WO2000068013A1 - Verfahren zur bereichsweisen übertragung der dekorlage einer transferfolie auf ein substrat sowie hierfür geeignete transferfolie - Google Patents

Verfahren zur bereichsweisen übertragung der dekorlage einer transferfolie auf ein substrat sowie hierfür geeignete transferfolie Download PDF

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Klaus Weber
Ludwig Brehm
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    • Y10T428/2813Heat or solvent activated or sealable
    • Y10T428/2817Heat sealable

Definitions

  • the invention relates to a method for the area-wise transfer of the decorative layer of a transfer film comprising an adhesive layer that can be activated by radiation energy, from a carrier film for the decorative layer to a substrate, using an optionally heated embossing tool, wherein the adhesive layer is at least partially activated before the transfer film enters the embossing tool.
  • the invention also relates to a transfer film which is particularly suitable for use in the transfer method according to the invention and which has on a carrier film a decorative layer consisting of a plurality of layers which, under the action of pressure and possibly heat, can be transferred in regions to a substrate, the surface of which is remote from the carrier film is formed by an adhesive layer that can be activated by radiation energy.
  • the adhesive When transferring the decorative layer of a transfer film to a substrate, it is necessary for the adhesive to be activated sufficiently to achieve adequate adhesion of the decorative layer to the substrate.
  • the time required for the activation of the adhesive layer decisively determines the throughput speed of the corresponding application machines.
  • the decorative layer is transferred to the substrate, as usual, in the areas in which the embossing tool acts on the embossing film, it being provided in accordance with WO 96/37368 that the embossing tool is also heated.
  • This procedure allows higher machine speeds.
  • the adhesive is preheated too much, the clean, area-specific expression of the decorative layer on the substrate will cause difficulties, because the decorative layer does not only affect the areas in which the embossing tool acts on it Substrate adheres, but possibly also outside these areas, if the adhesive already has a sufficiently high adhesive effect.
  • This problem can occur in particular in the case of comparatively thick decorative layers or decorative layers which have a relatively high mechanical stability, for example showing a metallization.
  • EP 0 741 370 B1 discloses a method for applying a security element to a substrate, in which the adhesive layer is brought into contact with the substrate and is locally heated by supplying energy through the layer composite, ie through the decorative layer, thereby achieving The aim is that the decorative layer only adheres to the heated areas on the substrate without destroying any structures of the decorative layer.
  • either laser radiation or light sources are used to supply energy.
  • a laser beam can be guided according to the desired pattern.
  • light sources either masks or exposure with addressable arrays made of laser or light-emitting diodes are used.
  • This known method certainly has the advantage that a very clean transfer of the decorative layer of a transfer film from the carrier film of the transfer film to a substrate is possible only in certain areas, with the aim of protecting the eventual Structures in the decorative layer are largely dispensed with the use of pressure when transferring to the substrate.
  • a disadvantage of the known procedure can be seen in the fact that relatively low working speeds must be expected. When using masks or diode arrays, it may even be necessary to move the transfer film and the substrate step by step so that the mask or the array remains stationary relative to the transfer film during the time required for the activation of the adhesive layer.
  • the invention is based on the object of proposing a method and a transfer film which is particularly suitable for carrying out this method, in which on the one hand there is the possibility of increasing the machine speed by preactivating the adhesive layer, but at the same time it is ensured that the decorative layer of the transfer film is transferred cleanly only in the areas that are actually to be transferred.
  • the present invention proposes that preheating - similar to the basic proposal of EP 0 741 370 B1 - only area by area, but it is important that preheating actually takes place before entering the embossing tool.
  • it is not only activated with the adhesive but also simultaneously by means of a corresponding one
  • Embossing tool ie using the appropriate pressure. Due to the additional application of pressure, it can very often be achieved that a comparatively low radiation energy is sufficient to preactivate the adhesive to such an extent that the machine speed can be increased significantly. At the same time, the preactivation of the adhesive layer ensures that the embossing is clean, depending on the area, because the working conditions can easily be selected in such a way that the decorative film only adheres to the substrate via the adhesive layer where the adhesive layer was actually preheated.
  • a transfer film is used in the method according to the invention, the decorative layer of which only has an absorption layer in the surface areas to be transferred to the substrate, which absorbs the radiation energy which activates the adhesive layer.
  • the transfer film is thus advantageously designed such that it has an additional layer in the surface areas to be transferred, namely the
  • Absorbent layer comprises. Only in the area of this absorption layer, which absorbs the radiation energy accordingly - and of course must transfer it to the adhesive layer - is the adhesive layer preactivated, which means that the adhesive layer can only be preactivated in the desired areas without any special equipment .
  • the use of specially guided laser beams and masks or diode arrays, which are provided in accordance with EP 0 741 370 B1, can be dispensed with according to the invention.
  • the effect of the area-wise activation can be improved in particular in the case of a transfer film whose decorative layer is partially provided with an absorption layer if the radiation energy activating the adhesive layer acts on the decorative layer only in the surface areas which are intended for transfer to the substrate, the radiation energy activating the adhesive layer advantageously or the like via a mask. just acts on the surface areas of the decorative layer and adhesive layer to be transferred to the substrate.
  • Heat radiation activatable adhesive layer is used, i.e. a so-called hot melt adhesive, which softens under heat and becomes sticky.
  • Laser radiation can possibly be deflectable according to the surface areas to be transmitted.
  • the use of laser radiation has the advantage that short heating times can be achieved if the laser energy is high enough.
  • the method according to the invention provides that the adhesive layer of the decorative layer is only preactivated before the transfer film enters the embossing tool and a heated embossing tool is used to fully activate the adhesive layer. This procedure allows relatively high machine speeds. It can
  • Embossing tool act both over a large area or over the entire surface, or only in the areas in which the layers forming the decorative layer are to be transferred to the substrate.
  • the invention further relates to a transfer film, preferably a hot stamping film, which is particularly, but not exclusively, suitable for the method explained above.
  • This transfer film which has a decorative layer consisting of several layers on a carrier film, which can be transferred under the action of pressure and possibly heat, to a substrate, the surface of which is turned away from the carrier film is formed by an adhesive layer that can be activated by radiation energy according to the invention in that the decorative layer has an absorption layer only in predetermined surface areas intended for transfer to the substrate, which absorbs the radiation energy which brings about activation of the adhesive layer.
  • the peculiarity of the transfer film according to the invention is thus that an absorption layer is present in some areas in the decorative layer, which serves to absorb radiation energy used to activate the adhesive layer and in this way to ensure activation of the adhesive layer.
  • transfer film is used in the method described at the outset, it is particularly easy to achieve a clean demarcation of the areas of the decorative layer to be transferred.
  • the transfer film according to the invention can - regardless of the method explained - also be used, for example, by activating the adhesive layer exclusively via the absorption layer.
  • relatively finely structured areas can be equipped with the absorption layer. Even with large-area irradiation and the use of large-area embossing tools, it is nevertheless achieved that only the areas of the decorative layer assigned to the absorption layer are actually transferred to the substrate.
  • EP 0 741 370 B1 When using a transfer film according to the invention, the effect sought with EP 0 741 370 B1 can thus be achieved with very simple means, in particular not adapting the embossing device used for transferring the decorative layer to the substrate to the specific design of the transferring areas of the decorative layer is required.
  • the absorption layer is provided immediately after the adhesive layer of the decorative layer. Understandably, the pigments or other additives that the absorption layer must contain in order to be able to absorb the radiation energy accordingly do not always meet the requirements with regard to the graphic or optical design of the decorative layer.
  • heat radiation eg IR radiation
  • the decorative layer on the side of the absorption layer facing the carrier film has an opaque decorative layer covering it after the transfer of the decorative layer to a substrate, which expediently has a , preferably a reflective layer having a diffraction-optical structure, in particular a metal layer.
  • a reflective layer having a diffraction-optical structure, in particular a metal layer.
  • a reflection layer to cover the absorption layer, which in use forms the exposed surface of the decorative layer
  • the surface of the decorative layer facing the carrier film is formed by a transparent protective lacquer layer, i.e. in other words, the reflective layer is covered by such a protective lacquer layer.
  • a protective lacquer layer improves the mechanical resistance and in particular protects any diffraction-optically active, i.e. very fine structures.
  • the absorption layer absorbs heat radiation
  • the adhesive layer is formed by a heat-activatable material which is permeable to the heat radiation absorbed by the absorption layer.
  • This design is particularly favorable if a reflective layer is present on the side of the decorative layer that is visible during use, which prevents penetration of the radiation used for activation. If in such a case the adhesive layer for the from the
  • the transfer film can be irradiated from the adhesive side. This also has the advantage that the radiation is not unnecessarily weakened by the carrier film.
  • the formation with a transparent adhesive layer and an absorption layer separated therefrom also has the technological advantage that the additives present in the absorption layer do not impair the adhesive effect of the adhesive layer.
  • Absorbent layer is formed by a lacquer layer containing the pigments used to activate the radiation energy absorbing radiation energy.
  • the pigments used to activate the radiation energy absorbing radiation energy For example, carbon black, black or dark pigments, etc. come into consideration as pigments.
  • a heat-activatable adhesive layer it is advisable to work with infrared radiation for activation, in which case the configuration is preferably such that the absorption layer absorbs infrared radiation of a wavelength for which the adhesive layer is permeable.
  • Figure 1a shows a schematic section through part of a transfer film
  • Figure 1 b schematically and in section the transfer process using a film according to Figure 1a;
  • Figure 2a to 2c schematically based on a partial section through a
  • FIG. 3 schematically device and method for transmitting the
  • Decorative layer from a transfer film on a substrate Decorative layer from a transfer film on a substrate.
  • the transfer film shown schematically in FIG. 1a is a film which, in its basic structure, corresponds to a conventional hot stamping film, such as that used, for example, to generate security features on bank notes, securities or the like.
  • a conventional hot stamping film such as that used, for example, to generate security features on bank notes, securities or the like.
  • the hot stamping foil on the one hand has a metallization and on the other hand has a diffractive optically effective spatial structure.
  • the transfer film according to FIG. 1a usually comprises a carrier film 1, for example a polyester film with a thickness between 10 and 25 ⁇ m.
  • a release layer 2 which is known per se and which, in particular when exposed to heat, is intended to facilitate the detachment of the decorative layer, designated overall by 3, from the carrier film 1.
  • the release layer 2 is usually applied over the entire surface.
  • the decorative layer 3 consists of four layers, namely a transparent protective lacquer layer 4, a metal layer 5 which is usually vapor-deposited thereon, an absorption layer 6 provided in certain areas and an activatable adhesive layer 7, it being assumed that the adhesive layer 7 is concerned a hot-melt adhesive layer.
  • the protective lacquer layer 4 and the hot-melt adhesive layer 7 and the metallization 5 are each provided over the entire surface in the exemplary embodiment in FIG. 1a.
  • the film according to FIG. 1a is a film used, for example, for the production of security elements.
  • the film is provided in the areas of the absorption layer 6 with a spatial structure 8 that has an optical diffraction effect.
  • the film according to FIG. 1, which is also used in FIG. 1b, is produced as follows:
  • the full-surface release layer 2 is first applied to the carrier film 1 in a layer thickness of approximately 0.01 to 0.1 ⁇ m in a printing or coating process.
  • the protective lacquer layer 4 is then also applied over the entire surface and in a layer thickness of 0.8 to 2.5 ⁇ m, preferably 1.2 to 1.7 ⁇ m.
  • the transparent protective lacquer 4 has the property that it can be structured accordingly by means of suitable embossing tools, so-called matrices.
  • the spatial structure 8 is thus embossed into the free surface of the protective lacquer 4 in a replication process.
  • Corresponding diffractive or diffractive structures are generally known and are explained, for example, in EP 0 741 370 B1.
  • the entire free surface of the protective lacquer layer 4 is then provided with a metallization 5.
  • a metallization 5 In general, vacuum evaporation with aluminum takes place with layer thicknesses of 5 to 200 nm.
  • the absorption layer 6 which is only provided in certain areas, is then applied to the metallization 5 in the areas in which the decorative layer 3 is to be transferred to a substrate.
  • the absorption layer is expediently an activatable decorative lacquer which has a layer thickness of 0.8 to 2.8 ⁇ m, preferably of about 1.5 ⁇ m, is applied. It is expedient to apply the absorption layer 6 in register form to the structuring 8, as is indicated in FIG. 1a.
  • the last step is then to apply the entire surface of the adhesive layer 7, a material which is transparent to infrared radiation being expediently used for the adhesive layer 7, provided the absorption layer 6 is able to absorb infrared radiation accordingly.
  • the adhesive layer 7 is applied in a layer thickness of 2 to 10 ⁇ m, preferably 3 to 5 ⁇ m.
  • the individual layers can be composed as follows:
  • Peeling layer 2 (layer thickness approx. 0.01 to 0.1 ⁇ m)
  • Protective lacquer layer 4 (layer thickness 0.8 to 2.5 ⁇ m, preferably 1.2 to 1.7 ⁇ m)
  • Absorbent layer 6 (layer thickness 0.8 to 2.8 ⁇ m, preferably 1.5 ⁇ m)
  • Extender (aluminum silicate) 22 g
  • IR-activatable pigment 46 g (flame soot, pigment black 7)
  • Adhesive layer 7 (layer thickness 2.0 to 10.0 ⁇ m, preferably 3.0 to 5.0 ⁇ m)
  • the adhesive 7 in to activate or at least to pre-activate the areas 10 so that after the decorative layer 3 has been irradiated, the adhesive layer 7 is already sticky in the areas 10 in accordance with the arrows 9.
  • FIG. 1 b shows how a film according to FIG. 1 a can be transferred to a substrate 11.
  • the transfer film is applied to the surface 12 of the substrate 11 to be decorated. This can be done, for example, by means of a heated or unheated embossing roller, which can in any case bring about large-area pressure.
  • the decorative layer 3 of the transfer film is subjected to radiation energy which is absorbed in the absorption layer 6 and at least preactivates the adhesive layer 7 in the regions 10.
  • Hot stamping foil shown which differs from the transfer foil according to FIG. 1a in that the metallization 5 'is only present in the areas in which there is also a spatial structure 8'.
  • the film according to FIG. 2 c is therefore a so-called partially metallized film.
  • the film according to FIG. 2c also comprises a carrier film 1 ', a release layer 2', a transparent protective lacquer layer 4 ', an absorption layer 6' which is only provided in certain areas and an all-over adhesive layer 7 '. Due to its partial metallization, the film according to FIG. 2c is particularly suitable only in the areas of the spatial structure 8 'for certain areas of application.
  • the partial metallization in such a way that, after the decorative layer 3 'of the film in FIG. 2c has been applied to a substrate, the optical effect generated by the spatial structuring 8', for example a holographic effect or a color change effect, is clearly visible, on the other hand however, the background formed by the substrate surface and its pattern still remain recognizable. In this way you can e.g. a photo, alphanumeric information or the like. can still be seen on the substrate, although the partially metallized decorative layer 3 'is present in the same area.
  • the optical effect generated by the spatial structuring 8' for example a holographic effect or a color change effect
  • the transfer film, in particular hot stamping film, of FIG. 2c is produced using a special lacquer for the absorption layer 6 '.
  • the absorption layer 6 ' has the same function as a resist, which allows the metal layer 5 to be etched away in the areas not covered by the absorption layer 6'.
  • a release layer 2 ′ in is first placed on a carrier film 1 ′ of similar thickness and configuration, as mentioned in connection with FIG the usual layer thickness of 0.01 to 0.1 microns applied. Then the full-surface application of the protective lacquer 4 'takes place, possibly the replication of the structure 8' and finally the metallization by vacuum evaporation with aluminum, everything as described in connection with Figure 1a.
  • the absorption layer 6 ' is then printed onto the metallization 5 only in the areas in which the metal layer 5' is to be retained, in accordance with the explanation given in connection with FIG. 1a.
  • the absorption layer 6 ' is composed such that it is suitable for a subsequent etching process. After the absorption layer 6 'has hardened correspondingly, the regions of the aluminum layer or, respectively, which are not covered by the absorption layer 6' serving as resist lacquer are then
  • Metallization 5 etched off.
  • a bath of 5% sodium hydroxide solution with a bath temperature of 20 to 50 ° C can be used for etching.
  • the etching process is indicated by the arrows 15 in FIG. 2b.
  • the corresponding surface of the film is washed, dried and then the full-surface adhesive layer 7 'is applied.
  • compositions of the various layers mentioned in the example can also be used if the release layer 2, the protective lacquer layer 4, the absorption layer 6 and the adhesive layer 7, in accordance with the respective purposes.
  • the compositions of the various layers mentioned in the example can also be used if the
  • Absorption layer according to FIGS. 2a to 2c should simultaneously take on the function of a resist for etching off the metallization. It can therefore be assumed that the different layers 2, 2 '; 4, 4 '; 6, 6 'and 7, 7' in the exemplary embodiments in FIGS. 1a and 2a to 2c, on the other hand, are composed essentially identically.
  • the application of the film of the second exemplary embodiment according to FIG. 2c essentially corresponds to the use of the film of FIG. 1a described by way of example with reference to FIG. 1b.
  • the device shown in FIG. 3 is a device for the continuous decoration of a substrate, for example a paper web 17, from a supply roll, not shown, or as a sheet from a stack in the direction of arrow 18, a gap 19 between a counter-pressure roller 20 and the actual, assumed full-surface embossing cylinder 21, which can be heated, for example, to a temperature of 80 to 120 ° C, is supplied.
  • a substrate for example a paper web 17, from a supply roll, not shown, or as a sheet from a stack in the direction of arrow 18, a gap 19 between a counter-pressure roller 20 and the actual, assumed full-surface embossing cylinder 21, which can be heated, for example, to a temperature of 80 to 120 ° C, is supplied.
  • a transfer film 22 is introduced into the gap 19 and is unwound in the direction of arrow 23 from a supply roll, also not shown in FIG.
  • the decorative layer 3, 3 'of the transfer film 22 is pressed in the gap 19 under the action of the embossing cylinder 21 and the counter-pressure roller 20 against the substrate, for example the paper web 17, and, if the adhesive layer of the transfer film 22 is activated accordingly, onto the transfer film 22 facing surface of the paper web 17 transferred.
  • the carrier film 1, 1 ' is then guided away from the substrate 17 with the aid of a detaching finger 13 (see FIG. 1b), the decorative layer 3, 3' in the areas in which there is a corresponding activation of the adhesive layer 7, 7 'has occurred, adheres to the substrate 17, while in the regions in between the decorative layer 3, 3' adheres to the carrier film 1, 1 'and is peeled off with it, so that a corresponding the substrate surface is decorated in regions (see FIG. 1b).
  • the area-by-area transfer of a decorative layer from a transfer film to a substrate has generally been carried out in such a way that the embossing cylinder has correspondingly projecting structures or in the areas in which the template is to be transferred to the substrate
  • the transfer film 22 can be preheated by means of appropriate emitters before it enters the embossing gap 19.
  • radiators 24a and 24b are also provided in the device according to FIG. 3.
  • the emitters are expediently infrared emitters, and it has been shown in practice that, for example, double emitters of the type SMBG 2600/150 G from Heraeus / Hanau are very suitable, the two channels of which are heated and provided with a gold reflector.
  • the output of the spotlights can be around 1,000 W, for example.
  • the emitters are advantageously attached at a distance of 20 to 40 mm from the transfer film, specifically on the side of the film which bears the decorative layer 3, 3 '.
  • the adhesive layer 7, 7 ' is transparent to infrared radiation, it can be achieved in this way, even if partial or complete metallization is provided, that a very high proportion of the radiation is absorbed in the absorption layer 6.
  • the exact distance of the IR emitters from the transfer film must be determined using suitable tests - depending on the exact composition of the adhesive layer and the surface quality of the substrate to be decorated.
  • two IR radiators 24a and 24b are one behind the other (in Running direction of the transfer film 22) is provided, the arrangement being expedient such that the second radiator 24b is located at a distance a of 40 to 70 mm from the gap 19 between the embossing cylinder 21 and the counter-pressure roller 20.
  • the first radiator 24a should expediently be arranged at a distance b of approximately 40 mm in the direction of movement of the transfer film 22 in front of the second radiator 24b.

Landscapes

  • Decoration By Transfer Pictures (AREA)
  • Labeling Devices (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)

Abstract

Es wird ein Verfahren zur bereichsweisen Übertragung der eine aktivierbare Kleberschicht (7) umfassenden Dekorlage (3) einer Transferfolie von einem Trägerfilm (1) auf ein Substrat (11) beschrieben, wobei die Kleberschicht der Transferfolie teilweise vor dem eigentlichen Prägevorgang aktiviert wird, und zwar derart, dass die Kleberschicht nur in den Flächenbereichen eine Aktivierung erfährt, in denen die Dekorlage auf das Substrat übertragen werden soll. Eine für dieses Verfahren besonders geeignete Transferfolie weist in den Flächenbereichen der Dekorlage, die auf das Substrat übertragen werden sollen, eine Absorptionsschicht (6) auf, die die eine Aktivierung der Kleberschicht bewirkende Strahlungsenergie absorbiert und unter Einwirkung der absorbierten Strahlungsenergie die Kleberschicht aktiviert.

Description

Verfahren zur bereichsweisen Übertragung der
Dekorlage einer Transferfolie auf ein Substrat sowie hierfür geeignete Transferfolie
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur bereichsweisen Übertragung der eine durch Strahlungsenergie aktivierbare Kleberschicht umfassenden Dekorlage einer Transferfolie von einem Trägerfilm für die Dekorlage auf ein Substrat unter Verwendung eines ggf. beheizten Prägewerkzeuges, wobei die Kleberschicht vor Einlauf der Transferfolie in das Prägewerkzeug zumindest teilweise aktiviert wird.
Ausserdem ist Gegenstand der Erfindung eine Transferfolie, die insbesondere zur Verwendung in dem erfindungsgemässen Übertragungsverfahren geeignet ist, welche auf einem Trägerfilm eine aus mehreren Schichten bestehende, unter Einwirkung von Druck und ggf. Wärme bereichsweise auf ein Substrat übertragbare Dekorlage aufweist, deren dem Trägerfilm abgekehrte Oberfläche von einer durch Strahlungsenergie aktivierbaren Kleberschicht gebildet ist.
Beim Übertragen der Dekorlage einer Transferfolie auf ein Substrat ist es erforderlich, dass der Kleber hinreichend aktiviert wird, um eine ausreichende Haftung der Dekorlage auf dem Substrat zu erreichen. Die für die Aktivierung der Kleberschicht erforderliche Zeit bestimmt dabei ganz massgeblich die Durchlaufgeschwindigkeit der entsprechenden Applikationsmaschinen. Um die Maschinengeschwindigkeit zu erhöhen, ist es aus der WO 96/37368 bereits bekannt, die wärmeaktivierbare Kleberschicht der Dekorlage einer Prägefolie vor dem eigentlichen Prägevorgang vorzuheizen, um so die Kleberschicht wenigstens teilweise zu aktivieren. Die Übertragung der Dekorlage auf das Substrat erfolgt bei dem bekannten Verfahren - wie üblich - in den Bereichen, in denen das Prägewerkzeug auf die Prägefolie einwirkt, wobei gemass der WO 96/37368 vorgesehen ist, dass auch das Prägewerkzeug beheizt wird. Diese Vorgehensweise gestattet zwar höhere Maschinengeschwindigkeiten. Es besteht jedoch die Gefahr, dass beispielsweise dann, wenn der Kleber zu stark vorgeheizt wird, die saubere, bereichsweise Ausprägung der Dekorlage auf das Substrat Schwierigkeiten bereitet, weil die Dekorlage nicht nur in den Bereichen, in denen das Prägewerkzeug auf sie wirkt, an dem Substrat haftet, sondern eventuell auch ausserhalb dieser Bereiche, wenn der Kleber bereits eine hinreichend hohe Haftwirkung besitzt. Dieses Problem kann insbesondere bei vergleichsweise dicken Dekorlagen oder Dekorlagen auftreten, die eine verhältnismässig hohe mechanische Stabilität besitzen, beispielsweise eine Metallisierung zeigen.
Aus der EP 0 741 370 B1 ist ein Verfahren zum Aufbringen eines Sicherheitselementes auf ein Substrat bekannt, bei dem die Kleberschicht mit dem Substrat in Kontakt gebracht und durch Zufuhr von Energie durch den Schichtverbund, d.h. die Dekorlage hindurch, lokal erwärmt wird, wodurch erreicht werden soll, dass die Dekorlage nur an den erwärmten Stellen auf dem Substrat haftet, ohne dass irgendwelche Strukturen der Dekorlage zerstört werden. Zur Energiezufuhr werden gemass der EP 0 741 370 B1 entweder Laserstrahlung oder Lichtquellen verwendet. Ein Laserstrahl kann entsprechend dem gewünschten Muster geführt werden. Bei Verwendung von Lichtquellen wird entweder auf Masken oder auf die Belichtung mit adressierbaren Arrays aus Laser- oder Leuchtdioden zurückgegriffen. Dieses bekannte Verfahren hat sicherlich den Vorteil, dass eine sehr saubere, trotzdem nur bereichsweise Übertragung der Dekorlage einer Transferfolie vom Trägerfilm der Transferfolie auf ein Substrat möglich ist, wobei im Sinne einer Schonung der eventuellen Strukturen in der Dekorlage weitgehend auf die Anwendung von Druck beim Übertragen auf das Substrat verzichtet wird. Ein Nachteil der bekannten Vorgehensweise ist jedoch darin zu sehen, das mit verhältnismässig niedrigen Arbeitsgeschwindigkeiten gerechnet werden muss. Bei Einsatz von Masken oder Dioden-Arrays ist es unter Umständen sogar erforderlich, die Transferfolie und das Substrat schrittweise zu bewegen, damit die Maske bzw. das Array während der für die Aktivierung der Kleberschicht erforderlichen Zeit gegenüber der Transferfolie stillsteht.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine insbesondere zur Durchführung dieses Verfahrens geeignete Transferfolie vorzuschlagen, bei dem einerseits die Möglichkeit besteht, durch Voraktivierung der Kleberschicht die Maschinengeschwindigkeit zu steigern, gleichzeitig aber gewährleistet ist, dass eine saubere Übertragung der Dekorlage der Transferfolie auch nur in den Bereichen erfolgt, die tatsächlich transferiert werden sollen.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird erfindungsgemäss vorgeschlagen, das gattungsgemässe Verfahren derart weiterzubilden, dass die Kleberschicht vor Einlauf der Transferfolie in das Prägewerkzeug nur in den Flächenbereichen mittels Strahlungsenergie aktiviert wird, in denen die Dekorlage mittels des Prägewerkzeuges auf das Substrat übertragen werden soll.
Im Gegensatz zu der Lehre der WO 96/37368, bei der die Vorheizung der Kleberschicht der Transferfolie vor Einlauf in das Prägewerkzeug im wesentlichen ganzflächig erfolgt, wird gemass vorliegender Erfindung vorgeschlagen, die Vorheizung - ähnlich dem grundsätzlichen Vorschlag der EP 0 741 370 B1 - nur bereichsweise vorzunehmen, wobei jedoch wichtig ist, dass tatsächlich eine Vorheizung vor Eintritt in das Prägewerkzeug stattfindet. Es wird also bei dem Verfahren gemass der Erfindung nicht nur mit Aktivierung des Klebers sondern gleichzeitig auch mittels eines entsprechenden
Prägewerkzeuges, d.h. unter Anwendung entsprechenden Drucks, gearbeitet. Aufgrund der zusätzlichen Anwendung von Druck kann sehr häufig erreicht werden, dass bereits eine vergleichsweise geringe Strahlungsenergie ausreicht, um den Kleber so weit vorzuaktivieren, dass die Maschinengeschwindigkeit wesentlich erhöht werden kann. Gleichzeitig wird durch die bereichsweise Voraktivierung der Kleberschicht sichergestellt, dass eine saubere, bereichsweise Prägung erfolgt, weil die Arbeitsbedingungen leicht derart gewählt werden können, dass die Dekorfolie über die Kleberschicht nur dort am Substrat haftet, wo die Kleberschicht auch tatsächlich vorgeheizt wurde.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn bei dem erfindungsgemässen Verfahren eine Transferfolie verwendet wird, deren Dekorlage nur in den auf das Substrat zu übertragenden Flächenbereichen eine Absorptionsschicht aufweist, die die eine Aktivierung der Kleberschicht bewirkende Strahlungsenergie absorbiert.
Die Transferfolie ist also vorteilhafterweise so ausgebildet, dass sie in den zu übertragenden Flächenbereichen eine zusätzliche Schicht, nämlich die
Absorptionsschicht umfasst. Lediglich im Bereich dieser Absorptionsschicht, die die Strahlungsenergie entsprechend aufnimmt - und natürlich an die Kleberschicht übertragen muss - erfolgt dann eine Voraktivierung der Kleberschicht, wobei auf diese Weise ohne besonderen apparativen Aufwand erreicht werden kann, dass tatsächlich nur in den gewünschten Bereichen die Kleberschicht voraktiviert wird. Insbesondere kann auf die Verwendung von speziell geführten Laserstrahlen, sowie Masken oder Dioden-Arrays, die gemass der EP 0 741 370 B1 vorgesehen sind, erfindungsgemäss verzichtet werden.
Die Wirkung der bereichsweisen Aktivierung kann insbesondere bei einer Transferfolie, deren Dekorlage bereichsweise mit einer Absorptionsschicht versehen ist, noch verbessert werden, wenn die die Kleberschicht aktivierende Strahlungsenergie nur in den Flächenbereichen auf die Dekorlage einwirkt, die zur Übertragung auf das Substrat bestimmt sind, wobei die die Kleberschicht aktivierende Strahlungsenergie vorteilhafterweise über eine Maske od.dgl. nur auf die auf das Substrat zu übertragenden Flächenbereiche der Dekorlage und Kleberschicht einwirkt.
Grundsätzlich sind alle möglichen Arten der Aktivierung der Kleberschicht denkbar. Besonders günstig und damit in der Praxis wohl von besonderer Bedeutung dürfte jedoch eine Vorgehensweise sein, bei der eine mittels
Wärmestrahlung aktivierbare Kleberschicht verwendet wird, d.h. ein sog. Heiss- Schmelzkleber, der unter Wärmeeinwirkung erweicht und klebrig wird.
Insbesondere bei Verwendung einer wärmeaktvierbaren Kleberschicht kann es günstig sein, zur Aktivierung Laserstrahlung zu verwenden, wobei die
Laserstrahlung ggf. den zu übertragenden Flächenbereichen entsprechend ablenkbar sein kann. Die Verwendung von Laserstrahlung bietet den Vorteil, dass sich kurze Erwärmungszeiten erreichen lassen, wenn die einwirkende Laserenergie hoch genug ist.
Schliesslich ist nach dem erfindungsgemässen Verfahren vorgesehen, dass die Kleberschicht der Dekorlage vor Eintritt der Transferfolie in das Prägewerkzeug nur voraktiviert wird und zur vollständigen Aktivierung der Kleberschicht ein beheiztes Prägewerkzeug dient. Diese Verfahrensweise gestattet verhältnismässig hohe Maschinengeschwindigkeiten. Dabei kann das
Prägewerkzeug sowohl gross- oder ganzflächig wirken, als auch nur in den Bereichen, in denen die die Dekorlage bildenden Schichten auf das Substrat übertragen werden sollen.
Gegenstand der Erfindung ist weiterhin eine Transferfolie, vorzugeweise eine Heissprägefolie, die insbesondere, jedoch nicht ausschliesslich, für das vorstehend erläuterte Verfahren geeignet ist. Diese Transferfolie, welche auf einem Trägerfilm eine aus mehreren Schichten bestehende, unter Einwirkung von Druck und ggf. Wärme bereichsweise auf ein Substrat übertragbare Dekorlage aufweist, deren dem Trägerfilm abgekehrte Oberfläche von einer durch Strahlungsenergie aktivierbaren Kleberschicht gebildet ist, zeichnet sich erfindungsgemäss dadurch aus, dass die Dekorlage nur in vorgegebenen, zur Übertragung auf das Substrat bestimmten Flächenbereichen eine Absorptionsschicht aufweist, die die eine Aktivierung der Kleberschicht bewirkende Strahlungsenergie absorbiert.
Die Besonderheit der Transferfolie gemass der Erfindung liegt also darin, dass in der Dekorlage bereichsweise eine Absorptionsschicht vorhanden ist, die dazu dient, zur Aktivierung der Kleberschicht dienende Strahlungsenergie zu absorbieren und auf diese Weise für eine Aktivierung der Kleberschicht zu sorgen.
Bei Verwendung einer derartigen Transferfolie in dem eingangs erläuterten Verfahren lässt sich besonders leicht eine saubere Abgrenzung der zu übertragenden Bereiche der Dekorlage erreichen. Die Transferfolie gemass der Erfindung kann aber - unabhängig von dem erläuterten Verfahren - ebenfalls verwendet werden, indem beispielsweise die Kleberschicht ausschliesslich über die Absorptionsschicht aktiviert wird. In einer derartigen Transferfolie lassen sich verhältnismässig fein strukturierte Bereiche mit der Absorptionsschicht ausrüsten. Auch bei grossflächiger Bestrahlung und Verwendung grossflächiger Prägewerkzeuge erreicht man dann trotzdem, dass tatsächlich nur die der Absorptionsschicht zugeordneten Bereiche der Dekorlage auf das Substrat übertragen werden. Es lässt sich bei Verwendung einer Transferfolie gemass der Erfindung somit der mit der EP 0 741 370 B1 angestrebte Effekt mit sehr einfachen Mitteln erreichen, wobei insbesondere nicht jeweils eine Anpassung der für die Übertragung der Dekorlage auf das Substrat verwendeten Prägevorrichtung an die spezielle Gestaltung der zu übertragenden Bereiche der Dekorlage erforderlich ist.
Um eine besonders gute Einwirkung der in der Absorptionsschicht aufgenommenen Strahlungsenergie auf die Kleberschicht zu erreichen, ist es zweckmässig, wenn die Absorptionsschicht unmittelbar anschliessend an die Kleberschicht der Dekorlage vorgesehen ist. Verständlicherweise entsprechen die Pigmente oder sonstigen Zusätze, die die Absorptionsschicht enthalten muss, um die Strahlungsenergie entsprechend absorbieren zu können, nicht immer den Forderungen hinsichtlich der graphischen oder optischen Gestaltung der Dekorlage. Wenn mit Wärmestrahlung, z.B. IR-Strahlung, gearbeitet wird, enthält die
Absorptionsschicht im allgemeinen dunkle, optisch nicht ansprechende Pigmente od.dgl.. Hier ist es günstig, wenn erfindungsgemäss die Dekorlage auf der zum Trägerfilm weisenden Seite der Absorptionsschicht eine diese nach der Übertragung der Dekorlage auf ein Substrat abdeckende, undurchsichtige Dekorschicht aufweist, die zweckmässig eine, vorzugsweise eine beugungsoptisch wirksame Struktur aufweisende Reflexionsschicht, insbesondere eine Metallschicht, ist. Vor allem bei Vorhandensein einer eine beugungsoptisch wirksame Struktur aufweisenden Reflexionsschicht lassen sich sehr interessante gestalterische Lösungen verwirklichen.
Bei Vorhandensein einer Reflexionsschicht zur Abdeckung der Absorptionsschicht, die ja im Gebrauch die freiliegende Fläche der Dekorlage bildet, ist es zweckmässig, wenn die zum Trägerfilm weisende Oberfläche der Dekorlage von einer transparenten Schutzlackschicht gebildet ist, d.h. mit anderen Worten die Reflexionsschicht durch eine solche Schutzlackschicht abgedeckt ist. Eine derartige Schutzlackschicht verbessert die mechanische Beständigkeit und schützt insbesondere eventuell vorhandene beugungsoptisch wirksame, d.h. sehr feine Strukturen.
In der Vielzahl der Anwendungsfälle einer Transferfolie gemass der Erfindung wird es zweckmässig sein, wenn die Absorptionsschicht Wärmestrahlung absorbiert, während die Kleberschicht von einem wärmeaktivierbaren, für die von der Absorptionsschicht aufgenommene Wärmestrahlung durchlässigen Material gebildet ist. Diese Ausbildung ist vor allem dann günstig, wenn auf der im Gebrauch sichtbaren Seite der Dekorlage eine Reflexionsschicht vorhanden ist, die ein Eindringen der zur Aktivierung dienenden Strahlung verhindert. Wenn in einem solchen Fall die Kleberschicht für die von der
Absorptionsschicht aufgenommene Wärmestrahlung durchlässig ist, kann die Bestrahlung der Transferfolie von der Kleberseite her erfolgen. Dies hat auch den Vorteil, dass die Strahlung dann nicht durch den Trägerfilm unnötigerweise geschwächt wird. Die Ausbildung mit einer transparenten Kleberschicht und einer hiervon getrennten Absorptionsschicht bringt darüberhinaus den technologischen Vorteil, dass durch die möglicherweise in der Absorptionsschicht vorhandenen Zusätze die Klebewirkung der Kleberschicht nicht beeinträchtigt wird.
In der praktischen Umsetzung erscheint es zweckmässig, wenn die
Absorptionsschicht von einer die zur Aktivierung der Kleberschicht dienende Strahlungsenergie absorbierende Pigmente enthaltenden Lackschicht gebildet ist. Als Pigmente kommen beispielsweise Russ, schwarze bzw. dunkle Pigmente etc. in Betracht. Bei Verwendung einer wärmeaktivierbaren Kleberschicht wird sinnvollerweise mit Infrarot-Strahlung zur Aktivierung gearbeitet, wobei dann die Ausbildung vorzugsweise derart ist, dass die Absorptionsschicht Infrarot-Strahlung einer Wellenlänge absorbiert, für die die Kleberschicht durchlässig ist.
Weitere Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele der Transferfolie sowie des Verfahrens anhand der Zeichnung.
Es zeigen -:
Figur 1a einen schematischen Schnitt durch einen Teil einer Transferfolie;
Figur 1 b schematisch und im Schnitt den Übertragungsvorgang unter Verwendung einer Folie gemass Figur 1a; Figur 2a bis 2c schematisch anhand eines Teilschnitts durch eine
Transferfolie ein spezielles Herstellungsverfahren und
Figur 3 schematisch Vorrichtung und Verfahren beim Übertragen der
Dekorlage von einer Transferfolie auf ein Substrat.
Bei der in Figur 1a schematisch gezeigten Transferfolie handelt es sich um eine Folie, die in ihrem grundsätzlichen Aufbau einer üblichen Heissprägefolie entspricht, wie sie beispielsweise zur Erzeugung von Sicherheitsmerkmalen auf Banknoten, Wertpapieren od.dgl. verwendet werden kann, wobei zu diesem Zweck die Heissprägefolie einerseits eine Metallisierung sowie andererseits eine beugungsoptisch wirksame räumliche Struktur aufweist.
Die Transferfolie gemass Figur 1a umfasst in üblicher weise einen Trägerfilm 1 , beispielsweise einen Polyesterfilm einer Stärke zwischen 10 und 25 μm. Auf diesem Trägerfilm 1 befindet sich eine an sich bekannte Ablöseschicht 2, die, insbesondere bei Hitzeeinwirkung, die Ablösung der insgesamt mit 3 bezeichneten Dekorlage von dem Trägerfilm 1 erleichtern soll. Die Ablöseschicht 2 ist üblicherweise vollflächig aufgebracht.
Die Dekorlage 3 besteht bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel aus vier Schichten, nämlich einer transparenten Schutzlackschicht 4, einer auf diese üblicherweise aufgedampften Metallschicht 5, einer bereichsweise vorgesehenen Absorptionsschicht 6 sowie einer aktivierbaren Kleberschicht 7, wobei angenommen werden soll, dass es sich bei der Kleberschicht 7 um eine Heissklebeschicht handelt. Die Schutzlackschicht 4 sowie die Heissklebeschicht 7 und die Metallisierung 5 sind in dem Ausführungsbeispiel der Figur 1a jeweils ganzflächig vorgesehen. Wie bereits erwähnt, handelt es sich bei der Folie gemass Figur 1a um eine beispielsweise zur Herstellung von Sicherheitselementen dienende Folie. Zu diesem Zweck ist die Folie in den Bereichen der Absorptionsschicht 6 mit einer beugungsoptisch wirksamen, räumlichen Struktur 8 versehen.
Die Folie gemass Figur 1 , die auch in Figur 1 b eingesetzt ist, wird wie folgt hergestellt:
Auf den Trägerfilm 1 wird zuerst die vollflächige Ablöseschicht 2 in einer Schichtstärke von ca. 0,01 bis 0,1 μm in einem Druck- oder Streichverfahren aufgebracht.
Anschliessend wird die Schutzlackschicht 4 ebenfalls vollflächig sowie in einer Schichtstärke von 0,8 bis 2,5 μm, vorzugsweise 1 ,2 bis 1 ,7 μm, aufgetragen.
Der transparente Schutzlack 4 hat die Eigenschaft, dass er sich mittels geeigneter Prägewerkzeuge, sog. Matrizen, entsprechend strukturieren lässt. Als nächster Schritt wird somit die räumliche Struktur 8 in einem Repliziervorgang in die freie Oberfläche des Schutzlacks 4 eingeprägt. Entsprechende beugungsoptisch oder diffraktiv wirksame Strukturen sind allgemein bekannt und beispielsweise in der EP 0 741 370 B1 erläutert.
Nach Einbringung der räumlichen Stuktur 8 wird dann die gesamte freie Oberfläche der Schutzlackschicht 4 mit einer Metallisierung 5 versehen. Im allgemeinen erfolgt eine Vakuumbedampfung mit Aluminium bei Schichtstärken von 5 bis 200 nm.
Nach der Aufdampfung der Metallisierung 5 wird dann in den Bereichen, in denen die Dekorlage 3 auf ein Substrat übertragen werden soll, auf die Metallisierung 5 die nur bereichsweise vorgesehene Absorptionsschicht 6 aufgebracht. Zweckmässig handelt es sich bei der Absorptionsschicht um einen aktivierbaren Dekorlack, der in einer Schichtstärke von 0,8 bis 2,8 μm, vorzugsweise von etwa 1 ,5 μm, aufgetragen wird. Es ist zweckmässig, die Absorptionsschicht 6 registerhaltig zu der Strukturierung 8 aufzubringen, wie dies in Figur 1a angedeutet ist.
Als letzter Schritt erfolgt dann der vollflächige Auftrag der Kleberschicht 7, wobei zweckmässig ein für Infrarot-Strahlung durchsichtiges Material für die Kleberschicht 7 verwendet wird, sofern die Absorptionsschicht 6 in der Lage ist, Infrarot-Strahlung entsprechend zu absorbieren. Die Kleberschicht 7 wird in einer Schichtstärke von 2 bis 10 μm, vorzugsweise von 3 bis 5 μm, aufgetragen.
Die einzelnen Schichten können wie folgt zusammengesetzt sein:
Beispiel
Ablöseschicht 2 (Schichtstärke ca. 0,01 bis 0,1 μm)
Ehtanol 100 g
Toluol 900 g
Esterwachs (Tropfpunkt 90 °C) 3g
Schutzlackschicht 4 (Schichtstärke 0,8 bis 2,5 μm, vorzugsweise 1,2 bis 1,7 μm)
MEK 400 g
Toluol 150 g
Cyclohexanon 200 g
Cellulosenitrat (niedrigviskos, 65 % in Alk.) 140 g
Butyl-/Methylmethacrylat (d = 1 ,05 g/cm3, 100 g Säurezahl 7 bis 9 mg KOH/g) Absorptionsschicht 6 (Schichtstärke 0,8 bis 2,8 μm, vorzugsweise 1,5 μm)
MEK 270 g
Toluol 360 g Aceton 150 g
PVC/PVAC-Mischpolymerisat (K-Wert: 43) 135 g
Hochmolekul. Dispergier-Additiv 13 g
Kieselsäure 4 g
Extender (Aluminiumsilikat) 22 g IR-aktivierbares Pigment 46 g (Flammruss, Pigment Black 7)
Kleberschicht 7 (Schichtstärke 2,0 bis 10,0 μm, vorzugsweise 3,0 bis 5,0 μm)
MEK 280 g
Toluol 350 g
PVC/PVAC-Copolymer (Fp. 80 °C) 210 g Thermoplastisches Polyurethan 130 g (d = 1 ,18 g/cm3)
Kieselsäure, hydrophobiert 60 g (Partikelgrösse ca. 10 μm)
Die Absorptionsschicht 6 der Transferfolie gemass Figur 1a hat die Aufgabe, auf die Dekorlage 3 der Folie auftreffende Strahlungsenergie (schematisch durch die Pfeile 9 angedeutet) zu absorbieren und die dann gespeicherte Strahlungsenergie an die Kleberschicht 7 in den an die Absorptionsschicht 6 anschliessenden Bereichen 10 abzugeben, um auf diese Weise den Kleber 7 in den Bereichen 10 zu aktivieren bzw. zumindest vorzuaktivieren, so dass nach Bestrahlung der Dekorlage 3 entsprechend den Pfeilen 9 die Kleberschicht 7 in den Bereichen 10 bereits klebrig ist.
In der schematischen Darstellung der Figur 1 b ist gezeigt, wie eine Folie gemass Figur 1 a auf ein Substrat 11 übertragen werden kann. Dabei ist aus Gründen der Einfachheit nicht gezeigt, in welcher Weise die Transferfolie an die zu dekorierende Oberfläche 12 des Substrates 11 angelegt wird. Dies kann beispielsweise mittels einer beheizten oder unbeheizten Prägewalze geschehen, die auf jeden Fall einen grossflächigen Andruck bewirken kann.
Vor dem Anlegen der Transferfolie 1 , 3 an die Oberfläche 12 des Substrates 11 wird die Dekorlage 3 der Transferfolie entsprechend der Darstellung in Figur 1 mit Strahlungsenergie beaufschlagt, die in der Absorptionsschicht 6 absorbiert wird und die Kleberschicht 7 in den Bereichen 10 zumindest voraktiviert.
Dies hat den Effekt, dass, wie in der rechten Hälfte von Figur 1 b dargestellt, die Kleberschicht 7 in den aktivierten Bereichen 10 auf der Oberfläche 12 des Substrates 11 haftet und dadurch gleichzeitig ein Anhaften der entsprechenden Absorptionsschicht 6, der räumlichen Struktur 8 mit der Metallisierung 5 sowie der Schutzlackschicht 4 in dem zugehörigen Bereich an dem Substrat 11 bewirkt.
Die Bereiche der Dekorlage 3 dagegen, die nicht mit den voraktivierten Bereichen 10 der Kleberschicht 7 übereinstimmen, werden nicht an der Oberfläche 12 des Substrates 11 festgehalten. Wenn dann der Trägerfilm 1 über einen Ablösefinger 13 von dem Substrat 11 weggeführt wird, bleibt die Dekorlage 3 ausserhalb der Bereiche 10 über die Ablöseschicht 2 an dem Trägerfilm 1 haften und wird so von dem Substrat 11 in Form der Dekorlagen- Reste 14 abgeführt. Man erhält somit ein nur bereichsweise an der Oberfläche 12 entsprechend mit der Dekorlage 3 versehenes Substrat 11. In der Figur 2c ist eine im wesentlichen der Figur 1a entsprechende
Heissprägefolie gezeigt, die sich allerdings von der Transferfolie gemass Figur 1a dadurch unterscheidet, dass die Metallisierung 5' nur in den Bereichen vorhanden ist, in denen sich auch eine räumliche Struktur 8' befindet. Es handelt sich also bei der Folie gemass Figur 2c um eine sog. teilmetallisierte Folie. Auch die Folie gemass Figur 2c umfasst einen Trägerfilm 1', eine Ablöseschicht 2', eine transparente Schutzlackschicht 4', eine nur bereichsweise vorgesehene Absorptionsschicht 6' und eine ganzflächige Kleberschicht 7'. Die Folie gemass Figur 2c ist infolge ihrer Teilmetallisierung nur in den Bereichen der räumlichen Struktur 8' für bestimmte Anwendungsgebiete besonders geeignet. Beispielsweise ist es möglich, die Teilmetallisierung so auszubilden, dass nach Aufbringung der Dekorlage 3' der Folie der Figur 2c auf ein Substrat einerseits der durch die räumliche Strukturierung 8' erzeugte optische Effekt, beispielsweise ein holographischer Effekt oder ein Farbwechseleffekt, gut sichtbar ist, andererseits jedoch der von der Substratoberfläche gebildete Untergrund und dessen Musterung noch erkennbar bleiben. Man kann auf diese Weise z.B. ein Photo, alphanumerische Angaben od.dgl. auf dem Substrat noch erkennen, obwohl im gleichen Bereich die teilmetallisierte Dekorlage 3' vorhanden ist.
Die Herstellung der Transferfolie, insbesondere Heissprägefolie, der Figur 2c erfolgt unter Verwendung eines speziellen Lackes für die Absorptionsschicht 6'. Bei dem Ausführungsbeispiel der Figur 2 hat die Absorptionsschicht 6' nämlich gleichzeitig die Funktion eines Resistlackes, der ein Abätzen der Metallschicht 5 in den nicht von der Absorptionsschicht 6' bedeckten Bereichen gestattet.
Bei der Herstellung der Folie gemass Figur 2c wird, wie in Figur 2a veranschaulicht, in Übereinstimmung mit dem Herstellungsverfahren der Folie gemass Figur 1a zuerst auf einen Trägerfilm 1' ähnlicher Stärke und Ausbildung, wie in Zusammenhang mit Figur 1a erwähnt, eine Ablöseschicht 2' in der üblichen Schichtstärke von 0,01 bis 0,1 μm aufgebracht. Dann erfolgt der vollflächige Auftrag des Schutzlackes 4', ggf. die Replikation der Struktur 8' und schliesslich die Metallisierung durch Vakuumbedampfung mit Aluminium, alles wie in Verbindung mit Figur 1a beschrieben.
Auf die Metallisierung 5 wird dann nur in den Bereichen, in denen die Metallschicht 5' erhalten bleiben soll, die Absorptionsschicht 6' entsprechend der in Verbindung mit Figur 1a gegebenen Erläuterung aufgedruckt.
Die Absorptionsschicht 6' ist so zusammengesetzt, dass sie sich für einen anschliessenden Ätzvorgang eignet. Nach entsprechendem Härten der Absorptionsschicht 6' werden dann die nicht von der als Resistlack dienenden Absorptionsschicht 6' bedeckten Bereiche der Aluminiumschicht bzw.
Metallisierung 5 abgeätzt. Zum Ätzen kann ein Bad aus 5%iger Natronlauge mit einer Badtemperatur von 20 bis 50 °C verwendet werden. Der Ätzvorgang ist in Figur 2b durch die Pfeile 15 angedeutet.
Nach dem Abätzen des Metalles in den Bereichen 16 zwischen den strukturierten Bereichen 8' bzw. den von der Absorptionsschicht 6' bedeckten Bereichen wird die entsprechende Oberfläche der Folie gewaschen, getrocknet und dann die vollflächige Klebeschicht 7' aufgebracht.
Grundsätzlich ist es selbstverständlich möglich, die Zusammensetzung der verschiedenen Schichten, nämlich der Ablöseschicht 2, der Schutzlackschicht 4, der Absorptionsschicht 6 sowie der Kleberschicht 7, in Anpassung an die jeweiligen Einsatzzwecke zu wählen und zu variieren. Allerdings ist darauf hinzuweisen, dass die im Beispiel genannten Zusammensetzungen der verschiedenen Schichten auch herangezogen werden können, wenn die
Absorptionsschicht entsprechend Figur 2a bis 2c gleichzeitig die Funktion eines Resistlackes für das Abätzen der Metallisierung übernehmen soll. Es kann also unterstellt werden, dass die verschiedenen Schichten 2, 2'; 4, 4'; 6, 6' und 7, 7' in den Ausführungsbeispielen der Figur 1a sowie 2a bis 2c andererseits im wesentlichen identisch zusammengesetzt sind. Die Anwendung der Folie des zweiten Ausführungsbeispiels gemass Figur 2c entspricht im wesentlichen der anhand der Figur 1 b beispielhaft geschilderten Verwendungsweise der Folie der Figur 1a.
Anhand der Figur 3 soll nun nochmals erläutert werden, wie Vorrichtungen zum Applizieren entsprechender Transferfolien auf ein Substrat im Prinzip aufgebaut sein können.
Bei der in Figur 3 gezeigten Vorrichtung handelt es sich um eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Dekoration eines Substrats, beispielsweise einer Papierbahn 17, die von einer nicht gezeigten Vorratsrolle oder als Bogen von einem Stapel in Richtung des Pfeiles 18 einem Spalt 19 zwischen einer Gegendruckwalze 20 und dem eigentlichen, angenommen vollflächigen Prägezylinder 21 , der beispielsweise auf eine Temperatur von 80 bis 120 °C beheizt sein kann, zugeführt wird.
In den Spalt 19 wird gleichzeitig eine Transferfolie 22 eingeführt, die in Pfeilrichtung 23 von einer ebenfalls in Figur 3 nicht dargestellten Vorratsrolle abgewickelt wird.
Die Dekorlage 3, 3' der Transferfolie 22 wird im Spalt 19 unter der Wirkung des Prägezylinders 21 sowie der Gegendruckwalze 20 gegen das Substrat, beispielweise die Papierbahn 17, angedrückt und, sofern die Kleberschicht der Transferfolie 22 entsprechend aktiviert ist, auf die zur Transferfolie 22 weisende Oberfläche der Papierbahn 17 übertragen.
Nach dem Spalt 19 wird dann der Trägerfilm 1 , 1' unter Zuhilfenahme eines Ablösefingers 13 (sh. Figur 1 b) von dem Substrat 17 weggeführt, wobei die Dekorlage 3, 3' in den Bereichen, in denen eine entsprechende Aktivierung der Kleberschicht 7, 7' erfolgt ist, an dem Substrat 17 haftet, während in den dazwischenliegenden Bereichen die Dekorlage 3, 3' an dem Trägerfilm 1 , 1' haften bleibt und mit diesem abgezogen wird, so dass eine entsprechende bereichsweise Dekoration der Substratoberfläche erfolgt (sh. Figur 1 b).
Bisher wird bei der bereichsweisen Übertragung einer Dekorlage von einer Transferfolie auf ein Substrat im allgemeinen so vorgegangen, dass der Prägezylinder in den Bereichen, in denen die Vorlage auf das Substrat übertragen werden soll, entsprechend vorspringende Strukturen oder
Musterungen aufweist. Die Vorheizung der Transferfolie 22 kann, wie dies in der WO 96/37368 beschrieben ist, vor dem Einlaufen in den Prägespalt 19 mittels entsprechender Strahler erfolgen.
Auch bei der Vorrichtung gemass Figur 3 sind derartige Strahler 24a bzw. 24b vorgesehen. Bei den Strahlern handelt es sich zweckmässigerweise um Infrarot-Strahler, wobei sich in der Praxis gezeigt hat, dass beispielsweise Doppelstrahler der Type SMBG 2600/150 G der Firma Heraeus/Hanau sehr geeignet sind, deren beide Kanäle beheizt und mit einem Goldreflektor versehen sind. Die Leistung der Strahler kann beispielsweise bei ca. 1.000 W liegen.
Um eine entsprechende Voraktivierung der Kleberschicht mit einer Zusammensetzung gemass dem oben erläuterten Ausführungsbeispiel zu erreichen, wir man die Strahler günstigerweise in einem Abstand von 20 bis 40 mm von der Transferfolie anbringen, und zwar auf der die Dekorlage 3, 3' tragenden Seite der Folie. Nachdem die Kleberschicht 7, 7' für Infrarot- Strahlung transparent ist, kann auf diese Weise, auch wenn eine teilweise oder vollständige Metallisierung vorgesehen ist, erreicht werden, dass ein sehr hoher Anteil der Strahlung in der Absorptionsschicht 6 absorbiert wird. Der genaue Abstand der IR-Strahler von der Transferfolie muss anhand geeigneter Versuche - abhängig von der genauen Zusammensetzung der Kleberschicht und der Oberflächenbeschaffenheit des zu dekorierenden Substrates - festgestellt werden.
Wie Figur 3 zeigt, sind zwei IR-Strahler 24a und 24b hintereinander (in Laufrichtung der Transferfolie 22) vorgesehen, wobei die Anordnung zweckmässig derart ist, dass der zweite Strahler 24b sich in einem Abstand a von 40 bis 70 mm vom Spalt 19 zwischen dem Prägezylinder 21 und der Gegendruckwalze 20 befindet. Der erste Strahler 24a sollte zweckmässigerweise in einem Abstand b von ca. 40 mm in Bewegungsrichtung der Transferfolie 22 vor dem zweiten Strahler 24b angeordnet sind.
Versuche haben gezeigt, dass mit einer prinzipiell der Darstellung in Figur 3 entsprechenden Vorrichtung und unter Verwendung der Schichtzusammensetzungen gemass dem obigen Beispiel sowie bei Einsatz und Anbringung der Strahler 24a und 24b in der geschilderten Weise sich sehr gute Ergebnisse bei der Übertragung einer Dekorlage 3, 3' auf ein Substrat erzielen lassen. Es können insbesondere verhältnismässig hohe Arbeitsgeschwindigkeiten von bis zu 120 m/min bei Verwendung eines vollflächigen, auf 120 °C beheizten Prägerades erreicht werden. Ein weiterer Vorteil ist dabei, dass eine Ablösung des Trägerfilms 1 , 1' mit den Resten der Dekorlage 3, 3" von dem Substrat ohne vorherige Abkühlung, d.h. ohne den Einsatz einer besonderen Kühlwalze, möglich ist.
Selbstverständlich sind etliche Abwandlungen des der Erfindung zugrundeliegenden Prinzips denkbar, insbesondere hinsichtlich der bereichsweisen Aktivierung sowie der bei Anwendung des Verfahrens eingesetzten Prägeeinrichtungen. Beispielsweise wäre es denkbar, bei dem Ausführungsbeispiel der Figur 3 mit einem entsprechend strukturierten Prägezylinder zu arbeiten, der nur in den zu übertragenden Bereichen auf die Dekorlage einwirkt.

Claims

Ansprüche
1. Verfahren zur bereichsweisen Übertragung der eine durch Strahlungsenergie aktivierbare Kleberschicht umfassenden Dekorlage einer Transferfolie von einem Trägerfilm für die Dekorlage auf ein Substrat unter Verwendung eines ggf. beheizten Prägewerkzeuges, wobei die Kleberschicht vor Einlauf der Transferfolie in das
Prägewerkzeug zumindest teilweise aktiviert wird, dadurch gekennzeichnet , dass die Kleberschicht (7, 7') vor Einlauf der Transferfolie (1 , 3; 22) in das Prägewerkzeug (20, 21) nur in den Flächenbereichen (10, 10') mittels Strahlungsenergie (9) aktiviert wird, in denen die Dekorlage (3, 3') mittels des Prägewerkzeuges auf das Substrat (11; 17) übertragen werden soll.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet , dass eine Transferfolie (1, 3) verwendet wird, deren Dekorlage (3, 3') nur in den auf das Substrat (11, 17) zu übertragenden Flächenbereichen (10, 10') eine Absorptionsschicht (6, 6') aufweist, die die eine Aktivierung der Kleberschicht (7, 7') bewirkende Strahlungsenergie (9) absorbiert.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , dass die die Kleberschicht (7, 7') aktivierende Strahlungsenergie (9) nur in den Flächenbereichen (10) auf die Dekorlage (3) einwirkt, die zur Übertragung auf das Substrat (11 ) bestimmt sind.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass eine mittels Wärmestrahlung aktivierbare Kleberschicht (7, 7') verwendet wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet , dass die Kleberschicht (7, 7') der Dekorlage (3, 3') vor Eintritt der Transferfolie (1, 3; 22) in das Prägewerkzeug (20, 21) nur voraktiviert wird und zur vollständigen Aktivierung der Kleberschicht ein beheiztes Prägewerkzeug (21 ) dient.
6. Transferfolie, insbesondere zur Verwendung in dem
Übertragungsverfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 5, welche auf einem Trägerfilm eine aus mehreren Schichten bestehende unter Einwirkung von Druck und ggf. Wärme bereichsweise auf ein
Substrat übertragbare Dekorlage aufweist, deren dem Trägerfilm abgekehrte Oberfläche von einer durch Strahlungsenergie aktivierbaren Kleberschicht gebildet ist, dadurch gekennzeichnet , dass die Dekorlage (3, 3') nur in vorgegebenen, zur Wärmeübertragung auf das Substrat (11, 11') bestimmten Flächenbereichen (10, 10') eine Absorptionsschicht (6, 6') aufweist, die die eine Aktivierung der Kleberschicht (7, 7') bewirkende Strahlungsenergie (9) absorbiert.
7. Transferfolie nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , dass die Absorptionsschicht (6, 6') unmittelbar anschliessend an die
Kleberschicht (7, 7') vorgesehen ist.
8. Transferfolie nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet , dass die Dekorlage (3, 3') auf der zum Trägerfilm (1 , 1') weisenden Seite der Absorptionsschicht (6, 6') eine diese nach Übertragung der Dekorlage (3, 3') auf ein Substrat (11, 11') abdeckende undurchsichtige Dekorschicht (5, 5') aufweist.
9. Transferfolie nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , dass die Dekorschicht (3, 3') eine, vorzugsweise eine beugungsoptisch wirksame Strukur (8, 8') aufweisende Reflexionsschicht (5, 5'), insbesondere eine Metallschicht, ist.
10. Transferfolie nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet , dass die zum Trägerfilm (1, 1') weisende Oberfläche der Dekorlage (3, 3') von einer transparenten Schutzlackschicht (4, 4') gebildet ist.
11. Transferfolie nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet , dass die Absorptionsschicht (6, 6') Wärmestrahlung absorbiert, während die Kleberschicht (7, 7') von einem wärmeaktivierbaren, für die von der Absorptionsschicht (6, 6') aufgenommene Wärmestrahlung durchlässigen Material gebildet ist.
12. Transferfolie nach einem der Ansprüche 6 bis 11 , dadurch gekennzeichnet , dass die Absorptionsschicht (6, 6') von einer die zur Aktivierung der
Kleberschicht (7, 7') dienende Strahlungsenergie (9) absorbierende Pigmente enthaltenden Lackschicht gebildet ist.
13. Transferfolie nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet , dass die Adsorptionsschicht (6, 6') Infrarot-Strahlung einer Wellenlänge absorbiert, für die die Kleberschicht (7, 7') durchlässig ist.
14. Transferfolie nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet , dass die Absorptionsschicht (6, 6') Wärmestrahlung, inbesondere Infrarot-Strahlung, absorbierende Pigmente, vorzugsweise Russ oder sonstige dunkle Pigmente, enthält.
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