WO2006009065A1 - 反射防止膜及びそれを有する反射防止板 - Google Patents

反射防止膜及びそれを有する反射防止板 Download PDF

Info

Publication number
WO2006009065A1
WO2006009065A1 PCT/JP2005/013033 JP2005013033W WO2006009065A1 WO 2006009065 A1 WO2006009065 A1 WO 2006009065A1 JP 2005013033 W JP2005013033 W JP 2005013033W WO 2006009065 A1 WO2006009065 A1 WO 2006009065A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
film
refractive index
antireflection
antireflection film
film thickness
Prior art date
Application number
PCT/JP2005/013033
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hirokazu Suzuki
Masayasu Ogushi
Toshiyuki Yoshikawa
Original Assignee
Kuraray Co., Ltd.,
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co., Ltd., filed Critical Kuraray Co., Ltd.,
Publication of WO2006009065A1 publication Critical patent/WO2006009065A1/ja

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings

Definitions

  • Antireflection film and antireflection plate having the same
  • the present invention relates to an antireflection film manufactured by coating a liquid material, and an antireflection plate having the antireflection film on at least one surface. More specifically, it is an antireflection film in which a low-refractive index film and a high-refractive index film are laminated by a wet coating method, and suppresses uneven color caused by partial film thickness fluctuations where the luminous reflectance is low.
  • the present invention relates to an antireflection film and an antireflection plate having the antireflection film on at least one surface.
  • the wet coating method has a low cost compared to the dry coating method.
  • a coating material in a solution state is applied to a substrate such as a film, the solvent is dried and removed, and the resulting coating film is heated or applied.
  • the film is cured by irradiating active energy rays to form a cured thin film, and an antireflection film comprising a plurality of cured thin films is produced by repeating these operations a plurality of times.
  • the reflectance is lowered by utilizing the interference of light.
  • the spectral reflectance at each wavelength of the visible light castle changes. Therefore, the color of the reflected light changes depending on the location, and the change is observed as color unevenness, resulting in deterioration of the appearance of the antireflection film.
  • the film thickness is such that the reflectance is the lowest at the center wavelength of visible light (555 nm)
  • even a slight film thickness variation is possible. There is a problem that color unevenness occurs and the appearance deteriorates.
  • Patent Documents 1 to 4 are not preferable because the manufacturing cost of the antireflection film is increased and the material and operating conditions are restricted. In addition, it has been very difficult to achieve a level of film thickness fluctuation ( ⁇ 1% or less) sufficient to suppress color unevenness by either technique.
  • Patent Document 5 by defining the refractive index of each layer in a dielectric multilayer film composed of four layers, the influence on the antireflection performance can be suppressed even when the film thickness of each layer varies.
  • this multilayer film is manufactured by a so-called dry coating method, and it is difficult to manufacture an equivalent film by a wet coating method. Even if it can be manufactured, it is clear that the number of layers is large and disadvantageous in terms of cost. In other words, the present situation is that obtaining an antireflection film satisfying both performance and cost has not been realized so far.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-39014
  • Patent Document 2 JP 2003-93963 A
  • Patent Document 3 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-126768
  • Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-93953
  • Patent Document 5 JP-A-5-249303
  • the present invention provides an antireflection film capable of suppressing deterioration of the appearance even when the film thickness of the coating film changes when the wet coating method is used, and an antireflection film using the antireflection film The purpose is to provide a board.
  • FIG. 1 is a diagram showing a film thickness range that satisfies the expressions (3) and (4).
  • FIG. 2 is a diagram showing a range of film thicknesses satisfying the expressions (5) and (6), and the expressions (5 ′) and (6 ′).
  • the present invention is an antireflection film including two layers sequentially laminated by a wet coating method, and is used for suppressing reflection of external light.
  • the color difference ( ⁇ ⁇ *) obtained from any two different surface reflectances is 2 in order to suppress the occurrence of color unevenness and appearance deterioration, with a visual reflectance of 2.0% or less.
  • the object is an antireflection film that is 0 or less, and an antireflection plate having this antireflection film on at least one surface of a substrate.
  • the luminous reflectance is the reflectance sensitivity determined in consideration of the sensitivity to the wavelength of the human eye, and is obtained by the method of JIS Z 8701 based on the spectral reflectance.
  • the preferable luminous reflectance is 1.7% or less.
  • the lower limit of the apparent reflectance is actually 0.1% or more, preferably 0.5% or more, due to material limitations.
  • the color difference ( ⁇ ⁇ *) is an index that expresses the difference in color of reflected light, and is an index that expresses the difference in color of reflected light obtained by the method of JIS Z 8729 from the spectral reflectance of two different points. is there.
  • a preferable color difference ( ⁇ *) is 1.5 or less.
  • the antireflection film of the present invention is produced by a wet coating method in order to reduce production costs.
  • the coating method to be used is not particularly limited, but in order to obtain the effects of the present invention, it is preferable that the variation in film thickness is ⁇ 5% or less.
  • a method, a datebing method, or the like is preferably used.
  • the antireflection film of the present invention is subjected to antifouling treatment using various surface treatment agents such as silicone-based or fluorine-based surface treatment agents within a range in which the refractive index of the surface layer does not substantially change.
  • various surface treatment agents such as silicone-based or fluorine-based surface treatment agents within a range in which the refractive index of the surface layer does not substantially change.
  • Water repellent treatment or the like may be performed.
  • the antireflection plate of the present invention comprises the above antireflection film of the present invention on at least one surface of a substrate. Have.
  • the two antireflection films may be the same or may have different refractive indexes and different film thickness configurations.
  • a transparent resin board, a transparent resin film, a glass plate, or the like can be used, for example, as long as it is a transparent plate or film.
  • the transparent resin include (meth) acrylate resin, polycarbonate resin, polyester resin, single cell resin, styrene resin, methyl methacrylate-styrene random copolymer resin, and the like. be able to.
  • the nD of the base material is preferably 1.48 to: L 60.
  • the refractive index has wavelength dependence (dispersion), Since reflectance of wavelengths in the range of 550 to 600 nm is regarded as important, nD is a representative value.
  • a thick film layer having a thickness of 1 m or more on the substrate
  • two layers may be laminated by a wet coating method.
  • This thick film layer can be used as a hard coat layer or a conductivity providing layer.
  • Such a thick film layer is, for example, a resin layer obtained by polymerizing and curing a raw material containing a polyfunctional monomer as a main component.
  • the main component of the resin is a urethane-modified (meth) acryl oligomer, a polyfunctional monomer.
  • a polyfunctional polymer containing two or more alicyclic groups and methacryloyl groups such as polyether (meth) acrylic acid ester, poly (meth) acrylic acid, and the like is polymerized and cured by active energy rays.
  • examples thereof include cocoa butter or rosin obtained by crosslinking and curing a silicone-based, melamine-based, or epoxy-based material by heat.
  • the thick film layer formed on the base material can be regarded as optically integral with the base material.
  • the nD of the thick film layer is preferably in the range of 1.48 to L60.
  • the material constituting the surface layer is a thermosetting type or active energy ray hardened material.
  • a silicone-based resin a fluorinated silicone-based resin, an acrylate-based resin, and combinations thereof can be used.
  • a metal oxide fine particle is added to a thermosetting or active energy ray curable resin.
  • urethane acrylate resin titanium oxide, zirconium oxide, ITO, etc.
  • rosin to which fine particles are added is used.
  • nH and nL are represented by the following formulas (1) and (2)
  • This refractive index range is more preferably considering the adhesion between layers and the mechanical strength of the film.
  • the antireflection film of the present invention is a?
  • the visual reflectance is 2.0% or less, and the surface reflectance power at two different points is characterized by a color difference ( ⁇ *) of 2.0 or less.
  • the method for obtaining such an antireflection film is not particularly limited.
  • the film thicknesses of the low refractive index film and the high refractive index film are both measured with respect to the reflectance and the color unevenness when the film thickness varies. It can be easily obtained by designing in consideration of the above.
  • the sensitivity of the eye is taken into consideration, and the reflectance is the lowest at the center wavelength of visible light (555 nm), that is, the reflection spectrum.
  • the film thickness is designed so that the V is V-shaped.
  • the reflectance on the short wavelength side and the long wavelength side of visible light greatly changes, resulting in color unevenness.
  • the film thickness is selected appropriately, the reflection spectrum can be made such that the color difference of the reflected light does not increase in the visible light range, and the film thickness is reduced while keeping the reflectance low. Even if there is a fluctuation around the design, it is possible to suppress the occurrence of color unevenness.
  • the dH and dL are the following formulas (5) and (6)
  • the above-mentioned design depends on the magnitude of film thickness variation and the desired luminous reflectance, reflected color, and transmitted color. It is possible to select the film thickness from the range.
  • an antireflection plate (substrate Z antireflection film (high refractive index layer Z low refractive index layer)) was produced according to the operation described below.
  • the bar coater that can be applied so that the average value of the film thickness is the same as the designed film thickness was selected as the target value of the designed film thickness shown in the following examples and comparative examples.
  • a 2 mm thick methyl metatalylate-styrene random copolymer resin board is used as a base material.
  • An antireflection plate with a substrate was prepared by forming two thin film layers (a high refractive index layer and a low refractive index layer in this order from the substrate side) on one side.
  • EI-3 coating solution (containing ITO fine particles and uretan-modified attalylate resin) manufactured by Dainippon Paint Co., Ltd. was diluted with 2-butanone to a solid content concentration of 3.0%. Then, a coating solution for forming a high refractive index layer was prepared, and this coating solution was applied to one side of a substrate using a bar coater, dried with hot air at 70 ° C for 1 minute, and then under the condition of 120 mjZcm 2 A high refractive index layer was formed by curing by irradiating with ultraviolet rays.
  • a low refractive index layer was formed by diluting Opster JTA112 coating solution (containing fluorinated silicone resin) from JSR Corporation with 4-methyl-2-pentanone to a solid content concentration of 3.0%.
  • a coating solution was prepared, and this coating solution was applied onto the high refractive index layer using a bar coater, dried with hot air under predetermined conditions and cured to form a low refractive index layer.
  • an antireflection plate composed of the substrate Z antireflection film (high refractive index layer Z low refractive index layer) was obtained.
  • the refractive index nD of each layer of the antireflection pair at a wavelength of 587.6 nm measured using an Abbe refractometer was as follows.
  • low refractive index layer Z high refractive index layer thickness 100nm Zl50nm is applied as the design film thickness, and low refractive index layer
  • the coating solution of the forming coating solution was dried with hot air at 80 ° C. for 30 minutes to remove the solvent, and an antireflection plate was obtained.
  • An antireflection plate was obtained by repeating the same operation as in Example 1 except that the drying condition of the coating film for the layer forming coating solution was hot air drying at 50 ° C. for 60 minutes.
  • An antireflection plate was obtained by repeating the same operation as in Example 1, except that the coating condition of the coating solution for forming a low refractive index layer was hot air drying at 50 ° C. for 60 minutes.
  • Low Refractive Index Layer Z High Refractive Index Layer Thickness 95nm Z85nm is the designed film thickness, except that the coating condition of the coating liquid for forming the low refractive index layer is dry at 25 ° C for 90 minutes. By repeating the same operation as in Example 1, an antireflection plate was obtained.
  • the refractive index of the medium refractive index layer is 1.70
  • the refractive index of the high refractive index layer is 1.85
  • the low refractive index is Materials with a refractive index of 1.45 were deposited with designed film thicknesses of 90 nm, 66 nm, and 95 nm, respectively, to obtain an antireflection plate.
  • an 80 ⁇ m-thick cellulose triacetate film Co-catac K C8UX2MW, refractive index 1.49, degree of substitution of acetyl group 2.88
  • the coating layer forming composition was applied to a dry film thickness of 3.5 / zm, dried at 80 ° C for 1 minute, and then cured by irradiating with ultraviolet rays at 200 mjZcm 2 for hard coating. A layer was formed to produce a hard coat film.
  • the composition M for forming a medium refractive index layer in Table 3 was applied with an extrusion coater, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays at 200 miZcm 2. Irradiated and cured to form a medium refractive index layer.
  • the average refractive index layer had an average film thickness of 90 nm and a refractive index of 1.70.
  • the composition H for forming a high refractive index layer shown in Table 4 was applied with an extrusion coater, dried at 80 ° C for 5 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays under conditions of 200 mjZcm 2. Irradiated and cured to form a high refractive index layer.
  • the thickness of this high refractive index layer is 66 nm and the refractive index is 1.85 o
  • the composition L for forming a low refractive index layer in Table 5 was applied with an extrusion coater, dried at 80 ° C for 2 minutes, and further 120 ° C. And then cured by irradiating with ultraviolet rays under the condition of 200 mjZcm 2 to form a low refractive index layer.
  • This low refractive index layer had a thickness of 95 nm and a refractive index of 1.45.
  • the reflection color at each measurement point was calculated according to the methods of JIS Z 8701 and JIS Z 8729.
  • the maximum ⁇ It was defined as a measure of color unevenness in the invention.
  • ⁇ * calculated from the average value of the color coordinates of all measurement points and the color coordinates of each point, but this method hardly reflects the actual color unevenness.
  • the physical film thickness (unit: nm) of each layer of the antireflection film is set to dH and dL in the order of lamination, and the combination of film thickness and film thickness variation of Example and Comparative Example, luminous reflectance, ⁇ *, Table 6 shows the evaluation of color unevenness. [0054] [Table 6]
  • Comparative Example 6 is a 90 nm thick medium refractive index 3 3 bladder 3 ⁇ configuration 0) Reflective stasis bladder
  • Example 1 and Comparative Example 1 the color variation is very conspicuous in Comparative Example 1 in which the film thickness variation is as large as ⁇ 4 nm, whereas in Example 1, the color unevenness is It didn't stand out. Even when the film thickness variation is as small as ⁇ 2 nm as in Example 2 and Comparative Example 2, color unevenness is noticeable in Comparative Example 2, whereas in Example 2, the luminous reflectance is The color unevenness could be suppressed until now. By the way, it has the same film thickness configuration as Comparative Example 2. When the film thickness fluctuation is even smaller as in Example 6, it is difficult to reproduce because the restrictions on the coating conditions and the composition of the coating liquid used are large. However, the uneven color became inconspicuous.
  • Example 3 when the variation in film thickness was small compared to Example 1, the color unevenness could be further reduced.
  • the film thickness variation is the same as in Example 2 and Example 3, but color unevenness is conspicuous, which is not preferable.
  • Comparative Example 4 the color unevenness is not noticeable, but is not preferable because the luminous reflectance is high.
  • Comparative Example 5 is not preferable because both the luminous reflectance and the color unevenness are large.
  • the luminous reflectance is as low as 0.7%, but the color unevenness is conspicuously unfavorable even though the film thickness variation is relatively as small as ⁇ 1.5 nm.
  • the configuration is realized with three layers of thin films, which is disadvantageous in terms of the number of coatings and the material.
  • the antireflection film of the present invention causes color unevenness due to partial film thickness fluctuations with low luminous reflectance. It is hard to live. Therefore, the antireflection plate having the antireflection film of the present invention can be suitably used for various display front plates and the like.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

　湿式コーティング法により順に積層された２つの層を含む反射防止膜において、視感反射率を２．０％以下とし、且つ任意の異なる２点の表面反射率から求めた色差（ΔＥ＊）を２．０以下とする。反射防止膜の各層の波長５８７．６ｎｍにおける屈折率を、積層された順にｎＨ、ｎＬとした時、下記式（１）及び（２） 　　　１．３８　≦　ｎＬ　≦　１．４８　（１） 　　　　　　１．５５　≦　ｎＨ　≦　１．７０　（２）　　　　　 の関係を満足することが好ましい。また、それら２つの層の物理的膜厚を、積層された順にそれぞれｄＨ、ｄＬ（単位ｎｍ）とした時、下記式（３）及び（４） 　　　　　９５　≦　ｄＬ　≦　１０５　（３） 　　　　　２４５－ｄＬ　≦　ｄＨ　≦　２５５－ｄＬ　（４）　　　　　 の関係を満足することが好ましい。 　

Description

明 細 書
反射防止膜及びそれを有する反射防止板
技術分野
[0001] 本発明は、液状材料をコーティングして製造される反射防止膜、及びその反射防 止膜を少なくとも一方の面に有する反射防止板に関する。より詳しくは、低屈折率膜 と高屈折率膜とを湿式コーティング法によって積層した反射防止膜であって、視感反 射率が低ぐ部分的な膜厚の変動によって発生する色ムラを抑えたことを特徴とする 反射防止膜、及びその反射防止膜を少なくとも一方の面に有する反射防止板に関 する。
背景技術
[0002] 反射防止膜の製造に関し、湿式コーティング法は乾式コーティング法に比べ低コス トであると!/、う特徴を有して 、る。湿式コーティング法による反射防止膜の製造にぉ ヽ ては、溶液状態の塗膜原料をフィルム等の基材に塗布し、溶媒を乾燥除去し、得ら れた塗膜を加熱することにより又は塗膜に活性エネルギー線を照射することにより硬 ィ匕させて硬化薄膜を形成し、更にこれらの操作を複数回繰り返すことによって複数の 硬化薄膜からなる反射防止膜を製造している。しかしながら、反射防止膜の製造に 湿式コーティング法を採用した場合には、基材のシヮや、塗工に用いられる機械の振 動、塗工する液の重力、遠心力によるタレ、乾燥過程での部分的な拡散の不均一性 等の原因により、得られた硬化薄膜の膜厚が場所によって変動するという問題があつ た。
[0003] 反射防止膜においては、光の干渉を利用して反射率を下げているが、前述のよう に膜厚が場所によって変動すると、可視光城の各波長での分光反射率が変化する ため、反射光の色が場所によって変化し、その変化が色ムラとして観察され、反射防 止膜の外観の劣化が生ずる。特に、低屈折率膜と高屈折率膜とから構成される反射 防止膜では、可視光の中心波長（555nm)において反射率が最も低くなる膜厚構成 にすると、ごくわずかの膜厚の変動でも色ムラが発生し、外観不良となる問題点があ [0004] 反射防止膜における膜厚変動を小さくして色ムラを抑える手段としては、フィルム等 の基材を用いる場合には、基材のシヮの発生を抑制するために厚手の基材を使用 する等の方法が採用されている。また、高沸点の溶剤を加えて液膜の平滑ィ匕を図る ことが行なわれており、その他にも機械的な振動を抑えるための工夫や、乾燥炉の風 量を一定以下に抑える等の機械的な改良により膜厚分布を一定にする技術が知ら れている（例えば、特許文献 1〜4参照)。
[0005] し力しながら、特許文献 1〜4に記載の技術では、反射防止膜の製造コストが上昇 し、また、材料や運転条件に制約が加わるために好ましくない。また、いずれの技術 によっても、色ムラを抑えるのに十分な膜厚変動のレベル（± 1%以下）を実現するこ とは非常に困難であった。
[0006] また、特許文献 5には、 4層からなる誘電体多層膜において各層の屈折率を規定す ることにより、各層の膜厚が変動した場合にも反射防止性能に与える影響を抑制でき ることが記載されて 、るが、この多層膜は 、わゆる乾式コーティング法によって製造さ れるものであり、湿式コーティング法で同等のものを製造することは困難である。仮に 製造できたとしても、層の数が多くコスト的に不利であることは明らかである。すなわち 、性能とコストの両面を満足する反射防止膜を得ることは、これまで実現されていなか つたというのが現状である。
[0007] 特許文献 1 :特開 2003— 39014号公報
特許文献 2：特開 2003 - 93963号公報
特許文献 3 :特開 2003— 126768号公報
特許文献 4:特開 2003— 93953号公報
特許文献 5：特開平 5 - 249303号公報
[0008] そこで、本発明は、湿式コーティング法を用いた場合に塗膜の膜厚が変動しても外 観の劣化を抑制できるような反射防止膜、及びその反射防止膜を用いた反射防止板 を提供することを目的とする。
発明の開示
[0009] 前述した問題点は、湿式コーティング法により順に積層された 2つの層を含む反射 防止膜において、？見感反射率が 2. 0%以下であり、且つ任意の異なる 2点の表面反 射率から求めた色差（ Δ E*)が 2. 0以下であることを特徴とする反射防止膜によって 解決される。
図面の簡単な説明
[0010] [図 1]図 1は、式 (3)及び式 (4)を満足する膜厚の範囲を表す図である。
[図 2]図 2は、式 (5)及び式 (6)、並びに式 (5' )及び式 (6' )を満足する膜厚の範囲 を表す図である。
発明を実施するための最良の形態
[0011] 以下に本発明を詳細に説明する。
[0012] 本発明は、湿式コーティング法により順に積層された 2つの層を含む反射防止膜で あって、外光の映り込みを抑制するために、？見感反射率が 2. 0%以下であり、且つ 色ムラの発生と外観の劣化とを抑制するために、任意の異なる 2点の表面反射率か ら求めた色差（Δ Ε*)が 2. 0以下である反射防止膜、及びこの反射防止膜を基材の 少なくとも一方の面に有する反射防止板を対象とする。ここで、視感反射率は人間の 目の波長に対する感度を考慮して決定された反射率の感度であり、分光反射率を元 にして JIS Z 8701の方法によって求められる。本発明において、好ましい視感反 射率は 1. 7%以下である。なお、？見感反射率の下限については、材料上の制約から 現実には 0. 1%以上であり、好ましくは 0. 5%以上である。一方、色差（Δ Ε*)は反 射光の色の差を表す指数であり、任意の異なる 2点の分光反射率から JIS Z 8729 の方法によって求められる、反射光の色の差を表す指数である。好ましい色差（Δ Ε *)は 1. 5以下である。
[0013] 本発明の反射防止膜は、製造コストを抑えるために、湿式コーティング法によって 製造される。使用するコーティング方式は特に限定されるものではないが、本発明の 効果を得るためには、膜厚の変動を ± 5%以下にすることが好ましぐこの点から小 径グラビア方式、ダイコーター方式、デイツビング方式等が好適に用いられる。
[0014] 本発明の反射防止膜には、その表面層の屈折率が実質的に変化しない範囲で、 種々の表面処理剤、例えば、シリコーン系又はフッ素系の表面処理剤を用いて防汚 処理、撥水処理等を施してもよい。
[0015] 本発明の反射防止板は、上記の本発明の反射防止膜を基材の少なくとも一方の面 に有する。反射防止膜を表裏両面に有する場合は、 2つの反射防止膜は同じもので あっても、屈折率や膜厚構成の異なるものであってもよい。
[0016] ここで、基材としては、透明な板状又はフィルム状物であれば特に制限はなぐ例え ば透明榭脂板、透明榭脂フィルム、ガラス板等を用いることができる。透明榭脂として は、（メタ)アタリレート系榭脂、ポリカーボネート系榭脂、ポリエステル系榭脂、セル口 一ス系榭脂、スチレン系榭脂、メチルメタクリレートースチレンランダム共重合榭脂等 を挙げることができる。基材の nD (ナトリウム (1線=波長 587. 6nmにおける屈折率） は 1. 48〜： L 60であることが望ましい。なお、屈折率は波長依存性 (分散）を有して いるが、 550〜600nmの範囲の波長の反射率が重要視されるため、 nDを代表値と する。
[0017] 本発明の反射防止板において、前述の基材に厚さ 1 m以上の厚膜層を形成させ た後に、湿式コーティング法によって 2つの層を積層してもよい。この厚膜層は、ハー ドコート層又は導電性付与層として用いることができる。このような厚膜層は、例えば 多官能性モノマーを主成分とする原料を重合硬化させることによって得られる榭脂層 であり、榭脂の主たる成分としては、ウレタン変性 (メタ)アクリルオリゴマー、多価アル コールと (メタ)アクリル酸とのエステルイ匕物、ポリエーテル (メタ）アタリレート等のアタリ ロイル基、メタクリロイル基を 2つ以上含んだ多官能性重合物を活性エネルギー線に よって重合硬化させた榭脂、又はシリコーン系、メラミン系、エポキシ系の原料を熱に よって架橋硬化させた榭脂を挙げることができる。この場合、基材に形成された厚膜 層は光学的には基材と一体と見なすことができる。また、この場合の厚膜層の nDは 1 . 48〜： L 60の範囲であることが望ましい。
[0018] 本発明の反射防止膜が含む二つの層のうち、表面側の層、すなわち後から積層さ れる層（低屈折率層）を構成する材料としては、熱硬化型又は活性エネルギー線硬 化型の樹脂が用いられ、例えばシリコーン系榭脂、フッ素化シリコーン系榭脂、アタリ レート系榭脂及びこれらの組み合わせ等が挙げられる。本発明の反射防止膜の内側 の層、すなわち先に成膜される層（高屈折率層）を構成する材料としては、熱硬化型 又は活性エネルギー線硬化型の樹脂に金属酸ィ匕物微粒子を混合した材料が用いら れ、例えばウレタンアタリレート系榭脂に、酸化チタン、酸ィ匕ジルコニウム、 ITO等の 微粒子を添加した榭脂等が用いられる。
[0019] また、本発明の反射防止膜の二つの層の nDを、積層された順に nH、 nLとした時、 nH及び nLが下記式（1)及び（2)
1. 38 ≤ nL ≤ 1. 48 (1)
1. 55 ≤ nH ≤ 1. 70 (2)
の関係を満足することが望ましい。この屈折率の範囲は、層間の密着性や膜の機械 的強度を考慮すると、より好ましくは、
1. 40 ≤ nL ≤ 1. 45 (1，）
1. 60 ≤ nH ≤ 1. 65 (2，）
である。
[0020] 本発明の反射防止膜は、上記のとおり、？見感反射率が 2. 0%以下であり、且つ任 意の異なる 2点の表面反射率力 求めた色差（Δ Ε*)が 2. 0以下であることを特徴と するものである。このような反射防止膜を得る方法は特に限定されないが、例えば、 低屈折率膜及び高屈折率膜のそれぞれの膜厚を、反射率及び膜厚変動があつたと きの色ムラの尺度の両方を考慮して設計することにより、容易に得ることができる。
[0021] 二つの薄膜層からなる反射防止膜の製造においては、通常は眼の感度を考慮し、 可視光の中心波長（555nm)で反射率が最も低くなるような、すなわち、反射スぺタト ルが V字型となるような膜厚設計がなされる。しカゝしながらこのような構成では、膜厚 が設計からわずかでもずれると、可視光の短波長側と長波長側の反射率が大きく変 動し、結果的に色ムラが発生する。これに対し、膜厚を適切に選択すれば、可視光の 範囲で反射光の色の違 、が大きくならな 、ような反射スペクトルにすることができ、反 射率を低く抑えつつ、膜厚が設計の周囲で変動しても色ムラの発生を抑制すること が可能となる。
[0022] 膜厚の変動が比較的大きい場合 (例えば ± 3%以上、 5%以下）に、色ムラの発生 を最大限に抑制するためには、本発明の反射防止膜を構成する 2つの層の物理的 膜厚を、積層された順にそれぞれ dH、 dL (単位 nm)とした時、 dH及び dLが下記式 (3)及び (4)
95 ≤ dL ≤ 105 (3) 245 -dL ≤ dH ≤ 255-dL (4)
の関係を満足することが望ま 、。この式 (3)及び (4)で表される膜厚の範囲を 2次 元でプロットすると図 1の平行四辺形の内部となる。この場合、視感反射率は高めと なるが、 Δ Ε*は低く抑えることができるため、コーティング時の膜厚の変動が大きくて も色ムラを抑帘 Uすることができる。
[0023] 一方、膜厚の変動が比較的小さく抑えられる場合 (例えば ± 3%未満）には、反射 率を重視した設計を採用することができるので、視感反射率を 1. 7%以下とすること が容易となる。また、逆に反射防止膜の視感反射率を 1. 7%以下とすると、膜厚の設 計の自由度が広がる。すなわち、前記の dH及び dLが下記式（5)及び (6)
80 ≤ dL ≤ 105 (5)
190— dL ≤ dH ≤ 220 -dL (6)
の関係を満足する場合に、色ムラが抑制された反射防止膜となる。この式 (5)及び (6 )で表される膜厚の範囲を 2次元でプロットすると図 2の外側の平行四辺形の内部とな る。このときの膜厚の範囲は、反射光の色や反射率と色ムラのバランスを考慮すると、 90 ≤ dL ≤ 105 (5，）
200 -dL ≤ dH ≤ 215-dL (6，）
であることがより好まし 、。この式（5 ' )及び（6 ' )で表される膜厚の範囲を 2次元でプ ロットすると図 2の内側の平行四辺形の内部となる。
[0024] 視感反射率と色ムラの強さは概ね相反する関係にあるが、膜厚変動の大きさや目 的とする視感反射率、反射色、透過色の設計に応じて上記の設計範囲の中から膜 厚を選択することが可能である。
[0025] (実施例）
以下の実施例 1〜5及び比較例 1〜5において、以下に説明する操作に従って反 射防止板 (基板 Z反射防止膜 (高屈折率層 Z低屈折率層)）を製造した。なお、以下 の実施例及び比較例に示す設計膜厚を目標値とし、膜厚の平均値が設計膜厚のと おりになるように塗布できるバーコータを市販のバーコータの中力も選択した。
[0026] <反射防止板の製造 >
基材として、 2mm厚の、メチルメタタリレート一スチレンランダム共重合榭脂板を用 い、その片面に二つの薄膜層 (基材側から順に、高屈折率層、低屈折率層）を成膜 することにより基材付きの反射防止板を作成した。
[0027] 具体的には、大日本塗料株式会社製 EI— 3コーティング液 (ITO微粒子及びウレタ ン変性アタリレート榭脂を含有)を 2—ブタノンで固形分濃度 3. 0%になるように希釈 して高屈折率層形成用塗工液を調製し、この塗工液をバーコータを用いて基材の片 面に塗工し、 70°Cで 1分間熱風乾燥した後に、 120mjZcm2の条件で紫外線を照 射することにより硬化させ、高屈折率層を成膜した。
[0028] 次に、 JSR株式会社製ォプスター JTA112コーティング液 (フッ素化シリコーン系榭 脂含有)を 4ーメチルー 2—ペンタノンで固形分濃度 3. 0%になるように希釈して低屈 折率層形成用塗工液を調製し、この塗工液をバーコータを用!ヽて高屈折率層上に 塗工し、所定の条件で熱風乾燥すると共に硬化させ、低屈折率層を成膜した。これ により、基材 Z反射防止膜 (高屈折率層 Z低屈折率層)からなる反射防止板が得ら れた。
[0029] なお、アッベ屈折率計を用いて測定した波長 587. 6nmにおける反射防止対の各 層の屈折率 nDは下記のとおりであった。
[0030] [表 1]
Figure imgf000009_0001
[0031] <実施例 1 >
上記の材料の組み合わせ (基材 Z高屈折率層 Z低屈折率層）において、低屈折 率層 Z高屈折率層の膜厚 = 100nmZl50nmを設計膜厚として塗工を行い、低屈 折率層形成用塗工液の塗膜を 80°Cで 30分間熱風乾燥することにより溶剤を除去し 、反射防止板を得た。
[0032] <実施例 2>
低屈折率層 Z高屈折率層の膜厚 = 100nmZl lOnmを設計膜厚とし、低屈折率 層形成用塗工液の塗膜の乾燥条件を 50°C、 60分間の熱風乾燥とした以外は、実施 例 1と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0033] <実施例 3>
低屈折率層形成用塗工液の塗膜の乾燥条件を 50°C、 60分間の熱風乾燥とした以 外は、実施例 1と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0034] <実施例 4>
低屈折率層 Z高屈折率層の膜厚 = 85nmZllOnmを設計膜厚とした以外は、実 施例 2と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0035] <実施例 5>
低屈折率層 Z高屈折率層の膜厚 = 97nmZ97nmを設計膜厚とした以外は実施 例 2と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0036] <実施例 6>
低屈折率層 Z高屈折率層の膜厚 = 95nmZ85nmを設計膜厚とし、低屈折率層 形成用塗工液の塗膜の乾燥条件を 25°C、 90分間の自然乾燥とした以外は、実施例 1と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0037] <比較例 1 >
低屈折率層 Z高屈折率層の膜厚 = 95nmZl70nmを設計膜厚とした以外は、実 施例 1と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0038] <比較例 2>
低屈折率層 Z高屈折率層の膜厚 = 95nmZ85nmを設計膜厚とした以外は、実施 例 2と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0039] <比較例 3>
低屈折率層 Z高屈折率層の膜厚 = 80nmZl50nmを設計膜厚とした以外は、実 施例 2と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0040] <比較例 4>
低屈折率層 Z高屈折率層の膜厚 = 115nmZl50nmを設計膜厚とした以外は、 実施例 2と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0041] <比較例 5> 低屈折率層 Z高屈折率層の膜厚 = 70nmZl50nmを設計膜厚とした以外は、実 施例 2と同様の操作を繰り返すことにより反射防止板を得た。
[0042] <比較例 6 >
前述の特許文献 2 (特開 2003— 093963号公報）の実施例の記載に準じて、中屈 折率層の屈折率 1. 70、高屈折率層の屈折率 1. 85、低屈折率の屈折率 1. 45の材 料を、それぞれ 90nm、 66nm、 95nmの設計膜厚で成膜し、反射防止板を得た。す なわち、膜厚 80 μ mのセルローストリアセテートフィルム（コ-力（株）製コ-カタック K C8UX2MW,屈折率 1. 49、ァセチル基の置換度 2. 88)の片面に、表 2のハードコ ート層形成用組成物を、乾燥膜厚 3. 5 /z mとなるように塗布し、 80°Cにて 1分間乾燥 した後に 200mjZcm2の条件で紫外線を照射することにより硬化させ、ハードコート 層を成膜し、ハードコートフィルムを作製した。
[0043] [表 2]
Figure imgf000011_0001
得られたノヽードコートフィルム上に、表 3の中屈折率層形成用組成物 Mを、押出コ 一ターで塗布し、 80°Cで 2分間乾燥させた後に 200miZcm2の条件で紫外線を照 射し硬化させ、中屈折率層を成膜した。この中屈折率層の平均膜厚は 90nm、屈折 率は 1. 70であった。 [0045] [表 3]
Figure imgf000012_0001
[0046] 得られた中屈折率層上に、表 4の高屈折率層形成用組成物 Hを、押出コーターで 塗布し、 80°Cで 5分間乾燥させた後に 200mjZcm2の条件で紫外線を照射し硬化 させ、高屈折率層を成膜した。この高屈折率層の厚さは 66nm、屈折率は 1. 85であ つた o
[0047] [表 4]
Figure imgf000012_0002
[0048] 次に、得られた高屈折率層上に、表 5の低屈折率層形成用組成物 Lを、押出コータ 一で塗布し、 80°Cで 2分間乾燥させ、更に 120°Cで 5分間熱硬化させた後に、 200 mjZcm2の条件で紫外線を照射して硬化させ、低屈折率層を成膜した。この低屈折 率層の厚さは 95nm、屈折率は 1. 45であった。 [0049] [表 5]
Figure imgf000013_0001
[0050] 〈評価〉
各実施例及び各比較例に記載の反射防止膜の実際の膜厚、及び片面の反射率を 、米国 SCI社製の非接触型光学式膜厚計 FilmTek3000を用いて測定した。測定は 直径 lmmのサイズで一つの試料面に対して複数点の測定を行 ヽ、面内の膜厚変動 を算出した。
[0051] 各測定点の反射色は、 JIS Z 8701及び JIS Z 8729の方法に従い算出した。
目視で観測される色ムラは観察する面内で最も色の差が大きい部分に左右されるこ とを考慮し、全測定点の組み合わせ力も得られる Δ Ε*のうち最大の Δ Ε*を本発明 における色ムラの尺度と定義した。なお、色ムラの尺度として、全測定点の色座標の 平均値と各点の色座標から求められる Δ Ε*を用いる方法があるが、この方法では実 際の色ムラを反映し難い。
[0052] さらに、目視で表面を観察し、色ムラの程度を、 "A" =色ムラは目立たない場合、 " B" =弱い色ムラが観察される場合、 "C" =色ムラが非常に強い場合、の三段階で評 価し 7こ。
[0053] 〈結果〉
反射防止膜の各層の物理的膜厚 (単位 nm)を、積層された順にそれぞれ dH、 dL とし、実施例と比較例の膜厚の組み合わせと膜厚変動、視感反射率、 Δ Ε*、色ムラ の評価を表 6に示す。 [0054] [表 6]
Figure imgf000014_0001
ϊί：比較例 6は、 9 0 n m厚 中屈折率厣を有する 3膀 3厣構成 0)反射昉止膀である
[0055] 表 6から分かるように、実施例 1と比較例 1は、膜厚変動は ±4nmと大きぐ比較例 1 では色ムラが非常に目立つのに対し、実施例 1においては色ムラは目立たなかった。 また、実施例 2と比較例 2のように、膜厚変動が ± 2nmと小さくなつている場合におい ても、比較例 2では色ムラが目立つのに対し、実施例 2においては視感反射率が低 いままで色ムラを抑制することができた。ちなみに、比較例 2と同じ膜厚構成ではある 力 実施例 6のように膜厚変動が更に小さい場合には、塗工条件や使用する塗工液 の組成に制約が大きいため再現が困難であるものの、色ムラは目立たなくなった。実 施例 3のように実施例 1に比べて膜厚変動が小さい場合には、更に色ムラを小さくす ることができた。比較例 3では、膜厚変動は実施例 2や実施例 3と同等だが色ムラが 目立って好ましくない。比較例 4では、色ムラは目立たないが視感反射率が高いため 好ましくない。比較例 5では、視感反射率、色ムラ共に大きいため好ましくない。比較 例 6では、視感反射率は 0. 7%と低いが、膜厚変動が ± 1. 5nmと比較的小さいにも かかわらず色ムラが目立ち好ましくない。また 3層の薄膜で実現される構成であるた め、塗工回数や材料面で不利である。
産業上の利用可能性
[0056] 本発明の反射防止膜は、視感反射率が低ぐ部分的な膜厚変動による色ムラが発 生し難いものである。従って、本発明の反射防止膜を有する反射防止板は、各種デ イスプレイ前面板等の用途に好適に用いることができる。

Claims

請求の範囲
[1] 湿式コーティング法により順に積層された 2つの層を含む反射防止膜において、視 感反射率が 2. 0%以下であり、且つ任意の異なる 2点の表面反射率から求めた色差 ( Δ Ε*)が 2. 0以下であることを特徴とする反射防止膜。
[2] 波長 587. 6nmにおける、前記 2つの層の屈折率を、積層された順に nH、 nLとし た時、 nH及び nLが下記式（1)及び（2)
1. 38 ≤ nL ≤ 1. 48 (1)
1. 55 ≤ nH ≤ 1. 70 (2)
の関係を満足する、請求項 1に記載の反射防止膜。
[3] 波長 587. 6nmにおける、前記 2つの層の屈折率を、積層された順に nH、 nLとし た時、 nH及び nLが下記式（1 ' )及び（2' )
1. 40 ≤ nL ≤ 1. 45 (1，）
1. 60 ≤ nH ≤ 1. 65 (2，）
の関係を満足する、請求項 1に記載の反射防止膜。
[4] 前記 2つの層の物理的膜厚を、積層された順にそれぞれ dH、 dL (単位 nm)とした 時、 dH及び dLが下記式（3)及び (4)
95 ≤ dL ≤ 105 (3)
245 -dL ≤ dH ≤ 255— dL (4)
の関係を満足する、請求項 1〜3のいずれかに記載の反射防止膜。
[5] 前記視感反射率が 1. 7%以下である、請求項 1〜3のいずれかに記載の反射防止 膜。
[6] 前記 2つの層の物理的膜厚を、積層された順にそれぞれ dH、 dL (単位 nm)とした 時、 dH及び dLが下記式（5)及び (6)
80 ≤ dL ≤ 105 (5)
190— dL ≤ dH ≤ 220 -dL (6)
の関係を満足する、請求項 5に記載の反射防止膜。
[7] 前記 2つの層の物理的膜厚を、積層された順にそれぞれ dH、 dL (単位 nm)とした 時、 dH及び dLが下記式（5' )及び (6' ) 90 ≤ dL ≤ 105 (5，）
200 -dL ≤ dH ≤ 215-dL (6，）
の関係を満足する、請求項 5に記載の反射防止膜。
請求項 1〜7のいずれか 1項に記載の反射防止膜を、基材の少なくとも一方の面に 有する反射防止板。
PCT/JP2005/013033 2004-07-21 2005-07-14 反射防止膜及びそれを有する反射防止板 WO2006009065A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004213461 2004-07-21
JP2004-213461 2004-07-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006009065A1 true WO2006009065A1 (ja) 2006-01-26

Family

ID=35785178

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/013033 WO2006009065A1 (ja) 2004-07-21 2005-07-14 反射防止膜及びそれを有する反射防止板

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2006009065A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011090126A (ja) * 2009-10-22 2011-05-06 Toray Advanced Film Co Ltd 反射防止フィルムの反射防止膜の反射色分布の測定方法、反射防止フィルムの製造方法、及び反射防止フィルム
JP2013228741A (ja) * 2008-07-22 2013-11-07 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
CN111948744A (zh) * 2015-11-20 2020-11-17 Ａｇｃ株式会社 带膜的弯曲基材及其制造方法以及图像显示装置
US20200408954A1 (en) * 2018-03-02 2020-12-31 Corning Incorporated Anti-reflective coatings and articles and methods of forming the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002116303A (ja) * 2000-07-27 2002-04-19 Asahi Glass Co Ltd 反射防止膜付き基体とその製造方法
JP2002296405A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Sumitomo Chem Co Ltd 反射干渉色とその色ムラの少ない反射防止基材

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002116303A (ja) * 2000-07-27 2002-04-19 Asahi Glass Co Ltd 反射防止膜付き基体とその製造方法
JP2002296405A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Sumitomo Chem Co Ltd 反射干渉色とその色ムラの少ない反射防止基材

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013228741A (ja) * 2008-07-22 2013-11-07 Fujifilm Corp 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
US9279913B2 (en) 2008-07-22 2016-03-08 Fujifilm Corporation Antireflective film, polarizing plate, and image display device
JP2011090126A (ja) * 2009-10-22 2011-05-06 Toray Advanced Film Co Ltd 反射防止フィルムの反射防止膜の反射色分布の測定方法、反射防止フィルムの製造方法、及び反射防止フィルム
CN111948744A (zh) * 2015-11-20 2020-11-17 Ａｇｃ株式会社 带膜的弯曲基材及其制造方法以及图像显示装置
US20200408954A1 (en) * 2018-03-02 2020-12-31 Corning Incorporated Anti-reflective coatings and articles and methods of forming the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4145332B2 (ja) ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、光学素子および画像表示装置
KR101052709B1 (ko) 방현성 하드 코트 필름, 그것을 사용한 편광판 및 화상 표시 장치
TWI359834B (en) Hard-coated antiglare film, method of manufacturin
KR100916171B1 (ko) 방현성 하드코트 필름, 이를 포함하는 편광판 및화상표시장치
JP4080520B2 (ja) 防眩性ハードコートフィルム、防眩性ハードコートフィルムの製造方法、光学素子、偏光板および画像表示装置
KR100916172B1 (ko) 방현성 하드코트 필름, 편광판 및 화상표시장치
JP4362509B2 (ja) 反射防止フィルムおよびその製造方法
US8124215B2 (en) Hard-coated antiglare film, method of manufacturing the same, optical device, polarizing plate, and image display
TWI259909B (en) Process for the production of antiglare antireflective film
JP2008032763A (ja) ハードコートフィルム、それを用いた偏光板および画像表示装置
JP5008059B2 (ja) 防眩性ハードコートフィルム、偏光板、画像表示装置および防眩性ハードコートフィルムの製造方法
US8488079B2 (en) Optical sheet for use as a display surface
JP2008151998A (ja) ハードコートフィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置
TWI744339B (zh) 抗反射膜及其製造方法、與附有抗反射層之偏光板
CN110998371A (zh) 抗反射膜
CN104592703A (zh) (甲基)丙烯酸系树脂组合物及使用该组合物的(甲基)丙烯酸系树脂膜
CN111103637A (zh) 防反射薄膜
CN110462450B (zh) 防反射膜
US8264640B2 (en) Optical sheet
US8422135B2 (en) Optical sheet
JP2007078780A (ja) 光学物品およびその製造方法
WO2010134457A1 (ja) 光学製品及び眼鏡プラスチックレンズ
WO2006009065A1 (ja) 反射防止膜及びそれを有する反射防止板
JP4962192B2 (ja) 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置
TWI265307B (en) Antiglare optical film, polarizing plate and display unit using the same

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KM KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU LV MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Country of ref document: JP