の第一の有機ＥＬ表示装置の製造方法の好ましい態様は、本発明の第二の有機ＥＬ表示装置の製造方法の好ましい態様としても利用することができる。

本発明はまた、第一の色の着色層、第二の色の着色層及び第三の色の着色層を含む複数の着色層が表示エリア内に配置された基板を備えるカラーフィルタ基板であって、上記表示エリア内の上記基板上には、第一隔壁部、第二隔壁部及び第三隔壁部が配置され、上記表示エリア外の上記基板上には、第一枠状構造物、第二枠状構造物及び第三枠状構造物が配置され、上記第一の色の着色層は、上記第一隔壁部で区画された第一区画領域内に配置され、上記第二の色の着色層は、上記第二隔壁部で区画された第二区画領域内に配置され、上記第三の色の着色層は、上記第三隔壁部で区画された第三区画領域内に配置され、上記第一区画領域は、上記第一枠状構造物内に接続され、上記第二区画領域は、上記第二枠状構造物内に接続され、上記第三区画領域は、上記第三枠状構造物内に接続されるカラーフィルタ基板でもある。これにより、安価かつ容易に作製することができ、また、高精細化が可能なカラーフィルタ基板を実現することができる。

本発明のカラーフィルタ基板の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素により特に限定されるものではない。
なお、上述した本発明の有機ＥＬ表示装置における好ましい形態は、「絵素領域」を「着色層」に置き換えることで、本発明のカラーフィルタ基板の好ましい形態としても利用することができる。

本発明はまた、第一の色の着色層、第二の色の着色層及び第三の色の着色層を含む複数の着色層が表示エリア内に配置された基板を備えるカラーフィルタ基板の製造方法であって、上記製造方法は、上記表示エリア内の上記基板上に、上記第一の色の着色層を区画する第一隔壁部、上記第二の色の着色層を区画する第二隔壁部、及び、上記第三の色の着色層を区画する第三隔壁部を形成する工程と、上記表示エリア外の上記基板上に、上記第一隔壁部で区画された第一区画領域に内部が接続された第一枠状構造物、上記第二隔壁部で区画された第二区画領域に内部が接続された第二枠状構造物、及び、上記第三隔壁部で区画された第三区画領域に内部が接続された第三枠状構造物を形成する工程と、上記第一枠状構造物内に、上記第一の色の着色層の材料を含む第一塗液を注入する工程と、上記第二枠状構造物内に、上記第二の色の着色層の材料を含む第二塗液を注入する工程と、上記第三枠状構造物内に、上記第三の色の着色層の材料を含む第三塗液を注入する工程とを含むカラーフィルタ基板の製造方法でもある。これにより、毛細管現象等によって生じる塗液の流動を利用して、３色の着色層を容易に塗り分けることができる。

本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、上記工程を有するものである限り、その他の工程により特に限定されるものではない。
なお、上述した本発明の第一の有機ＥＬ表示装置の製造方法の好ましい態様は、「絵素領域」を「着色層」に置き換えることで、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の好ましい態様としても利用することができる。

上述した各形態は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。

本発明の有機ＥＬ表示装置、その製造方法、カラーフィルタ基板及びその製造方法によれば、安価かつ容易に作製することができ、また、絵素領域の小型化が可能な有機ＥＬ表示装置、その製造方法、カラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することができる。

実施例１の有機ＥＬ表示装置の全体構成を示す平面模式図である。実施例１の有機ＥＬ表示装置の全体構成を示す断面模式図である。実施例１の有機ＥＬ表示装置の表示エリア周辺を示す平面模式図である。また、実施例６のカラーフィルタ基板の表示エリア周辺を示す平面模式図でもある。図３中のＡ１－Ａ２線における断面模式図である。また、実施形態１の有機ＥＬ表示装置を示す断面模式図でもある。実施例２の有機ＥＬ表示装置の表示エリア周辺を示す平面模式図である。実施例３の有機ＥＬ表示装置の表示エリア周辺を示す平面模式図である。図６中のＢ１－Ｂ２線における断面模式図である。実施例４の有機ＥＬ表示装置の表示エリア周辺を示す平面模式図である。実施例５の有機ＥＬ表示装置の表示エリア周辺を示す平面模式図である。実施例６のカラーフィルタ基板を示す断面模式図である。また、実施形態２のカラーフィルタ基板を示す断面模式図でもある。従来の有機ＥＬ表示装置の構成を示す平面模式図である。

本明細書において、テーパ角とは、基板の表面に対する角度を言う。また、テーパ角が９０°以下の形状を順テーパ形状、９０°を超える形状を逆テーパ形状と呼ぶ。

本明細書において、赤とは、主波長が６２０ｎｍ以上、６８０ｎｍ以下の色であることが好ましく、主波長が６３０ｎｍ以上、６７０ｎｍ以下の色であることがより好ましい。緑色とは、主波長が５２０ｎｍ以上、５８０ｎｍ未満の色であることが好ましく、主波長が５３０ｎｍ以上、５７０ｎｍ以下の色であることがより好ましい。青とは、主波長が４２０ｎｍ以上、４８０ｎｍ未満の色であることが好ましく、主波長が４３０ｎｍ以上、４７０ｎｍ以下の色であることがより好ましい。

以下に実施形態を掲げ、本発明を図面とともに更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。

（実施形態１）
図４は、実施形態１の有機ＥＬ表示装置を示す断面模式図である。図４に示すように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置（有機ＥＬディスプレイ）は、基板２００上に、第一の電極２５０と、エッジカバー２４０と、隔壁１２０と、機能性材料層と、第二の電極２６０とを、基板２００側からこの順に積層した構造を有する。第一の電極２５０は、絵素領域１４０Ｒ（Ｒの絵素領域）、絵素領域１４０Ｇ（Ｇの絵素領域）、絵素領域１４０Ｂ（Ｂの絵素領域）毎に設けられている。エッジカバー２４０は第一の電極２５０の端部を被覆するための部材である。隔壁１２０は、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂ間を分離し、かつ、塗液（溶液）を保持するための部材である。また、隔壁１２０は、絶縁性を有している。機能性材料層は、有機化合物を含有する発光層（有機発光層とも言う。）を含んでいる。図４においては、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと、正孔注入層兼正孔輸送層２２０とが、機能性材料層に相当する。第一の電極２５０及び第二の電極２６０の一方は、陽極として機能し、他方は、陰極として機能する。

上記基板２００は、アクティブマトリクス基板であってもよいし、パッシブマトリクス基板であってもよい。図４は、基板２００がアクティブマトリクス基板の場合を示している。アクティブマトリクス基板の場合、基板２００上には、複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）２７０と、複数の信号線とが形成され、更にそれらの上方には、平坦化層として機能する層間絶縁膜２１０及び第一の電極２５０がこの順に形成されている。一方、パッシブマトリクス基板の場合、基板上には、複数の信号線と、第一の電極２５０とが形成されている。

アクティブマトリクス基板上のＴＦＴ２７０等のアクティブ素子部と有機ＥＬ素子部とは、層間絶縁膜２１０で分離されている。また、層間絶縁膜２１０に穿たれたコンタクトホールを通る接続用の導電体を介して下層のアクティブ素子部と上層の第一の電極２５０とが電気的に接続されている。これにより、アクティブ素子部と有機ＥＬ素子部とが電気的に接続される。なお、上記接続用の導電体としては、第一の電極２５０を用いることも可能である。また、上記機能性材料層は、低分子材料から形成されてもよいし、高分子材料から形成されてもよい。

上記機能性材料層は、例えば、下記の構成が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。ここで、キャリア輸送層とは、正孔輸送層又は電子輸送層を示す。また、電子ブロッキング層は、キャリアブロッキング層の一種である。本発明（本明細書）では、下記のように、一対の電極（第一の電極２５０及び第二の電極２６０）間に挟持される全ての層を、機能性材料層と総称している。
（１）正孔輸送層／有機発光層
（２）有機発光層／電子輸送層
（３）正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層
（４）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層
（５）正孔輸送層／電子ブロッキング層／有機発光層／電子輸送層

なお、上記有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、一層であってもよいし、複数の層を積層した構造であってもよい。また、母体材料にドーパントをドープした層でも構わない。

以下、毛細管現象等によって生じる塗液の流動を利用して有機発光材料（以下、単に発光材料とも言う。）を絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに充填する工程で使用する塗液について説明する。なお、ここでは、塗液として、高分子の有機発光材料を用いた場合について説明するが、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、無論、可溶性の低分子の有機発光材料を用いても構わない。また、本実施形態では、毛細管現象等によって生じる塗液の流動を用いて、有機発光材料を含む塗液を隔壁１２０で区画された領域に充填する方法によって形成された機能性材料層を少なくとも一層含んでいればよく、その他の方法で形成された別の機能性材料層を更に含んでいてもよい。例えば、上記（４）の構成においては、正孔輸送層の材料に無機物を使用し、スパッタリング法や真空蒸着法を用いて基板２００上に正孔輸送層を形成した後、毛細管現象等によって生じる塗液の流動を利用して、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを正孔輸送層上に形成し、そして、スプレー法を用いて、電子輸送層を有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂ上に形成してもよい。

上記有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂは、毛細管現象等によって生じる塗液の流動を利用して、発光材料を含む塗液を隔壁１２０で区画された領域内に充填（塗布）することによって形成される。ここで使用される塗液は、少なくとも発光材料と溶剤とを含有した溶液である。発光材料は、一種類であってもよいし、複数の種類であってもよい。また、塗液は、膜保持材（バインダー）、レベリング材、発光アシスト材、添加材（ドナー、アクセプター等）、キャリア輸送材、発光性のドーパント等が含有されていてもよい。

上記発光材料としては、有機ＥＬ素子用の一般的な発光材料を用いることができる。このような発光材料は、高分子発光材料、高分子発光材料の前駆体等に分類される。以下にこれらの具体的な化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

上記高分子発光材料としては、例えば、ポリ（２－デシルオキシ－１、４－フェニレン）（ＤＯ－ＰＰＰ）、ポリ［２、５－ビス－［２－（Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリエチルアンモニウム）エトキシ］－１、４－フェニル－アルト－１、４－フェニレン］ジブロマイド（ＰＰＰ－ＮＥｔ３＋）、ポリ［２－（２′－エチルヘキシルオキシ）－５－メトキシ－１、４－フェニレンビニレン］（ＭＥＨ－ＰＰＶ）等が挙げられる。

上記高分子発光材料の前駆体としては、例えば、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）前駆体（Ｐｒｅ－ＰＰＶ）、ポリ（ｐ－ナフタレンビニレン）前駆体（Ｐｒｅ－ＰＮＶ）等が挙げられる。

上記溶剤としては、上記発光材料を溶解又は分散できる溶剤であればよく、例えば、純水、メタノール、エタノール、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、クロロホルム、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン等が挙げられる。但し、塗液から形成された膜（有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂ）の平坦性を向上させるため、高沸点の溶剤が好適に用いられる。

上記発光材料としては、低分子発光材料を用いてもよい。低分子発光材料としては、例えば、アントラセン、ナフタレン、インデン、フェナントレン、ピレン、ナフタセン、トリフェニレン、アントラセン、ペリレン、ピセン、フルオランテン、アセフェナントリレン、ペンタフェン、ペンタセン、コロネン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、或いはこれらの誘導体、トリス（８－キノリノラト）アルミニウム錯体、ビス（ベンゾキノリノラト）ベリリウム錯体、トリ（ジベンゾイルメチル）フェナントロリンユーロピウム錯体ジトルイルビニルビフェニル等が挙げられる。

上記正孔輸送層及び電子輸送層（以下、これらを合わせてキャリア輸送層とも言う。）は、それぞれ単層構造でも多層構造でもよく、また、注入層としての機能を兼ねていても構わない。キャリア輸送層は、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと同様の方法でも形成できるが、他の一般的な方法でも成膜が可能である。

上記キャリア輸送層の材料（キャリア輸送材料）としては、一般的な材料が使用可能である。以下にこれらの具体的な化合物を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

上記正孔輸送層の材料（正孔輸送材料）としては、例えば、ポルフィリン化合物、Ｎ，Ｎ′－ビス－（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ′－ビス－（フェニル）－ベンジジン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ′－ジ（ナフタレン－１－イル）－Ｎ，Ｎ′－ジフェニル－ベンジジン（ＮＰＤ）等の芳香族第３級アミン化合物、ヒドラゾン化合物、キナクリドン化合物、スチルアミン化合物等の低分子材料、ポリアニリン、３，４－ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリ（トリフェニルアミン誘導体）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）等の高分子材料、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）前駆体、ポリ（ｐ－ナフタレンビニレン）前駆体等の高分子材料前駆体が挙げられる。

上記電子輸送層の材料（電子輸送材料）としては、例えば、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、フルオレン誘導体等の低分子材料、ポリ（オキサジアゾール）等の高分子材料が挙げられる。

上記キャリアブロッキング層は、単層構造でも多層構造でもよい。キャリアブロッキング層は、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと同様の方法でも形成できるが、他の一般的な方法でも成膜が可能である。

上記キャリアブロッキング層の材料（キャリアブロッキング材料）としては、一般的な材料が使用可能である。以下にこれらの具体的な化合物を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

上記電子ブロッキング層の材料（電子ブロッキング材料）としては、例えば、Ｎ，Ｎ′－ビス－（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ′－ビス－（フェニル）－ベンジジン（ＴＰＤ）等の低分子材料、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）等の高分子材料が挙げられ、正孔ブロッキング層の材料（正孔ブロッキング材料）としては、例えば、オキサジアゾール誘導体等の高分子材料が挙げられる。

また、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂ以外の機能性材料層を形成するための溶剤は、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの形成に使用する際と同じ溶剤が使用可能である。但し、例えば正孔輸送層の上に発光材料を含む溶液を用いて有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを積層する場合、正孔輸送材料として、発光材料用の溶剤に可溶な材料を使用すると、発光層を形成する工程で、正孔輸送層が発光材料用の溶剤に溶解してしまい、正孔輸送層の膜の均一性が悪化することがある。したがって、複数の機能性材料層を積層する場合、上側に配置する層（後に形成する層）を形成する際には、下側に配置する層（先に形成する層）を溶解しない溶剤を使用することが好ましい。

第一の電極２５０及び第二の電極２６０（以下、これらを合わせて電極層とも言う。）には、一般的な電極材料を用いることが可能である。また、電極層と機能性材料層との界面には、必要に応じてキャリア注入層等の膜を挿入することもできる。

陽極（機能性材料層へ正孔を供給する電極）としては、仕事関数の大きな、金属材料（Ａｕ、Ｎｉ、Ｐｔ等）や導電性金属酸化物（ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２等）からなる単層膜、又は、これらのうち複数の材料が積層された積層膜を用いることができる。また、このような陽極と機能性材料層との間には、導電性を大きく妨げない程度の厚み（例えば１ｎｍ程度）を有する酸化物を配置してもよい。

陰極（機能性材料層に電子を供給する電極）の材料としては、Ｃａ、Ｃｅ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｇ、Ｌｉ等の仕事関数が４．０ｅＶ以下の金属材料（以下、低仕事関数材料）用いることが可能である。なかでも、高分子有機発光層に対しては、Ｃａ、Ｂａが好適に用いられる。また、低仕事関数材料が酸素や水等によって変質するのを抑えるという観点から、陰極の材料としては、Ｎｉ、Ｏｓ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｌ、Ａｕ、Ｒｈ、Ａｇ等の化学的に比較的安定な金属と、上記低仕事関数材料との合金も好適である。更に、トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置では、陰極に透光性を与えるために、陰極を薄く形成する必要がある。したがって、トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置では、陰極に電極としての充分な導電性を確保するために、透明電極層として、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２等の導電性金属酸化物を、透光性を有する金属層（陰極）上に形成することが好ましい。なお、透明電極層は、単層であってもよいし、複数の材料の積層膜であってもよい。

本実施形態における有機ＥＬ素子部の構造は、第一の電極２５０と、発光層を含む有機層（機能性材料層）と、第二の電極２６０とを少なくとも有するものではあればよく、例えば、前述の酸化物層のような別の層を更に含んでいてもよい。

（実施例１）
次に、本発明の実施例１について、図面を用いて詳細に説明する。
まず、図１、２を用いて、本発明の実施例１に係る有機ＥＬ表示装置１００の全体構成と、製造方法の概略とについて説明する。

ＴＦＴが形成されたガラスや樹脂等の基板（ＴＦＴ基板２００）上には、層間膜（層間絶縁膜）、陽極（第一の電極）及びエッジカバーがこの順にパターニング形成されている。また、画像表示を行う表示エリア１５０内には、複数の画素がマトリクス状に配置されている。

そして、図１に示すように、表示エリア１５０の外側、すなわち額縁エリアに、永久膜レジスト（パネル完成後も残るレジスト膜）により、３色分の機能性材料を含む塗液（溶液）を溜めるための枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃを形成する。また、これと同時に、異なる色の絵素領域を分ける隔壁を表示エリア１５０内に形成する。この隔壁により、表示エリア１５０内には、ストライプ状の溝（隔壁で区画された領域）が複数形成される。

次に、発光層より下側に配置される機能性材料層（正孔注入層、正孔輸送層、インターレイヤー等）を表示エリア１５０の全面に形成する。ここでは、真空蒸着法、スプレー法等の方法を使用する。あるいは後述する発光層の作製方法と同じ方法を使用してもよい。

次に、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの内部に、それぞれ異なる色の発光材料を含む塗液（充填液１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ）を注入する。これにより、毛細管現象によって枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの内部から表示エリア１５０内に形成された溝に対して塗液が流れ込み、絵素領域の色毎に別の塗液が充填される。このようにして、３色の絵素領域を塗り分けることができる。枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの内部に塗液を注入する方法としては、インクジェット法、スプレー法、ノズルコート法、ディスペンサ等を適用することができる。

次に、発光層より上側に配置される機能性材料層（電子輸送層、電子注入層等）を、発光層より下側に配置される機能性材料層と同様の方法で形成する。

次に、陰極（第二の電極）を真空蒸着法にて形成する。そして、図２に示すように、乾燥剤１６０を貼付した封止ガラス１７０をＴＦＴ基板２００に貼り合わせ、封止樹脂（シール材）１８０を用いて封止する。

上記の手順により、本実施例の有機ＥＬ表示装置１００が完成する。

次に、図３、４を用いて、本発明の実施例１に係る有機ＥＬ表示装置１００の構成と、その製造方法とについて詳細に説明する。
図３に示すように、有機ＥＬ表示装置１００の表示エリア１５０には、複数の画素がマトリクス状に配置されている。画素（ピクセル）は、画像の最小表示単位である。絵素領域は、画素を構成する単色の領域である。図３中、Ｐを付した領域は、１つの画素を示している。各画素は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３色で構成されており、１つの画素には、絵素領域１４０Ｒ（Ｒの絵素領域）が１つ、絵素領域１４０Ｇ（Ｇの絵素領域）が１つ、絵素領域１４０Ｂ（Ｂの絵素領域）が２つ配置されている。このように、本実施例の画素は、Ｒ／Ｂ／Ｇ／Ｂで構成されている。

表示エリア１５０内には絵素領域１４０Ｒ、絵素領域１４０Ｇ及び絵素領域１４０Ｂがマトリクス状に設けられている。また、表示エリア１５０外（額縁領域）には、枠状構造物１１０ａ（第一枠状構造物）、枠状構造物１１０ｂ（第二枠状構造物）及び枠状構造物１１０ｃ（第三枠状構造物）が配置されている。

図４に示すように、ＴＦＴ基板２００上には、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂ毎に、ＴＦＴ２７０、第一の電極２５０及びエッジカバー２４０が形成されている。エッジカバー２４０は第一の電極２５０の端部を被覆し、第一の電極２５０の端部が第二の電極２６０と短絡しないようにするための部材である。

エッジカバー２４０上には、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂを色毎に区画（分離）する絶縁性の隔壁１２０が形成されている。隔壁１２０は、図３に示すように、上下方向で隣接する同色の絵素領域をまとめて囲むように配置されている。表示エリア１５０を平面視したとき、隔壁１２０で囲まれた領域の形状は、帯状（線状）である。すなわち、表示エリア１５０内には、隔壁１２０によって帯状の溝が形成されており、この溝の中に、上下方向に隣接する同色の絵素領域が配置されている。

第一の電極２５０上には、機能性材料層が形成されている。より具体的には、絵素領域１４０Ｒにおいては、正孔注入層兼正孔輸送層２２０及び有機発光層２３０Ｒ（Ｒの有機発光層）がこの順に形成されている。また、絵素領域１４０Ｒにおいては、正孔注入層兼正孔輸送層２２０及び有機発光層２３０Ｇ（Ｇの有機発光層）がこの順で形成されている。また、絵素領域１４０Ｂにおいては、正孔注入層兼正孔輸送層２２０及び有機発光層２３０Ｂ（Ｂの有機発光層）がこの順で形成されている。更に、第二の電極２６０が表示エリア１５０全体を覆うように形成されている。

ここで、隔壁１２０及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの構造について更に詳細に説明する。絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂを区画する隔壁１２０は、壁状の構造物であり、ストライプ状に配置された絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂの配列に沿ってスリット状に形成される。また、隔壁１２０は、絵素領域１４０Ｒを他の色の絵素領域と区画する第一隔壁部と、絵素領域１４０Ｇを他の色の絵素領域と区画する第二隔壁部と、絵素領域１４０Ｂを他の色の絵素領域と区画する第三隔壁部とを有する。なお、各隔壁部は、隣の色の絵素領域を区画する隔壁部の一部としても機能し、例えば、第一隔壁部及び第二隔壁部は、絵素領域１４０Ｂをも区画することから、第三隔壁部の一部としても機能する。このように、第三隔壁部で区画された領域とは、第一隔壁部及び第二隔壁部で区画された領域と呼ぶこともできる。

枠状構造物１１０ａは、表示エリア１５０の上側の輪郭線に沿うように、すなわちＴＦＴ基板２００の上側端部に沿うように配置され、一方、枠状構造物１１０ｂは、表示エリア１５０の下側の輪郭線に沿うように、すなわちＴＦＴ基板２００の下側端部に沿うように配置される。このように、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂは、表示エリア１５０を挟んで対向して配置される。

また、枠状構造物１１０ｃは、表示エリア１５０の左側の輪郭線に沿うように、すなわち、ＴＦＴ基板２００の左側端部に沿うように配置されている。このように、枠状構造物１１０ｃは、基板を平面視したときに、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂに挟まれた領域に配置されており、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃにより、表示エリア１５０の三方が囲まれている。

枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃは、左右方向に伸びる長方形状の領域を囲むように枠状に設けられている。但し、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂの表示エリア１５０側には、開口が複数設けられ、枠状構造物１１０ｃの表示エリア１５０側には、開口が１つ設けられている。

第一隔壁部は、枠状構造物１１０ａに接続されている。すなわち、第一隔壁部及び枠状構造物１１０ａは一体的に形成されており、第一隔壁部で区画された領域（上下方向に隣接する絵素領域１４０Ｒが配置された溝、第一区画領域）は、枠状構造物１１０ａの内部に接続されている。同様に、第二隔壁部は、枠状構造物１１０ｂに接続されている。すなわち、第二隔壁部及び枠状構造物１１０ｂは一体的に形成されており、第二隔壁部で区画された領域（上下方向に隣接する絵素領域１４０Ｇが配置された溝、第二区画領域）は、枠状構造物１１０ｂの内部に接続されている。また、第三隔壁部は、表示エリア１５０外に形成された枠状構造物１１０ｃに接続されている。すなわち、第三隔壁部及び枠状構造物１１０ｃは一体的に形成されており、第三隔壁部で区画された領域（上下方向に隣接する絵素領域１４０Ｂが配置された溝、第三区画領域）は、枠状構造物１１０ｃの内部に接続されている。

枠状構造物１１０ａ内にＲの発光材料を含む塗液（第一塗液）を塗布した場合、塗液は、枠状構造物１１０ａ内を広がるとともに、毛細管現象により、枠状構造物１１０ａの開口部から第一区画領域へと濡れ広がる。これにより、絵素領域１４０ＲにＲの発光材料を含む塗液が塗布される。同様に、枠状構造物１１０ｂ内にＧの発光材料を含む塗液（第二塗液）を塗布した場合も、塗液は、枠状構造物１１０ｂ内を広がるとともに、毛細管現象により、枠状構造物１１０ｂの開口部から第二区画領域へと濡れ広がる。これにより、絵素領域１４０ＧにＧの発光材料を含む塗液が塗布される。また、枠状構造物１１０ｃ内にＢの発光材料を含む塗液（第三塗液）を塗布した場合も、塗液は、枠状構造物１１０ｃ内を広がるとともに、毛細管現象により、枠状構造物１１０ｃの開口部から第三区画領域へと濡れ広がる。これにより、絵素領域１４０ＢにＢの発光材料を含む塗液が塗布される。このように、本実施例では、毛細管現象を利用して、画素を構成する全ての色の絵素領域を塗り分けることができる。

また、各枠状構造物の内部に注入された塗液は、各隔壁部によって区画された領域内を毛細管現象によって濡れ広がることで、同色の絵素領域間で塗布量が均一化されることから、同色の絵素領域間で、塗液により形成された膜の膜厚がばらつくのを抑制することができる。

このように、本実施例では、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂをそれぞれ表示エリア１５０の対向する２辺に沿って形成し、それらから互い違いに表示エリア１５０に溝を延ばすことによって、２色の絵素領域を塗り分ける。

他方、枠状構造物１１０ｃは、表示エリア１５０の枠状構造物１１０ａ、１１０ｂのいずれかに面した辺と直交する辺に沿って形成し、そこから表示エリア１５０に向かって蛇行した形状の溝を延ばすことにより、残り１色の絵素領域を塗布している。

次に、本発明の実施例１に係る有機ＥＬ表示装置１００の製造方法について説明する。

まず、アモルファスシリコン膜や多結晶シリコン膜で作製されたＴＦＴ２７０がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板２００上に、アクリル樹脂等の感光性樹脂を略２μｍの厚さで塗布し、露光、現像及び焼成を行って層間絶縁膜２１０を形成した。次に、層間絶縁膜２１０上に、スパッタリング法によってＩＴＯ膜を１００ｎｍの膜厚で形成した。

次いで、フォトリソグラフィ技術を使用し、塩化第二鉄水溶液をエッチング液として、ＩＴＯ膜のパターニングを行い、各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂ毎に区切られた第一の電極２５０を形成した。この第一の電極２５０は、陽極として機能し、平坦化層の機能を有する層間絶縁膜２１０によって薄膜トランジスタ（ＴＦＴ２７０）と分離されており、層間絶縁膜２１０に穿たれたコンタクトホールを通して、その下のマトリクス状に形成された薄膜トランジスタ２７０に各々接続されている。

次に、第一の電極２５０を形成したＴＦＴ基板２００上に、感光性アクリル樹脂を、厚さが略１μｍとなるように、スピンコート法で塗布した後、露光、現像及び焼成を行って、エッジカバー２４０を形成した。このとき、エッジカバー２４０は第一の電極２５０の端部を被覆するように形成した。なお、エッジカバー２４０の材料は、絶縁性の材料であれば特に限定されず、感光性アクリル樹脂の他に、感光性ポリイミド樹脂や感光性ノボラック樹脂等を使用することもできる。また、感光性アクリル樹脂の１つとしては、ＪＳＲ株式会社製のオプトマーシリーズ等が挙げられ、感光性ポリイミド樹脂の１つとしては、東レ株式会社製のフォトニースシリーズ等が挙げられる。

次いで、感光性樹脂のドライフィルムをＴＦＴ基板２００に熱圧着した後、露光、現像及び焼成を行って、エッジカバー２４０上に隔壁１２０を形成するとともに、隔壁１２０と一体的に枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃを形成した。このように、隔壁１２０及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃを同一工程で（同時に）に形成することにより、製造工程を簡略化することができる。この隔壁１２０及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの厚さ（高さ）は２０μｍとした。なお、感光性樹脂のドライフィルムの１つとしては、化薬マイクロケム株式会社のＳＵ－８シリーズ等が挙げられる。これにより、隔壁１２０は、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂを色毎に囲むように形成され、隔壁１２０の絵素領域１４０Ｒを囲む部分（第一隔壁部）は、枠状構造物１１０ａに接続され、隔壁１２０の絵素領域１４０Ｇを囲む部分（第二隔壁部）は、枠状構造物１１０ｂに接続され、隔壁１２０の絵素領域１４０Ｂを囲む部分（第三隔壁部）は、枠状構造物１１０ｃに接続された。すなわち、絵素領域１４０Ｒが上下方向に複数配置された帯状の溝（第一隔壁部によって区画された領域）は、枠状構造物１１０ａの内部に接続され、画素領域１４０Ｇが上下方向に複数配置された帯状の溝（第二隔壁部によって区画された領域）は、枠状構造物１１０ｂの内部に接続され、絵素領域１４０Ｂが上下方向に複数配置された帯状の溝（第三隔壁部によって区画された領域）は、枠状構造物１１０ｃの内部に接続された。なお、隔壁１２０及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃのテーパ角は８５°であった。すなわち、隔壁１２０及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃは、順テーパ形状であった。

この後、ＵＶオゾンにＴＦＴ基板２００表面を２分間晒すことにより、第一の電極２５０表面の不要な不純物を分解除去するとともに、第一の電極２５０、エッジカバー２４０及び隔壁１２０に親液性を付与した。この処理により、第一の電極２５０、エッジカバー２４０及び隔壁１２０の水との接触角は３０°以下となった。また、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの水との接触角も３０°以下となった。

なお、上記各部材の水との接触角は、塗液の粘度及び表面張力を考慮して適宜設定することができるが、通常、６０°以下（より好適には、３０°以下）とすればよい。一方、６０°を超えると、絵素領域に塗液が充分に充填されず、塗布不良となることがある。

各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂのピッチ（隔壁等の非発光領域を含む領域のサイズ）は、２４０μｍ（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向）×６０μｍ（隔壁１２０に垂直な方向、すなわち左右方向）とし、第一の電極２５０の露出部（すなわち発光領域）のサイズは、１９０μｍ（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向）×３０μｍ（隔壁１２０に垂直な方向、すなわち左右方向）とした。また、隔壁１２０の幅（左右方向の長さ）は２０μｍとし、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの壁部分の幅も２０μｍとした。また、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂで囲まれた領域のサイズは、上下方向３ｍｍ×左右方向３８ｍｍとし、枠状構造物１１０ｃで囲まれた領域のサイズは、上下方向３８ｍｍ×左右方向３ｍｍとした。また、隔壁１２０の上下方向の長さは３７．７ｍｍとした。本実施例の有機ＥＬ表示装置１００の画面サイズは上下方向３６ｍｍ×左右方向２８．８ｍｍであり、解像度は１０６ｐｐｉである。

なお、隔壁１２０の幅及び高さは、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂのサイズや塗液の塗布量、隔壁１２０のアスペクト比（高さと幅の比）等を考慮して適宜設定することができるが、幅は、通常、５～１００μｍ（より好適には２０～５０μｍ）程度とすればよく、高さは、通常、５～１００μｍ（より好適には２０～５０μｍ）程度とすればよい。幅が５μｍ未満であると、パターン形成不良が発生しやすいばかりでなく、塗液が隔壁１２０を越え、他の領域に浸入することで混色を招くおそれがあり、一方、１００μｍを超えると、各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂの発光領域を形成する余地が小さくなるおそれがある。高さが５μｍ未満であると、塗液が隔壁１２０を越え、他の領域に浸入することで混色を招くおそれがあるばかりか、各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに充分な塗布量が保持できなくなり、所望の膜厚の有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを得ることができないおそれがあり、一方、１００μｍを超えると、塗液の乾燥後に隔壁１２０に付着する機能性材料層が多くなり、所望の膜厚の有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを得ることができないおそれがある。

また、隔壁１２０のアスペクト比は、高さを幅で割った値として、通常、２０以下（より好適には２以下）程度とすればよい。アスペクト比が２０を超えると、膜の剥がれが発生しやすく、パターン形成不良が発生しやすい。

また、隔壁１２０で囲まれた領域の幅（隔壁１２０に垂直な方向、すなわち左右方向の長さ）は、絵素サイズ等を考慮して適宜設定することができるが、毛細管現象が発生する幅以下であることが好ましい。より具体的には、隔壁１２０で囲まれた領域の幅は、通常、２０～２００μｍ（より好適には４０～１００μｍ）程度とすればよい。２０μｍ未満であると、塗液から形成された機能性材料層の膜厚が絵素内で不均一になるおそれがあり、一方、２００μｍを超えると、毛細管現象が弱くなり、絵素領域への塗液の充填に要するタクトタイムが長くなるおそれがある。

また、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの幅及び高さは、パネルサイズや塗液の塗布量、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂのアスペクト比（高さと幅の比）等を考慮して適宜設定することができるが、幅は、通常、５～５００μｍ（より好適には２０～５０μｍ）程度とすればよく、高さは、通常、５～１００μｍ程度とすればよい。幅が５μｍ未満であると、パターン形成不良が発生しやすいばかりでなく、塗液が枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃを越えて枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの外に溢れ出すおそれがあり、一方、５００μｍを超えると、額縁領域が大きくなり、パネル外形設計に支障をきたすおそれがある。高さが５μｍ未満であると、塗液が枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃを越えて枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの外に溢れ出すおそれがあり、一方、１００μｍを超えると、塗液の乾燥後に枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃに付着する機能性材料層が多くなり、所望の膜厚を得ることができないおそれがある。

また、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃのアスペクト比（高さを幅で割った値）は、通常、２０以下（より好適には２以下）程度とすればよい。アスペクト比が２０を超えると、膜の剥がれが発生しやすく、パターン形成不良が発生しやすい。

また、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃで囲まれた領域の幅（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向の長さ；縦幅）は、パネルサイズや、表示エリア１５０のサイズ、塗液の塗布量等を考慮して適宜設定することができるが、塗布装置に高精度な位置合わせを要しない幅以上であることが好ましく、また、毛細管現象を効果的に発現する観点からは枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃで囲まれた領域の幅は、隔壁１２０で囲まれた領域の幅よりも大きいことが好ましい。より具体的には、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃで囲まれた領域の幅は、通常、０．５～２０ｍｍ（より好適には２～１０ｍｍ）程度とすればよい。０．５ｍｍ未満であると、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂで囲まれた領域内に塗液が正確に塗布できないおそれがあり、一方、２０ｍｍを超えると、額縁領域が大きくなり、パネル外形設計に支障をきたすおそれがある。

次いで、正孔輸送材料としてＮ，Ｎ′－ジ（ナフタレン－１－イル）－Ｎ，Ｎ′－ジフェニル－ベンジジン（ＮＰＤ）を用い、エッジカバー２４０及び第一の電極２５０の上に、真空蒸着法により正孔注入層兼正孔輸送層（正孔注入層及び正孔輸送層）２２０を積層した。正孔注入層兼正孔輸送層２２０の膜厚は５０ｎｍとした。

次に、有機発光層２３０Ｒ（Ｒの有機発光層）の発光材料としてポリフルオレン系赤色発光材料を使用し、溶媒として芳香族系の混合溶媒を使用し、Ｒの発光層溶液（有機発光層２３０Ｒの材料を含む組成物、Ｒの塗液、第一塗液）を作製した。Ｒの発光層溶液の粘度は略２０ｍＰａ・ｓとし、表面張力を略４０ｍＮ／ｍに調製した。このＲの発光層溶液を枠状構造物１１０ａ内にインクジェット法を用いて塗布した。枠状構造物１１０ａ内に溜められたＲの発光層溶液（充填液１３０ａ）は、隔壁１２０が親液性を有しているため、毛細管現象によって容易に絵素領域１４０Ｒに充填（塗布）された。このとき、絵素領域１４０Ｇ、１４０Ｂは、絵素領域１４０Ｒとは隔壁１２０で隔絶されているため、充填液１３０ａが浸入することはなかった。一方、枠状構造物１１０ａで囲まれた領域内には、充填液１３０ａが残り、後述する乾燥工程後、有機発光層２３０Ｒと同一の材料が残ることになる。

一方、有機発光層２３０Ｇ（Ｇの有機発光層）の発光材料としてポリフルオレン系緑色発光材料を使用し、溶媒として芳香族系の混合溶媒を使用し、Ｇの発光層溶液（有機発光層２３０Ｇの材料を含む組成物、Ｇの塗液、第二塗液）を作製した。Ｒの発光層溶液と同様、Ｇの発光層溶液の粘度は略２０ｍＰａ・ｓとし、表面張力を略４０ｍＮ／ｍに調製した。このＧの発光層溶液を枠状構造物１１０ｂ内にインクジェット法を用いて塗布した。枠状構造物１１０ｂ内に溜められたＧの発光層溶液（充填液１３０ｂ）は、Ｒの発光層溶液と同様に、毛細管現象によって、絵素領域１４０Ｇに充填（塗布）された。このとき、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｂは絵素領域１４０Ｇとは隔壁１２０で隔絶されているため、充填液１３０ｂが浸入することはなかった。一方、枠状構造物１１０ｂで囲まれた領域内には、充填液１３０ｂが残り、後述する乾燥工程後、有機発光層２３０Ｇと同一の材料が残ることになる。

さらに、有機発光層２３０Ｂ（Ｂの有機発光層）の発光材料としてポリフルオレン系青色発光材料を使用し、溶媒を芳香族系の混合溶媒として使用し、Ｂの発光層溶液（有機発光層２３０Ｂの材料を含む組成物、Ｂの塗液、第三塗液）を作成した。Ｂの発光層溶液の粘度は略１０ｍＰａ・ｓとし、表面張力を略４０ｍＮ／ｍに調製した。このＢの発光層溶液を枠状構造物１１０ｃ内にインクジェット法を用いて塗布した。枠状構造物１１０ｃ内に溜められたＢの発光層溶液（充填液１３０ｃ）は、Ｒ及びＧの発光層溶液と同様に、毛細管現象によって、絵素領域１４０Ｂに充填（塗布）された。枠状構造物１１０ｃの内部と第三隔壁部で区画された領域とは１つの開口で接続されているため、充填液１３０ｃは、枠状構造物１１０ｃに近い側から順次充填（塗布）された。このとき、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇは絵素領域１４０Ｂとは隔壁１２０で隔絶されているため、充填液１３０ｃが浸入することはなかった。一方、枠状構造物１１０ｃで囲まれた領域内には、充填液１３０ｃが残り、後述する乾燥工程後、有機発光層２３０Ｂと同一の材料が残ることになる。

このように、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃと、隔壁１２０とは、塗液が所定位置よりも拡がるのを堰き止める堰き止め部材（仕切り部材）として機能する。また、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃは、自身が囲む領域内に機能性材料を含む塗液を溜めるとともに、毛細管現象等によって生じる塗液の流動により、開口部を通して隔壁１２０によって区画された領域内に該塗液を充填する（流し出す）ための囲いとして機能する。

その後、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに発光層溶液が塗布されたＴＦＴ基板２００を、１Ｐａ以下の真空下、３０分間乾燥させた後、常圧の窒素雰囲気下、２００℃で６０分間焼成して、発光層溶液中の溶媒成分を乾燥除去することにより、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを形成した。有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの膜厚はいずれも５０ｎｍとした。

次いで、一般的な技術を用いて、正孔注入層と、正孔輸送層２２０と、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂとが形成されたＴＦＴ基板２００上に、ＢａとＡｌとをこの順に積層して第二の電極２６０を形成した。

上記の手順によって製造した有機ＥＬ表示装置１００によれば、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの内部に塗液を吐出（注入）することで、毛細管現象によって、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂにその塗液が充填（塗布）され、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂが形成される。これにより、混色のない有機ＥＬ表示装置を簡便に作製することができた。他方、従来の有機ＥＬ表示装置のように、蒸着マスクを用いて各色の絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂを真空蒸着法にて形成する場合、生産適用性の点で種々の課題があった。例えば、蒸着マスクと基板との高精度な位置合わせが必要であったり、大型の基板に対して使用される蒸着マスクは重量が著しく大きくなるため、位置合わせが困難になるだけでなく、装置の重量耐性の問題が発生したり、蒸着マスクを切り替える際の労力が増す一方、安全性が確保し難くなるといった課題があった。また、蒸着マスクと基板との位置合わせに高精度が求められるという点や、蒸着ボケを極小化する技術（異なる色の絵素間の境界を明確にする技術）が必要となるという点を考慮すると、蒸着マスクを用いて高精細な有機ＥＬ表示装置を作製することは困難であった。しかしながら、本実施例の手順に従えば、毛細管現象により、各色の絵素領域を容易に塗り分けることが可能であるので、上記のような課題は一切発生しない。したがって、なんら高度な技術を用いることなく、大型の基板及び高精細な有機ＥＬ表示装置についても作製が可能である。

一方、各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに個々にインクジェット法にて各色の発光層溶液を充填し、各有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを形成していく方法は、塗液量のバラツキにより、絵素領域毎に有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの膜厚バラツキが発生することがあった。また、高精細な有機ＥＬ表示装置に対しては高精度な吐出位置の制御が要求されるために、隣接する絵素領域への溶液の漏出や隣接する絵素領域間での混色が発生することがあった。しかしながら、本実施例の手順に従えば、毛細管現象により、３色の絵素領域（絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂ）に発光層溶液が充填（塗布）され、更に、第一～第三区画領域内に充填される塗液量が毛細管現象によって平均化されるため、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの膜厚が同色の絵素領域間でばらつくことがない。また、充分に広く、かつ、表示エリア１５０外に形成された枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃのみにインクジェット法で塗液を吐出するので、吐出位置の高精度な制御は必要なく、混色の恐れもない。

また、本実施例では、枠状構造物１１０ｃ（第三枠状構造物）を利用して形成した絵素領域１４０Ｂは、１画素に対して２つ（２絵素）配置される。Ｂは一般的に他の色に比べて輝度効率、寿命の点で低特性であるため、１絵素あたりの輝度を低減させ、結果的に寿命を向上することができる。このように、第三枠状構造物を利用して形成する絵素領域の色は、１画素がＲＧＢで構成される場合、Ｂであることが好ましい。

また、本実施例では、有機発光層２３０Ｂの材料を含む溶液（充填液１３０ｃ）の粘度を、有機発光層２３０Ｒの材料を含む溶液（充填液１３０ａ）の粘度及び有機発光層２３０Ｇの材料を含む溶液（充填液１３０ｂ）の粘度よりも低くした。以下、この理由について説明する。

枠状構造物１１０ａは、絵素領域１４０Ｒで構成された複数の列のそれぞれに対して開口部を有しており、また、枠状構造物１１０ｂは、絵素領域１４０Ｇで構成された複数の列のそれぞれに対して開口部を有している。したがって、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇに塗液を充填する工程では、塗液が移動する距離が短い。これに対し、枠状構造物１１０ｃは、絵素領域１４０Ｂで構成された複数の列に対して１つの開口部しか有していない。したがって、絵素領域１４０Ｂに塗液を充填する工程では、塗液が移動する距離が長いため、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇに塗液を充填する工程と比較して、タクトタイム（充填時間）が長くなる。しかしながら、本実施例では、充填液１３０ｃの粘度が低いため、タクトタイムが長くなるのを抑制することができた。このように、蛇行した形状を有する領域に充填する塗液は、線状の領域に充填する塗液よりも、粘度が低いことが好ましい。但し、タクトタイムが許容されうるのであれば、これに限るものではなく、例えば全ての塗液の粘度を同一にしたり、線状の領域に充填する塗液（例えば、有機発光層２３０Ｒの材料を含む溶液）の粘度を最も低くすることもできる。

なお、本実施例では、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの内部に塗液を溜める方法として、インクジェット法を用いたが、塗液を溜める方法であれば特に限定されない。例えば、ノズルコート法、ディスペンサを用いる方法や局所領域へのスプレー塗布法等が適用できる。

なお、本実施例では、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂのみを毛細管現象により形成したが、これに限らず、他の機能性材料層にも適用することができる。例えば、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂと同様の手順で全ての絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに正孔輸送層溶液を充填（塗布）して正孔輸送層を形成した後、上述の方法により、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを正孔輸送層上に積層することもできる。このように、焼成等を行うことで、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ内に注入した塗液の溶媒成分を除去すれば、更に別の塗液を枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ内に注入することができる。但し、この場合、先に形成した膜（例えば、正孔輸送層）が後に充填する溶液（例えば、発光材料を含む溶液）に再溶解しないよう、後に充填する溶液に使用する溶媒を選択したり、架橋反応等によって先に形成した膜の不溶化処理を行うことが好ましい。

また、トップエミッション構造において、マイクロキャビティ（微小共振器）効果を得るためには、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに配置された機能性材料層の総膜厚を色毎に異ならせる必要が生じる場合がある。ここで、マイクロキャビティ効果とは、有機ＥＬ素子の陽極及び陰極の間に微小共振器構造を形成することで、色純度の向上や正面輝度効率の向上が生じる効果であり、最適なマイクロキャビティ効果を得ることができる総膜厚は色毎に異なっている。それを実現するためには、従来においては、例えば、絵素領域の色毎に機能性材料層の総膜厚を変化させるために、正孔輸送層等の機能性材料層を絵素領域の色毎に異なる膜厚で個別に形成する必要があった。したがって、正孔輸送層等の形成においても、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂを色毎に塗り分けて形成する時と同じ課題が生じるばかりか、真空蒸着法により形成する場合には、マスクを変更するか、マスク位置をずらして各色ごとに形成する必要があるため、膜形成回数が１回から２回ないし３回に増える問題があった。一方、本実施例の方法によれば、隔壁１２０によって異なる色の絵素領域間が区画されているので、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃに吐出する溶液の濃度や液量を調整することで、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに配置された機能性材料層の膜厚を色毎に容易に異ならせることができる。また、各枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃに吐出する工程は変わらないため、膜形成回数が増えることもない。

また、本実施例では、正孔注入層及び正孔輸送層（正孔注入層兼正孔輸送層）２２０と、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂとを機能性材料層として使用したが、その他に電子輸送層やキャリアブロッキング層等の層を追加積層することが可能である。更には、機能性材料層として有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂのみを成膜してもよい。その際、全ての機能性材料層に対して、毛細管現象による充填（塗布）を行えば、機能性材料層全てを毛細管現象によって積層することもできる。

また、本実施例では、隔壁１２０を順テーパ形状とした。これにより、第二の電極２６０と配線とが隔壁１２０によって断線することを防止することができた。しかしながら、隔壁１２０は、逆テーパ形状であってもよい。隔壁１２０が逆テーパ形状である場合、充填液が隔壁１２０を乗り越えてしまう危険性が減るばかりでなく、毛細管現象もより強く発現する効果が見込める。但し、逆テーパ形状の隔壁１２０によって第二の電極２６０が配線と断絶してしまうことがあるので、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに配置される第二の電極２６０（第二の電極２６０の隔壁１２０内の部分）と配線との電気的接続を行う方法を別途設ける必要がある。

また、本実施例では、第一の電極２５０、エッジカバー２４０及び隔壁１２０の水との接触角は３０°以下としたが、これに限らず、毛細管現象による塗液の充填（塗布）ができる接触角であればよい。

また、本実施例では、有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの発光材料としてポリフルオレン系発光材料を使用したが、これに限らず、他の機能性材料（発光材料）を使用することが可能である。

また、本実施例では、隔壁１２０を感光性樹脂のドライフィルムにて形成したが、これに限らず、例えば窒化シリコン等の無機膜をＣＶＤ等の方法を用いて成膜した後、その膜をパターニングすることでも形成することが可能である。また、隔壁材料として導電性材料を用いることも可能である。

また、本実施例では、アクティブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置１００を示したが、ＴＦＴが形成されていないパッシブマトリクス型の有機ＥＬ表示装置１００においても同様に実施が可能である。

なお、図３に示したように、本実施例では、枠状構造物１１０ｃと第一隔壁部との間に空間を設けているが、この空間は、必ずしも設ける必要はない。すなわち、枠状構造物１１０ｃの一部が、第一隔壁部として機能していてもよい。但し、この空間がある場合、もし枠状構造物１１０ｃに塗液を吐出する際に枠状構造物１１０ｃから第一隔壁部側へ吐出位置が外れてしまっても、空間内に塗液が保持されるだけで、第一隔壁部で区画された絵素領域１４０Ｒに充填液１３０ｃが浸入することはない。すなわち、この空間によって吐出位置の不良による混色を防ぐことができる。同様に、枠状構造物１１０ｃと枠状構造物１１０ａ、１１０ｂとの間に空間を設けることで上記のような好ましい効果を得ることもできる。

（実施例２）
次に、実施例２の有機ＥＬ表示装置について、図５を用いて詳細に説明する。図５は、実施例２の有機ＥＬ表示装置の表示エリア周辺を示す平面模式図である。

図５に示すように、本実施例の有機ＥＬ表示装置１００は、表示エリア１５０の左側に、枠状構造物１１０ｃ１が配置され、表示エリア１５０の右側に、枠状構造物１１０ｃ２が配置されている。枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２は、いずれも、第三枠状構造物に相当する。このように、本実施例では、実施例１では１つしか配置されていなかった第三枠状構造物を、２つ配置している。その他の構成については、実施例１と同一である。

第三区画領域は、実施例１と同様に、第一区画領域及び第二区画領域の輪郭線にそって蛇行した形状を有する。また、枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２は、それぞれ表示エリア１５０側に開口部を１つ有する。これにより、第三区画領域は、枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２の内部に接続されている。枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２の幅及び長さは実施例１の枠状構造物１１０ｃと同じである。

実施例１と同様にして、Ｒ及びＧの発光層材料をそれぞれ絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇに充填（塗布）した。次に、実施例１と同じＢの発光層材料を含む塗液（充填液１３０ｃ）を作成し、その塗液を枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２の内部にインクジェット法を用いて塗布した。この時、枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２への塗布量は各々、実施例１の場合の半分の量とした。枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２内に溜められた充填液１３０ｃは、毛細管現象によって、絵素領域１４０Ｂに充填（塗布）された。第三隔壁部で区画された領域には、枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２の内部から塗液が流れ込むため、表示エリア１５０の左右方向から塗液が順次充填（塗布）された。このとき、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇは絵素領域１４０Ｂとは隔壁１２０で隔絶されているため、充填液１３０ｃが浸入することはなかった。

以上のような手順で作製した有機ＥＬ表示装置によれば、第三区画領域（絵素領域１４０Ｂが配置された領域）に対して、第三枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２から塗液を注入することができるため、絵素領域１４０Ｂに塗液を充填（塗布）するために要する時間が実施例１と比較しておよそ半減した。これにより、タクトタイムをより短くすることができ、発光層溶液を充填（塗布）する工程での溶媒の乾燥に起因する有機発光層２３０Ｒ、２３０Ｇ、２３０Ｂの膜厚のばらつきをより抑制することができた。また、総合的な製造時間の短縮も可能となった。

なお、本実施例では第三枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２を同一の大きさで形成したが、これに限らず、有機ＥＬ表示装置の設計上で許容されうる限り、大きさを各々変えることができる。

（実施例３）
次に、実施例３の有機ＥＬ表示装置について、図６、７を用いて詳細に説明する。
図６は、実施例３の有機ＥＬ表示装置の表示エリア周辺を示す平面模式図である。また、図７は、図６中のＢ１－Ｂ２断線における断面模式図である。

図６に示すように、１つの画素（図６中、Ｐを付した領域）は、Ｒ／Ｇ／Ｂで構成されている。行方向に隣接する画素の間には、第三区画領域の絵素領域１４０Ｂが配置されていない部分（接続ライン）が配置されている。その他の構成については、実施例１と同一である。

実施例１と同様に、層間絶縁膜２１０まで形成された基板２００に対して、実施例１と同様の方法で、ＩＴＯを用いて第一の電極２５０を形成した。但し、この際、接続ラインが配置される領域には、第一の電極２５０を形成しなかった。次いで、実施例１と同様の方法でエッジカバー２４０を形成したが、この際、接続ラインが配置される領域を覆うようにエッジカバー２４０を形成した。

次いで、隔壁１２０を実施例１と同様の方法で形成した。但し、この際、接続ラインを区画する隔壁も同時に形成した。上下方向に隣接する絵素領域１４０Ｂで構成された列は、横並びに配置されており、接続ラインは、その列の間に配置される。すなわち、絵素領域１４０Ｂで構成された列が配置された領域同士が、接続ラインによって接続されている。接続ラインの長さ（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向）は、複数の絵素領域１４０Ｂを区画する隔壁（第三隔壁部）と同一とし、幅（接続ラインを区画する隔壁間距離）は１０μｍとした。また接続ラインを区画する隔壁の幅は２０μｍとした。なお、各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂのピッチ（隔壁等の非発光領域を含む領域のサイズ）は、２４０μｍ（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向）×７０μｍ（隔壁１２０に垂直な方向、すなわち左右方向）とし、第一の電極２５０の露出部（すなわち発光領域）のサイズは、１９０μｍ（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向）×４０μｍ（隔壁１２０に垂直な方向、すなわち左右方向）とした。他の各構成要素の幅、長さは実施例１と同じであり、解像度も同じく１０６ｐｐｉである。

以上のように隔壁１２０を形成した基板２００に対し、実施例１と同様の方法を用いて有機ＥＬ表示装置を作製した。但し、Ｂの発光層材料として実施例１と同じ発光層溶液を作成し、その発光層溶液を枠状構造物１１０ｃに塗布した際、充填液１３０ｃは接続ラインを経て全ての絵素領域１４０Ｂに充填（塗布）された。

上記のような手順によって作製された有機ＥＬ表示装置は、毛細管現象により発光層を各絵素領域に個別に形成しているために、実施例１で示したような利点を有している。それと共に、１つの画素には絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂが１つずつ配置されており、これは従来の有機ＥＬ表示装置の画素と同じ構成であるため、従来用いられている駆動方法や制御方法を適用することができる。

さらに、接続ラインの幅は狭く形成されているため、各絵素の発光領域を広くすることができる。また、毛細管現象は幅が狭いほどより強く発現することから、接続ラインを設けることで、絵素領域１４０Ｂに塗液を充填（塗布）する工程のタクトタイムを短縮することができる。

なお、本実施例では第三枠状構造物１１０ｃを表示エリア１５０の片側に形成したが、無論のこと、実施例２のように両側に形成することも可能である。

また、本実施例では、接続ラインが配置される領域にエッジカバー２４０を形成したが、接続ラインが配置される領域にはエッジカバー２４０を形成しなくてもよい。

（実施例４）
次に、実施例４の有機ＥＬ表示装置について、図８を用いて詳細に説明する。
図８は、実施例４の有機ＥＬ表示装置の表示エリア周辺を示す平面模式図である。図８中のＰを付した領域は、１つの画素を示している。

図８に示すように、本実施例の有機ＥＬ表示装置１００は、表示エリア１５０と枠状構造物１１０ｃ１との間に、枠状構造物１１０ｄ１が配置され、表示エリア１５０と枠状構造物１１０ｃ２との間に枠状構造物１１０ｄ２が配置されている。また、表示エリア１５０内には、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂ、１４０Ｙがマトリクス状に配置されている。絵素領域１４０Ｙは、黄色（Ｙ）の絵素領域である。このように、本実施例では、１つの画素が４色の絵素で構成され、各絵素はＲ／Ｙ／Ｂ／Ｇ／Ｂ／Ｙの順に配置されている。その他の構成については、実施例２と同一である。

第四隔壁部（隔壁１２０の絵素領域１４０Ｙを区画する部分）で区画された領域（第四区画領域）は、第三隔壁部で区画された領域（第三区画領域）の輪郭線に沿って蛇行した形状を有する。また、枠状構造物１１０ｄ１、１１０ｄ２は、それぞれ表示エリア１５０側に開口部を１つ有する。これにより、第四区画領域は、枠状構造物１１０ｄ１、１１０ｄ２の内部に接続されている。

隔壁１２０、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ１、１１０ｃ２は、実施例２と同様の方法で形成することができる。枠状構造物１１０ｄ１、１１０ｄ２の幅及び長さは、それぞれ枠状構造物１１０ｃ１、１１０ｃ２と同じとした。また、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂの長さは、実施例１や２と同じとしても良いが、本実施例では、表示エリア１５０の両側に枠状構造物１１０ｄ１、１１０ｄ２を形成した分（すなわち枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ枠状構造物で囲まれた領域の幅３ｍｍ及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂの壁部分の幅２０μｍを足したものの２倍）だけ延長して作製した。

各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂ、１４０Ｙのピッチ（隔壁１２０等の非発光領域を含む領域のサイズ）は、３６０μｍ（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向）×６０μｍ（隔壁１２０に垂直な方向、すなわち左右方向）とし、第一の電極２５０の露出部（すなわち発光領域）のサイズは、３１０μｍ（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向）×３０μｍ（隔壁１２０に垂直な方向、すなわち左右方向）とした。また、隔壁１２０の幅（左右方向の長さ）は２０μｍとし、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ、１１０ｄの壁部分の幅も２０μｍとした。また、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂで囲まれた領域のサイズは、上下方向３ｍｍ×左右方向４４ｍｍとし、枠状構造物１１０ｃ、１１０ｄで囲まれた領域のサイズは、上下方向３８ｍｍ×左右方向３ｍｍとした。また、隔壁１２０の上下方向の長さは３７．７ｍｍとした。本実施例の有機ＥＬ表示装置１００の画面サイズは上下方向３６ｍｍ×左右方向２８．８ｍｍであり、解像度は７０ｐｐｉである。

実施例２と同様にして、Ｒ、Ｇ、Ｂの発光層材料を充填（塗布）した後、Ｙの発光層材料としてポリフルオレン系黄色発光材料を使用し、溶媒を芳香族系の混合溶媒として発光層溶液を作成した。Ｙの発光層溶液の粘度は略１０ｍＰａ・ｓとし、表面張力を略４０ｍＮ／ｍに調製した。その発光層溶液を枠状構造物１１０ｄ１、１１０ｄ２内にインクジェット法を用いて塗布した。この時、塗布量は実施例２のＢの発光層溶液と同一の量とした。枠状構造物１１０ｄ１、１１０ｄ２内に溜められた発光層溶液（充填液１３０ｄ）は、毛細管現象によって、絵素領域１４０Ｙに充填（塗布）された。第四区画領域には、枠状構造物１１０ｄ１、１１０ｄ２の内部から塗液が流れ込むため、表示エリア１５０の左右方向から塗液が順次充填（塗布）された。このとき、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂは、絵素領域１４０Ｙとは隔壁１２０で隔絶されているため、充填液１３０ｄが浸入することはなかった。

以上のような手順で作製した有機ＥＬ表示装置によれば、１画素をＲ／Ｙ／Ｂ／Ｇ／Ｂ／Ｙで構成することができる。このように、Ｒ、Ｇ、Ｂに加えて、黄色発光するＹの絵素領域を形成することで、表現し得る色域が拡大し、より高品位の有機ＥＬ表示装置を実現し得た。

また、全ての発光層溶液を毛細管現象により充填（塗布）したので、Ｙの絵素領域を加えた有機ＥＬ表示装置においても、Ｙの発光層溶液を枠状構造物１１０ｄ１、１１０ｄ２に塗布する工程が増えるのみであり、何ら複雑な工程を追加する必要はなかった。したがって、本実施例の方法を用いれば、簡便かつ低コストで発光色の追加が可能となる。

なお、本実施例では、４色目の絵素領域を形成するための第四枠状構造物を２つ（枠状構造物１１０ｄ１、１１０ｄ２）形成したが、無論、実施例１の第三枠状構造物１１０ｃのごとく、表示エリア１５０の左右いずれかの片側に形成することも可能である。また、第四枠状構造物は、必ずしも表示エリア１５０の左右側に形成する必要もなく、第四枠状構造物と絵素領域１４０Ｙを区画する隔壁（第四隔壁部）を接続し、第四枠状構造物に発光層溶液を塗布することで、絵素領域１４０Ｙに発光層溶液を充填（塗布）でき得るのであれば、表示エリア１５０の上下方向など、任意の位置に第四枠状構造物を形成することができる。例えば、枠状構造物１１０ａの外側（表示エリア１５０から離れる側）に枠状構造物１１０ｄ１を形成すると共に、枠状構造物１１０ｃ１と枠状構造物１１０ａとの間に新たに区画された領域を形成し、その領域を介して枠状構造物１１０ｄの内部と第四隔壁部で区画された領域（絵素領域１４０Ｙが配置された領域）を接続することなどが考えられる。

また本実施例では、絵素領域１４０Ｙを追加し、１つの画素が４色の絵素で構成された場合について説明したが、無論これに留まらず、さらに幾つでも別の色の絵素を加えることができる。その場合、絵素領域１４０Ｙ及び枠状構造物１１０ｄ、１１０ｄ２を形成したのと同じ手順を用いればよい。例えば、第四区画領域の輪郭線に沿って蛇行した平面形状の領域（第五隔壁部で区画された領域）を形成し、その領域にＲ、Ｇ、Ｂ、Ｙ以外の色の絵素領域を形成すると共に、枠状構造物１１０枠状構造物ｄ１のさらに内側（表示エリア１５０側）に、その絵素領域を塗布するための第五枠状構造物を形成し、その内部を第五隔壁部で区画された領域に接続することなどが考えられる。本実施例の方法を用いれば、画素サイズ等の設計が許容される範囲の中で、１つの画素に含まれる絵素の発光色数を拡大することが可能となる。

なお、実施例２で説明した接続ラインを使用することにより、１つの画素に配置される絵素領域１４０Ｙを１つにすることもできる。

（実施例５）
次に、本発明の実施例５について、図９を用いて詳細に説明する。
図９は、実施例５の有機ＥＬ表示装置の表示エリア周辺を示す平面模式図である。図９中のＰ１、Ｐ２を付した領域は、１つの画素を示している。Ｐ１を付した画素は、左よりＲ／Ｂ／Ｇの順番に絵素が配置され、Ｐ２を付した画素は、逆にＧ／Ｂ／Ｒの順番に絵素が配置されている。このように、本実施例では、行方向に隣接する画素には、絵素が点対称に配置されている。

また、実施例１～４においては、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇは、１列毎に区画されていたのに対し、本実施例では、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇは、２列毎に区画されている。なお、絵素領域１４０Ｂは、実施例１、２及び４と同様に区画されている。その他の構成については実施例２と同一である。

各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂのピッチ（隔壁等の非発光領域を含む領域のサイズ）は、２４０μｍ（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向）×８０μｍ（隔壁１２０に垂直な方向、すなわち左右方向）とし、第一の電極２５０の露出部（すなわち発光領域）のサイズは、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇに対しては、１９０μｍ（隔壁１２０に沿う方向、すなわち上下方向）×６０μｍ（隔壁１２０に垂直な方向、すなわち左右方向）とし、絵素領域１４０Ｂに対しては、１９０μｍ×５０μｍとした。また、隔壁１２０の幅（左右方向の長さ）は２０μｍとした。その他の寸法に関しては、実施例１と同じであり、解像度も実施例１と同じく１０６ｐｐｉである。

製造方法については、実施例２と同様の方法を用いることができる。

以上のような手順で作製した有機ＥＬ表示装置によれば、図９に示したように、行方向に隣接する画素間で絵素配置が点対称となるものの、１つの画素には、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂが１つずつ配置されている。これは、従来の有機ＥＬ表示装置の画素と同じ構成であるため、従来用いられている駆動方法や制御方法を適用することができる。そのため、複雑な駆動方法や制御方法による表示品位の低下や製造コストの増加を抑制することが可能となる。

また、実施例３で説明した接続ラインを使用することなく、１つの画素に、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂを１つずつ配置することができる。これにより、実施例３と比較して、表示エリア１５０内の表示に寄与しない領域を少なくすることができる。

（実施形態２）
図１０は、実施形態２のカラーフィルタ基板を示す断面模式図である。図１０に示すように、本実施形態のカラーフィルタ基板は、基板４００上に、遮光層（ＢＭ層）４１０と、隔壁１２０と、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂと、平坦化層４３０と、電極４４０とを基板４００側からこの順に積層した構造を有する。遮光層４１０は、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂが配置された絵素領域毎に開口部を有する。隔壁１２０は、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂ間を分離し、かつ、塗液（溶液）を保持するための部材である。また、隔壁１２０は、絶縁性を有している。平坦化層４３０は、カラーフィルタ基板の表面を平坦化するための部材である。着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂは、カラーフィルタとしての機能を有し、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂを通過した光は、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂでの吸収によって、適宜所望のスペクトルを有した光に変換される。また、電極４４０は、光を透過することが可能な透明電極である。

着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂの材料としては、顔料や染料を含む樹脂を用いることができる。

基板４００としては、透明性を有しているものであれば特に限定されず、ガラス基板やプラスチック基板等を用いることができる。

隔壁１２０としては、実施例１～５と同様の材料を用いることができる。

遮光層４１０及び平坦化層４３０の材料としては、一般的な材料を使用できる。

電極４４０としては、透明性を有している電極であれば特に限定されず、導電性金属酸化物（ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２等）を用いることができる。

（実施例６）
次に、本発明の実施例６のカラーフィルタ基板について、図１０を用いて詳細に説明する。
図１０は、実施例６のカラーフィルタ基板を示す断面模式図である。なお、本実施例のカラーフィルタ基板の平面模式図は、図３と同様である。

本実施例のカラーフィルタ基板１００は、図３で示すように、実施例１と同様に、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂが左からＲ／Ｂ／Ｇ／Ｂの順で配列され、垂直（上下）方向には、同色の絵素領域が配列されている。このように、本実施例のカラーフィルタ基板１００は、ストライプ配列のカラーフィルタ基板である。

また、図１０に示すように、基板４００上には、マトリクス状に設けられた各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂを囲むように遮光層４１０が形成されている。

遮光層４１０上には、実施例１と同様に、各色の絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂを色毎に分離する絶縁性の隔壁１２０が形成されている。そして、隔壁１２０の絵素領域１４０Ｒを囲む部分（第一隔壁部）には、枠状構造物１１０ａが接続され、隔壁１２０の絵素領域１４０Ｇを囲む部分（第二隔壁部）には、枠状構造物１１０ｂが接続され、隔壁１２０の絵素領域１４０Ｂを囲む部分（第三隔壁部）には、枠状構造物１１０ｂが接続されている。隔壁１２０及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの構造については実施例１と同様である。

第一隔壁部で区画された領域（第一区画領域）及び枠状構造物１１０ａ内には、着色層４２０Ｒ（Ｒの着色層４２０）が形成され、第二隔壁部で区画された領域（第二区画領域）及び枠状構造物１１０ｂ内には、着色層４２０Ｇ（Ｇの着色層）が形成され、第三隔壁部で区画された領域（第三区画領域）及び枠状構造物１１０ｃ内には、着色層４２０Ｂ（Ｂの着色層）が形成されている。

平坦化層４３０は、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂ及び隔壁１２０を覆うように形成され、電極４４０は、平坦化層４３０を覆うように形成されている。

このように、本実施例では、ストライプ状に溝が各色に対して形成されており、この溝で各色の絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂが分離している。また、枠状構造物１１０ａ内には、絵素領域１４０Ｒが配置された第一区画領域が接続され、枠状構造物１１０ｂ内には、絵素領域１４０Ｇが配置された第二区画領域が接続され、枠状構造物１１０ｃ内には、絵素領域１４０Ｂが配置された第三区画領域が接続されている。更に、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ内に塗液を注入することで、毛細管現象を用いて表示エリア１５０に塗液を充填（塗布）する。

次に、本実施例のカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。

まず、ガラス基板４００の上に感光性樹脂を２μｍの厚さで塗布し、遮光層４１０をフォトリソグラフィ技術により形成した。遮光層４１０用の感光性樹脂としては、例えば、東京応化工業社製のカラーフィルタ用顔料分散型ブラックレジストを用いることができる。遮光層４１０の平面パターンは、実施例１のエッジカバー２４０と同様であり（図３、４参照）絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂで構成された列毎に開口部を有する。なお、各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂのピッチは実施例１と同様である。

次に、実施例１と同様に、隔壁１２０を遮光層４１０の上に高さ２０μｍ、幅２０μｍで形成するとともに、高さ２０μｍ、幅２０μｍで枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃを形成した。

隔壁１２０及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃのパターンやサイズは、実施例１と同じである。また、本実施例において、隔壁１２０及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの好適なパターンやサイズについても、実施例１と同様に設定することができる。

上記のように形成した基板について、ＵＶオゾンに基板４００表面を２分間晒すことにより、各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂの開口部、遮光層４１０、隔壁１２０及び枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの表面に親液性を付与した。

この処理により、各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂの開口部、遮光層４１０及び隔壁１２０の水との接触角は３０°以下となった。また、図３の枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃの水との接触角も３０°以下となった。

次いで、実施例１と同様にして、着色層４２０Ｒの材料を含む塗液（図３の充填液１３０ａ）を、枠状構造物１１０ａから絵素領域１４０Ｒに充填した。同様に、着色層４２０Ｇの材料を含む塗液（図３の充填液１３０ｂ）を、枠状構造物１１０ｂから絵素領域１４０Ｇに充填した。同様に、着色層４２０Ｂの材料を含む塗液（図３の充填液１３０ｃ）を、枠状構造物１１０ｃから絵素領域１４０Ｂに充填した。その後、乾燥工程を経て、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂをそれぞれ形成した。より具体的には、塗液として、各々の色となるカラー顔料を重量分濃度１０％程度でメチルカルビトールに分散した溶液を使用した。また、各々の塗液を各絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに充填した後、基板４００を１Ｐａ以下の真空下、２００℃にて、６０分間乾燥させて、Ｒ、Ｇ及びＢの溶液（塗液）中の溶媒成分を乾燥除去することにより、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂを形成した。着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂの膜厚は全て略２μｍとした。

その後、隔壁１２０、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂの上に平坦化層４３０を形成した。平坦化層４３０の材料としては、例えば、東京応化工業社製のＬＣＤ用透明平坦化材料等を用いることができる。平坦化層４３０の材料を含む溶液を隔壁１２０の上部から１μｍの膜厚となるように、スロットコータにて塗布し、窒素雰囲気中にて２００℃で６０分間焼成することにより、平坦化層４３０を形成した。

最後に電極４４０として、マスクを用いたスパッタ法により、所望の位置のみにＩＴＯからなる透明導電膜を形成した。ＩＴＯからなる透明導電膜の膜厚は１００ｎｍとした。

なお、図示はしていないが、本実施例では、上述の構成の他、液晶セルの厚み（電極間距離）を規定するためのフォトスペーサを電極４４０上に形成したり、領域により液晶セルの厚みを変更するための構造物を平坦化層４３０上に形成したりすることもできる。

上記の手順により作製したカラーフィルタ基板１００によれば、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃを利用した毛細管現象による塗液の充填（塗布）方法を用いて着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂを形成している。したがって、混色のないカラーフィルタ基板を簡便に作製することができた。他方、図１１のように、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂの全ての色に対し、インクジェット法を適用した場合、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂの各々に溶液が蓄積されるように基板に対し複雑な親撥液処理を施す必要があるのみならず、高精度な吐出位置性能を有するインクジェット装置が全ての色に対して必要であり、また、塗布時間も長くなるためスループットが低減するおそれがあった。しかしながら、本実施例では、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂを毛細管現象による充填（塗布）で形成するため、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂを形成するために使用する装置は、枠状構造物１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ内に塗液を吐出する機能を有していればよく、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂを形成するために、高精度な吐出位性能を有する必要がない。また、同様に、全ての色の吐出ヘッドを有する高性能なインクジェット装置を用いる必要がない。

また、図１１のように、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂの全ての色に対し、フォトリソグラフィ法を適用した場合には、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂのうち、１色を形成する毎に、不要な部分を露光及び現像処理によって除去する必要があるため、材料の利用効率が低くなる。さらには着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂの色毎にフォトリソグラフィを実施する必要があり（本実施例の場合は３回）、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂを形成する工程のタクトタイムが長くなってしまう。しかしながら、本実施例の方法によれば、所望の位置のみに塗液を充填（塗布）すればよいため、材料利用効率は高く、また、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂの全ての色に対し、同時に充填（塗布）することが可能なため、着色層４２０Ｒ、４２０Ｇ、４２０Ｂを形成する工程におけるタクトタイムの上昇を抑えることができる。

なお、無論のこと、本実施例のようなカラーフィルタ基板においても、実施例２～５に記載された方法による応用が可能である。

また、実施例１～６においては、毛細管現象によって生じる塗液の流動を利用して、絵素領域１４０Ｒ、１４０Ｇ、１４０Ｂに塗液を充填したが、塗液の流動が生じるのであれば、必ずしも毛細管現象が発現する必要はない。

上述した実施形態及び実施例における各形態は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよい。

なお、本願は、２００９年５月２８日に出願された日本国特許出願２００９－１２９５１６号を基礎として、パリ条約ないし移行する国における法規に基づく優先権を主張するものである。該出願の内容は、その全体が本願中に参照として組み込まれている。

１００：有機ＥＬ表示装置又はカラーフィルタ基板
１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ、１１０ｃ１、１１０ｃ２、１１０ｄ１、１１０ｄ２：枠状構造物
１２０：隔壁
１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃ：充填液
１４０Ｒ：Ｒの絵素領域
１４０Ｇ：Ｇの絵素領域
１４０Ｂ：Ｂの絵素領域
１５０：表示エリア
１６０：乾燥剤
１７０：封止ガラス
１８０：封止樹脂（シール材）
２００：ＴＦＴ基板
２１０：層間絶縁膜
２２０：正孔注入層及び正孔輸送層（正孔注入層兼正孔輸送層）
２３０Ｒ：Ｒの有機発光層
２３０Ｇ：Ｇの有機発光層
２３０Ｂ：Ｂの有機発光層
２４０：エッジカバー
２５０：第一の電極
２６０：第二の電極
２７０：ＴＦＴ
３００：絵素
３１０：絵素発光部
３２０：蒸着領域
４００：基板
４１０：遮光層（ＢＭ）
４２０Ｒ：Ｒの着色層
４２０Ｇ：Ｇの着色層
４２０Ｂ：Ｂの着色層
４３０：平坦化層
４４０：電極

Claims

第一の色の絵素領域、第二の色の絵素領域及び第三の色の絵素領域を含む複数の絵素領域が表示エリア内に配置された基板を備え、
該複数の絵素領域の各々には、有機発光層を含む機能性材料層が配置された有機エレクトロルミネセンス表示装置であって、
該表示エリア内の該基板上には、第一隔壁部、第二隔壁部及び第三隔壁部が配置され、
該表示エリア外の該基板上には、第一枠状構造物、第二枠状構造物及び第三枠状構造物が配置され、
該第一の色の絵素領域は、該第一隔壁部で区画された第一区画領域内に配置され、
該第二の色の絵素領域は、該第二隔壁部で区画された第二区画領域内に配置され、
該第三の色の絵素領域は、該第三隔壁部で区画された第三区画領域内に配置され、
該第一区画領域は、該第一枠状構造物内に接続され、
該第二区画領域は、該第二枠状構造物内に接続され、
該第三区画領域は、該第三枠状構造物内に接続されることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記基板を平面視したとき、
前記第一枠状構造物及び前記第二枠状構造物は、前記表示エリアを挟むように対向して配置され、
前記第三枠状構造物は、前記第一枠状構造物及び前記第二枠状構造物に挟まれた領域に配置されることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記基板を平面視したとき、
２つの前記第三枠状構造物が前記表示エリアを挟むように対向して配置されることを特徴とする請求項１又は２記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記基板を平面視したとき、
前記第三区画領域は、前記第一区画領域及び前記第二区画領域のいずれかの輪郭線に沿ったＵ字型の形状を含むことを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記基板を平面視したとき、
前記第三区画領域内には、前記第一区画領域及び前記第二区画領域のいずれかを挟むように複数の前記第三の色の絵素領域が対向して配置されることを特徴とする請求項４記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記基板を平面視したとき、
前記第三区画領域内には、前記第一区画領域及び前記第二区画領域を挟まないように前記第三の色の絵素領域が配置される請求項４記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記基板を平面視したとき、
前記基板上には、前記第一区画領域と前記第二区画領域とが交互に複数並置されており、
前記第三区画領域は、前記第一区画領域の輪郭線及び前記第二区画領域の輪郭線に沿って蛇行した形状であることを特徴とする請求項１～６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記基板上には、前記機能性材料層を挟持する一対の電極と、該一対の電極の一方の端部を覆うエッジカバーとが配置され、
前記第一隔壁部、前記第二隔壁部及び前記第三隔壁部の少なくとも１つは、該エッジカバー上に配置されることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記基板は、ＴＦＴ基板であることを特徴とする請求項１～８のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記表示エリア内には、前記第一の色の絵素領域、前記第二の色の絵素領域及び前記第三の色の絵素領域を含んで構成された画素が行列方向に複数並置され、
前記第一の色の絵素領域、前記第二の色の絵素領域及び前記第三の色の絵素領域のうち、少なくとも１つの色の絵素領域は、１つの該画素に２つ配置されることを特徴とする請求項１～９のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記表示エリア内には、前記第一の色の絵素領域、前記第二の色の絵素領域及び前記第三の色の絵素領域を含んで構成された画素が行列方向に複数並置され、
前記第一の色の絵素領域、前記第二の色の絵素領域及び前記第三の色の絵素領域は、行方向に隣接する該画素に点対称に配置されることを特徴とする請求項１～１０のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記第一枠状構造物内には、前記第一の色の絵素領域に配置された前記機能性材料層の材料が配置され、
前記第二枠状構造物内には、前記第二の色の絵素領域に配置された前記機能性材料層の材料が配置され、
前記第三枠状構造物内には、前記第三の色の絵素領域に配置された前記機能性材料層の材料が配置されることを特徴とする請求項１～１１のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
前記第一枠状構造物内には、前記第一の色の絵素領域に配置された前記有機発光層の材料が配置され、
前記第二枠状構造物内には、前記第二の色の絵素領域に配置された前記有機発光層の材料が配置され、
前記第三枠状構造物内には、前記第三の色の絵素領域に配置された前記有機発光層の材料が配置されることを特徴とする請求項１～１２のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置。
請求項１～１３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法であって、
該製造方法は、
前記第一枠状構造物内に、前記第一の色の絵素領域に配置される前記機能性材料層の材料を含む第一塗液を注入する工程と、
前記第二枠状構造物内に、前記第二の色の絵素領域に配置される前記機能性材料層の材料を含む第二塗液を注入する工程と、
前記第三枠状構造物内に、前記第三の色の絵素領域に配置される前記機能性材料層の材料を含む第三塗液を注入する工程とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
前記第三塗液は、前記第一塗液及び前記第二塗液よりも粘度が低いことを特徴とする請求項１４記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
前記有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法は、前記第一隔壁部、前記第二隔壁部、前記第三隔壁部、前記第一枠状構造物、前記第二枠状構造物及び前記第三枠状構造物を同時に形成する工程を含む請求項１４又は１５記載の有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
第一の色の絵素領域、第二の色の絵素領域及び第三の色の絵素領域を含む複数の絵素領域が表示エリア内に配置された基板を備え、
該複数の絵素領域の各々には、有機発光層を含む機能性材料層が配置された有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法であって、
該製造方法は、
該表示エリア内の該基板上に、該第一の色の絵素領域を区画する第一隔壁部、該第二の色の絵素領域を区画する第二隔壁部、及び、該第三の色の絵素領域を区画する第三隔壁部を形成する工程と、
該表示エリア外の該基板上に、該第一隔壁部で区画された第一区画領域に内部が接続された第一枠状構造物、該第二隔壁部で区画された第二区画領域に内部が接続された第二枠状構造物、及び、該第三隔壁部で区画された第三区画領域に内部が接続された第三枠状構造物を形成する工程と、
該第一枠状構造物内に、該第一の色の絵素領域に配置される該機能性材料層の材料を含む第一塗液を注入する工程と、
該第二枠状構造物内に、該第二の色の絵素領域に配置される該機能性材料層の材料を含む第二塗液を注入する工程と、
該第三枠状構造物内に、該第三の色の絵素領域に配置される該機能性材料層の材料を含む第三塗液を注入する工程とを含むことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法。
第一の色の着色層、第二の色の着色層及び第三の色の着色層を含む複数の着色層が表示エリア内に配置された基板を備えるカラーフィルタ基板であって、
該表示エリア内の該基板上には、第一隔壁部、第二隔壁部及び第三隔壁部が配置され、
該表示エリア外の該基板上には、第一枠状構造物、第二枠状構造物及び第三枠状構造物が配置され、
該第一の色の着色層は、該第一隔壁部で区画された第一区画領域内に配置され、
該第二の色の着色層は、該第二隔壁部で区画された第二区画領域内に配置され、
該第三の色の着色層は、該第三隔壁部で区画された第三区画領域内に配置され、
該第一区画領域は、該第一枠状構造物内に接続され、
該第二区画領域は、該第二枠状構造物内に接続され、
該第三区画領域は、該第三枠状構造物内に接続されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
第一の色の着色層、第二の色の着色層及び第三の色の着色層を含む複数の着色層が表示エリア内に配置された基板を備えるカラーフィルタ基板の製造方法であって、
該製造方法は、
該表示エリア内の該基板上に、該第一の色の着色層を区画する第一隔壁部、該第二の色の着色層を区画する第二隔壁部、及び、該第三の色の着色層を区画する第三隔壁部を形成する工程と、
該表示エリア外の該基板上に、該第一隔壁部で区画された第一区画領域に内部が接続された第一枠状構造物、該第二隔壁部で区画された第二区画領域に内部が接続された第二枠状構造物、及び、該第三隔壁部で区画された第三区画領域に内部が接続された第三枠状構造物を形成する工程と、
該第一枠状構造物内に、該第一の色の着色層の材料を含む第一塗液を注入する工程と、
該第二枠状構造物内に、該第二の色の着色層の材料を含む第二塗液を注入する工程と、
該第三枠状構造物内に、該第三の色の着色層の材料を含む第三塗液を注入する工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。