WO2007139090A1 - 外層体の剥離方法及び剥離装置 - Google Patents

外層体の剥離方法及び剥離装置 Download PDF

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WO2007139090A1
WO2007139090A1 PCT/JP2007/060867 JP2007060867W WO2007139090A1 WO 2007139090 A1 WO2007139090 A1 WO 2007139090A1 JP 2007060867 W JP2007060867 W JP 2007060867W WO 2007139090 A1 WO2007139090 A1 WO 2007139090A1
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WO
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peeling
outer layer
substrate
layer body
pattern
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PCT/JP2007/060867
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English (en)
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Kazuyoshi Suehara
Kenichi Imoto
Original Assignee
Fujifilm Corporation
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65HHANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H29/00Delivering or advancing articles from machines; Advancing articles to or into piles
    • B65H29/54Article strippers, e.g. for stripping from advancing elements
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    • B65H2555/00Actuating means
    • B65H2555/30Multi-axis

Definitions

  • the present invention relates to an outer layer body peeling method and a peeling apparatus for peeling an outer layer body of a multilayer film attached to a substrate from the substrate.
  • a photosensitive sheet (photosensitive web) having a photosensitive material (photosensitive resin) layer is attached to the substrate surface.
  • the photosensitive sheet is laminated with a photosensitive material layer and a protective film on a flexible plastic support.
  • the photosensitive material layer is attached to a substrate such as a glass substrate or a resin substrate. Subsequently, the support is peeled off from the substrate to obtain a bonded substrate on which the photosensitive material layer is bonded.
  • a substrate suction hand 2 that sucks and moves a glass substrate 1, and the glass
  • the first clamper 3 that sandwiches and peels off the film F (outer layer body) that is attached to the substrate 1 and the cylinder 4 that moves the first clamper 3 to the left and right in FIG. 15, and the cylinder 4
  • a horizontal guide 5a that moves in the front-rear direction
  • a vertical guide 5b that moves in the up-down direction
  • a second clamper 6 that sandwiches the peeled film F
  • a film pusher that pushes the peeled film F horizontally.
  • the first clamper 3 holds a part of the film F protruding outside from the glass substrate 1, and the first clamper 3 moves in an arbitrary direction via the cylinder 4. For this reason, film F also peels off the corner force of glass substrate 1.
  • the first clamper 3 moves in the direction of the arrow under the guiding action of the horizontal guide 5a and the vertical guide 5b to peel the film F from the glass substrate 1, and then the film F is moved to the second clamp. Passed to 6. At that time, the peeled film F is spread in the horizontal direction via the film pusher 7, and the films F are stacked and accommodated.
  • the film F is given a peeling operation along a linear peeling speed pattern having a bent portion. Therefore, during the film F peeling operation, there are changing points Pl, P2 and P3 in which the speed rapidly changes corresponding to the bent portion. For this reason, at these change points Pl, P2 and P3, the peeled state of the film F changes rapidly and streaks occur on the surface of the photosensitive resin layer. This problem also occurs when the film F is peeled off while keeping the acceleration and / or deceleration constant.
  • the present invention solves this type of problem, and with a simple process and configuration, the outer layer body can be satisfactorily peeled from the substrate and a high-quality peeled surface can be reliably obtained.
  • An object of the present invention is to provide a peeling method and a peeling apparatus.
  • the present invention relates to an outer layer body peeling method and a peeling device for peeling an outer layer body of a multilayer film attached to a substrate from the substrate.
  • the outer layer body is gripped by a gripping mechanism, and the gripping mechanism is Set a change area where the speed, acceleration, or deceleration changes between the peeling start process that moves along the speed pattern or the acceleration pattern, and after the peeling start process until the entire outer layer body is peeled off by the substrate force. And a peeling step of moving the gripping mechanism along a speed pattern, an acceleration pattern, or a deceleration pattern that curves in the change region.
  • the curving speed pattern means a speed pattern without a rapid change point of speed, that is, without a bent portion.
  • the peeling apparatus includes a substrate holding mechanism that holds the substrate in a horizontal posture, a gripping mechanism that grips the outer layer body and peels the outer layer body from the substrate, and an S-shaped gripping mechanism at the start of peeling. While moving along the speed pattern or acceleration pattern of the curve, a change area where the speed, acceleration, or deceleration changes after the start of peeling until the entire outer layer body is peeled off from the substrate is set. And a movement control mechanism that moves the gripping mechanism along a velocity pattern, an acceleration pattern, or a deceleration pattern that curves in the change region.
  • the gripping mechanism is moved along the velocity pattern or acceleration pattern of the S-curve at the start of peeling of the outer layer body. For this reason, it is possible to prevent the outer layer body from being rapidly peeled off. For example, it is possible to satisfactorily prevent cohesive failure of the photosensitive resin layer and to prevent generation of dust due to breakage as much as possible.
  • the speed or acceleration rapidly increases along the S-curve, so that a good peeling work is performed and the efficiency of the peeling work is achieved. Therefore, it is possible to effectively peel the outer layer body that does not cause cohesive failure of the photosensitive resin layer with a simple process and configuration, and to easily perform the efficiency of the peeling work.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a manufacturing apparatus in which a support peeling device according to a first embodiment of the present invention is incorporated.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a long photosensitive web used in the manufacturing apparatus.
  • FIG. 3 is an explanatory view showing a state in which an adhesive label is bonded to the long photosensitive web.
  • FIG. 4 is a schematic perspective explanatory view of the support peeling device.
  • FIG. 5 is a perspective view of a main part of the support peeling device.
  • FIG. 6 is an operation explanatory view of the support peeling device.
  • FIG. 7 is an operation explanatory diagram when a glass substrate is disposed between rubber rollers.
  • FIG. 8 is an operation explanatory view when the rear end of the glass substrate is separated from the rubber rollers.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram of a peeling rate pattern according to the first embodiment.
  • FIG. 10 is an explanatory diagram of quality evaluation between the conventional method and the first embodiment.
  • FIG. 11 is an explanatory diagram of a peeling speed pattern applied to the outer layer peeling method according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram of a peeling speed pattern applied to the outer layer peeling method according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is a schematic perspective explanatory view of a support peeling apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a schematic perspective explanatory view of a support peeling apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 15 is an explanatory view of a film peeling method and peeling apparatus disclosed in the prior art!
  • FIG. 16 is an explanatory diagram of the speed pattern of the prior art. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a manufacturing apparatus 20 in which the outer layer body peeling apparatus according to the first embodiment of the present invention is incorporated.
  • the manufacturing apparatus 20 thermally transfers a photosensitive resin layer 29 (described later) of a long photosensitive web (long web) 22 to a glass substrate 24 in a manufacturing process of a liquid crystal or an organic EL color filter or the like. Do work.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the photosensitive web 22 used in the manufacturing apparatus 20.
  • This photosensitive web 22 includes a flexible base film (outer layer body) 26, a cushion layer (thermoplastic resin layer) 27, an intermediate layer (oxygen barrier film) 28, a photosensitive resin layer 29 and a protective film 30. It is constructed by stacking.
  • the photosensitive web 22 may be composed of a base film 26, a photosensitive resin layer 29, and a protective film 30.
  • the base film 26 is formed of polyethylene terephthalate (PET), the cushion layer 27 is formed of ethylene and a vinyl oxide copolymer, and the intermediate layer 28 is formed of polybulal alcohol.
  • the oil layer 29 is formed of a colored photosensitive resin composition containing an alkali-soluble binder, a monomer, a photopolymerization initiator, and a colorant, and the protective film 30 is formed of polyethylene or polypropylene.
  • the manufacturing apparatus 20 accommodates a photosensitive web roll 22a obtained by winding a photosensitive web 22 in a roll shape, and sends out the photosensitive web 22 from the photosensitive web roll 22a.
  • An adhesive label having a delivery mechanism 32, a half-cut mechanism 36 that forms a half-cut portion 34 that can be cut in the width direction in the protective film 30 of the delivered photosensitive web 22, and a non-adhesive portion 38a in part.
  • a label adhering mechanism 40 for adhering 38 (see FIG. 3) to the protective film 30.
  • two sets of half-cut mechanisms 36 may be disposed at a predetermined interval in the direction of arrow A, and two half-cut portions 34 may be formed at the same time.
  • a reservoir mechanism 42 for changing the photosensitive web 22 from tact feeding to substantially continuous feeding, and a protective film 30 from the photosensitive web 22 at a predetermined length interval Downstream of the label adhering mechanism 40, a reservoir mechanism 42 for changing the photosensitive web 22 from tact feeding to substantially continuous feeding, and a protective film 30 from the photosensitive web 22 at a predetermined length interval.
  • the protective film peeling mechanism 44 for peeling off, the heating mechanism 45 for conveying the glass substrate 24 to a pasting position while being heated to a predetermined temperature, and the photosensitive resin layer 29 exposed by peeling off the protective film 30 are Pasting mechanism 46 for pasting to glass substrate 24 Is disposed.
  • the laminated body in which the photosensitive web 22 is bonded to the glass substrate 24 by the bonding mechanism 46 is hereinafter referred to as a bonded substrate 24a.
  • a detection mechanism 47 that directly detects the half-cut portion 34 that is the boundary position of the photosensitive web 22 is disposed in the vicinity of the upstream position of the pasting position in the pasting mechanism 46. Downstream, an inter-substrate web cutting mechanism 48 for cutting the photosensitive web 22 between the glass substrates 24 is disposed. A web cutting mechanism 48a used at the start of operation and at the end of operation is provided upstream of the inter-substrate web cutting mechanism 48.
  • a joining base 49 for joining the rear end of the substantially used photosensitive web 22 and the leading end of the newly used photosensitive web 22 is disposed.
  • a film end position detector 51 is disposed downstream of the joining base 49 in order to control the displacement in the width direction due to the separation of the photosensitive web roll 22a.
  • the half-cut mechanism 36 is disposed downstream of the roller pair 50 for calculating the roll diameter of the photosensitive web roll 22a accommodated and wound in the web feed mechanism 32.
  • the half force mechanism 36 includes a slide base 52 that moves forward and backward in a direction orthogonal to the conveyance direction (arrow A direction) of the photosensitive web 22.
  • a rotating round blade (cutter) 54 is fixed to the slide table 52, and a cut receiving table 56 is disposed at a position facing the rotating round blade 54 with the photosensitive web 22 interposed therebetween.
  • the half-cut portion 34 needs to cut at least the protective film 30, and in fact, in order to cut the protective film 30 reliably, the photosensitive resin layer 29 to the middle
  • the cutting depth of the rotating round blade 54 is set so as to cut to the layer 28.
  • the half-cut portion 34 is formed by a fixed round blade or a cutting method using ultrasonic waves, as well as a knife blade, a belt-like push cutting blade (Thomson blade) described later, or the like. May be adopted.
  • the push cutting blade includes a push cutting structure in an oblique direction in addition to a push cutting structure in a vertical direction.
  • the half-cut portion 34 sets the interval between the glass substrates 24.
  • the half-cut portion 34 is set at a position where it enters the glass substrates 24 on both sides by 10 mm.
  • the portion sandwiched between the half-cut portions 34 between the glass substrates 24 functions as a mask when the photosensitive resin layer 29 is attached to the glass substrate 24 in a frame shape by the attaching mechanism 46 described later. To do.
  • the label adhering mechanism 40 leaves the remaining portion 30b of the protective film 30 corresponding to the space between the glass substrates 24, so that the adhesive label that connects the peeling portion 30aa on the front side of the peeling side and the peeling portion 30ab on the back side of the peeling side Supply 38.
  • the protective film 30 has the remaining part 30b sandwiched between the part that is peeled first as the front peeling part 30aa and the part that is peeled later as the rear peeling part 30ab.
  • the adhesive label 38 is formed in a strip shape, and is formed of the same grease material as that of the protective film 30, for example.
  • the adhesive label 38 has a non-adhesive portion (including a slight adhesive) 38a to which no adhesive is applied at the center, and both sides of the non-adhesive portion 38a, that is, both longitudinal ends of the adhesive label 38.
  • a first adhesive portion 38b bonded to the front peeling portion 30aa and a second adhesive portion 38c bonded to the rear peeling portion 30ab are provided.
  • the label adhering mechanism 40 includes adsorbing pads 58a to 58e to which a maximum of five adhering labels 38 can be attached at predetermined intervals, and the adsorbing pads 58 to A pedestal 59 for holding the photosensitive web 22 from below is disposed at a position where the adhesive label 38 is affixed by 58e.
  • the reservoir mechanism 42 is a swingable force to absorb a speed difference between the tact conveyance of the photosensitive web 22 on the upstream side and the continuous conveyance of the photosensitive web 22 on the downstream side, and to prevent fluctuations in tension. It is preferable to provide a dancer 61 composed of two rollers 60.
  • the roller 60 may be one station or three or more stations depending on the reserve amount.
  • the protective film peeling mechanism 44 is disposed downstream of the reservoir mechanism 42, and includes a suction drum 62 and a peeling roller 64 that contacts the suction drum 62 with the photosensitive web 22 interposed therebetween.
  • the protective film 30 that is peeled off from the photosensitive web 22 through the peeling roller 64 with an acute peeling angle is wound around the protective film winding shaft 66 except for the remaining portion 30b.
  • the protective film winding shaft 66 is connected to, for example, a torque motor 68 in order to apply a predetermined tension to the protective film 30.
  • a tension control mechanism 76 that can apply tension to the photosensitive web 22 is disposed downstream of the protective film peeling mechanism 44.
  • the tension control mechanism 76 includes a cylinder 78, and the tension pickup roller 80 swings and displaces under the driving action of the cylinder 78. Thus, the tension of the photosensitive web 22 with which the tension pickup roller 80 is in sliding contact can be adjusted. Note that the tension control mechanism 76 may be used as necessary, and can be removed.
  • the detection mechanism 47 includes a photoelectric sensor 82 such as a laser sensor or a photosensor, and the photoelectric sensor 82 includes a wedge-shaped groove-shaped portion of the half-cut portion 34, a step due to the thickness of the protective film 30, Alternatively, changes due to these combinations are directly detected, and this detection signal is used as a boundary position signal.
  • the photoelectric sensor 82 is disposed so as to face the knock-up roller 83. In place of the photoelectric sensor 82, an image inspection means such as a non-contact displacement meter or a CCD camera may be used.
  • the heating mechanism 45 includes a transport mechanism 84 for transporting the glass substrate 24 in the direction of arrow C.
  • the transport mechanism 84 includes a plurality of resin disk-shaped transport rollers 86 arranged in the direction of arrow C.
  • a plurality of heating furnaces 90 are arranged on the downstream side of the receiving unit 88.
  • a substrate stocker 100 in which a plurality of glass substrates 24 are accommodated is provided upstream of the heating mechanism 45.
  • the substrate stocker 100 is provided with a dust removal fan unit (or duct unit) 102 on three side surfaces other than the inlet and outlet ports.
  • the fan unit 102 blows out the static elimination clean air into the board stocker 100.
  • Each glass substrate 24 accommodated in the substrate stocker 100 is sucked and taken out by the suction pad 106 provided in the hand portion 104a of the robot 104, and carried into the receiving portion 88.
  • the pasting mechanism 46 is provided with rubber rollers 110a and 110b for laminating which are arranged vertically and heated to a predetermined temperature.
  • the rubber rollers 110a and 110b are in sliding contact with the knock-up rollers 112a and 112b, and the backup roller 112b is pressed toward the rubber roller 110b via the roller clamp portion 114.
  • a contact preventing roller 116 for preventing the photosensitive web 22 from contacting the rubber roller 110a is disposed.
  • the contact prevention roller 116 is not shown in the figure and can be moved via an actuator.
  • a film transport roller 118a and a substrate transport roller 118b are disposed between the attaching mechanism 46 and the inter-substrate web cutting mechanism 48.
  • a cooling mechanism 120 is arranged along a conveyance system 119 in which a plurality of rollers 119a are arranged, and a support peeling device 122 according to the first embodiment is arranged on the downstream side of the cooling mechanism 120. Is done.
  • the cooling mechanism 120 supplies the pasted substrate 24a with cooling air to perform a cooling process.
  • the cold air temperature is set to 10 ° C and the wind speed is set to 1.0 to 2. OmZmin. It should be noted that natural cooling P may be performed with a photosensitive laminate stocker 156, which will be described later, without using the cooling mechanism 120.
  • the support peeling device 122 includes a frame member 124.
  • the frame member 124 extends in the arrow D direction perpendicular to the conveyance direction (arrow C direction) of the attached substrate 24a.
  • the existing upper guide rails 126a and 126b are spaced apart from each other by a predetermined distance and extend in parallel.
  • the lower guide rails 126a and 126b of the upper guide rails 126a and 126b are provided with lower guide rails 128a and 128b, which are shorter than these, similarly extending in the direction of arrow D and parallel to each other.
  • the self-propelled movable members 132a and 132b that are movable in the direction of the arrow through the upper guides 126a and 126b and the motors 130a and 130b are supported.
  • the movable members 132a and 132b extend in the vertical direction (arrow E direction), and the guide rails 134a extending in the vertical direction are disposed on the side surfaces facing each other. 134b are provided.
  • the guide rails 134a and 134b support the lifts 136a and 136b, and the lifts 136a and 136b can be lifted and lowered via the motors 138a and 138b.
  • Motors 140a and 140b are mounted horizontally on the elevators 136a and 136b, and chucks (gripping mechanisms) 142a and 142b are mounted on the rotation shafts (not shown) of the motors 140a and 140b. It is fixed.
  • the chucks 142a and 142b are configured so as to be rotatable, and when the base film peeling position of the pasting substrate 24a is reached, the both ends of the glass substrate 24 constituting the pasting substrate 24a also protrude outward. The positions of both sides of the film 26 can be adjusted to the position where it is held by itself.
  • motors 130a, 130b, 138a, 138b, 140a and 140b various rotary drive sources capable of controlling the speed or the calorie speed are used.
  • various rotary drive sources capable of controlling the speed or the calorie speed are used.
  • slide bases 144a and 144b are supported by lower guide rails 128a and 128b, and both ends of copying roller 146 are supported by slide bases 144a and 144b so that they can be moved up and down. Is done.
  • the slide bases 144a and 144b are configured to be movable back and forth between predetermined positions in the direction of arrow D integrally with the movable members 132a and 132b.
  • the copying roller 146 is provided as necessary, and can be omitted.
  • the support peeling device 122 includes a plurality of suction pads that hold the sticking substrate 24a in a horizontal posture when the base film 26 is peeled from the sticking substrate 24a.
  • a substrate holding mechanism 149 is provided.
  • a robot hand (not shown) for holding the base film 26 peeled from the glass substrate 24 and discharging it to a predetermined discharge tray (not shown) is disposed in the vicinity of the support peeling device 122. Is done.
  • a photosensitive stack stocker 156 Downstream of the support peeling device 122, a photosensitive stack stocker 156 in which a plurality of laminate substrates 150 are accommodated is provided downstream of the support peeling device 122.
  • the laminated substrate 150 from which the base film 26 and the remaining portion 30b are peeled off from the pasting substrate 24a by the support peeling device 122 is sucked and taken out by the suction pad 154 provided on the node portion 152a of the robot 152.
  • a photosensitive laminate stocker 156 Housed in a photosensitive laminate stocker 156.
  • the photosensitive laminate stocker 156 is provided with a dust removal fan unit (or duct unit) 102 on three side surfaces other than the inlet and outlet ports.
  • the fan unit 102 blows out static elimination clean air into the photosensitive laminate stocker 156.
  • the web feed mechanism 32, the half cut mechanism 36, the label adhesion mechanism 40, the reservoir mechanism 42, the protective film peeling mechanism 44, the tension control mechanism 76, and the detection mechanism 47 force above the pasting mechanism 46 Contrary to this, the web feeding mechanism 32 to the detecting mechanism 47 are arranged below the attaching mechanism 46, and the photosensitive web 22 is reversed upside down.
  • the oil layer 29 may be attached to the lower side of the glass substrate 24, and the whole manufacturing apparatus 20 may be configured on a straight line.
  • the manufacturing apparatus 20 is entirely controlled via a laminating process control unit 160.
  • a laminating control unit 162 For each functional unit of the manufacturing apparatus 20, for example, a laminating control unit 162, a substrate heating control unit 164, and a base peeling control unit 166 etc. are provided, and these are connected by an in-process network.
  • the laminating process control unit 160 is connected to a factory network and performs information processing for production such as production management and operation management of instruction information (condition setting and production information) from a factory CPU (not shown).
  • the laminate control unit 162 controls each functional unit as a master of the entire process. Based on the positional information of the half-cut portion 34 of the photosensitive web 22 detected by the detection mechanism 47, for example, The control mechanism for controlling the heating mechanism 45 is configured.
  • the base peeling control unit 166 controls the operation of peeling the base film 26 from the sticking substrate 24a supplied from the sticking mechanism 46, and discharging the multilayer substrate 150 to the downstream process.
  • the information on the pasting substrate 24a and the laminate substrate 150 is controlled to be notched.
  • the base peeling control unit 166 moves the chucks 142a and 142b along the velocity pattern or acceleration pattern of the S-curve at the start of peeling of the base film 26, while the peeling starting step After that, a change region in which the speed, acceleration or deceleration changes until the base film 26 is pasted and the substrate 24a force is peeled off is set, and the chuck 142a and 142b are bent in the change region. It constitutes a movement control mechanism that moves along the pattern, acceleration pattern, or deceleration pattern.
  • the peeling speed, peeling acceleration, and peeling deceleration of the base film 26 actually mean the moving speed, acceleration, and deceleration of the chucks 142a, 142b.
  • the inside of the manufacturing apparatus 20 is partitioned into a first clean room 172a and a second clean room 172b through a partition wall 170.
  • the first clean room 172a accommodates the web feed mechanism 32 to the tension control mechanism 76
  • the second clean room 172b accommodates the detection mechanism 47 and later.
  • the first clean room 172a and the second clean room 172b communicate with each other through the penetration part 174.
  • the photosensitive web 22 is fed out from the photosensitive web roll 22 a attached to the web feeding mechanism 32, and the photosensitive web 22 is fed to the half-cut mechanism 36.
  • the slide base 52 moves in the width direction of the photosensitive web 22 (direction perpendicular to the transport direction).
  • the rotary round blade 54 rotates while moving in a state where it is cut into the half-force portion 34 of the photosensitive web 22 to a desired depth.
  • a knife-cut portion 34 cut from the protective film 30 to a desired depth is formed on the photosensitive web 22 (see FIG. 2).
  • the half-cut photosensitive web 22 is conveyed in the direction of arrow A corresponding to the dimension of the remaining portion 30b of the protective film 30, and then stopped and rotated.
  • the next half-cut portion 34 is formed under the running action of the blade 54. Therefore, the photosensitive web 22 is provided with a front peeling portion 30aa and a rear peeling portion 30ab with the remaining portion 30b interposed therebetween (see FIG. 2).
  • the photosensitive web 22 is transported to the label adhesion mechanism 40, and a predetermined pasting portion of the protective film 30 is arranged on the cradle 59.
  • a predetermined number of adhesive labels 38 are adsorbed and held by the adsorbing pads 58a to 58e, and each adhering label 38 straddles the remaining portion 30b of the protective film 30 and separates the front peeling portion 30aa and the rear peeling. Part 3 Bonded integrally with Oab (see Figure 3).
  • the photosensitive web 22 to which five adhesive labels 38 are bonded prevents tension fluctuation on the delivery side via the reservoir mechanism 42, and then the protective film peeling mechanism 44. Continuously conveyed.
  • the photosensitive web 22 is sandwiched between the suction drum 62 and the peeling roller 64, and the base film 26 of the photosensitive web 22 is adsorbed and held by the suction drum 62. .
  • the suction drum 62 is rotated, and a predetermined torque is applied to the protective film 30 via the torque motor 68.
  • the protective film 30 is peeled off from the photosensitive web 22 leaving the remaining portion 30b, and taken up on the protective film take-up shaft 66 via the peeling roller 64.
  • the tension of the photosensitive web 22 is adjusted by the tension control mechanism 76.
  • the detection mechanism 47 is half cut by the photoelectric sensor 82 Detection of site 34 is performed.
  • the photosensitive web 22 is rotated under the rotation of the film transfer roller 118a at the start of operation, and thereafter is rotated with the rotation of the base plate transfer roller 118b holding the pasting substrate 24a. Below, it is quantitatively conveyed to the pasting mechanism 46. At that time, the contact prevention roller 116 waits upward, and the rubber roller 110b is disposed below.
  • the heating temperature in each calorie furnace 90 is set corresponding to the laminating temperature in the attaching mechanism 46. Therefore, the robot 104 holds the glass substrate 24 accommodated in the substrate stocker 100 and carries the glass substrate 24 into the receiving unit 88. The glass substrate 24 is sequentially tact-transferred from the receiving portion 88 to each heating furnace 90 under the rotating action of the transfer roller 86 that constitutes the transfer mechanism 84.
  • the glass substrate 24 is accurately stopped at a predetermined stop position, and the glass substrate 24 is formed of the photosensitive resin layer of the photosensitive web 22.
  • the rubber rollers 110a and 110b are arranged so as to correspond to 29 pasted portions (see FIG. 7).
  • the glass substrate 24 is sandwiched between the rubber rollers 110a and 110b at a predetermined press pressure. Further, the photosensitive resin layer 29 is transferred (laminated) to the glass substrate 24 by heating and melting under the rotating action of the rubber roller 110a.
  • the laminating condition is that the speed is 1. OmZmin to 10. Om / min, and the temperature of the rubber roller 110a, 1101) is 0. 0-140. O
  • the rubber hardness of the rubber rollers 110a and 110b is 40 to 90 degrees, and the press pressure (linear pressure) of the rubber rollers 110a and 110b is 50 NZcm to 400 NZcm.
  • the glass substrate 24 heated to a predetermined temperature via the heating mechanism 45 in the time until the lamination process for one sheet is completed and the next lamination process is started,
  • the photosensitive web 22 that is transported between the rubber rollers 110a and 110b and arranged in sliding contact with the rubber roller 110a is finely fed.
  • affixed substrate 24 a having photosensitive web 22 affixed to glass substrate 24 is quantitatively conveyed in the direction of arrow C. Then, after the photosensitive substrate 22 between the glass substrates 24 is cut through the inter-substrate web cutting mechanism 48, the attached substrate 24a is cooled through the cooling mechanism 120, and then the support peeling device 122. It is transferred to.
  • the glass substrate 24 side of the pasting substrate 24a is held under the suction action of the suction pad 148, while each chuck 142a, 142b is inward from both ends of the transport direction of the glass substrate 24.
  • the protruding base film 26 is arranged on one end side in the arrow D direction (see FIG. 6).
  • the movable members 132a and 132b move to the affixing substrate 24a side under the action of the motors 130a and 130b, and the chucks 142a and 142b open and close to open both ends of the base film 26 in the transport direction. Hold it. Further, the chucks 142a and 142b rotate under the action of the motors 140a and 140b, while the elevators 136a and 136b and the movable members 132a and 132b are driven and controlled in a predetermined direction.
  • the chucks 142a and 142b move along a predetermined peeling locus, and the base film 26 held by the chucks 142a and 142b is separated from the cushion layer 27. Then, it is peeled off from the pasting substrate 24a. At that time, the copying roller 146 moves to the predetermined position in the direction of arrow D integrally with the movable members 132a and 132b, and peels the base film 26 smoothly and satisfactorily. From the fact that the base film 26 is peeled off from the shell catching substrate 24a, the laminated substrate 150 is obtained.
  • the peeling speed when the base film 26 is peeled off from the pasting substrate 24a is the speed shown in FIG.
  • the following control is performed along the pattern.
  • the chucks 142a and 142b are moved along the speed pattern of the S-shaped curve 180a from time 0 to time T1. Then peel A change region is set in which the speed is continuously increased from time Tl to time T2 after the separation start process ends, and in this change region, the chuck 142a, 142b has a curved velocity pattern (hereinafter, It is moved along 180b.
  • a change region is set in which the speed is continuously decreased from time T2 to time T3, and in this change region, the chucks 142a and 142b follow the curve speed pattern 180c. Move controlled. It should be noted that the entire base film 26 is peeled off from the attached substrate 24a at time T3 during the movement by the bending speed pattern 180c. In addition, from time T4 to time T5, that is, in the peeling operation end process, the chucks 142a and 142b are moved along the speed pattern of the S-shaped curve 180d and stopped.
  • the moving speed of the chucks 142a and 142b which is the peeling speed, is controlled along the S-shaped curve 180a. For this reason, no force is suddenly applied to the photosensitive resin layer 29 where the base film 26 does not start to peel off from the pasting substrate 24a. Therefore, the photosensitive resin layer 29 is provided with the half-cut portion 34 in particular, and can prevent as much as possible the occurrence of brittleness and cohesive failure at the end face portion.
  • the chucks 142a and 142b are moved along the bending speed patterns 180b and 180c that are continuously changed.
  • the base film 26 is completely peeled off from the pasting substrate 24a.
  • the peeling state of the base film 26 can be maintained uniformly without a rapid change in the peeling speed.
  • the surface of the photosensitive resin layer 29 where no streaks are generated on the surface of the photosensitive resin layer 29 is obtained. It is possible to maintain a high quality surface.
  • the adhered substrate 24a is held in a horizontal posture via the substrate holding mechanism 149. For this reason, when using a relatively large glass substrate 24 of, for example, 1100 mm ⁇ 1350 mm (thickness 0.7 mm), the glass substrate 24 can be held accurately and reliably while maintaining flatness.
  • the peeling speed of the base film 26 by the chucks 142a and 142b has been described.
  • the peeling acceleration or peeling deceleration of the base film 26 can be set similarly.
  • FIG. 11 is an explanatory diagram of a speed pattern (or acceleration pattern or deceleration pattern) applied to the outer layer body peeling method according to the second embodiment of the present invention.
  • the chuck 142a, 142b is moved along the S-shaped curve 182a until time T1, and then the speed is continuously increased. Is moved to time T2 along the curved velocity pattern 182b.
  • the chucks 142a and 142b are moved along a bending speed pattern 182c that is changed in a direction in which the speed continuously decreases.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram of a speed pattern (or acceleration pattern or deceleration pattern) to which the outer layer peeling method according to the third embodiment of the present invention is applied.
  • the time is set between time T1 and time T2.
  • the chucks 142a and 142b move along the bending speed pattern 184b in the measured speed change region.
  • the peeling speed is maintained at a constant speed V2 with a constant speed pattern 184c from time T2 to T3, and then in a speed change region set between time T3 and time T4.
  • the chucks 142a and 142b move along the bending speed pattern 184d. That is, From time T2 to time T4, the peeling speed is set to a linear speed pattern with a curved portion. Further, the chucks 142a and 142b move along the S-curve 184e from time T4 to time T5 and stop.
  • the base film 26 starts to peel along the S-shaped curves 182a and 184a, and the speed ( Or acceleration or deceleration). Thereby, defects such as cohesive failure of the photosensitive resin layer 29, generation of dust, and streaks on the surface of the photosensitive resin layer 29 are prevented as much as possible, and the same as in the first embodiment described above. An effect is obtained.
  • the force that sets the S-curve 184e at the end of peeling of the base film 26, and the movement of the chucks 142a, 142b with the curving speed pattern 184d without using this S-curve 184e. May be stopped.
  • the support peeling device 122 is configured to peel the base film 26 in the direction of arrow D intersecting the transport direction (direction of arrow C) that is the direction of sticking the sticking substrate 24a.
  • the peeling direction of the base film 26 may be set in the direction of arrow C parallel to the conveying direction of the attached substrate 24a.
  • FIG. 13 is a schematic perspective explanatory view of a support peeling apparatus 190 according to the fourth embodiment of the present invention. Note that the same components as those of the support peeling device 122 according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. Similarly, in the fifth embodiment described below, detailed description thereof is omitted.
  • the support peeling device 190 applies tension to the base film 26 in the sticking direction to the glass substrate 24 (arrow C direction).
  • a tensioning structure 192 is provided.
  • the tension applying structure 192 includes a movable chuck member 194a, 196a, 198a, and 200a that can grip the front end portion 26a of the base film 26 that protrudes outward from the front end side in the transport direction of the adhesive substrate 24a.
  • movable chuck members 194b, 196b, 198b, and 200b capable of gripping the rear end portion 26b of the base film 26 protruding to the rear side in the transport direction of the attached substrate 24a.
  • the chuck members 194a and 194b face each other in the direction of arrow C, and other chuck members 196a, 196b, 198a, 198b and 200a, 200bi are arranged in a mutually opposite direction.
  • the chuck members 194a to 200a and 194b to 200b are configured to be openable and closable and to be able to advance and retract relative to the base film 26, respectively.
  • the copying roller 146 need not be used.
  • the chuck members 194a to 200a constituting the tension applying structure 192 grip the front end portion 26a of the base film 26.
  • the chuck members 194b to 200b grip the rear end portion 26b of the base film 26.
  • the chuck members 194a to 200a and the chuck members 194b to 200b are subjected to torque control in a direction away from each other, whereby a predetermined tension is applied to the base film 26 in the arrow C direction.
  • the chucks 142a and 142b grip the end portions 26a and 26b of the base film 26 and move in the direction of arrow D1 along a predetermined peeling locus.
  • the base film 26 is given a predetermined tension in the direction of arrow C, and the base film 26 can be peeled off from the glass substrate 24 smoothly and reliably.
  • FIG. 14 is a schematic perspective explanatory view of a support peeling device 210 constituting a manufacturing apparatus according to the fifth embodiment of the present invention.
  • the support peeling mechanism 210 applies a tension to the base film 26 in the bonding direction with the bonding substrate 24a when peeling the base film 26 from the bonding substrate 24a. 212.
  • the tension applying structure 212 protrudes rearward in the transport direction of the attachment substrate 24a, and a tip chuck 214 capable of gripping the tip portion 26a of the base film 26 protruding toward the front end side of the attachment substrate 24a. And a rear end chuck 216 capable of gripping the rear end portion 26b of the base film 26.
  • the front end chuck 214 and the rear end chuck 216 are configured to be wide in the arrow D direction, and can respectively grip the front end portion 26a and the rear end portion 26b of the base film 26 over the entire surface in the width direction.
  • the tip chuck 214 is mounted on the motors 140a and 140b, and the movement direction of the tip chuck 214 is set in the direction of arrow C perpendicular to the movement direction (arrow D direction) of the chucks 142a and 142b.
  • the copying roller 146 is used.
  • the distal end portion 26a of the base film 26 protruding toward the distal end side of the attached substrate 24a It is gripped by the jack 214.
  • the rear end portion 26b of the base film 26 projecting toward the rear end side of the shell occupying substrate 24a is gripped by the rear end chuck 216.
  • the rear end chuck 216, or the rear end chuck 216 and the front end chuck 214 are subjected to torque control, and a tension is applied along the direction of arrow C to the base film 26 sandwiched therebetween.
  • the tip chuck 214 moves along a predetermined peeling locus, the base film 26 to which a predetermined tension is applied is smoothly and reliably peeled off from the glass substrate 24.

Landscapes

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Abstract

 支持体剥離装置(122)では、チャック(142a、142b)がベースフイルム(26)を把持し、先ず、前記チャック(142a、142b)がS字カーブの速度パターンに沿って移動することにより、前記ベースフイルム(26)を貼り付け基板(24a)から剥がし始める。次いで、ベースフイルム(26)全体が貼り付け基板(24a)から剥離されるまでの間、チャック(142a、142b)は湾曲する速度パターンに沿って移動することにより、前記ベースフイルム(26)の剥離作業が終了する。

Description

外層体の剥離方法及び剥離装置
技術分野
[0001] 本発明は、基板に貼り付けられた多層フィルムの外層体を、前記基板から剥離する 外層体の剥離方法及び剥離装置に関する。
背景技術
[0002] 例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、 PDPパネル用基板では、感光 材料 (感光性榭脂)層を有する感光性シート体 (感光性ウェブ)を基板表面に貼り付 けている。感光性シート体は、可撓性プラスチック支持体上に感光材料層と保護フィ ルムと力 積層されている。
[0003] この種の感光性シート体は、保護フィルムが部分的又は全面的に剥離された後、 感光材料層がガラス基板ゃ榭脂基板等の基板に貼り付けられている。次いで、支持 体が基板力 剥離されることにより、感光材料層が貼り付けられた貼り付け基板が得 られている。
[0004] 例えば、特開 2002— 234667号公報に開示されているフィルムの剥離方法及び 剥離装置では、図 15に示すように、ガラス基板 1を吸着して移動する基板吸着ハンド 2と、前記ガラス基板 1に貼り付けられて ヽるフィルム F (外層体)を挟持して剥離する 第 1クランパ 3と、前記第 1クランパ 3を、図 15中、左右に移動させるシリンダ 4と、この シリンダ 4を前後方向に移動させる水平ガイド 5a、及び上下方向に移動させる垂直ガ イド 5bと、剥離した前記フィルム Fを挟持する第 2クランパ 6と、前記剥離された前記 フィルム Fを水平方向に押し広げるフィルムプッシャ 7とを備えて 、る。
[0005] そこで、先ず、基板吸着ハンド 2が、図 15中、二点鎖線で示す水平姿勢に配置され てガラス基板 1が載せられると、この基板吸着ハンド 2は、前記ガラス基板 1を吸着し て起立する。
[0006] 次いで、第 1クランパ 3は、ガラス基板 1から外部に突出するフィルム Fの一部を把 持し、前記第 1クランパ 3がシリンダ 4を介して任意の方向に移動する。このため、フィ ルム Fは、ガラス基板 1のコーナ部力も剥離される。 [0007] さらに、第 1クランパ 3は、水平ガイド 5a及び垂直ガイド 5bの案内作用下に矢印方 向に移動して、ガラス基板 1からフィルム Fを剥離した後、このフィルム Fが第 2クラン ノ 6に受け渡される。その際、剥離されたフィルム Fは、フィルムプッシャ 7を介して水 平方向に押し広げられ、各フィルム Fが重ね合わされて収容される。
[0008] 上記の従来技術では、図 16に示すように、剥離開始から時間 T1までの間、ガラス 基板 1は、速度 VIで上昇する一方、第 1クランパ 3は、速度 (V2— VI)で下降してい る。これにより、フィルム Fは、実質的に速度 V2の剥離速度で剥離されている。
[0009] さらに、時間 T1から時間 T3までの間は、第 1クランパ 3が停止される一方、ガラス基 板 1は、速度 V2で上昇している。このため、剥離中の相対速度 V2が維持されると、し ている。
[0010] し力しながら、上記の従来技術では、フィルム剥離開始時(時間 0近傍)では、ガラ ス基板 1の上昇と第 1クランパ 3の下降とによって、フィルム Fには、急激な剥離開始 動作が付与されている。このため、フィルム Fには、特に感光性榭脂層に急激な力が 付与されると、この感光性榭脂層に凝集破壊が発生し易い。しかも、感光性榭脂層 の破損された部分が塵埃となって基板等に付着するおそれがある。
[0011] さらに、フィルム Fには、屈曲部を有する直線状の剥離速度パターンに沿って剥離 動作が付与されている。従って、フィルム Fの剥離作業中には、屈曲部に対応して急 激に速度が変化する変化点 Pl、 P2及び P3が存在している。このため、これらの変 化点 Pl、 P2及び P3では、フィルム Fの剥離状態が急激に変化して感光性榭脂層の 表面にスジが発生する。この問題は、加速度と又は減速度を一定に保ってフィルム F を剥離する際にも、同様に発生している。
発明の開示
[0012] 本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な工程及び構成で、外層体を 基板から良好に剥離するとともに、高品質な剥離面を確実に得ることが可能な 外層体の剥離方法及び剥離装置を提供することを目的とする。
[0013] 本発明は、基板に貼り付けられた多層フィルムの外層体を、前記基板から剥離する 外層体の剥離方法及び剥離装置に関するものである。
[0014] この剥離方法は、把持機構により外層体を把持し、前記把持機構を S字カーブの 速度パターン又は加速度パターンに沿って移動させる剥離開始工程と、前記剥離開 始工程の後、前記外層体全体を基板力 剥離するまでの間に、速度、加速度又は減 速度が変化する変化領域を設定し、前記変化領域で、前記把持機構を湾曲する速 度パターン、加速度パターン又は減速度パターンに沿って移動させる剥離工程とを 有している。
[0015] ここで、湾曲する速度パターンとは、速度の急激な変化点がない、すなわち、屈曲 部がない速度パターンをいう。なお、湾曲する加速度パターン及び湾曲する減速度 パターンも同様である。
[0016] また、剥離装置は、基板を水平姿勢に保持する基板保持機構と、外層体を把持し、 前記外層体を前記基板から剥離する把持機構と、剥離開始時に、前記把持機構を S 字カーブの速度パターン又は加速度パターンに沿って移動させる一方、前記剥離開 始工程の後、前記外層体全体を前記基板から剥離するまでの間に、速度、加速度 又は減速度が変化する変化領域を設定し、前記変化領域で、前記把持機構を湾曲 する速度パターン、加速度パターン又は減速度パターンに沿って移動させる移動制 御機構とを備えている。
[0017] 本発明では、外層体の剥離開始時に、把持機構を S字カーブの速度パターン又は 加速度パターンに沿って移動させている。このため、外層体を急激に剥がし始めるこ とがなぐ例えば、感光性榭脂層の凝集破壊を良好に阻止するとともに、破損による 塵埃の発生を可及的に阻止することができる。一方、外層体が剥がれ始めた後に、 速度又は加速度が S字カーブに沿って急速に上昇し、良好な剥離作業が遂行される 他、該剥離作業の効率化が図られる。従って、簡単な工程及び構成で、感光性榭脂 層の凝集破壊が発生することがなぐ外層体を有効に剥離するとともに、剥離作業の 効率化が容易に遂行可能になる。
[0018] さらに、剥離開始工程の後、外層体全体を基板から剥離するまでの間に、速度、加 速度又は減速度が変化する変化領域を設定し、前記変化領域で、前記把持機構を 湾曲する速度パターン、加速度パターン又は減速度パターンに沿って移動させて 、 る。これにより、外層体の剥離動作中に、剥離状態が急激に変化することがなぐ例 えば、感光性榭脂層の表面にスジ等が発生することを良好に防止することができ、高 品質な剥離面 (感光性榭脂層)を確実に得ることが可能になる。
[0019] 添付した図面と協同する次の好適な実施の形態例の説明から、上記の目的及び他 の目的、特徴及び利点がより明らかになるだろう。
図面の簡単な説明
[0020] [図 1]図 1は、本発明の第 1の実施形態に係る支持体剥離装置が組み込まれる製造 装置の概略構成図である。
[図 2]図 2は、前記製造装置に使用される長尺状感光性ウェブの断面図である。
[図 3]図 3は、前記長尺状感光性ウェブに接着ラベルが接着された状態の説明図で ある。
[図 4]図 4は、前記支持体剥離装置の概略斜視説明図である。
[図 5]図 5は、前記支持体剥離装置の要部斜視説明図である。
[図 6]図 6は、前記支持体剥離装置の動作説明図である。
[図 7]図 7は、ゴムローラ間にガラス基板が配置される際の動作説明図である。
[図 8]図 8は、前記ガラス基板の後端が前記ゴムローラ間から離間する際の動作説明 図である。
[図 9]図 9は、第 1の実施形態に係る剥離速度パターンの説明図である。
[図 10]図 10は、従来方法と第 1の実施形態との品質評価説明図である。
[図 11]図 11は、本発明の第 2の実施形態に係る外層体の剥離方法に適用される剥 離速度パターンの説明図である。
[図 12]図 12は、本発明の第 3の実施形態に係る外層体の剥離方法に適用される剥 離速度パターンの説明図である。
[図 13]図 13は、本発明の第 4の実施形態に係る支持体剥離装置の概略斜視説明図 である。
[図 14]図 14は、本発明の第 5の実施形態に係る支持体剥離装置の概略斜視説明図 である。
[図 15]図 15は、従来技術に開示されて!、るフィルムの剥離方法及び剥離装置の説 明図である。
[図 16]図 16は、前記従来技術の速度パターン説明図である。 発明を実施するための最良の形態
[0021] 図 1は、本発明の第 1の実施形態に係る外層体の剥離装置が組み込まれる製造装 置 20の概略構成図である。この製造装置 20は、液晶又は有機 EL用カラーフィルタ 等の製作工程で、長尺状感光性ウェブ (長尺状ウェブ) 22の感光性榭脂層 29 (後述 する)をガラス基板 24に熱転写する作業を行う。
[0022] 図 2は、製造装置 20に使用される感光性ウェブ 22の断面図である。この感光性ゥ エブ 22は、可撓性ベースフィルム (外層体) 26、クッション層(熱可塑性榭脂層) 27、 中間層 (酸素遮断膜) 28、感光性榭脂層 29及び保護フィルム 30を積層して構成さ れる。なお、感光性ウェブ 22は、ベースフィルム 26、感光性榭脂層 29及び保護フィ ノレム 30【こより構成されて!ヽてもよ!/ヽ。
[0023] ベースフィルム 26は、ポリエチレンテレフタレート(PET)で形成され、クッション層 2 7は、エチレンと酸化ビニル共重合体で形成され、中間層 28は、ポリビュルアルコー ルで形成され、感光性榭脂層 29は、アルカリ可溶性バインダとモノマーと光重合開 始材と着色剤を含む着色感光性榭脂組成物で形成され、保護フィルム 30は、ポリエ チレンあるいはポリプロピレン等で形成される。
[0024] 図 1に示すように、製造装置 20は、感光性ウェブ 22をロール状に卷回した感光性 ウェブロール 22aを収容し、この感光性ウェブロール 22aから前記感光性ウェブ 22を 送り出すウェブ送り出し機構 32と、送り出された前記感光性ウェブ 22の保護フィル ム 30に、幅方向に切断可能なハーフカット部位 34を形成するハーフカット機構 36と 、一部に非接着部 38aを有する接着ラベル 38 (図 3参照)を保護フィルム 30に接着さ せるラベル接着機構 40とを備える。なお、ハーフカット機構 36は、矢印 A方向に所定 の間隔だけ離間して 2セット配設され、同時に 2個所のハーフカット部位 34を形成し てもよい。
[0025] ラベル接着機構 40の下流には、感光性ウェブ 22をタクト送りから略連続送りに変 更するためのリザーバ機構 42と、前記感光性ウェブ 22から保護フィルム 30を所定の 長さ間隔で剥離させる保護フィルム剥離機構 44と、ガラス基板 24を所定の温度に加 熱した状態で貼り付け位置に搬送する加熱機構 45と、前記保護フィルム 30の剥離 により露出した感光性榭脂層 29を前記ガラス基板 24に貼り付ける貼り付け機構 46と が配設される。なお、貼り付け機構 46によりガラス基板 24に感光性ウェブ 22が貼り 付けられた積層体を、以下、貼り付け基板 24aという。
[0026] 貼り付け機構 46における貼り付け位置の上流近傍には、感光性ウェブ 22の境界 位置であるハーフカット部位 34を直接検出する検出機構 47が配設されるとともに、 前記貼り付け機構 46の下流には、各ガラス基板 24間の前記感光性ウェブ 22を切断 する基板間ウェブ切断機構 48が配設される。この基板間ウェブ切断機構 48の上流 には、運転開始時及び運転終了時に使用されるウェブ切断機構 48aが設けられる。
[0027] ウェブ送り出し機構 32の下流近傍には、略使用済みの感光性ウェブ 22の後端と、 新たに使用される感光性ウェブ 22の先端とを接合させる接合台 49が配設される。こ の接合台 49の下流には、感光性ウェブロール 22aの卷きずれによる幅方向のずれ を制御するために、フィルム端位置検出器 51が配設される。
[0028] ハーフカット機構 36は、ウェブ送り出し機構 32に収容卷回されている感光性ウェブ ロール 22aのロール径を算出するためのローラ対 50の下流に配置される。ハーフ力 ット機構 36は、感光性ウェブ 22の搬送方向(矢印 A方向)に直交する方向に進退自 在なスライド台 52を備える。このスライド台 52には、回転丸刃(カツタ) 54が固着され るとともに、前記回転丸刃 54に対向する位置には、感光性ウェブ 22を挟んでカット 受台 56が配設される。
[0029] 図 2に示すように、ハーフカット部位 34は、少なくとも保護フィルム 30を切断する必 要があり、実際上、この保護フィルム 30を確実に切断するために感光性榭脂層 29〜 中間層 28まで切り込むように、回転丸刃 54の切り込み深さが設定される。ハーフカツ ト部位 34は、回転丸刃 54に代替して、例えば、固定丸刃や超音波を用いたカット方 式の他、ナイフ刃、後述する帯状押し切り刃(トムソン刃)等で形成する方式を採用し てもよい。なお、押し切り刃は、垂直方向の押し切り構成の他、斜め方向の押し切り 構成を含む。
[0030] ハーフカット部位 34は、ガラス基板 24の間隔を設定するものであり、例えば、両側 の前記ガラス基板 24にそれぞれ 10mmずつ入り込んだ位置に設定される。ガラス基 板 24間のハーフカット部位 34で挟まれた部分は、後述する貼り付け機構 46にお ヽ て感光性榭脂層 29を前記ガラス基板 24に額縁状に貼り付ける際のマスクとして機能 するものである。
[0031] ラベル接着機構 40は、ガラス基板 24間に対応して保護フィルム 30の残存部分 30 bを残すため、剥離側前方の剥離部分 30aaと剥離側後方の剥離部分 30abとを連結 する接着ラベル 38を供給する。図 2に示すように、保護フィルム 30は、残存部分 30b を挟んで、先に剥離される部分を前方の剥離部分 30aaとする一方、後に剥離される 部分を後方の剥離部分 30abとする。
[0032] 図 3に示すように、接着ラベル 38は、短冊状に構成されており、例えば、保護フィル ム 30と同一の榭脂材で形成される。接着ラベル 38は、中央部に粘着剤が塗布され ない非接着部 (微粘着を含む) 38aを有するとともに、この非接着部 38aの両側、すな わち、前記接着ラベル 38の長手方向両端部に、前方の剥離部分 30aaに接着される 第 1接着部 38bと、後方の剥離部分 30abに接着される第 2接着部 38cとを有する。
[0033] 図 1に示すように、ラベル接着機構 40は、最大 5枚の接着ラベル 38を所定間隔ず つ離間して貼り付け可能な吸着パッド 58a〜58eを備えるとともに、前記吸着パッド 5 8a〜58eによる前記接着ラベル 38の貼り付け位置には、感光性ウェブ 22を下方か ら保持するための受台 59が昇降自在に配置される。
[0034] リザーバ機構 42は、上流側の感光性ウェブ 22のタクト搬送と、下流側の前記感光 性ウェブ 22の連続搬送との速度差を吸収する力 さらにテンション変動を防ぐために 、揺動自在な 2連のローラ 60で構成されるダンサー 61を備えることが好ましい。なお 、ローラ 60は、リザーブ量に応じて 1連又は 3連以上であってもよい。
[0035] 保護フィルム剥離機構 44は、リザーバ機構 42の下流に配置されるとともに、サクシ ヨンドラム 62と、感光性ウェブ 22を挟んでこのサクシヨンドラム 62に接する剥離ローラ 64とを備える。剥離ローラ 64を介して感光性ウェブ 22から鋭角の剥離角で剥離され る保護フィルム 30は、残存部分 30bを除いて保護フィルム巻き取り軸 66に巻き取ら れる。保護フィルム巻き取り軸 66は、保護フィルム 30に所定のテンションを付与する ために、例えば、トルクモータ 68に連結される。
[0036] 保護フィルム剥離機構 44の下流側には、感光性ウェブ 22にテンションを付与可能 なテンション制御機構 76が配設される。テンション制御機構 76は、シリンダ 78を備え 、このシリンダ 78の駆動作用下に、テンションピックアップローラ 80が揺動変位するこ とにより、このテンションピックアップローラ 80が摺接する感光性ウェブ 22のテンショ ンが調整可能である。なお、テンション制御機構 76は、必要に応じて使用すればよく 、肖 IJ除することちできる。
[0037] 検出機構 47は、レーザセンサやフォトセンサ等の光電センサ 82を備えており、前記 光電センサ 82は、ハーフカット部位 34の楔状の溝形状部や、保護フィルム 30の厚さ による段差、あるいは、これらの組み合わせによる変化を直接検出し、この検出信号 を境界位置信号とする。光電センサ 82は、ノ ックアップローラ 83に対向して配置され る。なお、光電センサ 82に代えて、非接触変位計や CCDカメラ等の画像検査手段 等を用いてもよい。
[0038] 加熱機構 45は、ガラス基板 24を矢印 C方向に搬送するための搬送機構 84を備え 、この搬送機構 84は、矢印 C方向に配列される複数の榭脂製円板状搬送ローラ 86 を有する。搬送機構 84の矢印 C方向上流側には、ガラス基板 24を受け取る受け取り 部 88が設けられる。受け取り部 88の下流側には、複数の加熱炉 90が配列される。
[0039] 加熱機構 45の上流には、複数のガラス基板 24が収容される基板ストッカー 100が 設けられる。基板ストッカー 100には、投入及び取り出し口以外の 3方の側面に、除 塵用ファンユニット (又はダクトユニット) 102が付設される。ファンユニット 102は、基 板ストッカー 100内に除電クリーンエアの吹き出しを行う。基板ストッカー 100に収容 されている各ガラス基板 24は、ロボット 104のハンド部 104aに設けられた吸着パッド 106に吸着されて取り出され、受け取り部 88に搬入される。
[0040] 貼り付け機構 46は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱されるラミネート用 ゴムローラ 110a、 110bを備える。ゴムローラ 110a、 110bには、ノックアップローラ 1 12a, 112b力摺接するとともに、前記バックアップローラ 112bは、ローラクランプ部 1 14を介してゴムローラ 110b側に押圧される。
[0041] ゴムローラ 110aの近傍には、感光性ウェブ 22が前記ゴムローラ 110aに接触するこ とを防止するための接触防止ローラ 116が配設される。この接触防止ローラ 116は、 図示しな!、ァクチユエータを介して移動可能である。
[0042] 貼り付け機構 46と基板間ウェブ切断機構 48との間には、フィルム搬送ローラ 118a と基板搬送ローラ 118bとが配設される。基板間ウェブ切断機構 48の下流側には、 複数のローラ 119aが配列される搬送系 119に沿って冷却機構 120が配置されるとと もに、この冷却機構 120の下流側には、第 1の実施形態に係る支持体剥離装置 122 が配置される。
[0043] 冷却機構 120は、基板間ウェブ切断機構 48を介して貼り付け基板 24a間の感光性 ウェブ 22が切断された後、この貼り付け基板 24aに冷風を供給して冷却処理を施す 。具体的には、冷風温度が 10°Cで、風速が 1. 0〜2. OmZminに設定される。なお 、冷却機構 120を使用することがなぐ後述する感光性積層体ストッカー 156で自然 冷去 Pしてちよい。
[0044] 支持体剥離装置 122は、図 4に示すように、枠部材 124を備え、この枠部材 124に は、貼り付け基板 24aの搬送方向(矢印 C方向)に直交する矢印 D方向に延在する 上部ガイドレール 126a、 126bが互いに所定の間隔だけ離間して平行に延在する。 上部ガイドレール 126a、 126bの下方〖こは、これらよりも短尺な下部ガイドレール 128 a、 128bが、同様に矢印 D方向に延在して互いに平行して設けられる。上部ガイドレ 一ノレ 126a、 126b【こ ίま、モータ 130a、 130bを介して矢 方向【こ ί¾つて進退可會 な自走式可動部材 132a、 132bが支持される。
[0045] 図 4〜図 6に示すように、可動部材 132a、 132bは、鉛直方向(矢印 E方向)に延在 しており、互いに対向する側面には、鉛直方向に延在するガイドレール 134a、 134b が設けられる。ガイドレール 134a、 134bには、昇降台 136a、 136bが支持されるとと もに、前記昇降台 136a、 136bは、モータ 138a、 138bを介して昇降可能である。
[0046] 昇降台 136a、 136bには、モータ 140a、 140bが水平方向に向かって装着され、 前記モータ 140a、 140bの回転軸(図示せず)には、チャック (把持機構) 142a、 142 bが固着される。チャック 142a、 142bは、旋回自在に構成されるとともに、貼り付け基 板 24aのベースフィルム剥離位置にぉ 、て、前記貼り付け基板 24aを構成するガラス 基板 24の搬送方向両端力も外部に突出するベースフィルム 26の両側部を把持自 在な位置に位置調整可能である。
[0047] モータ 130a、 130b, 138a, 138b, 140a及び 140bは、速度又はカロ速度の制御 が可能な種々の回転駆動源が使用される。例えば、サーボモータや直動リニアモー タの他、直動ロボット等が採用される。 [0048] 図 4に示すように、下咅ガイドレーノレ 128a、 128bに ίま、スライドベース 144a、 144b が支持されるとともに、前記スライドベース 144a、 144bには、倣いローラ 146の両端 が昇降可能に支持される。スライドベース 144a、 144bは、可動部材 132a、 132bと 一体的に矢印 D方向の所定の位置間を進退可能に構成される。なお、倣いローラ 1 46は、必要に応じて設けられており、不要にすることもできる。
[0049] 図 1に示すように、支持体剥離装置 122は、貼り付け基板 24aからベースフィルム 2 6を剥離する際に、前記貼り付け基板 24aを水平姿勢に吸着保持する複数の吸着パ ッド 148を設ける基板保持機構 149を備える。この支持体剥離装置 122の近傍には 、ガラス基板 24から剥離されたベースフィルム 26を把持して所定の排出トレィ(図示 せず)等に排出するためのロボットハンド(図示せず)が配設される。
[0050] 支持体剥離装置 122の下流には、複数の積層体基板 150が収容される感光性積 層体ストッカー 156が設けられる。支持体剥離装置 122で貼り付け基板 24aからべ一 スフイルム 26及び残存部分 30bが剥離された積層体基板 150は、ロボット 152のノヽ ンド部 152aに設けられた吸着パッド 154に吸着されて取り出され、感光性積層体スト ッカー 156に収容される。
[0051] 感光性積層体ストッカー 156には、投入及び取り出し口以外の 3方の側面に、除塵 用ファンユニット (又はダクトユニット) 102が付設される。ファンユニット 102は、感光 性積層体ストッカー 156内に除電クリーンエアの吹き出しを行う。
[0052] 製造装置 20では、ウェブ送り出し機構 32、ハーフカット機構 36、ラベル接着機構 4 0、リザーバ機構 42、保護フィルム剥離機構 44、テンション制御機構 76及び検出機 構 47力 貼り付け機構 46の上方に配置されている力 これとは逆に、前記ウェブ送り 出し機構 32から前記検出機構 47を前記貼り付け機構 46の下方に配置し、感光性ゥ エブ 22の上下が逆になつて感光性榭脂層 29がガラス基板 24の下側に貼り付けされ てもよく、また、前記製造装置 20全体を直線上に構成してもよい。
[0053] 製造装置 20は、ラミネート工程制御部 160を介して全体制御されており、この製造 装置 20の各機能部毎に、例えば、ラミネート制御部 162、基板加熱制御部 164及び ベース剥離制御部 166等が設けられ、これらが工程内ネットワークにより繋がってい る。 [0054] ラミネート工程制御部 160は、工場ネットワークに繋がっており、図示しない工場 CP Uからの指示情報 (条件設定や生産情報)の生産管理や稼動管理等、生産のための 情報処理を行う。
[0055] ラミネート制御部 162は、工程全体のマスターとして各機能部の制御を行うものであ り、検出機構 47により検出された感光性ウェブ 22のハーフカット部位 34の位置情報 に基づいて、例えば、加熱機構 45を制御する制御機構を構成している。
[0056] ベース剥離制御部 166は、貼り付け機構 46から供給される貼り付け基板 24aから ベースフィルム 26を剥離し、さらに下流工程に積層体基板 150を排出する動作の制 御を行うとともに、前記貼り付け基板 24a及び前記積層体基板 150の情報をノヽンドリ ング制御する。
[0057] ベース剥離制御部 166は、後述するように、ベースフィルム 26の剥離開始時に、チ ャック 142a、 142bを S字カーブの速度パターン又は加速度パターンに沿って移動さ せる一方、前記剥離開始工程の後、前記ベースフィルム 26全体を貼り付け基板 24a 力 剥離するまでの間に、速度、加速度又は減速度が変化する変化領域を設定し、 前記変化領域で、前記チャック 142a、 142bを湾曲する速度パターン、加速度バタ ーン又は減速度パターンに沿って移動させる移動制御機構を構成する。
[0058] なお、以下、ベースフィルム 26の剥離速度、剥離加速度及び剥離減速度とは、実 質的にチャック 142a、 142bの移動する速度、加速度及び減速度をいう。
[0059] 製造装置 20内は、仕切り壁 170を介して第 1クリーンルーム 172aと第 2クリーンル ーム 172bとに仕切られる。第 1クリーンルーム 172aには、ウェブ送り出し機構 32から テンション制御機構 76までが収容されるとともに、第 2クリーンルーム 172bには、検 出機構 47以降が収容される。第 1クリーンルーム 172aと第 2クリーンルーム 172bとは 、貫通部 174を介して連通する。
[0060] この製造装置 20の動作について、第 1の実施形態に係る剥離方法との関連で以下 に説明する。
[0061] 先ず、図 1に示すように、ウェブ送り出し機構 32に取り付けられている感光性ウェブ ロール 22aから感光性ウェブ 22が繰り出され、この感光性ウェブ 22は、ハーフカット 機構 36に送られる。 [0062] ハーフカット機構 36では、スライド台 52が感光性ウェブ 22の幅方向(搬送方向に 直交する方向)に移動する。このため、回転丸刃 54は、感光性ウェブ 22のハーフ力 ット部位 34に所望の深さまで切り込んだ状態で、移動しながら回転する。これにより、 感光性ウェブ 22には、保護フィルム 30から所望の深さに切り込んだノヽーフカット部 位 34が形成される(図 2参照)。
[0063] ハーフカット処理された感光性ウェブ 22は、図 1に示すように、保護フィルム 30の 残存部分 30bの寸法に対応して矢印 A方向に搬送された後、ー且停止されて回転 丸刃 54の走行作用下に次なるハーフカット部位 34が形成される。このため、感光性 ウェブ 22には、残存部分 30bを挟んで前方の剥離部分 30aaと後方の剥離部分 30a bとが設けられる(図 2参照)。
[0064] さらに、感光性ウェブ 22は、ラベル接着機構 40に搬送されて、保護フィルム 30の 所定の貼り付け部位が受台 59上に配置される。ラベル接着機構 40では、所定枚数 の接着ラベル 38が吸着パッド 58a〜58eにより吸着保持され、各接着ラベル 38が保 護フィルム 30の残存部分 30bを跨 、で、前方の剥離部分 30aaと後方の剥離部分 3 Oabとに一体的に接着される(図 3参照)。
[0065] 例えば、 5本の接着ラベル 38が接着された感光性ウェブ 22は、図 1に示すように、 リザーバ機構 42を介して送り出し側のテンション変動を防 、だ後、保護フィルム剥離 機構 44に連続的に搬送される。
[0066] 保護フィルム剥離機構 44では、感光性ウェブ 22がサクシヨンドラム 62と剥離ローラ 64とに挟持されて、前記感光性ウェブ 22のベースフィルム 26が前記サクシヨンドラム 62に吸着保持されている。この状態で、サクシヨンドラム 62が回転されるとともに、保 護フィルム 30には、トルクモータ 68を介して所定のトルクが付与されて!、る。
[0067] 従って、保護フィルム 30は、残存部分 30bを残して感光性ウェブ 22から剥離され、 剥離ローラ 64を介して保護フィルム巻き取り軸 66に巻き取られる。なお、剥離部位に は、除電エアを吹き付けることが好ましい。
[0068] 保護フィルム剥離機構 44の作用下に、保護フィルム 30が残存部分 30bを残してベ 一スフイルム 26から剥離された後、感光性ウェブ 22は、テンション制御機構 76によ つてテンション調整が行われ、さらに検出機構 47で光電センサ 82によりハーフカット 部位 34の検出が行われる。
[0069] 感光性ウェブ 22は、ハーフカット部位 34の検出情報に基づいて、運転開始時には フィルム搬送ローラ 118aの回転作用下に、その後は貼り付け基板 24aを挟持する基 板搬送ローラ 118bの回転作用下に、貼り付け機構 46に定量搬送される。その際、 接触防止ローラ 116が上方に待機するとともに、ゴムローラ 110bが下方に配置され ている。
[0070] 一方、加熱機構 45では、貼り付け機構 46におけるラミネート温度に対応して各カロ 熱炉 90内の加熱温度が設定されている。そこで、ロボット 104は、基板ストッカー 100 に収容されているガラス基板 24を把持し、このガラス基板 24を受け取り部 88に搬入 する。ガラス基板 24は、搬送機構 84を構成する搬送ローラ 86の回転作用下に、受 け取り部 88から各加熱炉 90に、順次、タクト搬送される。
[0071] 矢印 C方向後段に配置されている加熱炉 90では、ガラス基板 24が所定の停止位 置に正確に停止されるとともに、このガラス基板 24は、感光性ウェブ 22の感光性榭 脂層 29の貼り付け部分に対応してゴムローラ 110a、 110b間にー且配置される(図 7 参照)。
[0072] この状態で、ローラクランプ部 114を介してバックアップローラ 112b及びゴムローラ 110bを上昇させることにより、ゴムローラ 110a、 110b間にガラス基板 24が所定のプ レス圧力で挟み込まれる。さらに、ゴムローラ 110aの回転作用下に、このガラス基板 24には、感光性榭脂層 29が加熱溶融により転写 (ラミネート)される。
[0073] ここで、ラミネート条件としては、速度が 1. OmZmin〜10. Om/min,ゴムローラ 1 10a、 1101)の温度カ 0。〇〜140。〇、前記ゴムローラ 110a、 110bのゴム硬度が 40 度〜 90度、該ゴムローラ 110a、 110bのプレス圧(線圧)が 50NZcm〜400NZcm である。
[0074] 図 8に示すように、ゴムローラ 110a、 110bを介してガラス基板 24に感光性ウェブ 2 2の 1枚分のラミネートが終了すると、前記ゴムローラ 110aの回転が停止される。一方 、ガラス基板 24に感光性ウェブ 22がラミネートされた貼り付け基板 24aは、基板搬送 ローラ 118bによりクランプされる。そして、ゴムローラ 110bは、ゴムローラ 110aから離 間する方向に退避してクランプが解除される。 [0075] これにより、一枚分のラミネート処理が終了し、次なるラミネート処理が開始されるま での時間の中で、加熱機構 45を介して所定の温度に加熱されたガラス基板 24が、 ゴムローラ 110a、 110b間に搬送されて配置されるとともに、前記ゴムローラ 110aに 摺接する感光性ウェブ 22の微動送りが行われる。
[0076] 図 1に示すように、ガラス基板 24に感光性ウェブ 22が貼り付けられた貼り付け基板 24aは、矢印 C方向に定量搬送される。そして、各ガラス基板 24間の感光性ウェブ 2 2が、基板間ウェブ切断機構 48を介して切断された貼り付け基板 24aは、冷却機構 1 20を通って冷却された後、支持体剥離装置 122に移送される。
[0077] 支持体剥離装置 122では、貼り付け基板 24aのガラス基板 24側が吸着パッド 148 の吸引作用下に保持される一方、各チャック 142a、 142bは、ガラス基板 24の搬送 方向両端から内方に突出するベースフィルム 26の矢印 D方向一端側に配置される( 図 6参照)。
[0078] そこで、可動部材 132a、 132bは、モータ 130a、 130bの作用下に貼り付け基板 2 4a側に移動するとともに、各チャック 142a、 142bは、開閉してベースフィルム 26の 搬送方向両端部を把持する。さらに、チャック 142a、 142bは、モータ 140a、 140b の作用下に旋回する一方、昇降台 136a、 136b及び可動部材 132a、 132bは、所 定の方向に駆動制御される。
[0079] このため、図 5及び図 6に示すように、チャック 142a、 142bが所定の剥離軌跡に沿 つて移動し、前記チャック 142a、 142bに把持されるベースフィルム 26は、クッション 層 27から分離されて貼り付け基板 24aから剥離される。その際、倣いローラ 146は、 可動部材 132a、 132bと一体的に矢印 D方向に所定の位置まで移動し、ベースフィ ルム 26を円滑且つ良好に剥離させる。貝占り付け基板 24aからベースフィルム 26が剥 離されること〖こより、積層体基板 150が得られる。
[0080] この場合、第 1の実施形態では、チャック 142a、 142bによりベースフィルム 26を把 持した後、このベースフィルム 26を貼り付け基板 24aから剥離する際の剥離速度が、 図 9に示す速度パターンに沿って、以下のように制御される。
[0081] 先ず、ベースフィルム 26の剥離開始時には、チャック 142a、 142bは、時間 0から 時間 T1までの間、 S字カーブ 180aの速度パターンに沿って移動される。次いで、剥 離開始工程終了後に時間 Tlから時間 T2までの間、速度が連続して上昇する方向 に変更される変化領域が設定され、この変化領域で、チャック 142a、 142bは、湾曲 する速度パターン (以下、湾曲速度パターンという) 180bに沿って移動される。
[0082] さらに、時間 T2から時間 T3までの間、速度が連続して減少する方向に変更される 変化領域が設定され、この変化領域で、チャック 142a、 142bは、湾曲速度パターン 180cに沿って移動制御される。なお、湾曲速度パターン 180cによる移動途上の時 間 T3において、ベースフィルム 26全体が貼り付け基板 24aから剥離されている。ま た、時間 T4から時間 T5までの間、すなわち、剥離動作終了工程では、チャック 142a 、 142bは、 S字カーブ 180dの速度パターンに沿って移動されて停止される。
[0083] そこで、図 9に示す速度制御を行う場合 (第 1の実施形態)と、特開 2002— 23466 7号公報 (従来)による速度制御を行う場合とよる品質評価を行う実験を行ったところ 、図 10に示す結果が得られた。
[0084] すなわち、第 1の実施形態では、ベースフィルム 26の剥離開始時に、剥離速度で あるチャック 142a、 142bの移動速度が S字カーブ 180aに沿って制御されている。こ のため、ベースフィルム 26を貼り付け基板 24aから急激に剥がし始めることがなぐ感 光性榭脂層 29に急激に力が付与されることはない。従って、感光性榭脂層 29は、特 にハーフカット部位 34が設けられて 、る端面部の脆!、箇所から凝集破壊が発生する ことを可及的に阻止することができる。
[0085] これに対して、従来方法では、ベースフィルム 26の剥がし始めに、急激な剥離速度 パターンに設定されている。このため、感光性榭脂層 29は、ハーフカット部位 34が設 けられている端面部カゝら凝集破壊が発生した。しカゝも、感光性榭脂層 29の破壊によ つて塵埃が発生し、この塵埃が、例えば、貼り付け基板 24a上に付着した。
[0086] さらに、第 1の実施形態では、 S字カーブ 180aによる剥離開始工程の後、チャック 1 42a、 142bは、連続して変更される湾曲速度パターン 180b、 180cに沿って移動さ れることにより、ベースフィルム 26を貼り付け基板 24aから完全に剥離している。
[0087] 従って、ベースフィルム 26の剥離作業中に、剥離速度の急激な変化がなぐ前記 ベースフィルム 26の剥離状態を一様に維持することができる。これにより、例えば、 感光性榭脂層 29の表面にスジ等が発生することがなぐこの感光性榭脂層 29の表 面を高品質に維持することが可能になる。
[0088] 一方、従来方法では、チャック 142a、 142bが屈曲部を有する直線状速度パターン に沿って移動されるため、ベースフィルム 26の剥離途上に、前記屈曲部に対応する 急激な速度変化点(図 16中、変化点 Pl、 P2及び P3参照)が発生しており、感光性 榭脂層 29の表面にスジが発生した。
[0089] また、第 1の実施形態では、貼り付け基板 24aは、基板保持機構 149を介して水平 姿勢に保持されている。このため、比較的大型の、例えば、 1100mm X 1350mm ( 厚さ 0. 7mm)のガラス基板 24を用いる際に、前記ガラス基板 24を平面性を維持し て正確且つ確実に保持することができる。
[0090] なお、第 1の実施形態では、チャック 142a、 142bによるベースフィルム 26の剥離 速度について説明したが、前記ベースフィルム 26の剥離加速度又は剥離減速度を 同様に設定することができる。
[0091] 図 11は、本発明の第 2の実施形態に係る外層体の剥離方法に適用される速度パ ターン (又は加速度パターン、あるいは、減速度パターン)の説明図である。
[0092] この第 2の実施形態では、ベースフィルム 26の剥離開始時には、時間 T1まで、 S 字カーブ 182aに沿ってチャック 142a、 142bを移動させた後、速度が連続して上昇 する方向に変更される湾曲速度パターン 182bに沿って時間 T2まで移動される。
[0093] さらに、時間 T2から剥離動作終了時の時間 T3まで、チャック 142a、 142bは、速度 が連続して下降する方向に変更される湾曲速度パターン 182cに沿って移動される。
[0094] また、図 12は、本発明の第 3の実施形態に係る外層体の剥剥離方法が適用される 速度パターン (又は加速度パターン、あるいは、減速度パターン)の説明図である。
[0095] この第 3の実施形態では、ベースフィルム 26の剥離開始時に、 S字カーブ 184aの 速度パターンに沿ってチャック 142a、 142bが移動された後、時間 T1から時間 T2ま での間に設定された速度の変化領域で、チャック 142a、 142bは、湾曲速度パター ン 184bに沿つて移動する。
[0096] 次いで、剥離速度は、時間 T2から T3までの間、定速度パターン 184cで一定の速 度 V2に維持された後、時間 T3から時間 T4までの間に設定された速度の変化領域 で、チャック 142a、 142bは、湾曲速度パターン 184dに沿って移動する。すなわち、 時間 T2から時間 T4までの間、剥離速度は、湾曲部を有する直線状速度パターンに 設定される。さらに、チャック 142a、 142bは、 S字カーブ 184eに沿って時間 T4から 時間 T5まで移動して停止する。
[0097] このように、第 2及び第 3の実施形態では、ベースフィルム 26を S字カーブ 182a、 1 84aに沿って剥がし始めるとともに、このベースフィルム 26を全て剥離するまでの間 に、速度 (又は加速度、あるいは、減速度)の急激な変化がない。これにより、感光性 榭脂層 29の凝集破壊やゴミの発生、及び前記感光性榭脂層 29の表面のスジ等の 不良が可及的に阻止され、上記の第 1の実施形態と同様の効果が得られる。
[0098] なお、第 3の実施形態では、ベースフィルム 26の剥離終了時に、 S字カーブ 184e を設定している力 この S字カーブ 184eを用いることなぐ湾曲速度パターン 184dで チャック 142a、 142bの移動を停止させてもよい。
[0099] また、支持体剥離装置 122は、ベースフィルム 26を貼り付け基板 24aの貼り付け方 向である搬送方向(矢印 C方向)に交差する矢印 D方向に剥離するように構成されて いるが、前記ベースフィルム 26の剥離方向を前記貼り付け基板 24aの搬送方向と平 行する矢印 C方向に設定してもよ 、。
[0100] 図 13は、本発明の第 4の実施形態に係る支持体剥離装置 190の概略斜視説明図 である。なお、第 1の実施形態に係る支持体剥離装置 122と同一の構成要素には同 一の参照符号を付して、その詳細な説明は省略する。また、以下に説明する第 5の 実施形態においても同様に、その詳細な説明は省略する。
[0101] 支持体剥離装置 190は、ベースフィルム 26を貼り付け基板 24aから剥離する際、 前記ベースフィルム 26に対して、ガラス基板 24との貼り付け方向(矢印 C方向)に張 力を付与する張力付与構造 192を備える。
[0102] 張力付与構造 192は、貼り付け基板 24aの搬送方向先端側から外部に突出するべ 一スフイルム 26の先端部 26aを把持自在な可動チャック部材 194a、 196a, 198a及 び 200aと、前記貼り付け基板 24aの搬送方向後方側に突出する前記ベースフィル ム 26の後端部 26bを把持自在な可動チャック部材 194b、 196b, 198b及び 200bと を備える。
[0103] チャック部材 194a、 194bは、互いに矢印 C方向に対向しており、他のチャック部材 196a, 196b, 198a, 198b及び 200a、 200biま、それぞれ互 ヽ【こ矢 |3C方向【こ対 向して配置される。チャック部材 194a〜200a及び 194b〜200bは、それぞれ開閉 自在で且つベースフィルム 26に対して進退可能に構成される。なお、第 4の実施形 態では、倣いローラ 146は用いなくてもよい。
[0104] この第 4の実施形態では、貼り付け基板 24aがベース剥離位置に配置されると、張 力付与構造 192を構成するチャック部材 194a〜200aは、ベースフィルム 26の先端 部 26aを把持するとともに、チャック部材 194b〜200bは、前記ベースフィルム 26の 後端部 26bを把持する。この状態で、チャック部材 194a〜200aとチャック部材 194b 〜200bとは、互いに離間する方向にトルク制御されることにより、ベースフィルム 26 には、矢印 C方向に所定の張力が付与される。
[0105] そこで、チャック 142a、 142bがベースフィルム 26の先端部 26a及び後端部 26bの 端部を把持し、所定の剥離軌跡に沿って矢印 D1方向に移動する。その際、ベース フィルム 26には、矢印 C方向に所定の張力が付与されており、このベースフィルム 2 6をガラス基板 24から円滑且つ確実に剥離することができる。
[0106] 図 14は、本発明の第 5の実施形態に係る製造装置を構成する支持体剥離装置 21 0の概略斜視説明図である。
[0107] 支持体剥離機構 210は、ベースフィルム 26を貼り付け基板 24aから剥離する際に 、前記ベースフィルム 26に対して、前記貼り付け基板 24aとの貼り付け方向に張力を 付与する張力付与構造 212を備える。
[0108] 張力付与構造 212は、貼り付け基板 24aの搬送方向先端側に突出するベースフィ ルム 26の先端部 26aを把持可能な先端チャック 214と、前記貼り付け基板 24aの搬 送方向後方に突出する前記ベースフィルム 26の後端部 26bを把持可能な後端チヤ ック 216とを備える。先端チャック 214及び後端チャック 216は、矢印 D方向に幅広に 構成されており、それぞれベースフィルム 26の先端部 26a及び後端部 26bを略幅方 向全面に渡って把持可能である。
[0109] 先端チャック 214は、モータ 140a、 140bに装着されており、先端チャック 214の移 動方向は、チャック 142a、 142bの移動方向(矢印 D方向)に直交する矢印 C方向に 設定される。なお、第 5の実施形態では、倣いローラ 146は用いている。 [0110] この第 5の実施形態では、貝占り付け基板 24aがベース剥離位置に搬送されると、こ の貼り付け基板 24aの先端側に突出するベースフィルム 26の先端部 26aは、先端チ ャック 214に把持される。一方、貝占り付け基板 24aの後端側に突出するベースフィル ム 26の後端部 26bは、後端チャック 216に把持される。
[0111] 次いで、後端チャック 216、あるいは、前記後端チャック 216及び先端チャック 214 は、トルク制御されてこれらに挟持されるベースフィルム 26に矢印 C方向に沿って張 力が付与される。この状態で、先端チャック 214が所定の剥離軌跡に沿って移動する ことにより、所定の張力が付与されているベースフィルム 26は、ガラス基板 24から円 滑且つ確実に剥離される。
訂 ^れた 紙 (規則 91)

Claims

請求の範囲
[1] 基板 (24)に貼り付けられた多層フィルムの外層体 (26)を、前記基板 (24)から剥離 する外層体の剥離方法であって、
把持機構 (142a)により前記外層体 (26)を把持し、前記把持機構 (142a)を S字力 ーブの速度パターン又は加速度パターンに沿って移動させる剥離開始工程と、 前記剥離開始工程の後、前記外層体 (26)全体を前記基板 (24)から剥離するまで の間に、速度、加速度又は減速度が変化する変化領域を設定し、前記変化領域で、 前記把持機構を湾曲する速度パターン、加速度パターン又は減速度パターンに沿つ て移動させる剥離工程と、
を有することを特徴とする外層体の剥離方法。
[2] 請求項 1記載の剥離方法において、前記剥離開始工程の後、前記外層体 (26)全体 を前記基板 (24)から剥離するまでの間に、前記把持機構(142a)の速度、加速度又 は減速度が連続して変更されることを特徴とする外層体の剥離方法。
[3] 請求項 1又は 2記載の剥離方法にお 、て、前記基板 (24)は、水平姿勢に保持され た状態で、前記外層体 (26)が前記基板 (24)から剥離されることを特徴とする外層 体の剥離方法。
[4] 請求項 1記載の剥離方法にぉ 、て、前記外層体(26)に対して、前記基板 (24)との 貼り付け方向に張力を付与した状態で、前記外層体 (26)を前記貼り付け方向に交 差する方向に剥離することを特徴とする外層体の剥離方法。
[5] 請求項 1記載の剥離方法にぉ 、て、前記外層体(26)に対して、前記基板 (24)との 貼り付け方向に張力を付与した状態で、前記外層体 (26)を前記貼り付け方向に剥 離することを特徴とする外層体の剥離方法。
[6] 請求項 1記載の剥離方法において、前記多層フィルムは、少なくとも前記基板に貼り 付けられる感光性榭脂層(29)及び前記外層体(26)であるベースフィルム(26)を有 し、
前記基板 (24)カゝら前記ベースフィルム(26)を剥離することを特徴とする外層体の 剥離方法。
[7] 基板 (24)に貼り付けられた多層フィルムの外層体 (26)を、前記基板 (24)力も剥 離する外層体の剥離装置であって、
前記基板 (24)を水平姿勢に保持する基板保持機構 (149)と、
前記外層体 (26)を把持し、前記外層体 (26)を前記基板 (24)から剥離する把持 機構 (142a)と、
剥離開始時に、前記把持機構(142a)を S字カーブの速度パターン又は加速度パ ターンに沿って移動させる一方、前記剥離開始工程の後、前記外層体 (26)全体を 前記基板 (24)力 剥離するまでの間に、速度、加速度又は減速度が変化する変化 領域を設定し、前記変化領域で、前記把持機構 (142a)を湾曲する速度パターン、 加速度パターン又は減速度パターンに沿って移動させる移動制御機構(166)と、 を備えることを特徴とする外層体の剥離装置。
[8] 請求項 7記載の剥離装置において、前記外層体 (26)に対して、前記外層体 (26) の剥離方向に交差する前記基板 (24)との貼り付け方向に張力を付与する張力付与 構造 (192)を備え、
前記張力付与構造(192)は、前記基板 (24)の搬送方向先端側及び搬送方向後 端側から外方に突出する前記外層体 (26)の先端部及び後端部を把持するそれぞ れ複数の可動チャック部材(194a、 194b)を備えることを特徴とする外層体の剥離 装置。
[9] 請求項 7記載の剥離装置において、前記外層体 (26)に対して、前記外層体 (26) の剥離方向である前記基板 (24)との貼り付け方向に張力を付与する張力付与構造 (212)を備え、
前記張力付与構造 (212)は、前記基板 (24)の搬送方向先端側及び搬送方向後 端側から外方に突出する前記外層体 (26)の先端部及び後端部を把持する先端チ ャック(214)及び後端チャック(216)を備えることを特徴とする外層体の剥離装置。
[10] 請求項 7記載の剥離装置にぉ 、て、前記多層フィルムは、少なくとも前記基板に貼 り付けられる感光性榭脂層(29)及び前記外層体(26)であるベースフィルムを有し、 前記基板 (24)カゝら前記ベースフィルム(26)を剥離することを特徴とする外層体の 剥離装置。
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