TWM648373U - 流體處理裝置 - Google Patents

Abstract

本新型創作提供一種可效率良好地對設置於光源的發光元件進行冷卻，且可抑制流體的處理效率下降的流體處理裝置。實施方式的流體處理裝置包括：筒部，呈筒狀，在內部具有供流體流動的空間；基板，設置於筒部的外部；發光元件，設置於基板的筒部側的面，對在筒部的內部流動的流體照射紫外線；冷卻部，設置於基板的與發光元件側相反的一側，在內部具有供流體流動的孔；以及泵，使流體流通至冷卻部的孔中。在與筒部的其中一端部側連接且供向筒部供給的流體流動的流路中，從冷卻部的孔排出的流體返回至流路的位置比從流路取入要供給至冷卻部的孔中的流體的位置更靠下游。

Description

流體處理裝置

本新型創作的實施方式是有關於一種流體處理裝置。

存在一種對水等流體照射紫外線，進行流體中包含的細菌的殺菌、病毒的滅活、有機物的分解等處理的流體處理裝置。例如，提出了一種流體處理裝置，其包括供流體流動的筒部、以及具有對流體照射紫外線的發光二極管等發光元件的光源。此處，當使發光元件點亮時，會產生紫外線以及熱。若發光元件的溫度因所產生的熱而變得過高，則有紫外線的照度下降，或者發光元件的壽命變短之虞。

因此，提出了一種在供流體流動的筒部的內部設置光源的技術。若如此，則可通過流體對設置於光源的發光元件進行冷卻。然而，如此一來，需要將光源設為液密結構，因此製造成本增加。而且，在進行光源的維護時，需要將光源從筒部的內部卸下，或者將光源安裝於筒部的內部。因此，維護作業會變得繁雜，或者維護時間會變長。

而且，提出了一種在供流體流動的筒部的外部設置光源，將在筒部內部流動的流體的一部分取出並用於光源的冷卻的技術。在所述技術中，用於光源的冷卻的流體被廢棄。當將用於光源的冷卻的流體廢棄時，流體會產生損失，因此流體的處理效率會下降。

因此，期望開發一種可效率良好地對設置於光源的發光元件進行冷卻，且可抑制流體的處理效率下降的流體處理裝置。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第6530681號公報 [專利文獻2]日本專利第6681314號公報

[新型創作所欲解決之問題]

本新型創作所要解決的問題在於提供一種可效率良好地對設置於光源的發光元件進行冷卻，且可抑制流體的處理效率下降的流體處理裝置。 [解決課題之手段]

實施方式的流體處理裝置包括：筒部，呈筒狀，在內部具有供流體流動的空間；基板，設置於所述筒部的外部；發光元件，設置於所述基板的所述筒部側的面，對在所述筒部的內部流動的所述流體照射紫外線；冷卻部，設置於所述基板的與所述發光元件側相反的一側，在內部具有供所述流體流動的孔；以及泵，使所述流體流通至所述冷卻部的孔中。在與所述筒部的其中一端部側連接且供向所述筒部供給的所述流體流動的流路中，從所述冷卻部的所述孔排出的所述流體返回至所述流路的位置比從所述流路取入要供給至所述冷卻部的所述孔中的所述流體的位置更靠下游。 [新型創作的效果]

通過本新型創作的實施方式，可提供一種可效率良好地對設置於光源的發光元件進行冷卻，且可抑制流體的處理效率下降的流體處理裝置。

以下，參照圖式對實施方式進行例示。而且，在各圖式中，對同樣的構成元件標注相同的符號並適當省略詳細的說明。 另外，本新型創作的實施方式的流體處理裝置1例如可用於水等流體中包含的細菌的殺菌、病毒的滅活、有機物的分解等處理。但是，流體處理裝置1的用途並不限定於進行例示的用途。

圖1是用於例示流體處理裝置1的示意立體圖。 圖2是圖1中的流體處理裝置1的A-A線剖面圖。 圖3是圖1中的流體處理裝置1的B-B線剖面圖。

如圖1所示，流體處理裝置1例如具有筒部2、供給頭3、排出頭4、基座5以及光源6。 如圖1至圖3所示，筒部2呈筒狀，在內部具有供要進行處理的流體300流動的空間。筒部2的內部空間成為供流體300流動的流路，並且成為通過從光源6照射的紫外線來進行處理的處理空間。筒部2的兩側的端部開口。在筒部2的兩側的端部能夠分別設置框狀的凸緣21。

筒部2例如可採用方筒管。此時，如圖1所示，若從沿著筒部2的中心軸2c的方向觀察而筒部2的剖面的輪廓為四邊形，則筒部2的側部為面積大的平坦面，因此光源6的安裝變得容易。而且，可在彼此相向的側部安裝光源6。例如，若從彼此相向的光源6向筒部2的內部照射紫外線，則可增多紫外線對流體300的照射光量，或者減小照射不均。因此，能夠提高殺菌等的處理性能，或者增加流體300的處理量。

由於進行處理的流體300在筒部2的內部流動，因此流體300會接觸筒部2的內壁。而且，從光源6照射的紫外線入射至筒部2的內壁。此時，只要入射至筒部2的內壁的紫外線不會透射過筒部2而被筒部2的內壁反射，便可實現紫外線利用效率的提高，甚而實現殺菌等的處理性能的提高。而且，只要能提高紫外線的利用效率，便可減少光源6中所設的發光元件61的數量。只要發光元件61的數量變少，便可實現光源6的小型化、低成本化、節能化等。

因此，筒部2較佳由對作為處理對象的流體300的耐受性、對紫外線的耐受性以及對紫外線的反射率高的材料所形成。例如，筒部2可由不銹鋼或鈦等金屬或者氟樹脂等樹脂所形成。

而且，作為處理對象的流體300有海水、地下水、糖液等的情況。在海水或地下水等中，含有砂、微生物的屍骸、無機鹽、有機物等異物。而且，在糖液等中，含有糖分或在製造工序中產生的雜質等異物。由於流體300會接觸到筒部2的內壁，因此若在流體300中含有異物，則有時異物會附著於筒部2的內壁。若有異物附著於筒部2的內壁，則對紫外線的反射率會下降。若反射率下降，則照射至流體300的反射光（紫外線）的照射光量將變少。而且，若異物附著於筒部2的內壁的一部分，則反射率會局部下降而易產生照射不均。若紫外線的照射光量變少或者產生了照射不均，則殺菌等的處理性能有下降之虞。

因此，較佳為筒部2的內壁的表面粗糙度（算術平均粗糙度）Ra設為50 nm（納米）以下，較佳的是設為3 nm（納米）以上且50 nm（納米）以下。只要將筒部2的內壁的表面粗糙度如此設置，便能夠抑制異物附著於筒部2的內壁，且能夠提高對紫外線的反射率。

而且，只要筒部2由含有8 wt%以上的Ni（鎳）的不銹鋼所形成，便可提高對紫外線的反射率與對海水等易產生腐蝕的流體的耐受性。含有8 wt%以上的Ni的不銹鋼例如為SUS304或SUS316等。

供給頭3被設在筒部2的其中一端部。供給頭3呈筒狀，兩側的端部開口。供給頭3的內部空間與筒部2的內部空間相連。供給頭3的內部空間成為向筒部2的內部空間供給流體300的流路。

與筒部2的中心軸2c正交的方向上的、供給頭3的尺寸隨著朝向筒部2側而漸增。當從沿著筒部2的中心軸2c的方向觀察時，供給頭3的筒部2側的端部的形狀和尺寸可設為與筒部2的端部的形狀和尺寸相同。例如在筒部2為方筒的情況下，供給頭3的外觀形狀可設為棱錐台。如圖1所示，在筒部2為四方筒的情況下，供給頭3的外觀形狀可設為四棱錐台。

在供給頭3的筒部2側的端部，可設置框狀的凸緣31。供給頭3的凸緣31與筒部2的凸緣21可使用螺絲等的緊固構件來連接。而且，在供給頭3的凸緣31與筒部2的凸緣21之間，可設置密封構件。密封構件例如為O型環等。

在供給頭3的與筒部2側為相反側的端部，可連接供給部32。在供給部32的、與供給頭3側為相反側的端部，可設置凸緣32a等連接構件。例如，在凸緣32a可連接流路32a1。即，流路32a1與筒部2的其中一端部側連接。對筒部2供給的流體300在流路32a1中流動。流路32a1例如為配管等。在流路32a1可連接流體300的供給裝置等。流體300的供給裝置例如既可為泵等，也可為工廠配管等。而且，在供給部32可設置開閉閥32b。若設有開閉閥32b，則例如在維護時可使位於筒部2內部的流體300排出。

供給頭3的材料只要具有對流體300與紫外線的耐受性，則並無特別限定。但是，若供給頭3的材料為對紫外線的反射率高的材料，則可使入射至供給頭3的內壁的紫外線反射而照射至流體300。因此，可實現紫外線利用效率的提高，甚而實現殺菌等的處理性能的提高。

供給頭3的材料例如可設為與筒部2的材料相同。供給頭3的內壁的表面粗糙度例如可設為與筒部2的內壁的表面粗糙度相同。

如圖2所示，在供給頭3的內部，可設置整流板33以及整流板34。整流板33以及整流板34可在沿著筒部2的中心軸2c的方向（流體300的流動方向）上排列設置。例如，整流板34被設在比整流板33更靠筒部2側。整流板33以及整流板34呈板狀，例如可由與供給頭3的材料相同的材料所形成。整流板33以及整流板34的表面粗糙度Ra例如可設為與筒部2的內壁的表面粗糙度相同。

如圖3所示，在整流板34上，可設置沿厚度方向貫穿整流板34的多個孔34a。多個孔34a的數量、配置、開口面積、形狀、間隔（間距尺寸）可根據與筒部2的中心軸2c正交的方向的尺寸或處理流量等來適當變更。但較佳的是，多個孔34a的總開口面積大於供給頭3的與筒部2側為相反側的端部的開口面積。這樣便能夠抑制流體300流經多個孔34a的內部時的壓力損失。

在整流板33上，也可設置沿厚度方向貫穿整流板33的多個孔33a。多個孔33a的配置、開口面積、形狀、間隔（間距尺寸）可設為與前述的孔34a同樣。當從沿著筒部2的中心軸2c的方向觀察時，多個孔33a可與多個孔34a重合。這樣，在筒部2的內部，流體300的流動易成為層流。若流體300的流動成為層流，則能夠抑制流體300的流動在筒部2的內部發生停滯。因此，能夠抑制產生紫外線的照射不均，因此能夠提高殺菌等的處理性能。

而且，能夠抑制流體300流經多個孔33a的內部以及多個孔34a的內部時的壓力損失。另外，整流板33的大小小於整流板34的大小。因此，多個孔33a的數量少於多個孔34a的數量。但是，較佳的是，多個孔33a的總開口面積大於供給頭3的與筒部2側為相反側的端部的開口面積。這樣便能夠抑制流體300流經多個孔33a的內部時的壓力損失。

另外，例示了設有整流板33以及整流板34的情況，但也可僅設置其中任一個，還可設置三個以上的整流板。此時，若整流板的數量變多，則越容易使流體300的流動成為層流。另一方面，若整流板的數量變多，則壓力損失將變大。因此，整流板的數量例如可根據筒部2的、與中心軸2c正交的方向的剖面積（流路面積）或處理流量等來適當變更。

排出頭4被設在筒部2的、與設有供給頭3的一側為相反側的端部。排出頭4呈筒狀，且兩側的端部開口。排出頭4的內部空間與筒部2的內部空間相連。排出頭4的內部空間為從筒部2的內部空間排出實施了殺菌等處理的流體300a的流路。

排出頭4的尺寸、形狀、向筒部2的安裝以及材料例如可設為與前述的供給頭3的尺寸、形狀、向筒部2的安裝以及材料相同。 例如，在排出頭4的筒部2側的端部，可設置框狀的凸緣41。排出頭4的凸緣41與筒部2的凸緣21可使用螺絲等緊固構件來連接。在排出頭4的凸緣41與筒部2的凸緣21之間，可設置O型環等密封構件。

在排出頭4的與筒部2側為相反側的端部，可連接排出部42。在排出部42，例如可設置凸緣42a等連接構件。例如，可將收納實施了殺菌等處理的流體300a的槽罐、使用流體300a的清洗裝置等經由配管而連接於凸緣42a。

如圖2所示，在排出頭4的內部，可設置整流板43以及整流板44。整流板43以及整流板44可在沿著筒部2的中心軸2c的方向（流體300的流動方向）上排列設置。例如，整流板44是設在比整流板43更靠筒部2側。

在整流板43上，可設置沿厚度方向貫穿整流板43的多個孔43a。多個孔43a的數量、配置、開口面積、形狀、間隔（間距尺寸）可設為與前述的整流板33的多個孔33a的數量、配置、開口面積、形狀、間隔（間距尺寸）相同。

在整流板44上，可設置沿厚度方向貫穿整流板44的多個孔44a。多個孔44a的數量、配置、開口面積、形狀、間隔（間距尺寸）可設為與前述的整流板34的多個孔34a的數量、配置、開口面積、形狀、間隔（間距尺寸）相同。

在從沿著筒部2的中心軸2c的方向觀察時，多個孔43a與多個孔44a重合。而且，多個孔43a與整流板33的多個孔33a重合。這樣，在筒部2的內部，流體300的流動易成為層流。而且，能夠抑制實施了殺菌等處理的流體300a流經多個孔43a的內部以及多個孔44a的內部時的壓力損失。

另外，例示了設有整流板43以及整流板44的情況，但也可設置其中一個，還可設置三個以上的整流板。而且，也可設置整流板33、整流板34、整流板43以及整流板44的至少任一個。若在供給頭3的內部與排出頭4的內部設置整流板，則容易使流體300的流動成為層流。另一方面，若在供給頭3的內部與排出頭4的內部設置整流板，則壓力損失將變大。因此，整流板的配置或數量例如可根據筒部2的、與中心軸2c正交的方向的剖面積（流路面積）或處理流量等來適當變更。

另外，在由於筒部2的、與中心軸2c正交的方向的剖面積（流路面積）小，而易在筒部2的內部形成層流的情況等下，也可省略整流板33、整流板34、整流板43、整流板44。 而且，例示了整流板設在供給頭3的內部與排出頭4的內部的情況，但整流板也可設在筒部2的內部。

基座5保持筒部2。基座5例如具有台座51與架台52。 台座51例如呈板狀，可固定於地板等。架台52被設在台座51的其中一面。架台52例如具有使用型鋼等細長構件的骨架結構。在架台52的、與台座51側為相反側的端部，可使用螺絲等緊固構件來安裝筒部2的凸緣21以及供給頭3的凸緣31中的至少任一個。在架台52的內部，可設置供給頭3。 另外，基座5的結構並不限定於例示者，可根據流體處理裝置1的設置環境等來適當變更。而且，在可直接設置設有供給頭3、排出頭4以及光源6的筒部2的情況下，可省略基座5。

光源6可使用螺絲等緊固構件而能夠裝卸地設在筒部2的側部。發光元件61的壽命比放電燈等長，若點亮時間長，則發光效率會下降。而且，還要考慮到發光元件61發生故障而不亮的情況。若將光源6能夠裝卸地設在筒部2的側部，則發光元件61的更換等維護變得容易。光源6可設置至少一個。圖1以及圖2所例示的流體處理裝置1中設有四個光源6。

圖4以及圖5是用於例示光源6的示意剖面圖。 另外，圖4是圖2中的C部的放大圖。 圖5是圖3中的D部的放大圖。 如圖4以及圖5所示，光源6例如具有發光元件61、基板62、支架63以及冷卻部65。另外，在設置多個光源6的情況下，可設置具有相同結構的光源6，例如，也可設置具有發光元件61的數量等不同的結構的光源。

發光元件61被設在基板62的筒部2側的面，經由後述的窗64來對在筒部2的內部流動的流體300照射紫外線。發光元件61可設置至少一個。圖4以及圖5所例示的光源6中設有多個發光元件61。在設有多個發光元件61的情況下，可將多個發光元件61串聯連接。發光元件61只要是能夠照射紫外線的元件，則並無特別限定。發光元件61例如可採用發光二極管或激光二極管等。從發光元件61照射的紫外線的峰值波長例如可設為260 nm（納米）以上且290 nm（納米）以下。

基板62呈板狀，設置於筒部2的外部。基板62設置於冷卻部65的筒部2側的面。基板62例如可使用導熱性粘合劑而粘合於冷卻部65，也可經由散熱片、散熱帶、散熱脂（導熱性脂）等而安裝於冷卻部65。

在基板62的、筒部2側的面上，可設置配線圖案。基板62較佳由具有對紫外線的耐受性且導熱率高的材料所形成。基板62例如可由氧化鋁等的陶瓷、或者利用絕緣材料覆蓋金屬板表面的金屬芯（metal core）基板等所形成。

支架63使用螺絲等緊固構件而能夠裝卸地設在筒部2的側部。支架63呈板狀，在筒部2側的面具有開口的凹部63a。在凹部63a的內部設有窗64。在凹部63a的底面可設置孔63b。在孔63b的內部可設置發光元件61以及基板62。支架63例如具有保持窗64的功能與收納發光元件61以及基板62的功能。支架63例如可由不銹鋼等金屬所形成。

在筒部2的側部，設有與供流體300流動的空間連通的孔2a。窗64呈板狀，覆蓋孔2a的開口。在筒部2的側部，可設置包圍孔2a的開口的密封構件2b。密封構件2b例如可採用O型環等。在將支架63安裝於筒部2的側部時，設在凹部63a內部的窗64被密封構件2b按壓。因此，能夠將窗64與筒部2的側部之間密封為液密。

窗64被設在筒部2的側部。窗64覆蓋被設在筒部2的側部的孔2a。因此，從發光元件61出射的紫外線經由窗64與設在筒部2的側部的孔2a而照射至在筒部2的內部流動的流體300。窗64是由可使紫外線透射且具有對紫外線和流體300的耐受性的材料所形成。窗64例如是由石英玻璃或者使紫外線透射的氟樹脂等所形成。

而且，在窗64的、發光元件61側的面，也可設置抗反射膜。若設有抗反射膜，則可抑制從發光元件61出射的紫外線被窗64反射而難以照射至流體300的情況。即，能夠提高從發光元件61出射的紫外線的利用效率。

而且，在窗64的筒部2側的面，也可設置防汙膜。如前所述，流體300中有時會含有異物。若異物附著於窗64，則從發光元件61出射的紫外線將難以透射過窗64。若設有防汙膜，則能夠抑制異物附著於窗64。

冷卻部65例如呈板狀，設置於基板62的與發光元件61側相反的一側。冷卻部65在內部具有供處理前的流體300流動的孔65a。而且，為了提高散熱性，也可在冷卻部65進一步設置散熱鰭片等。如圖4所示，在孔65a連接有一對配管接頭65b。處理前的流體300可經由一對配管接頭65b流入孔65a中。另外，關於流體300向冷卻部65（孔65a）的供給以及流體300從冷卻部65（孔65a）的排出的詳情，將在後文敘述。

冷卻部65可由導熱性高的材料所形成。例如，冷卻部65可由鋁、銅、不銹鋼等金屬所形成。 通過使流體300在冷卻部65的孔65a中流動，能夠對發光元件61進行冷卻。因此，例如即便使發光元件61的數量或施加電力等增加，發光元件61的溫度也難以超過最大結溫（junction temperature）。

而且，如圖1以及圖2所示，在本實施方式的流體處理裝置1中，光源6被設在與筒部2的中心軸2c正交的方向上。例如，光源6被設在筒部2的側部，朝向在筒部2的內部在沿著中心軸2c的方向上流動的流體300照射紫外線。

此時，如圖2所示，光路長度與筒部2的側部彼此之間的距離為同程度。即，與在筒部2的中心軸2c方向上的端部設置光源6的情況相比，可縮短光路長度。因此，例如即便是紫外線透射率低的流體300，由於能夠減小光量衰減，因此也能夠提高殺菌等的處理性能。而且，由於可增多直接照射至流體300的紫外線的照射量，因此即便有異物附著於筒部2的內壁，也能夠抑制殺菌等的處理性能下降。而且，即便為了增加流體300的處理量而加大筒部2的剖面積（流路的剖面積），光路長度的增加量也只要較少即可。因此，即便加大筒部2的剖面積，也能夠抑制直接照射至流體300的紫外線的照射量變少，甚而能夠維持殺菌等的處理性能。

而且，如圖1以及圖2所示，若一對光源6夾著筒部2的中心軸2c而彼此相向，則可從另一個光源6向位於遠離其中一個光源6的位置處的流體300照射紫外線。因此，能夠增加被照射至流體300的紫外線的照射量，或者消除照射不均，因此能夠進一步提高殺菌等的處理性能。

而且，如圖1以及圖2所示，若將一對光源6在沿著筒部2的中心軸2c的方向上排列設置多組，則在筒部2的內部的大範圍區域中，能夠全面地對在筒部2的內部流動的流體300照射紫外線。因此，能夠實現處理量的增加與殺菌等的處理性能的提高。

接著，對流體300向冷卻部65的供給、以及流體300從冷卻部65的排出進一步進行說明。 若將對冷卻部65的孔65a供給的製冷劑設為處理前的流體300，則能夠省略製冷劑與供給製冷劑的供給裝置。

此時，可廢棄供給至冷卻部65的孔65a的流體300。然而，如此一來，在流體300產生損失，因此流體300的處理效率下降。

因此，在本實施方式的流體處理裝置1中，使從冷卻部65的孔65a排出的流體300返回至供向筒部2供給的流體300流動的流路32a1中。這樣，流體300不會產生損失，因此能夠抑制流體300的處理效率下降。

此時，當對冷卻部65供給實施了處理的流體300a，使從冷卻部65的孔65a排出的流體300a返回至與筒部2連接的流路32a1中時，對返回的流體300a再次進行處理。因此，較佳為將處理前的流體300供給至冷卻部65的孔65a中，使從冷卻部65的孔65a排出的流體300返回至與筒部2連接的流路32a1。這樣，不對流體300的一部分進行兩次處理，因此能夠實現光源6中的節能化。

圖6是冷卻部65的配管系統圖。 另外，圖6是設置有一個光源6（冷卻部65）的情況。 如圖6所示，在冷卻部65與流路32a1之間，可設置使流體300流通至冷卻部65的孔65a中的泵66。另外，例示了泵66設置於冷卻部65（孔65a）的流體300的供給側的情況，但泵66也可設置於冷卻部65（孔65a）的流體300的排出側。

此處，通過供給至冷卻部65的孔65a中的流體300來進行發光元件61的冷卻。當通過流體300進行發光元件61的冷卻時，流體300的溫度上升。因此，當僅僅使從冷卻部65的孔65a排出的流體300返回至流路32a1時，有時溫度高的流體300被供給至冷卻部65的孔65a中。例如，在流路32a1中，若將從冷卻部65的孔65a排出的流體300返回至流路32a1的位置302設為比從流路32a1取入要供給至冷卻部65的孔65a中的流體300的位置301更靠上游側，則有時由於來自發光元件61的熱而溫度變高的流體300經由位置301而供給至冷卻部65的孔65a中。當溫度高的流體300被供給至冷卻部65的孔65a中時，則有難以抑制發光元件61的溫度上升之虞。

因此，如圖6所示，在流路32a1中，從冷卻部65的孔65a排出的流體300返回至流路32a1的位置302較佳為設為比從流路32a1取入要供給至冷卻部65的孔65a中的流體300的位置301更靠下游側（筒部2側）。這樣，能夠抑制溫度高的流體300供給至冷卻部65的孔65a中，因此容易抑制發光元件61的溫度上升。 此時，由於返回至流路32a1的流體300通過紫外線進行處理，因此未處理的流體300不會從流體處理裝置1排出。

圖7～圖9是設置有多個冷卻部65時的配管系統圖。 另外，在圖7～圖9中，例示了設置四個冷卻部65的情況，但冷卻部65的數量只要是兩個以上即可。而且，雖例示了在筒部2的其中一側面設置光源6（冷卻部65）的情況，但例如也可如圖1以及圖2所例示的那樣，在筒部2的彼此相向的側面分別設置光源6（冷卻部65）。

如圖7所示，多個冷卻部65的孔65a可串聯連接。例如，可經由配管等將一個冷卻部65的孔65a的排出側與另一個冷卻部65的孔65a的供給側連接。在將多個冷卻部65的孔65a串聯連接的情況下，也較佳為將從串聯連接的多個冷卻部65的孔65a排出的流體300返回至流路32a1的位置302設為比從流路32a1取入要供給至串聯連接的多個冷卻部65的孔65a中的流體300的位置301更靠下游側。

若將多個冷卻部65的孔65a串聯連接，則配管路徑變得簡潔，因此配管作業變得容易。因此，能夠實現流體處理裝置1的製造成本的降低。另外，當將多個冷卻部65的孔65a串聯連接時，經加熱的流體300被供給至其他冷卻部65的孔65a中。然而，在流體300的溫度低的情況或發光元件61的發熱量少的情況等下，能夠維持其他冷卻部65中的冷卻效果。

如圖8所示，多個冷卻部65的孔65a可並聯連接。例如，可經由配管等將多個冷卻部65的孔65a的排出側彼此連接，將多個冷卻部65的孔65a的供給側彼此連接。即便在將多個冷卻部65的孔65a並聯連接的情況下，也較佳為將從並聯連接的多個冷卻部65的孔65a排出的流體300返回至流路32a1的位置302設為比從流路32a1取入要供給至並聯連接的多個冷卻部65的孔65a中的流體300的位置301更靠下游側。

即便將多個冷卻部65的孔65a並聯連接，配管路徑也變得簡潔，因此配管作業變得容易。因此，能夠實現流體處理裝置1的製造成本的降低。而且，若將多個冷卻部65的孔65a並聯連接，則經加熱的流體300不會供給至其他冷卻部65的孔65a中。因此，容易維持多個冷卻部65中的冷卻效果。

如圖9所示，可將多個冷卻部65的孔65a分別與流路32a1連接。此時，較佳為將分別從多個冷卻部65的孔65a排出的流體300返回至流路32a1的位置302設為比從流路32a1取入要分別供給至多個冷卻部65的孔65a中的流體300的位置301更靠下游側。 這樣，能夠維持多個冷卻部65中的冷卻效果。

圖10以及圖11是設置有多個流體處理裝置1時的配管系統圖。 另外，在圖10以及圖11中，例示了對一個流體處理裝置1設置一個光源6（冷卻部65）的情況，但也可對一個流體處理裝置1設置多個光源6（冷卻部65）。而且，雖例示了設置四個流體處理裝置1的情況，但流體處理裝置1的數量只要是兩個以上即可。

如圖10所示，多個流體處理裝置1可串聯連接。例如，可經由配管等將一個流體處理裝置1的排出側與另一個流體處理裝置1的供給側連接。 此時，例如，可經由配管等將設置於一個流體處理裝置1的冷卻部65的孔65a的排出側與設置於另一個流體處理裝置1的冷卻部65的孔65a的供給側連接。即，與圖7中例示者同樣地，可將多個冷卻部65的孔65a串聯連接。若將多個冷卻部65的孔65a串聯連接，則可享有與圖7中說明者相同的效果。另外，也可將多個冷卻部65的孔65a並聯連接。若將多個冷卻部65的孔65a並聯連接，則可享有與圖8中說明者相同的效果。而且，也可將多個冷卻部65的孔65a分別與流路32a1連接。這樣，可享有與圖9中說明者相同的效果。

如圖11所示，多個流體處理裝置1可並聯連接。例如，可經由配管等將多個流體處理裝置1的排出側彼此連接，將多個流體處理裝置1的供給側彼此連接。 此時，例如，可經由配管等將設置於一個流體處理裝置1的冷卻部65的孔65a的排出側與設置於另一個流體處理裝置1的冷卻部65的孔65a的供給側連接。即，與圖7中例示者同樣地，可將多個冷卻部65的孔65a串聯連接。若將多個冷卻部65的孔65a串聯連接，則可享有與圖7中說明者相同的效果。另外，也可將多個冷卻部65的孔65a並聯連接。若將多個冷卻部65的孔65a並聯連接，則可享有與圖8中說明者相同的效果。而且，也可將多個冷卻部65的孔65a分別與流路32a1連接。這樣，可享有與圖9中說明者相同的效果。

以上，例示了本新型創作的若干個實施方式，但這些實施方式是作為示例而提示，並非意圖限定新型創作的範圍。這些新穎的實施方式能以其他的各種形態來實施，在不脫離新型創作的主旨的範圍內可進行各種省略、置換、變更等。這些實施方式或其變形例包含在新型創作的範圍或主旨內，並且包含在權利要求書所記載的新型創作及其均等的範圍內。而且，前述的各實施方式可相互組合實施。

1:流體處理裝置 2:筒部 2a、33a、34a、43a、44a、63b、65a:孔 2b:密封構件 2c:中心軸 3:供給頭 4:排出頭 5:基座 6:光源 21、31、32a、41、42a:凸緣 32:供給部 32a1:流路 32b:開閉閥 33、34、43、44:整流板 42:排出部 51:台座 52:架台 61:發光元件 62:基板 63:支架 63a:凹部 64:窗 65:冷卻部 65b:配管接頭 66:泵 300、300a:流體 301、302:位置 A-A、B-B:線 C、D:部

圖1是用於例示流體處理裝置的示意立體圖。 圖2是圖1中的流體處理裝置的A-A線剖面圖。 圖3是圖1中的流體處理裝置的B-B線剖面圖。 圖4是用於例示光源的示意剖面圖。 圖5是用於例示光源的示意剖面圖。 圖6是冷卻部的配管系統圖。 圖7是設置有多個冷卻部時的配管系統圖。 圖8是設置有多個冷卻部時的配管系統圖。 圖9是設置有多個冷卻部時的配管系統圖。 圖10是設置有多個流體處理裝置時的配管系統圖。 圖11是設置有多個流體處理裝置時的配管系統圖。

2:筒部

3:供給頭

4:排出頭

6:光源

32a1:流路

65:冷卻部

66:泵

300、300a:流體

301、302:位置

Claims (3)

1. 一種流體處理裝置，其特徵在於，包括: 筒部，呈筒狀，在內部具有供流體流動的空間； 基板，設置於所述筒部的外部； 發光元件，設置於所述基板的、所述筒部側的面，對在所述筒部的內部流動的所述流體照射紫外線； 冷卻部，設置於所述基板的與所述發光元件側相反的一側，在內部具有供所述流體流動的孔；以及 泵，使所述流體流通至所述冷卻部的孔中， 在與所述筒部的其中一端部側連接且供向所述筒部供給的所述流體流動的流路中，從所述冷卻部的所述孔排出的所述流體返回至所述流路的位置，比從所述流路取入要供給至所述冷卻部的所述孔中的所述流體的位置更靠下游。
2. 如請求項1所述的流體處理裝置，其中 所述冷卻部設置有多個，多個所述冷卻部的孔串聯連接。
3. 如請求項1所述的流體處理裝置，其中 所述冷卻部設置有多個，多個所述冷卻部的孔並聯連接。

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